AT410547B - Neue o-acyloxim-photostarter - Google Patents
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Description
<Desc/Clms Page number 1> Die Erfindung betrifft neue O-Acyloxim-Verbindungen und deren Verwendung als Photostarter in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen. Aus US-A-3 558 309 A ist bekannt, dass bestimmte Oximesterderivate Photostarter darstellen. In US-A-4 255 513 A werden Oximesterverbindungen offenbart. In US-A-4 590 145 A werden verschiedene p-Dimethyl- und p-Diethylamino-substituierte Oximesterverbindungen offenbart. US-A-4 202 697 offenbart Acrylamino-substituierte Oximester. In Chemical Abstract Nr. 96:52526c, J. Chem. Eng. Data 9 (3), (1964), J. Chin. Chem. Soc. (Taipei) 41 (5), 573-8(1994), JP-62-273259-A (= Chemical Abstract 109:83463w), JP-62-286961-A (= Derwent Nr. 88-025703/04), JP-62-201859-A (= Derwent Nr. 87-288481/41), JP-62-184056-A (= Derwent Nr. 87-266739/38), US-A-5019482 und J. of Photochemistry and Photobiology A 107,261-269 (1997) werden einige p-Alkoxyphenyloximesterverbindungen beschrieben. In der Photopolymerisationstechnologie gibt es noch einen Bedarf für hochreaktive, leicht herzustellende und leicht zu handhabende Photostarter. Ausserdem müssen solche neuen Photostar- ter den hohen Anforderungen der Industrie bezüglich Eigenschaften, wie beispielsweise thermi- sche Stabilität und Lagerungsstabilität, genügen. Überraschenderweise wurde gefunden, dass Verbindungen der Formeln I, II, 111 und IV EMI1.1 worin EMI1.2 R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, Phenoxycarbonyl; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe Rg durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlen- stoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4' und R5' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn R5 EMI1.3 gen oder Phenyl substituiert ist, darstellt; R2 C2-C12-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6 Alkyl, Halogen oder CN, substituiert ist, darstellt; Rs SR9 oder Nr10R11 darstellt; R5' eine Gruppe SR9 oder NR10R11 darstellt; n 1-20 ist; EMI1.4 EMI1.5 EMI1.6 R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, gegebenenfalls durch -0- oder -NR8- unterbrochen, darstel- len; M C1-C12Aklye oder Cyclohexylen darstellt; mit der Massgabe, dass (viii) wenn in Formel 11 R1 Methyl darstellt, F5 Phenylthio darstellt, R2 dann kein 4- Chlorbenzoyl darstellt. <Desc/Clms Page number 2> Die Verbindungen der Formeln I, 11 111 und IV sind dadurch gekennzeichnet, dass sie minde- stens einen Alkylthio-, Arylthio-, Alkylamino- oder Arylaminosubstituenten enthalten, der direkt an die an das Kohlenstoffatom der Oximinofunktion gebundene Phenyl- oder Benzoylgruppe gebunden ist. Die substituierten Phenylreste sind ein- bis viermal, beispielsweise ein-, zwei- oder dreimal, insbesondere zweimal, substituiert. Substituenten an dem Phenylring liegen vorzugsweise in Stellungen 4 oder in 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- oder 2,4,6-Konfiguration an dem Phenylring, insbeson- dere in 4- oder 3,4-Stellung, vor. EMI2.1 pyl, n-Butyl, sec-Butyl, Isobutyl, tert-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, 2,4,4-Trimethylpentyl, 2-Ethylhexyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, Tetradecyl, Pentadecyl, Hexadecyl, Octadecyl und Eicosyl. EMI2.2 wie vorstehend für CrC2o-Alkyl bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen angegebenen Bedeutungen auf. C2-C20-Alkyl, das durch ein oder mehrere -0- unterbrochen ist, ist beispielsweise 1-9,1-5, 1-3 oder ein- oder zweimal durch -0- unterbrochen. Zwei O-Atome sind z. B. durch mindestens zwei Methylengruppen, nämlich Ethylen, getrennt. Die Alkylgruppen sind linear oder verzweigt. Bei- spielsweise kommen die nachstehenden Struktureinheiten vor -CH2-CH2-0-CH2CH3, EMI2.3 -CH2-CH(CH3)-0-CH2-CH3. C2-C6-Alkyl, das durch 1 oder 2 -0- unterbrochen ist, ist beispielsweise -CH2CH2-0-CH2CH2-OCH2CH3 oder -CH2CH2-O-CH2CH3. C2-C4-Hydroxyalkyl bedeutet C2-C4-Alkyl, das durch ein oder zwei O-Atome substituiert ist. Der Alkylrest ist linear oder verzweigt. Beispiele sind 2-Hydroxyethyl, 1-Hydroxyethyl, 1-Hydroxypropyl, 2-Hydroxypropyl, 3-Hydroxypropyl, 1-Hydroxybutyl, 4-Hydroxybutyl, 2-Hydroxybutyl, 3-Hydroxy- butyl, 2,3-Dihydroxypropyl oder 2,4-Dihydroxybutyl. EMI2.4 sondere Cyclopentyl und Cyclohexyl, vorzugsweise Cyclohexyl. C1-C4-Alkoxy ist linear oder verzweigt, beispielsweise Methoxy, Ethoxy, Propoxy, Isopropoxy, n-Butyloxy, sec-Butyloxy, Isobutyloxy, tert-Butyloxy. EMI2.5 die gleichen wie vorstehend für C1-C200-Alkyl angegebenen Bedeutungen bis zu der entsprechen- den Anzahl an C-Atomen auf. Beispiele sind Methoxymethyl, Methoxyethyl, Methoxypropyl, Etho- xymethyl, Ethoxyethyl, Ethoxypropyl, Propoxymethyl, Propoxyethyl, Propoxypropyl. C2-C20-Alkanoyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise C2-Ci8-, C2-C14-, C2-C12-, C2-C8-, C2-C6- oder C2-C4-Aklanoyl oder C4-C12- oder C4-C8-Alkanoyl. Beispiele sind Acetyl, Propi- onyl, Butanoyl, Isobutanoyl, Pentanoyl, Hexanoyl, Heptanoyl, Octanoyl, Nonanoyl, Decanoyl, Dodecanoyl, Tetradecanoyl, Pentadecanoyl, Hexadecanoyl, Octadecanoyl und Icosanoyl, vor- zugsweise Acetyl. C2-C12-Alkanoyl, C2-C8-Alkanoyl, C2-C6-Alkanoyl und C2-C4-Alkanoyl weisen die EMI2.6 angegebenen Bedeutungen auf. C2-C4-Alkanoyloxy ist linear oder verzweigt, beispielsweise Acetyloxy, Propionyloxy, Butanoyl- oxy, Isobutanoyloxy, vorzugsweise Acetyloxy. C2-C12-Alkoxycarbonyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise Methoxycarbonyl, Etho- xycarbonyl, Propoxycarbonyl, n-Butyloxycarbonyl, Isobutyloxycarbonyl, 1,1-Dimethylpropoxycarbo- nyl, Pentyloxycarbonyl, Hexyloxycarbonyl, Heptyloxycarbonyl, Octyloxycarbonyl, Nonyloxycarbo- nyl, Decyloxycarbonyl oder Dodecyloxycarbonyl, insbesondere Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, n-Butyloxycarbonyl oder Isobutyloxycarbonyl, vorzugsweise Methoxycarbonyl. C2-C6-Alkoxycarbonyl und C2-C4-Alkoxycarbonyl weisen die gleichen wie vorstehend für C2-C12-Alkoxycarbonyl zu der entsprechenden Anzahl der C-Atome angegebenen Bedeutungen auf. C2-C12-Alkoxycarbonyl, das durch ein oder mehrere -0- unterbrochen ist, ist linear oder ver- zweigt. Zwei O-Atome sind z. B. durch mindestens zwei Methylengruppen, nämlich Ethylen ge- trennt. Phenoxycarbonyl ist <Desc/Clms Page number 3> EMI3.1 Substituierte Phenoxycarbonylreste sind ein- bis viermal, beispielsweise ein-, zwei- oder drei- mal, insbesondere zwei- oder dreimal, substituiert. Substituenten am Phenylring sind vorzugsweise in Stellungen 4 oder in 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- oder 2,4,6-Stellung am Phenylring, insbesondere in 4- oder 3,4-Stellung. EMI3.2 benzyl, insbesondere Benzyl. C3-C12-Alkenylreste können ein- oder mehrfach ungesättigt sein und sind beispielsweise Allyl, Methallyl, 1,1-Dimethylallyl, 1-Butenyl, 3-Butenyl, 2-Butenyl, 1,3-Pentadienyl, 5-Hexenyl, 7-Octenyl oder Dodecenyl, insbesondere Allyl. C3-C6-Alkenoxyreste können ein- oder mehrfach ungesättigt sein und sind beispielsweise Ally- loxy, Methallyloxy, Butenyloxy, Pentenoxy, 1,3-Pentadienyloxy, 5-Hexenyloxy. C3-C6-Alkenoylreste können ein- oder mehrfach ungesättigt sein und sind beispielsweise Pro- penoyl, 2-Methylpropenoyl, Butenoyl, Pentenoyl, 1,3-Pentadienoyl, 5-Hexenoyl. Methylsulfanyl ist -SCH3. Halogen ist Fluor, Chlor, Brom und Jod, insbesondere Fluor, Chlor und Brom, vorzugsweise Fluor und Chlor. C6-C12-Aryl ist beispielsweise Phenyl, 1-Naphthyl, 2-Naphthyl, vorzugsweise Phenyl. Wenn die Substituenten SR9 und NR10R111 an einem Phenylring über die Reste Rg, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, werden Strukturen, die zwei oder vier Ringe umfassen, (einschliesslich des Phenylrings) erhalten. Beispiele sind EMI3.3 Wenn F1 Phenyl ist, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebenenfalls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen RS trägt, gebildet wird, kann beispielsweise die nachstehende Struktur gebildet werden EMI3.4 Verbindungen der Formel 111 worin Rg Phenyl darstellt und R2 mit Halogen substituiertes Ben- zoyl darstellt, sind vorzugsweise aus der vorstehend erwähnten Definition ausgenommen. Bevorzugt sind Verbindungen der Formel und 11 worin EMI3.5 gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C1-C4 Halogenalkyl darstellt; EMI3.6 stituiert ist, darstellt; oder R1 CONNR10R11 darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R5' EMI3.7 <Desc/Clms Page number 4> Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder Phenyl, substituiert mit SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -0- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt; R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit Halogen substituiert ist, darstellt; oder R2 C4- C6-Alkenoyl darstellt, mit der Massgabe, dass die Doppelbindung nicht mit der Carbonylgruppe konjugiert ist; oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; und R5 und R5 SR9 darstellen. Besonders bevorzugt sind Verbindungen der Formel I oder 111 worin mindestens einer der Res- EMI4.1 Insbesondere Verbindungen, der Formeloder))) sind bevorzugt, worin Rs oder R5 SR9 dar- stellt. Insbesondere bevorzugt sind solche Verbindungen, worin Rg Phenyl darstellt, das heisst Verbindungen, worin R5 oder R5' EMI4.2 EMI4.3 gen oder Phenyl substituiert ist, sind bevorzugt, insbesondere jene, worin R6 SR9, insbesondere EMI4.4 Besonderes Interesse gilt den Formeln I, II, 111 oder IV, worin Ri Phenyl, C1-C12-Akly darstellt; R1 C2-C4-Alkoxycarbonyl oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6- gliedriger Ring über die Gruppe Rg durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppe R5 trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn R5 -SR9 darstellt, R' C1-C12-Alky das unsubstituiert oder mit Phenyl oder einem oder mehre- ren Fluor substituiert ist, darstellt; R2 C2-C4-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C4-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; R5 eine Gruppe SR9 oder NR10R11 darstellt; R5' eine Gruppe SR9 oder NR10R11 darstellt; Rg C1-C4Akly Phenyl oder eine Gruppe EMI4.5 darstellt; R10 und R11 Methyl oder Ethyl darstellen oder R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, das durch -0- unterbrochen ist, darstellen; M C1-C12-Aklen darstellt; und M2 eine direkte Bindung darstellt. R1 ist vorzugsweise Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Aly EMI4.6 R5 ist vorzugsweise SR9. Bevorzugt sind Verbindungen der Formeln I und 111. EMI4.7 R2 ist vorzugsweise Benzoyl, Methylbenzoyl, Dimethylbenzoyl oder Acetyl. <Desc/Clms Page number 5> EMI5.1 R5' ist vorzugsweise C1-C4-Alkythio oder Phenylthio. Bevorzugte, erfindungsgemässe Verbindungen sind 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)butan-1,2-dion- 2-oxim-O-benzoesäureester, 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)octan-1,2-dion-2-oxim-O-benzoesäure- EMI5.2 phenyl)butan-1-on-oxim-O-essigsäureester, insbesondere 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)-octan-1,2- dion-2-oxim-O-benzoesäureester. Oximester der Formeln I, 11 111 und IV werden durch in der Literatur beschriebene Verfahren, beispielsweise durch Umsetzung der entsprechenden Oxime (R2 = H) mit einem Acylchlorid oder einem Anhydrid in einem inerten Lösungsmittel, wie beispielsweise Tetrahydrofuran oder Dimethyl- formamid, in Anwesenheit einer Base, beispielsweise einem tertiären Amin, wie Triethylamin, oder in einem basischen Lösungsmittel, wie Pyridin, hergestellt. EMI5.3 Solche Reaktionen sind dem Fachmann bekannt und werden im allgemeinen bei Temperatu- ren von-15 bis +50 C, vorzugsweise 0 bis 20 C, ausgeführt. Die Verbindungen der Formeln 11 und IV können analog durch Verwenden der geeigneten Oxime als Ausgangsmaterialien erhalten werden EMI5.4 R1 R2, Rs und R! r5 und M weisen die vorstehend angegebenen Bedeutungen auf. Als Ausgangsmaterialien erforderliche Oxime können durch eine Vielzahl von Verfahren, die in den üblichen Chemielehrwerken (beispielsweise in J. March, Advanced Organic Chemistry, 4. Ausgabe, Wiley Interscience, 1992) oder in spezielleren Monographien, z. B. S.R. Sandler und <Desc/Clms Page number 6> W. Karo, Organic functional group preparations, Band 3, Academic Press, beschrieben werden, erhalten werden. Eines der zweckmässigsten Verfahren ist beispielsweise die Reaktion von Keto- nen mit Hydroxylamin oder dessen Salz in polaren Lösungsmitteln, wie Ethanol oder wässerigem Ethanol. In dem Fall wird eine Base, wie Natriumacetat, zugegeben, um den pH-Wert des Reakti- onsgemisches zu steuern. Es ist auch bekannt, dass die Geschwindigkeit der Reaktion pH-Wert- abhängig ist und die Base am Beginn oder kontinuierlich während der Reaktion zugegeben werden kann. Basische Lösungsmittel, wie Pyridin, können ebenfalls als Base und/oder Lösungsmittel oder Co-Lösungsmittel angewendet werden. Die Reaktionstemperatur ist im allgemeinen die Rückflusstemperatur des Gemisches, gewöhnlich 60-120 C. Eine weitere geeignete Synthese für Oxime ist die Nitrosierung von "aktiven" Methylengruppen mit salpetriger Säure oder einem Alkylnitrit. Sowohl alkalische Bedingungen, wie beispielsweise in Organic Syntheses Sammelband VI (J. Wiley & Sons, New York, 1988), Seiten 199 und 840, beschrieben, als auch saure Bedingungen, wie beispielsweise in Organic Syntheses Sammelband V, Seiten 32 und 373, Sammelband 111 Seiten 1991 und 513, Sammelband 11 Seiten 202,204 und 363 beschrieben, sind für die Herstellung der als Ausgangsmaterialien der Erfindung verwendbaren Oxime geeignet. Salpetrige Säure wird im allgemeinen aus Natriumnitrit erzeugt. Das Alkylnitrit kann beispielsweise Methylnitrit, Ethylnitrit, Isopropylnitrit, Butylnitrit oder Isoamylnitrit sein. Jede Oximestergruppe kann in zwei Konfigurationen, (Z) oder (E), vorliegen. Es ist möglich, die Isomeren durch herkömmliche Verfahren zu trennen, jedoch ist es auch möglich, das Isomeren- gemisch als photostartende Spezies einzusetzen. Deshalb betrifft die Erfindung ebenfalls Gemi- sche von Konfigurationsisomeren der Verbindungen der Formeln I, II, 111 und IV. Gemäss der Erfindung können die Verbindungen der Formeln I, 11, !11 und IV als Photostarter für die Photopolymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbindungen oder von Gemischen ver- wendet werden, die solche Verbindungen umfassen. Die Erfindung betrifft deshalb photopolymerisierbare Zusammensetzungen, umfassend (a) mindestens eine monomere, oligomere oder polymere Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Acrylaten, Methacrylaten, acrylierten Epoxidharzen, Reaktionsprodukten von acrylierten Epoxidharzen mit einer mehrwertigen Säure, acrylierten Polyestern, Polyestern enthaltend Vinylether- oder Epoxidgruppen, acrylierten Polyurethanen und acrylierten Polyethern, ungesättigten Polyesterharzen, Amiden von ungesättigten Carbonsäuren und Reaktionsprodukten von Polymeren enthaltend Carbonsäuregruppen mit einem epoxidgruppenhaltigen Acrylat oder Methacrylat; und (b) als Photostarter, mindestens eine Verbindung der Formel I, 11 111 und/oder IV wie vorste- hend definiert. Die Zusammensetzung kann zusätzlich zu der Komponente (b) mindestens einen weiteren Photostarter (c) und/oder weitere Costarter (d) und/oder andere Zusätze umfassen. Die ungesättigten Verbindungen (a) können eine oder mehrere olefinische Doppelbindungen einschliessen. Sie können von niederer (monomerer) oder höherer (oligomerer) Molekülmasse sein. Beispiele für Monomere, die eine Doppelbindung enthalten, sind Alkyl- oder Hydroxyalkylacrylate oder -methacrylate, beispielsweise Methyl-, Ethyl-, Butyl-, 2-Ethylhexyl- oder 2-Hydroxyethylacrylat, Isobornylacrylat, Methylmethacrylat oder Ethylmethacrylat. Silikonacrylate sind auch vorteilhaft. Weitere Beispiele sind Acrylnitril, Acrylamid, Methacrylamid, N-substituierte (Meth)acrylamide, Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylether, wie Isobutylvinylether, Styrol, Alkyl- und Halogenstyrole, N- Vinylpyrrolidon, Vinylchlorid oder Vinylidenchlorid. Beispiele für Monomere, die zwei oder mehrere Doppelbindungen enthalten, sind die Diacryla- te von Ethylenglycol, Propylenglycol, Neopentylglycol, Hexamethylenglycol oder von Bisphenol A, und 4,4'-Bis(2-acryloyloxyethoxy)diphenylpropan, Trimethylolpropantriacrylat, Pentaerythrittriacrylat oder -tetraacrylat, Vinylacrylat, Divinylbenzol, Divinylsuccinat, Diallylphthalat, Triallylphosphat, Triallylisocyanurat oder Tris(2-acryloylethyl)isocyanurat. Beispiele für polyungesättigte (mehrfach ungesättigte Verbindungen mir relativ hoher Molekül- masse (Oligomere) sind acrylierte Epoxidharze, acrylierte Polyester, Polyester, die Vinylether- oder Epoxygruppen enthalten, und ebenfalls Polyurethane und Polyether. Weitere Beispiele für ungesät- tigte Oligomere sind ungesättigte Polyesterharze, die gewöhnlich aus Maleinsäure, Phthalsäure und einem oder mehreren Diolen mit Molekulargewichten von etwa 500 bis 3000 hergestellt wer- den. Ausserdem ist es auch möglich, Vinylethermonomere und -oligomere und auch Maleat- <Desc/Clms Page number 7> endständige Oligomere mit Polyester, Polyurethan, Polyether, Polyvinylether und Epoxyhauptket- ten einzusetzen. Besonders geeignet sind Kombinationen von Oligomeren, die Vinylethergruppen tragen, und Polymere, wie in WO 90/01512 beschrieben. Copolymere von Vinylether- und Malein- säure-funktionalisierten Monomeren sind, jedoch auch geeignet. Ungesättigte Oligomere dieser Art können ebenfalls als Prepolymere bezeichnet werden. Besonders geeignete Beispiele sind Ester von ethylenisch ungesättigten Carbonsäuren und Polyolen oder Polyepoxiden, und Polymere mit ethylenisch ungesättigten Gruppen in der Kette oder in den Seitengruppen, beispielsweise ungesättigte Polyester, Polyamide und Polyurethane und Copolymere davon, Polymere und Copolymere, die (Meth)acrylgruppen in Seitenketten enthal- ten, und auch Gemische von einem oder mehreren solcher Polymere. Beispiele für ungesättigte Carbonsäuren sind Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Itacon- säure, Zimtsäure und ungesättigte Fettsäuren, wie Linolensäure oder Ölsäure. Acryl- und Meth- acrylsäure sind bevorzugt. Geeignete Polyole sind aromatische und insbesondere aliphatische und cycloaliphatische Poly- ole. Beispiele für aromatische Polyole sind Hydrochinon, 4,4'-Dihydroxydiphenyl, 2,2-Di(4-hydroxy- phenyl)propan und auch Novolake und Resole. Beispiele für Polyepoxide sind jene, die auf vorste- hend erwähnten Polyolen basieren, insbesondere die aromatischen Polyole und Epichlorhydrin. Andere geeignete Polyole sind Polymere und Copolymere, die Hydroxylgruppen in der Polymer- kette oder in Seitengruppen enthalten; Beispiele sind Polyvinylalkohol und Copolymere davon oder Polyhydroxyalkylmethacrylate oder Copolymere davon. Weitere Polyole, die geeignet sind, sind Oligoester mit Hydroxylendgruppen. Beispiele für aliphatische und cycloaliphatische Polyole sind Alkylendiole mit vorzugsweise 2 bis 12 C-Atomen, wie Ethylenglycol, 1,2- oder 1,3-Propandiol, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Butandiol, Pen- tandiol, Hexandiol, Octandiol, Dodecandiol, Diethylenglycol, Triethylenglycol, Polyethylenglycole mit Molekulargewichten von vorzugsweise 200 bis 1500, 1,3-Cyclopentandiol, 1,2-, 1,3- oder 1,4- Cyclohexandiol, 1,4-Dihydroxymethylcyclohexan, Glycerin, Tris (#-hydroxyethyl)amin, Trimethylol- ethan, Trimethylolpropan, Pentaerythrit, Dipentaerythrit und Sorbit. Die Polyole können teilweise oder vollständig mit einer Carbonsäure oder mit verschiedenen ungesättigten Carbonsäuren verestert sein und Teilester der freien Hydroxylgruppen können modifiziert werden, wie beispielsweise verestert oder verestert mit anderen Carbonsäuren. Beispiele der Ester sind: Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolethantriacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Tri- methylolethantrimethacrylat, Tetramethylenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacrylat, Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritpen- taacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat, Tripentaerythritoctaacrylat, Pentaerythritdimethacrylat, Penta- erythrittrimethacrylat, Dipentaerythritdimethacrylat, Dipentaerythrittetramethacrylat, Tripentaerythrit- octamethacrylat, Pentaerythritdiitaconat, Dipentaerythrittrisitaconat, Dipentaerythritpentaitaconat, Dipentaerythrithexaitaconat, Ethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, 1,3-Butandioldimeth- acrylat, 1,4-Butandioldiitaconat, Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat, Pentaerythrit-modifiziertes Triacrylat, Sorbittetramethacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Oligoesteracrylate und -methacrylate, Glycerindiacrylat und -triacrylat, 1,4-Cyclohexandiacrylat, Bisacrylate und Bismeth- acrylate von Polyethylenglycol mit einem Molekulargewicht von 200 bis 1500, oder Gemische davon. Ebenfalls geeignet als Komponenten (a) sind die Amide von gleichen oder verschiedenen ungesättigten Carbonsäuren mit aromatischen, cycloaliphatischen und aliphatischen Polyaminen mit vorzugsweise 2 bis 6, insbesondere 2 bis 4, Aminogruppen. Beispiele für solche Polyamine sind Ethylendiamin, 1,2- oder 1,3-Propylendiamin, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Butylendiamin, 1,5-Pentylen- diamin, 1,6-Hexylendiamin, Octylendiamin, Dodecylendiamin, 1,4-Diaminocyclohexan, Isophoron- diamin, Phenylendiamin, Bisphenylendiamin, Di-#-aminoethylether, Diethylentriamin, Triethylen- tetramin, Di(#-aminoethoxy)- oder Di(#-aminopropoxy)ethan. Andere geeignete Polyamine sind Polymere und Copolymere, vorzugsweise mit weiteren Aminogruppen in der Seitenkette, und Oligoamide mit Aminoendgruppen. Beispiele für solche ungesättigten Amide sind Methylenbis- acrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, Diethylentriamintrismethacrylamid, Bis(methacrylamido- propoxy)ethan, Methacrylsäure- #-methacrylamidoethylester und N[(#-Hydroxyethoxy)ethyl]acryl- <Desc/Clms Page number 8> amid. Geeignete ungesättigte Polyester und Polyamide leiten sich beispielsweise von Maleinsäure und von Diolen oder Diaminen ab. Etwas von der Maleinsäure kann durch andere Dicarbonsäuren ersetzt sein. Sie können zusammen mit ethylenisch ungesättigten Comonomeren, beispielsweise Styrol, verwendet werden. Polyester und Polyamide können ebenfalls von Dicarbonsäuren und von ethylenisch ungesättigten Diolen oder Diaminen, insbesondere von jenen mit relativ langen Ketten, beispielsweise 6 bis 20 C-Atomen, abgeleitet sein. Beispiele für Polyurethane sind jene, bestehend aus gesättigten oder ungesättigten Diisocyanaten oder ungesättigten bzw. gesättigten Diolen. Polymere mit (Meth)acrylatgruppen in der Seitenkette sind ebenfalls bekannt. Diese können beispielsweise Reaktionsprodukte von Epoxidharzen auf Novolakbasis mit (Meth)acrylsäure sein oder können Homo- oder Copolymere von Vinylalkohol oder Hydroxyalkylderivaten davon, die mit (Meth)acrylsäure verestert wurden, sein oder können Homopolymere und Copolymere von (Meth)acrylaten, die mit Hydroxyalkyl(meth)acrylaten verestert wurden, sein. Die photopolymerisierbaren Verbindungen können einzeln oder in beliebigen gewünschten Gemischen verwendet werden. Es ist bevorzugt, Gemische von Polyol(meth)acrylaten zu verwen- den. Beispiele für die Komponente (a) als Polymere oder Oligomere mit mindestens zwei ethyle- nisch ungesättigten Gruppen und mit mindestens einer Carbonsäurefunktion in der Molekülstruktur sind säuremodifizierte Epoxyacrylate (beispielsweise EB9696 ; UCBChemicals, KAYARAD TCR1025 ; NIPPON KAYAKU CO., LTD.) und acrylierte Acrylcopolymere (beispielsweise ACA200M; Daicel Chemical Industries, Ltd. ). Als Verdünnungsmittel können eine mono- oder multifunktionelle, ethylenisch ungesättigte Verbindung oder Gemische verschiedener solcher Verbindungen ebenfalls in die vorstehend genannte Zusammensetzung bis zu 70 Gew.-%, bezogen auf den festen Teil der Zusammenset- zung, einbezogen sein. Zu diesen neuen Zusammensetzungen können auch Bindemittel (e) gegeben werden. Dies ist besonders zweckmässig, wenn die photopolymerisierbaren Verbindungen flüssige oder viskose Substanzen sind. Die Menge des Bindemittels kann beispielsweise 2%-98%, vorzugsweise 5%- 95% und insbesondere 20% bis 90%, auf das Gewicht des Gesamtfeststoffanteils bezogen, sein. Die Auswahl des Bindemittels wird in Abhängigkeit von dem Anwendungsgebiet und der auf die- sem Gebiet erforderlichen Eigenschaften getroffen, wie dem Vermögen zur Entwicklung von Anhaf- tung an Substraten in wässerigen und organischen Lösungsmittelsystemen und Empfindlichkeit gegen Sauerstoff. Beispiele für geeignete Bindemittel sind Polymere mit einem Molekulargewicht von etwa 2 000 bis 2 000 000, vorzugsweise 5 000 bis 1 000 000. Beispiele für alkalisch entwickelbare Bindemittel sind Acrylpolymer mit Carbonsäurefunktion als Seitengruppe, wie üblicherweise bekannte Copoly- mere, die durch Copolymerisieren einer ethylenisch ungesättigten Carbonsäure, wie (Meth)acryl- säure, 2-Carboxyethyl(meth)acrylsäure, 2-Carboxypropyl(meth)acrylsäure, Itaconsäure, Croton- säure, Maleinsäure und Fumarsäure, mit einem oder mehreren Monomeren, ausgewählt aus Estern von (Meth)acrylsäure, wie (Meth)acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester, (Meth)acrylsäurepropylester, (Meth)acrylsäurebutylester, (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acryl- säure-2-ethylhexylester, (Meth)acrylsäurehydroxyethylester, (Meth)acrylsäurehydroxypropylester, (Meth) acrylsäurebenzylester; Vinyl-aromatischen Verbindungen, wie Styrol, a-Methylstyrol, Vinylto- luol, p-Chlorstyrol; ungesättigte Verbindungen vom Amidtyp, (Meth)acrylamid, Diacetonacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Butoxymethacrylamid; und Verbindungen vom Polyolefintyp, wie Butadien, Isopren, Chloropren und dergleichen; Methacrylnitril, Methylisopropenylketon, Essigsäurevinyl- ester, Propionsäurevinylester oder Pivalonsäurevinylester erhalten werden. Beispiele für Copoly- mere sind Copolymere von Acrylaten und Methacrylaten mit Acrylsäure oder Methacrylsäure und mit Styrol oder substituiertem Styrol, Phenolharzen, beispielsweise Novolak, (Poly)hydroxystyrol und Copolymere von Hydroxystyrol mit Acrylsäurealkylestern, Acrylsäure und/oder Methacrylsäure. Bevorzugte Beispiele für Copolymere sind Copolymere von Methacrylsäuremethylester/Methacryl- säure, Copolymere von MethacrylsäurebenzylesterlMethacrylsäure, Copolymere von Methacryl- säuremethylester/Acrylsäureethylester/Methacrylsäure, Copolymere von Methacrylsäurebenzy- lester/Methacrylsäure/Styrol, Copolymere von Methacrylsäurebenzylester/Methacrylsäure/Meth- acrylsäurehydroxyethylester, Copolymere von (Meth)acrylsäuremethylester/Methacrylsäurebutyl- <Desc/Clms Page number 9> ester/Methacrylsäure/Styrol, Copolymere von Methacrylsäuremethylester/Methacrylsäurebenzyl- ester/Methacrylsäure/Methacrylsäure/Methacrylsäurehydroxyphenylester. Beispiele für in Lösungs- mittel entwickelbare Bindemittelpolymere sind Poly(methacrylsäurealkylester), Poly(acrylsäure- alkylester), Poly(benzylmethacrylat-Co-hydroxyethylmethacrylat-Co-methacrylsäure), Poly(benzyl- methacrylat-Co-methacrylsäure); Celluloseester und Celluloseether, wie Celluloseacetat, Cellulo- seacetobutyrat, Methylcellulose, Ethylcellulose, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, cyclisierter Kau- tschuk, Polyether, wie Polyethylenoxid, Polypropylenoxid und Polytetrahydrofuran; Polystyrol, Polycarbonat, Polyurethan, chlorierte Polyolefine, Polyvinylchlorid, VinylchloridNinyliden-Copoly- mere, Copolymere von Vinylidenchlorid mit Acrylnitril, Methacrylsäuremethylester und Vinylacetat, Polyvinylacetat, Copoly(ethylen/vinylacetat), Polymere, wie Polycaprolactam und Poly(hexamethy- lenadipamid) und Polyester, wie Poly(ethylenglycolterephthalat) und Poly(hexamethylenglycol- succinat) und Polyimidbindemittelharze. Das Polyimidbindemittelharz der vorliegenden Erfindung kann entweder ein in Lösungsmittel lösliches Polyimid oder eine Polyimidvorstufe sein, beispielsweise eine Poly(amicsäure- ester) verbindung (Poly(säureamidsäureester)verbindung), gegebenenfalls mit photopolymerisier- baren Seitengruppen, die entweder an das Gerüst oder an die Estergruppen in dem Molekül ge- bunden sind, oder es kann beispielsweise eine Poly(amicsäure) sein, an die vorzugsweise ein Acrylat oder Methacrylat mit mindestens einer basischen Gruppe in ihrem Molekül in Lösung addiert wurde, beispielsweise ein Aminoacrylat oder Aminomethacrylat. Bevorzugt ist eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die als ein Bindemittelpolymer (e) ein Copolymer von Methacrylat und Methacrylsäure umfasst. Von Interesse sind weiterhin polymere Bindemittelkomponenten, wie beispielsweise in JP-10-171119-A beschrieben, insbesondere zur Verwendung in Farbfiltern. Die ungesättigten Verbindungen können auch als ein Gemisch von nicht photopolymerisierba- ren Film-bildenden Komponenten verwendet werden. Diese können beispielsweise physikalisch trocknende Polymere oder Lösungen davon in organischen Lösungsmitteln, beispielsweise Nitro- cellulose oder Celluloseacetobutyrat, sein. Sie können jedoch auch chemisch und/oder thermisch härtbare (Wärme-härtbare) Harze sein. Beispiele sind Polyisocyanate, Polyepoxide und Melamin- harze sowie Polyimidvorstufen. Die gleichzeitige Verwendung in der Wärme härtbarer Harze ist zur Verwendung in Systemen, die als Hybridsysteme bekannt sind, von Bedeutung, wobei in einer ersten Stufe photopolymerisiert wird und in einer zweiten Stufe Vernetzung mit Hilfe thermischer Nachbehandlung stattfindet. Die photopolymerisierbaren Gemische können zusätzlich zu dem Photostarter verschiedene Additive (d) enthalten. Beispiele davon sind thermische Inhibitoren, die die vorzeitige Polymerisati- on verhindern sollen, beispielsweise Hydrochinon, Hydrochininderivate, p-Methoxyphenol, #-Naph- thol oder sterisch gehinderten Phenole, wie 2,6-Di(tert-butyl)-p-cresol. Zur Erhöhung der Lage- rungsstabilität im Dunkeln können beispielsweise Kupferverbindungen, wie Kupfernaphthenat, Kupferstearat oder Kupferoctanoat, Phosphorverbindungen, beispielsweise Triphenylphosphin, Tributylphosphin, Triethylphosphit, Triphenylphosphit oder Tribenzylphosphit, quatemäre Ammo- niumverbindungen, beispielsweise Tetramethylammoniumchlorid oder Trimethylbenzylammonium- chlorid oder Hydroxylaminderivate, beispielsweise N-Diethylhydroxylamin, eingesetzt werden. Um den Atmosphärensauerstoff von der Polymerisation auszuschliessen, können Paraffin oder ähnliche wachsähnliche Substanzen zugegeben werden ; wandern am Anfang der Polymerisation aufgrund ihrer geringen Löslichkeit in dem Polymer an die Oberfläche und bilden eine durchsichti- ge Oberflächenschicht, die den Eintritt von Luft verhindert. Es ist auch möglich, eine für Sauerstoff undurchlässige Schicht oben auf der Beschichtung, z.B. Poly(vinylalkohol-Co-vinylacetat) aufzutra- gen. Lichtstabilisatoren, die in geringen Mengen zugegeben werden können, sind UV-Absorptions- mittel, beispielsweise jene vom Hydroxyphenylbenzotriazol-, Hydroxyphenylbenzophenon-, Oxal- anilid- oder Hydroxyphenyl-s-triazin-Typ. Diese Verbindungen können einzeln oder als Gemische, mit oder ohne Verwendung von sterisch gehinderten Aminen (HALS), angewendet werden. Beispiele für solche UV-Absorptionsmittel und Lichtstabilisatoren sind 1. 2-(2'-Hydroxyphenyl)benzotriazole, zum Beispiel 2-(2'-Hydroxy-5'-methylphenyl)benzotri- azol, 2-(3',5'-Di-tert-butyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(5'-tert-Butyl-2'-hydroxyphenyl)benzotri- <Desc/Clms Page number 10> azol, 2-(2'-Hydroxy-5'-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3',5'-Di-tert-butyl-2'-hydroxy- phenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-methylphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'- sec-Butyl-5'-tert-butyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(2'-Hydroxy-4'-octoxyphenyl)benzotriazol, 2-(3',5'-Di-tert-amyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(3',5'-Bis-(a,a-dimethylbenzyl)-2'-hydroxy- phenyl)benzotriazol, Gemisch von 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl5- EMI10.1 (3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-methoxycarbonylethyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy- 5'-(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-5'-[2-(2-ethylhexyloxy)carbonylethyl]-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(3'-Dodecyl-2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazol und 2- (3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-isooctyloxycarbonylethyl)phenylbenzotriazol, 2,2'-Methylenbis[4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl6-benzotriazol-2-ylphenol]; Umesterungsprodukt von 2-[3'-tert-Butyl-5'-(2methoxycarbonylethyl)-2'-hydroxyphenyl]-benzotriazol mit Polyethylenglycol 300 ; [R-CH2CH2COO(Ch2)3 wobei R = 3'-tert-Butyl-4'-hydroxy-5'-2H-benzotriazol-2-ylphenyl. 2. 2-Hvdroxvbenzophenone, zum Beispiel die 4-Hydroxy-, 4-Methoxy-, 4-Octoxy-, 4-Decyloxy-, 4-Dodecyloxy-, 4-Benzyloxy-, 4,2', 4'-Trihydroxy- und 2'-Hydroxy-4,4'-dimethoxyderivate. 3. Ester von substituierten oder unsubstituierten Benzoesäuren, zum Beispiel Salicylsäure-4tert-butylphenylester, Salicylsäurephenylester, Salicylsäureoctylphenylester, Dibenzoylresorcin, Bis-(4-tert-butylbenzoyl) resorcin, Benzoylresorcin, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäure-2,4-ditert-butylphenylester, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäurehexadecylester, 3,5-Di-tert-butyl-4hydroxybenzoesäureoctadecylester und 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäure-2-methyl-4,6-ditert-butylphenylester. 4. Acrylate, zum Beispiel a-Cyano- #,#-diphenylacrylsäureethylester oder a-Cyano- #,#- EMI10.2 methoxyzimtsäurebutylester oder a-Cyano- #-methyl-p-methoxyzimtsäuremethylester, a-Carbome- thoxy-p-methoxyzimtsäuremethylester und N-( #-Carbomethoxy- #-cyanovinyl)-2-methylindolin. 5. Sterisch gehinderte Amine, zum Beispiel Bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)sebacat, Bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat, Bis (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)sebacat, Bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyln-butyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylmalonat, das Konden- sationsprodukt von 1-Hydroxyethyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-hydroxypiperidin und Bernsteinsäure, das Kondensationsprodukt von N,N'-Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylendiamin und 4- tert-Octylamino-2,6-dichlor-1,3,5-s-triazin, Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)nitrilotriacetat, Tetra- kis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butantetraoat, 1,1'-(1,2-Ethandiyl)bis-(3,3,5,5-tetra- methylpiperazinon), 4-Benzoyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin, 4-Stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperi- EMI10.3 n-Octyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro-[4.5]-decan-2,4-dion, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)sebacat, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat, das Kondensationsprodukt von N,N'-Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylendiamin und 4-Morpholino-2,6dichlor-1,3,5-triazin, das Kondensationsprodukt von 2-Chlor-4,6-di-(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)-1,3,5-triazin und 1,2-Bis(3-aminopropylamino)ethan, das Kondensationsprodukt von 2-Chlor-4,6-di-(4-n-butylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-1,3,5-triazin und 1,2-Bis-(3aminopropylamino)ethan, 8-Acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]-decan-2,4dion, 3-Dodecyl-1-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion und 3-Dodecyl-1-(1,2,2,6,6pentamethyl-4-piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion. 6. Oxalamide, zum Beispiel 4,4'-Dioctyloxyoxanilid, 2,2'-Diethoxyoxanilid, 2,2'-Dioctyloxy-5,5'di-tert-butyloxanilid, 2,2'-Didodecyloxy-5,5'-di-tert-butyloxanilid, 2-Ethoxy-2'-ethyloxanilid, N,N'Bis(3-dimethylaminopropyl)oxalamid, 2-Ethoxy-5-tert-butyl-2'-ethyloxanilid und dessen Gemisch mit 2-Ethoxy-2'-ethyl-5,4'-di-tert-butyloxanilid und Gemische von o- und p-Methoxy- und von o- und pEthoxy-disubstituierten Oxaniliden. <Desc/Clms Page number 11> 7. 2-(2-Hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine, zum Beispiel 2,4,6-Tris(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)- 1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-octyloxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2,4-Dihy- droxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2,4-Bis(2-hydroxy-4-propyloxyphenyl)-6- EMI11.1 decyloxy-(2-hydroxypropyl)-oxy-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin. 8. Phosphite und Phosphonite, zum Beispiel Triphyenylphosphit, Diphenylalkylphosphite, Phenyldialkylphosphite, Tris(nonylphenyl)phosphit, Trilaurylphosphit, Trioctadecylphosphit, Distearylpentaerythrityldiphosphit, Tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphit, Di isodecyl pentaery-th rityldi- phosphit, Bis(2,4-di-tert-butylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bisisodecyloxypentaerythrityldiphosphit, Bis(2,4-di-tert-butyl-6-methyl- EMI11.2 sorbityltriphosphit, Tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4'-biphenylendiphosphonit, 6-lsooctyloxy- 2,4,8,10-tetra-tert-butyl-12H-di-benzo[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin, 6-Fluor-2,4,8,10-tetra-tert-butyl- 12-methyldibenzo[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin, Bis-(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)methylphosphit und Bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)ethylphosphit. Weitere, im Stand der Technik bekannte Additive können als Komponente (d) zugegeben wer- den, wie z.B. Fliessverbesserer, Haftkraftverstärker, wie Vinyltrimethoxysilan, Vinyltriethoxysilan, Vinyltris(2-methoxyethoxy)silan, N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilan, N-(2- Aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, 3-Aminopropyltriethoxysilan, 3-Glycidoxypropyltrime- thoxysilan, 3-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilan, 2-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilan, 3-Chlorpropylmethyldimethoxysilan, 3-Chlorpropyltrimethoxysilan, 3-Methacryloxypropyltrimethoxy- silan und 3-Mercaptopropyltrimethoxysilan. Tenside, Aggregationsverhinderer, Antioxidantien, Photosensibilisatoren oder Füllstoffe sind weitere Beispiele für Additive (d). Um die Photopolymerisation zu beschleunigen, ist es möglich, Amine, wie beispielsweise Triethanolamin, N-Methyldiethanolamin, p-Dimethylaminobenzoat oder Michler's Keton zuzugeben. Die Wirkung der Amine kann durch die Zugabe von aromatischen Ketonen vom Benzophenontyp verstärkt werden. Beispiele für Amine, die als Sauerstoffänger verwendet werden können, sind substituierte N,N-Dialkylaniline, wie in EP-A-339 841 beschrieben. Andere Beschleuniger, Co- Starter und Autooxidationsmittel sind Thiole, Thioether, Disulfide, Phosphoniumsalze, Phosphin- oxide oder Phosphine, wie beispielsweise in EP-A-438 123, in GB-A-2 180 358 und in JP-Kokai Hei 6-68309 beschrieben. Es ist weiterhin möglich, Kettenübertragungsmittel, die üblicherweise im Stand der Technik zu- gegeben werden, zu den Zusammensetzungen der Erfindung zuzugeben. Beispiele sind Mercap- tane, Amine und Benzothiazol. Die Photopolymerisation kann ebenfalls durch Zugabe von Photosensibilisatoren oder Costar- tern (als Komponente (d)) zusätzlich beschleunigt werden, die die Spektralempfindlichkeit ver- schieben oder verbreitern. Diese sind insbesondere aromatische Verbindungen, wie Benzophenon und Derivate davon, Thioxanthon und Derivate davon, Anthrachinon und Derivate davon und Cumarin und Derivate davon, und Phenothiazin und Derivate davon und auch 3-(Aroylmethy- len)thiazoline, Rhodanin-, Campherchinon-, aber auch Eosin-, Rhodamin-, Erythrosin-, Xanthen-, Thioxanthen-, Acridin-, z.B. 9-Phenylacridin-, 1,7-Bis(9-acridinyl)heptan-, 1,5-Bis(9-acridinyl)pen- tan-, Cyanin- und Merocyaninfarbstoffe. Spezielle Beispiele für solche Verbindungen sind 1. Thioxanthone Thioxanthon, 2-lsopropylthioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 2-Dodecylthioxanthon, 2,4-Diethyl- thioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 1-Methoxycarbonylthioxanthon, 2-Ethoxycarbonylthio- xanthon, 3-(2-Methoxyethoxycarbonyl)thioxanthon, 4-Butoxycarbonylthioxanthon, 3-Butoxycarbo- nyl-7-methylthioxanthon, 1-Cyano-3-chlorthioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-Chlorthioxanthon, 1- Ethoxycarbonyl-3-ethoxythioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-aminothioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3- <Desc/Clms Page number 12> phenylsulfurylthioxanthon, 3,4-Di-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxycarbonyl]thioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-(1-methyl-1-morpholinoethyl)thioxanthon, 2-Methyl-6-dimethoxymethylthioxanthon, 2-Methyl- 6-(1,1-dimethoxybenzyl)thioxanthon, 2-Morpholinomethylthioxanthon, 2-Methyl-6-morpholinomethylthioxanthon, N-Allylthioxanthon-3, 4-dicarboximid, N-Octylthioxanthon-3,4-dicarboximid, N- (1,1,3,3-Tetramethylbutyl)thioxanthon-3,4-dicarboximid, 1-Phenoxythioxanthon, 6-Ethoxycarbonyl- 2-methoxythioxanthon, 6-Ethoxycarbonyl-2-methylthioxanthon, Thioxanthon-2-carbonsäurepolyethylenglycolester, 2-Hydroxy-3-(3,4-dimethyl-9-oxo-9H-thioxanthon-2-yloxy)-N,N,N-trimethyl-1propanaminiumchlorid; 2. Benzophenone Benzophenon, 4-Phenylbenzophenon, 4-Methoxybenzophenon, 4,4'-Dimethoxybenzophenon, 4,4'-Dimethylbenzophenon, 4,4'-Dichlorbenzophenon, 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenon, 4,4'Bis(diethylamino)benzophenon, 4-Methylbenzophenon, 2,4,6-Trimethylbenzophenon, 4-(4-Methylthiophenyl)benzophenon, 3,3'-Dimethyl-4-methoxybenzophenon, Methyl-2-benzoylbenzoat, 4-(2Hydroxyethylthio)benzophenon, 4-(4-Tolylthio)benzophenon, 4-Benzoyl-N,N,N-trimethylbenzolmethanaminiumchlorid, 2-Hydroxy-3-(4-benzoylphenoxy)-N,N,N-trimethyl-1-propanaminiumchloridmonohydrat, 4-(13-Acryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxatridecyl)benzophenon, 4-Benzoyl-N,N-dimethyl-N- [2-(1-oxo-2-propenyl)oxy]ethylbenzolmethanaminiumchlorid; 3. Cumarine Cumarin 1, Cumarin 2, Cumarin 6, Cumarin 7, Cumarin 30, Cumarin 102, Cumarin 106, Cumarin 138, Cumarin 152, Cumarin 153, Cumarin 307, Cumarin 314, Cumarin 314T, Cumarin 334, Cumarin 337, Cumarin 500, 3-Benzoylcumarin, 3-Benzoyl-7-methoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7dimethoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7-dipropoxycumarin, 3-Benzoyl-6,8-dichlorcumarin, 3-Benzoyl-6chlorcumarin, 3,3'-Carbonylbis[5,7-di(propoxy)cumarin], 3,3'-Carbonylbis(7-methoxycumarin), 3,3'Carbonylbis(7-diethylaminocumarin), 3-lsobutyroylcumarin, 3-Benzoyl-5,7-dimethoxycumarin, 3Benzoyl-5,7-di-ethoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7-dibutoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7-di(methoxyethoxy)cumarin, 3-Benzoyl-5,7-di(allyloxy)cumarin, 3-Benzoyl-7-dimethyl-aminocumarin, 3- EMI12.1 cumarin, 7-Dimethylamino-3-phenylcumarin, 7-Diethylamino-3-phenylcumarin, die Cumarinderi- vate, die in JP-09-179299-A und JP-09-325209-A offenbart sind, beispielsweise 7-[{4-Chlor-6- (diethylamino)-S-triazin-2-yl}amino] -3-phenylcumarin; EMI12.2 3-Methyl-2-benzoylmethylen- #-naphthothiazolin, 3-Methyl-2-benzoylmethylenbenzothiazolin, 3-Ethyl-2-propionylmethylen- #-naphthothiazolin; 5. Rhodanine 4-Dimethylaminobenzalrhodanin, 4-Diethylaminobenzalrhodanin, 3-Ethyl-5-(3-octyl-2-benzothi- azolinyliden)rhodanin, die Rhodaninderivate der Formeln [1], [2], [7], die in JP 08-305019-A offen- bart sind; 6. Andere Verbindungen Acetophenon, 3-Methoxyacetophenon, 4-Phenylacetophenon, Benzil, 4,4'-Bis(dimethyl- amino)benzil, 2-Acetylnaphthalin, 2-Naphthaldehyd, Dansylsäurederivate, 9,10-Anthrachinon, Anthracen, Pyren, Aminopyren, Perylen, Phenanthren, Phenanthrenchinon, 9-Fluorenon, Dibenzo- suberon, Curcumin, Xanthon, Thio-Michler's-Keton, a-(4-Dimethylaminobenzyliden)ketone, bei- spielsweise 2,5-Bis(4-diethylaminobenzyliden)cyclopentanon, 2-(4-Dimethylaminobenzyli- den)indan-1-on, 3-(4-Dimethylaminophenyl)-1-indan-5-yl-propenon, 3-Phenylthiophthalimid, N- Methyl-3,5-di(ethylthio)phthalimid, N-Methyl-3,5-di(ethylthio)phthalimid, Phenothiazin, Methylphe- nothiazin, Amine, beispielsweise N-Phenylglycin, 4-Dimethylaminobenzoesäureethylester, 4- Dimethylaminobenzoesäurebutoxyethylester, 4-Dimethylaminoacetophenon, Triethanolamin, Methyldiethanolamin, Dimethylaminoethanol, Benzoesäure-2-(dimethylamino)ethylester. <Desc/Clms Page number 13> Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die als Photosensibilisator (d) eine Verbin- dung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Benzophenon und dessen Derivaten, Thio- xanthon und dessen Derivaten, Anthrachinon und dessen Derivaten, oder Cumarinderivaten ent- hält, ist bevorzugt. Das Härtungsverfahren kann beispielsweise durch Zusatz von Photosensibilisatoren, insbe- sondere bei Zusammensetzungen, die pigmentiert sind (z. B. mit Titandioxid) unterstützt werden und ebenfalls durch Zugabe einer Komponente, die unter thermischen Bedingungen freie Radikale bildet, beispielsweise eine Azoverbindung, wie 2,2'-Azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitril), ein Triazen, Diazosulfid, Pentaazadien oder eine Peroxyverbindung, wie ein Hydroperoxid oder Pero- xycarbonat, beispielsweise t-Butylhydroperoxid, wie in EP-A-245 639 beschrieben. Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen können als weiteres Additiv (d) einen photore- duzierbaren Farbstoff, beispielsweise Xanthen-, Benzoxanthen-, Benzothioxanthen-, Thiazin-, Pyronin-, Porphyrin- oder Acridinfarbstoffe und/oder Trihalogenmethylverbindungen, die durch Bestrahlung gespalten werden kann, enthalten. Ähnliche Zusammensetzungen werden beispiels- weise in EP-A-445 624 beschrieben. Weitere übliche Additive sind in Abhängigkeit von der vorgesehenen Anwendung optische Auf- heller, Füllstoffe, Pigmente, Farbstoffe, Netzmittel, Egalisierhilfen, Dispergierhilfen und Haftkraft- verstärker, z.B. Methacryloxypropyltrimethoxysilan. Zum Härten von dicken und pigmentierten Beschichtungen ist es geeignet, Glasmikrokugeln oder pulverisierte Glasfasern, wie beispielsweise in US-A-5 013 768 beschrieben, zuzugeben. Die Auswahl des/der Additivs/e (d) erfolgt in Abhängigkeit vom Anwendungsgebiet und den auf diesem Gebiet erforderlichen Eigenschaften. Die vorstehend beschriebenen Additive sind im Stand der Technik üblich und werden folglich in Mengen zugesetzt, die in der entsprechenden Anwen- dung üblich sind. Die Erfindung stellt ebenfalls Zusammensetzungen bereit, die als Komponente (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte, photopolymerisierbare Verbindung, die in Wasser emulgiert oder gelöst wird, umfasst. Viele Varianten solcher strahlungshärtbarer, wässeriger Prepolymerdisper- sionen sind kommerziell erhältlich. Eine Prepolymerdispersion ist als eine Dispersion von Wasser und mindestens einem darin dispergierten Prepolymer zu verstehen. Die Wasserkonzentration in diesen Systemen ist beispielsweise 5 bis 80 Gewichtsprozent, insbesondere 30 bis 60 Gewichts- prozent. Die Konzentration an strahlungshärtbarem Prepolymer oder Prepolymergemisch ist bei- spielsweise 95 bis 20 Gewichtsprozent, insbesondere 70 bis 40 Gewichtsprozent. In diesen Zu- sammensetzungen ist die Summe der Prozentsätze, die für Wasser und Prepolymer angegeben werden, in jedem Fall 100, wobei die Hilfsmittel und Additive in unterschiedlichen Mengen in Ab- hängigkeit von der vorgesehenen Verwendung zugegeben werden. Die strahlungshärtbaren, filmbildenden Prepolymere, die in Wasser dispergiert werden und die häufig auch gelöst werden, sind wässerige Prepolymerdispersionen von monofunktionellen oder polyfunktionellen, ethylenisch ungesättigten Prepolymeren, die an sich bekannt sind, können mit Hilfe von freien Radikalen gestartet werden und enthalten beispielsweise 0,01 bis 1,0 Mol polyme- risierbare Doppelbindungen pro 100 g Prepolymer und weisen ein mittleres Molekulargewicht von beispielsweise mindestens 400, insbesondere 500 bis 10 000, auf. In Abhängigkeit von der vorge- sehenen Anwendung können jedoch Prepolymere mit höheren Molekulargewichten ebenfalls geeignet sein. Beispielsweise werden Polyester, die polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthalten und eine Säurezahl von nicht mehr als 10 aufweisen, Polyether, die polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthalten, Hydroxyl-enthaltende Reaktionsprodukte eines Polyepoxids, das mindestens zwei Epoxidgruppen pro Molekül enthält, mit mindestens einer a, #-ethylenisch unge- sättigten Carbonsäure, Polyurethan(meth)acrylate und a, #-ethylenisch ungesättigte Acrylcopoly- mere, die Acrylreste enthalten, wie in EP-A-12 339 beschrieben, verwendet. Gemische dieser Prepolymere können auch angewendet werden. Ebenfalls geeignet sind die polymerisierbaren Prepolymere, beschrieben in EP-A-33 896, die Thioetheraddukte von polymerisierbaren Prepoly- meren mit einem mittleren Molekulargewicht von mindestens 600, einem Carboxylgruppenanteil von 0,2 bis 15% und einem Anteil von 0,01 bis 0,8 Mol polymerisierbarer C-C-Doppelbindungen pro 100 g Prepolymer, darstellen. Andere geeignete wässerige Dispersionen, basierend auf speziellen Alkyl(meth)acrylatpolymeren, werden in EP-A-41 125 beschrieben, und geeignete in Wasser dispergierbare, strahlungshärtbare Prepolymere von Urethanacrylaten, werden in <Desc/Clms Page number 14> DE-A-29 36 039 beschrieben. Diese strahlungshärtbaren, wässerigen Prepolymerdispersionen können als weitere Additive Dispersionshilfsmittel, Emulgatoren, Antioxidantien, z.B. 2,2-Thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol) oder 2,6-Di-t-butylphenol, Lichtstabilisatoren, Farbstoffe, Pigmente, Füllstoffe, beispielsweise Talkum, Gips, Siliciumdioxid, Rutil, Russ, Zinkoxid und Eisenoxide, Reaktionsbeschleuniger, Egalisiermittel, Gleitmittel, Netzmittel, Verdickungsmittel, Mattierungsmittel, Antischaumbildungsmittel und andere Hilfsmittel, die in der Oberflächenbeschichtungstechnologie üblich sind, enthalten. Geeignete Dispersionshilfsmittel sind wasserlösliche, organische Verbindungen mit hohem Molekulargewicht, die polare Gruppen enthalten, beispielsweise Polyvinylalkohole, Polyvinylpyrrolidon und Cellulose- ether. Emulgatoren, die verwendet werden können, sind nichtionische Emulgatoren und gegebe- nenfalls auch ionische Emulgatoren. In bestimmten Fällen kann es von Vorteil sein, Gemische von zwei oder mehreren der neuen Photostarter anzuwenden. Es ist natürlich auch möglich, Gemische mit bekannten Photostartern (c) anzuwenden, beispielsweise Gemische mit Campherchinon, Benzophenon, Benzophenonderi- vaten, Acetophenon, Acetophenonderivaten, z.B. a-Hydroxycycloalkylphenylketonen oder 2- Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropanon, Dialkoxyacetophenonen, a-Hydroxy- oder a-Aminoacetophe- nonen, z.B. (4-Methylthiobenzoyl)-1-methyl-1-morpholinoethan, (4-Morpholinobenzoyl)-1-benzyl-1- dimethylaminopropan, 4-Aroyl-1,3-dioxolanen, Benzoinalkylethern und Benzilketalen, z. B. Dime- thylbenzilketal, Phenylglyoxalsäureestern und Derivaten davon, dimeren Phenylglyoxalsäure- estern, Diacetyl, Perestern, z.B. Benzophenontetracarbonsäureperestem, wie z. B. in EP-A-126 541 beschrieben, Monoacylphosphinoxiden, z. B. (2,4,6-Trimethylbenzoyl)diphenylphos- EMI14.1 Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinoxid, Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dipentoxyphenyl- phosphinoxid, Trisacylphosphinoxide, Halogenmethyltriazine, z. B. 2-[2-(4-Methoxyphenyl)vinyl]- 4,6-bistrichlormethyl-[1,3,5]triazin, 2-(4-Methoxyphenyl)-4,6-bistrichlormethyl[1 ,3,5]triazin, 2-(3,4- Dimethoxyphenyl)-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-Methyl-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2- (p-N,N-Di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl)-4,6-di(trichlormethyl) [1,3,5]-triazin, 2-(4-Methoxy- naphthyl)-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-(1 ,3-Benzodioxol-5-yl)-4,6-bistrichlormethyl[1 ,3,5]tri- azin, 2-[2-(4-(Pentyloxy)phenyl]ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(3-(Methyl-2- furanyl) ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(5-Methyl-2-furanyl)ethenyl]-4,6-bistrichlor- methyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(2,4-Dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(2- Methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(4-Isopropyloxyphenyl]ethenyl]-4,6- bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(3-Chlor-4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]tri- azin, 2-[2-Brom-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bistrichlormethyl-[1,3,5]triazin, 2- [2-Chlor-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[3- Brom-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[3-Chlor-4- EMI14.2 Halogenmethyltriazinen, wie beispielsweise in G. Buhr, R. Dammel und C. Lindley, Polym. Mater. Sei. Eng. 61,269 (1989) und EP-A-0 262 788 beschrieben ; Halogenmethyloxazol-Photostarter, wie in US-A-4 371 606 und US-A-4 371 607 beschrieben; 1,2-Disulfone, wie in E. A. Bartmann, Synthesis 5,490 (1993) beschrieben; Hexaarylbisimidazol und Hexaarylbisimidazol/Co-Starter- Systeme, beispielsweise ortho-Chlorhexaphenylbisimidazol, kombiniert mit 2-Mercaptobenzthiazol, Ferroceniumverbindungen oder Titanocenen, beispielsweise Bis(cyclopentadienyl)bis(2,6-difluor-3- pyrrylphenyl)titanium. Wenn die neuen Photostartersysteme in Hybridsystemen angewendet werden, werden zusätz- lich zu den erfindungsgemässen radikalischen Härtern kationische Photostarter, Peroxidverbindun- gen, wie Benzoylperoxid (andere geeignete Peroxide werden in US-A-4 950 581 Spalte 19, Zeilen 17-25 beschrieben), aromatische Sulfonium-, Phosphonium- oder Jodoniumsalze, wie beispiels- weise in US-A-4 950 581, Spalte 18, Zeile 60 bis Spalte 19, Zeile 10 beschrieben, oder Cyclopen- EMI14.3 Eisen(11)hexafluorophosphat sowie Oximsulfonsäureestern, wie beispielsweise in EP-A-780 729 beschrieben, eingesetzt. Auch Pyridinium- und (Iso)chinoliniumsalze, wie beispielsweise in EP-A-497 531 und EP-A-441 232 beschrieben, können in Kombination mit den neuen Photo- startern verwendet werden. Gegenstand der Erfindung sind Zusammensetzungen, die neben der Verbindung der Formel I, <Desc/Clms Page number 15> 11 111 oder IV mindestens ein a-Aminoketon, insbesondere (4-Methylthiobenzoyl)-1-methyl-1- morpholinoethan, umfassen. Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen umfassen im allgemeinen 0,005 bis 25 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,01 bis 10 Gewichtsprozent, insbesondere 0,01 bis 5 Gewichtsprozent des Photostarters, bezogen auf die feste Zusammensetzung. Die Menge betrifft die Summe von allen zugegebenen Photostartern, wenn Gemische von Startern angewendet werden. Folglich betrifft die Menge entweder Photostarter (b) oder die Photostarter (b)+(c). Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen können für verschiedenste Zwecke verwen- det werden, beispielsweise als Druckfarben, Lacke für klare Deckschichten, als weisse Anstrichstof- fe, beispielsweise für Holz oder Metall, als Pulverbeschichtung, als Beschichtungsstoffe, unter anderem für Papier, Holz, Metall oder Kunststoff, als bei Tageslicht härtbare Beschichtungen für Gebäude und zur Fahrbahnmarkierung, für photographische Reproduktionsverfahren, für hologra- phische Aufzeichnungsmaterialien, für Bildaufzeichnungsverfahren oder zur Herstellung von Druckplatten, die unter Verwendung von organischen Lösungsmitteln oder wässerigen alkalischen Medien entwickelt werden können, zur Herstellung von Masken für Siebdruck, als dentale Füllma- terialien, als Klebstoff, als Haftklebstoff, als laminierbare Harze, wie Ätzresists, Elektroplattierungs- resists oder Permanentresists, sowohl flüssige als auch trockene Filme, als photostrukturierbares Dielektrikum und als Lötmasken für Leiterplatten und elektronische Schaltkreise, als Resists zur Herstellung von Farbfiltern für eine Vielzahl von Anzeigevorrichtungen oder zur Erzeugung von Strukturen beim Herstellungsverfahren von Plasmaanzeigevorrichtungen und elektrolumineszente Anzeigevorrichtungen (z. B. beschrieben in US-A-5 853 446, EP-A-0 863 534, JP-A-09-244230, JP-A-10-062980, JP-A-08-171863, US-A-5 840 465, EP-A-0 855 731, JP-A-05-271576, JP-A-05-067405) zur Herstellung von optischen Schaltern, optischen Gittern (Interferenzfilter), Lichtschaltkreise, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen durch Massehärtung (UV- Härtung in durchsichtigen Formen) oder durch das Stereolithographieverfahren, wie beispielsweise in US-A-4 575 330 beschrieben, zur Herstellung von Verbundstoffen (beispielsweise Styrolpoly- ester, die, falls erwünscht, Glasfasern und/oder andere Fasern oder andere Hilfsstoffe enthalten können) und für andere dickschichtige Zusammensetzungen, zur Beschichtung oder Einkapselung von elektronischen Komponenten und integrierten Schaltkreisen oder als Beschichtungen für optische Fasern oder zur Herstellung von optischen Linsen, z. B. Kontaktlinsen oder Fresnel- Linsen. Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen sind weiterhin für die Herstellung von medi- zinischer Ausrüstung, Hilfsmitteln oder Implantaten geeignet. Ausserdem sind die erfindungsgemä- #en Zusammensetzungen auch für die Herstellung von Gelen mit thermotropen Eigenschaften, wie beispielsweise in DE-A-19700064 und EP-A-678 534 beschrieben, geeignet. Die erfindungsgemässen Verbindungen können ausserdem als Starter für Emulsionspolymerisa- tionen, Perlpolymerisationen oder Emulsionspolymerisationen, als Polymerisationsstarter zum Fixieren des geordneten Zustands von flüssigkristallinen Mono- und Oligomeren, als Starter zum Fixieren von Farbstoffen für organische Materialien und für härtende Pulverbeschichtungen ver- wendet werden. In Beschichtungsmaterialien werden häufig Gemische von Prepolymer mit polyungesättigten Monomeren verwendet, die ausserdem auch ein monoungesättigtes Monomer enthalten. Das Prepolymer ist hier vordringlich für die Eigenschaften des Beschichtungsfilms verantwortlich und Änderungen davon gestatten dem Fachmann die Einflussnahme auf die Eigenschaften des gehärte- ten Films. Das polyungesättigte Monomer dient als Vernetzungsmittel, das den Beschichtungsfilm unlöslich gestaltet. Das monoungesättigte Monomer dient als Reaktiwerdünnungsmittel, aufgrund dessen die Viskosität ohne die notwendige Verwendung eines Lösungsmittels vermindert wird. Ungesättigte Polyesterharze werden meist in Zwei-Komponenten-Systemen im Zusammen- hang mit einem monoungesättigten Monomer, vorzugsweise Styrol, verwendet. Für Photoresists werden häufig spezielle Ein-Komponenten-Systeme angewendet, beispielsweise Polymaleimide, Polychalcone oder Polyimide, wie in DE-A-23 08 830 beschrieben. Die erfindungsgemässen Verbindungen und Gemische davon können auch zur Polymerisation von strahlungshärtbaren Pulverbeschichtungen verwendet werden. Die Pulverbeschichtungen können auf festen Harzen und Monomeren, die reaktive Doppelbindungen enthalten, wie Maleate, Vinylether, Acrylate, Acrylamide und Gemische davon, beruhen. Eine über freie Radikale UV- härtbare Pulverbeschichtung kann durch Vermischen von ungesättigten Polyesterharzen mit festen <Desc/Clms Page number 16> Acrylamiden (beispielsweise Methacrylamidoglycolsäuremethylester) und mit erfindungsgemässem radikalischen Photostarter, wie beispielsweise in dem Artikel "Radiation Curing of Powder Coating", Conference Proceedings, Radtech Europe 1993, von M. Wittig und Th. Gohmann beschrieben, formuliert werden. Die Pulverbeschichtungen können auch Bindemittel, wie beispielsweise in DE-A-42 28 514 oder EP-A-636 669 beschrieben, enthalten. Freie radikalische, UV-härtbare Pul- verbeschichtungen können durch Vermischen ungesättigter Polyesterharze mit festen Acrylaten, Methacrylaten oder Vinylethern und mit einem erfindungsgemässen Photostarter (oder Photostar- tergemisch) formuliert werden. Die Pulverbeschichtungen können auch Bindemittel, wie beispiels- weise in DE-A-42 28 514 und in EP-A-636 669 beschrieben, umfassen. Die UV-härtbaren Pulver- beschichtungen können ausserdem weisse oder gefärbte Pigmente umfassen. Somit kann für eine gehärtete Pulverbeschichtung mit guter Deckkraft beispielsweise vorzugsweise Rutiltitandioxid in Konzentrationen bis zu 50 Gew.-% verwendet werden. Das Verfahren umfasst normalerweise elektrostatisches oder tribostatisches Sprühen des Pulvers auf das Substrat, z.B. Metall oder Holz, Schmelzen des Pulvers durch Erhitzen und nach Bildung eines glatten Films, Strahlungshärten der Beschichtung unter Verwendung von Ultraviolett- und/oder sichtbarem Licht, beispielsweise mit Mitteldruck-Quecksilberlampen, Metallhalogenidlampen oder Xenonlampen. Ein besonderer Vorteil der strahlungshärtbaren Pulverbeschichtungen gegenüber ihren wärmehärtbaren Gegenstücken besteht darin, dass die Fliesszeit nach dem Schmelzen der Pulverteilchen selektiv ausgedehnt werden kann, damit die Bildung einer glatten, stark glänzenden Oberfläche gewährleistet ist. Im Gegensatz zu wärmehärtbaren Systemen können strahlungshärtbare Pulverbeschichtungen ohne unerwünschte Wirkungen auf die Verminderung ihrer Standzeit formuliert werden, so dass sie bei relativ geringen Temperaturen schmelzen. Aus diesem Grund sind sie auch als Beschichtungen für wärmeempfindliche Substrate, wie Holz oder Kunststoff, geeignet. Zusätzlich zu den erfindungs- gemässen Photostartern können die Pulverbeschichtungsformulierungen auch UV-Absorptions- mittel enthalten. Geeignete Beispiele wurden vorstehend unter Punkten 1-8 aufgeführt. Die photohärtbaren, erfindungsgemässen Zusammensetzungen sind beispielsweise als Be- schichtungsstoffe für Substrate aller Art geeignet, z.B. Holz, Textilien, Papier, Keramik, Glas, Kunststoffe, wie Polyester, Polyethylenterephthalat, Polyolefine oder Celluloseacetat, insbesondere in Form von Folien und auch Metalle, wie AI, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg oder Co und GaAs, Si oder Si02, auf die eine Schutzbeschichtung aufgetragen werden soll oder durch bildmässige Belichtung ein Bild aufgetragen werden soll. Die Substrate können durch Auftragen einer flüssigen Zusammensetzung, einer Lösung oder Suspension auf das Substrat beschichtet werden. Die Wahl des Lösungsmittels und der Konzen- tration hängt vordringlich von der Art der Zusammensetzung und des Beschichtungsverfahrens ab. Das Lösungsmittel sollte inert sein : anderen Worten, es sollte mit den Komponenten keine chemische Reaktion eingehen und sollte in der Lage sein, nach dem Beschichtungsvorgang bei dem Trockenverfahren wieder entfernt zu werden. Beispiele geeigneter Lösungsmittel sind Ketone, Ether und Ester, wie Methylethylketon, Isobutylmethylketon, Cyclopentanon, Cyclohexanon, N- Methylpyrrolidon, Dioxan, Tetrahydrofuran, 2-Methoxyethanol, 2-Ethoxyethanol, 1-Methoxy-2- propanol, 1,2-Dimethoxyethan, Essigsäureethylester, Essigsäure-n-butylester und 3-Ethoxypro- pionsäureethylester 2-Methoxypropylacetat, Methyl-3-methoxypropionat, 2-Heptanon, 2-Pentanon und Essigsäureethylester. Unter Verwendung bekannter Beschichtungsverfahren wird die Lösung gleichmässig auf das Substrat aufgetragen, beispielsweise durch Schleuderbeschichten, Tauchbeschichten, Messerbe- schichten, Fallstrombeschichten, Pinseln, Aufsprühen, insbesondere elektrostatisches Aufsprühen und Umkehrwalzenbeschichtung. Es ist auch möglich, die lichtempfindliche Schicht auf einen temporären, biegsamen Träger aufzutragen und dann das Endsubstrat, z. B. eine kupferkaschierte Leiterplatte, durch Schichtübertragung mittels Laminierung zu beschichten. Die aufgetragene Menge (Schichtdicke) und die Beschaffenheit des Substrats (Schichtträger) sind Funktionen der gewünschten Anwendung. Der Bereich der Schichtdicken umfasst im allgemei- nen Werte von etwa 0,1 um bis mehr als 100 n z. B. 0,1 m bis 1 cm, vorzugsweise 1 m bis 1000 um. Die strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen gemäss der Erfindung finden als Negativ- resists, die eine sehr hohe Lichtempfindlichkeit aufweisen, Verwendung und können in einem wässerig-alkalischen Medium ohne Aufquellen entwickelt werden. Sie sind als Photoresists für <Desc/Clms Page number 17> elektronische Bauteile, wie Elektroplattierungsresist, Ätzresist, sowohl flüssige als auch trockene Filme, Lötresist, als Resist zur Herstellung von Farbfiltern für eine Vielzahl von Anzeigeanwendun- gen oder zur Erzeugung von Strukturen bei Herstellungsverfahren von Plasma-Anzeigeschirmen und Elektrolumineszenzanzeigen, der Herstellung von Druckplatten, wie Offsetdruckplatten oder Siebdruckplatten, zur Herstellung von Druckformen zum Hochdruck, Flachdruck, Photogravüre oder von Siebdruckformen, zur Herstellung von Reliefkopien, beispielsweise für die Herstellung von Texten in Blindenschrift, für die Herstellung von Briefmarken, zur Verwendung beim Konturen- ätzen oder als ein Mikroresist bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen, anwendbar. Die Zusammensetzungen können weiterhin als dielektrische, durch mit Muster versehbare Schicht oder Beschichtung, Einkapselungsmaterial und isolierende Beschichtung für die Herstellung von Computerchips, Leiterplatten und anderen elektrischen oder elektronischen Komponenten verwen- det werden. Die möglichen Schichtträger und die Verarbeitungsbedingungen der Beschichtungs- substrate sind ebenso vielfältig. Weil die photohärtbaren Zusammensetzungen gemäss der Erfindung eine gute thermische Stabilität aufweisen und gegen Inhibierung durch Sauerstoff ausreichend beständig sind, sind sie besonders zur Herstellung von Farbfiltern oder Farbmosaiksystemen, wie beispielsweise in EP-A-320 264 beschrieben, geeignet. Farbfilter werden gewöhnlich bei der Herstellung von LCD- Anzeigen, Projektionssystemen und Bildsensoren angewendet. Die Farbfilter können beispielswei- se für Anzeige- und Bildabtastvorrichtungen in Fernsehempfängern, Videomonitoren oder Compu- tern, in der Flachbildschirm-Anzeigetechnologie, usw. angewendet werden. Bei einem Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters werden die gefärbten Stoffe, Farbstoffe und Pigmente von roter, grüner und blauer Farbe zu der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung gegeben, wodurch eine lichtempfindliche Harzzusammensetzungs- schicht beliebiger Farbe auf einem transparenten Substrat bereitgestellt wird. Diese wird dann Verfahren, wie Belichten, Entwickeln und gegebenenfalls Erwärmen, unter Erzeugung eines Bildes unterzogen. Die Entwicklung erfolgt mit einer geeigneten Alkalientwicklungslösung durch Auswaschen der Flächen, die nicht polymerisiert wurden. Dieses Verfahren wird unter Erzeugung des Bildes mit einer Vielzahl an Farben wiederholt. In der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung können die vor- stehenden Bildelemente als eine das Licht abschirmende Maske eingesetzt werden, z. B. bei einem Verfahren, bei dem mindestens ein oder mehrere Bildelement/e auf einem transparenten Substrat gebildet werden und anschliessend eine Belichtung von einer Seite des transparenten Substrats erfolgt, auf der die vorstehenden Bildelemente nicht gebildet sind. In diesem Fall ist beispielsweise nach einer Totalbelichtung eine Einstellung der Position einer Maske nicht erforderlich und es besteht keine Besorgnis mehr, dass die Position verrutscht ist. Und es ist möglich, alles von dem Teil, auf dem die vorstehend genannten Bildelemente nicht gebildet wurden, zu härten. Des weite- ren ist es in diesem Fall ebensogut möglich, einen Teil des Bereichs, auf dem die vorstehend genannten Bildelemente nicht gebildet wurden, unter teilweiser Verwendung einer das Licht ab- schirmenden Maske zu entwickeln und zu entfernen. Da in jedem Fall kein Spalt zwischen den Bildelementen, die vorher gebildet wurden und jenen, die später gebildet werden, entsteht, ist die erfindungsgemässe Zusammensetzung beispielsweise ein Herstellungsmaterial für einen Farbfilter. Es werden also die färbenden Stoffe, Farbstoffe und Pigmente von roter, grüner und blauer Farbe zu der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung gegeben und die Bilderzeugungsverfahren werden unter Erzeugung der Bildelemente von roter, grüner und blauer Farbe wiederholt. Dann wird die lichtempfindliche Harz- zusammensetzung, zu der beispielsweise die schwarz färbenden Materialien, Farbstoffe und Pigmente gegeben werden, auf einer gesamten Fläche aufgetragen. Eine Totalbelichtung (oder eine Teilbelichtung über eine das Licht abschirmende Maske) können darauf angewendet werden zur Erzeugung der Bildelemente mit einer schwarzen Farbe über allen Zwischenräumen (oder alles, ausgenommen einen Teilbereich der das Licht abschirmenden Maske) zwischen den Bild- elementen von roter, grüner und blauer Farbe. Zusätzlich zu einem Verfahren, bei dem die lichtempfindliche Harzzusammensetzung auf ein Substrat aufgetragen und getrocknet wird, kann die lichtempfindliche Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung ebenso für ein Schicht-Transfermaterial verwendet werden. Das heisst, die <Desc/Clms Page number 18> lichtempfindliche Harzzusammensetzung wird schichtweise direkt auf einem temporären Träger, vorzugsweise einer Polyethylenterephthalatfolie oder auf einer Polyethylenterephthalatfolie, auf der eine den Sauerstoff abschirmende Schicht und eine Abschälschicht oder die Abschälschicht und die den Sauerstoff abschirmende Schicht bereitgestellt werden, bereitgestellt. Gewöhnlich wird eine entfernbare Deckfolie, die aus synthetischem Harz hergestellt ist, für den Schutz bei der Handhabung darauf laminiert. Des weiteren kann ebenso eine Schichtstruktur, bei der eine Alkali- lösliche, thermoplastische Harzschicht und eine Zwischenschicht auf einem temporären Träger bereitgestellt werden und weiterhin eine lichtempfindliehe Harzzusammensetzungenschicht darauf bereitgestellt wird (JP-A-5-173320), verwendet werden. Die vorstehende Deckschicht wird beim Gebrauch entfernt und die lichtempfindliche Harzzu- sammensetzungsschicht wird auf einen permanenten Träger laminiert. Anschliessend wird Abschä- len zwischen jenen Schichten und einem temporären Träger, wenn eine den Sauerstoff abschir- mende Schicht und eine Abschälschicht bereitgestellt werden, zwischen der Abschälschicht und der den Sauerstoff abschirmenden Schicht, wenn die Abschälschicht und die den Sauerstoff ab- schirmende Schicht bereitgestellt werden, zwischen dem temporären Träger und der lichtempfind- lichen Harzzusammensetzungsschicht, wenn entweder die Abschälschicht oder die den Sauerstoff abschirmende Schicht nicht bereitgestellt werden, ausgeführt und der temporäre Träger wird entfernt. Ein Metallträger, Glas, Keramiken und ein synthetischer Harzfilm können als Träger für einen Farbfilter angewendet werden. Glas und ein synthetischer Harzfilm, die transparent sind und eine ausgezeichnete Masshaltigkeit aufweisen, sind besonders bevorzugt. Die Dicke der lichtempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht ist gewöhnlich 0,1 bis 50 Mikrometer, insbesondere 1 bis 5 Mikrometer. Eine verdünnte wässerige Lösung einer alkalischen Substanz wird als Entwicklungslösung für die lichtempfindliche Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung angewendet und weiter- hin ist eine Lösung, die durch Zugabe einer kleinen Menge eines mit Wasser mischbaren, organi- schen Lösungsmittels dazu hergestellt wird, ebenfalls eingeschlossen. Beispiele für geeignete alkalische Materialien schliessen Alkalimetallhydroxide (z. B. Natrium- hydroxid und Kaliumhydroxid), Alkalimetallcarbonate (z. B. Natriumcarbonat und Kaliumcarbonat), Alkalimetallbicarbonate (z. B. Natriumbicarbonat und Kaliumbicarbonat), Alkalimetallsilikate (z. B. Natriumsilikat und Kaliumsilikat), Alkalimetallmetasilikate (z. B. Natriummetasilikat und Kaliummeta- silikat), Triethanolamin, Diethanolamin, Monoethanolamin, Morpholin, Tetraalkylammoniumhydro- xide (z.B. Tetramethylammoniumhydroxid) oder Trinatriumphosphat ein. Die Konzentration der alkalischen Substanz ist 0,01 bis 30 Gewichtsprozent und der pH-Wert ist vorzugsweise 8 bis 14. Geeignete organische Lösungsmittel, die mit Wasser mischbar sind, schliessen Methanol, Ethanol, 2-Propanol, 1-Propanol, Butanol, Diacetonalkohol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethy- lenglycolmonoethylether, Ethylenglycolmono-n-butylether, Benzylalkohol, Aceton, Methylethyl- keton, Cyclohexanon, e-Caprolacton, y-Butyrolacton, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Hexa- methylphosphoramid, Milchsäureethylester, Milchsäuremethylester, e-Caprolactam und N-Methyl- pyrrolidon ein. Die Konzentration des organischen Lösungsmittels, das mit Wasser mischbar ist, ist 0,1 bis 30 Gewichtsprozent. Weiterhin kann ein allgemein bekanntes Tensid zugegeben werden. Die Konzentration des Tensids ist vorzugsweise 0,001 bis 10 Gewichtsprozent. Die Entwicklungslösung kann z.B. als Badlösung oder Sprühlösung verwendet werden. Um den nicht gehärteten Teil der lichtempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht zu entfernen, können Verfahren, wie Reiben mit einer Rotationsbürste und Reiben mit einem feuchten Schwamm, kombiniert werden. Gewöhnlich ist die Temperatur der Entwicklungslösung vorzugs- weise bei und um Raumtemperatur bis 40 C. Die Entwicklungszeit richtet sich nach der speziellen Art der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung, der Alkalinität und der Temperatur der Entwick- lerlösung und der Art und Konzentration des gegebenenfalls zugegebenen organischen Lösungs- mittels. Gewöhnlich liegt sie bei 10 Sekunden bis 2 Minuten. Es ist möglich, nach dem Entwick- lungsverarbeiten einen Spülschritt auszuführen. Nach der Entwicklung erfolgt vorzugsweise eine letzte Wärmebehandlung. Folglich wird ein Träger mit einer Schicht (nachstehend als eine photogehärtete (photochemisch gehärtete) Schicht bezeichnet), die durch Belichten photopolymerisiert wurde, in einem Elektroofen und einem Trock- <Desc/Clms Page number 19> ner erhitzt oder die photogehärtete Schicht wird mit einer Infrarotlampe bestrahlt oder auf einer Heizplatte erhitzt. Die Heiztemperatur und die Zeit hängen von der verwendeten Zusammenset- zung und der Dicke der gebildeten Schicht ab. Im allgemeinen wird das Erhitzen vorzugsweise bei etwa 120 C bis etwa 250 C für etwa 5 bis etwa 60 Minuten durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung kann geeigneterweise zum Erzeugen eines Farbfilters verwendet werden, ist jedoch auf diese Anwendung nicht begrenzt. Sie ist ebenso für ein Aufzeichnungsmaterial, eine Anzeige, ein Anzeigeelement, eine Anstrichstoff und eine Druckfarbe anwendbar. Weil die photohärtbaren (photochemisch härtbaren) Zusammensetzungen gemäss der Erfin- dung eine gute thermische Stabilität aufweisen und gegen Inhibierung von Sauerstoff ausreichend beständig sind, sind sie für die Herstellung von Farbfiltern oder Farbmosaiksystemen, wie bei- spielsweise in EP-A-320 264 beschrieben, besonders geeignet. Farbfilter werden gewöhnlich bei der Herstellung von LCD-Anzeigen, Projektionssystemen und Bildsensoren angewendet. Die Farbfilter werden gewöhnlich durch Erzeugen von roten, grünen und blauen Pixeln und einer schwarzen Matrix auf einem Glassubstrat hergestellt. In diesen Verfahren können photohärtbare Zusammensetzungen gemäss der Erfindung angewendet werden. Ein besonders bevorzugtes Verwendungsverfahren umfasst die Beschichtung des Substrats mit der erfindungsgemässen Zu- sammensetzung, Trocknen der Beschichtung mit einer kurzen Wärmebehandlung, mustermässiges Belichten der Beschichtung mit aktinischer Strahlung und anschliessend Entwicklung der Muster in einer wässerigen alkalischen Entwicklerlösung und gegebenenfalls eine Wärmebehandlung. Somit kann durch anschliessendes Auftragen jeweils einer rot, grün und blau pigmentierten Beschichtung in beliebig gewünschter Reihenfolge auf die Oberfläche mit diesem Verfahren eine Farbfilterschicht mit roten, grünen und blauen Farbpixeln hergestellt werden. Die Farbfilter können beispielsweise für Anzeige- und Bildabtastvorrichtungen in Fernsehempfängern, Videomonitoren oder Computern oder in der Flachbildanzeigetechnologie, usw. angewendet werden. Das Pigment, das in der erfindungsgemässen Zusammensetzung, einschliesslich einer pigmen- tierten Farbfilter-Resistzusammensetzung, enthalten sein kann, ist vorzugsweise ein verarbeitetes Pigment, beispielsweise ein pulverförmiges oder pastenförmiges Produkt, hergestellt durch feines Dispergieren eines Pigments in mindestens einem Harz, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Acrylharz, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer, Maleinsäureharz und Ethylcelluloseharz. Das rote Pigment umfasst beispielsweise ein Pigment vom Anthrachinontyp allein, ein Pigment vom Perylentyp allein oder ein Gemisch, bestehend aus mindestens einem davon und einem gelben Pigment vom Diazotyp oder einem gelben Pigment vom Isoindolintyp, insbesondere C1 Pigment Red 177 allein, C1 Pigment Red 155 allein oder ein Gemisch, bestehend aus mindestens einem Mitglied von C1 Pigment Red 177, C1 Pigment Red 155 und C1 Pigment Yellow 83 oder C1 Pigment Yellow 139 ("C.I." bedeutet Color Index, was dem Fachmann bekannt ist und öffent- lich verfügbar ist). Weitere geeignete Beispiele für das Pigment sind C1 Pigment Red 105,144, 149, 176, 177, 185,202, 209,214, 222,242, 254,255, 264,272 und C1 Pigment Yellow 24, 31, 53, 83, 93, 95, 109, 110, 128, 129,138, 139,166 und C1 Pigment Orange 43. Das grüne Pigment umfasst beispielsweise ein Pigment vom halogenierten Phthalocyanintyp allein oder dessen Gemisch mit einem gelben Pigment vom Disazotyp oder einem gelben Pigment vom Isoindolintyp, insbesondere C1 Pigment Green 7 allein, C1 Pigment Green 36 allein, C1 Pigment Green 37 allein oder ein Gemisch, bestehend aus mindestens einem Mitglied von c1 EMI19.1 Pigment Yellow 83 oder C1 Pigment Yellow 139. Andere geeignete grüne Pigmente sind C1 Pigment Green 15 und 25. Beispiele für geeignete blaue Pigmente sind Pigmente vom Phthalocyanintyp, die entweder einzeln oder in Kombination mit einem violetten Pigment vom Dioxazintyp verwendet werden, beispielsweise eine Kombination von C1 Pigment Blue 15 :3 und C1 Pigment Violet 23. Weitere Beispiele für blaue Pigmente sind jene von C1 Blue 15 :3, 15:4, 15:6, 16 und 60, das heisst Phthalo- cyanin C1 Pigment Blue 15 :3 oder Phthalocyanin C1 Pigment Blue 15 :6. Andere geeignete Pig- mente sind jene von C1 Pigment Blue 22, 28, C1 Pigment Violet 14,19, 23,29, 32, 37,177 und C1 Orange 73. Das Pigment der photopolymeren schwarzen Matrixzusammensetzung umfasst vorzugsweise mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Kohlenstoff, Titanschwarz <Desc/Clms Page number 20> AT 410 547 B und Eisenoxid. Jedoch kann ebenfalls ein Gemisch von anderen Pigmenten, die insgesamt ein schwarzes Aussehen ergeben, angewendet werden. Beispielsweise können ebenfalls C1 Pigment Black 1 und 7 einzeln oder in Kombination verwendet werden. Für eine beliebige Farbe können Kombinationen von mehr als zwei Pigmenten angewendet werden. Besonders geeignet in Farbfilteranwendungen sind pulverförmig verarbeitete Pigmente, die durch feines Dispergieren der vorstehend erwähnten Pigmente in ein Harz hergestellt werden. Die Konzentration des Pigments in der gesamten, festen Komponente (Pigmente von ver- schiedenen Farben und Harz) liegt beispielsweise im Bereich von 5% bis 80 Gewichtsprozent, insbesondere im Bereich von 20% bis 40 Gewichtsprozent. Die Pigmente in der Farbfilter-Resistzusammensetzung weisen vorzugsweise einen mittleren Teilchendurchmesser auf, der kleiner als die Wellenlänge des sichtbaren Lichtes (400 nm bis 700 nm) ist. Besonders bevorzugt ist ein mittlerer Pigmentdurchmesser von < 100 nm. Die Konzentration des Pigments in der gesamten festen Komponente in jeder Farbe liegt im Bereich von 5 Gewichtsprozent bis 80 Gewichtsprozent, vorzugsweise im Bereich von 20% bis 45%. Falls erforderlich, können die Pigmente in der lichtempfindlichen Zusammensetzung durch Vorbehandlung der Pigmente mit einem Dispergiermittel stabilisiert werden, um die Dispersions- stabilität des Pigments in der flüssigen Formulierung zu verbessern. Beispiele für Farbfilterresists der Zusammensetzung solcher Resists und Verarbeitungsbedin- gungen werden von T. Kudo et al., Japan. J. Appl. Phys. Band 37 (1998) 3594, T. Kudo et al., J. Photopolym. Sci. Technol. Band 9 (1996) 109, K. Kobayashi, Solid State Technol. November 1992, Seite S15-S18, US-A-5 368 976, US-A-5 800 952, US-A-5 882 843, US-A-5 879 855, US-A-5 866 298, US-A-5 863 678, JP 06-230212-A, EP-A-320 264, JP 09-269410-A, JP 10-221843-A, JP 01-090516-A, JP 10-171119-A, US-A-5 821 016, US-A-5 847 015, US-A-5 882 843, US-A-5 719 008, EP-A-881 541 oder EP-A-902 327 angegeben. Die erfindungsgemässen Photostarter können in Farbfilterresists, beispielsweise jene, die in den vorstehenden Beispielen angegeben werden, verwendet werden oder können teilweise oder voll- ständig die bekannten Photostarter in solchen Resists ersetzen. Es ist für den Fachmann verständ- lich, dass die Verwendung von neuen, erfindungsgemässen Photostartern nicht auf die speziellen Bindemittelharze, Vernetzungsmittel und Formulierungen der Farbfilterresistbeispiele, die vorste- hend angegeben werden, begrenzt ist, sondern diese auch in Verbindung mit einer beliebigen radikalisch polymerisierbaren Komponente in Kombination mit einem Farbstoff oder Farbpigment oder latentem Pigment unter Bildung einer lichtempfindlichen Farbfilterdruckfarbe oder eines lichtempfindlichen Farbfilterresists angewendet werden können. Folglich ist ein Farbfilter, hergestellt durch Bereitstellen von roten, grünen und blauen (RGB) Farbelementen und gegebenenfalls einer schwarzen Matrix ebenfalls Gegenstand der Erfindung, wobei alle ein lichtempfindliches Harz und ein Pigment auf einem transparenten Substrat umfassen und entweder auf der Oberfläche des Substrats oder auf der Oberfläche der Farbfilterschicht eine transparente Elektrode bereitstellen, wobei das lichtempfindliche Harz ein polyfunktionelles Acrylat- monomer, ein organisches Polymerbindemittel und einen Photopolymerisationsstarter der Formel C1 11 11 oder IV, wie vorstehend beschrieben, umfasst. Die Monomer- und Bindemittelkomponenten sowie die geeigneten Pigmente sind wie vorstehend beschrieben. Bei der Herstellung der Farbfilter der transparenten Elektrodenschicht können sie entweder auf die Oberfläche des transparenten Substrats aufgetragen werden oder können auf der Oberfläche der roten, grünen und blauen Bildelemente und der schwarzen Matrix bereitgestellt werden. Das transparente Substrat ist bei- spielsweise ein Glassubstrat, das zusätzlich eine Elektrodenschicht auf ihrer Oberfläche aufweisen kann. Es ist bevorzugt, eine schwarze Matrix zwischen den Farbflächen unterschiedlicher Farbe aufzutragen, um den Kontrast eines Farbfilters zu verbessern. Anstelle des Erzeugens einer schwarzen Matrix unter Verwendung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung und photolithographischer Musterbildung mit der schwarzen, lichtempfindlichen Zusammensetzung durch mustermässiges Belichten (das heisst durch eine geeignete Maske) unter Bildung des schwarzen Musters, das die rot-, grün- und blaugefärbten Flächen auf dem transpa- renten Substrat trennt, ist es alternativ möglich, eine anorganische, schwarze Matrix zu verwenden. Solche anorganische, schwarze Matrix kann aus abgeschiedenem (das heisst aufgesputtertem) Metall- (das heisst Chrom)-Film auf das transparente Substrat durch ein geeignetes Bilderzeu- <Desc/Clms Page number 21> gungsverfahren, beispielsweise unter Anwendung von photolithographischen Musterbildung mit Hilfe eines Ätzresists, Ätzen der anorganischen Schicht in den Flächen, die nicht von dem Ätzresist geschützt sind und anschliessend Entfernen des verbleibenden Ätzresists, erzeugt werden. Es gibt unterschiedliche Verfahren, von denen bekannt ist, wie und bei welchem Schritt in dem Farbfilterherstellungsverfahren die schwarze Matrix aufgetragen werden kann. Sie kann entweder direkt auf das transparente Substrat vor der Bildung des roten, grünen und blauen (RGB) Farbfil- ters, wie bereits vorstehend erwähnt, aufgetragen werden oder sie kann, nachdem der RGB- Farbfilter auf dem Substrat gebildet wurde, aufgetragen werden. Bei einer von einem Farbfilter für eine Flüssigkristallanzeige, gemäss US-A-5 626 796, ver- schiedenen Ausführungsform kann die schwarze Matrix ebenfalls auf dem Substrat gegenüber dem RGB-Farbfilterelementtragenden Substrat aufgetragen werden, das von dem Vorangehenden durch eine Flüssigkristallschicht getrennt ist. Wenn die transparente Elektrodenschicht nach Auftragen der RGB-Farbfilterelemente und - gegebenenfalls - der schwarzen Matrix abgeschieden ist, kann ein weiterer Überzugsfilm vor der Abscheidung der Elektrodenschicht, wie beispielsweise in US-A-5 650 263 beschrieben, als eine Schutzschicht auf die Farbfilterschicht aufgetragen werden. Es ist für den Fachmann einleuchtend, dass die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusam- mensetzungen zum Erzeugen von roten, grünen und blauen Farbpixeln und einer schwarzen Matrix zur Herstellung eines Farbfilters, ungeachtet der vorstehend beschriebenen Unterschiede beim Verarbeiten, ungeachtet von weiteren Schichten, die aufgetragen werden können und unge- achtet von Unterschieden im Aufbau des Farbfilters, angewendet werden können. Die Verwendung einer erfindungsgemässen Zusammensetzung zur Bildung von gefärbten Elementen sollte nicht als durch unterschiedlichen Aufbau und unterschiedliche Herstellungsverfahren solcher Farbfilter begrenzt angesehen werden. Vorzugsweise umfasst das organische Polymerbindemittel in der Farbfilterresistzusammenset- zung ein in Alkali lösliches Copolymer, das als zusätzliche, polymerisierbare Monomereinheiten mindestens eine ungesättigte, organische Säureverbindung, wie Acrylsäure, Methacrylsäure und dergleichen, umfasst. Es ist bevorzugt, als ein weiteres Comonomer für das polymere Bindemittel eine ungesättigte organische Säureesterverbindung, wie Acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäure- ethylester, (Meth)acrylsäurebenzylester, Styrol und dergleichen anzuwenden, um die Eigenschaf- ten, wie Alkalilöslichkeit, Anhaftung, Steifigkeit, chemische Beständigkeit, usw., auszugleichen. Das organische Polymerbindemittel kann entweder ein statistisches Copolymer oder ein Block- copolymer, wie beispielsweise in US-A-5 368 976 beschrieben, sein. Vorzugsweise enthält die erfindungsgemässe Farbfilterresistzusammensetzung zusätzlich min- destens eine monomere durch Addition polymerisierbare Verbindung. Beispielsweise können die nachstehenden Verbindungen einzeln oder in Kombination mit den anderen Monomeren als das Additionspolymerisierbare Monomer mit einer ethylenisch ungesättig- ten Doppelbindung, das in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, angewendet werden. Insbe- sondere schliessen sie (Meth)acrylsäure-t-butylester, Di(meth)-acrylsäureethylenglycolester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester, Di-(meth)acrylsäuretriethylenglycolester, Tri(meth)acryl- säuretrimethylolpropanester, Di(meth)acrylsäure-2-ethyl-2-butylpropandiolester, Tri(meth)acryl- säurepentaerythritester, Tetra(meth)acrylsäurepentaerythritester, Hexa(meth)acrylsäuredipenta- erythritester, Penta(meth)acrylsäuredipentaerythritester, polyoxylierten Tri(meth)acrylsäuretri- methylolpropanester, Tris(2-(meth)acryloyloxyethyl)isocyanurat, 1 ,4-Diisopropenylbenzol, (Meth)acrylsäure-1,4-dihydroxybenzolester, Di(meth)acrylsäuredecamethylenglycolester, Styrol, Fumarsäurediallylester, Trimellitsäuretriallylester, (Meth)acrylsäurelaurylester, (Meth)acrylamid und Xylolbis(-meth)acrylamid ein. Des weiteren kann ein Reaktionsprodukt einer Verbindung mit einer Hydroxylgruppe, wie (Meth)acrylsäure-2-hydroxyethylester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester und Mono(meth)acrylsäurepolyethylenglycolester mit Diisocyanat, wie Hexamethylendiisocyanat, Toluoldiisocyanat und Xyloldiisocyanat, angewendet werden. Besonders bevorzugt sind Tetraacryl- säurepentaerythritester, Hexaacrylsäuredipentaerythritester, Pentaacrylsäuredipentaerythritester und Tris(2-acryloyloxyethyl)isocyanurat. In einer Farbfilterresistzusammensetzung ist die Gesamtmenge der in der photopolymerisierba- ren Zusammensetzung enthaltenen Monomere vorzugsweise 5 bis 80 Gewichtsprozent, insbeson- dere 10 bis 70 Gewichtsprozent, bezogen auf die gesamten Komponenten der Zusammensetzung. <Desc/Clms Page number 22> Als das in der Farbfilterresistzusammensetzung verwendete Bindemittel, das in einer alkali- schen, wässerigen Lösung löslich und in Wasser unlöslich ist, können ein Homopolymer einer polymerisierbaren Verbindung mit einer oder mehreren Säuregruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen in dem Molekül, oder ein Copolymer von zwei oder mehreren Arten davon, und ein Copolymer von einer oder mehreren polymerisierbaren Verbindun- gen mit einer oder mehreren ungesättigten Bindungen, die mit diesen Verbindungen copolymeri- sierbar sind und keine Säuregruppe enthalten, verwendet werden. Solche Verbindungen können durch Copolymerisieren von einer oder mehreren Arten einer Verbindung mit niederem Molekular- gewicht, die eine oder mehrere Säuregruppen und eine oder mehrere polymerisierbare, ungesättig- te Bindungen in dem Molekül enthält, mit einer oder mehreren polymerisierbaren Verbindung/en, die eine oder mehrere ungesättigte Bindungen, die mit diesen Verbindungen copolymerisierbar sind und keine Säuregruppe enthält/enthalten, erhalten werden. Beispiele für Säuregruppen sind eine Gruppe-COOH, eine Gruppe -SO3H, eine Gruppe -SO2NHCO-, eine phenolische Hydroxy- gruppe, eine Gruppe -S02NH- und eine Gruppe -CO-NH-CO-. Unter diesen ist eine Verbindung mit hohem Molekulargewicht mit einer Gruppe-COOH besonders bevorzugt. Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren Säuregruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindung/en in dem Molekül schliessen die nach- stehenden Verbindungen ein: Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Maleinsäure, Vinylbenzoesäure und Zimtsäure sind Beispiele für die polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren Grup- pe/n -COOH und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen in einem Mole- kül. Vinylbenzolsulfonsäure und 2-(Meth)acrylamid-2-methylpropansulfonsäure sind Beispiele der polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppen -S03H und einer oder mehre- ren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen. N-Methylsulfonyl(meth)acrylamid, N-Ethylsulfonyl(meth)acrylamid, N-Phenylsulfo- nyl(meth)acrylamid und N-(p-Methylphenylsulfonyl)-(meth)acrylamid sind Beispiele der polymeri- sierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppen -S02NHCO- und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen. Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren phenolischen Hydro- xygruppe/n und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindung/en in einem Mole- kül schliessen Hydroxyphenyl(meth)acrylamid, Dihydroxyphenyl(meth)acrylamid, (Meth)acrylsäure- hydroxyphenylcarbonyloxyethylester, (Meth)acrylsäurehydroxyphenyloxyethylester, (Meth)acryl- säurehydroxyphenylthioethylester, (Meth)acrylsäuredihydroxyphenylcarbonyloxyethylester, (Meth)acrylsäuredihydroxyphenyloxyethylester und (Meth)acrylsäuredihydroxyphenylthioethylester ein. Beispiele der polymerisierbaren Verbindung mit einer oder mehreren Gruppen -S02NH- und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen in dem Molekül schliessen Ver- bindungen, die durch die Formel (a) oder (b) wiedergegeben werden, ein: EMI22.1 CH2=CHA4-Y2-A5-NH-SO2-A6 (b) worin Y1 und Y2 jeweils-COO-, -CONA7- oder eine Einfachbindung wiedergeben; A1 und A4 je- EMI22.2 tuenten, Cycloalkylen, Arylen oder Aralkylen oder eine C2-C12-Alkylengruppe, in die eine Ether- gruppe oder eine Thioethergruppe eingeschoben wurde, wiedergeben, Cycloalkylen, Arylen oder EMI22.3 eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe wiedergeben und A7 H, C1-C121 Alkyl, gegebenenfalls mit einem Substituenten, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe wiedergibt. Die polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppen-CO-NH-CO- und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen schliessen Maleimid und N-Acryloyl- acrylamid ein. Diese polymerisierbaren Verbindungen werden zu den Verbindungen mit hohem Molekulargewicht, die eine Gruppe-CO-NH-CO- umfassen, worin ein Ring, zusammen mit einer primären Kette, durch Polymerisation gebildet wird. Weiterhin können ebenfalls ein Methacryl- säurederivat und ein Acrylsäurederivat jeweils mit einer Gruppe-CO-NH-CO- verwendet werden. Solche Methacrylsäurederivate und die Acrylsäurederivate schliessen beispielsweise ein Methacryl- <Desc/Clms Page number 23> amidderivat, wie N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid, N-Butanoylmethacrylamid, N- Pentanoylmethacrylamid, N-Decanoylmethacrylamid, N-Dodecanoylmethacrylamid, N-Benzoyl- methacrylamid, N-(p-Methylbenzoyl)methacrylamid, N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid, N-(Naph- thylcarbonyl)methacrylamid, N-(Phenylacetyl)methacrylamid und 4-Methacryloylaminophthalimid und ein Acrylamidderivat mit dem gleichen Substituenten wie diese, ein. Diese polymerisierbaren Verbindungen polymerisieren zu Verbindungen mit einer-CO-NH-CO-Gruppe in einer Seitenkette. Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren polymerisierbaren, unge- sättigten Bindungen, die keine Säuregruppe enthalten, schliessen eine Verbindung mit einer poly- merisierbaren, ungesättigten Bindung, ausgewählt aus (Meth)acrylaten, (Meth)acrylamiden, einer Acrylverbindung, Vinylethern, Vinylestern, Styrolen und Crotonaten und insbesondere einschliess- lich (Meth)acrylaten, wie (Meth)acrylsäurealkylester oder substituiertem (Meth)acrylsäurealkylester (beispielsweise (Meth)acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester, (Meth)acrylsäurepropyl- ester, (Meth)acrylsäureisopropylester, (Meth)acrylsäurebutylester, (Meth)acrylsäureamylester, (Meth)acrylsäurehexylester, (Meth)acrylsäurecyclohexylester, (Meth)acrylsäureethylhexylester, (Meth)acrylsäureoctylester, (Meth)acrylsäure-t-octylester, (Meth)acrylsäurechlorethylester, (Meth) acrylsäureallylester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxyethylester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxypro- pylester, (Meth)acrylsäure-4-hydroxybutylester, (Meth)acrylsäure-2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl- ester, (Meth)acrylsäure-5-hydroxypentylester, Mono(meth)acrylsäuretrimethylolpropanester, Mono(meth)acrylsäurepentaerythritester, (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäuremethoxy- benzylester, (Meth)acrylsäurechlorbenzylester, (Meth)acrylsäurefurfurylester, (Meth)acrylsäure- tetrahydrofurfurylester, (Meth)acrylsäurephenoxyethylester und (Meth)cresylester und (Meth)acryl- säurenaphthylester); (Meth)acrylamide, wie (Meth)acrylamid, N-Alkyl(meth)acrylamid (die Alkyl- gruppe schliesst beispielsweise Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, t-Butyl, Heptyl, Octyl, Ethylhexyl, Cyclo- hexyl, Hydroxyethyl und Benzyl ein), N-Aryl(meth)acrylamid (die Arylgruppe schliesst beispielsweise Phenyl, Tolyl, Nitrophenyl, Naphthyl und Hydroxyphenyl ein), N,N-Dialkyl(meth)acrylamid (die Alkylgruppe schliesst beispielsweise Methyl, Ethyl, Butyl, Isobutyl, Ethylhexyl und Cyclohexyl ein), N,N-Diaryl(meth)acrylamid (die Arylgruppe schliesst beispielsweise Phenyl ein), N-Methyl-N- phenyl(meth)acrylamid, N-Hydroxyethyl-N-methyl(meth)acrylamid, N-2-Acetamidethyl-N- acetyl(meth)acrylamid, N-(Phenylsulfonyl) (meth)acrylamid und N-(p-Methylphenylsulfo- nyl)(meth)acrylamid; eine Allylverbindung, wie Allylester (beispielsweise Essigsäureallylester, Capronsäureallylester, Caprylsäureallylester, Laurinsäureallylester, Palmitinsäureallylester, Stearinsäureallylester, Ben- zoesäureallylester, Acetoessigsäureallylester und Milchsäureallylester) und Allyloxyethanol; Vinyl- ether, wie Alkylvinylether (die Alkylgruppe schliesst beispielsweise Hexyl, Octyl, Decyl, Ethylhexyl, Methoxyethyl, Ethoxyethyl, Chlorethyl, 1-Methyl-2,2-dimethylpropyl, 2-Ethylbutyl, Hydroxyethyl, Hydroxyethoxyethyl, Dimethylaminoethyl, Diethylaminoethyl, Butylaminoethyl, Benzyl und Tetra- hydrofurfuryl ein) und Vinylarylether (die Arylgruppe schliesst beispielsweise Phenyl, Tolyl, Chlorphenyl, 2,4-Dichlorphenyl, Naphthyl und Anthranyl ein); Vinylester, wie Buttersäurevinylester, Isobuttersäurevinylester, Trimethylessigsäurevinylester, Diethylessigsäurevinylester, ein Vinylester [vinyl barate], Capronsäurevinylester, Chloressigsäure- vinylester, Dichloressigsäurevinylester, Methoxyessigsäurevinylester, Butoxyessigsäurevinylester, Phenylessigsäurevinylester, Acetoessigsäurevinylester, Milchsäurevinylester, Vinyl-b-phenylbuty- lat, Cyclohexylcarbonsäurevinylester, Benzoesäurevinylester, Salicylsäurevinylester, Chlorbenzoe- säurevinylester, Tetrachlorbenzoesäurevinylester und Naphthalincarbonsäurevinylester; Styrole, wie Styrol, Alkylstyrol (beispielsweise Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, E- thylstyrol, Diethylstyrol, Isopropylstyrol, Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol und Acetoxymethylstyrol), Alkoxystyrol (beispielsweise Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol und Dimethoxystyrol) und Halogenstyrol (beispielsweise Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pentach- lorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol, Jodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4-trifluormethyl- styrol und 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol); Crotonate, wie Crotonsäurealkylester (beispielsweise Crotonsäurebutylester, Crotonsäure- hexylester und Monocrotonsäureglycerinester); Itaconsäuredialkylester (beispielsweise Itaconsäuredimethylester, Itaconsäurediethylester und Itaconsäuredibutylester); <Desc/Clms Page number 24> Maleinsäure- oder Fumarsäuredialkylester (beispielsweise Maleinsäuredimethylester und Fumarsäuredibutylester) und (Meth)acrylnitril, ein. Es können auch Hydroxystyrolhomo- oder -copolymere oder ein Phenolharz vom Novolak-Typ verwendet werden, beispielsweise Poly(hydroxystyrol) und Poly(hydroxystyrol-Co-vinylcyclohexa- nol), ein Novolakharz, ein Cresolnovolakharz und ein halogeniertes Phenolnovolakharz. Insbe- sondere schliesst es beispielsweise die Methacrylsäure-Copolymere, die Acrylsäure-Copolymere, die Itaconsäure-Copolymere, die Crotonsäure-Copolymere, die Maleinsäureanhydrid-Copolymere, beispielsweise mit Styrol als Comonomer und Maleinsäure-Copolymere und teilweise veresterte Maleinsäure-Copolymere, jeweils beispielsweise in JP 59-44615-B4 (der hierin verwendete Begriff "JP-B4" bedeutet eine geprüfte Japanische Patent-Veröffentlichung), JP 54-34327-B4, JP 58-12577-B4 und JP 54-25957-B4, JP 59-53836-A, JP 59-71048-A, JP 60-159743-A, JP 60-258539-A, JP 1-152449-A, JP 2-199403-A und JP 2-199404-A, und wobei Copolymere weiter mit einem Amin, wie beispielsweise in US-A-5 650 263 offenbart, umgesetzt werden können, ein, des weiteren kann ein Cellulosederivat mit einer Carboxylgruppe an einer Seitenkette verwen- det werden, und besonders bevorzugt sind Copolymere von (Meth)acrylsäurebenzylester und (Meth)acrylsäure und Copolymere von (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäure und anderen Monomeren, wie beispielsweise in US-A-4 139 391, JP 59-44615-B4, JP 60-159743-A und JP 60-258539-A beschrieben. Bezüglich jenen mit Carbonsäuregruppen unter den vorstehenden organischen Bindemittelpo- lymeren ist es möglich, einige oder alle der Carbonsäuregruppen mit (Meth)acrylsäureglycidylester oder einem Epoxy(meth)acrylat umzusetzen unter Gewinnung von photopolymerisierbaren, organi- schen Bindemittelpolymeren zur Verbesserung der Lichtempfindlichkeit, Beschichtungsfilmfestig- keit, Beständigkeit der Beschichtung gegen Lösungsmittel und Chemikalien und Anhaftung an dem Substrat. Beispiele werden in JP 50-34443-B4 und JP 50-34444-B4, US-A-5 153 095, von T. Kudo et al. in J. Appl. Phys., Band 37 (1998), Seiten 3594-3603, US-A-5 677 385 und US-A-5 650 233 offenbart. Das gewichtsmittlere Molekulargewicht der Bindemittel ist vorzugsweise 500 bis 1 000 000, beispielsweise 3 000 bis 1 000 000, bevorzugter 5 000 bis 400 000. Diese Verbindungen können einzeln oder als ein Gemisch von zwei oder mehreren Arten ver- wendet werden. Der Anteil des Bindemittels in der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung ist vorzugsweise 10 bis 95 Gewichtsprozent, bevorzugter 15 bis 90 Gewichtsprozent, bezogen auf die gesamten Feststoffe. Weiterhin kann in dem Farbfilter die Gesamtfeststoffkomponente von jeder Farbe einen Fänger für ionische Verunreinigung [ionic Impurityscavenger], beispielsweise eine organische Verbindung mit einer Epoxygruppe, enthalten. Die Konzentration des Fängers für ionische Verunreinigung in der gesamten Feststoffkomponente liegt im allgemeinen im Bereich von 0,1 Gewichtsprozent bis 10 Gewichtsprozent. Beispiele für Farbfilter, insbesondere bezüglich der vorstehend beschriebenen Kombinationen an Pigmenten und Fängern für ionische Verunreinigung werden in EP-A-320 264 angegeben. Es ist verständlich, dass die erfindungsgemässen Photostarter, das heisst die Verbindungen der Formel I, 111 111 und IV, in den in EP-A-320 264 beschriebenen Farbfilterformulierungen die Triazinstarter- verbindungen ersetzen können. Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen können zusätzlich ein Vernetzungsmittel, das durch eine Säure, beispielsweise wie in JP 10-221843-A beschrieben, aktiviert ist und eine Verbin- dung, die thermisch oder durch aktinische Strahlung Säure erzeugt und die eine Vernetzungsreak- tion aktiviert, umfassen. Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen können auch latente Pigmente umfassen, die während der Wärmebehandlung des lichtempfindlichen Musters oder der lichtempfindlichen Be- schichtung, das/die das latente Pigment enthält, in fein dispergierte Pigmente überführt werden. Die Wärmebehandlung kann nach Belichtung oder nach Entwicklung der das latente Pigment enthaltenden, Bild-erzeugenden Schicht ausgeführt werden. Solche latenten Pigmente sind lösli- che Pigmentvorstufen, die mit Hilfe von chemischer, thermischer, photolytischer oder durch Strah- lung induzierter Verfahren, wie beispielsweise in US-A-5 879 855 beschrieben, in unlösliche Pig- mente überführt werden können. Diese Überführung solcher latenter Pigmente kann durch Zugabe einer Verbindung, die Säure erzeugt, bei Aussetzen von aktinischer Strahlung oder durch Zugabe <Desc/Clms Page number 25> einer sauren Verbindung zu der Zusammensetzung verstärkt werden. Deshalb kann ebenfalls ein Farbfilterresist hergestellt werden, der ein latentes Pigment in einer erfindungsgemässen Zusam- mensetzung umfasst. Diese erfindungsgemässen Zusammensetzungen können auch zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen Materialien zur Bildaufzeichnung oder Bildreproduktion (Kopien, Reprographie), die mono- oder polychrom sein können, Anwendung finden. Weiterhin sind die Materialien für Farbprüfsysteme geeignet. Bei dieser Technologie können Mikrokapseln enthaltende Formulierun- gen aufgetragen werden und für die Bilderzeugung kann der Strahlungshärtung eine thermische Behandlung folgen. Solche Systeme und Technologien und deren Anwendungen werden bei- spielsweise in US-A-5 376 459 offenbart. Für photographische Informationsaufzeichnungen verwendete Substrate schliessen beispiels- weise Folien aus Polyester, Celluloseacetat oder Polymer-beschichteten Papieren ein ; für Offsetdruckformen sind spezialbehandeltes Aluminium, Substrate zur Erzeugung gedruckter Schaltkreise sind kupferkaschierte Laminate und Substrate zur Erzeugung integrierter Schaltkreise sind Siliziumwafer. Die Schichtdicken für photographische Materialien und Offsetdruckformen sind im allgemeinen etwa 0,5 [im bis 10 (im, während sie für Leiterplatten 1,0 m bis etwa 100 m sind. Nach der Beschichtung der Substrate wird das Lösungsmittel im allgemeinen durch Trocknen entfernt, wonach eine Beschichtung des Photoresists auf dem Substrat zurückbleibt. Nach der Beschichtung der Substrate wird das Lösungsmittel im allgemeinen durch Trocknen unter Hinterlassen eines im wesentlichen trockenen Resistfilms des Photoresists auf dem Substrat entfernt. Der Begriff "bildmässige" Belichtung schliesst sowohl Belichtung durch eine Photomaske, die ein vorbestimmtes Muster, beispielsweise ein Dia oder ein Gitter (Netz), umfasst, als auch Belichtung mittels eines Laser- oder Lichtstrahls, der z.B. unter Computersteuerung über die Oberfläche des beschichteten Substrats bewegt wird und auf diese Weise ein Bild erzeugt, und Bestrahlung mit Computer-gesteuerten Elektronenstrahlen ein. Es ist auch möglich, aus Flüssigkristallen hergestell- te Masken zu verwenden, die zur Erzeugung von Digitalbildern Pixel für Pixel angesteuert werden können, wie beispielsweise von A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J. C. Andre in Journal of Photochemistry and Photobiology A : Chemistry 1997,107, Seite 275-281 und von K.-P. Nicolay in Offset Printing 1997,6, Seite 34-37, beschrieben. Nach der bildmässigen Belichtung des Materials und vor der Entwicklung ist es vorteilhaft, für einen kurzen Zeitraum Wärmebehandlung auszuführen. Nach der Entwicklung kann ein Thermo- Nachsintern ausgeführt werden, um die Zusammensetzung zu härten und alle Lösungsmittelspu- ren zu entfernen. Die angewendeten Temperaturen sind im allgemeinen 50-250 C, vorzugsweise 80-220 C; die Dauer der Wärmebehandlung liegt im allgemeinen zwischen 0,25 und 60 Minuten. Die photohärtbare Zusammensetzung kann zusätzlich in einem Verfahren zur Herstellung von Druckplatten oder Photoresists, wie beispielsweise in DE-A-4 013 358 beschrieben, angewendet werden. In einem solchen Verfahren wird die Zusammensetzung für einen kurzen Zeitraum ohne eine Maske vor, gleichzeitig mit oder nach bildmässiger Bestrahlung sichtbarem Licht mit einer Wellenlänge von mindestens 400 nm ausgesetzt. Nach der Belichtung und, falls vorgesehen, thermischer Behandlung werden die unbelichteten Flächen der lichtempfindlichen Beschichtung mit einem Entwickler in an sich bekannter Weise entfernt. Wie bereits erwähnt, können die erfindungsgemässen Zusammensetzungen durch wässerige Alkalien entwickelt werden. Besonders geeignete, wässerig-alkalische Entwicklerlösungen sind wässerige Lösungen von Tetraalkylammoniumhydroxiden oder von Alkalimetallsilikaten, -phospha- ten,-hydroxiden und-carbonaten. Geringe Mengen an Benetzungsmitteln und/oder organischen Lösungsmitteln können, falls erwünscht, diesen Lösungen ebenfalls zugesetzt werden. Beispiele für typische organische Lösungsmittel, die den Entwicklerflüssigkeiten in kleinen Mengen zugesetzt werden können, sind Cyclohexanon, 2-Ethoxyethanol, Toluol, Aceton und Gemische von solchen Lösungsmitteln. In Abhängigkeit von den Substraten können auch Lösungsmittel, beispielsweise organische Lösungsmittel, als Entwickler oder wie vorstehend erwähnt, Gemische von wässerigen Alkali mit solchen Lösungsmitteln angewendet werden. Das Photohärten ist für das Drucken von grösster Bedeutung, da die Trocknungszeit der Druck- farbe ein kritischer Faktor für die Herstellungsgeschwindigkeit von graphischen Produkten darstellt <Desc/Clms Page number 26> und sollte in der Grössenordnung von Bruchteilen von Sekunden ablaufen. UV-härtbare Druckfar- ben sind besonders zum Siebdrucken und für Offsetdruckfarben von Bedeutung. Wie bereits angeführt, sind die erfindungsgemässen Gemische auch zur Herstellung von Druckplatten sehr geeignet. Diese Anwendung verwendet beispielsweise Gemische von löslichen, linearen Polyamiden oder Styrol/Butadien- und/oder Styrol/Isopren-Kautschuk, Polyacrylaten oder Polymethylmethacrylaten, die Carboxylgruppen enthalten, Polyvinylalkoholen oder Urethanacryla- ten mit photopolymerisierbaren Monomeren, beispielsweise Acrylamiden und/oder Methacrylami- den, Acrylaten und/oder Methacrylaten und einem Photostarter. Filme und Platten, die aus diesen Systemen hergestellt werden (nass oder trocken) werden durch das Negativ (oder Positiv) des Druckoriginals belichtet und die ungehärteten Teile werden anschliessend unter Verwendung eines geeigneten Lösungsmittels oder geeigneter wässeriger Lösungen ausgewaschen. Ein weiterer Anwendungsbereich für die Photohärtung ist die Beschichtung von Metallen, bei- spielsweise bei der Beschichtung von Metallblechen und-röhren, Dosen oder Flaschenverschlüs- sen und die Photohärtung von Kunststoffbeschichtungen, beispielsweise Wand- oder Bodenbelä- gen auf PVC-Basis. Beispiele der Photohärtung von Papierbeschichtungen sind farblose Beschichtungen von Eti- ketten, Plattenhüllen oder Buchdeckeln. Die Verwendung der erfindungsgemässen Verbindungen zur Härtung von Formgegenständen, die aus Verbundmassen hergestellt werden, ist ebenfalls von Interesse. Die