JPWO2015029846A1 - 表示素子用封止剤及びオキシムエステル開始剤 - Google Patents

Abstract

本発明は、アウトガスの発生や他材料の汚染を抑制することができ、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該表示素子用封止剤に好適に用いることができるオキシムエステル開始剤を提供することを目的とする。本発明は、１分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオールモノマー、１分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するポリエンモノマー、及び、ラジカル重合開始剤を含有し、前記ラジカル重合開始剤は、光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基と、反応性官能基とを有する化合物である表示素子用封止剤である。

Description

本発明は、アウトガスの発生や他材料の汚染を抑制することができ、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤に関する。また、本発明は、該表示素子用封止剤に好適に用いることができるオキシムエステル開始剤に関する。

近年、薄型、軽量、低消費電力等の特徴を有する表示素子として、液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子等が広く利用されている。これらの表示素子では、通常、液晶や発光層の封止、基板や光学フィルムや保護フィルムの接着等に表示素子用封止剤が用いられる。

液晶表示素子では、基板の表面に接着剤を介して偏光フィルム等の光学フィルムや保護フィルムが貼着されている。例えば、特許文献１には、アクリル系の樹脂組成物からなる偏光フィルム用の粘着剤が開示されている。
また、有機ＥＬ表示素子では、有機発光材料層や電極が外気に曝されると、その性能が急激に劣化してしまうため、有機ＥＬ表示素子の安定性や耐久性を高めるために、有機発光材料層と電極とを、無機材料膜を介して樹脂膜で被覆して封止する方法が提案されている。例えば、特許文献２には、無機材料膜の上にアクリル系の樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する方法が開示されている。

しかしながら、特許文献１や特許文献２に開示されているようなアクリル系の表示素子用封止剤は、表示素子の製造過程で残存するアクリル樹脂により多量のアウトガスを発生させたり、接着性や硬化物の透明性に劣るものであったりするという問題があった。

特開２０１０−１９６００１号公報 特開２００１−３０７８７３号公報

本発明は、アウトガスの発生や他材料の汚染を抑制することができ、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該表示素子用封止剤に好適に用いることができるオキシムエステル開始剤を提供することを目的とする。

本発明は、１分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオールモノマー、１分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するポリエンモノマー、及び、ラジカル重合開始剤を含有し、前記ラジカル重合開始剤は、光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基と、反応性官能基とを有する化合物である表示素子用封止剤である。
以下に本発明を詳述する。

本発明者は、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤として、アクリル樹脂に代えて、１分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオールモノマーと、１分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するポリエンモノマーとを含有する樹脂組成物を用いることを検討した。しかしながら、このような樹脂組成物を用いた場合でも、アウトガス発生の問題は完全には解決できなかった。また、得られた表示素子用封止剤が液晶表示素子の液晶と接触した場合に液晶を汚染したり、有機ＥＬ表示素子の有機発光材料層と接触した場合に有機発光材料層にダメージを与えたりすることがあった。
本発明者は、アウトガスの発生を充分に抑制できなかったり、他材料を汚染したりする原因が、表示素子用封止剤に含有されるラジカル重合開始剤にあると考えた。そこで本発明者は、ポリチオールモノマーとポリエンモノマーとを含有する表示素子用封止剤に特定のラジカル重合開始剤を用いることにより、アウトガスの発生や他材料の汚染を抑制することができ、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。

本発明の表示素子用封止剤は、重合性化合物として、１分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオールモノマー（以下、単に「ポリチオールモノマー」ともいう）と、１分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するポリエンモノマー（以下、単に「ポリエンモノマー」ともいう）とを含有する。これらの成分を含有する本発明の表示素子用封止剤は、接着性、及び、硬化物の透明性に優れるものとなる。
なお、本明細書において上記「炭素−炭素二重結合」は、エチレン性不飽和結合を意味する。

上記ポリチオールモノマーとしては、例えば、エタンジチオール、プロパンジチオール、ヘキサメチレンジチオール、デカメチレンジチオール等の脂肪族ポリチオールや、トリレン−２，４−ジチオール、キシレンジチオール等の芳香族ポリチオールや、下記式（１）で表される１，４−ジチアン環含有ポリチオール化合物等の環状スルフィド化合物や、エステル結合含有ポリチオール化合物や、ジグリコールジメルカプタン、トリグリコールジメルカプタン、テトラグリコールジメルカプタン、チオジグリコールジメルカプタン、チオトリグリコールジメルカプタン、チオテトラグリコールジメルカプタン、トリス−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチルイソシアヌレート、テトラエチレングリコール−ビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトール−ヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、４−（メルカプトメチル）−３，６−ジチアオクタン−１，８−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、１，３，４，６−テトラメルカプトプロピオニルグリコールウリル等のその他のポリチオールモノマー等が挙げられる。これらのポリチオールモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

式（１）中、ｌは、１〜５の整数を表す。

上記式（１）で表される１，４−ジチアン環含有ポリチオール化合物としては、具体的には例えば、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトエチル−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトプロピル−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトブチル−１，４−ジチアン等が挙げられる。

上記ポリチオールモノマーのなかでも、得られる表示素子用封止剤が透明性に優れるものとなるため、エステル結合含有ポリチオールモノマーが好ましい。

上記エステル結合含有ポリチオールモノマーとしては、具体的には例えば、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリス−（（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル）−イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）等が挙げられる。
なかでも、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトール−ヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ジチアン環含有ポリチオール化合物が好ましく、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトール−ヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）がより好ましい。

また、上記ポリチオールモノマーは、１分子中に３個以上のチオール基を有するモノマー（３官能以上のポリチオールモノマー）を含有することが好ましい。
上記３官能以上のポリチオールモノマーとしては、１分子中に３〜２０個のチオール基を有するモノマーが好ましく、１分子中に３〜８個のチオール基を有するモノマーを含有がより好ましい。

上記重合性化合物全体１００重量部中における上記ポリチオールモノマーの含有量の好ましい下限は１重量部、好ましい上限は８９重量部である。上記ポリチオールモノマーの含有量が１重量部未満であると、塗工性が悪化することがある。上記ポリチオールモノマーの含有量が８９重量部を超えると、アウトガスの発生を充分に抑制できなくなることがある。上記ポリチオールモノマーの含有量のより好ましい下限は５重量部、より好ましい上限は６９重量部である。

上記ポリエンモノマーとしては、例えば、（メタ）アリル化合物、（メタ）アクリル化合物、ジビニルベンゼン等が挙げられる。これらのポリエンモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、本明細書において、上記「（メタ）アリル」とはアリル又はメタリルを意味し、上記「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味する。

上記（メタ）アリル化合物としては、例えば、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレート、ジアリルマレエート、ジアリルアジペート、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、テトラアリルピロメリテート、グリセリンジアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトール、ジアリルエーテル、１，３−ジアリル−５−グリシジルイソシアヌレート、１，３，４，６−テトラアリルグリコールウリル、１，３，４，６−テトラアリル−３ａ−メチルグリコールウリル、１，３，４，６−テトラアリル−３ａ，６ａ−ジメチルグリコールウリル等が挙げられる。なかでも、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、１，３，４，６−テトラアリルグリコールウリルが好ましい。

上記（メタ）アクリル化合物としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基を１分子中に２個以上有する化合物であれば特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物との反応により得られるエポキシ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
なお、本明細書において、上記「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、上記「エポキシ（メタ）アクリレート」とは、エポキシ化合物中の全てのエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させた化合物のことを表す。

上記エポキシ（メタ）アクリレートは特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応させることにより得られるものが挙げられる。
上記エポキシ（メタ）アクリレートの原料となるエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ化合物、水添ビスフェノール型エポキシ化合物、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、レゾルシノール型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物、スルフィド型エポキシ化合物、ジフェニルエーテル型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、オルトクレゾールノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、アルキルポリオール型エポキシ化合物、ゴム変性型エポキシ化合物、グリシジルエステル化合物、ビスフェノールＡ型エピスルフィド化合物等が挙げられる。

上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物のうち、２官能のものとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエンルジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、上記エステル化合物のうち、３官能以上のものとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。

また、上記ポリエンモノマーは、１分子中に３個以上の炭素−炭素二重結合を有するモノマー（３官能以上のポリエンモノマー）を含有することが好ましい。
上記３官能以上のポリエンモノマーとしては、１分子中に３〜２０個の炭素−炭素二重結合を有するモノマーが好ましく、１分子中に３〜８個の炭素−炭素二重結合を有するモノマーがより好ましい。

上記重合性化合物全体１００重量部中における上記ポリエンモノマーの含有量の好ましい下限は１重量部、好ましい上限は８９重量部である。上記ポリエンモノマーの含有量が１重量部未満であると、塗工性が悪化することがある。上記ポリエンモノマーの含有量が８９重量部を超えると、ポリエンモノマーの未反応物が残りアウトガスが発生することがある。上記ポリエンモノマーの含有量のより好ましい下限は５重量部、より好ましい上限は７９重量部、更に好ましい上限は６９重量部である。

得られる表示素子用封止剤の硬化物が高い弾性率を有し、透明性や接着性に優れるものとなることから、上記ポリチオールモノマー及び／又は上記ポリエンモノマーとして、シロキサン結合を有するものも好適に用いられる。

上記シロキサン結合は、シルセスキオキサン由来のものであることが好ましい。
即ち、上記シロキサン結合を有するポリチオールモノマーは、１分子中に２個以上のチオール基を有するシルセスキオキサン樹脂（以下、「チオール基含有シルセスキオキサン樹脂」ともいう）であることが好ましく、上記シロキサン結合を有するポリエンモノマーは、反応性官能基を１分子中に２個以上有するシルセスキオキサン樹脂（以下、「反応性官能基含有シルセスキオキサン樹脂」ともいう）であることが好ましい。

上記ポリチオールモノマーとなるチオール基含有シルセスキオキサン樹脂は、下記式（２）で表されるチオール基含有シラン化合物の加水分解縮合物（以下、「加水分解縮合物（ａ）」ともいう）であることが好ましい。上記ポリチオールモノマーとして、上記加水分解縮合物（ａ）を用いる場合、得られる樹脂組成物の硬化物の透明性や、弾性率や、接着性を更に高めることができる。

式（２）中、Ｒ^１は、チオール基を有しかつ芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又は、チオール基を有しかつ芳香環を有する有機基を表し、Ｒ^２は、水素原子、芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又は、芳香環を有する有機基を表す。

上記Ｒ^１としては、具体的には例えば、チオール基を有する炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、チオール基を有する炭素数１〜８の脂環式炭化水素基、チオール基を有する芳香族炭化水素基等が挙げられる。なお、上記Ｒ^１における炭化水素基は、炭素原子と水素原子とだけでなく、チオール基に由来する硫黄原子も含む基である。
上記Ｒ^２としては、具体的には例えば、水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜８の脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
上記Ｒ^２は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

上記式（２）で表されるチオール基含有シラン化合物を加水分解及び縮合させることにより、加水分解縮合物（ａ）を得ることができる。すなわち、加水分解反応及び縮合反応により、加水分解縮合物（ａ）を得ることができる。

上記式（２）で表されるチオール基含有シラン化合物としては、例えば、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリブトキシシラン、１，４−ジメルカプト−２−（トリメトキシシリル）ブタン、１，４−ジメルカプト−２−（トリエトキシシリル）ブタン、１，４−ジメルカプト−２−（トリプロポキシシリル）ブタン、１，４−ジメルカプト−２−（トリブトキシシリル）ブタン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリブトキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリメトキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリエトキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリプロポキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリブトキシシラン等が挙げられる。なかでも、加水分解反応の反応性が高く、かつ入手が容易であるため、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましい。上記式（２）で表されるチオール基含有シラン化合物は、単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

また、上記加水分解縮合物（ａ）を得るに際し、上記チオール基含有シラン化合物に加えて、他の架橋性化合物を用いてもよい。

上記他の架橋性化合物としては、トリアルキルアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラアルコキシチタン、テトラアルコキシジルコニウム等が挙げられる。
上記他の架橋性化合物として、トリアルキルアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、テトラアルコキシシランを使用した場合、加水分解縮合物（ａ）の架橋密度を容易に調整できる。
また、上記他の架橋性化合物としてアルキルトリアルコキシシランを使用した場合、加水分解縮合物（ａ）に含まれるチオール基の数を容易に調整できる。
上記他の架橋性化合物としてテトラアルコキシチタン又はテトラアルコキシジルコニウムを使用した場合、得られる樹脂組成物の硬化物の屈折率を高めることができる。
上記他の架橋性化合物は、単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

上記トリアルキルアルコキシシランとしては、例えば、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン等が挙げられる。
上記ジアルキルジアルコキシシランとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
上記アルキルトリアルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
上記テトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
上記テトラアルコキシチタンとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等が挙げられる。
上記テトラアルコキシジルコニウムとしては、例えば、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等が挙げられる。

上記加水分解縮合物（ａ）を得るための加水分解反応では、触媒を用いることが好ましい。
上記触媒としては、従来公知の触媒を用いることができ、特に限定されないが、触媒活性が高く、縮合反応の触媒としても機能するので、ギ酸であることが好ましい。

上記触媒の含有量は、上記チオール基含有シラン化合物１００重量部、又は、上記チオール基含有シラン化合物と上記他の架橋性化合物との合計１００重量部に対して、好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が２５重量部である。上記触媒の含有量が０．１重量部未満であると、触媒効果が充分に発揮されないことがある。上記触媒の含有量が２５重量部を超えると、チオール基を含有するシルセスキオキサン樹脂の保存安定性が低くなったり、後工程で触媒を容易に除去でなかったりすることがある。上記触媒の含有量のより好ましい下限は１重量部、より好ましい上限は１０重量部である。

上記加水分解反応の反応温度及び反応時間は、上記チオール基含有シラン化合物の反応性、又は、上記チオール基含有シラン化合物及び上記他の架橋性化合物の反応性に応じて任意に設定できる。
上記反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃であり、上記反応時間は、１分〜２時間程度である。

上記加水分解反応の際には、溶剤を用いてもよい。
上記溶剤の種類は特に限定されないが、後述する縮合反応に用いられる溶剤と同じであることが好ましい。
上記チオール基含有シラン化合物の反応性、又は、上記チオール基含有シラン化合物及び上記他の架橋性化合物の反応性が低い場合は、上記加水分解反応の際に、溶剤を用いないことが好ましい。

上記加水分解により生じた水酸基間だけでなく、該水酸基と残存アルコキシ基との間でも縮合反応が進行するため、上記加水分解反応は、［加水分解反応により生じた水酸基のモル数］／［上記チオール基含有シラン化合物、又は、上記チオール基含有シラン化合物と上記他の架橋性化合物を含む組成物に含まれるアルコキシ基の合計モル数］（以下、「モル比Ａ」ともいう）が０．５以上となるように進行させることが好ましい。上記モル比Ａは０．８以上であることがより好ましい。

上記縮合反応では、加水分解により生じた水酸基間で水が生成し、更に、水酸基とアルコキシ基間でアルコールが生成する。この縮合反応により、加水分解縮合物（ａ）はガラス化する。

上記縮合反応では、従来公知の縮合触媒を用いることができる。ギ酸は、触媒活性が高く、加水分解反応の触媒としてだけでなく、縮合反応の触媒としても作用する。従って、上記縮合触媒は、ギ酸であることが好ましい。

上記縮合反応での反応温度及び反応時間はそれぞれ、上記チオール基含有シラン化合物の反応性、又は、上記チオール基含有シラン化合物及び上記他の架橋性化合物の反応性に応じて任意に設定できる。
上記反応温度は、通常４０〜１５０℃程度、好ましくは６０〜１００℃であり、上記反応時間は、３０分〜１２時間程度である。

未反応の水酸基とアルコキシ基とが、樹脂組成物の保管中に縮合反応してゲル化し難くなり、更に、硬化物において縮合反応が進行し難くなり、クラックが発生し難くなることから、上記縮合反応は、［未反応の水酸基と未反応のアルコキシ基との合計モル数］／［上記チオール基含有シラン化合物、又は、上記チオール基含有シラン化合物と上記他の架橋性化合物を含む組成物に含まれるアルコキシ基の合計モル数］（以下、「モル比Ｂ」ともいう）が０．３以下となるように進行させることが好ましい。上記モル比Ｂは０．２以下であることがより好ましい。

上記縮合反応における、上記チオール基含有シラン化合物、又は、上記チオール基含有シラン化合物及び上記他の架橋性化合物の合計の濃度の好ましい下限は２重量％、好ましい上限は８０重量％である。上記濃度が上記範囲内にある場合には、反応中にゲル化し難くなり、加水分解縮合物（ａ）の分子量が大きくなりすぎず、加水分解縮合物（ａ）の保存安定性がより一層高くなる。上記濃度のより好ましい下限は１５重量％、より好ましい上限は６０重量％である。

上記縮合反応においては、上記縮合反応によって生成する水及びアルコールよりも沸点が高い溶剤を用いることが好ましい。この場合には、反応系中から、溶剤を容易に除去できる。上記溶剤は、単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。また、上記他の架橋性化合物を溶剤として用いることもできる。

上記縮合反応の後に、触媒を除去することが好ましい。触媒の除去により、加水分解縮合物（ａ）の保存安定性を高めることができる。上記触媒の除去方法は、触媒の種類に応じて公知方法を適宜に選択でき、触媒の沸点以上に加熱する方法、減圧する方法等が挙げられる。上記触媒がギ酸である場合には、これらの方法によりギ酸を容易に除去できる。

上記ポリエンモノマーとなる反応性官能基含有シルセスキオキサン樹脂としては、上記チオール基含有シルセスキオキサン樹脂のチオール基を炭素−炭素二重結合を有する基としたもの等が挙げられる。
具体的には、上記式（２）におけるＲ^１を、上記反応性官能基又は上記反応性官能基を含む基とした反応性官能基含有シラン化合物の加水分解縮合物（以下、「加水分解縮合物（ｂ）」ともいう）であることが好ましい。上記ポリエンモノマーとして、上記加水分解縮合物（ｂ）を用いる場合、得られる樹脂組成物の硬化物の透明性や、弾性率や、接着性を更に高めることができる。
上記加水分解縮合物（ｂ）は、上記チオール基含有シラン化合物を反応性官能基含有シラン化合物とすること以外は、上記加水分解縮合物（ａ）と同様にして作製することができる。

上記シロキサン結合を有するポリエンモノマーのうち、その他のものとしては、例えば、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、１，３−ジビニルプロパンジシロキサン、１，５−ビス［２−（２，３−エポキシノルボルナン−５−イル）エチル］−１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルペンタントリシロキサン、１，３，５，７，９，１１，１３，１５−オクタキス［２−（トリアリルシリル）エチル］ペンタシクロ［９．５．１．１３，９．１５，１５．１７，１３］イコサンオクタシロキサン、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサンと１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンと２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサンの１，３−ビス（２−｛４，６，８−トリス［２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル］−２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン−２−イル｝エチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ビスメタクリル酸オキシビス［ジメチルシリレン（３，１−プロパンジイル）］、１，５−ジメタクリロキシヘキサメチルトリシロキサン等が挙げられる。

上記シロキサン結合を有するポリエンモノマーのうち市販されているものとしては、例えば、ＡＣ−ＳＱシリーズ（東亞合成社製）等が挙げられる。

上記ポリチオールモノマーと上記ポリエンモノマーとの配合割合としては、上記ポリチオールモノマーのチオール基と、上記ポリエンモノマーの炭素−炭素二重結合とのモル比がチオール基：炭素−炭素二重結合＝３：１〜１：３となる範囲で配合することが好ましく、チオール基：炭素−炭素二重結合＝２：１〜１：２となる範囲で配合することがより好ましい。

本発明の表示素子用封止剤は、上記重合性化合物として、上記ポリエンモノマーに加えて、ポリエンオリゴマーを含有することが好ましい。上記ポリエンオリゴマーを含有することにより、アウトガスの発生を抑制する効果や塗布性を向上させることができる。
なお、本明細書において、上記「ポリエンオリゴマー」は、上記「ポリエンモノマー」には含まれない。

上記ポリエンオリゴマーに由来するポリエンモノマーとしては、上述した、（メタ）アリル化合物（メタ）アクリル化合物、ジビニルベンゼン等が挙げられる。

上記ポリエンオリゴマーを製造する方法としては、例えば、上記ポリエンモノマーを、後述するラジカル重合開始剤等の存在下で反応させる方法等が挙げられる。上記ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤が挙げられ、熱ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。

上記ポリエンオリゴマーの重量平均分子量の好ましい下限は３００、好ましい上限は２万である。上記ポリエンオリゴマーの重量平均分子量が３００未満であると、アウトガスの発生を抑制する効果を充分に向上させることができないことがある。上記ポリエンオリゴマーの重量平均分子量が２万を超えると、得られる表示素子用封止剤の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪化することがある。上記ポリエンオリゴマーの重量平均分子量のより好ましい下限は４００、より好ましい上限は４０００である。
なお、本明細書において、上記「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定を行い、ポリスチレン換算により求められる値である。ＧＰＣによってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際に用いるカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。

上記重合性化合物全体１００重量部中における上記ポリエンオリゴマーの含有量の好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は９０重量部である。上記ポリエンオリゴマーの含有量が３０重量部未満であると、アウトガスの発生を更に抑制する効果が充分に発揮されなかったりする。上記ポリエンオリゴマーの含有量が９０重量部を超えると、得られる表示素子用封止剤の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪化することがある。上記チオエーテルオリゴマーの含有量のより好ましい下限は３５重量部、より好ましい上限は８０重量部である。

本発明の表示素子用封止剤は、ポリチオールモノマーとポリエンモノマーとの反応により形成されるチオエーテルオリゴマーを含有することが好ましい。上記チオエーテルオリゴマーを形成することにより、アウトガスの発生を抑制することができる。更に、上記チオエーテルオリゴマーを含有することにより、表示素子用封止剤の粘度が適度に高くなり、塗工時にムラが生じにくくなる。

上記チオエーテルオリゴマーは、上記ポリチオールモノマーと、上記ポリチオールモノマーに対してモル比で３：１〜１：３となる範囲の上記ポリエンモノマーとを、ラジカル重合開始剤の存在下で光照射や加熱により付加重合反応させることにより重合体として反応混合物中に得られる。上記ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤が挙げられ、熱ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。
なお、上記チオエーテルオリゴマーは、未反応チオール基や未反応炭素−炭素二重結合を含んでいてもよいし、未反応チオール基や未反応炭素−炭素二重結合を含んでいなくてもよい。即ち、上記ポリチオールモノマーと上記ポリエンモノマーとの付加重合反応を充分に進めて得られる未反応チオール基や未反応炭素−炭素二重結合を含まないオリゴマーであってもよいし、該付加重合反応の途中で反応を停止させることにより得られる未反応チオール基や未反応炭素−炭素二重結合を含むオリゴマーであってもよい。

上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物、有機過酸化物等からなるものが挙げられる。
上記アゾ化合物としては、例えば、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。
上記有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。
また、上記光ラジカル重合開始剤としては、後述する本発明の表示素子用封止剤に含有される光ラジカル重合開始剤と同様のものを用いることができる。

上述したポリチオールモノマーとポリエンモノマーとの付加重合反応において、ポリエンモノマーの炭素−炭素二重結合のモル数に対するポリチオールモノマーのチオール基のモル数（チオール基のモル数／炭素−炭素二重結合のモル数）が０．１５以下である場合は、通常、得られる反応混合物中にポリエンモノマーが未反応成分として残る。

なお、本発明の表示素子用封止剤は、上述したポリチオールモノマーとポリエンモノマーとの付加重合反応において、付加重合反応の途中で反応を停止させることにより得られるポリチオールモノマーとポリエンモノマーとチオエーテルオリゴマーの混合物にラジカル重合開始剤を含有させたものであってもよい。
また、上記チオエーテルオリゴマーは、予め作製したものをポリチオールモノマー及びポリエンモノマーと混合してもよい。
上記チオエーテルオリゴマーを予め作製する場合、上記チオエーテルオリゴマーの原料となるポリチオールモノマー及びポリエンモノマーは、上述した、本発明の表示素子用封止剤に含有されるポリチオールモノマー及びポリエンモノマーと同一のものであってもよいし、異なるものであってもよい。

上記チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量の好ましい下限は５００である。上記チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量が５００未満であると、得られる表示素子用封止剤の塗工時のムラを防止する効果が充分に発揮されないことがある。上記チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量は１５００を超えることがより好ましく、２０００以上であることが更に好ましい。
また、上記チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量の好ましい上限は４万である。上記チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量が４万を超えると、得られる表示素子用封止剤が、粘度が高くなりすぎて塗工性に劣るものとなる。上記チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量のより好ましい上限は１万、更に好ましい上限は８０００である。

上記重合性化合物全体１００重量部中における上記チオエーテルオリゴマーの含有量の好ましい下限は３０重量部である。上記チオエーテルオリゴマーの含有量が３０重量部未満であると、アウトガスの発生を充分に抑制することができなかったり、得られる表示素子用封止剤の塗工時のムラを防止する効果が充分に発揮されなかったりする。上記チオエーテルオリゴマーの含有量のより好ましい下限は３５重量部、更に好ましい下限は４０重量部である。
また、上記重合性化合物全体１００重量部中における上記チオエーテルオリゴマーの含有量の好ましい上限は９０重量部である。上記チオエーテルオリゴマーの含有量が９０重量部を超えると、得られる表示素子用封止剤の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪化することがある。上記チオエーテルオリゴマーの含有量のより好ましい上限は８０重量部である。

本発明の表示素子用封止剤全体中における、ポリチオールモノマーの含有量は５〜４０重量％であり、ポリエンモノマーの含有量は５〜４０重量％であり、チオエーテルオリゴマーの含有量は３０〜９０重量％であることが好ましい。上記ポリチオールモノマー、上記ポリエンモノマー、及び、上記チオエーテルオリゴマーの含有量がこの範囲であることにより、アウトガスの発生を抑制する効果、塗工性、接着性、及び、硬化物の透明性の全てにおいて、充分な効果を発揮できるものとなる。

本発明の表示素子用封止剤は、本発明の目的を阻害しない範囲において、上記ポリチオールモノマー、上記ポリエンモノマー、上記ポリエンオリゴマー、及び、上記チオエーテルオリゴマー以外のその他の重合性化合物を含有してもよい。
上記その他の重合性化合物としては、光又は熱で硬化反応するものであれば特に限定されず、例えば、上述したエポキシ（メタ）アクリレートの原料となるエポキシ化合物や、部分（メタ）アクリル変性エポキシ化合物等が挙げられる。
なお、本明細書において上記「部分（メタ）アクリル変性エポキシ化合物」とは、１分子中に１個以上のエポキシ基と１個の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物を意味する。また、本明細書において上記「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。
上記部分（メタ）アクリル変性エポキシ化合物は、例えば、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物の１個のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得ることができる。

本発明の表示素子用封止剤は、ラジカル重合開始剤を含有する。
上記ラジカル重合開始剤は、光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基と、反応性官能基とを有する化合物（以下、「本発明にかかるラジカル重合開始剤」ともいう）である。本発明にかかるラジカル重合開始剤は、上記光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基により開始剤としての性能を発揮しつつ、上記反応性官能基を有することにより硬化物中に取り込まれるため、アウトガスの発生を充分に抑制することができる。
上記ラジカル重合開始剤は、光照射によりラジカルを発生する官能基と、反応性官能基とを有する化合物であることが好ましい。
また、本発明の表示素子用封止剤は、光重合開始剤を含有することが好ましく、該光重合開始剤として、光照射によりラジカルを発生する官能基と、反応性官能基とを有する化合物を含有することがより好ましい。

上記光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基としては、例えば、アシルホスフィンオキサイド系官能基、α−アミノアルキルフェノン系官能基、ベンジルケタール系官能基、α−ヒドロキシアルキルフェノン系官能基、ベンゾイン系官能基、オキシムエステル系官能基、チタノセン系官能基、有機過酸化物系官能基、アゾ化合物系官能基等が挙げられる。なかでも、光硬化性の観点から、アシルホスフィンオキサイド系官能基、α−アミノアルキルフェノン系官能基、ベンジルケタール系官能基、α−ヒドロキシアルキルフェノン系官能基、ベンゾイン系官能基、オキシムエステル系官能基、チタノセン系官能基からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましく、アシルホスフィンオキサイド系官能基であることがより好ましい。これらの官能基は単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わせて用いられてもよい。
ここで、上記アシルホスフィンオキサイド系官能基とは、アシルホスフィンオキサイド又はその一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記α−アミノアルキルフェノン系官能基とは、α−アミノアルキルフェノン又はその一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記ベンジルケタール系官能基とは、α−ジヒドロキシアセトフェノン又はその一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記α−ヒドロキシアルキルフェノン系官能基とは、α−モノヒドロキシアルキルフェノン又はその水酸基以外の一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記ベンゾイン系官能基とは、ベンゾイン又はその一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記オキシムエステル系官能基とは、Ｎ−アセチルジメチルオキシム又はその一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記チタノセン系官能基とは、チタノセン又はその一部が別の基に置換した構造を有する基を意味する。上記有機過酸化物系官能基とは、ペルオキシ基を有する基を意味する。上記アゾ化合物系官能基とは、アゾ基を有する基を意味する。

上記アシルホスフィンオキサイド系官能基としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
上記α−アミノアルキルフェノン系官能基としては、例えば、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、１，２−（ジメチルアミノ）−２−（（４−メチルフェニル）メチル）−１−（４−（４−モルホリニル）フェニル）−１−ブタノン等が挙げられる。
上記ベンジルケタール系官能基としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等が挙げられる。
上記α−ヒドロキシアルキルフェノン系官能基としては、例えば、２−ヒロドキシ−１−（４−（４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル）フェニル）−２−メチル−プロパン−１−オン等が挙げられる。
上記ベンゾイン系官能基としては、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
上記オキシムエステル系官能基としては、例えば、１，２−オクタンジオン−１−（４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム））、エタノン−１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。
上記チタノセン系官能基としては、例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等が挙げられる。

上記反応性官能基としては、チオール基及び／又は炭素−炭素二重結合であることが好ましい。上記反応性官能基としてチオール基及び／又は炭素−炭素二重結合を有することにより、本発明にかかるラジカル重合開始剤は、硬化物中に取り込まれやすいものとなる。

本発明にかかるラジカル重合開始剤は、側鎖に上記反応性官能基を有することが好ましい。側鎖に上記反応性官能基を有することにより、本発明にかかるラジカル重合開始剤は、より硬化物中に取り込まれやすいものとなる。

本発明にかかるラジカル重合開始剤は、上記反応性官能基を１分子中に２個以上有することが好ましい。上記反応性官能基を１分子中に２個以上有することにより、本発明にかかるラジカル重合開始剤は、より硬化物中に取り込まれやすいものとなる。
なお、上記光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基を有し、かつ、上記反応性官能基として炭素−炭素二重結合を有する官能基を１分子中に２個以上有する化合物は、上記ポリエンモノマーではなく、本発明にかかるラジカル重合開始剤とする。

本発明の表示素子用封止剤は、光反応性に優れ、アウトガスの発生等の悪影響を抑制することができることから、本発明にかかるラジカル重合開始剤として下記式（３）で表される化合物であるオキシムエステル開始剤を含有することが好ましい。下記式（３）で表される化合物であるオキシムエステル開始剤もまた、本発明の１つである。

式（３）中、Ｒ^３は、フェニル基（炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルキル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／若しくは、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／若しくは、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基（炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^１０基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、−ＣＯＮＲ^１２Ｒ^１３基、−ＣＮ基、−ＮＯ_２基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数１〜６の−Ｓ（Ｏ）_ｍ−アルキル基、炭素数６〜１２の−Ｓ（Ｏ）_ｍ−アリール基（炭素数１〜１２のアルキル基により置換されていてもよい）、炭素数１〜６の−ＳＯ_２Ｏ−アルキル基、炭素数６〜１０の−ＳＯ_２Ｏ−アリール基、又は、ジフェニルホスフィノイル基であり、ｍは、１又は２である。
Ｒ^４及びＲ^７は、それぞれ独立して、反応性官能基、水素結合性官能基を有する基、水素原子、炭素数３〜２０のカルボアルコキシアルキル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／又は、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／又は、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、−ＳＯＲ^１１基、−ＳＯ_２Ｒ^１１基、或いは、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基（ここで、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基は、フェニル環の有する置換基若しくはフェニル環の炭素原子の一つと、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び／若しくは、Ｒ^１３を介して５員環又は６員環を形成していてもよい）である。ただし、Ｒ^４及びＲ^７の少なくとも一方は、反応性官能基である。
Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８、及び、Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、若しくは、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基により置換されていてもよい）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／若しくは、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、−ＳＯＲ^１１基、−ＳＯ_２Ｒ^１１基、又は、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基であり、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基は、フェニル環の有する置換基又はフェニル環の炭素原子の一つと、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び／又は、Ｒ^１３を介して５員環又は６員環を形成していてもよい。
Ｒ^１０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜６のアルキル基（−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＣＮ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケンオキシ基、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＮ基、炭素数４〜７の−ＯＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＯ）Ｏ−アルキル基、炭素数２〜５の−Ｏ（ＣＯ）−アルキル基、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル基、−（ＣＯ）ＯＨ基、若しくは、炭素数２〜５の−（ＣＯ）Ｏ−アルキル基で置換されている）、炭素数２〜６のアルキル基（１個以上の酸素原子により中断されている）、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＨ基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、若しくは、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよい）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ（炭素数１〜８のアルキル）_ｒ（フェニル）_３−ｒ基、又は、下記式（４）で表される基のいずれかである。ｎは、１〜２０であり、ｒは、１〜３である。
Ｒ^１１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜６のアルキル基（−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＣＮ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケンオキシ基、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＮ基、炭素数４〜７の−ＯＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＯ）Ｏ−アルキル基、炭素数２〜５の−Ｏ（ＣＯ）−アルキル基、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル基、−（ＣＯ）ＯＨ基、若しくは、炭素数２〜５の−（ＣＯ）Ｏ−アルキル基で置換されている）、炭素数２〜１２のアルキル基（１個以上の酸素原子若しくは硫黄原子により中断されている）、フェニル基（ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、若しくは、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよい）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、又は、下記式（５）で表される基のいずれかである。
Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（炭素数１〜１２のアルキル基若しくは炭素数１〜４のアルコキシ基により置換されている）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基、或いは、Ｒ^１２及びＲ^１３が１つの基となった炭素数２〜６のアルキレン基（酸素原子若しくは−ＮＲ^１０−基により中断、及び／又は、ヒドロキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基、若しくは、ベンゾイルオキシ基で置換されていてもよい）である。Ｒ^１２が水素原子である場合、Ｒ^１３は、下記式（６）で表される基であってもよい。

式（４）中、Ｒ^３及びＲ^４は、式（３）と同じものが挙げられる。Ｍ^１は、結合手、又は、炭素数１〜１２のアルキレンオキシ基（１〜５個の酸素原子、硫黄原子、及び／若しくは、−ＮＲ^１２−基により中断されていてもよい）である。

式（５）中、Ｒ^３及びＲ^４は、式（３）と同じものが挙げられる。Ｍ^２は、結合手、又は、炭素数１〜１２のアルキレン−Ｓ−基（１〜５個の酸素原子、硫黄原子、及び／若しくは、−ＮＲ^１２−基により中断されていてもよい）である。

式（６）中、Ｒ^３及び、Ｒ^４は、式（３）と同じものが挙げられる。Ｍ^３は、結合手、ピペラジノ基、又は、炭素数１〜１２のアルキレン−ＮＨ−基（１〜５個の酸素原子、硫黄原子、及び／若しくは、−ＮＲ^１２−基により中断されていてもよい）である。

本発明のオキシムエステル開始剤は、上記式（３）で表される化合物である。
以下、置換基についての説明は、特に指定しない限り、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び、Ｒ^１３のそれぞれ該当するものに共通する事項についての説明である。

上記フェニル基が置換されている場合、該フェニル基は、１〜４個の置換基にて置換されており、１〜３個置換されていることが好ましく、２個置換されていることがより好ましい。フェニル環の置換基は、フェニル環の４−位、３，４−位、３，４，５−位、２，６−位、２，４−位、又は、２，４，６−位に位置することが好ましく、４−位又は３，４−位に位置することがより好ましい。

上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等のうち、炭素原子の相当する数のものが挙げられる。

上記炭素数２〜２０のアルキル基が１個以上の酸素原子により中断されている場合、１個以上の酸素原子により中断された炭素数２〜２０のアルキル基としては、例えば、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_３基、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙ−ＣＨ_３基（ここで、ｙは、１〜９である）、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_７−ＣＨ_２ＣＨ_３基、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３基、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_３基、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_３基、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_３基等が挙げられる。

上記炭素数２〜２０のアルキル基が１個以上のヒドロキシル基により置換されている場合、１個以上のヒドロキシル基により置換された炭素数２〜２０のアルキル基としては、例えば、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、２，４−ジヒドロキシブチル基等が挙げられる。

上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基等のうち、炭素原子の相当する数のものが挙げられる。なかでも、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましく、シクロヘキシル基がより好ましい。

上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基等のうち、炭素原子の相当する数のものが挙げられる。

上記炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、プロポキシプロピル基等が挙げられる。

上記アルカノイル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、イソブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イコサノイル基等のうち、炭素原子の相当する数のものが挙げられる。なかでも、アセチル基が好ましい。

上記炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、イソブタノイルオキシ基等が挙げられる。なかでも、アセチルオキシ基が好ましい。

上記炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシオカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、１，１−ジメチルプロポキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。なかでも、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基がより好ましい。

上記フェノキシカルボニル基が置換されている場合、該フェノキシカルボニル基は、１〜４個の置換基にて置換されており、１〜３個置換されていることが好ましく、２個置換されていることがより好ましい。フェニル環の置換基は、フェニル環の４−位、３，４−位、３，４，５−位、２，６−位、２，４−位、又は、２，４，６−位に位置することが好ましく、４−位又は３，４−位に位置することがより好ましい。

上記炭素数７〜９のフェニルアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基等が挙げられる。なかでも、ベンジル基が好ましい。

上記アルケニル基としては、例えば、アリル基、メタリル基、１，１−ジメチルアリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、５−ヘキセニル基、７−オクテニル基、ドデシル基等のうち、炭素原子の相当する数のものが挙げられる。なかでも、アリル基が好ましい。

上記炭素数３〜６のアルケンオキシ基としては、例えば、アリルオキシ基、メタリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペンテンオキシ基、１，３−ペンタジエニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。

上記炭素数３〜６のアルケノイル基としては、例えば、プロペノイル基、２−メチル−プロペノイル基、ブテノイル基、ペンテノイル基、１，３−ペンタジエノイル基、５−ヘキセノイル基等が挙げられる。

上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。なかでも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子がより好ましい。

上記アリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のうち、炭素原子の相当する数のものが挙げられる。なかでも、フェニル基が好ましい。

Ｒ^３は、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましい。
また、上記式（３）中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８、及び、Ｒ^９は、水素原子であることが好ましい。

上記式（３）中、Ｒ^４及びＲ^７は、それぞれ独立して、反応性官能基、水素結合性官能基を有する基、水素原子、炭素数３〜２０のカルボアルコキシアルキル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／又は、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／又は、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、−ＳＯＲ^１１基、−ＳＯ_２Ｒ^１１基、或いは、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基（ここで、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基は、フェニル環の有する置換基若しくはフェニル環の炭素原子の一つと、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び／若しくは、Ｒ^１３を介して５員環又は６員環を形成していてもよい）である。ただし、Ｒ^４及びＲ^７の少なくとも一方は、反応性官能基である。

本発明のオキシムエステル開始剤の有する反応性官能基は、上記重合性化合物と反応し得る官能基を意味する。
上記式（３）中、Ｒ^４及びＲ^７の少なくとも一方が反応性官能基であることにより、本発明のオキシムエステル開始剤を重合性化合物の重合反応に用いた際に、該重合反応を開始させるとともに、重合性化合物と反応して硬化物中に取り込まれるため、アウトガスの発生や、液晶等へ溶出することによる汚染を充分に抑制することができる。
Ｒ^４及びＲ^７は、両方が反応性官能基であることが好ましい。

本発明のオキシムエステル開始剤の有する反応性官能基としては、例えば、ビニル基、チオール基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基等が挙げられる。なかでも、ビニル基、チオール基が好ましく、ビニル基がより好ましい。

上記式（３）中、Ｒ^４及びＲ^７の一方が反応性官能基である場合、もう一方は水素結合性官能基を有する基であってもよい。
上記水素結合性官能基は、水素結合性を有する官能基を意味する。
上記式（３）中、Ｒ^４及びＲ^７の一方が水素結合性官能基を有する基である場合、重合性化合物との相溶性が高くなり、液晶等へ溶出することによる汚染を充分に抑制することができる。
上記水素結合性官能基としては、例えば、−ＯＨ基、−ＮＨ_２基、−ＮＨＲ基（Ｒは、芳香族、脂肪族炭化水素、又は、これらの誘導体を表す）、−ＣＯＯＨ基、−ＣＯＮＨ_２基、−ＮＨＯＨ基等の官能基や、−ＮＨＣＯ−結合、−ＮＨ−結合、−ＣＯＮＨＣＯ−結合、−ＮＨ−ＮＨ−結合等の残基が挙げられる。なかでも、−ＯＨ基が好ましい。

Ｒ^４又はＲ^７が炭素数３〜２０のカルボアルコキシアルキル基である場合、該カルボアルコキシアルキル基としては、例えば、カルボメトキシメチル基、カルボエトキシメチル基、カルボメトキシエチル基、カルボキシエトキシエチル基、カルボキシメトキシプロピル基、カルボキシメトキシオクチル基、カルボキシメトキシラウリル基、カルボキシメトキシステアリル基、カルボキシプロポキシメチル基、カルボキシプロポキシエチル基、カルボキシプロポキシプロピル基、カルボキシオクトキシメチル基、カルボキシラウロキシメチル基、カルボキシミリストキシメチル基、カルボキシオクトキシエチル基、カルボキシラウロキシエチル基、カルボキシステアロキシエチル基等が挙げられる。

本発明のオキシムエステル開始剤としては、光反応性に優れ、かつ、アウトガスの発生等の悪影響を抑制する効果に特に優れることから、下記式（７）〜（１１）で表される化合物が好ましく、下記式（７）〜（１０）で表される化合物がより好ましい。

本発明のオキシムエステル開始剤を製造する方法としては、例えば、上記式（３）における＝Ｎ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｒ^４基及びＲ^７以外の部分が上記式（３）と同様であり、＝Ｎ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｒ^４基の部分が水素原子であるアシル化合物をオキシム化して、オキシム化合物を得た後、上記式（３）におけるＲ^７の部分を形成し、更に、Ｒ^４を有するアシルクロリドを反応させる方法等が挙げられる。
具体的には例えば、上記式（７）で表される化合物は、以下の方法等により製造することができる。即ち、まず、２−フェニルチオメタノールを、ジクロロメタン中、トリエチルアミンの存在下で塩化アセチルと反応させて酢酸２−フェニルチオエチルを得た後、得られた酢酸２−フェニルチオエチルを、ジクロロメタン中、塩化アルミニウムの存在下でオクタン酸クロリドと反応させて下記式（１２−１）で表されるアシル化合物を作製する。次いで、得られたアシル化合物を、テトラヒドロフラン中、濃塩酸の存在下でイソアミルナイトライトと反応させて下記式（１２−２）で表されるオキシム化合物を作製し、得られたオキシム化合物を、テトラヒドロフラン中、トリエチルアミンの存在下で３−アリルオキシプロピオン酸クロリドと反応させることにより、上記式（７）で表される化合物を製造することができる。

本発明にかかるラジカル重合開始剤は、分子量の好ましい下限が２５０、好ましい上限が１５００である。分子量が２５０〜１５００のラジカル重合開始剤を用いることにより、本発明の表示素子用封止剤は、アウトガスの発生を抑制する効果に更に優れるものとなる。本発明にかかるラジカル重合開始剤の分子量が２５０未満であると、アウトガス発生の原因となることがある。本発明にかかるラジカル重合開始剤の分子量が１５００を超えると、硬化が不充分となることがある。なかでも、アウトガスの発生を低減する等の観点から、本発明にかかるラジカル重合開始剤の分子量のより好ましい下限は３００、より好ましい上限は１０５０、更に好ましい下限は３４８、更に好ましい上限は７９０である。

本発明にかかるラジカル重合開始剤の含有量は、上記重合性化合物全体１００重量部に対して、好ましい下限が０．１重量部、好ましい上限が５重量部である。本発明にかかるラジカル重合開始剤の含有量が０．１重量部未満であると、得られる表示素子用封止剤の重合が充分に進行しないことがある。本発明にかかるラジカル重合開始剤の含有量が５重量部を超えると、硬化反応が速くなりすぎて、作業性が低下したり、得られる表示素子用封止剤の硬化物が不均一となったりすることがある。本発明にかかるラジカル重合開始剤の含有量のより好ましい下限は０．５重量部、より好ましい上限は３重量部である。

本発明の表示素子用封止剤は、本発明の目的を阻害しない範囲において、本発明にかかるラジカル重合開始剤に加えて、その他の重合開始剤を含有してもよい。

本発明の表示素子用封止剤は、接着性付与剤を含有してもよい。
上記接着性付与剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤や、チタンカップリング剤や、アルミニウムカップリング剤等が挙げられる。これらの接着性付与剤は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

本発明の表示素子用封止剤は、酸化防止等を目的として安定剤を含有してもよい。
上記安定剤としては、例えば、２，２’−メチレンビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。これらの安定剤は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

本発明の表示素子用封止剤は、更に、本発明の目的を阻害しない範囲において、充填剤、硬化促進剤、可塑剤、界面活性剤、難燃剤、帯電防止剤、消泡剤、レベリング剤、紫外線吸収材、有機溶剤等の添加剤を含有してもよい。

本発明の表示素子用封止剤を製造する方法としては、例えば、ポリチオールモノマー、ポリエンモノマー、本発明にかかるラジカル重合開始剤、及び、必要に応じて添加される接着性付与剤等を、撹拌機を用いて均一に混合する方法等が挙げられる。

本発明の表示素子用封止剤は、コーンローター式粘度計を用いて、２０℃、２０ｒｐｍの条件で測定した粘度の好ましい下限が０．４Ｐａ・ｓ、好ましい上限が４０Ｐａ・ｓである。上記粘度が０．４Ｐａ・ｓ未満であると、得られる表示素子用封止剤に組成ムラが発生したり、塗工が困難になったり、得られる表示素子の表示特性が悪くなったりすることがある。上記粘度が４０Ｐａ・ｓを超えると、塗工が困難となることがある。上記粘度のより好ましい下限は０．５Ｐａ・ｓ、より好ましい上限は１０Ｐａ・ｓ、更に好ましい下限は１Ｐａ・ｓ、更に好ましい上限は６Ｐａ・ｓ、特に好ましい下限は２Ｐａ・ｓ、特に好ましい上限は４Ｐａ・ｓである。

本発明の表示素子用封止剤は、硬化物の波長３８０〜７８０ｎｍの領域での可視光の平均透過率が８０％以上であることが好ましい。上記可視光の平均透過率が８０％以上であることにより、透明性が求められる用途に好適に用いることができる。上記可視光の平均透過率は、９５％以上であることがより好ましい。
なお、上記可視光の平均透過率を測定する硬化物は、本発明の表示素子用封止剤に対して、２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射する方法により得ることができる。

本発明の表示素子用封止剤は、厚さ１００μｍの硬化物を、昇温速度１０℃／ｍｉｎで１３０℃まで加熱したときの重量減少率が０．１５％以下であることが好ましい。上記重量減少率は、アウトガス発生量とみなすことができるため、０．１５％以下であることにより、表示素子への悪影響を抑制できるものとなる。上記重量減少率は、０．１％以下であることがより好ましい。
なお、上記重量減少率を測定する硬化物は、厚さ１００μｍとなるように塗布した本発明の表示素子用封止剤に対して、２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射する方法により得ることができる。

本発明の表示素子用封止剤は、光照射又は加熱により硬化させることができ、光照射により硬化させることが好ましい。
本発明の表示素子用封止剤を光硬化させる方法としては、例えば、３００〜４００ｎｍの波長及び３００〜３０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量の光を照射する方法等が挙げられる。

本発明の表示素子用封止剤に光を照射するための光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマレーザ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、ＬＥＤランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置等が挙げられる。これらの光源は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

本発明の表示素子用封止剤への光の照射手段としては、例えば、各種光源の同時照射、時間差をおいての逐次照射、同時照射と逐次照射との組み合わせ照射等が挙げられ、いずれの照射手段を用いてもよい。

本発明の表示素子用封止剤は、表示素子の全面、前面、後面、若しくは、周囲を封止するための封止剤、又は、表示素子に設けられた開口部を封止するための封口剤として用いることができ、なかでも、表示素子の全面を封止するために好適に用いられる。
なお、本明細書において上記「全面」とは、表示素子を有する面の必ずしも１００％を意味するものではなく、表示素子に求められる必要な封止面を意味する。また、上記「前面」とは、光線を取り出す側、即ち、視認側の面を意味する

本発明の表示素子用封止剤は、例えば、有機ＥＬ表示素子用封止剤、液晶表示素子用封止剤、エレクトロクロミック基板用封止剤、電子ペーパー用封止剤等に用いることができる。

本発明によれば、アウトガスの発生や他材料の汚染を抑制することができ、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤を提供することができる。また、本発明によれば、該表示素子用封止剤に好適に用いることができるオキシムエステル開始剤を提供することができる。

式（７）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 式（８）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 式（９）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 式（１０）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 式（１１）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。

（チオエーテルオリゴマーの作製）
ポリチオールモノマーとしてトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）６３重量部と、ポリエンモノマーとしてトリアリルイソシアヌレート３７重量部とを加熱撹拌しながら、熱ラジカル重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２重量部を徐々に添加し、得られた反応混合物を貧溶媒に流し、沈殿したオリゴマーを集め、溶媒を真空下で除去することにより、チオエーテルオリゴマーを得た。
得られたチオエーテルオリゴマーについて、カラムとしてＳｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算による重量平均分子量を測定した。その結果、チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量は５０００であった。

（ポリエンオリゴマーの作製）
ポリエンモノマーとしてトリアリルイソシアヌレート１００重量部を加熱撹拌しながら、熱ラジカル重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２重量部を徐々に添加し、得られた反応混合物を貧溶媒に流し、沈殿したオリゴマーを集め、溶媒を真空下で除去することにより、ポリエンオリゴマーを得た。
得られたポリエンオリゴマーについて、カラムとしてＳｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算による重量平均分子量を測定した。その結果、チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量は１２５０であった。

（実施例１〜７、比較例１）
表１に記載された配合比に従い、各材料を、撹拌機（新東科学社製、「スリーワンモーター ＨＥＩＤＯＮ ＢＬＨ３００」）を用いて混合することにより、実施例１〜７及び比較例１の表示素子用封止剤を調製した。
なお、本発明にかかるラジカル重合開始剤として、実施例１〜３、６、７では、開始剤Ａとして、分子内にα−ヒドロキシアルキルフェノン系官能基とアクリロイル基とを有する化合物（ケーエスエム社製、「ＵＶ−Ｈ−４０００」、重量平均分子量８５０）を用い、実施例４では、開始剤Ｂとして、α−アミノアルキルフェノン系官能基とチオール基とを有する下記式（１３）で表される化合物（分子量３５３）を用い、実施例５では、開始剤Ｃとして、開始剤Ａ５０重量部とトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）５０重量部とに熱ラジカル重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２重量部を徐々に添加し、得られた反応混合物を貧溶媒に流し、沈殿物を集め、溶媒を真空下で除去することにより得られた化合物（重量平均分子量９万８０００）を用いた。また、その他の光重合開始剤として、比較例１では、開始剤Ｄとして、１−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ Ｊａｐａｎ社製、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９」）を用いた。

＜評価＞
実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤について、以下の方法により評価を行った。結果を表１に示した。

（１）粘度
コーンローター式粘度計（東機産業社製、「ＴＶ−２２型」）を用いて、２０℃、２０ｒｐｍの条件で実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤の粘度を測定した。

（２）塗工性
ディスペンサー（武蔵エンジニアリング社製、「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）を用いて、ガラス基板上に実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤を塗工した際の塗工性を評価した。ディスペンスノズルを４００μｍ、ノズルギャップを３０μｍ、塗出圧を３００ｋＰａに固定して塗工したとき、かすれやダレがなく塗工できた場合「○」、かすれやダレが生じた場合「△」、大きな塗工切れや塗工ムラが生じたり、全く塗工できなかったりした場合「×」として塗工性を評価した。

（３）アウトガス発生量
実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤を、バーコーターを用いて塗工後の厚さが１００μｍとなるように塗工し、超高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してフィルムを形成した。
得られたフィルムを熱分析装置（Ｓｅｉｋｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製、「ＴＧ／ＤＴＡ６２００」）を用いて、昇温速度１０℃／ｍｉｎで１５０℃まで加熱したときの重量減少率を測定し、これをアウトガス発生量とした。

（４）接着性
実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤をマイクロピペットを用いてガラス基板上に０．０５ｇ塗工した。この基板を、スペーサーを配置した別のガラス基板と５０μｍの厚みとなるように貼り合わせ、高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、接着力試験用試料を作製した。得られた接着力試験用試料について、ＥＺ ＧＲＡＰＨ（島津製作所社製）を用いて、剥離速度５ｍｍ／ｍｉｎの条件で剥離試験を行い、接着力を測定した。接着力が１．０Ｎ／ｃｍ以上であったものを「○」、接着力が１．０Ｎ／ｃｍ未満であったものを「×」として接着性を評価した。

（５）硬化物の透明性（透過率）
実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤を、ＰＥＴ樹脂フィルムに挟み、２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、厚さ１００μｍの透過率測定用サンプルを作製した。得られた透過率測定用サンプルについて、分光光度計（日立製作所社製、「Ｕ−３０００」、条件３００〜８００ｎｍ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率を測定した。

（６）表示素子の表示性能
（有機発光材料層を含む積層体が配置された基板の作製）
ガラス基板（長さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）にＩＴＯ電極を１０００Åの厚さで成膜したものを基板とした。上記基板をアセトン、アルカリ水溶液、イオン交換水、イソプロピルアルコールにてそれぞれ１５分間超音波洗浄した後、煮沸させたイソプロピルアルコールにて１０分間洗浄し、更に、ＵＶ−オゾンクリーナ（日本レーザー電子社製、「ＮＬ−ＵＶ２５３」）にて直前処理を行った。
次に、この基板を真空蒸着装置の基板フォルダに固定し、素焼きの坩堝にＮ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（α−ＮＰＤ）を２００ｍｇ、他の異なる素焼き坩堝にトリス（８−ヒドロキシキノリラ）アルミニウム（Ａｌｑ_３）を２００ｍｇ入れ、真空チャンバー内を、１×１０^−４Ｐａまで減圧した。その後、α−ＮＰＤの入った坩堝を加熱し、α−ＮＰＤを蒸着速度１５Å／ｓで基板に堆積させ、膜厚６００Åの正孔輸送層を成膜した。次いで、Ａｌｑ_３の入った坩堝を加熱し、１５Å／ｓの蒸着速度で膜厚６００Åの有機発光材料層を成膜した。その後、正孔輸送層及び有機発光材料層が形成された基板を別の真空蒸着装置に移し、この真空蒸着装置内のタングステン製抵抗加熱ボートにフッ化リチウム２００ｍｇを、別のタングステン製ボートにアルミニウム線１．０ｇを入れた。その後、真空蒸着装置の蒸着器内を２×１０^−４Ｐａまで減圧してフッ化リチウムを０．２Å／ｓの蒸着速度で５Å成膜した後、アルミニウムを２０Å／ｓの速度で１０００Å成膜した。窒素により蒸着器内を常圧に戻し、１０ｍｍ×１０ｍｍの有機発光材料層を含む積層体が配置された基板を取り出した。

（無機材料膜Ａによる被覆）
得られた有機発光材料層を含む積層体が配置された基板の、該積層体の全体を覆うように、１３ｍｍ×１３ｍｍの開口部を有するマスクを設置し、プラズマＣＶＤ法にて無機材料膜Ａを形成した。
プラズマＣＶＤ法は、原料ガスとしてＳｉＨ_４ガス及び窒素ガスを用い、各々の流量を１０ｓｃｃｍ及び２００ｓｃｃｍとし、ＲＦパワーを１０Ｗ（周波数２．４５ＧＨｚ）、チャンバー内温度を１００℃、チャンバー内圧力を０．９Ｔｏｒｒとする条件で行った。
形成された無機材料膜Ａの厚さは、約０．２μｍであった。

（樹脂保護膜の形成）
真空装置内に、無機材料膜Ａで被覆された積層体が配置された基板を設置し、真空装置の中に設置された加熱ボートに実施例１〜７及び比較例１で得られた各表示素子用封止剤を０．５ｇ入れ、１０Ｐａに減圧して、積層体を含む１１ｍｍ×１１ｍｍの四角形の部分に、表示素子用封止剤を２００℃にて加熱し、厚さが０．５μｍになるように真空蒸着を行った。その後、真空環境下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍの紫外線を照射量が３０００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、表示素子用封止剤を硬化させて樹脂保護膜を形成した。

（無機材料膜Ｂによる被覆）
樹脂保護膜が形成された基板の１１ｍｍ×１１ｍｍの樹脂保護膜の全体を覆うように、１２ｍｍ×１２ｍｍの開口部を有するマスクを設置し、プラズマＣＶＤ法にて無機材料膜Ｂを形成して表示素子（有機ＥＬ表示素子）を得た。
プラズマＣＶＤ法は、原料ガスとしてＳｉＨ_４ガス及び窒素ガスを用い、各々の流量をＳｉＨ_４ガス１０ｓｃｃｍ、窒素ガス２００ｓｃｃｍとし、ＲＦパワーを１０Ｗ（周波数２．４５ＧＨｚ）、チャンバー内温度を１００℃、チャンバー内圧力を０．９Ｔｏｒｒとする条件で行った。
形成された無機材料膜Ｂの厚さは、約１μｍであった。

（有機ＥＬ表示素子の発光状態）
作製した有機ＥＬ表示素子をそれぞれ６０℃、９０％ＲＨの条件下に１００時間暴露した後、３Ｖの電圧を印加し、発光状態（発光及びダークスポット、画素周辺消光の有無）を目視で観察し、ダークスポットや周辺消光が無く均一に発光した場合を「○」、ダークスポットや周辺消光が認められた場合を「△」、非発光部が著しく拡大した場合を「×」として評価した。

（製造例１（式（７）で表される化合物の製造））
（アシル化合物Ａの製造）
ジクロロメタン２００ｍＬとトリエチルアミン２９ｍＬとを含有する溶液に、２−フェニルチオエタノール１０４ｍｍｏｌ及び塩化アセチル８．２ｍＬを添加し、０℃で撹拌し、水洗浄した。次いで、ジクロロメタン２００ｍＬに溶解した塩化アルミニウム１２ｇを添加した後に、ジクロロメタン３６０ｍＬと塩化アルミニウム１４．８ｇとオクタン酸クロリド１８．４ｍＬとを含む溶液を０℃で滴下した。０℃で撹拌して反応を進行させた後、反応液を水で洗浄した。次いで、ジイソプロピルエチルエーテルで粉砕し、２１．６ｇのアシル化合物Ａを得た。

（オキシム化合物Ａの製造）
上記「（アシル化合物Ａの製造）」で得られたアシル化合物Ａ１４ｇをテトラヒドロフラン２４０ｍＬに溶解し、濃塩酸７．２ｍＬ及びイソアミルナイトライト９．２ｍＬを室温下で加えた。５２時間撹拌して反応を進行させた後、反応液を水洗浄した。次いで、シリカゲルカラムで濾過して９．２ｇのオキシム化合物Ａを得た。

（オキシム化合物Ａのオキシムエステル化）
トリエチルアミン１８．８ｍＬとテトラヒドロフラン２００ｍＬとを含有する溶液に、上記「（オキシム化合物Ａの製造）」で得られたオキシム化合物Ａ９．２ｇを加え、３−アリルオキシプロピオン酸クロリド９．６ｇを−１０℃の温度下で滴下し、撹拌した。得られた反応物を、０．５ｍｏｌ／Ｌの塩酸で洗浄し、シリカゲルカラムで濾過して上記式（７）で表される化合物を得た。得られた式（７）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１に示す。

（製造例２（式（８）で表される化合物の製造））
（アシル化合物Ｂの製造）
ジクロロメタン４５０ｍＬと塩化アルミニウム２５．８ｇとオクタン酸クロリド３１．７ｍＬとを含有する溶液に、０℃で、ジクロロメタン２５０ｍＬとフェニルチオ酢酸２５ｇと塩化アルミニウム１９．８ｇとを含む溶液を加えて撹拌した。水で洗浄した後、ジエチルエーテルで粉砕して３８．５ｇのアシル化合物Ｂを得た。

（オキシム化合物Ｂ−１の製造）
上記「（アシル化合物Ｂの製造）」で得られたアシル化合物Ｂ１０ｇをテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解し、濃塩酸５．７ｍＬに溶解したイソアミルナイトライト７．２ｍＬを室温下で加え、１２時間撹拌して反応を進行させた。次いで、水で洗浄した後、トルエンにて再結晶化して５．２ｇの反応物を得た。次いで、得られた反応物３．５ｇに１８ｍｏｌ／Ｌの硫酸０．１７ｍＬ及びアリルアルコール１７ｍＬを加え、室温で１２時間撹拌し、反応液を得た。得られた反応液を水洗浄した後、シリカゲルカラムで濾過し、３．３ｇのオキシム化合物Ｂ−１を得た。

（オキシム化合物Ｂ−１のオキシムエステル化）
トリエチルアミン３．１５ｍＬとテトラヒドロフラン５０ｍＬとを含有する溶液に、−１０℃にて上記「（オキシム化合物Ｂ−１の製造）」で得られたオキシム化合物Ｂ−１を３．３ｇ加え、３−アリルオキシプロピオン酸クロリド１．７ｇを−１０℃の温度下で滴下し撹拌した。得られた反応物を、０．５ｍｏｌ／Ｌの塩酸で洗浄し、シリカゲルカラムで濾過して上記式（８）で表される化合物を得た。得られた式（８）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。

（製造例３（式（９）で表される化合物及び式（１０）で表される化合物の製造））
（オキシム化合物Ｂ−２及びオキシム化合物Ｂ−３の製造）
上記製造例２における「（アシル化合物Ｂの製造）」と同様にして得られたアシル化合物Ｂ２８．３ｇをテトラヒドロフラン２８０ｍＬに溶解し、濃塩酸１６．２ｍＬ及びイソアミルナイトライト２０．４ｍＬを室温下で加え、１２時間撹拌して反応を進行させ、水で洗浄した後、トルエンにて再結晶化して１１．６ｇの反応物を得た。次いで、１８ｍｏｌ／Ｌの硫酸０．５７ｍＬ及び１，３−ブタンジオール５５ｍＬを加え撹拌し、反応液を得た。得られた反応液を水洗浄後、シリカゲルカラムで濾過し、オキシム化合物Ｂ−２とオキシム化合物Ｂ−３との混合物８．６ｇを得た。

（オキシム化合物Ｂ−２及びオキシム化合物Ｂ−３のオキシムエステル化）
トリエチルアミン９．１ｍＬとテトラヒドロフラン１７０ｍＬとを含有する溶液に、上記「（オキシム化合物Ｂ−２及びオキシム化合物Ｂ−３の製造）」で得られたオキシム化合物Ｂ−２とオキシム化合物Ｂ−３との混合物８．６ｇを加え、３−アリルオキシプロピオン酸クロリド４．８５ｇを−１０℃の温度下で滴下し、撹拌した。得られた反応物を水洗浄後、カラム濾過により式（９）で表される化合物と式（１０）で表される化合物とを分離した。得られた上記式（９）で表される化合物及び上記式（１０）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルをそれぞれ図３及び図４に示す。

（製造例４（式（１１）で表される化合物の製造））
（アシル化合物Ｃの製造）
ジクロロメタン１００ｍＬと塩化アルミニウム９．２ｇとプロピオン酸クロリド５．８ｍＬとを含有する溶液に、フェニルチオ酢酸１０ｇ、塩化アルミニウム８ｇとジクロロメタン１８０ｍＬとを含有する溶液を０℃で加え、撹拌して反応を進行させた後、水洗浄し、１０．６ｇのアシル化合物Ｃを得た。

（オキシム化合物Ｃの製造）
上記「（アシル化合物Ｃの製造）」で得られたアシル化合物Ｃ１０．６ｇをテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解し、濃塩酸５．６４ｍＬ及びイソアミルナイトライト０．９６ｍＬを室温下で加え、１２時間撹拌して反応を進行させた。次いで、水洗浄後、トルエンにて再結晶化して７．２ｇのオキシム化合物Ｃを得た。

（オキシム化合物Ｃのオキシムエステル化）
上記「（オキシム化合物Ｃの製造）」で得られたオキシム化合物Ｃ７．２ｇを、エタノール７２ｍＬと濃硫酸２．８ｍＬとを含有する溶液に添加して溶解させた。室温で１２時間撹拌後、水洗浄した後にシリカゲルカラムで濾過して７．２ｇのエステル化合物を得た。
得られたエステル化合物７．２ｇをトリエチルアミン９ｍＬとテトラヒドロフラン１８０ｍＬとを含有する溶液に加え、テトラヒドロフラン１８ｍＬに溶解した３−アリルオキシプロピオン酸クロリド４．６８ｇを−５℃の温度下で滴下し、９０分撹拌した。得られた反応物を、０．５ｍｏｌ／Ｌの塩酸で洗浄し、シリカゲルカラムで濾過して、上記式（１１）で表される化合物を得た。得られた式（１１）で表される化合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図５に示す。

（実施例８〜１４、比較例２、３）
表２に記載された配合比に従い、各材料を、攪拌機（新東科学社製、「スリーワンモーター ＨＥＩＤＯＮ ＢＬＨ３００」）を用いて７０℃にて３時間加熱混合することにより、表示素子用封止剤を調製した。

＜評価＞
実施例８〜１４及び比較例２、３で得られた各表示素子用封止剤について以下の評価を行った。結果を表２に示した。

（１）光硬化性
実施例８〜１４及び比較例２、３で得られた各表示素子用封止剤をガラス基板上に塗工し、波長３６５ｎｍのＬＥＤランプを用いて、積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ^２となるように光を照射した。その後、ＦＴ−ＩＲを用いた分析方法により、アリル基の反応率を測定した。アリル基の反応率が７０％を超えた場合を「○」、５０〜７０％であった場合を「△」、５０％未満であった場合を「×」として光硬化性を評価した。

（２）硬化物の透明性（透過率）
実施例８〜１４及び比較例２、３で得られた各表示素子用封止剤を、ＰＥＴ樹脂フィルムに挟み、２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、厚さ１００μｍの透過率測定用サンプルを作製した。得られた透過率測定用サンプルについて、分光光度計（日立製作所社製、「Ｕ−３０００」、条件３００〜８００ｎｍ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率を測定した。

（３）アウトガス発生量
実施例８〜１４及び比較例２、３で得られた各表示素子用封止剤を、バーコーターを用いて塗工後の厚さが１００μｍとなるように塗工し、超高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してフィルムを形成した。得られたフィルムを熱分析装置（Ｓｅｉｋｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製、「ＴＧ／ＤＴＡ６２００」）を用いて、昇温速度１０℃／ｍｉｎで１５０℃まで加熱したときの重量減少率を測定し、これをアウトガス発生量とした。

（４）表示素子の表示性能
（４−１）液晶表示素子の表示性能
（液晶表示素子の作製）
厚さ１０００ÅのＩＴＯ電極を表面に成膜した後、更にスピンコートにて厚さ８００Åの配向膜を表面に塗布したガラス基板（長さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）を２枚用意し、一方の基板に熱硬化性エポキシ樹脂（周辺シール剤）を用いて、液晶注入口部を設けるようにしたパターンの印刷をスクリーン印刷にて行った。次に、パターンの印刷を行った基板を８０℃で３分間保持することにより予備乾燥と基板への周辺シール剤の融着とを行った後、室温に戻した。次いで、もう一方の基板に５μｍのスペーサーを散布した後、それぞれの基板を貼り合わせ、１３０℃に加熱した熱プレスで２時間の圧着を行って周辺シール剤を硬化させ、空のセルを得た。得られた空のセルを真空吸引した後、注入口より液晶（メルク社製、「ＺＬＩ−４７９２」）を注入し、注入口を実施例８〜１４及び比較例２、３で得られた各表示素子用封止剤を用いて封止し、高圧水銀灯を用いて３０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して封止剤を硬化させた。その後、１２０℃で１時間液晶のアニールを行い、液晶表示素子を作製した。

（液晶表示素子の配向乱れ）
得られた液晶表示素子を、ＡＣ３．５Ｖの電圧にて中間調の表示状態で駆動させ、注入口近傍の液晶の配向乱れを偏光顕微鏡で観察した。配向乱れが確認されなかった場合を「○」、１ｍｍ未満の配向乱れが確認された場合を「△」、１ｍｍ以上のはっきりとした配向乱れ（濃い色むら）があった場合を「×」として液晶表示素子の表示性能を評価した。

（４−２）有機ＥＬ表示素子の表示性能
（有機発光材料層を含む積層体が配置された基板の作製）
ガラス基板（長さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）にＩＴＯ電極を１０００Åの厚さで成膜したものを基板とした。上記基板をアセトン、アルカリ水溶液、イオン交換水、イソプロピルアルコールにてそれぞれ１５分間超音波洗浄した後、煮沸させたイソプロピルアルコールにて１０分間洗浄し、更に、ＵＶ−オゾンクリーナ（日本レーザー電子社製、「ＮＬ−ＵＶ２５３」）にて直前処理を行った。
次に、この基板を真空蒸着装置の基板フォルダに固定し、素焼きの坩堝にＮ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（α−ＮＰＤ）を２００ｍｇ、他の異なる素焼き坩堝にトリス（８−ヒドロキシキノリラ）アルミニウム（Ａｌｑ_３）を２００ｍｇ入れ、真空チャンバー内を、１×１０^−４Ｐａまで減圧した。その後、α−ＮＰＤの入った坩堝を加熱し、α−ＮＰＤを蒸着速度１５Å／ｓで基板に堆積させ、膜厚６００Åの正孔輸送層を成膜した。次いで、Ａｌｑ_３の入った坩堝を加熱し、１５Å／ｓの蒸着速度で膜厚６００Åの有機発光材料層を成膜した。その後、正孔輸送層及び有機発光材料層が形成された基板を別の真空蒸着装置に移し、この真空蒸着装置内のタングステン製抵抗加熱ボートにフッ化リチウム２００ｍｇを、別のタングステン製ボートにアルミニウム線１．０ｇを入れた。その後、真空蒸着装置の蒸着器内を２×１０^−４Ｐａまで減圧してフッ化リチウムを０．２Å／ｓの蒸着速度で５Å成膜した後、アルミニウムを２０Å／ｓの速度で１０００Å成膜した。窒素により蒸着器内を常圧に戻し、１０ｍｍ×１０ｍｍの有機発光材料層を含む積層体が配置された基板を取り出した。

（無機材料膜Ａによる被覆）
得られた有機発光材料層を含む積層体が配置された基板の、該積層体の全体を覆うように、１３ｍｍ×１３ｍｍの開口部を有するマスクを設置し、プラズマＣＶＤ法にて無機材料膜Ａを形成した。
プラズマＣＶＤ法は、原料ガスとしてＳｉＨ_４ガス及び窒素ガスを用い、各々の流量を１０ｓｃｃｍ及び２００ｓｃｃｍとし、ＲＦパワーを１０Ｗ（周波数２．４５ＧＨｚ）、チャンバー内温度を１００℃、チャンバー内圧力を０．９Ｔｏｒｒとする条件で行った。
形成されたシリコンナイトライドの無機材料膜Ａの厚さは、約０．２μｍであった。

（樹脂保護膜の形成）
真空装置内に、無機材料膜Ａで被覆された積層体が配置された基板を設置し、真空装置の中に設置された加熱ボートに実施例８〜１４及び比較例２、３で得られた各表示素子用封止剤を０．５ｇ入れ、１０Ｐａに減圧して、積層体を含む１１ｍｍ×１１ｍｍの四角形の部分に、表示素子用封止剤を２００℃にて加熱し、厚さが０．５μｍになるように真空蒸着を行った。その後、真空環境下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍの紫外線を照射量が３０００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、表示素子用封止剤を硬化させて樹脂保護膜を形成した。

（無機材料膜Ｂによる被覆）
樹脂保護膜が形成された基板の１１ｍｍ×１１ｍｍの樹脂保護膜の全体を覆うように、１２ｍｍ×１２ｍｍの開口部を有するマスクを設置し、プラズマＣＶＤ法にて無機材料膜Ｂを形成して表示素子（有機ＥＬ表示素子）を得た。
プラズマＣＶＤ法は、原料ガスとしてＳｉＨ_４ガス及び窒素ガスを用い、各々の流量をＳｉＨ_４ガス１０ｓｃｃｍ、窒素ガス２００ｓｃｃｍとし、ＲＦパワーを１０Ｗ（周波数２．４５ＧＨｚ）、チャンバー内温度を１００℃、チャンバー内圧力を０．９Ｔｏｒｒとする条件で行った。
形成されたシリコンナイトライドの無機材料膜Ｂの厚さは、約１μｍであった。

（有機ＥＬ表示素子の発光状態）
作製した有機ＥＬ表示素子をそれぞれ６０℃、９０％ＲＨの条件下に１００時間暴露した後、３Ｖの電圧を印加し、発光状態（発光及びダークスポット、画素周辺消光の有無）を目視で観察し、ダークスポットや周辺消光が無く均一に発光した場合を「○」、ダークスポットや周辺消光が認められた場合を「△」、非発光部が著しく拡大した場合を「×」として有機ＥＬ表示素子の表示性能を評価した。

本発明によれば、アウトガスの発生や他材料の汚染を抑制することができ、接着性、及び、硬化物の透明性に優れる表示素子用封止剤を提供することができる。また、本発明によれば、該表示素子用封止剤に好適に用いることができるオキシムエステル開始剤を提供することができる。

Claims (9)

1. １分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオールモノマー、１分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するポリエンモノマー、及び、ラジカル重合開始剤を含有し、
   前記ラジカル重合開始剤は、光照射又は加熱によりラジカルを発生する官能基と、反応性官能基とを有する化合物である
   ことを特徴とする表示素子用封止剤。
2. ポリチオールモノマーは、１分子中に３個以上のチオール基を有するモノマーを含有することを特徴とする請求項１記載の表示素子用封止剤。
3. ポリエンモノマーは、１分子中に３個以上の炭素−炭素二重結合を有するモノマーを含有することを特徴とする請求項１又は２記載の表示素子用封止剤。
4. ポリエンオリゴマーを含有することを特徴とする請求項１、２又は３記載の表示素子用封止剤。
5. ポリチオールモノマーとポリエンモノマーとの反応により形成されるチオエーテルオリゴマーを含有する請求項１、２、３又は４記載の表示素子用封止剤。
6. チオエーテルオリゴマーの重量平均分子量が５００〜４万であることを特徴とする請求項５記載の表示素子用封止剤。
7. ラジカル重合開始剤の有する反応性官能基は、チオール基及び／又は炭素−炭素二重結合であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５又は６記載の表示素子用封止剤。
8. ラジカル重合開始剤は、反応性官能基を１分子中に２個以上有することを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の表示素子用封止剤。
9. 下記式（３）で表される化合物であることを特徴とするオキシムエステル開始剤。
   

   

   式（３）中、Ｒ^３は、フェニル基（炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルキル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／若しくは、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／若しくは、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基（炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^１０基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、−ＣＯＮＲ^１２Ｒ^１３基、−ＣＮ基、−ＮＯ_２基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数１〜６の−Ｓ（Ｏ）_ｍ−アルキル基、炭素数６〜１２の−Ｓ（Ｏ）_ｍ−アリール基（炭素数１〜１２のアルキル基により置換されていてもよい）、炭素数１〜６の−ＳＯ_２Ｏ−アルキル基、炭素数６〜１０の−ＳＯ_２Ｏ−アリール基、又は、ジフェニルホスフィノイル基であり、ｍは、１又は２である。
   Ｒ^４及びＲ^７は、それぞれ独立して、反応性官能基、水素結合性官能基を有する基、水素原子、炭素数３〜２０のカルボアルコキシアルキル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／又は、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基からなる群より選択される少なくとも１種により置換されていてもよい）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／又は、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、−ＳＯＲ^１１基、−ＳＯ_２Ｒ^１１基、或いは、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基（ここで、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基は、フェニル環の有する置換基若しくはフェニル環の炭素原子の一つと、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び／若しくは、Ｒ^１３を介して５員環又は６員環を形成していてもよい）である。ただし、Ｒ^４及びＲ^７の少なくとも一方は、反応性官能基である。
   Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８、及び、Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、若しくは、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基により置換されていてもよい）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（１個以上の酸素原子により中断、及び／若しくは、１個以上のヒドロキシル基により置換されていてもよい）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、−ＳＯＲ^１１基、−ＳＯ_２Ｒ^１１基、又は、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基であり、−ＯＲ^１０基、−ＳＲ^１１基、及び、−ＮＲ^１２Ｒ^１３基は、フェニル環の有する置換基又はフェニル環の炭素原子の一つと、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び／又は、Ｒ^１３を介して５員環又は６員環を形成していてもよい。
   Ｒ^１０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜６のアルキル基（−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＣＮ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケンオキシ基、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＮ基、炭素数４〜７の−ＯＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＯ）Ｏ−アルキル基、炭素数２〜５の−Ｏ（ＣＯ）−アルキル基、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル基、−（ＣＯ）ＯＨ基、若しくは、炭素数２〜５の−（ＣＯ）Ｏ−アルキル基で置換されている）、炭素数２〜６のアルキル基（１個以上の酸素原子により中断されている）、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＨ基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、若しくは、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよい）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ（炭素数１〜８のアルキル）_ｒ（フェニル）_３−ｒ基、又は、下記式（４）で表される基のいずれかである。ｎは、１〜２０であり、ｒは、１〜３である。
   Ｒ^１１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜６のアルキル基（−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＣＮ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケンオキシ基、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＮ基、炭素数４〜７の−ＯＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＯ）Ｏ−アルキル基、炭素数２〜５の−Ｏ（ＣＯ）−アルキル基、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル基、−（ＣＯ）ＯＨ基、若しくは、炭素数２〜５の−（ＣＯ）Ｏ−アルキル基で置換されている）、炭素数２〜１２のアルキル基（１個以上の酸素原子若しくは硫黄原子により中断されている）、フェニル基（ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、若しくは、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよい）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、又は、下記式（５）で表される基のいずれかである。
   Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（炭素数１〜１２のアルキル基若しくは炭素数１〜４のアルコキシ基により置換されている）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基、或いは、Ｒ^１２及びＲ^１３が１つの基となった炭素数２〜６のアルキレン基（酸素原子若しくは−ＮＲ^１０−基により中断、及び／又は、ヒドロキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基、若しくは、ベンゾイルオキシ基で置換されていてもよい）である。Ｒ^１２が水素原子である場合、Ｒ^１３は、下記式（６）で表される基であってもよい。
   

   

   式（４）中、Ｒ^３及びＲ^４は、式（３）と同じものが挙げられる。Ｍ^１は、結合手、又は、炭素数１〜１２のアルキレンオキシ基（１〜５個の酸素原子、硫黄原子、及び／若しくは、−ＮＲ^１２−基により中断されていてもよい）である。
   

   

   式（５）中、Ｒ^３及びＲ^４は、式（３）と同じものが挙げられる。Ｍ^２は、結合手、又は、炭素数１〜１２のアルキレン−Ｓ−基（１〜５個の酸素原子、硫黄原子、及び／若しくは、−ＮＲ^１２−基により中断されていてもよい）である。
   

   

   式（６）中、Ｒ^３及び、Ｒ^４は、式（３）と同じものが挙げられる。Ｍ^３は、結合手、ピペラジノ基、又は、炭素数１〜１２のアルキレン−ＮＨ−基（１〜５個の酸素原子、硫黄原子、及び／若しくは、−ＮＲ^１２−基により中断されていてもよい）である。

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