WO2019150908A1 - 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents
硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019150908A1 WO2019150908A1 PCT/JP2019/000544 JP2019000544W WO2019150908A1 WO 2019150908 A1 WO2019150908 A1 WO 2019150908A1 JP 2019000544 W JP2019000544 W JP 2019000544W WO 2019150908 A1 WO2019150908 A1 WO 2019150908A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- compound
- formula
- curable composition
- infrared
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 286
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 119
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 53
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 21
- -1 cyanine compound Chemical class 0.000 claims description 140
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 74
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 69
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 47
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 44
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 26
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 118
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 118
- 239000010408 film Substances 0.000 description 105
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 description 63
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 43
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 42
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 41
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 30
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 29
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 28
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 28
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 24
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 23
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 15
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 12
- 125000002911 monocyclic heterocycle group Chemical group 0.000 description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 10
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 10
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 10
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 10
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 7
- 0 **=C(C(C(*)=C1*)=O)C1=O Chemical compound **=C(C(C(*)=C1*)=O)C1=O 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 6
- 239000001062 red colorant Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000001060 yellow colorant Substances 0.000 description 4
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Natural products OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000038 blue colorant Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N dicesium;dioxido(dioxo)tungsten Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-][W]([O-])(=O)=O VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000040 green colorant Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 3
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical class NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical class N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N methanide Chemical compound [CH3-] LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl iodide Chemical compound C[Si](C)(C)I CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUNYBPVXEKRSGY-ONEGZZNKSA-N (1e)-buta-1,3-dien-1-amine Chemical class N\C=C\C=C BUNYBPVXEKRSGY-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- YSWBUABBMRVQAC-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O YSWBUABBMRVQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSYVYZXKAVCUSY-UHFFFAOYSA-N 10h-[1,3]oxazolo[5,4-a]carbazole Chemical group C1=CC=C2NC3=C(OC=N4)C4=CC=C3C2=C1 PSYVYZXKAVCUSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USYCQABRSUEURP-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[f]benzimidazole Chemical group C1=CC=C2C=C(NC=N3)C3=CC2=C1 USYCQABRSUEURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWIYUCRMWCHYJR-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrolo[3,2-b]pyridine Chemical group C1=CC=C2NC=CC2=N1 XWIYUCRMWCHYJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHMLTIAYKIBGRK-UHFFFAOYSA-N 2-imino-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(=N)C(=O)C1=CC=CC=C1 BHMLTIAYKIBGRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 2h-dibenzofuran-1-one Chemical class O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CCC2=O JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCOCCC(=O)N(C)C LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)N(C)C LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 3h-imidazo[4,5-f]quinoxaline Chemical group N1=CC=NC2=C(NC=N3)C3=CC=C21 YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSPOOPLPCVGLD-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)OC(C(C=N)=O)C)C Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)OC(C(C=N)=O)C)C SYSPOOPLPCVGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 1
- DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002744 anti-aggregatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 238000013475 authorization Methods 0.000 description 1
- HYGWNUKOUCZBND-UHFFFAOYSA-N azanide Chemical compound [NH2-] HYGWNUKOUCZBND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclopenta-1,3-diene;iron Chemical compound [Fe].C1C=CC=C1.C1=CC=CC=C1 JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009510 drug design Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004845 glycidylamine epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBOYHAZRFJBUEL-UHFFFAOYSA-N n-[2-(4-benzhydryloxypiperidin-1-yl)ethyl]-3-hydroxy-5-(pyridin-3-ylmethoxy)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(=O)NCCN3CCC(CC3)OC(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)C(O)=CC2=C1OCC1=CC=CN=C1 ZBOYHAZRFJBUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMTGISUVUCWJIT-UHFFFAOYSA-N n-[3-[3-aminopropoxy(dimethoxy)silyl]propyl]-1-phenylprop-2-en-1-amine;hydrochloride Chemical compound Cl.NCCCO[Si](OC)(OC)CCCNC(C=C)C1=CC=CC=C1 RMTGISUVUCWJIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical class O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001061 orange colorant Substances 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N p-toluenesulfonic acid Substances CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920005606 polypropylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N quaterrylene Chemical group C12=C3C4=CC=C2C(C2=C56)=CC=C5C(C=57)=CC=CC7=CC=CC=5C6=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=CC2=CC=CC4=C21 GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003873 salicylate salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005556 structure-activity relationship Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(6-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCC[Si](OC)(OC)OC GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
- G03F7/0758—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds with silicon- containing groups in the side chains
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
- H01L27/14649—Infrared imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
- H04N5/33—Transforming infrared radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
Definitions
- the present invention relates to a curable composition containing a near infrared absorbing dye.
- the present invention also relates to a near-infrared absorber, a film, a near-infrared cut filter, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
- Video cameras, digital still cameras, mobile phones with camera functions, etc. use CCD (Charge Coupled Device) and CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor), which are solid-state imaging devices for color images. Since these solid-state imaging devices use a silicon photodiode having sensitivity to infrared rays in the light receiving portion thereof, it is necessary to perform visibility correction, and a near-infrared cut filter is often used for this.
- CCD Charge Coupled Device
- CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
- a squarylium compound is known as a near-infrared absorbing dye used for a near-infrared cut filter.
- Patent Document 1 describes that a near-infrared cut filter or the like is manufactured using a curable composition containing a specific squarylium compound.
- the film obtained using the curable composition containing the squarylium compound described in Patent Document 1 has insufficient light resistance and moisture resistance, and there is room for further improvement. I understood.
- an object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a film excellent in light resistance and moisture resistance. Moreover, it is providing the near-infrared absorber, a film
- a curable composition comprising a near-infrared absorbing dye having a group represented by the following formula (1) and a curable compound;
- G 1 represents NR G1 or an oxygen atom
- R G1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 2 represents a monovalent substituent having a steric parameter —Es ′ value of 2.4 or more.
- ⁇ 2> The curable composition according to ⁇ 1>, wherein G 2 is a tertiary alkyl group.
- a curable composition comprising a near-infrared absorbing dye having a group represented by the following formula (10) and a curable compound; In the formula, G 11 represents NR G11 or an oxygen atom, and R G11 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent; G 12 represents a tertiary alkyl group having more than 6 carbon atoms.
- ⁇ 4> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the near-infrared absorbing dye has a maximum absorption wavelength in a range of 650 to 1200 nm.
- ⁇ 5> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the near-infrared absorbing dye is a polymethine compound.
- the near-infrared absorbing dye is at least one selected from a cyanine compound, a squarylium compound, and a croconium compound.
- the near-infrared absorbing dye is a compound represented by the following formula (SQ1);
- As 1 and As 2 each independently represent an aryl group, a heterocyclic group, or a group represented by the formula (As-1), and at least one of As 1 and As 2 is represented by the formula (1).
- * represents a bond
- Rs 1 to Rs 3 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group
- As 3 represents a heterocyclic group
- n s1 represents an integer of 0 or more
- Rs 1 and Rs 2 may combine with each other to form a ring
- Rs 1 and As 3 may combine with each other to form a ring
- Rs 2 and Rs 3 may combine with each other to form a ring
- the plurality of Rs 2 and Rs 3 may be the same or different.
- the near-infrared absorbing dye is a compound represented by the following formula (Cy1);
- Y represents an anion;
- Rcy 1 to Rcy 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of Rcy 1 to Rcy 5 represents a group represented by the above formula (1);
- Two of Rcy 1 to Rcy 5 may be bonded to form a ring;
- n cy1 represents an integer of 0 to 2, and when n cy1 is 2, the plurality of Rcy 4 and Rcy 5 may be the same or different;
- Acy 1 and Acy 2 each independently represents an aryl group or a heterocyclic group.
- the near-infrared absorbing dye is a compound represented by the following formula (Cr1);
- Ac 1 and Ac 2 each independently represent an aryl group, a heterocyclic group, or a group represented by the formula (Ac-1), and at least one of Ac 1 and Ac 2 is represented by the formula (1).
- Rc 1 to Rc 3 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, Ac 3 represents a heterocyclic group, n c1 represents an integer of 0 or more; Rc 1 and Rc 2 may combine with each other to form a ring, Rc 1 and Ac 3 may combine with each other to form a ring, Rc 2 and Rc 3 may combine with each other to form a ring, When n c1 is 2 or more, the plurality of Rc 2 and Rc 3 may be the same or different.
- G 1 represents NR G1 or an oxygen atom
- R G1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 2 represents a monovalent substituent having a steric parameter —Es ′ value of 2.4 or more.
- ⁇ 11> A near-infrared absorber containing a near-infrared absorbing dye having a group represented by the following formula (10); In the formula, G 11 represents NR G11 or an oxygen atom, and R G11 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent; G 12 represents a tertiary alkyl group having more than 6 carbon atoms.
- G 11 represents NR G11 or an oxygen atom
- R G11 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 12 represents a tertiary alkyl group having more than 6 carbon atoms.
- ⁇ 12> A film obtained from the curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
- ⁇ 13> A near-infrared cut filter having the film according to ⁇ 12>.
- ⁇ 14> A solid-state imaging device having the film according to ⁇ 12>.
- ⁇ 15> An image display device having the film according to ⁇ 12>.
- ⁇ 16>
- a curable composition capable of forming a film excellent in light resistance and moisture resistance can be provided.
- membrane, a near-infrared cut filter, a solid-state image sensor, an image display apparatus, and an infrared sensor can be provided.
- ⁇ is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
- the notation in which neither substitution nor substitution is described includes a group (atomic group) having a substituent together with a group (atomic group) having no substituent.
- the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
- exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams.
- the light used for exposure include an emission line spectrum of a mercury lamp, actinic rays or radiation such as far ultraviolet rays, extreme ultraviolet rays (EUV light) typified by excimer laser, X-rays, and electron beams.
- EUV light extreme ultraviolet rays
- (meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate
- (meth) acryl” represents both and / or acrylic and “(meth) acrylic”.
- Acryloyl represents both and / or acryloyl and methacryloyl.
- a weight average molecular weight and a number average molecular weight are defined as a polystyrene conversion value in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
- the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), and as columns, TOSOH TSKgel Super HZM-H and TOSOH TSKgel Super HZ4000 It can be determined by using a column connected with TOSOH TSKgel Super HZ2000 and using tetrahydrofuran as a developing solvent.
- Me in the chemical formula represents a methyl group
- Et represents an ethyl group
- Bu represents a butyl group
- Ph represents a phenyl group.
- near-infrared light refers to light (electromagnetic wave) having a wavelength of 700 to 2500 nm.
- the total solid content refers to the total mass of components obtained by removing the solvent from all components of the composition.
- the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .
- the curable composition of the present invention includes a near-infrared absorbing dye having a group represented by formula (1) described later or a near-infrared absorbing dye having a group represented by formula (10) described later, a curable compound, It is characterized by including.
- the near-infrared absorbing dye having a group represented by the formula (1) is also referred to as a near-infrared absorbing dye (1).
- the near-infrared absorbing dye having a group represented by the formula (10) is also referred to as a near-infrared absorbing dye (10).
- the near-infrared absorbing dye (1) has a group represented by the formula (1). Since this group has an amide bond (when G 1 is NR G1 ) or an ester bond (when G 1 is an oxygen atom), the donor property is improved and the maximum absorption wavelength is shifted to the longer wavelength side. Thus, absorption can be provided on the longer wavelength side. For this reason, the near-infrared absorbing dye (1) has spectral characteristics excellent in near-infrared shielding and visible transparency.
- G 2 in the formula (1) is a monovalent substituent having a steric parameter —Es ′ value of 2.4 or more, so that the group represented by the formula (1) is an amide bond or an ester bond.
- the near steric hindrance is high, even when the near-infrared absorbing dye (1) is irradiated with light, the movement of the near-infrared absorbing dye (1) in the photoexcited state is suppressed, and the photocleavage of the near-infrared absorbing dye (1) is suppressed. It is presumed that the light has been suppressed, and as a result, excellent light resistance is presumed. Further, since the group represented by the formula (1) has high steric hindrance in the vicinity of the amide bond or ester bond, the group represented by the formula (1) is hardly hydrolyzed, and as a result, excellent moisture resistance is obtained. I guess that.
- the near-infrared absorbing dye (1) is a group having a high steric hindrance. Therefore, the aggregation of near-infrared absorbing dyes (1) during film formation can be suppressed, and as a result, a film having better visible transparency can be formed.
- membrane excellent in light resistance and moisture resistance can be formed also about a near-infrared absorption pigment
- G 12 in the formula (10) is a tertiary alkyl group having 6 or more carbon atoms, the steric hindrance in the vicinity of the amide bond or the ester bond is high, and even when the near infrared absorbing dye (10) is irradiated with light, It is presumed that the photo-excited state of the near-infrared absorbing dye (10) was suppressed to suppress the photocleavage of the near-infrared absorbing dye (10), and as a result, excellent light resistance was obtained.
- the group represented by the formula (10) has high steric hindrance in the vicinity of the amide bond or the ester bond, the group represented by the formula (10) is hardly hydrolyzed, and as a result, excellent moisture resistance is obtained. I guess that. Further, when the near-infrared absorbing dyes aggregate too much at the time of film formation, the visible transparency of the resulting film tends to be lowered, but the near-infrared absorbing dye (10) is a group having a high steric hindrance (10). Therefore, the aggregation of near-infrared absorbing dyes (10) during film formation can be suppressed, and as a result, a film having better visible transparency can be formed.
- the curable composition comprises a near infrared absorbing dye having a group represented by the formula (1) (near infrared absorbing dye (1)) or a near infrared absorbing dye having a group represented by the formula (10) (near Infrared absorbing dye (10)).
- the near-infrared absorbing dye (1) and the near-infrared absorbing dye (10) are also referred to as a near-infrared absorbing dye A.
- G 1 represents NR G1 or an oxygen atom
- R G1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 2 is a steric parameter
- G 11 represents NR G11 or an oxygen atom
- R G11 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 12 represents a tertiary alkyl group having 6 or more carbon atoms.
- G 1 represents NR G1 or an oxygen atom
- R G1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.
- the monovalent substituent represented by R G1 is preferably a hydrocarbon group.
- the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group, and an alkyl group is preferable.
- the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 1 to 10 carbon atoms.
- the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 10 carbon atoms.
- G 1 is preferably NR G1 .
- R G1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
- G 2 represents a monovalent substituent having a steric parameter —Es ′ value of 2.4 or more.
- the -Es' value of the monovalent substituent represented by G 2 is preferably 3.3 or more, more preferably 4.0 or more, and even more preferably 4.5 or more. It is especially preferable that it is 0.0 or more.
- the —Es ′ value is a parameter representing the steric bulk of a substituent, and it can be said that the larger the —Es ′ value of the substituent, the higher the substituent.
- the -Es' value of the substituent refer to the literature (JA Macphee, et al, Tetrahedron, Vol. 34, pp 3553-3562, edited by Fujio Ikuo, Chemical Supplement 107, Structure Activity Relationship and Drug Design, 1986. Issued February 20, 2013 (Chemical Doujin)).
- the monovalent substituent represented by G 2 is not particularly limited as long as it has a —Es ′ value of 2.4 or more, and includes a hydrocarbon group, preferably an alkyl group and an aryl group, More preferably, it is an alkyl group. In the alkyl group and the aryl group, a part of hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group or the like.
- the alkyl group is preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, and more preferably a tertiary alkyl group for the reason that better light resistance is easily obtained.
- the alkyl group preferably has 6 or more carbon atoms, and more preferably 7 or more carbon atoms.
- the upper limit is preferably 25 or less, and more preferably 20 or less.
- the monovalent substituent represented by G 2 is preferably a secondary alkyl group or tertiary alkyl group having 6 or more carbon atoms, and more preferably a tertiary alkyl group having 6 or more carbon atoms.
- G 11 represents NR G11 or an oxygen atom
- R G11 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.
- the monovalent substituent represented by R G11 is preferably a hydrocarbon group.
- the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group, and an alkyl group is preferable.
- the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 1 to 10 carbon atoms.
- the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 10 carbon atoms.
- G 11 is preferably NR G11 .
- R G11 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
- G 12 represents a tertiary alkyl group having more than 6 carbon atoms. More preferably, the tertiary alkyl group has 7 or more carbon atoms.
- the upper limit is preferably 25 or less, and more preferably 20 or less.
- the -Es ′ value of G 12 is preferably 2.4 or more, more preferably 3.3 or more, still more preferably 4.0 or more, and more preferably 4.5 or more. More preferably, it is particularly preferably 5.0 or more.
- G 12 include those of a tertiary alkyl group of the groups listed as specific examples of G 2 described above.
- Near-infrared absorbing dye A preferably has a maximum absorption wavelength in the range of 650 to 1200 nm, more preferably in the range of 700 to 1200 nm, and still more preferably in the range of 700 to 1000 nm.
- the near-infrared absorbing dye A may be a pigment or a dye.
- the near-infrared absorbing dye A is preferably a dye because the effect of the present invention can be more easily obtained and a film having better visible transparency can be easily formed.
- the near-infrared absorbing dye A is not particularly limited as long as it is a compound having the group represented by the above formula (1) or the group represented by the formula (10).
- Examples include polymethine compounds, pyrrolopyrrole compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, diimonium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyromethene compounds, azomethine compounds, anthraquinone compounds, and dibenzofuranone compounds.
- a polymethine compound is preferable because the effects of the present invention are more easily obtained, and a cyanine compound, a squarylium compound, a croconium compound, and an oxonol compound are more preferable, and a cyanine compound, a squarylium compound, and a croconium compound. More preferably, it is a compound.
- the near-infrared absorbing dye A has at least one group represented by the formula (1) or the group represented by the formula (10) in one molecule, preferably two or more, and has 2 to 10 groups. More preferably, 2 to 6 are more preferable, and 2 to 4 are particularly preferable. Further, when the near-infrared absorbing dye A is a cyanine compound, it preferably has 1 to 10 groups represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10) in one molecule. More preferably, it is more preferably 1 to 4. When the near-infrared absorbing dye A is a squarylium compound, it preferably has 1 to 10 groups represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10) in one molecule, and has 2 to 10 groups.
- the near-infrared absorbing dye A is a croconium compound, it preferably has 1 to 10 groups represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10) in one molecule, and has 2 to 10 groups. More preferably, it is more preferably 2-4.
- the squarylium compound as the near-infrared absorbing dye A is preferably a compound represented by the following formula (SQ1).
- As 1 and As 2 each independently represent an aryl group, a heterocyclic group, or a group represented by the formula (As-1), and at least one of As 1 and As 2 is represented by the formula (1).
- n s1 represents an integer of 0 or more
- Rs 1 and Rs 2 may combine with each other to form a ring
- Rs 1 and As 3 may combine with each other to form a ring
- Rs 2 and Rs 3 may combine with each other to form a ring
- the plurality of Rs 2 and Rs 3 may be the same or different.
- the number of carbon atoms of the aryl group represented by As 1 and As 2 is preferably 6 to 48, more preferably 6 to 22, and particularly preferably 6 to 12.
- the heterocyclic group represented by As 1 , As 2 and As 3 is preferably a 5-membered or 6-membered heterocyclic group.
- the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having a condensed number of 2 to 8, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having a condensed number of 2 to 4. Is more preferable, a monocyclic heterocyclic group or a heterocyclic group having a condensed number of 2 or 3 is more preferable, and a monocyclic heterocyclic group or a heterocyclic group having a condensed number of 2 is particularly preferable.
- hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group examples include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and a nitrogen atom and a sulfur atom are preferable.
- the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.
- Rs 1 to Rs 3 in the formula (As-1) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.
- the number of carbon atoms of the alkyl group represented by Rs 1 to Rs 3 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and still more preferably 1 to 8.
- the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- Rs 1 to Rs 3 are preferably hydrogen atoms.
- n s1 represents an integer of 0 or more. n s1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and still more preferably 0.
- Rs 1 and Rs 2 may be bonded to each other to form a ring, and Rs 1 and As 3 may be bonded to each other to form a ring, and Rs 2 and Rs 2 3 may combine with each other to form a ring.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof. .
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Substituent T mentioned later is mentioned as a substituent.
- the group represented by As 1 and As 2 preferably has a substituent.
- the substituent include a substituent T described later, a group represented by the above formula (1), and a group represented by the above formula (10).
- As 1 and As 2 are each independently an aryl group or a heterocyclic group, or As 1 and As 2 are each independently a group represented by the formula (As-1) Preferably there is.
- substituent T a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, —ORt 1 , —CORt 1 , —COORt 1 , —OCORt 1 , —NRt 1 Rt 2 , —NHCORt 1 , —CONRt 1 Rt 2 , —NHCONRt 1 Rt 2 , —NHCOORt 1 , —SRt 1 , —SO 2 Rt 1 , —SO 2 ORt 1 , —NHSO 2 Rt 1, or —SO 2 NRt 1 Rt 2 is mentioned.
- Rt 1 and Rt 2 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group. Rt 1 and Rt 2 may combine to form a ring.
- Rt 1 in —COORt 1 is hydrogen
- the hydrogen atom may be dissociated or may be in a salt state.
- Rt 1 of —SO 2 ORt 1 is a hydrogen atom
- the hydrogen atom may be dissociated or may be in a salt state.
- halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
- the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 8 carbon atoms.
- the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- the alkenyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms.
- the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- the alkynyl group has preferably 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 25 carbon atoms.
- the alkynyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
- the heteroaryl group is preferably a monocyclic heteroaryl group or a condensed ring heteroaryl group having 2 to 8 condensations, more preferably a monocyclic heteroaryl group or a condensed ring heteroaryl group having 2 to 4 condensations. preferable.
- the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
- the hetero atom constituting the ring of the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
- the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
- the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and more preferably 3 to 12.
- the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group and heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described for the substituent T described above.
- the compound represented by the formula (SQ1) is preferably a compound represented by the following formula (SQ2) or a compound represented by (SQ3).
- Rs 11 and Rs 12 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and at least one of Rs 11 and Rs 12 represents a group represented by Formula (1) or a group represented by Formula (10).
- Rs 13 and Rs 14 each independently represents a substituent
- n s11 and n s12 each independently represents an integer of 0 to 3; when n s11 is 2 or more, two Rs 13 may be bonded to each other to form a ring; when n s12 is 2 or more, two Rs 14 may be bonded to each other to form a ring
- Rs 21 to Rs 24 each independently represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group;
- Rs 21 and Rs 22 , Rs 23 and Rs 24 , Rs 21 and Rs 13 , Rs 22 and Rs 13 , Rs 23 and Rs 14 , Rs 24 and Rs 14 , Rs 21 and two Rs 13 are bonded together
- a ring formed by combining Rs 23 and two Rs 14 may be bonded to each other to form a ring;
- examples of the substituent represented by Rs 11 and Rs 12 include the substituent T described above, the group represented by the above formula (1), and the group represented by the above formula (10). Can be mentioned.
- at least one of Rs 11 and Rs 12 represents a group represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10), and Rs 11 and Rs 12 are represented by the formula The group represented by (1) or the group represented by formula (10) is preferable.
- examples of the substituent represented by Rs 13 and Rs 14 include the substituent T described above.
- Rs 21 to Rs 24 each independently represents an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.
- the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 8 carbon atoms.
- the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
- the heteroaryl group is preferably a monocyclic heteroaryl group or a condensed ring heteroaryl group having 2 to 8 condensations, more preferably a monocyclic heteroaryl group or a condensed ring heteroaryl group having 2 to 4 condensations. preferable.
- the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
- the hetero atom constituting the ring of the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
- the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
- the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and more preferably 3 to 12.
- the alkyl group, aryl group, and heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described for the substituent T described above.
- n s11 and n s12 each independently represent an integer of 0 to 3, and preferably represents an integer of 0 to 2.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof.
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the above-described substituent T.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof. .
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the above-described substituent T.
- the case where Rs 21 and the ring formed by combining two Rs 13 together form a ring further includes, for example, the following structure.
- A1 is a ring formed by bonding two Rs 13 together
- A2 is a ring formed by combining ring A1 and Rs 22, and Rs 22 is an alkyl group
- Rs 11 and Rs 13a are a hydrogen atom or a substituent
- * is a bond.
- Rs 23 and two Rs 14 are bonded to each other to form a ring.
- Rs 31 to Rs 34 and Rs 36 to Rs 39 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group
- Rs 31 and Rs 32 , Rs 31 and Rs 34 , Rs 32 and Rs 33 , Rs 36 and Rs 37 , Rs 36 and Rs 39 , Rs 37 and Rs 38 may combine with each other to form a ring
- Rs 41 and Rs 42 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and at least one of Rs 41 and Rs 42 represents a group represented by Formula (1) or a group represented by Formula (10).
- n s21 and n s22 each independently represents an integer of 0 to 3; when n s21 is 2 or more, two Rs 43 may be bonded to each other to form a ring; When n s22 is 2 or more, two Rs 44 may be bonded to each other to form a ring.
- the alkyl group represented by Rs 31 to Rs 34 and Rs 36 to Rs 39 preferably has 1 to 20, more preferably 1 to 15, and still more preferably 1 to 8.
- the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described for the substituent T described above.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof.
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the above-described substituent T.
- examples of the substituent represented by Rs 41 and Rs 42 include the substituent T described above, the group represented by the above formula (1), and the group represented by the above formula (10). Can be mentioned.
- at least one of Rs 41 and Rs 42 represents a group represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10), and Rs 41 and Rs 42 are represented by the formula The group represented by (1) or the group represented by formula (10) is preferable.
- examples of the substituent represented by Rs 43 and Rs 44 include the substituent T described above.
- n s21 and n s22 each independently represents an integer of 0 to 3, and preferably represents an integer of 0 to 2.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof.
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the above-described substituent T.
- the squarylium compound can be produced by a conventionally known method, for example, a method described in International Publication WO2014 / 088063. Specifically, 3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione (hereinafter also referred to as squaric acid) and a condensed ring capable of forming a structure represented by the formula (SQ1) by binding to squaric acid. It can manufacture by making it react with the compound which has. For example, when the squarylium compound has a bilaterally symmetric structure, 2 equivalents of a compound having a condensed ring having a desired structure in the above range may be reacted with 1 equivalent of squaric acid.
- squaric acid 3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione
- SQ1 condensed ring capable of forming a structure represented by the formula (SQ1) by binding to squaric acid.
- SQ1 3,4-dihydroxy-3-cyclo
- the cyanine compound as the near-infrared absorbing dye A is preferably a compound represented by the following formula (Cy1).
- Y represents an anion
- Rcy 1 to Rcy 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of Rcy 1 to Rcy 5 represents a group represented by Formula (1) or a group represented by Formula (10).
- Rcy 1 to Rcy 5 may be bonded to form a ring;
- n cy1 represents an integer of 0 to 2, and when n cy1 is 2, the plurality of Rcy 4 and Rcy 5 may be the same or different;
- Acy 1 and Acy 2 each independently represents an aryl group or a heterocyclic group.
- Anions represented by Y include halide ions (Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ ), p-toluenesulfonic acid ions, ethyl sulfate ions, PF 6 ⁇ , B (CN) 4 ⁇ , BF 4 ⁇ , B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ , ClO 4 ⁇ , tris (halogenoalkylsulfonyl) methide anion (eg (CF 3 SO 2 ) 3 C ⁇ ), di (halogenoalkylsulfonyl) imide anion (eg (CF 3 SO 2 ) 2 N ⁇ ) And tetracyanoborate anions.
- halide ions Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇
- p-toluenesulfonic acid ions ethyl sulfate ions
- PF 6 ⁇ , B (CN) 4 ⁇ BF 4
- Rcy 1 to Rcy 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- substituents include the above-described substituent T, the group represented by the above formula (1), and the group represented by the above formula (10).
- the formula (Cy1) at least one of Rcy 1 to Rcy 5 represents a group represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10).
- the group located in the meso position (center) of the methine chain is a group represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10) because of excellent light resistance.
- Rcy 3 located in the meso position (center) of the methine chain is a group represented by formula (1) or a group represented by formula (10) It is preferable.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof.
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the above-described substituent T.
- n cy1 represents an integer of 0 to 2 and is preferably 1 or 2.
- the plurality of Rcy 4 and Rcy 5 may be the same or different.
- the number of carbon atoms of the aryl group represented by Acy 1 and Acy 2 is preferably 6 to 48, more preferably 6 to 22, and particularly preferably 6 to 12.
- the heterocyclic group represented by Acy 1 and Acy 2 is preferably a 5-membered or 6-membered heterocyclic group.
- the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having a condensed number of 2 to 8, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having a condensed number of 2 to 4.
- a monocyclic heterocyclic group or a heterocyclic group having a condensed number of 2 or 3 is more preferable, and a monocyclic heterocyclic group or a heterocyclic group having a condensed number of 2 is particularly preferable.
- the hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and a nitrogen atom and a sulfur atom are preferable.
- the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.
- Acy 1 and Acy 2 preferably each independently represent a heterocyclic group, and more preferably a nitrogen-containing heterocyclic group.
- the nitrogen-containing heterocyclic group includes an oxazole ring group, an isoxazole ring group, a benzoxazole ring group, a naphthoxazole ring group, an oxazolocarbazole ring group, an oxazodibenzobenzofuran ring group, a thiazole ring group, a benzothiazole ring group, and a naphthothiazole.
- the groups represented by Acy 1 and Acy 2 may have a substituent. Examples of the substituent include a substituent T described later, a group represented by the above formula (1), and a group represented by the above formula (10).
- the compound represented by the formula (Cy1) is preferably a compound represented by the following formula (Cy2) or formula (Cy3).
- Y represents an anion
- Rcy 11 represents a group represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10)
- Rcy 12 to Rcy 15 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
- Rcy 12 and Rcy 13 , Rcy 13 and Rcy 14 , Rcy 14 and Rcy 15 may combine with each other to form a ring
- Acy 11 and Acy 12 each independently represent an aryl group or a heterocyclic group.
- Y represents an anion
- Rcy 21 represents a group represented by formula (1) or a group represented by formula (10)
- Rcy 22 to Rcy 27 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
- Rcy 22 and Rcy 23 , Rcy 23 and Rcy 24 , Rcy 24 and Rcy 25 , Rcy 25 and Rcy 26 , Rcy 26 and Rcy 27 may combine with each other to form a ring
- Acy 21 and Acy 22 each independently represent an aryl group or a heterocyclic group.
- Y in formula (Cy2), Acy 11 and Acy 12 , Y in formula (Cy3), Acy 21 and Acy 22 are synonymous with Y, Acy 1 and Acy 2 in formula (Cy1), and preferred ranges are also the same.
- Examples of the substituent represented by Rcy 12 to Rcy 15 in Formula (Cy2) and the substituent represented by Rcy 22 to Rcy 27 in Formula (Cy3) include the substituent T described above, the group represented by Formula (1) described above, And group represented by Formula (10) mentioned above is mentioned.
- Rcy 12 and Rcy 13 , Rcy 13 and Rcy 14 , Rcy 14 and Rcy 15 may be bonded to each other to form a ring, and Rcy 13 and Rcy 14 are excellent in light resistance. Are preferably bonded to each other to form a ring.
- Rcy 22 and Rcy 23 , Rcy 23 and Rcy 24 , Rcy 24 and Rcy 25 , Rcy 25 and Rcy 26 , and Rcy 26 and Rcy 27 may combine with each other to form a ring.
- Rcy 24 and Rcy 25 are preferably bonded to each other to form a ring because of excellent light resistance.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof. .
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the above-described substituent T.
- the cyanine compound can be produced by a conventionally known method, for example, a method described in JP-A-2015-172004.
- the croconium compound as the near-infrared absorbing dye A is preferably a compound represented by the following formula (Cr1).
- Ac 1 and Ac 2 each independently represent an aryl group, a heterocyclic group, or a group represented by the formula (Ac-1), and at least one of Ac 1 and Ac 2 is represented by the formula (1).
- Rc 1 to Rc 3 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group
- Ac 3 represents a heterocyclic group
- n c1 represents an integer of 0 or more
- Rc 1 and Rc 2 may combine with each other to form a ring
- Rc 1 and Ac 3 may combine with each other to form a ring
- Rc 2 and Rc 3 may combine with each other to form a ring
- the plurality of Rc 2 and Rc 3 may be the same or different.
- the number of carbon atoms of the aryl group represented by Ac 1 and Ac 2 is preferably 6 to 48, more preferably 6 to 22, and particularly preferably 6 to 12.
- the heterocyclic group represented by Ac 1 , Ac 2 and Ac 3 is preferably a 5-membered or 6-membered heterocyclic group.
- the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having a condensed number of 2 to 8, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having a condensed number of 2 to 4. Is more preferable, a monocyclic heterocyclic group or a heterocyclic group having a condensed number of 2 or 3 is more preferable, and a monocyclic heterocyclic group or a heterocyclic group having a condensed number of 2 is particularly preferable.
- hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group examples include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and a nitrogen atom and a sulfur atom are preferable.
- the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.
- Rc 1 to Rc 3 in formula (Ac-1) each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
- the number of carbon atoms of the alkyl group represented by Rc 1 to Rc 3 is preferably 1-20, more preferably 1-15, and still more preferably 1-8.
- the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched.
- Rc 1 to Rc 3 are preferably hydrogen atoms.
- N c1 in formula (Ac-1) represents an integer of 0 or more.
- n c1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and still more preferably 1.
- Rc 1 and Rc 2 may be bonded to each other to form a ring
- Rc 1 and Ac 3 may be bonded to each other to form a ring
- Rc 2 and Rc 2 3 may combine with each other to form a ring.
- the linking group for forming the ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and combinations thereof. .
- the alkylene group as the linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Substituent T mentioned later is mentioned as a substituent.
- the groups represented by Ac 1 and Ac 2 preferably have a substituent.
- substituents include the above-described substituent T, the group represented by the above formula (1), and the group represented by the above formula (10).
- at least one of Ac 1 and Ac 2 preferably has a group represented by the formula (1) or a group represented by the formula (10) as a substituent.
- Ac 1 and Ac 2 are each independently an aryl group or a heterocyclic group, or Ac 1 and Ac 2 are each independently a group represented by Formula (Ac-1) Preferably there is.
- the croconium compound can be produced by a conventionally known method, for example, a method described in JP-A-2016-79331.
- the near infrared absorbing dye A include compounds having the following structure.
- the content of the near-infrared absorbing dye A is preferably 0.1 to 70% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more.
- the upper limit is preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less.
- the curable composition of this invention can contain near-infrared absorption dyes (other near-infrared absorption dyes) other than the near-infrared absorption dye A mentioned above.
- Other near infrared absorbing dyes include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterrylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, diimonium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyromethenes.
- At least one selected from a compound, an azomethine compound, an anthraquinone compound, and a dibenzofuranone compound and more preferably at least one selected from a pyrrolopyrrole compound, a cyanine compound, a squarylium compound, a croconium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, and a diimonium compound.
- pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds and croconium At least one selected from the compounds are more preferred. Examples of the pyrrolopyrrole compound include compounds described in paragraph Nos.
- JP2012-77153A an oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631A, and paragraph numbers 0013 to 0029 of JP2013-195480A. And the contents of which are incorporated herein.
- the naphthalocyanine compound include compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, the contents of which are incorporated herein.
- compounds described in JP-A-2016-146619 can also be used, the contents of which are incorporated herein. Specific examples of the other near-infrared absorbing dyes include compounds described in Examples described later.
- the content of the other near-infrared absorbing dye is 0.1 to 70 with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- Mass% is preferred.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more.
- the upper limit is preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less.
- the total amount of the other near-infrared absorbing dye and the near-infrared absorbing dye A is preferably 0.1 to 70% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more.
- the upper limit is preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less.
- the curable composition of this invention contains 2 or more types of other near-infrared absorption pigment
- the curable composition of this invention can also be set as the aspect which does not contain other near-infrared absorption pigment
- the curable composition of the present invention is substantially free of other near-infrared absorbing dyes because the content of other near-infrared absorbing dyes is 0.05% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. It is preferably at most 0.01% by mass, more preferably not containing other near infrared absorbing dyes.
- the curable composition of the present invention can contain inorganic particles.
- metal oxide particles or metal particles are preferable.
- the metal oxide particles include indium tin oxide (ITO) particles, antimony tin oxide (ATO) particles, zinc oxide (ZnO) particles, Al-doped zinc oxide (Al-doped ZnO) particles, and fluorine-doped tin dioxide (F-doped).
- the metal particles include silver (Ag) particles, gold (Au) particles, copper (Cu) particles, and nickel (Ni) particles.
- the description in paragraph No. 0080 of JP-A-2016-006476 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
- a tungsten oxide compound can be used as the inorganic particles.
- the tungsten oxide compound is preferably cesium tungsten oxide.
- cesium tungsten oxide a compound described in paragraph No. 0080 of JP-A-2016-006476 or a cesium tungsten oxide described in Japanese Patent No. 6210180 can be used.
- the content of the inorganic particles is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more.
- the upper limit is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less.
- the curable composition of this invention can also be set as the aspect which does not contain an inorganic particle substantially.
- the curable composition of the present invention is substantially free of inorganic particles, and the content of inorganic particles is preferably 0.05% by mass or less based on the total solid content of the curable composition. It is more preferable that the content is 0.01% by mass or less, and it is even more preferable that no inorganic particles are contained.
- the curable composition of the present invention can contain a chromatic colorant.
- the chromatic colorant means a colorant other than the white colorant and the black colorant.
- the chromatic colorant is preferably a colorant having a maximum absorption wavelength in the range of 400 to 650 nm.
- the chromatic colorant may be a pigment or a dye. A pigment is preferable.
- the pigment is preferably an organic pigment, and examples thereof include the following. However, the present invention is not limited to these. Color Index (CI) Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170 171,172,173,174,175,176,177
- C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 22
- the dye is not particularly limited, and a known dye can be used.
- Chemical structures include pyrazole azo, anilino azo, triaryl methane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Xanthene, phthalocyanine, benzopyran, indigo, and pyromethene dyes can be used. Moreover, you may use the multimer of these dyes. Further, the dyes described in JP-A-2015-028144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
- the content of the chromatic colorant is preferably 0.1 to 70% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more.
- the upper limit is preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less.
- the content of the chromatic colorant is preferably 10 to 1000 parts by mass and more preferably 50 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the near infrared absorbing dye.
- the total amount of the chromatic colorant, the near-infrared absorbing dye, and the other near-infrared absorbing dye described above is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- the lower limit is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more.
- the upper limit is preferably 70% by mass or less, and more preferably 60% by mass or less.
- the curable composition of the present invention does not substantially contain a chromatic colorant.
- Constaining substantially no chromatic colorant means that the content of the chromatic colorant is preferably 0.05% by mass or less based on the total solid content of the curable composition, and 0.01% by mass. More preferably, it is more preferable that it does not contain a chromatic colorant.
- the curable composition of the present invention can also contain a colorant that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as a colorant that blocks visible light).
- the color material that blocks visible light is preferably a color material that absorbs light in the wavelength range from purple to red.
- the color material that blocks visible light is preferably a color material that blocks light in the wavelength region of 450 to 650 nm.
- the color material that blocks visible light is preferably a color material that transmits light having a wavelength of 900 to 1300 nm.
- the colorant that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
- Examples of chromatic colorants include those described above.
- Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, and bisbenzofuranone compounds and perylene compounds are preferable.
- Examples of the bisbenzofuranone compound include those described in JP-T 2010-534726, JP-T 2012-515233, JP-T 2012-515234, International Publication WO 2014/208348, JP-T 2015-525260, and the like. Examples of such a compound include “Irgaphor Black” manufactured by BASF.
- Examples of perylene compounds include C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
- Examples of the azomethine compound include compounds described in JP-A-1-170601, JP-A-2-34664 and the like, and for example, “chromofine black A1103” manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd. can be obtained.
- Examples of combinations of chromatic colorants in the case of forming black with a combination of two or more chromatic colorants include the following. (1) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (2) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant and a red colorant. (3) An embodiment containing a yellow colorant, a purple colorant and a red colorant. (4) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant. (5) An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (6) An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant. (7) An embodiment containing a green colorant, a purple colorant and a red colorant. (8) An embodiment containing a green colorant and a red colorant.
- the content of the colorant that blocks visible light is preferably 60% by mass or less based on the total solid content of the curable composition. 50 mass% or less is more preferable, 30 mass% or less is more preferable, 20 mass% or less is still more preferable, and 15 mass% or less is especially preferable.
- the lower limit may be 0.1% by mass or more, and may be 0.5% by mass or more.
- the curable composition of this invention does not contain the coloring material which shields visible light substantially.
- the phrase “substantially free of a colorant that blocks visible light” means that the content of the colorant that blocks visible light is preferably 0.05% by mass or less based on the total solid content of the curable composition. More preferably, the content is 0.01% by mass or less, and further preferably does not contain a colorant that blocks visible light.
- Pigment derivative When the curable composition of this invention contains a pigment, it is preferable to contain a pigment derivative further.
- the pigment derivative include a compound having a structure in which a part of the pigment is substituted with an acidic group or a basic group.
- the pigment derivative preferably contains a pigment derivative having an acidic group or a basic group from the viewpoint of dispersibility and dispersion stability.
- the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
- the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
- the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, and more preferably 30 parts by mass or less.
- content of a pigment derivative is the said range, the dispersibility of a pigment can be improved and aggregation of a pigment can be suppressed efficiently. Only one pigment derivative may be used, or two or more pigment derivatives may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.
- the curable composition of the present invention contains a curable compound.
- the curable compound include a crosslinkable compound and a resin.
- the resin may be a non-crosslinkable resin (a resin having no crosslinkable group) or a crosslinkable resin (a resin having a crosslinkable group).
- the crosslinkable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether group, a methylol group, an alkoxymethyl group, an alkoxysilyl group, a chlorosilyl group, and the like.
- a group having an ethylenically unsaturated bond is more preferable.
- Examples of the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
- Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group, and an epoxy group is preferable.
- Examples of the alkoxysilyl group include a monoalkoxysilyl group, a dialkoxysilyl group, and a trialkoxysilyl group, and a dialkoxysilyl group and a trialkoxysilyl group are preferable. Further, the number of carbon atoms of the alkoxy group in the alkoxysilyl group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2.
- chlorosilyl group examples include a monochlorosilyl group, a dichlorosilyl group, and a trichlorosilyl group.
- a dichlorosilyl group and a trichlorosilyl group are preferable, and a trichlorosilyl group is more preferable.
- a curable compound containing at least a resin more preferably a resin and a monomer type crosslinkable compound, including a resin and a group having an ethylenically unsaturated bond. It is more preferable to use a monomer type crosslinkable compound.
- the content of the curable compound is preferably 0.1 to 80% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, still more preferably 50% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
- the curable composition of the present invention may contain only one type of curable compound or two or more types. When two or more kinds of curable compounds are contained, the total amount thereof is preferably within the above range.
- Crosslinkable compound a compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond, a compound having a cyclic ether group, a compound having a methylol group, a compound having an alkoxymethyl group, a compound having an alkoxysilyl group, a compound having a chlorosilyl group Etc.
- the crosslinkable compound may be a monomer or a resin.
- a monomer type crosslinkable compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond can be preferably used as a radical polymerizable compound.
- a compound having a cyclic ether group, a compound having a methylol group, or a compound having an alkoxymethyl group can be preferably used as the cationic polymerizable compound.
- the molecular weight of the monomer type crosslinkable compound is preferably less than 2000, more preferably 100 or more and less than 2000, and even more preferably 200 or more and less than 2000.
- the upper limit is preferably 1500 or less, for example.
- the weight average molecular weight (Mw) of the resin type (polymer type) crosslinkable compound is preferably 2,000 to 2,000,000.
- the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
- the lower limit is preferably 3,000 or more, and more preferably 5,000 or more.
- Examples of the resin type crosslinkable compound include an epoxy resin and a resin containing a repeating unit having a crosslinkable group.
- Examples of the repeating unit having a crosslinkable group include the following formulas (A2-1) to (A2-4).
- R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
- the alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
- R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
- L 51 represents a single bond or a divalent linking group.
- the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, —SO 2 —, —NR 10 — (R 10 represents a hydrogen atom or Represents an alkyl group, preferably a hydrogen atom), or a group consisting of a combination thereof.
- the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 10 carbon atoms.
- the alkylene group may have a substituent, but is preferably unsubstituted.
- the alkylene group may be linear, branched or cyclic. Further, the cyclic alkylene group may be monocyclic or polycyclic.
- the number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6 to 10.
- P 1 represents a crosslinkable group.
- the crosslinkable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether group, a methylol group, an alkoxymethyl group, an alkoxysilyl group, and a chlorosilyl group.
- the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond is preferably a 3 to 15 functional (meth) acrylate compound, more preferably a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound.
- Compounds containing a group having an ethylenically unsaturated bond include ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (commercially available: NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol triacrylate (commercially available product).
- KAYARAD D-330 As KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetraacrylate (as commercially available products, KAYARAD D-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (As a commercially available product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercially available product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and these (Meth) acryloyl group is a compound of structure which is attached via an ethylene glycol residue and / or propylene glycol residues is preferred.
- oligomer types can also be used.
- Examples of the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond include paragraphs 0034 to 0038 of JP2013-253224A, paragraph 0477 of JP2012-208494A (corresponding US Patent Application Publication No. 2012).
- No. 0235099, paragraph No. 0585 includes compounds and the like, the contents of which are incorporated herein.
- compounds containing a group having an ethylenically unsaturated bond include diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth) acrylate (commercially available product: M-460; manufactured by Toagosei Co., Ltd.), pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) A-TMMT), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-350, TO- 2349 (made by Toagosei Co., Ltd.) can also be used.
- diglycerin EO ethylene oxide
- meth acrylate
- pentaerythritol tetraacrylate Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
- A-TMMT 1,6-hexanediol diacryl
- the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond may further have an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, or a phosphate group.
- an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, or a phosphate group.
- Commercially available products of such compounds include Aronix series (for example, M-305, M-510, M-520) manufactured by Toagosei Co., Ltd.
- the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond is also preferably a compound having a caprolactone structure.
- the compound having a caprolactone structure the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
- Examples of the compound having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 and the like commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series.
- a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond and an alkyleneoxy group can also be used.
- Such a compound is preferably a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond and an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group, and having a group having an ethylenically unsaturated bond and an ethyleneoxy group.
- a compound is more preferable, and a tri- to hexa-functional (meth) acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups is more preferable.
- SR-494 which is a tetrafunctional (meth) acrylate having four ethyleneoxy groups
- KAYARAD TPA-330 which is a trifunctional (meth) acrylate having three isobutyleneoxy groups, manufactured by Sartomer. Can be mentioned.
- 8UH-1006 8UH-1012 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) or the like.
- the content of the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond is based on the total solid content of the curable composition.
- the content is preferably 0.1 to 50% by mass.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- the content of the compound containing a monomer type group having an ethylenically unsaturated bond is preferably 0.1 to 50% by mass relative to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- Examples of the compound having a cyclic ether group include a monofunctional or polyfunctional glycidyl ether compound, a polyfunctional aliphatic glycidyl ether compound, and a resin containing a repeating unit having a cyclic ether group.
- the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter also referred to as an epoxy compound).
- the epoxy compound is preferably a compound having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
- the upper limit of the number of epoxy groups can be 10 or less, for example, or 5 or less.
- the lower limit of the number of epoxy groups is preferably 2 or more.
- the epoxy compound may be a low molecular compound (for example, a molecular weight of less than 1000) or a high molecular compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more).
- the weight average molecular weight of the epoxy compound is preferably 2000 to 100,000.
- the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and still more preferably 3000 or less.
- the description in paragraph No. 0191 of JP2012-155288A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
- compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
- Commercially available compounds having a cyclic ether group include polyfunctional fats such as Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L (manufactured by Nagase ChemteX Corporation).
- Group glycidyl ether compounds include polyfunctional fats such as Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L (manufactured by Nagase ChemteX Corporation).
- EX-212, EX-214, EX-216, EX-321, EX-850, etc. which are not low-chlorine products, can also be used.
- ADEKA RESIN EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S, EP-4011S (above, manufactured by ADEKA Corporation), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN-501 EPPN-502 (above, manufactured by ADEKA Corporation), JER1031S, Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, EHPE3150, EPOLEEAD PB 3600, PB 4700 (above, Daicel Corporation), Cyclomer P ACA 200M, ACA 230AA, ACA Z250, ACA Z251, ACA Z300, ACA Z320 (above, manufactured by Daicel Corporation), JER-157S65, JER-152, JER-15 , JER-157S
- Adekaglycilol ED-505 (manufactured by ADEKA Corporation, epoxy group-containing monomer), Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S G-2050M, G-01100, G-01758 (manufactured by NOF Corporation, epoxy group-containing polymer) and the like can also be used.
- the content of the compound having a cyclic ether group is 0.1 to 50% by mass relative to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- Examples of the compound having a methylol group include a compound in which a methylol group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
- Examples of the compound having an alkoxymethyl group include compounds in which an alkoxymethyl group is bonded to a carbon atom that forms a nitrogen atom or an aromatic ring.
- Compounds having an alkoxymethyl group or a methylol group bonded to a nitrogen atom include alkoxymethylated melamine, methylolated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, methylolated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril, methylolated glycoluril, alkoxymethyl Urea urea, methylolated urea and the like are preferable.
- the descriptions in paragraphs 0134 to 0147 of JP-A-2004-295116 and paragraphs 0095 to 0126 of JP-A-2014-089408 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in this specification.
- the content of the methylol compound is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- the content of the alkoxymethyl compound is preferably 0.1 to 50% by mass relative to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- Examples of the compound having an alkoxysilyl group and a compound having a chlorosilyl group include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and n-propyltrimethoxysilane.
- a resin containing a repeating unit having an alkoxysilyl group, a resin containing a repeating unit having a chlorosilyl group, or the like can also be used.
- Commercially available products include Shin-Etsu Silicone KBM-13, KBM-22, KBM-103, KBE-13, KBE-22, KBE-103, KBM-3033, KBE-3033, KBM-3063, KBE-3063, KBE-3083, KBM-3103, KBM-3066, KBM-7103, SZ-31, KBN-3504, KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE- 403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBM-9659, KBE-585, KB -802, and the like KBM-803,
- the content of the compound having an alkoxysilyl group is preferably 0.1 to 50% by mass relative to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- the content of the compound having a chlorosilyl group is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
- a resin in the curable composition of the present invention, can be used as the curable compound. It is preferable to use a curable compound containing at least a resin.
- the resin can also be used as a dispersant.
- a resin used for dispersing pigments is also referred to as a dispersant.
- such use of the resin is an example, and the resin can be used for purposes other than such use.
- the resin having a crosslinkable group also corresponds to a crosslinkable compound.
- the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
- the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
- the lower limit is preferably 3,000 or more, and more preferably 5,000 or more.
- the resin examples include compounds having a repeating unit.
- Specific examples of the resin include (meth) acrylic resin, epoxy resin, ene / thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin,
- Examples include polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, siloxane resin, and urethane resin.
- One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
- a norbornene resin can be preferably used from the viewpoint of improving heat resistance.
- Examples of commercially available norbornene resins include the ARTON series (for example, ARTON F4520) manufactured by JSR Corporation.
- Examples of commercially available polyimide resin include Neoprim (registered trademark) series (for example, C3450) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Examples of the epoxy resin include an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and a glycidyl ester type.
- Epoxy resins glycidylamine epoxy resins, epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols, condensates of silicon compounds having an epoxy group with other silicon compounds, polymerizable unsaturated compounds having an epoxy group and others Examples thereof include copolymers with other polymerizable unsaturated compounds.
- Epoxy resins include Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 Oil Co., Ltd., epoxy group-containing polymer) can also be used.
- the urethane resin examples include 8UH-1006 and 8UH-1012 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.).
- the resin includes a resin described in Examples of International Publication WO2016 / 088845, a resin described in JP2017-57265A, a resin described in JP2017-32685A, and JP2017.
- the resin described in JP-0775248, the resin described in JP2017-0666240, or the resin described in JP2017-167513 can also be used, the contents of which are incorporated herein. It is.
- a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used.
- the resin having a fluorene skeleton include resins having the following structure.
- A is the residue of carboxylic dianhydride selected from pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride and diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride.
- M is a phenyl group or a benzyl group.
- the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
- the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
- the lower limit is preferably 3,000 or more, and more preferably 5,000 or more.
- the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin is preferably 100 or more, and more preferably 100 to 2,000,000.
- the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
- the lower limit is more preferably 200 or more.
- the resin used in the present invention may have an acid group.
- the acid group include a carboxyl group, a phosphate group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxyl group is preferable. These acid groups may be used alone or in combination of two or more. Resins having acid groups can also be used as alkali-soluble resins.
- the resin having an acid group is preferably a resin containing a repeating unit having a carboxyl group in the side chain.
- the resin having an acid group may further contain a repeating unit having a crosslinkable group.
- the content of the repeating unit having a crosslinkable group in all the repeating units is preferably 10 to 90 mol%, preferably 20 to It is more preferably 90 mol%, and further preferably 20 to 85 mol%.
- the content of the repeating unit having an acid group in all repeating units is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, and more preferably 5 to 30 mol%. Further preferred.
- the resin having an acid group is a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”). It is also preferable to include a repeating unit derived from the component.
- R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
- R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
- the description in JP 2010-168539 A can be referred to.
- ether dimer for example, paragraph number 0317 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification. Only one type of ether dimer may be used, or two or more types may be used.
- the resin having an acid group also preferably contains a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
- R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
- R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
- R 3 has 1 to 20 carbon atoms which may contain a hydrogen atom or a benzene ring.
- n represents an integer of 1 to 15.
- the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 200 mgKOH / g.
- the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more.
- the upper limit is preferably 150 mgKOH / g or less, and more preferably 120 mgKOH / g or less.
- Examples of the resin having an acid group include resins having the following structure.
- Me represents a methyl group.
- the curable composition of the present invention can also contain a resin as a dispersant.
- the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
- the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
- the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups occupies 70 mol% or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%. A resin consisting only of groups is more preferred.
- the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
- the acid value of the acidic dispersant is preferably 40 to 105 mgKOH / g, more preferably 50 to 105 mgKOH / g, and still more preferably 60 to 105 mgKOH / g.
- the basic dispersant (basic resin) represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
- the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%.
- the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
- the resin used as the dispersant is also preferably a graft copolymer. Since the graft copolymer has an affinity for the solvent by the graft chain, it is excellent in pigment dispersibility and dispersion stability after aging. Details of the graft copolymer can be referred to the descriptions in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A, the contents of which are incorporated herein.
- the resin used as the dispersant is preferably an oligoimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
- the oligoimine-based dispersant has a structural unit having a partial structure X having a functional group of pKa14 or less, and a side chain containing a side chain Y having 40 to 10,000 atoms, and at least a main chain and a side chain.
- a resin having a basic nitrogen atom on one side is preferred.
- the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a basic nitrogen atom.
- the description of paragraphs 0102 to 0174 in JP 2012-255128 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
- Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include Disperbyk-111 (BYK Chemie), Solsperse 76500 (Nihon Lubrizol Co., Ltd.), and the like.
- pigment dispersants described in paragraph numbers 0041 to 0130 of JP-A-2014-130338 can also be used, the contents of which are incorporated herein.
- the resin etc. which have the acid group mentioned above can also be used as a dispersing agent.
- the content of the resin is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more.
- the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, still more preferably 50% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
- the content of the resin containing acid groups is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, further preferably 2% by mass or more, and particularly preferably 3% by mass or more.
- the upper limit is more preferably 30% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or less.
- the content of the dispersant is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the upper limit is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
- the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
- the content of the dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
- the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, and more preferably 75 parts by mass or less.
- the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
- the curable composition of this invention may contain only 1 type of resin, and may contain 2 or more types. When two or more kinds of resins are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
- photopolymerization initiator When the curable composition of this invention contains a radically polymerizable compound as a curable compound, it is preferable to contain a photoinitiator further.
- the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate a polymerization reaction of a radical polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators.
- the photopolymerization initiator is preferably a radical photopolymerization initiator.
- Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, Examples include thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxy ketone compounds, ⁇ -amino ketone compounds, and the like.
- halogenated hydrocarbon derivatives for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
- acylphosphine compounds for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
- acylphosphine compounds for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
- Photopolymerization initiators are trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triarylimidazoles from the viewpoint of exposure sensitivity.
- Dimer, onium compound, benzothiazole compound, benzophenone compound, acetophenone compound, cyclopentadiene-benzene-iron complex, halomethyloxadiazole compound and 3-aryl-substituted coumarin compound are preferred, oxime compound, ⁇ -hydroxyketone compound, ⁇ - A compound selected from an aminoketone compound and an acylphosphine compound is more preferable, and an oxime compound is still more preferable.
- the description in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A No. 2014-130173 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
- Examples of commercially available ⁇ -hydroxyketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (above, manufactured by BASF).
- Examples of commercially available ⁇ -aminoketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, IRGACURE-379EG (manufactured by BASF).
- Examples of commercially available acylphosphine compounds include IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (above, manufactured by BASF).
- Examples of the oxime compound include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-A No. 2006-342166, J.P. C. S. Perkin II (1979, pp.1653-1660), J.M. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp. 156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-66385, Compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-T No. 2004-534797, compounds described in JP-A No.
- oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy And imino-1-phenylpropan-1-one.
- an oxime compound having a fluorene ring can also be used as a photopolymerization initiator.
- Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated herein.
- an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
- Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP 2010-262028 A, compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A 2013-164471. Compound (C-3). This content is incorporated herein.
- an oxime compound having a nitro group can be used as a photopolymerization initiator.
- the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
- Specific examples of the oxime compound having a nitro group include compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A, paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466A, Examples include compounds described in paragraph Nos. 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4230711, Adeka Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
- an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as a photopolymerization initiator.
- Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. WO2015 / 036910.
- oxime compounds that are preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
- the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
- the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1,000 to 300,000, and preferably 2,000 to 300,000. Is more preferably 5,000 to 200,000.
- the molar extinction coefficient of the compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent.
- a bifunctional or trifunctional or higher functional photopolymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
- active species such as two or more radicals are generated from one molecule of the photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
- the crystallinity is lowered and the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation with time is less likely to occur, and the temporal stability of the composition can be improved.
- Such a photopolymerization initiator include paragraphs 0417 to 0412 in JP-T 2010-527339, JP-T 2011-524436, International Publication WO 2015/004565, and JP-T 2016-532675. Dimers of oxime compounds described in paragraph numbers 0039 to 0055 of International Publication WO2017 / 033680, compounds (E) and (G) described in JP2013-522445A, international Cmpd 1-7 described in published WO 2016/034963, oxime ester photoinitiators described in paragraph No. 0007 of JP-T-2017-523465, paragraph No. 0020- of JP 2017-167399 A Photoinitiators described in 0033, JP 2017 Photopolymerization initiators described in paragraphs 0017 to 0026 of JP-151342 (A), and the like.
- the photopolymerization initiator preferably contains an oxime compound and an ⁇ -aminoketone compound. By using both in combination, the developability is improved and a pattern having excellent rectangularity can be easily formed.
- the oxime compound and the ⁇ -aminoketone compound are used in combination, the ⁇ -aminoketone compound is preferably 50 to 600 parts by mass, more preferably 150 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the oxime compound.
- the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and still more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. If the content of the photopolymerization initiator is within the above range, better sensitivity and pattern formability can be obtained.
- the curable composition of this invention may contain only 1 type of photoinitiators, and may contain 2 or more types. When two or more photopolymerization initiators are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
- the curable composition of the present invention can contain an acid generator.
- the curable compound contains a cationically polymerizable compound such as a compound having a cyclic ether group, it is preferable to contain an acid generator.
- the acid generator is preferably a compound that generates an acid upon irradiation with light (photoacid generator).
- Examples of the acid generator include an onium salt compound such as diazonium salt, phosphonium salt, sulfonium salt, iodonium salt, imide sulfonate, oxime sulfonate, diazodisulfone, disulfone, o-nitrobenzyl sulfonate, which decomposes upon irradiation with light to generate an acid. And the like, and the like.
- Examples of the acid generator specific compounds, and preferred examples include compounds described in paragraph numbers 0066 to 0122 of JP-A-2008-13646, and these can be applied to the present invention. it can.
- preferred examples of the acid generator that can be used in the present invention include compounds represented by the following formulas (b1), (b2), and (b3).
- R 201 , R 202 , and R 203 each independently represents an organic group.
- X ⁇ represents a non-nucleophilic anion, preferably sulfonate anion, carboxylate anion, bis (alkylsulfonyl) amide anion, tris (alkylsulfonyl) methide anion, BF 4 ⁇ , PF 6 — and SbF 6 — . More preferably BF 4 ⁇ , PF 6 — and SbF 6 — .
- Examples of commercially available acid generators include WPAG-469 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and CPI-100P (manufactured by San Apro Co., Ltd.).
- the content of the acid generator is preferably from 0.1 to 50 mass%, more preferably from 0.5 to 30 mass%, still more preferably from 0.5 to 20 mass%, based on the total solid content of the curable composition.
- the curable composition of this invention may contain only 1 type of acid generators, and may contain 2 or more types. When two or more acid generators are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
- the curable composition of the present invention preferably contains a crosslinking aid for the purpose of accelerating the reaction of the crosslinking compound.
- a crosslinking aid for the purpose of accelerating the reaction of the crosslinking compound.
- the crosslinking aid include at least one selected from polyfunctional thiols, alcohols, amines, and carboxylic acids.
- polyfunctional thiol examples include compounds having two or more thiol groups in the molecule.
- the polyfunctional thiol is preferably a secondary alkanethiol, and particularly preferably a compound having a structure represented by the following formula (T1).
- T1 In the formula (T1), n represents an integer of 2 to 4, and L represents a divalent to tetravalent linking group.
- the linking group L is preferably an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably n is 2 and L is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms.
- Specific examples of the polyfunctional thiol include compounds represented by the following structural formulas (T2) to (T4), and a compound represented by the formula (T2) is particularly preferable.
- the polyfunctional thiol can be used alone or in combination.
- the amine as the crosslinking aid is preferably a polyvalent amine, more preferably a diamine.
- a polyvalent amine more preferably a diamine.
- hexamethylenediamine, triethylenetetramine, polyethyleneimine and the like can be mentioned.
- a polyhydric alcohol is preferable, and a diol is more preferable.
- a polyether diol compound, a polyester diol compound, a polycarbonate diol compound, etc. are mentioned.
- the description of paragraph numbers 0128 to 0163 and 0172 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
- carboxylic acid as the crosslinking aid examples include 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid (anhydride), maleic acid, phthalic acid, trimellitic acid and the like.
- a carboxy group-containing epoxy curing agent described in JP 2017-036379 A can also be used.
- the content of the crosslinking aid is preferably 1 to 1000 parts by mass, more preferably 1 to 500 parts by mass, and still more preferably 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the crosslinkable compound.
- the curable composition of this invention may contain only 1 type of crosslinking adjuvant, and may contain 2 or more types. When 2 or more types of crosslinking adjuvants are included, it is preferable that those total amounts become the said range.
- the curable composition of the present invention may further contain a catalyst.
- a catalyst when an alkoxysilyl group or a compound having a chlorosilyl group is used as the curable compound, it is preferable to contain a catalyst. According to this aspect, the sol-gel reaction is promoted, and a stronger film is easily obtained.
- the catalyst include an acid catalyst and a base catalyst. Acid catalysts include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, and R in the structural formula represented by RCOOH substituted with other elements or substituents.
- carboxylic acids such as benzenesulfonic acid, phosphoric acid and the like.
- Lewis acids such as aluminum chloride, aluminum acetylacetonate, zinc chloride, tin chloride, boron trifluoride diethyl ether complex, and iodotrimethylsilane may be used.
- the base catalyst include ammoniacal basic compounds such as aqueous ammonia and organic amines such as ethylamine and aniline. Further, as the catalyst, the catalysts described in paragraph numbers 0070 to 0076 of JP2013-201007A can also be used.
- the content of the catalyst is preferably 0.1 to 100 parts by weight, more preferably 0.1 to 50 parts by weight, and further preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crosslinkable compound.
- the curable composition of the present invention may contain only one type of catalyst, or may contain two or more types. When two or more types of catalysts are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
- the curable composition of the present invention can contain a solvent.
- the solvent include organic solvents.
- the solvent is basically not particularly limited as long as the solubility of each component and the applicability of the curable composition are satisfied.
- the organic solvent include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like. Regarding these details, paragraph number 0223 of International Publication No. WO2015 / 1666779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein. Further, ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
- the organic solvent examples include dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, Examples include cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.
- the organic solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
- 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide and 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide are preferable from the viewpoint of improving solubility.
- aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
- as a solvent may be better reduced for environmental reasons (for example, 50 ppm by weight per part of organic solvent). (million) or less, or 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
- a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillation) level may be used, and such a high-purity solvent is provided, for example, by Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
- Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
- the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
- the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
- the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only 1 type may be included and the isomer may be included multiple types.
- the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
- the content of the solvent is preferably 10 to 90% by mass with respect to the total amount of the curable composition of the present invention.
- the lower limit is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, still more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more.
- the curable composition of the present invention does not substantially contain an environmentally regulated substance from the viewpoint of environmental regulations.
- the phrase “substantially containing no environmentally regulated substance” means that the content of the environmentally regulated substance in the curable composition is 50 ppm by mass or less, and is 30 ppm by mass or less. Preferably, it is more preferably 10 mass ppm or less, and particularly preferably 1 mass ppm or less.
- environmentally regulated substances include benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; halogenated benzenes such as chlorobenzene, and the like.
- VOC Volatile Organic Registered
- VOC Volatile Organic Substances
- the method is strictly regulated. These compounds may be used as a solvent when producing each component used in the curable composition of the present invention, and may be mixed into the curable composition as a residual solvent. It is preferable to reduce these substances as much as possible from the viewpoint of human safety and consideration for the environment.
- As a method for reducing the environmentally regulated substance there is a method of heating and depressurizing the system so as to make it equal to or higher than the boiling point of the environmentally regulated substance to distill off the environmentally regulated substance from the system.
- distillation methods include a raw material stage, a product obtained by reacting the raw material (for example, a resin solution after polymerization or a polyfunctional monomer solution), or a curable composition stage prepared by mixing these compounds. It is possible at any stage.
- the curable composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
- Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2,6'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salt (ammonium salt, primary cerium salt, etc.), 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1- Examples include oxyl.
- the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.001 to 5% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
- the curable composition of the present invention may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more polymerization inhibitors are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
- the curable composition of the present invention can contain a surfactant.
- a surfactant the description of paragraphs 0238 to 0245 of International Publication No. WO2015 / 166679 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
- the surfactant include a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant, and a fluorine-based surfactant is preferable.
- a fluorinated surfactant By including a fluorinated surfactant in the curable composition of the present invention, liquid properties (particularly fluidity) are improved, and liquid-saving properties can be further improved. In addition, a film with small thickness unevenness can be formed.
- the fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and even more preferably 7 to 25% by mass.
- a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties.
- fluorosurfactant examples include surfactants described in paragraph numbers 0060 to 0064 of JP 2014-41318 A (paragraph numbers 0060 to 0064 of international publication WO 2014/17669), JP 2011-132503 A, And surfactants described in paragraph Nos. 0117 to 0132 of the publication.
- Commercially available fluorosurfactants include Megafac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS.
- the fluorine-based surfactant is an acrylic compound having a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and when heated, the functional group containing the fluorine atom is cleaved and the fluorine atom volatilizes.
- Acrylic compounds can be used. Examples of such a fluorosurfactant include Megafac DS series (for example, Megafac DS-21) manufactured by DIC Corporation.
- fluorosurfactant a copolymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound can be used.
- a fluorosurfactant the description in JP-A-2016-216602 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
- the fluorosurfactant a block polymer can be used.
- the block polymer include compounds described in JP 2011-89090 A.
- the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group or propyleneoxy group) (A fluorine-containing copolymer containing a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound can be used.
- the following compounds are also exemplified as the fluorosurfactant used in the present invention.
- the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. In the above compounds,% indicating the ratio of repeating units is mol%.
- a fluorine-containing copolymer containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated group in the side chain can be used.
- Specific examples thereof include compounds described in JP-A 2010-164965, paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295, Megafac RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation, RS-72-K and the like.
- the fluorine-based surfactant compounds described in paragraph numbers 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 can also be used.
- Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF ), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BAS) Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (manufactured by Wako Pure
- the content of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass and more preferably 0.005% by mass to 3.0% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the curable composition of this invention may contain only 1 type of surfactant, and may contain 2 or more types. When 2 or more types of surfactant are included, it is preferable that those total amount becomes the said range.
- the curable composition of this invention can contain a ultraviolet absorber.
- the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminobutadiene compounds, methyldibenzoyl compounds, coumarin compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, azomethine compounds, indole compounds, and triazine compounds. Details of these are described in paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, paragraph numbers 0317 to 0334 of JP2013-68814A, and paragraph numbers 0061 to 0080 of JP2016-162946A. Which are incorporated herein by reference.
- UV-503 manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.
- MYUA series Chemical Industry Daily, February 1, 2016
- the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
- the curable composition of this invention may contain only 1 type of ultraviolet absorbers, and may contain 2 or more types. When 2 or more types of ultraviolet absorbers are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
- the curable composition of the present invention can contain various additives such as fillers, adhesion promoters, antioxidants, latent antioxidants, anti-aggregation agents, and the like, as necessary.
- additives include those described in JP-A-2004-295116, paragraphs 0155 to 0156, the contents of which are incorporated herein.
- the antioxidant include a phenol compound, a phosphorus compound (for example, a compound described in paragraph No. 0042 of JP 2011-90147 A), a thioether compound, and the like.
- the antioxidant described in the international publication WO2017164024 can also be used.
- antioxidants include, for example, Adeka Stub series (AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-50F, AO-60, AO-60G, AO- manufactured by ADEKA Corporation) 80, AO-330, etc.).
- the latent antioxidant is a compound in which a site functioning as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or heated at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
- a compound that functions as an antioxidant due to elimination of the protecting group can be mentioned.
- Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication WO2014 / 021023, International Publication WO2017 / 030005, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-008219.
- Examples of commercially available latent antioxidants include Adeka Arcles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation).
- the viscosity (23 ° C.) of the curable composition of the present invention is preferably 1 to 100 mPa ⁇ s, for example, when a film is formed by coating.
- the lower limit is more preferably 2 mPa ⁇ s or more, and further preferably 3 mPa ⁇ s or more.
- the upper limit is more preferably 50 mPa ⁇ s or less, further preferably 30 mPa ⁇ s or less, and particularly preferably 15 mPa ⁇ s or less.
- the container for the curable composition of the present invention is not particularly limited, and a known container can be used.
- the inner wall of the container is a multilayer bottle composed of 6 types and 6 layers of resin, and 6 types of resins are made into a 7 layer structure. It is also preferred to use bottles. Examples of such a container include a container described in JP-A-2015-123351.
- storage conditions of the curable composition of this invention A conventionally well-known method can be used. Also, the method described in JP-A-2016-180058 can be used.
- the curable composition of the present invention can also produce a film excellent in near-infrared shielding and visible transparency by containing the near-infrared absorbing dye A described above.
- the curable composition of the present invention can be particularly preferably used as a composition for forming a near-infrared cut filter.
- transmit only the near infrared rays beyond a specific wavelength can also be formed by containing the coloring material which shields visible light further. Therefore, the curable composition of the present invention can also be preferably used as a composition for forming an infrared transmission filter.
- the curable composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components.
- all components may be simultaneously dissolved or dispersed in a solvent to prepare a curable composition. If necessary, two or more solutions or appropriate combinations of each component may be prepared.
- a dispersion may be prepared in advance, and these may be mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a curable composition.
- the mechanical force used for dispersing the pigment includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
- Specific examples of means for carrying out these processes include a bead mill, a sand mill, a roll mill, a ball mill, a paint shaker, a microfluidizer, a high-speed impeller, a sand grinder, a flow jet mixer, a high-pressure wet atomization, and an ultrasonic dispersion. It is done.
- the pulverization of the pigment in the sand mill it is preferable to use the beads having a small diameter, and to perform the treatment under the condition that the pulverization efficiency is increased by increasing the filling rate of the beads. Further, it is preferable to remove coarse particles by filtration, centrifugation, or the like after the pulverization treatment.
- the process and disperser for dispersing pigments “Dispersion Technology Encyclopedia, Issued by Information Technology Corporation, July 15, 2005”, “Dispersion technology centering on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial The process and the disperser described in Paragraph No. 0022 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-157893 can be used.
- the pigment may be refined in a salt milling process.
- materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling process for example, descriptions in JP-A Nos. 2015-194521 and 2012-046629 can be referred to.
- any filter can be used without particular limitation as long as it is a filter that has been conventionally used for filtration.
- fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resin such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight)
- PP polypropylene
- polypropylene including high density polypropylene
- nylon are preferable.
- the pore size of the filter is preferably from 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably from 0.01 to 3.0 ⁇ m, still more preferably from 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the hole diameter of a filter is the said range, a fine foreign material can be removed more reliably.
- the filter manufacturer's nominal value can be referred to for the filter pore size value.
- Various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NIEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Integris Co., Ltd. (former Nihon Microlith Co., Ltd.), KITZ Microfilter Co., Ltd., etc. can be used.
- a fiber-like filter medium As the filter.
- the fiber-shaped filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, and glass fiber.
- examples of commercially available products include SBP type series (such as SBP008), TPR type series (such as TPR002 and TPR005), and SHPX type series (such as SHPX003) manufactured by Loki Techno.
- filters When using filters, different filters (for example, a first filter and a second filter) may be combined. In that case, filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Moreover, you may combine the filter of a different hole diameter within the range mentioned above. Moreover, filtration with a 1st filter may be performed only with respect to a dispersion liquid, and after mixing other components, it may filter with a 2nd filter.
- the near-infrared absorber of the present invention comprises a near-infrared absorbing dye having a group represented by the following formula (1) or a near-infrared absorbing dye having a group represented by the following formula (10). To do.
- G 1 represents NR G1 or an oxygen atom
- R G1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 2 is a steric parameter
- G 11 represents NR G11 or an oxygen atom
- R G11 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent
- G 12 represents a tertiary alkyl group having 6 or more carbon atoms.
- the near-infrared absorptive dye which has group represented by Formula (1) and the near-infrared absorptive dye which has group represented by Formula (10), the near-infrared absorptive dye of the curable composition of this invention mentioned above It is synonymous with the range demonstrated by the term of A, and its preferable range is also the same.
- the film of the present invention is obtained from the curable composition of the present invention described above.
- the film of the present invention can be preferably used for a near-infrared cut filter, an infrared transmission filter, and the like.
- the film of the present invention may have a pattern, or may be a film without a pattern (flat film).
- the film of the present invention may be used in a state of being laminated on a support, or may be used after being peeled off from the support.
- the support include a semiconductor substrate such as silicon and a transparent substrate.
- a transparent base material will not be specifically limited if it is comprised with the material which can permeate
- Glass is preferable as the material of the transparent substrate. That is, the transparent substrate is preferably a glass substrate. Examples of the glass include soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, and copper-containing glass.
- Examples of the copper-containing glass include a phosphate glass containing copper and a fluorophosphate glass containing copper.
- Examples of commercially available glass containing copper include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.).
- Examples of the crystal include crystal, lithium niobate, and sapphire.
- Examples of the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene vinyl acetate copolymer, acrylic resins such as norbornene resin, polyacrylate, and polymethyl methacrylate, urethane resins, and vinyl chloride resins.
- the base layer etc. may be provided in the surface of the support body.
- the film of the present invention When the film of the present invention is used as a near infrared cut filter, the film of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1200 nm.
- the average transmittance at a wavelength of 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. Further, the transmittance in the entire range of wavelengths from 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and further preferably 90% or more.
- the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1000 nm is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and even more preferably 10% or less.
- the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
- a color filter can be manufactured using the coloring composition containing a chromatic colorant.
- the chromatic colorant include the chromatic colorants described above.
- the coloring composition can further contain a curable compound, a photopolymerization initiator, a surfactant, a solvent, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, and the like. About these details, the material mentioned above is mentioned and these can be used.
- the color filter is disposed on the optical path of the film of the present invention.
- the film of the present invention and a color filter can be laminated and used as a laminate.
- the film of the present invention and the color filter may or may not be adjacent to each other in the thickness direction.
- the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed.
- Another member for example, a microlens, a flattening layer, or the like constituting the solid-state imaging device may be interposed between the film and the color filter.
- the thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
- the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
- the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and further preferably 0.3 ⁇ m or more.
- the near-infrared cut filter means a filter that transmits light having a wavelength in the visible region (visible light) and shields at least a part of light having a wavelength in the near-infrared region (near-infrared light). .
- the near-infrared cut filter may transmit all light having a wavelength in the visible region, transmits light in a specific wavelength region out of light having a wavelength in the visible region, and blocks light in a specific wavelength region. You may do.
- the color filter means a filter that transmits light in a specific wavelength region and blocks light in a specific wavelength region out of light in the visible region.
- the infrared transmission filter means a filter that blocks visible light and transmits at least part of near infrared rays.
- membrane of this invention can be manufactured through the process of apply
- the support to which the curable composition is applied is not particularly limited, and examples thereof include a semiconductor substrate such as silicon and the transparent substrate described above.
- An organic film or an inorganic film may be formed on the support. Examples of the material for the organic film include the above-described resins.
- the support may be formed with a charge coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like.
- CMOS complementary metal oxide semiconductor
- the support may be formed with a black matrix that isolates each pixel.
- the support may be provided with an undercoat layer for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the surface of the support, if necessary.
- a known method can be used as a method for applying the curable composition.
- a dropping method drop casting
- a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a spin coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP 2009-145395 A).
- Methods described in the publication inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
- Various printing methods transfer methods using a mold or the like; nanoimprint methods and the like.
- the composition layer formed by applying the curable composition may be dried (pre-baked).
- the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and even more preferably 110 ° C. or lower.
- the lower limit may be 50 ° C. or higher, and may be 80 ° C. or higher.
- the pre-bake time is preferably 10 to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and further preferably 80 to 220 seconds. Pre-baking can be performed with a hot plate, an oven, or the like.
- post-baking After pre-baking, heat treatment (post-baking) may be further performed.
- the post-baking temperature is preferably 100 to 240 ° C., for example. From the viewpoint of film curing, 180 to 240 ° C. is more preferable.
- the post-bake time is preferably 2 to 10 minutes, more preferably 4 to 8 minutes. Post-baking can be performed with a hot plate, oven, or the like.
- the film production method of the present invention may further include a step of forming a pattern.
- the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method. Note that in the case where the film of the present invention is used as a flat film, a step of forming a pattern may not be performed. Hereinafter, the process of forming a pattern will be described in detail.
- the pattern forming method by the photolithography method includes a step of exposing the composition layer formed by applying the curable composition of the present invention to a support (exposure step), and a composition layer in an unexposed portion. And developing a pattern to form a pattern (developing process).
- Exposure process the composition layer is exposed in a pattern.
- pattern exposure can be performed by exposing the composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. Thereby, an exposed part can be hardened.
- radiation (light) that can be used for exposure include g-line and i-line. Further, light having a wavelength of 300 nm or less (preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm) can be used.
- Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm) are preferable.
- Irradiation dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2.
- the oxygen concentration at the time of exposure can be selected as appropriate.
- a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially It may be exposed in an oxygen-free manner, or may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22%, 30%, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
- the exposure illuminance can be appropriately set, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15000 W / m 2 , or 35000 W / m 2 ). Can do.
- Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
- the unexposed portion of the composition layer is developed and removed to form a pattern.
- the development removal of the unexposed portion of the composition layer can be performed using a developer.
- the temperature of the developer is preferably 20 to 30 ° C., for example.
- the development time is preferably 20 to 180 seconds.
- the process of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
- the developer is preferably an alkaline aqueous solution obtained by diluting an alkaline agent with pure water.
- alkaline agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide.
- Organic compounds such as ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene
- Alkaline compounds sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate Um, and inorganic alkaline compound such as sodium metasilicate.
- the alkaline agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
- the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 1% by mass.
- the developer may further contain a surfactant.
- surfactant the surfactant mentioned above is mentioned, A nonionic surfactant is preferable.
- the developer may be once manufactured as a concentrated solution and diluted to a necessary concentration at the time of use from the viewpoint of convenience of transportation and storage.
- the dilution factor is not particularly limited, but can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
- alkaline aqueous solution is used as a developing solution, it is preferable to wash
- the rinsing is preferably performed by supplying a rinsing liquid to the composition layer after development while rotating the support on which the composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinsing liquid from the center of the support to the periphery of the support. At this time, when moving from the central part of the support body of the nozzle to the peripheral part, the nozzle may be moved while gradually decreasing the moving speed of the nozzle. By performing rinsing in this manner, in-plane variation of rinsing can be suppressed. Further, the same effect can be obtained by gradually decreasing the rotational speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the peripheral edge.
- Post-baking is a heat treatment after development for complete film curing.
- the post-baking temperature is preferably 100 to 240 ° C. From the viewpoint of film curing, 180 to 230 ° C. is more preferable.
- the heat treatment can also be performed by the method described in JP-A-2016-172828.
- the composition layer on the support is cured to form a cured product layer, and then a patterned photoresist layer is formed on the cured product layer, and then patterned. It can be carried out by a method such as dry etching using an etching gas on the cured product layer using the photoresist layer as a mask.
- a mode in which heat treatment after exposure and heat treatment after development (post-bake treatment) are desirable.
- the description in paragraphs 0010 to 0067 of JP2013-064993A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in this specification.
- the near-infrared cut filter of the present invention has the above-described film of the present invention.
- the near-infrared cut filter of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1200 nm.
- the average transmittance at a wavelength of 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. Further, the transmittance in the entire range of wavelengths from 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and further preferably 90% or more.
- the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1000 nm is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and even more preferably 10% or less.
- the near-infrared cut filter of the present invention may further include a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, etc. in addition to the film of the present invention.
- a near infrared cut filter having a wide viewing angle and excellent near infrared shielding properties can be easily obtained.
- the near-infrared cut filter of this invention can be set as the near-infrared cut filter excellent in ultraviolet-shielding property by having an ultraviolet absorption layer other than the film
- the ultraviolet absorbing layer for example, the absorbing layer described in paragraph Nos.
- the solid-state imaging device of the present invention has the above-described film of the present invention.
- the configuration of the solid-state imaging device is not particularly limited as long as it is a configuration having the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device. For example, the following configurations can be mentioned.
- the device On the support, there are a plurality of photodiodes that constitute the light receiving area of the solid-state imaging device, and transfer electrodes made of polysilicon, etc., and light shielding made of tungsten or the like that opens only the light receiving part of the photodiode on the photodiodes and transfer electrodes.
- the device has a device protective film made of silicon nitride or the like formed so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion on the light shielding film, and the film of the present invention is formed on the device protective film. is there.
- the device protective film has a condensing means (for example, a microlens, etc., the same applies hereinafter) under the film of the present invention (on the side close to the support), or condensing on the film of the present invention.
- a condensing means for example, a microlens, etc., the same applies hereinafter
- the structure etc. which have a means may be sufficient.
- the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned by a partition, for example, in a lattice shape.
- the partition wall preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of the image pickup apparatus having such a structure include apparatuses described in JP 2012-227478 A and JP 2014-179577 A.
- the image display device of the present invention has the film of the present invention.
- Examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
- organic EL organic electroluminescence
- image display devices refer to, for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, published by Industrial Research Institute, 1990)”, “Display Device (written by Junaki Ibuki, published in 1989 by Sangyo Tosho). ) "Etc.
- the liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Kenkyukai 1994)”.
- the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next generation liquid crystal display technology”.
- the image display device may have a white organic EL element.
- the white organic EL element preferably has a tandem structure.
- JP 2003-45676 A supervised by Akiyoshi Mikami, “Frontier of Organic EL Technology Development-High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection”, Technical Information Association, 326-328 pages, 2008, etc.
- the spectrum of white light emitted from the organic EL element preferably has a strong maximum emission peak in the blue region (430 to 485 nm), the green region (530 to 580 nm) and the yellow region (580 to 620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm) are more preferable.
- the infrared sensor of the present invention has the above-described film of the present invention.
- the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
- an embodiment of an infrared sensor of the present invention will be described with reference to the drawings.
- reference numeral 110 denotes a solid-state image sensor.
- the imaging region provided on the solid-state imaging device 110 includes a near infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114.
- a color filter 112 is laminated on the near infrared cut filter 111.
- a micro lens 115 is disposed on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
- a planarization layer 116 is formed so as to cover the microlens 115.
- the near infrared cut filter 111 can be formed using the curable composition of the present invention.
- the spectral characteristic of the near-infrared cut filter 111 is selected according to the emission wavelength of the infrared light-emitting diode (infrared LED) to be used.
- the color filter 112 is a color filter in which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region are formed, and is not particularly limited.
- a conventionally known color filter for pixel formation can be used.
- a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.
- the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED to be used.
- the infrared transmission filter 114 can also be formed using the curable composition of the present invention.
- a near-infrared cut filter (another near-infrared cut filter) different from the near-infrared cut filter 111 may be further disposed on the planarizing layer 116.
- Other near infrared cut filters include those having a layer containing copper and / or a dielectric multilayer film. Further, as another near infrared cut filter, a dual band pass filter may be used. In the infrared sensor shown in FIG. 1, the positions of the near-infrared cut filter 111 and the color filter 112 may be interchanged.
- another layer may be disposed between the solid-state image sensor 110 and the near-infrared cut filter 111 and / or between the solid-state image sensor 110 and the infrared transmission filter 114.
- the other layer include an organic layer formed using a composition containing a curable compound.
- a planarization layer may be formed over the color filter 112.
- composition 2 Compound shown in the following table: 2.3 parts Resin 2: 12.8 parts UV absorber 1: 0.5 part Surfactant 1: 0.04 part Cyclohexanone: 64.36 parts N-methylpyrrolidone: 20 parts
- composition 3 Compound shown in the following table: 2.3 parts Resin 3: 12.9 parts Crosslinkable compound 1: 12.9 parts Photopolymerization initiator 1: 2.5 parts Ultraviolet absorber 1: 0.5 parts Surfactant 1: 0.04 parts Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.006 parts Cyclohexanone: 49.6 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 19.3 parts
- composition 4 Compound shown in the following table: 2.3 parts Resin 4: 12.9 parts Crosslinkable compound 1: 12.9 parts Photopolymerization initiator 1: 2.5 parts UV absorber 1: 0.5 parts Surfactant 1: 0.04 parts Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.006 parts Cyclohexanone: 49.6 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 19.3 parts
- composition 5 Compound shown in the following table: 2.3 parts Resin 5: 12.9 parts Crosslinkable compound 2: 12.9 parts Acid generator 1: 2.5 parts Ultraviolet absorber 1: 0.5 parts Surfactant 1: 0 .04 parts Cyclohexanone: 49.6 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 19.3 parts
- composition 6 Compound shown in the following table: 2.3 parts Resin 6: 12.9 parts Acid catalyst (phosphoric acid): 2.5 parts UV absorber 1: 0.5 parts Surfactant 1: 0.04 parts Cyclohexanone: 58. 9 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 22.9 parts
- composition 7 Compounds shown in the table below: 1.2 parts for each Resin 1: 12.8 parts UV absorber 1: 0.5 parts Surfactant 1: 0.04 parts Cyclohexanone: 84.26 parts
- Resin Resin 1: ARTON F4520 (manufactured by JSR Corporation)
- Resin 6 Compound having the following structure (the numerical values attached to
- Crosslinkable compound 1 dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name KAYARAD DPHA)
- Crosslinkable compound 2 OXT-221 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
- Photopolymerization initiator 1 IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF) [2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione]
- Acid generator 1 CPI-100P (manufactured by San Apro Co., Ltd.)
- UV absorber Ultraviolet absorber 1: UV-503 (Daito Chemical Co., Ltd.)
- the compounds described in the above table are compounds having the following structures.
- Me is a methyl group.
- -Es described in Table 'values -Es sites groups corresponding to G 2 of the group represented by the formula (1)' is a value.
- the maximum absorption wavelength of the obtained film exists in the near infrared region (650 to 1200 nm), when the absorbance at the maximum absorption wavelength is 1, the smaller the average absorbance at 400 to 550 nm, It can be said that it is excellent in visible transparency.
- the obtained film was left to stand at a high temperature and high humidity of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 10 hours to conduct a moisture resistance test.
- a spectrophotometer U-4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation
- the maximum absorbance (Abs ⁇ max) at a wavelength of 650 to 1200 nm and the minimum absorbance at a wavelength of 400 to 650 nm ( Abs ⁇ min) was measured, and the absorbance ratio represented by “Abs ⁇ max / Abs ⁇ min” was determined.
- a film excellent in light resistance and moisture resistance could be formed by using the curable compositions of Examples. Further, this film had a maximum absorption wavelength in the near infrared region, and was excellent in visible transparency while being excellent in near infrared shielding properties.
- 110 Solid-state imaging device
- 111 Near-infrared cut filter
- 112 Color filter
- 114 Infrared transmission filter
- 115 Micro lens
- 116 Flattening layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Architecture (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
耐光性および耐湿性に優れた膜を形成できる硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供する。硬化性組成物は、式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含む。式中、G1はNRG1または酸素原子を表し、RG1は水素原子または1価の置換基を表す。G2は立体パラメータである-Es'値が2.4以上の1価の置換基を表す。
Description
本発明は、近赤外線吸収色素を含む硬化性組成物に関する。また、本発明は、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサに関する。
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、CCD(電荷結合素子)や、CMOS(相補型金属酸化膜半導体)が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、それには近赤外線カットフィルタを用いることが多い。
近赤外線カットフィルタに用いられる近赤外線吸収色素として、スクアリリウム化合物などが知られている。例えば、特許文献1には、特定のスクアリリウム化合物を含む硬化性組成物を用いて近赤外線カットフィルタなどを製造することが記載されている。
本発明者の検討によれば、特許文献1に記載されたスクアリリウム化合物を含む硬化性組成物を用いて得られる膜は、耐光性および耐湿性が不十分であり、さらなる改善の余地があることが分かった。
よって、本発明の目的は、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成できる硬化性組成物を提供することにある。また、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することにある。
本発明者は、種々検討した結果、後述する所定の基を有する近赤外線吸収色素を含む組成物を用いることで、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は、以下を提供する。
<1> 下記式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物;
式中、G1はNRG1または酸素原子を表し、RG1は水素原子または1価の置換基を表す;
G2は立体パラメータである-Es’値が2.4以上の1価の置換基を表す。
<2> 上記G2は3級アルキル基である、<1>に記載の硬化性組成物。
<3> 下記式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物;
式中、G11はNRG11または酸素原子を表し、RG11は水素原子または1価の置換基を表す;
G12は炭素数6以上の3級アルキル基を表す。
<4> 近赤外線吸収色素は、極大吸収波長を650~1200nmの範囲に有する、<1>~<3>のいずれかに記載の硬化性組成物。
<5> 近赤外線吸収色素は、ポリメチン化合物である、<1>~<4>のいずれかに記載の硬化性組成物。
<6> 近赤外線吸収色素は、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、および、クロコニウム化合物から選ばれる少なくとも1種である、<1>~<5>のいずれかに記載の硬化性組成物。
<7> 近赤外線吸収色素が、下記式(SQ1)で表される化合物である、<1>に記載の硬化性組成物;
式中、As1およびAs2は、それぞれ独立してアリール基、複素環基または式(As-1)で表される基を表し、As1およびAs2の少なくとも一つが式(1)で表される基を置換基として有する;
式中、*は結合手を表し、
Rs1~Rs3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
As3は複素環基を表し、
ns1は、0以上の整数を表し、
Rs1とRs2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs1とAs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs2とRs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ns1が2以上の場合、複数のRs2およびRs3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
<8> 近赤外線吸収色素が、下記式(Cy1)で表される化合物である、<1>に記載の硬化性組成物;
式中、Yは、アニオンを表す;
Rcy1~Rcy5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、かつ、Rcy1~Rcy5の少なくとも一つが上記式(1)で表される基を表す;
Rcy1~Rcy5のうち、2つが結合して環を形成していてもよい;
ncy1は0~2の整数を表し、ncy1が2の場合、複数のRcy4およびRcy5は同一であってもよく、異なっていてもよい;
Acy1およびAcy2は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
<9> 近赤外線吸収色素が、下記式(Cr1)で表される化合物である、<1>に記載の硬化性組成物;
式中、Ac1およびAc2は、それぞれ独立してアリール基、複素環基または式(Ac-1)で表される基を表し、Ac1およびAc2の少なくとも一つが式(1)で表される基を置換基として有する;
式中、*は結合手を表し、
Rc1~Rc3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ac3は複素環基を表し、
nc1は、0以上の整数を表し、
Rc1とRc2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc1とAc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc2とRc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
nc1が2以上の場合、複数のRc2およびRc3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
<10> 下記式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収剤;
式中、G1はNRG1または酸素原子を表し、RG1は水素原子または1価の置換基を表す;
G2は立体パラメータである-Es’値が2.4以上の1価の置換基を表す。
<11> 下記式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収剤;
式中、G11はNRG11または酸素原子を表し、RG11は水素原子または1価の置換基を表す;
G12は炭素数6以上の3級アルキル基を表す。
<12> <1>~<9>のいずれかに記載の硬化性組成物から得られる膜。
<13> <12>に記載の膜を有する、近赤外線カットフィルタ。
<14> <12>に記載の膜を有する、固体撮像素子。
<15> <12>に記載の膜を有する、画像表示装置。
<16> <12>に記載の膜を有する、赤外線センサ。
<1> 下記式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物;
G2は立体パラメータである-Es’値が2.4以上の1価の置換基を表す。
<2> 上記G2は3級アルキル基である、<1>に記載の硬化性組成物。
<3> 下記式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物;
G12は炭素数6以上の3級アルキル基を表す。
<4> 近赤外線吸収色素は、極大吸収波長を650~1200nmの範囲に有する、<1>~<3>のいずれかに記載の硬化性組成物。
<5> 近赤外線吸収色素は、ポリメチン化合物である、<1>~<4>のいずれかに記載の硬化性組成物。
<6> 近赤外線吸収色素は、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、および、クロコニウム化合物から選ばれる少なくとも1種である、<1>~<5>のいずれかに記載の硬化性組成物。
<7> 近赤外線吸収色素が、下記式(SQ1)で表される化合物である、<1>に記載の硬化性組成物;
Rs1~Rs3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
As3は複素環基を表し、
ns1は、0以上の整数を表し、
Rs1とRs2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs1とAs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs2とRs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ns1が2以上の場合、複数のRs2およびRs3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
<8> 近赤外線吸収色素が、下記式(Cy1)で表される化合物である、<1>に記載の硬化性組成物;
Rcy1~Rcy5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、かつ、Rcy1~Rcy5の少なくとも一つが上記式(1)で表される基を表す;
Rcy1~Rcy5のうち、2つが結合して環を形成していてもよい;
ncy1は0~2の整数を表し、ncy1が2の場合、複数のRcy4およびRcy5は同一であってもよく、異なっていてもよい;
Acy1およびAcy2は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
<9> 近赤外線吸収色素が、下記式(Cr1)で表される化合物である、<1>に記載の硬化性組成物;
Rc1~Rc3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ac3は複素環基を表し、
nc1は、0以上の整数を表し、
Rc1とRc2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc1とAc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc2とRc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
nc1が2以上の場合、複数のRc2およびRc3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
<10> 下記式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収剤;
G2は立体パラメータである-Es’値が2.4以上の1価の置換基を表す。
<11> 下記式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収剤;
G12は炭素数6以上の3級アルキル基を表す。
<12> <1>~<9>のいずれかに記載の硬化性組成物から得られる膜。
<13> <12>に記載の膜を有する、近赤外線カットフィルタ。
<14> <12>に記載の膜を有する、固体撮像素子。
<15> <12>に記載の膜を有する、画像表示装置。
<16> <12>に記載の膜を有する、赤外線センサ。
本発明によれば、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成できる硬化性組成物を提供することができる。また、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することができる。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、HLC-8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TOSOH TSKgel Super HZM-HとTOSOH TSKgel Super HZ4000とTOSOH TSKgel Super HZ2000とを連結したカラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いることによって求めることができる。
本明細書において、化学式中のMeはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Buはブチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
本明細書において、近赤外線とは、波長700~2500nmの光(電磁波)をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、HLC-8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TOSOH TSKgel Super HZM-HとTOSOH TSKgel Super HZ4000とTOSOH TSKgel Super HZ2000とを連結したカラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いることによって求めることができる。
本明細書において、化学式中のMeはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Buはブチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
本明細書において、近赤外線とは、波長700~2500nmの光(電磁波)をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
<硬化性組成物>
本発明の硬化性組成物は、後述する式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素または後述する式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含むことを特徴とする。以下、式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素を近赤外線吸収色素(1)ともいう。また、式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素を近赤外線吸収色素(10)ともいう。
本発明の硬化性組成物は、後述する式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素または後述する式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素と、硬化性化合物とを含むことを特徴とする。以下、式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素を近赤外線吸収色素(1)ともいう。また、式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素を近赤外線吸収色素(10)ともいう。
本発明の硬化性組成物を用いることにより、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができる。このような効果が得られるメカニズムとしては以下によるものであると推測される。
近赤外線吸収色素(1)は式(1)で表される基を有している。この基は、アミド結合(G1がNRG1の場合)あるいはエステル結合(G1が酸素原子の場合)を有しているので、ドナー性が向上し、極大吸収波長がより長波長側にシフトしてより長波長側に吸収を持たせることができる。このため、近赤外線吸収色素(1)は、近赤外線遮蔽性および可視透明性に優れた分光特性を有している。そして、式(1)のG2は、立体パラメータである-Es’値が2.4以上の1価の置換基であることにより、式(1)で表される基はアミド結合あるいはエステル結合近傍の立体障害が高いため、近赤外線吸収色素(1)に光が照射されても、近赤外線吸収色素(1)の光励起状態の運動を抑制し、近赤外線吸収色素(1)の光開裂を抑制できたと推測され、その結果優れた耐光性が得られたと推測される。また、式(1)で表される基はアミド結合あるいはエステル結合近傍の立体障害が高いため、式(1)で表される基が加水分解されにくくなり、その結果優れた耐湿性が得られたと推測される。また、製膜時に近赤外線吸収色素同士が凝集しすぎると得られる膜の可視透明性が低下する傾向にあるが、近赤外線吸収色素(1)は、立体障害の高い基である式(1)で表される基を有しているので、製膜時における近赤外線吸収色素(1)同士の凝集を抑制でき、その結果、より優れた可視透明性を有する膜を形成することもできる。
また、近赤外線吸収色素(10)についても近赤外線吸収色素(1)と同様のメカニズムにより、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができると推測される。そして、式(10)のG12は炭素数6以上の3級アルキル基であるため、アミド結合あるいはエステル結合近傍の立体障害が高く、近赤外線吸収色素(10)に光が照射されても、近赤外線吸収色素(10)の光励起状態の運動を抑制して近赤外線吸収色素(10)の光開裂を抑制できたと推測され、その結果優れた耐光性が得られたと推測される。また、式(10)で表される基はアミド結合あるいはエステル結合近傍の立体障害が高いため、式(10)で表される基が加水分解されにくくなり、その結果優れた耐湿性が得られたと推測される。また、製膜時に近赤外線吸収色素同士が凝集しすぎると得られる膜の可視透明性が低下する傾向にあるが、近赤外線吸収色素(10)は、立体障害の高い基である式(10)で表される基を有しているので、製膜時における近赤外線吸収色素(10)同士の凝集を抑制でき、その結果、より優れた可視透明性を有する膜を形成することもできる。
以下、本発明の硬化性組成物の各成分について説明する。
<<近赤外線吸収色素A>>
硬化性組成物は、式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素(近赤外線吸収色素(1))、または、式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素(近赤外線吸収色素(10))を含む。以下、近赤外線吸収色素(1)と近赤外線吸収色素(10)とをあわせて近赤外線吸収色素Aともいう。
硬化性組成物は、式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素(近赤外線吸収色素(1))、または、式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素(近赤外線吸収色素(10))を含む。以下、近赤外線吸収色素(1)と近赤外線吸収色素(10)とをあわせて近赤外線吸収色素Aともいう。
式(1)において、G1はNRG1または酸素原子を表し、RG1は水素原子または1価の置換基を表す。RG1が表す1価の置換基としては、炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~10が更に好ましい。アリール基の炭素数は6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~10が更に好ましい。式(1)において、G1はNRG1であることが好ましい。また、RG1は、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(1)において、G2は立体パラメータである-Es’値が2.4以上の1価の置換基を表す。G2が表わす1価の置換基の-Es’値としては、3.3以上であることが好ましく、4.0以上であることがより好ましく、4.5以上であることが更に好ましく、5.0以上であることが特に好ましい。本明細書において、-Es’値とは、置換基の立体的嵩高さを表すパラメータであり、置換基の-Es’値が大きいほどその置換基は嵩高い置換基であるといえる。置換基の-Es’値の具体例については、文献(J.A.Macphee,et al,Tetrahedron,Vol.34,pp3553~3562、藤田稔夫編、化学増刊107、構造活性相関とドラッグデザイン、1986年2月20日発行(化学同人))に示されている。
G2が表わす1価の置換基としては、-Es’値が2.4以上の基であれば特に限定はないが、炭化水素基が挙げられ、アルキル基およびアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。アルキル基およびアリール基は水素原子の一部が、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基などで置換されていてもよい。アルキル基は、2級アルキル基または3級アルキル基であることが好ましく、より優れた耐光性が得られやすいという理由から3級アルキル基であることがより好ましい。詳細な理由は不明であるが、3級アルキル基はドナー性が高いため、近赤外線吸収色素の光励起状態の運動をより効果的に抑制できたためであると推測される。また、3級アルキル基はドナー性が高いため、近赤外線吸収色素の極大吸収波長をより長波長側にシフトさせることもでき、より優れた近赤外線遮蔽性が得られやすい。
アルキル基の炭素数は6以上であることが好ましく、7以上であることがより好ましい。上限は25以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましい。G2が表わす1価の置換基は、炭素数6以上の2級アルキル基または3級アルキル基であることが好ましく、炭素数6以上の3級アルキル基であることがより好ましい。
アルキル基の炭素数は6以上であることが好ましく、7以上であることがより好ましい。上限は25以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましい。G2が表わす1価の置換基は、炭素数6以上の2級アルキル基または3級アルキル基であることが好ましく、炭素数6以上の3級アルキル基であることがより好ましい。
式(10)において、G11はNRG11または酸素原子を表し、RG11は水素原子または1価の置換基を表す。RG11が表す1価の置換基としては、炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~10が更に好ましい。アリール基の炭素数は6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~10が更に好ましい。式(10)において、G11はNRG11であることが好ましい。また、RG11は、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(10)において、G12は炭素数6以上の3級アルキル基を表す。3級アルキル基の炭素数は、7以上であることがより好ましい。上限は25以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましい。G12の-Es’値は、2.4以上であることが好ましく、3.3以上であることがより好ましく、4.0以上であることが更に好ましく、4.5以上であることがより一層好ましく、5.0以上であることが特に好ましい。
G12の好ましい具体例としては、上述したG2の具体例として挙げた基のうち3級アルキル基であるものが挙げられる。
近赤外線吸収色素Aは、極大吸収波長を650~1200nmの範囲に有することが好ましく、700~1200nmの範囲に有することがより好ましく、700~1000nmの範囲に有することが更に好ましい。近赤外線吸収色素Aが極大吸収波長を上記範囲に有することで、近赤外線遮蔽性および可視透明性に優れた膜を製造しやすい。近赤外線吸収色素Aは顔料であってもよく、染料であってもよい。本発明の効果がより顕著に得られやすく、より優れた可視透明性を有する膜を形成し易いという理由から近赤外線吸収色素Aは染料であることが好ましい。
近赤外線吸収色素Aは、上述した式(1)で表される基または式(10)で表される基を有する化合物であれば特に限定はない。ポリメチン化合物、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物が挙げられる。なかでも、本発明の効果がより顕著に得られやすいという理由からポリメチン化合物であることが好ましく、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物であることがより好ましく、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物であることが更に好ましい。
近赤外線吸収色素Aは、式(1)で表される基または式(10)で表される基を1分子中に1個以上有し、2個以上有することが好ましく、2~10個有することがより好ましく、2~6個有することが更に好ましく、2~4個有することが特に好ましい。また、近赤外線吸収色素Aが、シアニン化合物の場合、式(1)で表される基または式(10)で表される基を1分子中に1~10個有することが好ましく、1~6個有することがより好ましく、1~4個有することが更に好ましい。近赤外線吸収色素Aが、スクアリリウム化合物の場合、式(1)で表される基または式(10)で表される基を1分子中に1~10個有することが好ましく、2~10個有することがより好ましく、2~4個有することが更に好ましい。近赤外線吸収色素Aが、クロコニウム化合物の場合、式(1)で表される基または式(10)で表される基を1分子中に1~10個有することが好ましく、2~10個有することがより好ましく、2~4個有することが更に好ましい。
(スクアリリウム化合物)
近赤外線吸収色素Aとしてのスクアリリウム化合物は、下記式(SQ1)で表される化合物であることが好ましい。
式中、As1およびAs2は、それぞれ独立してアリール基、複素環基または式(As-1)で表される基を表し、As1およびAs2の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を置換基として有する;
式中、*は結合手を表し、
Rs1~Rs3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
As3は複素環基を表し、
ns1は、0以上の整数を表し、
Rs1とRs2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs1とAs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs2とRs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ns1が2以上の場合、複数のRs2およびRs3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
近赤外線吸収色素Aとしてのスクアリリウム化合物は、下記式(SQ1)で表される化合物であることが好ましい。
Rs1~Rs3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
As3は複素環基を表し、
ns1は、0以上の整数を表し、
Rs1とRs2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs1とAs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs2とRs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ns1が2以上の場合、複数のRs2およびRs3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
As1およびAs2が表わすアリール基の炭素数は、6~48が好ましく、6~22がより好ましく、6~12が特に好ましい。
As1、As2およびAs3が表わす複素環基は、5員環または6員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が2~8の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が2~4の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が2または3の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が2の縮合環の複素環基が特に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、1~3が好ましく、1~2がより好ましい。
式(As-1)におけるRs1~Rs3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表す。Rs1~Rs3が表わすアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。Rs1~Rs3は水素原子であることが好ましい。
式(As-1)におけるns1は、0以上の整数を表す。ns1は0~2の整数が好ましく、0または1がより好ましく、0が更に好ましい。
式(As-1)において、Rs1とRs2は、互いに結合して環を形成してもよく、Rs1とAs3は、互いに結合して環を形成してもよく、Rs2とRs3は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
式(SQ1)において、As1およびAs2が表わす基は置換基を有することが好ましい。置換基としては後述する置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。式(SQ1)で表される化合物は、As1およびAs2の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を置換基として有することが好ましい。
式(SQ1)において、As1およびAs2がそれぞれ独立してアリール基または複素環基であるか、あるいは、As1およびAs2がそれぞれ独立して式(As-1)で表される基であることが好ましい。
(置換基T)
置換基Tとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、-ORt1、-CORt1、-COORt1、-OCORt1、-NRt1Rt2、-NHCORt1、-CONRt1Rt2、-NHCONRt1Rt2、-NHCOORt1、-SRt1、-SO2Rt1、-SO2ORt1、-NHSO2Rt1または-SO2NRt1Rt2が挙げられる。Rt1およびRt2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。Rt1とRt2が結合して環を形成してもよい。なお、-COORt1のRt1が水素の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、-SO2ORt1のRt1が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。
置換基Tとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、-ORt1、-CORt1、-COORt1、-OCORt1、-NRt1Rt2、-NHCORt1、-CONRt1Rt2、-NHCONRt1Rt2、-NHCOORt1、-SRt1、-SO2Rt1、-SO2ORt1、-NHSO2Rt1または-SO2NRt1Rt2が挙げられる。Rt1およびRt2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。Rt1とRt2が結合して環を形成してもよい。なお、-COORt1のRt1が水素の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、-SO2ORt1のRt1が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルケニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~12がより好ましく、2~8が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルキニル基の炭素数は、2~40が好ましく、2~30がより好ましく、2~25が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が2~8の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が2~4の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、5員環または6員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Tで説明した置換基が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルケニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~12がより好ましく、2~8が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルキニル基の炭素数は、2~40が好ましく、2~30がより好ましく、2~25が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が2~8の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が2~4の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、5員環または6員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Tで説明した置換基が挙げられる。
式(SQ1)で表される化合物は、下記式(SQ2)で表される化合物または、(SQ3)で表される化合物であることが好ましい。
Rs13およびRs14はそれぞれ独立に置換基を表す;
ns11およびns12はそれぞれ独立に0~3の整数を表す;
ns11が2以上の場合、2個のRs13同士が結合して環を形成していてもよい;
ns12が2以上の場合、2個のRs14同士が結合して環を形成していてもよい;
Rs21~Rs24は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す;
Rs21とRs22、Rs23とRs24、Rs21とRs13、Rs22とRs13、Rs23とRs14、Rs24とRs14、Rs21と2個のRs13同士が結合して形成される環、Rs23と2個のRs14同士が結合して形成される環は、互いに結合して環を形成してもよい;
式(SQ2)中、Rs11およびRs12が表わす置換基としては、上述した置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。式(SQ2)で表される化合物は、Rs11およびRs12の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を表し、Rs11およびRs12が、式(1)で表される基または式(10)で表される基であることが好ましい。
式(SQ2)中、Rs13およびRs14が表わす置換基としては、上述した置換基Tが挙げられる。
式(SQ2)中、Rs21~Rs24はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。アルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が2~8の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が2~4の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、5員環または6員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Tで説明した置換基が挙げられる。
式(SQ2)中、ns11およびns12はそれぞれ独立に0~3の整数を表し、0~2の整数を表すことが好ましい。
式(SQ2)において、ns11が2以上の場合、2個のRs13同士が結合して環を形成していてもよく、ns12が2以上の場合、2個のRs14同士が結合して環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
式(SQ2)において、Rs21とRs22、Rs23とRs24、Rs21とRs13、Rs22とRs13、Rs23とRs14、Rs24とRs14は、互いに結合して環を形成してもよい。また、2個のRs13同士が結合して環を形成している場合においては、Rs21と2個のRs13同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成していてもよい。また、2個のRs14同士が結合して環を形成している場合においては、Rs23と2個のRs14同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。なお、Rs21と2個のRs13同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成している場合とは、例えば、以下の構造のことである。以下において、A1は、2個のRs13同士が結合して形成される環であり、A2は、環A1とRs22とが結合して形成される環であり、Rs22は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、Rs11およびRs13aは、水素原子または置換基であり、*は結合手である。Rs23と2個のRs14同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成している場合についても同様である。
Rs31とRs32、Rs31とRs34、Rs32とRs33、Rs36とRs37、Rs36とRs39、Rs37とRs38は、互いに結合して環を形成してもよい;
Rs41およびRs42は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Rs41およびRs42の少なくとも一方は、式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rs43およびRs44はそれぞれ独立に置換基を表す;
ns21およびns22はそれぞれ独立に0~3の整数を表す;
ns21が2以上の場合、2個のRs43同士が結合して環を形成していてもよい;
ns22が2以上の場合、2個のRs44同士が結合して環を形成していてもよい。
式(SQ3)中、Rs31~Rs34、Rs36~Rs39が表わすアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Tで説明した置換基が挙げられる。
式(SQ3)において、Rs31とRs32、Rs31とRs34、Rs32とRs33、Rs36とRs37、Rs36とRs39、Rs37とRs38は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
式(SQ3)中、Rs41およびRs42が表わす置換基としては、上述した置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。式(SQ3)で表される化合物は、Rs41およびRs42の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を表し、Rs41およびRs42が、式(1)で表される基または式(10)で表される基であることが好ましい。
式(SQ3)中、Rs43およびRs44が表わす置換基としては、上述した置換基Tが挙げられる。
式(SQ3)中、ns21およびns22はそれぞれ独立に0~3の整数を表し、0~2の整数を表すことが好ましい。
式(SQ3)において、ns21が2以上の場合、2個のRs43同士が結合して環を形成していてもよく、ns22が2以上の場合、2個のRs44同士が結合して環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
スクアリリウム化合物は、従来公知の方法、例えば、国際公開WO2014/088063号公報に記載された方法で製造することができる。具体的には、3,4-ジヒドロキシ-3-シクロブテン-1,2-ジオン(以下、スクアリン酸ともいう)と、スクアリン酸と結合して式(SQ1)に示す構造を形成可能な縮合環を有する化合物とを反応させることで製造できる。例えば、スクアリリウム化合物が左右対称の構造である場合には、スクアリン酸1当量に対して上記範囲で所望の構造の縮合環を有する化合物2当量を反応させればよい。
(シアニン化合物)
近赤外線吸収色素Aとしてのシアニン化合物は、下記式(Cy1)で表される化合物であることが好ましい。
式中、Yは、アニオンを表す;
Rcy1~Rcy5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、かつ、Rcy1~Rcy5の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rcy1~Rcy5のうち、2つが結合して環を形成していてもよい;
ncy1は0~2の整数を表し、ncy1が2の場合、複数のRcy4およびRcy5は同一であってもよく、異なっていてもよい;
Acy1およびAcy2は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
近赤外線吸収色素Aとしてのシアニン化合物は、下記式(Cy1)で表される化合物であることが好ましい。
Rcy1~Rcy5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、かつ、Rcy1~Rcy5の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rcy1~Rcy5のうち、2つが結合して環を形成していてもよい;
ncy1は0~2の整数を表し、ncy1が2の場合、複数のRcy4およびRcy5は同一であってもよく、異なっていてもよい;
Acy1およびAcy2は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
Yが表わすアニオンとしては、ハライドイオン(Cl-、Br-、I-)、p-トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、PF6
-、B(CN)4
-、BF4
-、B(C6F5)4
-、ClO4
-、トリス(ハロゲノアルキルスルホニル)メチドアニオン(例えば、(CF3SO2)3C-)、ジ(ハロゲノアルキルスルホニル)イミドアニオン(例えば(CF3SO2)2N-)、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
Rcy1~Rcy5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。式(Cy1)において、Rcy1~Rcy5の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す。なかでも、耐光性に優れるという理由からメチン鎖のメソ位(中央)に位置する基が式(1)で表される基または式(10)で表される基であることが好ましい。例えば、式(Cy1)において、ncy1が1の場合、メチン鎖のメソ位(中央)に位置するRcy3が式(1)で表される基または式(10)で表される基であることが好ましい。式(Cy1)において、Rcy1~Rcy5のうち、2つが結合して環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
ncy1は0~2の整数を表し、1または2が好ましい。ncy1が2の場合、複数のRcy4およびRcy5は同一であってもよく、異なっていてもよい。
Acy1およびAcy2が表わすアリール基の炭素数は、6~48が好ましく、6~22がより好ましく、6~12が特に好ましい。Acy1およびAcy2が表わす複素環基は、5員環または6員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が2~8の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が2~4の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が2または3の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が2の縮合環の複素環基が特に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、1~3が好ましく、1~2がより好ましい。Acy1およびAcy2は、それぞれ独立して複素環基を表すことが好ましく、含窒素複素環基を表すことがより好ましい。含窒素複素環基としては、オキサゾール環基、イソオキサゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、ナフトオキサゾール環基、オキサゾロカルバゾール環基、オキサゾロジベンゾフラン環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ナフトチアゾール環基、インドレニン環基、ベンゾインドレニン環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ナフトイミダゾール環基、キノリン環基、ピリジン環基、ピロロピリジン環基、フロピロール環基、インドリジン環基、イミダゾキノキサリン環基、キノキサリン環基が挙げられる。Acy1およびAcy2が表わす基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。
式(Cy2)中、Yは、アニオンを表す;
Rcy11は、式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rcy12~Rcy15は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す;
Rcy12とRcy13、Rcy13とRcy14、Rcy14とRcy15は、互いに結合して環を形成してもよい;
Acy11およびAcy12は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
Rcy11は、式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rcy12~Rcy15は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す;
Rcy12とRcy13、Rcy13とRcy14、Rcy14とRcy15は、互いに結合して環を形成してもよい;
Acy11およびAcy12は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
式(Cy3)中、Yは、アニオンを表す;
Rcy21は、式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rcy22~Rcy27は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す;
Rcy22とRcy23、Rcy23とRcy24、Rcy24とRcy25、Rcy25とRcy26、Rcy26とRcy27は、互いに結合して環を形成してもよい;
Acy21およびAcy22は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
Rcy21は、式(1)で表される基または式(10)で表される基を表す;
Rcy22~Rcy27は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す;
Rcy22とRcy23、Rcy23とRcy24、Rcy24とRcy25、Rcy25とRcy26、Rcy26とRcy27は、互いに結合して環を形成してもよい;
Acy21およびAcy22は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。
式(Cy2)のY、Acy11およびAcy12、式(Cy3)のY、Acy21およびAcy22は、式(Cy1)のY、Acy1およびAcy2と同義であり、好ましい範囲も同様である。式(Cy2)のRcy12~Rcy15が表す置換基、式(Cy3)のRcy22~Rcy27が表す置換基としては、上述した置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。
式(Cy2)において、Rcy12とRcy13、Rcy13とRcy14、Rcy14とRcy15は、互いに結合して環を形成してもよく、耐光性に優れるという理由から、Rcy13とRcy14は、互いに結合して環を形成していることが好ましい。また、式(Cy3)において、Rcy22とRcy23、Rcy23とRcy24、Rcy24とRcy25、Rcy25とRcy26、Rcy26とRcy27は、互いに結合して環を形成してもよく、耐光性に優れるという理由から、Rcy24とRcy25は、互いに結合して環を形成していることが好ましい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
シアニン化合物は、従来公知の方法、例えば、特開2015-172004号公報に記載された方法で製造可能である。
(クロコニウム化合物)
近赤外線吸収色素Aとしてのクロコニウム化合物は、下記式(Cr1)で表される化合物であることが好ましい。
式中、Ac1およびAc2は、それぞれ独立してアリール基、複素環基または式(Ac-1)で表される基を表し、Ac1およびAc2の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を置換基として有する;
式中、*は結合手を表し、
Rc1~Rc3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ac3は複素環基を表し、
nc1は、0以上の整数を表し、
Rc1とRc2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc1とAc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc2とRc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
nc1が2以上の場合、複数のRc2およびRc3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
近赤外線吸収色素Aとしてのクロコニウム化合物は、下記式(Cr1)で表される化合物であることが好ましい。
Rc1~Rc3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ac3は複素環基を表し、
nc1は、0以上の整数を表し、
Rc1とRc2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc1とAc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc2とRc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
nc1が2以上の場合、複数のRc2およびRc3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ac1およびAc2が表わすアリール基の炭素数は、6~48が好ましく、6~22がより好ましく、6~12が特に好ましい。
Ac1、Ac2およびAc3が表わす複素環基は、5員環または6員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が2~8の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が2~4の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が2または3の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が2の縮合環の複素環基が特に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、1~3が好ましく、1~2がより好ましい。
式(Ac-1)におけるRc1~Rc3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表す。Rc1~Rc3が表わすアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。Rc1~Rc3は水素原子であることが好ましい。
式(Ac-1)におけるnc1は、0以上の整数を表す。nc1は0~2の整数が好ましく、0または1がより好ましく、1が更に好ましい。
式(Ac-1)において、Rc1とRc2は、互いに結合して環を形成してもよく、Rc1とAc3は、互いに結合して環を形成してもよく、Rc2とRc3は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、-CO-、-O-、-NH-、炭素数1~10のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
式(Cr1)において、Ac1およびAc2が表わす基は置換基を有することが好ましい。置換基としては上述した置換基T、上述した式(1)で表される基、および、上述した式(10)で表される基が挙げられる。式(Cr1)で表される化合物は、Ac1およびAc2の少なくとも一つが式(1)で表される基または式(10)で表される基を置換基として有することが好ましい。
式(Cr1)において、Ac1およびAc2がそれぞれ独立してアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ac1およびAc2がそれぞれ独立して式(Ac-1)で表される基であることが好ましい。
クロコニウム化合物は、従来公知の方法、例えば、特開2016-79331号公報に記載された方法で製造可能である。
本発明の硬化性組成物において、近赤外線吸収色素Aの含有量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して0.1~70質量%とすることが好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましい。上限は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。本発明の硬化性組成物が、近赤外線吸収色素Aを2種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
<<他の近赤外線吸収色素>>
本発明の硬化性組成物は、上述した近赤外線吸収色素A以外の近赤外線吸収色素(他の近赤外線吸収色素)を含有することができる。他の近赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびジイモニウム化合物から選ばれる少なくとも1種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物およびクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも1種が更に好ましい。ピロロピロール化合物としては、特開2009-263614号公報の段落番号0016~0058に記載の化合物、特開2011-68731号公報の段落番号0037~0052に記載の化合物、国際公開WO2015/166873号公報の段落番号0010~0033に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。スクアリリウム化合物としては、特開2011-208101号公報の段落番号0044~0049に記載の化合物、特許第6065169号公報の段落番号0060~0061に記載の化合物、国際公開WO2016/181987号公報の段落番号0040に記載の化合物、特開2015-176046号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/190162号公報の段落番号0072に記載の化合物、特開2016-74649号公報の段落番号0196~0228に記載の化合物、特開2017-67963号公報の段落番号0124に記載の化合物、国際公開WO2017/135359号公報に記載の化合物、特開2017-114956号公報に記載の化合物、特許6197940号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/120166号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物としては、特開2009-108267号公報の段落番号0044~0045に記載の化合物、特開2002-194040号公報の段落番号0026~0030に記載の化合物、特開2015-172004号公報に記載の化合物、特開2015-172102号公報に記載の化合物、特開2008-88426号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/190162号公報の段落番号0090に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。クロコニウム化合物としては、特開2017-82029号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。ジイモニウム化合物としては、特表2008-528706号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、特開2012-77153号公報の段落番号0093に記載の化合物、特開2006-343631号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開2013-195480号公報の段落番号0013~0029に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開2012-77153号公報の段落番号0093に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、他の近赤外線吸収色素としては、特開2016-146619号公報に記載された化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。他の近赤外線吸収色素の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、上述した近赤外線吸収色素A以外の近赤外線吸収色素(他の近赤外線吸収色素)を含有することができる。他の近赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびジイモニウム化合物から選ばれる少なくとも1種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物およびクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも1種が更に好ましい。ピロロピロール化合物としては、特開2009-263614号公報の段落番号0016~0058に記載の化合物、特開2011-68731号公報の段落番号0037~0052に記載の化合物、国際公開WO2015/166873号公報の段落番号0010~0033に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。スクアリリウム化合物としては、特開2011-208101号公報の段落番号0044~0049に記載の化合物、特許第6065169号公報の段落番号0060~0061に記載の化合物、国際公開WO2016/181987号公報の段落番号0040に記載の化合物、特開2015-176046号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/190162号公報の段落番号0072に記載の化合物、特開2016-74649号公報の段落番号0196~0228に記載の化合物、特開2017-67963号公報の段落番号0124に記載の化合物、国際公開WO2017/135359号公報に記載の化合物、特開2017-114956号公報に記載の化合物、特許6197940号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/120166号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物としては、特開2009-108267号公報の段落番号0044~0045に記載の化合物、特開2002-194040号公報の段落番号0026~0030に記載の化合物、特開2015-172004号公報に記載の化合物、特開2015-172102号公報に記載の化合物、特開2008-88426号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/190162号公報の段落番号0090に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。クロコニウム化合物としては、特開2017-82029号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。ジイモニウム化合物としては、特表2008-528706号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、特開2012-77153号公報の段落番号0093に記載の化合物、特開2006-343631号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開2013-195480号公報の段落番号0013~0029に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開2012-77153号公報の段落番号0093に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、他の近赤外線吸収色素としては、特開2016-146619号公報に記載された化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。他の近赤外線吸収色素の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。
本発明の硬化性組成物が、他の近赤外線吸収色素を含有する場合、他の近赤外線吸収色素の含有量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して0.1~70質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましい。上限は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。
また、他の近赤外線吸収色素と近赤外線吸収色素Aとの合計量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して0.1~70質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましい。上限は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。本発明の硬化性組成物が、他の近赤外線吸収色素を2種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、他の近赤外線吸収色素を実質的に含まない態様とすることもできる。本発明の硬化性組成物が、他の近赤外線吸収色素を実質的に含まないとは、他の近赤外線吸収色素の含有量が硬化性組成物の全固形分に対して0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、他の近赤外線吸収色素を含有しないことがさらに好ましい。
また、他の近赤外線吸収色素と近赤外線吸収色素Aとの合計量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して0.1~70質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましい。上限は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。本発明の硬化性組成物が、他の近赤外線吸収色素を2種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、他の近赤外線吸収色素を実質的に含まない態様とすることもできる。本発明の硬化性組成物が、他の近赤外線吸収色素を実質的に含まないとは、他の近赤外線吸収色素の含有量が硬化性組成物の全固形分に対して0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、他の近赤外線吸収色素を含有しないことがさらに好ましい。
<<無機粒子>>
本発明の硬化性組成物は、無機粒子を含有することができる。無機粒子としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)粒子、酸化アンチモンスズ(ATO)粒子、酸化亜鉛(ZnO)粒子、Alドープ酸化亜鉛(AlドープZnO)粒子、フッ素ドープ二酸化スズ(FドープSnO2)粒子、ニオブドープ二酸化チタン(NbドープTiO2)粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀(Ag)粒子、金(Au)粒子、銅(Cu)粒子、ニッケル(Ni)粒子などが挙げられる。無機粒子については、特開2016-006476号公報の段落番号0080の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。無機粒子は酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。セシウム酸化タングステンとしては、特開2016-006476号公報の段落番号0080に記載された化合物や、特許第6210180号公報に記載されたセシウム酸化タングステンを用いることもできる。
本発明の硬化性組成物は、無機粒子を含有することができる。無機粒子としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)粒子、酸化アンチモンスズ(ATO)粒子、酸化亜鉛(ZnO)粒子、Alドープ酸化亜鉛(AlドープZnO)粒子、フッ素ドープ二酸化スズ(FドープSnO2)粒子、ニオブドープ二酸化チタン(NbドープTiO2)粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀(Ag)粒子、金(Au)粒子、銅(Cu)粒子、ニッケル(Ni)粒子などが挙げられる。無機粒子については、特開2016-006476号公報の段落番号0080の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。無機粒子は酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。セシウム酸化タングステンとしては、特開2016-006476号公報の段落番号0080に記載された化合物や、特許第6210180号公報に記載されたセシウム酸化タングステンを用いることもできる。
本発明の硬化性組成物が、無機粒子を含有する場合、無機粒子の含有量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して0.1~50質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましい。上限は、40質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましい。また、本発明の硬化性組成物は、無機粒子を実質的に含まない態様とすることもできる。本発明の硬化性組成物が、無機粒子を実質的に含まないとは、無機粒子の含有量が硬化性組成物の全固形分に対して0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、無機粒子を含有しないことがさらに好ましい。
<<有彩色着色剤>>
本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、極大吸収波長が400~650nmの範囲に有する着色剤が好ましい。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは顔料である。
本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、極大吸収波長が400~650nmの範囲に有する着色剤が好ましい。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは顔料である。
顔料は、有機顔料であることが好ましく、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されない。
カラーインデックス(C.I.)Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214等(以上、黄色顔料)、
C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279等(以上、赤色顔料)、
C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59等(以上、緑色顔料)、
C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42等(以上、紫色顔料)、
C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80等(以上、青色顔料)、
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
カラーインデックス(C.I.)Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214等(以上、黄色顔料)、
C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279等(以上、赤色顔料)、
C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59等(以上、緑色顔料)、
C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42等(以上、紫色顔料)、
C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80等(以上、青色顔料)、
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開2015-028144号公報、特開2015-34966号公報に記載の染料を用いることもできる。
本発明の硬化性組成物が有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して0.1~70質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1.0質量%以上がより好ましい。上限は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。
有彩色着色剤の含有量は、近赤外線吸収色素の100質量部に対し、10~1000質量部が好ましく、50~800質量部がより好ましい。
また、有彩色着色剤と近赤外線吸収色素と上述した他の近赤外線吸収色素との合計量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して1~80質量%が好ましい。下限は、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。上限は、70質量%以下が好ましく、60質量%以下がより好ましい。本発明の硬化性組成物が、有彩色着色剤を2種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
有彩色着色剤の含有量は、近赤外線吸収色素の100質量部に対し、10~1000質量部が好ましく、50~800質量部がより好ましい。
また、有彩色着色剤と近赤外線吸収色素と上述した他の近赤外線吸収色素との合計量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して1~80質量%が好ましい。下限は、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。上限は、70質量%以下が好ましく、60質量%以下がより好ましい。本発明の硬化性組成物が、有彩色着色剤を2種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を実質的に含有しないことも好ましい。有彩色着色剤を実質的に含有しないとは、有彩色着色剤の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、有彩色着色剤を含有しないことがさらに好ましい。
<<赤外線を透過させて可視光を遮光する色材>>
本発明の硬化性組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材(以下、可視光を遮光する色材ともいう)を含有することもできる。
本発明において、可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、本発明において、可視光を遮光する色材は、波長450~650nmの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長900~1300nmの光を透過する色材であることが好ましい。
本発明において、可視光を遮光する色材は、以下の(A)および(B)の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
(A):2種以上の有彩色着色剤を含み、2種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
(B):有機系黒色着色剤を含む。
本発明の硬化性組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材(以下、可視光を遮光する色材ともいう)を含有することもできる。
本発明において、可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、本発明において、可視光を遮光する色材は、波長450~650nmの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長900~1300nmの光を透過する色材であることが好ましい。
本発明において、可視光を遮光する色材は、以下の(A)および(B)の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
(A):2種以上の有彩色着色剤を含み、2種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
(B):有機系黒色着色剤を含む。
有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表2010-534726号公報、特表2012-515233号公報、特表2012-515234号公報、国際公開WO2014/208348号公報、特表2015-525260号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、BASF社製の「Irgaphor Black」として入手可能である。ペリレン化合物としては、C.I.Pigment Black 31、32などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平1-170601号公報、特開平2-34664号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックA1103」として入手できる。
2種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
(1)黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(2)黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(3)黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(4)黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
(5)緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(6)紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
(7)緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(8)緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(1)黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(2)黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(3)黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(4)黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
(5)緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(6)紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
(7)緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
(8)緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
本発明の硬化性組成物が、可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、30質量%以下がさらに好ましく、20質量%以下がより一層好ましく、15質量%以下が特に好ましい。下限は、例えば、0.1質量%以上とすることができ、0.5質量%以上とすることもできる。
また、本発明の硬化性組成物は、可視光を遮光する色材を実質的に含有しないことも好ましい。可視光を遮光する色材を実質的に含有しないとは、可視光を遮光する色材の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことがさらに好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、可視光を遮光する色材を実質的に含有しないことも好ましい。可視光を遮光する色材を実質的に含有しないとは、可視光を遮光する色材の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことがさらに好ましい。
<<顔料誘導体>>
本発明の硬化性組成物が顔料を含む場合、更に顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、顔料の一部分を、酸性基、塩基性基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体は、分散性及び分散安定性の観点から、酸性基又は塩基性基を有する顔料誘導体を含有することが好ましい。本発明の硬化性組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料100質量部に対し、1~50質量部が好ましい。下限値は、3質量部以上が好ましく、5質量部以上がより好ましい。上限値は、40質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の硬化性組成物が顔料を含む場合、更に顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、顔料の一部分を、酸性基、塩基性基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体は、分散性及び分散安定性の観点から、酸性基又は塩基性基を有する顔料誘導体を含有することが好ましい。本発明の硬化性組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料100質量部に対し、1~50質量部が好ましい。下限値は、3質量部以上が好ましく、5質量部以上がより好ましい。上限値は、40質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<硬化性化合物>>
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、架橋性化合物、樹脂等が挙げられる。樹脂は、非架橋性の樹脂(架橋性基を有さない樹脂)であってもよく、架橋性の樹脂(架橋性基を有する樹脂)であってもよい。架橋性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基、アルコキシシリル基、クロロシリル基等が挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル基が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基がより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられ、エポキシ基が好ましい。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられ、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が好ましい。また、アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、1~5が好ましく、1~3がより好ましく、1または2が特に好ましい。クロロシリル基としては、モノクロロシリル基、ジクロロシリル基、トリクロロシリル基が挙げられ、ジクロロシリル基、トリクロロシリル基が好ましく、トリクロロシリル基がより好ましい。
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、架橋性化合物、樹脂等が挙げられる。樹脂は、非架橋性の樹脂(架橋性基を有さない樹脂)であってもよく、架橋性の樹脂(架橋性基を有する樹脂)であってもよい。架橋性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基、アルコキシシリル基、クロロシリル基等が挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル基が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基がより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられ、エポキシ基が好ましい。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられ、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が好ましい。また、アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、1~5が好ましく、1~3がより好ましく、1または2が特に好ましい。クロロシリル基としては、モノクロロシリル基、ジクロロシリル基、トリクロロシリル基が挙げられ、ジクロロシリル基、トリクロロシリル基が好ましく、トリクロロシリル基がより好ましい。
本発明において、硬化性化合物としては、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましく、樹脂とモノマータイプの架橋性化合物とを用いることがより好ましく、樹脂と、エチレン性不飽和結合を有する基を含むモノマータイプの架橋性化合物とを用いることが更に好ましい。
硬化性化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~80質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましい。上限は、70質量%以下が好ましく、60質量%以下がより好ましく、50質量%以下が更に好ましく、40質量%以下が特に好ましい。本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。硬化性化合物を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
(架橋性化合物)
架橋性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物、アルコキシシリル基を有する化合物、クロロシリル基を有する化合物等が挙げられる。架橋性化合物は、モノマーであってもよく、樹脂であってもよい。エチレン性不飽和結合を有する基を含むモノマータイプの架橋性化合物は、ラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。また、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物は、カチオン重合性化合物として好ましく用いることができる。
架橋性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物、アルコキシシリル基を有する化合物、クロロシリル基を有する化合物等が挙げられる。架橋性化合物は、モノマーであってもよく、樹脂であってもよい。エチレン性不飽和結合を有する基を含むモノマータイプの架橋性化合物は、ラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。また、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物は、カチオン重合性化合物として好ましく用いることができる。
モノマータイプの架橋性化合物の分子量は、2000未満であることが好ましく、100以上2000未満であることがより好ましく、200以上2000未満であることがさらに好ましい。上限は、例えば1500以下であることが好ましい。樹脂タイプ(ポリマータイプ)の架橋性化合物の重量平均分子量(Mw)は、2,000~2,000,000であることが好ましい。上限は、1,000,000以下であることが好ましく、500,000以下であることがより好ましい。下限は、3,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましい。
R1は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、1~5が好ましく、1~3がさらに好ましく、1が特に好ましい。R1は、水素原子またはメチル基が好ましい。
L51は、単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2-、-NR10-(R10は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい)、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~10がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、6~18が好ましく、6~14がより好ましく、6~10がさらに好ましい。
P1は、架橋性基を表す。架橋性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基、アルコキシシリル基、クロロシリル基などが挙げられる。
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、3~15官能の(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、3~6官能の(メタ)アクリレート化合物であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としては、NKエステルATM-35E;新中村化学工業(株)製)、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(市販品としては、KAYARAD D-330;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としては、KAYARAD D-320;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としては KAYARAD D-310;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としては、KAYARAD DPHA;日本化薬(株)製、A-DPH-12E;新中村化学工業(株)製)、およびこれらの(メタ)アクリロイル基が、エチレングリコール残基および/またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物としては、特開2013-253224号公報の段落番号0034~0038、特開2012-208494号公報の段落番号0477(対応する米国特許出願公開第2012/0235099号明細書の段落番号0585)に化合物等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、ジグリセリンEO(エチレンオキシド)変性(メタ)アクリレート(市販品としてはM-460;東亞合成製)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製、A-TMMT)、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD HDDA)、RP-1040(日本化薬(株)製)、アロニックス M-350、TO-2349(東亞合成製)を使用することもできる。
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、さらに、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。このような化合物の市販品としては、東亞合成株式会社製のアロニックスシリーズ(例えば、M-305、M-510、M-520)などが挙げられる。
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開2013-253224号公報の段落0042~0045の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬(株)からKAYARAD DPCAシリーズとして市販されている、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等が挙げられる。
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基と、エチレンオキシ基および/またはプロピレンオキシ基とを有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基とエチレンオキシ基とを有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を4~20個有する3~6官能(メタ)アクリレート化合物であることがさらに好ましい。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を4個有する4官能(メタ)アクリレートであるSR-494、イソブチレンオキシ基を3個有する3官能(メタ)アクリレートであるKAYARAD TPA-330などが挙げられる。
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、特公昭48-41708号公報、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報に記載されているウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭63-277653号公報、特開昭63-260909号公報、特開平1-105238号公報に記載されている分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、UA-7200(新中村化学工業(株)製)、DPHA-40H(日本化薬(株)製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共栄社化学(株))製などが挙げられる。
また、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、特開2017-48367号公報、特許第6057891号公報、特許第6031807号公報に記載されている化合物、特開2017-194662号公報に記載されている化合物を用いることもできる。また、8UH-1006、8UH-1012(以上、大成ファインケミカル(株)製)、ライトアクリレートPOB-A0(共栄社化学(株)製)などを用いることも好ましい。
また、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、特開2017-48367号公報、特許第6057891号公報、特許第6031807号公報に記載されている化合物、特開2017-194662号公報に記載されている化合物を用いることもできる。また、8UH-1006、8UH-1012(以上、大成ファインケミカル(株)製)、ライトアクリレートPOB-A0(共栄社化学(株)製)などを用いることも好ましい。
本発明の硬化性組成物がエチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物を含有する場合、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
また、モノマータイプのエチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
また、モノマータイプのエチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
環状エーテル基を有する化合物としては、単官能または多官能グリシジルエーテル化合物、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物、環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む樹脂などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物(以下、エポキシ化合物ともいう)であることが好ましい。
エポキシ化合物は、1分子中にエポキシ基を1~100個有する化合物が好ましい。エポキシ基の数の上限は、例えば、10個以下とすることもでき、5個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は2個以上が好ましい。
エポキシ化合物は、低分子化合物(例えば、分子量1000未満)でもよいし、高分子化合物(macromolecule)(例えば、分子量1000以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が1000以上)のいずれでもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、2000~100000が好ましい。重量平均分子量の上限は、10000以下が好ましく、5000以下がより好ましく、3000以下が更に好ましい。
環状エーテル基を有する化合物については、特開2012-155288号公報の段落番号0191の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状エーテル基を有する化合物は特開2017-179172号公報に記載された化合物を用いることもできる。また、環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、デナコール EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L(以上、ナガセケムテックス(株)製)等の多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物が挙げられる。これらは低塩素品であるが、低塩素品ではないEX-212、EX-214、EX-216、EX-321、EX-850なども同様に使用できる。その他にも、ADEKA RESIN EP-4000S、EP-4003S、EP-4010S、EP-4011S(以上、(株)ADEKA製)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上、(株)ADEKA製)、JER1031S、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、PB 4700(以上、(株)ダイセル製)、サイクロマーP ACA 200M、ACA 230AA、ACA Z250、ACA Z251、ACA Z300、ACA Z320(以上、(株)ダイセル製)、JER-157S65、JER-152、JER-154、JER-157S70(以上、三菱化学(株)製)、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上、東亞合成(株)製)を用いることができる。また、アデカグリシロール ED-505((株)ADEKA製、エポキシ基含有モノマー)、マープルーフG-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(日油(株)製、エポキシ基含有ポリマー)などを用いることもできる。
本発明の硬化性組成物が環状エーテル基を有する化合物を含有する場合、環状エーテル基を有する化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
メチロール基を有する化合物(以下、メチロール化合物ともいう)としては、メチロール基が、窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。また、アルコキシメチル基を有する化合物(以下、アルコキシメチル化合物ともいう)としては、アルコキシメチル基が、窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基またはメチロール基が、窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素およびメチロール化尿素等が好ましい。また、特開2004-295116号公報の段落0134~0147、特開2014-089408の段落0095~0126の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の硬化性組成物がメチロール化合物を含有する場合、メチロール化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
本発明の硬化性組成物がアルコキシメチル化合物を含有する場合、アルコキシメチル化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
アルコキシシリル基を有する化合物およびクロロシリル基を有する化合物としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、1,6-ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス-(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジクロロ(メチル)フェニルシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシランなどが挙げられる。また、アルコキシシリル基を有する繰り返し単位を含む樹脂、クロロシリル基を有する繰り返し単位を含む樹脂などを用いることもできる。市販品としては、信越シリコーン社製のKBM-13、KBM-22、KBM-103、KBE-13、KBE-22、KBE-103、KBM-3033、KBE-3033、KBM-3063、KBE-3063、KBE-3083、KBM-3103、KBM-3066、KBM-7103、SZ-31、KPN-3504、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007などが挙げられる。
本発明の硬化性組成物がアルコキシシリル基を有する化合物を含有する場合アルコキシシリル基を有する化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
本発明の硬化性組成物がクロロシリル基を有する化合物を含有する場合、クロロシリル基を有する化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。
(樹脂)
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物として樹脂を用いることができる。硬化性化合物は、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。樹脂は分散剤として用いることもできる。なお、顔料などを分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。なお、架橋性基を有する樹脂は、架橋性化合物にも該当する。
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物として樹脂を用いることができる。硬化性化合物は、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。樹脂は分散剤として用いることもできる。なお、顔料などを分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。なお、架橋性基を有する樹脂は、架橋性化合物にも該当する。
樹脂の重量平均分子量(Mw)は、2,000~2,000,000が好ましい。上限は、1,000,000以下が好ましく、500,000以下がより好ましい。下限は、3,000以上が好ましく、5,000以上がより好ましい。
樹脂としては、繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。樹脂の具体例としては、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、JSR(株)製のARTONシリーズ(例えば、ARTON F4520)などが挙げられる。ポリイミド樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製のネオプリム(登録商標)シリーズ(例えば、C3450)などが挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。また、エポキシ樹脂としては、マープルーフG-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(日油(株)製、エポキシ基含有ポリマー)などを用いることもできる。ウレタン樹脂としては、8UH-1006、8UH-1012(大成ファインケミカル(株)製)が挙げられる。また、樹脂は、国際公開WO2016/088645号公報の実施例に記載された樹脂、特開2017-57265号公報に記載された樹脂、特開2017-32685号公報に記載された樹脂、特開2017-075248号公報に記載された樹脂、特開2017-066240号公報に記載された樹脂、特開2017-167513号公報に記載された樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、樹脂は、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂としては、下記構造の樹脂が挙げられる。以下の構造式中、Aは、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物およびジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物から選択されるカルボン酸二無水物の残基であり、Mはフェニル基またはベンジル基である。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第2017/0102610号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
樹脂の重量平均分子量(Mw)は、2,000~2,000,000が好ましい。上限は、1,000,000以下が好ましく、500,000以下がより好ましい。下限は、3,000以上が好ましく、5,000以上がより好ましい。また、エポキシ樹脂の場合、エポキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は、100以上が好ましく、100~2,000,000がより好ましい。上限は、1,000,000以下が好ましく、500,000以下がより好ましい。下限は、200以上がより好ましい。
本発明で用いる樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。酸基を有する樹脂は、側鎖にカルボキシル基を有する繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましい。
酸基を有する樹脂は、更に架橋性基を有する繰り返し単位を含有していてもよい。酸基を有する樹脂が、更に架橋性基を有する繰り返し単位を含有する場合、全繰り返し単位中における架橋性基を有する繰り返し単位の含有量は、10~90モル%であることが好ましく、20~90モル%であることがより好ましく、20~85モル%であることがさらに好ましい。また、全繰り返し単位中における酸基を有する繰り返し単位の含有量は、1~50モル%であることが好ましく、5~40モル%であることがより好ましく、5~30モル%であることがさらに好ましい。
酸基を有する樹脂は、下記式(ED1)で示される化合物および/または下記式(ED2)で表される化合物(以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。)を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
式(ED1)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1~25の炭化水素基を表す。
式(ED2)中、Rは、水素原子または炭素数1~30の有機基を表す。式(ED2)の具体例としては、特開2010-168539号公報の記載を参酌できる。
エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開2013-29760号公報の段落番号0317を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
酸基を有する樹脂は、下記式(X)で示される化合物に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
式(X)において、R1は、水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数2~10のアルキレン基を表し、R3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数1~20のアルキル基を表す。nは1~15の整数を表す。
酸基を有する樹脂については、特開2012-208494号公報の段落番号0558~0571(対応する米国特許出願公開第2012/0235099号明細書の段落番号0685~0700)の記載、特開2012-198408号公報の段落番号0076~0099の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。例えば、アクリベースFF-426(藤倉化成(株)製)などが挙げられる。
酸基を有する樹脂の酸価は、30~200mgKOH/gが好ましい。下限は、50mgKOH/g以上が好ましく、70mgKOH/g以上がより好ましい。上限は、150mgKOH/g以下が好ましく、120mgKOH/g以下がより好ましい。
本発明の硬化性組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤(酸性樹脂)、塩基性分散剤(塩基性樹脂)が挙げられる。ここで、酸性分散剤(酸性樹脂)とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤(酸性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、酸基の量が70モル%以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)の酸価は、40~105mgKOH/gが好ましく、50~105mgKOH/gがより好ましく、60~105mgKOH/gがさらに好ましい。また、塩基性分散剤(塩基性樹脂)とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤(塩基性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、塩基性基の量が50モル%を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開2012-255128号公報の段落番号0025~0094の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤であることも好ましい。オリゴイミン系分散剤は、pKa14以下の官能基を有する部分構造Xを有する構造単位と、原子数40~10,000の側鎖Yを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂であることが好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系分散剤については、特開2012-255128号公報の段落番号0102~0174の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、Disperbyk-111(BYKChemie社製)、ソルスパース76500(日本ルーブリゾール(株)製)などが挙げられる。また、特開2014-130338号公報の段落番号0041~0130に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した酸基を有する樹脂などを分散剤として用いることもできる。
本発明の硬化性組成物が樹脂を含有する場合、樹脂の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して1~80質量%であることが好ましい。下限は、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上が更に好ましく、20質量%以上が特に好ましい。上限は、70質量%以下が好ましく、60質量%以下がより好ましく、50質量%以下が更に好ましく、40質量%以下が特に好ましい。また、酸基を含有する樹脂の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましく、2質量%以上が更に好ましく、3質量%以上が特に好ましい。上限は、30質量%以下がより好ましく、20質量%以下が更に好ましい。また、樹脂として分散剤を含有する場合、分散剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1~40質量%が好ましい。上限は、20質量%以下が好ましく、10質量%以下がさらに好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1質量%以上がさらに好ましい。また、分散剤の含有量は、顔料100質量部に対して、1~100質量部が好ましい。上限は、80質量部以下が好ましく、75質量部以下がより好ましい。下限は、2.5質量部以上が好ましく、5質量部以上がより好ましい。
本発明の硬化性組成物は、樹脂を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。樹脂を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、樹脂を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。樹脂を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<光重合開始剤>>
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含有する場合、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、ラジカル重合性化合物の重合反応を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含有する場合、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、ラジカル重合性化合物の重合反応を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など)、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および3-アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤については、特開2014-130173号公報の段落0065~0111の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
α-ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上、BASF社製)などが挙げられる。α-アミノケトン化合物の市販品としては、IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379、及び、IRGACURE-379EG(以上、BASF社製)などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上、BASF社製)などが挙げられる。
オキシム化合物としては、特開2001-233842号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)に記載の化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)に記載の化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)に記載の化合物、特開2000-66385号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報に記載の化合物、特表2004-534797号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、特開2017-19766号公報に記載の化合物、特許第6065596号公報に記載の化合物、国際公開WO2015/152153号公報に記載の化合物、国際公開WO2017/051680公報に記載の化合物などがあげられる。オキシム化合物の具体例としては、3-ベンゾイルオキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-(4-トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン-2-オン、及び2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オンなどが挙げられる。市販品としては、IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上、BASF社製)、TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製)、アデカオプトマーN-1919((株)ADEKA製、特開2012-14052号公報に記載の光重合開始剤2)が挙げられるまた、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズNCI-730、NCI-831、NCI-930(以上、(株)ADEKA製)などが挙げられる。
本発明において、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2014-137466号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2010-262028号公報に記載の化合物、特表2014-500852号公報に記載の化合物24、36~40、特開2013-164471号公報に記載の化合物(C-3)などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2013-114249号公報の段落番号0031~0047、特開2014-137466号公報の段落番号0008~0012、0070~0079に記載されている化合物、特許第4223071号公報の段落番号0007~0025に記載されている化合物、アデカアークルズNCI-831((株)ADEKA製)が挙げられる。
本発明において、光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開WO2015/036910号公報に記載されるOE-01~OE-75が挙げられる。
本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
オキシム化合物は、波長350~500nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長360~480nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長365nm又は波長405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、1,000~300,000であることがより好ましく、2,000~300,000であることが更に好ましく、5,000~200,000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計(Varian社製Cary-5 spectrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
本発明は、光重合開始剤として、2官能あるいは3官能以上の光重合開始剤を用いてもよい。このような光重合開始剤を用いることにより、光重合開始剤の1分子から2つ以上のラジカル等の活性種が発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。そのような光重合開始剤の具体例としては、特表2010-527339号公報、特表2011-524436号公報、国際公開WO2015/004565号公報、特表2016-532675号公報の段落番号0417~0412、国際公開WO2017/033680号公報の段落番号0039~0055に記載されているオキシム化合物の2量体や、特表2013-522445号公報に記載されている化合物(E)および化合物(G)、国際公開WO2016/034963号公報に記載されているCmpd1~7、特表2017-523465号公報の段落番号0007に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開2017-167399号公報の段落番号0020~0033に記載されている光開始剤、特開2017-151342号公報の段落番号0017~0026に記載されている光重合開始剤(A)などが挙げられる。
光重合開始剤は、オキシム化合物とα-アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα-アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物100質量部に対して、α-アミノケトン化合物が50~600質量部が好ましく、150~400質量部がより好ましい。
光重合開始剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し0.1~50質量%が好ましく、0.5~30質量%がより好ましく、1~20質量%が更に好ましい。光重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。本発明の硬化性組成物は、光重合開始剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。光重合開始剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<酸発生剤>>
本発明の硬化性組成物は、酸発生剤を含有することができる。特に、硬化性化合物が環状エーテル基を有する化合物など、カチオン重合性化合物を含有する場合、酸発生剤を含有することが好ましい。酸発生剤は、光照射により酸を発生する化合物(光酸発生剤)が好ましい。酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、o-ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。酸発生剤の種類、具体的化合物、および好ましい例としては、特開2008-13646号公報の段落番号0066~0122に記載の化合物などを挙げることができ、これらを本発明にも適用することができる。また、本発明に使用しうる酸発生剤として好ましい化合物は、下記式(b1)、(b2)、(b3)で表される化合物を挙げることができる。
本発明の硬化性組成物は、酸発生剤を含有することができる。特に、硬化性化合物が環状エーテル基を有する化合物など、カチオン重合性化合物を含有する場合、酸発生剤を含有することが好ましい。酸発生剤は、光照射により酸を発生する化合物(光酸発生剤)が好ましい。酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、o-ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。酸発生剤の種類、具体的化合物、および好ましい例としては、特開2008-13646号公報の段落番号0066~0122に記載の化合物などを挙げることができ、これらを本発明にも適用することができる。また、本発明に使用しうる酸発生剤として好ましい化合物は、下記式(b1)、(b2)、(b3)で表される化合物を挙げることができる。
式(b1)において、R201、R202、及びR203は、各々独立に有機基を表す。X-は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス(アルキルスルホニル)アミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオン、BF4
-、PF6
-およびSbF6
-であり、より好ましくはBF4
-、PF6
-およびSbF6
-である。
酸発生剤の市販品としては、WPAG-469(和光純薬(社)製)、CPI-100P(サンアプロ(株)製)などが挙げられる。
酸発生剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し0.1~50質量%が好ましく、0.5~30質量%がより好ましく、0.5~20質量%が更に好ましい。本発明の硬化性組成物は、酸発生剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。酸発生剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<架橋助剤>>
本発明の硬化性組成物は、架橋性化合物の反応を促進させることなどを目的として、架橋助剤を含むことが好ましい。架橋助剤としては、多官能チオール、アルコール、アミンおよびカルボン酸から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、架橋性化合物の反応を促進させることなどを目的として、架橋助剤を含むことが好ましい。架橋助剤としては、多官能チオール、アルコール、アミンおよびカルボン酸から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
架橋助剤としての多官能チオールとしては、分子内に2個以上のチオール基を有する化合物が挙げられる。多官能チオールは、2級のアルカンチオール類であることが好ましく、特に下記式(T1)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
式(T1)
式(T1)中、nは2~4の整数を表し、Lは2~4価の連結基を表す。
式(T1)
式(T1)において、連結基Lは炭素数2~12の脂肪族基であることが好ましく、nが2であり、Lが炭素数2~12のアルキレン基であることが特に好ましい。多官能チオールの具体例としては、下記の構造式(T2)~(T4)で表される化合物が挙げられ、式(T2)で表される化合物が特に好ましい。多官能チオールは1種または複数種組み合わせて使用することが可能である。
架橋助剤としてのアミンとしては、多価アミンが好ましく、ジアミンがより好ましい。例えば、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエチレンイミンなどが挙げられる。
架橋助剤としてのアルコールとしては、多価アルコールが好ましく、ジオールがより好ましい。例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物等が挙げられる。アルコールの具体例について、例えば、特開2013-253224号公報の段落番号0128~0163、0172の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
架橋助剤としてのカルボン酸としては、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸(無水物)、マレイン酸、フタル酸、トリメリット酸などが挙げられる。また、特開2017-036379号公報に記載のカルボキシ基含有エポキシ硬化剤を用いることもできる。
架橋助剤の含有量は、架橋性化合物の100質量部に対し1~1000質量部が好ましく、より好ましくは1~500質量部であり、さらに好ましくは1~200質量部である。本発明の硬化性組成物は、架橋助剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。架橋助剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<触媒>>
本発明の硬化性組成物は、触媒をさらに含有することができる。特に、硬化性化合物として、アルコキシシリル基や、クロロシリル基を有する化合物を用いた場合、触媒を含有させることが好ましい。この態様によれば、ゾルゲル反応が促進されて、より強固な膜が得られやすい。触媒としては、酸触媒、塩基触媒などが挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸等のカルボン酸、RCOOHで示される構造式のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸などが挙げられる。また、塩化アルミニウム、アルミニウムアセチルアセトナート、塩化亜鉛、塩化スズ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、ヨードトリメチルシランなどのルイス酸を用いてもよい。塩基触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基化合物、エチルアミンやアニリンなどの有機アミンなどが挙げられる。また、触媒は、特開2013-201007号公報の段落番号0070~0076に記載の触媒を用いることもできる。
触媒の含有量は、架橋性化合物の100質量部に対し0.1~100質量部が好ましく、より好ましくは0.1~50質量部であり、さらに好ましくは0.1~20質量部である。本発明の硬化性組成物は、触媒を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。触媒を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、触媒をさらに含有することができる。特に、硬化性化合物として、アルコキシシリル基や、クロロシリル基を有する化合物を用いた場合、触媒を含有させることが好ましい。この態様によれば、ゾルゲル反応が促進されて、より強固な膜が得られやすい。触媒としては、酸触媒、塩基触媒などが挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸等のカルボン酸、RCOOHで示される構造式のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸などが挙げられる。また、塩化アルミニウム、アルミニウムアセチルアセトナート、塩化亜鉛、塩化スズ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、ヨードトリメチルシランなどのルイス酸を用いてもよい。塩基触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基化合物、エチルアミンやアニリンなどの有機アミンなどが挙げられる。また、触媒は、特開2013-201007号公報の段落番号0070~0076に記載の触媒を用いることもできる。
触媒の含有量は、架橋性化合物の100質量部に対し0.1~100質量部が好ましく、より好ましくは0.1~50質量部であり、さらに好ましくは0.1~20質量部である。本発明の硬化性組成物は、触媒を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。触媒を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<溶剤>>
本発明の硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開WO2015/166779号公報の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。本発明において有機溶剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
本発明の硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開WO2015/166779号公報の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。本発明において有機溶剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば10質量ppb(parts per billion)以下であることが好ましい。必要に応じて質量ppt(parts per trillion)レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している(化学工業日報、2015年11月13日)。
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、3μm以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
溶剤は、異性体(原子数が同じであるが構造が異なる化合物)が含まれていてもよい。また、異性体は、1種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が0.8mmol/L以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
溶剤の含有量は、本発明の硬化性組成物の全量に対し、10~90質量%であることが好ましい。下限は、20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が更に好ましく、50質量%以上がより一層好ましく、60質量%以上が特に好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、硬化性組成物中における環境規制物質の含有量が50質量ppm以下であることを意味し、30質量ppm以下であることが好ましく、10質量ppm以下であることが更に好ましく、1質量ppm以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えばベンゼン;トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類;クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals)規則、PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)法、VOC(Volatile Organic Compounds)規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、本発明の硬化性組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として硬化性組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物(例えば重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液)の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した硬化性組成物の段階いずれの段階でも可能である。
<<重合禁止剤>>
本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)等、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン 1-オキシルなどが挙げられる。重合禁止剤の含有量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して、0.001~5質量%が好ましい。本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。重合禁止剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)等、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン 1-オキシルなどが挙げられる。重合禁止剤の含有量は、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して、0.001~5質量%が好ましい。本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。重合禁止剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<界面活性剤>>
本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤については、国際公開WO2015/166779号公報の段落番号0238~0245の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。本発明の硬化性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性(特に、流動性)が向上し、省液性をより改善できる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤については、国際公開WO2015/166779号公報の段落番号0238~0245の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。本発明の硬化性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性(特に、流動性)が向上し、省液性をより改善できる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3~40質量%が好ましく、5~30質量%がより好ましく、7~25質量%が更に好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的である。
フッ素系界面活性剤としては、特開2014-41318号公報の段落番号0060~0064(対応する国際公開WO2014/17669号公報の段落番号0060~0064)に記載の界面活性剤、特開2011-132503号公報の段落番号0117~0132に記載の界面活性剤などが挙げられる。また、フッ素系界面活性剤の市販品としては、メガファックF171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、FC431、FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上、旭硝子(株)製)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上、OMNOVA社製)等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造のアクリル系化合物であって、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物を用いることができる。このようなフッ素系界面活性剤としては、DIC(株)製のメガファックDSシリーズ(例えばメガファックDS-21)が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との共重合体を用いることができる。このようなフッ素系界面活性剤については、特開2016-216602号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることができる。ブロックポリマーとしては、例えば特開2011-89090号公報に記載された化合物が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基(好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基)を2以上(好ましくは5以上)有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素共重合体を用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは3,000~50,000であり、例えば、14,000である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する繰り返し単位を含む含フッ素共重合体を用いることができる。具体例としては、特開2010-164965号公報の段落番号0050~0090および段落番号0289~0295に記載された化合物、DIC(株)製のメガファックRS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開2015-117327号公報の段落番号0015~0158に記載の化合物を用いることもできる。
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF社製)、テトロニック304、701、704、901、904、150R1(BASF社製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(和光純薬工業(株)製)、パイオニンD-6112、D-6112-W、D-6315(竹本油脂(株)製)、オルフィンE1010、サーフィノール104、400、440(日信化学工業(株)製)などが挙げられる。
界面活性剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.001質量%~5.0質量%が好ましく、0.005~3.0質量%がより好ましい。本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。界面活性剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<紫外線吸収剤>>
本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、アゾメチン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などが挙げられる。これらの詳細については、特開2012-208374号公報の段落番号0052~0072、特開2013-68814号公報の段落番号0317~0334、特開2016-162946号公報の段落番号0061~0080の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、UV-503(大東化学(株)製)などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、アゾメチン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などが挙げられる。これらの詳細については、特開2012-208374号公報の段落番号0052~0072、特開2013-68814号公報の段落番号0317~0334、特開2016-162946号公報の段落番号0061~0080の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、UV-503(大東化学(株)製)などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)が挙げられる。
紫外線吸収剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.01~10質量%が好ましく、0.01~5質量%がより好ましい。本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。紫外線吸収剤を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<その他添加剤>>
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、各種添加剤、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、潜在酸化防止剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加剤としては、特開2004-295116号公報の段落番号0155~0156に記載の添加剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、酸化防止剤としては、例えばフェノール化合物、リン系化合物(例えば特開2011-90147号公報の段落番号0042に記載の化合物)、チオエーテル化合物などが挙げられる。また、国際公開WO2017164024号公報に記載された酸化防止剤を用いることもできる。酸化防止剤の市販品としては、例えば(株)ADEKA製のアデカスタブシリーズ(AO-20、AO-30、AO-40、AO-50、AO-50F、AO-60、AO-60G、AO-80、AO-330など)が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100~250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80~200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開WO2014/021023号公報、国際公開WO2017/030005号公報、特開2017-008219号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズGPA-5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、各種添加剤、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、潜在酸化防止剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加剤としては、特開2004-295116号公報の段落番号0155~0156に記載の添加剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、酸化防止剤としては、例えばフェノール化合物、リン系化合物(例えば特開2011-90147号公報の段落番号0042に記載の化合物)、チオエーテル化合物などが挙げられる。また、国際公開WO2017164024号公報に記載された酸化防止剤を用いることもできる。酸化防止剤の市販品としては、例えば(株)ADEKA製のアデカスタブシリーズ(AO-20、AO-30、AO-40、AO-50、AO-50F、AO-60、AO-60G、AO-80、AO-330など)が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100~250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80~200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開WO2014/021023号公報、国際公開WO2017/030005号公報、特開2017-008219号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズGPA-5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物の粘度(23℃)は、例えば、塗布により膜を形成する場合、1~100mPa・sであることが好ましい。下限は、2mPa・s以上がより好ましく、3mPa・s以上がさらに好ましい。上限は、50mPa・s以下がより好ましく、30mPa・s以下がさらに好ましく、15mPa・s以下が特に好ましい。
本発明の硬化性組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や硬化性組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を6種6層の樹脂で構成する多層ボトルや6種の樹脂を7層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。また、本発明の硬化性組成物の保存条件としては特に限定はなく、従来公知の方法を用いることができる。また、特開2016-180058号公報に記載された方法を用いることもできる。
本発明の硬化性組成物は、上述した近赤外線吸収色素Aを含むことにより、近赤外線遮蔽性および可視透明性に優れた膜を製造することもできる。近赤外線カットフィルタにおいては、近赤外線遮蔽性および可視透明性に優れることが望まれているため、本発明の硬化性組成物は近赤外線カットフィルタ形成用の組成物として特に好ましく用いることができる。また、本発明の硬化性組成物において、さらに、可視光を遮光する色材を含有させることで、特定の波長以上の近赤外線のみを透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。したがって、本発明の硬化性組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いることもできる。
<硬化性組成物の調製方法>
本発明の硬化性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。硬化性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して硬化性組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した2つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時(塗布時)にこれらを混合して硬化性組成物として調製してもよい。
本発明の硬化性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。硬化性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して硬化性組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した2つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時(塗布時)にこれらを混合して硬化性組成物として調製してもよい。
また、硬化性組成物の調製に際しては、顔料を分散させるプロセスを含むことが好ましい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスを実施するための手段の具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル(ビーズミル)における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機については、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、2005年7月15日」、「サスペンション(固/液分散系)を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、1978年10月10日」、特開2015-157893号公報の段落番号0022に記載のプロセス及び分散機を使用することができる。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて顔料を微細化処理してもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開2015-194521号公報、特開2012-046629号公報の記載を参酌できる。
硬化性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、硬化性組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂、ナイロン(例えばナイロン-6、ナイロン-6,6)等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む)等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、0.01~7.0μmが好ましく、0.01~3.0μmがより好ましく、0.05~0.5μmが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社(DFA4201NIEYなど)、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のSBPタイプシリーズ(SBP008など)、TPRタイプシリーズ(TPR002、TPR005など)、SHPXタイプシリーズ(SHPX003など)が挙げられる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタ(例えば、第1のフィルタと第2のフィルタなど)を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第1のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタでろ過を行ってもよい。
<近赤外線吸収剤>
次に、本発明の近赤外線吸収剤について説明する。
本発明の近赤外線吸収剤は、下記式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素、または、下記式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素を含むことを特徴とする。
次に、本発明の近赤外線吸収剤について説明する。
本発明の近赤外線吸収剤は、下記式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素、または、下記式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素を含むことを特徴とする。
式(1)で表される基を有する近赤外線吸収色素、および、式(10)で表される基を有する近赤外線吸収色素については、上述した本発明の硬化性組成物の近赤外線吸収色素Aの項で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。
<膜>
次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の硬化性組成物から得られるものである。本発明の膜は、近赤外線カットフィルタや、赤外線透過フィルタなどに好ましく用いることができる。本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜(平坦膜)であってもよい。
次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の硬化性組成物から得られるものである。本発明の膜は、近赤外線カットフィルタや、赤外線透過フィルタなどに好ましく用いることができる。本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜(平坦膜)であってもよい。
本発明の膜は、支持体上に積層した状態で用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコンなどの半導体基材や、透明基材が挙げられる。透明基材は、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、結晶、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。透明基材の材質としてはガラスが好ましい。すなわち、透明基材はガラス基材であることが好ましい。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅含有ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスとしては、銅を含有するリン酸塩ガラス、銅を含有するフツリン酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスの市販品としては、NF-50(AGCテクノグラス(株)製)等が挙げられる。結晶としては、例えば、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。また、支持体と本発明の膜との密着性を高めるため、支持体の表面には下地層などが設けられていてもよい。
本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本発明の膜は700~1200nmの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長400~550nmの平均透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上がより好ましく、85%以上がさらに好ましく、90%以上が特に好ましい。また、波長400~550nmの全ての範囲での透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。また、波長700~1000nmの範囲の少なくとも1点での透過率が20%以下であることが好ましく、15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましい。
本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、上述した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、硬化性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などをさらに含有することができる。これらの詳細については、上述した材料が挙げられ、これらを用いることができる。
本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜をカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材(例えば、マイクロレンズ、平坦化層など)が介在していてもよい。
本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、0.1μm以上が好ましく、0.2μm以上がより好ましく、0.3μm以上が更に好ましい。
なお、本発明において、近赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光(可視光)を透過させ、近赤外領域の波長の光(近赤外線)の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。近赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過させるものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本発明において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本発明において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。
<膜の製造方法>
次に、本発明の膜の製造方法について説明する。本発明の膜は、本発明の硬化性組成物を塗布する工程を経て製造できる。
次に、本発明の膜の製造方法について説明する。本発明の膜は、本発明の硬化性組成物を塗布する工程を経て製造できる。
硬化性組成物が塗布される支持体としては、特に限定は無く、シリコンなどの半導体基材や上述した透明基材が挙げられる。支持体には、有機膜や無機膜などが形成されていてもよい。有機膜の材料としては、例えば上述した樹脂が挙げられる。また、支持体には、電荷結合素子(CCD)、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは支持体表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。また、支持体としてガラス基材を用いる場合においては、ガラス基材の表面に無機膜を形成したり、ガラス基材を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。
硬化性組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法(ドロップキャスト);スリットコート法;スプレー法;ロールコート法;回転塗布法(スピンコーティング);流延塗布法;スリットアンドスピン法;プリウェット法(たとえば、特開2009-145395号公報に記載されている方法);インクジェット(例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式)、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法;金型等を用いた転写法;ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット-特許に見る無限の可能性-、2005年2月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法(特に115ページ~133ページ)や、特開2003-262716号公報、特開2003-185831号公報、特開2003-261827号公報、特開2012-126830号公報、特開2006-169325号公報などに記載の方法が挙げられる。また、樹脂組成物の塗布方法については、国際公開WO2017/030174号公報、国際公開WO2017/018419号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
硬化性組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥(プリベーク)してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましく、110℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、50℃以上とすることができ、80℃以上とすることもできる。プリベークを150℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、有機素材の特性をより効果的に維持することができる。プリベーク時間は、10~3000秒が好ましく、40~2500秒がより好ましく、80~220秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
プリベーク後、更に加熱処理(ポストベーク)を行ってもよい。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度としては、例えば100~240℃が好ましい。膜硬化の観点から、180~240℃がより好ましい。ポストベーク時間としては、2~10分が好ましく、4~8分がより好ましい。ポストベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
本発明の膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
(フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合)
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の硬化性組成物を支持体に塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程(露光工程)と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程(現像工程)と、を含むことが好ましい。
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の硬化性組成物を支持体に塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程(露光工程)と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程(現像工程)と、を含むことが好ましい。
<<露光工程>>
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等が挙げられる。また、波長300nm以下の光(好ましくは波長180~300nmの光)を用いることもできる。波長300nm以下の光としては、KrF線(波長248nm)、ArF線(波長193nm)などが挙げられ、KrF線(波長248nm)が好ましい。照射量(露光量)は、例えば、0.03~2.5J/cm2が好ましく、0.05~1.0J/cm2がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、または、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、または、50体積%)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常1000W/m2~100000W/m2(例えば、5000W/m2、15000W/m2、または、35000W/m2)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10000W/m2、酸素濃度35体積%で照度20000W/m2などとすることができる。
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等が挙げられる。また、波長300nm以下の光(好ましくは波長180~300nmの光)を用いることもできる。波長300nm以下の光としては、KrF線(波長248nm)、ArF線(波長193nm)などが挙げられ、KrF線(波長248nm)が好ましい。照射量(露光量)は、例えば、0.03~2.5J/cm2が好ましく、0.05~1.0J/cm2がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、または、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、または、50体積%)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常1000W/m2~100000W/m2(例えば、5000W/m2、15000W/m2、または、35000W/m2)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10000W/m2、酸素濃度35体積%で照度20000W/m2などとすることができる。
<<現像工程>>
次に、組成物層の未露光部を現像除去してパターンを形成する。組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、20~30℃が好ましい。現像時間は、20~180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
次に、組成物層の未露光部を現像除去してパターンを形成する。組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、20~30℃が好ましい。現像時間は、20~180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
現像液は、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.001~10質量%が好ましく、0.01~1質量%がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば1.5~100倍の範囲に設定することができる。なお、アルカリ性水溶液を現像液として使用した場合には、現像後純水で洗浄(リンス)することが好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
現像後、乾燥を施した後に加熱処理(ポストベーク)を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば100~240℃が好ましい。膜硬化の観点から、180~230℃がより好ましい。また、加熱処理は、特開2016-172828号公報に記載された方法で行うこともできる。
(ドライエッチング法でパターン形成する場合)
ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上の組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開2013-064993号公報の段落番号0010~0067の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上の組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開2013-064993号公報の段落番号0010~0067の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
<近赤外線カットフィルタ>
本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した本発明の膜を有する。本発明の近赤外線カットフィルタは、700~1200nmの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長400~550nmの平均透過率は70%以上であることが好ましく、80%以上がより好ましく、85%以上がさらに好ましく、90%以上が特に好ましい。また、波長400~550nmの全ての範囲での透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。また、波長700~1000nmの範囲の少なくとも1点での透過率が20%以下であることが好ましく、15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましい。
本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した本発明の膜を有する。本発明の近赤外線カットフィルタは、700~1200nmの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長400~550nmの平均透過率は70%以上であることが好ましく、80%以上がより好ましく、85%以上がさらに好ましく、90%以上が特に好ましい。また、波長400~550nmの全ての範囲での透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。また、波長700~1000nmの範囲の少なくとも1点での透過率が20%以下であることが好ましく、15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましい。
本発明の近赤外線カットフィルタは、本発明の膜の他に、さらに、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。本発明の近赤外線カットフィルタが、本発明の膜の他にさらに、誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、近赤外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタが得られやすい。また、本発明の近赤外線カットフィルタが、本発明の膜の他にさらに、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開WO2015/099060号公報の段落番号0040~0070、0119~0145に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開2014-41318号公報の段落番号0255~0259の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
<固体撮像素子>
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下(支持体に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開2012-227478号公報、特開2014-179577号公報に記載の装置が挙げられる。
<画像表示装置>
本発明の画像表示装置は、本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機EL素子を有するものであってもよい。白色有機EL素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機EL素子のタンデム構造については、特開2003-45676号公報、三上明義監修、「有機EL技術開発の最前線-高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集-」、技術情報協会、326-328ページ、2008年などに記載されている。有機EL素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域(430~485nm)、緑色領域(530~580nm)および黄色領域(580~620nm)に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加えさらに赤色領域(650~700nm)に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
本発明の画像表示装置は、本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機EL素子を有するものであってもよい。白色有機EL素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機EL素子のタンデム構造については、特開2003-45676号公報、三上明義監修、「有機EL技術開発の最前線-高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集-」、技術情報協会、326-328ページ、2008年などに記載されている。有機EL素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域(430~485nm)、緑色領域(530~580nm)および黄色領域(580~620nm)に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加えさらに赤色領域(650~700nm)に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
<赤外線センサ>
本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
図1において、符号110は、固体撮像素子である。固体撮像素子110上に設けられている撮像領域は、近赤外線カットフィルタ111と、赤外線透過フィルタ114とを有する。また、近赤外線カットフィルタ111上には、カラーフィルタ112が積層している。カラーフィルタ112および赤外線透過フィルタ114の入射光hν側には、マイクロレンズ115が配置されている。マイクロレンズ115を覆うように平坦化層116が形成されている。
近赤外線カットフィルタ111は本発明の硬化性組成物を用いて形成することができる。近赤外線カットフィルタ111の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード(赤外LED)の発光波長に応じて選択される。カラーフィルタ112は、可視領域における特定波長の光を透過および吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開2014-043556号公報の段落番号0214~0263の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ114は、使用する赤外LEDの発光波長に応じてその特性が選択される。赤外線透過フィルタ114は本発明の硬化性組成物を用いて形成することもできる。
図1に示す赤外線センサにおいて、平坦化層116上には、近赤外線カットフィルタ111とは別の近赤外線カットフィルタ(他の近赤外線カットフィルタ)がさらに配置されていてもよい。他の近赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および/または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。また、他の近赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。また、図1に示す赤外線センサにおいて、近赤外線カットフィルタ111とカラーフィルタ112の位置が入れ替わっても良い。また、固体撮像素子110と近赤外線カットフィルタ111との間、および/または、固体撮像素子110と赤外線透過フィルタ114との間に他の層が配置されていてもよい。他の層としては、硬化性化合物を含む組成物を用いて形成された有機物層などが挙げられる。また、カラーフィルタ112上に平坦化層が形成されていてもよい。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は、質量基準である。
<重量平均分子量(Mw)の測定>
試料の重量平均分子量(Mw)は、以下の条件で測定した。
カラムの種類:TSKgel SuperHZ4000(TOSOH製、4.6mm(内径)×15cm)
展開溶媒:テトラヒドロフラン
カラム温度:40℃
流量(サンプル注入量):60μL
装置名:東ソー(株)製高速GPC(HLC-8220GPC)
検量線ベース樹脂:ポリスチレン
試料の重量平均分子量(Mw)は、以下の条件で測定した。
カラムの種類:TSKgel SuperHZ4000(TOSOH製、4.6mm(内径)×15cm)
展開溶媒:テトラヒドロフラン
カラム温度:40℃
流量(サンプル注入量):60μL
装置名:東ソー(株)製高速GPC(HLC-8220GPC)
検量線ベース樹脂:ポリスチレン
<硬化性組成物の調製>
(実施例1~16、比較例1~3)
下記の組成1~7に示す原料を混合して硬化性組成物を調製した。
<組成1>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂1:12.8部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:84.36部
(実施例1~16、比較例1~3)
下記の組成1~7に示す原料を混合して硬化性組成物を調製した。
<組成1>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂1:12.8部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:84.36部
<組成2>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂2:12.8部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:64.36部
N-メチルピロリドン:20部
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂2:12.8部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:64.36部
N-メチルピロリドン:20部
<組成3>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂3:12.9部
架橋性化合物1:12.9部
光重合開始剤1:2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.006部
シクロヘキサノン:49.6部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:19.3部
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂3:12.9部
架橋性化合物1:12.9部
光重合開始剤1:2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.006部
シクロヘキサノン:49.6部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:19.3部
<組成4>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂4:12.9部
架橋性化合物1:12.9部
光重合開始剤1:2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.006部
シクロヘキサノン:49.6部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:19.3部
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂4:12.9部
架橋性化合物1:12.9部
光重合開始剤1:2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.006部
シクロヘキサノン:49.6部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:19.3部
<組成5>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂5:12.9部
架橋性化合物2:12.9部
酸発生剤1:2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:49.6部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:19.3部
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂5:12.9部
架橋性化合物2:12.9部
酸発生剤1:2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:49.6部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:19.3部
<組成6>
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂6:12.9部
酸触媒(リン酸):2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:58.9部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:22.9部
下記表に示す化合物:2.3部
樹脂6:12.9部
酸触媒(リン酸):2.5部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:58.9部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:22.9部
<組成7>
下記表に示す化合物:各々について1.2部ずつ
樹脂1:12.8部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:84.26部
下記表に示す化合物:各々について1.2部ずつ
樹脂1:12.8部
紫外線吸収剤1:0.5部
界面活性剤1:0.04部
シクロヘキサノン:84.26部
(樹脂)
樹脂1:ARTON F4520(JSR(株)製)
樹脂2:ネオプリム(登録商標)C3450(三菱ガス化学(株)製)
樹脂3:ベンジルメタクリレート(BzMA)とメタクリル酸(MAA)との共重合体(組成比(質量比):(BzMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
樹脂4:アリルメタクリレート(AMA)とメタクリル酸(MAA)との共重合体(組成比(質量比):(AMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
樹脂5:グリシジルメタクリレート(GlyMA)とメタクリル酸(MAA)との共重合体(組成比(質量比):(GlyMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
樹脂6:下記構造の化合物(繰り返し単位に付記した数値はモル比であり、Meはメチル基である。Mw=18,000)
樹脂1:ARTON F4520(JSR(株)製)
樹脂2:ネオプリム(登録商標)C3450(三菱ガス化学(株)製)
樹脂3:ベンジルメタクリレート(BzMA)とメタクリル酸(MAA)との共重合体(組成比(質量比):(BzMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
樹脂4:アリルメタクリレート(AMA)とメタクリル酸(MAA)との共重合体(組成比(質量比):(AMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
樹脂5:グリシジルメタクリレート(GlyMA)とメタクリル酸(MAA)との共重合体(組成比(質量比):(GlyMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
樹脂6:下記構造の化合物(繰り返し単位に付記した数値はモル比であり、Meはメチル基である。Mw=18,000)
(架橋性化合物)
架橋性化合物1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、製品名
KAYARAD DPHA)
架橋性化合物2:OXT-221(東亞合成(株)製)
架橋性化合物1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、製品名
KAYARAD DPHA)
架橋性化合物2:OXT-221(東亞合成(株)製)
(光重合開始剤)
光重合開始剤1:IRGACURE-OXE01(BASF社製)〔2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン〕
光重合開始剤1:IRGACURE-OXE01(BASF社製)〔2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン〕
(酸発生剤)
酸発生剤1:CPI-100P(サンアプロ(株)製)
酸発生剤1:CPI-100P(サンアプロ(株)製)
(紫外線吸収剤)
紫外線吸収剤1:UV-503(大東化学株式会社)
紫外線吸収剤1:UV-503(大東化学株式会社)
<膜の作製>
(作製例1)
(組成1、2、7の硬化性組成物を用いた膜の作製方法)
各硬化性組成物を、ガラス基材(コーニング社製1737)上に、乾燥後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、200℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を得た。
(作製例1)
(組成1、2、7の硬化性組成物を用いた膜の作製方法)
各硬化性組成物を、ガラス基材(コーニング社製1737)上に、乾燥後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、200℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を得た。
(作製例2)
(組成3、4、5の硬化性組成物を用いた膜の作製方法)
各硬化性組成物を、ガラス基材(コーニング社製1737)上に、乾燥後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を使用して、500mJ/cm2で全面露光した。次いで現像液(CD-2060、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて23℃で60秒間パドル現像を行い、次いで、純水でリンス処理し、次いで、スピン乾燥した。さらに、200℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を得た。
(組成3、4、5の硬化性組成物を用いた膜の作製方法)
各硬化性組成物を、ガラス基材(コーニング社製1737)上に、乾燥後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を使用して、500mJ/cm2で全面露光した。次いで現像液(CD-2060、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて23℃で60秒間パドル現像を行い、次いで、純水でリンス処理し、次いで、スピン乾燥した。さらに、200℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を得た。
(作製例3)
(組成6の硬化性組成物を用いた膜の作製方法)
硬化性組成物を、ガラス基材(コーニング社製1737)上に、乾燥後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、180℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を得た。
(組成6の硬化性組成物を用いた膜の作製方法)
硬化性組成物を、ガラス基材(コーニング社製1737)上に、乾燥後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、180℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を得た。
(可視透明性の評価)
得られた膜に対し、分光光度計(U-4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて波長300~900nmの範囲の吸収スペクトルを測定した。得られた膜の極大吸収波長は、近赤外領域(650~1200nm)に存在していた。極大吸収波長の吸光度を1とした時の、波長400~550nmの平均吸光度を算出し、下記基準で可視透明性を評価した。なお、得られた膜の極大吸収波長は、近赤外領域(650~1200nm)に存在しているので、極大吸収波長の吸光度を1としたときに、400~550nmの平均吸光度が小さいほど、可視透明性に優れているといえる。
A:0.05未満
B:0.05以上、0.075未満
C:0.075以上、0.1未満
得られた膜に対し、分光光度計(U-4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて波長300~900nmの範囲の吸収スペクトルを測定した。得られた膜の極大吸収波長は、近赤外領域(650~1200nm)に存在していた。極大吸収波長の吸光度を1とした時の、波長400~550nmの平均吸光度を算出し、下記基準で可視透明性を評価した。なお、得られた膜の極大吸収波長は、近赤外領域(650~1200nm)に存在しているので、極大吸収波長の吸光度を1としたときに、400~550nmの平均吸光度が小さいほど、可視透明性に優れているといえる。
A:0.05未満
B:0.05以上、0.075未満
C:0.075以上、0.1未満
(耐湿性の評価)
得られた膜を、85℃、相対湿度85%の高温高湿下で10時間放置して耐湿試験を行った。耐湿性試験前後の膜のそれぞれについて、分光光度計(U-4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて、波長650~1200nmにおける最大吸光度(Absλmax)と、波長400~650nmにおける最小吸光度(Absλmin)とを測定し、「Absλmax/Absλmin」で表される吸光度比を求めた。
|{(耐湿試験前の膜の吸光度比-耐湿試験後の膜の吸光度比)/耐湿試験前の膜の吸光度比}×100|(%)で表される吸光度比変化率を、以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
A:吸光度比変化率≦2%
B:2%<吸光度比変化率≦4%
C:4%<吸光度比変化率≦7%
D:7%<吸光度比変化率≦10%
E:10%<吸光度比変化率
得られた膜を、85℃、相対湿度85%の高温高湿下で10時間放置して耐湿試験を行った。耐湿性試験前後の膜のそれぞれについて、分光光度計(U-4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて、波長650~1200nmにおける最大吸光度(Absλmax)と、波長400~650nmにおける最小吸光度(Absλmin)とを測定し、「Absλmax/Absλmin」で表される吸光度比を求めた。
|{(耐湿試験前の膜の吸光度比-耐湿試験後の膜の吸光度比)/耐湿試験前の膜の吸光度比}×100|(%)で表される吸光度比変化率を、以下の基準で評価した。結果を以下の表に示す。
A:吸光度比変化率≦2%
B:2%<吸光度比変化率≦4%
C:4%<吸光度比変化率≦7%
D:7%<吸光度比変化率≦10%
E:10%<吸光度比変化率
(耐光性)
得られた膜に対し、Xeランプにて紫外線カットフィルタを通して1万ルクスの光を225時間照射して耐光性試験を行った、色度計MCPD-1000(大塚電子(株)製)を用いて、耐光性試験前後の膜の色差のΔEab値を測定した。
A:ΔEab値<2.5
B:2.5≦ΔEab値<5
C:5≦ΔEab値<10
D:10≦ΔEab値<15
E:15≦ΔEab値
得られた膜に対し、Xeランプにて紫外線カットフィルタを通して1万ルクスの光を225時間照射して耐光性試験を行った、色度計MCPD-1000(大塚電子(株)製)を用いて、耐光性試験前後の膜の色差のΔEab値を測定した。
A:ΔEab値<2.5
B:2.5≦ΔEab値<5
C:5≦ΔEab値<10
D:10≦ΔEab値<15
E:15≦ΔEab値
上記表に示されるように、実施例の硬化性組成物を用いることで、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができた。また、この膜は、近赤外領域に極大吸収波長を有しており、近赤外線遮蔽性に優れつつ、可視透明性にも優れていた。
110:固体撮像素子、111:近赤外線カットフィルタ、112:カラーフィルタ、114:赤外線透過フィルタ、115:マイクロレンズ、116:平坦化層
Claims (16)
- 前記G2は3級アルキル基である、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素は、極大吸収波長を650~1200nmの範囲に有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素は、ポリメチン化合物である、請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素は、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、および、クロコニウム化合物から選ばれる少なくとも1種である、請求項1~5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素が、下記式(SQ1)で表される化合物である、請求項1に記載の硬化性組成物;
Rs1~Rs3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
As3は複素環基を表し、
ns1は、0以上の整数を表し、
Rs1とRs2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs1とAs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rs2とRs3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ns1が2以上の場合、複数のRs2およびRs3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。 - 前記近赤外線吸収色素が、下記式(Cr1)で表される化合物である、請求項1に記載の硬化性組成物;
Rc1~Rc3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ac3は複素環基を表し、
nc1は、0以上の整数を表し、
Rc1とRc2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc1とAc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Rc2とRc3は、互いに結合して環を形成してもよく、
nc1が2以上の場合、複数のRc2およびRc3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。 - 請求項1~9のいずれか1項に記載の硬化性組成物から得られる膜。
- 請求項12に記載の膜を有する、近赤外線カットフィルタ。
- 請求項12に記載の膜を有する、固体撮像素子。
- 請求項12に記載の膜を有する、画像表示装置。
- 請求項12に記載の膜を有する、赤外線センサ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019568960A JP6982636B2 (ja) | 2018-02-01 | 2019-01-10 | 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
US16/893,552 US11886112B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-06-05 | Curable composition, near infrared absorber, film, near infrared cut filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018016322 | 2018-02-01 | ||
JP2018-016322 | 2018-02-01 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US16/893,552 Continuation US11886112B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-06-05 | Curable composition, near infrared absorber, film, near infrared cut filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019150908A1 true WO2019150908A1 (ja) | 2019-08-08 |
Family
ID=67479196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/000544 WO2019150908A1 (ja) | 2018-02-01 | 2019-01-10 | 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11886112B2 (ja) |
JP (1) | JP6982636B2 (ja) |
WO (1) | WO2019150908A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021109894A (ja) * | 2020-01-08 | 2021-08-02 | 三菱ケミカル株式会社 | スクアリリウム系化合物、色素組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置及び赤外線センサ |
JP2021130734A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 東京応化工業株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法 |
WO2023189775A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 日本ゼオン株式会社 | 樹脂組成物、成形体及び光学素子 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019150908A1 (ja) * | 2018-02-01 | 2019-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008298820A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学フィルター用組成物、これを用いた光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルター |
WO2014030628A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
JP2014052431A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 |
WO2014088063A1 (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-12 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
WO2016043166A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
WO2016114363A1 (ja) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
WO2017170339A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8772376B2 (en) * | 2009-08-18 | 2014-07-08 | International Business Machines Corporation | Near-infrared absorbing film compositions |
JP2015017244A (ja) * | 2013-06-12 | 2015-01-29 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
WO2019150908A1 (ja) * | 2018-02-01 | 2019-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
JP7109544B2 (ja) * | 2018-07-06 | 2022-07-29 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ及びカメラモジュール |
JP7237166B2 (ja) * | 2019-08-29 | 2023-03-10 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 |
-
2019
- 2019-01-10 WO PCT/JP2019/000544 patent/WO2019150908A1/ja active Application Filing
- 2019-01-10 JP JP2019568960A patent/JP6982636B2/ja active Active
-
2020
- 2020-06-05 US US16/893,552 patent/US11886112B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008298820A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学フィルター用組成物、これを用いた光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルター |
WO2014030628A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
JP2014052431A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 |
WO2014088063A1 (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-12 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
WO2016043166A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
WO2016114363A1 (ja) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
WO2017170339A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021109894A (ja) * | 2020-01-08 | 2021-08-02 | 三菱ケミカル株式会社 | スクアリリウム系化合物、色素組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置及び赤外線センサ |
JP2021130734A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 東京応化工業株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法 |
JP7419097B2 (ja) | 2020-02-18 | 2024-01-22 | 東京応化工業株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法 |
WO2023189775A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 日本ゼオン株式会社 | 樹脂組成物、成形体及び光学素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2019150908A1 (ja) | 2021-02-04 |
US11886112B2 (en) | 2024-01-30 |
US20200301272A1 (en) | 2020-09-24 |
TW201934671A (zh) | 2019-09-01 |
JP6982636B2 (ja) | 2021-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7037568B2 (ja) | 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール | |
JP6824276B2 (ja) | 感光性組成物、硬化膜、光学フィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
US11886112B2 (en) | Curable composition, near infrared absorber, film, near infrared cut filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor | |
KR102536495B1 (ko) | 근적외선 흡수성 감광성 조성물, 경화막, 광학 필터, 패턴 형성 방법, 적층체, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 적외선 센서 | |
US20200217999A1 (en) | Resin composition, film, optical filter, solid image pickup element, image display device, and infrared sensor | |
TWI807062B (zh) | 硬化性組成物、膜、近紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置、紅外線感測器及相機模組 | |
JP7114724B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 | |
JP7233477B2 (ja) | 積層体、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびキット | |
JP2018045011A (ja) | 赤外線吸収剤、組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
WO2020036037A1 (ja) | 組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
JPWO2018047584A1 (ja) | 組成物、膜の製造方法、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法および赤外線センサの製造方法 | |
TWI733858B (zh) | 組成物、硬化膜、紅外線透過濾波器、固體攝像元件及紅外線感測器 | |
WO2020066871A1 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、パターンの形成方法、光学フィルタおよび光センサ | |
WO2018155029A1 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
WO2020196391A1 (ja) | 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
WO2020196394A1 (ja) | 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
JPWO2020075568A1 (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 19747527 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2019568960 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 19747527 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |