CN112601912A - 车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜、前照灯用遮光膜的制造方法 - Google Patents

车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜、前照灯用遮光膜的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜及前照灯用遮光膜的制造方法，所述车辆用前照灯单元具有抑制向遮光区域的漏光且含有黑色色料及树脂的遮光膜。车辆用前照灯单元具有光源和遮挡从光源射出的光的至少一部分的遮光部，遮光部具有形成为遮挡从光源射出的光的至少一部分的图案状的遮光膜，遮光膜含有黑色色料和树脂且在波长400～700nm的范围内的最低光学浓度为2.0以上，将遮光膜的膜厚设为FT，将遮光膜的周缘部的厚度发生变化的区域的长度设为UW时，为‑2.5≤(UW/FT)≤2.5。

Description

车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜、前照灯用遮光膜的制造 方法
技术领域
本发明涉及一种汽车等车辆用前照灯单元，尤其涉及一种具有遮光膜的车辆用前照灯单元。
并且，本发明还涉及一种前照灯用遮光膜及前照灯用遮光膜的制造方法。
背景技术
目前，在汽车等车辆用前照灯中，进行近光和远光的切换。
并且，在汽车等车辆中，为了安全行驶，在夜间行驶时设为远光。然而，当设为远光的情况下，若照射相向车辆，则反而会导致危险。
因此，目前例如：在远光模式中，存在前行车辆、相向车辆及行人等非照射对象的情况下，为了不对前行车辆、相向车辆及行人造成眩光而进行遮光或减光、自适应远光系统控制(Adaptive Driving Beam)(ADB控制)。通过自适应远光系统控制，即使在远光情况下，也能够不照射相向车辆。
例如，在专利文献1中，车头灯具有公知的遮光机构，该遮光机构在光轴的车高方向为远光时，用于在其照射区域的一部分形成遮光部分。遮光机构由能够遮挡车头灯的远光的一部分的遮罩部件和能够相对于车头灯的光轴在车宽方向或车高方向调节遮罩部件的致动器构成。
并且，在专利文献2中，记载有一种汽车前照灯用的微投影光模块，其包含：至少一种光源；及以至少一种配光形式在汽车的前方区域成像从至少一种光源射出的光的至少一种投影装置。
在投影装置中，至少一种光圈(遮光屏幕)装置配置在入射光学系统与射出光学系统之间。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-009647号公报
专利文献2：日本特表2016-534503号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
如上述专利文献1那样使用能够遮光的遮罩部件的情况下，如专利文献2那样具有光圈装置的情况下，在任何情况下，光泄漏到遮挡光的区域都会对前方车辆造成眩光，因此不优选。
本发明人进行了潜心实验研究，将含有黑色色料及树脂的特定的遮光膜适用于车辆用前照灯，并评价其特性时发现，能够改善遮光区域的漏光及对前方车辆的眩光。
本发明的目的在于提供一种车辆用前照灯单元，其具有抑制向遮光区域漏光且含有黑色色料及树脂的遮光膜。
并且，本发明的目的还在于提供一种前照灯用遮光膜及前照灯用遮光膜的制造方法。
用于解决技术课题的手段
为了达成上述目的，本发明人等深入研究的结果，发现通过以下结构能够达成上述目的。
本发明为一种车辆用前照灯单元，其具有光源和遮挡从光源射出的光的至少一部分的遮光部，遮光部具有形成为遮挡从光源射出的光的至少一部分的图案状的遮光膜，遮光膜含有黑色色料和树脂，遮光膜在波长400～700nm的范围内的最低光学浓度为2.0以上，将遮光膜的膜厚设为FT，将遮光膜的周缘部的厚度发生变化的区域的长度设为UW时，满足-2.5≤(UW/FT)≤2.5。
优选满足-2.0≤(UW/FT)≤2.0。
优选满足-1.5≤(UW/FT)≤1.5。
优选最低光学浓度为3.0～6.0。
优选黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、金属氮氧化物及金属氮化物组成的组中的至少一种。
优选黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌及氮氧化铌组成的组中的至少一种。
优选遮光膜使用遮光膜形成用组合物而形成，遮光膜形成用组合物含有黑色色料、聚合性化合物及聚合引发剂。
遮光膜形成用组合物还优选含有树脂。
优选树脂含有烯属不饱和基团。
优选聚合引发剂为肟化合物。
优选遮光膜的表面粗糙度为10～250nm。
本发明为一种前照灯用遮光膜，其含有黑色色料和树脂，在波长400～700nm的范围内的最低光学浓度为2.0以上，将遮光膜的膜厚设为FT，将遮光膜的周缘部的厚度发生变化的区域的长度设为UW时，满足-2.5≤(UW/FT)≤2.5。
优选满足-2.0≤(UW/FT)≤2.0。
优选满足-1.5≤(UW/FT)≤1.5。
优选最低光学浓度为3.0～6.0。
优选黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、金属氮氧化物及金属氮化物组成的组中的至少一种。
优选黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌及氮氧化铌组成的组中的至少一种。
优选使用遮光膜形成用组合物形成，遮光膜形成用组合物含有黑色色料、包含烯属不饱和基团的化合物及聚合引发剂。
遮光膜形成用组合物还优选含有树脂。
优选树脂含有烯属不饱和基团。
优选聚合引发剂为肟化合物。
优选表面粗糙度为10～250nm。
一种上述的前照灯用遮光膜的制造方法，其依次包括：组合物层形成工序，使用含有黑色色料、包含烯属不饱和基团的化合物及聚合引发剂的遮光膜形成用组合物来形成组合物层；曝光工序，对组合物层的一部分照射光化射线或放射线而进行曝光；及显影工序，实施显影处理而形成遮光膜。
发明效果
根据本发明，能够提供一种具有抑制向遮光区域漏光且含有黑色色料及树脂的遮光膜的车辆用前照灯单元。
并且，根据本发明，能够提供一种前照灯用遮光膜及前照灯用遮光膜的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的一例的示意图。
图2是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的一例的示意性立体图。
图3是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的遮光膜的一例的示意性剖视图。
图4是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的遮光膜的另一例的示意剖视图。
图5是表示基于本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的配光图案的一例的示意图。
图6是表示基于本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的配光图案的一例的示意图。
具体实施方式
以下，基于附图所示的优选实施方式，对本发明的车辆用前照灯单元进行详细说明。
另外，以下说明的图是用于说明本发明的例示性图，本发明并不限定于以下所示的图。
另外，以下表示数值范围的“～”包含记载于其两侧的数值。例如，ε为数值α～数值β是指ε的范围为包含数值α和数值β的范围，若以数学符号表示，则为α≤ε≤β。
并且，“同一”包含该技术领域中通常被允许的误差范围。并且，“均”或“整个面”等包含该技术领域中通常被允许的误差范围。
[车辆用前照灯单元]
本发明的车辆用前照灯单元能够用作例如前照灯等车辆用灯具。
图1是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的示意图，图2是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的示意性立体图。
如图1所示，车辆用前照灯单元10具有光源12、遮光部14和透镜16，以光源12、遮光部14及透镜16的顺序配置。
遮光部14具有如图2所示的基体20和遮光膜22。
遮光膜22形成有用于以特定的形状照射从光源12射出的光的图案状的开口部23。根据遮光膜22的开口部23的形状，确定从透镜16照射的配光图案。透镜16投影通过遮光部14的来自光源12的光L。若从光源12能够照射特定的配光图案，则并不一定需要透镜16。可根据光L的照射距离及照射范围而适当确定透镜16。
并且，基体20只要能够保持遮光膜22，则其结构并无特别限定，优选不会因光源12的热等而变形的结构，例如，由玻璃构成。
在图2中，示出实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的一例，但并不限定于此。
并且，光源12也不限定于一个，例如，可以配置成列状，也可以配置成矩阵状。设置多个光源的情况下，例如，可以构成为对一个光源12设置一个遮光部14。此时，多个遮光部14的各遮光膜22可以全部为相同的图案，也可以为分别不同的图案。
遮光膜22由黑色色料和树脂构成，且在波长400～700nm的范围内的最低光学浓度(以下也称为最低OD值)为2.0以上。其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，最低光学浓度优选为2.5以上，更优选为3.0以上。上限并无特别限定，但当最低光学浓度为6.0以下时，光刻适应性提高，因此作为最低光学浓度的上限值优选为6.0以下。
光学浓度具有厚度依赖性，厚度越厚光学浓度越高。本发明中的最低光学浓度是指对所形成的遮光膜在波长400～700nm中的光学浓度进行测量时最低的光学浓度。
构成遮光膜22的黑色色料和树脂将在后面进行详细说明。
接着，对遮光膜22进行说明。
图3是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的遮光膜的一例的遮光膜在膜厚方向上的示意性剖视图，图4是表示本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的遮光部的遮光膜的另一例的遮光膜在膜厚方向上的示意性剖视图。在图3中，遮光膜22的膜厚并不恒定，如图3及图4所示，周缘部22b的膜厚发生变化。另外，关于遮光膜22的膜厚的变化，如图3所示，可以是底切形状(在膜厚方向上的剖视图中，平行的2边中短边存在于基体(在图3中未图示)侧的形状)，如图4所示，也可以是与示于图3的底切相反的形状(在膜厚方向上的剖视图中，平行的2边中长边存在于基体(在图4中未图示)侧的形状)。
在图3及图4所示的遮光膜22中，将遮光膜22的膜厚设为FT，将遮光膜22的周缘部的厚度发生变化的区域的长度设为UW时，为-2.5≤(UW/FT)≤2.5。若满足上述的-2.5≤(UW/FT)≤2.5，则在对遮光膜22的周缘部22b照射光的情况下，在所投影的配光图案中与周缘部22b对应的区域被遮光。
另一方面，在不满足上述的-2.5≤(UW/FT)≤2.5的情况下，在对遮光膜22的周缘部22b照射光的情况下，在所投影的配光图案中与周缘部22b对应的区域的遮光程度差，不能被周缘部22b充分遮光。
另外，遮光膜22的膜厚FT是厚度均匀的区域中的厚度。遮光膜22的周缘部的厚度发生变化的区域的长度UW是从遮光膜22的边缘到厚度均匀的区域的与膜厚方向垂直的方向上的距离。在遮光膜22的周缘部的厚度发生变化的区域的长度UW根据遮光膜22的位置而不同的情况下，设为最长的距离。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，UW/FT优选满足-2.0≤(UW/FT)≤2.0，更优选满足-1.5≤(UW/FT)≤1.5。
关于遮光膜22的膜厚FT，例如，优选为0.1～10.0μm，更优选为1.0～4.0μm。并且，根据用途，遮光膜22可以设为比该范围更薄的膜，也可以设为比该范围更厚的膜。
并且，关于遮光膜22的表面粗糙度(Ra)，并无特别限定，优选为10～250nm。若在上述的范围则配光特性优异。更优选为15～250nm，进一步优选为50～250nm，尤其优选为100～250nm。上述配光特性优异的机理尚不明确，但表面粗糙度更粗，即Ra的数值越大，在遮光膜表面的反射率越降低，结果推测为配光特性优异。另外，遮光膜22的表面粗糙度(Ra)是指算术平均粗糙度，如后述，其使用原子力显微镜(Dimension FastScan AFM(Bruker制造))测量。
对基于遮光膜22的图案的配光图案进行说明。
图5是表示基于本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的配光图案的一例的示意图，图6是表示基于本发明的实施方式的车辆用前照灯单元的配光图案的一例的示意图。另外，图5所示的配光图案30和图6所示的配光图案32均表示被光照射的区域。并且，图5所示的区域31及图6所示的区域31均表示在未设置遮光膜22的情况下，以光源12(参考图1)照射的照射区域。
由于遮光膜22的图案，例如，如图5所示的配光图案30那样，在边缘30a处光的强度急剧下降。关于图5所示的配光图案30，例如，在左侧通行中，成为不对相向车辆照射光的图案。
并且，也能够设为如图6所示的配光图案32那样，切去了图5所示的配光图案30的一部分的图案。此时，也与图5所示的配光图案30相同，在边缘32a处光的强度急剧下降，例如，在左侧通行中，成为不对相向车辆照射光的图案。而且，在缺口部33处光的强度也在急剧下降。因此，能够在与缺口部33对应的区域，例如，在道路上显示表示道路弯曲、上行倾斜、下行倾斜等状态的标记。由此，能够提高夜间行驶时的安全性。
另外，遮光部14并不限定于固定并配置在光源12和透镜16之间，也能够构成为通过未图示的驱动机构，根据需要使其进入到光源12和透镜16之间，来获得特定的配光图案。
并且，可以由遮光部14构成能够遮挡来自光源12的光的遮罩部件。
此时，也能够构成为通过未图示的驱动机构，根据需要使其进入到光源12和透镜16之间，来获得特定的配光图案。
遮光膜含有黑色色料及树脂。
以下，对遮光膜所含有的各种成分进行详细说明。
＜黑色色料＞
作为黑色色料，能够使用各种公知的黑色颜料及黑色染料。
尤其，从能够实现少量且高最低光学浓度的观点考虑，优选炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、偶氮甲碱系颜料、苝系颜料、金属氮氧化物或金属氮化物，更优选炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌或氮氧化铌，进一步优选氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌或氮氧化铌。
作为二苯并呋喃酮系颜料，可以举出日本特表2012-528448号公报、日本特表2010-534726号公报、日本特表2012-515234号公报等中记载的颜料，例如，能够作为BASF公司制造的“IRGAPHOR BK”获得。
作为偶氮甲碱系颜料，可以举出日本特开平1-170601号公报、日本特开平2-034664号公报等中记载的颜料，例如，能够作为Dainichiseika Color&ChemicalsMfg.Co.,Ltd.制造的“CHROMOFINE BLACK A1103”获得。
关于偶氮染料，并无特别限定，例如，能够优选举出Orient Chemical IndustriesCo,.Ltd.制造的“SOLVENT BLACK3”。
另外，作为黑色色料，还能够使用由红色色料、绿色色料、青色色料等混合而成的黑色色料。
另外，金属氮氧化物及金属氮化物所含有的金属元素的种类并无特别限制，作为金属氮氧化物及金属氮化物，优选3～7族的过渡金属中电负性(轮询(polling)的电负性)为1.22～1.80的过渡金属(以下也称为“特定过渡金属”)的氮氧化物或氮化物。
作为特定过渡金属(括号内为电负性)，可举出3族的过渡元素的Sc(1.36)、Dy(1.22)、Ho(1.23)、Er(1.24)、Tm(1.25)、Lu(1.27)、Th(1.3)、Pa(1.5)、U(1.38)、Np(1.36)、Pu(1.28)、Am(1.3)、Cm(1.3)、Bk(1.3)、Cf(1.3)、Es(1.3)、Fm(1.3)、Md(1.3)、No(1.3)、Lr(1.3)；4族的Ti(1.54)、Zr(1.33)、Hf(1.3)；5族的V(1.63)、Nb(1.6)、Ta(1.5)；6族的Cr(1.66)；7族的Mn(1.55)。其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选Zr(锆)、V(钒)、Nb(铌)、Cr(铬)、Ta(钽)、Y(钇)及Ti(钛)，更优选锆、钒、铌或钛，更优选锆或钛。
