JP2001142088A

JP2001142088A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JP2001142088A
Application number: JP32000099A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Iizuka; 哲也飯塚; Nobuko Fukuoka; 暢子福岡; Atsuyuki Manabe; 敦行真鍋; Daisuke Miyazaki; 大輔宮崎; Hitoshi Hado; 仁羽藤
Original assignee: Toshiba Corp; Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
Current assignee: Toshiba Corp; Toshiba Development and Engineering Corp
Priority date: 1999-11-10
Filing date: 1999-11-10
Publication date: 2001-05-25
Anticipated expiration: 2019-11-10
Also published as: JP4458591B2

Abstract

(57)【要約】【課題】注入口部の見栄えを悪化させずに液晶注入時間
を短縮可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】表示領域４０の周囲には、黒色着色層から
なるが矩形状の額縁パターン３２が形成されている。額
縁パターンの内、シール材１８に形成された液晶注入口
３５に隣接対向する部分は注入ガイド部３３として形成
さている。この注入ガイド部は、黒色着色層と、この黒
色着色層よりも膜厚の薄い他の着色層とを混合配置する
ことにより形成されている。また、注入ガイド部は、液
晶注入口よりも長く形成され、液晶注入口の両端を越え
て延出している。注入ガイド部の中央部分３３ａでは黒
色着色層と他の着色層とが１：１の割合で配置され、両
端部では黒色着色層の割合が徐々に増加したグラデーシ
ョン領域３３ｂとなっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関
し、特に、アレイ基板側に着色層が設けられた液晶表示
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、配向膜を有する２枚の
基板を配向膜が対向するように配置し、これら２枚の基
板間に液晶層を挟持して構成されている。これら２枚の
基板は、シール材および封止材によって周辺領域同士が
貼り合わされ、この２枚の基板間には、基板間距離を所
定の値に保持するために粒状スペーサ、またはフォトリ
ソグラフィー法により形成された樹脂からなる柱状スペ
ーサが配置されている。液晶表示装置によりカラー表示
する場合、一般に、基板の一方に赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層が配置されている。

【０００３】通常、基板の表示領域の外側には、バック
ライトからの光漏れを防止するために額縁状のブラック
マトリクス（ＢＭ）が形成される。このＢＭ材料として
は、Ｃｒ、ＭｏＷ等の金属薄膜や、樹脂が使用されてい
る。

【０００４】また、アレイ基板側に着色層を形成する場
合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層の他に黒の着色層で柱状スペ
ーサと額縁パターンを同時に形成する。このとき黒着色
層をＲ、Ｇ、Ｂ着色層上に形成することにより所望のセ
ルギヤップを得ることができる。通常、高い透過率を得
るために、Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層は黒着色層よりも薄く形成
される。そのため、額縁パターンの部分におけるセルギ
ヤップは、表示領域におけるセルギャップよりも小さく
なっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示装
置において、液晶は、シール材の一部に形成された注入
口を通して基板間に注入される。しかしながら、この場
合、液晶注入口は額縁パターンと隣接対向して位置して
いるとともに、この額縁パターンは膜厚が厚くセルギャ
ツプが小さくなっている。従って、液晶は、注入口から
セルギャップの小さな額縁パターンを通って基板間に注
入されることになり、液晶の注入に時間が掛かってしま
う。

【０００６】これに対し、膜厚の薄い他の着色層を注入
口近傍に配置すると、注入口の開口断面積が大きくなる
ため注入時間は短くなるものの、注入口に対向する額縁
パターンの一部分で色が異なることになり、見栄えが悪
くなると言う問題が発生する。

【０００７】この発明は、以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、液晶注入時間の短縮を図ることができ
るとともに、注入口部分の見栄えの低下を防止可能な液
晶表示装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係る液晶表示装置は、表示領域の外周縁
に沿って設けられた額縁パターンを備え、この額縁パタ
ーンの内、液晶注入口に隣接対向する部分は、膜厚の厚
い着色層と膜厚の薄い着色層とを配置して構成されてい
る。

