JP5849906B2 - 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 - Google Patents
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- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 title claims description 167
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 120
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 120
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 113
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 89
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 81
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 77
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 76
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 63
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 56
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 55
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 44
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 40
- -1 acryloxy group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 32
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 27
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 23
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 18
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 18
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 15
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 15
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 13
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 13
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 6
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 165
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 164
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 153
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 35
- 239000002585 base Substances 0.000 description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 22
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 21
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 16
- 230000006870 function Effects 0.000 description 15
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 15
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 13
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 description 12
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BKQXUNGELBDWLS-UHFFFAOYSA-N 9,9-diphenylfluorene Chemical group C1=CC=CC=C1C1(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 BKQXUNGELBDWLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 6
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 239000013538 functional additive Substances 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N [SiH4].N=C=O Chemical class [SiH4].N=C=O NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N silyl prop-2-enoate Chemical class [SiH3]OC(=O)C=C GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 2
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N indophenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1N=C1C=CC(=O)C=C1 RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N julolidine Chemical compound C1CCC2=CC=CC3=C2N1CCC3 DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- LGVVXCFQNUGKKQ-UHFFFAOYSA-N methanol;2-methoxyethyl acetate Chemical compound OC.COCCOC(C)=O LGVVXCFQNUGKKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTFRVOUYHSTUJC-UHFFFAOYSA-N 3-aminosilylpropan-1-amine Chemical class N[SiH2]CCCN OTFRVOUYHSTUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRUDMHNAMZFNEK-UHFFFAOYSA-N 3-iodo-4-methylaniline Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1I RRUDMHNAMZFNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOFUWJNBAQJABO-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxyjulolidine Chemical compound C1CCN2CCCC3=C2C1=CC=C3O FOFUWJNBAQJABO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical class ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000001880 Sexual dysfunction Diseases 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-enone Chemical compound O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- ZVIBKFLSSJVORZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane;3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C.CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C ZVIBKFLSSJVORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- TXIYCNRKHPXJMW-UHFFFAOYSA-N nickel;1-octyl-2-(2-octylphenyl)sulfanylbenzene Chemical compound [Ni].CCCCCCCCC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1CCCCCCCC TXIYCNRKHPXJMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 125000005824 oxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
[1]ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面上にガラス基板側から順に下地層および近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタであって、
前記近赤外線吸収層は、透明樹脂と近赤外線吸収色素を含有する層であり、
前記下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である近赤外線吸収フィルタ。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。
[3]前記近赤外線吸収層の膜厚が0.5〜100μmである[1]または[2]に記載の近赤外線吸収フィルタ。
[4]前記ガラス基板がソーダライムガラスからなる[1]〜[3]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[6]前記透明樹脂がフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂である[1]〜[5]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[7]前記近赤外線吸収色素は、屈折率(n20d)が1.500未満の色素用溶媒に溶解して測定される波長域400〜1000nmの光の吸収スペクトルにおいて、ピーク波長が695〜720nmの領域にあり、半値全幅が60nm以下であり、かつ前記ピーク波長における吸光度を1として算出される630nmにおける吸光度と前記ピーク波長における吸光度の差を、630nmと前記ピーク波長との波長差で除した値が0.010〜0.050である最大吸収ピークを有する、近赤外線吸収色素(B1)を含有し、前記透明樹脂は、屈折率(n20d)が1.54以上である[1]〜[6]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基))を示す。
R1とR2、R2とR5、およびR1とR3は、それぞれ独立して、互いに連結して窒素原子と共に員数が5または6のそれぞれ複素環A、複素環B、および複素環Cを形成していてもよい。ただし、式(F1)は、複素環A、複素環B、および複素環Cから選ばれる少なくとも1以上の環構造を有する。
複素環Aが形成される場合のR1とR2は、これらが結合した2価の基−Q−としてアルキレン基、またはアルキレンオキシ基を示す。
複素環Bが形成される場合のR2とR5、および複素環Cが形成される場合のR1とR3は、これらが結合したそれぞれ2価の基−X1−Y1−および−X2−Y2−(窒素に結合する側がX1およびX2)として、X1およびX2がそれぞれ下記式(1x)または(2x)で示される基であり、Y1およびY2がそれぞれ下記式(1y)〜(5y)から選ばれるいずれかで示される基である。X1およびX2が、それぞれ下記式(2x)で示される基の場合、Y1およびY2はそれぞれ単結合であってもよい。
R7、R8、R9、R4、R6、R21〜R27、複素環を形成していない場合のR1〜R3、およびR5は、これらのうちの他のいずれかと互いに結合して5員環または6員環を形成してもよい。R21とR26、R21とR27は直接結合してもよい。
