JPH07271028A - 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 - Google Patents
光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法Info
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- JPH07271028A JPH07271028A JP6205028A JP20502894A JPH07271028A JP H07271028 A JPH07271028 A JP H07271028A JP 6205028 A JP6205028 A JP 6205028A JP 20502894 A JP20502894 A JP 20502894A JP H07271028 A JPH07271028 A JP H07271028A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた感光特性を示す感光性組成物および感
光材料を提供する光開始剤、これを用いた感光性組成
物、感光材料およびパターンの製造法を提供する。 【構成】 下記の式（Ｉ）で示される３−置換クマリン
化合物 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、水素原子、
１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基等、Ｒ6はフェニル基等）、下記の式（II）で示され
るチタノセン化合物 【化２】 （式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ15およびＲ16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１〜２０のアルコキシ基または複素環）および下記の
式（III）で示されるＮ−アリール−α−アミノ酸 【化３】 （式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は水素、ハ
ロゲン原子等）を含有してなる光開始剤、これを用いた
感光性組成物、感光材料およびこの感光材料を用いたパ
ターンの製造法。
光材料を提供する光開始剤、これを用いた感光性組成
物、感光材料およびパターンの製造法を提供する。 【構成】 下記の式（Ｉ）で示される３−置換クマリン
化合物 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、水素原子、
１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基等、Ｒ6はフェニル基等）、下記の式（II）で示され
るチタノセン化合物 【化２】 （式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ15およびＲ16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１〜２０のアルコキシ基または複素環）および下記の
式（III）で示されるＮ−アリール−α−アミノ酸 【化３】 （式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は水素、ハ
ロゲン原子等）を含有してなる光開始剤、これを用いた
感光性組成物、感光材料およびこの感光材料を用いたパ
ターンの製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光開始剤、感光性組成
物、感光材料およびパターンの製造法に関する。
物、感光材料およびパターンの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリイミドまたはその前駆体であってそ
れ自体でフォトパターニング性を兼備しているものは感
光性ポリイミドと呼ばれ、半導体の表面保護膜用等に用
いられる。感光性ポリイミドにはいくつかの感光性付与
方式が知られている。代表的なものには、特公昭５５−
４１４２２号公報で提案されているようなポリアミド酸
のヒドロキシアクリレートとのエステルとしたものや、
特開昭５７−１７０９２９号公報や特開昭５４−１４５
７９４号公報で提案されているようなポリアミド酸にア
ミノアクリレートのようなものを配合し感光性基を塩結
合で導入するものが知られている。前者の場合、フォト
パターニング性は比較的優れているが、高分子量化しに
くく、感光性基の除去が不完全になりやすいことから膜
特性に劣る欠点を有している。また、後者の場合、高分
子量が得られ易く、また感光性基が揮散しやすいため膜
特性に優れるもののフォトパターニング性が十分でない
欠点を有していた。特に、硬化後膜厚が５μｍ以上の厚
膜用感光性ポリイミドにおいては、ｉ線ステッパ（３６
５nm光を使用）およびｇ線ステッパ（４３５nm光を使
用）や、水銀灯の全波長を用いるミラープロジェクショ
ンタイプの露光機で露光した場合に良好なパターニング
性が得られない問題があった。
れ自体でフォトパターニング性を兼備しているものは感
光性ポリイミドと呼ばれ、半導体の表面保護膜用等に用
いられる。感光性ポリイミドにはいくつかの感光性付与
方式が知られている。代表的なものには、特公昭５５−
４１４２２号公報で提案されているようなポリアミド酸
のヒドロキシアクリレートとのエステルとしたものや、
特開昭５７−１７０９２９号公報や特開昭５４−１４５
７９４号公報で提案されているようなポリアミド酸にア
ミノアクリレートのようなものを配合し感光性基を塩結
合で導入するものが知られている。前者の場合、フォト
パターニング性は比較的優れているが、高分子量化しに
くく、感光性基の除去が不完全になりやすいことから膜
特性に劣る欠点を有している。また、後者の場合、高分
子量が得られ易く、また感光性基が揮散しやすいため膜
特性に優れるもののフォトパターニング性が十分でない
欠点を有していた。特に、硬化後膜厚が５μｍ以上の厚
膜用感光性ポリイミドにおいては、ｉ線ステッパ（３６
５nm光を使用）およびｇ線ステッパ（４３５nm光を使
用）や、水銀灯の全波長を用いるミラープロジェクショ
ンタイプの露光機で露光した場合に良好なパターニング
性が得られない問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、優れ
た感光特性を示す感光性組成物および感光材料を生成す
る光開始剤、これを用いた感光性組成物、感光材料およ
びパターンの製造法を提供するものである。
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、優れ
た感光特性を示す感光性組成物および感光材料を生成す
る光開始剤、これを用いた感光性組成物、感光材料およ
びパターンの製造法を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の式
（Ｉ）で示される３−置換クマリン化合物
（Ｉ）で示される３−置換クマリン化合物
【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、水素原子、
１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基、２個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたア
ミノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、アシルオキシ
基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１から５の
チオアルキル基であり、Ｒ6はフェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ピリジン基、クマリニル基、アミノ基、炭素数１か
ら５のアルキル基で置換されたアミノ基、シアノ基、炭
素数１から５のアルコキシ基、炭素数１から５のアルキ
ル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ホルミル基、炭
素数１から５のアルコキシカルボニル基または炭素数１
から５のアシルオキシ基であり、フェニル基、ビフェニ
ル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリ
ル基、ピリジン基およびクマリニル基は炭素数１〜５の
アシル基で置換されてもよい）、下記の式（II）で示さ
れるチタノセン化合物
１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基、２個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたア
ミノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、アシルオキシ
基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１から５の
チオアルキル基であり、Ｒ6はフェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ピリジン基、クマリニル基、アミノ基、炭素数１か
ら５のアルキル基で置換されたアミノ基、シアノ基、炭
素数１から５のアルコキシ基、炭素数１から５のアルキ
ル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ホルミル基、炭
素数１から５のアルコキシカルボニル基または炭素数１
から５のアシルオキシ基であり、フェニル基、ビフェニ
ル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリ
ル基、ピリジン基およびクマリニル基は炭素数１〜５の
アシル基で置換されてもよい）、下記の式（II）で示さ
れるチタノセン化合物
【化５】 （式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ15およびＲ16は水素原子、ハロゲン原子、炭素数
１〜２０のアルコキシ基または１−ピロリル、２−ピロ
リル、３−ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル等の複
素環である）および下記の式（III）で示されるＮ−ア
リール−α−アミノ酸
14、Ｒ15およびＲ16は水素原子、ハロゲン原子、炭素数
１〜２０のアルコキシ基または１−ピロリル、２−ピロ
リル、３−ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル等の複
素環である）および下記の式（III）で示されるＮ−ア
リール−α−アミノ酸
【化６】 （式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基、シア
ノ基または炭素数１から４のアルキルスルホン基であっ
て、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21のうち少なくと
も１つがシアノ基または炭素数１から４のアルキルスル
ホン基であり、Ｒ22は水素原子、炭素数１から１２のア
ルキル基、シクロアルキル基、炭素数１から１２のヒド
ロキシアルキル基、炭素数２から１２のアルコキシアル
キル基、炭素数１から１２のアミノアルキル基またはア
リール基であり、Ｒ23およびＲ24は水素原子または炭素
数１から８のアルキル基であり、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ
20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23およびＲ24は同一でもよい）を含
有してなる光開始剤に関する。
子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基、シア
ノ基または炭素数１から４のアルキルスルホン基であっ
て、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21のうち少なくと
も１つがシアノ基または炭素数１から４のアルキルスル
ホン基であり、Ｒ22は水素原子、炭素数１から１２のア
ルキル基、シクロアルキル基、炭素数１から１２のヒド
ロキシアルキル基、炭素数２から１２のアルコキシアル
キル基、炭素数１から１２のアミノアルキル基またはア
リール基であり、Ｒ23およびＲ24は水素原子または炭素
数１から８のアルキル基であり、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ
20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23およびＲ24は同一でもよい）を含
有してなる光開始剤に関する。
【０００５】以下に述べる本発明の感光性組成物および
感光材料には、必要に応じてその他の光開始剤をさらに
含有してもよい。その他の光開始剤としては例えば、ミ
ヒラーズケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキ
ノン、４，４′−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキ
サントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノ−１−プロパノン、ベンジル、ジフェニ
ルジスルフィド、フェナンスレンキノン、２−イソプロ
ピルチオキサントン、リボフラビンテトラブチレート、
Ｎ−フェニルジエタノールアミン、２−（Ｏ−エトキシ
カルボニル）オキシイミノ−１，３−ジフェニルプロパ
ンジオン、１−フェニル−２−（Ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシイミノプロパン−１−オン、３，３′，４，
４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシイ
ミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２
−（Ｏ−フェノキシカルボニル）オキシイミノ−１，３
−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２−｛Ｏ−
（２′−メトキシ）エトキシカルボニル｝オキシイミノ
−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２−
（Ｏ−ｎ−ヘプチルオキシカルボニル）オキシイミノ−
１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２−（Ｏ
−ベンジルオキシカルボニル）オキシイミノ−１，３−
ジフェニル−１，２，３−トリオン、
感光材料には、必要に応じてその他の光開始剤をさらに
含有してもよい。その他の光開始剤としては例えば、ミ
ヒラーズケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキ
ノン、４，４′−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキ
サントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノ−１−プロパノン、ベンジル、ジフェニ
ルジスルフィド、フェナンスレンキノン、２−イソプロ
ピルチオキサントン、リボフラビンテトラブチレート、
Ｎ−フェニルジエタノールアミン、２−（Ｏ−エトキシ
カルボニル）オキシイミノ−１，３−ジフェニルプロパ
ンジオン、１−フェニル−２−（Ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシイミノプロパン−１−オン、３，３′，４，
４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシイ
ミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２
−（Ｏ−フェノキシカルボニル）オキシイミノ−１，３
−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２−｛Ｏ−
（２′−メトキシ）エトキシカルボニル｝オキシイミノ
−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２−
（Ｏ−ｎ−ヘプチルオキシカルボニル）オキシイミノ−
１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、２−（Ｏ
−ベンジルオキシカルボニル）オキシイミノ−１，３−
ジフェニル−１，２，３−トリオン、
【化７】 等が挙げられる。これらの光開始剤の使用量については
特に制限はない。
特に制限はない。
【０００６】また、本発明は、常圧において１００℃以
上の沸点を有する付加重合性化合物および上記の光開始
剤を含有してなる感光性組成物に関する。
上の沸点を有する付加重合性化合物および上記の光開始
剤を含有してなる感光性組成物に関する。
【０００７】また、本発明は、ポリアミド酸、化学線に
より２量化または重合可能な炭素炭素二重結合およびア
ミノ基またはその四級化塩を有する化合物、上記の光開
始剤を含有してなる感光材料ならびにこの感光材料を用
いたパターンの製造法に関する。
より２量化または重合可能な炭素炭素二重結合およびア
ミノ基またはその四級化塩を有する化合物、上記の光開
始剤を含有してなる感光材料ならびにこの感光材料を用
いたパターンの製造法に関する。
【０００８】上記の式（Ｉ）で示される３−置換クマリ
ン化合物の例としては、３−ベンゾイルクマリン、３−
ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−ベンゾイル−
５，７−ジメトキシクマリン、３−（４′シアノベンゾ
イル）−クマリン、３−（４′シアノベンゾイル）−７
−メトキシクマリン、３−（４′−シアノベンゾイル）
−５，７−ジメトキシクマリン、３−チエニルカルボニ
ルクマリン、７−メトキシ−３−チエニルカルボニルク
マリン、５，７−ジメトキシ−３−チエニルカルボニル
クマリン、７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−３−チエニル
カルボニルクマリン、７−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−３
−チエニルカルボニルクマリン、３−（４′−メトキシ
ベンゾイル）クマリン、３−（４′−メトキシベンゾイ
ル）−７−メトキシクマリン、３−（４′−メトキシベ
ンゾイル）−５，７−ジメトキシクマリン、３，３′−
カルボニルビス（７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリ
ン）、３，３′−カルボニルビス（７−メトキシクマリ
ン）、３，３′−カルボニルビス（５，７−ジメトキシ
クマリン）等が挙げられる。これらは二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
ン化合物の例としては、３−ベンゾイルクマリン、３−
ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−ベンゾイル−
５，７−ジメトキシクマリン、３−（４′シアノベンゾ
イル）−クマリン、３−（４′シアノベンゾイル）−７
−メトキシクマリン、３−（４′−シアノベンゾイル）
−５，７−ジメトキシクマリン、３−チエニルカルボニ
ルクマリン、７−メトキシ−３−チエニルカルボニルク
マリン、５，７−ジメトキシ−３−チエニルカルボニル
クマリン、７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−３−チエニル
カルボニルクマリン、７−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−３
−チエニルカルボニルクマリン、３−（４′−メトキシ
ベンゾイル）クマリン、３−（４′−メトキシベンゾイ
ル）−７−メトキシクマリン、３−（４′−メトキシベ
ンゾイル）−５，７−ジメトキシクマリン、３，３′−
カルボニルビス（７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリ
ン）、３，３′−カルボニルビス（７−メトキシクマリ
ン）、３，３′−カルボニルビス（５，７−ジメトキシ
クマリン）等が挙げられる。これらは二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
【０００９】上記の式（II）で示されるチタノセン化合
物の例としては、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−（２−（ピロール−１−イ
ル）エチル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２−（ピ
ロール−１−イル）プロピル）フェニル］チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ
−３−（２−（ピロール−１−イル）メチル）フェニ
ル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）フ
ェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−（２，５−ジメチルピロー
ル−１−イル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２，５
−ジエチルピロール−１−イル）フェニル］チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオ
ロ−３−（２，５−ジイソプロピルピロール−１−イ
ル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２，５−ビスジメ
チルアミノピロール−１−イル）フェニル］チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオ
ロ−３−（２，５−ジメチル−３−メトキシピロール−
１−イル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエ
ニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−メトキシフェ
ニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−エトキシフェニル］チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジ
フルオロ−３−イソプロポキシフェニル］チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ
−３−ｎ−プロポキシフェニル］チタン等が挙げられ
る。これらは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
物の例としては、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−（２−（ピロール−１−イ
ル）エチル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２−（ピ
ロール−１−イル）プロピル）フェニル］チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ
−３−（２−（ピロール−１−イル）メチル）フェニ
ル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）フ
ェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−（２，５−ジメチルピロー
ル−１−イル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２，５
−ジエチルピロール−１−イル）フェニル］チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオ
ロ−３−（２，５−ジイソプロピルピロール−１−イ
ル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（２，５−ビスジメ
チルアミノピロール−１−イル）フェニル］チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオ
ロ−３−（２，５−ジメチル−３−メトキシピロール−
１−イル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエ
ニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−メトキシフェ
ニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
［２，６−ジフルオロ−３−エトキシフェニル］チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジ
フルオロ−３−イソプロポキシフェニル］チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ
−３−ｎ−プロポキシフェニル］チタン等が挙げられ
る。これらは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１０】上記の式（III）で示されるＮ−アリール
−α−アミノ酸の例としては、Ｎ−（ｐ−メチルスルホ
ニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチ
ルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルス
ルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−
シアノメチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスル
ホニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エ
チルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−エチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチル
スルホニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−２′−シアノエチルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチ
ルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチルスルホニル
フェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−
２′−シアノエチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブ
チルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−メチ
ルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−エチル
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−プロ
ピルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−
ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−ｎ−プロピルスルホニルフ
ェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−ｎ−ブチル
スルホニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、
Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−エチルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−
ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフ
ェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキ
シカルボニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリ
シン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−
ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メト
キシカルボニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリ
シン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−
ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン等がある。これら
は二種以上を組み合わせて用いてもよい。式（III）で
示されるＮ−アリール−α−アミノ酸を、Ｒ17、Ｒ18、
Ｒ19、Ｒ20およびＲ21のうち少なくとも１つがシアノ基
または炭素数１から４のアルキルスルホニル基であるこ
とが好ましい。Ｎ−アリール−α−アミノ酸は、例えば
相当する置換ハロベンゼンとグリシン化合物の芳香族求
核置換反応を行わせることによって得られる。
−α−アミノ酸の例としては、Ｎ−（ｐ−メチルスルホ
ニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチ
ルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルス
ルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−
シアノメチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスル
ホニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エ
チルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−エチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチル
スルホニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−２′−シアノエチルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチ
ルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチルスルホニル
フェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−
２′−シアノエチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブ
チルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−メチ
ルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−エチル
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−プロ
ピルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−
ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−ｎ−プロピルスルホニルフ
ェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−ｎ−ブチル
スルホニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、
Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−エチルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−
ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフ
ェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキ
シカルボニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリ
シン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−
ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メト
キシカルボニルフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリ
シン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−
ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン等がある。これら
は二種以上を組み合わせて用いてもよい。式（III）で
示されるＮ−アリール−α−アミノ酸を、Ｒ17、Ｒ18、
Ｒ19、Ｒ20およびＲ21のうち少なくとも１つがシアノ基
または炭素数１から４のアルキルスルホニル基であるこ
とが好ましい。Ｎ−アリール−α−アミノ酸は、例えば
相当する置換ハロベンゼンとグリシン化合物の芳香族求
核置換反応を行わせることによって得られる。
【００１１】上記の３−置換クマリン化合物、チタノセ
ン化合物およびＮ−アリール−α−アミノ酸の使用割合
には、特に制限はないが、通常、Ｎ−アリール−α−ア
ミノ酸およびチタノセン化合物を３−置換クマリン化合
物よりも多い重量部として用いる。
ン化合物およびＮ−アリール−α−アミノ酸の使用割合
には、特に制限はないが、通常、Ｎ−アリール−α−ア
ミノ酸およびチタノセン化合物を３−置換クマリン化合
物よりも多い重量部として用いる。
【００１２】本発明の感光性組成物に含まれる付加重合
性化合物は常圧において１００℃以上の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が１００℃より低い
ものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する
際または活性光線を照射する際、該付加重合性化合物が
揮散して特性上好ましくないからである。また付加重合
性化合物は光開始剤等と均一な組成物とするために、通
常用いられる有機溶剤に可溶なものが好ましい。
性化合物は常圧において１００℃以上の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が１００℃より低い
ものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する
際または活性光線を照射する際、該付加重合性化合物が
揮散して特性上好ましくないからである。また付加重合
性化合物は光開始剤等と均一な組成物とするために、通
常用いられる有機溶剤に可溶なものが好ましい。
【００１３】有機溶剤としては、例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、トルエン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、キシレン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシ
ド、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
スルホラン等が用いられる。
ルエチルケトン、トルエン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、キシレン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシ
ド、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
スルホラン等が用いられる。
【００１４】常圧において１００℃以上の沸点を有する
付加重合性化合物としては、多価アルコールとα，β−
不飽和カルボン酸とを縮合して得られる化合物、例えば
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジアクリ
レートまたはジメタクリレートの意味、以下同じ）、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、１，２−プロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ（１，２−
プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、トリ
（１，２−プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレ
ート、テトラ（１，２−プロピレングリコール）ジ（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、１，４−
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ（メタ）アクリレート、スチレン、ジビニルベ
ンゼン、４−ビニルトルエン、４−ビニルピリジン、Ｎ
−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、１，３−（メタ）アクリロイルオキシ−２
−ヒドロキシプロパン、メチレンビスアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミドなどがあげられ、これらは二種以上を組み合
わせて用いてもよい。Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−グ
リシン、７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−３−チエニルカ
ルボニルクマリン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビ
ス［２，６−ジフルオロ−３−ピロール−１−イル）フ
ェニル］チタン、３−ジメチルアミノプロピルメタクリ
レートおよびポリアミド酸の組み合わせが好ましい。
付加重合性化合物としては、多価アルコールとα，β−
不飽和カルボン酸とを縮合して得られる化合物、例えば
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジアクリ
レートまたはジメタクリレートの意味、以下同じ）、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、１，２−プロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ（１，２−
プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、トリ
（１，２−プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレ
ート、テトラ（１，２−プロピレングリコール）ジ（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、１，４−
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ（メタ）アクリレート、スチレン、ジビニルベ
ンゼン、４−ビニルトルエン、４−ビニルピリジン、Ｎ
−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、１，３−（メタ）アクリロイルオキシ−２
−ヒドロキシプロパン、メチレンビスアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミドなどがあげられ、これらは二種以上を組み合
わせて用いてもよい。Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−グ
リシン、７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−３−チエニルカ
ルボニルクマリン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビ
ス［２，６−ジフルオロ−３−ピロール−１−イル）フ
ェニル］チタン、３−ジメチルアミノプロピルメタクリ
レートおよびポリアミド酸の組み合わせが好ましい。
【００１５】光開始剤は、光感度とフィルム強度の点か
ら、常圧において１００℃以上の沸点を有する付加重合
性化合物に対して０．０１から３０重量％、好ましくは
０．０５から１０重量％の添加量で用いられる。
ら、常圧において１００℃以上の沸点を有する付加重合
性化合物に対して０．０１から３０重量％、好ましくは
０．０５から１０重量％の添加量で用いられる。
【００１６】本発明になる感光性組成物は、必要に応じ
て一種以上の高分子量有機重合体を含有してもよい。該
高分子量有機重合体の分子量は、１０，０００から７０
０，０００を有するものが好ましい。例えば次のものが
用いられる。
て一種以上の高分子量有機重合体を含有してもよい。該
高分子量有機重合体の分子量は、１０，０００から７０
０，０００を有するものが好ましい。例えば次のものが
用いられる。
【００１７】（Ａ）コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメ
チロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と多価カ
ルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、セバシ
ン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステル
チレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメ
チロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と多価カ
ルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、セバシ
ン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステル
【００１８】（Ｂ）ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル（メタ）アクリレ
ート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）
アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等
のビニル単量体のホモポリマまたはコポリマ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル（メタ）アクリレ
ート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）
アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等
のビニル単量体のホモポリマまたはコポリマ
【００１９】（Ｃ）ポリホルムアルデヒド （Ｄ）ポリウレタン （Ｅ）ポリカーボネート （Ｆ）ポリアミド （Ｇ）ポリアミド酸
【００２０】ポリアミド酸は、次のようなテトラカルボ
ン酸二無水物とジアミン化合物を材料とした付加重合に
よって得られる。テトラカルボン酸二無水物としては、
例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二
無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン
酸二無水物、４，４′−スルホニルジフタル酸二無水
物、ｍ−ターフェニル−３，３″，４，４″−テトラカ
ルボン酸二無水物、ｐ−ターフェニル−３，３″，４，
４″−テトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジ
フタル酸二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロ−２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニ
ル）プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビ
ス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニ
ル］プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキ
シフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物が挙げられ
る。ジアミン化合物としては、例えば、ｐ−フェニレン
ジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシリレンジ
アミン、ｍ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナ
フタレン、ベンジジン、３，３′−ジメチルベンジジ
ン、３，３′−ジメトキシベンジジン、４，４′（また
は３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジ
フェニルメタン、４，４′（または３，４′−、３，
３′−、２，４′−）−ジアミノジフェニルエーテル、
４，４′（または３，４′−、３，３′−、２，４′
−）−ジアミノジフェニルスルホン、４，４′（または
３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジフ
ェニルスルフィド、４，４′−ベンゾフェノンジアミ
ン、３，３′−ベンゾフェノンジアミン、４，４′−ジ
（４−アミノフェノキシ）フェニルスルホン、４，４′
−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，４−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、３，３′−ジメチル−
４，４′ジアミノジフェニルメタン、３，３′，５，
５′−テトラメチル−４，４′ジアミノジフェニルメタ
ン、４，４′−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニルス
ルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、２，
２′−ビス（４−アミノフェニル）プロパン等の芳香族
ジアミン、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミ
ノピリミジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、
２，７−ジアミノジベンゾフラン、２，７−ジアミノカ
ルバゾール、３，７−ジアミノフェノチアジン、２，５
−ジアミノ−１，３，４−チアジアゾール、２，４−ジ
アミノ−６−フェニル−ｓ−トリアジン等の複素環式ジ
アミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、２，２−ジメチルプロピ
レンジアミン、下記に示すジアミノポリシロキサン等の
脂肪族ジアミンなどが挙げられる。
ン酸二無水物とジアミン化合物を材料とした付加重合に
よって得られる。テトラカルボン酸二無水物としては、
例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二
無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン
酸二無水物、４，４′−スルホニルジフタル酸二無水
物、ｍ−ターフェニル−３，３″，４，４″−テトラカ
ルボン酸二無水物、ｐ−ターフェニル−３，３″，４，
４″−テトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジ
フタル酸二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロ−２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニ
ル）プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビ
ス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニ
ル］プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキ
シフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物が挙げられ
る。ジアミン化合物としては、例えば、ｐ−フェニレン
ジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシリレンジ
アミン、ｍ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナ
フタレン、ベンジジン、３，３′−ジメチルベンジジ
ン、３，３′−ジメトキシベンジジン、４，４′（また
は３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジ
フェニルメタン、４，４′（または３，４′−、３，
３′−、２，４′−）−ジアミノジフェニルエーテル、
４，４′（または３，４′−、３，３′−、２，４′
−）−ジアミノジフェニルスルホン、４，４′（または
３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジフ
ェニルスルフィド、４，４′−ベンゾフェノンジアミ
ン、３，３′−ベンゾフェノンジアミン、４，４′−ジ
（４−アミノフェノキシ）フェニルスルホン、４，４′
−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，４−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、３，３′−ジメチル−
４，４′ジアミノジフェニルメタン、３，３′，５，
５′−テトラメチル−４，４′ジアミノジフェニルメタ
ン、４，４′−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニルス
ルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、２，
２′−ビス（４−アミノフェニル）プロパン等の芳香族
ジアミン、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミ
ノピリミジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、
２，７−ジアミノジベンゾフラン、２，７−ジアミノカ
ルバゾール、３，７−ジアミノフェノチアジン、２，５
−ジアミノ−１，３，４−チアジアゾール、２，４−ジ
アミノ−６−フェニル−ｓ−トリアジン等の複素環式ジ
アミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、２，２−ジメチルプロピ
レンジアミン、下記に示すジアミノポリシロキサン等の
脂肪族ジアミンなどが挙げられる。
【化８】 （ｎ、ｍは１〜１０の整数であり、ｎとｍは同じでも良
い）
い）
【００２１】上記のテトラカルボン酸二無水物およびジ
アミン化合物はそれぞれ単独で用いても二種以上を組み
合わせて用いてもよい。
アミン化合物はそれぞれ単独で用いても二種以上を組み
合わせて用いてもよい。
【００２２】（Ｈ）セルロースエステル例えばメチルセ
ルロース、エチルセルロース
ルロース、エチルセルロース
【００２３】感光性組成物中に高分子量有機重合体を加
えることによって、基体への接着性、耐薬品性、フィル
ム性等の特性を改良することができる。この高分子量有
機重合体は、光硬化性の点から該高分子量有機重合体と
前記の付加重合性化合物の合計重量を基準として２０〜
８０重量％の範囲とすることが好ましい。高分子量有機
重合体を用いる場合にも、光開始剤の使用量は、常圧に
おいて１００℃以上の沸点を有する付加重合性化合物に
対して０．０１から３０重量％、好ましくは０．０５か
ら１０重量％の範囲とされる。
えることによって、基体への接着性、耐薬品性、フィル
ム性等の特性を改良することができる。この高分子量有
機重合体は、光硬化性の点から該高分子量有機重合体と
前記の付加重合性化合物の合計重量を基準として２０〜
８０重量％の範囲とすることが好ましい。高分子量有機
重合体を用いる場合にも、光開始剤の使用量は、常圧に
おいて１００℃以上の沸点を有する付加重合性化合物に
対して０．０１から３０重量％、好ましくは０．０５か
ら１０重量％の範囲とされる。
【００２４】本発明になる感光性組成物はまた必要に応
じて染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物
質としては、例えばフクシン、クリスタルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアピ
ュアブルー、マラカイトグリーン、ナイトグリーンＢ、
スピロンプルー等があげられる。
じて染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物
質としては、例えばフクシン、クリスタルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアピ
ュアブルー、マラカイトグリーン、ナイトグリーンＢ、
スピロンプルー等があげられる。
【００２５】本発明になる感光性組成物は保存時の安定
性を高めるためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重
合抑制剤を含有してもよい。このようなものとしてはｐ
−メトキシフェノール、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジ
ン、アリールフォスファイト、ニトロソアミン等があ
る。
性を高めるためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重
合抑制剤を含有してもよい。このようなものとしてはｐ
−メトキシフェノール、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジ
ン、アリールフォスファイト、ニトロソアミン等があ
る。
【００２６】本発明になる感光性組成物は感光性樹脂組
成物に用いることが知られている他の添加物、例えば可
塑剤、接着促進剤等の添加物を含有してもよい。
成物に用いることが知られている他の添加物、例えば可
塑剤、接着促進剤等の添加物を含有してもよい。
【００２７】本発明の感光材料は、上記のポリアミド
酸、上記の常圧において１００℃以上の沸点を有する付
加重合性化合物中の化学線により２量化または重合可能
な炭素炭素二重結合およびアミノ基またはその四級化塩
を有する化合物ならびに光開始剤を含むものである。こ
れらの使用割合は、感光性組成物の場合と同様とされ
る。ポリアミド酸は、化学線により２量化または重合可
能な炭素、炭素二重結合およびアミノ基またはその四級
化塩を有する化合物を、ポリアミド酸の有するカルボキ
シル基と等モルとなる量で用いることが好ましい。
酸、上記の常圧において１００℃以上の沸点を有する付
加重合性化合物中の化学線により２量化または重合可能
な炭素炭素二重結合およびアミノ基またはその四級化塩
を有する化合物ならびに光開始剤を含むものである。こ
れらの使用割合は、感光性組成物の場合と同様とされ
る。ポリアミド酸は、化学線により２量化または重合可
能な炭素、炭素二重結合およびアミノ基またはその四級
化塩を有する化合物を、ポリアミド酸の有するカルボキ
シル基と等モルとなる量で用いることが好ましい。
【００２８】本発明の感光材料を基材上に塗布、乾燥
し、露光、現像してパターンが製造される。本発明の感
光材料は、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、回
転塗布法等によってシリコンウエーハ、金属基板、ガラ
ス基板、セラミック基板等の基材上に塗布され、溶剤の
大部分を加熱乾燥することにより粘着性のない塗膜とす
ることが出来る。この塗膜上に、所望のパターンが描か
れたマスクを通して活性光線または化学線を照射する。
照射する活性光線または化学線としては、紫外線、遠紫
外線、可視光、電子線、Ｘ線などがある。照射後未照射
部を適当な現像液で溶解除去することにより所望のパタ
ーンを得る。現像液としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンなどの良溶媒やこれらと低級アルコー
ル、水、芳香族炭化水素などの貧溶媒との混合溶媒が用
いられる。現像後は必要に応じて貧溶媒などでリンスを
行い、１００℃前後で乾燥しパターンを安定なものとす
る。
し、露光、現像してパターンが製造される。本発明の感
光材料は、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、回
転塗布法等によってシリコンウエーハ、金属基板、ガラ
ス基板、セラミック基板等の基材上に塗布され、溶剤の
大部分を加熱乾燥することにより粘着性のない塗膜とす
ることが出来る。この塗膜上に、所望のパターンが描か
れたマスクを通して活性光線または化学線を照射する。
照射する活性光線または化学線としては、紫外線、遠紫
外線、可視光、電子線、Ｘ線などがある。照射後未照射
部を適当な現像液で溶解除去することにより所望のパタ
ーンを得る。現像液としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンなどの良溶媒やこれらと低級アルコー
ル、水、芳香族炭化水素などの貧溶媒との混合溶媒が用
いられる。現像後は必要に応じて貧溶媒などでリンスを
行い、１００℃前後で乾燥しパターンを安定なものとす
る。
【００２９】感光材料はビスアジド化合物を含んでもよ
く、ビスアジド化合物の例としては
く、ビスアジド化合物の例としては
【化９】
【化１０】 等が挙げられる。ビスアジド化合物は、ポリアミドに対
して０．０１〜１０重量％の範囲で用いることが好まし
い。
して０．０１〜１０重量％の範囲で用いることが好まし
い。
【００３０】感光材料に含まれる化学線により２量化ま
たは重合可能な炭素炭素二重結合およびアミノ基または
その四級化塩を有する化合物の例としては次の化合物が
あげられる。
たは重合可能な炭素炭素二重結合およびアミノ基または
その四級化塩を有する化合物の例としては次の化合物が
あげられる。
【化１１】
【００３１】
【実施例】以下に本発明を実施例を用いて更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限される
ものではない。 実施例１〜６、比較例１〜３ Ｎ−（４−シアノフェニル）−グリシンの合成 ４−シアノアニリン（１００ｇ、８４７．４mmol）を５
００mlの三つ首フラスコに入れ、水３００mlをさらに加
え、水流冷却管、メカニカルスターラおよび滴下ロート
をセットし、油温１００℃で加熱し、良く撹拌しなが
ら、モノクロロ酢酸（１０４ｇ、１１１６mmol）の水溶
液（水１５０ml）を約３０分かけて滴下し、さらに２．
５時間加熱還流した。放冷後、酢酸エチルを約１００ml
加え、不溶分を溶解せしめ、この有機層を分液ロートで
分けた。残りの水層と、この有機層を１００mlの重量５
％ＮａＯＨ水で抽出した水層を合わせ、１／１０ＮのＨ
Ｃｌで酸析し、生じた沈殿を濾別し、さらに水洗を数度
行い洗浄した。６０℃のオーブンで３時間加熱乾燥した
後、真空デシケータで一晩乾燥させた。得られた、淡い
ベージュ色のパウダーは融点を示さず、２３３．１℃で
分解した。収量は３８．８ｇ（２６％）であった。
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限される
ものではない。 実施例１〜６、比較例１〜３ Ｎ−（４−シアノフェニル）−グリシンの合成 ４−シアノアニリン（１００ｇ、８４７．４mmol）を５
００mlの三つ首フラスコに入れ、水３００mlをさらに加
え、水流冷却管、メカニカルスターラおよび滴下ロート
をセットし、油温１００℃で加熱し、良く撹拌しなが
ら、モノクロロ酢酸（１０４ｇ、１１１６mmol）の水溶
液（水１５０ml）を約３０分かけて滴下し、さらに２．
５時間加熱還流した。放冷後、酢酸エチルを約１００ml
加え、不溶分を溶解せしめ、この有機層を分液ロートで
分けた。残りの水層と、この有機層を１００mlの重量５
％ＮａＯＨ水で抽出した水層を合わせ、１／１０ＮのＨ
Ｃｌで酸析し、生じた沈殿を濾別し、さらに水洗を数度
行い洗浄した。６０℃のオーブンで３時間加熱乾燥した
後、真空デシケータで一晩乾燥させた。得られた、淡い
ベージュ色のパウダーは融点を示さず、２３３．１℃で
分解した。収量は３８．８ｇ（２６％）であった。
【００３２】Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル
グリシンの合成 ４−フルオロベンゾニトリル（１０．４４ｇ、８６．２
６mmol）、Ｎ−メチルグリシン（８．４５ｇ、９４．８
９mmol）および炭酸カリウム（１４．２８ｇ、１０３．
４８mmol）を５００mlのナス型フラスコに加え、さら２
００mlのジメチルスルホキシドを溶媒として加え、水流
冷却管をつけてマグネチックスターラで撹拌しながら１
００℃の油浴で９時間加熱した。放冷後、水１リットル
中に溶解させて１／１０ＮのＨＣｌで酸析し、沈殿を濾
別した。良く水洗した後に、ヘキサン／ベンゼン（容積
比４／１）でさらに洗浄した。乾燥後の生成物の収量は
１４．２１ｇ（７４．７９mmol、８６．７％）、融点は
６４．５℃であった。
グリシンの合成 ４−フルオロベンゾニトリル（１０．４４ｇ、８６．２
６mmol）、Ｎ−メチルグリシン（８．４５ｇ、９４．８
９mmol）および炭酸カリウム（１４．２８ｇ、１０３．
４８mmol）を５００mlのナス型フラスコに加え、さら２
００mlのジメチルスルホキシドを溶媒として加え、水流
冷却管をつけてマグネチックスターラで撹拌しながら１
００℃の油浴で９時間加熱した。放冷後、水１リットル
中に溶解させて１／１０ＮのＨＣｌで酸析し、沈殿を濾
別した。良く水洗した後に、ヘキサン／ベンゼン（容積
比４／１）でさらに洗浄した。乾燥後の生成物の収量は
１４．２１ｇ（７４．７９mmol、８６．７％）、融点は
６４．５℃であった。
【００３３】４，４′−ジアミノジフェニルエーテルと
ピロメリット酸二無水物とを等モルで常法により反応さ
せて得られたポリアミド酸のＮ−メチル−２−ピロリド
ン溶液１０ｇ（固形分２０重量％）、２−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート１．８ｇおよび表２に示す光開
始剤を配合した後撹拌混合し感光材料とした。フィルタ
で濾過した後シリコンウエーハ上に回転塗布した。次い
で、ホットプレート上１００℃で２００秒加熱し、溶剤
を乾燥させて感光性塗膜とした。乾燥後の膜厚は２０ミ
クロンであった。塗膜上にフォトマスクを介し超高圧水
銀灯を光源とするミラープロジェクション露光機でパタ
ーン露光を行った。このときの露光量は５００mJ/cm2で
あった。このあとＮ−メチル−２−ピロリドンとメチル
アルコールの混合溶液（容積比：４／１）で浸漬現像を
行った。さらにイソプロパノールでリンスした。現像後
のパターン形状を測定、観察し、得られた残膜率（膜厚
を初期の膜厚で割った値）と最小開口スルホール径（開
口径）を表１に示した。実施例４のウエーハについて
は、これを窒素雰囲気下で１００℃で１５分、２００℃
で２０分、３５０℃で６０分加熱し最終硬化膜とした。
最終硬化膜厚１０ミクロンの良好なポリイミドパターン
が得られた。実施例に示したように本発明の感光性組成
物は比較例の組成物に比べて感光特性に優れたものであ
る。
ピロメリット酸二無水物とを等モルで常法により反応さ
せて得られたポリアミド酸のＮ−メチル−２−ピロリド
ン溶液１０ｇ（固形分２０重量％）、２−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート１．８ｇおよび表２に示す光開
始剤を配合した後撹拌混合し感光材料とした。フィルタ
で濾過した後シリコンウエーハ上に回転塗布した。次い
で、ホットプレート上１００℃で２００秒加熱し、溶剤
を乾燥させて感光性塗膜とした。乾燥後の膜厚は２０ミ
クロンであった。塗膜上にフォトマスクを介し超高圧水
銀灯を光源とするミラープロジェクション露光機でパタ
ーン露光を行った。このときの露光量は５００mJ/cm2で
あった。このあとＮ−メチル−２−ピロリドンとメチル
アルコールの混合溶液（容積比：４／１）で浸漬現像を
行った。さらにイソプロパノールでリンスした。現像後
のパターン形状を測定、観察し、得られた残膜率（膜厚
を初期の膜厚で割った値）と最小開口スルホール径（開
口径）を表１に示した。実施例４のウエーハについて
は、これを窒素雰囲気下で１００℃で１５分、２００℃
で２０分、３５０℃で６０分加熱し最終硬化膜とした。
最終硬化膜厚１０ミクロンの良好なポリイミドパターン
が得られた。実施例に示したように本発明の感光性組成
物は比較例の組成物に比べて感光特性に優れたものであ
る。
【表１】 実施例７〜１０および比較例４〜６ 実施例１から６及び比較例１から３と同様の配合組成
に、さらにビスアジド化合物を加えた感光材料について
同様の試験を行った結果を、組成とともに表２に示し
た。実施例に示したようにビスアジド化合物をさらに加
えることによって現像後の残膜率が向上した。
に、さらにビスアジド化合物を加えた感光材料について
同様の試験を行った結果を、組成とともに表２に示し
た。実施例に示したようにビスアジド化合物をさらに加
えることによって現像後の残膜率が向上した。
【表２】
【００３４】
【発明の効果】本発明になる光開始剤により、優れた感
光特性を示す感光性組成物および感光材料を得ることが
でき、この感光材料により良好なパターンを製造するこ
とができる。
光特性を示す感光性組成物および感光材料を得ることが
でき、この感光材料により良好なパターンを製造するこ
とができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ ５０４ ５１４ 7/038 ５０４ Ｈ０１Ｌ 21/027 21/312 Ｂ (72)発明者 布村 昌隆 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内
Claims (6)
- 【請求項１】 下記の式（Ｉ）で示される３−置換クマ
リン化合物 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、水素原子、
１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基、２個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたア
ミノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、アシルオキシ
基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１から５の
チオアルキル基であり、Ｒ6はフェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ピリジン基、クマリニル基、アミノ基、炭素数１か
ら５のアルキル基で置換されたアミノ基、シアノ基、炭
素数１から５のアルコキシ基、炭素数１から５のアルキ
ル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ホルミル基、炭
素数１から５のアルコキシカルボニル基または炭素数１
から５のアシルオキシ基であり、フェニル基、ビフェニ
ル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリ
ル基、ピリジン基およびクマリニル基は炭素数１から５
のアシル基で置換されてもよい）、下記の式（II）で示
されるチタノセン化合物 【化２】 （式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ15およびＲ16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１〜２０のアルコキシ基または複素環である）および
下記の式（III）で示されるＮ−アリール−α−アミノ
酸 【化３】 （式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基、シア
ノ基または炭素数１から４のアルキルスルホン基であっ
て、Ｒ22は水素原子、炭素数１から１２のアルキル基、
シクロアルキル基、炭素数１から１２のヒドロキシアル
キル基、炭素数２から１２のアルコキシアルキル基、炭
素数１から１２のアミノアルキル基またはアリール基で
あり、Ｒ23およびＲ24は水素原子または炭素数１から８
のアルキル基であり、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、
Ｒ22、Ｒ23およびＲ24は同一でもよい）を含有してなる
光開始剤。 - 【請求項２】 式（III）で示されるＮ−アリール−α
−アミノ酸を、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21のう
ち少なくとも１つがシアノ基または炭素数１から４のア
ルキルスルホニル基であるＮ−アリール−α−アミノ酸
とした請求項１記載の光開始剤。 - 【請求項３】 常圧において１００℃以上の沸点を有す
る付加重合性化合物および請求項１記載の光開始剤を含
有してなる感光性組成物。 - 【請求項４】 ポリアミド酸、化学線により２量化また
は重合可能な炭素炭素二重結合およびアミノ基またはそ
の四級化塩を有する化合物ならびに請求項１記載の光開
始剤を含有してなる感光材料。 - 【請求項５】 さらにビスアジド化合物を含有する請求
項４記載の感光材料。 - 【請求項６】 請求項３または４記載の感光材料を基材
上に塗布、乾燥し、露光、現像することを特徴とするパ
ターンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20502894A JP3446909B2 (ja) | 1993-09-28 | 1994-08-30 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-241358 | 1993-09-28 | ||
| JP24135893 | 1993-09-28 | ||
| JP1650694 | 1994-02-10 | ||
| JP6-16506 | 1994-02-10 | ||
| JP20502894A JP3446909B2 (ja) | 1993-09-28 | 1994-08-30 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07271028A true JPH07271028A (ja) | 1995-10-20 |
| JP3446909B2 JP3446909B2 (ja) | 2003-09-16 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20502894A Expired - Fee Related JP3446909B2 (ja) | 1993-09-28 | 1994-08-30 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3446909B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011062198A1 (ja) | 2009-11-20 | 2011-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
| EP2390272A1 (en) | 2010-05-31 | 2011-11-30 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, cured film, color filter, method of producing color filter and solid-state image sensor |
| EP2402818A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-04 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, pattern forming material, and photosensitive film, pattern forming method, pattern film, low refractive index film, optical device and solid-state imaging device each using the same |
| EP2472330A1 (en) | 2010-12-28 | 2012-07-04 | Fujifilm Corporation | Titanium black dispersion composition for forming light blocking film and method of producing the same, black radiation-sensitive composition, black cured film, solid-state imaging element, and method of producing black cured film |
| WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
| WO2013141156A1 (ja) | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| WO2013140979A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| WO2014034815A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
| WO2014034813A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子、並びに高分子化合物 |
| WO2014034814A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
| WO2014103628A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
-
1994
- 1994-08-30 JP JP20502894A patent/JP3446909B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
| WO2013141156A1 (ja) | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| WO2013140979A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| WO2014034815A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
| WO2014034813A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子、並びに高分子化合物 |
| WO2014034814A1 (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
| EP3124548A1 (en) | 2012-08-31 | 2017-02-01 | FUJIFILM Corporation | Dispersion composition, curable composition using the same, transparent film, microlens, and solid-state imaging device |
| EP3135733A1 (en) | 2012-08-31 | 2017-03-01 | FUJIFILM Corporation | Dispersion composition, and curable composition, transparent film, microlens and solid-state imaging element using same |
| WO2014103628A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
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