JP2002040404A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】バックライトからの光漏れを確実に防止し、表
示品位の低下を防止した液晶表示装置を提供することに
ある。 【解決手段】アレイ基板１２および対向基板２０は、表
示領域の外周を囲むように配置されたシール１８により
周縁部同士が接合されている。アレイ基板上において、
表示領域の外周には、表示領域周縁の光漏れを防止する
額縁パターン３２が設けられている。この額縁パターン
は、シールの少なくとも一部を除き、アレイ基板におけ
る表示領域の外側全面に亘って設けられている。
示品位の低下を防止した液晶表示装置を提供することに
ある。 【解決手段】アレイ基板１２および対向基板２０は、表
示領域の外周を囲むように配置されたシール１８により
周縁部同士が接合されている。アレイ基板上において、
表示領域の外周には、表示領域周縁の光漏れを防止する
額縁パターン３２が設けられている。この額縁パターン
は、シールの少なくとも一部を除き、アレイ基板におけ
る表示領域の外側全面に亘って設けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示装置に関
し、特に、アレイ基板側に着色層が設けられた液晶表示
装置およびその製造方法に関する。
し、特に、アレイ基板側に着色層が設けられた液晶表示
装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置は、それぞれ配向
膜を有する２枚の電極基板を、配向膜同士が対向するよ
うに所定の隙間を置いて対向配置し、これら２枚の電極
基板間に液晶層を挟持することにより構成されている。
これら２枚の電極基板は、シール材および封止材によっ
て周辺領域同士が貼り合わされているとともに、電極基
板間には、基板間距離、つまり、セルギャップを所定の
値に保持するための粒状スペーサ、または樹脂からなる
柱状スペーサが配置されている。また、液晶表示装置に
よりカラー表示する場合、一方の電極基板に赤色
（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層が配置
されている。
膜を有する２枚の電極基板を、配向膜同士が対向するよ
うに所定の隙間を置いて対向配置し、これら２枚の電極
基板間に液晶層を挟持することにより構成されている。
これら２枚の電極基板は、シール材および封止材によっ
て周辺領域同士が貼り合わされているとともに、電極基
板間には、基板間距離、つまり、セルギャップを所定の
値に保持するための粒状スペーサ、または樹脂からなる
柱状スペーサが配置されている。また、液晶表示装置に
よりカラー表示する場合、一方の電極基板に赤色
（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層が配置
されている。
【０００３】通常、バックライトからの光漏れを防止す
るため、基板の表示画素領域の外側には額縁状のブラッ
クマトリクス（ＢＭ）が形成されている。このＢＭ材料
としては、Ｃｒ、ＭｏＷ等の金属薄膜や、樹脂が使用さ
れる。アレイ基板側に着色層を形成する場合、Ｒ、Ｇ、
Ｂの各着色層の他に黒の着色層によって柱状スペーサお
よびＢＭを同時に形成する。この際、黒着色層をＲＧＢ
着色層上に形成することにより所望のセルギヤップを得
ることができる。
るため、基板の表示画素領域の外側には額縁状のブラッ
クマトリクス（ＢＭ）が形成されている。このＢＭ材料
としては、Ｃｒ、ＭｏＷ等の金属薄膜や、樹脂が使用さ
れる。アレイ基板側に着色層を形成する場合、Ｒ、Ｇ、
Ｂの各着色層の他に黒の着色層によって柱状スペーサお
よびＢＭを同時に形成する。この際、黒着色層をＲＧＢ
着色層上に形成することにより所望のセルギヤップを得
ることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一方、液晶表示装置が
組み込まれた近年のノートブックパソコン等の電子機器
では、機器の小型化および表示画面の大型化を図るた
め、液晶表示装置の狭額縁化が進められている。そのた
め、液晶表示装置とシステムとの組立公差が厳しく、液
晶表示装置の表示領域周縁を通してバックライトからの
光漏れが発生し、表示品位を損ねてしまうことがある。
組み込まれた近年のノートブックパソコン等の電子機器
では、機器の小型化および表示画面の大型化を図るた
め、液晶表示装置の狭額縁化が進められている。そのた
め、液晶表示装置とシステムとの組立公差が厳しく、液
晶表示装置の表示領域周縁を通してバックライトからの
光漏れが発生し、表示品位を損ねてしまうことがある。
【０００５】この発明は、以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、バックライトからの光漏れを確実に防
止し、表示品位の低下を防止した液晶表示装置を提供す
ることにある。
で、その目的は、バックライトからの光漏れを確実に防
止し、表示品位の低下を防止した液晶表示装置を提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係る液晶表示装置は、基板の一主面上
に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の
走査線と、上記交差部毎に配置されたスイッチング素子
と、上記信号線、上記走査線及び上記スイッチング素子
の少なくとも一部を覆うように配置された複数の着色層
と、それぞれ上記着色層上に重ねて配置されているとと
もに上記着色層に形成されたコンタクトホールを介して
上記スイッチング素子にそれぞれ接続された複数の画素
電極と、を有した表示領域と、上記表示領域を囲んで設
けられているともに遮光性を有し、上記表示領域周縁の