複素環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。複素環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。
[10]さらに、前記近赤外線吸収層のガラス基板側と反対側の面上に誘電体多層膜を有する[1]〜[9]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[11]被写体側または光源側から入射する光の光軸上にレンズ、[1]〜[10]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像素子がその順に配置された固体撮像装置。
[近赤外線吸収フィルタ]
本発明の近赤外線吸収フィルタは、ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面上にガラス基板側から順に以下の構成の下地層および近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタである。
上記下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。
ガラス基板1としては、可視波長領域(450〜600nm)の光を、近赤外線吸収層3と組み合わせて近赤外線吸収フィルタ10Aとした際にその機能を果たせる程度に十分に、透過するものであれば、ガラスの種類は特に限定されるものではない。ガラスの材質としては、特に限定されず、通常のソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げられる。さらに、紫外領域および/または近赤外線領域の波長に対して吸収特性を有する、例えば、フツリン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラス等にCuO等を添加した吸収型のガラスであってもよい。
下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。
<酸化ケイ素成分(M1)>
酸化ケイ素成分(M1)は、近赤外線吸収層が含有する透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物からなる。
(式(S11)中、R31は、末端に透明樹脂が有する反応性基と反応性を有する官能基をもつ炭素数1〜10の1価の有機基を、R32は炭素数1〜6の1価の炭化水素基を、nは0または1の整数を、X31は互い同一であっても異なってもよい加水分解性基を、それぞれ示す。)
酸化ケイ素成分(M2)は、4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物からなる。
なお、4官能の加水分解性ケイ素化合物とは、ケイ素原子に4個の加水分解性基が結合した化合物をいう。また、上記シランカップリング剤(S1)は、通常、化合物(S11)に示されるようにケイ素原子に結合する加水分解性基の数は2個または3個であり、2官能または3官能の加水分解性ケイ素化合物である。
Si(X41)4 …(S21)
上記式(S21)中、X41は、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のオキシアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアシロキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子またはイソシアネート基を示す。4個のX41は、互いに同一であっても異なってもよい。これらのうちでも、X41は、塩素原子、炭素原子数1〜4のアルコキシ基またはイソシアネート基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基またはイソシアネート基がより好ましい。また、4個のX41が同一であることが好ましい。
酸化ケイ素成分(M3)は、酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物である。
酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解共縮合物とは、上記と同様に、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒などの触媒存在下に、これらの各成分を構成する上記各加水分解性シラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物が有する加水分解性基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成するオリゴマー(多量体)をいう。ここでは、得られる部分加水分解縮合物は、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性シラン化合物(S2)由来成分の両方を必ず含むことから、部分加水分解共縮合物である。この部分加水分解共縮合物の縮合度(多量化度)は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。
シラノール基はガラス基板付近では、ガラス基板の表面の水酸基(ガラス基板−OH)と脱水縮合反応して、化学結合(ガラス基板−O−Si)を形成する。また、シランカップリング剤(S1)が有する上記官能基は、透明樹脂が有する反応性基と反応することで、近赤外線吸収層付近では透明樹脂との化学結合が得られる。
下地層形成用組成物を用いて下地層2を形成する方法としては、加水分解性ケイ素化合物を含む被膜形成用組成物における公知の方法が挙げられる。例えば、下地層形成用組成物をガラス基板1上に塗工後、大気中または窒素雰囲気中において、必要に応じて乾燥した後、硬化させることで、下地層2を形成できる。
近赤外線吸収層3は、ガラス基板1の主面上に形成された下地層2の上記特性を有する表面上に形成される。近赤外線吸収層3は本発明の近赤外線吸収フィルタが近赤外線吸収フィルタとして機能するための主要構成要素であり、透明樹脂(A)と近赤外線吸収色素(B)を含有する層である。具体的には、近赤外線吸収色素が透明樹脂中に分散した層である。
近赤外線吸収層3が含有する透明樹脂(A)は、近赤外線吸収色素を均一に分散可能な透明な樹脂であれば、特に制限されない。透明樹脂(A)は、近赤外線吸収層とした際に優れた光学特性を発揮できる観点から、屈折率(n20d)が1.54以上の高屈折率の透明樹脂が好ましい。透明樹脂(A)の屈折率は、1.55以上がより好ましく、1.56以上が特に好ましい。透明樹脂(A)の屈折率の上限は特にないが、入手のしやすさ等から1.72程度が挙げられる。
なお、本明細書において屈折率(n20d)とは、20℃において波長589nmの光線を用いて測定される屈折率をいう。また、本明細書において特に断りのない限り、屈折率とは屈折率(n20d)をいう。
フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂の市販品としては、OKP4HT(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.64)、OKPH4(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.61)、B−OKP2(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.64)等が挙げられる。
近赤外線吸収層が含有する近赤外線吸収色素(B)は、可視波長領域(450〜600nm)の光を十分に透過し、近赤外波長領域(700〜1100nm)の光を十分に吸収する能力を有する近赤外線吸収色素であれば特に制限されない。
吸収スペクトル傾き=(1−B1b630)/(λmax(B1)−630)
(i)450〜600nmの可視光の透過率が70%以上である。
(ii)695〜720nmの波長域における光の透過率が10%以下である。
(iii)下式(1)で表わされる透過率の変化量Dが−0.8以下である。
D(%/nm)=[T700(%)−T630(%)]/[700(nm)−630(nm)] …(1)
式(1)中、T700は、上記近赤外線吸収層の透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、T630は、上記近赤外線吸収層の透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。なお、近赤外線吸収層の透過率は、紫外可視分光光度計を用いて測定できる。以下、近赤外線吸収層における上記式(1)で表わされる透過率の変化量Dを、単に透過率の変化量Dともいう。
以下、このようなNIR吸収色素(B1)およびNIR吸収色素(B2)のそれぞれについて説明し、続いてこれらを含むNIR吸収色素(B)について説明する。
NIR吸収色素(B1)としては、上記吸光特性を有する化合物であれば、特に制限されない。一般にNIR吸収色素として用いられるシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、ジイモニウム系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール系化合物、スクアリリウム系化合物等から、上記吸光特性を有する化合物を適宜選択して使用できる。これらのうちでも、特にスクアリリウム系化合物は、化学構造を調整することで上記NIR吸収色素(B1)として求められる波長帯で急峻な吸収傾きが得られるとともに、保存安定性および光に対する安定性を確保できる点で好ましい。
化合物(F1)は、スクアリリウム骨格の左右にベンゼン環が結合し、さらにベンゼン環の4位に窒素原子が結合するとともに該窒素原子を含む飽和複素環が形成された構造を有するスクアリリウム系化合物であり、上記NIR吸収色素(B1)としての吸光特性を有する化合物である。化合物(F1)においては、近赤外線吸収層を形成する際に用いる溶媒(以下、「ホスト溶媒」ということもある。)や透明樹脂への溶解性を高める等のその他の要求特性に応じて、以下の範囲でベンゼン環の置換基を適宜調整できる。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基))を示す。
複素環Aが形成される場合のR1とR2は、これらが結合した2価の基−Q−として、水素原子が炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基で置換されてもよいアルキレン基、またはアルキレンオキシ基を示す。
複素環Bが形成される場合のR2とR5、および複素環Cが形成される場合のR1とR3は、これらが結合したそれぞれ2価の基−X1−Y1−および−X2−Y2−(窒素に結合する側がX1およびX2)として、X1およびX2がそれぞれ下記式(1x)または(2x)で示される基であり、Y1およびY2がそれぞれ下記式(1y)〜(5y)から選ばれるいずれかで示される基である。X1およびX2が、それぞれ下記式(2x)で示される基の場合、Y1およびY2はそれぞれ単結合であってもよい。
複素環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。複素環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。
以下、複素環Aは単に環Aということもある。複素環B、複素環Cについても同様である。
なお、化合物(F1)は、上記一般式(F1)で示される構造の共鳴構造を有する式(F1−1)で示される化合物(F1−1)を含む。
化合物(F12)において、−NR7R8は、−NH−C(=O)−(CH2)m−CH3(mは、0〜19)、−NH−C(=O)−Ph−R10(R10は、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、または炭素数1〜3のパーフロロアルキル基を示す。)等が好ましい。
化合物(F12)として、例えば、下記式(F12−1)で示される化合物、下記式(F12−2)で示される化合物等が挙げられる。
化合物(F13)として、例えば、下記式(F13−1)で示される化合物、下記式(F13−2)で示される化合物等が挙げられる。
化合物(F11−1)等の化合物(F11)は、例えば、米国特許第5,543,086号明細書に記載された方法で製造できる。
また、化合物(F12)は、例えば、J.Org.Chem.2005,70(13),5164−5173に記載の方法で製造できる。
反応式(F3)によれば、1−メチル−2−ヨード−4−アミノベンゼンのアミノ基に所望の置換基R9を有するカルボン酸塩化物を反応させてアミドを形成する。次いで、ピロリジンを反応させ、さらに3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン(以下、スクアリン酸という。)と反応させることで、化合物(F12−1)、化合物(12−2)等が得られる。
反応式(F4)では、まず、8−ヒドロキシジュロリジンにトリフルオロメタンスルホン酸無水物(Tf2O)を反応させ、8−トリフルオロメタンスルホン酸ジュロリジンとし、次いで、これにベンジルアミンを反応させ8−ベンジルアミノジュロリジンを得、さらにこれを還元して8−アミノジュロリジンを製造する。次いで、8−アミノジュロリジンのアミノ基に所望の置換基R9(化合物(F13−1)の場合、−C7H15)を有するカルボン酸塩化物を反応させてジュロリジンの8位に−NH−C(=O)R9を有する化合物を得る。次いで、この化合物の2モルをスクアリン酸1モルと反応させることで、化合物(F13−1)、化合物(F13−2)等が得られる。
NIR吸収色素(B2)としては、上記吸光特性を有する、具体的には、その吸収スペクトルにおいて、λmax(B2)が720nm超800nm以下の波長領域にあり半値全幅が100nm以下である最大吸収ピークを有する化合物であれば、特に制限されない。一般にNIR吸収色素として用いられるシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、ジイモニウム系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール系化合物、スクアリリウム系化合物等から、上記吸光特性を有する化合物を適宜選択して使用できる。
NIR吸収色素(B2)として使用可能な、シアニン系化合物として、具体的には、下記一般式(F5)に示される化合物が挙げられる。
R11は、それぞれ独立して、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アルキルスルホン基、またはそのアニオン種を示す。
R12およびR13は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を示す。
Zは、PF6、ClO4、Rf−SO2、(Rf−SO2)2−N(Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されたアルキル基を示す。)、またはBF4を示す。
R14、R15、R16およびR17は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜6のアルキル基を示す。
nは1〜6の整数を示す。
化合物(F5)としてより具体的には、下記式(F51)で示される化合物、下記式(F52)で示される化合物等が例示される。
本実施形態に用いられるNIR吸収色素(B)は、好ましくは、NIR吸収色素(B1)を含有し、さらに好ましくは、これに加えてNIR吸収色素(B2)を含有する。
NIR吸収色素(B)における、NIR吸収色素(B1)の含有量は、NIR吸収色素(B)がNIR吸収色素(B1)以外に含有するNIR吸収色素(B)、例えばNIR吸収色素(B2)等の種類によるが、NIR吸収色素(B)の全量に対して3〜100質量%の範囲が好ましく、30〜100質量%がより好ましく、50〜100質量%が特に好ましい。NIR吸収色素(B1)の含有量を上記範囲とすることで、NIR吸収色素(B)は、これを含有する近赤外線吸収層に、可視波長帯域と近赤外波長帯域の境界領域で光の吸収曲線の傾斜を急峻とする特性、具体的には、透過率の変化量Dを−0.8以下とする特性の付与が可能となる。
NIR吸収色素(B2)の含有量を上記範囲とすることで、NIR吸収色素(B)は、NIR吸収色素(B1)による上記効果を阻害することなく、これを含有する近赤外線吸収層に、近赤外波長帯域の長波長側まで十分に吸光する特性を付与できる。
NIR吸収色素(B)のうちで最も長波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)をNIR吸収色素(By)、そのλmaxをλmax(By)とし、NIR吸収色素(B)のうちで最も短波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)をNIR吸収色素(Bx)、そのλmaxをλmax(Bx)として、10nm≦λmax(By)−λmax(Bx)≦40nmの関係が好ましい。
ガラス基板1の主面上に形成された下地層2上に近赤外線吸収層3を形成するには、まず、NIR吸収色素(B)、および透明樹脂(A)または透明樹脂(A)の原料成分と必要に応じて配合される他の成分を、溶媒に分散または溶解させて近赤外線吸収層形成用の塗工液を調製する。
紫外線吸収剤は、近赤外線吸収層に求められる他の物性を確保しながら、紫外線吸収剤がその機能を発揮できる量の範囲として、近赤外線吸収層形成用塗工液中の透明樹脂(A)の100質量部、または透明樹脂(A)の原料成分の100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.05〜5質量部の割合で配合できる。
また、透明樹脂(A)が熱硬化樹脂である場合に、通常、透明樹脂(A)の原料成分とともに用いられる。熱重合開始剤としては、アゾビス系、および過酸化物系の重合開始剤が挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。近赤外線吸収層形成用塗工液中の光または熱重合開始剤の含有量は、透明樹脂(A)の原料成分100質量部に対して、0.01〜10質量部が好ましく、0.5〜5質量部が特に好ましい。
誘電体多層膜4が反射防止膜である場合、誘電体多層膜(反射防止膜)4は、近赤外線吸収フィルタ10Bに入射した光の反射を防止することにより透過率を向上させ、効率良く入射光を利用する機能を有するもので、従来より知られる材料および方法により形成できる。
本発明の近赤外線吸収フィルタを製造するにあたっては、通常、実際に用いるサイズより大サイズで得られた母材をダイシングで切断して製品サイズに加工する。
図6は、図5に示す近赤外線吸収フィルタ10Cを製造する際のダイシング工程を模式的に示す図である。
ダイシング工程においては、まず、母材7の両主面上に保護フィルム6を貼付し、被切断物71として保持基材11上に固定する(図6(B))。次いで、この保護フィルム6付き母材7(被切断物71)をダイシングソーの切断テーブルに設置しダイシングブレードにより切断を行う。図6(C)は、ダイシングブレード12による切断時における被切断物71の断面図を示し、図7は、図6(C)に示す切断時のダイシングブレード12と切断テーブル14の動きを示す外観図である。
以下に図8を参照しながら、本発明の近赤外線吸収フィルタを撮像レンズと固体撮像素子との間に配置して用いた本発明の固体撮像装置の一例を説明する。
図8は、上記近赤外線吸収フィルタ10Cを用いた固体撮像装置の一例の要部を概略的に示す断面図である。この固体撮像装置20は、図8に示すように、固体撮像素子21と、その前面に以下の順に、近赤外線吸収フィルタ10Cと、撮像レンズ23を有し、さらにこれらを固定する筐体24とを有する。撮像レンズ23は、筐体24の内側にさらに設けられたレンズユニット22により固定されている。近赤外線吸収フィルタ10Cは固体撮像素子21側に第1の誘電体多層膜4が、撮像レンズ23側に第2の誘電体多層膜5が位置するように配置されている。固体撮像素子21と、撮像レンズ23とは、光軸Xに沿って配置されている。
(例1)
(各組成物の調製)
1−プロパノール9g、テトラエトキシシラン60μL(55.8mg)、KBM403(商品名、信越シリコーン社製、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)40μL(42.8mg)を混合し、酸を用いて加水分解・縮合させた下地層形成用組成物Aを調製した。
シクロヘキサノン85gにフルオレンポリエステル樹脂(B−OKP2;商品名、大阪ガスケミカル社製)の15g、上記NIR吸収色素(F13−2)の0.6gを溶解させ近赤外線吸収層形成用組成物を得た。なお、NIR吸収色素(F13−2)のジクロロメタン溶液の吸収スペクトルを図3に示す。
UVオゾン処理したソーダライムガラス基板(D263;商品名、SCHOTT社製、76×76mm、厚さ;0.3mm)上に、下地層形成用組成物Aをスピンコートにより塗布後、乾燥工程を経て下地層付きガラス基板を得た。
ガラス基板の下地層上にスピンコートにより近赤外線吸収層形成用組成物をスピンコートにより塗布後、乾燥工程を経て近赤外線吸収層を形成させ、約3μmの近赤外線吸収フィルタAを得た。
1−プロパノール9g、KBM403(商品名、信越シリコーン社製、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)100μL(107mg)を混合し、酸を用いて加水分解・縮合させた下地層形成用組成物Bを調製した。
例1において、下地層形成用組成物Aのかわりに下地層形成用組成物Bを用いた以外は同様にして近赤外線吸収フィルタBを製造した。
例1において、下地層を形成しなかった以外は同様にしてソーダライムガラス基板上に、直接、近赤外線吸収層が形成された近赤外線吸収フィルタCを製造した。
(例4)
例3において、ソーダライムガラス基板のかわりに無アルカリガラス基板(AN100;商品名、旭硝子社製、100×100mm、厚さ;0.7mm)用いた以外は同様にして近赤外線吸収フィルタDを製造した。
各例において物性等の評価は下記の方法で行った。
(膜厚)
下地層および近赤外線吸収層の膜厚は、Dektak 150(Bruker社製)で測定した。
近赤外線吸収フィルタおよび近赤外線吸収層について紫外可視分光光度計(島津製作所社製、SolidSpec−3700 DUV)を用いて透過スペクトル(透過率)を測定し、算出した。なお、近赤外線吸収層の透過率については、例3においてガラス基板のみの透過スペクトルの測定を行い、その差分として求めた。
密着性の試験は、近赤外線吸収フィルタの近赤外線吸収層表面にセロハンテープを貼付しクロスカット法(JIS K5600)により評価を行った。クロスカット100マスすべてに剥離が観察されない場合を「○」、1マスでも剥離が観察された場合を「×」とし、評価した。
85℃85%RHの条件下に近赤外線吸収フィルタを放置し、1000時間後にレーザー顕微鏡により近赤外線吸収フィルタの表面観察を実施し、点状欠点の有無を確認した。
点状欠点の全くないものを「○」、1か所でも点状欠点が観察された場合を「×」とし、評価した。結果を表5に示す。
20…固体撮像装置、21…固体撮像素子、22…レンズユニット、23…撮像レンズ、24…筐体
Claims (11)
- ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面上にガラス基板側から順に下地層および近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタであって、
前記近赤外線吸収層は、透明樹脂と近赤外線吸収色素を含有する層であり、
前記下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である近赤外線吸収フィルタ。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。 - 前記下地層の膜厚が30〜100nmである請求項1記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 前記近赤外線吸収層の膜厚が0.5〜100μmである請求項1または2に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 前記ガラス基板がソーダライムガラスからなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 前記透明樹脂が、それぞれフルオレン骨格を有する、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂およびポリエステル樹脂から選ばれる請求項1〜4のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 前記透明樹脂がフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂である請求項1〜5のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 前記近赤外線吸収色素は、屈折率(n20d)が1.50未満の色素用溶媒に溶解して測定される波長域400〜1000nmの光の吸収スペクトルにおいて、ピーク波長が695〜720nmの領域にあり、半値全幅が60nm以下であり、かつ前記ピーク波長における吸光度を1として算出される630nmにおける吸光度と前記ピーク波長における吸光度の差を、630nmと前記ピーク波長との波長差で除した値が0.010〜0.050である最大吸収ピークを有する、近赤外線吸収色素(B1)を含有し、前記透明樹脂は、屈折率(n20d)が1.54以上である請求項1〜6のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 前記近赤外線吸収色素(B1)が、下記一般式(F1)で示されるスクアリリウム系化合物から選択される少なくとも1種からなる、請求項7に記載の近赤外線吸収フィルタ。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基))を示す。
R1とR2、R2とR5、およびR1とR3は、それぞれ独立して、互いに連結して窒素原子と共に員数が5または6のそれぞれ複素環A、複素環B、および複素環Cを形成していてもよい。ただし、式(F1)は、複素環A、複素環B、および複素環Cから選ばれる少なくとも1以上の環構造を有する。
複素環Aが形成される場合のR1とR2は、これらが結合した2価の基−Q−としてアルキレン基、またはアルキレンオキシ基を示す。
複素環Bが形成される場合のR2とR5、および複素環Cが形成される場合のR1とR3は、これらが結合したそれぞれ2価の基−X1−Y1−および−X2−Y2−(窒素に結合する側がX1およびX2)として、X1およびX2がそれぞれ下記式(1x)または(2x)で示される基であり、Y1およびY2がそれぞれ下記式(1y)〜(5y)から選ばれるいずれかで示される基である。X1およびX2が、それぞれ下記式(2x)で示される基の場合、Y1およびY2はそれぞれ単結合であってもよい。
R7、R8、R9、R4、R6、R21〜R27、複素環を形成していない場合のR1〜R3、およびR5は、これらのうちの他のいずれかと互いに結合して5員環または6員環を形成してもよい。R21とR26、R21とR27は直接結合してもよい。
複素環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。複素環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。 - 前記シランカップリング剤(S1)が有する官能基がエポキシ基または(メタ)アクリロキシ基である請求項8に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- さらに、前記近赤外線吸収層のガラス基板側と反対側の面上に誘電体多層膜を有する請求項1〜9のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルタ。
- 被写体側または光源側から入射する光の光軸上にレンズ、請求項1〜10のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像素子がその順に配置された固体撮像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012195338A JP5849906B2 (ja) | 2012-09-05 | 2012-09-05 | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012195338A JP5849906B2 (ja) | 2012-09-05 | 2012-09-05 | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014052431A JP2014052431A (ja) | 2014-03-20 |
JP5849906B2 true JP5849906B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=50610984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012195338A Active JP5849906B2 (ja) | 2012-09-05 | 2012-09-05 | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5849906B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6761803B2 (ja) * | 2015-07-29 | 2020-09-30 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜、樹脂膜の製造方法、光学フィルタ、インク、装置、j会合体およびj会合体の製造方法 |
JP6705132B2 (ja) * | 2015-07-30 | 2020-06-03 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
JPWO2018123705A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2019-10-31 | Agc株式会社 | 紫外線透過フィルタ |
WO2019150908A1 (ja) * | 2018-02-01 | 2019-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
JP7200985B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2023-01-10 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 |
JP7016403B2 (ja) | 2018-03-13 | 2022-02-04 | 富士フイルム株式会社 | 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法 |
US20190369312A1 (en) * | 2018-06-04 | 2019-12-05 | Hoya Candeo Optronics Corporation | Optical filter and imaging apparatus |
JP7466275B2 (ja) * | 2018-06-04 | 2024-04-12 | Hoya株式会社 | 光学フィルターおよび撮像装置 |
JPWO2020049930A1 (ja) | 2018-09-07 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3809830B2 (ja) * | 2003-08-11 | 2006-08-16 | 東洋紡績株式会社 | 近赤外線吸収フィルター |
JP2005263988A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 |
JP4654685B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2011-03-23 | 東洋紡績株式会社 | 近赤外線吸収フィルムおよび近赤外線吸収フィルター |
WO2008078806A1 (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Fujifilm Corporation | 近赤外線吸収フィルタ及び近赤外線吸収フィルタの製造方法 |
JP2009031506A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Nof Corp | ディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材及びそれを用いた電子画像表示装置 |
JP2011213969A (ja) * | 2009-04-14 | 2011-10-27 | Nippon Shokubai Co Ltd | 近赤外線吸収粘着剤組成物 |
-
2012
- 2012-09-05 JP JP2012195338A patent/JP5849906B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014052431A (ja) | 2014-03-20 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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