JP6000942B2 - オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 - Google Patents
オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6000942B2 JP6000942B2 JP2013507233A JP2013507233A JP6000942B2 JP 6000942 B2 JP6000942 B2 JP 6000942B2 JP 2013507233 A JP2013507233 A JP 2013507233A JP 2013507233 A JP2013507233 A JP 2013507233A JP 6000942 B2 JP6000942 B2 JP 6000942B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- acid
- meth
- resin composition
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C391/00—Compounds containing selenium
- C07C391/02—Compounds containing selenium having selenium atoms bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
- C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/50—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C323/62—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/64—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/65—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton containing sulfur atoms of sulfone or sulfoxide groups bound to the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C327/00—Thiocarboxylic acids
- C07C327/20—Esters of monothiocarboxylic acids
- C07C327/28—Esters of monothiocarboxylic acids having sulfur atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
- C07D303/23—Oxiranylmethyl ethers of compounds having one hydroxy group bound to a six-membered aromatic ring, the oxiranylmethyl radical not being further substituted, i.e.
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D307/38—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D307/40—Radicals substituted by oxygen atoms
- C07D307/42—Singly bound oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5022—Aromatic phosphines (P-C aromatic linkage)
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Description
しかし、特許文献1〜3に記載のオキシムエステル化合物のうち、感度が満足できるオキシムエステル化合物は、可視光領域の透過率が低く、カラーフィルタで所望する色が得られないという問題(特に、保護膜のような透明性が求められる用途に使用する感光性組成物や、青色の顔料又は色素を用いたカラーフィルタ向けレジストでは、380〜450nmに吸収を持つ化合物が混在すると明度、色純度が低下する)があり、また、可視光領域の透過率が高いオキシムエステル化合物は、感度が十分満足できるものではないという問題があり、両特性を兼ね備える光重合開始剤が求められていた。
また、カラーフィルタ等に用いられる色材を含有する着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物は高感度であることが求められ、レジスト中における光重合開始剤を高濃度にする必要があった。しかし、高濃度の光重合開始剤は、現像性の悪化による残渣の発生や、昇華物によるフォトマスクや加熱炉の汚染等の原因となっていた。
R11、R12及びR13は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基若しくは炭素原子数2〜20の複素環基である置換基を表し、
R11、R12及びR13で表わされる置換基の水素原子は、更にOR21、COR21、SR21、NR22R23、CONR22R23、−NR22−OR23、−NR22CO−OCOR23、−C(=N−OR21)−R22、−C(=N−OCOR21)−R22、CN、ハロゲン原子、−COOR21、−CR21=CR22R23、−CO−CR21=CR22R23、−O−CO−CR21=CR22R23、−N=C=O又はエポキシ基で置換されていてもよく、
R21、R22及びR23は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基若しくは炭素原子数2〜20の複素環基である置換基を表し、
R21、R22及びR23で表される置換基の水素原子は、更にCN、ハロゲン原子、水酸基又はカルボキシル基で置換されていてもよく、
R11、R12、R13、R21、R22及びR23で表される置換基のアルキレン部分は、−O−、−S−、−COO−、−OCO−、−NR24−、−NR24COO−、−OCONR24−、−SCO−、−COS−、−OCS−又は−CSO−により1〜5回中断されていてもよく、
R24は、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、
R11、R12、R13、R21、R22及びR23で表される置換基のアルキル部分は、分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、また、R12とR13及びR22とR23はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよく、
Xは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CR31R32、CO、NR33又はPR34を表し、
R31、R32、R33及びR34は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基若しくは炭素原子数7〜30のアリールアルキル基である置換基を表し、
R31、R32、R33及びR34で表される置換基のアルキル部分は、分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、R31、R32、R33及びR34で表される置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよく、R31、R32、R33及びR34は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよく、
aは、0〜4の整数を表し、
bは、1〜5の整数を表し、
R4の少なくとも一つは、−CR21=CR22R23、−CO−CR21=CR22R23、−O−CO−CR21=CR22R23、−N=C=O又はエポキシ基を有する基である。)
また、本発明は、上記感光性組成物に、アルカリ現像性を付与する化合物を含有させてなるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供するものである。
また、本発明は、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物に、更に色材を含有させてなる着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供するものである。
即ち、本明細書において、上記一般式(1)、並びに後述する上記一般式(1)で表される化合物の好ましい形態を表す一般式(2)、及び例示化合物No.1〜No.39の化学構造式は、2つの幾何異性体のうちの一方のみを示しているが、本発明のオキシムエステル化合物は、これらの式で示される幾何異性体に限定されず、もう一方の幾何異性体でもよいし、2つの幾何異性体の混合物であってもよい。
本発明の感光性組成物は、必須成分として、(A)本発明の光重合開始剤及び(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有し、任意成分として、(C)無機化合物、(D)色材、溶媒等の成分を組み合わせて含有するものである。
即ち、上記エポキシ化合物のエポキシ基1個に対し、上記不飽和一塩基酸のカルボキシル基が0.1〜1.0個で付加させた構造を有するエポキシ付加物において、該エポキシ付加物の水酸基1個に対し、上記多塩基酸無水物の酸無水物構造が0.1〜1.0個となる比率となるようにするのが好ましい。
上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸および上記多塩基酸無水物の反応は、常法に従って行なうことができる。
また、上記酸価を有する化合物は、更に単官能又は多官能エポキシ化合物を反応させることにより酸価調整してから用いることもできる。上記酸価を有する化合物の酸価を調整することにより、感光性樹脂のアルカリ現像性を改良することができる。上記酸価を有する化合物(即ちアルカリ現像性を付与するエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物)は、固形分の酸価が5〜120mgKOH/gの範囲であることが好ましく、単官能又は多官能エポキシ化合物の使用量は、上記酸価を満たすように選択するのが好ましい。
上記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、上記一般式(3)で表されるエポキシ化合物を用いることができる他、例えば、水添ビスフェノール型エポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物も用いることができる。
また上記グリシジルエーテル類としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,8−オクタンジオールジグリシジルエーテル、1,10−デカンジオールジグリシジルエーテル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)プロパン、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)エタン、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)メタン、1,1,1,1−テトラ(グリシジルオキシメチル)メタン等を用いることができる。
その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物;3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルP−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類;1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物;ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物;ナフタレン型エポキシ化合物;トリフェニルメタン型エポキシ化合物;ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。
これらの中でも、ガラスフリット、酸化チタン、シリカ、層状粘土鉱物、銀等が好ましい。本発明の感光性組成物において、(C)無機化合物の含有量は、(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物100質量部に対して、好ましくは0.1〜1000質量部、より好ましくは10〜800質量部である。尚、これらの無機化合物は1種又は2種以上を使用することができる。
また縮合反応終了後に、前記親水性溶媒に反応混合物を溶解し、水、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の沈殿剤に添加することにより、ノボラック樹脂を析出させ、析出物を分離し、加熱乾燥することにより回収することもできる。
これらの中でも、ケトン類、エーテルエステル系溶媒等、特にプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート、シクロヘキサノン等が、感光性組成物において、レジストと光重合開始剤との相溶性がよくなるので好ましい。
本発明の感光性組成物において、溶媒の含有量は、特に制限されず、各成分が均一に分散又は溶解され、また本発明の感光性組成物が各用途に適した液状ないしペースト状を呈する量であればよいが、通常、本発明の感光性組成物中の固形分(溶媒以外の全成分)の量が10〜50質量%となる範囲で溶媒を含有させることが好ましい。
他の有機重合体を使用する場合、その使用量は、(B)エチレン性不飽和結合を有する上記重合性化合物100質量部に対して、好ましくは10〜500質量部である。
ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基又はブチル基が挙げられ、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合していてもよく、二分子間で縮合して、その結果オリゴマー成分が形成されていてもよい。
具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル等を用いることができる。
これらの中でも、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のアルキルエーテル化されたメラミンが好ましい。
(A)本発明の光重合開始剤、
(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物(重量平均分子量が2,000〜40,000、酸価が50〜200mgKOH/gであるカルボキシル基含有の重合性化合物を含むことが好ましい)、及び
(X)エポキシ化合物
を主成分とする樹脂組成物であって、
(B)成分100重量部に対して、(A)成分が本発明のオキシムエステル化合物量に換算して0.01〜2.0重量部であり、(X)成分が10〜40重量部であるものが好ましい。
<ステップ1>メタクリレート化
1−(4−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニルチオ)フェニル)プロパン−1−オン(以下、ケトン体aともいう)19.8g(65mmol)、メタクリル酸56.2g(653mmol)、パラトルエンスルホン酸一水和物5.0g(26mmol)、BHT1.2g(5.6mmol)及びジクロロエタン121gを含む溶液を10.5時間攪拌還流した。冷却後、酢酸エチルと水を加え油水分離した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、脱溶媒し下記メタクリレート体aを26.3g得た。
ステップ1で得られたメタクリレート体aの26.0g(70mmol)、濃塩酸7.3g(70mmol)及びジメチルホルムアミド70gを含む溶液を5℃に冷却し、亜硝酸イソブチル10.8g(105mmol)を加え室温で3時間攪拌した。酢酸エチルと水を加え油水分離し、有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、脱溶媒し、下記オキシム体aを23.8g得た。
ステップ2で得られたオキシム体aの23.8g(60mmol)、無水酢酸9.1g(90mmol)及び酢酸エチル79gを含む溶液を70℃で4時間攪拌した。冷却後、水を加え油水分離した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、脱溶媒した。得られた粗生成物27.2gをカラムクロマトグラムにより精製し化合物No.1を2.3g得た。得られた化合物が目的物であることは、分析により確認した。分析結果を〔表1〕〜〔表3〕に示す。
ケトン体aに代えて対応するケトン体を用い(且つ化合物No.3については、メタクリル酸に代えてアクリル酸を用い)た以外は、実施例1に記載した方法に従って、化合物No.2、化合物No.3及び化合物No.4をそれぞれ製造した。分析結果を〔表1〕〜〔表3〕に示す。
<ステップ1>アルカリ現像性樹脂〔アルカリ現像性を付与する(B)成分〕の調製
反応容器に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量231、前記一般式(3)で表されるエポキシ化合物)184g、アクリル酸58g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール0.26g、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド0.11g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート23gを仕込み、120℃で16時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート35g、ビフタル酸無水物59g及びテトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド0.24gを加えて、120℃で4時間攪拌した。更に、テトラヒドロ無水フタル酸20gを加え、120℃で4時間、100℃で3時間、80℃で4時間、60℃で6時間、40℃で11時間攪拌した後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート90gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物のアルカリ現像性樹脂No.1を得た(Mw=5000、Mn=2100、酸価(固形分)92.7mgKOH/g)。
アルカリ現像性を付与する(B)成分として<ステップ1>で得られたアルカリ現像性樹脂No.1の14.7g、(B)成分としてジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(アロニックスM−402;東亜合成(株)製)3.0g、界面活性剤FZ−2122(日本ユニカー(株)製)のシクロヘキサノン1%溶液1.8g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート10.0g、並びにシクロヘキサノン20.2gを混合し、(A)成分として実施例1で得られた化合物No.1の0.3gを添加してよく攪拌し、本発明の感光性組成物であるアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を実施例2で得られた化合物No.2に替えた以外は、実施例5の<ステップ2>と同様の手法で、本発明の感光性組成物であるアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.2を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を実施例3で得られた化合物No.3に替えた以外は、実施例5の<ステップ2>と同様の手法で、本発明の感光性組成物であるアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.3を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノンに替えた以外は、実施例5の<ステップ2>と同様の手法で、比較品であるアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.4を得た。
実施例1で得られた化合物No.1をエタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)に替えた以外は、実施例5の<ステップ2>と同様の手法で、比較品であるアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.5を得た。
得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1〜No.5の透過性試験を以下のようにして行った。
即ち、ガラス基板上にアルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(500rpmで2秒間、800rpmで6秒間)し、ホットプレートを用いて90℃で90秒間プリベークを行った。次いで、光源として高圧水銀ランプを用いて150mJ/cm2露光した後、オーブンを用いて230℃で30分間ポストベークを行って硬化膜を得た。得られた硬化膜について、吸光光度計を用いて380nmにおける透過率を測定した。結果を〔表4〕に示す。
アルカリ現像性を付与する(B)成分として実施例5の<ステップ1>で得られたアルカリ現像性樹脂No.1の14.1g、(B)成分としてジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(アロニックスM−402;東亜合成(株)製)7.1g、界面活性剤BYK−323(ビックケミー・ジャパン(株)製)0.05g、テキサノール(2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート)11.3g、(A)成分として実施例1で得られた化合物No.1の0.7g、並びに(C)成分としてガラスフリット3.1g及び銀粉63.7gを混合して攪拌後、3本ロールミルにて混練し、本発明の感光性組成物である導電性組成物No.1を得た。
<ステップ1>青色分散液の製造
青色顔料ピグメントブルー15:6の57.6g、分散剤アジスパーPB821(味の素ファインテクノ(株)製)20.0g、分散助剤ソルスパース5000(アビシア(株)製)2.4g、及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート320.0gを、500mlポリエチレン製容器に入れ、粒子径0.5mmのジルコニアビーズ350gを使用して、ペイントコンディショナーで10時間振とう後、ジルコニアビーズをろ別して青色分散液を得た。
(D)成分として<ステップ1>で得られた青色分散液の10.63g、アルカリ現像性を付与する(B)成分として実施例5の<ステップ1>で得られたアルカリ現像性樹脂No.1の2.98g、(B)成分としてジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(アロニックスM−402;東亜合成(株)製)0.31g、(B)成分としてウレタンアクリレートUN3320HS(根上工業(株)製)0.31g、界面活性剤BYK−323(ビックケミー・ジャパン(株)製)のシクロヘキサノン1%溶液0.30g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート4.70g、並びにシクロヘキサノン10.36gを混合し、(A)成分として実施例1で得られた化合物No.1の0.41gを添加して攪拌し、本発明の感光性組成物である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1を得た。
実施例1で得られた化合物No.1をエタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチル ベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)に替えた以外は実施例9の<ステップ2>と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.2を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンに替えた以外は実施例9の<ステップ2>と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.3を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−,2−(O−ベンゾイルオキシム)に替えた以外は実施例9の<ステップ2>と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.4を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノンに替えた以外は実施例9の<ステップ2>と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.5を得た。
得られた着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1〜No.3の透過性試験を以下のようにして行った。
ガラス基板上に着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(500rpm、7秒間)し、ホットプレートを用いて90℃で90秒間プリベークを行った。次いで、光源として高圧水銀ランプを用いて150mJ/cm2露光した後、オーブンを用いて230℃で30分間ポストベークを行って硬化膜を得た。耐熱性試験として、得られた硬化膜を更に260℃で1時間加熱した。耐熱性試験後の硬化膜について、吸光光度計を用いて 420nmにおける透過率を測定した。結果を〔表5〕に示す。
得られた着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1、No.3〜No.5のアウトガス性試験として、以下のようにして硬化物の重量減少率の測定を行った。
即ち、ガラス基板上に着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(500rpm、7秒間)し、ホットプレートを用いて90℃で90秒間プリベークを行った。次いで、光源として高圧水銀ランプを用いて100mJ/cm2露光して硬化膜を得た。この硬化膜を約3mg削り取り、削り取った硬化膜を試料として用い、TG−DTA(セイコーインスツル(株)製)により、230℃で30分間保持した時の重量減少率を測定した。結果を〔表6〕に示す。
(D)成分として実施例9の<ステップ1>で得られた青色分散液の10.63g、アルカリ現像性を付与する(B)成分として実施例5の<ステップ1>で得られたアルカリ現像性樹脂No.1の2.93g、(B)成分としてジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(アロニックスM−402;東亞合成(株)製)0.30g、(B)成分としてウレタンアクリレートUN3320HS(根上工業(株)製)0.30g、増感剤DETX−S(日本化薬(株)製)0.05g、界面活性剤BYK−323(ビック ケミー・ジャパン(株)製)のシクロヘキサノン1%溶液0.30g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート4.72g、並びにシクロヘキサノン10.36gを混合し、(A)成分として実施例1で得られた化合物No.1の0.41gを添加してよく攪拌し、本発明の感光性組成物である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.6を得た。
実施例1で得られた化合物No.1をエタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)に替えた以外は実施例10と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.7を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンに替えた以外は実施例10と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.8を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−,2−(O−ベンゾイルオキシム)に替えた以外は実施例10と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.9を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノンに替えた以外は実施例10と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.10を得た。