Verbundmasse be- steht aus einem selbsttragenden Matrixmaterial, beispielsweise Glasfasergewebe, oder auch beispielsweise Pflanzenfasern [vergleiche K. -P. Mieck und T. Reussmann in Kunststoffe 85 (1995), 366-370], das mit der photohärtbaren Formulierung imprägniert wird. Formgegenstände, die aus Verbundmassen unter Verwendung der erfindungsgemässen Verbindungen hergestellt werden, sind mechanisch sehr stabil und beständig. Die erfindungsgemässen Verbindungen können auch als photohärtende Mittel bei Form-, Imprägnier- und Beschichtungszusammensetzungen, wie beispielsweise in EP-A-7 086 beschrieben, verwendet werden. Beispiele solcher Zusammenset- zungen sind Feinbeschichtungsharze [gel coat resins], an die stärkere Anforderungen hinsichtlich ihrer Härtungsaktivität und Vergilbungsbeständigkeit gestellt werden, oder faserverstärkte Formlin- ge, wie ebene oder längs- oder quergewellte lichtdiffuse Platten. Verfahren zur Herstellung solcher Formlinge, beispielsweise Hand-lay-up, Spray-lay-up, zentrifugales oder Filamentwickelverfahren, sind beispielsweise bei P. H. Seiden in "Glasfaserverstärkte Kunststoffe", Seite 610, Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York, 1967, beschrieben. Beispiele für Gegenstände zur Verwen- dung, die durch dieses Verfahren hergestellt werden können, sind Bootskörper, Spanplatten oder Sperrholzplatten, die auf beiden Seiten mit Glasfaser-verstärkten Kunststoffen beschichtet sind, Rohre, Behälter und dergleichen. Ein weiteres Beispiel für Form-, Imprägnier- und Beschichtungs- zusammensetzungen sind UP-Harz-Feinbeschichtungen [gel coats] für Formlinge, die Glasfasern enthalten (GRP), beispielsweise Wellplatten und Papierlaminate. Papierlaminate können ebenfalls auf Harnstoff- oder Melaminharzen basieren. Die Feinbeschichtung wird auf einem Träger (bei- spielsweise einer Folie) vor der Herstellung des Laminats erzeugt. Die erfindungsgemässen, photo- härtbaren Zusammensetzungen können auch für Giessharze oder zum Einkapseln von Gegenstän- den, wie elektronischen Bauelementen und dergleichen, verwendet werden. Die Zusammensetzungen und Verbindungen gemäss der vorliegenden Erfindung können zur Herstellung von Holographien, Lichtleitern und optischen Schaltern verwendet werden, wobei der Vorteil der Entwicklung einer Differenz in dem Brechungsindex zwischen bestrahlten und nichtbe- strahlten Flächen hergenommen wird. Ebenfalls von Bedeutung ist die Verwendung von photohärtbaren Zusammensetzungen für Bilderzeugungsverfahren und für die optische Herstellung von Informationsträgern. Bei diesen Anwendungen wird die auf den Träger aufgetragene Beschichtung (nass oder trocken), wie vorste- hend bereits beschrieben, mit UV- oder sichtbarem Licht durch eine Photomaske bestrahlt und die unbelichteten Flächen der Schicht werden durch Behandlung mit einem Lösungsmittel (= Entwick- ler) entfernt. Die photohärtbare Schicht kann auch durch Elektroabscheidung auf Metall aufgetra- gen werden. Die belichteten Flächen sind durch Vernetzung polymer geworden und somit unlöslich und bleiben auf dem Träger. Wenn geeignete Färbung ausgeführt wird, werden sichtbare Bilder erzeugt. Wenn der Träger eine metallisierte Schicht ist, kann das Metall aus den unbelichteten Flächen durch Ätzen nach Belichtung und Entwicklung entfernt werden und kann in der Dicke <Desc/Clms Page number 27> durch Elektroplattieren verstärkt werden. Auf diese Weise können Leiterplatten und Photoresists erzeugt werden. Bei der Verwendung in Bild erzeugenden Materialien stellen die neuen Photostar- ter ausgezeichnete Leistung beim Erzeugen von sogenannten Bildausdrucken bereit, wobei auf- grund Bestrahlung eine Farbänderung eingeführt wird. Um solche Bildausdrucke zu erzeugen, werden unterschiedliche Farbstoffe und/oder deren Leukoform angewendet, und Beispiele für solche Bildausdrucksysteme sind in WO 96/41240, EP-A-706 091, EP-A-511 403, US-A-3 579 339 und US-A-4 622 286 angeführt. Die Lichtempfindlichkeit der erfindungsgemässen Zusammensetzungen liegt im allgemeinen im Bereich des UV-Bereiches (etwa 190 nm) bis etwa 600 nm und überspannt daher einen sehr breiten Bereich. Geeignete Bestrahlung umfasst beispielsweise Sonnenlicht oder Licht aus künstli- chen Quellen. Daher kann eine Vielzahl von verschiedenen Arten von Lichtquellen verwendet werden. Sowohl Punktquellen als auch flache Strahler (Lampenteppiche) sind geeignet. Beispiele sind : Kohlebogenlampen, Xenonbogenlampen, Mitteldruck-, Hochdruck- und Niederdruck- Quecksilberlampen, gegebenenfalls mit Metallhalogeniden dotiert (Metallhalogenlampen), Mikro- wellen-stimulierte Metalldampflampen, Exzimerlampen, superaktinische Fluoreszenzröhren, Fluo- reszenzlampen, Argonglühlampen, elektronische Blitzlichter, Photoflutlichtlampen, Licht emittieren- de Dioden (LED), Elektronenstrahlen und Röntgenstrahlen. Der Abstand zwischen der Lampe und dem erfindungsgemässen, zu belichtenden Substrat kann von der Anwendung und von der Art und/oder der Leistung der Lampe, beispielsweise von 2 cm bis 150 cm, abhängen. Geeignet sind auch Laserlichtquellen, beispielsweise Exzimerlaser, wie Kr-F-Laser, zur Belichtung bei 248 nm und ArF-Exzimerlaser, zur Belichtung bei 193 nm. Laser im sichtbaren Licht können ebenfalls verwendet werden. In diesem Fall ist die hohe Empfindlichkeit der erfindungsgemässen Materialien sehr vorteilhaft. Durch dieses Verfahren ist es möglich, gedruckte Schaltungen in der elektroni- schen Industrie, Offsetflachdruckplatten oder Reliefdruckplatten und photographische Bildauf- zeichnungsmaterialien herzustellen. Die Erfindung stellt deshalb ebenfalls ein Verfahren für die Photopolymerisation von monome- ren, oligomeren oder polymeren Verbindungen bereit, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung enthalten, das die Zugabe mindestens eines Photostarters der Formel I, II, 111 oder IV, wie vorstehend beschrieben, zu den vorstehend erwähnten Verbindungen und Bestrahlen der erhaltenen Zusammensetzung mit elektromagnetischer Strahlung, insbesondere Licht der Wellen- länge 190 bis 600 nm, mit Elektronen- oder mit Röntgenstrahlen umfasst. Die Erfindung stellt zusätzlich Zusammensetzungen zur Herstellung von pigmentierten und nichtpigmentierten Anstrichstoffen und Lacken, Pulverbeschichtungen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen, dentalen Massen, Resistmaterialien, einschliesslich Photoresists, Farbfiltermaterialien, als Zusammensetzung zum Einkapseln von elektrischen und elektronischen Bauelementen, zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsmaterialien, mikromechanischen Bauteilen, Wellen- leitern, optischen Schaltern, Plattierungsmasken, Ätzmasken, Farbprüfabzugsystemen, Glasfaser- kabelüberzügen, Siebdruckschablonen, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen mit Hilfe von Stereolithographie und als Bildaufzeichnungsmaterial, insbesondere für holographische Aufzeichnungen, mikroelektronische Schaltkreise, Entfärbematerialien, Entfärbematerialien für Bildaufzeichnungsmaterialien, für Bildaufzeichnungsmaterialien unter Verwendung von Mikrokap- seln bereit. Die Erfindung stellt weiterhin ein beschichtetes Substrat bereit, das auf mindestens einer Ober- fläche mit einer wie vorstehend beschriebenen Zusammensetzung beschichtet ist und beschreibt ein Verfahren für die photographische Herstellung von Reliefbildern, in dem ein beschichtetes Substrat bildmässiger Belichtung unterzogen wird und anschliessend die unbelichteten Teile mit einem Entwickler entfernt werden. Bildmässige Belichtung kann mittels Bestrahlen durch eine Maske oder mit Hilfe eines Laserstrahls bewirkt werden. Von besonderem Vorteil ist in diesem Zusammenhang, wie bereits vorstehend erwähnt, Laserstrahlbelichtung. Die erfindungsgemässen Verbindungen weisen hohe Empfindlichkeit und Auflösung bei niedri- ger Konzentration auch ohne Sensibilisator auf. Sie weisen eine gute thermische Stabilität und geringe Flüchtigkeit auf und sind auch für Photopolymerisationen in Anwesenheit von Luft (Sauer- stoff) geeignet. Des weiteren verursachen die erfindungsgemässen Verbindungen nur geringes Vergilben der Zusammensetzungen nach Photopolymerisation. * Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung genauer. Teile und Prozentangaben sind <Desc/Clms Page number 28> wie im Rest der Beschreibung und in den Ansprüchen auf das Gewicht bezogen, sofern nicht anders ausgewiesen. Wenn, ohne besonderen Hinweis auf spezielle Isomeren, Alkylreste mit mehr als drei Kohlenstoffatomen erwähnt werden, sind in jedem Fall die n-Isomeren gemeint. EMI28.1 In Formel 1R1 = C2H5; R2 = COCH3; R3, R4, R6 R7 = H; R5 = SCH3 1.a. 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1,2-dion-2-oxim 11,0 g (0,206 Mol) Natriummethoxid werden in 130 ml Methanol suspendiert. Anschliessend werden Isoamylnitrit (27 ml, 0,206 Mol) und 25 g (0,129 Mol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on, gelöst in 70 ml Tetrahydrofuran (THF), zugesetzt und die Reaktionslösung wird bei Raumtemperatur 1,5 Tage gerührt. Nach Aufkonzentrieren werden Wasser und Essigsäure zum Neutralisieren zugesetzt. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (15: 85) als Elutionsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3), 8 [ppm] : 1,14 (t, 3H), 2,52 (s, 3H), 2,72 (q, 2H), 7,25 (d, 2H), 7,86 (d, 2H), 8,01 (s, 1 H) bestätigt. EMI28.2 3,5 g (15,7 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1,2-dion-2-oxim werden in 20 ml THF gelöst und die Lösung wird in einem Eisbad abgekühlt. Acetylchlorid (1,23 ml, 17,3 mMol) und Triethyl- amin (3,3 ml, 23,6 mMol) werden nacheinander zugesetzt und die Reaktionslösung wird bei 0 C 1 Stunde gerührt und dann in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (20: 80) als Eluti- onsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das H-NMR-Spektrum (CDCI3) bestätigt. 8 [ppm]: 1,17 (t, 3H), 2,27 (s, 3H), 2,53 (s, 3H), 2,78 (q, 2H), 7,27 (d, 2H), 8,00 (d, 2H). Beispiele 2-17: Die Verbindungen der Beispiele 2-17 werden gemäss dem im Beispiel 1 beschriebenen Verfah- ren aus den entsprechenden Ketonen, die durch Friedel-Crafts-Reaktion unter Verwendung der entsprechenden Aromaten und Acylchloride in Gegenwart von Aluminiumchlorid in Dichlormethan synthetisiert werden, hergestellt. Die Verbindungen und 1H-NMR-Daten werden in Tabelle 1 ange- geben. <Desc/Clms Page number 29> Tabelle 1 EMI29.1 EMI29.2 <Desc/Clms Page number 30> EMI30.1 <Desc/Clms Page number 31> EMI31.1 <Desc/Clms Page number 32> EMI32.1 <Desc/Clms Page number 33> EMI33.1 Beispiel 22 : Synthese von 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on-oxim-O-acetat EMI33.2 9,72 g (50 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on werden in heissem Ethanol gelöst. An- schliessend wird eine Lösung aus Hydroxylammoniumchlorid (3,58 g, 51,5 mMol) und Natriumace- tat (7,0 g, 85 mMol) in 20 ml Wasser zugesetzt und die Reaktionslösung wird 4 Stunden bei 100 C gerührt. Nach Abkühlen und Aufkonzentrieren wird Wasser zugesetzt. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkon- zentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethyl- ester/Hexan (20: 80) als Elutionsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3) bestätigt. 8 [ppm] : 0,98 (t, 3H), 1,54-1,64 (m, 2H), 2,50 (s, 3H), 2,76 (t, 2H), 7,24 (d, 2H), 7,54 (d, 2H), 7,98 (s, 1 H). 22. b. 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on-oxim-O-acetat 2,0 g (9,56 mMol) 1-(4-Methylsulfa- nylphenyl)butan-1-on-oxim werden in 10 ml Tetrahydrofuran (THF) gelöst und die Lösung wird in einem Eisbad abgekühlt. Acetylchlorid (0,75 ml, 10,5 mMol) und Triethylamin (2,0 ml, 14,3 mMol) werden nacheinander zugesetzt und die Reaktionslösung wird bei 0 C 1 Stunde gerührt und dann in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchro- matographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (20: 80) als Elutionsmittel gereinigt. Das <Desc/Clms Page number 34> Produkt ist ein farbloses Öl. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDC13) bestätigt. 8 [ppm] : 0,98 (t, 3H), 1,56-1,64 (m, 2H), 2,26 (s, 3H), 2,50 (s, 3H), 2,81 (t, 2H), 7,25 (d, 2H), 7,65 (d, 2H). Beispiel 23 : 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)butan-1-on-oxim-O-acetat EMI34.1 Die Verbindung wird gemäss dem in Beispiel 22 beschriebenen Verfahren unter Verwendung von 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)butan-1-on als Ausgangsmaterial hergestellt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3) bestätigt. 8 [ppm] : 1,04 (t, 3H), 1,71 (m, 2H), 2,93 (t, 2H), 7,32-7,52 (m, 9H), 7,62 (t, 1H), 7,70 (d, 2H), 8,10 (d, 2H). Beispiel 24: Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester-O-acetat In Formel 111: R1 COOC2H5; R2 = COCH3; R4', R6 H ; R5' = SCH3 24. a. (4-Methylsulfanylphenyl)-oxo-essigsäureethylester 37,5 g (0,3 Mol) Thioanisol und 41,4 g (0,3 Mol) Chlor-oxoessigsäureethylester, gelöst in 200 ml Dichlormethan, werden tropfenweise zu einer Suspension von 60 g (0,45 Mol) von Alumini- umtrichlorid in 350 ml Dichlormethan bei 0 C gegeben. Die Lösung wird über Nacht bei Raumtem- peratur gerührt und dann zwei Stunden unter Rückfluss erhitzt. Nach Abkühlen auf Raumtemperatur wird das Reaktionsgemisch in ein Gemisch von 100 ml konz. HCI und Eis/Wasser gegossen. Nach Extraktion mit Dichlormethan wird die organische Phase mit Wasser und Natriumbicarbonat gewa- schen und über Magnesiumsulfat getrocknet. Das Salz wird abfiltriert und das Lösungsmittel ab- destilliert zu 52,3 g (78%) (4-Methylsulfanylphenyl)-oxo-essigsäureethylester als gelbes Öl. Dieses Öl wird für den nächsten Schritt ohne weitere Reinigung verwendet. Die Struktur wird durch das 1H- NMR-Spektrum (in CDCI3) bestätigt. 8 [ppm]: 7,87 (d, 2H), 7,24 (d, 2H), 4,39 (q, 2H), 2,48 (s, 2H), 1,37 (t, 3H). 24.b. Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl) essigsäureethylester 22,4 g (0,1 Mol) (4-Methylsulfanylphenyl)-oxo-essigsäureethylester und 7,6 g (0,1 Mol) Hydro- xylammoniumhydrochlorid werden in 180 ml Pyridin gelöst und das Gemisch wird 16 Stunden bei Raumtemperatur gerührt. Die gelbliche Lösung wird mit Wasser und Essigsäureethylester ver- dünnt, die organische Phase abgetrennt und die wässerige Phase einige Male mit Essigsäure- ethylester extrahiert. Die vereinigten organischen Extrakte werden mit verdünnter Salzsäure und Wasser gewaschen und das Lösungsmittel wird abgedampft. 24 g (100%) roher Hydroxyimino-(4- methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester (66: 34-Gemisch der E- und Z-Isomeren) werden so erhalten und im nächsten Schritt ohne weitere Reinigung verwendet. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (in CDCI3) bestätigt. 8 [ppm] : 7,46 (d, 2H), 7,19 (d, 2H), 4,44 (E) und 4,32 (Z) (zwei d, 2H), 2,47 (Z) und 2,46 (E) (s, 3H), 1,37 (E) und 1,28 (Z) (t, 3H). 24. c. Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester-O-acetat 14,35 g (0,06 Mol) roher Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester und 9,1 g (0,09 Mol) Triethylamin werden in 100 ml THF gelöst. 5,2 g (0,066 Mol) Acetylchlorid, gelöst in 10 ml THF, werden bei 0 C zugegeben. Die Suspension wird auf Raumtemperatur erwärmen lassen und über Nacht gerührt. Das Reaktionsgemisch wird mit Essigsäureethylester und Wasser verdünnt, die Wasserphase wird einige Male mit weiterem Essigsäureethylester extrahiert und die vereinigten organischen Fraktionen mit Salzlösung und Wasser gewaschen und über MgS04 getrocknet. Nach Abdestillieren des Lösungsmittels wird das Rohprodukt als ein Öl erhalten, das durch Filtration über Kieselgel gereinigt wird. 11,2 g (66%) Hydroxyimino-(4-methylsulfanyl- phenyl)essigsäureethylester-O-acetat werden als gelbliches Öl erhalten. Das 1H-NMR-Spektrum zeigt ein 70 :30-Gemisch der(E)- und (Z)-Isomeren. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (in CDCI3) bestätigt. 8 [ppm]: 7,59 und 7,43 (d, 2H), 4,44 und 4,35 (q, 2H), 2,48 und 2,47 (s, 3H), 2,15 und 2,13 (s, 3H), 1,33 und 1,32 (t, 3H). EMI34.2 <tb> tienmentarnyse <SEP> %C <SEP> %H <SEP> %N <SEP> %S <tb> <tb> berechn. <SEP> 55,50 <SEP> 5,37 <SEP> 4,98 <SEP> 11,40 <tb> <tb> gefunden <SEP> 55,54 <SEP> 5,46 <SEP> 4,95 <SEP> 11,41 <tb> <Desc/Clms Page number 35> Beispiel25: Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester-O-benzoat In Formel 11; R1 COOC2Hs, R2 = EMI35.1 Wie in Beispiel 24.c. beschrieben, werden 12,3 g (0,05 Mol) Hydroxyimino-(4-methylsulfanyl- phenyl)essigsäureethylester-O-acetat mit 7,95 g (0,056 Mol) Benzoylchlorid umgesetzt. 17,5 g des Rohprodukts werden als bräunliches Öl, das durch Flashchromatographie an Kieselgel (Elutions- mittel: Petrolether/Essigsäureethylester 5 :1, dann 3 :1) gereinigt wurde, erhalten. Eine erste Fraktion (gelbliches Öl, 5,4 g, 31 %) wird durch 1H-NMR als das reine (E)-Isomer von Hydroxyimi- no-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester-O-benzoat identifiziert. Eine zweite Fraktion (gelbliches Öl, 7,6 g, 44%) wird als ein 45 :55-Gemisch der(E)- und (Z)- Isomeren von Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl) essigsäureethylester-O-benzoat identifiziert. Fraktion 1 (E)someer) 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 8,01 (d, 2H), 7,68 (d, 2H), 7,57 (t, 1H), 7,48 (t, 2H), 7,25 (d, 2H), 4,49 (q, 2H), 2,49 (s, 3H), 1,38 (t, 3H). Elementaranalyse: %C %H %N %S berechn. 62,96 4,99 4,08 9,34 gefunden 62,98 4,99 3,97 9,20 Fraktion 2 ((E)- und (Z)-Isomer): 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 8,01 und 7,89 (d, 2H), 7,68-7,20 (7H), 4,49 und 4,39 (q, 2H), 2,52 und 2,49 (s, 3H), 1,40 und 1,38 (t, 3H). Elementaranalyse: %C %H %N %S berechn. 62,96 4,99 4,08 9,34 gefunden 62,79 4,90 4,34 9,25 Beispiel 26: Hydroxyimino-(3,4-dimethoxyphenyl)essigsäureethylester-O-acetat In Formel 111: R1 = COOC2H5, R2 = COCH3, R4' = OCH3, R5' = OCH3, R6' = H 26. a. (3,4-Dimethoxyphenyl )-oxo-essigsäureethylester Diese Verbindung wird analog zu dem in Beispiel 24. a. beschriebenen Verfahren unter Ver- wendung von Veratrol anstelle von Thioanisol als Ausgangsmaterial hergestellt. Ausbeute : 74% eines orangen Öls. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3) verifiziert, 8 [ppm]: 7,58 (dxd, 1 H), 7,53 (d, 1 H), 6,87 (d, 1 H), 4,38 (q, 2H), 3,92 (s, 3H), 3,89 (s, 3H), 1,37 (q, 3H). 26. b. (3,4-Dimethoxyphenyl)hydroxyiminoessigsäureethylester Diese Verbindung wird aus (3,4-Dimethoxyphenyl)-oxo-essigsäureethylester, wie in Beispiel 24. b. beschrieben und in einer Ausbeute von 83% eines 80 :20-Gemisches (E) - und (Z)-Isomeren hergestellt. 'H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 8,43 (breites s, 1 H), 7,18 und 7,17 (d, 1 H), 6,99 (dxd, 1 H), 6,83 (d, 1 H), 4,44 und 4,33 (q, 2H), 3,90,3,89, 3,87,3,86 (s, 6H), 1,38, 1,36 (t, 3H). 26.c. 2-(3,4-Dimethoxyphenyl)-2-acetyloximinoessigsäureethylester Wie in Beispiel 24. c. beschrieben, wird (3,4-Dimethoxyphenyl)hydroxyiminoessigsäureethyl- ester mit Acetylchlorid umgesetzt. Das Produkt wird in 79%-iger Ausbeute als gelbliche Flüssigkeit erhalten. Das 1H-NMR- Spektrum (CDCI3) zeigt ein 85 :15-Gemisch (E) - und (Z)-Isomeren: 8 [ppm]: 7,38 und 7,32 (d, 1H), 7,15-7,10 (1 H), 6,88 und 6,83 (d, 1 H), 4,44 und 4,35 (q, 2H), 3,87, 3,86,3,84, 3,83 (s, 6H), 2,27 und 2,16 (s, 3H), 1,37 und 1,32 (d, 3H). Elementaranalyse: %C %H %N berechn. 56,95 5,80 4,74 gefunden 56,71 5,76 4,88 Beispiel 27 : 2-(3,4-Dimethoxyphenyl2-benzoyloximinobenzoesäureethylester In Formel 111: R1 COOCH3, R2 = <Desc/Clms Page number 36> EMI36.1 Diese Verbindung wird aus (3,4-Dimethoxyphenyl)hydroxyiminoessigsäureethylester durch Reaktion mit Benzoylchlorid, wie in Beispiel 25 beschrieben, hergestellt. Das feste Produkt wird aus Toluol umkristallisiert zu dem reinen (E)-Isomer als weisser Feststoff, Fp. 98-99 C (Ausbeute: 49%). Eindampfen der Mutterlauge ergibt 43% einer gelben Flüssigkeit, die gemäss dem 1H-NMR- Spektrum ein rohes 55 :45-Gemisch (E) - und des (Z)-Isomers darstellt. 1H-NMR-Spektrum (CDCI3), (E)-Isomer, 8 [ppm]: 8,02 (d, 1 H), 7,57, 7,49 (d), 7,48 (t, 3H), 7,13 (d, 1 H), 6,87 (d, 2H), 4,49 (q, 2H), 3,94 (s, 3H), 3,92 (s, 3H), 1,39 (t, 3H). Elementaranalyse: %C %H %N berechn. 63,86 5,36 3,92 gefunden 63,95 5,37 3,75 EMI36.2 In Formel R1 R1 C3H7, R2 = EMI36.3 Diese Verbindung wird wie in Beispiel 22.b. beschrieben unter Verwendung von Benzoylchlorid anstelle von Acetylchlorid hergestellt. Das Produkt wird als ein Öl erhalten, das sich nach Stehen bei Raumtemperatur verfestigt (Fp. 48-53 C). Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum bestätigt, 8 [ppm]: 1,04 (t, 3H), 1,71 (dt, 2H), 2,52 (s, 3H), 2,94 (t, 2H), 7,27 (d, 2H), 7,51 (t, 2H), 7,62 (t, 1H), 7,74 (d, 2H), 8,11 (d, 2H). EMI36.4 Diese Verbindung wird wie in Beispiel 22.b. beschrieben aus dem entsprechenden Keton her- gestellt. Das Produkt wird als ein Öl erhalten. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum bestätigt, 8 [ppm]: 0,87 (t, 3H), 1,20-1,39 (m, 8H), 1,49-1,60 (m, 2H), 2,25 (s, 3H), 2,79 (t, 2H), 7,26 (d, 2H), 7,31-7,38 (m, 3H), 7,42 (d, 2H), 7,61 (d, 2H). Beispiel 30 : 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)octan-1-on-oxim-O-benzoat EMI36.5 Diese Verbindung wird wie in Beispiel 29 beschrieben unter Verwendung von Benzoylchlorid anstelle von Acetylchlorid hergestellt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum bestätigt, 8 [ppm]: 0,85 (t, 3H), 1,25-1,44 (m, 8H), 1,65 (t, 2H), 2,94 (t, 2H), 7,20-7,45 (m, 7H), 7,50 (t, 2H), 7,62 (t, 1H), 7,69 (d, 2H), 8,10 (d, 2H). Beispiel 31: 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanon-oxim-0-acetat In Formel 111: R1 = CF3, R2 = COCH3, R4' = R6 = H, R5 = SCH3 31. 1. 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanon Zu 50,0 g (403 mMol) Thioanisol und 49,2 g (403 mMol) 4-Dimethylaminopyridin in 500 ml CH2CI2 werden vorsichtig bei 0 C 84,6 g (403 mMol) Trifluoressigsäureanhydrid und anschliessend 123 g (926 mMol) AICI3 gegeben. Das Reaktionsgemisch wird bei Raumtemperatur über Nacht gerührt und dann auf Eis gegossen. Nach Extraktion mit CH2CI2 wird die organische Schicht mit Wasser, wässeriger Ammoniumchloridlösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels werden 50,0 g gelber Feststoff erhalten (56%). Dieser Feststoff wird für die nächste Reaktion ohne weitere Reini- gung verwendet. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3, ppm) bestätigt: d 2,55 (s, 3H), 7,32 (d, 2H), 7,97 (d, 2H). <Desc/Clms Page number 37> 31. 2. 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanonoxim 49,3 g (224 mMol) 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanon werden in 250 ml heissem Ethanol gelöst. Zu dieser Lösung wird tropfenweise eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (16,3 g, 235 mMol) und Natriumacetat (31,2 g, 381 mMol) in 125 ml Wasser gegeben und die Reaktionslösung wird 6,5 Stunden unter Rückfluss gerührt. Das Reaktionsgemisch wurde durch Rotationsverdampfen aufkonzentriert und in Eis/Wasser gegossen. Der erhaltene, gelbe Feststoff wird filtriert und mit Wasser gewaschen. Nach Trocknen unter vermindertem Druck liefert Umkristallisation aus Hexan/Essigsäureethylester 28,4 g weissen Feststoff (54%). Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3) bestätigt, 8 [ppm] : d 2,51 (s, 3H), 7,31 (d, 2H), 7,49 (d, 2H), 8,80 (breites s, 1 H). 31. 3. 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanonoxim-O-acetat Zu einer Lösung von 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanonoxim (2,00 g, 8,50 mMol) und Acetylchlorid (0,734 g, 9,35 mMol) in 30 ml THF wird tropfenweise Triethylamin (1,29 g, 12,8 mMol) bei 0 C gegeben. Nach Rühren für 3 Stunden bei 0 C wird das Reaktionsgemisch in Eis/Wasser gegossen. Die Produkte werden mit Essigsäureethylester extrahiert und die organische Schicht wird mit wässeriger NaHC03-Lösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1: 9) als Elutionsmittel gereinigt. 1,20 g farbloses Öl werden erhalten (51%). Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCI3) bestätigt, 8 [ppm]: d 2,11 (s, 3H), 2,45 (s, 3H), 7,24 (d, 2H), 7,32 (d, 2H). Beispiel 32 : 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethanon-oxim-O-acetat EMI37.1 32. 1. 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethanon Zu 37,3 g (200 mMol) Diphenylsulfid und 36,7 g (300 mMol) 4-Dimethylaminopyridin in 500 ml CH2CI2 werden vorsichtig bei 0 C 63,0 g (300 mMol) Trifluoressigsäureanhydrid und anschliessend 92,0 g (690 mMol) AICI3 gegeben. Das Reaktionsgemisch wird bei Raumtemperatur über Nacht gerührt und dann auf Eis gegossen. Nach Extraktion mit CH2CI2 wird die organische Schicht mit Wasser, wässeriger Ammoniumchloridlösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels werden 54,1 g braunes Öl erhalten. 10 g dieses Rohprodukts werden zur Säulenchromatographie auf Kieselgel mit CH2C12-Hexan (1: 4) als Elutionsmittel angewendet. 7,40 g gelbes Öl werden erhalten (13%). 1H-NMR (CDCI3, ppm): d 7,19 (d, 2H), 7,45-7,49 (m, 3H), 7,54-7,58 (m, 2H), 7,90 (d, 2H). 32. 2. 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethanonoxim 6,21 g (22,0 mMol) 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethanon werden in 25 ml heissem Ethanol gelöst. Zu dieser Lösung wird tropfenweise eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (1,61 g, 23,1 mMol) und Natriumacetat (3,07 g, 37,4 mMol) in 12,5 ml Wasser gegeben und die Reaktionslösung wird 6 Stunden unter Rückfluss gerührt. Das Reaktionsgemisch wird durch Rotati- onsverdampfen aufkonzentriert und in Eis/Wasser gegossen. Der erhaltene, weisse Feststoff wird filtriert und mit Wasser gewaschen. Nach Trocknen unter vermindertem Druck liefert Umkristallisa- tion aus Hexan/CH2C12 4,1 g weisser Feststoff (63%). Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spek- trum (CDCI3) bestätigt, 8 [ppm] : d 7,26 (d, 2H), 7,36-7,44 (m, 5H), 7,48-7,51 (m, 2H), 8,78 (s, 1H). EMI37.2 Zu einer Lösung von 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethanonoxim (1,50 g, 5,05 mMol) und Acetylchlorid (0,436 g, 5,56 mMol) in THF (25 ml) wird tropfenweise bei 0 C Triethylamin (0,766 g, 7,57 mMol) gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 3 Stunden wird das Reaktionsgemisch in Eis/Wasser gegossen. Die Produkte werden mit Essigsäureethylester extrahiert und die organische Schicht mit wässeriger NaHC03-Lösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2C1/2Hexan (1:1) als Elutionsmittel <Desc/Clms Page number 38> gereinigt. 0,91 g weisser Feststoff (53%) werden als Isomerengemisch von syn und anti erhalten. Das Verhältnis des Hauptisomers zu dem Nebenisomer ist 87 :13, auf 1H-NMR. 1H-NMR (CDC13), 8 [ppm] : d 2,18 und 2,28 (s, 3H), 7,24 (d, 2H), 7,34-7,53 (m, 7H). Die als das Hauptisomer bewerteten Signale sind wie nachstehend, d 2,18 (s, 3H), 7,34 (d, 2H), 7,53 (dd, 2H). Der Schmelz- punkt des Feststoffs ist 76-80 C. EMI38.1 Zu einer Lösung von 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)decan-1-on-oxim (2,00 g, 5,63 mMol) und Pentafluorbenzoylchlorid (1,43 g, 6,19 mMol) in THF (25 ml) wird tropfenweise bei 0 C Triethylamin (0,85 g, 8,45 mMol) gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 1 Stunde wird das Reaktionsgemisch in Eis/Wasser gegossen. Die Produkte werden aus Essigsäureethylester extrahiert und die organi- sche Schicht mit wässeriger NaHC03-Lösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das ge- wünschte Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1:4) als Elutionsmittel gereinigt. 2,08 g weisser Feststoff mit einem Schmelzpunkt von 56-59 C werden erhalten (67%). 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: d 0,86 (t, 3H), 1,2-1,4 (m, 12H), 1,56 (breites s, 2H), 2,84 (t, 2H), 7,27 (d, 2H), 7,35-7,38 (m, 3H), 7,45 (dd, 2H), 7,64 (d, 2H). EMI38.2 In Formel 111: R1 CF3CH2, R2 = COCH3, R4' = R6 = H, R5 = SCH3 34. 1. N,N-Dimethyl-N'-(4-methylsulfanylbenzyliden)hydrazin 7,44 g (48,9 mMol) 4-Methylthiobenzaldehyd und 4,0 ml (52,7 mMol) 1,1-Dimethylhydrazin werden in Toluol (50 ml) gelöst und 2,5 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Salzlösung wird nach Abkühlen zu dem Reaktionsgemisch gegeben und das Produkt mit Toluol extrahiert. Die Toluol- schicht wird kondensiert und der Rückstand wird zur Säulenchromatographie an Kieselgel mit Aceton/Hexan (1:20) als Elutionsmittel aufgetragen. 9,07 g hellgelbes Öl werden erhalten (96%). 1H-NMR (CDC13), 8 [ppm] : d 2,48 (s, 3H), 2,96 (s, 6H), 7,20 (s, 1 H), 7,21 (d, 2H), 7,49 (d, 2H). 34. 2. 3,3,3-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-on 64 ml (453 mMol) Trifluoressigsäureanhydrid werden tropfenweise zu 8,68 g (44,7 mMol) N, N- Dimethyl-N'-(4-methylsulfanylbenzyliden)hydrazin in Pyridin bei 0 C innerhalb 20 Minuten gege- ben. Dann wird die Reaktionslösung schrittweise auf Raumtemperatur erwärmt und über Nacht gerührt. Überschüssiges Trifluoressigsäureanhydrid und Pyridin werden durch Abdampfen im Vakuum entfernt. Der Rückstand wird in 200 ml Acetonitril und 200 ml wässeriger 6N HCI-Lösung gelöst. Nach Rühren über Nacht bei Raumtemperatur wird die Reaktionslösung mit NaHC03 neut- ralisiert. Die Entfernung von Acetonitril liefert einen weissen Feststoff, der filtriert und mit Wasser gewaschen wird. Das Produkt wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2C12/Hexan (1: 1) als Elutionsmittel gereinigt. 3,18 g weisser Feststoff mit einem Schmelzpunkt von 118-120 C werden erhalten (30%). 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm] : d 2,54 (s, 3H), 3,75 (q, 2H), 7,29 (d, 2H), 7,84 (d, 2H). 34. 3. 3,3,3-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-on-oxim Hydroxylammoniumchlorid (1,07 g, 15,4 mMol) und Natriumacetat (1,85 g, 22,5 mMol) werden in 10 ml Wasser gelöst. Zu dieser Lösung werden 2,35 g (10,0 mMol) 3,3,3-Trifluor-1-(4-methyl- sulfanylphenyl)propan-1-on in 30 ml Ethanol gegeben. Das Reaktionsgemisch wird 6,5 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wurde durch Rotationsverdampfen aufkonzentriert und in Wasser gegossen. Das Produkt wird mit CH2CI2 extrahiert und die organische Schicht mit Wasser gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Verdampfen des Lösungsmittels wird das Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2C12/Hexan (2: 1) als Elutionsmittel gereinigt. 1,48 g weisser Feststoff, der bei 106-107 C schmilzt, werden erhalten (59%). 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: d 2,51 (s, 3H), 3,73 (q, 2H), 7,26 (d, 2H), 7,57 (d, 2H), 8,23 (s, 1 H). <Desc/Clms Page number 39> EMI39.1 4,50 mMol) und Acetylchlorid (0,35 ml, 4,92 mMol) in THF (10 ml) wird tropfenweise bei 0 C Pyri- din (0,40 ml, 4,95 mMol) gegeben. Nach Rühren bei Raumtemperatur über Nacht wird das Reakti- onsgemisch in Wasser gegossen. Die Produkte werden mit THF extrahiert und die organische Schicht mit wässeriger NaHC03-Lösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2CI2/Hexan (2:1) als Elutionsmittel gereinigt. 0,997 g hellgelber Feststoff, der bei 70-71 C schmilzt, werden erhalten (76%). 1H-NMR (CDC13), 8 [ppm]: d 2,28 (s, 3H), 2,51 (s, 3H), 3,75 (q, 2H), 7,26 (d, 2H), 7,69 (d, 2H). Beispiel 35: 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanonoxim-O-acetat EMI39.2 35. 1. 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanon Thioanisol (6,22 g, 50 mMol), verdünnt mit CH2CI2 (5 ml), wird zu einer Suspension von AICI3 (6,8 g, 51 mMol) in 45 ml CH2CI2 gegeben. Phenylacetylchlorid (7,73 g, 50,0 mMol) in CH2C12 (15 ml) wird tropfenweise innerhalb 5 Minuten bei 0 C zugegeben. Dann wird die Reaktionslösung schrittweise auf Raumtemperatur erwärmt und über Nacht gerührt. Die Reaktionslösung wird auf Eis gegossen. Der erhaltene, weisse Niederschlag wird mit CH2CI2 extrahiert und die organische Schicht mit Wasser und wässeriger NaHC03-Lösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Verdampfen des Lösungsmittels wird der Rückstand durch Umkristalli- sation aus Hexan/CH2CI2 gereinigt. 10,4 g weisser Feststoff werden erhalten (86%). 'H-NMR (CDC13), 8 [ppm] : d 2,50 (s, 3H), 4,23 (s, 2H), 7,22-7,27 (m, 5H), 7,32 (t, 2H), 7,91 (d, 2H). 35. 2. 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanonoxim Hydroxylammoniumchlorid (4,19 g, 60,2 mMol) und Natriumacetat (7,42 g, 90,4 mMol) werden in 20 ml Wasser gelöst. Zu dieser Lösung werden 9,72 g (40,1 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl}-2- phenylethanon in 60 ml Ethanol gegeben. Das Reaktionsgemisch wird 18,5 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wird durch Rotationsverdampfen aufkonzentriert und in Wasser gegossen. Der erhaltene, weisse Feststoff wird filtriert und mit Wasser gewaschen. Nach Trocknen unter vermindertem Druck liefert Umkristallisation aus Hexan/CH2CI2 7,32 g weissen Fest- stoff (71%). 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm] : d 2,45 (s, 3H), 4,20 (s, 2H), 7,16-7,20 (m, 3H), 7,24-7,27 (m, 4H), 7,54 (d, 2H), 9,03 (s, 1 H). 35.3. 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanonoxim-O-acetat Zu einer Lösung von 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanonoxim (2,64 g, 10,3 mMol) und Acetylchlorid (0,8 ml, 11,3 mMol) in THF (20 ml) wird tropfenweise bei 0 C Pyridin (1,0 ml, 12,4 mMol) gegeben. Nach Rühren bei Raumtemperatur über Nacht wird das Reaktionsgemisch in Wasser gegossen. Die Produkte werden mit THF extrahiert und die organische Schicht mit wässe- riger NaHC03-Lösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgS04. Nach Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2CI2 als Elutionsmittel gereinigt. 2,79 g weisser Fest- stoff, der bei 57-59 C schmilzt, werden erhalten (91%). 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: d 2,20 (s, 3H), 2,44 (s, 3H), 4,20 (s, 2H), 7,16-7,23 (m, 5H), 7,26 (dd, 2H), 7,67 (d, 2H). EMI39.3 In Formel 11: M = -(CH2)5-; R2 = -COCH3; R3, R4, R6 R7 = H, R5 = SCH3 36. 1. 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,9-dion Thioanisol (23,5 ml, 0,20 Mol) wird zu einer Suspension von AICI3 (27,3 g, 0,205 Mol) in 200 ml CH2CI2 gegeben. Azelaoylchlorid (19,7 ml, 0,10 Mol) wird langsam tropfenweise, während das Reaktionsgemisch in einem Eisbad abgekühlt wird, zugegeben und die Reaktionslösung wird 19 Stunden bei Raumtemperatur gerührt. Dann wird die Reaktionslösung in Eiswasser gegossen. <Desc/Clms Page number 40> Der hergestellte, weisse Niederschlag wird abfiltriert und das Rohprodukt wird aus dem Filtrat mit CH2CI2 extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Umkristallisation aus i-Pr20-CHCI3 gereinigt. Das Produkt wird als ein weisser Feststoff erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 8 1,35-1,43 (m, 6H), 1,72 (t, 4H), 2,52 (s, 6H), 2,91 (t, 4H), 7,26 (d, 4H), 7,87 (d, 4H). 36. 2. 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,2,8,9-tetraon-2,8-dioxim 5,0 g (12,5 mMol) 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,9-dion werden in 120 ml t-Butyl- methylether und 200 ml CH2CI2 gelöst. HCI-Gas wird durch das Gemisch geleitet und anschliessend wird Methylnitritgas 0,5 Stunden durchgeleitet. Nachdem das Durchleiten beendet ist, wird die Reaktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Wasser und Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rück- stand wird durch Umkristallisation aus Methanol gereinigt. Das Produkt wird als ein hellgelber Fest- stoff erhalten. 1H-NMR (DMSO-d6), 8 [ppm]: 1,25 (m, 2H), 1,41 (m, 4H), 2,45 (s, 6H), 2,50 (t, 4H), 7,24 (d, 4H), 7,69 (d, 4H). EMI40.1 Acetylchlorid (0,33 ml, 4,58 mMol) und Triethylamin (0,91 ml, 6,54 mMol) werden zu einer Lösung von 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,2,8,9-tetraon-2,8-dioxim (1,0 g, 2,18 mMol) in 35 ml THF gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 3 Stunden wird der hergestellte Feststoff abfiltriert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1: 4 bis 2:3) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als viskoses Öl erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 1,40-1,49 (m, 2H), 1,52-1,64 (m, 4H), 2,25 (s, 6H), 2,52 (s, 6H), 2,76 (t, 4H), 7,26 (d, 4H), 7,98 (d, 4H). EMI40.2 In Formel IV: M = -(CH2)7-; R2 = -COCH3; R4', R6 H, R5 = -SCH3 37. 1. 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,9-diondioxim 8,0 g (20 mMol) 1,9-Bis(4-methyl- sulfanylphenyl)nonan-1,9-dion werden in 400 ml heissem Ethanol und 70 ml heissem THF gelöst. Dann wird eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (2,9 g, 42 mMol) und Natriumacetat (5,6 g, 68 mMol) in 70 ml Wasser zugegeben und die Reaktionslösung 3 Stunden bei 100 C gerührt. Nach Abkühlen und Aufkonzentrieren wird Wasser zugegeben. Das Rohprodukt wird mit Essigsäure- ethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Umkristallisation aus Methanol gereinigt. Das Produkt wird als weisser Fest- stoff erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm] : 1,30-1,40 (m, 6H), 1,48-1,58 (m, 4H), 2,50 (s, 6H), 2,75 (t, 4H), 7,23 (d, 4H), 7,52 (d, 4H). EMI40.3 Acetylchlorid (0,69 ml, 9,74 mMol) und Triethylamin (1,9 ml, 13,9 mMol) werden zu einer Lösung von 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,9-diondioxim (2,0 g, 4,64 mMol) in 20 ml THF gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 30 Minuten wird der hergestellte Feststoff abfiltriert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1: 4 bis 2:3) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als viskoses Öl erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 1,27-1,40 (m, 6H), 1,48-1,58 (m, 4H), 2,25 (s, 6H), 2,50 (s, 6H), 2,80 (t, 4H), 7,24 (d, 4H), 7,63 (d, 4H). Beispiel 38 : 1-{4-[4-(2-Acetoxyiminobutyryl)phenylsulfanyl]phenyl}butan-1,2-dion-2-oxim-O- acetat In Formel 1;R1 = C2H5; R2 = -COCH3; R3, R4, R6, R7 = H, R5 = SR9; Rg = EMI40.4 <Desc/Clms Page number 41> 38. 1. 1-[4-(4-Butyrylphenylsulfanyl)phenyl]butan-1-on Diphenylsulfid (33,3 ml, 0,20 Mol) wird zu einer Suspension von AICI3 (54,7 g, 0,41 Mol) in 350 ml CH2CI2 gegeben. n-Butyrylchlorid (41,4 ml, 0,40 Mol) wird langsam tropfenweise in ein Eisbad gegeben und die Reaktionslösung wird bei Raumtemperatur 15 Stunden gerührt. Dann wird die Reaktionslösung in Eiswasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit CH2CI2 extrahiert, mit 1 N NaOH und Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Das Produkt wird als weisser Feststoff erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm] : 1,00 (t, 6H), 1,77 (tq, 4H), 2,92 (s, 4H), 7,40 (d, 4H), 7,90 (d, 4H). EMI41.1 20 g (61 mMol) 1-[4-(4-Butyrylphenylsulfanyl)phenyl]butan-1-on werden in 300 ml t- Butylmethylether und 50 ml CH2CI2 gelöst. HCI-Gas wird durch das Gemisch geleitet und anschlie- #end wird Methylnitritgas 0,5 Stunden durchgeleitet. Nachdem das Durchleiten beendet ist, wird die Reaktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extra- hiert, mit Wasser und Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1: 8 bis 1:3) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als gelber Feststoff erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 1,15 (t, 6H), 2,73 (q, 4H), 7,35 (d, 4H), 7,84 (d, 4H), 8,40 (bs, 2H). EMI41.2 Acetylchlorid (2,0 ml, 28,6 mMol) und Triethylamin (5,7 ml, 40,8 mMol) werden zu einer Lösung von 1-{4-[4-(2-Hydroxyiminobutyryl)phenylsulfanyl]phenyl}butan-1,2-dion-2-oxim (5,0 g, 13,6 mMol) in 20 ml THF gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 30 Minuten wird der hergestellte Feststoff abfilt- riert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1: 8 bis 1:3) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als hellgel- bes Öl erhalten. 1H-NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 1,18 (t, 6H), 2,27 (s, 6H), 2,80 (q, 4H), 7,44 (d, 4H), 8,04 (d, 4H). EMI41.3 benzoat In Formel 1;R1 = C2H5; R2 =-CO-Phenyl; R3, R4, R6 R7 = H, Rs = SR9 Rg = EMI41.4 Benzoylchlorid (4,72 ml, 40,7 mMol) und Triethylamin (8,5 ml, 61 mMol) werden zu einer Lösung von 1-{4-[4-(2-Hydroxyiminobutyryl)-phenylsulfanyl]phenyl}butan-1,2-dion-2-oxim (7,45 g, 20,3 mMol) in 40 ml THF gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 50 Minuten wird die Raktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Wasser gewa- schen, über MgS04 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchroma- tographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan-CH2C12 (1:9:0 bis 1:3:1) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als hellgelber Feststoff, der bei 110-113 C schmilzt, erhalten. 1H-NMR (CDC13), 8 [ppm]: 1,28 (t, 6H), 2,93 (q, 4H), 7,45-7,56 (m, 8H), 7,65 (t, 2H), 8,08-8,18 (m, 8H). EMI41.5 In Formel 111: R1 C3H7; R2 = -COCH3; R4', R6 H, Rs = SR9; R9 EMI41.6 <Desc/Clms Page number 42> 40. 1. 1-{4-[4-(1-Hydroxyiminobutyl)phenylsulfanyl]phenyl}butan-1-on-oxim 20 g (61,3 mMol) 1-[4-(4-Butyrylphenylsulfanyl)phenyl]butan-1-on werden in 140 ml heissem Ethanol gelöst. Dann wird eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (8,55 g, 123 mMol) und Natriumacetat (17,1 g, 208 mMol) in 70 ml Wasser zugegeben und die Reaktionslösung bei 100 C 2 h gerührt. Nach Abkühlen und Aufkonzentrieren wird Wasser zugegeben. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgS04 getrocknet und auf- konzentriert. Der Rückstand wird durch Umkristallisation aus Methanol gereinigt. Das Produkt (ein Isomerengemisch) wird als weisser Feststoff erhalten. < Hauptisomer > 1H NMR (CDCI3), 8 [ppm]: 0,98 (t, 6H), 1,61 (tg, 4H), 2,76 (t, 4H), 7,34 (d, 4H), 7,55 (d, 4H). EMI42.1 Acetylchlorid (2,1 ml, 29,4 mMol) und Triethylamin (5,9 ml, 42 mMol) werden zu einer Lösung von 1-{4-[4-(1-Hydroxyiminobutyl)phenylsulfanyl]phenyl}butan-1-on-oxim (5,0 g, 14,0 mMol) in 40 ml THF gegeben. Nach Rühren bei 0 C für 30 Minuten wird der hergestellte Feststoff abfiltriert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1: 4 bis 2:5) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als farbloses Öl erhalten. 1H-NMR (CDC13), 8 [ppm] : 0,99 (t, 6H), 1,60 (tq, 4H), 2,26 (s, 6H), 2,81 (t, 4H), 7,35 (d, 4H), 7,66 (d, 4H). Beispiel 41: 2,4-Diethylthioxanthen-9-on-oxim-O-benzoat EMI42.2 EMI42.3 stoffatom des Phenylrings, das die Gruppen R4' und R6 trägt, einen Ring bildet.) 41. 1. 2,4-Diethylthioxanthen-9-on-oxim 7,0 g (26 mMol) Diethylthioxanthen-9-on werden in 15 ml heissem Ethanol und 15 ml Pyridin ge- löst. Dann wird Hydroxylammoniumchlorid (3,6 g, 52 mMol) zugegeben und die Reaktionslösung 21 Stunden bei 115 C gerührt. Nach Abkühlen wird Wasser zugegeben. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Wasser gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzen- triert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/ Hexan (1:30 bis 1:10) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt (ein Isomerengemisch) wird als hellgelber Feststoff erhalten. H NMR (CDCI3), 8 [ppm] : 1,23-1,32 (m, 6H), 2,65-2,72 (m, 2H), 2,77- 2,86 (m, 2H), 7,12 (s, 1 H), 7,30-7,36 (m, 2H), 7,45 (dd, 1/2H), 7,53-7,55 (m, 1 H), 7,80 (dd, 1/2H), 8,03 (d, 1/2H), 8,09-8,48 (bs, 1 H), 8,34 (dd, 1/2H), worin 1/2H 1 H von jedem Isomer bedeutet. 41. 2. 2,4-Diethylthioxanthen-9-on-oxim-O-benzoat Benzoylchlorid (1,1 ml, 9,9 mMol) und Triethylamin (1,9 ml, 13,5 mMol) werden zu einer Lö- sung von 2,4-Diethylthioxanthen-9-on-oxim (2,56 g, 9,0 mMol) in 10 ml THF gegeben. Nach Rüh- ren bei 0 C für 70 Minuten wird die Reaktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Wasser gewaschen, über MgS04 getrocknet und aufkonzen- triert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethyl- ester/Hexan (1:20 bis 1:8) als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt (ein Isomerengemisch) wird als gelber Feststoff erhalten. H NMR (CDC13) 8 [ppm] : 1,24-1,36 (m, 6H), 2,71-2,76 (q, 2H), 2,81- 2,90 (m, 2H), 7,20 (d, 1/2H), 7,23 (d, 1/2H), 7,38-7,54 (m, 4H + 1/2H), 7,59-7,65 (m, 1H + 1/2H), 7,87 (m, 1/2H), 7,94 (m, 1/2H), 8,08 (t, 2H), 8,16 (dd, 1/2H), 8,22 (dd, 1/2H), worin 1/2H 1H von jedem Isomer bedeutet. Beispiel 42 <Desc/Clms Page number 43> Eine photohärtbare Formulierung wird durch Vermischen der nachstehenden Komponenten hergestellt. EMI43.1 Industries, Ltd. 15 Gewichtsteile Dipentaerythrithexaacrylat (DPHA), bereitgestellt von UCB Che- micals 2,3 Gewichtsteile des zu prüfenden Photostarters Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Formulierungen werden auf eine Aluminiumplatte aufgetragen. Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen auf 80 C für 15 Minuten in einem Konvektionsofen entfernt. Die Dicke des trockenen Films ist 25 m Auf diese Beschichtung wird eine Acetatfolie aufgelegt, über die ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschied- licher optischer Dichte/Schwärzung (Stouffer-Stufen-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einer zweiten UV-durchlässigen Folie bedeckt und durch Vakuum an eine Metallplatte angedrückt. Die Belichtung wird in einer ersten Testreihe für 40 Sekunden, in einer zweiten Testreihe für 80 Sekunden und in einer dritten Testreihe für 160 Sekunden unter Verwendung einer Metallhaloge- nidlampe (ORC, Modell SMX 3000) mit 3 kW bei einem Abstand von 60 cm ausgeführt. Nach der Belichtung werden die Deckfolien und die Maske entfernt und der belichtete Film wird mit einer 1%igen wässerigen Natriumcarbonatlösung für 180 Sekünden bei 30 C unter Verwendung eines Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des ver- wendeten Startersystems wird durch Angabe der höchsten Stufenzahl, die nach der Entwicklung verbleibt (das heisst polymerisiert wurde), charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto emp- findlicher ist das geprüfte System. Eine weitere Testreihe wird bereitgestellt durch Zugeben von 0,23 Gewichtsteilen eines Gemi- sches von 2-lsopropylthioxanthon und 4-lsopropylthioxanthon (RTMQUANTACURE ITX, Intematio- nal Biosynthetics) zu der vorstehend beschriebenen Formulierung. Die Ergebnisse werden in Tabelle 2 zusammengefasst. Tabelle 2 EMI43.2 <tb> Photostarter <SEP> Sensibilisator <SEP> Anzahl <SEP> der <SEP> reproduzierten <SEP> Schritte <tb> <tb> <tb> von <SEP> Beispiel <SEP> nach <SEP> Belichtungszeit <tb> <tb> <tb> von <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 40 <SEP> s <SEP> 80 <SEP> s <SEP> 160 <tb> <tb> <tb> 1- <SEP> 15 <SEP> 17 <SEP> 19 <tb> <tb> <tb> <tb> 2- <SEP> 11 <SEP> 13 <SEP> 15 <tb> <tb> <tb> <tb> 3- <SEP> 10 <SEP> 12 <SEP> 14 <tb> <tb> <tb> <tb> 5- <SEP> 14 <SEP> 16 <SEP> 19 <tb> <tb> <tb> <tb> 7- <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 17 <tb> <tb> <tb> <tb> 7 <SEP> Quantacure <SEP> ITX <SEP> 13 <SEP> 15 <SEP> 17 <tb> <tb> <tb> <tb> 8- <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 17 <tb> <tb> <tb> <tb> 10 <SEP> - <SEP> 15 <SEP> 17 <SEP> 20 <tb> <tb> <tb> <tb> 11 <SEP> - <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 16 <tb> <tb> <tb> <tb> 12 <SEP> - <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 15 <tb> <tb> <tb> <tb> 13- <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 15 <tb> <tb> <tb> <tb> 14- <SEP> 15 <SEP> 17 <SEP> 19 <tb> <tb> <tb> <tb> 15 <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 16 <tb> <tb> <tb> <tb> 18 <SEP> - <SEP> 10 <SEP> 12 <SEP> 14 <tb> <tb> <tb> <tb> 19 <SEP> - <SEP> 10 <SEP> 12 <SEP> 14 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 20 <SEP> - <SEP> 11 <SEP> 13 <SEP> 15 <tb> <tb> <tb> <tb> 29 <SEP> Quantacure <SEP> ITX <SEP> 10 <SEP> 12 <SEP> 14 <tb> <tb> <tb> <tb> 21 <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 16 <tb> <Desc/Clms Page number 44> Beispiel 43 Eine photohärtbare Formulierung, die als ein Modell für einen Trockenfilm-Ätzresist dient, wird durch Vermischen der nachstehenden Komponenten hergestellt: 45,1 Gewichtsteile RTMSCRIPSET 540 (Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymer, be- reitgestellt von Monsanto) 48,3 Gewichtsteile Triacrylsäuretrimethylolpropanester 6,6 Gewichtsteile Diacrylsäurepentaethylenglycolester 105,2 Gewichtsteile Aceton Zu dem Gemisch 0,25% (bezogen auf den Feststoffgehalt) von QUANTACURE ITX werden 0,14% (bezogen auf den Feststoffgehalt) Bis(diethylamino)benzophenon und 3% (bezogen auf den Feststoffgehalt) des zu prüfenden Starters gegeben und gerührt. Alle Vorgänge werden unter gelben Lichtbedingungen ausgeführt. Die Probe, zu der der Starter gegeben wurde, wird auf eine Aluminiumfolie aufgetragen. Das Lösungsmittel wird durch Trocknen bei 60 C für 15 Minuten in einem Umluftofen entfernt. Nach Trocknen ist die Filmdicke 35-40 m Auf diesen Film wird eine 76 \im dicke Polyesterfolie aufgetragen, über die ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Schritten von unterschiedlicher optischer Dichte (Stouffer-Keil) gelegt wird. Die Probe wird mit einer zweiten UV-durchlässigen Folie bedeckt und mit Hilfe von Vakuum an eine Metallplatte gedrückt. Das Belichten wird in einer ersten Testreihe für 10 Sekunden, in einer zweiten Testreihe für 20 Sekunden und in einer dritten Testreihe für 40 Sekunden unter Verwendung einer 5 kW- Metallhalogenidlampe (M061, Staub AG) bei einem Abstand von 30 cm ausgeführt. Nach dem Belichten werden die Deckfolien und die Maske entfernt und die belichtete Folie mit einer 0. 85%-igen Natriumcarbonatlösung für 8 Minuten bei 35 C unter Verwendung des Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Starter- systems wird durch Anzeigen des letzten Keilschrittes, der ohne Anhaften reproduziert wird (das heisst polymerisiert), charakterisiert. Je höher die Anzahl der Schritte, umso empfindlicher ist das untersuchte System. Tabelle 3 EMI44.1 <tb> Photostarter <SEP> von <SEP> Anzahl <SEP> der <SEP> reproduzierten <SEP> Schritte <SEP> nach <SEP> Belichtungszeit <SEP> von <tb> <tb> <tb> Beispiel <tb> <tb> 10s <SEP> 20s <SEP> 40s <tb> <tb> <tb> <tb> 29 <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 16 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 21 <SEP> 13 <SEP> 15 <SEP> 17 <tb> <tb> <tb> 23 <SEP> 12 <SEP> 14 <SEP> 16 <tb> Beispiel 44 : Herstellung von Poly(benzylmethacrylat-Co-methacrylsäure) 24 g Methacrylsäurebenzylester, 6 g Methacrylsäure und 0,525 g Azobisisobutyronitril (AIBN) werden in 90 ml Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA) gelöst. Das erhaltene Reaktionsgemisch wird in ein vorerhitztes Ölbad bei 80 C gestellt. Nach Rühren für 5 Stunden unter Stickstoff bei 80 C wird die erhaltene viskose Lösung auf Raumtemperatur abgekühlt und ohne weitere Reinigung verwendet. Der Feststoffgehalt ist etwa 25%. Eine photohärtbare Zusammensetzung wird durch Vermischen der nachstehenden Komponen- ten hergestellt: 200,0 Gewichtsteile des Copolymers von Methacrylsäurebenzylester und Methacryl- säure (Methacrylsäurebenzylester:Methacrylsäure = 80 :20 das Gewicht) 25% Gewichtsteile Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA) -Lösung, hergestellt wie vorstehend beschrieben; 50,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritester (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals); 4,0 Gewichtsteile Photostarter und 150,0 Gewichtsteile PGMEA. <Desc/Clms Page number 45> Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Zusammensetzungen werden auf eine Aluminiumplatte unter Verwendung eines elektrischen Applikators mit einem mit Draht umwickelten Stab aufgetragen. Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen auf 100 C für 2 Minuten in einem Konvektionsofen entfernt. Die Dicke des trockenen Films ist 2 m Auf diese Beschichtung wird eine Acetatfolie aufgelegt, über die ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dichte/Schwärzung (Stouffer-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einer zweiten UV-durchlässigen Folie bedeckt und durch Vakuum an eine Metallplatte angedrückt. Interferenzfilter werden obenauf angebracht, um die Wellenlängen bei 365 nm und 405 nm auszuwählen. Die Belichtung erfolgt unter Verwendung einer Quecksilberhöchstdrucklampe 250W (USHIO, USH-250BY) bei einem Abstand von 15 cm. Nach der Belichtung werden die Deckfolien und die Maske entfernt und der belichtete Film wird mit einer 1%igen wässerigen Natriumcarbonatlösung für 200 Sekunden bei 30 C unter Verwendung eines Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der höchsten Stufenzahl, die nach der Entwicklung verbleibt (das heisst polymerisiert wurde), charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das geprüfte System. Die Ergebnisse werden in. Tabelle 4 zusammengefasst. Tabelle 4 EMI45.1 <tb> Photostarter <SEP> von <SEP> Sensibilisator <SEP> Empfindlichkeit <SEP> (mJ/mc2) <tb> <tb> <tb> <tb> Beispiel <SEP> bei <SEP> 365 <SEP> nm <SEP> bei <SEP> 405 <SEP> nm <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 2 <SEP> 4 <SEP> 161 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 2 <SEP> S-1 <SEP> 4 <SEP> 29 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 4 <SEP> 129 <SEP> > 1000 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 4 <SEP> S-1 <SEP> 129 <SEP> 323 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 6 <SEP> 6 <SEP> 161 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 6 <SEP> S-1 <SEP> 6 <SEP> 20 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 9 <SEP> 46 <SEP> > 1000 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 9 <SEP> S-1 <SEP> 8 <SEP> 29 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 13 <SEP> 4 <SEP> 57 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 13 <SEP> S-1 <SEP> 11 <SEP> 29 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 25 <SEP> 523 <SEP> > 1000 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 25 <SEP> S-1 <SEP> 182 <SEP> 645 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 27 <SEP> > 1000 <SEP> > 1000 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 27 <SEP> S-1 <SEP> 65 <SEP> 114 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 28 <SEP> > 1000 <SEP> > 1000 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 28 <SEP> S-1 <SEP> 8 <SEP> 14 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 30 <SEP> 182 <SEP> > 1000 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 30 <SEP> S-1 <SEP> 6 <SEP> 14 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 21 <SEP> 4 <SEP> 114 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 21 <SEP> S-1 <SEP> 4 <SEP> 14 <tb> S-1 ist 4,4'-Bis(diethylamino)benzophenon (in 2,4 Gewichtsteilen zugegeben). Beispiel 45 : Eine photohärtbare Zusammensetzung wird durch Vermischen der nachstehenden Komponenten hergestellt: 200,0 Gewichtsteile des Copolymers von Methacrylsäurebenzylester und Methacryl- säure (Methacrylsäureben-zylester:Methacrylsäure = 80 :20 das Gewicht) <Desc/Clms Page number 46> 25% Gewichtsteile Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA) -Lösung, hergestellt wie in Beispiel 43 beschrieben; 50,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritester (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals); 4,0 Gewichtsteile Photostarter und 150,0 Gewichtsteile PGMEA. Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Zusammensetzungen werden auf eine Aluminiumplatte unter Verwendung eines elektrischen Applicators mit einem mit Draht umwickelten Stab aufgetragen. Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen auf 100 C für 2 Minuten in einem Konvektionsofen entfernt. Die Dicke des trockenen Films ist 2 (im. Ein standardisierter Test- Negativfilm mit 21 Schritten von unterschiedlicher optischer Dichte (Stouffer-Schritt-Keil) wird mit einem Luftspalt von rund 100 \im zwischen den Film und den Resist angeordnet. Ein Interferenzfil- ter wird obenauf angeordnet, um die Wellenlänge 365 nm auszuwählen. Die Belichtung wird unter Verwendung einer Quecksilberhöchstdrucklampe (USHIO, USH-250BY) bei 250 W und einem Abstand von 15 cm ausgeführt. Nach der Belichtung wird der Film mit einer wässerigen 1%-igen Natriumcarbonatlösung 200 Sekunden bei 30 C unter Verwendung eines Entwicklers vom Sprüh- typ (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der höchsten Stufenzahl, die nach der Entwicklung verbleibt (das heisst polyme- risiert wurde), charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das geprüfte System. Die Ergebnisse werden in Tabelle 5 zusammengefasst. Tabelle 5 EMI46.1 <tb> Photostarter <SEP> von <SEP> Beispiel <SEP> Sensibilisator <SEP> Empfindlichkeit <tb> <tb> <tb> <tb> [mJ/cm2] <SEP> bei <SEP> 365 <SEP> nm <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 21- <SEP> 57 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 21 <SEP> S-1 <SEP> ¯-¯. <SEP> 114 <tb> <tb> <tb> <tb> <tb> 21 <SEP> S-2 <SEP> 57 <tb> S-1 ist 4,4'-Bis(diethylamino)benzophenon (in 1,2 Gewichtsteilen zugegeben). S-2 ist Cumarin 106 EMI46.2 (in 1,2 Gewichtsteilen zugegeben). Beispiel 46 : Ein Polyamicsäureester wird aus Oxydiphthalsäuredianhydrid, Methacrylsäure-2-hydroxyethylester und 4,4'-Diaminodiphenylether gemäss Beispiel 1.1. von EP-A-624 826 hergestellt. Die Grenzviskosität ist 0,31 d1/g und die zahlenmittleren Molekulargewichte sind Mw = 2550 g/Mol und Mn = 3800 g/Mol. Eine Formulierung wird durch Auflösen von 16,97 g der vorstehenden Vorstufe, 2,545 g Dimethacrylsäuretetraethylenglycolester (SR 209, Cray Valley) und 0,85 g der Verbindung von Beispiel 21 in 29,52 g N-Methylpyrrolidon hergestellt. Die Formulierung wird auf einen Siliziumwafer mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 5 Sekunden bei 1500 U/min zum gleichmässigen Verteilen, gefolgt von 30 Sekunden bei 5000 U/min schleuderbeschichtet. Der beschichtete Wafer wird 5 Minuten bei 100 C auf einer Heizplatte getrocknet. Ein lichtempfindlicher nichtklebender Film von 6 m Dicke wird erhalten. Der Wafer wird dann durch einen Stufenkeil unter Verwendung eines Belichtungsgeräts ORIEL (Modell 87532), ausgestattet mit einem 350 W Quecksilberlichtbogen, entweder durch einen 365 nm schmalen Bandpass oder mit dem vollstän- <Desc/Clms Page number 47> digen Bogenspektrum belichtet. Vakuumkontakt der Stufenkeilmaske wird auf einem Vakuumtisch unter Verwendung einer Polyesterfolie, die das Substrat und die Stufenkeilmaske bedeckt, erhal- ten. Die Intensitäten werden unter Verwendung eines Leistungsmessgeräts OAI, ausgestattet mit einem 365 nm-Sensor, gemessen. Der belichtete Film wird durch Tauchen in Cyclopentanon für 60 s entwickelt, zweimal mit einem 1:1-Gemisch von Cyclopentanon/Isopropanol für 10 s und schliesslich mit reinem Isopropanol für 10 s gespült. Bei monochromatischer Belichtung bei 365 nm ist zur ausreichenden Vernetzung eine Dosis von 28 mJ/cm2 erforderlich, damit der Film in dem Entwickler unlöslich wird. Unter Verwendung des vollständigen Spektrums des Quecksilberlichtbogens wird zur Vernetzung eine Dosis von 38 mJ/cm benötigt, damit der Film sich in dem Entwickler nicht löst. Beispiel 47 : Eine Formulierung wird durch Vermischen von 16,97 g der Polyimidvorstufe, beschrieben im Beispiel A, 2,545 g Dimethacrylsäuretetraethylenglycolester (RTMSR 209, Cray Valley), 0,85 g des Starters vom Beispiel 29,0,17 g Michler's Keton und 29,52 g N-Methylpyrrolidon hergestellt. Die Formulierung wird auf einen Siliziumwafer mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 5 Sekunden bei 1500 U/min zum gleichmässigen Verteilen, gefolgt von 30 Sekunden bei 5000 U/min schleuder- beschichtet. Der beschichtete Wafer wird 5 Minuten bei 100 C auf einer Heizplatte getrocknet. Ein lichtempfindlicher nichtklebender Film von 6 m Dicke wird erhalten. Der Wafer wird dann durch einen Stufenkeil unter Verwendung eines Belichtungsgeräts ORIEL (Modell 87532), ausgestattet mit einem 350 W Quecksilberlichtbogen, entweder durch einen 365 nm schmalen Bandpass oder mit dem vollständigen Bogenspektrum belichtet. Vakuumkontakt der Stufenkeilmaske wird auf einem Vakuumtisch unter Verwendung einer Polyesterfolie, die das Substrat und die Stufenkeil- maske bedeckt, erhalten. Die Intensitäten werden unter Verwendung eines Leistungsmessgeräts OAI, ausgestattet mit einem 365 nm-Sensor, gemessen. Der belichtete Film wird durch Tauchen in Cyclopentanon für 60 s entwickelt, zweimal mit einem 1 :1-Gemisch vonCyclopentanon/Isopropa- nol für 10 s und schliesslich mit reinem Isopropanol für 10 s gespült. MjiCM2 Bei monochromatischer Belichtung bei 365 nm ist eine Dosis von 36 mJ/cm2 erforderlich, damit der Film in dem Entwickler unlöslich wird. Unter Verwendung des vollständigen Spektrums wird zur Vernetzung eine Dosis von 75 mJ/cm2 benötigt, damit der Film sich in dem Entwickler nicht löst. **WARNUNG** Ende DESC Feld kannt Anfang CLMS uberlappen**.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE: 1. Verbindungen der Formeln I, 11 11 und IV EMI47.1 worin EMI47.2 R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, Phenoxycarbonyl; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4' und R5' trägt, gebildet wird, dar- stellt; oder wenn R5' -SR9 darstellt, R1 zusätzlich C1-C12-Akly das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen oder Phenyl substituiert ist, darstellt; R2 C2-C12-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6 <Desc/Clms Page number 48> Alkyl, Halogen oder CN, substituiert ist, darstellt; R5 SR9 oder NR10R11 darstellt;R5 eine Gruppe SR9 oder NR10R11 darstellt; n 1-20 ist; EMI48.1 EMI48.2 EMI48.3 oder R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, gegebenenfalls durch -0- oder NR-8 unter- brochen, darstellen; M C1-C12-Alkyen oder Cyclohexylen darstellt; mit der Massgabe, dass (viii) wenn in Formel 111 r1 Methyl darstellt, R5 Phenylthio darstellt, R2 dann kein 4- Chlorbenzoyl darstellt.2. Verbindungen der Formelund 11 nach Anspruch 1, worin EMI48.4 mit einem oder mehreren Fluor substituiert ist, darstellt; R2 C2-C12-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C8 Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; und Rs und Rs' SR9 darstellen. EMI48.5 oder mit Halogen oder Phenyl substituiert ist, darstellt.4. Verbindungen nach Anspruch 1 der Formel 1, 11, 11 oder IV, worin R1 C2-C4-Alkoxycarbonyl oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6- gliedriger Ring über die Gruppe Rg durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4' und R5 trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn R5 -SR9 darstellt, R1 C1-C12-Alkyl das unsubstituiert oder mit Phenyl oder einem oder mehre- ren Fluor substituiert ist, darstellt; R2 C2-C4-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C4 Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; EMI48.6 R10 und R11 Methyl oder Ethyl darstellen oder R10 und F11 zusammen C2-C6-Alkylen, das durch -0- unterbrochen ist, darstellen; und M C1-C1-Akte darstellt.5. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, umfassend (a) mindestens eine monomere, oligomere oder polymere Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Acrylaten, Methacrylaten, acrylierten Epoxidharzen, Reaktionspro- dukten von acrylierten Epoxidharzen mit einer mehrwertigen Säure, acrylierten Polyestern, Polyestern enthaltend Vinylether- oder Epoxidgruppen, acrylierten Polyurethanen und ac- rylierten Polyethern, ungesättigten Polyesterharzen, Amiden von ungesättigten Carbon- säuren und Reaktionsprodukte von Polymeren enthaltend Carbonsäuregruppen mit einem epoxidgruppenhaltigen Acrylat oder Methacrylat; und (b) als Photostarter, mindestens eine Verbindung der Formel I, 11 11 und/oder IV wie in Anspruch 1 definiert.6. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 5, umfassend zusätzlich zu dem Photostarter (b), mindestens einen weiteren Photostarter (c) und/oder andere Additive (d).7. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 5 oder 6, umfassend 0,05 bis 20 Gewichtsprozent des Photostarters (b), oder der Photostarters (b) und (c), bezogen auf <Desc/Clms Page number 49> die Zusammensetzung.8. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Ansprüchen 6 oder 7, die als weiteres Additiv (d) einen Photosensibilisator, insbesondere eine Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Benzophenon und den Derivaten davon, Thioxanthon und den De- rivaten davon, Anthrachinon und den Derivaten davon oder Cumarin und den Derivaten davon, umfasst.9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, zusätzlich umfassend ein Bindemittel (e), insbesondere ein Copolymer von Methacrylat und Meth- acrylsäure.10. Verfahren für die Photopolymerisation von Verbindungen, die ethylenisch ungesättigte Doppelbindungen enthalten, durch Bestrahlen einer Zusammensetzung nach Anspruch 5 mit elektromagnetischer Strahlung im Bereich von 190 bis 600 nm, mit Elektronenstrahlen oder mit Röntgenstrahlen.11. Verwendung einer Zusammensetzung nach Anspruch 5, zur Herstellung von pigmentierten und nichtpigmentierten Anstrichstoffen und Lacken, Pulverbeschichtungen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen, dentalen Massen, Resistmaterialien, einschliesslich Photoresists, Farbfiltermaterialien, als Zusammensetzung zum Einkapseln von elektrischen und elektro- nischen Bauelementen, zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsmaterialien, mikromechanischen Bauteilen, Wellenleitern, optischen Schaltern, Plattierungsmasken, Ätzmasken, Farbprüfabzugsystemen, Glasfaserkabelüberzügen, Siebdruckschablonen, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen mit Hilfe von Stereolithographie, und als Bildaufzeichnungsmaterial, insbesondere für holographische Aufzeichnungen, mikro- elektronische Schaltkreise, Entfärbematerialien, Entfärbematerialien für Bildaufzeichnungs- materialien,für Bildaufzeichnungsmaterialien unter Verwendung von Mikrokapseln.12. Beschichtetes Substrat, das auf mindestens einer Oberfläche mit einer Zusammensetzung nach Anspruch 5 beschichtet ist.13. Verfahren zur photographischen Herstellung von Reliefbildern, wobei ein beschichtetes Substrat nach Anspruch 12 bildmässiger Belichtung unterzogen wird und anschliessend die unbelichteten Teile mit einem Entwickler entfernt werden.KEINE ZEICHNUNG
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