【０００９】すなわち、この発明に係る液晶表示装置
は、基板の一主面上に、互いに交差して配置された複数
の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に配置され
たスイッチング素子と、前記信号線、前記走査線及び前
記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うように配置
された複数の着色層と、それぞれ前記着色層上に重ねて
配置されているとともに前記着色層に形成されたスルー
ホール部を介して前記スイッチング素子にそれぞれ接続
された複数の画素電極と、を有した表示領域と、前記表
示領域を囲んで設けられ、前記着色層よりも厚い膜厚と
高い遮光性を有し、前記表示領域周縁の光漏れを防止す
る額縁パターンと、を備えたアレイ基板と、前記アレイ
基板と対向して配置された対向基板と、前記表示領域の
周囲を囲んで設けられ前記アレイ基板と前記対向基板と
の周縁部同志を接着しているとともに、液晶注入口を有
したシール材と、前記アレイ基板と前記対向基板との間
に設けられ、前記アレイ基板と前記対向基板との間に所
定の隙間を保持した複数のスペーサと、前記液晶注入口
から前記アレイ基板と前記対向基板との間の間隙に注入
された液晶層と、前記液晶注入口を封止した封止材と、
を備え、前記額縁パターンは、前記液晶注入口に隣接対
向した注入ガイド部を有し、この注入ガイド部におい
て、額縁パターンの少なくとも一部が、前記着色層の少
なくとも１つで置き換えられていることを特徴としてい
る。

【００１０】このような構成によれば、額縁パターンに
注入ガイド部を設けることにより、額縁パターンを全て
厚い着色層、例えば、黒色着色層で形成する場合に比較
して、液晶注入口の開口部断面積が大きくなり、液晶注
入時間を短縮することができるとともに、注入ガイド部
の色が異なることによる見栄えの悪さも緩和することが
できる。

【００１１】一方、シール材で囲まれた基板間の隙間に
液晶が進入するとき、液晶は弧を描いて広がってゆく。
従って、額縁パターンの注入ガイド部の長さを液晶注入
口よりも長く形成し、液晶注入口のみならず、更に両側
に広げて配置することにより、液晶の進路を確保するこ
とができ、液晶注入時間を短縮し、かつ、膜厚の薄い着
色層の比率を低く抑えて見栄えがよい液晶表示装置を得
ることが可能である。

【００１２】また、この発明に係る液晶表示装置によれ
ば、注入ガイド部に配置された着色層上の一部に、表示
領域内と同様に柱状スペーサを設けることにより、液晶
注入口が潰れてギャップが狭くなることを防止でき、液
晶注入時間をより短縮することが可能となる。

【００１３】更に、この発明に係る液晶表示装置によれ
ば、注入ガイド部の膜厚の厚い部分の下部に存在する膜
の厚さを、膜厚の薄い着色層部分の下部に存在する膜の
厚さよりも薄くすることにより、液晶注入口部分のギャ
ップを更に広げることが可能となる。

【００１４】また、この発明に係る液晶表示装置によれ
ば、液晶駆動回路を、スイッチング素子と同時に表示領
域周辺に形成し、液晶注入口近傍に液晶駆動回路動用の
配線を有する場合において、注入ガイド部に配置された
着色層と重なって位置した部分の配線間の隙間を、スイ
ッチング素子および液晶駆動回路を構成する複数の絶縁
膜と遮光性膜のいずれかを組み合わせて遮光することに
より、配線部分においても、膜厚の薄い着色層を配置す
ることが可能となり、液晶注入時間を改善することが可
能となる。

【００１５】更に、注入ガイド部において、額縁パター
ンと着色層とがグラデーションになるように配置した
り、モザイク模様に配置することにより、一層見栄えが
向上する。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型液晶表
示装置について詳細に説明する。図１ないし図３に示す
ように、液晶表示装置１０は、カラーフィルタとしての
着色層が設けられたアレイ基板１２と、このアレイ基板
に所定のセルギャップを置いて対向配置された対向基板
２０と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に
液晶層７０が挟持されている。

【００１７】アレイ基板１２および対向基板２０は、液
晶表示装置の表示領域４０の外周を囲むように配置され
たシール材１８により周縁部同士が接合されている。シ
ール材１８の一部には液晶注入口３５が形成され、この
液晶注入口３５は、液晶注入後、封止材３４により封止
されている。

