KR20120025424A - 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법 - Google Patents

편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지로 이루어지는, 단체 투과율 T와 편광도 P로 나타내는 광학 특성치가 일정 수준에 있는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법을 제공한다.
비정성 에스테르계 열가소성 수지기재와 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 폴리비닐 알코올계 수지층을 포함하는 적층체에 대한 공중 고온 연신에 의해, 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지층으로 이루어지는 연신 중간 생성물을 포함하는 연신 적층체를 생성하는 공정과, 연신 적층체에 대한 이색성 물질의 흡착에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지층으로 이루어지는 착색 중간 생성물을 포함하는 착색 적층체를 생성하는 공정과, 착색 적층체에 대한 붕산 수용액 중에 있어서의 연신에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지로 이루어지는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하는 공정을 포함한다.

Description

편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법{Method for manufacturing optical film laminate including polarizing film}
본 발명은, 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의해 제조되는 편광막은, 비정성(非晶性) 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막(製膜)된 이색성(二色性) 물질을 배향(配向)시킨 폴리비닐 알코올계 수지(樹脂)로 이루어지는 편광막이다.
폴리비닐 알코올계 수지(이하, 「PVA계 수지」라고 한다)층에 염색 및 연신(延伸) 처리에 의한 이색성(二色性) 물질을 흡착하고 배향(配向)한 편광막 이른바 편광자(이하, 「편광막」이라고 한다)의 제조 방법은 잘 알려져 있다. 이 중, 열가소성 수지기재를 이용하여 제조된 편광막 및 그 제조 방법도 또한, 도 24의 개념도에 나타내는 바와 같이, 이미 공지하였다.
구체적인 예로서 참고예 1 또는 3을 나타낸다. 참고예 1의 경우, 열가소성 수지기재에 PVA계 수지의 수용액을 도포하고, 수분을 건조함으로써, 열가소성 수지기재에 얇은 PVA계 수지층을 형성한 적층체가 생성된다. 생성된 적층체를, 예를 들면 오븐에 배치된 연신 장치를 이용하여, 연신 온도 110℃에서 공중(空中) 연신한다. 다음에, 연신에 의해 배향된 PVA계 수지층에 염색함으로써 이색성 물질을 흡착시킨다. 혹은, 참고예 3의 경우, 생성된 적층체에 염색함으로써 이색성 물질을 흡착시킨다. 다음에, 이색성 물질을 흡착시킨 적층체를, 연신 온도 90℃에서 공중 연신한다. 이와 같이 제조된 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지로 이루어지는 편광막은, 예를 들면, 특허 문헌 2?5에 나타나는 바와 같이, 이미 공지이다.
열가소성 수지기재를 이용한 편광막의 제조 방법은, PVA계 수지의 단층체에 의한 편광막의 제조 방법에 비해, 편광막을 보다 균일하게 제조할 수 있도록 한 점에서 주목받는다. 액정 셀의 표리(表裏)에 첩합(貼合)되는 액정표시장치에 이용되는 편광막은, 단층체에 의한 편광막의 제조 방법에 의하면, 특개 2005－266325호 공보(특허 문헌 1)에 나타나는 바와 같이, 50?80㎛ 두께의 PVA계 수지 단층체를, 예를 들면, 주속(周速)이 다른 복수 세트의 롤을 가지는 반송 장치에 걸쳐, 염색액으로의 침지(浸漬)에 의해 PVA계 수지 단층체에 이색성 물질을 흡착시켜, 60℃ 전후의 수용액 중에 있어서 연신함으로써 제조된다. 이것이 단층체에 의한 편광막이고, 그 두께는 15?35㎛이다. 현재로서는, 이 방법에 의해 제조된 편광막은, 단체 투과율 42％ 이상에서 편광도 99.95％ 이상의 광학 특성을 가지는 것으로서, 대형 TV용으로 실용화되고 있다.
그런데, PVA계 수지가 친수성(親水性)이기 때문에, 편광막은 온도나 습도의 변화에 민감하고 주위의 환경 변화에 의해 신축하기 쉽고 또한 그 때문에 크랙이 발생하기 쉽다. 따라서, 신축을 억제하고, 온도나 습도의 영향을 줄이기 위해서, 통상, TV용의 편광 필름에는, 편광막의 양면에 보호 필름으로서 40?80㎛의 TAC(트리아세틸 셀룰로오스계) 필름이 첩합된 적층체가 이용된다. 그런데도, 단층체에 의한 편광막을 이용하는 경우, 편광막의 박막화에 한계가 있으므로 신축을 완전하게 억제하는 것은 곤란하고, 이러한 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체가, 그 외의 광학 필름이나 액정 셀 등의 부재(部材)에 접착층이나 점착층을 통하여 첩합되었을 경우에, 편광막의 신축에 기인하는 응력이 각 부재에 발생한다. 이 응력은, 액정표시장치에 표시 얼룩짐을 발생시키는 원인이 된다. 이 표시 얼룩짐은 편광막의 수축 응력에 의한 상기 부재로의 광탄성(光彈性)의 발생이나 부재의 변형에 근거하기 때문에, 이 표시 얼룩짐의 발생을 저감시키기 위해서는, 사용되는 부재가 예를 들면 저광탄성?저복굴절 재료로 제한되게 된다. 또한, 편광막의 수축 응력은 액정 셀로부터의 광학 필름 적층체의 박리 등을 일으키기 때문에, 고접착력의 점착제가 요구된다. 그렇지만, 이러한 고접착력의 점착제의 경우, 리워크(rework)성 등에 문제가 있었다. 이것이 단층체에 의한 편광막의 기술적 과제이다.
그 때문에, 박막화하기 어려운 단층체에 의한 편광막의 제조에 대신하는 편광막의 제조가 요구되고 있다. 하지만, 예를 들면 두께가 50㎛ 이하의 PVA계 수지층을, 주속이 다른 복수 세트의 롤을 가지는 반송 장치에 걸쳐서, 60℃ 전후의 수용액에 있어서 연신하고, 10㎛ 이하의 균일한 두께의 편광막을 제조하려고 하면, 친수성 고분자 조성물로 이루어지는 PVA계 수지층은, 연신에 의한 박막화에 따라 용해하든가 또는 연신 장력에 계속 버티지 못하고 파단(破斷)하게 된다. 즉, 단층체에 의한 PVA계 수지층으로부터 안정적으로 편광막을 생산하는 것은 어렵다. 그래서, 새로운 편광막의 제조 방법으로서 개발된 것이, 특허 문헌 2?5에 나타나는 기술이다. 이 기술에 있어서는, 편광막은, 두께가 있는 열가소성 수지기재에 PVA계 수지층을 제막하고, 제막된 PVA계 수지층을 열가소성 수지기재와 일체로 연신함으로써 생성된다.
이것들은, 열가소성 수지기재와 PVA계 수지층으로 되는 적층체를, 예를 들면 오븐에 배치된 연신 장치를 이용하여, 통상, 60℃에서 110℃의 온도에서 공중 연신한다. 다음에, 연신에 의해 배향된 PVA계 수지층에 염색에 의해 이색성 물질을 흡착시킨다. 혹은, 열가소성 수지기재와 PVA계 수지층으로 이루어지는 적층체에 포함되는 PVA계 수지층에 염색에 의해 이색성 물질을 흡착시킨다. 다음에, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를, 통상, 60℃에서 110℃의 온도에서 공중 연신한다. 이상이 특허 문헌 2?5에 나타난 이색성 물질을 배향시킨 편광막을 제조하는 방법이다.
보다 구체적으로는, 우선, 열가소성 수지기재에 PVA계 수지를 포함하는 수용액을 도포하고, 수분을 건조시키는 것에 의해, 수십 ㎛ 두께의 PVA계 수지층이 형성된다. 다음에, 열가소성 수지기재와 PVA계 수지층으로 이루어지는 적층체는, 오븐에 배치된 연신 장치를 이용하여 가열하면서 공중 연신된다. 다음에 연신된 적층체를 염색액으로의 침지에 의해 PVA계 수지층에 이색성 물질을 흡착시켜, 수 ㎛ 두께의 이색성 물질을 배향시킨 편광막이 생성된다. 이것이 열가소성 수지기재를 이용한 편광막의 종래의 제조 방법이다.
이러한 제조 방법에 의한 편광막은, 대형 표시 소자의 박막화, 표시 얼룩짐의 해소, 산업 폐기물량의 저감 등의 관점에서 장래성이 기대된다. 그렇지만, 지금까지, 이러한 제조 방법에 의한 편광막은, 참고예 1부터 3의 편광막의 광학 특성을 나타내는 도 25에 나타나는 바와 같이, 편광 성능에 의해 표현되는 광학 특성이 저위(低位)인 채 추이(推移)하고 있어, 광학 특성이 높은 고기능의 편광막을 실현한다고 하는 기술적 과제가 여전히 미해결이다.
[선행 기술 문헌]
[특허 문헌 1] 특개 2005－266325호 공보
[특허 문헌 2] 특허 4279944호 공보
[특허 문헌 3] 특개 2001－343521호 공보
[특허 문헌 4] 특공(特公) 헤이 8－12296호 공보
[특허 문헌 5] 미국 특허 4,659,523호 명세서
[비특허 문헌 1] H. W. Siesler, Adv. Polym. Sci., 65, 1 (1984)
열가소성 수지기재를 이용하여 편광막을 안정적으로 제조하는 것은, 이미 특허 문헌 2?5에서 보았다. 그런데, 액정 TV용의 디스플레이로서 요구되는 콘트라스트비 1000：1 이상, 최대 휘도 500cd／m2 이상의 광학 특성을 만족시키는 편광막은, 지금까지 실현되지는 않았다.
이 기술적 과제는 이하에 나타내는 바와 같이 단순한 일인 만큼 해결을 위한 허들(장애)은 높다. 지금까지의 제조법은, 모두, 공중 고온 환경에 있어서, 열가소성 수지기재와 그 위에 형성된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를, 연신하는 것이었다. 공중 연신을 고온 환경에서 행하는 것은, 일의적으로는, 열가소성 수지기재 및 PVA계 수지는, 각각의 유리 전이 온도 Tg를 밑도는 온도에서는 연신할 수 없기 때문이다. PVA계 수지의 Tg는 75?80℃이다. 에스테르계 열가소성 수지의 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)의 Tg는 80℃이다. 덧붙여서, 이소프탈산을 PET에 공중합(共重合)시킨 비정성 PET의 Tg는 75℃이다. 따라서, 열가소성 수지기재와 PVA계 수지층을 포함하는 적층체는, 그러한 온도를 웃도는 고온으로 연신되게 된다. 당연한 것이지만, 연신에 의해서 PVA계 수지의 배향성이 높아진다. PVA계 수지로 이루어지는 편광막의 편광 성능은, 요오드와 같은 이색성 물질이 흡착된 PVA계 수지의 배향성에 좌우된다. PVA계 수지의 배향성이 높을수록, PVA계 수지로 이루어지는 편광막의 편광 성능이 높아진다.
그렇지만, 올레핀계인지 에스테르계인지를 불문하고, 결정성(結晶性) 수지는, 일반적으로, 가열 온도의 높음이나 연신 배향에 의해 고분자가 배열하고, 결정화가 진행된다. 결정화에 의해 수지의 물성(물리적 성질)이 여러 가지로 변화한다. 그 전형은, 결정화에 의해 사실상 연신 불가능이 되는 것이다. 결정성 PET의 경우, 아모르퍼스(amorphous) PET여도 120℃ 주변에서 결정화 속도가 급상승하고 130℃에서 연신 불가능이 된다. 열가소성 수지의 일반적 재료 특성의 설명이 후술되는 바와 같이, 가열 처리나 연신 배향에 기인하는 고분자의 배열을 저해함으로써 결정화를 억제하는 수단은 주지이다. 이것에 의해 생성되는 비정성 올레핀계 수지나 비정성 에스테르계 수지도 주지인 것은 말할 필요도 없다. 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)의 결정화를 저해하는 유닛을 공중합시키는 것에 의해, 예를 들면, 결정화를 억제한 비정성 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 작성할 수 있다. 비정성 PET의 경우, 120℃ 주변에서 결정화 속도가 급상승하지 않는다. 결정화는 서서히 진행되지만, 170℃ 까지는 안정하게 연신할 수 있다. 그 이상의 고온이 되면, PET의 연화(軟化)에 의해 연신 불가능이 된다.
본 발명은, 종래의 편광막에 비해 박막화된 광학 특성이 높은 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 편광막의 박막화와 박막화된 편광막의 광학 특성을 개선하기 위하여 열심히 검토해 왔다. 그 결과, 이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지로 이루어지는 편광막 및 그의 제조 방법을 발명하기에 이르렀다. 편광막의 박막화는, 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재와, 그 위에 형성된 PVA계 수지층을 일체로 연신함으로써, 달성된다.
본 발명자들의 연구 및 분석에 의하면, 열가소성 수지기재로서 비정성 PET를 이용하여, 비정성 PET기재에 형성된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 연신 온도가 120℃ 이상, 연신 배율이 5배 이상이 되도록 자유 단일축(自由端一軸)으로 연신한 사례를 발견할 수 없다. 본 발명자들은, 여기에 도전하여 본 발명을 실현하기에 이르렀다.
도 18?도 22의 이미지도는, 모두 실험에 근거하여 나타낸 것이다. 우선, 도 18의 이미지도를 참조한다. 도 18은, 결정성 PET와 비정성 PET와 PVA계 수지의 각각의 연신 온도와 연신 가능 배율과의 상대 관계를 실험에 근거하여 나타낸 이미지도이다.
도 18의 태선(太線)은, 연신 온도의 변화에 따르는 비정성 PET의 연신 가능 배율의 변화를 나타낸다. 비정성 PET는, Tg가 75℃이고, 이것 이하에서 연신할 수 없다. 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의하면 110℃를 넘는 점에서 7.0배 이상으로까지 연신할 수 있다. 한편, 도 18의 세선(細線)은, 연신 온도의 변화에 따르는 결정성 PET의 연신 가능 배율의 변화를 나타낸다. 결정성 PET는, Tg가 80℃이고, 이것 이하에서 연신할 수 없다.
도 19의 이미지도를 참조한다. 이것은, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)의 Tg와 융점 Tm 사이에서의 온도 변화에 따르는 결정성 PET와 비정성 PET의 각각의 결정화 속도의 변화를 나타낸다. 도 19에서는, 80℃에서 110℃ 전후의 아모르퍼스 상태에 있는 결정성 PET는 120℃ 전후에서 급속히 결정화하는 것이 이해된다.
또한 도 18에서 밝혀지듯이, 결정성 PET의 경우, 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의한 연신 가능 배율은 4.5?5.5배가 상한이 된다. 게다가 적용되고 얻는 연신 온도는 지극히 한정적인 90℃에서 110℃의 온도 범위이다.
참고예 1?3은 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의한 사례이다. 이것들은 모두, 200㎛ 두께의 결정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA 층을 제막한 적층체를 공중 고온 연신에 의해 생성된, 3.3㎛ 두께의 편광막이다. 각각의 연신 온도에는 차이가 있고, 참고예 1은 110℃, 참고예 2는 100℃, 참고예 3은 90℃의 경우이다. 주목해야 할 것은 연신 가능 배율이다. 참고예 1의 연신 배율의 한계는 4.0배이고, 참고예 2 및 3은 4.5배이다. 최종적으로는 적층체 자체가 파단함으로써, 이것들을 넘는 연신 처리가 불가능했다. 그렇지만, 이 결과에 있어서는, 결정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층 자체의 연신 가능 배율이 영향을 미치고 있을 가능성을 부정할 수 없다.
거기서 도 18의 파선(破線)을 참조한다. 이것은, PVA계 수지에 속하는 PVA의 연신 가능 배율을 나타낸다. PVA계 수지의 Tg는 75?80℃이고, 이것 이하에서 PVA로 이루어지는 단층체를 연신할 수 없다. 도 18에서 밝혀지듯이, 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의하면, PVA로 이루어지는 단층체의 연신 가능 배율은 5.0배를 한도로 한다. 이것에 의해, 본 발명자들은, 이하의 것을 분명히 할 수 있었다. 그것은, 결정성 PET 및 PVA의 각각의 연신 온도 및 연신 가능 배율의 관계로부터, 결정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체의 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의한 연신 가능 배율은, 90?110℃의 연신 온도 범위에 있어서 4.0?5.0배를 한도라고 하는 것이다.
다음에, 비정성 PET기재를 이용한 PVA계 수지층을 포함하는 적층체에 대한 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의한 사례를 비교예 1 및 2에 나타낸다. 비정성 PET기재에 연신 온도에 의한 한계는 없다. 비교예 1은, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재에 제막된 7㎛ 두께의 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를, 연신 온도를 130℃로 설정한 공중 고온의 자유 단일축 연신에 의해 생성된 편광막이다. 이 때의 연신 배율은 4.0배였다.
비교표를 참조한다. 비교예 2는, 비교예 1과 동일하게, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재에 제막된 7㎛ 두께의 PVA계 수지층을, 연신 배율이 4.5배, 5.0배, 6.0배가 되도록 연신함으로써 생성된 편광막이다. 어느 비교예에 있어서도, 비교표에 나타낸 대로, PET기재에 필름의 면 내에서 연신의 불균일이 생기는 파단이 발생하고, 한편, 연신 배율 4.5배에서 PVA계 수지층에 파단이 발생하고 있다. 이것에 의해, 연신 온도 130℃의 공중 고온 연신에 의한 연신 배율의 한계가 4.0배인 것을 확인했다.
Figure pat00001
참고예 1?3은 모두, 4.0?4.5배의 연신 처리에 의해 PVA 분자를 배향시킨 박막화된 PVA계 수지층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성했다. 구체적으로는, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA계 수지층의 단체 투과율이 40?44％로 되도록, 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 임의의 시간, 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA계 수지층에 요오드를 흡착시켰다. 또한 박막화된 PVA계 수지층으로의 요오드 흡착량을 조정함으로써 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 여러 가지의 편광막을 생성했다.
도 25의 그래프를 참조한다. 도 25는, 참고예 1?3의 광학 특성을 나타낸 것이다. 결정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층은, 공중 고온 연신에 의해, 어느 정도 PVA 분자가 배향된다. 한편, 공중 고온 연신은, PVA 분자의 결정화를 촉진하고, 비정(非晶) 부분의 배향을 저해하고 있는 것이라고 추정된다.
그래서 본 발명자들은, 본 발명에 앞서, 비교예 3에 나타내는 편광막 및 그의 제조 방법을 개발했다. 이것은, Tg 이하의 연신 온도이어도 PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 연신할 수 있다고 하는 물의 가소제 기능에 주목한 놀랄만한 지견에 근거한 것이다. 이 방법에 의하면, PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 연신 배율이 5.0배까지 연신할 수 있는 것을 확인했다. 이것은, 본 출원인의 출원에 관련되는 PCT／JP2010／001460에 있어서 개시한 실시예 1에 상당하는 것이다.
본 발명자들은 더욱 연구를 진행시켜, 연신 배율의 한계가 5.0배인 것은, PET기재가 결정성 PET에 의한 것임을 확인했다. PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체는 Tg 이하의 붕산 수용액에서 연신되기 때문에, PET기재가 결정성인지 비정성인지는 연신 작용에 크게 영향을 주지 않는다는 인식이었지만, 비정성 PET를 이용했을 경우에는, 상기 적층체를 연신 배율이 5.5배까지 연신할 수 있는 것을 확인했다. 이와 같이, 비교예 3에 나타내는 편광막의 제조 방법에 의하면, 연신 배율의 한계가 5.5배인 것은, 비결정성의 PET기재에 의한 제한으로 추정된다.
비교예 1에 대해서는, 단체 투과율 T와 편광도 P를 다르게 하는 여러 가지의 편광막을 생성하고, 도 25에 참고예 1?3과 함께, 그러한 광학 특성을 나타냈다.
도 20의 그래프를 참조한다. 이것은, 본 발명자들이 이러한 연구 결과를 기초로 창의한 본 발명의 공중 고온의 연신 배율과 종합 연신 배율(이하, 「총 연신 배율」이라고 한다.)과의 관계를 단적으로 나타낸 것이다. 가로축은 자유 단일축에 의한 연신 온도 130℃의 공중 연신 배율이다. 세로축의 총 연신 배율은, 이하에 기술하는 자유 단일축에 의한 공중 고온 연신을 포함하는 2단계의 연신 처리에 의해, 공중 고온 연신 전의 길이인 시작 길이를 1로서, 최종적으로 시작 길이가 몇 배 연신되었는지를 나타내는 총 연신 배율이다. 예를 들면, 연신 온도 130℃의 공중 고온 연신에 의한 연신 배율이 2배이고, 다음의 연신 배율이 3배이면, 총 연신 배율은 6배(2×3＝6)가 된다. 공중 고온 연신에 계속되는 제 2단의 연신 방법은, 연신 온도 65℃의 붕산 수용액 중에 있어서의 자유 단일축 연신(이하, 붕산 수용액에 침지시키면서 연신하는 처리를 「붕산 수중 연신」이라고 한다.)이다. 이 2개의 연신 방법을 조합함으로써, 도 20에 나타내는 이하와 같은 지견을 얻을 수 있었다.
도 20의 실선은 비정성 PET의 연신 가능 배율을 나타내고 있다. 비정성 PET의 총 연신 배율은, 공중 고온 연신되지 않고 직접 붕산 수중 연신된 시점, 즉 공중 고온 연신이 1배일 때, 5.5배가 한도이다. 더 이상의 연신을 실시하면, 비정성 PET는 파단한다. 그렇지만, 이 시점은 비정성 PET의 최소 연신 배율을 나타내고 있다. 비정성 PET의 총 연신 배율은, 공중 고온 연신 시의 연신 배율이 커질수록 커지고, 연신 가능 배율은 10배를 넘는다.
이것에 대해서, 도 20의 파선은 PVA의 연신 가능 배율을 나타내고 있다. 공중 고온 연신되지 않고 직접 붕산 수중 연신된 경우는, PVA의 총 연신 배율은 최대 배율을 나타내는 7배이다. 그렇지만, 공중 고온 연신 시의 연신 배율이 커질수록 PVA의 총 연신 배율은 작아지고, 공중 고온 연신 시의 연신 배율이 3배의 시점에서, PVA의 종합 연신 배율이 6배를 밑돈다. PVA의 종합 연신 배율을 6배로 하려고 하면, PVA가 파단한다. 도 20에서 밝혀지듯이, 비정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 연신할 수 없게 되는 원인은, 공중 고온의 연신 배율의 크기에 의해, 비정성 PET기재에 기인하는 것으로부터 PVA계 수지층에 기인하는 것으로 변화한다. 덧붙여서, PVA의 공중 연신 배율은 4배까지이고, 그 이상은 연신 불가능이다. 이 배율이 PVA의 총 연신 배율에 상당하는 것이라고 추정된다.
여기서, 도 21의 이미지도를 참조한다. 도 21은, 결정성 PET와 비정성 PET와 PVA계 수지에 관한 공중 고온 연신의 연신 온도와 공중 고온 연신과 붕산 수중 연신과의 총 연신 가능 배율과의 관계를 실험에 근거하여 나타낸 이미지도이다. 도 18의 이미지도는 결정성 PET와 비정성 PET와 PVA계 수지에 관한 공중 고온 연신의 연신 온도를 가로축에, 공중 고온 연신의 연신 가능 배율을 세로축에 나타냈다. 이 도 18의 이미지도와의 차이는, 가로축이 2배의 공중 고온 연신 때의 연신 온도를 가로축에, 공중 고온 연신과 붕산 수중 연신과의 총 연신 가능 배율을 세로축에 나타낸 점이다. 본 발명은, 후술되는 바와 같이, 공중 고온 연신과 붕산 수중 연신과의 2개의 연신 방법의 조합에 의해 창의할 수 있었다. 2개의 연신 방법의 조합은, 단순한 조합이 아니다. 본 발명자들이 장기간에 걸쳐 열심히 연구를 거듭한 결과, 이 조합에 의해, 이하에 기술하는 2개의 기술적 과제를 동시에 해결하는 놀랄 만한 지견을 얻어 본 발명에 이르렀던 것이다. 지금까지 해결 불가능이라고 생각되어 온 2개의 기술적 과제가 존재한다.
제 1의 기술적 과제는, PVA계 수지의 배향성의 향상에 관련되는 연신 배율 및 연신 온도가, 그 위에 PVA계 수지를 형성하는 열가소성 수지기재에 의해 크게 제약을 받는 것이다.
제 2의 기술적 과제는, 연신 배율 및 연신 온도의 제약을 해제할 수 있어도, PVA나 PET 등의 결정성 수지의 결정화와 연신 가능성과는 대립하는 물성(물리적 성질)이기 때문에 PVA의 연신이 PVA의 결정화에 의해 제한되는 것이다.
제 1의 과제는 이하와 같다. 열가소성 수지기재를 이용하여 편광막을 제조할 때의 제약은, 도 18에서 본 바와 같이, 연신 온도가 PVA계 수지의 Tg(75?80℃) 이상이고, 연신 배율이 4.5?5.0배라고 하는 PVA의 특성에 기인한다. 열가소성 수지기재로서 결정성 PET를 이용하면, 연신 온도가 90?110℃로 더욱 한정된다. 적층체의 공중 고온 연신에 의해, 그 적층체에 포함되는 열가소성 수지기재에 형성된 PVA계 수지층을 박막화한 편광막은, 이러한 제한을 피하기 어려운 것이라고 생각되어 왔다. 그 때문에, 본 발명자들은, 물의 가소제 기능의 발견에 근거하여 공중 고온 연신에 대신할 수 있는 붕산 수중 연신 방법을 제시했다. 그렇지만, 연신 온도가 60?85℃의 붕산 수중 연신에 의해서도 결정성 PET를 이용하고 연신 배율이 5.0 또는 비정성 PET를 이용해도 상한이 5.5배라고 하는 열가소성 수지기재에 기인하는 제약을 피할 수 없었다. 이것에 의해 PVA 분자의 배향성 향상이 제한되고, 박막화된 편광막의 광학 특성도 한정되는 결과가 되었다. 이것이 제 1의 기술적 과제이다.
제 1의 기술적 과제의 해결 수단은, 도 22에 나타내는 이미지도에 의해 설명할 수 있다. 도 22는 두 개의 관련도로 이루어지는이다. 하나는 열가소성 수지기재로서 이용되는 PET의 배향성을 나타내는 도이고, 다른 하나는 PET의 결정화도를 나타내는 도면이다. 모두 가로축은, 공중 고온 연신과 붕산 수중 연신과의 총 연신 배율을 나타낸다. 도 22의 파선(破線)은, 붕산 수중 연신 단독에 의한 총 연신 배율을 나타낸다. PET의 결정화도는, 결정성인지 비정성인지에 관련되지 않고, 연신 배율이 4?5배의 곳에서 급상승한다. 그 때문에, 붕산 수중 연신이여도 연신 배율 5배 또는 5.5배가 한도였다. 여기서 배향성이 상한이 되고, 연신 장력이 급상승한다. 즉 연신 불가능이 된다. 이것에 대해서, 도 22의 실선은, 연신 온도 110℃에서 연신 배율이 2배로 되도록 공중 고온의 자유 단일축 연신을 실시하고, 다음에 연신 온도 65℃의 붕산 수중 연신을 행한 결과를 나타낸다. 결정성인지 비정성인지에 관련되지 않고, PET의 결정화도는, 붕산 수중 연신 단독의 경우와 다르게 급상승하지 않았다. 그 결과, 총 연신 가능 배율은 7배까지 높일 수 있었다. 여기서 배향성이 상한이 되어 연신 장력이 급상승한다. 이것은, 도 21에서 밝혀지듯이, 제 1단의 연신 방법으로서 공중 고온의 자유 단일축 연신을 채용한 결과이다. 이것에 대해서, 후술되는 고정 단일축 연신에 의한 공중 고온 연신을 채용하면, 총 연신 가능 배율을 8.5배로 할 수 있다.
제 1의 기술적 과제를 해결함으로써, PET기재에 기인하는 연신 배율에 대한 제약을 철거하고, 총 연신의 고배율화에 의해 PVA의 배향성을 높일 수 있게 되었다. 그것에 의해 편광막의 광학 특성은, 격단(格段)으로 개선되게 되었다. 그런데 광학 특성의 개선은, 이것에 그치는 것은 아니었다. 이것은, 제 2의 기술적 과제를 해결 함으로써 달성되었다.
제 2의 기술적 과제는 이하와 같다. PVA나 PET 등의 결정성 수지의 특징 중 하나는, 일반적으로 가열이나 연신 배향에 의해 고분자가 배열하여 결정화가 진행되는 성질을 가지는 것이다. PVA의 연신은, 결정성 수지인 PVA의 결정화에 의해 제한된다. 결정화와 연신 가능성과는 대립하는 물성(물리적 성질)이고, PVA의 결정화의 진전은 PVA의 배향성을 저해한다는 것이 일반적이었다. 이것이 제 2의 기술적 과제이다.
이 기술적 과제를 해결하는 수단은, 도 23에 의해 설명할 수 있다. 도 23은, 두 개의 실험 결과에 근거하여 산출된 PVA의 결정화도와 PVA의 배향 함수와의 관계를 실선과 파선으로 나타낸 것이다.
도 23의 실선은, 이하의 시료의 PVA의 결정화도와 PVA의 배향 함수와의 관계를 나타낸 것이다. 시료는, 우선, 동일한 조건에서 생성된 비정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 6개의 시료로서 준비했다. 준비한 6개의 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를, 연신 온도의 각각이 80℃, 95℃, 110℃, 130℃, 150℃, 및 170℃에서, 연신 배율의 각각이 동일한 1.8배의 공중 고온 연신에 의해, PVA계 수지층을 포함하는 연신 적층체를 생성했다. 생성된 각각의 연신 적층체에 포함되는 PVA계 수지층의 결정화도와 PVA의 배향 함수를 측정 및 해석했다. 측정 방법 및 해석 방법의 자세한 것은 후술된다.
도 23의 파선은, 실선의 경우와 동일하게, 이하의 시료의 PVA의 결정화도와 PVA의 배향 함수와의 관계를 나타낸 것이다. 시료는, 우선, 같은 조건에서 생성된 비정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 6개의 시료로서 준비했다. 준비한 6개의 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를, 연신 배율의 각각이 1.2배, 1.5배, 1.8배, 2.2배, 2.5배, 및 3.0배에서, 연신 온도의 각각이 같은 130℃의 공중 고온 연신에 의해, PVA계 수지층을 포함하는 연신 적층체를 생성했다. 생성된 각각의 연신 적층체에 포함되는 PVA계 수지층의 결정화도와 PVA의 배향 함수를 후술의 방법에 의해 측정 및 해석했다.
도 23의 실선에 의해, 공중 고온 연신의 연신 온도를 높게 설정한 연신 적층체에 포함되는 PVA계 수지층만큼, PVA의 배향성이 향상하는 것을 확인했다. 또한 도 23의 파선에 의해, 공중 고온 연신의 연신 배율을 고배율로 설정한 연신 적층체에 포함되는 PVA계 수지층만큼, PVA의 배향성이 향상하는 것도 확인했다. 제 2단의 붕산 수중 연신 전에, PVA의 배향성을 향상하게 하는 것, 즉 PVA의 결정화도를 높여 두는 것은, 결과적으로 붕산 수중 연신 후의 PVA의 배향성도 높아진다. 또한 PVA의 배향성이 높아지는 것에서, 결과적으로 폴리 요오드 이온의 배향성도 높아지는 것을 후술되는 실시 예의 T－P그래프로부터도 확인할 수 있다.
제 1단의 공중 고온 연신의 연신 온도를 높게 설정하여 두는 것 또는 연신 배율을 보다 고배율로 설정하여 두는 것에 의해, 제 2단의 붕산 수중 연신에 의해 생성된 PVA계 수지층의 PVA 분자의 배향성은, 보다 높일 수 있다고 하는 예기치 못한 기대 이상의 결과를 얻었다.
제 1의 기술적 과제의 해결 수단은, 비정성 PET기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 미리 제 1단의 공중 고온 연신에 의해 예비적 또는 보조적으로 연신하여 두는 것에 의해, 제 2단의 붕산 수중 연신에 의해 비정성 PET기재의 연신 배율에 제한되지 않고, PVA계 수지층을 고배율로 연신하는 것이 가능해지고, 그것에 의해 PVA의 배향성이 충분히 향상하는 것을 확인했다.
또한 제 2의 기술적 과제의 해결 수단은, 미리 제 1단의 공중 고온 연신의 연신 온도를 예비적 또는 보조적에 의해 높은 온도로 설정하여 두는 것 또는 연신 배율을 예비적 또는 보조적에 의해 고배율로 설정하여 두는 것에 의해, 제 2단의 붕산 수중 연신에 의해 생성된 PVA계 수지층의 PVA 분자의 배향성을 보다 높인다고 하는 예기치 못한 결과를 가져왔다. 어느 경우도, 제 1단의 공중 고온 연신이 제 2단의 붕산 수중 연신에 대한 예비적 또는 보조적인 공중 연신 수단으로서 평가할 수 있다. 이하, 「제 1단의 공중 고온 연신」을 제 2단의 붕산 수중 연신에 대한 「공중 보조 연신」이라고 한다.
「공중 보조 연신」을 행하는 것에 의한, 특히 제 2의 기술적 과제의 해결 메카니즘에 대해서, 이하와 같이 추정할 수 있다. 공중 보조 연신을 고온으로 하든가 또는 고배율로 하는 만큼, 도 23에서 확인한 바와 같이, 공중 보조 연신 후의 PVA의 배향성이 향상한다. 이것은, 고온 또는 고배율인 만큼 PVA의 결정화가 진행되면서 연신되기 때문에, 부분적으로 가교점(架橋点)이 생기면서 연신되는 것이 요인이라고 추정된다. 결과적으로 PVA의 배향성이 향상하게 된다. 미리 붕산 수중 연신 전에 공중 보조 연신에 의해 PVA의 배향성을 향상시키는 것에서, 붕산 수용액에 침지했을 때에, 붕산이 PVA와 가교하기 쉬워지고, 붕산이 결절점(結節点)이 되면서 연신되는 것이라고 추정된다. 결과적으로 붕산 수중 연신 후도 PVA의 배향성이 높아진다.
본 발명의 실시 형태는, 이하대로이다. 본 발명은, 연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지로 이루어지는 편광막이 제막된 광학 필름 적층체의 제조 방법에 있어서, 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재와 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 PVA계 수지층을 포함하는 적층체에 대한 공중 보조 연신에 의해, 배향시킨 PVA계 수지층으로 이루어지는 연신 중간 생성물을 포함하는 연신 적층체를 생성하는 공정과, 상기 연신 적층체에 대한 이색성 물질의 흡착에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지층으로 이루어지는 착색 중간 생성물을 포함하는 착색 적층체를 생성하는 공정과, 상기 착색 적층체에 대한 붕산 수중 연신에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지로 이루어지는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하는 공정을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
여기서, 공중 보조 연신은, 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 오븐 등의 가열 장치를 이용하여, 제 1단의 「공중에 있어서 고온으로 연신하는 처리」를 말한다. 또한, 붕산 수중 연신은, 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 제 2단의 「붕산 수용액에 침지시키면서 연신하는 처리」를 말한다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지로 이루어지는 편광막에 있어서, 단체 투과율 T와 편광도 P로 이루어지는 광학 특성치가, 이하의 부등식
P > －(100.929T － 42.4 － 1) × 100 (단, T ＜ 42.3) 및 P ≥ 99.9 (단, T ≥ 42.3)
에 의해 나타내는 범위에 있는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법을 포함할 수 있다.
덧붙여서, 편광막의 단체 투과율 T와 편광도 P로 이루어지는 광학 특성치가 이 부등식에 의해 나타내는 범위는, 대형 표시 소자를 이용한 액정 TV용의 디스플레이로서 요구되는 성능이다. 구체적으로는 콘트라스트비 1000：1 이상 또한 최대 휘도 500cd／m2 이상이다. 이하, 이것을 「요구 성능」이라고 한다. 부언하면, 액정 셀의 백 라이트측과 시인(視認)측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막의 편광 성능이 적어도 이 범위에 없으면 안 된다. 또한 백 라이트측과 시인측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막으로서 편광도 P가 99.9％ 이하의 편광막을 이용했을 경우, 다른 쪽의 편광막으로서, 편광 성능이 얼마나 뛰어난 편광막을 이용해도, 요구 성능을 달성할 수 없다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 PVA계 수지층을 제막하는 공정을 포함할 수 있다. 이 공정은, 한정되는 것은 아니지만, 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 PVA계 수지를 도포하고, 건조하는 공정으로 할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재의 두께는, 제막되는 PVA계 수지층의 두께의 6배 이상인 것이 바람직하고, 7배 이상인 것이 보다 바람직하다. PVA계 수지층에 대한 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재의 두께가 6배 이상이면, 제조 공정의 반송 시에 필름 강도가 약하게 파단하는 것 같은 반송성, 액정 디스플레이의 백 라이트측과 시인측의 어느쪽이든 한 쪽의 편광막으로서 이용될 때의 편광막의 컬(Curl)성이나 전사성(轉寫性) 등의 불편은 생기지 않는다.
도 1을 참조한다. 도 1은, 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재의 두께와 PVA계 수지층의 도공 두께(편광막 두께)의 사이에 문제(不具合)가 생길지 어떨지를 확인한 것이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 5배 정도의 두께에서는, 반송성에 문제가 생기는 것이 우려된다.
본 실시 형태에 있어서, 편광막 두께는, 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 두께가 3?10㎛ 이하의 편광막이면, 편광막의 편광 성능을 나타내는 도 2의 T－P그래프에 의해 나타난 바와 같이, 3㎛, 8㎛, 10㎛의 각각의 편광 성능에 유의차(有意差)는 없고, 상기 부등식을 만족하는 광학 특성을 가지는 것이 확인할 수 있다. 도 2는, 적어도, 두께가 10㎛를 넘지 않는 편광막은, 크랙 내구성의 문제를 우려하지 않고, 요구 성능을 만족하는 광학 특성을 얻는 것을 나타내는 것이다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재는, 이소프탈산을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 시클로헥산디메탄올을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 다른 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 포함하는 비정성 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 포함할 수 있다. 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재는 또한, 편광막의 일면을 보호하는 광학 기능 필름으로 할 수 있도록, 투명 수지인 것이 바람직하다. 또한 이색성 물질은, 요오드 또는 요오드와 유기 염료의 혼합물의 어느 쪽이든 좋다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 공중 보조 연신은, 연신 배율이 3.5배 이하, 연신 온도가 PVA계 수지의 유리 전이 온도 이상인 것이 바람직하다. 또한 공중 보조 연신의 연신 온도가 95℃?150℃의 범위인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 공중 보조 연신에 의해 생성된 배향된 PVA계 수지층을 포함하는 연신 적층체를, 이것으로 한정되는 것은 아니지만, 이색성 물질의 요오드의 염색액에 침지함으로써, 요오드를 배향시킨 PVA계 수지층을 포함하는 착색 적층체를 생성할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 염색액에 침지하기 전에, 미리 연신 적층체를 불용화하여 두는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 이 공정은, 한정되는 것은 아니지만, 연신 중간 생성물을 액체의 온도 30℃의 붕산 수용액에 30초간 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA 분자가 배향된 PVA계 수지층을 불용화하는 공정이다. 본 공정의 붕산 수용액은, 물 100 중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 포함한다. 이 불용화 공정에 요구되는 기술적 과제는, 적어도 염색 공정에 있어서, 연신 적층체에 포함되는 PVA계 수지층을 용해시키지 않게 하는 것이다. 이것을 제 1불용화로 하면, 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지층을 포함하는 착색 적층체를 붕산 수중 연신 전에, 상기 착색 적층체를 40℃의 붕산 수용액에 60초간 침지하는 것에 의해 가교(架橋) 처리를 하는 것에 의해 불용화하는 공정을 제 2불용화라고 평가할 수 있다. 제 1 및 제 2의 불용화는, 모두 본 발명의 실시 형태에 있어서는, 최종적으로 제조되는 광학 필름 적층체에 포함되는 편광막의 광학 특성에도 영향을 준다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 공중 보조 연신을 자유 단일축 연신으로 행했을 때에, 최종적으로 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 PVA계 수지층의 총 연신 배율은, 5배 이상이며 7.5배 이하인 것이 바람직하다. 또한 공중 보조 연신을 고정 단일축 연신으로 행했을 때에는, 최종적으로 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 PVA계 수지층의 총 연신 배율은, 5배 이상이며 8.5배 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 이색성 물질을 배향시킨 PVA계 수지로 이루어지는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체를, 광학 필름 적층체에 포함되는 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재의 유리 전이 온도보다 낮은 온도의 요오드화물 염을 포함하는 수용액으로 세정하는 공정을 더 포함할 수 있다. 한층 더 또한, 세정된 광학 필름 적층체를 50℃ 이상 100℃ 이하의 온도로 건조하는 공정을 더 포함하도록 해도 좋다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 건조된 광학 필름 적층체에 포함되는 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 편광막의 다른 면으로 접착제를 통하여 광학 기능 필름을 적층하는 공정을 더 포함할 수 있다. 혹은, 건조된 광학 필름 적층체에 포함되는, 편광막의 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막되어 있지 않은 면에 접착제를 통하여 광학 기능 필름을 적층하는 것과 동시에, 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재를 편광막으로부터 박리함으로써, 편광막을 광학 기능 필름에 전사하고, 광학 기능 필름에 편광막이 전사된 광학 기능 필름 적층체를 생성하는 공정을 더 포함하도록 해도 좋다. 생성된 광학 기능 필름 적층체에는, 후술되는 바와 같이, 여러 가지 형태가 있을 수 있다.
본 발명은, 종래의 편광막에 비해 박막화된 광학 특성이 높은 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 방법을 제공하여 광학 특성이 높은 고기능의 편광막을 실현할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 편광막은, 대형 표시 소자의 박막화, 표시 얼룩짐의 해소, 산업 폐기물량의 저감 등의 관점에서 장래성이 기대된다.
도 1은 PVA층 두께(또는 편광막 두께)에 대한 수지기재의 적정 두께를 나타내는 도면이다.
도 2는 3㎛, 8㎛, 10㎛의 편광막의 편광 성능의 비교도이다.
도 3은 단체 투과율과 편광도와의 T－P그래프의 이미지도이다
도 4는 편광막의 요구 성능의 범위를 나타내는 도면이다.
도 5는 이색화에 근거하는 편광막 1?7의 편광 성능의 이론치를 나타내는 도면이다.
도 6은 염색욕(染色浴)의 요오드 농도의 차이에 의한 PVA계 수지층의 용해 비교표이다.
도 7은 염색욕의 요오드 농도의 차이에 의한 PVA계 수지층에 의해 생성된 편광막의 편광 성능의 비교도이다.
도 8은 실시예 1?4의 편광막의 편광 성능의 비교도이다.
도 9는 광학 필름 적층체의 불용화 처리를 포함하지 않는 제조 공정의 개략도이다.
도 10은 광학 필름 적층체의 불용화 처리를 포함하는 제조 공정의 개략도이다.
도 11은 편광막의 첩합 전사 공정에 의한 광학 필름 적층체의 패턴도이다.
도 12는 편광막의 첩합 전사 공정에 의한 광학 기능 필름 적층체의 패턴도이다.
도 13은 실시예 4?6의 편광막의 편광 성능(PVA층 두께, 비정성 PET기재)의 비교도이다.
도 14는 실시예 4, 7?9의 편광막의 편광 성능(공중 보조 연신 배율)의 비교도이다.
도 15는 실시예 4, 10?12의 편광막의 편광 성능(공중 보조 연신 온도)의 비교도이다.
도 16은 실시예 4, 13?15의 편광막의 편광 성능(총 연신 배율)의 비교도이다.
도 17은 실시예 16?18의 편광막의 편광 성능(고정 단일축 연신)의 비교도이다.
도 18은 결정성 PET와 비정성 PET와 PVA계 수지의 각각의 연신 온도와 연신 가능 배율과의 상대 관계를 나타내는 이미지도이다.
도 19는 결정성 PET와 비정성 PET의 Tg와 융점 Tm 사이에서의 온도 변화에 따르는 결정화 속도의 변화를 나타내는 이미지도이다.
도 20은 비정성 PET와 PVA와의 공중 고온의 연신 배율과 총 연신 배율과의 관계를 나타내는 이미지도이다.
도 21은 결정성 PET와 비정성 PET와 PVA계 수지에 관한 공중 고온의 연신 온도와 총 연신 가능 배율과의 상대 관계를 나타내는 이미지도이다.
도 22는 총 연신 배율에 대한 열가소성 수지기재로서 이용되는 PET의 배향성과 결정화도를 나타내는 이미지도이다.
도 23은 PVA의 결정화도와 PVA의 배향 함수와의 상대 관계를 나타내는 도면이다.
도 24는 열가소성 수지기재를 이용하여 제조된 편광막의 제조 공정의 개략도이다.
도 25는 비교예 1로 참고예 1?3과의 편광막의 편광 성능을 나타내는 도면이다.
도 26은 실시예 1?10에 대해서, 제조되는 편광막, 또는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 조건의 일람도이다.
도 27은 실시예 11?18에 대해서, 제조되는 편광막, 또는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 조건의 일람도이다.
편광막의 배경 기술로서, 본 발명에 이용되는 열가소성 수지기재의 재료 특성과 편광막의 편광 성능에 따라 나타내는 광학 특성에 대해서, 기술적 정리를 해둔다.
여기에서는, 본 발명에 이용되는 열가소성 수지의 일반적 재료 특성을 설명한다. 열가소성 수지는, 고분자가 규칙적으로 배열하는 결정 상태에 있는 것과, 고분자가 규칙적인 배열을 가지지 않는, 혹은, 매우 일부 밖에 가지지 않는 무정형 또는 비정 상태에 있는 것으로 크게 나눌 수 있다. 전자를 결정 상태라고 하고, 후자를 무정형 또는 비정 상태라고 한다. 이것에 대응하여, 결정 상태를 만드는 성질의 열가소성 수지는 결정성 수지로 불리고, 그러한 성질을 갖지 않는 열가소성 수지는 비정성 수지로 불린다. 한편, 결정성 수지인지 비정성 수지인지를 불문하고, 결정 상태에 없는 수지 또는 결정 상태에 이르지 않는 수지를 아모르퍼스(amorphous) 또는 비정질의 수지라고 한다. 여기에서는, 아모르퍼스 또는 비정질의 수지는, 결정 상태를 만들지 않는 성질의 비정성 수지와 구별하여 이용된다.
결정성 수지로는, 예를 들면 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP)을 포함하는 올레핀계 수지나, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT)를 포함하는 에스테르계 수지가 있다. 결정성 수지의 특징 중 하나는, 일반적으로 가열이나 연신 배향에 의해 고분자가 배열하여 결정화가 진행되는 성질을 가지는 것이다. 수지의 물리적 성질은, 결정화의 정도에 따라 여러 가지로 변화한다. 한편, 예를 들면, 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 결정성 수지라도, 가열 처리나 연신 배향에 의해 일어나는 고분자의 배열을 저해함으로써, 결정화의 억제가 가능하다. 결정화가 억제된 이러한 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 비정성 폴리프로필렌, 비정성 폴리에틸렌 테레프탈레이트라 하고, 이것들을 각각 총칭하여 비정성 올레핀계 수지, 비정성 에스테르계 수지라고 한다.
예를 들면 폴리프로필렌(PP)의 경우, 입체 규칙성이 없는 아타틱(atactic) 구조로 하는 것에 의해, 결정화를 억제한 비정성 폴리프로필렌(PP)을 작성할 수 있다. 또한 예를 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)의 경우, 중합 모노머(monomer)로서, 이소프탈산, 1,4－시클로헥산디메탄올과 같은 변성기(變性基)를 공중합하는 것, 즉, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)의 결정화를 저해하는 분자를 공중합시키는 것에 의해, 결정화를 억제한 비정성 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 작성할 수 있다.
다음에, 대형 표시 소자에 이용할 수 있는 편광막의 광학 특성을 설명한다. 편광막의 광학 특성이란, 단적으로는, 편광도 P와 단체 투과율 T로 나타내는 편광 성능이다. 일반적으로, 편광막의 편광도 P와 단체 투과율 T와는 트레이드?오프(trade off)의 관계에 있다. 이 2개의 광학 특성치를 복수로 플롯(plot)하여 나타낸 그래프가 T－P그래프이다. T－P그래프에 있어서, 플롯한 라인이 단체 투과율이 높은 우측 방향과 편광도가 높은 위쪽 방향에 있을수록, 편광막의 편광 성능이 우수하게 된다.
도 3의 모식도를 참조한다. 이상적 광학 특성은, T＝50％에서, P＝100％의 경우이다. T 값이 낮으면 P 값을 올리기 쉽고, T 값이 높을수록 P 값을 올리기 어렵다. 또한, 도 4의 플롯한 라인에 의해 확정된 범위에 위치하는 단체 투과율 T 및 편광도 P는, 구체적으로는, 「요구 성능」으로서, 디스플레이의 콘트라스트비 1000：1 이상 또한 최대 휘도 500cd／m2 이상이다. 이것은, 현재 또는 장래, 대형 표시 소자 등의 편광막 성능으로서 요구되는 광학 특성이다. 단체 투과율 T의 이상값은, T＝50％이지만, 빛이 편광막을 투과하려면, 편광막과 공기와의 계면에서 일부의 빛이 반사하는 현상이 일어난다. 이 반사 현상을 고려하면, 반사의 부분은 단체 투과율 T가 감소하므로, 현실적으로 달성 가능한 T치의 최대값은 45?46％ 정도이다.
한편, 편광도 P는, 편광막의 콘트라스트비(CR)로 변환할 수 있다. 예를 들면 99.95％의 편광도 P는, 편광막의 콘트라스트비의 2000：1에 상당한다. 이 편광막을 액정 TV용 셀의 양측으로 이용했을 때의 디스플레이의 콘트라스트비는, 1050：1이다. 여기서 디스플레이의 콘트라스트비가 편광막의 콘트라스트비를 밑도는 것은, 셀 내부에 있어서 편광 해소가 생기고 있기 때문이다. 편광 해소는, 백 라이트측의 편광막을 투과하여 온 빛이 셀 내부를 투과할 때에, 칼라 필터 중의 안료, 액정 분자층, TFT(박막 트랜지스터)에 의해 빛이 산란 및／또는 반사하고, 일부의 빛의 편광 상태가 변화함으로써 생긴다. 편광막 및 디스플레이의 콘트라스트비가 모두 큰 만큼, 액정 TV는 콘트라스트가 뛰어나, 보기 쉽다.
그런데, 편광막의 콘트라스트비는, 평행 투과율 Tp를 직교 투과율 Tc에서 삭제한 값으로서 정의된다. 이것에 대해서 디스플레이의 콘트라스트비는, 최대 휘도를 최소 휘도에서 삭제한 값으로서 정의할 수 있다. 최소 휘도는 검은색 표시 시의 휘도이다. 일반적인 시청 환경을 상정한 액정 TV의 경우, 0.5cd／m2 이하의 최소 휘도가 요구 기준이 된다. 이것을 넘는 값에서는 색재현성이 저하한다. 또한 최대 휘도는 흰색 표시 시의 휘도이다. 일반적인 시청 환경을 상정한 액정 TV의 경우, 디스플레이는, 최대 휘도가 450?550cd／m2의 범위의 것이 이용된다. 이것을 밑돌면, 표시가 어두워지기 때문에 액정 TV의 시인성이 저하한다.
대형 표시 소자를 이용한 액정 TV용의 디스플레이로서 요구되는 성능은, 콘트라스트비가 1000：1 이상 또한 최대 휘도가 500cd／m2 이상이다. 이것을 「요구 성능」이라고 한다. 도 4의 라인 1(T ＜ 42.3％) 및 라인 2(T ≥ 42.3％)는, 요구 성능을 달성하기 위해서 필요하게 되는 편광막의 편광 성능의 한계치를 나타내고 있다. 이것은, 도 5의 백 라이트측과 시인측과의 편광막의 조합에 근거하는, 다음과 같은 시뮬레이션에 의해 요구된 라인이다.
액정 TV용의 디스플레이의 콘트라스트비와 최대 휘도는, 광원(백 라이트 유닛)의 광량, 백 라이트측과 시인측과의 2개의 편광막의 투과율, 셀의 투과율, 백 라이트측과 시인측과의 2개의 편광막의 편광도, 셀의 편광 해소율에 근거하여 산출된다. 일반적인 액정 TV의 광원의 광량(10,000cd／m2), 셀의 투과율(13％), 및 편광 해소율(0.085％)의 기초 수치를 이용하고, 여러 가지의 편광 성능의 편광막을 조합, 각각의 조합마다 액정 TV용의 디스플레이의 콘트라스트비와 최대 휘도를 산출 함으로써, 요구 성능을 만족하는 도 4의 라인 1 및 라인 2를 이끌어낼 수 있다. 즉, 라인 1 및 라인 2에 도달하지 않는 편광막은, 디스플레이의 콘트라스트비가 1000：1 이하로, 최대 휘도가 500cd／m2 이하인 것을 나타낸다고 하는 것이다. 산출에 이용한 식은 이하와 같다.
식(1)은, 디스플레이의 콘트라스트비를 구하는 식이다. 식(2)은, 디스플레이의 최대 휘도를 구하는 식이다. 식(3)은 편광막의 이색비(二色比)를 구하는 식이다.
식(1) ： CRD ＝ Lmax／Lmin
식(2) ： Lmax ＝ (LB × Tp － (LB ／ 2 × k1B × DP ／ 100) ／ 2 × (k1F － k2F)) × Tcell ／100
식(3) ： DR ＝ Ak2 ／ Ak1 ＝ log(k2) ／ log(k1) ＝ log(Ts ／ 100 × (1 － P ／ 100) ／ TPVA) ／ log(Ts ／100 × (1 ＋ P ／ 100) ／ TPVA)
여기서,
Lmin ＝ (LB × Tc ＋ (LB ／ 2 × k1B × DP ／ 100) ／ 2 × (k1F － k2F)) × Tcell ／ 100
Tp ＝ (k1B × k1F ＋ k2B × k2F) ／ 2 × TPVA
Tc ＝ (k1B × k2F ＋ k2B × k1F) ／ 2 × TPVA
k1 ＝ Ts ／ 100 × (1 ＋ P ／ 100) ／ TPVA
k2 ＝ Ts ／100 × (1 － P ／ 100) ／ TPVA
CRD ： 디스플레이의 콘트라스트비
Lmax ： 디스플레이의 최대 휘도
Lmin ： 디스플레이의 최소 휘도
DR ： 편광막의 이색비(二色比)
Ts ： 편광막의 단체 투과율
P ： 편광막의 편광도
k1 ： 제 1주투과율
k2 ： 제 2주투과율
k1F ： 시인측 편광막의 k1
k2F ： 시인측 편광막의 k2
k1B ： 백 라이트측 편광막의 k1
k2B ： 백 라이트측 편광막의 k2
Ak1 ： 편광막의 투과축 방향의 흡광도
Ak2 ： 편광막의 흡수축 방향의 흡광도
LB ： 광원의 광량 (10000cd／m2)
Tc ： 편광막의 직교 투과율(시인측 편광판과 백 라이트측 편광판의 조합)
Tp ： 편광막의 평행 투과율(시인측 편광판과 백 라이트측 편광판의 조합)
Tcell ： 셀의 투과율 (13％)
DP ： 셀의 편광 해소율 (0.085％)
TPVA ： 요오드가 흡착하지 않는 PVA 필름의 투과율 (0.92).
도 4의 라인 1(T ＜ 42.3％)은, 도 5의 편광막(3)의 편광 성능에 의해 도출된다. 도 5의 편광막(3) 중에, 편광 성능이 좌표(T, P) ＝ (42.1％, 99.95％)에서 나타내는 플롯 D(흰색점)의 편광막D를 액정 TV용의 디스플레이의 백 라이트측과 시인측의 양측으로 이용했을 경우, 요구 성능을 달성할 수 있다.
그런데, 같은 편광막(3)이어도, 단체 투과율이 낮은(보다 어둡다) 편광 성능이 다른 3개의 편광막A(40.6％, 99.998％), B(41.1％, 99.994％), 또는 C(41.6％, 99.98％)를 백 라이트측과 시인측의 양측으로 이용했을 경우, 모두, 요구 성능을 달성할 수 없다. 백 라이트측과 시인측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막으로서 편광막A, B, 또는 C를 이용했을 경우, 요구 성능을 달성하기 위해서는, 예를 들면, 한 쪽의 편광막으로서 편광막(4)에 속하는 편광막E, 편광막(5)에 속하는 편광막F, 또는 편광막(7)에 속하는 G와 같은 편광막(3)에 비해, 단체 투과율이 높고, 적어도 편광도가 99.9％ 이상의 편광 성능이 뛰어난 편광막을 이용하지 않으면 안 된다.
편광막(1?7)의 편광 성능은 식(3)에 근거하여 산출된다. 식(3)을 이용함으로써 편광막의 편광 성능의 지표가 되는 이색비(DR)로부터 단체 투과율과 편광도를 산출할 수 있다. 이색비는 편광막의 흡수축 방향의 흡광도를 투과축 방향의 흡광도에서 삭제한 값이다. 이 수치가 높을수록 편광 성능이 뛰어난 것을 나타내고 있다. 예를 들면, 편광막(3)은 이색비가 약 94가 되는 편광 성능을 가지는 편광막으로서 산출된다. 이 값을 밑도는 편광막은 요구 성능에 이르지 않는다고 하는 것이 된다.
또한 백 라이트측과 시인측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막으로서 편광막(3)에 비해 편광 성능이 뒤떨어진다, 예를 들면, 편광막(1)에 속하는 편광막H(41.0％, 99.95％) 또는 편광막(2)에 속하는 편광막J(42.0％, 99.9％)를 이용했을 경우, 식(1)(2)에서 밝혀지듯이, 요구 성능을 달성하기 위해서는, 예를 들면, 한 쪽의 편광막으로서 편광막(6)에 속하는 편광막I(43.2％, 99.95％) 또는 편광막(7)에 속하는 편광막K(42.0％, 99.998％)와 같은 편광막(3)에 비해, 편광 성능이 보다 뛰어난 편광막을 이용하지 않으면 안 된다.
액정 TV용의 디스플레이의 요구 성능을 달성하기 위해서는, 백 라이트측과 시인측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막의 편광 성능이 적어도 편광막(3)보다 우수하지 않으면 안 된다. 도 4의 라인 1(T ＜ 42.3％)은, 그 하한치를 나타낸다. 한편, 도 4의 라인 2(T ≥ 42.3％)는, 편광도P의 하한치를 나타낸다. 백 라이트측과 시인측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막으로서 편광도 P가 99.9％ 이하의 편광막을 이용했을 경우에는, 한 쪽의 편광막으로서 편광 성능이 얼마나 뛰어난 편광막을 이용하여도, 요구 성능을 달성할 수 없다.
결론적으로는, 대형 표시 소자를 이용한 액정 TV용의 디스플레이로서 요구되는 편광 성능을 달성하려고 하는 경우, 백 라이트측과 시인측의 어느 쪽이든 한 쪽의 편광막의 편광 성능이 적어도 라인 1(T ＜ 42.3％) 및 라인 2(T ≥ 42.3％)에서 나타나는 범위에 있는 편광막, 보다 구체적으로는, 편광막(3)보다 뛰어난 편광 성능을 가지고, 편광도가 99.9％ 이상의 편광막인 것이 최저 조건이 된다.
여기서 또한, 열가소성 수지기재를 이용하여, PVA계 수지로 이루어지는 편광막을 제조하는 방법에 있어서, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 제 1 및 제 2의 불용화 방법이 중요한 기술적 과제의 하나로 평가되는 것에 대해서, 이하에 기술한다.
연신 중간 생성물(또는 연신 적층체)에 포함되는 PVA계 수지층을 염색액에 용해시키지 않고, 요오드를 PVA계 수지층에 흡착시키는 것은 결코 용이한 것은 아니다. 편광막의 제조에 있어서, 박막화된 PVA계 수지층에 요오드를 흡착시키는 것은 중요한 기술적 과제이다. 통상, 염색 공정에 이용되는 염색액의 요오드 농도는, 0.12?0.25 중량％의 범위에 있는 요오드 농도가 다른 복수의 염색액을 이용하고, 침지 시간을 일정하게 하는 것에 의해 PVA계 수지층으로의 요오드 흡착량을 조정한다. 이러한 통상의 염색 처리는, 편광막을 제조하는 경우에는, PVA계 수지층이 용해되기 때문에 염색 불가능이 된다. 여기에서는, 농도란, 전체 용액량에 대한 배합 비율을 말한다. 또한, 요오드 농도란, 전체 용액량에 대한 요오드의 배합 비율이 좋은, 예를 들면 요오드화 칼륨 등의 요오드화 물질로서 더해진 요오드의 양은 포함하지 않는다. 본 명세서의 이하에 있어서도, 농도 및 요오드 농도라고 하는 용어는 같은 의미로 이용한다.
이 기술적 과제는, 도 6에 나타낸 실험 결과에서 밝혀지듯이, 이색성 물질의 요오드 농도를 0.3 중량％ 또는 그 이상의 요오드 농도로 하는 것에 의해 해결할 수 있었다. 구체적으로는, PVA계 수지층으로 이루어지는 연신 중간 생성물을 포함하는 연신 적층체를 요오드 농도가 다른 염색액을 이용하고, 그 침지 시간을 조정함으로써, 착색 중간 생성물을 포함하는 착색 적층체를 생성하고, 붕산 수중 연신에 의해 여러 가지의 편광 성능을 가지는 각각의 편광막을 생성할 수 있다.
도 7의 그래프를 참조한다. 도 7은, 요오드 농도를 0.2 중량％, 0.5 중량％, 1.0 중량％로서 제작한 편광막의 편광 성능에 유의차(有意差)가 없는 것을 확인한 것이다. 덧붙여서, 착색 중간 생성물을 포함하는 착색 적층체의 생성에 있어서, 안정되고, 균일성이 뛰어난 착색을 실현하기 위해서는, 요오드 농도를 진하게 하여 얼마 안되는 침지 시간에 염색하는 것 보다는, 묽게하여 안정한 얼마 안되는 침지 시간을 확보할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
도 8의 그래프를 참조한다. 본 발명의 실시 형태에 있어서의 제 1 및 제 2의 불용화(이하, 「제 1 및 제 2의 불용화」라고 한다)는, 모두 최종적으로 제조되는 편광막의 광학 특성에도 영향을 준다. 도 8은, 박막화된 PVA계 수지층에 대한 제 1 및 제 2의 불용화의 작용의 분석 결과라고 볼 수 있다. 도 8은, 대형 표시 소자를 이용한 액정 TV용의 디스플레이로서 요구되는 요구 성능을 만족하는 4개의 실시예 1?4에 근거하여 제조된 각각의 편광막의 광학 특성을 구성(plot)한 것이다.
실시예 1은, 제 1 및 제 2의 불용화 공정을 거치지 않고 제조된 편광막의 광학 특성이다. 이것에 대해서, 실시예 2는, 제 1의 불용화 공정을 거치지 않는, 즉 제 2의 불용화 처리만이 실시된 편광막, 실시예 3은, 제 2의 불용화 공정을 거치지 않는, 즉 제 1의 불용화 처리만이 실시된 편광막, 실시예 4는, 제 1 및 제 2의 불용화 처리가 실시된 편광막의 각각의 광학 특성이다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 제 1 및 제 2의 불용화 공정을 거치지 않고 요구 성능을 만족하는 편광막을 제조할 수 있다. 그렇지만, 도 8에서 밝혀지듯이, 실시예 1의 불용화 처리가 실시되지 않은 편광막의 광학 특성은, 실시예 2?4의 어느 편광막의 광학 특성보다 낮다. 각각의 광학 특성치를 비교하면, 실시예 1 ＜ 실시예 3 ＜ 실시예 2 ＜ 실시예 4의 순서로 광학 특성이 높아진다. 실시예 1 및 실시예 2에 있어서는, 모두 염색액의 요오드 농도를 0.3 중량％ 및 요오드화 칼륨 농도 2.1 중량％로 설정한 염색액을 이용했다. 이것에 대해서, 실시예 3 및 실시예 4에 있어서는, 요오드 농도를 0.12?0.25 중량％ 및 요오드화 칼륨 농도 0.84?1.75 중량％의 범위 내에서 변화시킨 복수의 염색액을 이용했다. 실시예 1 및 실시예 3의 그룹과 실시예 2 및 실시예 4의 그룹과의 결정적인 차이는, 전자의 착색 중간 생성물에는 불용화 처리가 실시되지 않지만, 후자의 착색 중간 생성물에는 불용화 처리가 실시되고 있는 것이다. 실시예 4는, 붕산 처리 전의 착색 중간 생성물뿐만 아니라 염색 처리 전의 연신 중간 생성물에 대해서도 불용화 처리가 실시되고 있다. 제 1 및 제 2의 불용화 처리에 의해, 편광막의 광학 특성을 더욱 향상시킬 수 있었다.
편광막의 광학 특성을 향상시키는 메카니즘은, 도 7에서 밝혀지듯이, 염색액의 요오드 농도에 의한 것이 아니다. 제 1 및 제 2의 불용화 처리에 의한 효과이다. 이 지견은, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 제 3의 기술적 과제와 그 해결 수단으로서 평가할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 있어서, 제 1의 불용화는, 연신 중간 생성물(또는 연신 적층체)에 포함되는 박막화된 PVA계 수지층을 용해시키지 않게 하는 처리이다. 이것에 대해서, 가교 공정에 포함되는 제 2의 불용화는, 후속 공정의 액체의 온도 75℃의 붕산 수중 연신에 있어서 착색 중간 생성물(또는 착색 적층체)에 포함되는 PVA계 수지층에 착색된 요오드를 용출시키지 않도록 하는 착색 안정화와, 박막화 된 PVA계 수지층을 용해시키지 않는 불용화를 포함하는 처리이다.
그런데, 제 2불용화 공정을 생략하면, 액체의 온도 75℃의 붕산 수중 연신에 있어서는, PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출이 진행되어, 그것에 의해 PVA계 수지층의 용해도 진행된다. 요오드의 용출이나 PVA계 수지층의 용해를 회피하려고 하면, 붕산 수용액의 액체의 온도를 내리는 것에 의해 대응할 수 있다. 예를 들면, 액체의 온도 65℃를 밑도는 붕산 수용액에 착색 중간 생성물(또는 착색 적층체)을 침지하면서 연신할 필요가 있다. 그렇지만, 결과적으로 물의 가소제 기능이 충분히 발휘되지 않기 때문에, 착색 중간 생성물(또는 착색 적층체)에 포함되는 PVA계 수지층의 연화는 충분히 얻을 수 없다. 즉, 연신 성능이 저하하기 때문에, 붕산 수중 연신에 의해 착색 중간 생성물(또는 착색 적층체)이 파단하게 된다. 당연한 일이지만, PVA계 수지층의 소정의 총 연신 배율을 얻을 수도 없게 된다.
[제조 공정의 개요]
도 9를 참조한다. 도 9는, 불용화 처리 공정을 가지지 않는, 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정의 개요도이다. 여기에서는, 실시예 1에 근거하여 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 방법에 대해서 설명한다.
비정성 에스테르계 열가소성 수지기재로서, 이소프탈산을 6mol％ 공중합시킨 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하, 「비정성 PET」라고 한다)의 연속 웹의 기재를 제작했다. 유리 전이 온도가 75℃의 연속 웹의 비정성 PET기재(1)와, 유리 전이 온도가 80℃의 PVA층(2)을 포함하는 적층체(7)를 이하와 같이 제작했다.
[적층체 제작 공정(A)]
우선, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재(1)와, 중합도(重合度) 1000 이상, 감화도 99％ 이상의 PVA 분말을 물에 용해한 4?5 중량％ 농도의 PVA 수용액을 준비했다. 다음에, 도공 수단(21)으로 건조 수단(22) 및 표면 개질 처리 장치(23)를 갖춘 적층체 제작 장치(20)에 있어서, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재(1)에 PVA 수용액을 도포하고, 50?60℃의 온도로 건조하고, 비정성 PET기재(1)에 7㎛ 두께의 PVA층(2)을 제막했다. 이하, 이것을 「비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체(7)」, 「7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체(7)」, 또는 단순히 「적층체(7)」라고 한다.
PVA층을 포함하는 적층체(7)는, 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 2단 연신 공정을 포함하는 이하의 공정을 거쳐, 최종적으로 3㎛ 두께의 편광막(3)으로서 제조된다.
[공중 보조 연신 공정(B)]
제 1단의 공중 보조 연신 공정(B)에 의해, 7㎛ 두께의 PVA층(2)을 포함하는 적층체(7)를 비정성 PET기재(1)로 일체로 연신하고, 5㎛ 두께의 PVA층(2)을 포함하는 「연신 적층체(8)」을 생성했다. 구체적으로는, 오븐(33) 내에 연신 수단(31)이 배치된 공중 보조 연신 처리 장치(30)에 있어서, 7㎛ 두께의 PVA층(2)을 포함하는 적층체(7)를 130℃의 연신 온도 환경으로 설정된 오븐(33)의 연신 수단(31)에 걸쳐, 연신 배율이 1.8배가 되도록 자유 단일축으로 연신하고, 연신 적층체(8)를 생성했다. 이 단계에서 오븐(30)에 병설시킨 권취 장치(32)에 의해 연신 적층체(8)의 롤(8')을 제조할 수 있다.
여기서, 자유단 연신과 고정단 연신에 대해 설명한다. 긴 필름을 반송 방향으로 연신하면, 연신할 방향에 대해서 수직 방향 즉 폭 방향으로 필름이 수축한다. 자유단 연신은, 이 수축을 억제하지 않고 연신하는 방법을 말한다. 또한 세로 일축 연신이란, 세로 방향으로만 연신하는 연신 방법이다. 자유 단일축 연신은, 일반적으로 연신 방향에 대해서 수직 방향으로 일어나는 수축을 억제하면서 연신하는 고정 단일축 연신과 대비되는 것이다. 이 자유 단일축의 연신 처리에 의해, 적층체(7)에 포함되는 7㎛ 두께의 PVA층(2)은, PVA 분자가 배향된 5㎛ 두께의 PVA층(2)로 변화했다.
[염색 공정(C)]
다음에, 염색 공정(C)에 의해, PVA 분자가 배향된 5㎛ 두께의 PVA층(2)에 이색성 물질의 요오드를 흡착시킨 착색 적층체(9)를 생성했다. 구체적으로는, 염색액(41)의 염색욕(42)를 갖춘 염색 장치(40)에 있어서, 염색 장치(40)에 병설된 롤(8')을 장착한 조출 장치(43)로부터 조출되는 연신 적층체(8)를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액(41)에, 최종적으로 생성되는 편광막(3)을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지하는 것에 의해, 연신 적층체(8)의 배향된 PVA층(2)에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체(9)를 생성했다.
본 공정에 있어서, 염색액(41)은, 연신 적층체(8)에 포함되는 PVA층(2)을 용해시키지 않도록 하기 위해, 물을 용매로서, 요오드 농도를 0.30 중량％로 했다. 또한, 염색액(41)은, 요오드를 물에 용해시키기 위한 요오드화 칼륨 농도를 2.1 중량％로 했다. 요오드와 요오드화 칼륨의 농도의 비는 1대 7이다. 보다 상세하게는, 요오드 농도 0.30 중량％, 요오드화 칼륨 농도 2.1 중량％의 염색액(41)에 연신 적층체(8)를 60초간 침지하는 것에 의해, PVA 분자가 배향된 5㎛ 두께의 PVA층(2)에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체(9)를 생성했다. 실시예 1에 있어서는, 요오드 농도 0.30 중량％, 요오드화 칼륨 농도 2.1 중량％의 염색액(41)으로의 연신 적층체(8)의 침지 시간을 바꾸는 것에 의해, 최종적으로 생성되는 편광막(3)의 단체 투과율을 40?44％가 되도록 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 여러 가지의 착색 적층체(9)를 생성했다.
[붕산 수중 연신 공정(D)]
제 2단의 붕산 수중 연신 공정에 의해, 요오드를 배향시킨 PVA층(2)을 포함하는 착색 적층체(9)를 더욱 연신하고, 3㎛ 두께의 편광막(3)을 구성하는 요오드를 배향시킨 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체(10)를 생성했다. 구체적으로는, 붕산 수용액(51)의 붕산욕(52)와 연신 수단(53)을 갖춘 붕산 수중 연신 처리 장치(50)에 있어서, 염색 장치(40)로부터 연속적으로 조출된 착색 적층체(9)를 붕산과 요오드화 칼륨을 포함하는 액체의 온도 65℃의 연신 온도 환경으로 설정된 붕산 수용액(51)에 침지하고, 다음에 붕산 수중 처리 장치(50)에 배치된 연신 수단(53)에 걸쳐, 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신하는 것에 의해, 광학 필름 적층체(10)를 생성했다.
보다 상세하게는, 붕산 수용액(51)은, 물 100 중량부에 대해서 붕산을 4 중량부 포함하고, 물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 5 중량부 포함하는 것으로서 생성했다. 본 공정에 있어서는, 요오드 흡착량을 조정한 착색 적층체(9)를 우선 5?10초간 붕산 수용액(51)에 침지했다. 그 다음에, 그 착색 적층체(9)를 그대로 붕산 수중 처리 장치(50)의 연신 수단(53)인 주속이 다른 복수의 조의 롤 사이에 통해, 30?90초 걸쳐 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신했다. 이 연신 처리에 의해, 착색 적층체(9)에 포함되는 PVA층은, 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체(錯體)로서 한 방향에 고차(高次)로 배향한 3㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다. 이 PVA층이 광학 필름 적층체(10)의 편광막(3)을 구성한다.
이상과 같이 실시예 1에 있어서는, 비정성 PET기재(1)에 7㎛ 두께의 PVA층(2)이 제막된 적층체(7)를 연신 온도 130℃에서 공중 보조 연신하여 연신 적층체(8)를 생성하고, 다음에, 연신 적층체(8)를 염색하여 착색 적층체(9)를 생성하고, 또한 착색 적층체(9)를 연신 온도 65도에서 붕산 수중 연신하여, 총 연신 배율이 5.94배가 되도록 비정성 PET기재와 일체로 연신된 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체(10)를 생성했다. 이러한 2단 연신에 의해 비정성 PET기재(1)에 제막된 PVA층(2)의 PVA 분자가 고차로 배향되며, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체로서 한 방향에 고차로 배향된 편광막(3)을 구성하는 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체(10)를 생성할 수 있었다. 바람직하게는, 이것에 계속되는 세정, 건조, 전사 공정에 의해, 생성된 광학 필름 적층체(10)를 완성한다. 세정 공정(G), 건조 공정(H), 또한 전사 공정(I)에 대한 자세한 것은, 불용화 처리 공정을 포함시킨 실시예 4에 근거하여 제조 공정과 더불어 설명한다.
[다른 제조 공정의 개요]
도 10을 참조한다. 도 10은, 불용화 처리 공정을 가지는, 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정의 개요도이다. 여기에서는, 실시예 4에 근거하여 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 방법에 대해 설명한다. 도 10에서 밝혀지듯이, 실시예 4에 근거하는 제조 방법은, 염색 공정 전의 제 1불용화 공정과 붕산 수중 연신 공정 전의 제 2불용화를 포함하는 가교 공정이 실시예 1에 근거하는 제조 공정에 포함시킨 제조 공정을 상정하면 좋다. 본 공정에 포함된, 적층체의 작성 공정(A), 공중 보조 연신 공정(B), 염색 공정(C), 및 붕산 수중 연신 공정(D)은, 붕산 수중 연신 공정용의 붕산 수용액의 액체의 온도의 차이를 제외하고, 실시예 1에 근거하는 제조 공정과 같다. 이 부분의 설명은 간략화하고, 오로지, 염색 공정 전의 제 1불용화 공정과 붕산 수중 연신 공정 전의 제 2불용화를 포함하는 가교 공정에 임해서, 설명한다.
[제 1불용화 공정(E)]
제 1불용화 공정은, 염색 공정(C) 전의 불용화 공정(E)이다. 실시예 1의 제조 공정과 동일하게, 적층체의 작성 공정(A)에 있어서, 비정성 PET기재(1)에 7㎛ 두께의 PVA층(2)이 제막된 적층체(7)를 생성하고, 다음에, 공중 보조 연신 공정(B)에 있어서, 7㎛ 두께의 PVA층(2)을 포함하는 적층체(7)를 공중 보조 연신하고, 5㎛ 두께의 PVA층(2)을 포함하는 연신 적층체(8)를 생성했다. 다음에, 제 1불용화 공정(E)에 있어서, 롤(8')을 장착한 조출 장치(43)로부터 조출되는 연신 적층체(8)에 불용화 처리를 가하고, 불용화된 연신 적층체(8'')를 생성했다. 당연한 일이지만, 불용화된 연신 적층체(8)는 불용화된 PVA층(2)을 포함한다. 이하, 이것을 「불용화된 연신 적층체(8'')」라고 한다.
구체적으로는, 붕산 불용화 수용액(61)을 갖춘 불용화 처리 장치(60)에 있어서, 연신 적층체(8)를 액체의 온도 30℃의 붕산 불용화 수용액(61)에 30초간 침지한다. 본 공정의 붕산 불용화 수용액(61)은, 물 100 중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 포함한다(이하, 「붕산 불용화 수용액」이라고 한다.). 본 공정는, 적어도 직후의 염색 공정(C)에 있어서, 연신 적층체(8)에 포함되는 5㎛ 두께의 PVA층을 용해시키지 않기 위한 불용화 처리를 가하는 것을 목적으로 한다.
연신 적층체(8)는 불용화 처리된 것에 의해, 염색 공정(C)에 있어서, 실시예 1의 경우와 다른 0.12?0.25 중량％의 범위에서 요오드 농도를 변화시킨 여러 가지의 염색액을 준비하고, 이러한 염색액을 이용하여, 불용화된 연신 적층체(8'')의 염색액으로의 침지 시간을 일정하게 하고, 최종적으로 생성되는 편광막의 단체 투과율을 40?44％가 되도록 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 여러 가지의 착색 적층체(9)를 생성했다. 요오드 농도가 0.12?0.25 중량％의 염색액에 침지하여도, 불용화된 연신 적층체(8'')에 포함되는 PVA층이 용해하지는 않았다.
[제 2불용화를 포함하는 가교 공정(F)]
제 2불용화를 포함하는 가교 공정(F)은, 이하의 목적으로부터 제 2불용화 공정을 포함하는 것이라고 할 수 있다. 가교 공정은, 제 1에, 후속 공정의 붕산 수중 연신 공정(D)에 있어서, 착색 적층체(9)에 포함되는 PVA층을 용해시키지 않도록 한 불용화와, 제 2에, PVA층에 착색된 요오드를 용출시키지 않도록 하는 착색 안정화 와, 제 3에, PVA층의 분자 사이를 가교함으로써 결절점을 생성하는 결절점의 생성을 목적으로 한다. 제 2불용화는, 이 제 1과 제 2의 목적을 실현하는 것이다.
가교 공정(F)은, 붕산 수중 연신 공정(D)의 전공정이다. 염색 공정(C)에 있어서 생성된 착색 적층체(9)를 가교함으로써, 가교된 착색 적층체(9')를 생성했다. 가교된 착색 적층체(9')는 가교된 PVA층(2)을 포함한다. 구체적으로는, 붕산과 요오드 칼륨으로 이루어지는 수용액(이하, 「붕산 가교 수용액」이라고 한다)(71)을 갖춘 가교 처리 장치(70)에 있어서, 착색 적층체(9)를 40℃의 붕산 가교 수용액(71)에 60초간 침지하고, 요오드를 흡착시킨 PVA층의 PVA 분자 사이를 가교함으로써, 가교 된 착색 적층체(9')를 생성했다. 본 공정의 붕산 가교 수용액은, 물 100 중량부에 대해서 붕산을 3 중량부 포함하고, 물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨을 3 중량부 포함한다.
붕산 수중 연신 공정(D)에 있어서, 가교된 착색 적층체(9')를 75℃의 붕산 수용액에 침지하고, 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신함으로써, 광학 필름 적층체(10)를 생성했다. 이 연신 처리에 의해, 착색 적층체(9')에 포함되는 요오드를 흡착시킨 PVA층(2)은, 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체로서 한 방향에 고차로 배향한 3㎛ 두께의 PVA층(2)으로 변화했다. 이 PVA층이 광학 필름 적층체(10)의 편광막(3)을 구성한다.
실시예 4는, 우선, 비정성 PET기재(1)에 7㎛ 두께의 PVA층(2)이 제막된 적층체(7)를 생성하고, 다음에, 적층체(7)를 연신 온도 130℃의 공중 보조 연신에 의해 연신 배율이 1.8배가 되도록 자유 단일축으로 연신하고, 연신 적층체(8)를 생성했다. 생성된 연신 적층체(8)를 액체의 온도 30℃의 붕산 불용화 수용액(61)에 30초간 침지함으로써 연신 적층체에 포함되는 PVA층을 불용화했다. 이것이 불용화된 연신 적층체(8'')이다. 불용화된 연신 적층체(8'')를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 침지하고, 불용화된 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체(9)를 생성했다. 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체(9)를 40℃의 붕산 가교 수용액(71)에 60초간 침지하고, 요오드를 흡착시킨 PVA층의 PVA 분자 사이를 가교했다. 이것이 가교된 착색 적층체(9')이다. 가교된 착색 적층체(9')를 붕산과 요오드화 칼륨을 포함하는 액체의 온도 75℃의 붕산 수중 연신욕(51)에 5?10초간 침지하고, 그 다음에, 붕산 수중 연신에 의해 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신하고, 광학 필름 적층체(10)를 생성했다.
이와 같은, 실시예 4는, 고온 공중 연신 및 붕산 수중 연신으로 이루어지는 2 단 연신과, 염색욕으로의 침지에 앞서는 불용화 및 붕산 수중 연신에 앞서는 가교로 이루어지는 사전 처리에 의해, 비정성 PET기재(1)에 제막된 PVA층(2)의 PVA 분자가 고차로 배향되며, 염색에 의해 PVA 분자에 확실히 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체로서 한 방향에 고차로 배향된 편광막을 구성하는 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체(10)를 안정적으로 생성할 수 있었다.
[세정 공정(G)]
실시예 1 또는 4의 착색 적층체(9) 또는 가교된 착색 적층체(9')는, 붕산 수중 연신 공정(D)에 있어서 연신 처리되며, 붕산 수용액(51)으로부터 취출(取出)된다. 취출된 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)는, 바람직하게는, 그대로, 세정 공정(G)으로 보내진다. 세정 공정(G)은, 편광막(3)의 표면에 부착한 불필요한 잔존물을 씻어 흘리는 것을 목적으로 한다. 세정 공정(G)을 생략하고, 취출된 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)를 직접 건조 공정(H)으로 보낼 수도 있다. 그렇지만, 이 세정 처리가 불충분하다라고, 광학 필름 적층체(10)의 건조 후에 편광막(3)으로부터 붕산이 석출(析出)하게 된다. 구체적으로는, 광학 필름 적층체(10)를 세정 장치(80)로 보내고, 편광막(3)의 PVA가 용해하지 않게 액체의 온도 30℃의 요오드화 칼륨을 포함하는 세정액(81)에 1?10초간 침지한다. 세정액(81) 중의 요오드화 칼륨 농도는, 0.5?10 중량％ 정도이다.
[건조 공정(H)]
세정된 광학 필름 적층체(10)는, 건조 공정(H)으로 보내지며, 여기서 건조된다. 그 다음에, 건조된 광학 필름 적층체(10)는, 건조 장치(90)에 병설(倂設)된 권취 장치(91)에 의해, 연속 웹의 광학 필름 적층체(10)로서 감겨 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 롤이 생성된다. 건조 공정(H)으로서, 임의의 적절한 방법, 예를 들면, 자연 건조, 송풍 건조, 가열 건조를 채용할 수 있다. 실시예 1 및 실시예 4는 어느 쪽이라도, 오븐의 건조 장치(90)에 있어서, 60℃의 온풍에서, 240초간, 건조를 실시했다.
[첩합／전사 공정(I)]
비정성 PET기재에 제막된 3㎛ 두께의 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)는, 광학 필름 적층체(10)의 롤에 마무리하고, 그것을 첩합／전사 공정(I)에 있어서, 이하와 같은 첩합 처리와 전사 처리를 동시에 실시할 수 있다. 제조되는 편광막(3)의 두께는, 연신에 의한 박막화에 의해 10㎛ 이하, 통상은, 불과 2?5㎛ 정도에 지나지 않는다. 편광막(3)을 단층체로서 취급하는 것은 어렵다. 따라서, 편광막(3)은, 비정성 PET기재에 제막함으로써 광학 필름 적층체(10)로서 취급하는지, 또는, 다른 광학 기능 필름(4)에 접착제를 통하여 첩합／전사함으로써 광학 기능 필름 적층체(11)로서 취급하게 된다.
도 9 또는 10에 나타내는 첩합／전사 공정(I)에 있어서는, 연속 웹의 광학 필름 적층체(10)에 포함되는 편광막(3)과 광학 기능 필름(4)을 접착제를 통하여 첩합하면서 권취하고, 그 권취 공정에 있어서, 편광막(3)을 광학 기능 필름(4)에 전사하면서 비정성 PET기재를 박리함으로써, 광학 기능 필름 적층체(11)가 생성된다. 구체적으로는, 첩합／전사 장치(100)에 포함되는 조출／첩합 장치(101)에 의해 광학 필름 적층체(10)가 조출되며, 조출된 광학 필름 적층체(10)가 권취／전사 장치(102)에 의해 편광막(3)이 광학 기능 필름으로 전사되면서, 광학 필름 적층체(10)로부터 박리 되어, 광학 기능 필름 적층체(11)가 생성된다.
건조 공정(H)에 있어서 권취 장치(91)에 의해 생성된 광학 필름 적층체(10) 또는 첩합／전사 공정(I)에 의해 생성되는 광학 기능 필름 적층체(11)에는 여러가지 변화(variation)가 있다.
도 11및 도 12를 참조한다. 이것은, 여러 가지 광학 필름 적층체(10) 혹은 광학 기능 필름 적층체(11)의 변화(variation)를 전형적 패턴 1에서 4로서 나타낸 도면이다.
패턴 1 및 패턴 2를 나타낸 도 11은, 광학 필름 적층체(10)와는 다른 바리에이션을 나타내는 광학 필름 적층체(12) 및 광학 필름 적층체(13)의 개략 단면도이다. 광학 필름 적층체(12)는, 광학 필름 적층체(10)의 편광막(3) 위에 점착제층(16)을 통하여 세퍼레이터(17)를 적층한 것이다. 이것은, 비정성 PET기재(1)를 보호 필름으로 하면, 도 11의 구체적인 예 1에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 IPS형 액정 TV용 디스플레이 패널(200)의 백 라이트측과 시인 측에 이용되는 광학 필름 적층체로서 이용할 수 있다. 이 경우, IPS 액정 셀(202)의 양측으로 광학 필름 적층체가 점착제층(16)을 통하여 첩합된다. 이 구성에 있어서는, 일반적으로 시인측의 비정성 PET기재(1)의 표면에는 표면 처리층(201)이 제막된다.
광학 필름 적층체(13)는, 광학 필름 적층체(10)의 편광막(3) 위에 접착제층(18)을 통하여 광학 기능 필름(4)을 적층하고, 광학 기능 필름(4) 위에 점착제층(16)을 통하여 세퍼레이터(17)를 적층한 것이다. 광학 필름 적층체(13)는, 광학 기능 필름(4)을 3차원 굴절률이 nx ＞ ny ＞ nz의 2축성 위상차이 필름(301)으로 하면, 도 11의 구체적인 예 2에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 VA형 액정 TV용 디스플레이 패널(300)의 백 라이트측과 시인 측에 이용되는 광학 기능 필름 적층체로서 이용할 수 있다. 이 경우, VA액정 셀(302)의 양측으로 광학 필름 적층체가 점착제층(16)을 통하여 첩합된다. 이 구성에 있어서는, 일반적으로 시인측의 비정성 PET기재(1)의 표면에는 표면 처리층(201)이 제막된다. 광학 필름 적층체(12 및 13)는 모두, 비정성 PET기재(1)를 편광막(3)으로부터 박리하지 않고, 그대로, 예를 들면 편광막(3)의 보호 필름으로서 기능하도록 이용한 것을 특징으로 하는 것이다.
패턴 3 및 패턴 4를 나타낸 도 12는, 광학 기능 필름 적층체(11)와는 다른 바리에이션을 나타내는 광학 기능 필름 적층체(14) 및 광학 기능 필름 적층체(15)의 개략 단면도이다. 광학 기능 필름 적층체(14)는, 접착제(18)를 통하여 광학 기능 필름 4에 전사된 편광막(3)의 비정성 PET기재(1)가 박리된 반대면에 점착제층(16)을 통하여 세퍼레이터(17)를 적층한 것이다. 광학 기능 필름 적층체(14)는, 광학 기능 필름(4)을 TAC 필름(401)의 보호 필름으로 하면, 도 12의 구체적인 예 3에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 IPS형 액정 TV용 디스플레이 패널(400)의 백 라이트측과 시인 측에 이용되는 광학 기능 필름 적층체로서 이용할 수 있다. 이 경우, IPS 액정 셀(402)의 양측으로 광학 필름 적층체가 점착제층(16)을 통하여 첩합된다. 이 구성에 있어서는, 일반적으로 시인측의 TAC 필름(401)의 표면에는 표면 처리층(201)이 제막된다.
광학 기능 필름 적층체(15)는, 제 1접착제(18)를 통하여 광학 기능 필름(4)에 전사된 편광막(3)의 비정성 PET기재(1)가 박리된 반대 면에 제 2접착제(18)를 통하여 제 2광학 기능 필름(5)을 적층함으로써 적층체를 생성하고, 생성된 적층체 위에 점착제(16)를 통하여 세퍼레이터(17)를 적층한 것이다. 광학 기능 필름 적층체(15)는, 광학 기능 필름(4)을 TAC 필름(401)으로 하고, 제 2광학 기능 필름(5)을 3차원 굴절률이 nx ＞ nz ＞ ny의 2축성 위상차이 필름(501)으로 하면, 도 12의 구체적인 예 4에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 IPS형 액정 TV용 디스플레이 패널(500)의 백 라이트측의 광학 기능 필름 적층체로서 이용할 수 있다. 이 경우, IPS 액정 셀(502)의 백 라이트 측에 광학 필름 적층체가 점착제층(16)을 통하여 첩합된다.
광학 기능 필름 적층체(15)는 또한, 제 2광학 기능 필름을 λ／4 위상차이 필름(602)으로 하면, 표시장치의 표면 반사나 표시장치 내의 부재 계면에서 일어나는 반사를 방지하는 반사 방지용 필름(원편광판)으로서도 이용할 수 있다. 구체적으로는, 광학 기능 필름(4)을 아크릴계 수지 필름(601), 제 2광학 기능 필름(5)을 λ／4 위상차이 필름(602)으로 하고, 편광막(3)의 흡수축과 λ／4 위상차이 필름(602)의 지상축의 첩합 각도를 45도로 하면, 도 12의 구체적인 예 5에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 유기 EL 디스플레이(600)의 반사 방지용 필름으로서 이용할 수 있다. 이 경우, 유기 EL 패널(603)의 시인측에 광학 기능 필름 적층체가 점착제층(16)을 통하여 첩합된다. 이 구성에 있어서는, 일반적으로 시인측의 아크릴계 수지 필름(601)의 표면에는 표면 처리층(201)이 제막된다.
광학 기능 필름 적층체(14 및 15)는 모두, 편광막(3)을 광학 기능 필름(4)에 전사하는 것과 동시에 비정성 PET기재(1)를 박리한 적층체를 이용한 것을 특징으로 하는 것이다.
이러한 광학 기능 필름 적층체(11, 14, 15), 및, 광학 필름 적층체(12, 13)를 구성하는 각층의 광학 기능 필름은, 이것들로 한정되는 것은 아니다. 광학 기능 필름으로서는, TAC 필름 또는 아크릴계 수지로 이루어지는 편광막 보호 필름, 2축성 위상차이 필름(예를 들면, 3차원 굴절률이 nx ＞ ny ＞ nz, nx ＞ nz ＞ ny 등), λ／4 위상차이 필름, λ／2 위상차이 필름, 정분산성(正分散性) 위상차이 필름, 플랫 분산성 위상차이 필름, 역분산성 위상차이 필름 등의 위상차이 필름, 휘도 향상 필름, 확산 필름 등을 들 수 있다. 또한 이것들을 복수 장 첩합하여 이용할 수도 있다. 또한, 이용되는 점착제(16) 또는 접착제(18)는, 임의의 적절한 점착제 또는 접착제를 이용할 수 있다. 대표적으로는, 점착제층은 아크릴계 점착제이고, 접착제층은 비닐 알코올계 접착제이다.
[여러가지 제조 조건에 의한 편광막의 광학 특성]
(1) 불용화 공정에 의한 편광막의 광학 특성의 향상(실시예 1?4)
이미 도 8의 그래프를 이용하여 설명했다. 실시예 1?4에 근거하여 제조된 각각의 편광막이, 모두 본 발명의 기술적 과제를 극복하고, 이러한 광학 특성이, 본 발명의 목적인 대형 표시 소자를 이용한 액정 TV용의 디스플레이로서 요구되는 요구 성능을 만족하는 것은, 도 8을 이용한 설명에 의해 벌써 확인했다. 또한, 도 8의 그래프에서 밝혀지듯이, 실시예 1의 불용화 처리가 실시되지 않은 편광막의 광학 특성은, 제 1불용화 처리 및／또는 제 2불용화 처리가 실시된 실시예 2?4의 편광막의 광학 특성의 어느 쪽보다 낮다. 각각의 광학 특성을 비교하면, (실시예 1) ＜ (제 1불용화 처리만이 실시된 실시예 3) ＜ (제 2불용화 처리만이 실시된 실시예 2) ＜ (제 1 및 제 2불용화 처리가 실시된 실시예 4)의 순서로 광학 특성이 높아진다. 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정에 제 1 및／또는 제 2불용화 공정을 가지는 제조 방법에 의해 제조된 편광막, 또는 편광막 포함하는 광학 필름 적층체는, 그러한 광학 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(2) PVA계 수지층의 두께에 의한 편광막의 광학 특성으로의 영향(실시예 5)
실시예 4에 있어서는 7㎛ 두께의 PVA층을 연신하여 최종적으로 광학 필름 적층체에 포함되는 PVA층이 3㎛ 두께가 된 것에 대해서, 실시예 5에 있어서는 12㎛ 두께의 PVA층을 연신하여 최종적으로 광학 필름 적층체에 포함되는 PVA층이 5㎛ 두께가 되었다. 이것은, 이 점을 제외하고 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 편광막이다.
(3) 비정성 PET기재를 다르게한 편광막의 광학 특성으로의 영향(실시예 6)
실시예 4에 있어서는 이소프탈산을 PET에 공중합시킨 비정성 PET기재를 이용한 것에 대해서, 실시예 6에 있어서는, PET에 대해서 변성기로서 1, 4－시클로헥산디메탄올을 공중합시킨 비정성 PET기재를 이용했다. 이것은, 이 점을 제외하고 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 편광막이다.
도 13의 그래프를 참조한다. 실시예 4?6에 근거하는 제조 방법에 의한 편광막의 광학 특성의 각각에는 유의차가 없다. 이것은, PVA계 수지층의 두께나 비정성 에스테르계 열가소성 수지의 종류에 의한 영향이 없는 것을 나타내는 것이라고 생각된다.
(4) 공중 보조 연신 배율에 의한 편광막의 광학 특성의 향상(실시예 7?9)
실시예 4에 있어서는 제 1단의 공중 보조 연신 및 제 2단의 붕산 수중 연신의 각각의 연신 배율이 1.8배 및 3.3배인 것에 대해서, 실시예 7?9에 있어서는, 각각의 연신 배율이 1.2배 및 4.9배 와, 1.5배 및 4.0과, 2.5배 및 2.4배로 했다. 이것은, 이 점을 제외하고, 예를 들면 연신 온도 130℃에서 액체의 온도 75℃의 붕산 수용액을 포함하는 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 편광막이다. 실시예 8, 9의 총 연신 배율은 6.0배가 되어, 실시예 4의 공중 보조 연신 배율 1.8배에 의한 총 연신 배율 5.94배에 필적하는 것이었다. 그렇지만, 이것에 대해서 실시예 7의 총 연신 배율은 5.88배가 한계였다. 이것은, 붕산 수중 연신에 있어서, 연신 배율을 4.9배 이상으로 할 수 없었던 결과이다. 이것은, 도 20을 이용하여 설명한, 제 1단의 공중 보조 연신 배율과 총 연신 배율과의 상관관계에 미치는 비정성 PET의 연신 가능 배율의 영향으로 추정된다.
도 14의 그래프를 참조한다. 실시예 7?9의 편광막은 모두, 실시예 4의 경우와 동일하게, 본 발명의 기술적 과제를 극복하고, 본 발명의 목적인 요구 성능을 만족하는 광학 특성을 가진다. 각각의 광학 특성을 비교하면, 실시예 7 ＜ 실시예 8 ＜ 실시예 4 ＜ 실시예 9의 순서로 광학 특성이 높아진다. 이것은, 제 1단의 공중 보조 연신의 연신 배율이 1.2배로부터 2.5배의 범위 내에서 설정되었을 경우에, 제 2단의 붕산 수중 연신에 의한 최종적인 총 연신 배율이 동일한 정도로 설정되었다고 해도, 제 1단의 공중 보조 연신이 고연신 배율로 설정된 편광막만큼, 광학 특성이 높아지는 것을 나타내고 있다. 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정에 있어서, 제 1의 공중 보조 연신을 고연신 배율로 설정 함으로써, 제조되는 편광막, 또는 편광막 포함하는 광학 필름 적층체는, 그러한 광학 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(5) 공중 보조 연신 온도에 의한 편광막의 광학 특성의 향상(실시예 10?12)
실시예 4에 있어서는 공중 보조 연신 온도를 130℃로 설정한 것에 대해서, 실시예 10?12에 있어서는, 각각의 공중 보조 연신 온도를 95℃, 110℃, 150℃로 설정했다. 모두 PVA의 유리 전이 온도 Tg보다 높은 온도이다. 이것은, 이 점을 제외하고, 예를 들면 공중 보조 연신 배율 1.8배, 붕산 수중 연신 배율 3.3배를 포함하는 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 편광막이다. 실시예 4의 공중 보조 연신 온도는 130℃이다. 실시예 4를 포함해, 이러한 실시예는, 95, 110, 130, 150℃의 연신 온도의 차이를 제외하면 제조 조건은 모두 같다.
도 15의 그래프를 참조한다. 실시예 4, 10?12의 편광막은 모두, 본 발명의 기술적 과제를 극복하고, 본 발명의 목적인 요구 성능을 만족하는 광학 특성을 가진다. 각각의 광학 특성을 비교하면, 실시예 10 ＜ 실시예 11 ＜ 실시예 4 ＜ 실시예 12의 순서로 광학 특성이 높아진다. 이것은, 제 1단의 공중 보조 연신 온도를 유리 전이 온도보다 높고, 95℃배로부터 150℃로 차례차례 높아지도록 온도 환경을 설정했을 경우에는, 제 2단의 붕산 수중 연신에 의한 최종적인 총 연신 배율이 동일하게 설정되었다고 해도, 제 1단의 공중 보조 연신 온도가 보다 높게 설정된 편광막만큼, 광학 특성이 높아지는 것을 나타내고 있다. 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정에 있어서, 제 1의 공중 보조 연신 온도를 보다 높게 설정함으로써, 제조되는 편광막, 또는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체는, 그러한 광학 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(6) 총 연신 배율에 의한 편광막의 광학 특성의 향상(실시예 13?15)
실시예 4에 있어서는 제 1단의 공중 보조 연신 배율이 1.8배 및 제 2단의 붕산 수중 연신 배율이 3.3배인 것에 대해서, 실시예 13?15에 있어서는, 각각의 제 2단의 붕산 수중 연신 배율만을 2.1배, 3.1배, 3.6배로 했다. 이것은, 실시예 13?15의 총 연신 배율이 5.04배(약 5배), 5.58배(약 5.5배), 6.48배(약 6.5배)가 되도록 설정한 것을 나타내는 것이다. 실시예 4의 총 연신 배율은 5.94배(약 6배)이다. 실시예 4를 포함하여, 이러한 실시예는, 5배, 5.5배, 6.0배, 6.5배의 총 연신 배율의 차이를 제외하면 제조 조건은 모두 같다.
도 16의 그래프를 참조한다. 실시예 4, 13?15의 편광막은 모두, 본 발명의 기술적 과제를 극복하고, 본 발명의 목적인 요구 성능을 만족하는 광학 특성을 가진다. 각각의 광학 특성을 비교하면, 실시예 13 ＜ 실시예 14 ＜ 실시예 4 ＜ 실시예 15의 순서로 광학 특성이 높아진다. 이것은, 어느 쪽의 제 1단의 공중 보조 연신 배율을 1.8배로 설정하고, 총 연신 배율을 5배, 5.5배, 6.0배, 6.5배로 차례차례 높아지도록 제 2단의 붕산 수중 연신 배율만을 설정했을 경우에는, 최종적인 총 연신 배율이 보다 높게 설정된 편광막만큼, 광학 특성이 높아지는 것을 나타내고 있다. 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정에 있어서, 제 1단의 공중 보조 연신과 제 2단의 붕산 수중 연신과의 총 연신 배율을 보다 높게 설정함으로써, 제조되는 편광막, 또는 편광막 포함하는 광학 필름 적층체는, 그러한 광학 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(7) 고정 단일축 연신의 총 연신 배율에 의한 편광막의 광학 특성의 향상(실시예 16?18)
실시예 16?18은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 방법에 있다. 실시예 4에 있어서는 자유 단일축에 의한 연신 방법이 이용되고 있는 것에 대해서, 실시예 16?18에 있어서는, 모두 고정 단일축에 의한 연신 방법을 채용하고 있다. 이러한 실시예는, 모두 제 1단의 공중 보조 연신 배율을 1.8배로 설정하고, 각각의 제 2단의 붕산 수중 연신 배율만을 3.3배, 3.9배, 4.4배로 했다. 이것에 의해, 실시예 16의 경우, 총 연신 배율이 5.94배(약 6배)이고, 실시예 17의 경우에는, 7.02배(약 7배), 또한 실시예 18의 경우에는, 7.92배(약 8배)가 된다. 실시예 16?18은, 이 점을 제외하면 제조 조건은 모두 같다.
도 17의 그래프를 참조한다. 실시예 16?18 편광막은 모두, 본 발명의 기술적 과제를 극복하고, 본 발명의 목적인 요구 성능을 만족하는 광학 특성을 가진다. 각각의 광학 특성을 비교하면, 실시예 16 ＜ 실시예 17 ＜ 실시예 18의 순서로 광학 특성이 높아진다. 이것은, 어느 쪽의 제 1단의 공중 보조 연신 배율을 1.8배로 설정하고, 총 연신 배율을 6배, 7배, 8배로 차례차례 높아지도록 제 2단의 붕산 수중 연신 배율만을 설정했을 경우에는, 최종적인 총 연신 배율이 보다 높게 설정된 편광막만큼, 광학 특성이 높아지는 것을 나타내고 있다. 편광막(3)을 포함하는 광학 필름 적층체(10)의 제조 공정에 있어서, 고정 단일축 연신 방법에 의한 제 1단의 공중 보조 연신과 제 2단의 붕산 수중 연신과의 총 연신 배율을 보다 높게 설정함으로써, 제조되는 편광막, 또는 편광막 포함하는 광학 필름 적층체는, 그러한 광학 특성을 더욱 향상시킬 수 있다. 게다가 제 1단의 공중 보조 연신에 고정 단일축 연신 방법을 이용하는 경우는, 제 1단의 공중 보조 연신에 자유 단일축 연신 방법을 이용하는 경우에 비해, 최종적인 총 연신 배율을 보다 높게 할 수 있는 것도 확인했다.
[실시예]
실시예 1?18에 대해서, 제조되는 편광막, 또는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체의 제조 조건의 일람을 도 26 및 도 27에 정리했다.
[실시예 1]
비정성 에스테르계 열가소성 수지기재로서, 이소프탈산을 6mol％ 공중합시킨 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하, 「비정성 PET」라고 한다)의 연속 웹의 기재를 제작했다. 비정성 PET의 유리 전이 온도는 75℃이다. 연속 웹의 비정성 PET기재와 폴리비닐 알코올(이하, 「PVA」라고 한다)층으로 이루어지는 적층체를 이하와 같이 제작했다. 덧붙여서 PVA의 유리 전이 온도는 80℃이다.
200㎛ 두께의 비정성 PET기재와, 중합도 1000 이상, 감화도 99％ 이상의 PVA 분말을 물에 용해한 4?5 중량％ 농도의 PVA 수용액을 준비했다. 다음에, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재에 PVA 수용액을 도포하고, 50?60℃의 온도로 건조하고, 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층을 제막했다. 이하, 이것을 「비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체」또는 「7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체」또는 단순히 「적층체」라고 한다.
7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를, 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 2단 연신 공정을 포함하는 이하의 공정을 거쳐, 3㎛ 두께의 편광막을 제조했다. 제 1단의 공중 보조 연신 공정에 의해, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 비정성 PET기재와 일체로 연신하고, 5㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 연신 적층체를 생성했다. 이하, 이것을 「연신 적층체」라고 한다. 구체적으로는, 연신 적층체는, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 130℃의 연신 온도 환경으로 설정된 오븐에 배치된 연신 장치에 걸쳐, 연신 배율이 1.8배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 것이다. 이 연신 처리에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA층은, PVA 분자가 배향된 5㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다.
다음에, 염색 공정에 의해, PVA 분자가 배향된 5㎛ 두께의 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성했다. 이하, 이것을 「착색 적층체」라고 한다. 구체적으로는, 착색 적층체는, 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 본 공정에 있어서, 염색액은, 물을 용매로서, 요오드 농도를 0.12?0.30 중량％의 범위 내로 하고, 요오드화 칼륨 농도를 0.7?2.1 중량％의 범위 내로 했다. 요오드와 요오드화 칼륨의 농도의 비는 1 대 7이다.
덧붙여서, 요오드를 물에 용해하려면 요오드화 칼륨을 필요로 한다. 보다 상세하게는, 요오드 농도 0.30 중량％, 요오드화 칼륨 농도 2.1 중량％의 염색액에 연신 적층체를 60초간 침지함으로써, PVA 분자가 배향된 5㎛ 두께의 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성했다. 실시예 1에 있어서는, 요오드 농도 0.30 중량％로 요오드화 칼륨 농도 2.1 중량％의 염색액으로의 연신 적층체의 침지 시간을 바꾸는 것에 의해, 최종적으로 생성되는 편광막의 단체 투과율을 40?44％가 되도록 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 여러 가지의 착색 적층체를 생성했다.
또한, 제 2단의 붕산 수중 연신 공정에 의해, 착색 적층체를 비정성 PET기재와 일체로 더욱 연신하고, 3㎛ 두께의 편광막을 구성하는 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성했다. 이하, 이것을 「광학 필름 적층체」라고 한다. 구체적으로는, 광학 필름 적층체는, 착색 적층체를 붕산과 요오드화 칼륨을 포함하는 액체의 온도 범위 60?85℃의 붕산 수용액으로 설정된 처리 장치에 배치된 연신 장치에 걸쳐, 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 것이다. 보다 상세하게는, 붕산 수용액의 액체의 온도는 65℃이다. 그것은 또한, 붕산 함유량을 물 100 중량부에 대해서 4 중량부로 하고, 요오드화 칼륨 함유량을 물 100 중량부에 대해서 5 중량부로 했다.
본 공정에 있어서는, 요오드 흡착량을 조정한 착색 적층체를 우선 5?10초간 붕산 수용액에 침지했다. 그 다음에, 그 착색 적층체를 그대로 처리 장치에 배치된 연신 장치인 주속이 다른 복수의 조의 롤 사이에 통해, 30?90초 걸쳐 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신했다. 이 연신 처리에 의해, 착색 적층체에 포함되는 PVA층은, 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체로서 한 방향에 고차로 배향한 3㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다. 이 PVA층이 광학 필름 적층체의 편광막을 구성한다.
이상과 같이 실시예 1은, 우선, 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체를 연신 온도 130℃의 공중 보조 연신에 의해 연신 적층체를 생성하고, 다음에, 연신 적층체를 염색에 의해 착색 적층체를 생성하고, 또한 착색 적층체를 연신 온도 65도의 붕산 수중 연신에 의해 총 연신 배율이 5.94배가 되도록 비정성 PET기재와 일체로 연신된 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성했다. 이러한 2단 연신에 의해 비정성 PET기재에 제막된 PVA층의 PVA 분자가 고차로 배향되며, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체로서 한 방향에 고차로 배향된 편광막을 구성하는 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다.
광학 필름 적층체의 제조에 필수의 공정은 아니지만, 세정 공정에 의해, 광학 필름 적층체를 붕산 수용액으로부터 취출하고, 비정성 PET기재에 제막된 3㎛ 두께의 PVA층의 표면에 부착한 붕산을 요오드화 칼륨 수용액으로 세정했다. 그 다음에, 세정된 광학 필름 적층체를 60℃의 온풍에 의한 건조 공정에 의해 건조했다. 또한 세정 공정은, 붕산 석출 등의 외관 불량을 해소하기 위한 공정이다.
동일한 광학 필름 적층체의 제조에 필수의 공정이라고 하는 것은 아니지만, 첩합 및／또는 전사 공정에 의해, 비정성 PET기재에 제막된 3㎛ 두께의 PVA층의 표면에 접착제를 도포하면서, 80㎛ 두께의 트리아세틸 셀룰로오스(TAC) 필름을 첩 합한 후, 비정성 PET기재를 박리하고, 3㎛ 두께의 PVA층을 80㎛ 두께의 트리아세틸 셀룰로오스(TAC) 필름에 전사했다.
[실시예 2]
실시예 2는, 실시예 1의 경우와 동일하게, 우선, 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체를 생성하고, 다음에, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 공중 보조 연신에 의해 배율이 1.8배가 되도록 연신한 연신 적층체를 생성하고, 그 다음에, 연신 적층체를, 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 침지함으로써, 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 생성했다. 실시예 2는, 실시예 1과는 다른 이하의 가교 공정을 포함한다. 그것은, 착색 적층체를 40℃의 붕산 가교 수용액에 60초간 침지함으로써, 요오드를 흡착시킨 PVA층의 PVA 분자 사이 가교 처리를 가하는 공정이다. 본 공정의 붕산 가교 수용액은, 붕산 함유량을 물 100 중량부에 대해서 3 중량부로 하고, 요오드화 칼륨 함유량을 물 100 중량부에 대해서 3 중량부로 했다.
실시예 2의 가교 공정은, 적어도 3개의 기술적 작용을 요구한 것이다. 제 1은, 후속 공정의 붕산 수중 연신에 있어서 착색 적층체에 포함되는 박막화된 PVA층을 용해시키지 않게 한 불용화 작용이다. 제 2는, PVA층에 착색된 요오드를 용출하지 않도록 한 착색 안정화 작용이다. 제 3은, PVA층의 분자 사이를 가교함으로써 결절점을 생성하도록 한 결절점생성 작용이다.
실시예 2는, 다음에, 가교된 착색 적층체를, 실시예 1의 연신 온도 65℃보다 높은 75℃의 붕산 수중 연신욕에 침지함으로써, 실시예 1의 경우와 동일하게, 연신 배율이 3.3배가 되도록 연신하고, 광학 필름 적층체를 생성했다. 또한 실시예 2의 세정 공정, 건조 공정, 첩합 및／또는 전사 공정은, 모두 실시예 1의 경우와 같다.
또한, 붕산 수중 연신 공정에 앞서는 가교 공정에 요구되는 기술적 작용을 보다 명확하게 하기 위해서, 실시예 1의 가교되어 있지 않은 착색 적층체를 연신 온도 70?75℃의 붕산 수중 연신 욕에 침지했을 경우, 착색 적층체에 포함되는 PVA층은, 붕산 수중 연신욕에서 용해하고, 연신할 수 없었다.
[실시예 3]
실시예 3은, 실시예 1의 경우와 동일하게, 우선, 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체를 생성하고, 다음에, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 공중 보조 연신에 의해 배율이 1.8배가 되도록 연신한 연신 적층체를 생성했다. 실시예 3은, 실시예 1과는 다른 이하의 불용화 공정을 포함한다. 그것은, 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 붕산 불용화 수용액에 30초간 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA 분자가 배향된 PVA층을 불용화하는 공정이다. 본 공정의 붕산 불용화 수용액은, 붕산 함유량을 물 100 중량부에 대해서 3 중량부로 했다. 실시예 3의 불용화 공정에 요구되는 기술적 작용은, 적어도 후속 공정의 염색 공정에 있어서, 연신 적층체에 포함되는 PVA층을 용해시키지 않게 한 불용화이다.
실시예 3은, 다음에, 불용화된 연신 적층체를, 실시예 1의 경우와 동일하게, 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 침지함으로써, 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 생성했다. 그 다음에, 생성된 착색 적층체를 실시예 1과 동일한 연신 온도인 65℃의 붕산 수중 연신욕에 침지함으로써, 실시예 1의 경우와 동일하게, 연신 배율이 3.3배가 되도록 연신하고, 광학 필름 적층체를 생성했다. 또한 실시예 3의 세정 공정, 건조 공정, 첩합 및／또는 전사 공정은, 모두 실시예 1의 경우와 같다.
덧붙여서, 염색 공정에 앞서는 불용화 공정에 요구되는 기술적 작용을 보다 명확하게 하기 위해서, 우선, 실시예 1의 불용화되어 있지 않은 연신 적층체를 염색에 의해 착색 적층체를 생성하고, 생성된 착색 적층체를 연신 온도 70?75℃의 붕산 수중 연신욕에 침지했을 경우, 착색 적층체에 포함되는 PVA층은, 실시예 2에 나타낸 바와 같이, 붕산 수중 연신욕에서 용해하고, 연신할 수 없었다.
다음에, 물을 용매로 하고, 요오드 농도를 0.30 중량％로 한 실시예 1의 염색액에 대신해 요오드 농도를 0.12?0.25 중량％로 하고, 다른 조건을 그대로 한 염색액에, 실시예 1의 불용화되어 있지 않은 연신 적층체를 침지했을 경우, 연신 적층체에 포함되는 PVA층은, 염색욕에서 용해하고, 염색 불가능이었다. 그런데, 실시예 3의 불용화된 연신 적층체를 이용했을 경우에는, 염색액의 요오드 농도를 0.12?0.25 중량％이여도, PVA층은 용해 하지 않고, PVA층으로의 염색은 가능했다.
염색액의 요오드 농도를 0.12?0.25 중량％이여도 PVA층으로의 염색이 가능한 실시예 3에 있어서는, 연신 적층체의 염색액으로의 침지 시간을 일정하게 하고, 염색액의 요오드 농도 및 요오드화 칼륨 농도를 실시예 1에 나타낸 일정 범위 내에서 변화시키는 것에 의해, 최종적으로 생성되는 편광막의 단체 투과율을 40?44％가 되도록 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 착색 적층체를 여러 가지 생성했다.
[실시예 4]
실시예 4는, 실시예 1의 제조 공정에 실시예 3의 불용화 공정과 실시예 2의 가교 공정을 더한 제조 공정에 의해 생성한 광학 필름 적층체이다. 우선, 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체를 생성하고, 다음에, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 공중 보조 연신에 의해 연신 배율이 1.8배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 연신 적층체를 생성했다. 실시예 4는, 실시예 3의 경우와 동일하게, 생성된 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 붕산 불용화 수용액에 30초간 침지하는 불용화 공정에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA 분자가 배향된 PVA층을 불용화했다. 실시예 4는 또한, 불용화된 PVA층을 포함하는 연신 적층체를, 실시예 3의 경우와 동일하게, 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 침지함으로써 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 생성했다.
실시예 4는, 실시예 2의 경우와 동일하게, 생성된 착색 적층체를 40℃의 붕산 가교 수용액에 60초간 침지하는 가교 공정에 의해, 요오드를 흡착시킨 PVA층의 PVA 분자 사이를 가교했다. 실시예 4는 또한, 가교된 착색 적층체를, 실시예 1의 연신 온도 65℃ 보다 높은 75℃의 붕산 수중 연신욕에 5?10초간 침지하고, 실시예 2의 경우와 동일하게, 연신 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신하고, 광학 필름 적층체를 생성했다. 또한 실시예 4의 세정 공정, 건조 공정, 첩합 및／또는 전사 공정은, 모두 실시예 1에서 3의 경우와 같다.
또한 실시예 4는, 실시예 3의 경우와 동일하게, 염색액의 요오드 농도를 0.12?0.25 중량％이여도, PVA층은 용해하지 않는다. 실시예 4에 있어서는, 연신 적층체의 염색액으로의 침지 시간을 일정하게 하고, 염색액의 요오드 농도 및 요오드화 칼륨 농도를 실시예 1에 나타낸 일정 범위 내에서 변화시키는 것에 의해, 최종적으로 생성되는 편광막의 단체 투과율을 40?44％가 되도록 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 착색 적층체를 여러 가지 생성했다.
이상과 같이 실시예 4는, 우선, 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층이 제막된 적층체를 생성하고, 다음에, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 공중 보조 연신에 의해 연신 배율이 1.8배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 연신 적층체를 생성했다. 생성된 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 붕산 불용화 수용액에 30초간 침지함으로써 연신 적층체에 포함되는 PVA층을 불용화했다. 불용화된 PVA층을 포함하는 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 침지함으로써 불용화된 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성했다. 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 40℃의 붕산 가교 수용액에 60초간 침지함으로써, 요오드를 흡착시킨 PVA층의 PVA 분자 사이를 가교했다. 가교된 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 붕산과 요오드화 칼륨을 포함하는 액체의 온도 75℃의 붕산 수중 연신욕에 5?10초간 침지하고, 그 다음에, 붕산 수중 연신에 의해 배율이 3.3배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 광학 필름 적층체를 생성했다.
실시예 4는, 이와 같은 고온 공중 연신 및 붕산 수중 연신으로 이루어지는 2단 연신과 염색욕으로의 침지에 앞서는 불용화 및 붕산 수중 연신에 앞서는 가교로 이루어지는 사전 처리에 의해, 비정성 PET기재에 제막된 PVA층의 PVA 분자가 고차로 배향되며, 염색에 의해 PVA 분자에 확실히 흡착된 요오드가 폴리 요오드 이온 착체로서 한 방향에 고차로 배향된 편광막을 구성하는 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체를 안정적으로 생성할 수 있었다.
[실시예 5]
실시예 5는, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4과 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은 비정성 PET기재에 제막된 PVA층의 두께에 있다. 실시예 4는, 7㎛ 두께의 PVA층에서 최종적으로 광학 필름 적층체에 포함되는 PVA층이 3㎛ 두께였다. 이것에 대해서, 실시예 5는, 12㎛ 두께의 PVA층에서 최종적으로 광학 필름 적층체에 포함되는 PVA층이 5㎛ 두께였다.
[실시예 6]
실시예 6은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4과 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은 비정성 PET기재에 이용한 중합 모노머(monomer)에 있다. 실시예 4는, 이소프탈산을 PET에 공중합시킨 비정성 PET기재를 이용했다. 이것에 대해서, 실시예 6은, PET에 대해서 변성기로서 1, 4－시클로헥산디메탄올을 공중합시킨 비정성 PET기재를 이용했다.
[실시예 7]
실시예 7은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 총 연신 배율이 6배 또는 6배에 가까운 값이 되도록 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 각각의 연신 배율을 변화시킨 것에 있다. 실시예 4는, 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 각각의 연신 배율이 1.8배 및 3.3배로 했다. 이것에 대해서, 실시예 7은, 각각의 연신 배율이 1.2배 및 4.9배로 했다. 그런데 실시예 4의 총 연신 배율이 5.94배였다. 이것에 대해서 실시예 7의 총 연신 배율이 5.88배였다. 이것은, 붕산 수중 연신에 있어서, 연신 배율이 4.9배 이상으로 연신할 수 없는 것에 의한다.
[실시예 8]
실시예 8은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 총 연신 배율이 6배가 되도록 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 각각의 연신 배율을 변화시킨 것에 있다. 실시예 8은, 각각의 연신 배율이 1.5배 및 4.0배로 했다.
[실시예 9]
실시예 9는, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 총 연신 배율이 6배가 되도록 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 각각의 연신 배율을 변화시킨 것에 있다. 실시예 9는, 각각의 연신 배율이 2.5배 및 2.4배로 했다.
[실시예 10]
실시예 10은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 실시예 4의 경우, 공중 보조 연신의 연신 온도를 130℃로 설정한 것에 대해서, 실시예 10의 경우, 공중 보조 연신의 연신 온도를 95℃로 한 것에 있다.
[실시예 11]
실시예 11은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 실시예 4의 경우, 공중 보조 연신의 연신 온도를 130℃로 설정한 것에 대해서, 실시예 11의 경우, 공중 보조 연신의 연신 온도를 110℃로 한 것에 있다.
[실시예 12]
실시예 12는, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 실시예 4의 경우, 공중 보조 연신의 연신 온도를 130℃로 설정한 것에 대해서, 실시예 12의 경우, 공중 보조 연신의 연신 온도를 150℃로 한 것에 있다.
[실시예 13]
실시예 13은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 배율이 1.8배로 붕산 수중 연신의 연신 배율을 2.8배로 변화시킨 것에 있다. 실시예 13의 경우, 그것에 의해, 총 연신 배율은, 실시예 4의 경우의 약 6배(정확하게는 5.94배)인 것에 대해서, 약 5배(정확하게는 5.04배)로 되었다.
[실시예 14]
실시예 14는, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 배율이 1.8배로 붕산 수중 연신의 연신 배율을 3.1배로 변화시킨 것에 있다. 실시예 14의 경우, 그것에 의해, 총 연신 배율은, 실시예 4의 경우의 약 6배(정확하게는 5.94배)인 것에 대해서, 약 5.5배(정확하게는 5.58배)로 되었다.
[실시예 15]
실시예 15는, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 배율이 1.8배로 붕산 수중 연신의 연신 배율을 3.6배로 변화시킨 것에 있다. 실시예 15의 경우, 그것에 의해, 총 연신 배율은, 실시예 4의 경우의 약 6배(정확하게는 5.94배)인 것에 대해서, 약 6.5배(정확하게는 6.48배)로 되었다.
[실시예 16]
실시예 16은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 4와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 방법에 있다. 실시예 4는, 공중 보조 연신에 의해 연신 배율이 1.8배가 되도록 자유 단일축으로 연신했다. 이것에 대해서, 실시예 16은, 공중 보조 연신에 의해 연신 배율이 1.8배가 되도록 고정 단일축에 연신했다.
[실시예 17]
실시예 17은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 16와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 배율이 1.8배로 붕산 수중 연신의 연신 배율을 3 9배로 변화시킨 것에 있다. 실시예 17의 경우, 그것에 의해, 총 연신 배율은, 실시예 16의 경우의 약 6배(정확하게는 5.94배)에 대해서, 약 7배(정확하게는 7.02배)로 되었다.
[실시예 18]
실시예 18은, 이하의 차이점을 제외하고, 실시예 16와 동일한 조건에서 제조된 광학 필름 적층체이다. 차이점은, 공중 보조 연신의 연신 배율이 1.8배로 붕산 수중 연신의 연신 배율을 4.4배로 변화시킨 것에 있다. 실시예 18의 경우, 그것에 의해, 총 연신 배율은, 실시예 16의 경우의 약 6배(정확하게는 5.94배)에 대해서, 약 8배(정확하게는 7.92배)로 되었다.
[비교예 1]
비교예 1은, 실시예 4와 동일한 조건에서, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재에 PVA 수용액을 도포하고, 건조시켜 비정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층을 제막한 적층체를 생성했다. 다음에, 연신 온도를 130℃로 설정한 공중 고온 연신에 의해, 7㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 적층체를 연신 배율이 4.0배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 연신 적층체를 생성했다. 이 연신 처리에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA층은, PVA 분자가 배향된 3.5㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다.
다음에, 연신 적층체는 염색 처리되며, PVA 분자가 배향된 3.5㎛ 두께의 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체가 생성되었다. 구체적으로는, 착색 적층체는, 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 이와 같은, PVA 분자가 배향된 PVA층으로의 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 착색 적층체를 여러 가지 생성했다.
또한, 착색 적층체는 가교 처리된다. 구체적으로는, 액체의 온도가 40℃에서, 물 100 중량부에 대해서 붕산이 3 중량부이고, 물 100 중량부에 대해서 요오드화 칼륨이 3 중량부인 붕산 가교 수용액에 60초간, 침지함으로써 착색 적층체에 가교 처리를 가했다. 비교예 1은, 가교 처리가 실시된 착색 적층체가 실시예 4의 광학 필름 적층체에 상당한다. 따라서, 세정 공정, 건조 공정, 첩합 및／또는 전사 공정은, 모두 실시예 4의 경우와 같다.
[비교예 2]
비교예 2는, 비교예 1의 연신 적층체를 비교예 1과 동일한 조건에서, 연신 배율이 4.5배, 5.0배, 6.0배가 되도록 연신한 연신 적층체를 생성했다. 비교표는, 비교예 1과 비교예 2를 포함하는, 200㎛ 두께의 비정성 PET기재와 상기 비정성 PET기재에 제막된 PVA층과에 발생한 현상을 나타낸 것이다. 이것에 의해, 연신 온도 130℃의 공중 고온 연신에 의한 연신 배율이 4.0배를 한도로 하는 것을 확인했다.
[비교예 3]
비교예 3은, 비교예 1의 경우와 동일한 조건에서, 200㎛ 두께의 PET기재에 PVA 수용액을 도포하고, 건조시켜 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층을 제막한 적층체를 생성했다. 다음에, 적층체를, 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에 침지함으로써, 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 생성했다. 구체적으로는, 착색 적층체는, 적층체를 액체의 온도 30℃의 0.3 중량％ 농도의 요오드 및 2.1 중량％ 농도의 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 다음에, 연신 온도를 60℃로 설정한 붕산 수중 연신에 의해, 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 착색 적층체를 연신 배율이 5.0배가 되도록 자유 단일축으로 연신하는 것으로, PET 수지기재와 일체로 연신된 3㎛ 두께의 PVA층을 포함하는 광학 필름 적층체를 여러 가지 생성했다.
[참고예 1]
참고예 1은, 수지기재로서, 결정성 폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하, 「결정성 PET」라고 한다)의 연속 웹의 기재를 이용하고, 200㎛ 두께의 결정성 PET기재에 PVA 수용액을 도포하고, 건조시켜 결정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층을 제막한 적층체를 생성했다. 결정성 PET의 유리 전이 온도는 80℃이다. 다음에, 생성된 적층체를 110℃로 설정한 공중 고온 연신에 의해 연신 배율이 4.0배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 연신 적층체를 생성했다. 이 연신 처리에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA층은, PVA 분자가 배향된 3.3㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다. 참고예 1의 경우, 연신 온도 110℃의 공중 고온 연신에 있어서, 적층체를 4.0배 이상으로 연신할 수 없었다.
연신 적층체는, 다음의 염색 공정에 의해, PVA 분자가 배향된 3.3㎛ 두께의 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체에 생성되었다. 구체적으로는, 착색 적층체는, 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 이와 같은, PVA 분자가 배향된 PVA층으로의 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 착색 적층체를 여러 가지 생성했다. 다음에, 생성된 착색 적층체를 가교 처리한다. 구체적으로는, 액체의 온도가 40℃에서, 물 100 중량부에 대해서 붕산이 3 중량부이고, 요오드화 칼륨이 3 중량부인 붕산 가교 수용액에 60초간, 침지함으로써 착색 적층체에 가교 처리를 가했다. 참고예 1은, 가교 처리가 실시된 착색 적층체가 실시예 4의 광학 필름 적층체에 상당한다. 따라서, 세정 공정, 건조 공정, 첩합 및／또는 전사 공정은, 모두 실시예 4의 경우와 같다.
[참고예 2]
참고예 2는, 수지기재로서, 참고예 1의 경우와 동일하게, 결정성 PET기재를 이용하고, 200㎛ 두께의 결정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층을 제막한 적층체를 생성했다. 다음에, 생성된 적층체를 100℃의 공중 고온 연신에 의해 연신 배율이 4.5배가 되도록 자유 단일축으로 연신한 연신 적층체를 생성했다. 이 연신 처리에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA층은, PVA 분자가 배향된 3.3㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다. 참고예 2의 경우, 연신 온도 100℃의 공중 고온 연신에 있어서, 적층체를 4.5배 이상으로 연신할 수 없었다.
다음에, 연신 적층체로부터 착색 적층체를 생성했다. 착색 적층체는, 연신 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 참고예 2는, 참고예 1의 경우와 동일하게, PVA 분자가 배향된 PVA층으로의 요오드 흡착량을 조정하고, 단체 투과율과 편광도를 다르게 하는 착색 적층체를 여러 가지 생성했다.
[참고예 3]
참고예 3은, 수지기재로서, 참고예 1 또는 2의 경우와 동일하게, 결정성 PET기재를 이용하고, 200㎛ 두께의 결정성 PET기재에 7㎛ 두께의 PVA층을 제막한 적층체를 생성했다. 다음에, 생성된 적층체를 액체의 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 편광막을 구성하는 PVA층의 단체 투과율이 40?44％가 되도록 임의의 시간, 침지함으로써, 적층체에 포함되는 PVA층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 여러 가지 생성했다. 그 다음에, 생성된 착색 적층체를 90℃의 공중 고온 연신에 의해, 연신 배율이 4.5배가 되도록 자유 단일축으로 연신하고, 착색 적층체로부터 편광막에 상당하는 요오드를 흡착시킨 PVA층을 포함하는 연신 적층체를 생성했다. 이 연신 처리에 의해, 착색 적층체로부터 생성된 연신 적층체에 포함되는 요오드를 흡착시킨 PVA층은, PVA 분자가 배향된 3.3㎛ 두께의 PVA층으로 변화했다. 참고예 3의 경우, 연신 온도 90℃의 공중 고온 연신에 있어서, 적층체를 4.5배 이상으로 연신할 수 없었다.
[측정 방법]
[두께의 측정]
비정성 PET기재, 결정성 PET기재, 및 PVA층의 두께는, 디지털 마이크로미터(안리츠(Anritsu)사 제품 KC－351C)를 이용하여 측정했다.
[투과율 및 편광도의 측정]
편광막의 단체 투과율 T, 평행 투과율 Tp, 직교 투과율 Tc는, 자외 가시 분광 광도계(니혼분코(日本分光)사 제품 V7100)를 이용하여 측정했다. 이러한 T, Tp, Tc는, JIS Z8701의 2도 시야(C광원)에 의해 측정하여 시감도 보정을 행한 Y값이다.
편광도 P를 상기의 투과율을 이용하고, 다음 식에 의해 구했다.
편광도 P(％) ＝ {(Tp － Tc) ／ (Tp ＋ Tc)}1／2 × 100
(PVA의 배향 함수의 평가방법)
측정 장치는, 푸리에 변환 적외 분광 광도계(FT－IR)(Perkin Elmer사 제품, 상품명：「SPECTRUM2000」)를 이용했다. 편광을 측정 빛으로서, 전반사 감쇠 분광(ATR：attenuated total reflection) 측정에 의해, 비닐 알코올 수지층 표면의 평가를 실시했다. 배향 함수의 산출은 이하의 순서로 행했다. 측정 편광을 연신 방향에 대해서 0°와 90°로 한 상태에서 측정을 실시했다. 얻어진 스펙트럼의 2941cm－1의 강도를 이용하여, 이하에 적은(식 4)에 따라 산출했다(비특허 문헌 1 참조). 또한, 아래와 같이 강도 I는 3330cm－1을 참조 피크로서, 2941cm－1／3330cm－1의 값을 이용했다. 또한, f＝1일 때 완전 배향, f＝0일 때 랜덤이 된다. 또한, 2941cm－1의 피크는, PVA의 주사슬(－CH2－)의 진동 기인(起因)의 흡수라고 하고 있다.
(식 4) f ＝ (3 ＜ cos2θ ＞ －1) ／ 2
＝ [(R － 1) (R0 ＋ 2)] ／ [(R ＋ 2) (R0 － 1)]
＝ (1 － D) ／ [c (2D ＋ 1)]
＝ －2 × (1 － D) ／ (2D ＋ 1)
단,
c ＝ (3cos2β － 1) ／ 2
β ＝ 90deg
θ ： 연신 방향에 대한 분자 사슬(鎖)의 각도
β ： 분자 사슬 축에 대한 천이 쌍극자 모멘트의 각도
R0 ＝ 2cot2β
1 ／ R ＝ D ＝ (I⊥) ／ (I／／)
(PET가 배향하는 만큼 D의 값이 커진다.)
I⊥ ： 편광을 연신 방향과 수직 방향으로 입사하여 측정했을 때의 흡수 강도
I／／ ： 편광을 연신 방향과 평행 방향으로 입사하여 측정했을 때의 흡수 강도
(PVA의 결정화도의 평가 방법)
측정 장치는, 푸리에 변환 적외 분광 광도계(FT－IR)(Perkin Elmer사 제품, 상품명：「SPECTRUM2000」)를 이용했다. 편광을 측정 빛으로서, 전반사 감쇠 분광(ATR：attenuated total reflection) 측정에 의해, 비닐 알코올 수지층 표면의 평가를 실시했다. 결정화도의 산출은 이하의 순서로 행했다. 측정 편광을 연신 방향에 대해서 0°와 90°로 한 상태에서 측정을 실시했다. 얻을 수 있던 스펙트럼의 1141cm－1 및 1440cm－1의 강도를 이용하여, 하기의 식에 따라 산출했다. 사전에, 1141cm－1의 강도의 크기가 결정 부분의 양과 상관성이 있는 것을 확인하고, 1440cm－1을 참조 피크로서 하기의 식에 의한 결정화 지수를 산출한다(식 6). 또한, 결정화도가 기존의 PVA 샘플을 이용하여, 사전에 결정화 지수와 결정화도의 검량선(檢量線)을 작성하고, 검량선을 이용하여 결정화 지수로부터 결정화도를 산출한다(식 5).
(식 5) 결정화도 ＝ 63.8 × (결정화 지수) － 44.8
(식 6) 결정화 지수 ＝ ((I(1141cm－1)0° ＋ 2 × I(1141cm－1)90°) ／ 3) ／ ((I(1440cm－1)0° ＋ 2 × I(1440cm－1)90°) ／ 3)
단,
I(1141cm－1)0° ： 편광을 연신 방향과 평행 방향으로 입사하여 측정했을 때의 1141cm－1의 강도
I(1141cm－1)90° ： 편광을 연신 방향과 수직 방향으로 입사하여 측정했을 때의 1141cm－1의 강도
I(1440cm－1)0° ： 편광을 연신 방향과 평행 방향으로 입사하여 측정했을 때의 1440cm－1의 강도
I(1440cm－1)90° ： 편광을 연신 방향과 수직 방향으로 입사하여 측정했을 때의 1440cm－1의 강도
1. 비정성 PET기재
2. PVA계 수지층
3. 편광막
4. 광학 기능 필름
5. 제 2광학 기능 필름
7. PVA계 수지층을 포함하는 적층체
8. 연신 적층체
8'. 연신 적층체의 롤
8''. 불용화된 연신 적층체
9. 착색 적층체
9'. 가교된 착색 적층체
10. 광학 필름 적층체
11. 광학 기능 필름 적층체
12. 광학 필름 적층체(패턴 1)
13. 광학 필름 적층체(패턴 2)
14. 광학 기능 필름 적층체(패턴 3)
15. 광학 기능 필름 적층체(패턴 4)
16. 점착제
17. 세퍼레이터
18. 접착제
20. 적층체 제작 장치
21. 도공 수단
22. 건조 수단
23. 표면 개질 처리 장치
30. 공중 보조 연신 처리 장치
31. 연신 수단
32. 권취 장치
33. 오븐
40. 염색 장치
41. 염색액
42. 염색욕(染色浴)
43. 조출 장치
50. 붕산 수중 처리 장치
51. 붕산 수용액
52. 붕산욕
53. 연신 수단
60. 불용화 처리 장치
61. 붕산 불용화 수용액
70. 가교 처리 장치
71. 붕산 가교 수용액
80. 세정 장치
81. 세정액
90. 건조 장치
91. 권취 장치
100. 첩합／전사 장치
101. 조출／첩합 장치
102. 권취／전사 장치
200. IPS형 액정 TV용 디스플레이 패널
201. 표면 처리층
202. IPS 액정 셀
300. VA형 액정 TV용 디스플레이 패널
301. 2축성 위상차이 필름 (nx ＞ ny ＞ nz)
302. VA액정 셀
400. IPS형 액정 TV용 디스플레이 패널
401. TAC 필름
402. IPS 액정 셀
500. IPS형 액정 TV용 디스플레이 패널
501. 2축성 위상차이 필름 (nx ＞ nz ＞ ny)
502. IPS 액정 셀
600. 유기 EL 디스플레이 패널
601. 아크릴계 수지 필름
602. λ／4 위상차이 필름
603. 유기 EL 패널
(A) 적층체 제작 공정
(B) 공중 보조 연신 공정
(C) 염색 공정
(D) 붕산 수중 연신 공정
(E) 제 1불용화 공정
(F) 제 2불용화를 포함하는 가교 공정
(G) 세정 공정
(H) 건조 공정
(I) 첩합／전사 공정

Claims (28)

  1. 연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지로 이루어지는 편광막이 제막된 광학 필름 적층체의 제조 방법에 있어서,
    상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재와 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 폴리비닐 알코올계 수지층을 포함하는 적층체에 대한 공중 고온 연신에 의해, 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지층으로 이루어지는 연신 중간 생성물을 포함하는 연신 적층체를 생성하는 공정과,
    상기 연신 적층체에 대한 이색성 물질의 흡착에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지층으로 이루어지는 착색 중간 생성물을 포함하는 착색 적층체를 생성하는 공정과,
    상기 착색 적층체에 대한 붕산 수용액 중에 있어서의 연신에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지로 이루어지는 편광막을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 편광막은,
    단체 투과율 T와 편광도 P로 이루어지는 광학 특성치가,
    P ＞ －(100.929T － 42.4 － 1) × 100 (단, T ＜ 42.3) 및 P ≥ 99.9 (단, T ≥ 42.3)
    에 의해 나타내는 범위에 있는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 편광막 두께가 10㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재의 두께는, 제막되는 폴리비닐 알코올계 수지층의 두께의 6배 이상인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재는, 이소프탈산을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 시클로헥산디메탄올을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 다른 공중합 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 포함하는 비정성 폴리에틸렌 테레프탈레이트인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에스테르계 열가소성 수지기재가 투명 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 폴리비닐 알코올계 수지를 도포하고 건조함으로써, 폴리비닐 알코올계 수지층을 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공중 고온 연신의 연신 배율이 3.5배 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공중 고온 연신의 연신 온도가 폴리비닐 알코올계 수지의 유리 전이 온도 이상인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  10. 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공중 고온 연신의 연신 온도가 95℃?150℃인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  11. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 착색 적층체는, 상기 연신 적층체를 이색성 물질의 염색액에 침지함으로써 생성되는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  12. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 연신 적층체를 이색성 물질의 염색액에 침지하기 전에, 상기 연신 적층체에 포함되는 상기 연신 중간 생성물에 대해서 불용화를 실시하는, 제 1불용화 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 제 1불용화 공정은, 액체의 온도가 40℃를 넘지않는 붕산 수용액에 상기 연신 적층체를 침지하는 공정인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  14. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 편광막은, 붕산 수용액 중에 있어서 상기 착색 적층체를 연신함으로써, 두께가 10㎛ 이하가 되도록 생성되는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  15. 제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 붕산 수용액 중에 있어서 상기 착색 적층체를 연신하기 전에, 상기 착색 적층체에 대해서 불용화 처리를 가하는, 제 2불용화 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 제 2불용화 공정은, 액체의 온도가 40℃를 넘지 않는 붕산 수용액에 상기 착색 적층체를 침지하는 공정인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  17. 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공중 고온 연신과 상기 붕산 수용액 중에 있어서의 연신에 의한, 상기 연신 적층체와 상기 착색 적층체와의 총 연신 배율이 5.0배 이상이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  18. 제 1항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 붕산 수용액 중에 있어서의 연신을 위한 붕산 수용액의 액체의 온도가 60℃ 이상인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  19. 제 1항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공중 고온 연신을 자유 단일축 연신으로 했을 때에, 상기 연신 적층체와 상기 착색 적층체와의 총 연신 배율이, 5배 이상이며 7.5배 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  20. 제 1항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공중 고온 연신을 고정 단일축 연신으로 했을 때에, 상기 연신 적층체와 상기 착색 적층체와의 총 연신 배율이, 5배 이상이며 8.5배 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  21. 제 1항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서,
    이색성 물질을 배향시킨 폴리비닐 알코올계 수지로 이루어지는 편광막을 포함하는 상기 광학 필름 적층체를, 상기 광학 필름 적층체에 포함되는 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재의 유리 전이 온도보다 낮은 온도의 요오드화물 염을 포함하는 수용액으로 세정하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  22. 제 1항 내지 제 21항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름 적층체를 50℃ 이상 100℃ 이하의 온도로 건조하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  23. 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름 적층체에 포함되는 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 상기 편광막의 다른 면으로 점착제를 통하여 세퍼레이터 필름을 적층하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  24. 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름 적층체에 포함되는 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막된 상기 편광막의 다른 면으로 접착제를 통하여 광학 기능 필름을 적층하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  25. 제 24항에 있어서,
    상기 광학 기능 필름의 다른 면으로 점착제를 통하여 세퍼레이터 필름을 적층하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  26. 제 1항 내지 제 25항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름 적층체에 포함되는, 상기 편광막의 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재에 제막되어 있지 않은 면에 접착제를 통하여 광학 기능 필름을 적층하는 것과 동시에, 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지기재를 상기 편광막으로부터 박리함으로써, 상기 편광막을 상기 광학 기능 필름에 전사하고, 상기 광학 기능 필름에 상기 편광막이 전사된 광학 기능 필름 적층체를 생성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  27. 제 26항에 있어서,
    상기 광학 기능 필름 적층체에 전사된 상기 편광막의 다른 면으로 점착제를 통하여 세퍼레이터 필름을 적층하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
  28. 제 26항에 있어서,
    상기 광학 기능 필름 적층체에 전사된 상기 편광막의 다른 면으로 접착제를 통하여 제 2광학 기능 필름을 적층하고, 상기 제 2광학 기능 필름에 점착제를 통하여 세퍼레이터 필름을 적층하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 적층체의 제조 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160130225A (ko) * 2014-03-06 2016-11-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판의 제조 방법

Families Citing this family (346)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3242131A1 (de) * 1981-11-18 1983-05-26 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Regelanordnung fuer ein metallwalzwerk und verfahren zur stossbelastungskompensation
TWI289708B (en) 2002-12-25 2007-11-11 Qualcomm Mems Technologies Inc Optical interference type color display
US7342705B2 (en) 2004-02-03 2008-03-11 Idc, Llc Spatial light modulator with integrated optical compensation structure
KR101535805B1 (ko) * 2006-10-06 2015-07-09 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크. 디스플레이 장치 및 디스플레이 형성방법
JP5490750B2 (ja) * 2010-09-03 2014-05-14 日東電工株式会社 薄型偏光膜の製造方法
JP5667016B2 (ja) * 2010-09-03 2015-02-12 日東電工株式会社 薄型偏光膜、薄型偏光膜を有する光学積層体、および薄型偏光膜の製造方法
JP5502023B2 (ja) * 2010-09-03 2014-05-28 日東電工株式会社 偏光膜を有する光学フィルム積層体ロールの製造方法
JP5361941B2 (ja) * 2010-09-03 2013-12-04 日東電工株式会社 偏光膜を有する積層体ストリップロールの製造方法
JP5478553B2 (ja) * 2010-09-03 2014-04-23 日東電工株式会社 連続ウェブ状光学フィルム積層体ロール及びその製造方法
JP5414738B2 (ja) * 2010-09-03 2014-02-12 日東電工株式会社 薄型偏光膜の製造方法
JP4691205B1 (ja) * 2010-09-03 2011-06-01 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法
WO2012033153A1 (ja) 2010-09-09 2012-03-15 日東電工株式会社 薄型偏光膜の製造方法
JP5782297B2 (ja) * 2010-09-09 2015-09-24 日東電工株式会社 薄型偏光膜の製造方法
KR101437139B1 (ko) * 2010-12-29 2014-09-02 제일모직주식회사 편광판, 광학장치 및 편광판 제조방법
JP2013008019A (ja) * 2011-05-26 2013-01-10 Nitto Denko Corp 粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP5572589B2 (ja) 2011-05-26 2014-08-13 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光板及び画像表示装置
JP2013033084A (ja) * 2011-08-01 2013-02-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
JP6083924B2 (ja) * 2011-08-05 2017-02-22 日東電工株式会社 光学積層体、光学積層体のセットおよびそれらを用いた液晶パネル
JP2013037269A (ja) * 2011-08-10 2013-02-21 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法、偏光板および液晶表示装置
US9194545B2 (en) * 2011-09-07 2015-11-24 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Light emitting device and light sheet
KR101341980B1 (ko) * 2011-09-29 2013-12-16 주식회사 엘지화학 편광필름의 색상 제어장치 및 제어방법
JP6017773B2 (ja) * 2011-10-31 2016-11-02 株式会社クラレ 偏光フィルムの製造方法
US20130106712A1 (en) * 2011-11-01 2013-05-02 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of reducing glare from inner layers of a display and touch sensor stack
JP5937337B2 (ja) * 2011-11-18 2016-06-22 大和製罐株式会社 ボトル型缶の製造方法およびボトル型缶
JP5616318B2 (ja) * 2011-12-12 2014-10-29 日東電工株式会社 偏光膜の製造方法
CN106094090B (zh) 2011-12-19 2017-12-22 Lg化学株式会社 偏光板
KR101459128B1 (ko) * 2011-12-23 2014-11-07 제일모직주식회사 편광자 및 그 제조방법
JP2013134336A (ja) * 2011-12-26 2013-07-08 Fujifilm Corp 積層フィルム、偏光板、液晶表示装置及び光学フィルムの製造方法
JP5982816B2 (ja) * 2011-12-27 2016-08-31 日本ゼオン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2013156391A (ja) * 2012-01-30 2013-08-15 Konica Minolta Inc ロール状円偏光板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び横電界型スイッチングモード型液晶表示装置
JP6154099B2 (ja) * 2012-02-03 2017-06-28 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP2013182162A (ja) * 2012-03-02 2013-09-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
JP2013200445A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 円偏光板
JP5868733B2 (ja) * 2012-03-06 2016-02-24 日東電工株式会社 光学表示パネルの連続製造方法および光学表示パネルの連続製造システム
JP5868734B2 (ja) * 2012-03-06 2016-02-24 日東電工株式会社 光学表示パネルの連続製造方法および光学表示パネルの連続製造システム
JP5607673B2 (ja) * 2012-03-09 2014-10-15 日東電工株式会社 光学的表示装置
JP2013216719A (ja) * 2012-04-04 2013-10-24 Nitto Denko Corp 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
JP6011615B2 (ja) * 2012-04-13 2016-10-19 株式会社ニコン カセット装置、基板搬送装置、基板処理装置及び基板処理方法
KR101945439B1 (ko) * 2012-04-24 2019-02-11 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 터치 스크린 패널
WO2013161647A1 (ja) * 2012-04-24 2013-10-31 コニカミノルタ株式会社 偏光板の製造方法
KR101919107B1 (ko) * 2012-05-08 2018-11-16 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP6054054B2 (ja) 2012-05-11 2016-12-27 日東電工株式会社 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
KR101688716B1 (ko) * 2012-05-23 2016-12-21 코니카 미놀타 가부시키가이샤 편광판, 편광판의 제조 방법 및 화상 표시 장치
JP5685222B2 (ja) 2012-06-06 2015-03-18 日東電工株式会社 変性ｐｖａを含む偏光膜及び該偏光膜を有する光学積層体
KR20130142405A (ko) * 2012-06-19 2013-12-30 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR20130142715A (ko) * 2012-06-20 2013-12-30 삼성디스플레이 주식회사 편광 구조물, 편광 구조물의 제조 방법 및 편광 구조물을 포함하는 표시 장치
US20150146293A1 (en) * 2012-06-21 2015-05-28 Konica Minolta, Inc. Method for producing optical film laminate, thin polarizing film, polarizing plate, and liquid crystal display device
WO2013191010A1 (ja) * 2012-06-21 2013-12-27 コニカミノルタ株式会社 偏光板、偏光板の製造方法及び画像表示装置
JP6335422B2 (ja) 2012-06-29 2018-05-30 日東電工株式会社 円偏光板および有機ｅｌパネル
JP2014010300A (ja) * 2012-06-29 2014-01-20 Nitto Denko Corp 偏光板および有機ｅｌパネル
CN104602912B (zh) * 2012-08-06 2018-11-16 株式会社可乐丽 层叠体、偏振膜以及偏振膜的制造方法
JP6403936B2 (ja) * 2012-08-08 2018-10-10 住友化学株式会社 偏光板及びそれを用いた液晶表示パネル
JP5946362B2 (ja) * 2012-08-10 2016-07-06 日東電工株式会社 光学表示パネルの製造方法および光学表示パネルの製造システム
CN102798921A (zh) * 2012-08-21 2012-11-28 深圳市华星光电技术有限公司 复合相位延迟片及其应用的有机发光显示装置
WO2014030409A1 (ja) * 2012-08-24 2014-02-27 三菱樹脂株式会社 光学積層体及び光学積層体の製造方法
JP5972106B2 (ja) 2012-08-28 2016-08-17 日東電工株式会社 偏光板の製造方法
JP6265590B2 (ja) * 2012-08-31 2018-01-24 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP6164810B2 (ja) 2012-09-03 2017-07-19 日東電工株式会社 樹脂フィルム
JP6297772B2 (ja) 2012-09-03 2018-03-20 日東電工株式会社 積層体
CN103676322B (zh) * 2012-09-17 2016-07-06 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示装置及其相位补偿方法
JP5889158B2 (ja) * 2012-10-04 2016-03-22 日東電工株式会社 延伸積層体の製造方法
JPWO2014065294A1 (ja) * 2012-10-26 2016-09-08 日本ゼオン株式会社 積層体及びその製造方法、位相差フィルム、偏光板並びにｉｐｓ液晶パネル
JP6076035B2 (ja) * 2012-10-26 2017-02-08 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JPWO2014084045A1 (ja) * 2012-11-28 2017-01-05 コニカミノルタ株式会社 偏光機能付きガラスおよびそれを備えた液晶表示装置
JP5602823B2 (ja) * 2012-12-07 2014-10-08 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムおよび偏光板の製造方法、偏光性積層フィルム
JP2019091091A (ja) * 2013-02-07 2019-06-13 日東電工株式会社 円偏光板および屈曲可能な表示装置
JP2014170221A (ja) * 2013-02-07 2014-09-18 Nitto Denko Corp 円偏光板および屈曲可能な表示装置
JP5615987B2 (ja) * 2013-02-07 2014-10-29 日東電工株式会社 偏光膜を有する光学積層体
JP5613276B2 (ja) * 2013-03-01 2014-10-22 日東電工株式会社 積層体
JP6101784B2 (ja) * 2013-03-06 2017-03-22 Ｊｘエネルギー株式会社 凹凸構造を有する部材の製造方法及びそれにより製造された凹凸構造を有する部材
JP6232921B2 (ja) 2013-03-18 2017-11-22 住友化学株式会社 偏光性積層フィルム及び偏光板の製造方法
JP5744095B2 (ja) * 2013-03-29 2015-07-01 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法
JP5688427B2 (ja) * 2013-03-29 2015-03-25 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
US20160062509A1 (en) * 2013-04-10 2016-03-03 Zeon Corporation Display device with capacitive touch panel
KR102401054B1 (ko) * 2013-04-10 2022-05-20 니폰 제온 가부시키가이샤 정전 용량식 터치 패널 부착 표시 장치
KR20140124078A (ko) * 2013-04-15 2014-10-24 삼성디스플레이 주식회사 표시장치용 윈도우 및 이를 포함하는 표시 장치
KR101372932B1 (ko) * 2013-04-30 2014-03-12 한국생산기술연구원 펄스 ｕｖ를 이용한 광배향 장치
JP6424816B2 (ja) * 2013-05-16 2018-11-21 日本ゼオン株式会社 静電容量式タッチパネル付き表示装置
US9177513B2 (en) 2013-05-22 2015-11-03 Vizio, Inc Electroluminescent display where each pixel can emit light of any EIA color index
JP2014228848A (ja) * 2013-05-27 2014-12-08 日東電工株式会社 光学フィルムロールの製造システムおよび光学フィルムロールの製造方法
TWI536054B (zh) * 2013-05-30 2016-06-01 明基材料股份有限公司 調光裝置
TWI522660B (zh) * 2013-05-30 2016-02-21 明基材料股份有限公司 用於調光裝置之偏光板
CN104395789B (zh) * 2013-06-18 2017-06-27 Lg化学株式会社 薄膜偏振片的制造方法，以及使用该方法制造的薄膜偏振片和偏振板
KR101460477B1 (ko) * 2013-06-18 2014-11-10 주식회사 엘지화학 연신 적층체, 박형 편광자의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 박형 편광자 및 이를 포함하는 편광판
KR101460479B1 (ko) * 2013-06-18 2014-11-10 주식회사 엘지화학 연신 적층체, 박형 편광자의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 박형 편광자 및 이를 포함하는 편광판
WO2014204147A1 (ko) * 2013-06-18 2014-12-24 주식회사 엘지화학 연신 적층체, 박형 편광자의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 박형 편광자 및 이를 포함하는 편광판
KR101575489B1 (ko) 2013-06-18 2015-12-07 주식회사 엘지화학 연신 적층체, 박형 편광자의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 박형 편광자 및 이를 포함하는 편광판
KR101460478B1 (ko) * 2013-06-18 2014-11-10 주식회사 엘지화학 연신 적층체, 박형 편광자의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 박형 편광자 및 이를 포함하는 편광판
CN105283785B (zh) * 2013-06-19 2018-01-02 Lg化学株式会社 积层体
TWI533998B (zh) 2013-06-19 2016-05-21 Ｌｇ化學股份有限公司 基材膜
KR101719869B1 (ko) * 2013-06-19 2017-03-24 주식회사 엘지화학 기재 필름
KR101700081B1 (ko) * 2013-06-19 2017-01-26 주식회사 엘지화학 기재 필름
JP6472172B2 (ja) 2013-06-28 2019-02-20 日東電工株式会社 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付き光学フィルム、液晶表示装置、及び、積層体
KR102230320B1 (ko) 2013-06-28 2021-03-19 닛토덴코 가부시키가이샤 점착제층이 형성된 편광 필름, 적층체, 및 화상 표시 장치
WO2015002353A1 (ko) 2013-07-02 2015-01-08 한국생산기술연구원 편광 펄스 ｕｖ를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법
JP5616494B1 (ja) * 2013-07-04 2014-10-29 日東電工株式会社 積層体基板の形成方法および装置
JP6150428B2 (ja) * 2013-08-12 2017-06-21 日東電工株式会社 偏光膜、偏光膜を含む光学機能フィルム積層体、及び、偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法、並びに偏光膜を有する有機ｅｌ表示装置
JP5863053B2 (ja) 2013-09-06 2016-02-16 日東電工株式会社 偏光膜および偏光膜の製造方法ならびに該偏光膜を用いた画像表示装置
JP6138002B2 (ja) 2013-09-09 2017-05-31 日東電工株式会社 透明導電膜用粘着剤層付偏光フィルム、積層体、及び、画像表示装置
JP5495458B1 (ja) * 2013-09-11 2014-05-21 日東電工株式会社 光学フィルム積層体の製造方法
JP2015079235A (ja) 2013-09-12 2015-04-23 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
WO2015037553A1 (ja) 2013-09-13 2015-03-19 株式会社クラレ 偏光フィルム
JP6192465B2 (ja) * 2013-09-27 2017-09-06 ホシデン株式会社 タッチパネル及び表示装置
JP6651851B2 (ja) * 2013-10-28 2020-02-19 日本ゼオン株式会社 複層フィルムの製造方法
JP6159290B2 (ja) 2013-10-31 2017-07-05 日東電工株式会社 液晶パネル及び該液晶パネルに用いられる偏光子積層体
JP6261753B2 (ja) * 2013-10-31 2018-01-17 エルジー・ケム・リミテッド 積層体、これを用いる薄型偏光子の製造方法、薄型偏光子および偏光板
CN103529585B (zh) * 2013-10-31 2016-06-01 惠州市三协精密有限公司 一种全自动背光板组立设备
JP5860448B2 (ja) * 2013-11-14 2016-02-16 日東電工株式会社 偏光膜および偏光膜の製造方法
JP5860449B2 (ja) * 2013-11-14 2016-02-16 日東電工株式会社 偏光膜および偏光膜の製造方法
KR101692351B1 (ko) * 2013-11-27 2017-01-03 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치 및 그 제조방법
TWI539332B (zh) * 2013-11-28 2016-06-21 欣興電子股份有限公司 光學觸控用反射結構
JP5996516B2 (ja) * 2013-11-29 2016-09-21 住友化学株式会社 偏光子及びそれを含む偏光板
JP6049600B2 (ja) 2013-11-29 2016-12-21 住友化学株式会社 偏光子及びそれを含む偏光板
JP5932760B2 (ja) 2013-11-29 2016-06-08 住友化学株式会社 偏光子及びそれを含む偏光板
CN103682157A (zh) * 2013-12-10 2014-03-26 京东方科技集团股份有限公司 一种有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置
KR101659134B1 (ko) * 2013-12-20 2016-09-22 제일모직주식회사 편광판, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
TWI586533B (zh) 2013-12-25 2017-06-11 日東電工股份有限公司 偏光板及偏光板之製造方法
JP6404707B2 (ja) 2014-01-06 2018-10-10 日東電工株式会社 アクリル系粘着剤組成物、アクリル系粘着剤層、粘着剤層付き基材フィルム、積層体、及び画像表示装置
JP6472381B2 (ja) 2014-01-08 2019-02-20 株式会社クラレ 光学フィルム製造用原反フィルム
JP5736065B2 (ja) * 2014-01-27 2015-06-17 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光板及び画像表示装置
KR20150092777A (ko) * 2014-02-05 2015-08-17 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
JP6803131B2 (ja) 2014-02-18 2020-12-23 日東電工株式会社 積層体および画像表示装置
CN103817093B (zh) * 2014-02-27 2016-08-17 苏州奥特福环境科技有限公司 一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备
JP6618890B2 (ja) * 2014-03-04 2019-12-11 株式会社クラレ 偏光フィルム
CN106104310B (zh) * 2014-03-06 2018-07-20 柯尼卡美能达株式会社 层叠膜及其制造方法
TWI656011B (zh) * 2014-03-14 2019-04-11 日東電工股份有限公司 層合體、延伸層合體、延伸層合體之製造方法、使用此等之包括偏光膜之光學膜層合體之製造方法、及偏光膜
TWI547372B (zh) * 2014-03-14 2016-09-01 Nitto Denko Corp A method for producing an optical film laminate comprising a polarizing film, and a method of manufacturing the same, wherein the polarizing film
TWI548899B (zh) 2014-03-14 2016-09-11 Nitto Denko Corp A method for producing an optical film laminate comprising a polarizing film, and a method of manufacturing the same, wherein the polarizing film
JP5968943B2 (ja) * 2014-03-31 2016-08-10 日東電工株式会社 延伸積層体の製造方法および延伸積層体、ならびに偏光膜の製造方法および偏光膜
JP2015200698A (ja) * 2014-04-04 2015-11-12 日東電工株式会社 透明樹脂層、粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP6183908B2 (ja) * 2014-04-16 2017-08-23 日東電工株式会社 延伸積層体およびその製造方法
US9459490B2 (en) * 2014-04-16 2016-10-04 Fujifilm Corporation Polarizing plate, image display apparatus, and liquid crystal display apparatus
JP6215864B2 (ja) 2014-04-25 2017-10-18 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP6214594B2 (ja) 2014-04-25 2017-10-18 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
CN105404435A (zh) * 2014-06-12 2016-03-16 宸鸿科技(厦门)有限公司 纳米银线导电层叠结构及电容式触控面板
CN105446506B (zh) * 2014-06-19 2018-10-26 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控显示装置
JP6215261B2 (ja) 2014-06-27 2017-10-18 日東電工株式会社 長尺状の偏光子、長尺状の偏光板および画像表示装置
JP6713189B2 (ja) 2014-06-27 2020-06-24 日東電工株式会社 長尺状の偏光フィルム積層体
KR102441217B1 (ko) * 2014-07-04 2022-09-06 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 양면 보호 필름 부착 편광판의 제조 방법
JP6250490B2 (ja) 2014-07-17 2017-12-20 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、タッチパネル付き表示装置
US20160033699A1 (en) 2014-08-04 2016-02-04 Nitto Denko Corporation Polarizing plate
JP6159693B2 (ja) * 2014-08-06 2017-07-05 日東電工株式会社 積層体の製造方法
JP6826886B2 (ja) * 2014-09-09 2021-02-10 住友化学株式会社 偏光板、及び、液晶パネルの製造方法
JP6555864B2 (ja) * 2014-09-12 2019-08-07 日東電工株式会社 非偏光部を有する偏光子の製造方法
JP6543447B2 (ja) 2014-09-18 2019-07-10 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法およびプロテクトフィルム付延伸フィルム
JP6664912B2 (ja) 2014-09-19 2020-03-13 日東電工株式会社 偏光板
JP5871408B1 (ja) 2014-09-19 2016-03-01 日東電工株式会社 偏光板および光学積層体
JP5871407B1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-01 日東電工株式会社 偏光板
JP6077618B2 (ja) * 2014-09-30 2017-02-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
SG11201706552PA (en) 2014-09-30 2017-09-28 Nitto Denko Corp One-side-protected polarizing film, pressure-sensitive-adhesive-layer-attached polarizing film, image display device, and method for continuously producing same
US10247979B2 (en) 2014-09-30 2019-04-02 Nitto Denko Corporation Polarizing film, pressure-sensitive-adhesive-layer-attached polarizing film, and image display device
JP6077620B2 (ja) 2014-09-30 2017-02-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
JP6075424B2 (ja) * 2014-09-30 2017-02-08 住友化学株式会社 偏光板、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
US10088705B2 (en) 2014-09-30 2018-10-02 Nitto Denko Corporation Method for producing polarizing film
JP6077619B2 (ja) 2014-09-30 2017-02-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
KR102166886B1 (ko) 2014-10-02 2020-10-16 닛토덴코 가부시키가이샤 광학 필름 적층체, 그 광학 필름 적층체를 이용한 광학적 표시 장치, 및 투명 보호 필름
US10665838B2 (en) 2014-10-10 2020-05-26 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for manufacturing separator web, method for manufacturing separator, separator web, and apparatus for manufacturing separator web
JP6738139B2 (ja) * 2014-11-20 2020-08-12 日東電工株式会社 有機ｅｌ表示装置用円偏光板および有機ｅｌ表示装置
JPWO2016104741A1 (ja) * 2014-12-26 2017-09-28 富士フイルム株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP2016126130A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 日東電工株式会社 有機ｅｌ表示装置用積層体及び有機ｅｌ表示装置
KR101882553B1 (ko) * 2014-12-31 2018-07-26 삼성에스디아이 주식회사 광학 필름, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 이의 제조방법
CN104656178B (zh) * 2015-01-15 2017-02-01 张宝庆 一种用于液晶显示器成像的偏光成像片及其染色制作方法
JP5913648B1 (ja) 2015-01-23 2016-04-27 日東電工株式会社 位相差層付偏光板および画像表示装置
JP6125061B2 (ja) 2015-02-13 2017-05-10 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム並びに画像表示装置およびその連続製造方法
JP6152127B2 (ja) * 2015-02-16 2017-06-21 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP6401650B2 (ja) * 2015-03-31 2018-10-10 住友化学株式会社 Ｏｌｅｄ表示装置及びその製造方法
TW201634283A (zh) * 2015-03-31 2016-10-01 住友化學股份有限公司 積層膜、積層膜的製造方法、偏光性積層膜的製造方法、偏光板的製造方法
KR20160124372A (ko) * 2015-04-17 2016-10-27 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널
JP6456235B2 (ja) * 2015-05-11 2019-01-23 株式会社クラレ 偏光フィルムの検査方法
JP5943444B2 (ja) * 2015-05-21 2016-07-05 日東電工株式会社 偏光膜および偏光膜の製造方法
JP6560133B2 (ja) * 2015-05-29 2019-08-14 日東電工株式会社 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法
JP6740570B2 (ja) * 2015-05-29 2020-08-19 住友化学株式会社 積層フィルム及び積層フィルムの製造方法
JP2017003954A (ja) * 2015-06-12 2017-01-05 住友化学株式会社 偏光フィルム及びそれを含む偏光板
JP2017003906A (ja) * 2015-06-15 2017-01-05 日東電工株式会社 両面粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP7163000B2 (ja) 2015-06-25 2022-10-31 日東電工株式会社 非偏光部を有する偏光子
JP6744011B2 (ja) * 2015-07-03 2020-08-19 日東電工株式会社 画像表示装置
JP6615520B2 (ja) * 2015-07-15 2019-12-04 日東電工株式会社 光学積層体
JP6614833B2 (ja) * 2015-07-15 2019-12-04 日東電工株式会社 光学積層体の製造方法
JP6140774B2 (ja) 2015-07-22 2017-05-31 日東電工株式会社 透明な粘着剤層を有する偏光フィルム積層体及び表示パネル
JP6067158B1 (ja) * 2015-07-27 2017-01-25 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP6675776B2 (ja) * 2015-08-27 2020-04-01 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP2017049536A (ja) * 2015-09-04 2017-03-09 日東電工株式会社 偏光板、反射防止積層体及び画像表示システム
JP2017058444A (ja) * 2015-09-15 2017-03-23 住友化学株式会社 偏光板及び液晶パネル
JP2017058445A (ja) * 2015-09-15 2017-03-23 住友化学株式会社 偏光板及び液晶パネル
JP6852967B2 (ja) * 2015-09-16 2021-03-31 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルム、光学部材、及び画像表示装置
JP6412476B2 (ja) * 2015-09-28 2018-10-24 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP6351559B2 (ja) * 2015-09-28 2018-07-04 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP6422415B2 (ja) * 2015-09-28 2018-11-14 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP6154054B2 (ja) * 2015-09-30 2017-06-28 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルム、その製造方法、および画像表示装置
WO2017057357A1 (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルム、その製造方法、および画像表示装置
FI129889B (en) 2015-10-09 2022-10-31 Inkron Ltd Dielectric siloxane particle films and devices containing them
JP6619619B2 (ja) * 2015-11-04 2019-12-11 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および偏光子の製造方法
CN105389049A (zh) * 2015-11-11 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 一种触控oled显示装置及其制作方法
JP6877945B2 (ja) * 2015-11-30 2021-05-26 日東電工株式会社 位相差層付偏光板および画像表示装置
JP6076449B1 (ja) * 2015-12-04 2017-02-08 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
KR20180098351A (ko) 2016-01-15 2018-09-03 닛토덴코 가부시키가이샤 점착제층 부착 편보호 편광 필름, 화상 표시 장치 및 그 연속 제조 방법
WO2017125834A1 (en) 2016-01-18 2017-07-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Input/output device and data processor
JP6798109B2 (ja) * 2016-01-21 2020-12-09 横浜ゴム株式会社 部材の表面処理方法、及び、積層部材の製造方法
KR102070630B1 (ko) * 2016-02-03 2020-01-29 주식회사 엘지화학 편광판
EP3413104A4 (en) * 2016-02-03 2019-01-16 LG Chem, Ltd. POLARIZATION PLATE
KR101871568B1 (ko) * 2016-02-05 2018-06-27 삼성에스디아이 주식회사 편광 소자 및 그 제조방법
JP6600618B2 (ja) * 2016-02-05 2019-10-30 富士フイルム株式会社 積層体および液晶表示装置
WO2017138551A1 (ja) * 2016-02-09 2017-08-17 株式会社クラレ 偏光フィルム及びその製造方法
WO2017145607A1 (ja) * 2016-02-26 2017-08-31 日東電工株式会社 偏光子、片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム並びに画像表示装置およびその連続製造方法
KR20180121773A (ko) * 2016-02-29 2018-11-08 니폰 제온 가부시키가이샤 화상 표시 장치
JP2017161719A (ja) * 2016-03-09 2017-09-14 日東電工株式会社 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ｅｌパネル
JP6737609B2 (ja) * 2016-03-22 2020-08-12 日東電工株式会社 粘着剤層付の片保護偏光フィルムの製造方法
JP6771913B2 (ja) 2016-03-22 2020-10-21 日東電工株式会社 表面保護フィルム付偏光フィルム、及び偏光フィルムの製造方法
JP6710560B2 (ja) 2016-03-28 2020-06-17 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、偏光フィルムの製造方法、及び画像表示装置
JP6795318B2 (ja) * 2016-03-28 2020-12-02 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
WO2017170522A1 (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 日東電工株式会社 フレキシブル偏光膜、その製造方法および画像表示装置
JP6486859B2 (ja) * 2016-03-29 2019-03-20 日東電工株式会社 偏光フィルムおよび画像表示装置
WO2017170516A1 (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 日東電工株式会社 フレキシブル偏光膜、その製造方法および画像表示装置
JP6905312B2 (ja) 2016-03-30 2021-07-21 日東電工株式会社 光学フィルム、剥離方法及び光学表示パネルの製造方法
KR101674353B1 (ko) * 2016-05-30 2016-11-08 주식회사 엘지화학 디스플레이 유닛의 연속 제조방법 및 장치
JP6495374B2 (ja) * 2016-05-30 2019-04-03 住友化学株式会社 画像表示装置用の偏光板、画像表示装置及び画像表示装置用の偏光板の製造方法
WO2017221405A1 (ja) 2016-06-24 2017-12-28 日東電工株式会社 長尺光学フィルム積層体、長尺光学フィルム積層体のロール及びｉｐｓ液晶表示装置
KR102646213B1 (ko) * 2016-06-30 2024-03-08 엘지디스플레이 주식회사 휘도 향상을 위한 광학부재 및 이를 구비한 유기전계발광 표시장치
JP6732580B2 (ja) * 2016-07-22 2020-07-29 日東電工株式会社 光学表示パネルの製造方法と光学表示パネルの製造システム
KR20190032605A (ko) 2016-08-16 2019-03-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 편광기
KR102008178B1 (ko) * 2016-08-29 2019-08-07 삼성에스디아이 주식회사 광학패널 제조장치 및 제조방법
JP2017049604A (ja) * 2016-11-15 2017-03-09 住友化学株式会社 円偏光板
JP2018091980A (ja) * 2016-12-02 2018-06-14 住友化学株式会社 偏光フィルム及び偏光性積層フィルムの製造方法
CN110050209A (zh) * 2016-12-12 2019-07-23 日东电工株式会社 圆偏振片
JP2017102476A (ja) * 2017-02-13 2017-06-08 日東電工株式会社 偏光膜、偏光膜を含む光学機能フィルム積層体、及び、偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法、並びに偏光膜を有する有機ｅｌ表示装置
EP3584630A4 (en) 2017-02-17 2019-12-25 FUJIFILM Corporation LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
JP6730348B2 (ja) 2017-03-29 2020-07-29 日東電工株式会社 粘着剤層付片保護偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
KR102460885B1 (ko) 2017-03-29 2022-11-01 닛토덴코 가부시키가이샤 점착제층, 점착제층을 구비한 편보호 편광 필름, 화상 표시 장치 및 그 연속 제조 방법
JP6688822B2 (ja) 2017-03-29 2020-04-28 日東電工株式会社 粘着剤層付片保護偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
WO2018180729A1 (ja) * 2017-03-30 2018-10-04 日本ゼオン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の複層フィルム、並びに、これを含む偏光板、反射防止フィルム及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
US11427688B2 (en) * 2017-04-17 2022-08-30 Eastman Chemical Company Copolyesters plasticized with polymeric plasticizer
JP6935229B2 (ja) * 2017-05-16 2021-09-15 日東電工株式会社 円偏光フィルム、粘着剤層付円偏光フィルムおよび画像表示装置
KR102446877B1 (ko) * 2017-05-18 2022-09-23 삼성전자주식회사 디스플레이를 포함하는 전자 장치
JP7154002B2 (ja) 2017-05-25 2022-10-17 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置
JP6920108B2 (ja) 2017-05-31 2021-08-18 日東電工株式会社 光学フィルム、剥離方法及び光学表示パネルの製造方法
JP7093349B2 (ja) 2017-06-21 2022-06-29 株式会社クラレ 原反フィルム、延伸光学フィルムの製造方法、及び延伸光学フィルム
KR102530378B1 (ko) 2017-07-25 2023-05-09 니폰 제온 가부시키가이샤 편광판의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
JP7140121B2 (ja) 2017-07-25 2022-09-21 日本ゼオン株式会社 積層体及び偏光板の製造方法
WO2019022028A1 (ja) 2017-07-25 2019-01-31 日本ゼオン株式会社 積層体
WO2019022013A1 (ja) 2017-07-25 2019-01-31 日本ゼオン株式会社 偏光板及び表示装置
WO2019022022A1 (ja) 2017-07-25 2019-01-31 日本ゼオン株式会社 積層体
TWI762667B (zh) * 2017-09-13 2022-05-01 日商日東電工股份有限公司 偏光膜、偏光板、偏光板捲材及偏光膜之製造方法
TWI775885B (zh) * 2017-09-13 2022-09-01 日商日東電工股份有限公司 偏光板及偏光板捲材
JP6513271B1 (ja) * 2017-09-13 2019-05-15 日東電工株式会社 偏光膜、偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法
TWI743373B (zh) * 2017-09-13 2021-10-21 日商日東電工股份有限公司 偏光膜、偏光板、及偏光膜之製造方法
JP7096700B2 (ja) * 2017-09-13 2022-07-06 日東電工株式会社 偏光膜、偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法
JP6513269B1 (ja) * 2017-09-13 2019-05-15 日東電工株式会社 偏光膜、偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法
CN118311705A (zh) * 2017-09-13 2024-07-09 日东电工株式会社 偏振片、偏振片卷、及偏振膜的制造方法
CN111095051B (zh) * 2017-09-13 2022-04-05 日东电工株式会社 偏振片、偏振片卷、及偏振膜的制造方法
JP6513270B1 (ja) * 2017-09-13 2019-05-15 日東電工株式会社 偏光膜、偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法
TWI801395B (zh) * 2017-09-13 2023-05-11 日商日東電工股份有限公司 偏光膜、偏光板、偏光板捲材及偏光膜之製造方法
TWI823856B (zh) * 2017-09-13 2023-12-01 日商日東電工股份有限公司 偏光膜、偏光板、偏光板捲材及偏光膜之製造方法
JP2019194655A (ja) * 2017-09-13 2019-11-07 日東電工株式会社 偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法
JP2019194659A (ja) * 2017-09-13 2019-11-07 日東電工株式会社 偏光板および偏光板ロール
JP2019053169A (ja) * 2017-09-14 2019-04-04 日東電工株式会社 偏光子、偏光子の製造方法および該偏光子を含む光学積層体
JP6518303B2 (ja) * 2017-09-27 2019-05-22 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
US11877473B2 (en) 2017-12-22 2024-01-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate, display panel, and display device
CN108181738B (zh) * 2017-12-26 2020-09-18 武汉华星光电技术有限公司 一种偏光板贴附装置及偏光板预对位装置
KR20200104292A (ko) 2017-12-28 2020-09-03 니폰 제온 가부시키가이샤 편광판용 적층체, 편광판, 적층체 필름 롤, 편광판용 적층체의 제조 방법 및 편광판의 제조 방법
EP3761085A4 (en) * 2018-02-28 2021-12-08 Nitto Denko Corporation POLARIZING OPTICAL REINFORCING FILM LAMINATE FOR AUTOMOTIVE VEHICLES AND VISUAL DISPLAY PANEL USING THE POLARIZING OPTICAL REINFORCING FILM LAMINATE
JP6964181B2 (ja) * 2018-03-29 2021-11-10 日東電工株式会社 偏光子の製造方法
JP6899417B2 (ja) * 2018-04-11 2021-07-07 日東電工株式会社 透明樹脂層、粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
CN108715044B (zh) * 2018-05-11 2020-12-15 佛山纬达光电材料股份有限公司 一种高对比度的防漏光偏光片的拉伸工艺
CN110554452B (zh) * 2018-05-31 2023-04-18 住友化学株式会社 防反射用偏光板、光学层叠体及光学层叠体的制造方法
JP7063841B2 (ja) 2018-05-31 2022-05-09 住友化学株式会社 反射防止用偏光板、光学積層体及び光学積層体の製造方法
CN112262329A (zh) * 2018-06-07 2021-01-22 日东电工株式会社 偏振膜及带相位差层的偏振片
JP7142497B2 (ja) 2018-06-26 2022-09-27 日東電工株式会社 粘着剤層付片保護偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
JP7041017B2 (ja) * 2018-07-25 2022-03-23 日東電工株式会社 偏光膜および偏光膜の製造方法
KR102476698B1 (ko) * 2018-10-15 2022-12-14 닛토덴코 가부시키가이샤 위상차층 부착 편광판 및 이를 이용한 화상 표시 장치
JP7355585B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-03 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045132B (zh) * 2018-10-15 2023-04-28 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
JP7355587B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-03 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2020080185A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7348799B2 (ja) * 2018-10-15 2023-09-21 日東電工株式会社 位相差層付偏光板の製造方法
CN111045136A (zh) * 2018-10-15 2020-04-21 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
WO2020080187A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2020080183A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP2020076938A (ja) * 2018-10-15 2020-05-21 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2020080182A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045138A (zh) * 2018-10-15 2020-04-21 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
JP7321005B2 (ja) * 2018-10-15 2023-08-04 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045133B (zh) * 2018-10-15 2023-11-10 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
JP7370177B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-27 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7240269B2 (ja) * 2018-10-15 2023-03-15 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7355584B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-03 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7294908B2 (ja) * 2018-10-15 2023-06-20 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7355582B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-03 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2020080186A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7355586B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-03 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045135B (zh) * 2018-10-15 2023-08-22 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
WO2020080184A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045137B (zh) * 2018-10-15 2024-03-26 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
JP7355583B2 (ja) * 2018-10-15 2023-10-03 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045134B (zh) * 2018-10-15 2023-07-28 日东电工株式会社 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
JP7321004B2 (ja) * 2018-10-15 2023-08-04 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
WO2020080188A1 (ja) * 2018-10-15 2020-04-23 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP6947870B2 (ja) * 2018-11-12 2021-10-13 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP6964800B2 (ja) * 2018-11-12 2021-11-10 日東電工株式会社 偏光膜、偏光フィルム、積層偏光フィルム、画像表示パネル、および画像表示装置
JP6689349B2 (ja) * 2018-11-12 2020-04-28 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP6739601B1 (ja) 2019-02-05 2020-08-12 住友化学株式会社 光学積層体及び表示装置
US11934226B2 (en) 2019-02-08 2024-03-19 Toyobo Co., Ltd. Foldable display and portable terminal device
JP7382974B2 (ja) * 2019-02-08 2023-11-17 日東電工株式会社 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
CN113396179B (zh) 2019-02-08 2024-09-17 东洋纺株式会社 聚酯薄膜及其用途
KR20200098758A (ko) * 2019-02-11 2020-08-21 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP2019197205A (ja) * 2019-02-12 2019-11-14 日東電工株式会社 偏光板および偏光板ロール
JP2019197206A (ja) * 2019-02-12 2019-11-14 日東電工株式会社 偏光板および偏光板ロール
JP7288465B2 (ja) * 2019-02-12 2023-06-07 日東電工株式会社 偏光板およびその製造方法、ならびに該偏光板を用いた画像表示装置
JP2019197204A (ja) * 2019-02-12 2019-11-14 日東電工株式会社 偏光板および偏光板ロール
US12101963B2 (en) 2019-03-01 2024-09-24 Sharp Kabushiki Kaisha Display device including reflective and absorbing polarizers
KR20210136019A (ko) * 2019-03-08 2021-11-16 닛토덴코 가부시키가이샤 편광막, 편광판, 및 해당 편광막의 제조 방법
CN113646677B (zh) * 2019-03-28 2023-10-31 日东电工株式会社 偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法
CN111763273B (zh) * 2019-04-02 2021-04-16 北京诺维新材科技有限公司 一种碘络合物及其制备方法和用途
JP2019124959A (ja) * 2019-04-04 2019-07-25 住友化学株式会社 円偏光板
JP7312013B2 (ja) 2019-05-15 2023-07-20 住友化学株式会社 光学積層体及び表示装置
KR20220016131A (ko) 2019-05-28 2022-02-08 도요보 가부시키가이샤 적층 필름과 그 용도
JPWO2020241705A1 (ko) * 2019-05-28 2020-12-03
US11899167B2 (en) 2019-05-28 2024-02-13 Toyobo Co., Ltd. Polyester film, laminated film, and use thereof
KR20220016133A (ko) 2019-05-28 2022-02-08 도요보 가부시키가이샤 폴리에스테르 필름과 그 용도
US20220236468A1 (en) 2019-05-30 2022-07-28 Toyobo Co., Ltd. Foldable display
WO2020241732A1 (ja) * 2019-05-30 2020-12-03 大日本印刷株式会社 光学用のプラスチックフィルム、偏光板及び画像表示装置
JP7421276B2 (ja) * 2019-06-25 2024-01-24 日東電工株式会社 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
JP6777799B2 (ja) * 2019-09-30 2020-10-28 日東電工株式会社 透明樹脂層、粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
WO2021065107A1 (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 日東電工株式会社 位相差層付偏光板、および、それを用いた画像表示装置
JP7316197B2 (ja) * 2019-11-19 2023-07-27 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法、偏光フィルムの製造装置及び制御システム
JP7405576B2 (ja) * 2019-11-21 2023-12-26 住友化学株式会社 光学異方性膜
JP7374744B2 (ja) * 2019-12-11 2023-11-07 住友化学株式会社 円偏光板
JP2020101805A (ja) * 2020-01-30 2020-07-02 日東電工株式会社 偏光板および偏光板ロール
JP7149975B2 (ja) * 2020-02-13 2022-10-07 日東電工株式会社 両面粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
CN111367428B (zh) * 2020-02-21 2020-12-25 东莞市晶博光电股份有限公司 一种触摸屏的冷加工工艺
US20210263205A1 (en) * 2020-02-26 2021-08-26 Facebook Technologies, Llc Polymer thin films having high optical anisotropy
CN116879993A (zh) * 2020-03-31 2023-10-13 大日本印刷株式会社 光学用的塑料膜、以及使用了该塑料膜的光学层积体、偏振片和图像显示装置
TWI766265B (zh) * 2020-04-16 2022-06-01 元太科技工業股份有限公司 顯示裝置
JP2021173979A (ja) * 2020-04-30 2021-11-01 日東電工株式会社 反射防止層付円偏光板および該反射防止層付円偏光板を用いた画像表示装置
JP2020149065A (ja) * 2020-05-26 2020-09-17 日東電工株式会社 有機ｅｌ表示装置用積層体及び有機ｅｌ表示装置
JP7090197B2 (ja) * 2020-08-07 2022-06-23 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
USD990566S1 (en) 2020-08-12 2023-06-27 Shutterfly, Llc Display panel
US11138910B1 (en) * 2020-08-12 2021-10-05 Shutterfly, Llc Repositionable display panel
CN112241039A (zh) * 2020-10-20 2021-01-19 京东方科技集团股份有限公司 偏光片、显示模组及偏光片的加工方法
CN112436096B (zh) * 2020-10-22 2021-12-31 福州大学 一种用于光提取的随机纳米图案制备方法
CN112327539B (zh) * 2020-11-25 2022-10-14 合肥德瑞格光电科技有限公司 一种tft-lcd用偏光片的制备方法
JP7330253B2 (ja) * 2020-12-08 2023-08-21 住友化学株式会社 マーク付き光学積層体、及び、マーク付き光学積層体の製造方法
JPWO2022145441A1 (ko) 2020-12-28 2022-07-07
JP7566720B2 (ja) * 2021-12-01 2024-10-15 日東電工株式会社 偏光子の製造方法および偏光板の製造方法
JP7566719B2 (ja) * 2021-12-01 2024-10-15 日東電工株式会社 偏光子の製造方法および偏光板の製造方法
JP7299378B2 (ja) * 2022-01-12 2023-06-27 日東電工株式会社 フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置
WO2024214690A1 (ja) * 2023-04-13 2024-10-17 日東電工株式会社 偏光膜、画像表示装置、偏光サングラス、および、偏光膜の製造方法

Family Cites Families (140)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4659523A (en) 1984-11-30 1987-04-21 American Hoechst Corporation Production of iodine stainable polyester polarizer film
US4893115A (en) * 1985-11-12 1990-01-09 John Fluke Mfg. Co., Inc. Touch sensitive visual display system
US4895769A (en) 1988-08-09 1990-01-23 Polaroid Corporation Method for preparing light polarizer
JP3021494B2 (ja) * 1989-12-05 2000-03-15 株式会社クラレ 偏光フイルムおよびその製造法
JPH04279944A (ja) 1990-12-24 1992-10-06 Fuji Xerox Co Ltd オフィス情報装置
JPH0527118A (ja) 1991-07-17 1993-02-05 Nitto Denko Corp 位相差板及び円偏光板
JP3231820B2 (ja) * 1991-12-17 2001-11-26 ソニー株式会社 液晶表示装置
JP3520347B2 (ja) * 1992-06-19 2004-04-19 東洋紡績株式会社 偏光板用離型フイルム
US5628957A (en) 1992-07-07 1997-05-13 Continental Pet Technologies, Inc. Method of forming multilayer container with polyethylene naphthalalte (pen)
JPH06347641A (ja) * 1993-06-07 1994-12-22 Kuraray Co Ltd 新規な偏光フィルム
JPH0812296A (ja) 1994-07-01 1996-01-16 Kyushu Electric Power Co Inc 高所作業車の作動制御装置
JPH08278408A (ja) * 1995-04-07 1996-10-22 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光素子とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置
JP3512596B2 (ja) * 1996-07-04 2004-03-29 シャープ株式会社 旋光光学素子およびその製造方法と、それを用いた画像表示装置
JPH1040004A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Ricoh Co Ltd 入力タッチパネル付き液晶表示装置
JP3463846B2 (ja) * 1997-02-14 2003-11-05 シャープ株式会社 偏光素子およびその製造方法、並びに映像表示装置
JP3269002B2 (ja) 1997-04-16 2002-03-25 日本合成化学工業株式会社 偏光フィルムの製造法
JPH11149015A (ja) 1997-11-14 1999-06-02 Nitto Denko Corp 積層波長板、円偏光板及び液晶表示装置
US6788463B2 (en) 1998-01-13 2004-09-07 3M Innovative Properties Company Post-formable multilayer optical films and methods of forming
EP1099129B1 (en) * 1998-07-31 2007-09-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Post-formable multilayer optical films and methods of forming
GB2342179A (en) * 1998-09-22 2000-04-05 Sharp Kk Transflective Liquid Crystal Displays
WO2000060384A1 (fr) * 1999-03-31 2000-10-12 Daicel Chemical Industries, Ltd. Couche de diffusion de lumiere, couche composite de diffusion de lumiere et ecran a cristaux liquides
JP4279944B2 (ja) * 1999-06-01 2009-06-17 株式会社サンリッツ 偏光板の製造方法
JP2001281452A (ja) * 2000-03-31 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光学フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP2001201740A (ja) * 2000-01-21 2001-07-27 Citizen Watch Co Ltd 反射型液晶表示装置
JP2001343522A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光フィルム及びその製造方法
JP2001343521A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光板及びその製造方法
JP2001350021A (ja) * 2000-06-06 2001-12-21 Sumitomo Chem Co Ltd 薄型光学積層体及びその製造方法
JP2002156920A (ja) * 2000-09-05 2002-05-31 Nitto Denko Corp タッチパネル付ｅｌ表示装置
JP2002236214A (ja) * 2001-02-08 2002-08-23 Nitto Denko Corp 偏光フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP3717413B2 (ja) 2001-03-02 2005-11-16 日東電工株式会社 液晶ディスプレイ用粘着型光学フィルム
JP2002258051A (ja) * 2001-03-05 2002-09-11 Nitto Denko Corp 偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
EP1374271A2 (en) 2001-03-22 2004-01-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display arrangement with reduced mechanical stress
JP2002333522A (ja) * 2001-05-07 2002-11-22 Nitto Denko Corp 偏光フィルム、偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
JP2004029852A (ja) * 2001-06-01 2004-01-29 Sony Corp 立体画像表示装置のフィルター位置調整方法
US6609795B2 (en) * 2001-06-11 2003-08-26 3M Innovative Properties Company Polarizing beam splitter
JP4701555B2 (ja) * 2001-08-01 2011-06-15 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP3840937B2 (ja) * 2001-09-17 2006-11-01 東洋紡績株式会社 一軸配向ポリエステルフィルム、並びにこれを用いた表面保護フィルムおよび離型フィルム
JP2003131030A (ja) * 2001-10-23 2003-05-08 Nitto Denko Corp タッチパネル用上側偏光板、タッチパネルおよびタッチパネル付表示装置
JP2003195305A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 反射型液晶表示装置
JP2003215335A (ja) 2002-01-18 2003-07-30 Nitto Denko Corp 偏光板及び液晶表示装置
JP2003279748A (ja) * 2002-01-18 2003-10-02 Nitto Denko Corp 偏光フィルムおよび画像表示装置
US7110177B2 (en) * 2002-01-18 2006-09-19 Nitto Denko Corporation Polarizing film and image display
JP4007920B2 (ja) 2002-02-01 2007-11-14 日東電工株式会社 粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
CN1453598A (zh) * 2002-04-24 2003-11-05 日东电工株式会社 偏振膜及其制造方法、偏振片、光学构件
JP4149200B2 (ja) 2002-06-12 2008-09-10 株式会社クラレ 偏光フィルムの製造法
JP2004020701A (ja) * 2002-06-13 2004-01-22 Nippon Zeon Co Ltd 光学積層体
JP2004021145A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Nitto Denko Corp 反射防止機能付き偏光板及び画像表示装置
JP4342905B2 (ja) * 2002-10-31 2009-10-14 株式会社クラレ 偏光フィルムの製造法
KR100469355B1 (ko) 2002-11-14 2005-02-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 표시장치용 터치 패널
JP2004191450A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 Sumitomo Chem Co Ltd 自発光型表示装置
JP2004233871A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板、偏光板の製造方法および液晶表示装置
JP3902186B2 (ja) 2003-04-21 2007-04-04 日東電工株式会社 帯電防止型光学フィルム、その製造方法、及び画像表示装置
JP4293543B2 (ja) * 2003-04-21 2009-07-08 日東電工株式会社 偏光子、その製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
CN100394223C (zh) * 2003-04-21 2008-06-11 日东电工株式会社 偏振镜及其制造方法、偏振片、光学薄膜和图像显示装置
JP2005049779A (ja) * 2003-07-31 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
JP4323269B2 (ja) * 2003-09-10 2009-09-02 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
US7749348B2 (en) * 2003-09-30 2010-07-06 Nitto Denko Corporation Method for manufacturing polarizing plate, polarizing plate, optical film and image viewing display
JP3701661B2 (ja) * 2003-12-05 2005-10-05 シャープ株式会社 表示パネルおよび表示装置
JP2005283872A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止能付き偏光板、その製造方法、およびそれを用いた画像表示装置
JP2005202146A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Nitto Denko Corp 偏光子の製造方法、偏光板の製造方法、積層光学フィルムの製造方法、偏光子、偏光板、積層光学フィルムおよび画像表示装置
CN1918252A (zh) 2004-02-06 2007-02-21 日东电工株式会社 涂布用涂料、使用该涂料的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振片及图像显示装置
JP2005266325A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Nitto Denko Corp 偏光フィルムの製造方法、偏光フィルムおよびそれを用いた光学フィルムならびに画像表示装置
JP4614421B2 (ja) * 2004-03-31 2011-01-19 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
WO2006013906A1 (en) * 2004-08-02 2006-02-09 Fujifilm Corporation Optical film, producing method therefor, polarizing plate and image display apparatus
JP2006268065A (ja) * 2004-08-05 2006-10-05 Nitto Denko Corp 位相差フィルム、光学フィルム、画像表示装置、液晶パネル及び液晶表示装置
JP4714452B2 (ja) * 2004-10-21 2011-06-29 日東電工株式会社 帯電防止性粘着型光学フィルム及び画像表示装置
US20060110549A1 (en) 2004-11-22 2006-05-25 Yongcai Wang Cover sheet comprising tie layer for polarizer and method of manufacturing the same
TWI445785B (zh) 2005-01-26 2014-07-21 Nitto Denko Corp 黏著型光學薄膜
TWI272409B (en) * 2005-02-04 2007-02-01 Optimax Tech Corp Polarizing film and its manufacturing method
JP4841267B2 (ja) 2005-02-28 2011-12-21 日東電工株式会社 粘着型光学フィルム
US7957327B2 (en) 2005-05-18 2011-06-07 Qualcomm Incorporated Efficient support for TDD beamforming via constrained hopping and on-demand pilot
US7605895B2 (en) * 2005-06-14 2009-10-20 Lg Chem, Ltd. IPS mode liquid crystal display using two sheets of biaxial negative retardation film and a plate
JP2008210528A (ja) * 2005-06-16 2008-09-11 Nissha Printing Co Ltd 照光スイッチ付き筺体とその製造方法
JP5233280B2 (ja) * 2005-07-22 2013-07-10 Ｊｓｒ株式会社 環状オレフィン系開環共重合体およびその用途ならびに該共重合体を含む位相差板の製造方法
TW200712579A (en) * 2005-08-12 2007-04-01 Dainippon Printing Co Ltd Protective film for polarizing plate and polarizing plate
JP2007078978A (ja) * 2005-09-13 2007-03-29 Nitto Denko Corp 枚葉体からのセパレータ剥離方法および積層光学フィルムの製造方法並びにこれらを用いた製造装置
JP2007090613A (ja) * 2005-09-28 2007-04-12 Fujifilm Corp 環状ポリオレフィンフィルム並びにその製造方法、それを用いた光学補償フィルム、偏光板、偏光板保護フィルムおよび液晶表示装置
JP2007090657A (ja) * 2005-09-28 2007-04-12 Aica Kogyo Co Ltd 化粧シート及びその製造方法
JP5017835B2 (ja) * 2005-09-29 2012-09-05 日本ゼオン株式会社 延伸フィルムおよび延伸フィルムの製造方法
JP4651101B2 (ja) * 2005-10-21 2011-03-16 日東電工株式会社 粘着型位相差層付偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
TWI309200B (en) 2005-12-02 2009-05-01 Daxon Technology Inc Method for fabricating a polarization film
JP4697964B2 (ja) * 2006-02-24 2011-06-08 日東電工株式会社 偏光子の製造方法および洗浄装置
CN101460306B (zh) * 2006-03-31 2012-07-18 日本瑞翁株式会社 偏振片、液晶显示装置以及保护膜
JP2008134270A (ja) * 2006-10-27 2008-06-12 Nitto Denko Corp 液晶パネル、及び液晶表示装置
JP4339350B2 (ja) * 2006-11-20 2009-10-07 日東電工株式会社 偏光子の製造方法
JP2008165185A (ja) * 2006-12-07 2008-07-17 Nitto Denko Corp 積層光学フィルム、積層光学フィルムを用いた液晶パネル、および液晶表示装置
KR100824782B1 (ko) 2006-12-18 2008-04-24 (주)파버나인 입체영상 표시장치 및 그 제조방법
JP2008197536A (ja) * 2007-02-15 2008-08-28 Nitto Denko Corp 液晶パネルおよび液晶表示装置
JP5261997B2 (ja) * 2007-06-27 2013-08-14 東洋紡株式会社 二軸配向ポリエステルフィルム
US8817373B2 (en) * 2007-07-06 2014-08-26 Nitto Denko Corporation Microcrack free polarization plate
JP2009069142A (ja) * 2007-08-23 2009-04-02 Nitto Denko Corp 積層フィルムの欠陥検査方法およびその装置
JP2009075473A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板とその製造方法、並びに積層光学部材および液晶表示装置
JP2009098653A (ja) * 2007-09-27 2009-05-07 Nitto Denko Corp 偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009099135A (ja) * 2007-09-28 2009-05-07 Fujitsu Ltd 支援管理方法、支援管理システム及び情報処理装置
JP5211616B2 (ja) 2007-09-28 2013-06-12 大日本印刷株式会社 真空成形用化粧シート
JP2009093074A (ja) * 2007-10-11 2009-04-30 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009090611A (ja) * 2007-10-12 2009-04-30 Mitsubishi Plastics Inc 制電性樹脂板及び制電性樹脂対を製造するための転写シート
TWI453123B (zh) 2007-12-03 2014-09-21 Sumitomo Chemical Co 偏光板的套組，以及使用該偏光板的套組之液晶面板及液晶顯示器
JP2009139642A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合偏光板ロール、複合偏光板セットおよび液晶表示装置
JP4902516B2 (ja) * 2007-12-17 2012-03-21 日東電工株式会社 視角制御システムならびに画像表示装置
JP2009176198A (ja) 2008-01-28 2009-08-06 Hitachi Displays Ltd タッチパネル付表示装置
JP2009186659A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Nippon Oil Corp 楕円偏光板、楕円偏光板の製造方法およびそれを用いた画像表示装置
JP5104373B2 (ja) * 2008-02-14 2012-12-19 日本ゼオン株式会社 位相差板の製造方法
JP2009216937A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2009244465A (ja) 2008-03-31 2009-10-22 Nitto Denko Corp 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた液晶パネルおよび液晶表示装置
WO2009125717A1 (ja) * 2008-04-07 2009-10-15 住友化学株式会社 複合偏光板およびこれを用いた液晶表示装置
WO2009128115A1 (ja) * 2008-04-15 2009-10-22 日東電工株式会社 光学フィルム積層体ロールならびにその製造方法および装置
CN101559889B (zh) * 2008-04-16 2011-06-01 日东电工株式会社 辊状卷料组及辊状卷料的制造方法
WO2009142135A1 (ja) 2008-05-19 2009-11-26 花王株式会社 界面活性剤担持用顆粒群
JP2009282424A (ja) * 2008-05-26 2009-12-03 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置、電子機器、及び偏光体
JP2009300768A (ja) * 2008-06-13 2009-12-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板ロールおよびそれを用いた感圧式接着剤層付き偏光板ロール、偏光板、液晶表示装置
JP5524501B2 (ja) * 2008-06-30 2014-06-18 日東電工株式会社 偏光子、その製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2010015045A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Sumitomo Chemical Co Ltd 楕円偏光板ロールおよびその製造方法、ならびに楕円偏光板付き液晶基板ロールおよび表示装置
JP5033078B2 (ja) * 2008-08-06 2012-09-26 株式会社ジャパンディスプレイイースト 表示装置
WO2010018795A1 (ja) * 2008-08-11 2010-02-18 住友化学株式会社 粘着剤付き光学フィルムとそれを用いた光学積層体
JP2010081758A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Hoya Corp 静電型アクチュエータ
JP2010091815A (ja) 2008-10-08 2010-04-22 Sony Corp 偏光フィルムの製造方法、および該製造方法を用いた偏光板の製造方法
JP4928529B2 (ja) * 2008-11-12 2012-05-09 日東電工株式会社 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2010152334A (ja) * 2008-11-25 2010-07-08 Nitto Denko Corp 偏光板付ガラス板の製造方法、偏光板付ガラス板、偏光板付液晶セル
KR101726006B1 (ko) * 2008-12-18 2017-04-11 주식회사 쿠라레 편광 필름의 제조법
JP5335401B2 (ja) * 2008-12-19 2013-11-06 富士フイルム株式会社 偏光フィルム及び偏光フィルムの製造方法、偏光板及び偏光板の製造方法、並びに乗り物用映り込み防止フィルム
KR101272053B1 (ko) 2008-12-24 2013-06-05 엘지디스플레이 주식회사 광시야각 액정표시소자
JP2010151910A (ja) * 2008-12-24 2010-07-08 Nippon Oil Corp 楕円偏光板、およびそれを用いた画像表示装置
JP2010176022A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Nippon Zeon Co Ltd 偏光板の製造方法
WO2010095447A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 日本化薬株式会社 樹脂硬化物層を有する染料系偏光板
WO2010100917A1 (ja) * 2009-03-05 2010-09-10 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜およびその製造方法
JP2011002759A (ja) 2009-06-22 2011-01-06 Dnp Fine Chemicals Co Ltd 反射防止膜
JP2011068513A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Tokyo Electron Ltd カーボンナノチューブ膜の成膜方法
JP2011068512A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Toyota Industries Corp 改質器
JP2011081758A (ja) * 2009-10-09 2011-04-21 Tsunenori Okane 動物臨床試験のための同時進行的適薬発見自動化システム
JP2011150313A (ja) * 2009-12-21 2011-08-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
JP5048120B2 (ja) * 2010-03-31 2012-10-17 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法、および偏光板の製造方法
JP4691205B1 (ja) * 2010-09-03 2011-06-01 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法
JP5701679B2 (ja) * 2010-09-03 2015-04-15 日東電工株式会社 矩形形状のパネルに偏光膜を有する光学フィルムを順次的に貼り付ける方法及び装置
JP5474869B2 (ja) * 2010-09-03 2014-04-16 日東電工株式会社 偏光膜を有する積層体ストリップロールの製造方法
JP5478553B2 (ja) * 2010-09-03 2014-04-23 日東電工株式会社 連続ウェブ状光学フィルム積層体ロール及びその製造方法
JP5361941B2 (ja) * 2010-09-03 2013-12-04 日東電工株式会社 偏光膜を有する積層体ストリップロールの製造方法
JP5511730B2 (ja) * 2010-09-03 2014-06-04 日東電工株式会社 光学的パネル組立体の連続的製造方法及び装置
US8866997B2 (en) * 2010-11-02 2014-10-21 Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Patterned electronic and polarization optical devices
CN202549937U (zh) * 2012-05-10 2012-11-21 京东方科技集团股份有限公司 Oled显示结构及oled显示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160130225A (ko) * 2014-03-06 2016-11-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20120057104A1 (en) 2012-03-08
US20120057107A1 (en) 2012-03-08
US20130100529A1 (en) 2013-04-25
EP2426528A2 (en) 2012-03-07
JP5877513B2 (ja) 2016-03-08
EP2426532A3 (en) 2012-04-11
US8379169B2 (en) 2013-02-19
US8771454B2 (en) 2014-07-08
JP6090955B2 (ja) 2017-03-08
JP5718729B2 (ja) 2015-05-13
TWI384290B (zh) 2013-02-01
JP2015187727A (ja) 2015-10-29
CN102368100B (zh) 2015-10-21
JP6396407B2 (ja) 2018-09-26
JP4804589B1 (ja) 2011-11-02
JP2016040640A (ja) 2016-03-24
US8314987B2 (en) 2012-11-20
KR101162693B1 (ko) 2012-07-05
CN102445728A (zh) 2012-05-09
EP2426523A3 (en) 2012-05-02
US20120056211A1 (en) 2012-03-08
US8520169B2 (en) 2013-08-27
JP5511719B2 (ja) 2014-06-04
JP2014078016A (ja) 2014-05-01
JP2014112259A (ja) 2014-06-19
EP2426523B1 (en) 2013-11-13
JP2016170441A (ja) 2016-09-23
JP2012073570A (ja) 2012-04-12
JP2015118388A (ja) 2015-06-25
TW201217148A (en) 2012-05-01
EP2426527A3 (en) 2012-04-18
JP6048984B2 (ja) 2016-12-21
EP2426527B1 (en) 2013-12-25
KR20120135152A (ko) 2012-12-12
JP5899589B2 (ja) 2016-04-06
JP4691205B1 (ja) 2011-06-01
EP2426524A2 (en) 2012-03-07
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US8852374B2 (en) 2014-10-07
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