金属氮氧化物或金属氮化物中的特定过渡金属的含量相对于金属氮氧化物或金属氮化物的总质量优选为10～85质量％，更优选为50～80质量％，进一步优选为70～80质量％。金属氮氧化物或金属氮化物中的过渡金属的含量通过XRF(X-ray Fluorescence；荧光X射线)分析法来测量。
特定过渡金属可单独使用1种，也可以使用2种以上，在使用2种以上的情况下，优选其合计含量在上述范围内。
黑色色料的制造方法并无特别限制，可采用公知的方法。
在黑色色料为黑色颜料的情况下，黑色颜料的平均一次粒径并无特别限制，优选为5～100nm，更优选为30～65nm。
遮光膜中的黑色色料的含量并无特别限制，从本发明的效果更优异的方面考虑，相对于遮光膜总质量优选为10～90质量％，更优选为30～70质量％，进一步优选为30～65质量％。
＜树脂＞
遮光膜含有树脂。作为树脂，例如可举出分散剂及碱溶性树脂等。
作为遮光膜中的树脂的含量并无特别限制，相对于遮光膜总质量优选为3～60质量％，更优选为10～40质量％，进一步优选为15～35质量％。树脂可单独使用1种，也可以并用2种以上。并用2种以上的树脂的情况下，优选合计含量在上述范围内。
树脂的分子量超过2000。另外，在树脂的分子量为多分散的情况下，重均分子量超过2000。
＜分散剂＞
优选遮光膜含有分散剂。尤其，作为黑色色料使用黑色颜料的情况下，优选并用分散剂。另外，在本说明书中，分散剂是指与后述的碱溶性树脂不同的化合物。
作为遮光膜中的分散剂的含量并无特别限制，相对于遮光膜总质量优选为2～40质量％，更优选为5～30质量％，进一步优选为10～20质量％。
分散剂可单独使用1种，也可并用2种以上。在并用2种以上的分散剂的情况下，优选合计含量在上述范围内。
并且，遮光膜中的分散剂(优选为接枝型高分子)的含量相对于黑色色料的含量的质量比(分散剂的含量/黑色色料的含量)优选为0.05～1.00，更优选为0.05～0.35，进一步优选为0.20～0.35。
作为分散剂，例如能够适当选择公知的分散剂来使用。其中，优选高分子化合物。
作为分散剂，可举出高分子分散剂〔例如，聚酰胺基胺及其盐、聚羧酸及其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福尔马林缩合物〕、聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺及颜料衍生物等。
高分子化合物能够根据其结构进一步分类为直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子嵌段型高分子。
·高分子化合物
高分子化合物吸附于黑色颜料及根据所期望并用的其他颜料(以下，将黑色颜料及其他颜料也简单统称为“颜料”)等被分散体的表面，发挥防止被分散体的再凝聚的作用。因此，优选含有向颜料表面的锚定(anchor)部位的末端改性型高分子、接枝型(含有高分子链)高分子或嵌段型高分子。
上述高分子化合物可以含有固化性基。
作为固化性基，例如可举出烯属不饱和基团(例如(甲基)丙烯酰基、乙烯基及苯乙烯基等)及环状醚基(例如环氧基、氧杂环丁基等)等，但并不限于这些。
其中，从在自由基反应中能够进行聚合控制的方面考虑，优选烯属不饱和基团作为固化性基。更优选烯属不饱和基团为(甲基)丙烯酰基。
优选具有固化性基的树脂含有选自由聚酯结构及聚醚结构组成的组中的至少1种。此时，可以在主链含有聚酯结构和/或聚醚结构，如后述那样，在上述树脂包含含有接枝链的结构单元的情况下，上述高分子链可以含有聚酯结构和/或聚醚结构。
作为上述树脂，更优选上述高分子链含有聚酯结构。
优选高分子化合物包含含有接枝链的结构单元。另外，在本说明书中，“结构单元”与“重复单元”的含义相同。
包含这种含有接枝链的结构单元的高分子化合物通过接枝链具有与溶剂的亲和性，因此颜料等的分散性及经时后的分散稳定性(经时稳定性)优异。并且，通过接枝链的存在，包含含有接枝链的结构单元的高分子化合物与聚合性化合物或其他能够并用的树脂等具有亲和性。
其结果，在碱显影中难以产生残渣。
若接枝链变长，则立体排斥效果提高而颜料等的分散性得到提高。另一方面，若接枝链过长，则对颜料等的吸附力下降，颜料等的分散性具有下降的倾向。因此，接枝链优选除氢原子以外的原子数为40～10000，更优选除氢原子以外的原子数为50～2000，进一步优选除氢原子以外的原子数为60～500。
其中，接枝链表示共聚物的主链的根部(从主链分支的基团中与主链键合的原子)至从主链分支的基团的末端。
优选接枝链含有聚合物结构，作为这种聚合物结构，例如可举出聚(甲基)丙烯酸酯结构(例如，聚(甲基)丙烯酸结构)、聚酯结构、聚氨酯结构、聚脲结构、聚酰胺结构及聚醚结构等。
为了提高接枝链与溶剂的相互作用性，并由此提高颜料等的分散性，优选接枝链为含有选自由聚酯结构、聚醚结构及聚(甲基)丙烯酸酯结构组成的组中的至少1种的接枝链，更优选为含有聚酯结构及聚醚结构中的至少一个的接枝链。
作为含有这种接枝链的大分子单体(具有聚合物结构，键合在共聚物的主链来构成接枝链的单体)，并无特别限定，能够优选地使用含有反应性双键性基团的大分子单体。
作为与高分子化合物所含有的含有接枝链的结构单元对应且优选地用于高分子化合物的合成的市售的大分子单体，可使用AA-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AA-10(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AB-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AS-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AN-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AW-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AA-714(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AY-707(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AY-714(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AK-5(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AK-30(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AK-32(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、Blemmer PP-100(商品名，NOF CORPORATION制造)、Blemmer PP-500(商品名，NOF CORPORATION制造)、Blemmer PP-800(商品名，NOF CORPORATION制造)、Blemmer PP-1000(商品名，NOF CORPORATION制造)、Blemmer 55-PET-800(商品名，NOFCORPORATION制造)、Blemmer PME-4000(商品名，NOF CORPORATION制造)、Blemmer PSE-400(商品名，NOF CORPORATION制造)、Blemmer PSE-1300(商品名，NOF CORPORATION制造)或Blemmer 43PAPE-600B(商品名，NOFCORPORATION制造)等。其中，优选AA-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AA-10(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AB-6(商品名，TOAGOSEICO.,LTD.制造)、AS-6(商品名，TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、AN-6(商品名，TOAGOSEICO.,LTD.制造)、或Blemmer PME-4000(商品名，NOF CORPORATION制造)。
优选上述分散剂含有选自由聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯及环状或链状的聚酯组成的组中的至少1种结构，更优选含有选自由聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯及链状的聚酯组成的组中的至少1种结构，进一步优选含有选自由聚丙烯酸甲酯结构、聚甲基丙烯酸甲酯结构、聚己内酯结构及聚戊内酯结构组成的组中的至少1种结构。分散剂可以为在1种分散剂中单独含有上述结构的分散剂，也可以为在1种分散剂中含有多种这些结构的分散剂。
其中，聚己内酯结构表示含有开环ε-己内酯的结构作为重复单元的结构。聚戊内酯结构表示含有开环δ-戊内酯的结构作为重复单元的结构。
作为含有聚己内酯结构的分散剂的具体例，可举出下述式(1)及下述式(2)中的j及k为5的分散剂。并且，作为含有聚戊内酯结构的分散剂的具体例，可举出下述式(1)及下述式(2)中的j及k为4的分散剂。
作为含有聚丙烯酸甲酯结构的分散剂的具体例，可举出下述式(4)中的X5为氢原子，且R4为甲基的分散剂。并且，作为含有聚甲基丙烯酸甲酯结构的分散剂的具体例，可举出下述式(4)中的X5为甲基，且R4为甲基的分散剂。
·含有接枝链的结构单元
作为含有接枝链的结构单元，优选高分子化合物含有由下述式(1)～(4)中的任一个表示的结构单元，更优选含有由下述式(1A)、下述式(2A)、下述式(3A)、下述式(3B)及下述(4)中的任一个表示的结构单元。
[化学式1]
Figure BDA0002948638080000131
在式(1)～(4)中，W1、W2、W3及W4分别独立地表示氧原子或NH。优选W1、W2、W3及W4为氧原子。
在式(1)～(4)中，X1、X2、X3、X4及X5分别独立地表示氢原子或1价的有机基团。作为X1、X2、X3、X4及X5，从合成上的制约的观点考虑，优选分别独立地为氢原子或碳原子数(碳原子数)1～12的烷基，更优选分别独立地为氢原子或甲基，进一步优选为甲基。
在式(1)～(4)中，Y1、Y2、Y3及Y4分别独立地表示2价的连结基，连结基在结构上并无特别的限制。作为由Y1、Y2、Y3及Y4表示的2价的连结基，具体而言，可举出下述(Y-1)～(Y-21)的连结基等为例。在下述所示的结构中，A、B分别是指式(1)～(4)中的与Y1、Y2、Y3及Y4的左末端、右末端的键合位置。在以下所示的结构中，从合成的简便性考虑，更优选(Y-2)或(Y-13)。
[化学式2]
Figure BDA0002948638080000141
在式(1)～(4)中，Z1、Z2、Z3及Z4分别独立地表示1价的有机基团。有机基团的结构并无特别限定，具体而言，可举出烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、杂芳基硫醚基及氨基等。其中，作为由Z1、Z2、Z3及Z4表示的有机基团，尤其从提高分散性的观点考虑，优选含有立体排斥效果的基团，更优选分别独立地为碳原子数5～24的烷基或烷氧基，其中，尤其进一步优选分别独立地为碳原子数5～24的支链烷基、碳原子数5～24的环状烷基、或碳原子数5～24的烷氧基。另外，烷氧基中所包含的烷基可以为直链状、支链状及环状中的任一个。
在式(1)～(4)中，n、m、p及q分别独立地为1～500的整数。
并且，在式(1)及(2)中，j及k分别独立地表示2～8的整数。从后述的遮光膜形成用组合物(以下，也简称为“组合物”。)的经时稳定性及显影性的观点考虑，式(1)及(2)中的j及k优选为4～6的整数，更优选为5。
并且，在式(1)及(2)中，n及m优选为10以上的整数，更优选为20以上的整数。并且，在分散剂含有聚己内酯结构及聚戊内酯结构的情况下，作为聚己内酯结构的重复数量与聚戊内酯的重复数量之和，优选为10以上的整数，更优选为20以上的整数。
在式(3)中，R3表示支链状或者直链状的亚烷基，优选为碳原子数1～10的亚烷基，更优选为碳原子数2或3的亚烷基。p为2～500时，存在多个的R3可彼此相同也可互不相同。
在式(4)中，R4表示氢原子或1价的有机基团，作为该1价的有机基团，在结构上并无特别限定。作为R4，优选氢原子、烷基、芳基或杂芳基，更优选氢原子或烷基。在R4为烷基的情况下，作为烷基，优选碳原子数1～20的直链状烷基、碳原子数3～20的支链状烷基或碳原子数5～20的环状烷基，更优选碳原子数1～20的直链状烷基，进一步优选碳原子数1～6的直链状烷基。在式(4)中，q为2～500时，接枝共聚物中存在多个的X5及R4可彼此相同也可互不相同。
并且，高分子化合物可以含有2种以上的结构不同且含有接枝链的结构单元。即，在高分子化合物的分子中可以包含结构互不相同的由式(1)～(4)表示的结构单元，并且，式(1)～(4)中，n、m、p及q分别表示2以上的整数的情况下，在式(1)及式(2)中，可在侧链中包含j及k互不相同的结构，在式(3)及式(4)中，分子内存在多个的R3、R4及X5可彼此相同也可互不相同。
作为由式(1)表示的结构单元，从组合物的经时稳定性及显影性的观点考虑，更优选为由下述式(1A)表示的结构单元。
并且，作为由式(2)表示的结构单元，从组合物的经时稳定性及显影性的观点考虑，更优选为由下述式(2A)表示的结构单元。
[化学式3]
Figure BDA0002948638080000161
在式(1A)中，X1、Y1、Z1及n与式(1)中的X1、Y1、Z1及n的含义相同，优选范围也相同。在式(2A)中，X2、Y2、Z2及m与式(2)中的X2、Y2、Z2及m的含义相同，优选范围也相同。
并且，作为由式(3)表示的结构单元，从组合物的经时稳定性及显影性的观点考虑，更优选为由下述式(3A)或式(3B)表示的结构单元。
[化学式4]
Figure BDA0002948638080000162
在式(3A)或(3B)中，X3、Y3、Z3及p与式(3)中的X3、Y3、Z3及p的含义相同，优选范围也相同。
作为含有接枝链的结构单元，更优选高分子化合物含有由式(1A)表示的结构单元。
在高分子化合物中，含有接枝链的结构单元(例如，由上述式(1)～(4)表示的结构单元)以质量换算计，相对于高分子化合物的总质量优选以2～90质量％的范围包含，更优选以5～30质量％的范围包含。若在该范围内包含含有接枝链的结构单元，则颜料的分散性高，形成遮光膜时的显影性良好。
·疏水性结构单元
并且，优选高分子化合物含有与含有接枝链的结构单元不同(即，并不相当于含有接枝链的结构单元)的疏水性结构单元。其中，在本说明书中，疏水性结构单元是不具有酸基(例如，羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羟基等)的结构单元。
疏水性结构单元优选为源自(对应)ClogP值为1.2以上的化合物(单体)的结构单元，更优选为源自ClogP值为1.2～8的化合物的结构单元。由此，能够更可靠地显现本发明的效果。
ClogP值是通过能够从Daylight Chemical Information System,Inc.获得的程序“CLOGP”计算出的值。该程序提供通过Hansch,Leo的片段方法(参考下述文献)计算出的“计算logP”的值。片段方法根据化合物的化学结构，将化学结构分割为部分结构(片段)，总计分配于该片段的logP贡献量，由此推算化合物的logP值。其详细内容记载于以下文献中。在本说明书中，使用通过程序CLOGP v4.82计算出的ClogP值。
A.J.Leo,Comprehensive Medicinal Chemistry,Vol.4,C.Hansch,P.G.Sammnens,J.B.Taylor and C.A.Ramsden,Eds.,p.295,Pergamon Press,1990C.Hansch&A.J.Leo.SUbstituent Constants For Correlation Analysis in Chemistryand Biology.John Wiley&Sons.A.J.Leo.Calculating logPoct fromstructure.Chem.Rev.,93,1281-1306,1993.
logP是指分配系数P(Partition Coefficient)的常用对数，是以定量的数值表示某一有机化合物在油(通常为1-辛醇)与水的两相体系的平衡中如何分配的物性值，并由以下式表示。
logP＝log(C油/C水)
式中，C油表示油相中的化合物的摩尔浓度，C水表示水相中的化合物的摩尔浓度。
若logP的值夹着0而正向(plus)增大，则表示油溶性增加，若绝对值负向(minus)增大，则水溶性增加，与有机化合物的水溶性有负相关，作为估计有机化合物的亲疏水性的参数而被广泛利用。
高分子化合物作为疏水性结构单元，优选含有选自源自由下述式(i)～(iii)表示的单体的结构单元的1种以上的结构单元。
[化学式5]
Figure BDA0002948638080000181
在上述式(i)～(iii)中，R1、R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)或碳原子数为1～6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)。
R1、R2及R3优选为氢原子或碳原子数1～3的烷基，更优选为氢原子或甲基。R2及R3进一步优选为氢原子。
X表示氧原子(-O-)或亚氨基(-NH-)，优选为氧原子。
L是单键或2价的连结基。作为2价的连结基，可举出2价的脂肪族基团(例如，亚烷基、经取代的亚烷基、亚烯基、经取代的亚烯基、亚炔基、经取代的亚炔基)、2价的芳香族基(例如，亚芳基、经取代的亚芳基)、2价的杂环基、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、经取代的亚氨基(-NR31-，其中，R31为脂肪族基团、芳香族基或杂环基)、羰基(-CO-)及它们的组合等。
2价的脂肪族基团可具有环状结构或分支结构。脂肪族基团的碳原子数优选为1～20，更优选为1～15，进一步优选为1～10。脂肪族基团可以为不饱和脂肪族基团，也可以为饱和脂肪族基团，但优选为饱和脂肪族基团。并且，脂肪族基团可具有取代基。取代基的例子可举出卤素原子、芳香族基及杂环基等。
2价的芳香族基的碳原子数优选为6～20，更优选为6～15，进一步优选为6～10。并且，芳香族基可具有取代基。取代基的例子可举出卤素原子、脂肪族基、芳香族基及杂环基等。
优选2价的杂环基作为杂环含有5元环或6元环。杂环上可稠合有其他杂环、脂肪族环或芳香族环。并且，杂环基可具有取代基。作为取代基的例子，可举出卤素原子、羟基、酮氧基(＝O)、硫氧基(＝S)、亚氨基(＝NH)、经取代的亚氨基(＝N-R32，其中，R32为脂肪族基、芳香族基或杂环基)、脂肪族基、芳香族基及杂环基。
L优选为单键、亚烷基或含有氧化烯结构的2价的连结基。氧化烯结构更优选为氧化乙烯结构或氧化丙烯结构。并且，L可以含有重复包含2个以上的氧化烯结构的聚氧化烯结构。作为聚氧化烯结构，优选聚氧化乙烯结构或聚氧化丙烯结构。聚氧化乙烯结构由-(OCH2CH2)n-表示，n优选为2以上的整数，更优选为2～10的整数。
作为Z，可举出脂肪族基(例如，烷基、经取代的烷基、不饱和烷基及经取代的不饱和烷基)、芳香族基(例如，芳基、经取代的芳基、亚芳基、经取代的亚芳基)、杂环基或它们的组合。这些基团中可包含氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、经取代的亚氨基(-NR31-、其中，R31为脂肪族基、芳香族基或杂环基)或羰基(-CO-)。
脂肪族基可具有环状结构或分支结构。脂肪族基的碳原子数优选为1～20，更优选为1～15，进一步优选为1～10。脂肪族基中还包含环集合烃基、交联环式烃基，作为环集合烃基的例子，包含双环己基、全氢萘基、联苯基及4-环己基苯基等。作为交联环式烃环，例如，可举出：蒎烷(pinane)、莰烷(bornane)、降蒎烷(norpinane)、降莰烷(norbornane)、双环辛烷环(双环[2.2.2]辛烷环、双环[3.2.1]辛烷环等)等2环式烃环；高布雷烷(homobledane)、金刚烷、三环[5.2.1.02,6]癸烷、三环[4.3.1.12,5]十一烷环等3环式烃环；四环[4.4.0.12,5.17,10]十二烷及全氢-1,4-亚甲基-5,8-亚甲基萘环等4环式烃环等。并且，交联环式烃环中还包含稠环式烃环，例如，全氢萘(十氢萘)、全氢蒽、全氢菲、全氢苊、全氢芴、全氢茚及全氢葩环等稠合有多个5～8元环烷烃环的稠环。
关于脂肪族基，饱和脂肪族基优选于不饱和脂肪族基。并且，脂肪族基可具有取代基。取代基的例子可举出卤素原子、芳香族基及杂环基。其中，脂肪族基不具有酸基作为取代基。
芳香族基的碳原子数优选为6～20，更优选为6～15，进一步优选为6～10。并且，芳香族基可具有取代基。取代基的例子可举出卤素原子、脂肪族基、芳香族基及杂环基。其中，芳香族基不具有酸基作为取代基。
优选杂环基作为杂环含有5元环或6元环。杂环上可稠合有其他杂环、脂肪族环或芳香族环。并且，杂环基可具有取代基。作为取代基的例子，可举出卤素原子、羟基、酮氧基(＝O)、硫氧基(＝S)、亚氨基(＝NH)、经取代的亚氨基(＝N-R32，其中，R32为脂肪族基、芳香族基或杂环基)、脂肪族基、芳香族基及杂环基。其中，杂环基不具有酸基作为取代基。
在上述式(iii)中，R4、R5及R6分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)、碳原子数为1～6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)、Z或L-Z。其中，L及Z与上述基团的含义相同。作为R4、R5及R6，优选氢原子或碳原子数为1～3的烷基，更优选氢原子。
作为由上述式(i)表示的单体，R1、R2及R3优选为氢原子或甲基、L为单键或亚烷基或者含有氧化烯结构的2价的连结基、X为氧原子或亚氨基、Z为脂肪族基、杂环基或芳香族基的化合物。
并且，作为由上述式(ii)表示的单体，R1为氢原子或甲基、优选L为亚烷基、Z为脂肪族基、杂环基或芳香族基的化合物。并且，作为由上述式(iii)表示的单体，R4、R5及R6优选为氢原子或甲基、Z为脂肪族基、杂环基或芳香族基的化合物。
作为由式(i)～(iii)表示的代表性化合物的例子，可举出选自丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类及苯乙烯类等的自由基聚合性化合物。
另外，作为由式(i)～(iii)表示的代表性化合物的例子，能够参考日本特开2013-249417号公报的0089～0093段中记载的化合物，这些内容引入本说明书中。
在高分子化合物中，疏水性结构单元以质量换算计，相对于高分子化合物的总质量，优选以10～90％的范围包含，更优选以20～80％的范围包含。含量在上述范围内可获得充分的图案形成。
·能够与颜料等形成相互作用的官能团
高分子化合物能够导入能够与颜料等(例如遮光颜料)形成相互作用的官能团。其中，优选高分子化合物还包含含有能够与颜料等形成相互作用的官能团的结构单元。
作为能够与该颜料等形成相互作用的官能团，例如可举出酸基、碱基、配位性基及具有反应性的官能团等。
高分子化合物含有酸基、碱基、配位性基或具有反应性的官能团的情况下，优选分别包含含有酸基的结构单元、具有碱基的结构单元、具有配位性基的结构单元或具有反应性的结构单元。
尤其，若高分子化合物还含有羧酸基等碱溶性基作为酸基，则能够对高分子化合物赋予用于通过碱显影形成图案的显影性。
即，若向高分子化合物导入碱溶性基，则上述组合物中，作为有助于颜料等的分散的分散剂的高分子化合物含有碱溶性。关于含有这种高分子化合物的组合物，经曝光形成的遮光膜的遮光性优异，且未曝光部的碱显影性得到提高。
并且，若高分子化合物包含含有酸基的结构单元，则高分子化合物易与溶剂相溶且涂布性也趋于提高。
推测这是因为，含有酸基的结构单元中的酸基易与颜料等相互作用，高分子化合物使颜料等稳定地分散，并且使颜料等分散的高分子化合物的粘度变低，高分子化合物本身也容易稳定地分散。
其中，含有作为酸基的碱溶性基的结构单元可以为与上述的含有接枝链的结构单元相同的结构单元，也可以为不同的结构单元，但含有作为酸基的碱溶性基的结构单元是与上述的疏水性结构单元不同的结构单元(即，并不相当于上述的疏水性结构单元)。
作为能够与颜料等形成相互作用的官能团的酸基，例如有羧酸基、磺酸基、磷酸基、或酚性羟基等，优选羧酸基、磺酸基及磷酸基中的至少1种，进一步优选羧酸基。羧酸基对颜料等的吸附力良好，且分散性高。
即，优选高分子化合物还包含含有羧酸基、磺酸基及磷酸基中的至少1种的结构单元。
高分子化合物可具有1种或2种以上的含有酸基的结构单元。
高分子化合物可以包含或不包含含有酸基的结构单元，但含有的情况下，含有酸基的结构单元的含量以质量换算计，相对于高分子化合物的总质量优选为5～80质量％，从抑制由碱显影引起的图像强度的损伤的观点考虑，更优选为10～60质量％。
作为能够与颜料等形成相互作用的官能团的碱基，例如有伯氨基、仲氨基、叔氨基、含有N原子的杂环及酰胺基等，从对颜料等的吸附力良好，且分散性高的方面考虑，优选的碱基为叔氨基。高分子化合物能够含有1种或2种以上这些碱基。
高分子化合物可以包含或不包含含有碱基的结构单元，但含有的情况下，含有碱基的结构单元的含量以质量换算计，相对于高分子化合物的总质量优选为0.01～50质量％，从抑制阻碍显影性的观点考虑，更优选为0.01～30质量％。
作为能够与颜料等形成相互作用的官能团的配位性基及具有反应性的官能团，例如可举出乙酰乙酰氧基、三烷氧基甲硅烷基、异氰酸酯基、酸酐及酰氯等。从对颜料等的吸附力良好，且颜料等的分散性高的方面考虑，优选的官能团为乙酰基乙酰氧基。高分子化合物可具有1种或2种以上这些基团。
高分子化合物可包含或不包含含有配位性基的结构单元或含有具有反应性的官能团的结构单元，但含有的情况下，这些结构单元的含量以质量换算计，相对于高分子化合物的总质量优选为10～80质量％，从抑制阻碍显影性的观点考虑，更优选为20～60质量％。
上述高分子化合物除了接枝链以外还含有能够与颜料等形成相互作用的官能团的情况下，含有上述各种能够与颜料等形成相互作用的官能团即可，并不特别限定这些官能团如何被导入，但优选高分子化合物含有选自源自由下述式(iv)～(vi)表示的单体的结构单元的1种以上的结构单元。
[化学式6]
Figure BDA0002948638080000231
在式(iv)～(vi)中，R11、R12及R13分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)或碳原子数为1～6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)。
在式(iv)～(vi)中，R11、R12、及R13优选分别独立地为氢原子或碳原子数1～3的烷基，更优选分别独立地为氢原子或甲基。在通式(iv)中，R12及R13进一步优选分别为氢原子。
式(iv)中的X1表示氧原子(-O-)或亚氨基(-NH-)，优选为氧原子。
并且，式(v)中的Y表示次甲基或氮原子。
并且，式(iv)～(v)中的L1表示单键或2价的连结基。2价的连结基的定义与由上述式(i)中的L表示的2价的连结基的定义相同。
优选L1为单键、亚烷基或含有氧化烯结构的2价的连结基。氧化烯结构更优选为氧化乙烯结构或氧化丙烯结构。并且，L1可包含重复包含2个以上的氧化烯结构的聚氧化烯结构。作为聚氧化烯结构，优选聚氧化乙烯结构或聚氧化丙烯结构。聚氧化乙烯结构由-(OCH2CH2)n-表示，n优选为2以上的整数，更优选为2～10的整数。
在式(iv)～(vi)中，Z1除了接枝链以外还表示能够与颜料等形成相互作用的官能团，优选为羧酸基及叔氨基，更优选为羧酸。
在式(vi)中，R14、R15及R16分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)、碳原子数为1～6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)、-Z1或L1-Z1。其中，L1及Z1与上述中的L1及Z1的含义相同，优选例也相同。作为R14、R15及R16，优选分别独立地为氢原子或碳原子数为1～3的烷基，更优选为氢原子。
作为由式(iv)表示的单体，R11、R12及R13优选分别独立地为氢原子或甲基，L1为亚烷基或含有氧化烯结构的2价的连结基，X1为氧原子或亚氨基，Z1为羧酸基的化合物。
并且，作为由式(v)表示的单体，R11优选为氢原子或甲基，L1为亚烷基，Z1为羧酸基，Y为次甲基的化合物。
进而，作为由式(vi)表示的单体，R14、R15及R16优选分别独立地为氢原子或甲基，L1为单键或亚烷基，Z1为羧酸基的化合物。
以下示出由式(iv)～(vi)表示的单体(化合物)的代表例。
作为单体的例子，可举出甲基丙烯酸、巴豆酸、异巴豆酸、分子内含有加成聚合性双键及羟基的化合物(例如，甲基丙烯酸2-羟乙基)与琥珀酸酐的反应物、分子内含有加成聚合性双键及羟基的化合物与邻苯二甲酸酐的反应物、分子内含有加成聚合性双键及羟基的化合物与四羟基邻苯二甲酸酐的反应物、分子内含有加成聚合性双键及羟基的化合物与偏苯三酸酐的反应物、分子内含有加成聚合性双键及羟基的化合物与均苯四甲酸酐的反应物、丙烯酸、丙烯酸二聚物、丙烯酸低聚物、马来酸、衣康酸、富马酸、4-乙烯基苯甲酸、乙烯基苯酚及4-羟基苯甲基丙烯酰等。
从与颜料等的相互作用、经时稳定性及对显影液的渗透性的观点考虑，含有能够与颜料等形成相互作用的官能团的结构单元的含量相对于高分子化合物的总质量优选为0.05～90质量％，更优选为1.0～80质量％，进一步优选为10～70质量％。
·其他结构单元
进而，以提高图像强度等各种性能为目的，高分子化合物可在无损本发明的效果的前提下，还具有含有接枝链的结构单元、疏水性结构单元及与含有能够与颜料等形成相互作用的官能团的结构单元不同的具有各种功能的其他结构单元(例如，含有与后述的溶剂具有亲和性的官能团等的结构单元)。
作为这种其他结构单元，例如可举出源自选自丙烯腈类及甲基丙烯腈类等的自由基聚合性化合物的结构单元。
高分子化合物能够使用1种或2种以上的这些其他结构单元，其含量以质量换算计，相对于高分子化合物的总质量优选为0～80质量％，更优选为10～60质量％。含量在上述范围内可维持充分的图案形成性。
·高分子化合物的物性
高分子化合物的酸值优选为0～250mgKOH/g，更优选为10～200mgKOH/g，进一步优选为30～180mgKOH/g，尤其优选为70～120mgKOH/g的范围。
若高分子化合物的酸值在160mgKOH/g以下，则可更有效地抑制形成遮光膜时的显影时的图案剥离。并且，若高分子化合物的酸值为10mgKOH/g以上，则碱显影性更加良好。并且，若高分子化合物的酸值为20mgKOH/g以上，则能够更加抑制颜料等的沉淀，能够更加减少粗大粒子数，并能够进一步提高组合物的经时稳定性。
在本说明书中，例如能够从化合物中的酸基的平均含量计算酸值。并且，若改变树脂的构成成分即含有酸基的结构单元的含量，则可获得具有所期望的酸值的树脂。
高分子化合物的重均分子量优选为4,000～300,000，更优选为5,000～200,000，进一步优选为6,000～100,000，尤其优选为10,000～50,000。
高分子化合物能够根据公知的方法合成。
作为高分子化合物的具体例，可举出Kusumoto Chemicals,Ltd.制造“DA-7301”、BYK Chemie公司制造“Disperbyk-101(聚酰胺基胺磷酸盐)、107(羧酸酯)、110(含有酸基的共聚物)、111(磷酸系分散剂)、130(聚酰胺)、161、162、163、164、165、166、170、190(高分子共聚物)”、“BYK-P104、P105(高分子量不饱和多羧酸)”、EFKA公司制造“EFKA4047、4050～4010～4165(聚氨酯系)、EFKA4330～4340(嵌段共聚物)、4400～4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酰胺酯)、5765(高分子量多羧酸盐)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮颜料衍生物)”、Ajinomoto Fine-Techno Co.,Inc.制造“AJISPER PB821、PB822、PB880、PB881”、KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD.制造“FLOREN TG-710(氨基甲酸酯低聚物)”、“Polyflow No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)”、Kusumoto Chemicals,Ltd.制造“DISPARLON KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725”、Kao Corporation制造“DEMOL RN、N(萘磺酸福尔马林缩聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸福尔马林缩聚物)”、“HOMOGENOL L-18(高分子多羧酸)”、“EMULGEN 920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)”、“ACETAMIN 86(硬脂胺乙酸酯)”、The Lubrinzolcorporation制造“SOLSPERSE 5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮颜料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、12000、17000、20000、27000(在末端部含有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝共聚物)”、Nikkol Chemicals CO.,LTD.制造“Nikkor T106(聚氧乙烯脱水山梨糖醇单分子油)、MYS-IEX(聚氧乙烯单硬脂酸酯)”、Kawaken Fine Chemicals CO.,LTD.制造HINOAKUTO T-8000E等、Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造有机硅氧烷聚合物KP-341、Yusho Co Ltd制造“W001：阳离子系表面活性剂”、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯等非离子系表面活性剂、“W004、W005、W017”等阴离子系表面活性剂、MORISHITA&CO.,LTD.制造“EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA聚合物100、EFKA聚合物400、EFKA聚合物401、EFKA聚合物450”、SAN NOPCO LIMITED制造“Disperse Aid 6、Disperse Aid 8、Disperse Aid 15、Disperse Aid 9100”等高分子分散剂、ADEKA CORPORATION制造“Adeka Pluronic L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123”及Sanyo Chemical Industries,Ltd.制造“Ionet(商品名)S-20”等。并且，也能够使用Acrybase FFS-6752、Acrybase FFS-187。
并且，也优选使用酸基及含有碱基的两性树脂。优选两性树脂是酸值为5mgKOH/g以上，且胺值为5mgKOH/g以上的树脂。
作为两性树脂的市售品，例如可举出BYK公司制造的DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-142、DISPERBYK-145、DISPERBYK-180、DISPERBYK-187、DISPERBYK-191、DISPERBYK-2001、DISPERBYK-2010、DISPERBYK-2012、DISPERBYK-2025、BYK-9076、Ajinomoto Fine-Techno Co.,Inc.制造的AJISPER PB821、AJISPER PB822及AJISPERPB881等。
这种高分子化合物可单独使用1种，也可并用2种以上。
另外，作为高分子化合物的具体例的例子，能够参考日本特开2013-249417号公报的0127～0129段中记载的高分子化合物，这些内容引入本说明书中。
并且，作为分散剂，除了上述高分子化合物以外，还能够使用日本特开2010-106268号公报的0037～0115段(对应的US2011/0124824的0075～0133段)的接枝共聚物，能够援用这些内容，并引入本说明书中。
并且，除了上述以外，还能够使用日本特开2011-153283号公报的0028～0084段(对应的US2011/0279759的0075～0133段)的包含含有酸性基经由连接基键合而成的侧链结构的构成成分的高分子化合物，能够援用这些内容，并引入本说明书中。
并且，作为分散剂，也能够使用日本特开2016-109763号公报的0033～0049段中记载的树脂，该内容引入本说明书中。
＜碱溶性树脂＞
遮光膜优选含有碱溶性树脂。在本说明书中，碱溶性树脂是指含有促进碱溶性的基团(碱溶性基。例如羧酸基等酸基)的树脂，且是指与已说明的分散剂不同的树脂。
作为遮光膜中的碱溶性树脂的含量并无特别限制，相对于遮光膜总质量优选为1～30质量％，更优选为2～20质量％，进一步优选为5～15质量％。
碱溶性树脂可单独使用1种，也可并用2种以上。并用2种以上的碱溶性树脂的情况下，优选合计含量在上述范围内。
作为碱溶性树脂，可举出在分子中含有至少1个碱溶性基的树脂，例如聚羟基苯乙烯树脂、聚硅氧烷树脂、(甲基)丙烯酸树脂、(甲基)丙烯酰胺树脂、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酰胺共聚树脂、环氧系树脂及聚酰亚胺树脂等。
作为碱溶性树脂的具体例，可举出不饱和羧酸与烯属不饱和化合物的共聚物。
作为不饱和羧酸，并无特别限制，可举出(甲基)丙烯酸、巴豆酸及乙烯基乙酸等的一元羧酸类；衣康酸、马来酸及富马酸等二羧酸、或其酸酐；以及邻苯二甲酸单(2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯)等多元羧酸单酯类；等。
作为能够共聚的烯属不饱和化合物，可举出(甲基)丙烯酸甲酯等。并且，也能够使用日本特开2010-097210号公报的0027段及日本特开2015-068893号公报的0036～0037段中记载的化合物，上述内容引入本说明书中。
并且，可组合使用能够共聚的烯属不饱和化合物且在侧链含有烯属不饱和基团的化合物。作为烯属不饱和基团，优选(甲基)丙烯酸基。在侧链含有烯属不饱和基团的丙烯酸树脂例如使含有羧酸基的丙烯酸树脂的羧酸基与环氧丙基或含有脂环式环氧基的烯属不饱和化合物加成反应来获得。
作为碱溶性树脂，也优选含有固化性基的碱溶性树脂。
作为上述固化性基，可同样举出可以含有上述高分子化合物的固化性基，优选范围也相同。
作为含有固化性基的碱溶性树脂，优选在侧链具有固化性基的碱溶性树脂等。作为含有固化性基的碱溶性树脂，可举出DIANAL NR系列(Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.制造)、Photomer 6173(含有COOH的聚氨酯丙烯酸低聚物，Diamond Shamrock Co.,Ltd.制造)、VISCOAT R-264、KS RESIST 106(均为OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.制造)、CYCLOMER P系列(例如ACA230AA)、PLACCEL CF200系列(均为Daicel Corporation制造)、Ebecryl 3800(DAICEL-ALLNEX LTD.制造)及ACRYCURE RD-F8(NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.制造)等。
作为碱溶性树脂，例如能够使用日本特开昭59-044615号、日本特公昭54-034327号、日本特公昭58-012577号、日本特公昭54-025957号、日本特开昭54-092723号、日本特开昭59-053836号及日本特开昭59-071048号中记载的在侧链含有羧酸基的自由基聚合物；欧洲专利第993966号、欧洲专利第1204000号及日本特开2001-318463号等的各公报中记载的含有碱溶性基的缩醛改性聚乙烯醇系粘合剂树脂；聚吡咯啶酮；聚乙烯氧；醇可溶性尼龙及2,2-双-(4-羟基苯基)-丙烷与环氧氯丙烷的反应物即聚醚等；以及国际公开第2008/123097号中记载的聚酰亚胺树脂；等。
作为碱溶性树脂，例如也能够使用日本特开2016-075845号公报的0225～0245段中记载的化合物，上述内容引入本说明书中。
作为碱溶性树脂，也能够使用聚酰亚胺前体。聚酰亚胺前体是指使含有酸酐基的化合物与二胺化合物在40～100℃下进行加成聚合反应而获得的树脂。
作为聚酰亚胺前体，例如可举出含有由式(1)表示的重复单元的树脂。作为聚酰亚胺前体的结构，例如可举出由下述式(2)表示的酰胺酸结构、和含有由酰胺酸结构的一部分酰亚胺闭环而成的下述式(3)及所有酰亚胺闭环而成的下述式(4)表示的酰亚胺结构的聚酰亚胺前体。
另外，在本说明书中，有时将具有酰胺酸结构的聚酰亚胺前体称为聚酰胺酸。
[化学式7]
Figure BDA0002948638080000291
[化学式8]
Figure BDA0002948638080000292
[化学式9]
Figure BDA0002948638080000293
[化学式10]
Figure BDA0002948638080000294
在上述式(1)～(4)中，R1表示碳原子数2～22的4价的有机基团，R2表示碳原子数1～22的2价的有机基团，n表示1或2。
作为上述聚酰亚胺前体的具体例，例如可举出日本特开2008-106250号公报的0011～0031段中记载的化合物、日本特开2016-122101号公报的0022～0039段中记载的化合物及日本特开2016-068401号公报的0061～0092段中记载的化合物等，上述内容引入本说明书中。
从使用组合物获得的图案状的遮光膜的图案形状更加优异的方面考虑，也优选碱溶性树脂含有选自由聚酰亚胺树脂及聚酰亚胺前体组成的组中的至少1种。
作为含有碱溶性基的聚酰亚胺树脂，并无特别限制，能够使用含有公知的碱溶性基的聚酰亚胺树脂。作为上述聚酰亚胺树脂，例如可举出日本特开2014-137523号公报的0050段中记载的树脂、日本特开2015-187676号公报的0058中段记载的树脂及日本特开2014-106326号公报的0012～0013段中记载的树脂等，上述内容引入本说明书中。
(含有烯属不饱和基团的树脂)
遮光膜优选包含含有烯属不饱和基团的树脂。含有烯属不饱和基团的树脂可以为分散剂，也可以为碱溶性树脂。并且，也可以为除了分散剂或碱溶性树脂以外的树脂。
遮光膜中的含有烯属不饱和基团的树脂的含量的下限相对于遮光膜所含有的树脂的总质量优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为65质量％以上，尤其优选为85质量％以上。
遮光膜中的含有烯属不饱和基团的树脂的含量的上限相对于遮光膜所含有的树脂的总质量优选为100质量％以下。
含有烯属不饱和基团的树脂可单独使用1种，也可使用2种以上，使用2种以上的情况下，优选其合计含量在上述范围内。
另外，含有烯属不饱和基团的树脂表示在1分子中含有1个以上的烯属不饱和基团的树脂。
含有烯属不饱和基团的树脂的含量可以从原料的使用量计算。
并且，作为相对于树脂总质量的烯属不饱和基团的含量，并无特别限制，优选为0.001～5.00mmol/g，更优选为0.10～3.00mmol/g，进一步优选为0.26～2.50mmol/g。
另外，上述树脂总质量是指遮光膜所包含的树脂的合计质量，例如遮光膜包含含有烯属不饱和基团的树脂和不含有烯属不饱和基团的树脂的情况下，两者的合计质量相当于上述树脂的合计质量。
因此，上述烯属不饱和基团的含量表示相对于树脂总质量的含有烯属不饱和基团的树脂中的烯属不饱和基团的含量。
并且，树脂是指重均分子量为超过2000的成分。
在本说明书中，有时将烯属不饱和基团含量称为“C＝C价”。
在本说明书中，烯属不饱和基团含量(C＝C价)是指通过以下方法测量的值。另外，在合成含有烯属不饱和基团的树脂的情况下，可以根据原料的使用量计算来代替测量。
并且，在遮光膜含有多种树脂，且各树脂的C＝C价明确的情况下，可以根据各树脂的掺合比计算出作为遮光膜所含有的树脂总质量的C＝C价。
＜其他材料＞
遮光膜可以含有除了黑色色料及树脂以外的其他成分。
作为其他成分，例如，可以为除了黑色色料以外的其他颜料，关于其他颜料，可以为无机颜料，也可以为有机颜料。
作为无机颜料，并无特别限制，能够使用公知的无机颜料。
作为无机颜料的例子，例如可以举出锌白、铅白、锌钡白、氧化钛、氧化铬、氧化铁、沉淀性硫酸钡、重晶石粉、铅丹、氧化铁红、黄铅、锌黄(铬酸锌钾(zinc potassiumchromate)、四碱式铬酸锌(zinc tetroxy chromate))、群青蓝(ultramarin blue)、普鲁士蓝(Prussian blue)(亚铁氰化钾(potassium ferric ferrocyanide))、锆石灰(zircongrey)、镨黄(Praseodymium yellow)、铬钛黄、铬绿、孔雀绿、维多利亚绿(victoriagreen)、铁蓝(iron blue)(与普鲁士蓝无关)、钒锆蓝(vanadium zirconium blue)、铬锡红(chrometin pink)、锰红(manganese pink)及橙红(salmon pink)等。
无机颜料可实施有表面修饰处理。例如可举出利用具有硅基和烷基的表面处理剂实施了表面修饰处理的无机颜料，可举出“KTP-09”系列(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)等。
也能够使用具有红外线吸收性的颜料。
作为具有红外线吸收性的颜料，优选钨化合物及金属硼化物等。其中，从红外区域的波长中的遮光性优异的方面考虑，优选钨化合物。
这种颜料可并用2种以上，并且，可以与后述染料并用。为了调整色调，并提高所期望波长区域的遮光性，例如可举出对黑色、或具有红外线遮光性的颜料混合红色、绿色、黄色、橙色、紫色、及蓝色等彩色颜料或后述染料的方式。优选对具有红外线遮光性的颜料混合红色颜料或染料、或者紫色颜料或染料，更优选对具有红外线遮光性的颜料混合红色颜料。
进而，也可以添加后述红外线吸收剂。
作为有机颜料，可举出例如比色指数(C.I.)颜料黄1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等；
C.I.颜料橙2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等；
C.I.颜料红1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279、294(呫吨系、Organo Ultramarine，Bluish Red)等；
C.I.颜料绿7、10、36、37、58、59等；
C.I.颜料紫1、19、23、27、32、37、42等；
C.I.颜料蓝1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、29、60、64、66、79、80、87(单偶氮系)、88(次甲基/聚次甲基系)等；。
另外，颜料可单独使用1种，也可并用2种以上。
作为着色染料，例如除了R(红)、G(绿)及B(蓝)等彩色系的染料(彩色染料)以外，也能够使用日本特开2014-042375的0027～0200段中记载的着色剂。并且，能够使用黑色染料。
作为染料，例如能够使用日本特开昭64-090403号公报、日本特开昭64-091102号公报、日本特开平1-094301号公报、日本特开平6-011614号公报、日本特登2592207号、美国专利4808501号、美国专利5667920号、美国专利505950号说明书、日本特开平5-333207号公报、日本特开平6-035183号公报、日本特开平6-051115号公报及日本特开平6-194828号公报等中公开的色素。若作为化学结构予以区分，则能够使用吡唑偶氮化合物、吡咯亚甲基化合物、苯胺偶氮化合物、三苯甲烷化合物、蒽醌化合物、亚苄基化合物、氧杂菁(oxonol)化合物、吡唑并三唑偶氮化合物、吡啶酮偶氮化合物、花青化合物、啡噻嗪化合物或吡咯并吡唑甲亚胺化合物等。并且，作为染料，可使用色素多聚物。作为色素多聚物，可举出日本特开2011-213925号公报及日本特开2013-041097号公报中记载的化合物。并且，也可使用分子内具有聚合性基的聚合性染料，作为市售品，例如可举出Wako Pure ChemicalIndustries,Ltd.制造RDW系列。
作为其他成分，还可举出红外线吸收剂。
红外线吸收剂表示在红外区域(优选为波长650～1300nm)的波长区域具有吸收的化合物。作为红外线吸收剂，优选在波长675～900nm的波长区域具有极大吸收波长的化合物。
作为具有这种分光特性的着色剂，例如可以举出吡咯并吡咯化合物、铜化合物、花青化合物、酞菁化合物、亚铵(iminium)化合物、硫醇络合物系化合物、过渡金属氧化物系化合物、方酸(squarylium)化合物、萘酞菁化合物、夸特锐烯(quaterrylene)化合物、二硫醇金属络合物系化合物及克酮鎓(croconium)化合物等。
酞菁化合物、萘酞菁化合物、亚铵化合物、花青化合物、方酸化合物及克酮鎓(croconium)化合物可使用日本特开2010-111750号公报的0010～0081段中公开的化合物，该内容引入本说明书中。花青化合物例如能够参考“功能性色素，大河原信/松冈贤/北尾悌次郎/平嶋恒亮·著，Kodansha Scientific Ltd.”，该内容引入本申请说明书中。
作为具有上述分光特性的着色剂，可使用日本特开平07-164729号公报的0004～0016段中所公开的化合物和/或日本特开2002-146254号公报的0027～0062段中所公开的化合物、日本特开2011-164583号公报的0034～0067段中所公开的包括含有Cu和/或P的氧化物的微晶且数均凝聚粒径为5～200nm的近红外线吸收粒子。
作为在波长675～900nm的波长区域具有极大吸收的化合物，优选选自由花青化合物、吡咯并吡咯化合物、方酸化合物、酞菁化合物及萘酞菁化合物组成的组中的至少1种。
并且，优选红外线吸收剂为在25℃的水中溶解1质量％以上的化合物，更优选在25℃的水中溶解10质量％以上的化合物。若使用这种化合物，则耐溶剂性得到改善。
吡咯并吡咯化合物能够参考日本特开2010-222557号公报的0049～0062段，该内容引入本说明书中。花青化合物及方酸化合物能够参考国际公开第2014/088063号公报的0022～0063段、国际公开第2014/030628号公报的0053～0118段、日本特开2014-059550号公报的0028～0074段、国际公开第2012/169447号公报的0013～0091段、日本特开2015-176046号公报的0019～0033段、日本特开2014-063144号公报的0053～0099段、日本特开2014-052431号公报的0085～0150段、日本特开2014-044301号公报的0076～0124段、日本特开2012-008532号公报的0045～0078段、日本特开2015-172102号公报的0027～0067段、日本特开2015-172004号公报的0029～0067段、日本特开2015-040895号公报的0029～0085段、日本特开2014-126642号公报的0022～0036段、日本特开2014-148567号公报的0011～0017段、日本特开2015-157893号公报的0010～0025段、日本特开2014-095007号公报的0013～0026段、日本特开2014-080487号公报的0013～0047段及日本特开2013-227403号公报的0007～0028段等，该内容引入本说明书中。
遮光膜的制造方法并无特别限制，从本发明的效果更优异的方面考虑，遮光膜优选使用遮光膜形成用组合物(组合物)而形成。
优选遮光膜形成用组合物含有黑色色料、包含烯属不饱和基团的化合物及聚合引发剂。以下，对遮光膜形成用组合物中所含有的各种成分进行详细说明。
关于黑色色料的定义，如上述说明。
＜聚合性化合物＞
组合物优选含有聚合性化合物。在本说明书中，聚合性化合物是指受到后述聚合引发剂的作用而聚合的化合物，且是指与上述分散剂及碱溶性树脂不同的成分。
并且，聚合性化合物是指与后述含有环氧基的化合物不同的成分。
作为聚合性化合物在组合物中的含量，并无特别限制，相对于组合物的总固体成分优选为5～35质量％，更优选为10～30质量％，进一步优选为15～25质量％。聚合性化合物可单独使用1种，也可并用2种以上。并用2种以上的聚合性化合物的情况下，优选合计含量在上述范围内。
优选聚合性化合物是低分子化合物，其中低分子化合物是分子量2000以下的化合物。
优选聚合性化合物是包含含有烯属不饱和键的基团(以下，也简称为“烯属不饱和基团”)的化合物。
即，优选组合物包含含有烯属不饱和基团的低分子化合物作为聚合性化合物。
优选聚合性化合物含有1个以上的烯属不饱和键的化合物，更优选含有2个以上的化合物，进一步优选含有3个以上的化合物，尤其优选含有5个以上的化合物。上限例如为15个以下。作为烯属不饱和基团，例如可举出乙烯基、(甲基)烯丙基及(甲基)丙烯酰基等。
作为聚合性化合物，例如能够使用日本特开2008-260927号公报的0050段及日本特开2015-068893号公报的0040段中记载的化合物，上述内容引入本说明书中。
聚合性化合物例如可以为单体、预聚物、低聚物及它们的混合物以及这些多聚物等化学方式中的任一个。
优选聚合性化合物为3～15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，更优选为3～6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。
聚合性化合物还优选为含有1个以上的烯属不饱和基团，且在常压下具有100℃以上的沸点的化合物。例如，能够参考日本特开2013-029760号公报的0227段、日本特开2008-292970号公报的0254～0257段中记载的化合物，该内容引入本说明书中。
优选聚合性化合物是双季戊四醇三丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-330；Nippon Kayaku CO.,LTD.制造)、双季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-320；Nippon Kayaku CO.,LTD.制造)、双季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-310；Nippon Kayaku CO.,LTD.制造)、双季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，KAYARADDPHA；Nippon Kayaku CO.,LTD.制造、A-DPH-12E；Shin-Nakamura Chemical CO.,LTD制造)及这些(甲基)丙烯酰基经由乙二醇残基或丙二醇残基的结构(例如，由SartomercompanyInc.市售的SR454、SR499)。也能够使用这些低聚物类型。并且，可以使用NK Ester A-TMMT(季戊四醇四丙烯酸酯，Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、KAYARAD RP-1040、KAYARAD DPEA-12LT、KAYARAD DPHA LT、KAYARAD RP-3060及KAYARAD DPEA-12(NipponKayaku Co.,Ltd.制造)等。
以下示出优选聚合性化合物的方式。
聚合性化合物可具有羧酸基、磺酸基及磷酸基等酸基。作为含有酸基的聚合性化合物，优选脂肪族聚羟基化合物与不饱和羧酸的酯，更优选使非芳香族羧酸酐与脂肪族聚羟基化合物的未反应的羟基进行反应来使其具有酸基的聚合性化合物，该酯中，进一步优选脂肪族聚羟基化合物为季戊四醇和/或双季戊四醇的化合物。作为市售品，例如可以举出TOAGOSEI CO.,LTD.制造的ARONIXTO-2349、M-305、M-510及M-520等。
作为含有酸基的聚合性化合物的酸值，优选为0.1～40mgKOH/g，更优选为5～30mgKOH/g。若聚合性化合物的酸值为0.1mgKOH/g以上，则显影溶解特性良好，若为40mgKOH/g以下，则在制造和/或处理上有利。进而，光聚合性能良好且固化性优异。
关于聚合性化合物，含有己内酯结构的化合物也为优选方式。
作为含有己内酯结构的化合物，只要在分子内含有己内酯结构，则并无特别限定，例如，可举出使三羟甲基乙烷、二-三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、二-三羟甲基丙烷、季戊四醇、双季戊四醇、三季戊四醇、甘油、双甘油或三羟甲基三聚氰胺等多元醇与(甲基)丙烯酸及ε-己内酯进行酯化而获得的、ε-己内酯改性多官能(甲基)丙烯酸酯。其中，优选含有由下述式(Z-1)表示的己内酯结构的化合物。
[化学式11]
Figure BDA0002948638080000361
在式(Z-1)中，6个R全部为由下述式(Z-2)表示的基团，或6个R中的1～5个为由下述式(Z-2)表示的基团，剩余为由下述式(Z-3)表示的基团。
[化学式12]
Figure BDA0002948638080000371
在式(Z-2)中，R1表示氢原子或甲基，m表示1或2的数，“*”表示连接键。
[化学式13]
Figure BDA0002948638080000372
在式(Z-3)中，R1表示氢原子或甲基，“*”表示连接键。
含有己内酯结构的聚合性化合物例如由Nippon Kayaku Co.,Ltd.作为KAY ARADDPCA系列而市售，DPCA-20(上述式(Z-1)～(Z-3)中，m＝1，由式(Z-2)表示的基团的数＝2，R1全部为氢原子的化合物)、DPCA-30(同式，m＝1，由式(Z-2)表示的基团的数＝3，R1全部为氢原子的化合物)、DPCA-60(同式，m＝1，由式(Z-2)表示的基团的数＝6，R1全部为氢原子的化合物)、DPCA-120(同式中，m＝2，由式(Z-2)表示的基团的数＝6，R1全部为氢原子的化合物)等。
聚合性化合物还能够使用由下述式(Z-4)或(Z-5)表示的化合物。
[化学式14]
Figure BDA0002948638080000373
在式(Z-4)及(Z-5)中，E分别独立地表示-((CH2)yCH2O)-或((CH2)yCH(CH3)O)-，y分别独立地表示0～10的整数，X分别独立地表示(甲基)丙烯酰基、氢原子或羧酸基。
在式(Z-4)中，(甲基)丙烯酰基的总计为3个或4个，m分别独立地表示0～10的整数，各m的总计为0～40的整数。
在式(Z-5)中，(甲基)丙烯酰基的总计为5个或6个，n分别独立地表示0～10的整数，各n的总计为0～60的整数。
在式(Z-4)中，m优选为0～6的整数，更优选为0～4的整数。
并且，各m的总计优选为2～40的整数，更优选为2～16的整数，进一步优选为4～8的整数。
在式(Z-5)中，n优选为0～6的整数，更优选为0～4的整数。
并且，各n的总计优选为3～60的整数，更优选为3～24的整数，进一步优选为6～12的整数。
并且，式(Z-4)或式(Z-5)中的-((CH2)yCH2O)-或((CH2)yCH(CH3)O)-优选为氧原子侧的末端键合于X的方式。
由式(Z-4)或式(Z-5)表示的化合物可单独使用1种，也可并用2种以上。尤其优选，在式(Z-5)中6个X全部为丙烯酰基的方式、在式(Z-5)中6个X全部为丙烯酰基的化合物与6个X中至少1个为氢原子的化合物的混合物的方式。设为这种结构，能够更加提高显影性。
并且，作为由式(Z-4)或式(Z-5)表示的化合物在聚合性化合物中的总含量，优选为20质量％以上，更优选为50质量％以上。
在由式(Z-4)或式(Z-5)表示的化合物中，更优选季戊四醇衍生物和/或双季戊四醇衍生物。
并且，聚合性化合物可以含有卡多(Cardo)骨架。
作为含有卡多骨架的聚合性化合物，优选具有9,9-二芳基芴骨架的聚合性化合物。
作为含有卡多骨架的聚合性化合物，并无限定，例如，可举出Oncoat EX系列(NAGASE&CO.,LTD制造)及Ogsol(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造)等。
也优选聚合性化合物是含有异三聚氰酸骨架作为中心核的化合物。作为这种聚合性化合物的例子，例如可举出NK EsterA-9300(Shin Nakamura Chemic al Co.,Ltd.制造)。
聚合性化合物的烯属不饱和基团的含量(是指将聚合性化合物中的烯属不饱和基团数除以聚合性化合物的分子量(g/mol)的值)优选为5.0mmol/g以上。上限并无特别限制，通常为20.0mmol/g以下。
另外，组合物含有多种聚合性化合物，且各自的双键当量不相同的情况下，优选将全聚合性化合物中的各聚合性化合物的质量比与各聚合性化合物的双键当量之积分别合计的值在上述范围内。
＜聚合引发剂＞
组合物优选含有聚合引发剂。
作为聚合引发剂，并无特别限制，能够使用公知的聚合引发剂。作为聚合引发剂，例如可举出光聚合引发剂及热聚合引发剂等，优选光聚合引发剂。另外，作为聚合引发剂，优选所谓自由基聚合引发剂。
作为聚合引发剂在组合物中的含量，并无特别限制，相对于组合物的总固体成分优选为0.5～20质量％，更优选为1.0～10质量％，进一步优选为1.5～8质量％。聚合引发剂可单独使用1种，也可并用2种以上。并用2种以上的聚合引发剂的情况下，优选合计含量在上述范围内。
＜热聚合引发剂＞
作为热聚合引发剂，例如可举出2,2’-偶氮双异丁腈(AIBN)、3-羧基丙腈、偶氮双丙二腈及二甲基-(2,2’)-偶氮双(2-丙酸甲酯)[V-601]等偶氮化合物、以及过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰及过硫酸钾等有机过氧化物。
作为聚合引发剂的具体例，例如可举出加藤清视著“紫外线固化系统”(综合技术中心有限公司发行：平成元年)的第65～148页中记载的聚合引发剂等。
＜光聚合引发剂＞
优选上述组合物含有光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，只要能够使聚合性化合物的聚合开始，则并无特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如优选从紫外线区域对可见光区域具有感光性的光聚合引发剂。并且，聚合引发剂可以为与被光激发的增敏剂产生某些作用，并生成活性自由基的活性剂，也可以为根据聚合性化合物的种类而引发阳离子聚合的引发剂。
并且，优选光聚合引发剂含有至少1种在300～800nm(更优选为330～500nm。)的范围内具有至少50摩尔吸光系数的化合物。
