JPS62201859A - 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 - Google Patents

新規なオキシムエステル化合物及びその合成法

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JPS62201859A
JPS62201859A JP4198286A JP4198286A JPS62201859A JP S62201859 A JPS62201859 A JP S62201859A JP 4198286 A JP4198286 A JP 4198286A JP 4198286 A JP4198286 A JP 4198286A JP S62201859 A JPS62201859 A JP S62201859A
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菅 伸彦
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光重合開始剤として有用な新規なオキシムエ
ステル化合物、及びその合成法に関するものである。
〔発明の背景〕
光化学重合法は、たとえばフォトレジストの硬化や印刷
、インキの乾燥のような特に短時間内に硬化させる必要
のある塗膜の場合に、産業上の重要性が増してきている
。通常の硬化法と比較して、光重合開始剤の存在下での
光照射による硬化法は、その硬化速度の高速化という大
きな利点がある。
硬化速度は、光重合開始剤に大きく依存することから、
従来の光重合開始剤をさらに優れた化合物に置き換える
試みがなされてきた。従来知られている有効な光重合開
始剤としては、たとえば、西独特許(DT−PS)第1
694149号に記載されているようなベンゾイン−エ
ーテル類や、英国特許第1537921号に記載されて
いるようなオキシムエステル化合物などが挙げられる。
これらの公知の光重合開始剤は、使用上い(つかの欠点
を有しており、最も大きな欠点は、ある場合にこのよう
な光重合開始剤と混合した光重合可能な系の暗所におけ
る貯蔵安定性と、高い光硬化速度を合わせ持たないこと
である。さらに、これらの公知の光重合開始剤の光硬化
速度を高めるために、増感剤と組合せて使用することが
多く試みられているか、期待しうるほどの増感効果が得
られない場合がある。特に、レジストやインキが近紫外
部類域(300〜400ru++)に強い吸収を有する
場合、たとえば、芳香族系のポリイミドやポリアミドが
含有されたり、有機、又は無機の顔料や微粒子やフィラ
ーが充填された時には、光硬化速度の低下が顕著であっ
た。
したがって、暗所での良好な貯蔵安定性を有し、公知の
光重合開始剤よりも速い光重合を開始し、そして単位時
間当りのより高い重合体の収量を与える光重合開始剤の
出現が工業上型まれていた。
これらの改良された光重合開始剤を使用すれば、産業上
の生産性を向上することが出来る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明者らは、このような事情に鑑み、暗所での良好な
貯蔵安定性と、レジストやインキが近紫外部類域に強い
吸収がある場合でも高い光硬化速度を有する光重合開始
剤を提供すべく鋭意研究を重ねた。
〔問題を解決するための手段〕
その結果、特定の構造を有するオキシムエステル化合物
がその目的に適することを見い出し、本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明は、一般式(1) 〔式中、R3、R2は水素原子、炭素数1ないし4のア
ルキル基あるいは炭素数1ないし4のアルコキシ基を表
わし、R3は炭素数1ないし6のアルキル基を示す〕 で表わされることを特徴とする新規なオキシムエステル
化合物に関するものである。
RいR2の好ましい例としては、水素原子、メチル基、
エチル基、メトキシ基、エトキシ基等であり、R3の好
ましい例としては、メチル基、エチル基、プロピル基等
が挙げられる。
−a式(1)で表わされるオキシムエステル化合物の例
として次の化合物が挙げられる。
1.3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(0−メ
トキシカルボニル)オキシム 1.3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(0−エ
トキシカルボニル)オキシム 1.3−ビス(4−メチルフェニル)−プロパントリオ
ン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム 1.3−ビス(4−メトキシフェニル)−プロパントリ
オン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム 又、本発明は上記オキシムエステル化合物CI)の合成
法も提供するものである。即ち、(i)下記一般式(n
)で示される化合物(以下化合物(II)と称す) または、下記一般式(III)で示される化合物(以下
化合物(III)と称す) または、式(n)で示される化合物と式([)で示され
る化合物との混合物に、ヒドロキシルアミンあるいはそ
の塩を反応させ、下記一般式(IV)で示される化合物
(以下化合物(IV)と称す) とした後、 (ii )次に、下記一般式(V)で示される化合物(
以下化合物(V)と称す) Ih  OCX         = (V)II と反応させることを特徴とする弐(I)で示される化合
物の合成法に関するものである。
〔式中、Xはハロゲン原子、R1,R2は水素原子、炭
素数1ないし4のアルキル基または炭素数1ないし4の
アルコキシ基を表わし、R8は炭素数1ないし6のアル
キル基を示す。〕 以下、合成法を詳細に述べる。
オキシムエステル化合物(1)の合成原料となる化合物
(n)および化合物(III)は、Org、 5ynt
h。
coil、 Vol、II  244 245頁に記載
されている方法に準じて合成することができる。例えば
弐(Vl)で示される化合物 〔式中、R+、Rzは前述記載と同じ意味〕を、クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素に溶解し、これに塩素、臭素、沃素等のハロゲン化
試薬を作用させることにより弐(■)で示される化合物 〔式中x、x’ はそれぞれ塩素、臭素、沃素を示す。
〕へと導くことができる。更に化合物(■)は、酢酸、
プロピオン酸、酪酸等のカルボン酸中、対応するナトリ
ウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩で処理す
ることにより化合物(II)へと導くことができる。化
合物(III)は、このようにして得られた化合物(n
)を減圧下で蒸留するか、あるいはジシクロへキシルカ
ルボジイミド、無水硫酸銅等の脱水剤を用いることによ
り合成することができる。
化合物(■)、化合物(III)または化合物(II)
と化合物(III)の混合物は、アルコール系溶媒中、
ヒドロキシルアミンあるいはその塩で処理することによ
り、化合物(IV)へと導くことができる。
ここでアルコール系溶媒としては、炭素数1ないし10
の脂肪族アルコール、あるいは次式数1ないし4のアル
キル基または炭素数1ないし  、4のアルコキシ基を
表わし、R5はメチル基またはエチル基を示す。〕で示
される芳香族アルコールが掲げられる。ヒドロキシルア
ミン塩としては、塩酸、硫酸等の鉱酸塩、あるいは次式
R,−COO11,1100cmR,−CQOHC式中
R2は水素原子または炭素数1ないし3のアルキル基を
表わし、R7は炭素数Oか又は1ないし3のアルキレン
基を示す。〕で示されるカルボン酸との塩であり、好ま
しくは塩酸塩、硫酸塩、シュウ酸塩である。反応温度、
時間には制限はないが、それぞれ好ましくは60〜16
0℃、30分〜2時間である。この中で特に好ましい例
としては、メタノールあるいはエタノール中に化合物(
II)または化合物(■)、またはこれらの混合物を溶
解させ、これにヒドロキシルアミン塩酸塩もしくは硫酸
塩を加え60〜80℃で1〜2時間反応させることによ
り化合物(IV)を得るというものである。生成物は、
そのまま溶媒を除去することによって得られるが、ここ
でシリカゲルクロマトグラフィーによる精製あるいは再
結晶等の処理を行っても良い。このようにして得られた
化合物(rV)は、薄層クロマトグラフィー又は液体ク
ロマトグラフィーにより同定される。
化合物(IV)は合成溶媒中、塩基存在下、ハロゲン化
炭酸アルキルエステル化合物(V)を作用させることに
よりオキシムエステル化合物(I)へと導かれる。合成
溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルイソアミルケト
ン等のケトン系炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等のエ
ーテル系炭化水素;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;ジメ
チルスルホキシド、ジメチルスルホン等スルホキシドお
よびスルホンなどが掲げられる。この他、ピリジン、ト
リエチルアミン等の塩基性物質を合成溶媒として用いる
ことも可能である。脱ハロゲン化水素剤としては、従来
使用されているハロゲン化水素捕捉塩基を使用すること
ができる。例えば(Rs) 2R9Nで示される第3級
アミン〔式中RいR,はそれぞれ炭素数1ないし4のア
ルキル基を示す。〕、あるいは次式〔式中R,、Rh、
Reはそれぞれ水素原子又は炭素数1ないし6のアルキ
ル基もしくは、シクロアルキル基を表わし、R4は炭素
数1ないし7のアルキル基もしくは、シクロアルキル基
を示す。〕で示される芳香族アミン、ピリジン、イミダ
ゾール、トリアゾール、キノリン、ピリミジン、モルホ
リンおよびこれらの誘導体等が掲げられる。
ハロゲン化炭酸アルキルエステル化合物とじては、一般
に次式 R3−0−C−X C式中R1は炭素数1ない
し6のアルキル基を表わし、Xは塩素、臭素、沃素を表
わす。〕で示される。この例としでハ、クロロ炭酸メチ
ルエステル、クロロ炭酸エチルエステル、クロロ炭酸イ
ソプロピルエステル、クロロ炭酸イソブチルエステル、
ブロモ炭酸メチルエステル、ブロモ炭酸エチルエステル
、ヨード炭酸エチルエステル、ヨード炭酸イソブチルエ
ステルなどがある。反応温度、時間には制限はないが、
それぞれ好ましくは一10〜30℃、30分〜2時間で
ある。オキシムエステル化合物(I)の合成において特
に好ましくは、合成溶媒としてアセトン等のケトン系炭
化水素、あるいはクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
を用い、化合物(IV) ヲこれに溶解し、トリエチル
アミン等第3級アミン存在下、クロロ炭酸エチルエステ
ルで0〜20℃、30分〜2時間処理するというもので
ある。このようにして得られた化合物(I)は、副生ず
るハロゲン化水素と塩基と゛の塩を分液扱作、あるいは
ろ過操作により除去した後、溶媒を減圧で除去すること
により得ることができる。この粗生成物は、適当な溶媒
、好ましくはアルコール系、ケトン系脂肪族炭化水素、
芳香族炭化水素から再結晶することにより白色の針状結
晶として得られる。こうして得られた化合物(I)は、
薄層クロマトグラフィー、融点、lR113C,’H−
NMR等で同定される。次に、更に詳しい説明を以下の
実施例において行う。
〔実施例1〕 ジフェニルトリケトンハイドレートから1.3−ジフェ
ニルプロパントリオン2−オキシムの合成Org、 5
ynth、 coil、 Vol、II  244−2
45頁に示される方法により合成されるジフェニルトリ
ケトンハイドレート150g(0,6モル)を21ナス
フラスコに取り、エタノール1.21!を加え加熱溶解
させた後、ヒドロキシルアミン塩酸塩41.7g(0,
6モル)を加え、1時間加熱還流させる。
反応溶媒を減圧除去することにより、1.3−ジフェニ
ルプロパントリオン2−オキシムが得られる。
収量150g、Rf (Si/ヘキサン:酢酸エチル=
571) =0.10であった。
〔実施例2〕 1.3−ジフェニルプロパントリオンから1.3−ジフ
ェニルプロパントリオン2−オキシムの合成Org、 
5ynth、 coil、 Vol、II  244−
245頁に示される方法により合成される1、3−ジフ
ェニルプロパントリオン45g(0,19モル)を1!
ナスフラスコに取り、エタノール400mlを加え加熱
溶解させた後、ヒドロキシルアミン塩酸塩13.2 g
 (0,19モル)を加え、1時間加熱還流させる。反
応溶媒を減圧除去することにより、1゜3−ジフェニル
プロパントリオン2−オキシムが得られる。収145g
、Rf  (Si/ヘキサン:酢酸エチル=5 : 1
) =0.10であった。
〔実施例3〕 ジフェニルトリケトンハイドレートおよび1.3−ジフ
エニルブロバントリオンの混合物から1.3ジフェニル
プロパントリオン2−オキシムの合成Org、 5yn
th、 coil、 Vol、lI244−245頁に
示される方法により、ジフェニルトリケトンハイドレー
トおよび1,3−ジフェニルプロパン1−11オンの混
合物が得られる。この混合物120gを27!ナスフラ
スコに取り、エタノール1βを加え、加熱攪拌し溶解さ
せる。完全に溶解した後、ヒドロキシルアミン塩酸塩3
3.5 g (0,5モル)を加え、1時間加熱還流さ
せる。反応溶媒を減圧除去することにより、1,3−ジ
フェニルプロパントリオン2−オキシムが得られる。収
量122g、Rf(Si/ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)−〇、10であった。
〔実施例4〕 1.3−ジフェニルプロパントリオン2−(0−エトキ
シカルボニル)オキシムの合成 1.3−ジフェニルプロパントリオン2−オキシム15
0g(0,6モル)を滴下ロート、温度計、乾燥管を付
した31セバラフラスコに取り、乾燥処理をしたアセト
ン1.8Ilを加え攪拌溶解させる。
これに水冷攪拌下、トリエチルアミン66g(0,65
モル)を加え、更にクロロ炭酸エチルエステル70g(
0,65モル)を30分間でゆっくりと滴下する。20
℃以下で30分間攪拌反応させる。副生ずるトリエチル
アミン塩酸塩をろ過により除去した後、合成溶媒を減圧
にて除去することにより粗1.3−ジフェニルプロパン
トリオン2−(0−エトキシカルボニル)オキシムを得
ることができる。これは更に、エタノール/ヘキサン=
5/1の混合溶媒300mlから再結晶を行うことによ
り、純粋な白色針状結晶体として得ることができる。
収量 48g 融点 99〜101℃ Rf(Si/ヘキサン:酢酸エチル=5:1)元素分析
 CIa Hls N Os 理論値 C=66.46%、H=4.65%、N−4,
31%分析値 C=66.28%、)I=4.68%、
N=4.38%δ7.60〜8.20 (lOHSm 
、 arom )” C−NMRδ188.189 (
S、 S、゛“ゝC=OX2)(DMSOd6)   
          ””−δ152.160 <s、
 s、  >C=N、−0−C−0−)6129〜13
8  (m 、 arom )666〜69   (t
 、−0一旦HtCHs)613〜17   (q −
0−CHz  CHz )I R1660(J−’  
 ゝC=N1680.1700cm−’   ゝc=。
1800cm−’    −0−C−0−この化合物を
A−1とする。
〔実施例5〕 ジフェニルトリケトンハイドレートの代わりに、ビス(
4−メチルフェニル)トリケトンハイドレートを用いる
こと以外は、実施例1および実施例4と同様にして合成
を行った。
生成1’l  1.3−ビス(4−メチルフェニル)プ
ロパントリオン2−(〇−エトキシカ ルボニル)オキシム 収量 45g  白色針状結晶 直1(−NMRδ1.20  (3H、t  、   
 0−C11g   Cjj3  )δ2.30 (6
HSs 、 ph−Me X2)δ4.25 (2H、
q 、 −0−Cjj3−CHs )δ7.20〜8.
OO(8HSm 、 aro+m )I R1660c
m−’   ゝC=N1680.1700cm−’  
 ゝC−O1800ai−’   −0−C−0−元素
分析 C20Hl 9 N Os 理論値 C=67.98%、H=5.42%、N−3,
96%分析値 C−68,16%、H−5,40%、N
−3,91%この化合物をA−2とする。
〔実施例6〕 1.3−ジフェニルプロパントリオンの代わりに、1.
3−ビス(4−メトキシフェニル)プロパントリオンを
用いること以外は、実施例2および実施例4と同様にし
て合成を行った。
生成物 1.3−ビス(4−メトキシフェニル)プロパ
ントリオン2−(0−エトキシ カルボニル)オキシム 収量 40g  白色針状結晶 ’l(−NMRδ1.20 (3H、t 、 −(1−
CI(Z−CL、 )δ3.80 (6H、s 、 p
h−0助 ×2)64.25 (2H、q 、 −0−
Cjjl−CHs )66.90〜8.00 (8H、
、m 、 arom )I R1665aa−’   
′C−N1680.1720aa−’   ゝc=。
1800cm−’   −0−C−0−元素分析 Cz
oH+qNO? 理論値 C= 62.33%、H−4,97%、N−3
,63%分析値 C−62,47%、H−4,92%、
N−3,62%この化合物をA−3とする。
〔参考例1−6〕 特願昭59−193737号の実施例5に従って合成し
たポリマー100重量部に対し、表1に示した添加剤を
加え、120重量部のN−メチルピロリドンに溶解した
。この溶液をシリコンウエノ\−上にスピンコード(7
00rpm X 7sec)L、70℃空気中で6時間
乾燥して均一な塗膜を得た。膜厚は70μmであった@ 次に窒素雰囲気下でグレースケール(KodacPho
tographic 5tep Tablet、 N1
12 )を通して、超高圧水銀灯(8mW/aa)で5
分間露光した。このウェハーを23℃で30分間放置し
た後、スプレ一式現像機を用い、r−ブチロラクトンと
キシレンの等置部合液で現像し、キシレンでリンスして
乾燥した。グレースケールの各ステップの硬化状態より
感度を段数として求めた。(段数が高いほど感度が高い
ことを示し、段数が1段上がると、その露光量が汀だけ
低いことを意味する。)得られた結果を同表に示す。
以下余白 〔比較例1〜6〕 オキシム化合物の代わりに、他の光重合開始剤を用いて
、参考例1〜6と同様にして、表2の組成物について実
験を行い、同表に示した結果を得た。
以下余白

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) 〔式中、R_1、R_2は水素原子、炭素数1ないし4
    のアルキル基または炭素数1ないし4のアルコキシ基を
    表わし、R_3は炭素数1ないし6のアルキル基を示す
    〕 で表わされることを特徴とする新規なオキシムエステル
    化合物
  2. (2)(i)下記一般式(II)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) または、下記一般式(III)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) または、式(II)で示される化合物と式(III)で示さ
    れる化合物との混合物に、ヒドロキシルアミンあるいは
    その塩を反応させ、下記一般式(IV)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(IV) とした後、 (ii)次に、下記一般式(V)で示される化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(V) と反応させることを特徴とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) で示される化合物の合成法 〔上記式中、Xはハロゲン原子、R_1、R_2は水素
    原子、炭素数1ないし4のアルキル基または炭素数1な
    いし4のアルコキシ基を表わし、R_3は炭素数1ない
    し6のアルキル基を示す〕
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