光漏れを防止する額縁パターンと、を備えたアレイ基板
と、上記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、
上記表示領域の周囲を囲んで設けられ上記アレイ基板と
上記対向基板との周縁部同志を接合したシールと、上記
アレイ基板と上記対向基板との間に設けられ、上記アレ
イ基板と上記対向基板との間に所定の隙間を保持した複
数のスペーサと、上記アレイ基板と上記対向基板との間
の間隙に封入された液晶層と、を備え、上記額縁パター
ンは、上記シールの少なくとも一部を除き、上記アレイ
基板における上記表示領域の外側全面に亘って設けられ
ていることを特徴としている。
め、この発明に係る液晶表示装置は、基板の一主面上
に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の
走査線と、上記交差部毎に配置されたスイッチング素子
と、上記信号線、上記走査線及び上記スイッチング素子
の少なくとも一部を覆うように配置された複数の着色層
と、それぞれ上記着色層上に重ねて配置されているとと
もに上記着色層に形成されたコンタクトホールを介して
上記スイッチング素子にそれぞれ接続された複数の画素
電極と、を有した表示領域と、上記表示領域を囲んで設
けられているともに遮光性を有し、上記表示領域周縁の
光漏れを防止する額縁パターンと、を備えたアレイ基板
と、上記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、
上記表示領域の周囲を囲んで設けられ上記アレイ基板と
上記対向基板との周縁部同志を接合したシールと、上記
アレイ基板と上記対向基板との間に設けられ、上記アレ
イ基板と上記対向基板との間に所定の隙間を保持した複
数のスペーサと、上記アレイ基板と上記対向基板との間
の間隙に封入された液晶層と、を備え、上記額縁パター
ンは、上記シールの少なくとも一部を除き、上記アレイ
基板における上記表示領域の外側全面に亘って設けられ
ていることを特徴としている。
【０００７】また、この発明に係る液晶表示装置によれ
ば、上記アレイ基板は、上記スイッチング素子と同時に
形成され上記表示領域を駆動する駆動回路と、上記スイ
ッチング素子および上記駆動回路を構成する導電膜によ
り形成されているとともに上記表示領域周縁にほぼ平行
に配置され、上記駆動回路を動作させるための複数本の
配線と、を備え、上記配線の少なくとも１本は、上記シ
ールと重なる位置に設けられていることを特徴としてい
る。
ば、上記アレイ基板は、上記スイッチング素子と同時に
形成され上記表示領域を駆動する駆動回路と、上記スイ
ッチング素子および上記駆動回路を構成する導電膜によ
り形成されているとともに上記表示領域周縁にほぼ平行
に配置され、上記駆動回路を動作させるための複数本の
配線と、を備え、上記配線の少なくとも１本は、上記シ
ールと重なる位置に設けられていることを特徴としてい
る。
【０００８】上記のように構成された液晶表示装置によ
れば、表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターン
を、基板外周に配置されたシールの少なくとも一部を除
いて、表示領域の外側全面に配置することにより、バッ
クライトからの光漏れを確実に防止し、表示品位の向上
を図ることが可能な液晶表示装置を提供することができ
る。
れば、表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターン
を、基板外周に配置されたシールの少なくとも一部を除
いて、表示領域の外側全面に配置することにより、バッ
クライトからの光漏れを確実に防止し、表示品位の向上
を図ることが可能な液晶表示装置を提供することができ
る。
【０００９】また、この発明によれば、表示領域周縁の
光漏れを防止する額縁パターンを、基板外周に配置され
たシールの少なくとも一部を除いて、表示領域の外側全
面に配置し、更に、額縁パターンを除いたシール部分
に、表示領域周縁にほぼ平行に設けられた少なくとも１
本の配線を配置することにより、バックライトからの光
漏れを一層確実に防止し、表示品位の向上した液晶表示
装置を提供することができる。
光漏れを防止する額縁パターンを、基板外周に配置され
たシールの少なくとも一部を除いて、表示領域の外側全
面に配置し、更に、額縁パターンを除いたシール部分
に、表示領域周縁にほぼ平行に設けられた少なくとも１
本の配線を配置することにより、バックライトからの光
漏れを一層確実に防止し、表示品位の向上した液晶表示
装置を提供することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型液晶表
示装置について詳細に説明する。図１ないし図３に示す
ように、液晶表示装置１０は、カラーフィルタとしての
着色層が設けられたアレイ基板１２と、このアレイ基板
に所定のセルギャップを置いて対向配置された対向基板
２０と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に
液晶層７０が挟持されている。
発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型液晶表
示装置について詳細に説明する。図１ないし図３に示す
ように、液晶表示装置１０は、カラーフィルタとしての
着色層が設けられたアレイ基板１２と、このアレイ基板
に所定のセルギャップを置いて対向配置された対向基板
２０と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に
液晶層７０が挟持されている。
【００１１】アレイ基板１２および対向基板２０は、液
晶表示装置の表示領域４０の外周を囲むように配置され
たシール１８により周縁部同士が接合されている。シー
ル１８の一部には液晶注入口３５が形成され、この液晶
注入口３５は、液晶注入後、封止材３４により封止され
ている。
晶表示装置の表示領域４０の外周を囲むように配置され
たシール１８により周縁部同士が接合されている。シー
ル１８の一部には液晶注入口３５が形成され、この液晶
注入口３５は、液晶注入後、封止材３４により封止され
ている。
【００１２】対向基板２０は、ガラスからなる透明な絶
縁基板２１上にＩＴＯからなる透明電極２２、配向膜１
３を順に形成して構成されている。
縁基板２１上にＩＴＯからなる透明電極２２、配向膜１
３を順に形成して構成されている。
【００１３】また、アレイ基板１２は、ガラスからなる
透明な絶縁基板１１上に図示しない複数の走査電極およ
びこれと平行に設けられた補助容量電極、および絶縁膜
２３を介してこれらと直交する複数の信号線１４が配置
され、走査線と信号線の各交点近傍にはスイッチング素
子として図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ構造のＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）素子と、このスイッチング素子と電気的
に接続されたソース電極１５と、このソース電極に接続
された画素電極３０と、が配置されている。
透明な絶縁基板１１上に図示しない複数の走査電極およ
びこれと平行に設けられた補助容量電極、および絶縁膜
２３を介してこれらと直交する複数の信号線１４が配置
され、走査線と信号線の各交点近傍にはスイッチング素
子として図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ構造のＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）素子と、このスイッチング素子と電気的
に接続されたソース電極１５と、このソース電極に接続
された画素電極３０と、が配置されている。
【００１４】また、アレイ基板１２の絶縁基板１１上に
おいて、表示領域４０の外側には、スイッチング素子と
同時に図示しない液晶駆動回路が形成されているととも
に、この液晶駆動回路を動作させるために必要な複数の
配線１６が設けられている。
おいて、表示領域４０の外側には、スイッチング素子と
同時に図示しない液晶駆動回路が形成されているととも
に、この液晶駆動回路を動作させるために必要な複数の
配線１６が設けられている。
【００１５】そして、スイッチング素子および液晶駆動
回路を覆うように保護絶縁膜２４が設けられ、更にその
上部に、それぞれストライプ状の緑色（Ｇ）の着色層２
５Ｇ、青色（Ｂ）の着色層２５Ｂ、赤色（Ｒ）の着色層
２５Ｒが配置されている。そして、緑色の着色層２５Ｇ
の両側縁が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによっ
て覆われている。このような構成は、各着色層を加工す
る際に用いる遮光マスクを適合するように作製すること
で達成される。
回路を覆うように保護絶縁膜２４が設けられ、更にその
上部に、それぞれストライプ状の緑色（Ｇ）の着色層２
５Ｇ、青色（Ｂ）の着色層２５Ｂ、赤色（Ｒ）の着色層
２５Ｒが配置されている。そして、緑色の着色層２５Ｇ
の両側縁が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによっ
て覆われている。このような構成は、各着色層を加工す
る際に用いる遮光マスクを適合するように作製すること
で達成される。
【００１６】そして、画素電極３０は、これらの着色層
２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒ上にそれぞれ配置され、着色層
および保護絶縁膜２４に形成されたコンタクトホール２
６を介してそれぞれ対応するスイッチング素子のソース
電極１５に接続されている。更に、画素電極３０および
着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒを覆うように、絶縁基板
１１基板全面には配向膜１３が形成されている。着色層
材料には、紫外線硬化型アクリル樹脂を、配向膜材料に
は、ポリイミドをそれぞれ用いている。
２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒ上にそれぞれ配置され、着色層
および保護絶縁膜２４に形成されたコンタクトホール２
６を介してそれぞれ対応するスイッチング素子のソース
電極１５に接続されている。更に、画素電極３０および
着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒを覆うように、絶縁基板
１１基板全面には配向膜１３が形成されている。着色層
材料には、紫外線硬化型アクリル樹脂を、配向膜材料に
は、ポリイミドをそれぞれ用いている。
【００１７】また、アレイ基板１２の絶縁基板１１上に
は、表示領域４０の周縁を囲むように、所定幅を持った
黒色の着色層からなる矩形状の額縁パターン３２が形成
されている。この額縁パターン３２は、シール１８の形
成部分を除き、表示領域４０の周辺の全面に亘って、す
なわち、表示領域４０の周縁から絶縁基板１１の周縁ま
での領域の全面に形成されている。額縁パターン３２は
他の着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒよりも厚く形成され
ている。更に、この額縁パターン３２と同時に、画素電
極３０上には所望の密度で多数の柱状スペーサ３１が形
成されている。
は、表示領域４０の周縁を囲むように、所定幅を持った
黒色の着色層からなる矩形状の額縁パターン３２が形成
されている。この額縁パターン３２は、シール１８の形
成部分を除き、表示領域４０の周辺の全面に亘って、す
なわち、表示領域４０の周縁から絶縁基板１１の周縁ま
での領域の全面に形成されている。額縁パターン３２は
他の着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒよりも厚く形成され
ている。更に、この額縁パターン３２と同時に、画素電
極３０上には所望の密度で多数の柱状スペーサ３１が形
成されている。
【００１８】シール１８は、その一部が額縁パターン３
２に重なった状態で、表示領域４０の周縁部を囲むよう
に設けられている。なお、絶縁基板１１上において、シ
ール１８の下方には、着色層２５が形成されている。そ
して、アレイ基板１２および対向基板２０は、このシー
ル１８により周縁部同士が接着されているとともに、こ
れらの基板間のセルギャップは、多数の柱状スペーサ３
１によって所定の値に維持されている。
２に重なった状態で、表示領域４０の周縁部を囲むよう
に設けられている。なお、絶縁基板１１上において、シ
ール１８の下方には、着色層２５が形成されている。そ
して、アレイ基板１２および対向基板２０は、このシー
ル１８により周縁部同士が接着されているとともに、こ
れらの基板間のセルギャップは、多数の柱状スペーサ３
１によって所定の値に維持されている。
【００１９】次に、上記アクティブマトリクス型の液晶
表示装置の一層詳しい構成をその製造方法と併せて説明
する。まず、高歪点ガラス基板や石英基板などの透明な
絶縁基板１１上に、ＣＶＤ法などによりアモルファス
（ａ−Ｓｉ）膜を被着形成する。そして、ａ−Ｓｉ膜を
炉アニールした後、ＸｅＣｌエキシマレーザを照射し、
ａ−Ｓｉ膜を多結晶化しポリシリコン膜とする。その後
に、ポリシリコン膜をフォトエングレイビング法により
パターンニングして、図示しない表示領域内画素部のＴ
ＦＴのチャネル層、および図示しない液晶駆動回路領域
のＴＦＴ（回路ＴＦＴ）のチャネル層を形成し、更に、
補助容量素子の下部電極を形成する。
表示装置の一層詳しい構成をその製造方法と併せて説明
する。まず、高歪点ガラス基板や石英基板などの透明な
絶縁基板１１上に、ＣＶＤ法などによりアモルファス
（ａ−Ｓｉ）膜を被着形成する。そして、ａ−Ｓｉ膜を
炉アニールした後、ＸｅＣｌエキシマレーザを照射し、
ａ−Ｓｉ膜を多結晶化しポリシリコン膜とする。その後
に、ポリシリコン膜をフォトエングレイビング法により
パターンニングして、図示しない表示領域内画素部のＴ
ＦＴのチャネル層、および図示しない液晶駆動回路領域
のＴＦＴ（回路ＴＦＴ）のチャネル層を形成し、更に、
補助容量素子の下部電極を形成する。
【００２０】次に、ＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面
に図示しないゲート絶縁膜となるシリコン酸化膜を１０
０ｎｍ程度被着する。続いて、このシリコン酸化膜上全
面にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又は
その積層膜あるいは合金膜を４００ｎｍ程度被着し、フ
ォトエングレイビング法により所定の形状にパターニン
グし、いずれも図示しない走査線と、走査線を延在して
成る画素ＴＦＴのゲート電極、補助容量線、回路ＴＦＴ
のゲート電極、および駆動回路領域内の各種配線を形成
する。この時、液晶駆動回路を駆動させるために必要と
なる複数の配線１６を同時に形成する。
に図示しないゲート絶縁膜となるシリコン酸化膜を１０
０ｎｍ程度被着する。続いて、このシリコン酸化膜上全
面にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又は
その積層膜あるいは合金膜を４００ｎｍ程度被着し、フ
ォトエングレイビング法により所定の形状にパターニン
グし、いずれも図示しない走査線と、走査線を延在して
成る画素ＴＦＴのゲート電極、補助容量線、回路ＴＦＴ
のゲート電極、および駆動回路領域内の各種配線を形成
する。この時、液晶駆動回路を駆動させるために必要と
なる複数の配線１６を同時に形成する。
【００２１】その後、これらのゲート電極をマスクとし
てイオン注入やイオンドーピング法により上述したチャ
ネル層に不純物の注入を行い、画素ＴＦＴのソース電極
１５、図示しないドレイン電極、および図示しないＮｃ
ｈ型の回路ＴＦＴのソース電極とドレイン電極とを形成
する。不純物の注入は、例えば加速電圧８０ｋｅＶで５
×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ２のドーズ量で、ＰＨ３／
Ｈ２によりリンを高濃度注入した。
てイオン注入やイオンドーピング法により上述したチャ
ネル層に不純物の注入を行い、画素ＴＦＴのソース電極
１５、図示しないドレイン電極、および図示しないＮｃ
ｈ型の回路ＴＦＴのソース電極とドレイン電極とを形成
する。不純物の注入は、例えば加速電圧８０ｋｅＶで５
×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ２のドーズ量で、ＰＨ３／
Ｈ２によりリンを高濃度注入した。
【００２２】次に、図示しない画素ＴＦＴ、および駆動
回路領域のＮｃｈ型の回路ＴＦＴには不純物が注入され
ないようにレジストで被覆した後、図示しないＰｃｈ型
の回路ＴＦＴのゲート電極をそれぞれマスクとして、加
速電圧加速電圧８０ｋｅＶで５×１０１５ａｔｏｍｓ／
ｃｍ２のドーズ量で、Ｂ２ＰＨ６／Ｈ２によりボロンを
高濃度注入し、Ｐｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およ
びドレイン電極を形成する。
回路領域のＮｃｈ型の回路ＴＦＴには不純物が注入され
ないようにレジストで被覆した後、図示しないＰｃｈ型
の回路ＴＦＴのゲート電極をそれぞれマスクとして、加
速電圧加速電圧８０ｋｅＶで５×１０１５ａｔｏｍｓ／
ｃｍ２のドーズ量で、Ｂ２ＰＨ６／Ｈ２によりボロンを
高濃度注入し、Ｐｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およ
びドレイン電極を形成する。
【００２３】その後、図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ（Ligh
t1y Doped Drain ）を形成するための不純物注入を行
い、基板をアニールすることにより不純物を活性化す
る。
t1y Doped Drain ）を形成するための不純物注入を行
い、基板をアニールすることにより不純物を活性化す
る。
【００２４】更に、例えばＰＥＣＶＤ法を用いて絶縁基
板１１の全面にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜２３
を５００ｎｍ程度被着する。
板１１の全面にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜２３
を５００ｎｍ程度被着する。
【００２５】次に、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ
などの単体又はその積層膜あるいは合金膜を５００ｎｍ
程度被着し、フォトエングレイビング法により所定の形
状にパターニングして、信号線１４、画素ＴＦＴのドレ
イン電極、ソース電極１５、および図示しない液晶駆動
回路領域内の回路ＴＦＴの各種の配線等を行う。
などの単体又はその積層膜あるいは合金膜を５００ｎｍ
程度被着し、フォトエングレイビング法により所定の形
状にパターニングして、信号線１４、画素ＴＦＴのドレ
イン電極、ソース電極１５、および図示しない液晶駆動
回路領域内の回路ＴＦＴの各種の配線等を行う。
【００２６】次に、ＰＥＣＶＤ法により絶縁基板１１の
全面にＳｉＮｘからなる保護絶縁膜２４を成膜し、フォ
トエングレイビング法により、画素ＴＦＴのソース電極
１５に至るコンタクトホール２６と、図示しないドレイ
ン電極に至るコンタクトホールと、図示しない回路ＴＦ
Ｔのソース電極およびドレイン電極に至るコンタクトホ
ールと、をそれぞれ形成する。
全面にＳｉＮｘからなる保護絶縁膜２４を成膜し、フォ
トエングレイビング法により、画素ＴＦＴのソース電極
１５に至るコンタクトホール２６と、図示しないドレイ
ン電極に至るコンタクトホールと、図示しない回路ＴＦ
Ｔのソース電極およびドレイン電極に至るコンタクトホ
ールと、をそれぞれ形成する。
【００２７】続いて、紫外線硬化型アクリル系緑色レジ
スト液を絶縁基板１１上にスピンナ塗布により２μｍ程
度の膜厚で塗布する。その後、約９０℃で約５分間プリ
ベークし、所定のマスクパターンを用いて露光する。こ
こで用いるフォトマスクパターンは、緑色着色層２５Ｇ
に対応するストライプ形状パターンと、画素電極３０と
ソース電極１５とを接続するためのコンタクトホール２
６の円形パターンと、を有している。
スト液を絶縁基板１１上にスピンナ塗布により２μｍ程
度の膜厚で塗布する。その後、約９０℃で約５分間プリ
ベークし、所定のマスクパターンを用いて露光する。こ
こで用いるフォトマスクパターンは、緑色着色層２５Ｇ
に対応するストライプ形状パターンと、画素電極３０と
ソース電極１５とを接続するためのコンタクトホール２
６の円形パターンと、を有している。
【００２８】次に、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テトラ
メチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約６
０秒間現像し、更に水洗い後、約２０℃で１時間ほどポ
ストベークすることによって、コンタクトホール２６を
有する緑色着色層２５Ｇを形成した。
メチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約６
０秒間現像し、更に水洗い後、約２０℃で１時間ほどポ
ストベークすることによって、コンタクトホール２６を
有する緑色着色層２５Ｇを形成した。
【００２９】続いて、青色着色層２５Ｂ、赤色着色層２
５Ｒを同様の工程にて形成する。この際、緑色着色層２
５Ｇのパターン端が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５
Ｒによって覆われる構成とした。これは、上記のよう
に、各着色層を加工する際に用いる露光マスクを適合す
るように作製することで達成される。また、絶縁基板１
１上において、シール１８の形成領域に沿って、例え
ば、青色着色層２５Ｂを形成し、シールを通して光漏れ
が起こらない構造とする。
５Ｒを同様の工程にて形成する。この際、緑色着色層２
５Ｇのパターン端が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５
Ｒによって覆われる構成とした。これは、上記のよう
に、各着色層を加工する際に用いる露光マスクを適合す
るように作製することで達成される。また、絶縁基板１
１上において、シール１８の形成領域に沿って、例え
ば、青色着色層２５Ｂを形成し、シールを通して光漏れ
が起こらない構造とする。
【００３０】次に、着色層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ上に
スパッタリング法によりインジウム・すず酸化物（ＩＴ
Ｏ）を堆積し、これをパターニングすることにより画素
電極３０を形成する。
スパッタリング法によりインジウム・すず酸化物（ＩＴ
Ｏ）を堆積し、これをパターニングすることにより画素
電極３０を形成する。
【００３１】その後、黒色着色層により柱状スペーサ３
１および額縁パターン３２を形成する。この際、額縁パ
ターン３２は、シール１８の形成領域を除いて、表示領
域４０の周辺部分全面に形成する。また、シール形成領
域においても、青色着色層２５Ｂの上に、表示領域４０
内と同じ割合で柱状スペーサ３１を配置する。
１および額縁パターン３２を形成する。この際、額縁パ
ターン３２は、シール１８の形成領域を除いて、表示領
域４０の周辺部分全面に形成する。また、シール形成領
域においても、青色着色層２５Ｂの上に、表示領域４０
内と同じ割合で柱状スペーサ３１を配置する。
【００３２】続いて、ポリイミドからなる配向膜材料を
絶縁基板１１全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３
を形成し、これにより、カラーフィルタを有するアレイ
基板１２を得た。
絶縁基板１１全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３
を形成し、これにより、カラーフィルタを有するアレイ
基板１２を得た。
【００３３】一方、透明絶縁基板２１上にスパッタ法に
よりＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積して対向電極２
２を形成し、続いてポリイミドからなる配向膜材料を基
板全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３を形成する
ことにより、対向基板２０をを得る。
よりＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積して対向電極２
２を形成し、続いてポリイミドからなる配向膜材料を基
板全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３を形成する
ことにより、対向基板２０をを得る。
【００３４】このようにして形成された対向基板２０の
外周縁部に、液晶注入口３５を除いてシール１８を塗布
する。そして、この対向基板２０、およびカラーフィル
タの設けられたアレイ基板１２をシール１８により貼り
合わせることにより、空状態のセルが完成する。
外周縁部に、液晶注入口３５を除いてシール１８を塗布
する。そして、この対向基板２０、およびカラーフィル
タの設けられたアレイ基板１２をシール１８により貼り
合わせることにより、空状態のセルが完成する。
【００３５】次に、カイラル材が添加されたネマティッ
ク液晶材料を、液晶注入口３５からセル内に真空注入
し、注入後、液晶注入口３５を封止材３３としての紫外
線硬化樹脂を用いて封止する。その後、セルの両側にそ
れぞれ偏光板を貼付することにより、液晶表示装置が完
成する。
ク液晶材料を、液晶注入口３５からセル内に真空注入
し、注入後、液晶注入口３５を封止材３３としての紫外
線硬化樹脂を用いて封止する。その後、セルの両側にそ
れぞれ偏光板を貼付することにより、液晶表示装置が完
成する。
【００３６】このように構成された液晶表示装置によれ
ば、額縁パターン３２を、アレイ基板１２および対向基
板２０の外周縁に配置されるシール１８の少なくとも一
部を除いて、表示領域の外側全面に設けている。すなわ
ち、額縁パターン３２は、シール１８の外側にも設けら
れている。そのため、液晶表示装置を狭額縁化した場合
でも、バックライトからの光が表示領域４０周縁から外
部に漏洩することを確実に防止し、表示品位の向上を図
ることが可能となる。
ば、額縁パターン３２を、アレイ基板１２および対向基
板２０の外周縁に配置されるシール１８の少なくとも一
部を除いて、表示領域の外側全面に設けている。すなわ
ち、額縁パターン３２は、シール１８の外側にも設けら
れている。そのため、液晶表示装置を狭額縁化した場合
でも、バックライトからの光が表示領域４０周縁から外
部に漏洩することを確実に防止し、表示品位の向上を図
ることが可能となる。
【００３７】次に、この発明の第２の実施の形態に係る
液晶表示装置について説明する。図４に示すように、第
２の実施の形態によれば、前述した第１の実施の形態と
同様に、額縁パターン３２は、絶縁基板１１上におい
て、シール形成領域を除き、表示領域４０の外側全面に
設けられている。更に、絶縁基板１１において、表示領
域４０の外側に設けられた複数の配線１６の内、少なく
とも１本、例えば、配線１６ａは、シール１８と重なる
位置、すなわち、額縁パターン３２が設けられていない
位置、に形成され表示領域周縁とほぼ平行に延びてい
る。他の構成は、第１の実施の形態と同一であり、同一
の部分には同一の参照符号を付してその詳細な説明を省
略する。
液晶表示装置について説明する。図４に示すように、第
２の実施の形態によれば、前述した第１の実施の形態と
同様に、額縁パターン３２は、絶縁基板１１上におい
て、シール形成領域を除き、表示領域４０の外側全面に
設けられている。更に、絶縁基板１１において、表示領
域４０の外側に設けられた複数の配線１６の内、少なく
とも１本、例えば、配線１６ａは、シール１８と重なる
位置、すなわち、額縁パターン３２が設けられていない
位置、に形成され表示領域周縁とほぼ平行に延びてい
る。他の構成は、第１の実施の形態と同一であり、同一
の部分には同一の参照符号を付してその詳細な説明を省
略する。
【００３８】上記のように構成された第２の実施の形態
においても、第１の実施の形態と同様に、額縁パターン
３２により表示領域４０周縁からのバックライトの光漏
れを防止することができる。更に、額縁パターン３２を
除いたシール１８部分に少なくとも１本の配線１６ａを
設けることにより、シール１８を通る光漏れも防止で
き、バックライトの光漏れを一層確実に防止することが
可能となる。
においても、第１の実施の形態と同様に、額縁パターン
３２により表示領域４０周縁からのバックライトの光漏
れを防止することができる。更に、額縁パターン３２を
除いたシール１８部分に少なくとも１本の配線１６ａを
設けることにより、シール１８を通る光漏れも防止で
き、バックライトの光漏れを一層確実に防止することが
可能となる。
【００３９】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、前述した実施の形態では、額縁パターン
３２および柱状スペーサ３１を黒色着色層のみで形成し
たが、これらは、着色層を２色または３色重ねて形成し
てもよい。
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、前述した実施の形態では、額縁パターン
３２および柱状スペーサ３１を黒色着色層のみで形成し
たが、これらは、着色層を２色または３色重ねて形成し
てもよい。
【００４０】
【発明の効果】以上詳述したように、この本発明によれ
ば、表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターンを、
基板外周に配置されたシールの少なくとも一部を除い
て、表示領域の外側全面に配置することにより、バック
ライトからの光漏れを確実に防止し、表示品位の向上を
図ることが可能な液晶表示装置を提供することができ
る。
ば、表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターンを、
基板外周に配置されたシールの少なくとも一部を除い
て、表示領域の外側全面に配置することにより、バック
ライトからの光漏れを確実に防止し、表示品位の向上を
図ることが可能な液晶表示装置を提供することができ
る。
【００４１】また、この発明によれば、表示領域周縁の
光漏れを防止する額縁パターンを、基板外周に配置され
たシールの少なくとも一部を除いて、表示領域の外側全
面に配置し、かつ、額縁パターンを除いたシール部分
に、表示領域周縁にほぼ平行に設けられた少なくとも１
本の配線を配置することにより、バックライトからの光
漏れを一層確実に防止し、表示品位の向上した液晶表示
装置を提供することができる。
光漏れを防止する額縁パターンを、基板外周に配置され
たシールの少なくとも一部を除いて、表示領域の外側全
面に配置し、かつ、額縁パターンを除いたシール部分
に、表示領域周縁にほぼ平行に設けられた少なくとも１
本の配線を配置することにより、バックライトからの光
漏れを一層確実に防止し、表示品位の向上した液晶表示
装置を提供することができる。
【図１】この発明の実施の形態に係るアクティブマトリ
クス型の液晶表示を示す斜視図。
クス型の液晶表示を示す斜視図。
【図２】上記液晶表示装置を構成するアレイ基板の周辺
部を拡大して示す平面図。
部を拡大して示す平面図。
【図３】図２の線Ａ−Ａに沿った断面図。
【図４】この発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装
置の断面図。
置の断面図。
１１、２１…絶縁基板 １２…アレイ基板 １３…配向膜 １４…信号線 １５…ソース電極 １６…液晶駆動回路用配線 １８…シール ２０…対向基板 ２２…対向電極 ２３…層間絶縁膜 ２４…保護絶縁膜 ２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ…着色層 ２６…コンタクト ３０…画素電極 ３１…柱状スペーサ ３２…額縁パターン ４０…表示画素領域 ７０…液晶層
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｃ ３４９Ｂ (72)発明者 飯塚 哲也 神奈川県川崎市川崎区日進町７番地１ 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA45 BB01 BB02 BB08 BB14 BB42 2H089 JA11 LA09 LA16 LA20 LA41 NA13 NA14 NA17 NA24 QA12 QA14 TA09 2H091 FA34Y FC10 FC26 FD04 FD07 FD22 GA13 LA03 LA13 5C094 AA02 AA16 BA03 BA43 CA19 CA24 DA07 DA14 DA15 EA04 EA07 EB02 EC03 ED03 ED15 FB12 FB14 FB15
Claims (6)
- 【請求項１】基板の一主面上に、互いに交差して配置さ
れた複数の信号線及び複数の走査線と、上記交差部毎に
配置されたスイッチング素子と、上記信号線、上記走査
線及び上記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うよ
うに配置された複数の着色層と、それぞれ上記着色層上
に重ねて配置されているとともに上記着色層に形成され
たコンタクトホールを介して上記スイッチング素子にそ
れぞれ接続された複数の画素電極と、を有した表示領域
と、上記表示領域を囲んで設けられているともに遮光性
を有し、上記表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パタ
ーンと、を備えたアレイ基板と、 上記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、 上記表示領域の周囲を囲んで設けられ上記アレイ基板と
上記対向基板との周縁部同志を接合したシールと、 上記アレイ基板と上記対向基板との間に設けられ、上記
アレイ基板と上記対向基板との間に所定の隙間を保持し
た複数のスペーサと、 上記アレイ基板と上記対向基板との間の間隙に封入され
た液晶層と、を備え、 上記額縁パターンは、上記シールの少なくとも一部を除
き、上記アレイ基板における上記表示領域の外側全面に
亘って設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】上記アレイ基板は、上記スイッチング素子
と同時に形成され上記表示領域を駆動する駆動回路と、
上記スイッチング素子および上記駆動回路を構成する導
電膜により形成されているとともに上記表示領域周縁に
ほぼ平行に配置され、上記駆動回路を動作させるための
複数本の配線と、を備え、 上記配線の少なくとも１本は、上記シールと重なる位置
に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液
晶表示装置。 - 【請求項３】上記スペーサは、上記額縁パターンと同一
の遮光性材料によって同時に形成された柱状スペーサを
備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液
晶表示装置。 - 【請求項４】上記アレイ基板は、上記シール内に設けら
れた柱状スペーサを備えていることを特徴とする請求項
３に記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】上記額縁パターンは、上記着色層の少なく
とも２層を重ねることにより形成されることを特徴とす
る請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】上記額縁パターンおよびスペーサは、黒色
着色層により形成されていることを特徴とする請求項１
ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000220985A JP2002040404A (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000220985A JP2002040404A (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002040404A true JP2002040404A (ja) | 2002-02-06 |
Family
ID=18715489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000220985A Pending JP2002040404A (ja) | 2000-07-21 | 2000-07-21 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002040404A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009198667A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 表示素子 |
| WO2023184374A1 (zh) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板、阵列基板及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1068969A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Toshiba Electron Eng Corp | 液晶表示素子 |
| JPH10153797A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-06-09 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
| JPH11109373A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Toshiba Corp | 液晶表示素子 |
| JPH11190838A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-07-13 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
-
2000
- 2000-07-21 JP JP2000220985A patent/JP2002040404A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1068969A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Toshiba Electron Eng Corp | 液晶表示素子 |
| JPH10153797A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-06-09 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
| JPH11109373A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Toshiba Corp | 液晶表示素子 |
| JPH11190838A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-07-13 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009198667A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 表示素子 |
| WO2023184374A1 (zh) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板、阵列基板及其制备方法 |
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Legal Events
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