【００１８】対向基板２０は、ガラスからなる透明基板
２１上にＩＴＯからなる透明電極２２、配向膜１３を順
に形成して構成されている。

【００１９】また、アレイ基板１２は、ガラスからなる
透明基板１１上に図示しない複数の走査電極およびこれ
と平行に設けられた補助容量電極、および絶縁膜２３を
介してこれらと直交する複数の信号線１４が配置され、
走査線と信号線の各交点近傍にはスイッチング素子とし
て図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ構造のＴＦＴ（薄膜トラン
ジスタ）素子と、このスイッチング素子と電気的に接続
されたソース電極１５と、このソース電極に接続された
画素電極３０と、が配置されている。

【００２０】また、アレイ基板１２の透明基板１１上に
は、スイッチング素子と同時に、図示しない液晶駆動回
路が表示領域４０周辺に形成され、表示領域近傍には、
この液晶駆動回路を動作させるために必要な複数の配線
１６が設けられている。

【００２１】そして、スイッチング素子および液晶駆動
回路を覆うように保護絶縁膜２４が設けられ、更にその
上部に、それぞれストライプ状の緑色（Ｇ）の着色層２
５Ｇ、青色（Ｂ）の着色層２５Ｂ、赤色（Ｒ）の着色層
２５Ｒが配置されている。そして、緑色の着色層２５Ｇ
の両側縁が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによっ
て覆われている。このような構成は、各着色層を加工す
る際に用いる遮光マスクを適合するように作製すること
で達成される。

【００２２】そして、画素電極３０は、これらの着色層
２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒ上にそれぞれ配置され、着色層
および保護絶縁膜２４に形成されたスルーホール２６を
介してそれぞれ対応するスイッチング素子のソース電極
１５に接続されている。更に、画素電極３０および着色
層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒを覆うように、ガラス基板１
１基板全面には配向膜１３が形成されている。着色層材
料には、紫外線硬化型アクリル樹脂を、配向膜材料に
は、ポリイミドをそれぞれ用いている。

【００２３】また、アレイ基板１２のガラス基板１１上
には、表示領域４０の周縁を囲むように、所定幅を持っ
た黒色の着色層からなる矩形状の額縁パターン３２が形
成されている。この額縁パターン３２は、他の着色層２
５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒよりも厚く形成されている。更
に、この額縁パターン３２と同時に、画素電極３０上に
は所望の密度で多数の柱状スペーサ３１が形成されてい
る。シール材１８は、その一部が額縁パターン３２に重
なった状態で、表示領域４０の周縁部に設けられてい
る。

【００２４】そして、アレイ基板１２および対向基板２
０は、シール材１８により周縁部同士が接着されている
とともに、これらの基板間のセルギャップは、多数の柱
状スペーサ３１によって所定の値に維持されている。

【００２５】額縁パターン３２において、シール材１８
の液晶注入口３５と隣接対向する部分は、注入ガイド部
３３として形成されている。すなわち、注入ガイド部３
３は、額縁パターン３２を構成する黒色着色層と、この
黒色着色層よりも薄い他の着色層、例えば、青色着色層
２５Ｂと、交互に設けることによって形成されている。

【００２６】注入ガイド部３３は、液晶注入口３５の長
さの約１．４の長さＬを有し、液晶注入口の両端を越え
て延出している。そして、注入ガイド部３３の中央部３
３ａにおいては、同一幅の黒色着色層と青色着色層とが
１：１の割合で交互に設けられ、両端部では、黒色着色
層の幅が徐々に大きく、青色着色層の幅が徐々に小さく
なり、いわゆるグラデーション領域３３ｂとなってい
る。

【００２７】次に、上記構成のアクティブマトリクス型
液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、高歪
点ガラス基板や石英基板などの透光性絶縁性基板１１上
にＣＶＤ法などによりａ−Ｓｉ膜を５０ｎｍ程度被着す
る。これを４５０℃で１時間炉アニールを行った後、Ｘ
ｅＣｌエキシマレーザを照射し、ａ−Ｓｉ膜を多結晶化
しポリシリコン膜とする。その後に、ポリシリコン膜を
フォトエングレイビング法によりパターンニングして、
図示しない表示領域内画素部のＴＦＴのチャネル層、お
よび図示しない液晶駆動回路領域のＴＦＴ（回路ＴＦ
Ｔ）のチャネル層を形成し、更に、補助容量素子の下部
電極を形成する。

【００２８】次に、ＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面
に図示しないゲート絶縁膜となるシリコン酸化膜を１０
０ｎｍ程度被着する。続いて、このシリコン酸化膜上全
面にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又は
その積層膜あるいは合金膜を４００ｎｍ程度被着し、フ
ォトエングレイビング法により所定の形状にパターニン
グし、いずれも図示しない走査線と、走査線を延在して
成る画素ＴＦＴのゲート電極、補助容量線、回路ＴＦＴ
のゲート電極、および駆動回路領域内の各種配線を形成
する。この時、液晶駆動回路を駆動させるために必要と
なる配線１６も同時に形成する。

【００２９】その後、これらのゲート電極をマスクとし
てイオン注入やイオンドーピング法により上述したチャ
ネル層に不純物の注入を行い、画素ＴＦＴのソース電極
１５、図示しないドレイン電極、および図示しないＮｃ
ｈ型の回路ＴＦＴのソース電極とドレイン電極とを形成
する。不純物の注入は、例えば加速電圧８０ｋｅＶで５
×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２のドーズ量で、ＰＨ３／
Ｈ２によりリンを高濃度注入した。

【００３０】次に、図示しない画素ＴＦＴ、および駆動
回路領域のＮｃｈ型の回路ＴＦＴには不純物が注入され
ないようにレジストで被覆した後、図示しないＰｃｈ型
の回路ＴＦＴのゲート電極をそれぞれマスクとして、加
速電圧加速電圧８０ｋｅＶで５×１０^１５ａｔｏｍｓ／
ｃｍ^２のドーズ量で、Ｂ２ＰＨ６／Ｈ２によりボロンを
高濃度注入し、Ｐｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およ
びドレイン電極を形成する。

【００３１】その後、図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ（Ligh
t1y Doped Drain ）を形成するための不純物注入を行
い、基板をアニールすることにより不純物を活性化す
る。

【００３２】更に、例えばＰＥＣＶＤ法を用いて絶縁基
板１１の全面にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜２３
を５００ｎｍ程度被着する。

【００３３】続いて、フォトエッチング法により、画素
ＴＦＴのソース電極１５に至るコンタクトホール２６と
図示しないドレイン電極に至るコンタクトホールと、図
示しない回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極に
至るコンタクトホールをそれぞれ形成する。

【００３４】次に、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ
などの単体又はその積層膜あるいは合金膜を５００ｎｍ
程度被着し、フォトエングレイビング法により所定の形
状にパターニングして、信号線１４、画素ＴＦＴのドレ
イン電極、ソース電極１５、および図示しない液晶駆動
回路領域内の回路ＴＦＴの各種の配線等を行った。

【００３５】このとき、液晶駆動回路を動作させるため
に必要となる配線１６は、液晶注入口３５と対向する部
分を除く部分において、図４に示すように、従来と同じ
２層配線とした。また、液晶注入口３５と対向する注入
ガイド部３３において、青色着色層２５Ｂが設けられて
いる部分では、図５に示すように、配線１６は、ゲート
線と同時に形成した１層のみの配線とし、隣接する配線
１６間に重ねて、光漏れを防ぐ遮光パターン１７を層間
絶縁膜２３を介して設ける。更に、注入ガイド部３３に
おいて、黒色着色層が配置された領域については、図３
に示すように、配線１６を単層構造とし、かつ層間絶縁
膜２３を除く構造としている。

【００３６】次に、ＰＥＣＶＤ法により絶縁基板１１の
全面にＳｉＮｘからなる保護絶縁膜２４を成膜し、フォ
トエングレイビング法により、それぞれ画素電極３０に
至るコンタクトホール２６を形成する。

【００３７】続いて、紫外線硬化型アクリル系緑色レジ
スト液を、画素電極３０が形成された絶縁基板１１上に
スピンナ塗布により２μｍ程度の膜厚で塗布する。その
後、約９０℃で約５分間プリベークし、所定のマスクパ
ターンを用いて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線に
より露光する。ここで用いるフォトマスクパターンは、
緑色着色層２５Ｇに対応するストライプ形状パターン
と、画素電極３０とソース電極１５とを接続するための
コンタクトホール２６として直径１５μｍの円形パター
ンと、を有している。

【００３８】続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テト
ラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約
６０秒間現像し、更に水洗い後、約２０℃で１時間ほど
ポストベークすることによって、コンタクトホール２６
を有する緑色着色層２５Ｇを形成した。

【００３９】続いて、青色着色層２５Ｂ、赤色着色層２
５Ｒを同様の工程にて形成する。この際、緑色着色層２
５Ｇのパターン端が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５
Ｒによって覆われる構成とした。これは、上記のよう
に、各着色層を加工する際に用いる露光マスクを適合す
るように作製することで達成される。

【００４０】次に、着色層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ上に
スパッタリング法によりインジウム・すず酸化物（ＩＴ
Ｏ）を堆積し、これをパターニングすることにより画素
電極３０を形成する。

【００４１】その後、黒色着色層により柱状スペーサ３
１および額縁パターン３２を形成する。額縁パターン３
２は、液晶注入口３５を除く表示領域４０周辺部分に一
定の幅で形成し、また、液晶注入口に隣接対向する一
部、つまり、注入ガイド部３３に形成する。

【００４２】注入ガイド部３３において、中央部３３ａ
では、黒色着色層と青色着色層２５Ｂとが５０μｍ幅で
交互に配置され、面積比率が１：１となるように配置し
ている。注入ガイド部３３の両端部では、端部に近づく
につれて徐々に黒色着色層の割合を増やしグラデーショ
ン領域３３ｂとした。

【００４３】注入ガイド部３３において、青色着色層２
５Ｂが配置された部分の下部には、図５に示すように、
スイッチング素子を形成する遮光性膜のいずれか、例え
ば、保護絶縁膜２４を配置し、光漏れが起こらない構造
とする。更に、注入ガイド部３３において、青色着色層
２５Ｂの上には、表示領域４０内と同じ割合で柱状スペ
ーサ３１を配置する。

【００４４】その後、ポリイミドからなる配向膜材料を
絶縁基板１１全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３
を形成し、これにより、カラーフィルタを有するアレイ
基板１１を得た。

【００４５】一方、透明絶縁基板２１上にスパッタ法に
よりＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積して対向電極２
２を形成し、続いてポリイミドからなる配向膜材料を基
板全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３を形成する
ことにより、対向基板２０をを得る。

【００４６】このようにして形成された対向基板２０の
外周縁部に、液晶注入口３５を除いてシール材１８を塗
布する。この対向基板２０、およびカラーフィルタの設
けられたアレイ基板１２をシール材１８により貼り合わ
せることにより、空状態のセルが完成する。

【００４７】次に、カイラル材が添加されたネマティッ
ク液晶材料を、液晶注入口３５からセル内に真空注入
し、注入後、液晶注入口３５を封止材３３としての紫外
線硬化樹脂を用いて封止する。その後、セルの両側にそ
れぞれ偏光板を貼付することにより、液晶表示装置が完
成する。

【００４８】このように構成された液晶表示装置によれ
ば、額縁パターン３２に、黒色着色層と膜圧の薄い青色
着色層とを交互に配置した注入ガイド部３３を設けるこ
とにより、液晶注入口３５の実質的な開口断面積を大き
くすることができ、額縁パターンを黒色着色層のみで形
成したものと比較して、液晶注入時間が２７０分から９
０分に短縮することができた。また、注入ガイド部３３
に黒色着色層と青色着色層とを混合し、かつ膜厚の薄い
青色着色層の下部に遮光層を設けたことにより、額縁パ
ターン３２を黒色着色層だけで形成した場合と比較し
て、見栄えの悪化もみられなかった。

【００４９】注入ガイド部３３において、青色着色層２
５Ｂの上には、表示領域４０内と同じ割合で柱状スペー
サ３１を配置することにより、液晶注入口３５が潰れて
ギャップが狭くなることを防止でき、液晶注入時間をよ
り短縮することが可能となる。

【００５０】更に、注入ガイド部３３の膜厚の厚い黒色
着色層部分の下部に存在する膜の厚さを、膜厚の薄い青
色着色層２５Ｂ部分の下部に存在する膜の厚さよりも薄
くすることにより、液晶注入口３５部分のギャップを更
に広げることが可能となる。

【００５１】また、注入ガイド部３３に配置された青色
着色層２５Ｂと重なって位置した部分の配線１６間の隙
間を、スイッチング素子および液晶駆動回路を構成する
複数の絶縁膜と遮光性膜のいずれかを組み合わせて遮光
することにより、配線１６部分においても、膜厚の薄い
着色層を配置することが可能となり、液晶注入時間を改
善することが可能となる。

【００５２】なお、上記実施の形態においては、額縁パ
ターン３２を表示領域４０内の柱状スペーサ３１と同一
材料で同時形成する構成としたが、２色または３色の着
色層を重ねて額縁パターン３２を形成する構成として
も、上記実施の形態と同様の効果が得られる。

【００５３】この発明の他の実施の形態によれば、アレ
イ基板に設けられた額縁パターン３２の注入ガイド部３
３における黒色着色層および色着色層の配置を変更し、
図６に示すように、モザイク模様に配置している。

【００５４】このようなアレイ基板を用いて上記実施の
形態と同様にセルを作製し、液晶材料の注入を行った
が、上記実施の形態と同様に、約９０分で注入すること
ができた。また、注入ガイド部３３をモザイク模様とす
ることにより、更に見栄えが改善された。

【００５５】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。上述した実施の形態では、注入ガイド部における
着色層の配置方法として、ストライプ、グラデーショ
ン、モザイク模様について説明したが、これら配置の組
み合わせ、並びにピッチや、向きは、例えば図７に示す
ように、必要に応じて種々変形可能である。また、着色
層の組み合わせは、黒と青に限らず、黒と緑、黒と赤と
しても同様の効果が得られる。

【００５６】

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、表示領域の周縁部に設けられた額縁パターンにおい
て、液晶注入口に隣接対向した部分の一部を他の薄い着
色層に置き換えて注入ガイド部とし、薄い着色層の下部
に遮光層を設けることにより、液晶注入口部全域に額縁
パターンが形成されている場合と比較して、液晶注入時
間を大幅に短縮することができ、かつ、これら異なる色
の着色層の割合および組み合わせを工夫することによ
り、見栄えが悪化することのない液晶表示装置を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態に係るアクティブマトリ
クス型の液晶表示を示す斜視図。

【図２】上記液晶表示装置に用いられるアレイ基板の液
晶注入口部分を拡大して示す平面図。

【図３】図２の線Ａ−Ａに沿った断面図。

【図４】図２の線Ｂ−Ｂに沿った断面図。

【図５】図２の線Ｃ−Ｃに沿った断面図。

【図６】この発明の他の実施の形態に係る液晶表示装置
におけるアレイ基板に設けられた額縁パターンの注入ガ
イド部を拡大して示す平面図。

【図７】上記額縁パターンの注入ガイド部の変形例を示
す平面図。

【符号の説明】

１０…液晶表示装置１２…アレイ基板１３…配向膜１４…信号線１５…ソース電極１６…配線１７…遮光パターン２０…対向基板２２…対向電極２３…層間絶縁膜２４…保護絶縁膜２５Ｂ、２５Ｇ、２５Ｒ…着色層２６…スルーホール３１…柱状スペーサ３５…画素電極３２…額縁パターン３３…注入ガイド部３５…液晶注入口４０…表示画素領域７０…液晶層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者福岡暢子埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷工場内 (72)発明者真鍋敦行埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷工場内 (72)発明者宮崎大輔埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷工場内 (72)発明者羽藤仁埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷工場内Ｆターム(参考） 2H089 LA22 LA28 PA02 PA18 QA12 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA35Y GA09 GA13 LA12 2H092 JA24 JB22 JB31 JB51 NA29 PA03 PA04 PA08 PA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の一主面上に、互いに交差して配置さ
れた複数の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に
配置されたスイッチング素子と、前記信号線、前記走査
線及び前記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うよ
うに配置された複数の着色層と、それぞれ前記着色層上
に重ねて配置されているとともに前記着色層に形成され
たスルーホール部を介して前記スイッチング素子にそれ
ぞれ接続された複数の画素電極と、を有した表示領域
と、前記表示領域を囲んで設けられ、前記着色層よりも
厚い膜厚と高い遮光性を有し、前記表示領域周縁の光漏
れを防止する額縁パターンと、を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、前記表示領域の周囲を囲んで設けられ前記アレイ基板と
前記対向基板との周縁部同志を接着しているとともに、
液晶注入口を有したシール材と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられ、前記
アレイ基板と前記対向基板との間に所定の隙間を保持し
た複数のスペーサと、前記液晶注入口から前記アレイ基板と前記対向基板との
間の間隙に注入された液晶層と、前記液晶注入口を封止した封止材と、を備え、前記額縁パターンは、前記液晶注入口に隣接対向した注
入ガイド部を有し、この注入ガイド部において、額縁パ
ターンの少なくとも一部が、前記着色層の少なくとも１
つで置き換えられていることを特徴とする液晶表示装
置。
【請求項２】前記アレイ基板は、前記スイッチング素子
と同時に形成され前記表示領域を駆動する駆動回路と、
前記スイッチング素子および前記駆動回路を構成する導
電膜により形成されているとともに前記表示領域周縁に
平行に配置され、前記駆動回路を動作させるための複数
本の配線と、を備え、前記注入ガイド部における前記着色層の下部に、前記ス
イッチング素子の一部を構成する遮光性金属の少なくと
も１層が設けられていることを特徴とする請求項１に記
載の液晶表示装置。
【請求項３】上記スペーサは、上記額縁パターンと同一
の遮光性材料によって同時に形成された柱状スペーサを
備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液
晶表示装置。
【請求項４】前記アレイ基板は、前記注入ガイド部にお
ける少なくとも一部の前記着色層上に設けられた柱状ス
ペーサを備えていることを特徴とする請求項３に記載の
液晶表示装置。
【請求項５】前記額縁パターンの前記注入ガイド部にお
いて、額縁パターンの下部に設けられた層の高さが、前
記着色層の下部に設けられた層の高さよりも低いことを
特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液
晶表示装置。
【請求項６】前記額縁パターンの前記注入ガイド部分に
おいて、前記着色層の下方に設けられ前駆駆動回路を作
動させるための前記複数の配線間は、前記スイッチング
素子を構成する絶縁膜と遮光性の膜とにより遮光されて
いることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項
に記載の液晶表示装置。
【請求項７】前記額縁パターンは、前記着色層の少なく
とも２層を重ねることにより形成されることを特徴とす
る請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】前記額縁パターンおよびスペーサは、黒色
着色層により形成されていることを特徴とする請求項１
ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】前記注入ガイド部は、前記液晶注入口の長
さよりも大きな長さを有し、液晶注入口の両端を越えて
延出していることを特徴とする請求項１ないし８のいず
れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】前記額縁パターンの前記注入ガイド部に
おいて、額縁パターンと前記着色層とが交互に並んで配
置されていることを特徴とする請求項１ないし９のいず
れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】前記注入ガイド部は、額縁パターンと着
色層とが同一の割合で交互に並んだ中央部と、前記中央
部の両端側にそれぞれ位置しているとともに、額縁パタ
ーンの割合が徐々に増加するように額縁パターンと前記
着色層とが交互に並んだグラデーション領域と、を備え
ていることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装
置。
【請求項１２】前記額縁パターンの前記注入ガイド部に
おいて、前記額縁パターンと前記着色層パターンとがモ
ザイク状に配置されていることを特徴とする請求項１な
いし９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。