DE2064742C3 - Photopolymerisierbare Verbindungen - Google Patents

Photopolymerisierbare Verbindungen

Info

Publication number
DE2064742C3
DE2064742C3 DE2064742A DE2064742A DE2064742C3 DE 2064742 C3 DE2064742 C3 DE 2064742C3 DE 2064742 A DE2064742 A DE 2064742A DE 2064742 A DE2064742 A DE 2064742A DE 2064742 C3 DE2064742 C3 DE 2064742C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
monomers
pbw
polyamides
relief
polyamide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2064742A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2064742B2 (de
DE2064742A1 (de
Inventor
Raimund Josef Dr.-Ing. 6200 Wiesbaden Faust
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Priority to DE2064742A priority Critical patent/DE2064742C3/de
Priority to NL7117572A priority patent/NL7117572A/xx
Priority to JP375872A priority patent/JPS5421726B2/ja
Priority to IT55028/71A priority patent/IT945671B/it
Priority to AT1119171A priority patent/AT327238B/de
Priority to CH1907771A priority patent/CH566026A5/xx
Priority to US00213170A priority patent/US3857885A/en
Priority to BE777426A priority patent/BE777426A/xx
Priority to SU1731657A priority patent/SU503554A3/ru
Priority to CA131,211A priority patent/CA991200A/en
Priority to BR8650/71A priority patent/BR7108650D0/pt
Priority to SE7116802A priority patent/SE381869B/xx
Priority to GB6072371A priority patent/GB1379230A/en
Priority to FR7147712A priority patent/FR2121190A5/fr
Publication of DE2064742A1 publication Critical patent/DE2064742A1/de
Publication of DE2064742B2 publication Critical patent/DE2064742B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2064742C3 publication Critical patent/DE2064742C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0387—Polyamides or polyimides

Description

15
worin
Ri und Ri' ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
m eine der Zahlen 0,1 oder 2 und
π eine der Zahlen 1 oder 2
bedeuten.
2. Verbindungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Ri und RT Wasserstoffatome sind.
3. Photopolymerisierbares Gemisch, das mindestens ein lineares Polyamid, mindestens einen Photoinitiator und mindestens eine polymerisierbare Verbindung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es als polymerisierbare Verbindung mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel I gemäß Anspruch 1 enthält jo
Die Erfindung betrifft photopolymerisierbare Verbin düngen sowie mit diesen hergestellte lichtempfindliche π Gemische, die bevorzugt zur Herstellung von Reitefund Siebdruckformen geeignet sind.
Es ist bekannt. Relief- bzw. Hochdruckformen aus photopolymerisierbaren Gemischen herzustellen, die hochmolekulare Polyamide, polymerisierbare Monome tn re und Photoiniti.itoren enthalten. Die erhaltenen Druckformen zeichnen sich durch hervorragende mechanische F.igcnschaften. insbesondere eine sehr gute Abnebfestigkeit. jus. Sie liefern daher hohe Auflagen. Diese Polyamide enthaltenden lichtempfindlichen Ko- 4> piermalt nahen haben aber bestimmte Nachteile Fs ist nämlich außerordentlich schwierig, geeignete Polyamide mit geeigneten Monomeren /u lagerfähigen, verträglichen Schichten /u kombinieren. Verwendet man wenig polare Monomere. z. B. Acryl· und <n Methacrylsäureester von rnmeihyloläthan. Trimethv Inlpropnn. Pentaerythrit. Polyäthylenglykolen und anderen mehrwertigen Alkoholen, dann /eigen diese Monomeren eine Neigung, aus dem polaren Polyamid auszuschwitzen. Verwendet man polare Monomere, so y, können diese normalerweise kristallinen Verbindungen nur in geringen Konzentrationen >n Polyamid homogen gelost werden, ohne wieder aus/ukrisiallisieren. Solche Photopulymcrschithten zeigen eine zu niedrige Lieht cmpfmclüclikeil. Versucht man die Lichtempfindlichkeit durch höheren Mondirierkonzerttrationen zu verbes* sern, dann treten Trübungen, Auskristallisationen und andere Inhomogenitäten auf. Als polare Pholomonomere wtifden bisher vorwiegend fjis-acfylarnide und ßis-meihacrylarhide von Alkylendiprriinefi verwendet es (Vgl. die GB-PS 8 75 378 oder die US-PS 30 81 168),
Diese Monomeren, wie Mclhylcnbisacrylamid, Hexamethylenbisacrylamid, fsobutylenbisacrylarnid oder · N.N'- Diisopropylhexameihylenbisacrylamid, zeichnen sich durch eine ausgeprägte Tendenz aus, auch in geringeren Konzentrationen, d.h. unterhalb etwa 20 Gew.-%, aus dem Polyamid auszukristallisieren.
Etwas besser sind bestimmte aromatische Bis-acrylamide und Bis-methacrylamide, wie sie in den DE-OS 15 22 469 und 15 22 470 beschrieben sind. Jedoch treten auch hier Probleme auf, wenn man versucht, transparente, möglichst lichtempfindliche Druckfolien beispielsweise mit m- oder p-Xylylenbisacrylamid oder -methacrylamid in Kombination mit einem Mischpolyamid zu erhalten, das durch Kondensation aus gleichen Teilen Caprolactam, Hexamethylendiammoniumadipat und p.p'-Diammoniumdicyclohexylmethan-Adipat ohne Zusätze von anderen, verträglichkeitsverbessernden Hilfssubstanzen oder anderen Monomeren herzt··- κΐΐεη. Die Kristallisationsneigung dieser polaren Acrylamide kann zwar durch Zusatz von flüssigen Monomeren der obengenannten Art, z. B. mit Triäthylenglykoldiacrylat, für eine gewisse Zeit vermindert werden; jedoch werden bei etwas längerem Lagern auch hier kristalline Ausblühungen und Trübungen festgestellt Auch Äther des Methylolacrylamids (vgl. DE-OS 15 22 463), z. B. der Äthylenglykol-bis-äther des N-Methylolacrylamids sind nicht völlig frei von der Neigung, in dem oben beschriebenen Polyamid Ausschwitzungen zu bilden.
Man hat weiterhin versucht, das Problem der Verträglichkeit von Polyamiden mit Monomeren dadurch zu lösen, daß man die Polyamide mit verträglichkeitsverbessernden Seitengruppen versieht Zu diesem Zweck wurden Polyamide mit Formaldehyd umgesetzt und die entstehenden Methylolgruppen anschließend veräthert iJiese Polyamide neigen jedoch zu unerwünschten Vernetzungen schon bei der Verarbeitung. Darüber hinaus sind solche Polyamid-Hochdruckplatten wenig lagerfähig.
In manchen Fällen kann durch Zusatz von Hilfs&ubstanzen die Verträglichkeit der Monomeren mit Polyamiden verbessert werden. Jedoch müssen diese Substanzen hierbei in relativ hohen Konzentrationen verwendet werden, so daß die mechanischen Eigenschaften der Schichten sehr ungünstig beeinflußt werden.
Aufgabe der Erfindung war es. polymerisierbare Verbindungen /u finden, die mit Polyamiden in Kopierschichten besser verträglich sind.
Gegenstand der rrfindung sind photopolymerisierba re Verbindungen der allgemeinen Forn-i-l 1
R,
H1C CnH2n NHCO C CH2
CH1 ^
CWx (J\2m NHCO C-CH2
Ri UlYa RY ein VVasserstoffatem oder eine Mclh'yigfüp'*
pe,
in eine der Zahlen 0,1 oder 2 und
/; eine der Zahlen 1 oder 2
bedeuten.
Vis erfindungsgemäßen Verbindungen sind zur . . .,ellung von Ffomo- und Mischpolymerisaten, von
lichthärtbaren Verbundmassen und zu anderen Zwekken verwendbar. Besonders vorteilhaft lassen sie sich zur Herstellung photopolymerisierbarer Kopiermassen verwenden, insbesondere von solchen, die lineare Polyamide enthalten und zur Herstellung von Relief- oder Siebdruckformen bestimmt sind.
Die Kopiermassen können in bekannter Weise in Form einer Lösung oder Dispersion in einem geeigneten Lösungsmittel, z. B. als sogenannter Siebdrucklack, oder in Form einer festen lichtempfindlichen Schicht, die freitragend oder auf einen geeigneten Träger aufgebracht sein kann, gewerblich verwertet werden.
Von den erfindungsgemäßen Monomeren werden im allgemeinen die Acrylsäureamide bevorzugt, da sie etwas rascher polymerisieren. Ferner werden die Verbindungen mit η = 1 und m = 0 oder 1 bevorzugt.
Bei Verwendung der erfindungsgemäßen Monomeren in einer Polyamid enthaltenden Kopierschicht sind keinerlei verträgfciikeitsvermittelnde Zusätze nötig, die ihrerseits langsam aus der Druckfolie hcrausdiffundicren können. Es entfällt damit auch die Notwendigkeit, die durch Herausdiffundieren einzelner Komponenten und teilweises Verdunsten verträglichkeitsvermittelnder Substanzen auftretenden Ausblühungen und Inhomogenitäten durch luftdichtes Einschweißen der Druck- n folie in Kunststoffolien zu verhindern. Darüber hinaus können die erfindungsgemäßen Monomeren in so hohen Konzentrationen angewandt werden, daß sehr gute Lichtempfindlichkeiten erzielt werden.
Ein erfindungsgc naßes Monomeres mit polarem, ω kristallinem Charakter, das 1 JJ-Trimethyl-l-acryloylaminomethyl-5-acryloylamino-CYcIohexan, zeigt z. B. auch in einer Konzentration von ?Λ5 Oew.-% in einem Polyamid, das durch Kondensation von gleichen Teilen Caprolactam. Hexamethylendi.immoniumadipat und η p.p'-Diammoniumdicyclohexylmethan-Adipat hergestellt worden ist. eine so gute Verträglichkeit, daß auch nach 9 Monaten Lagerung keinerlei Trübungen oder Ausschwitzungen festgestellt wurden.
Die erfindungsgemäßen Monomeren sind durch Umsetzung von cycloaliphatischen Diaminen mn Acrylsäurechlorid bzw. Methacrvlsäurechlorid in an sich bekannter Weise leicht zugänglich.
Die bevorzugten erfindungsgemäßen Monomeren haben für sich allein schon eine außerordentlich geringe 4*> Knstallisationsneigung Dies mag einerseits an der asymmetrischen Struktur der Moleküle liegen, zum anderen jedoch auch daran, daß die Möglichkeit /ur Bildung von Siereoisomercn gegeben ist.
Die erfindungsgemäßen Monomeren können auch in >o Kombination mn anderen Monomeren in photopolyme risierbaren Gemischen verwendet werden Als geeignete Monomere kommen im wesentlichen alle mehrfunk tionellen Monomeren in Fragt'. / Ii Acrylate und Methacrylate mehrwertiger Alkohole; Acrylamide und π Methacrylamide mehrweniger ahphatischer Amine und andere Besonders gut geeignet sind die Acryl und Methacrylsäureester von Bisiirethanen. wie sie in der DE-OS 20 64 079 beschrieben sind
Als Polyamide können alle Typen verwendet werden, welche in den üblichen Lösungsmitteln oder Lösuhgsrhklelgemischen löslich sind (siehe* DE-OS 15 22 469, Seite 4), Besonders geeignet sind Mischpolyamide aus ε-Caprolactami Hexamethylendiammoniufrtadipat und p.p^Diammoniumcyclohexylrnethan-'Adipat, Geeignete Polyamide sind in der D&ÖS 15 22 469, Seite 4, angegeben,
Die erfindungsgemäßen Monomeren können jedoch auch mit anderen Polymeren, z. B. Mischpolymeren aus Methacrylaten und Methacrylsäure, zu wertvollen photopolymerisierbaren Massen kombiniert werden.
Als Initiatoren sind praktisch alle Verbindungen geeignet, weiche bei Lichteinwirkung Radikale zu bilden vermögen, die eine radikalische Polymerisation auslösen können. Als solche kommen z. B. in Frage: ncyloine und Acyloinäther wie Benzoin oder Benzoinmeihyläther oder Benzoinisopropyläther, substituierte und unsubstituierte mehrkernige Chinone wie
Anthrachinon, 2-Äthyl-anthrachinon oder
2-terL-ButyI-anthrachiiion,
Acridinderivate, z. B. 9-PhenyI-acridin,
9-p-Methoxyphenyl-acridin,
9-Acetylamino-acridin, Benz(a)acridin;
Phenazinderivate, z. B.
9,10-DimethyI-benz(a)phenazin.
9-Methyl-benz(a)phenazin,
10-Methoxy-benz(a)phenazin;
Chinoxalinderivate, z. B.
6,4',4"-Trimethoxy-2,3-diphenyl-chinoxalin,
4',4"-Dimethoxy-2,3-diphenyl-5-aza-chinoxalin
und Chinazolinderivate.
Den Kopierschichten können weiterhin Inhibitoren, Wasserstoffdonatoren, Karbstoffe, Pigmente und andere übliche Zusätze einverleibt werden.
Die mit den erfindungsgemäßen Verbindungen hergestellten Kopiermaterialien sind zur Herstellung von Druckformen für den Hoch-, Flach-, Tief- oder Siebdruck, insbesondere von Hoch- und Siebdruckformen geeignet.
Die Herstellung der lichtempfindlichen Kopiermaterialien erfolgt in üblicher Weise durch Aufbringen des gelösten photopolymerisierbaren Gemisches auf einen geeigneten Träger und Trocknen oder durch Pressen. Extrudieren oder Walzen der festen Kopiermasse zu selbsttragenden Folien. Auch können lösungen oder Schmelzen des Gemisches zu Folien gegossen werden. Die Folien können gegebenenfalls mit einem Träger kaschiert werden.
Die Verarbeitung der lichtempfindlichen Materialien erfolgt in üblicher Weise durch Belichten und anschließendes Auswaschen der unbelichteten Schichtteile, z. B. durch mechanisches Ausreiben oder durch Besprühen unter Druck, mit einem geeigneten Lösungs mittel bzw l.ösungsmittelgemisch.
Die folgenden Beispiele erläutern Herstellung und Anwendung von einigen erfindungsgemäßen Monomeren. Gewichtstelle (Gt.) und Volumteile (Vt.) stehen zueinander im Verhältnis von g m ecm.
Beispiel 1
Eine lösung aus
10 Gt eines Mischpolyamids, das durch Kondensation von 3J Gt. f-CaproIactam. i3 fit Hexamethyler.diammoniumadipat und 53 Cit. p.p'Diammonium-dicyclohexylmethanadipat hergestellt wurde,
4 Gt. i^Trimethyl^äCrylöylaminomethyl-
S-acryioylamihö-cyclöhexan Und
0,03 Gt. Benzoinisopropyläthcf in
35 Vt. Methanol
wird auf eine waagerecht gelngerte Glasplatte zwischen Hölzra'hmchert zu einer Dicke ausgegossen, so daß nach fcsilösern trocknen eine Folie von etwa 1 mm Dicke erhalten wird.
Die völlig transparente Durckfolie wird in einem Vakuumkopierrahmen durch eine kombinierte Strich-/ Raster-ZSchrift-Negativvorlage (Strichraster: 56 Linien/cm) 10 Minuten belichtet. Als Lichtquelle dient ein Röhrenbelichtungsgerät mit enganeinanderliegenden Philipsröhren TLAK 40 W/05 der Firma Moll, Solingen-Wald, im Abstand von 5 cm.
Zur EntwJ2klung der belichteten Druckfolie wird ein Gemisch aus 60Vt. Äthanol, 20 Vu n-PropanoI und 20 Vl Wasser verwendet Zum Entwickeln kleiner Versuchs-Druckfolieii hat sich ein weicher Pinsel als geeignet erwiesen. Für etwas größere Platten wird ein Plüschtampon verwendet.
Nach 10 Minuten Entwickeln mit dem Pinsel in dem beschriebenen Lösungsmittelgemisch wird ein kantenscharfes Relief erhalten, welches auch die feinsten Details der Vorlage wiedergibt Die Relieftiefe beträgt bei der hier angewandten Entwicklungsmethode 0,4 mm.
Die lichtempfindliche Druckfolie zeigt eine sehr gute Lagerfähigkeit; auch nach einer Lage,ieit von 7 Monaten bei Zimmertemperatur konnten keinerlei Kristallisationserscheinungen oder Unverträglichkeiten beobachtet werden. '
Das verwendete Monomere wird wie folgt hergestellt:
85 Gt. (0,5 Mol) Isophorondiamin (1,3,3-Trimethyl-laminomethyI-5-amino-cyclohexan) werden in 500 Vt Methylenchlorid gelöst und auf 5°C abgekühlt. Dann gibt man unter starkem Rühren gleichzeitig aus zwei jo verschiedenen Tropftrichiern a) eine Lösung von 40 Gt NaOH in 125Vt. Wasser und b) eine Lösung von 90.5 Gt Acrylsäurechlorid in 75 Vt Methylenchlorid mit gleicher Geschwindigkeit zu. Nach Ende der Zugabe wird 30 Minuten bei 5°C und 1 Stunde bei y, Zimmertemperatur gerührt. Dann wird erneut auf 5°C abgekühlt und vom weißen Niederschlag abfiltriert Es wird mit 2 χ 100 Vt. kaltem Wasser nachgewaschen. Das Produkt ist von wachsartiger Beschaffenheit und kristallisiert nur außerordentlich langsam während 2 Tagen beim Trocknen an der Luft Rohausbeute: 108 Gt (77.5% d. Th.). Die Verbindung konnte auch nach mehrmaligem Umkristallisieren nicht völlig scharf schmelzend erhalten werden.
Schmp.:160-167'C.
Analyse:
Ber.: C: 69.0. H 9.41. N: 10.06:
gef.: C: 68.9. H: 95. N: 9.7.
In gleicher Weise wie oben beschrieben wurde eine weitere Hochdruckfolie hergestellt. Dabei wurde aber das 1.3,3-Trimethyl-1 -acryloylaminomethyl^acryloylaminocyclohcxan durch die gleiche Menge (4 Gt.) 1.4-Xylylen bisacrylamid. einer aus der DE-AS 15 22 470 bekannten Verbindung ersetzt Die Folie war unmittelbar nach der Herstellung transparent. Nach drei Tagen Lagerung bei Raumtemperatur zeigte sie bereits eine starke Trübung in der Masse und auffällige Ausblühungen an der Oberfläche. Sie vvar zu diesem Zeitpunkt nicht mehr zur Herstellung einer brauchbaren Hochdruckform geeignet
Beispiel 2
Es wird wie in Beispiel 1 gearbeitet, nur werden anstelle des angegebenen Monomeren 6 Gt 1,3,3-ΤΓ™α?ιν1-Ι-3ϋΓνΙ
acryioylamino^cyclohexan und
1 Gt, Acrylamid
verwendet. Die erhaltene Druckfolie wird 4 Minuten belichtet Nach dem Entwickeln wird eine Reliefdruckform von ausgezeichneter Reliefschärfe erhalten. Die Lagerfähigkeit ist ähnlich gut wie unter Beispiel 1 beschrieben.
Beispiel 3
Es wird wie in Beispiel 1 gearbeitet, nur werden statt des angegebenen Monomeren 2,5 g 1,33-TrimethyI-lmethacryIoyIaminomethyl-5-methacryIoylamino-cyclohexan (Schmp.: 130-1360C) verwendet Es werden ähnlich gute Ergebnisse erzielt.
Beispiel 4 Eine Lösung von
20Gt. des in Beispiel 1 angegebenen Mischpolyamids.
6 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren.
2 Gt. Hexamethylenbisacryla.fiid, 4 Gt Trialhylenglykoldiacrylat und 0,06 Gt. Benzoinisopropyläther in 70 Vt Methanoi
wird wie in Beispiel 1 zu einer Gießfolie verarbeitet, belichtet und entwickelt Nach 10 Minuten Entwickeln wird ein kantenscharfes Relief von 0,4 mm Tiefe erhalten, das auch die feinsten Details der Vorlage wiedergibt. Die Lagerfähigkeit der Druckfolie ist ausgezeichnet Auch nach 7monatigem Lagern bei Zimmertemperatur konnten keinerlei Kristallisationserscheinungen beobachtet werden
Beispiel 5 Eine Lösung aus
10Gt des in Beispiel 1 angegebenen Mischpolyamids,
2 Gt des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren.
2 Gt Triäthylenglykoldiacrylat
2 Gt des Umsetzungsproduktes aus 1 MoI 2.2.4-Trimethyl-hexamethylendiisocyanat und 2 Mol Hydroxyäthvlmethacrylat und
0,03 Gt Benzoinisopropyläther in 35 Vt Methanol
wird wie in Beispiel 1 zu einer Gießfolie verarbeitet. Die einwandfrei transparente Folie ist sehr gut lagerfähig; auch nach einem halben Jahr Lagern bei Zimmertemperatur werden keinerlei Ausschwitzungen oder Kristallisationserscheinungen beobachtet Nach dem Belichten und Entwickeln wie in Beispiel 1 wird ein Relief von ausgezeichneter Schärfe und guter Auflösung erhalten.
Beispiel 6 Eine Lösung aus
20Gt dus in Beispiel 1 angegebenen Mischpoiy-
amids.
4 Gt. des in Beispiel angegebenen Monomeren, 4 Gt. Triäthylenglykoldiacrylat, 1 Gt ΐΧ^χ\χη^\\^\Λ\ζχζχη^ύ\^\ζ
und
2Gt. Acrylamid in
70Vt. Methanol
wird wie in Beispie! 1 zu einer Gießfolie verarbeitet. Die gut getrocknete etwa 0,6 mm dicke Folie wird mit einem Kleber (Adcöte 503 der DuPont de Nemours and Co.,
Wilmington) auf ein 0,3 mm dickes Aluminiumblech, das elektrolytisch aufgerauht und elexiert war, aufgeklebt. Nach Belichten und Entwickeln wie in Beispiel I wird eine Hochdruckplatte erhalten, die direkt für den Buchdruck verwendet werden kann. Die Platte entspricht in bezug auf Lagerfähigkeit, Reliefschärfe und Auflösung denen der vorhergehenden Beispiele.
Beispiel 7
Eine Lösung von
12Gt.
angegebenen Mischpo-
angegebenen Monome-
des in Beispiel
lyamids,
2 Gt. des in Beispiel
ren,
2 Gt. Triäthylenglykoldiacrylat,
2 Gt. des Urhsetzungsprodüktes aus 1 Mol 1,3,3-TrimethyI-1 -isocyanatomethyl-5-
isocyanatocyclohexan und 2 Mol Hydro-
xyäthylmethacrylat,
0,05 Gt. Benzoinisopropylätherin
35 Vt. Methanol
wird auf Perlongaze aufgerakelt und anschließend 2 Minuten bei 100°C getrocknet. Nach dem Belichten und Entwickeln wie in Beispiel I wird eine Siebdruckschablone erhalten, die sich besonders durch hervorragende mechanische Eigenschaften auszeichnet.
Beispiel 8
Eine Lösung von
12Gt des in Beispiel 1 angegebenen Mischpolyamids,
2 Gt des in Beispiel 1 angegebenen Monomeren,
2 Gt Triäthylenglykoldiacrylat,
2.4 Gt. des Umsetzungsproduktes aus 1 Mol
l^.S-Trimethyl-l-isocyanatomethyl-S-isocyanato-cyclohexan und 2 Mol Hydroxypropylmethacrylat und
35 Vt Methanol
35
40
wird wie in Beispiel 7 auf Perlongaze aufgerakelt getrocknet, unter einer Schriftvorlage belichtet und wie in Beispiel 1 entwickelt. Es wird eine Siebdruckschablo-
10
20
25 ne erhalten, die sich aufgrund der verwendeten Materialien durch besonders gute mechanische Eigenschaften auszeichnet.
Beispiel 9
Eine Lösung von
12Gt. des in Beispiel I angegebenen Mischpolyamids,
2 Gt. des in Beispiel 1 angegebenen Monomeren,
2,2 Gt. Trimethylolpropantriacrylat,
2 Gt. des in Beispiel 8 angegebenen Urethanmonomeren und
0,05 Gt. Benzoinisopropylätherin
35 Vt. Methanol
wird wie in Beispiel 7 2uf Perion^sze äui^ersks!! getrocknet, iunter einer Schriftvorlage belichtet und entwickelt. Es wird eine Siebdruckschablone erhalten, die ähnlich gute Eigenschaften hat wie die in den Beispielen 7 und 8 beschriebenen.
Beispiel 10
Eine Lösung von
10Gt
des in Beispiel 1 angegebenen Mischpolyamids,
2 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren,
2 Gt. Triäthylenglykoldiacrylat,
2 Gt. 1,3-Bis-acryloylaminomethyl-cyclohexan
(Schmp.:167-169°C)und
0,05 Gt. Benzoinisopropyläther in
35 Vt Methanol
wird wie in Beispiel 1 beschrieben zu einer Gießfolie verarbeitet, belichtet und entwickelt. Es wird ein kantenscharfes Relief von 0,5 mm Tiefe erhalten. Die Reliefschärfe, Verträglichkeit der Komponenten innerhalb der Photopolymermasse und die Lagerfähigkeit sind sehr gut
Statt des Monomeren 1,3-Bis-acryloylaminomethylcyclohexan kann auch die gleiche Menge des entsprechenden 1,4-Isomeren verwendet werden (Schmp.: 100—1500C). Es werden ähnlich gute Ergebnisse erhalten.

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Photopolymerisierbare Verbindungen der allgemeinen Formel
CnH2n-NHCO-C=CH2
CH3 C1nH2n,- NHCO-C=CH2
l0
DE2064742A 1970-12-31 1970-12-31 Photopolymerisierbare Verbindungen Expired DE2064742C3 (de)

Priority Applications (14)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2064742A DE2064742C3 (de) 1970-12-31 1970-12-31 Photopolymerisierbare Verbindungen
NL7117572A NL7117572A (de) 1970-12-31 1971-12-21
JP375872A JPS5421726B2 (de) 1970-12-31 1971-12-27
AT1119171A AT327238B (de) 1970-12-31 1971-12-28 Photopolymerisierbare kopiermasse
CH1907771A CH566026A5 (de) 1970-12-31 1971-12-28
US00213170A US3857885A (en) 1970-12-31 1971-12-28 Photopolymerizable compounds
BE777426A BE777426A (fr) 1970-12-31 1971-12-28 Combinaisons photopolymerisables pour la preparation de formes d'impression
IT55028/71A IT945671B (it) 1970-12-31 1971-12-28 Composti fotopolimerizzabili e massa di copiatura che li cntiene
SU1731657A SU503554A3 (ru) 1970-12-31 1971-12-29 Фотополимеризующа с копировальна масса
CA131,211A CA991200A (en) 1970-12-31 1971-12-29 Photopolymerizable compounds
BR8650/71A BR7108650D0 (pt) 1970-12-31 1971-12-29 Composicoes copiadoras polimerizaveis
SE7116802A SE381869B (sv) 1970-12-31 1971-12-29 Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor
GB6072371A GB1379230A (en) 1970-12-31 1971-12-30 Photopolymerizable compounds
FR7147712A FR2121190A5 (de) 1970-12-31 1971-12-31

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2064742A DE2064742C3 (de) 1970-12-31 1970-12-31 Photopolymerisierbare Verbindungen

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2064742A1 DE2064742A1 (de) 1972-08-03
DE2064742B2 DE2064742B2 (de) 1979-06-07
DE2064742C3 true DE2064742C3 (de) 1980-02-07

Family

ID=5792741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2064742A Expired DE2064742C3 (de) 1970-12-31 1970-12-31 Photopolymerisierbare Verbindungen

Country Status (14)

Country Link
US (1) US3857885A (de)
JP (1) JPS5421726B2 (de)
AT (1) AT327238B (de)
BE (1) BE777426A (de)
BR (1) BR7108650D0 (de)
CA (1) CA991200A (de)
CH (1) CH566026A5 (de)
DE (1) DE2064742C3 (de)
FR (1) FR2121190A5 (de)
GB (1) GB1379230A (de)
IT (1) IT945671B (de)
NL (1) NL7117572A (de)
SE (1) SE381869B (de)
SU (1) SU503554A3 (de)

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3959100A (en) * 1973-11-08 1976-05-25 Scm Corporation Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same
GR61761B (en) * 1975-11-12 1979-01-09 Linde Ag Casting plant
US4254194A (en) * 1979-12-03 1981-03-03 Arthur D. Little, Inc. Screen printing stencils using novel compounds and compositions
DE3136818C2 (de) * 1980-09-19 1990-08-02 Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
JPS5764734A (en) * 1980-10-08 1982-04-20 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element
DE3740324C2 (de) * 1987-11-27 1994-08-04 Lohmann Gmbh & Co Kg N-substituierte Carbonsäureamide, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および１，３−ジヒドロ−１−オキソ−２ｈ−インデン誘導体化合物
DE602004021525D1 (de) 2003-03-26 2009-07-30 Fujifilm Corp Flachdruckverfahren und vorsensibilisierte Platte
ATE398298T1 (de) 2004-07-20 2008-07-15 Fujifilm Corp Bilderzeugendes material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
ATE389900T1 (de) 2004-08-24 2008-04-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
JP4429116B2 (ja) 2004-08-27 2010-03-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4524235B2 (ja) 2005-03-29 2010-08-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4694324B2 (ja) 2005-09-09 2011-06-08 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
EP1972440B1 (de) 2007-03-23 2010-06-23 FUJIFILM Corporation Negativ-Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
EP1974914B1 (de) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
EP1975706A3 (de) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer
EP2011643B1 (de) 2007-07-02 2010-10-13 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren damit
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
EP2042928B1 (de) 2007-09-28 2010-07-28 FUJIFILM Corporation Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
EP2055746B1 (de) 2007-10-31 2011-09-28 FUJIFILM Corporation Farbige härtbare Zusammensetzung, Farbfilter, Herstellungsverfahren dafür und Festzustand-Bildaufnahmevorrichtung
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP5500831B2 (ja) 2008-01-25 2014-05-21 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5398282B2 (ja) 2008-09-17 2014-01-29 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製造方法、及びレリーフ印刷版
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP5705584B2 (ja) 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5255100B2 (ja) 2011-07-29 2013-08-07 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
WO2015037289A1 (ja) 2013-09-13 2015-03-19 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、フレキソ印刷版の製版方法、および、レーザー彫刻用樹脂組成物
JP6387614B2 (ja) 2014-01-09 2018-09-12 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法およびインクセット
JP2015131398A (ja) 2014-01-09 2015-07-23 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置、インクセットおよび三次元造形物
JP6273849B2 (ja) 2014-01-15 2018-02-07 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置およびインクセット
JP2015168111A (ja) 2014-03-05 2015-09-28 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2015174338A (ja) 2014-03-14 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2015174272A (ja) 2014-03-14 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置および三次元造形物
JP2015174339A (ja) 2014-03-14 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2015174361A (ja) 2014-03-17 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP6458346B2 (ja) 2014-03-18 2019-01-30 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置および三次元造形物の製造方法
JP6454977B2 (ja) 2014-03-26 2019-01-23 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置
JP2015182434A (ja) 2014-03-26 2015-10-22 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2016010870A (ja) 2014-06-27 2016-01-21 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法および三次元造形物
TW201609934A (zh) 2014-07-01 2016-03-16 精工愛普生股份有限公司 三維造形用組合物、三維造形物之製造方法及三維造形物
JP6515557B2 (ja) 2015-02-04 2019-05-22 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造用部材、三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
WO2023042715A1 (ja) * 2021-09-17 2023-03-23 三井化学株式会社 （メタ）アクリルアミド化合物、モノマー組成物、歯科材料用組成物及び歯科材料
WO2023042716A1 (ja) * 2021-09-17 2023-03-23 三井化学株式会社 （メタ）アクリルアミド化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
BE777426A (fr) 1972-06-28
CH566026A5 (de) 1975-08-29
ATA1119171A (de) 1975-04-15
US3857885A (en) 1974-12-31
GB1379230A (en) 1975-01-02
DE2064742B2 (de) 1979-06-07
AT327238B (de) 1976-01-26
NL7117572A (de) 1972-07-04
CA991200A (en) 1976-06-15
JPS5421726B2 (de) 1979-08-01
BR7108650D0 (pt) 1973-05-17
DE2064742A1 (de) 1972-08-03
IT945671B (it) 1973-05-10
SE381869B (sv) 1975-12-22
FR2121190A5 (de) 1972-08-18
SU503554A3 (ru) 1976-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2064742C3 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen
EP0374705B1 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0005750B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
EP0079514B1 (de) Zur Herstellung von Druck- und Reliefformen geeignetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Druck- und Reliefformen mittels dieses Aufzeichnungsmaterials
DE2039861B2 (de) Photopolymerisierbare kopiermasse
DE3738864A1 (de) Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3007212A1 (de) Lichtempfindliche masse
DE2834921A1 (de) Diazoniumverbindungen
DE2614860C3 (de) Durch Lichteinfluß härtbare flüssige Massen
DE1121928B (de) Lichtempfindliche Platte zur Herstellung von Druckformen
DE1053782B (de) Verfahren zur Herstellung von in Loesungsmitteln, insbesondere Wasser, loeslichen, Azidogruppen aufweisenden Produkten
DE1522444B2 (de) Polymerisationsinhibitor enthaltendes lichtvernetzbares gemisch
DE1917917C3 (de) Photopoylmensierbares Aufzeichnungs material Ausscheidung aus 1902639
EP0167777A2 (de) Perfluoralkylgruppen aufweisende Copolymere, sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck
EP0003804A1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält
EP0103218B1 (de) 10-Phenyl-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch
DE3234045C2 (de)
DE1522463C3 (de) Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen
DE2644986A1 (de) Photopolymerisierbare masse fuer die herstellung von reliefdruckformen
DE1547766A1 (de) Photographisches Material
DE1495973A1 (de) Verfahren zur Photopolymerisation von Acrylverbindungen
EP0386514A2 (de) Optische transparente Polymerlegierung und ihre Verwendung in Formmassen, Formteilen, Folien, Überzügen, Klebmitteln und lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen
DE3719871A1 (de) Durch photopolymerisation vernetzbare heisspraegeplatten
EP0780376B1 (de) 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)