得られた着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.6〜10のフォトリソグラフィー性の評価として、以下の手順における感度、密着性及び残渣について、それぞれ以下の方法により評価を行った。結果を〔表7〕に示す。
ガラス基板上に着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(500rpm、7秒間)し、ホットプレートを用いて90℃で90秒間プリベークを行った。次いで、光源として高圧水銀ランプを用いてマスクを介して所定量(50、100又は150mJ/cm2)露光した。現像液として2.5質量%炭酸ナトリウム水溶液を用い、スピン現像機で45秒間現像後、よく水洗し、次いでオーブンを用いて230℃で30分ポストベークを行い、パターンを定着させた。
着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物の感度を、次の4段階で評価した。
即ち、形成されたパターンの線幅が、マスク開口線幅を超えた時の露光量が50mJ/cm2であった場合をa、100mJ/cm2であった場合をb、150mJ/cm2であった場合をc、150mJ/cm2でもパターンが形成されなかった場合をdとした。
(密着性)
着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物の密着性を、次の4段階で評価した。
即ち、100mJ/cm2で露光、現像した後に残ったパターンの最も細かいマスク線 幅が3μm以下であった場合をA、3μm超10μm以下であった場合をB、10μm超15μm以下であった場合をC、15μm超であった場合をDとした。
(残渣)
現像後、非露光部のガラス面に残渣が全く観察されなかった場合を○、一面に残渣が観察された場合を×とした。
(D)成分として実施例9の<ステップ1>におけるピグメントブルー15:6をカーボンブラックに変更して作製したカーボンブラック分散液の7.06g、アルカリ現像性を付与する(B)成分として実施例5の<ステップ1>で得られたアルカリ現像性樹脂No.1の3.07g、(B)成分としてジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(アロニックスM−402;東亜合成(株)製)0.53g、界面活性剤BYK−323(ビックケミー・ジャパン(株)製)のシクロヘキサノン1%溶液0.30g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート8.16g、並びにシクロヘキサノン10.69gを混合し、(A)成分として実施例1で得られた化合物No.1の0.19gを添加してよく攪拌し、本発明の感光性組成物である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.11を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を実施例2で得られた化合物No.2に替えた以外は実施例11と同様の手法で、本発明の感光性組成物である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.12を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を実施例3で得られた化合物No.3に替えた以外は実施例11と同様の手法で、本発明の感光性組成物である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.13を得た。
実施例1で得られた化合物No.1をエタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチル ベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)に替えた以外は実施例11と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.14を得た。
実施例1で得られた化合物No.1を1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−,2−(O−ベンゾイルオキシム)に替えた以外は実施例11と同様の手法で、比較品である着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.15を得た。
得られた着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.11〜15のフォトリソグラフィー性の評価として、以下の手順における感度、密着性及び現像性について、それぞれ以下の方法により評価を行った。結果を〔表8〕に示す。
ガラス基板上に着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(500rpm、7秒間)し、ホットプレートを用いて90℃で90秒間プリベークを行った。次いで、光源として高圧水銀ランプを用いてマスクを介して所定量(100又は120mJ/cm2)露光した。現像液として2.5質量%炭酸ナトリウム水溶液を用い、スピン現像機で45秒間現像後、よく水洗し、次いでオーブンを用いて230℃で30分ポストベークを行い、パターンを定着させた。
着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物の感度を、次の3段階で評価した。
即ち、形成されたパターンの線幅が、マスク開口線幅を超えた時の露光量が100mJ/cm2であった場合をa、120mJ/cm2であった場合をb、120mJ/cm2でもパターンが形成されなかった場合をcとした。
(密着性)
着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物の密着性を、次の4段階で評価した。
即ち、100mJ/cm2で露光、現像した後に残ったパターンの最も細かいマスク線幅が3μm以下であった場合をA、3μm超5μm以下であった場合をB、5μm超であった場合をCとした。
(現像性)
現像後、非露光部のガラス面に残渣が全く観察されなかった場合を○、一面に残渣が観察された場合を×とした。
本発明のオキシムエステル化合物を用いると、比較例2、3、7及び11で用いた化合物と比較して、可視光領域の透過性及び現像性に優れる。
また、本発明のオキシムエステル化合物を用いると、比較例4及び8で用いた化合物と比較して、可視光領域の透過性、耐熱性、感度及び密着性に優れる。
また、本発明のオキシムエステル化合物を用いると、比較例5、9及び12で用いた化合物と比較して、耐熱性、感度及び密着性に優れる。
また、本発明のオキシムエステル化合物を用いると、比較例1、6及び10で用いた化合物と比較して、可視光領域の透過性、耐熱性、感度及び密着性に優れる。
Claims (8)
- 下記一般式(1)で表されるオキシムエステル化合物。
R4は、OR 11 又はCOOR 11 を表し、
R 11 は、アルキル基を表し、
R11 で表わされるアルキル基の水素原子は、更に−O−CO−CR21=CR22R 23 で置換されており、
R21、R22及びR23は、それぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表し、
R11 で表されるアルキル基のアルキレン部分は、−NR24COO−により1〜5回中断されていてもよく、
R24は、水素原子又はアルキル基を表し、
前記アルキル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、t−アミル又はヘキシルであり、
Xは、酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表し、
aは、0〜1の整数を表し、
bは、1の整数を表す。) - 請求項1に記載のオキシムエステル化合物を含有してなる光重合開始剤。
- (A)請求項2に記載の光重合開始剤、及び(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有してなる感光性組成物。
- 上記(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の少なくとも一つが、アルカリ現像性を付与する化合物である請求項3に記載の感光性組成物。
- 更に(C)無機化合物を含有してなる請求項3又は4に記載の感光性組成物。
- 更に(D)色材を含有してなる請求項3〜5の何れか一項に記載の感光性組成物。
- 請求項3〜6の何れか一項に記載の感光性組成物にエネルギー線を照射してなる硬化物。
- 請求項7に記載の硬化物を用いたカラーフィルタ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011067406 | 2011-03-25 | ||
JP2011067406 | 2011-03-25 | ||
PCT/JP2012/052775 WO2012132558A1 (ja) | 2011-03-25 | 2012-02-07 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012132558A1 JPWO2012132558A1 (ja) | 2014-07-24 |
JP6000942B2 true JP6000942B2 (ja) | 2016-10-05 |
Family
ID=46930324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013507233A Active JP6000942B2 (ja) | 2011-03-25 | 2012-02-07 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6000942B2 (ja) |
KR (1) | KR101930099B1 (ja) |
CN (1) | CN103298782B (ja) |
TW (1) | TWI541221B (ja) |
WO (1) | WO2012132558A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014069197A1 (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-08 | 株式会社Adeka | アルカリ現像性感光性組成物 |
JP5337293B1 (ja) * | 2012-11-13 | 2013-11-06 | 積水化学工業株式会社 | 液晶表示素子用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子 |
JPWO2015029846A1 (ja) * | 2013-08-29 | 2017-03-02 | 積水化学工業株式会社 | 表示素子用封止剤及びオキシムエステル開始剤 |
JP6621643B2 (ja) * | 2015-10-22 | 2019-12-18 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤 |
TWI761230B (zh) | 2015-12-08 | 2022-04-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、圖案形成方法、固體攝影元件及影像顯示裝置 |
JP6788971B2 (ja) * | 2016-01-14 | 2020-11-25 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
JP2017132863A (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 積水化学工業株式会社 | オキシムエステル開始剤、硬化性樹脂組成物、液晶表示素子用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子 |
JP7041615B2 (ja) * | 2016-03-29 | 2022-03-24 | 株式会社Adeka | 黒色感光性樹脂組成物 |
WO2017200354A1 (ko) * | 2016-05-19 | 2017-11-23 | 주식회사 삼양사 | 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물 |
KR101892086B1 (ko) * | 2016-05-19 | 2018-08-27 | 주식회사 삼양사 | 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물 |
TWI772616B (zh) * | 2018-03-01 | 2022-08-01 | 日商日本化藥股份有限公司 | 新穎化合物、含有該化合物之光聚合起始劑及含有該光聚合起始劑的感光性樹脂組成物 |
TWI774931B (zh) * | 2018-03-02 | 2022-08-21 | 日商日本化藥股份有限公司 | 新穎化合物、含有該化合物的光聚合起始劑及含有該光聚合起始劑的感光性樹脂組成物 |
WO2021010683A1 (ko) * | 2019-07-12 | 2021-01-21 | 주식회사 삼양사 | 감광성 수지 조성물 |
JP2023070645A (ja) | 2021-11-09 | 2023-05-19 | 住友化学株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜及び表示装置 |
JP2023070648A (ja) | 2021-11-09 | 2023-05-19 | 住友化学株式会社 | 樹脂膜及び表示装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000080068A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-03-21 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 新規o―アシルオキシム光開始剤 |
JP2007310317A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 |
JP2009047871A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録媒体、情報記録方法および新規化合物 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101528682B (zh) * | 2006-12-27 | 2012-08-08 | 株式会社艾迪科 | 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂 |
JP5507054B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2014-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子 |
JP2011099974A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Fujifilm Corp | 着色感光性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP4818458B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2011-11-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
-
2012
- 2012-02-07 JP JP2013507233A patent/JP6000942B2/ja active Active
- 2012-02-07 CN CN201280004665.9A patent/CN103298782B/zh active Active
- 2012-02-07 KR KR1020137016528A patent/KR101930099B1/ko active IP Right Grant
- 2012-02-07 WO PCT/JP2012/052775 patent/WO2012132558A1/ja active Application Filing
- 2012-02-15 TW TW101104967A patent/TWI541221B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000080068A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-03-21 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 新規o―アシルオキシム光開始剤 |
JP2007310317A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 |
JP2009047871A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録媒体、情報記録方法および新規化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130140096A (ko) | 2013-12-23 |
WO2012132558A1 (ja) | 2012-10-04 |
KR101930099B1 (ko) | 2018-12-17 |
TW201242931A (en) | 2012-11-01 |
CN103298782A (zh) | 2013-09-11 |
TWI541221B (zh) | 2016-07-11 |
JPWO2012132558A1 (ja) | 2014-07-24 |
CN103298782B (zh) | 2016-04-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6000942B2 (ja) | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 | |
JP6595983B2 (ja) | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 | |
JP4818458B2 (ja) | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 | |
JP6301249B2 (ja) | 感光性組成物 | |
KR102160115B1 (ko) | 광경화성 조성물 | |
JP6240924B2 (ja) | 光硬化性黒色組成物 | |
JP2015007729A (ja) | 光硬化性黒色組成物 | |
JP6572213B2 (ja) | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 | |
JP6457719B2 (ja) | 光硬化性組成物 | |
JP2019168654A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2015093842A (ja) | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 | |
JP6530902B2 (ja) | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 | |
WO2017150667A1 (ja) | 着色剤分散液、着色重合性組成物及びカラーフィルタ | |
WO2018168714A1 (ja) | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 | |
JP6539476B2 (ja) | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 | |
JP2017179211A (ja) | 硬化性組成物、アルカリ現像性硬化性組成物及び硬化物並びに硬化物を製造する方法 | |
JP2016079157A (ja) | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 | |
JP6778108B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2017124998A (ja) | 化合物、組成物及び光重合開始剤 | |
JP2016130288A (ja) | 着色剤分散液、着色組成物及びカラーフィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141203 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20151217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160311 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160823 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160831 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6000942 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |