JP6803131B2 - 積層体および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、無機層を有する偏光フィルムを用いた粘着剤層付偏光フィルムと透明導電層を有する部材とを貼り合せた積層体に関する。さらには、本発明は、前記積層体を用いた液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子を有する表示装置（有機ＥＬ表示装置）、ＰＤＰ等の画像表示装置に関する。

液晶表示装置等は、その画像形成方式から液晶セルの両側に偏光素子を配置することが必要不可欠であり、一般的には偏光フィルムが貼着されている。前記偏光フィルムを液晶セルに貼着する際には、通常、粘着剤が使用される。また、偏光フィルムと液晶セルの接着は、通常、光の損失を低減するため、それぞれの材料は粘着剤を用いて密着されている。このような場合に、偏光フィルムを固着させるのに乾燥工程を必要としないこと等のメリットを有することから、粘着剤は、偏光フィルムの片側に予め粘着剤層として設けられた粘着剤層付偏光フィルムが一般的に用いられる。粘着剤層付偏光フィルムの粘着剤層には、通常、離型フィルムが貼り付けられている。

偏光子としては、従来からポリビニルアルコール系フィルムが用いられている。前記偏光子は吸湿性を有するため、前記偏光子は水分を吸収しやすい。偏光子が多量の水分を吸収した場合には、偏光子の特性が低下する傾向がある。一方、前記偏光子は、通常、偏光子の片面または両面に透明保護フィルムを設けた偏光フィルムとして用いられる。前記偏光子が水分を吸収しないように、例えば、偏光フィルムに用いる透明保護フィルムとして、例えば、低透湿性の透明保護フィルムを用いることが提案されている。しかし、低透湿性の透明保護フィルムによる水分の遮断効果は、低透湿性の透明保護フィルムの厚みに依存するため、有効に水分を遮断するには、低透湿性の透明保護フィルムの厚みを厚くすることが必要であった。また、低透湿性の透明保護フィルムを用いた偏光フィルムを、粘着剤層付偏光フィルムの態様で用いる場合には、粘着剤層と偏光フィルムの密着性が十分ではなかった。

近年、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）薄膜等の透明導電層が各種の用途において広く使用されている。例えば、前記透明導電層は、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式等の液晶セルを用いた液晶表示装置の、液晶セルを構成する透明基板の液晶層と接する側とは反対側に形成され、帯電防止層とすることが知られている。また、前記透明導電層が透明樹脂フィルム上に形成された透明導電性フィルムは、タッチパネルの電極基板に用いられ、例えば、携帯電話や携帯用音楽プレイヤー等に用いる液晶表示装置や画像表示装置と当該タッチパネルを組み合わせて用いる入力装置が広く普及してきている。

これらの透明導電層を使用した液晶表示装置や画像表示装置においては、近年、軽量化、薄型化の要求が強く、当該液晶表示装置等において使用される偏光フィルムに対しても、薄型化、軽量化することが要望されており、薄型偏光フィルムの製造方法が種々検討されている。

薄型偏光フィルムの製法としては、例えば、ある程度の厚みを有する樹脂基材に形成された薄いポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系重合体層を樹脂基材と一体化された状態で一軸延伸することによって、薄型偏光フィルムを樹脂基材上に製膜する方法（例えば、特許文献１参照）や、基材フィルムの一方の面に、ＰＶＡ樹脂からなる樹脂層を形成した積層フィルムを特定の延伸倍率で自由端縦一軸延伸して、延伸フィルムを得、当該延伸フィルムを二色性色素で染色して薄型偏光子を形成する方法等が知られている（例えば、特許文献２参照）。

特許第４６９１２０５号明細書 特許第５０４８１２０号明細書

透明導電層を帯電防止層用途として使用する場合、当該帯電防止層を有する液晶セル上に粘着剤層付偏光フィルムが積層され、透明導電層からなる帯電防止層と偏光フィルムとが粘着剤層を介して貼り合わされる。また、透明導電層をタッチパネルの電極用途として使用する場合、タッチパネルの構成によっては、前記電極用透明導電層上に粘着剤層付偏光フィルムが積層され、透明導電層からなる帯電防止層と偏光フィルムとが粘着剤層を介して貼り合わされる場合がある。

特許文献１、２で得られた薄型化偏光フィルムは、いずれも、偏光子の片面を透明保護フィルムで保護した片面保護の偏光フィルムであり、当該偏光フィルムを透明導電層付き液晶セル等に貼り合せた場合、偏光子と透明導電層とが粘着剤を介して貼り合せられることとなる。片面保護のヨウ素系偏光子の偏光子面に、粘着剤層を介して透明導電層が貼り合わせられると、ヨウ素系偏光子からの微量のヨウ素が粘着剤層中に染み出し、それが透明導電層に到達して、透明導電層を劣化（腐食）させることが分かった。透明導電層が劣化すると、例えば、透明導電層を帯電防止層用途として使用する場合においては、液晶パネルにおいて静電気ムラを生じ、帯電防止性能が低下するものであった。また、透明導電層をタッチパネルの電極用途として使用する場合においては、電極の劣化により、電気抵抗値が増大し、感知不良等の誤作動が発生したり、タッチパネルの感度の低下等の種々の問題を生じるものであった。

偏光フィルムの薄型化の手法としては、特許文献１、２に記載されているような、偏光子自体を薄型化する手法や偏光子の片面のみに透明保護フィルムを積層する手法の他、透明保護フィルムの厚みを薄くする手法もあった。偏光子の両面に透明保護フィルムを有する両面保護偏光フィルムであっても、透明保護フィルムとして前記薄膜化された透明保護フィルムを用いる場合には、ヨウ素系偏光子からヨウ素が粘着剤中に染み出して透明導電層を劣化させる現象が起こる場合があった。特に、高い透湿度を有する薄膜化透明保護フィルムにおいて、上記現象が起こりやすいことが分かった。

本発明は、粘着剤層付偏光フィルムと、透明導電層を有する部材を貼り合せた積層体であって、透明導電層上に積層された場合にも、前記透明導電層の劣化が抑制されている積層体を提供することを目的とする。

さらには、本発明は、前記積層体を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記積層体を見出し、本発明を完成するに至った。

即ち本発明は、偏光フィルムの片面または両面に粘着剤層を有する粘着剤層付き偏光フィルムと、透明導電層を有する透明導電性部材とを、前記粘着剤層付偏光フィルムの粘着剤層と前記透明導電性部材の透明導電層とが接触するように貼り合せた積層体であって、
前記偏光フィルムは、偏光子の片面または両面に無機層を有し、
かつ、当該偏光フィルムにおける少なくとも片面の無機層の側に、前記粘着剤層を有することを特徴とする積層体、に関する。前記偏光フィルムは、前記偏光子の片面または両面に、前記無機層を介して、または介することなく、透明保護フィルムを設けることができる。透明保護フィルムを設ける場合は、少なくとも片面の前記無機層は最外層である態様で用いることが好ましい。

前記積層体において、前記偏光フィルムは、前記偏光子の第１の片面に、無機層を介することなく、第１透明保護フィルムを有し、前記偏光子の第２の片面にのみ無機層を有する態様で用いることができる。また、当該偏光フィルムとしては、前記偏光子の第２の片面に、第２透明保護フィルムを介して、前記無機層を有するものを用いることができる。

前記積層体において、前記無機層が無機酸化物または無機窒化物であることが好ましい。さらには、前記無機層は、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物およびアルミニウム酸化物から選ばれるいずれか少なくとも１つを含むことが好ましい。

前記積層体において、前記偏光子の厚みは１０μｍ以下であることが好ましい。

前記積層体において、前記偏光フィルムは、単体透過率が３０％以上、偏光度が９０％以上であることが好ましい。

前記積層体において、前記粘着剤層付き偏光フィルムは、前記無機層に、前記粘着剤層が直接積層されている構成において、前記無機層と前記粘着剤層との接着力が１５Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２０Ｎ／２５ｍｍ以上である。

前記積層体において、前記粘着剤層は、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤により形成されていることが好ましい。

前記積層体において、前記アクリル系粘着剤は、さらに、カップリング剤を含有することが好ましい。また、前記カップリング剤は、シラン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤およびチタネート系カップリング剤系から群より選ばれるいずれか少なくとも１種であることが好ましい。また、前記カップリング剤の割合は、前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対して０．００１〜５重量部であることが好ましい。

前記積層体において、前記アクリル系粘着剤は、さらに、架橋剤を含有することができる。

前記積層体において、前記粘着剤層付偏光フィルムは、４０℃、９０％ＲＨで測定した透湿度が０．０００００１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましい。

前記積層体において、前記透明導電層が、酸化インジウムスズから形成されることが好ましい。前記酸化インジウムスズは、非結晶性の酸化インジウムスズを用いることができる

前記積層体は、６０℃、９０％ＲＨの環境下に５００時間投入する前（初期）と後（湿熱後）の透明導電導電膜の下記に示す抵抗値の変化率：
抵抗値変化率＝（湿熱後の抵抗値／初期抵抗値）×１００
が１３０％以下であることが好ましい。

また、本発明は、前記積層体を用いていることを特徴とする画像表示装置、に関する。

前記画像表示装置としては、前記透明導電層を有する透明導電性部材が、透明導電層及び液晶セルを含む部材であるものが挙げられる。

前記画像表示装置としては、前記透明導電層を有する透明導電性部材が、透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記積層体をタッチパネルとして用いているものが挙げられる。

ヨウ素による透明導電層の劣化は、当該透明導電層に接する粘着剤層中の水分率が多いほど進行しやすいことが分かった。本発明の積層体は、粘着剤層付偏光フィルムの粘着剤層に透明導電層を積層した構成を有するものであるが、前記粘着剤層付偏光フィルムの偏光フィルムは、偏光子の片面または両面に無機層を有する。また、前記粘着剤層付偏光フィルムの偏光フィルムとしては、偏光子に、前記無機層を介して、または介することなく、透明保護フィルムを設けたものを用いることができる。前記無機層は、粘着剤層中の水分率を低く抑えることができ、また、ヨウ素による対するバリア性を有しているため、前記積層体における、透明導電層の劣化を抑制することができる。

前記のように、本発明の積層体における粘着剤層付偏光フィルムに用いる偏光フィルムは、偏光子に、直接、または透明保護フィルムを介して、無機層を有しているため、偏光子の水蒸気の吸収を有効に遮断することができる。低透湿性の透明保護フィルムにより、水分の遮断を有効に行うには、厚みを厚くすることが必要性あったが、無機層によれば、薄層にて有効に水分の遮断を行うことができる。液晶表示装置等ではモジュールの薄型化が求められているため、偏光フィルムにも薄型化が望まれている。本発明の偏光フィルムによれば、無機層により、水分を有効に遮断し、かつ、偏光フィルムの薄型化を実現することができる。また偏光子に対して、直接、無機層を形成した偏光フィルムにおいては、当該無機層を形成した側には透明保護フィルムを設けていない偏光フィルムを用いることができる。本発明の積層体における粘着剤層付偏光フィルムに用いる偏光フィルムによれば、偏光子に対して、直接、無機層を形成したものを用いることができ、無機層により、水分、ヨウ素を有効に遮断し、かつ、偏光フィルムの薄型化を実現することができる。

また、本発明の積層体における粘着剤層付偏光フィルムに用いる偏光フィルムは、薄型の偏光子を用いた場合に有効である。通常の偏光子に比べて、薄型偏光子は薄膜であるため収縮しにくい。そのため、偏光子に無機層を設けた場合においても、薄型偏光子は通常の偏光子に比べて収縮による無機層に及ぼすダメージが小さい。また、薄型偏光子は通常の偏光子に比べて薄膜であるため、断面からの水蒸気の侵入量が小さく、水分の遮断を行う点からも好ましい。また本発明の偏光フィルムは、無機層を設けていない偏光フィルムと同等の光学特性を有し、かつ、過酷な環境下におかれた場合においても良好な光学特性を有する。

また、本発明の積層体における、粘着剤層付偏光フィルムは、偏光フィルムの無機バリア層に粘着剤層が積層されているが、前記無機バリア層は粘着剤層に対する密着性が良好であり、好適な粘着剤層付偏光フィルムを提供することができる。

本発明の積層体を示す断面図の例示である。 本発明の積層体に用いる偏光フィルムを示す断面図の例示である。 本発明の積層体に用いる偏光フィルムを示す断面図の例示である。 本発明の積層体に用いる粘着剤層付き偏光フィルム示す断面図である。 本発明の画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。 本発明の画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。 本発明の画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。 実施例１で得られた無機層付の偏光フィルムにおける、無機層に係る電子顕微鏡写真である。

以下、本発明の積層体の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は、図面の実施形態に限定されるものではない。

本発明の積層体は、図１に示すように、偏光フィルム１に粘着剤層２を有する粘着剤層付き偏光フィルムと、透明導電層３を有する透明導電性部材とを、前記粘着剤層２と前記透明導電性部材の透明導電層３とが接触するように貼り合せた構造を有する。図１では、偏光フィルム１の片面に粘着剤層２を有する場合を示しているが、粘着剤層２は、偏光フィルムの両面に設けることができる。なお、図１では、透明導電性部材の透明導電層３のみを記載している。

本発明の偏光フィルム１は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、偏光子１０の片面または両面（第１の片面および第２の片面）に無機層２０を有する。偏光子の第１の片面および第２の片面は任意に設定することができる。図２（ａ）は、偏光子１０の第１の片面にのみ無機層２０が、直接、設けられている場合であり、図２（ｂ）は、偏光子１０の両面に無機層２０が、直接、設けられている場合である。

本発明の偏光フィルムは、図２（ａ）、（ｂ）に記載の偏光フィルムの片面または両面に、透明保護フィルムを設けることができる。透明保護フィルムは、前記無機層を介して、または介することなく設けることができるが、少なくとも片面の前記無機層は最外層になる態様であることが好ましい。最外層の無機層は粘着剤層に貼り合わせることができる。図３（ａ１）、（ａ２）は、図２（ａ）の偏光フィルムに透明保護フィルムを設けた場合の態様である。図３（ａ１）は、偏光子１０の第１の片面に第１透明保護フィルム１１を有し、前記偏光子１０の第２の片面（第１の片面の反対面）に無機層２０が、直接、設けられている場合であり、図３（ａ２）は、偏光子１０の第１の片面に第１透明保護フィルム１１を有し、前記偏光子１０の第２の片面に第２透明保護フィルム１２を介して、無機層２０が設けられている場合である。

本発明の偏光フィルムには、前記無機層に粘着剤層を設けることができる。図４（ａ１）、（ａ２）は、本発明の粘着剤層付き偏光フィルムに係り、それぞれ、図３（ａ１）、（ａ２）の偏光フィルムの無機層２０に、粘着剤層２が設けられている場合である。

なお、図３では、図２（ａ）に記載の偏光フィルムの態様について透明保護フィルムを設けた場合を、図４では、図３の態様に粘着剤層を設けた場合を記載したが、図２（ｂ）の態様の偏光フィルムについても、無機層を介して、または、介することなく、第１透明保護フィルムおよび／または第２透明保護フィルムを設けることができ、さらに、無機層に粘着剤層を設けることができる。さらには、図２（ａ）、（ｂ）に記載の偏光フィルムの無機層に、粘着剤層を設けることができる。

本発明の粘着剤層付き偏光フィルムは、無機層を有することから、透湿度を小さく制御することができる。透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで測定した値が、０．０１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましい。透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで測定した値が、０．００００００１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上であることは無機層の厚みを１０００μｍ以下で形成でき著しい厚みの増加が伴わない点で好ましい。また、透湿度が５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることは水蒸気を有効に遮断することできる点で好ましい。透湿度は、偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルムのいずれについても、０．０００００１〜５ｇ／ｍ^２・ｄａｙが好ましく、さらには０．０００１〜１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましい。

＜偏光子＞
偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性材料を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などポリエン系配向フィルムなどが挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子を用いた場合に本発明の効果が顕著である。これら偏光子の厚みは特に制限されないが、一般的に８０μｍ程度以下である。偏光子の厚みは、通常、１５〜３５μｍであるのが好ましい。

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

また偏光子としては厚みが１０μｍ以下の薄型の偏光子を用いることができる。薄型化の観点から言えば当該厚みは１〜７μｍであるのが好ましい。このような薄型の偏光子は、厚みムラが少なく、視認性が優れており、また寸法変化が少ないため耐久性に優れ、さらには偏光板としての厚みも薄型化が図れる点が好ましい。

また、偏光子に、直接、無機層を後述のスパッタリング法により形成する場合には偏光子の水分率は低い方が、スパッタ効率の面で好ましい。前記観点から、偏光子の水分率は、好ましくは２０％以下、さらに好ましくは、１５％以下、さらに好ましくは５％以下である。一方、水分率は、０．５％以上が好ましい。水分率が低くなると、乾燥に時間がかかり、生産性が著しく低下するおそれがある。

前記偏光子の水分率は、任意の適切な方法で調整すればよい。例えば、偏光子の製造工程における乾燥工程の条件を調整することにより制御する方法が挙げられる。

偏光子の水分率は、以下の方法により測定される。即ち、偏光子を、１００×１００ｍｍの大きさに切り出して、このサンプルの初期重量を測定した。続いて、このサンプルを１２０℃で２時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分率を測定した。水分率（重量％）＝｛（初期重量−乾燥重量）／初期重量｝×１００。重量の測定はそれぞれ３回ずつ行い、その平均値を用いた。

また水分率と同様に偏光子の単位面積あたりの水分量は低い方が、無機層を形成する際に好ましく、例えば、スパッタ効率の面で好ましい。前記観点から、単位面積あたりの水分量は、好ましくは３ｇ／ｍ^２以下、さらに好ましくは２ｇ／ｍ^２以下、さら好ましくは１ｇ／ｍ^２以下である。一方、単位面積あたりの水分量は、０．０５ｇ／ｍ^２以上が好ましい。水分量が低くなると、乾燥に時間がかかり、生産性が著しく低下するおそれがある。

前記偏光子中の単位面積あたりの水分量は、任意の方法で調整すればよい。例えば、偏光子の水分率を低く制御することや、偏光子の厚みを薄くすること、さらには偏光子の水分率を低くし、さらに偏光子の厚みを薄くすることが挙げられる。

偏光子の単位面積当たりの水分量は、以下の方法により測定される。即ち１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切りだし、このサンプルの初期重量を測定した。続いて、このサンプルを１２０℃で２時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分量を測定した。水分量（ｇ／ｍ^２）＝（初期重量−乾燥重量）×１００。重量の測定はそれぞれ３回ずつ行い、その平均値を用いた。

薄型の偏光子としては、代表的には、特開昭５１−０６９６４４号公報や特開２０００−３３８３２９号公報や、ＷＯ２０１０／１００９１７号パンフレット、ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書、または特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載されている薄型偏光膜を挙げることができる。これら薄型偏光膜は、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、ＰＶＡ系樹脂ともいう）層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法による得ることができる。この製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。

＜透明保護フィルム＞
上記透明保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロースなどのセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または上記ポリマーのブレンド物なども上記透明保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。透明保護フィルム中には任意の適切な添加剤が１種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００重量％、より好ましくは５０〜９９重量％、さらに好ましくは６０〜９８重量％、特に好ましくは７０〜９７重量％である。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量が５０重量％以下の場合、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性などが十分に発現できないおそれがある。

前記透明保護フィルムとしては、透湿度が１５０ｇ／ｍ^２／２４ｈ以下の低透湿度フィルムを用いることができる。特に、第２の透明保護フィルムとして低透湿度フィルムを用いることが好ましい。かかる構成によれば、偏光フィルム中に空気中の水分が入り難く、偏光フィルム自体の水分率変化を抑制することができる。その結果、保存環境により生じる偏光フィルムのカールや寸法変化を抑えることができる。

上記偏光子の片面または両面に設けられる透明保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましく、特に透湿度が１５０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であるものがより好ましく、１４０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下のものが特に好ましく、１２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下のものさらに好ましい。透湿度は、下記方法により求められる。

＜透明保護フィルムの透湿度＞
ＭＯＣＯＮ社製、PERMATRAN-Wを用いて、４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．の雰囲気下において２４時間測定し、透明保護フィルムの透湿度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を測定した。

前記低透湿度を満足する透明保護フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリカーボネート樹脂；アリレート系樹脂；ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有する環状オレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、またはこれらの混合体を用いることができる。前記樹脂のなかでも、ポリカーボネート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂が好ましく、特に、環状ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。

透明保護フィルムの厚みは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性などの作業性、薄層性などの点より１〜１００μｍ程度である。特に１〜８０μｍが好ましく、３〜６０μｍがより好ましい。

なお、偏光子の両面に透明保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料などからなる透明保護フィルムを用いてもよい。

上記第１透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層ないしアンチグレア層などの機能層を設けることができる。なお、上記ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層などの機能層は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途、透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。

なお、偏光子と第１、第２透明保護フィルムとの接着処理には、接着剤が用いられる。接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等を例示できる。前記接着剤は、通常、水溶液からなる接着剤として用いられ、通常、０．５〜６０重量％の固形分を含有してなる。上記の他、偏光子と透明保護フィルムとの接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型偏光フィルム用接着剤は、上記各種の透明保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。また本発明で用いる接着剤には、金属化合物フィラーを含有させることができる。

＜無機層＞
無機層は、水蒸気に対する遮断機能を有する無機材料により形成される。無機層は、例えば、無機酸化物または無機窒化物により形成することができる。本発明の無機層は、後述の透明導電性フィルムにおける透明導電層のように導電性である必要はなく、非導電性のものを用いることができる。非導電層は、一般的に、表面抵抗値が１．０×１０¹³Ω／□以上であるものを用いることができる。表面抵抗値の測定は、実施例の耐腐食性試験の抵抗値の測定による。無機層は、例えば、偏光子または透明保護フィルムの表面に、物理気相成長法又は化学気相成長法により無機酸化物又は無機窒化物を蒸着することで形成することができる。無機酸化物又は無機窒化物としては、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の酸化物又は窒化物が挙げられる。上記無機酸化物及び無機窒化物のうち、水蒸気に対するバリア性及び透明性に優れるケイ素酸化物、ケイ素窒化物及びアルミニウム酸化物が好ましく、これらの群より選択される１種又は２種以上のものが好適に使用される。これらの中でも、水蒸気に対するバリア性、透明性、柔軟性、密着性等が良好なケイ素酸化物が特に好ましい。なお、無機酸化物は例えばＳｉＯ_Ｘ、ＡｌＯ_Ｘ等のようにＭＯ_Ｘ（Ｍは金属元素、Ｘは酸化度を表す）で表記されるが、ガスバリア性及び透明性の観点からケイ素（Ｓｉ）の場合は酸化度Ｘ＝１．３〜１．９の範囲が好ましく、アルミニウム（Ａｌ）の場合は酸化度Ｘ＝０．５〜１．５の範囲が好ましい。

上記物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法；ＰＶＤ法）としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンクラスタービーム法等が挙げられる。具体的には、（ａ）金属酸化物を原料とし、これを加熱し、蒸気化して対象面（偏光子または透明保護フィルムの表面）上に蒸着する真空蒸着法、（ｂ）原料として金属又は金属酸化物を使用し、必要ならば、酸素ガス等を導入して酸化等させて対象面上に蒸着する反応型蒸着法、（ｃ）さらに酸化等の反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の反応型蒸着法等を用いて金属酸化物の蒸着膜を形成することができる。蒸着材料の加熱方式としては、例えば抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビーム加熱方式（ＥＢ）等により行うことができる。上記物理気相成長法の中でも、無機酸化物又は無機窒化物の蒸気化が容易なスパッタリング法が特に好ましい。

上記化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法；ＣＶＤ法）としては、例えばプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等が挙げられる。この化学気相成長法の中でも、比較的低温で無機層の形成が可能なプラズマＣＶＤが特に好ましい。プラズマＣＶＤは、具体的には、有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガスを原料とし、キャリヤーガスとしてアルゴン、ヘリウム等の不活性ガスを使用し、さらに酸素ガス、アンモニアガス等を供給し、低温プラズマ発生装置等を利用して化学反応を起こさせ、対象面（偏光子または透明保護フィルムの表面）上に酸化珪素等の無機酸化物又は窒化物の蒸着薄膜を形成する方法である。この低温プラズマ発生装置としては、例えば高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することができ、高活性の安定したプラズマを得ることができる高周波プラズマ方式による発生装置が特に好ましい。

酸化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガスとしては、例えば１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等を使用することができる。これらの蒸着用モノマーガスの中でも、取扱性、蒸着膜の物性等の良好な１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサンが好ましい。

なお、無機層は、単層構造でもよく、２層以上の多層構造でもよい。このように無機層を多層構造とすることで、蒸着の際に懸かる熱負担の軽減により偏光子または透明保護フィルムの劣化が低減され、さらに粘着剤層と無機層との密着性等を改善することができる。また、上記物理気相成長法及び化学気相成長法における蒸着条件は、偏光子または透明保護フィルムの種類、無機層の厚み等に応じて適宜設計される。

無機層の厚み（平均厚み）は、１ｎｍ〜１０００ｎｍ程度であるのが好ましい。無機層の厚み（平均厚み）の下限値は１ｎｍ程度であり、１５ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上がより好ましい。この厚みを有することで水蒸気に対するバリア性を確保することができるとともに、透明導電層の劣化を抑制することができる。一方、無機層の厚み（平均厚み）の上限値は１０００ｎｍ程度であり、３００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましい。このような厚みにすることで柔軟性や薄型化の点で良好な積層体とすることができる。無機層の厚み（平均厚み）は、１０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、さらには３０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。

＜粘着剤層＞
粘着剤層の形成には、適宜な粘着剤を用いることができ、その種類について特に制限はない。粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。

これら粘着剤のなかでも、光学的透明性に優れ、適宜な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく使用される。このような特徴を示すものとしてアクリル系粘着剤が好ましく使用される。

≪（メタ）アクリル系ポリマー≫
アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルのモノマーユニットを主骨格とする（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとする。なお、（メタ）アクリル酸アルキルエステルはアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルをいい、本発明の（メタ）とは同様の意味である。アクリル系ポリマーの主骨格を構成する、（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数１〜２０のものを例示できる。例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸イソミリスチル、（メタ）アクリル酸ラウリルなどを例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。これらアルキル基の平均炭素数は３〜９であるのが好ましい。

前記（メタ）アクリル系ポリマー中には、接着性や耐熱性の改善を目的に、１種類以上の共重合モノマーを共重合により導入することができる。そのような共重合モノマーの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリルや（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー；（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー；アクリル酸のカプロラクトン付加物；スチレンスルホン酸やアリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどの燐酸基含有モノマーなどが挙げられる。

また、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミドやＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミドなどの（Ｎ−置換）アミド系モノマー；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチルなどの（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミドやＮ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミド、Ｎ−アクリロイルモルホリンなどのスクシンイミド系モノマー；Ｎ−シクロヘキシルマレイミドやＮ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミドやＮ−フェニルマレイミドなどのマレイミド系モノマー；Ｎ−メチルイタコンイミド、Ｎ−エチルイタコンイミド、Ｎ−ブチルイタコンイミド、Ｎ−オクチルイタコンイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルイタコンイミド、Ｎ−シクロヘキシルイタコンイミド、Ｎ−ラウリルイタコンイミドなどのイタコンイミド系モノマー、なども改質目的のモノマー例として挙げられる。

さらに改質モノマーとして、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタムなどのビニル系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレート系モノマー；（メタ）アクリル酸グリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールなどのグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートや２−メトキシエチルアクリレートなどのアクリル酸エステル系モノマーなども使用することができる。

（メタ）アクリル系ポリマーは、全構成モノマーの重量比率において、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、（メタ）アクリル系ポリマー中の前記共重合モノマーの割合は、特に制限されないが、前記共重合モノマーの割合は、全構成モノマーの重量比率において、０〜２０％程度、０．１〜１５％程度、さらには０．１〜１０％程度であるのが好ましい。

これら共重合モノマーの中でも、接着性、耐久性の点から、ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマーが好ましく用いられる。これらモノマーは、架橋剤との反応点になる。ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマーなどは分子間架橋剤との反応性に富むため、得られる粘着剤層の凝集性や耐熱性の向上のために好ましく用いられる。

共重合モノマーとして、ヒドロキシル基含有モノマーおよびカルボキシル基含有モノマーを含有する場合、これら共重合モノマーは、前記共重合モノマーの割合で用いられるが、カルボキシル基含有モノマー０．１〜１０重量％およびヒドロキシル基含有モノマー０．０１〜２重量％を含有することが好ましい。カルボキシル基含有モノマーは、０．２〜８重量％がより好ましく、さらには０．６〜６重量％が好ましい。ヒドロキシル基含有モノマーは、０．０３〜１．５重量％がより好ましく、さらには０．０５〜１重量％が好ましい。

本発明の（メタ）アクリル系ポリマーは、通常、重量平均分子量が５０万〜３００万の範囲のものが用いられる。耐久性、特に耐熱性を考慮すれば、重量平均分子量は７０万〜２７０万であるものを用いることが好ましい。さらには８０万〜２５０万であることが好ましい。重量平均分子量が５０万よりも小さいと、耐熱性の点で好ましくない。また、重量平均分子量が３００万よりも大きくなると、塗工するための粘度に調整するために多量の希釈溶剤が必要となり、コストアップとなることから好ましくない。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定し、ポリスチレン換算により算出された値をいう。

このような（メタ）アクリル系ポリマーの製造は、溶液重合、塊状重合、乳化重合、各種ラジカル重合などの公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる（メタ）アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体などいずれでもよい。

なお、溶液重合においては、重合溶媒として、例えば、酢酸エチル、トルエンなどが用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素などの不活性ガス気流下で、重合開始剤を加え、通常、５０〜７０℃程度で、５〜３０時間程度の反応条件で行われる。

ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤などは特に限定されず適宜選択して使用することができる。なお、（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤、連鎖移動剤の使用量、反応条件により制御可能であり、これらの種類に応じて適宜のその使用量が調整される。

重合開始剤としては、例えば、２，２´−アゾビスイソブチロニトリル、２，２´−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロライド、２，２´−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロライド、２，２´−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二硫酸塩、２，２´−アゾビス（Ｎ，Ｎ´−ジメチレンイソブチルアミジン）、２，２´−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］ハイドレート（和光純薬社製、ＶＡ−０５７）などのアゾ系開始剤、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ−ｎ−オクタノイルパーオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素などの過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせなどの過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー１００重量部に対して、０．００５〜１重量部程度であることが好ましく、０．０２〜０．５重量部程度であることがより好ましい。

なお、重合開始剤として、例えば、２，２´−アゾビスイソブチロニトリルを用いて、前記重量平均分子量の（メタ）アクリル系ポリマーを製造するには、重合開始剤の使用量は、モノマー成分の全量１００重量部に対して、０．０６〜０．２重量部程度とするのが好ましい。

連鎖移動剤としては、例えば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、２−メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸２−エチルヘキシル、２，３−ジメルカプト−１−プロパノールなどが挙げられる。連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー成分の全量１００重量部に対して、０．１重量部程度以下である。

また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウムなどのアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマーなどのノニオン系乳化剤などが挙げられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。

さらに、反応性乳化剤として、プロペニル基、アリルエーテル基などのラジカル重合性官能基が導入された乳化剤として、具体的には、例えば、アクアロンＨＳ−１０、ＨＳ−２０、ＫＨ−１０、ＢＣ−０５、ＢＣ−１０、ＢＣ−２０（以上、いずれも第一工業製薬社製）、アデカリアソープＳＥ１０Ｎ（旭電化工社製）などがある。反応性乳化剤は、重合後にポリマー鎖に取り込まれるため、耐水性がよくなり好ましい。乳化剤の使用量は、モノマー成分の全量１００重量部に対して、０．３〜５重量部、重合安定性や機械的安定性から０．５〜１重量部がより好ましい。

≪架橋剤≫
また前記粘着剤は、架橋剤を含有する粘着剤とするのが好ましい。粘着剤に配合できる多官能化合物としては、有機系架橋剤や多官能性金属キレートが挙げられる。有機系架橋剤としては、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、イミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、などが挙げられる。これら架橋剤は１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。有機系架橋剤としてはイソシアネート系架橋剤が好ましい。多官能性金属キレートは、多価金属が有機化合物と共有結合または配位結合しているものである。多価金属原子としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｙ、Ｃｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｓｎ、Ｔｉなどが挙げられる。共有結合または配位結合する有機化合物中の原子としては酸素原子などが挙げられ、有機化合物としてはアルキルエステル、アルコール化合物、カルボン酸化合物、エーテル化合物、ケトン化合物などが挙げられる。

架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤および／または過酸化物形架橋剤が好ましい。イソシアネート系架橋剤に係る化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、クロルフェニレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添されたジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートモノマー及びこれらイソシアネートモノマーをトリメチロールプロパンなどと付加したイソシアネート化合物やイソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、さらにはポリエーテルポリオールやポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオールなど付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネートなどを挙げることができる。特に好ましくは、ポリイソシアネート化合物であり、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、およびイソホロンジイソシアネートからなる群より選択される1種またはそれに由来するポリイソシアネート化合物である。ここで、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、およびイソホロンジイソシアネートからなる群より選択される1種またはそれに由来するポリイソシアネート化合物には、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ポリオール変性ヘキサメチレンジイソシアネート、ポリオール変性水添キシリレンジイソシアネート、トリマー型水添キシリレンジイソシアネート、およびポリオール変性イソホロンジイソシアネートなどが含まれる。例示したポリイソシアネート化合物は、水酸基との反応が、特にポリマーに含まれる酸、塩基を触媒のようにして、迅速に進む為、特に架橋の早さに寄与し、好ましい。

過酸化物としては、加熱または光照射によりラジカル活性種を発生して粘着剤のベースポリマーの架橋を進行させるものであれば適宜使用可能であるが、作業性や安定性を勘案して、１分間半減期温度が８０℃〜１６０℃である過酸化物を使用することが好ましく、９０℃〜１４０℃である過酸化物を使用することがより好ましい。

用いることができる過酸化物としては、たとえば、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９０．６℃）、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．１℃）、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．４℃）、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート（１分間半減期温度：１０３．５℃）、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート（１分間半減期温度：１０９．１℃）、ｔ−ブチルパーオキシピバレート（１分間半減期温度：１１０．３℃）、ジラウロイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１６．４℃）、ジ−ｎ−オクタノイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１７．４℃）、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート（１分間半減期温度：１２４．３℃）、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキシド（１分間半減期温度：１２８．２℃）、ジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期温度：１３０．０℃）、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート（１分間半減期温度：１３６．１℃）、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン（１分間半減期温度：１４９．２℃）などが挙げられる。なかでも特に架橋反応効率が優れることから、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．１℃）、ジラウロイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１６．４℃）、ジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期温度：１３０．０℃）などが好ましく用いられる。

なお、過酸化物の半減期とは、過酸化物の分解速度を表す指標であり、過酸化物の残存量が半分になるまでの時間をいう。任意の時間で半減期を得るための分解温度や、任意の温度での半減期時間に関しては、メーカーカタログなどに記載されており、たとえば、日本油脂株式会社の「有機過酸化物カタログ第９版（２００３年５月）」などに記載されている。

架橋剤の使用量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部が好ましく、さらには０．０３〜１０重量部が好ましい。なお、架橋剤が０．０１重量部未満では、粘着剤の凝集力が不足する傾向があり、加熱時に発泡が生じるおそれがあり、一方、２０重量部より多いと、耐湿性が十分ではなく、信頼性試験等で剥がれが生じやすくなる。

上記イソシアネート系架橋剤は１種を単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、前記ポリイソシアネート化合物架橋剤を０．０１〜２重量部含有してなることが好ましく、０．０２〜２重量部含有してなることがより好ましく、０．０５〜１．５重量部含有してなることがさらに好ましい。凝集力、耐久性試験での剥離の阻止などを考慮して適宜含有させることが可能である。

前記過酸化物は１種を単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、前記過酸化物０．０１〜２重量部であり、０．０４〜１．５重量部含有してなることが好ましく、０．０５〜１重量部含有してなることがより好ましい。加工性、リワーク性、架橋安定性、剥離性などの調整の為に、この範囲内で適宜選択される。

なお、反応処理後の残存した過酸化物分解量の測定方法としては、たとえば、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定することができる。

より具体的には、たとえば、反応処理後の粘着剤を約０．２ｇずつ取り出し、酢酸エチル１０ｍｌに浸漬し、振とう機で２５℃下、１２０ｒｐｍで３時間振とう抽出した後、室温で３日間静置する。次いで、アセトニトリル１０ｍｌ加えて、２５℃下、１２０ｒｐｍで３０分振とうし、メンブランフィルター（０．４５μｍ）によりろ過して得られた抽出液約１０μｌをＨＰＬＣに注入して分析し、反応処理後の過酸化物量とすることができる。

＜カップリング剤＞
また前記粘着剤は、カップリング剤を含有する粘着剤とするのが好ましい。カップリング剤を含有する粘着剤から形成された粘着剤層は、無機層との密着性を向上させることができる。カップリング剤として、シラン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤およびチタネート系カップリング剤が挙げられ、これらの１種または２種以上を選択して用いることができる。

シラン系カップリング剤としては、従来から知られているものを特に制限なく使用できる。例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有シラン系カップリング剤、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミンなどのアミノ基含有シラン系カップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの（メタ）アクリル基含有シラン系カップリング剤、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネート基含有シラン系カップリング剤を例示できる。

チタン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤としては、チタン原子またはジルコニウム原子に、少なくとも１つの反応性基（例えば、水酸基と反応するアルコキシ基の親水基等）を有する化合物や、前記反応性の親水基等とカルボキシル基、ホスフェート基、パイロホスフェート基、ホスファイト基、スルホニル基、アミノ基等を有する疎水性の有機官能基（疎水基）を有しているものが用いられる。

チタン系カップリング剤としては、例えば、チタンアルコキシド（アルキルチタネート）、チタンキレート（チタンにアルコキシ基等と他の有機官能基とが配位または結合した化合物）等が挙げられる。かかるチタン系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ−ｎ−ドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリロイルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラキス（２−エチルヘキシル）チタネート、テトラステアリルチタネート、テトラメチルチタネート、ジエトキシビス（アセチルアセトナト）チタン、ジイソプロピルビス（アセチルアセトナト）チタン、ジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジ（２−エチルヘキソキシ）ビス（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、テトラアセチルアセトネートチタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート、等が挙げられる。

チタン系カップリング剤の具体例として、例えば、味の素ファインテクノ（株）製のプレンアクトシリーズであるＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂ、ＫＲ−３８Ｓ、ＫＲ−１３８Ｓ、ＫＲ−２３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ４４、ＫＲ９ＳＡ等；マツモトファインケミカル（株）製のオルガチックスシリーズであるＴＡ‐１０、ＴＡ‐２５、ＴＡ‐２２、ＴＡ‐３０、ＴＣ‐１００、ＴＣ‐２００、ＴＣ‐４０１、ＴＣ‐７５０等；日本曹達（株）製のＡ−１、Ｂ−１、ＴＯＴ、ＴＳＴ、ＴＡＡ、ＴＡＴ、ＴＬＡ、ＴＯＧ、ＴＢＳＴＡ、Ａ−１０、ＴＢＴ、Ｂ−２、Ｂ−４、Ｂ−７、Ｂ−１０、ＴＢＳＴＡ−４００、ＴＴＳ、ＴＯＡ−３０、ＴＳＤＭＡ、ＴＴＡＢ、ＴＴＯＰ等、が挙げられる。

ジルコニウム系カップリング剤としては、例えば、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムキレート（チタンにアルコキシ基等と他の有機官能基とが配位または結合した化合物）等が挙げられる。かかるジルコニウム系カップリング剤としては、エチレン性不飽和ジルコネート含有化合物、ネオアルコキシジルコネート含有化合物が挙げられ、例えば、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス（ドデシル）ベンゼンスルホニルジルコネート、ネオアルコキシトリス（ジオクチル）ホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス（ジオクチル）ピロホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス（エチレンジアミノ）エチルジルコネート、ネオアルコキシトリス（ｍ−アミノ）フェニルジルコネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル）ブチル，ジ（ジトリデシル）ホスフィトジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリネオデカノイルジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリ（ドデシル）ベンゼン−スルホニルジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリ（ジオクチル）ホスファトジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリ（ジオクチル）ピロ−ホスファトジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリ（Ｎ−エチレンジアミノ）エチルジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリ（ｍ−アミノ）フェニルジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリメタクリルジルコネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシ，トリアクリルジルコネート、ジネオペンチル（ジアリル）オキシ，ジパラアミノベンゾイルジルコネート、ジネオペンチル（ジアリル）オキシ，ジ（３−メルカプト）プロピオニックジルコネート、ジルコニウム（ＩＶ）２，２−ビス（２−プロペノラトメチル）ブタノラト，シクロジ［２，２−（ビス２−プロペノラトメチル）ブタノラト］ピロホスファト−Ｏ，Ｏ、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス（ドデシル）ベンゼンスルホニルジルコネート、ネオアルコキシトリス（ジオクチル）ホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス（ジオクチル）ピロホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス（エチレンジアミノ）エチルジルコネート、ネオアルコキシトリス（ｍ−アミノ）フェニルジルコネート、また、ジルコニウム系カップリング剤としては、テトラノルマルプロポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシステアレート、ジルコニウムジブトキシビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムジブトキシビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムトリブトキシエチルアセトアセテート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

ジルコニウム系カップリング剤の具体例として、例えば、ケンリッチペトロケミカル社製のケンリアクトシリーズである、からＫＺ５５、ＮＺ０１、ＮＺ０９、ＮＺ１２、ＮＺ３８、ＮＺ４４、ＮＺ９７、ＮＺ３３、ＮＺ３９、ＮＺ３７、ＮＺ６６Ａ、ＫＺＴＰＰ等；マツモトファインケミカル（株）製のオルガチックスシリーズであるＺＡ‐４０、ＺＡ‐６５、ＺＣ‐１５０、ＺＣ‐５４０、ＺＣ‐５７０、ＺＣ‐５８０等が挙げられる。

前記カップリング剤の配合割合は、ベースポリマー（例えば、（メタ）アクリル系ポリマー）１００重量部に対して５重量部以下で配合するのが好ましく、０．００１〜５重量部であることが好ましい。カップリング剤は、０．００１重量部以上を用いることが、無機層との密着性の向上に有効である。一方、５重量部を超えると、粘着特性に影響を及ぼすおそれがある。前記カップリング剤の配合割合は、０．０１〜３重量部が好ましく、さらには０．１〜１重量部が好ましい。

さらには、前記粘着剤には、必要に応じて、粘着付与剤、可塑剤、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末などからなる充填剤、顔料、着色剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを、また本発明の目的を逸脱しない範囲で各種の添加剤を適宜に使用することもできる。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層などとしても良い。

前記粘着剤より、粘着剤層を形成するが、粘着剤層の形成にあたっては、架橋剤全体の添加量を調整することとともに、架橋処理温度や架橋処理時間の影響を十分考慮することが好ましい。

使用する架橋剤によって架橋処理温度や架橋処理時間は、調整が可能である。架橋処理温度は１７０℃以下であることが好ましい。

また、かかる架橋処理は、粘着剤層の乾燥工程時の温度で行ってもよいし、乾燥工程後に別途架橋処理工程を設けて行ってもよい。

また、架橋処理時間に関しては、生産性や作業性を考慮して設定することができるが、通常０．２〜２０分間程度であり、０．５〜１０分間程度であることが好ましい。

粘着剤層を形成する方法としては、例えば、前記粘着剤を剥離処理したセパレータなどに塗布し、重合溶剤などを乾燥除去して粘着剤層を形成した後に偏光フィルムの無機層に転写する方法、または偏光フィルムの無機層に前記粘着剤を塗布し、重合溶剤などを乾燥除去して粘着剤層を偏光フィルムに形成する方法などにより作製される。なお、粘着剤の塗布にあたっては、適宜に、重合溶剤以外の一種以上の溶剤を新たに加えてもよい。

剥離処理したセパレータとしては、シリコーン剥離ライナーが好ましく用いられる。このようなライナー上に粘着剤組成物を塗布、乾燥させて粘着剤層を形成する工程において、粘着剤を乾燥させる方法としては、目的に応じて、適宜、適切な方法が採用され得る。好ましくは、上記塗布膜を加熱乾燥する方法が用いられる。加熱乾燥温度は、好ましくは４０℃〜２００℃であり、さらに好ましくは、５０℃〜１８０℃であり、特に好ましくは７０℃〜１７０℃である。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する粘着剤を得ることができる。

乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、好ましくは５秒〜２０分、さらに好ましくは５秒〜１０分、特に好ましくは、１０秒〜５分である。

また、偏光フィルムの無機層に表面に、アンカー層を形成したり、コロナ処理、プラズマ処理などの各種易接着処理を施した後に粘着剤層を形成することができる。また、粘着剤層の表面には易接着処理をおこなってもよい。

アンカー層は、密着性改良、屈折率調整、導電性付与などを目的として各種のコーティング剤が使用される。目的に応じてフィラーや粒子、導電性ポリマーなどを用い、コーティング剤のバインダー樹脂としては、特に制限はないが、例えば、エポキシ系樹脂、イソシアネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、分子中にアミノ基を含むポリマー類、エステルウレタン系樹脂、オキサゾリン基などを含有する各種アクリル系樹脂などの有機反応性基を有する樹脂（ポリマー）を用いることができる。

粘着剤層の形成方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーターなどによる押出しコート法などの方法が挙げられる。

粘着剤層の厚さは、特に制限されず、例えば、１〜１００μｍ程度である。好ましくは、２〜５０μｍ、より好ましくは２〜４０μｍであり、さらに好ましくは、５〜３５μｍである。

前記粘着剤層が露出する場合には、実用に供されるまで剥離処理したシート（セパレータ）で粘着剤層を保護してもよい。

セパレータの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルムなどのプラスチックフィルム、紙、布、不織布などの多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、およびこれらのラミネート体などの適宜な薄葉体などを挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。

そのプラスチックフィルムとしては、前記粘着剤層を保護し得るフィルムであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフイルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルムなどが挙げられる。

前記セパレータの厚みは、通常５〜２００μｍ、好ましくは５〜１００μｍ程度である。前記セパレータには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉などによる離型および防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型などの帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレータの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理などの剥離処理を適宜おこなうことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。

なお、上記の粘着剤層付偏光フィルムの作製にあたって用いた、剥離処理したシートは、そのまま粘着剤層付偏光フィルムのセパレータとして用いることができ、工程面における簡略化ができる。

＜透明導電性部材＞
透明導電性部材は、透明導電層を有する部材である。透明導電性部材は、特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができるが、透明フィルム等の透明基材上に透明導電層を有するものや、透明導電層と液晶セルを有する部材を挙げることができる。

透明基材としては、透明性を有するものであればよく、例えば、樹脂フィルムや、ガラスなどからなる基材（例えば、シート状やフィルム状、板状の基材など）などが挙げられ、樹脂フィルムが特に好ましい。透明基材の厚さは、特に限定されないが、１０〜２００μｍ程度が好ましく、１５〜１５０μｍ程度がより好ましい。

前記樹脂フィルムの材料としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチック材料が挙げられる。例えば、その材料として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂及びポリエーテルスルホン系樹脂である。

また、前記透明基材には、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、この上に設けられる透明導電層の前記透明基材に対する密着性を向上させるようにしてもよい。また、透明導電層を設ける前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化してもよい。

前記透明導電層の構成材料としては特に限定されず、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、錫、マグネシウム、タングステン等の金属およびこれら金属の合金等が挙げられる。また、前記透明導電層の構成材料としては、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、ジルコニウム、カドミウムの金属酸化物が挙げられ、具体的には酸化インジウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化カドミウムおよびこれらの混合物等からなる金属酸化物が挙げられる。その他、ヨウ化銅等からなる他の金属化合物などが用いられる。前記金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子の酸化物を含んでいてもよい。例えば、酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズなどが好ましく用いられ、ＩＴＯが特に好ましく用いられる。ＩＴＯとしては、酸化インジウム８０〜９９重量％及び酸化スズ１〜２０重量％を含有することが好ましい。透明導電層は、一般的に、表面抵抗値が１．０×１０¹²Ω／□以下であるものを用いることができる。

また、前記ＩＴＯとしては、結晶性のＩＴＯ、非結晶性（アモルファス）のＩＴＯを挙げることができる。結晶性ＩＴＯは、スパッタ時に高温をかけたり、非結晶性ＩＴＯをさらに加熱することにより得ることができる。前記ヨウ素による劣化は、非結晶性ＩＴＯにおいて顕著に発生するため、本発明の粘着剤層付偏光フィルムは、非結晶性のＩＴＯにおいて特に有効である。

前記透明導電層の厚みは特に制限されないが、７ｎｍ以上とするのが好ましく、１０ｎｍ以上とするのがより好ましく、１２〜６０ｎｍとするのがさらに好ましく、１５〜４５ｎｍとするのがさらに好ましく、１８〜４５ｎｍとするのがさらに好ましく、２０〜３０ｎｍとするのが特に好ましい。透明導電層の厚みが、７ｎｍ未満ではヨウ素による透明導電層の劣化が起こりやすく、透明導電層の電気抵抗値の変化が大きくなる傾向がある。一方、６０ｎｍを超える場合は、透明導電層の生産性が低下し、コストも上昇し、さらに、光学特性も低下する傾向がある。

前記透明導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。

前記透明導電層を有する基材の厚みとしては、１５〜２００μｍを挙げることができる。さらに、薄膜化の観点では１５〜１５０μｍであることが好ましく、１５〜５０μｍであることがより好ましい。前記透明導電層を有する基材が抵抗膜方式で使用される場合、例えば１００〜２００μｍの厚みを挙げることができる。また静電容量方式で使用される場合、例えば１５〜１００μｍの厚みが好適であり、特に、近年の更なる薄膜化要求に伴い１５〜５０μｍの厚みがより好ましく、２０〜５０μｍの厚みがさらに好ましい。

また、透明導電層と透明基材との間に、必要に応じて、アンダーコート層、オリゴマー防止層等を設けることができる。

また、透明導電層と液晶セルを有する部材としては、各種の液晶表示装置等の画像表示装置に用いられる、基板（例えば、ガラス基板等）／液晶層／基板の構成を含む液晶セルの当該基板の液晶層と接しない側に透明導電層を有するものを挙げることができる。また、液晶セル上にカラーフィルター基板を設ける場合は、当該カラーフィルター上に透明導電層を有していてもよい。液晶セルの基板上に透明導電層を形成する方法は、前記同様である。

本発明の粘着剤層付偏光フィルムを透明導電膜に貼り合せた際の、透明導電膜の抵抗値変化率は、１５０％未満であることが好ましく、１３０％以下であることがより好ましく、１２０％以下であることがさらに好ましい。抵抗値変化率は、静電気ムラ対策やシールド機能の観点から、１５０％未満であることが好ましく、センサー用途の場合は、１０〜２０％であることが好ましい。透明導電膜の抵抗値変化率については、実施例に記載の方法により測定することができる。

＜画像表示装置＞
本発明の積層体は、入力装置（タッチパネル等）を備えた画像表示装置（液晶表示装置、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、電子ペーパーなど）、入力装置（タッチパネル等）等の機器を構成する基材（部材）又はこれらの機器に用いられる基材（部材）の製造において好適に用いることができるが、特に、タッチパネル用の光学基材の製造において好適に用いることができる。また、抵抗膜方式や静電容量方式といったタッチパネル等の方式に関係なく使用することができる。

本発明の積層体に、裁断、レジスト印刷、エッチング、銀インキ印刷等の処理が施されて、得られた透明導電性フィルムは、光学デバイス用基材（光学部材）として用いることができる。光学デバイス用基材としては、光学的特性を有する基材であれば、特に限定されないが、例えば、画像表示装置（液晶表示装置、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、電子ペーパーなど）、入力装置（タッチパネル等）等の機器を構成する基材（部材）又はこれらの機器に用いられる基材部材）が挙げられる。

また、本発明の積層体は、前述の通り、当該粘着剤層付偏光フィルムの粘着剤層に透明導電層を積層した場合にも、透明導電層の劣化を抑制することができ、透明導電層の表面抵抗上昇を抑制できるものである。従って、粘着剤層付偏光フィルムの粘着剤層が透明導電層と接する構成を有する画像表示装置であれば、本発明の粘着剤層付偏光フィルムを好適に使用することができる。例えば、本発明の粘着剤層付偏光フィルムと透明導電層を有する液晶パネルを、前記粘着剤層付偏光フィルムの粘着剤層と前記液晶パネルの透明導電層とが接触するように貼り合せて、画像表示装置とすることができる。

さらに具体的には、透明導電層を帯電防止層用途として使用する画像表示装置や、透明導電層をタッチパネルの電極用途として使用する画像表示装置を挙げることができる。透明導電層を帯電防止層用途として使用する画像表示装置としては、具体的には、例えば、図５に示すように、偏光フィルム１／粘着剤層２／帯電防止層３／ガラス基板４／液晶層５／駆動電極６／ガラス基板４／粘着剤層２／偏光フィルム１からなる構成であって、前記帯電防止層３、駆動電極６が透明導電層から形成される画像表示装置が挙げられる。当該画像表示装置の上側（視認側）の粘着剤層付偏光フィルム（１、２）として本発明の粘着剤層付偏光フィルムを用いることができる。また、透明導電層をタッチパネルの電極用途として使用する画像表示装置としては、例えば、偏光フィルム１／粘着剤層２／帯電防止層兼センサー層７／ガラス基板４／液晶層５／駆動電極兼センサー層８／ガラス基板４／粘着剤層２／偏光フィルム１の構成（インセル型タッチパネル、図６）や、偏光フィルム１／粘着剤層２／帯電防止層兼センサー層７／センサー層９／ガラス基板４／液晶層５／駆動電極６／ガラス基板４／粘着剤層２／偏光フィルム１の構成（オンセル型タッチパネル、図７）であって、帯電防止層兼センサー層７、センサー層９、駆動電極６が透明導電層から形成される画像表示装置が挙げられる。当該画像表示装置の上側（視認側）の粘着剤層付偏光フィルム（１、２）として本発明の粘着剤層付偏光フィルムを用いることができる。

以下に、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各例中の部および％はいずれも重量基準である。以下に特に規定のない室温放置条件は全て２３℃６５％ＲＨである。

＜（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量の測定＞
（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定した。
・分析装置：東ソー社製、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ
・カラム：東ソー社製、Ｇ７０００Ｈ_ＸＬ＋ＧＭＨ_ＸＬ＋ＧＭＨ_ＸＬ
・カラムサイズ：各７．８ｍｍφ×３０ｃｍ 計９０ｃｍ
・カラム温度：４０℃
・流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ
・注入量：１００μｌ
・溶離液：テトラヒドロフラン
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）
・標準試料：ポリスチレン

＜透明保護フィルム＞
透明保護フィルム１：厚み４０μｍのラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂（透湿度９６ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）にコロナ処理を施して用いた（表２中で、アクリル（40）と表記する）。
透明保護フィルム２：厚み２０μｍのラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂（透湿度４８ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）にコロナ処理を施して用いた（表２中で、アクリル（20）と表記する）。
透明保護フィルム３：厚み４０μｍの環状ポリオレフィンフィルム（日本ゼオン社製：ＺＥＯＮＯＲ，透湿度１１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）にコロナ処理を施して用いた（表２中で、ＣＯＰ(40）と表記する）。

＜薄型偏光子の作成＞
薄型偏光膜を作製するため、まず、非晶性ＰＥＴ基材に９μｍ厚のＰＶＡ層が製膜された積層体を延伸温度１３０℃の空中補助延伸によって延伸積層体を生成し、次に、延伸積層体を染色によって着色積層体を生成し、さらに着色積層体を延伸温度６５度のホウ酸水中延伸によって総延伸倍率が５．９４倍になるように非晶性ＰＥＴ基材と一体に延伸された４μｍ厚のＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成した。このような２段延伸によって非晶性ＰＥＴ基材に製膜されたＰＶＡ層のＰＶＡ分子が高次に配向され、染色によって吸着されたヨウ素がポリヨウ素イオン錯体として一方向に高次に配向された高機能偏光膜を構成する、厚さ５μｍのＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成することができた。当該薄型偏光膜を、表２中で、ＰＶＡ(5)と表記する。表２には併せて、薄型偏光膜の水分量を記載した。

＜薄型偏光フィルム（Ａ１）の作成＞
上記光学フィルム積層体の偏光膜の表面にポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、第１透明保護フィルム（上記透明保護フィルム１：アクリル（40））を貼合せたのち、非晶性ＰＥＴ基材を剥離し、薄型偏光膜を用いた偏光フィルムを作製した。以下、これを薄型偏光フィルム（Ａ１）という。

＜その他の薄型偏光フィルムの作成＞
上記＜薄型偏光フィルムの作成＞において、第１透明保護フィルムとして、表２に示すものを用いたこと以外は、上記＜薄型偏光フィルム（Ａ１）の作成＞と同様にして、薄型偏光フィルム（Ａ２）乃至（Ａ４）を得た。なお、薄型偏光フィルム（Ａ４）は透明保護フィルムを用いていない場合である。

＜偏光子の作成＞
平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％の厚み６０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水中に６０秒間浸漬し膨潤させた。次いで、ヨウ素／ヨウ化カリウム（重量比＝０．５／８）の濃度０．３％の水溶液に浸漬し、３．５倍まで延伸させながらフィルムを染色した。その後、６５℃のホウ酸エステル水溶液中で、トータルの延伸倍率が６倍となるように延伸を行った。延伸後に、４０℃のオーブンにて３分間乾燥を行い、偏光子（厚み２０μｍ）を得た。当該偏光子を、表２中で、ＰＶＡ(20)と表記する。表２には併せて、偏光子の水分量を記載した。

＜偏光フィルム（Ａ５）の作成＞
上記偏光子の片面にポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、第１透明保護フィルム（上記透明保護フィルム１：アクリル（40））を貼合せて、偏光フィルム（Ａ５）を作成した。

＜粘着剤の調製＞
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９９部、アクリル酸４−ヒドロキシブチル１部、及び開始剤として、アゾビスイソブチロニトリルを全モノマー成分１００部に対して３部を酢酸エチルと共に加えて窒素ガス気流下、６０℃で７時間反応させた。その後、その反応液に酢酸エチルを加えて、重量平均分子量１００万のアクリル系ポリマーを含有する溶液を得た（固形分濃度３０％）。前記アクリル系ポリマー溶液の固形分１００部あたり０．１部のトリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネート（三井化学（株）製：タケネートＤ１１０Ｎ）と、ジベンゾイルパーオキサイド０．３部と、０．０７５部のγ−グリシドキシプロピルメトキシシラン（信越化学工業（株）製：ＫＢＭ−４０３）を配合して、アクリル系粘着剤溶液（Ｃ１）を得た。

＜その他の粘着剤の調製＞
上記（粘着剤の作成）において、全モノマー成分の組成、架橋剤の種類もしくは配合量、またはカップリング剤の種類もしくは配合量を、表３に示すように変えたこと以外は、上記（粘着剤の作成）と同様にして、アクリル系粘着剤溶液（Ｃ２）乃至（Ｃ５）を得た。

実施例１
＜無機層の形成＞
上記薄型偏光フィルム（Ａ１）の偏光子（偏光膜）面に、スパッタリング法により酸化ケイ素を蒸着することにより厚み１００ｎｍの無機層（Ｂ１）を形成して、無機層付の偏光フィルムを得た。得られた無機層付の偏光フィルムについて、収束イオンビーム（ＦＩＢ）加工（ＨＩＴＡＣＨＩ社製，製品名「ＨＢ−２１００」を使用）)を行った後、電界放出形透過電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）（ＨＩＴＡＣＨＩ社製製品名「ＨＦ−２０００」）を用いて無機層の観察を行った。観察結果を図８に示す。

＜粘着剤層付き偏光フィルムの作成＞
上記アクリル系粘着剤溶液（Ｃ１）をシリコーン系剥離剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（基材）の表面に、ファウンテンコータで均一に塗工し、１５５℃の空気循環式恒温オーブンで２分間乾燥し、基材の表面に厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、上記で得られた無機バリア層付の偏光フィルムの無機バリア層（Ｂ１）に、当該粘着剤層を形成したセパレータを移着させ、粘着剤層付き偏光フィルムを作成した。

実施例２〜８
実施例１の＜無機層の形成＞において、無機層の形成材料および／または厚みを表１に示すように変えたこと以外は実施例１と同様にして、無機層付の偏光フィルムを得た。また、実施例１と同様にして、粘着剤層付き偏光フィルムを作成した。

実施例９〜１２
実施例１の＜無機層の形成＞において、上記薄型偏光フィルム（Ａ１）の代わりを表１に示すものを用いたこと以外は実施例１と同様にして、無機層付の偏光フィルムを得た。また、実施例１と同様にして、粘着剤層付き偏光フィルムを作成した。

実施例１３〜１６
実施例１の＜粘着剤層付き偏光フィルムの作成＞において、粘着剤層の形成にあたり、アクリル系粘着剤溶液（Ｃ１）の代わりに、表１に示すものを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、粘着剤層付き偏光フィルムを作成した。

比較例１〜３
実施例１において、表１に示すように、薄型偏光フィルム（Ａ１）、（Ａ３）または（Ａ５）に、表１に示す無機層を設けることなく用いたこと以外は、実施例１と同様にして、粘着剤層付き偏光フィルムの作成を作製した。

上記実施例および比較例で得られた、粘着剤層付き偏光フィルム（サンプル）について以下の評価を行った。評価結果を表１に示す。

＜透湿度＞
ＭＯＣＯＮ社製、PERMATRAN-Wを用いて、４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．の雰囲気下において２４時間測定し、粘着剤層付き偏光フィルムの透湿度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を測定した。

＜耐腐食性試験：抵抗値変化率＞
表面にＩＴＯ層が形成された導電性フィルム（商品名：エレクリスタ（Ｐ４００Ｌ）、日東電工（株）製）を１５ｍｍ×１５ｍｍに切断し、この導電性フィルム上の中央部に、実施例、及び比較例で得られたサンプルを８ｍｍ×８ｍｍに切断して貼り合わせた後、５０℃、５ａｔｍで１５分間オートクレーブにかけたものを耐腐食性の測定サンプルとした。得られた測定用サンプルの抵抗値を後述の測定装置を用いて測定し、これを「初期抵抗値」とした。
その後、測定用サンプルを温度６０℃、湿度９０％の環境に、５００時間投入した後に、抵抗値を測定したものを、「湿熱後の抵抗値」とした。なお、上記の抵抗値は、Ａｃｃｅｎｔ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製 ＨＬ５５００ＰＣを用いて測定を行った。上述のように測定した「初期抵抗値」及び「湿熱後の抵抗値」から、次式：抵抗値変化率＝（湿熱後の抵抗値／初期抵抗値）×１００、にて抵抗値変化率（％）を算出し、以下の評価基準により評価した。
（評価基準）
◎：抵抗値変化率が、１５０％未満（湿熱による抵抗値の上昇幅小さい（耐腐食性良好））
○：抵抗値変化率が、１５０％以上３００％未満
△：抵抗値変化率が、３００％以上４００％未満
×：抵抗値変化率が、４００％以上（湿熱による抵抗値の上昇幅大きい（耐腐食性不良））

＜接着力＞
実施例および比較例で得られたサンプルについて、２５ｍｍ幅に切り出しセパレータを剥がしたものをサンプルとした。当該サンプルの粘着剤層にＳｉＯ_２付きフィルム（テトライトＯＥＳ）を貼りあわせ、９０度の角度、引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥がした際の粘着剤層と無機層の引きはがし強度（Ｎ／２５ｍｍ）をオートグラフにより測定した。

＜光学特性：単体透過率、偏光度の測定＞
実施例および比較例に係る、粘着剤層付き偏光フィルムについて、光学特性（単体透過率と偏光度）を、積分球付き分光透過率測定器（村上色彩技術研究所のＤｏｔ−３ｃ）を用いて測定した。光学特性の測定は、サンプルを、６０℃／９０％Ｒ．Ｈ．の雰囲気の加湿オーブンへ投入して１２０時間処理を施す前（初期）と、施した後（光学信頼性）に行った。無機層付偏光フィルムおよび薄型偏光フィルムについては、単体のまま測定を行った。粘着剤層付き偏光フィルムはセパレータを剥がしたのち、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（コーニング社製，ＥＧ−ＸＧ）にラミネーターを用いて貼着し、５０℃、０．５ＭＰａで１５分間オートクレーブ処理して、上記サンプルを完全に無アクリルガラスに密着させたものについて測定を行った。
なお、偏光度は、２枚の同じ偏光フィルムを両者の透過軸が平行となるように重ね合わせた場合の透過率（平行透過率：Ｔｐ）および、両者の透過軸が直交するように重ね合わせた場合の透過率（直交透過率：Ｔｃ）を以下の式に適用することにより求められるものである。偏光度（％）＝｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００
各透過率は、グランテラープリズム偏光子を通して得られた完全偏光を１００％として、ＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により視感度補整したＹ値で示したものである。

本発明の粘着剤層付き偏光フィルムは、単体透過率が３０％以上、偏光度は９０％以上を満足することができ光学特性が良好である。単体透過率さらには３５％以上であるのが好ましく、さらには４２％以上であるのが好ましい。偏光度は、９０％以上であるのが好ましく、さらには９８％以上であるのが好ましく、さらには９９％以上であるのが好ましい。

表１中、無機層の種類は、Ｂ１：酸化ケイ素、Ｂ２、酸化アルミニウム、Ｂ３：窒化ケイ素、を示す。

表３中、アクリル系ポリマーの組成のモノマー組成は、
ＢＡ：アクリル酸ブチル、４ＨＢＡ：アクリル酸４−ヒドロキシブチル、２ＨＥＡ：アクリル酸２−ヒドロキシエチル、ＡＡ：アクリル酸、を示す。
架橋剤の種類は、ｄ１：トリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネート（三井化学社製：タケネートＤ１１０Ｎ）、ｄ２：トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン工業社製のコロネートＬ）を、ｄ３：はベンゾイルパーオキサイド（日本油脂社製，ナイパーＢＭＴ）を、示す。
カップリング剤の種類はｄ４：シラン系カップリング剤（信越化学工業社製：ＫＢＭ−４０３）、ｄ５：ジルコニウム系カップリング剤（ケンリッチペトロケミカル社製のケンリアクトＮＺ３３）、ｄ６：チタン系カップリング剤（味の素ファインテクノ（株）製のプレンアクトＫＲ−ＴＴＳ）、を示す。

１ 偏光フィルム
２ 粘着剤層
３ 透明導電層（帯電防止層）
４ ガラス基板
５ 液晶層
６ 駆動電極
７ 帯電防止層兼センサー層
８ 駆動電極兼センサー層
９ センサー層
１０ 偏光子
１１ 第１透明保護フィルム
１２ 第２透明保護フィルム
２０ 無機層

Claims (13)

1. 偏光フィルムの片面に粘着剤層を有する粘着剤層付き偏光フィルムと、透明導電層を有する透明導電性部材とを、前記粘着剤層付き偏光フィルムの粘着剤層と前記透明導電性部材の透明導電層とが接触するように貼り合せた積層体であって、
   前記偏光フィルムは、偏光子の第１の片面に、無機層を介することなく、第１透明保護フィルムを有し、前記偏光子の第２の片面にのみ無機層を有し、
   前記偏光フィルムは、前記偏光子の第２の片面に、第２透明保護フィルムを介して、前記無機層を有し、かつ、当該偏光フィルムの無機層の側に、前記粘着剤層を有し、
   前記無機層が、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物およびアルミニウム酸化物から選ばれるいずれか少なくとも１つを含むことを特徴とする積層体。
2. 前記偏光子の厚みが、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の積層体。
3. 前記偏光フィルムは、単体透過率が３０％以上、偏光度が９０％以上であることを特徴とする請求項１または２記載の積層体。
4. 前記粘着剤層付き偏光フィルムは、前記無機層に、前記粘着剤層が直接積層されている構成において、前記無機層と前記粘着剤層との接着力が１５Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記粘着剤層は、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤により形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
6. 前記アクリル系粘着剤が、さらに、カップリング剤を含有することを特徴とする請求項５記載の積層体。
7. 前記カップリング剤の割合が、前記（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対して０．００１〜５重量部であることを特徴とする請求項６記載の積層体。
8. 前記アクリル系粘着剤が、さらに、架橋剤を含有することを特徴とする請求項６または７記載の積層体。
9. 前記粘着剤層付き偏光フィルムは、４０℃、９０％ＲＨで測定した透湿度が０．０１ｇ／ｍ^２・日以上５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の積層体。
10. 前記透明導電層が、酸化インジウムスズから形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の積層体。
11. 前記酸化インジウムスズが、非結晶性の酸化インジウムスズであることを特徴とする請求項１０記載の積層体。
12. 前記積層体は、６０℃、９０％ＲＨの環境下に５００時間投入する前（初期）と後（湿熱後）の透明導電導電膜の下記に示す抵抗値の変化率：
    抵抗値変化率＝（湿熱後の抵抗値／初期抵抗値）×１００
    が１３０％以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の積層体。
13. 請求項１〜１２のいずれかに記載の積層体を用いることを特徴とする画像表示装置。

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