JP6964181B2 - 偏光子の製造方法 - Google Patents
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Description
T1/T2≦1.0 ・・・(1)。
1つの実施形態においては、上記工程保護フィルムの高速剥離力は、上記低速剥離力の5倍以下である。
1つの実施形態においては、上記ポリビニルアルコール系樹脂層は、上記工程保護フィルムを上記積層体に仮着する前に延伸されている。
1つの実施形態においては、上記基材は光学機能フィルムである。
A−1.偏光子の製造方法の概略
本発明の実施形態による偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂層と基材とを含む積層体の基材側に工程保護フィルムを剥離可能に仮着すること;および、工程保護フィルムが仮着された積層体(実質的には、PVA系樹脂層)を染色して、PVA系樹脂層を偏光子とすること;を含む。代表的には、当該製造方法は、PVA系樹脂層と基材とを含む積層体を準備する工程、工程保護フィルムの仮着工程、延伸工程、染色工程、膨潤工程、架橋工程、洗浄工程、乾燥工程、および、工程保護フィルムの除去工程(工程保護フィルムから表面保護フィルムへの貼り換え工程)を含む。積層体が供される各工程は、染色工程、架橋工程および乾燥工程が工程保護フィルムの仮着工程の後に行われること以外は、任意の適切な順序およびタイミングで行われ得る。したがって、各工程を上記の順序で行ってもよく、上記とは異なる順序で行ってもよい。必要に応じて、1つの工程を複数回行ってもよい。さらに、上記以外の工程(例えば、不溶化工程)を任意の適切なタイミングで行ってもよい。
T1/T2≦1.0 ・・・(1)。
T1/T2は、好ましくは0.95以下であり、より好ましくは0.90以下である。T1/T2は、例えば0.30以上であり得る。T1/T2がこのような範囲であれば、工程保護フィルムを用いて非常に薄いPVA系樹脂層から偏光子を作製する場合であっても、製造工程中の偏光子(実質的には、積層体)のカールを良好に防止することができる。工程保護フィルムの厚みT2は、上記所望のT1/T2が実現される限りにおいて任意の適切な厚みが採用され得る。工程保護フィルムの厚みT2は、例えば30μm〜100μmであり、好ましくは35μm〜80μmである。
積層体は、上記のとおり、PVA系樹脂層と基材とを含む。
PVA系樹脂層を形成するPVA系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。PVA系樹脂のケン化度は、通常85モル%以上100モル%未満であり、好ましくは95.0モル%〜99.95モル%、さらに好ましくは99.0モル%〜99.93モル%である。ケン化度は、JIS K 6726−1994に準じて求めることができる。このようなケン化度のPVA系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子を得ることができる。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。
積層体に工程保護フィルムが仮着される時点において、基材は、偏光子作製のみに用いられる基材(偏光子作製用基材)であってもよく、光学機能フィルムであってもよい。基材が偏光子作製用基材である場合、当該基材は、代表的には、偏光子作製後に剥離除去される。基材が光学機能フィルムである場合、当該基材は、偏光子作製後も剥離されずにそのまま用いられ得る。さらに、基材が光学機能フィルムである場合、(i)光学機能フィルム上にPVA系樹脂層を形成して積層体を作製し、当該積層体の光学機能フィルム側に工程保護フィルムを仮着してもよく;(ii)PVA系樹脂層と偏光子作製用基材とを含む積層体のPVA系樹脂層側に光学機能フィルムを貼り合わせて偏光子作製用基材/PVA系樹脂層/光学機能フィルムの積層体を作製し、当該積層体から偏光子作製用基材を剥離除去してPVA系樹脂層/光学機能フィルムの積層体を作製し、当該積層体の光学機能フィルム側に工程保護フィルムを仮着してもよい。
延伸工程において、積層体は、代表的には3倍〜7倍に一軸延伸される。延伸方向は、積層体の長手方向(MD方向)であってもよく、積層体の幅方向(TD方向)であってもよい。延伸方法は、乾式延伸であってもよく、湿式延伸であってもよく、これらを組み合せてもよい。また、架橋工程、膨潤工程、染色工程等を行う際に積層体を延伸してもよい。なお、延伸方向は、得られる偏光子の吸収軸方向に対応し得る。
膨潤工程は、通常、染色工程の前に行われる。膨潤工程は、例えば、積層体(実質的には、PVA系樹脂層)を膨潤浴に浸漬することにより行われる。膨潤浴としては、通常、蒸留水、純水等の水が用いられる。膨潤浴は、水以外の任意の適切な他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、アルコール等の溶媒、界面活性剤等の添加剤、ヨウ化物等が挙げられる。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。好ましくは、ヨウ化カリウムが用いられる。膨潤浴の温度は、例えば、20℃〜45℃である。また、浸漬時間は、例えば、10秒〜300秒である。
工程保護フィルムの仮着工程は、上記A−1項に記載のとおり、染色工程の前に行われる。工程保護フィルムの厚みおよび剥離力は、上記A−1項で説明したとおりである。また、工程保護フィルムの厚みは、本体フィルムの厚みである。工程保護フィルム(本体フィルム)の構成材料としては、ヤング率の高い材料が好ましい。いわゆる腰の強いフィルムを実現することができるからである。工程保護フィルムのヤング率は、好ましくは1000MPa以上である。工程保護フィルムの構成材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチエレンナフタレート(PEN)、ポリプロピレン(PP)、シクロオレフィン系樹脂(COP)が挙げられる。また、工程保護フィルムの粘着剤としては、帯電防止剤または界面活性剤のいずれか、あるいはそれらの両方を含まないことが好ましい。このような粘着剤であれば、溶出による染色浴および/または架橋浴の汚染を防止することができ、品質にばらつきのない偏光子を得ることができる。
染色工程は、上記A−1項に記載のとおり、工程保護フィルムの仮着工程の後に行われる。染色工程は、PVA系樹脂層を二色性物質で染色する工程である。好ましくは二色性物質を吸着させることにより行う。当該吸着方法としては、例えば、二色性物質を含む染色液に積層体(実質的には、PVA系樹脂層)を浸漬させる方法、積層体(実質的には、PVA系樹脂層)に当該染色液を塗工する方法、当該染色液を積層体(実質的には、PVA系樹脂層)に噴霧する方法等が挙げられる。好ましくは、染色液に積層体(実質的には、PVA系樹脂層)を浸漬させる方法である。二色性物質が良好に吸着し得るからである。
架橋工程においては、通常、架橋剤としてホウ素化合物が用いられる。ホウ素化合物としては、例えば、ホウ酸、ホウ砂等が挙げられる。好ましくは、ホウ酸である。架橋工程においては、ホウ素化合物は、通常、水溶液の形態で用いられる。
洗浄工程は、代表的には、架橋工程以降に行われ得る。洗浄工程は、代表的には、積層体を洗浄液に浸漬させることにより行われる。洗浄液の代表例としては、純水が挙げられる。純水にヨウ化カリウムを添加してもよい。
乾燥工程は、任意の適切な方法により行うことができる。乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、送風乾燥、減圧乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。加熱乾燥が好ましく用いられる。加熱乾燥を行う場合、加熱温度は、例えば、30℃〜100℃である。また、乾燥時間は、例えば、20秒〜10分間である。なお、乾燥は多段階(例えば、二段階)で行ってもよい。
偏光子作製後、工程保護フィルムは除去(代表的には、剥離)される。代表的には、工程保護フィルムの剥離後、剥離面に表面保護フィルムが貼り合わせられる。すなわち、偏光子作製後、工程保護フィルムは表面保護フィルムに貼り換えられる。積層体の基材が剥離除去される場合には、積層体の基材(および工程保護フィルム)と反対側に光学機能フィルムが貼り合わせされ、次いで、工程保護フィルムおよび基材が積層体から剥離除去され、当該剥離面に表面保護フィルムが貼り合わせられる。
本発明の製造方法により得られる偏光子のヨウ素含有量は、十分な偏光性能と最適な透過率とを付与する観点から、偏光子の厚みに応じて適切に設定され得る。例えば、偏光子の厚みが3μmを超えて5μm以下である場合には、ヨウ素含有量は好ましくは5.0重量%〜13.0重量%であり;偏光子の厚みが3μm以下である場合には、ヨウ素含有量は好ましくは10.0重量%〜25.0重量%である。本明細書において「ヨウ素含有量」とは、偏光子(PVA系樹脂層)中に含まれるすべてのヨウ素の量を意味する。より具体的には、偏光子中においてヨウ素はヨウ素イオン(I−)、ヨウ素分子(I2)、ポリヨウ素イオン(I3 −、I5 −)等の形態で存在するところ、本明細書におけるヨウ素含有量は、これらの形態をすべて包含したヨウ素の量を意味する。ヨウ素含有量は、例えば、蛍光X線分析の検量線法により算出することができる。
本発明の製造方法により得られる偏光子は、代表的には、その片側または両側に保護フィルムが積層された状態で(すなわち、偏光板として)使用される。実用的には、偏光板は、最外層として粘着剤層を有する。粘着剤層は、代表的には画像表示装置側の最外層となる。粘着剤層には、セパレーターが剥離可能に仮着され、実際の使用まで粘着剤層を保護するとともに、ロール形成を可能としている。
JIS Z 0237に準じて測定した。具体的には以下のとおりである:実施例および比較例で用いた工程保護フィルムを長さ120mmおよび幅25mmに切り出して測定試料とした。当該測定試料を、実施例および比較例で得られた基材/偏光子の積層体の基材側に貼り付け、引張試験機(テスター産業社製、製品名「TE−702高速剥離試験機」)を用いて剥離角度180°で引き剥がした際の剥離力を測定した。低速剥離力は、剥離速度が300mm/minの場合の剥離力を測定した。高速剥離力は、剥離速度が30000mm/minの場合の剥離力を測定した。
(2)工程保護フィルムの剥がれ
実施例および比較例の製造方法において、工程保護フィルムの剥がれの有無を目視により確認し、下記の基準で評価した。なお、剥がれの有無は、架橋工程後および乾燥工程後の2つの時点で確認した。
○:剥がれは認められない
×:剥がれが認められる
(3)カール
実施例および比較例の製造方法において、乾燥工程後の(すなわち、乾燥オーブンから出てきた)工程保護フィルム/基材/偏光子の積層体の幅方向(TD)の反り量を測定し、以下の基準で評価した。
○:反り量が50mm未満である
×:反り量が50mm以上である
(4)破断
実施例および比較例の製造方法において、洗浄工程後の搬送速度を20m/min以上に設定した。乾燥工程後に工程保護フィルムを剥離した際の積層体(偏光板)の破断の有無を目視により確認し、以下の基準で評価した。
○:破断は認められない
×:破断が認められる
常法を用いて、アクリル酸2−エチルヘキシル(55重量部)、酢酸ビニル(45重量部)およびアクリル酸(3重量部)を共重合してアクリル系ポリマーを得た。当該アクリル系ポリマーをトルエンで希釈し、20重量%トルエン溶液を調製した。当該トルエン溶液に、アクリル系ポリマー100重量部に対してエポキシ系架橋剤(テトラッドC、三菱瓦斯化学製)を2重量部配合し、粘着剤組成物を得た。得られた粘着剤組成物を、38μmのPETフィルム(三菱化学ポリエステル製,T100)に乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布し、130℃で1分間乾燥して粘着剤層を形成した。このようにして、本体フィルム(PETフィルム)/粘着剤層の構成を有する工程保護フィルムAを作製した。工程保護フィルムAの低速剥離力は0.14(N/25mm)であり、高速剥離力は0.17(N/25mm)であった。
本体フィルム(PETフィルム)として三菱化学ポリエステル製「T100−75」(厚み75μm)を用いたこと以外は製造例1と同様にして工程保護フィルムBを作製した。工程保護フィルムBの低速剥離力は0.12(N/25mm)であり、高速剥離力は0.45(N/25mm)であった。
市販の粘着剤層付PETフィルム(藤森工業(株)製、製品名「AS3−304」、本体フィルムの厚み38μm、粘着剤層の厚み20μm)をそのまま用い、工程保護フィルムCとした。工程保護フィルムCの低速剥離力は0.11(N/25mm)であり、高速剥離力は2.20(N/25mm)であった。
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、2−エチルヘキシルアクリレート200重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート8重量部、重合開始剤として2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.4重量部、溶剤として酢酸エチル312重量部を仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を65℃付近に保って6時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液(40重量%)を調製した。得られたアクリル系ポリマー溶液(40重量%)を酢酸エチルで20重量%に希釈し、この溶液中の固形分100重量部に対して、芳香族環を有する界面活性剤としてポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸アンモニウム(商品名「ハイテノールN−08」、第一工業製薬社製)0.1重量部、架橋剤としてヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(商品名「コロネートHX」、日本ポリウレタン工業社製)5重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ(商品名「OL−1」、東京ファインケミカル社製)0.03重量部を加えた。さらに、架橋遅延剤としてアセチルアセトンを全溶剤量に対して3重量部、および、界面活性剤として2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン4,7−ジオールのポリエーテル化物(商品名「サーフィノール485」、エアープロダクツ社製)1.0重量部を加えた。そして、混合撹拌を行い、アクリル系粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を用いて厚み10μmの粘着剤層を形成したこと以外は製造例1と同様にして工程保護フィルムDを作製した。工程保護フィルムDの低速剥離力は0.09(N/25mm)であり、高速剥離力は1.23(N/25mm)であった。
市販の自己粘着型ポリエチレンフィルム(東レフィルム加工社製、製品名「トレテック#30 7332」、本体フィルムの厚み30μm)をそのまま用い、工程保護フィルムEとした。工程保護フィルムEの低速剥離力は0.08(N/25mm)であり、高速剥離力は0.07(N/25mm)であった。
熱可塑性樹脂基材として、吸水率0.75%、Tg75℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート(IPA共重合PET)フィルム(厚み:100μm)を用いた。基材の片面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(重合度1200、アセトアセチル変性度4.6%、ケン化度99.0モル%以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーZ200」)を9:1の比で含む水溶液を25℃で塗布および乾燥して、厚み11μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、テンター延伸機を用いて、140℃で積層体の長手方向と直交する方向に4.5倍空中延伸した(延伸処理)。当該延伸により、PVA系樹脂層の厚みは2.5μmとなった。
この積層体の基材側に、製造例1の工程保護フィルムAを貼り合わせ、工程保護フィルムA/基材/PVA系樹脂層の構成を有する積層体を作製した。
得られた積層体を液温25℃の染色浴(ヨウ素濃度1.4重量%およびヨウ化カリウム濃度9.8重量%の水溶液)に12秒間浸漬させ、染色した(染色処理)。
次いで、積層体を液温25℃の洗浄浴(純水)に6秒間浸漬させた(第1洗浄処理)。
次いで、液温60℃の架橋浴(ホウ素濃度1重量%およびヨウ化カリウム濃度1重量%の水溶液)に16秒間浸漬させた(架橋処理)。
次いで、積層体を液温25℃の洗浄浴(ヨウ化カリウム濃度1重量%の水溶液)に3秒間浸漬させた(第2洗浄処理)。
次いで、積層体を60℃のオーブンで21秒間乾燥させ(第1乾燥処理)、さらに、50℃のオーブンで60秒間乾燥させた(第2乾燥処理)。
最後に、工程保護フィルムAを剥離除去して、基材/偏光子(厚み2.5μm)の構成を有する積層体を得た。
得られた積層体を上記(2)〜(4)の評価に供した。結果を表1に示す。
実施例1と同様にして基材/PVA系樹脂層(厚み6μm)の構成を有する積層体を作製し、この積層体を実施例1と同様に延伸して基材/PVA系樹脂層(厚み1.2μm)の構成を有する積層体を作製した。この積層体のPVA系樹脂層側に輝度向上フィルム(日東電工社製、製品名「APF−V3」)を貼り合わせ、次いで、基材を剥離除去して、輝度向上フィルム/PVA系樹脂層(厚み1.2μm)の構成を有する積層体を作製した。この積層体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、輝度向上フィルム/偏光子(厚み1.2μm)の構成を有する積層体を作製した。得られた積層体を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
製造例2の工程保護フィルムBを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材/偏光子(厚み2.5μm)の構成を有する積層体を作製した。得られた積層体を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
製造例3の工程保護フィルムCを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材/偏光子(厚み2.5μm)の構成を有する積層体を作製した。得られた積層体を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
製造例4の工程保護フィルムDを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材/偏光子(厚み2.5μm)の構成を有する積層体を作製した。得られた積層体を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
製造例5の工程保護フィルムEを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材/偏光子(厚み2.5μm)の構成を有する積層体を作製した。得られた積層体を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
工程保護フィルムを用いなかったこと以外は実施例1と同様にして、基材/偏光子(厚み2.5μm)の構成を有する積層体を作製した。得られた積層体を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
Claims (4)
- ポリビニルアルコール系樹脂層と基材とを含む積層体の該基材側に工程保護フィルムを剥離可能に仮着すること、および、
該工程保護フィルムが仮着された積層体を染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光子とすること、を含み、
該ポリビニルアルコール系樹脂層の厚みが5μm以下であり、該基材の厚みが40μm以下であり、該積層体の総厚みT1が45μm以下であり、
該工程保護フィルムの低速剥離力が0.12(N/25mm)以上であり、
該積層体の総厚みT1と該工程保護フィルムの厚みT2とが下記式(1)の関係を満たす、偏光子の製造方法:
T1/T2≦1.0 ・・・(1)。 - 前記工程保護フィルムの高速剥離力が、前記低速剥離力の5倍以下である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記ポリビニルアルコール系樹脂層が、前記工程保護フィルムを前記積層体に仮着する前に延伸されている、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記基材が光学機能フィルムである、請求項1から3のいずれかに記載の製造方法。
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