JPS62201859A - 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 - Google Patents
新規なオキシムエステル化合物及びその合成法Info
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光重合開始剤として有用な新規なオキシムエ
ステル化合物、及びその合成法に関するものである。
ステル化合物、及びその合成法に関するものである。
光化学重合法は、たとえばフォトレジストの硬化や印刷
、インキの乾燥のような特に短時間内に硬化させる必要
のある塗膜の場合に、産業上の重要性が増してきている
。通常の硬化法と比較して、光重合開始剤の存在下での
光照射による硬化法は、その硬化速度の高速化という大
きな利点がある。
、インキの乾燥のような特に短時間内に硬化させる必要
のある塗膜の場合に、産業上の重要性が増してきている
。通常の硬化法と比較して、光重合開始剤の存在下での
光照射による硬化法は、その硬化速度の高速化という大
きな利点がある。
硬化速度は、光重合開始剤に大きく依存することから、
従来の光重合開始剤をさらに優れた化合物に置き換える
試みがなされてきた。従来知られている有効な光重合開
始剤としては、たとえば、西独特許(DT−PS)第1
694149号に記載されているようなベンゾイン−エ
ーテル類や、英国特許第1537921号に記載されて
いるようなオキシムエステル化合物などが挙げられる。
従来の光重合開始剤をさらに優れた化合物に置き換える
試みがなされてきた。従来知られている有効な光重合開
始剤としては、たとえば、西独特許(DT−PS)第1
694149号に記載されているようなベンゾイン−エ
ーテル類や、英国特許第1537921号に記載されて
いるようなオキシムエステル化合物などが挙げられる。
これらの公知の光重合開始剤は、使用上い(つかの欠点
を有しており、最も大きな欠点は、ある場合にこのよう
な光重合開始剤と混合した光重合可能な系の暗所におけ
る貯蔵安定性と、高い光硬化速度を合わせ持たないこと
である。さらに、これらの公知の光重合開始剤の光硬化
速度を高めるために、増感剤と組合せて使用することが
多く試みられているか、期待しうるほどの増感効果が得
られない場合がある。特に、レジストやインキが近紫外
部類域(300〜400ru++)に強い吸収を有する
場合、たとえば、芳香族系のポリイミドやポリアミドが
含有されたり、有機、又は無機の顔料や微粒子やフィラ
ーが充填された時には、光硬化速度の低下が顕著であっ
た。
を有しており、最も大きな欠点は、ある場合にこのよう
な光重合開始剤と混合した光重合可能な系の暗所におけ
る貯蔵安定性と、高い光硬化速度を合わせ持たないこと
である。さらに、これらの公知の光重合開始剤の光硬化
速度を高めるために、増感剤と組合せて使用することが
多く試みられているか、期待しうるほどの増感効果が得
られない場合がある。特に、レジストやインキが近紫外
部類域(300〜400ru++)に強い吸収を有する
場合、たとえば、芳香族系のポリイミドやポリアミドが
含有されたり、有機、又は無機の顔料や微粒子やフィラ
ーが充填された時には、光硬化速度の低下が顕著であっ
た。
したがって、暗所での良好な貯蔵安定性を有し、公知の
光重合開始剤よりも速い光重合を開始し、そして単位時
間当りのより高い重合体の収量を与える光重合開始剤の
出現が工業上型まれていた。
光重合開始剤よりも速い光重合を開始し、そして単位時
間当りのより高い重合体の収量を与える光重合開始剤の
出現が工業上型まれていた。
これらの改良された光重合開始剤を使用すれば、産業上
の生産性を向上することが出来る。
の生産性を向上することが出来る。
本発明者らは、このような事情に鑑み、暗所での良好な
貯蔵安定性と、レジストやインキが近紫外部類域に強い
吸収がある場合でも高い光硬化速度を有する光重合開始
剤を提供すべく鋭意研究を重ねた。
貯蔵安定性と、レジストやインキが近紫外部類域に強い
吸収がある場合でも高い光硬化速度を有する光重合開始
剤を提供すべく鋭意研究を重ねた。
その結果、特定の構造を有するオキシムエステル化合物
がその目的に適することを見い出し、本発明を完成する
に至った。
がその目的に適することを見い出し、本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明は、一般式(1)
〔式中、R3、R2は水素原子、炭素数1ないし4のア
ルキル基あるいは炭素数1ないし4のアルコキシ基を表
わし、R3は炭素数1ないし6のアルキル基を示す〕 で表わされることを特徴とする新規なオキシムエステル
化合物に関するものである。
ルキル基あるいは炭素数1ないし4のアルコキシ基を表
わし、R3は炭素数1ないし6のアルキル基を示す〕 で表わされることを特徴とする新規なオキシムエステル
化合物に関するものである。
RいR2の好ましい例としては、水素原子、メチル基、
エチル基、メトキシ基、エトキシ基等であり、R3の好
ましい例としては、メチル基、エチル基、プロピル基等
が挙げられる。
エチル基、メトキシ基、エトキシ基等であり、R3の好
ましい例としては、メチル基、エチル基、プロピル基等
が挙げられる。
−a式(1)で表わされるオキシムエステル化合物の例
として次の化合物が挙げられる。
として次の化合物が挙げられる。
1.3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(0−メ
トキシカルボニル)オキシム 1.3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(0−エ
トキシカルボニル)オキシム 1.3−ビス(4−メチルフェニル)−プロパントリオ
ン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム 1.3−ビス(4−メトキシフェニル)−プロパントリ
オン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム 又、本発明は上記オキシムエステル化合物CI)の合成
法も提供するものである。即ち、(i)下記一般式(n
)で示される化合物(以下化合物(II)と称す) または、下記一般式(III)で示される化合物(以下
化合物(III)と称す) または、式(n)で示される化合物と式([)で示され
る化合物との混合物に、ヒドロキシルアミンあるいはそ
の塩を反応させ、下記一般式(IV)で示される化合物
(以下化合物(IV)と称す) とした後、 (ii )次に、下記一般式(V)で示される化合物(
以下化合物(V)と称す) Ih OCX = (V)II と反応させることを特徴とする弐(I)で示される化合
物の合成法に関するものである。
トキシカルボニル)オキシム 1.3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(0−エ
トキシカルボニル)オキシム 1.3−ビス(4−メチルフェニル)−プロパントリオ
ン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム 1.3−ビス(4−メトキシフェニル)−プロパントリ
オン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム 又、本発明は上記オキシムエステル化合物CI)の合成
法も提供するものである。即ち、(i)下記一般式(n
)で示される化合物(以下化合物(II)と称す) または、下記一般式(III)で示される化合物(以下
化合物(III)と称す) または、式(n)で示される化合物と式([)で示され
る化合物との混合物に、ヒドロキシルアミンあるいはそ
の塩を反応させ、下記一般式(IV)で示される化合物
(以下化合物(IV)と称す) とした後、 (ii )次に、下記一般式(V)で示される化合物(
以下化合物(V)と称す) Ih OCX = (V)II と反応させることを特徴とする弐(I)で示される化合
物の合成法に関するものである。
〔式中、Xはハロゲン原子、R1,R2は水素原子、炭
素数1ないし4のアルキル基または炭素数1ないし4の
アルコキシ基を表わし、R8は炭素数1ないし6のアル
キル基を示す。〕 以下、合成法を詳細に述べる。
素数1ないし4のアルキル基または炭素数1ないし4の
アルコキシ基を表わし、R8は炭素数1ないし6のアル
キル基を示す。〕 以下、合成法を詳細に述べる。
オキシムエステル化合物(1)の合成原料となる化合物
(n)および化合物(III)は、Org、 5ynt
h。
(n)および化合物(III)は、Org、 5ynt
h。
coil、 Vol、II 244 245頁に記載
されている方法に準じて合成することができる。例えば
弐(Vl)で示される化合物 〔式中、R+、Rzは前述記載と同じ意味〕を、クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素に溶解し、これに塩素、臭素、沃素等のハロゲン化
試薬を作用させることにより弐(■)で示される化合物 〔式中x、x’ はそれぞれ塩素、臭素、沃素を示す。
されている方法に準じて合成することができる。例えば
弐(Vl)で示される化合物 〔式中、R+、Rzは前述記載と同じ意味〕を、クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素に溶解し、これに塩素、臭素、沃素等のハロゲン化
試薬を作用させることにより弐(■)で示される化合物 〔式中x、x’ はそれぞれ塩素、臭素、沃素を示す。
〕へと導くことができる。更に化合物(■)は、酢酸、
プロピオン酸、酪酸等のカルボン酸中、対応するナトリ
ウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩で処理す
ることにより化合物(II)へと導くことができる。化
合物(III)は、このようにして得られた化合物(n
)を減圧下で蒸留するか、あるいはジシクロへキシルカ
ルボジイミド、無水硫酸銅等の脱水剤を用いることによ
り合成することができる。
プロピオン酸、酪酸等のカルボン酸中、対応するナトリ
ウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩で処理す
ることにより化合物(II)へと導くことができる。化
合物(III)は、このようにして得られた化合物(n
)を減圧下で蒸留するか、あるいはジシクロへキシルカ
ルボジイミド、無水硫酸銅等の脱水剤を用いることによ
り合成することができる。
化合物(■)、化合物(III)または化合物(II)
と化合物(III)の混合物は、アルコール系溶媒中、
ヒドロキシルアミンあるいはその塩で処理することによ
り、化合物(IV)へと導くことができる。
と化合物(III)の混合物は、アルコール系溶媒中、
ヒドロキシルアミンあるいはその塩で処理することによ
り、化合物(IV)へと導くことができる。
ここでアルコール系溶媒としては、炭素数1ないし10
の脂肪族アルコール、あるいは次式数1ないし4のアル
キル基または炭素数1ないし 、4のアルコキシ基を
表わし、R5はメチル基またはエチル基を示す。〕で示
される芳香族アルコールが掲げられる。ヒドロキシルア
ミン塩としては、塩酸、硫酸等の鉱酸塩、あるいは次式
R,−COO11,1100cmR,−CQOHC式中
R2は水素原子または炭素数1ないし3のアルキル基を
表わし、R7は炭素数Oか又は1ないし3のアルキレン
基を示す。〕で示されるカルボン酸との塩であり、好ま
しくは塩酸塩、硫酸塩、シュウ酸塩である。反応温度、
時間には制限はないが、それぞれ好ましくは60〜16
0℃、30分〜2時間である。この中で特に好ましい例
としては、メタノールあるいはエタノール中に化合物(
II)または化合物(■)、またはこれらの混合物を溶
解させ、これにヒドロキシルアミン塩酸塩もしくは硫酸
塩を加え60〜80℃で1〜2時間反応させることによ
り化合物(IV)を得るというものである。生成物は、
そのまま溶媒を除去することによって得られるが、ここ
でシリカゲルクロマトグラフィーによる精製あるいは再
結晶等の処理を行っても良い。このようにして得られた
化合物(rV)は、薄層クロマトグラフィー又は液体ク
ロマトグラフィーにより同定される。
の脂肪族アルコール、あるいは次式数1ないし4のアル
キル基または炭素数1ないし 、4のアルコキシ基を
表わし、R5はメチル基またはエチル基を示す。〕で示
される芳香族アルコールが掲げられる。ヒドロキシルア
ミン塩としては、塩酸、硫酸等の鉱酸塩、あるいは次式
R,−COO11,1100cmR,−CQOHC式中
R2は水素原子または炭素数1ないし3のアルキル基を
表わし、R7は炭素数Oか又は1ないし3のアルキレン
基を示す。〕で示されるカルボン酸との塩であり、好ま
しくは塩酸塩、硫酸塩、シュウ酸塩である。反応温度、
時間には制限はないが、それぞれ好ましくは60〜16
0℃、30分〜2時間である。この中で特に好ましい例
としては、メタノールあるいはエタノール中に化合物(
II)または化合物(■)、またはこれらの混合物を溶
解させ、これにヒドロキシルアミン塩酸塩もしくは硫酸
塩を加え60〜80℃で1〜2時間反応させることによ
り化合物(IV)を得るというものである。生成物は、
そのまま溶媒を除去することによって得られるが、ここ
でシリカゲルクロマトグラフィーによる精製あるいは再
結晶等の処理を行っても良い。このようにして得られた
化合物(rV)は、薄層クロマトグラフィー又は液体ク
ロマトグラフィーにより同定される。
化合物(IV)は合成溶媒中、塩基存在下、ハロゲン化
炭酸アルキルエステル化合物(V)を作用させることに
よりオキシムエステル化合物(I)へと導かれる。合成
溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルイソアミルケト
ン等のケトン系炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等のエ
ーテル系炭化水素;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;ジメ
チルスルホキシド、ジメチルスルホン等スルホキシドお
よびスルホンなどが掲げられる。この他、ピリジン、ト
リエチルアミン等の塩基性物質を合成溶媒として用いる
ことも可能である。脱ハロゲン化水素剤としては、従来
使用されているハロゲン化水素捕捉塩基を使用すること
ができる。例えば(Rs) 2R9Nで示される第3級
アミン〔式中RいR,はそれぞれ炭素数1ないし4のア
ルキル基を示す。〕、あるいは次式〔式中R,、Rh、
Reはそれぞれ水素原子又は炭素数1ないし6のアルキ
ル基もしくは、シクロアルキル基を表わし、R4は炭素
数1ないし7のアルキル基もしくは、シクロアルキル基
を示す。〕で示される芳香族アミン、ピリジン、イミダ
ゾール、トリアゾール、キノリン、ピリミジン、モルホ
リンおよびこれらの誘導体等が掲げられる。
炭酸アルキルエステル化合物(V)を作用させることに
よりオキシムエステル化合物(I)へと導かれる。合成
溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルイソアミルケト
ン等のケトン系炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等のエ
ーテル系炭化水素;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;ジメ
チルスルホキシド、ジメチルスルホン等スルホキシドお
よびスルホンなどが掲げられる。この他、ピリジン、ト
リエチルアミン等の塩基性物質を合成溶媒として用いる
ことも可能である。脱ハロゲン化水素剤としては、従来
使用されているハロゲン化水素捕捉塩基を使用すること
ができる。例えば(Rs) 2R9Nで示される第3級
アミン〔式中RいR,はそれぞれ炭素数1ないし4のア
ルキル基を示す。〕、あるいは次式〔式中R,、Rh、
Reはそれぞれ水素原子又は炭素数1ないし6のアルキ
ル基もしくは、シクロアルキル基を表わし、R4は炭素
数1ないし7のアルキル基もしくは、シクロアルキル基
を示す。〕で示される芳香族アミン、ピリジン、イミダ
ゾール、トリアゾール、キノリン、ピリミジン、モルホ
リンおよびこれらの誘導体等が掲げられる。
ハロゲン化炭酸アルキルエステル化合物とじては、一般
に次式 R3−0−C−X C式中R1は炭素数1ない
し6のアルキル基を表わし、Xは塩素、臭素、沃素を表
わす。〕で示される。この例としでハ、クロロ炭酸メチ
ルエステル、クロロ炭酸エチルエステル、クロロ炭酸イ
ソプロピルエステル、クロロ炭酸イソブチルエステル、
ブロモ炭酸メチルエステル、ブロモ炭酸エチルエステル
、ヨード炭酸エチルエステル、ヨード炭酸イソブチルエ
ステルなどがある。反応温度、時間には制限はないが、
それぞれ好ましくは一10〜30℃、30分〜2時間で
ある。オキシムエステル化合物(I)の合成において特
に好ましくは、合成溶媒としてアセトン等のケトン系炭
化水素、あるいはクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
を用い、化合物(IV) ヲこれに溶解し、トリエチル
アミン等第3級アミン存在下、クロロ炭酸エチルエステ
ルで0〜20℃、30分〜2時間処理するというもので
ある。このようにして得られた化合物(I)は、副生ず
るハロゲン化水素と塩基と゛の塩を分液扱作、あるいは
ろ過操作により除去した後、溶媒を減圧で除去すること
により得ることができる。この粗生成物は、適当な溶媒
、好ましくはアルコール系、ケトン系脂肪族炭化水素、
芳香族炭化水素から再結晶することにより白色の針状結
晶として得られる。こうして得られた化合物(I)は、
薄層クロマトグラフィー、融点、lR113C,’H−
NMR等で同定される。次に、更に詳しい説明を以下の
実施例において行う。
に次式 R3−0−C−X C式中R1は炭素数1ない
し6のアルキル基を表わし、Xは塩素、臭素、沃素を表
わす。〕で示される。この例としでハ、クロロ炭酸メチ
ルエステル、クロロ炭酸エチルエステル、クロロ炭酸イ
ソプロピルエステル、クロロ炭酸イソブチルエステル、
ブロモ炭酸メチルエステル、ブロモ炭酸エチルエステル
、ヨード炭酸エチルエステル、ヨード炭酸イソブチルエ
ステルなどがある。反応温度、時間には制限はないが、
それぞれ好ましくは一10〜30℃、30分〜2時間で
ある。オキシムエステル化合物(I)の合成において特
に好ましくは、合成溶媒としてアセトン等のケトン系炭
化水素、あるいはクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
を用い、化合物(IV) ヲこれに溶解し、トリエチル
アミン等第3級アミン存在下、クロロ炭酸エチルエステ
ルで0〜20℃、30分〜2時間処理するというもので
ある。このようにして得られた化合物(I)は、副生ず
るハロゲン化水素と塩基と゛の塩を分液扱作、あるいは
ろ過操作により除去した後、溶媒を減圧で除去すること
により得ることができる。この粗生成物は、適当な溶媒
、好ましくはアルコール系、ケトン系脂肪族炭化水素、
芳香族炭化水素から再結晶することにより白色の針状結
晶として得られる。こうして得られた化合物(I)は、
薄層クロマトグラフィー、融点、lR113C,’H−
NMR等で同定される。次に、更に詳しい説明を以下の
実施例において行う。
〔実施例1〕
ジフェニルトリケトンハイドレートから1.3−ジフェ
ニルプロパントリオン2−オキシムの合成Org、 5
ynth、 coil、 Vol、II 244−2
45頁に示される方法により合成されるジフェニルトリ
ケトンハイドレート150g(0,6モル)を21ナス
フラスコに取り、エタノール1.21!を加え加熱溶解
させた後、ヒドロキシルアミン塩酸塩41.7g(0,
6モル)を加え、1時間加熱還流させる。
ニルプロパントリオン2−オキシムの合成Org、 5
ynth、 coil、 Vol、II 244−2
45頁に示される方法により合成されるジフェニルトリ
ケトンハイドレート150g(0,6モル)を21ナス
フラスコに取り、エタノール1.21!を加え加熱溶解
させた後、ヒドロキシルアミン塩酸塩41.7g(0,
6モル)を加え、1時間加熱還流させる。
反応溶媒を減圧除去することにより、1.3−ジフェニ
ルプロパントリオン2−オキシムが得られる。
ルプロパントリオン2−オキシムが得られる。
収量150g、Rf (Si/ヘキサン:酢酸エチル=
571) =0.10であった。
571) =0.10であった。
〔実施例2〕
1.3−ジフェニルプロパントリオンから1.3−ジフ
ェニルプロパントリオン2−オキシムの合成Org、
5ynth、 coil、 Vol、II 244−
245頁に示される方法により合成される1、3−ジフ
ェニルプロパントリオン45g(0,19モル)を1!
ナスフラスコに取り、エタノール400mlを加え加熱
溶解させた後、ヒドロキシルアミン塩酸塩13.2 g
(0,19モル)を加え、1時間加熱還流させる。反
応溶媒を減圧除去することにより、1゜3−ジフェニル
プロパントリオン2−オキシムが得られる。収145g
、Rf (Si/ヘキサン:酢酸エチル=5 : 1
) =0.10であった。
ェニルプロパントリオン2−オキシムの合成Org、
5ynth、 coil、 Vol、II 244−
245頁に示される方法により合成される1、3−ジフ
ェニルプロパントリオン45g(0,19モル)を1!
ナスフラスコに取り、エタノール400mlを加え加熱
溶解させた後、ヒドロキシルアミン塩酸塩13.2 g
(0,19モル)を加え、1時間加熱還流させる。反
応溶媒を減圧除去することにより、1゜3−ジフェニル
プロパントリオン2−オキシムが得られる。収145g
、Rf (Si/ヘキサン:酢酸エチル=5 : 1
) =0.10であった。
〔実施例3〕
ジフェニルトリケトンハイドレートおよび1.3−ジフ
エニルブロバントリオンの混合物から1.3ジフェニル
プロパントリオン2−オキシムの合成Org、 5yn
th、 coil、 Vol、lI244−245頁に
示される方法により、ジフェニルトリケトンハイドレー
トおよび1,3−ジフェニルプロパン1−11オンの混
合物が得られる。この混合物120gを27!ナスフラ
スコに取り、エタノール1βを加え、加熱攪拌し溶解さ
せる。完全に溶解した後、ヒドロキシルアミン塩酸塩3
3.5 g (0,5モル)を加え、1時間加熱還流さ
せる。反応溶媒を減圧除去することにより、1,3−ジ
フェニルプロパントリオン2−オキシムが得られる。収
量122g、Rf(Si/ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)−〇、10であった。
エニルブロバントリオンの混合物から1.3ジフェニル
プロパントリオン2−オキシムの合成Org、 5yn
th、 coil、 Vol、lI244−245頁に
示される方法により、ジフェニルトリケトンハイドレー
トおよび1,3−ジフェニルプロパン1−11オンの混
合物が得られる。この混合物120gを27!ナスフラ
スコに取り、エタノール1βを加え、加熱攪拌し溶解さ
せる。完全に溶解した後、ヒドロキシルアミン塩酸塩3
3.5 g (0,5モル)を加え、1時間加熱還流さ
せる。反応溶媒を減圧除去することにより、1,3−ジ
フェニルプロパントリオン2−オキシムが得られる。収
量122g、Rf(Si/ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)−〇、10であった。
〔実施例4〕
1.3−ジフェニルプロパントリオン2−(0−エトキ
シカルボニル)オキシムの合成 1.3−ジフェニルプロパントリオン2−オキシム15
0g(0,6モル)を滴下ロート、温度計、乾燥管を付
した31セバラフラスコに取り、乾燥処理をしたアセト
ン1.8Ilを加え攪拌溶解させる。
シカルボニル)オキシムの合成 1.3−ジフェニルプロパントリオン2−オキシム15
0g(0,6モル)を滴下ロート、温度計、乾燥管を付
した31セバラフラスコに取り、乾燥処理をしたアセト
ン1.8Ilを加え攪拌溶解させる。
これに水冷攪拌下、トリエチルアミン66g(0,65
モル)を加え、更にクロロ炭酸エチルエステル70g(
0,65モル)を30分間でゆっくりと滴下する。20
℃以下で30分間攪拌反応させる。副生ずるトリエチル
アミン塩酸塩をろ過により除去した後、合成溶媒を減圧
にて除去することにより粗1.3−ジフェニルプロパン
トリオン2−(0−エトキシカルボニル)オキシムを得
ることができる。これは更に、エタノール/ヘキサン=
5/1の混合溶媒300mlから再結晶を行うことによ
り、純粋な白色針状結晶体として得ることができる。
モル)を加え、更にクロロ炭酸エチルエステル70g(
0,65モル)を30分間でゆっくりと滴下する。20
℃以下で30分間攪拌反応させる。副生ずるトリエチル
アミン塩酸塩をろ過により除去した後、合成溶媒を減圧
にて除去することにより粗1.3−ジフェニルプロパン
トリオン2−(0−エトキシカルボニル)オキシムを得
ることができる。これは更に、エタノール/ヘキサン=
5/1の混合溶媒300mlから再結晶を行うことによ
り、純粋な白色針状結晶体として得ることができる。
収量 48g
融点 99〜101℃
Rf(Si/ヘキサン:酢酸エチル=5:1)元素分析
CIa Hls N Os 理論値 C=66.46%、H=4.65%、N−4,
31%分析値 C=66.28%、)I=4.68%、
N=4.38%δ7.60〜8.20 (lOHSm
、 arom )” C−NMRδ188.189 (
S、 S、゛“ゝC=OX2)(DMSOd6)
””−δ152.160 <s、
s、 >C=N、−0−C−0−)6129〜13
8 (m 、 arom )666〜69 (t
、−0一旦HtCHs)613〜17 (q −
0−CHz CHz )I R1660(J−’
ゝC=N1680.1700cm−’ ゝc=。
CIa Hls N Os 理論値 C=66.46%、H=4.65%、N−4,
31%分析値 C=66.28%、)I=4.68%、
N=4.38%δ7.60〜8.20 (lOHSm
、 arom )” C−NMRδ188.189 (
S、 S、゛“ゝC=OX2)(DMSOd6)
””−δ152.160 <s、
s、 >C=N、−0−C−0−)6129〜13
8 (m 、 arom )666〜69 (t
、−0一旦HtCHs)613〜17 (q −
0−CHz CHz )I R1660(J−’
ゝC=N1680.1700cm−’ ゝc=。
1800cm−’ −0−C−0−この化合物を
A−1とする。
A−1とする。
〔実施例5〕
ジフェニルトリケトンハイドレートの代わりに、ビス(
4−メチルフェニル)トリケトンハイドレートを用いる
こと以外は、実施例1および実施例4と同様にして合成
を行った。
4−メチルフェニル)トリケトンハイドレートを用いる
こと以外は、実施例1および実施例4と同様にして合成
を行った。
生成1’l 1.3−ビス(4−メチルフェニル)プ
ロパントリオン2−(〇−エトキシカ ルボニル)オキシム 収量 45g 白色針状結晶 直1(−NMRδ1.20 (3H、t 、
0−C11g Cjj3 )δ2.30 (6
HSs 、 ph−Me X2)δ4.25 (2H、
q 、 −0−Cjj3−CHs )δ7.20〜8.
OO(8HSm 、 aro+m )I R1660c
m−’ ゝC=N1680.1700cm−’
ゝC−O1800ai−’ −0−C−0−元素
分析 C20Hl 9 N Os 理論値 C=67.98%、H=5.42%、N−3,
96%分析値 C−68,16%、H−5,40%、N
−3,91%この化合物をA−2とする。
ロパントリオン2−(〇−エトキシカ ルボニル)オキシム 収量 45g 白色針状結晶 直1(−NMRδ1.20 (3H、t 、
0−C11g Cjj3 )δ2.30 (6
HSs 、 ph−Me X2)δ4.25 (2H、
q 、 −0−Cjj3−CHs )δ7.20〜8.
OO(8HSm 、 aro+m )I R1660c
m−’ ゝC=N1680.1700cm−’
ゝC−O1800ai−’ −0−C−0−元素
分析 C20Hl 9 N Os 理論値 C=67.98%、H=5.42%、N−3,
96%分析値 C−68,16%、H−5,40%、N
−3,91%この化合物をA−2とする。
〔実施例6〕
1.3−ジフェニルプロパントリオンの代わりに、1.
3−ビス(4−メトキシフェニル)プロパントリオンを
用いること以外は、実施例2および実施例4と同様にし
て合成を行った。
3−ビス(4−メトキシフェニル)プロパントリオンを
用いること以外は、実施例2および実施例4と同様にし
て合成を行った。
生成物 1.3−ビス(4−メトキシフェニル)プロパ
ントリオン2−(0−エトキシ カルボニル)オキシム 収量 40g 白色針状結晶 ’l(−NMRδ1.20 (3H、t 、 −(1−
CI(Z−CL、 )δ3.80 (6H、s 、 p
h−0助 ×2)64.25 (2H、q 、 −0−
Cjjl−CHs )66.90〜8.00 (8H、
、m 、 arom )I R1665aa−’
′C−N1680.1720aa−’ ゝc=。
ントリオン2−(0−エトキシ カルボニル)オキシム 収量 40g 白色針状結晶 ’l(−NMRδ1.20 (3H、t 、 −(1−
CI(Z−CL、 )δ3.80 (6H、s 、 p
h−0助 ×2)64.25 (2H、q 、 −0−
Cjjl−CHs )66.90〜8.00 (8H、
、m 、 arom )I R1665aa−’
′C−N1680.1720aa−’ ゝc=。
1800cm−’ −0−C−0−元素分析 Cz
oH+qNO? 理論値 C= 62.33%、H−4,97%、N−3
,63%分析値 C−62,47%、H−4,92%、
N−3,62%この化合物をA−3とする。
oH+qNO? 理論値 C= 62.33%、H−4,97%、N−3
,63%分析値 C−62,47%、H−4,92%、
N−3,62%この化合物をA−3とする。
〔参考例1−6〕
特願昭59−193737号の実施例5に従って合成し
たポリマー100重量部に対し、表1に示した添加剤を
加え、120重量部のN−メチルピロリドンに溶解した
。この溶液をシリコンウエノ\−上にスピンコード(7
00rpm X 7sec)L、70℃空気中で6時間
乾燥して均一な塗膜を得た。膜厚は70μmであった@ 次に窒素雰囲気下でグレースケール(KodacPho
tographic 5tep Tablet、 N1
12 )を通して、超高圧水銀灯(8mW/aa)で5
分間露光した。このウェハーを23℃で30分間放置し
た後、スプレ一式現像機を用い、r−ブチロラクトンと
キシレンの等置部合液で現像し、キシレンでリンスして
乾燥した。グレースケールの各ステップの硬化状態より
感度を段数として求めた。(段数が高いほど感度が高い
ことを示し、段数が1段上がると、その露光量が汀だけ
低いことを意味する。)得られた結果を同表に示す。
たポリマー100重量部に対し、表1に示した添加剤を
加え、120重量部のN−メチルピロリドンに溶解した
。この溶液をシリコンウエノ\−上にスピンコード(7
00rpm X 7sec)L、70℃空気中で6時間
乾燥して均一な塗膜を得た。膜厚は70μmであった@ 次に窒素雰囲気下でグレースケール(KodacPho
tographic 5tep Tablet、 N1
12 )を通して、超高圧水銀灯(8mW/aa)で5
分間露光した。このウェハーを23℃で30分間放置し
た後、スプレ一式現像機を用い、r−ブチロラクトンと
キシレンの等置部合液で現像し、キシレンでリンスして
乾燥した。グレースケールの各ステップの硬化状態より
感度を段数として求めた。(段数が高いほど感度が高い
ことを示し、段数が1段上がると、その露光量が汀だけ
低いことを意味する。)得られた結果を同表に示す。
以下余白
〔比較例1〜6〕
オキシム化合物の代わりに、他の光重合開始剤を用いて
、参考例1〜6と同様にして、表2の組成物について実
験を行い、同表に示した結果を得た。
、参考例1〜6と同様にして、表2の組成物について実
験を行い、同表に示した結果を得た。
以下余白
Claims (2)
- (1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) 〔式中、R_1、R_2は水素原子、炭素数1ないし4
のアルキル基または炭素数1ないし4のアルコキシ基を
表わし、R_3は炭素数1ないし6のアルキル基を示す
〕 で表わされることを特徴とする新規なオキシムエステル
化合物 - (2)(i)下記一般式(II)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) または、下記一般式(III)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) または、式(II)で示される化合物と式(III)で示さ
れる化合物との混合物に、ヒドロキシルアミンあるいは
その塩を反応させ、下記一般式(IV)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(IV) とした後、 (ii)次に、下記一般式(V)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(V) と反応させることを特徴とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) で示される化合物の合成法 〔上記式中、Xはハロゲン原子、R_1、R_2は水素
原子、炭素数1ないし4のアルキル基または炭素数1な
いし4のアルコキシ基を表わし、R_3は炭素数1ない
し6のアルキル基を示す〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4198286A JPH0755925B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4198286A JPH0755925B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62201859A true JPS62201859A (ja) | 1987-09-05 |
JPH0755925B2 JPH0755925B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=12623405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4198286A Expired - Lifetime JPH0755925B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0755925B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2781794A1 (fr) * | 1998-06-26 | 2000-02-04 | Ciba Sc Holding Ag | Compose photo-initiateur, composition le contenant, et leurs utilisations |
FR2802528A1 (fr) * | 1999-12-15 | 2001-06-22 | Ciba Sc Holding Ag | Photoamorceurs du type esters d'oximes |
WO2007062963A1 (en) | 2005-12-01 | 2007-06-07 | Ciba Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators |
JP2007186455A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ラジカル重合開始剤および重合性組成物 |
KR100787341B1 (ko) | 2005-09-06 | 2007-12-18 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 수지 조성물 및 그의 경화물 및 그것을 이용하여 얻어지는인쇄 배선판 |
KR100818226B1 (ko) | 2005-06-22 | 2008-04-01 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | 감광성 조성물 및 블랙 매트릭스 |
WO2008138724A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
WO2008138732A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
KR20120028384A (ko) | 2009-06-17 | 2012-03-22 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 옥심에스테르 화합물, 라디칼 중합개시제, 중합성 조성물, 네가티브형 레지스트 및 화상 패턴 |
JP2016531926A (ja) * | 2013-09-10 | 2016-10-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | オキシムエステル光開始剤 |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP4198286A patent/JPH0755925B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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BE1012721A5 (fr) * | 1998-06-26 | 2001-02-06 | Ciba Sc Holding Ag | Compose photo-initiateur, composition le contenant, et leurs utilisations. |
FR2781794A1 (fr) * | 1998-06-26 | 2000-02-04 | Ciba Sc Holding Ag | Compose photo-initiateur, composition le contenant, et leurs utilisations |
DE19928742B4 (de) * | 1998-06-26 | 2008-10-30 | Ciba Holding Inc. | Neue O-Acyloxim-Photostarter |
US6596445B1 (en) | 1998-06-26 | 2003-07-22 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | O-acyloxime photoinitiators |
NL1016815C2 (nl) * | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
ES2177438A1 (es) * | 1999-12-15 | 2002-12-01 | Ciba Sc Holding Ag | Fotoinicadores de esteres de oxima |
BE1013872A5 (fr) * | 1999-12-15 | 2002-11-05 | Ciba Sc Holding Ag | Photoamorceurs du type esters d'oximes. |
AT500127A1 (de) * | 1999-12-15 | 2005-10-15 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-photostarter |
FR2802528A1 (fr) * | 1999-12-15 | 2001-06-22 | Ciba Sc Holding Ag | Photoamorceurs du type esters d'oximes |
KR100818226B1 (ko) | 2005-06-22 | 2008-04-01 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | 감광성 조성물 및 블랙 매트릭스 |
KR100787341B1 (ko) | 2005-09-06 | 2007-12-18 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 수지 조성물 및 그의 경화물 및 그것을 이용하여 얻어지는인쇄 배선판 |
WO2007062963A1 (en) | 2005-12-01 | 2007-06-07 | Ciba Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators |
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WO2008138724A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
WO2008138732A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
EP2402315A1 (en) | 2007-05-11 | 2012-01-04 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
KR20120028384A (ko) | 2009-06-17 | 2012-03-22 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 옥심에스테르 화합물, 라디칼 중합개시제, 중합성 조성물, 네가티브형 레지스트 및 화상 패턴 |
JP2016531926A (ja) * | 2013-09-10 | 2016-10-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | オキシムエステル光開始剤 |
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