作为光聚合引发剂在组合物中的含量，并无特别限制，相对于组合物的总固体成分优选为0.5～20质量％，更优选为1.0～10质量％，进一步优选为1.5～8质量％。光聚合引发剂可单独使用1种，也可并用2种以上。并用2种以上的聚合引发剂的情况下，优选合计含量在上述范围内。
作为光聚合引发剂，例如，可举出卤化烃衍生物(例如，含有三嗪骨架的化合物、含有噁二唑骨架的化合物等)、酰基氧化膦等酰基膦化合物、六芳基联咪唑、肟衍生物等肟化合物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓盐、氨基苯乙酮化合物及羟基苯乙酮等。
作为光聚合引发剂的具体例，例如，能够参考日本特开2013-029760号公报的0265～0268段，该内容引入本说明书中。
作为光聚合引发剂，更具体而言，例如还能够使用日本特开平10-291969号公报中记载的氨基苯乙酮系引发剂及日本专利第4225898号公报中记载的酰基氧化膦系引发剂。
作为羟基苯乙酮化合物，例如能够使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959及IRGACURE-127(商品名：均为BASF公司制造)。
作为氨基苯乙酮化合物，例如能够使用市售品IRGACURE-907、IRGACURE-369或IRGACURE-379EG(商品名：均为BASF公司制造)。作为氨基苯乙酮化合物，也能够使用吸收波长与波长365nm或波长405nm等长波光源匹配的日本特开2009-191179公报中记载的化合物。
作为酰基膦化合物，能够使用市售品IRGACURE-819或IRGACURE-TPO(商品名：均为BASF公司制造)。
(肟化合物)
作为光聚合引发剂，更优选肟酯系聚合引发剂(肟化合物)。尤其肟化合物的灵敏度高且聚合效率高，并容易将遮光颜料在组合物中的含量设高，因此优选。
作为肟化合物的具体例，可使用日本特开2001-233842号公报记载的化合物、日本特开2000-080068号公报记载的化合物或日本特开2006-342166号公报记载的化合物。
作为肟化合物，例如可举出3-苯甲酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚胺基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。
并且，也可以举出J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653-1660、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156-162、光聚合物科学与技术杂志(Journal of Photopolymer Science andTechnology)(1995年)pp.202-232、日本特开2000-066385号公报记载的化合物、日本特开2000-080068号公报、日本特表2004-534797号公报及日本特开2006-342166号公报的各公报中记载的化合物等。
市售品中，还优选IRGACURE-OXE01(BASF公司制造)、IRGACURE-OXE02(BASF公司制造)、IRGACURE-OXE03(BASF公司制造)或IRGACURE-OXE04(BASF公司制造)。并且，还能够使用TR-PBG-304(常州强力电子新材料有限公司制造)、Adeka Arkls NCI-831、Adeka ArklsNCI-930(ADEKA CORPORATION制造)或N-1919(含咔唑·肟酯骨架光引发剂(ADEKACORPORATION制造))。
作为除上述记载以外的肟化合物，可以使用在咔唑N位上连结有肟的日本特表2009-519904号公报中记载的化合物；在二苯甲酮部位导入有杂(hetero)取代基的美国专利第7626957号公报中记载的化合物；在色素部位导入有硝基的日本特开2010-015025号公报及美国专利公开2009-292039号中记载的化合物；国际公开第2009-131189号公报中记载的酮肟化合物；在同一分子内含有三嗪骨架和肟骨架的美国专利7556910号公报中记载的化合物；在405nm处具有极大吸收且对g射线光源具有良好的灵敏度的日本特开2009-221114号公报记载的化合物；等。
例如能够参考日本特开2013-029760号公报的0274～0275段，该内容引入本说明书中。
具体而言，作为肟化合物，优选由下述式(OX-1)表示的化合物。另外，肟化合物的N-O键可以是(E)体的肟化合物，也可以是(Z)体的肟化合物，还可以是(E)体与(Z)体的混合物。
[化学式15]
Figure BDA0002948638080000421
在式(OX-1)中，R及B分别独立地表示1价的取代基，A表示2价的有机基团，Ar表示芳基。
在式(OX-1)中，作为由R表示的1价的取代基，优选1价的非金属原子团。
作为1价的非金属原子团，可举出烷基、芳基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环基、烷硫基羰基及芳硫基羰基等。并且，这些基团可具有1个以上的取代基。并且，前述取代基可进一步被其他取代基取代。
作为取代基，可举出卤素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、酰氧基、酰基、烷基及芳基等。
在式(OX-1)中，作为由B表示的1价的取代基，优选芳基、杂环基、芳基羰基或杂环羰基，优选芳基或杂环基。这些基团可具有1个以上的取代基。作为取代基，能够例示前述取代基。
在式(OX-1)中，作为由A表示的2价的有机基团，优选碳原子数1～12的亚烷基、亚环烷基或亚炔基。这些基团可具有1个以上的取代基。作为取代基，能够例示前述取代基。
作为光聚合引发剂，还能够使用含有氟原子的肟化合物。作为含有氟原子的肟化合物的具体例，可举出日本特开2010-262028号公报记载的化合物；日本特表2014-500852号公报记载的化合物24、36～40；及日本特开2013-164471号公报记载的化合物(C-3)；等。该内容引入本说明书中。
作为光聚合引发剂，还能够使用由下述通式(1)～(4)表示的化合物。
[化学式16]
Figure BDA0002948638080000431
[化学式17]
Figure BDA0002948638080000432
在式(1)中，R1及R2分别独立地表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数4～20的脂环式烃基、碳原子数6～30的芳基或碳原子数7～30的芳烷基，R1及R2为苯基的情况下，苯基可彼此键合而形成芴基，R3及R4分别独立地表示氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～30的芳基、碳原子数7～30的芳烷基或碳原子数4～20的杂环基，X表示直接键合或羰基。
在式(2)中，R1、R2、R3及R4的含义与式(1)中的R1、R2、R3及R4相同，R5表示-R6、-OR6、-SR6、-COR6、-CONR6R6、-NR6COR6、-OCOR6、-COOR6、-SCOR6、-OCSR6、-COSR6、-CSOR6、-CN、卤素原子或羟基，R6表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～30的芳基、碳原子数7～30的芳烷基或碳原子数4～20的杂环基，X表示直接键合或羰基，a表示0～4的整数。
在式(3)中，R1表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数4～20的脂环式烃基、碳原子数6～30的芳基或碳原子数7～30的芳烷基，R3及R4分别独立地表示氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～30的芳基、碳原子数7～30的芳烷基或碳原子数4～20的杂环基，X表示直接键合或羰基。
在式(4)中，R1、R3及R4与式(3)中的R1、R3及R4的含义相同，R5表示-R6、-OR6、-SR6、-COR6、-CONR6R6、-NR6COR6、-OCOR6、-COOR6、-SCOR6、-OCSR6、-COSR6、-CSOR6、-CN、卤素原子或羟基，R6表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～30的芳基、碳原子数7～30的芳烷基或碳原子数4～20的杂环基，X表示直接键合或羰基，a表示0～4的整数。
在上述式(1)及式(2)中，R1及R2优选分别独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基、环己基或苯基。R3优选为甲基、乙基、苯基、甲苯基或二甲苯基。
R4优选为碳原子数1～6的烷基或苯基。R5优选为甲基、乙基、苯基、甲苯基或萘基。X优选直接键合。
并且，在上述式(3)及(4)中，R1优选分别独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基、环己基或苯基。R3优选为甲基、乙基、苯基、甲苯基或二甲苯基。R4优选为碳原子数1～6的烷基或苯基。R5优选为甲基、乙基、苯基、甲苯基或萘基。X优选直接键合。
作为由式(1)及式(2)表示的化合物的具体例，例如，可举出日本特开2014-137466号公报的0076～0079段中记载的化合物。该内容引入本说明书中。
以下示出可在上述组合物中优选使用的肟化合物的具体例。在以下所示的肟化合物中，更优选由通式(C-13)表示的肟化合物。
并且，作为肟化合物，例如也能够使用国际公开第2015-036910号的Table1中记载的化合物，上述内容引入本说明书中。
[化学式18]
Figure BDA0002948638080000451
[化学式19]
Figure BDA0002948638080000461
优选肟化合物在350～500nm的波长区域具有极大吸收波长，更优选在360～480nm的波长区域具有极大吸收波长，进一步优选365nm及405nm的波长的吸光度高。
从灵敏度的观点考虑，肟化合物的365nm或405nm中的摩尔吸光系数优选为1,000～300,000，更优选为2,000～300,000，进一步优选为5,000～200,000。
化合物的摩尔吸光系数能够使用公知的方法，例如优选通过紫外可见分光光度计(Varian Medical Systems,Inc.制造Cary-5spectrophotometer：分光光度计)，使用乙酸乙酯在0.01g/L的浓度下进行测量。
光聚合引发剂可根据需要组合2种以上来使用。
并且，作为光聚合引发剂，例如也能够使用日本特开第2008-260927号公报的0052段、日本特开第2010-097210号公报的0033～0037段、日本特开第2015-068893号公报的0044段中记载的化合物，上述内容引入本说明书中。
在上述组合物中，可以含有除了黑色色料、聚合性化合物及聚合引发剂以外的其他成分。
以下，对其他成分进行详细说明。
组合物可以含有树脂。关于树脂的定义，如上述说明。
＜具有环氧基的化合物＞
组合物可以包含含有环氧基的化合物。
含有环氧基的化合物可举出在1分子内具有1个以上的环氧基的化合物，优选在1分子内具有2个以上的环氧基的化合物。优选环氧基在1分子内具有1～100个。上限例如可以为10个以下，也可以为5个以下。优选下限为2个以上。
另外，含有环氧基的化合物是指与上述的分散剂、碱溶性树脂及聚合性化合物不同的成分。
含有环氧基的化合物的环氧当量(＝含有环氧基的化合物的分子量/环氧基数)优选为500g/当量以下，更优选为100～400g/当量，进一步优选为100～300g/当量。
含有环氧基的化合物可以为低分子化合物(例如，分子量小于2000)，也可以为高分子化合物(macromolecule)(例如分子量2000以上，在聚合物的情况下，重均分子量为2000以上)。含有环氧基的化合物的重均分子量优选为200～100000，更优选为500～50000。重均分子量的上限更优选为10000以下，进一步优选为5000以下，尤其优选为3000以下。
含有环氧基的化合物可以使用市售品。例如可举出EHPE3150(DaicelCorporation制造)、及EPICLON N-695(DIC Corporation制造)等。并且，含有环氧基的化合物可以使用日本特开2013-011869号公报的0034～0036段、日本特开2014-043556号公报的0147～0156段及日本特开2014-089408号公报的0085～0092段中记载的化合物。将这些内容引入本说明书中。
含有环氧基的化合物在上述组合物中的含量相对于组合物中的总固体成分优选为0.1～10质量％，更优选为0.5～8质量％，进一步优选为1.0～6质量％。
含有环氧基的化合物可单独使用1种，也可使用2种以上。上述组合物含有2种以上的含有环氧基的化合物的情况下，优选其合计含量成为上述范围。
＜紫外线吸收剂＞
组合物可以含有紫外线吸收剂。由此，能够使遮光膜的图案的形状成为更优异的(精细的)形状。
作为紫外线吸收剂，能够使用水杨酸盐系、二苯甲酮系、苯并三唑系、经取代的丙烯腈系及三嗪系的紫外线吸收剂。作为这些具体例，能够使用日本特开2012-068418号公报的0137～0142段(对应的US2012/0068292的0251～0254段)的化合物，能够援用这些内容并引入本说明书中。
此外，也可优选地使用二乙基氨基-苯基磺酰基系紫外线吸收剂(DAITO CHEMICALCO.,LTD.制造，商品名：UV-503)等。
作为紫外线吸收剂，可举出日本特开2012-032556号公报的0134～0148段中例示的化合物。
紫外线吸收剂的含量相对于组合物的总固体成分，优选为0.001～15质量％，更优选为0.01～10质量％，进一步优选为0.1～5质量％。
＜硅烷偶联剂(密合剂)＞
组合物可以含有硅烷偶联剂。
在基板上形成遮光膜时，硅烷偶联剂作为提高基板和遮光膜之间的密合性的密合剂而发挥功能。
硅烷偶联剂是指在分子中含有水解性基团及其他的官能团的化合物。另外，烷氧基等水解性基团与硅原子键合。
水解性基团是指，与硅原子直接键合，并且可通过水解反应和/或稠合反应生成硅氧烷键的取代基。作为水解性基团，例如，可举出卤素原子、烷氧基、酰氧基及烯氧基。水解性基团含有碳原子的情况下，其碳原子数优选为6以下，更优选为4以下。尤其，优选碳原子数4以下的烷氧基或碳原子数4以下的烯氧基。
并且，在基板上形成遮光膜的情况下，为了提高基板与遮光膜之间的密合性，优选硅烷偶联剂不包含氟原子及硅原子(其中，键合有水解性基团的硅原子除外)，期望不包含氟原子、硅原子(其中，键合有水解性基团的硅原子除外)、被硅原子取代的亚烷基、碳原子数8以上的直链状烷基及碳原子数3以上的支链状烷基。
硅烷偶联剂可以含有(甲基)丙烯酰基等烯属不饱和基团。含有烯属不饱和基团的情况下，其个数优选为1～10个，更优选为4～8个。另外，含有烯属不饱和基团的硅烷偶联剂(例如含有水解性基和烯属不饱和基团的分子量2000以下的化合物)不符合上述聚合性化合物。
硅烷偶联剂在上述组合物中的含量相对于组合物中的总固体成分优选为0.1～10质量％，更优选为0.5～8质量％，进一步优选为1.0～6质量％。
上述组合物可单独包含1种硅烷偶联剂，也可包含2种以上。组合物含有2种以上的硅烷偶联剂的情况下，其总计在上述范围内即可。
作为硅烷偶合剂，例如可举出3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷及乙烯基三乙氧基硅烷等。
＜表面活性剂＞
组合物可以含有表面活性剂。表面活性剂有助于提高组合物的涂布性。
上述组合物含有表面活性剂的情况下，作为表面活性剂的含量，相对于组合物的总固体成分，优选为0.001～2.0质量％，更优选为0.005～0.5质量％，进一步优选为0.01～0.1质量％。
表面活性剂可单独使用1种，也可并用2种以上。表面活性剂并用2种以上的情况下，合计量优选在上述范围内。
作为表面活性剂，例如可举出氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂及硅酮系表面活性剂等。
例如，若组合物含有氟系表面活性剂，则更加提高组合物的液特性(尤其流动性)。即，利用含有氟系表面活性剂的组合物来形成膜的情况下，使被涂布面与涂布液之间的表面张力下降来改善对被涂布面的润湿性，并提高被涂布面的涂布性。因此，即使以少量的液量形成了数μm左右的薄膜的情况下，也在可更优选地形成厚度不均较小的均匀厚度的膜这一方面有效。
氟系表面活性剂中的氟含有率优选为3～40质量％，更优选为5～30质量％，进一步优选为7～25质量％。氟含有率在该范围内的氟系表面活性剂在组合物层的厚度的均匀性和/或省液性方面有效，在组合物中的溶解性也良好。
作为氟系表面活性剂，例如可举出MEGAFACE F171、MEGAFACE F172、MEGAFACEF173、MEGAFACE F176、MEGAFACE F177、MEGAFACE F141、MEGAFACE F142、MEGAFACE F143、MEGAFACE F144、MEGAFACE R30、MEGAFACE F437、MEGAFACE F475、MEGAFACE F479、MEGAFACEF482、MEGAFACE F554及MEGAFACE F780(以上，DIC CORPORATION制造)；FLUORAD FC430、FLUORAD FC431及FLUORAD FC171(以上，Sumitomo 3M Limited制造)；SURFLON S-382、SURFLON SC-101、SURFLON SC-103、SURFLON SC-104、SURFLON SC-105、SURFLON SC-1068、SURFLON SC-381、SURFLON SC-383、SURFLON S-393及SURFLON KH-40(以上，Asahi GlassCo.,Ltd.制造)；以及PF636、PF656、PF6320、PF6520、及PF7002(OMNOVA Solutions Inc.制造)等。
也能够使用嵌段聚合物作为氟系表面活性剂。
＜溶剂＞
组合物可以含有溶剂。
作为溶剂，并无特别限制，能够使用公知的溶剂。
作为溶剂在组合物中的含量，并无特别限制，组合物的固体成分优选成为10～90质量％的量，更优选成为10～40质量％的量，进一步优选成为15～35质量％的量。
溶剂可单独使用1种，也可并用2种以上。并用2种以上的溶剂的情况下，优选将组合物的总固体成分调整成上述范围内。
作为溶剂，例如可举出水及有机溶剂。
作为有机溶剂，例如可举出丙酮、甲乙酮、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙酰丙酮、环己酮、环戊酮、二丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基乙氧基乙醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙基醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、3-甲氧基乙酸丙酯、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、N-甲基-2-吡咯啶酮及乳酸乙酯等，但并不限定于这些。
＜水＞
组合物含有水的情况下，其含量相对于组合物的总质量，优选为0.001～5.0质量％，更优选为0.01～3.0质量％，进一步优选为0.1～1.0质量％。
其中，水的含量相对于组合物的总质量若在3.0质量％以下(更优选为1.0质量％以下)，则容易抑制由水解等引起的组合物中的成分的经时粘度稳定性的劣化，若在0.01质量％以上(优选为0.1质量％以上)，则容易改善经时沉淀稳定性。
组合物还可含有除了上述成分以外的其他任意成分。例如，可举出聚合抑制剂、增敏剂、共增敏剂、交联剂、固化促进剂、填料、热固化促进剂、增塑剂、稀释剂及感脂化剂等，进而，还可根据需要添加对基板表面的密合促进剂及其他助剂类(例如，导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、抗氧化剂、香料、表面张力调整剂及链转移剂等)等公知的添加剂。
这些成分例如能够参考日本特开2012-003225号公报的0183～0228段(对应的美国专利申请公开第2013/0034812号说明书的0237～0309段)、日本特开2008-250074号公报的0101～0102段、0103～0104段、0107～0109段及日本特开2013-195480号公报的0159～0184段等的记载，这些内容引入本申请说明书中。
＜组合物的制造方法＞
关于组合物，优选设为首先制造分散黑色色料而成的分散液，再将所获得的分散液与其他成分混合而成的组合物。
上述分散液能够通过公知的混合方法(例如利用搅拌机、均质机、高压乳化装置、湿式粉碎机或湿式分散机等的混合方法)混合上述的各成分来制备。
制备组合物时，可以一次性掺合各成分，也可以将各成分分别在溶剂中溶解或分散之后依次掺合。并且，掺合时的投入顺序及作业条件并没有特别限制。
以去除异物及减少缺陷等为目的，优选利用过滤器过滤组合物。作为过滤器，只要是一直以来用于过滤用途等的过滤器，则能够无特别限定地使用。例如，可举出基于PTFE(聚四氟乙烯)等的氟树脂、尼龙等的聚酰胺系树脂、以及聚乙烯及聚丙烯(PP)等聚烯烃系树脂(包含高密度、超高分子量)等的过滤器。这些原材料中，优选聚丙烯(包含高密度聚丙烯)、尼龙。
过滤器的孔径优选为0.1～7.0μm，更优选为0.2～2.5μm，进一步优选为0.2～1.5μm，尤其优选为0.3～0.7μm。若设在该范围，则能够抑制颜料(包含遮光颜料)的过滤堵塞，并且能够可靠地去除颜料所包含的杂质及凝聚物等微细的异物。
使用过滤器时，可组合不同的过滤器。此时，通过第1过滤器的过滤可只进行1次，也可进行2次以上。组合不同的过滤器来进行2次以上的过滤的情况下，第2次之后的孔径与第1次过滤的孔径相比，优选相同或更大。并且，可以在上述范围内组合不同孔径的第1过滤器。这里的孔径能够参考过滤器厂商的标称值。作为市售的过滤器，例如能够从由NIHONPALL LTD.、Toyo Roshi Kaisha,Ltd.、Nihon Entegris K.K.(原Nippon Microlith Co.,Ltd.)及KITZ MICROFILTER CORPORATION等提供的各种过滤器中选择。
第2过滤器能够使用由与上述第1过滤器相同的材料等形成的过滤器。第2的过滤器的孔径优选为0.2～10.0μm，更优选为0.2～7.0μm，进一步优选为0.3～6.0μm。
优选组合物不包括金属、含有卤的金属盐、酸、碱等杂质。作为这些材料所包含的杂质的含量，优选为1ppm以下，更优选为1ppb以下，进一步优选为100ppt以下，尤其优选为10ppt以下，最优选为实质上不包含(为测量装置的检测界限以下)。
另外，上述杂质能够通过感应耦合等离子体质谱分析装置(AgilentTechnologies,Inc.制造，Agilent 7500cs型)进行测量。
＜遮光膜的制造方法＞
固化使用上述组合物而形成的组合物层(组合物层)来获得图案状的遮光膜。
作为遮光膜的制造方法，并无特别限制，优选含有以下工序。
·组合物层形成工序
·曝光工序
·显影工序
以下，对各工序进行说明。
(组合物层形成工序)
在组合物层形成工序中，在曝光之前对支承体等之上赋予组合物来形成组合物的层(组合物层)。
作为对支承体上的组合物的适用方法，能够适用狭缝涂布法、喷墨法、旋转涂布法、流延涂布法、辊涂法或网版印刷法等各种涂布方法。作为组合物层的膜厚，优选为0.1～10μm，更优选为0.2～5μm，进一步优选为1～4μm。
涂布于支承体上的组合物层的干燥(预先烘烤处理)可以利用热板、烤箱等在50～140℃的温度下进行10～300秒。
(曝光工序)
在曝光工序中，对在组合物层形成工序中形成的组合物层照射活化光线或放射线来进行曝光，并固化经光照射的组合物层。
作为光照射的方法，并无特别限制，优选经由具有图案状的开口部的光掩膜进行光照射。
优选曝光通过照射放射线来进行，作为曝光时能够使用的放射线，尤其优选g射线、h射线及i射线等紫外线，作为光源，优选高压水银灯。优选照射强度为5～1500mJ/cm2，更优选为10～1000mJ/cm2。
另外，组合物含有热聚合引发剂的情况下，可以在上述曝光工序中加热组合物层。作为加热温度，并无特别限制，优选为80～250℃。并且，作为加热时间，并无特别限制，优选30～300秒。
另外，在曝光工序中，加热组合物层的情况下，可兼作后述后加热工序。换言之，在曝光工序中，加热组合物层的情况下，遮光膜的制造方法可以不包括后加热工序。
(显影工序)
显影工序是对曝光后的上述组合物层进行显影来形成遮光膜的工序。通过本工序，洗脱曝光工序中的未照射光部分的组合物层，仅留下光固化的部分来获得图案状的遮光膜。
在显影工序中使用的显影液的种类并无特别限制，但期望是碱显影液。
作为显影温度，例如为20～30℃。
显影时间例如为20～90秒。为了进一步去除残渣，近年来也有实施120～180秒的情况。进而，为了更加提高残渣去除性，有时也反复进行数次每隔60秒甩去显影液，进一步重新供给显影液的工序。
作为碱显影液，优选将碱性化合物在水中溶解至浓度成为0.001～10质量％(优选为0.01～5质量％)来制备的碱性水溶液。
碱性化合物例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化芐基三甲基铵、胆碱、吡咯、哌啶及1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯等(其中，优选有机碱。)。
另外，用作碱显影液的情况下，通常在显影后利用水实施清洗处理。
(后烘烤)
曝光工序之后，优选进行加热处理(后烘烤)。后烘烤是用于完全固化的显影后的加热处理。优选其加热温度为240℃以下，更优选为220℃以下。下限无特别限制，若考虑高效且有效的处理，则优选为50℃以上，更优选为100℃以上。
后烘烤可以利用热板、对流烤箱(热风循环式干燥机)或高频加热机等加热机构，以连续式或分批式进行。
上述后烘烤优选在低氧浓度的氛围下进行。优选其氧浓度在19体积％以下，更优选在15体积％以下，进一步优选在10体积％以下，尤其优选在7体积％以下，最优选在3体积％以下。下限无特别限制，实际上为10体积ppm以上。
并且，可以变更为基于上述加热的后烘烤，并通过UV(紫外线)照射而使其完全固化。
此时，优选上述组合物进一步含有UV固化剂。优选UV固化剂是能够在为了基于通常的i射线曝光的光刻工序而添加的聚合引发剂的曝光波长即比365nm短波的波长下固化的UV固化剂。作为UV固化剂，例如可举出Ciba IRGACURE 2959(商品名)。在进行UV照射的情况下，优选组合物层在波长340nm以下固化的材料。波长的下限值无特别限制，通常为220nm以上。并且，优选UV照射的曝光量为100～5000mJ，更优选为300～4000mJ，进一步优选为800～3500mJ。该UV固化工序在光刻工序之后进行，但由于更有效地进行低温固化，因此优选。优选曝光光源使用无臭氧水银灯。
本发明基本上如上构成。以上，对本发明的车辆用前照灯单元进行了详细的说明，但本发明并不限定于上述的实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内，当然可以进行各种改良或变更。
实施例
以下，举出实施例对本发明的特征进行进一步具体说明。以下的实施例所示的材料、试剂、物质量和其比率及操作等，只要不脱离本发明的宗旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下的实施例。
＜分散液的制备＞
混合以下的表1所示的原料而制备了分散液。
具体而言，首先，将黑色色料、分散剂及溶剂通过搅拌机(IKA公司制造EUROSTAR)混合15分钟，而获得了上述成分的混合液。接着，对所获得的混合液，使用SHINMARUENTERPRISES CORPORATION制造的NPM-Pilot，在下述条件下进行分散处理来获得了分散液(遮光颜料分散液)。
＜分散条件＞
·微珠径：φ0.05mm，(NIKKATO CORPORATION制造氧化锆珠，YTZ)
·微珠填充率：65体积％
·研磨圆周速度：10m/sec
·分离器圆周速度：13m/s
·进行分散处理的混合液量：15kg
·循环流量(泵供给量)：90kg/hour
·处理液温度：19～21℃
·冷却水：水
·处理时间：22小时左右
[表1]
Figure BDA0002948638080000551
(黑色色料)
作为黑色色料，使用了以下的Pig-1～Pig-7。
(Pig-1)：以WO2016/129324号的0191段的方法制备的钛黑
(Pig-2)：Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co.,Ltd.制造钛黑13M
(Pig-3)：JAPAN NEW METALS CO.,LTD.制造氮化钒VN-O
(Pig-4)：JAPAN NEW METALS CO.,LTD.制造氮化铌NbN-O
(Pig-5)：以日本特开2017-222559号公报的(实施例1)的方法制备的氮化锆
(Pig-6)：Mitsubishi Chemical Corporation制造炭黑#2300
(Pig-7)：BASF公司制造IRGAPHOR BLACK
(分散剂)
作为分散剂，使用了以下结构的分散剂H-1～H-4。各结构单元中记载的数值是指各结构单元相对于所有结构单元的摩尔％。
另外，H-1～H-4均符合接枝聚合物即树脂。
·H-1(酸值＝100mgKOH/g，重均分子量＝39,000)
[化学式20]
Figure BDA0002948638080000561
·H-2(酸值＝60mgKOH/g，重均分子量＝33,000)
[化学式21]
Figure BDA0002948638080000562
·H-3(酸值＝100mgKOH/g，重均分子量＝19,000)
[化学式22]
Figure BDA0002948638080000563
·H-4(酸值＝33mgKOH/g，重均分子量＝23,000)
[化学式23]
Figure BDA0002948638080000571
(溶剂)
·PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯
·PGME：丙二醇单甲醚
·乙酸丁酯
·环戊酮
＜遮光膜形成用组合物的制备＞
接着，在上述分散液中，以表2所示的比率混合下述表2所示的成分来获得了实施例及比较例的各组合物(遮光膜形成用组合物)。
将所获得的组合物的组成示于表2。
Figure BDA0002948638080000581
(碱溶性树脂)
作为碱溶性树脂，使用了以下树脂C-1～C-3。以下示出各树脂C-1～C-3的结构。各结构单元中记载的数值是指各结构单元相对于所有结构单元的摩尔％。
·C-1(酸值＝110mgKOH/g，重均分子量＝33,000)
[化学式24]
Figure BDA0002948638080000591
·C-2(酸值＝70mgKOH/g，重均分子量＝11,000)
[化学式25]
Figure BDA0002948638080000592
·C-3(酸值＝210mgKOH/g，重均分子量＝11,500)
[化学式26]
Figure BDA0002948638080000593
(聚合性化合物)
作为聚合性化合物，使用了以下D-1～D-2。
·D-1：KAYARAD DPHA(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)
·D-2：NK Ester A-TMMT(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)
D-1是在1分子内含有4个烯属不饱和基团的化合物，D-2是在1分子内含有5个烯属不饱和基团的化合物与含有6个的化合物的混合物。
(聚合引发剂(光聚合引发剂))
作为聚合引发剂(光聚合引发剂)，使用了以下E-1～E-4。
·E-1：IRGACURE OXE02(肟化合物)(BASF公司制造)
·E-2：IRGACURE OXE03(由上述通式(C-13)表示的肟化合物)(BASF公司制造)
·E-3：IRGACURE 369(BASF公司制造)
·E-4：IRGACURE 379(BASF公司制造)
(溶剂)
·PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯
·环戊酮
(其他成分)
作为其他成分，使用了以下G-1～G-4。
·G-1：EHPE 3150(Daicel Corporation制造)(含有环氧基的化合物)
·G-2：EPICLON N-695(DIC Corporation制造)(含有环氧基的化合物)
·G-3：下述化合物(紫外线吸收剂(二乙氨基-苯磺酰系紫外线吸收剂))
[化学式27]
Figure BDA0002948638080000601
·G-4：下述化合物(密合剂)
[化学式28]
Figure BDA0002948638080000611
(表面活性剂)
·W-1：以下的化合物(重均分子量＝15000)。
其中，在下述式中，左侧的结构单元和右侧的结构单元的含量分别为62质量％、38质量％。
[化学式29]
Figure BDA0002948638080000612
使用所获得的组合物供于以下试验及评价。
＜UW/FT评价，表面粗糙度＞
在表3及表4中记载的厚度的玻璃基材上，使用上述中获得的实施例及比较例的组合物，以所获得的遮光膜的膜厚成为表3及表4的方式调整转速，通过旋涂法进行涂布，之后在热板上，在110℃下加热了2分钟而获得了组合物层。
以获得300μm/300μm的线与空间的方式，使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造)，经由掩模对所获得的组合物层进行了曝光(曝光量400mJ/cm2)。
接着，利用显影装置(Tokyo Electron Limited制造Act-8)来进行了显影处理。显影液使用四甲基氢氧化铵(TMAH)0.3％水溶液，在23℃下经表3及表4所示的时间进行了旋覆浸没式显影。之后，通过使用了纯水的旋转喷淋进行冲洗，获得了300μm/300μm的线与空间。
通过扫描型电子显微镜(SEM)(S-4800、Hitachi High-TechnologiesCorporation制造)观察所获得的图案截面，测量底切宽度(UW)，基于这些结果计算出UW/FT。
并且，使用原子力显微镜(DimensionFastScan AFM(Bruker制造))测量所获得的遮光膜的表面粗糙度(Ra)，示于表3及表4。
＜配光特性＞
在表3及表4中记载的厚度的玻璃基材上，使用上述中获得的实施例及比较例的组合物，以所获得的遮光膜的膜厚成为表3及表4的方式调整转速，通过旋涂法进行涂布，之后在热板上，在110℃下加热了2分钟而获得了组合物层。
以获得图2所示的图案的遮光膜的方式，使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造)，经由掩模对所获得的组合物层进行了曝光(曝光量1000mJ/cm2)。
接着，利用显影装置(Tokyo Electron Limited制造Act-8)来进行了显影处理。显影液使用四甲基氢氧化铵(TMAH)0.3％水溶液，在23℃下经表3及表4所示的时间进行了旋覆浸没式显影。之后，通过使用了纯水的旋转喷淋进行冲洗，获得了规定的图案的遮光膜。
关于配光特性，使20名测试人员站在相同的位置，使用在上述中制造的不照射光的图案的遮光膜制作前照灯，使20名测试人员目视光，并将光的强弱以1.“强烈地感觉到光”，2.“稍微强烈地感觉到光”，3.“较弱地感觉到光”这三阶段进行了评价。测试人员越强烈地感觉到光，意味着越刺眼。
评价基准如下。
A：测试人员20名中，没有判定为“强烈地感觉到光”的测试人员，判定为“较弱地感觉到光”的测试人员为18名以上。
B：测试人员20名中，没有判定为“强烈地感觉到光”的测试人员，判定为“较弱地感觉到光”的测试人员为16～17名。
C：测试人员20名中，没有判定为“强烈地感觉到光”的测试人员，判定为“较弱地感觉到光”的测试人员为15名以下。
D：测试人员20名中，判定为“强烈地感觉到光”的测试人员为1～2名，判定为“较弱地感觉到光”的测试人员为15名以下。
E：测试人员20名中，判定为“强烈地感觉到光”的测试人员为3名以上，判定为“较弱地感觉到光”的测试人员为15名以下。
＜最低OD值＞
在10cm见方的表3及表4中记载的厚度的玻璃板(EagleXG，Corning公司制造)上，使用在上述中获得的实施例及比较例的组合物，以所获得的遮光膜的膜厚成为表3及表4的方式调整转速，通过旋涂法进行涂布，之后在热板上，在110℃下加热2分钟而获得了组合物层。
使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造)，对所获得的组合物层的整个面进行了曝光(曝光量1000mJ/cm2)。
针对所获得的含有遮光膜的基板，通过分光光度计U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation制造)测量相对于波长400～700nm的光的OD值，将值最低的OD值示于表3及表4。OD值越大，遮光膜越具有优异的遮光性。
＜耐光性评价＞
以所获得的遮光膜的膜厚成为表3及表4的方式，使用旋涂机将所获得的组合物涂布在玻璃基材上，使用110℃的热板进行2分钟加热处理(预先烘烤处理)，获得了组合物层。
接着，使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造)，以365nm的波长光为400mJ/cm2，经由具有2cm×2cm的图案的掩模对组合物层进行了曝光。
接着，使用显影装置(Tokyo Electron Limited制造Act-8)进行了显影处理。显影液使用四甲基氢氧化铵(TMAH)0.3％水溶液，在23℃下，以表3及表4中记载的时间进行了旋覆浸没式显影。之后，通过使用了纯水的旋转喷淋进行冲洗，在玻璃基材上形成了2cm×2cm图案。
之后，进行使用了热板的加热处理(后烘干：220℃/5分)，获得了2cm×2cm的图案状遮光膜。
使用Suga Test Instruments Co.,Ltd.制造的超级氙灯耐候试验机SX75，对所形成的带2cm×2cm的图案状遮光膜的玻璃基材，以照度10万勒克斯照射了500小时。利用U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation制造)分别测量了处理前后的波长400～700nm中OD值。调查处理前后的OD值的变化，基于显示最大的变动率的波长下的变动率，对耐光性进行了评价。
根据下式求出对各波长的光的变动率。
变动率(％)＝(|处理前的OD值-处理后OD值|)/处理前的OD值×100
在下述判定基准中，若为A～C，则为实际使用上没有问题的等级。
A：变动率为0％以上且小于3％
B：变动率为3％以上且小于5％
C：变动率为5％以上且小于10％
D：变动率为10％以上且小于20％
E：变动率为20％以上
＜耐湿分光稳定性＞
使用Yamato Scientific co.,ltd.制造的恒温恒湿机(EHS-221M)，在温度85℃、相对湿度85％的气氛中，对以与上述＜耐光性评价＞同样的顺序形成的带2cm×2cm的图案状遮光膜的玻璃基材实施了1000小时的静置处理。利用U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation制造)分别测量了处理前后的波长400～700nm中OD值。
调查处理前后的OD值的变化，基于以显示最大变动率的波长下的变动率，对耐湿性(耐湿分光稳定性)进行了评价。
根据下式求出对各波长的光的变动率。
变动率(％)＝(|处理前的OD值-处理后OD值|)/处理前的OD值×100
在下述判定基准中，若为A～C，则为实际使用上没有问题的等级。
A：变动率为0％以上且小于3％
B：变动率为3％以上且小于5％
C：变动率为5％以上且小于10％
D：变动率为10％以上
＜耐湿剥离抑制性＞
使用Yamato Scientific co.,ltd.制造的恒温恒湿机(EHS-221M)，在温度85℃、相对湿度85％的气氛中，对以与上述＜UW/FT评价，表面粗糙度＞同样的顺序形成的带线状遮光膜的玻璃基材分别静置了750小时、1000小时、1500小时。
利用扫描型电子显微镜(SEM)(S-4800、Hitachi High-TechnologiesCorporation制造)分别观察耐湿试验后的遮光膜的截面，以下述判定基准观察了有无剥离。
A：在1500小时静置时刻无剥离
B：在1000小时静置时刻无剥离，而在1500小时静置时刻产生了剥离
C：在750小时静置时刻无剥离，而在1000小时静置时刻产生了剥离
D：在750小时静置时刻产生了剥离
Figure BDA0002948638080000661
Figure BDA0002948638080000671
如表3及表4所示，若为本发明的车辆用前照灯单元及遮光膜，则可获得所期望的效果。
其中，根据实施例1和实施例2的比较，树脂具有烯属不饱和基团的情况下，效果更优异。
并且，根据实施例3～实施例6的比较，使用肟化合物作为聚合引发剂的情况下，效果更优异。
并且，根据实施例3和实施例7及实施例8的比较，使用含有环氧基的化合物的情况下，效果更优异。
并且，根据实施例3和实施例10的比较，使用密合剂的情况下，效果更优异。并且，根据实施例15～实施例20的比较，OD值为2.5以上(优选为3.0以上)的情况下，效果更优异。
并且，根据实施例21～实施例31的比较，UW/FT为-2.0～2.0(优选为-1.5～1.5)的情况下，效果更优异。
并且，根据实施例32～实施例37的比较，使用氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌或氮氧化铌作为黑色色料的情况下，效果更优异。
在实施例4中，不添加实施组合物-4的表面活性剂W-1而同样进行了评价，其结果，与实施例4的结果相同。
关于实施例41，在实施例3中，将实施组合物-3的碱溶性树脂C-2(质量份2.5)变更为C-2(质量份1.2)/C-3(质量份1.3)而同样进行了评价。结果，表面粗糙度(Ra)为78nm，配光特性及耐光性为A，除此以外，与实施例3的结果相同。
关于实施例42，在实施例3中，将实施组合物-3的碱溶性树脂C-2变更为碱溶性树脂C-3而同样进行了评价。结果，表面粗糙度(Ra)为229nm，配光特性及耐光性为A，除此以外，与实施例3的结果相同。
符号说明
10-车辆用前照灯单元，12-光源，14-遮光部，16-透镜，20-基体，22-遮光膜，22b-周缘部，23-开口部，30、32-配光图案，30a-边缘，31-区域，33-缺口部，FT-膜厚，UW-长度。

Claims (23)

1.一种车辆用前照灯单元，其具有：
光源；及
遮光部，遮挡从所述光源射出的光的至少一部分，
所述遮光部具有形成为遮挡从所述光源射出的光的至少一部分的图案状的遮光膜，
所述遮光膜含有黑色色料和树脂，
所述遮光膜在波长400nm～700nm的范围内的最低光学浓度为2.0以上，
将所述遮光膜的膜厚设为FT，将所述遮光膜的周缘部的厚度发生变化的区域的长度设为UW时，满足-2.5≤(UW/FT)≤2.5。
2.根据权利要求1所述的车辆用前照灯单元，其满足-2.0≤(UW/FT)≤2.0。
3.根据权利要求1或2所述的车辆用前照灯单元，其满足-1.5≤(UW/FT)≤1.5。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的车辆用前照灯单元，其中，所述最低光学浓度为3.0～6.0。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的车辆用前照灯单元，其中，所述黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、金属氮氧化物及金属氮化物组成的组中的至少一种。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的车辆用前照灯单元，其中，所述黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌及氮氧化铌组成的组中的至少一种。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的车辆用前照灯单元，其中，
所述遮光膜使用遮光膜形成用组合物而形成，
所述遮光膜形成用组合物含有所述黑色色料、聚合性化合物及聚合引发剂。
8.根据权利要求7所述的车辆用前照灯单元，其中，所述遮光膜形成用组合物还含有树脂。
9.根据权利要求8所述的车辆用前照灯单元，其中，所述树脂含有烯属不饱和基团。
10.根据权利要求7～9中任一项所述的车辆用前照灯单元，其中，所述聚合引发剂为肟化合物。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的车辆用前照灯单元，其中，所述遮光膜的表面粗糙度为10nm～250nm。
12.一种前照灯用遮光膜，其含有黑色色料和树脂，
在波长400nm～700nm的范围内的最低光学浓度为2.0以上，
将所述遮光膜的膜厚设为FT，将所述遮光膜的周缘部的厚度发生变化的区域的长度设为UW时，满足-2.5≤(UW/FT)≤2.5。
13.根据权利要求12所述的前照灯用遮光膜，其满足-2.0≤(UW/FT)≤2.0。
14.根据权利要求12或13所述的前照灯用遮光膜，其满足-1.5≤(UW/FT)≤1.5。
15.根据权利要求12～14中任一项所述的前照灯用遮光膜，其中，所述最低光学浓度为3.0～6.0。
16.根据权利要求12～15中任一项所述的前照灯用遮光膜，其中，所述黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、金属氮氧化物及金属氮化物组成的组中的至少一种。
17.根据权利要求12～16中任一项所述的前照灯用遮光膜，其中，所述黑色色料为选自由炭黑、二苯并呋喃酮系颜料、氮化钛、氮氧化钛、氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌及氮氧化铌组成的组中的至少一种。
18.根据权利要12～17中任一项所述的前照灯用遮光膜，其使用遮光膜形成用组合物而形成，
所述遮光膜形成用组合物含有所述黑色色料、包含烯属不饱和基团的化合物及聚合引发剂。
19.根据权利要求18所述的前照灯用遮光膜，其中，所述遮光膜形成用组合物还含有树脂。
20.根据权利要求19所述的前照灯用遮光膜，其中，所述树脂含有烯属不饱和基团。
21.根据权利要求13～20中任一项所述的前照灯用遮光膜，其中，所述聚合引发剂为肟化合物。
22.根据权利要求12～21中任一项所述的前照灯用遮光膜，其中，表面粗糙度为10nm～250nm。
23.一种权利要求12～22中任一项所述的前照灯用遮光膜的制造方法，其依次包括：
组合物层形成工序，使用含有黑色色料、包含烯属不饱和基团的化合物及聚合引发剂的遮光膜形成用组合物来形成组合物层；
曝光工序，对所述组合物层的一部分照射光化射线或放射线而进行曝光；及
显影工序，实施显影处理而形成遮光膜。
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