TWI669542B - Method for manufacturing long strip polarizer - Google Patents

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中野勇樹
濟木雄二
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Abstract

提供一種長條狀偏光件之製造方法，該製造方法可實現影像顯示裝置等電子元件之多功能化及高功能化，且得以低成本及高生產性製造無品質參差之最終製品的偏光件。
依據本發明，可提供一種具有非偏光部的長條狀偏光件之製造方法。該製造方法包含：於長條狀偏光件其中一面積層長條狀表面保護薄膜而形成長條狀偏光薄膜積層體，且該長條狀表面保護薄膜具有於長條方向及/或寬度方向上以預定間隔配置的貫通孔；透過表面保護薄膜之貫通孔將偏光件部分脫色而形成非偏光部；及，去除表面保護薄膜。

Description

長條狀偏光件之製造方法 發明領域
本發明係有關於一種長條狀偏光件之製造方法。較詳細來說，本發明係有關於一種具有以預定圖案所配置之非偏光部的長條狀偏光件之製造方法。
發明背景
在行動電話、筆記型個人電腦(PC)等影像顯示裝置有些已搭載有相機等內部電子零件。在提升此種影像顯示裝置之相機性能等目的下，已有各種討論(例如專利文獻1~7)。但，隨著智慧型手機、觸控式資訊處理裝置的快速普及，眾人期待可更進一步提升相機性能等。又，為了因應影像顯示裝置的形狀多樣化及高功能化，則講求一種局部具有偏光性能的偏光板。為了於工業上及商業上實現該等需求，係期許在許可的成本下製造影像顯示裝置及/或其零件，不過要確立其技術，還是留有各種應檢討的事項。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2011-81315號公報
專利文獻2：日本特開2007-241314號公報
專利文獻3：美國專利申請案公開第2004/0212555號說明書
專利文獻4：韓國公開專利第10-2012-0118205號公報
專利文獻5：韓國專利第10-1293210號公報
專利文獻6：日本特開2012-137738號公報
專利文獻7：美國專利申請案公開第2014/0118826號說明書
發明概要
本發明係用以解決上述習知課題所進行者，其主要目的在於提供一種長條狀偏光件之製造方法，該製造方法可實現影像顯示裝置等電子元件之多功能化及高功能化，且得以低成本及高生產性製造無品質參差之最終製品的偏光件。
依據本發明之實施形態可提供一種具有非偏光部之長條狀偏光件的製造方法。該製造方法包含：於長條狀偏光件其中一面積層長條狀表面保護薄膜而形成長條狀偏光薄膜積層體，且該長條狀表面保護薄膜具有於長條方向及/或寬度方向上以預定間隔配置的貫通孔；透過該表面保護薄膜之貫通孔將該偏光件部分脫色而形成非偏光部；及去除該表面保護薄膜。
在一實施形態中，上述貫通孔係於上述長條方向上以 預定間隔配置。
在一實施形態中，上述貫通孔係於至少上述長條方向上以實質上等間隔所配置。
在一實施形態中，上述貫通孔係於上述長條方向及上述寬度方向上以實質上等間隔所配置。
在一實施形態中，上述貫通孔係配置成點狀。
在一實施形態中，上述貫通孔之俯視形狀為略圓形或略矩形。
在一實施形態中，上述脫色係藉由使上述偏光件與鹼性溶液接觸而進行。
在一實施形態中，上述偏光薄膜積層體於上述長條狀偏光件另一面配置有長條狀保護薄膜。
在一實施形態中，上述製造方法更包含：在上述脫色前，於上述長條狀偏光件另一面的最外部積層長條狀第2表面保護薄膜；及於該脫色後去除該第2表面保護薄膜。在一實施形態中，上述脫色係藉由將上述偏光件浸漬於鹼性溶液而進行。
在一實施形態中，上述製造方法係藉由上述脫色而於上述偏光件之上述表面保護薄膜側形成凹部。
在一實施形態中，藉由上述脫色形成之上述非偏光部為雙色性物質含量比其他部位更低的低濃度部。
在一實施形態中，上述雙色性物質之減低係使上述低濃度部之雙色性物質含量成為0.2重量%以下而進行。
在一實施形態中，上述製造方法更包含：於上述脫色 後，在使上述偏光件與上述鹼性溶液接觸之接觸部減低該偏光件所含的鹼金屬及/或鹼土類金屬。
在一實施形態中，上述鹼金屬及/或鹼土類金屬之減低係使上述接觸部之鹼金屬及/或鹼土類金屬的含量成為3.6重量%以下而進行。
在一實施形態中，上述偏光件之厚度為10μm以下。
在一實施形態中，上述保護薄膜之厚度為80μm以下。
依據本發明，可提供一種具有非偏光部之長條狀偏光件的製造方法。在該方法中係藉由將表面保護薄膜以積層於偏光件之狀態下提供於脫色處理而得以利用浸漬進行脫色，該表面保護薄膜具有於長條方向及/或寬度方向上以預定間隔(即，以預定圖案)配置的貫通孔。於是便可做到一邊進行輥搬送的連續處理，因此可以低成本及高生產性製造具有非偏光部之偏光件。此外，可以與貫通孔圖案相對應之圖案製得具有非偏光部的偏光件，因此可在長條狀偏光件整體上精密地控制配置非偏光部。其結果，從該長條狀偏光件裁切出預定尺寸之最終製品的偏光件時，可明顯地抑制每一個最終製品的品質參差。而且，此種非偏光部可選擇性地且輕易地形成於貫通孔之位置，因此無需複雜的裝置或操作。又，依據本發明，可配合業經裁切並搭載於影像顯示裝置之最終製品的偏光件尺寸及影像顯示裝置的相機部位置來設定非偏光部之位置，因此獲得預定尺寸之偏光件時的成品率極佳。以上述方式，依據本發明可 實現影像顯示裝置等電子元件之多功能化及高功能化，且可以低成本及高生產性製造無品質參差之最終製品的偏光件。
10‧‧‧偏光件
11‧‧‧非偏光部
20‧‧‧保護薄膜
30‧‧‧第2表面保護薄膜
40‧‧‧積層體
50‧‧‧第1表面保護薄膜
51‧‧‧露出部
61‧‧‧貫通孔
100‧‧‧偏光薄膜積層體
圖1係說明本發明實施形態的偏光件之製造方法中，偏光件/保護薄膜之積層體與第1表面保護薄膜之貼合的概略圖。
圖2A係說明本發明實施形態使用之第1表面保護薄膜的貫通孔之配置圖案一例的概略平面圖。
圖2B係說明本發明實施形態使用之第1表面保護薄膜的貫通孔之配置圖案另一例的概略平面圖。
圖2C係說明本發明實施形態使用之第1表面保護薄膜的貫通孔之配置圖案又另一例的概略平面圖。
圖3係本發明實施形態使用之偏光薄膜積層體的概略截面圖。
圖4係說明本發明實施形態之偏光件之製造方法中非偏光部之形成的概略圖。
圖5係藉由本發明實施形態製得之偏光件的概略立體圖。
圖6(a)係顯示實施例1之表面平滑性評估結果之圖，(b)係顯示實施例2之表面平滑性評估結果之圖。
用以實施發明之形態
以下將說明本發明之實施形態，惟本發明不受該 等實施形態限定。
本發明之實施形態的製造方法包含：於長條狀偏光件其中一面積層長條狀表面保護薄膜而形成長條狀偏光薄膜積層體，且該長條狀表面保護薄膜具有於長條方向及/或寬度方向上以預定間隔配置的貫通孔；藉由表面保護薄膜之貫通孔將偏光件部分脫色而形成非偏光部；及去除表面保護薄膜。以下將具體說明。在本說明書中，「長條狀」係表示相對於寬度，長度充分夠長的細長形狀，例如包含相對於寬度，長度在10倍以上且理想為20倍以上的細長形狀。而，形成非偏光部前的偏光件嚴密來說係藉由本發明製造方法製得且具有非偏光部的偏光件之中間體，在本說明書中會僅稱為偏光件。只要是熟知此項技藝之人士，詳見本說明書之記載便可輕易理解「偏光件」是表示中間體或表示藉由本發明製造方法製得之具有非偏光部的偏光件。
A.偏光薄膜積層體之製作
A-1.偏光件之製作
就偏光件而言，可採用任意且適宜的偏光件。偏光件代表上係以樹脂薄膜構成。樹脂薄膜代表上係含有雙色性物質之聚乙烯醇系樹脂(以下稱為「PVA系樹脂」)薄膜。構成偏光件之樹脂薄膜(代表性為PVA系樹脂薄膜)可為單一薄膜，亦可為形成於樹脂基材上之樹脂層(代表性為PVA系樹脂層)。PVA系樹脂層可於樹脂基材上塗佈含有PVA系樹脂之塗佈液而形成，亦可於樹脂基材上積層PVA系樹脂薄 膜而形成。以下，作為代表例將針對偏光件為形成於樹脂基材上之PVA系樹脂層的情況具體說明。在此係針對塗佈形成PVA系樹脂層之情況作說明，有關積層PVA系樹脂薄膜之情況則亦同。而，偏光件為單一PVA系樹脂薄膜時，偏光件可藉由熟知此項技藝之產業中周知慣用的方法製得，因此省略詳細說明。
A-1-1.樹脂基材/PVA系樹脂層之積層體的製作
首先，於樹脂基材上塗佈含有PVA系樹脂之塗佈液並進行乾燥而形成PVA系樹脂層，製作出樹脂基材/PVA系樹脂層之積層體。
樹脂基材之形成材料可採用任意且適宜的熱可塑性樹脂。就熱可塑性樹脂而言，例如有聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚物樹脂等。該等中，理想為降莰烯系樹脂、非晶質聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。
在一實施形態中，適宜使用非晶質(未結晶化)的聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。其中，又尤其適宜使用非晶性(難以結晶化)的聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。作為非晶性聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂之具體例，可列舉更含有異苯二甲酸作為二羧酸之共聚物或更含有環己烷二甲醇作為醇之共聚物。
在後述之延伸採用水中延伸方式時，上述樹脂基材會吸收水，該水則可發揮可塑劑的作用進而得以可塑 化。其結果，可大幅降低延伸應力，進行高倍率延伸，進而可讓延伸性比空氣中延伸時更為優異。於是便可製作具有優異光學特性的偏光件。在一實施形態中，樹脂基材理想係其吸水率為0.2%以上，更理想為0.3%以上。另一方面，樹脂基材之吸水率理想為3.0%以下，更理想為1.0%以下。藉由使用此種樹脂基材，製造時可防止尺寸穩定性顯著降低而讓製得之偏光件外觀惡化等失常。又，水中延伸時可防止基材破斷或PVA系樹脂層從樹脂基材剝離。而，樹脂基材之吸水率例如可藉由於形成材料導入改質基來進行調整。吸水率係依照JIS K 7209求得之值。
樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)理想為170℃以下。藉由使用此種樹脂基材，可抑制PVA系樹脂層之結晶化，同時可充分確保積層體之延伸性。此外，若考慮利用水進行樹脂基材的可塑化及良好地進行水中延伸，則以120℃以下較佳。在一實施形態中，樹脂基材之玻璃轉移溫度理想為60℃以上。藉由使用此種樹脂基材，在使上述含有PVA系樹脂之塗佈液塗佈‧乾燥時，可防止樹脂基材變形(例如凹凸或下垂、皺痕等發生)等失常，進而可良好地製作積層體。又，可在適度的溫度(例如60℃左右)下良好地進行PVA系樹脂層之延伸。在另一實施形態中，在使含有PVA系樹脂之塗佈液塗佈‧乾燥時，只要樹脂基材未變形，亦可為低於60℃之玻璃轉移溫度。而，樹脂基材之玻璃轉移溫度例如可藉由於形成材料導入改質基、或使用結晶化材料進行加熱來調整。玻璃轉移溫度(Tg)係依照JIS K 7121求 得之值。
樹脂基材之延伸前厚度理想為20μm~300μm，較理想為50μm~200μm。若小於20μm，便有難以形成PVA系樹脂層之虞。若超過300μm，例如在水中延伸時，樹脂基材吸收水便需要較長的時間，同時有延伸需要龐大的負荷之虞。
形成上述PVA系樹脂膜之PVA系樹脂可使用任意且適宜的樹脂。舉例如聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯皂化而製得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯共聚物皂化而製得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，理想為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更理想為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依照JIS K 6726-1994求算。藉由利用此種皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光件。皂化度過高時，有膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可因應目的適宜選擇。平均聚合度通常為1000~10000，理想為1200~4500，更理想為1500~4300。而，平均聚合度可依照JIS K 6726-1994求算。
上述塗佈液代表上係使上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成的溶液。就溶劑來說，例如有水、二甲亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、乙烯二胺、二乙烯三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合使用。又，該等 中，理想為水。相對於溶劑100重量份，溶液之PVA系樹脂濃度理想為3重量份~20重量份。若為此樹脂濃度，便可形成密著於樹脂基材之均勻的塗佈膜。
亦可於塗佈液摻混添加劑。就添加劑而言，例如有可塑劑、界面活性劑等。可塑劑則例如有乙二醇或丙三醇等多元醇。就界面活性劑而言，例如有非離子界面活性劑。該等可在欲使製得之PVA系樹脂層之均勻性及染色性、延伸性更進一步提升之目的下使用。
塗佈液之塗佈方法可採用任意且適宜的方法。例如有輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮刀塗佈法(缺角輪塗佈法等)等。
上述塗佈液之塗佈‧乾燥溫度理想為50℃以上。
PVA系樹脂層延伸前的厚度理想為3μm~40μm，更理想為3μm~20μm。
形成PVA系樹脂層之前，可對樹脂基材施行表面處理(例如，電暈處理等)，或可於樹脂基材上形成易接著層。藉由進行此種處理，可提升樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
A-1-2.積層體之延伸
積層體之延伸方法可採用任意且適宜的方法。具體而言，可為固定端延伸亦可為自由端延伸(例如，讓積層體通過周速互異之輥件間進行單軸延伸之方法)。理想為自由端延伸。
積層體之延伸方向得以適當設定。在一實施形態 中係沿長條狀積層體之長條方向進行延伸。其結果，製得之偏光件的吸收軸便可會沿長條方向出現。此時，代表上可採用讓積層體通過周速互異之輥件間進行延伸的方法。在另一實施形態中係沿長條狀積層體之寬度方向進行延伸。其結果，製得之偏光件的吸收軸便會沿寬度方向出現。此時，代表上可採用使用拉幅延伸機進行延伸之方法。
延伸方式並無特別限定，可為空氣中延伸方式，亦可為水中延伸方式。理想為水中延伸方式。依據水中延伸方式，可在比上述樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表來說為80℃左右)更低的溫度下進行延伸，可抑制其結晶化並同時使PVA系樹脂層高倍率地延伸。於是便可製作具有優異光學特性的偏光件。
積層體之延伸可以一階段進行亦可以多階段進行。以多階段進行時，例如可將上述自由端延伸與固定端延伸組合，或可將上述水中延伸方式與空氣中延伸方式組合。又，以多階段進行時，後述積層體之延伸倍率(最大延伸倍率)為各階段之延伸倍率之積。
積層體之延伸溫度可因應樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定為任意且適宜之值。採用空氣中延伸方式時，延伸溫度理想為樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，更理想為樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上，尤其理想為Tg+15℃以上。另一方面，積層體之延伸溫度理想為170℃以下。在此溫度下進行延伸，可抑制PVA系樹脂之結晶化快速進展，進而可抑制該結晶化所造成的失常(例 如，阻礙藉由延伸而得的PVA系樹脂層之配向)。
採用水中延伸方式時，延伸浴之液溫理想為40℃~85℃，較理想為50℃~85℃。若為此溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解且同時可高倍率地進行延伸。具體而言，如上述在與PVA系樹脂層形成的關係下樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)理想為60℃以上。此時，延伸溫度一旦低於40℃，即便考慮利用水將樹脂基材可塑化，可能有無法良好延伸之虞。另一方面，延伸浴之溫度愈是高溫，PVA系樹脂層之溶解性就愈高，愈有無法獲得優異的光學特性之虞。積層體於延伸浴之浸漬時間理想為15秒~5分。
採用水中延伸方式時，將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸為佳(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時附加之張力的剛性及不溶於水的耐水性。具體而言，硼酸可在水溶液中生成四氫硼酸陰離子並藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。於是便可對PVA系樹脂層賦予剛性及耐水性，進而可良好地進行延伸，製作具有優異光學特性的偏光件。
上述硼酸水溶液理想上係使硼酸及/或硼酸鹽溶解於溶劑之水而製得。硼酸濃度相對於水100重量份理想為1重量份~10重量份。令硼酸濃度為1重量份以上，可有效地抑制PVA系樹脂層之溶解，進而可製作較高特性的偏光件。而，硼酸或硼酸鹽以外，亦可使用將硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而製得之水溶液。
藉由後述之染色而預先讓PVA系樹脂層吸附有 雙色性物質(代表上為碘)的情況下，理想係將碘化物摻混於上述延伸浴(硼酸水溶液)中。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘溶出。就碘化物而言，例如有碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。該等中又以碘化鉀為佳。相對於水100重量份，碘化物之濃度理想為0.05重量份~15重量份，較理想為0.5重量份~8重量份。
相對於積層體之原長，積層體之延伸倍率(最大延伸倍率)理想為5.0倍以上。此種高延伸倍率例如可藉由採用水中延伸方式(硼酸水中延伸)而達成。而，本說明書中，「最大延伸倍率」係表示積層體破斷瞬前的延伸倍率，乃是另外確認積層體破斷之延伸倍率後，比其值低0.2之值。
在理想的實施形態中係在高溫(例如95℃以上)下將上述積層體進行空氣中延伸後，進行上述硼酸水中延伸及後述之染色。相對於硼酸水中延伸，此種空氣中延伸可定位為預備性或輔助性的延伸，因此以下稱為「空氣中輔助延伸」。
有時藉由組合空氣中輔助延伸，可將積層體延伸成更高倍率。於是便可製作具有較優異之光學特性(例如偏光度)的偏光件。例如，使用聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂作為上述樹脂基材時，比起僅以硼酸水中延伸進行延伸，空氣中輔助延伸與硼酸水中延伸之組合較可抑制樹脂基材之配向又可同時進行延伸。該樹脂基材隨著其配向性提升，延伸張力會增大而難以進行穩定的延伸或破斷。所以，藉 由抑制樹脂基材之配向的同時進行延伸，較可高倍率地延伸積層體。
又，藉由組合空氣中輔助延伸，可使PVA系樹脂之配向性提升，藉此即使是於硼酸水中延伸後，還是得以提升PVA系樹脂之配向性。具體而言，吾等推論係藉由預先以空氣中輔助延伸提升PVA系樹脂之配向性後，在硼酸水中延伸時PVA系樹脂便可輕易地與硼酸進行交聯而在硼酸成為節點之狀態下進行延伸，所以於硼酸水中延伸後亦可成為PVA系樹脂之配向性高者。於是，可製作具有優異光學特性(例如偏光度)的偏光件。
空氣中輔助延伸之延伸倍率理想為3.5倍以下。空氣中輔助延伸之延伸溫度在PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上為佳。延伸溫度理想為95℃~150℃。而，相對於積層體之原長，將空氣中輔助延伸與上述硼酸水中延伸組合時的最大延伸倍率理想為5.0倍以上，較理想為5.5倍以上，更理想為6.0倍以上。
A-1-3.染色
上述染色代表上係藉由使PVA系樹脂層吸附雙色性物質(理想為碘)而進行。該吸附方法例如有使PVA系樹脂層(積層體)浸漬於含碘之染色液的方法、將該染色液塗敷於PVA系樹脂層的方法及對PVA系樹脂層噴霧該染色液的方法等。理想係使積層體浸漬於染色液的方法。因為如此便可良好地吸附碘。
上述染色液理想為碘水溶液。相對於水100重量 份，碘之摻混量理想為0.1重量份~0.5重量份。為了提高碘相對於水之溶解度，宜於碘水溶液摻混碘化物。碘化物之具體例如同上述。相對於水100重量份，碘化物之摻混量理想為0.02重量份~20重量份，較理想為0.1重量份~10重量份。為了抑制PVA系樹脂溶解，染色液之染色時的液溫理想為20℃~50℃。使PVA系樹脂層浸漬於染色液時，為了確保PVA系樹脂層之透射率，浸漬時間理想為5秒~5分。又，染色條件(濃度、液溫、浸漬時間)可以讓最終製得之偏光件的偏光度或單體透射率成為預定範圍內的方式來設定。在一實施形態中係以讓製得之偏光件的偏光度成為99.98%以上的方式來設定浸漬時間。在另一實施形態中，則是以讓製得之偏光件的單體透射率成為40%~44%的方式來設定浸漬時間。
染色處理可在任意且適宜的時機進行。進行上述水中延伸時，理想係在水中延伸之前進行。
A-1-4.其他處理
除延伸、染色以外，上述積層體可適當施行用以將其PVA系樹脂層製成偏光件的處理。用以製成偏光件的處理例如有不溶化處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。而，該等處理之次數、順序等並無特別限定。
上述不溶化處理代表上係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液而進行。藉由施行不溶化處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度理想為1重量份~4重量份。不溶浴(硼酸水溶液)之液 溫理想為20℃~50℃。理想上，不溶化處理係在上述水中延伸或上述染色處理之前進行。
上述交聯處理代表上係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液而進行。藉由施行交聯處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度理想為1重量份~5重量份。又，於上述染色處理後進行交聯處理時，宜進一步摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已由PVA系樹脂層吸附之碘溶出。相對於水100重量份，碘化物之摻混量理想為1重量份~5重量份。碘化物之具體例如同上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫理想為20℃~60℃。理想上，交聯處理宜於上述水中延伸之前進行。在理想的實施形態中係依序進行染色處理、交聯處理及水中延伸。
上述洗淨處理代表上係藉由將PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液進行。上述乾燥處理之乾燥溫度理想為30℃~100℃。
以上述方法便可於樹脂基材上形成偏光件。
A-2.偏光件之特性
偏光件理想上係在波長380nm~780nm中之任一波長下顯示吸收雙色性。偏光件之單體透射率(Ts)理想為39%以上，較理想為39.5%以上，更理想為40%以上，尤其理想為40.5%以上。而，單體透射率的理論上限為50%，實用上限則為46%。又，單體透射率(Ts)係藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並已施行視感度補正的Y值，例如可使用 顯微分光系統(Lambda Vision Inc.製、LVmicro)進行測定。偏光件之偏光度理想為99.9%以上，較理想為99.93%以上，更理想為99.95%以上。
偏光件之厚度可設定為任意且適宜之值。厚度理想為30μm以下，較理想為25μm以下，更理想為20μm以下，尤其理想為小於10μm。另一方面，厚度理想為0.5μm以上，更理想為1μm以上。若為此種厚度，便可獲得具有優異的耐久性及光學特性的偏光件。又，厚度愈薄，愈可藉由後述之脫色處理良好地形成非偏光部。例如，在欲藉由化學處理之脫色形成非偏光部時，可縮短脫色液與樹脂薄膜(偏光件)之接觸時間。具體而言，可以較短的時間形成透射率較高的非偏光部。
已與上述脫色液(例如鹼性溶液)接觸部分的厚度可比其他部位更薄。愈是提高藉由脫色製得之非偏光部之透射率，此傾向就愈是明顯。藉由減薄樹脂薄膜，可達成非偏光部的高透射率(理想為90%以上)，同時可縮小上述非偏光部與其他部位的段差。如此一來，便可防止段差有可能造成的失常。就失常來說，例如有：將長條狀偏光件捲回成捲狀時，非偏光部與其他部位之段差在重疊部分作為捲痕而被轉印；與保護薄膜等其他構成構件貼合時，因為非偏光部與其他部位之段差而產生氣泡；及在最終製品中可目視到段差等。吾等認為，防止這些失常亦有助於抑制藉由裁切本發明之偏光件而製得可在最終使用之偏光件的品質參差。且吾等認為此種效果在製得之偏光件中，例 如在非偏光部之透射率為90%以上之情況及/或雙色性物質含量為0.2重量%以下之情況下會變得較為顯著。而，非偏光部之透射率高達90%以上將有助於抑制最終可使用之偏光件的品質參差。具體而言，藉由脫色液之接觸形成非偏光部時，脫色程度一弱，便容易於製得之非偏光部的透射率產生參差，而藉由讓透射率為90%以上及/或讓雙色性物質之含量在0.2重量%以下(藉由增強脫色程度)，可穩定控制脫色狀態。
偏光件之吸收軸可因應目的設定於任意且適宜的方向。吸收軸之方向例如可為長條方向亦可為寬度方向。於長條方向具有吸收軸之偏光件具有製造效率優異的優點。於寬度方向具有吸收軸之偏光件則例如具有可沿長條方向以所謂的輥對輥與具有慢軸之相位差薄膜進行積層的優點。
A-3.偏光板
偏光件可以任意且適宜的形態提供於後述的偏光薄膜積層體之製作(A-4項)。具體來說，提供於偏光薄膜積層體之製作的偏光件可為單一的PVA系樹脂薄膜，亦可為樹脂基材/PVA系樹脂層之積層體，或可為PVA系樹脂薄膜或PVA系樹脂層之單側或兩側配置有保護薄膜的積層體(即偏光板)。將偏光板提供於偏光薄膜積層體之製作時，在一實施形態中係於單一樹脂薄膜的偏光件之單面或兩面貼合保護薄膜。在另一實施形態中，則係於樹脂基材/偏光件之積層體的偏光件表面貼合保護薄膜，接著剝離樹脂基材，再 因應需求於樹脂基材之剝離面貼合另一個保護薄膜。保護薄膜之貼合代表上可藉由輥對輥進行。如此一來，本發明製造方法亦可為含有具非偏光部之偏光件的長條狀偏光板之製造方法。而，在本說明書中，「輥對輥」係表示搬送捲狀薄膜的同時將彼此的長條方向對齊貼合。
就保護薄膜之形成材料來說，可舉如二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、(甲基)丙烯系樹脂、環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及該等之共聚物樹脂等。而，本說明書中僅稱為保護薄膜時係表示如上述保護薄膜的偏光件保護薄膜，與A-4項中說明之表面保護薄膜(於作業時暫時保護偏光板之薄膜)有所不同。
保護薄膜之厚度代表上為10μm~100μm。保護薄膜代表上係隔著接著層(具體來說為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光件。接著劑層代表上係以PVA系接著劑或活性能量線硬化型接著劑形成。黏著劑層代表上係以丙烯系黏著劑形成。在一實施形態中，保護薄膜之厚度為80μm以下。藉由使用此厚度之保護薄膜，有助於製得之偏光板的薄型化。另一方面，在藉由後述之脫色處理形成的非偏光部上可能會形成凹部，此時，將配置有此厚度之保護薄膜的長條狀偏光板捲回成捲狀時，很容易有上述凹部作為捲痕而被轉印至保護薄膜等之段差所造成的失常發生。在此種實施形態中，就會如後述般可明顯地獲得縮小凹部之段 差的好處。
A-4.偏光薄膜積層體之製作
以下，作為一例將針對使用具有偏光件/保護薄膜之構成的偏光板來製作偏光薄膜積層體之情況加以說明。如圖1所示，於偏光件10/保護薄膜20之積層體40的偏光件10表面積層表面保護薄膜50而形成偏光薄膜積層體100。積層代表上可如圖1所示藉由輥對輥進行。表面保護薄膜50係藉由任意且適宜的黏著劑可剝離地積層於積層體40(實質為偏光件10)。而，不用說，關於具有積層體40之形態以外形態的偏光件(例如，單一樹脂薄膜的偏光件、樹脂基材/偏光件的積層體)亦可適用相同的程序。
表面保護薄膜(以下，方便上有時會稱為第1表面保護薄膜)50具有貫通孔61，該貫通孔61係於長條方向及/或寬度方向上以預定間隔(即，以預定圖案)所配置。藉由使用具有貫通孔之表面保護薄膜，可如後述藉由浸漬於脫色液來進行脫色處理，因此可以非常高的製造效率製得具有非偏光部的偏光件。貫通孔61之配置圖案可因應目的適宜設定。例如，貫通孔61可如圖1所示在長條方向及寬度方向兩者上均以實質上等間隔配置。而，「在長條方向及寬度方向兩者上實質上均為等間隔」係表示長條方向之間隔為等間隔且寬度方向之間隔為等間隔，長條方向之間隔與寬度方向之間隔無需相等。例如，令長條方向之間隔為L1且令寬度方向之間隔為L2時，可以是L1=L2，亦可以是L1≠L2。或者是，貫通孔61可以是於長條方向上以實質上等間 隔配置且於寬度方向上以相異間隔配置；或可是於長條方向上以相異間隔配置且於寬度方向上以實質上等間隔配置(均未圖示)。在長條方向或寬度方向上以相異間隔配置貫通孔時，相鄰之貫通孔的間隔可全部互異，亦可為僅一部分(特定的相鄰貫通孔之間隔)互異。又，亦可於第1表面保護薄膜50之長條方向上規制出多數個區域，並依各區域設置長條方向及/或寬度方向上的貫通孔61之間隔。
圖2A係說明第1表面保護薄膜中貫通孔之配置圖案一例的概略平面圖，圖2B係說明貫通孔之配置圖案另一例的概略平面圖，圖2C係說明貫通孔之配置圖案又另一例的概略平面圖。在一實施形態中，貫通孔61係如圖2A所示被配置成在長條方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於長條方向實質上為平行，並且在寬度方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於寬度方向實質上為平行。本實施形態係與圖1中所示之第1表面保護薄膜的貫通孔配置圖案相對應。在另一實施形態中，貫通孔61係如圖2B所示被配置成在長條方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於長條方向實質上為平行，並且在寬度方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於寬度方向具有預定角度θ W。在又另一實施形態中，貫通孔61係如圖2C所示被配置成在長條方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於長條方向具有預定角度θ L，並且在寬度方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於寬度方向具有預定角度θ W。θ L及/或θ W理想為大於0°且為±10°以下。在此，「±」係表示相對於基準方向(長條方向或寬度方向)為順 時針及逆時針之兩者方向均包含之意。而，不用說，貫通孔之配置圖案不受圖示例限定。例如，貫通孔61亦可被配置成在長條方向上連接相鄰之貫通孔的直線相對於長條方向具有預定角度θ L，並且在寬度方向上連結相鄰之貫通孔的直線相對於寬度方向實質上為平行。又，亦可於第1表面保護薄膜50之長條方向規制出多數個區域，並於各區域設定θ L及/或θ W。
貫通孔61之俯視形狀可因應目的採用任意且適宜的形狀。就具體例而言，可舉如圓形、橢圓形、正方形、矩形、菱形。
貫通孔61例如可藉由機械打孔(例如衝孔、彫刻刃打孔、繪圖器、水刀)或第1表面保護薄膜之預定部分去除(例如雷射剝蝕或化學溶解)而形成。
第1表面保護薄膜以硬度(例如彈性率)高的薄膜為佳。因為可防止搬送及/或貼合時的貫通孔變形。第1表面保護薄膜之形成材料例如有聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及該等之共聚物樹脂等。理想為酯系樹脂(尤其是聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)。若為此種材料，彈性率便充分夠高，具有搬送及/或貼合時即使附加張力也不易產生貫通孔變形的優點。
第1表面保護薄膜之厚度代表上為20μm~250μm，理想為30μm~150μm。若為此種厚度，便具有搬送及/或貼合時即使附加張力也不易產生貫通孔變形的優點。
第1表面保護薄膜之彈性率理想為2.2kN/mm2~4.8kN/mm2。第1表面保護薄膜之彈性率若在此範圍內，便具有搬送及/或貼合時即使附加張力也不易產生貫通孔變形的優點。而，彈性率係依照JIS K 6781進行測定。
第1表面保護薄膜之拉伸伸度理想為90%~170%。第1表面保護薄膜之拉伸伸度若在此範圍內，便具有搬送中不易破斷的優點。而，拉伸伸度係依據JIS K 6781進行測定。
理想係於積層體40之保護薄膜20側之面積層第2表面保護薄膜30。積層代表上係以輥對輥進行。第2表面保護薄膜可藉由任意且適宜的黏著劑可剝離地積層於積層體40(實質為保護薄膜20)。第2表面保護薄膜除了未設置貫通孔以外，可使用與第1表面保護薄膜相同之薄膜。此外，就第2表面保護薄膜亦可使用如聚烯烴(例如聚乙烯)薄膜般柔軟(例如彈性率低)的薄膜。藉由使用第2表面保護薄膜，在後述之脫色處理可更適宜地保護偏光板(偏光件/保護薄膜)，結果便可較良好地進行浸漬之脫色。第2表面保護薄膜可與第1表面保護薄膜同時貼合，亦可在貼合第1表面保護薄膜之前貼合，或可於貼合第1表面保護薄膜以後貼合。理想來說，第2表面保護薄膜30宜如圖1所示於貼合第1表面保護薄膜50之前貼合。若為此程序，便具有下列優點：防止保護薄膜損傷以及防止捲取時形成於第1表面保護薄膜之貫通孔成為痕跡被轉印至保護薄膜。在貼合第1表面保護薄膜之前就先貼合第2表面保護薄膜的情況下，例如可先製 作偏光件保護薄膜與第2表面保護薄膜之積層體，將該積層體貼合於樹脂基材/偏光件之積層體後，將樹脂基材剝離，再將第1表面保護薄膜貼合至該剝離面。
以上述方式便可如圖1所示製得偏光薄膜積層體100。圖3係以上述方式製得之偏光薄膜積層體的概略截面圖。在偏光薄膜積層體100中，藉由第1表面保護薄膜50之貫通孔61規制出偏光件10呈露出的露出部51。
B.具有非偏光部之偏光件的製作(偏光薄膜積層體的脫色處理)
其次，如圖4所示將偏光薄膜積層體(實質為偏光件)提供於脫色處理。藉由偏光件之脫色可形成非偏光部。脫色處理包含使偏光薄膜積層體與鹼性溶液接觸。使用碘作為雙色性物質時，藉由使偏光件的期望部位與鹼性溶液接觸，可輕易地減低接觸部之碘含量。以下將具體說明。而，有時鹼性溶液會稱為脫色液，酸性溶液則稱為處理液。
偏光薄膜積層體與鹼性溶液之接觸可藉由任意且適宜的手段進行。就代表例來說，例如有將偏光薄膜積層體浸漬於鹼性溶液或者是對偏光薄膜積層體塗佈或噴霧鹼性溶液。以浸漬為佳。如圖4所示，因為可以在搬送偏光薄膜積層體的同時進行脫色處理，所以製造效率明顯很高。如同上述，藉由使用第1表面保護薄膜(及因應需求之第2表面保護薄膜)，可作到浸漬。具體而言，藉由浸漬於鹼性溶液，可僅讓偏光件積層體之露出部與鹼性溶液接觸。例如，當偏光件含有碘作為雙色性物質時，藉由使偏 光件的露出部與鹼性溶液接觸，可減低露出部的碘濃度，結果便可選擇性地僅於露出部形成非偏光部。如此一來，依據本實施形態，無須伴隨複雜的操作即可以非常高的製造效率於偏光件的預定部分選擇性地形成非偏光部。而，於偏光件殘留有碘的情況下，即使破壞碘錯合物而形成有非偏光部，還是會隨著偏光件之使用再次形成碘錯合物，而讓非偏光部不具備期望特性之虞。在本實施形態中，藉由後述之鹼性溶液去除，可將碘本身從偏光件(實質為非偏光部)去除。於是，便可防止伴隨使用偏光件而來的非偏光部之特性變化。
針對利用鹼性溶液之非偏光部的形成進一步詳細說明。在與偏光件積層體之偏光件的露出部接觸後，鹼性溶液會滲透到該露出部內部。露出部所含之碘錯合物會藉由鹼性溶液中所含之鹼還原而成為碘離子。藉由讓碘錯合物還原成碘離子，露出部的偏光性能會實質上消失而於露出部形成非偏光部。又，藉由碘錯合物之還原，可提升露出部的透射率。成為碘離子之碘會從露出部移動到鹼性溶液之溶劑中。於是，藉由後述之鹼性溶液去除可連同鹼性溶液一起將碘離子從露出部去除。如此一來，便可於偏光件之預定部分選擇性地形成非偏光部(低濃度部：於C項後述)，而且該非偏光部不會隨時間變化，相當穩定。而，藉由調整第1表面保護薄膜之材料、厚度及機械特性、鹼性溶液之濃度以及偏光薄膜積層體對於鹼性溶液之浸漬時間等，可防止鹼性溶液滲透到非期望的部分(結果於非期望的 部分形成非偏光部)。
上述鹼性溶液中所含之鹼性化合物可使用任意且適宜的鹼性化合物。就鹼性化合物來說，例如有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等鹼金屬之氫氧化物、氫氧化鈣等鹼土類金屬之氫氧化物、碳酸鈉等無機鹼金屬鹽、及醋酸鈉等有機鹼金屬鹽、氨水等。該等中，理想係使用鹼金屬及/或鹼土類金屬之氫氧化物，更理想係使用氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰。該等可以良好的效率使碘錯合物離子化，進而可較簡便地形成非偏光部。該等鹼性化合物可單獨使用，亦可將二種以上組合使用。
上述鹼性溶液之溶劑可使用任意且適宜的溶劑。具體而言，例如有水、乙醇、甲醇等醇、醚、苯、氯仿及該等之混合溶劑。從可讓碘離子良好地移行到溶劑並在後述之鹼性溶液去除中輕易地去除碘離子的觀點來看，溶劑以水、醇為佳。
上述鹼性溶液之濃度例如為0.01N~5N，理想為0.05N~3N，較理想為0.1N~2.5N。鹼性溶液之濃度若在此範圍內，便可有效率地減低偏光件內部的碘濃度，且可防止露出部以外部分的碘錯合物之離子化。
上述鹼性溶液之液溫例如為20℃~50℃。偏光薄膜積層體(實質為偏光件的露出部)與鹼性溶液之接觸時間可因應偏光件之厚度、使用之鹼性溶液所含鹼性化合物的種類及鹼性化合物濃度來設定，例如為5秒鐘~30分鐘。
藉由上述方式進行脫色處理，可與偏光薄膜積層 體之露出部相對應地僅於樹脂薄膜(偏光件)其中一面側形成凹部。凹部之深度例如為0.02μm以上。另一方面，凹部深度理想為2μm以下，更理想為1μm以下。藉由令脫色處理後形成之凹部深度在上述範圍內，可均勻地施行後述處理。又，吾等認為，藉由僅於一方面側形成凹部，可在製得之長條狀偏光件防止源自輥形成之捲痕等段差所造成的失常發生，進而可抑制最終使用之偏光件的品質參差。凹部深度可藉由調整例如偏光件之厚度、鹼性溶液之種類及濃度以及偏光薄膜積層體與鹼性溶液之接觸時間來控制。
偏光件(樹脂薄膜)可含有硼酸。例如，在上述延伸處理、交聯處理等時，可藉由與硼酸溶液(例如硼酸水溶液)接觸而含有硼酸。偏光件(樹脂薄膜)之硼酸含量例如為10重量%~30重量%。又，與鹼性溶液接觸之接觸部的硼酸含量例如為5重量%~12重量%。
理想來說，可在與上述鹼性溶液接觸後，於與鹼性溶液接觸之接觸部中減低樹脂薄膜所含之鹼金屬及/或鹼土類金屬。藉由減低鹼金屬及/或鹼土類金屬，可獲得尺寸穩定性優異的低濃度部。具體來說，例如在加濕環境下亦可讓藉由與鹼性溶液接觸所形成的低濃度部形狀維持不變。
藉由使樹脂薄膜接觸鹼性溶液，可讓鹼金屬及/或鹼土類金屬之氫氧化物殘留於接觸部。又，藉由使樹脂薄膜接觸鹼性溶液，可讓鹼金屬及/或鹼土類金屬之金屬鹽生成於接觸部。該等可生成氫氧化物離子，所生成之氫氧 化物離子便會對分布在接觸部周圍的雙色性物質(例如碘錯合物)起作用(分解‧還原)，進而讓非偏光區域(低濃度區域)擴張。因此，吾等認為藉由減低鹼金屬及/或鹼土類金屬鹽，可抑制非偏光區域隨時間的擴張，進而可維持期望的非偏光部形狀。
可生成上述氫氧化物離子之金屬鹽可舉如硼酸鹽。硼酸鹽係樹脂薄膜中所含之硼酸被鹼性溶液(鹼金屬之氫氧化物及/或鹼土類金屬之氫氧化物之溶液)中和而生成。而，硼酸鹽(偏硼酸鹽)例如可藉由將偏光件放置在加濕環境下，如下述式所示般被水解而生成氫氧化物離子。
(式中，X表示鹼金屬或鹼土類金屬)。
理想來說，係以接觸部之鹼金屬及/或鹼土類金屬含量成為3.6重量%以下的方式來減低該含量，且理想為2.5重量%以下，較理想為1.0重量%以下，更理想為0.5重量%以下。
而，藉由對樹脂薄膜施行用以製成偏光件的各種處理，便可預先含有鹼金屬及/或鹼土類金屬。例如，藉由 接觸碘化鉀等碘化物的溶液便可讓樹脂薄膜含有鉀。如此一來，通常偏光件所含之鹼金屬及/或鹼土類金屬就不會對上述低濃度部之尺寸穩定性造成不良影響。
就上述減低方法而言，理想上可利用使與鹼性溶液接觸之接觸部接觸處理液的方法。依據此種方法，可使鹼金屬及/或鹼土類金屬從樹脂薄膜移行到處理液，便可減低其含量。
處理液之接觸方法可採用任意且適宜的方法。例如有，對與鹼性溶液接觸之接觸部滴下、塗敷、噴霧處理液的方法以及將與鹼性溶液接觸之接觸部浸漬於處理液的方法。
與鹼性溶液接觸時，在樹脂薄膜已受任意且適當之保護材保護時，宜以其原本的狀態與處理液作接觸(尤其是處理液之溫度在50℃以上的情況)。若為此形態，在與鹼性溶液接觸之接觸部以外的部位便可防止源自處理液所造成的偏光特性之降低。
上述處理液得以含有任意且適宜的溶劑。就溶劑來說，例如有水、乙醇、甲醇等醇、醚、苯、氯仿及該等之混合溶劑。該等中，從可讓鹼金屬及/或鹼土類金屬有效率地移行之觀點來看，又宜使用水、醇。水可使用任意且適宜的水。舉例如自來水、純水、脫離子水等。
接觸時的處理液溫度例如為20℃以上，理想為50℃以上，較理想為60℃以上，更理想為70℃以上。若為此溫度，便可讓鹼金屬及/或鹼土類金屬有效率地移行至處理 液中。具體而言，可顯著提升樹脂薄膜之膨潤率，以物理方式去除樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土類金屬。另一方面，水之溫度實質為95℃以下。
接觸時間可因應接觸方法、處理液(水)之溫度、樹脂薄膜之厚度等適當調整。例如，在浸漬於溫水時，接觸時間理想為10秒~30分，較理想為30秒~15分，更理想為60秒~10分。
在一實施形態中，係使用酸性溶液作為上述處理液。藉由使用酸性溶液，可將殘留於樹脂薄膜之鹼金屬及/或鹼土類金屬之氫氧化物中和，以化學方式去除樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土類金屬。
酸性溶液中所含之酸性化合物可使用任意且適宜的酸性化合物。就酸性化合物而言，可舉如鹽酸、硫酸、硝酸、氟化氫、硼酸等無機酸；蟻酸、草酸、檸檬酸、醋酸、苯甲酸等有機酸等。酸性溶液中所含酸性化合物理想為無機酸，更理想為鹽酸、硫酸、硝酸。該等酸性化合物可單獨使用亦可將二種以上組合使用。
理想而言，就酸性化合物適合使用酸性度比硼酸更強的酸性化合物。因為亦可對上述鹼金屬及/或鹼土類金屬之金屬鹽(硼酸鹽)發揮作用。具體來說，可以使硼酸自硼酸鹽遊離，以化學方式去除樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土類金屬。
就上述酸性度之指標來說，例如有酸解離常數(pKa)，適合使用pKa比硼酸之pKa(9.2)更小的酸性化合物。 具體而言，pKa理想為小於9.2，較理想為5以下。pKa可使用任意且適宜的測定裝置進行測定，亦可參照化學便覽基礎編改訂5版(日本化學會編、丸善出版)等文獻中記載之值。又，以進行多階段解離之酸性化合物來看，pKa值會在各階段改變。使用此種酸性化合物時，可使用各階段之pKa值中任一者在上述範圍內之化合物。而，在本說明書中，pKa係指在25℃水溶液中之值。
酸性化合物之pKa與硼酸之pKa之差例如為2.0以上，理想為2.5~15，較理想為2.5~13。若在此範圍內，便可讓鹼金屬及/或鹼土類金屬有效率地移行至處理液中，結果便可實現低濃度部中之期望的鹼金屬及/或鹼土類金屬含量。
可滿足上述pKa之酸性化合物可舉如有鹽酸(pKa：-3.7)、硫酸(pK2：1.96)、硝酸(pKa：-1.8)、氟化氫(pKa：3.17)、硼酸(pKa：9.2)等無機酸；蟻酸(pKa：3.54)、草酸(pK1：1.04、pK2：3.82)、檸檬酸(pK1：3.09、pK2：4.75、pK3：6.41)、醋酸(pKa：4.8)、苯甲酸(pKa：4.0)等有機酸等。
而，酸性溶液(處理液)之溶劑如同上述，在使用酸性溶液作為處理液之本形態中，亦可進行上述樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土類金屬的物理性去除。
上述酸性溶液之濃度例如為0.01N~5N，理想為0.05N~3N，較理想為0.1N~2.5N。
上述酸性溶液之液溫例如為20℃~50℃。對於酸 性溶液的接觸時間可因應樹脂薄膜之厚度或酸性化合物之種類及酸性溶液之濃度設定，例如為5秒鐘~30分鐘。
樹脂薄膜除了上述處理以外，更可施行任意且適宜的其他處理。其他處理可舉如鹼性溶液及/或酸性溶液之去除以及洗淨等。
就鹼性溶液及/或酸性溶液之去除方法的具體例來說，例如有利用破布等之拭取去除、吸引去除、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥及減壓乾燥等。上述乾燥溫度例如為20℃~100℃。乾燥時間例如為5秒~600秒。
洗淨處理可藉由任意且適宜的方法進行。於洗淨處理使用的溶液例如可為純水、甲醇、乙醇等醇、酸性水溶液及該等之混合溶劑等。洗淨代表上可如圖4所示在搬送積層體當下同時進行。洗淨處理可在任意且適宜的階段中進行。洗淨處理亦可進行複數次。而，在圖示例中係於鹼性溶液接觸後依序進行水洗淨、酸性溶液之接觸及水洗淨。
代表上，可如上述於形成非偏光部後剝離去除第1表面保護薄膜及第2表面保護薄膜。
如從上述記載明確可知，藉由本發明之實施形態的製造方法，可將長條狀偏光薄膜積層體朝其長條方向搬送的同時連續進行表面保護薄膜之貼合、該偏光件之脫色處理及表面保護薄膜的剝離。因應需求，偏光薄膜積層體之製作亦可從長條狀偏光件之製作起連續進行。即，利用本發明之實施形態的製造方法可將具有非偏光部之長條狀偏光件進行輥搬送的同時連續進行製造。因此，利用本發 明之實施形態的製造方法可以非常優異的製造效率製作具有非偏光部的長條狀偏光件。
以上述方法可於長條狀偏光件之預定位置上以預定配置圖案形成非偏光部。
C.具有非偏光部之偏光件
圖5係藉由本發明之實施形態的製造方法製得且具有非偏光部之長條狀偏光件的概略立體圖。偏光件10具有非偏光部11，該非偏光部11係於長條方向及/或寬度方向上以預定間隔(即，以預定圖案)所配置。代表上，為了將偏光件安裝於預定尺寸之影像顯示裝置而將之裁切(例如於長條方向及/或寬度方向的切斷、打孔)成預定尺寸時，非偏光部11係配置在與該影像顯示裝置之相機部相對應的位置。非偏光部11之配置圖案與上述第1表面保護薄膜之貫通孔的配置圖案相對應。圖示例之非偏光部的配置圖案與圖1及圖2A中所示之貫通孔的配置圖案相對應。即，非偏光部11在長條方向及寬度方向兩者上均以實質上等間隔所配置。若為此種構成，便可輕易地配合影像顯示裝置之尺寸來控制裁切偏光件之預定尺寸，進而可提升成品率。此外，可控制業經裁切之單片偏光件片中的非偏光部之位置參差。如同上述，非偏光部之配置圖案可藉由設定第1表面保護薄膜之貫通孔的配置圖案而輕易設定。例如，欲從一長條狀偏光件裁切多種尺寸之偏光件片時，可因應需裁切之偏光件的尺寸來變更長條方向及/或寬度方向上的非偏光部11之間隔。又例如，非偏光部之配置圖案可與圖2B所示之貫通 孔配置圖案相對應，亦可與圖2C中所示之貫通孔配置圖案相對應。圖2B及圖2C中所示之配置圖案具有以下優點：依影像顯示裝置，有時會為了提升顯示特性而要求將偏光件之吸收軸配置成相對於該裝置之長邊或短邊偏移最大約10°左右。如後述，偏光件之吸收軸會沿著長條方向或寬度方向出現，因此若為上述構成，此時便可將經裁切之單片的偏光件之吸收軸方向精密地控制為期望的角度，且可顯著抑制每一個偏光件之吸收軸方向的參差。
而，上述偏光片係表示將長條狀偏光件裁切而製得之偏光件。在本說明書中，脈絡上偏光片有時會僅稱為偏光件。
非偏光部11之透射率(例如在23℃下之波長550nm之光所測得之透射率)理想為50%以上，較理想為60%以上，更理想為75%以上，尤其理想為90%以上。若為此種透射率，便可確保作為非偏光部之期望的透明性。其結果，在以使非偏光部與影像顯示裝置之相機部相對應的方式配置偏光件時，可防止對於相機攝影性能的不良影響。
在不會對使用偏光件的影像顯示裝置之相機性能造成不良影響的前提下，非偏光部11之俯視形狀可採用任意且適宜的形狀。非偏光部11之俯視形狀與第1表面保護薄膜之貫通孔形狀相對應。
理想上，非偏光部係作成雙色性物質含量相對上較低的低濃度部。具體來說係作成雙色性物質含量較其他部位更低的低濃度部。依照此種構成，與以機械方式(例如 藉由使用雕刻刃打孔、繪圖器、水刀等以機械方式打洞的方法)形成非偏光部的情況相比，較可避免裂痕、層脫(層間剝離)、糊溢出等品質上的問題。又，因為低濃度部之雙色性物質本身的含量很低，所以與利用雷射光等將雙色性物質分解而形成非偏光部的情況相比，較可良好維持非偏光部之透明性。
上述低濃度部係較上述其他部位雙色性物質含量更低的部分。低濃度部的雙色性物質含量理想為1.0重量%以下，較理想為0.5重量%以下，更理想為0.2重量%以下。低濃度部的雙色性物質含量若在此範圍內，便可對低濃度部充分賦予期望的透明性。例如，在將低濃度部對應到影像顯示裝置之相機部時，從亮度及色調兩觀點來看可實現非常優異的攝影性能。另一方面，低濃度部的雙色性物質含量下限值通常在檢測極限值以下。而，使用碘作為雙色性物質時，碘含量例如可從以螢光X射線分析測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料所作成之檢測線求得。
其他部位之雙色性物質含量與低濃度部之雙色性物質含量的差理想為0.5重量%以上，更理想為1重量%以上。含量之差若在此範圍內，便可形成具有期望的透明性之低濃度部。
上述低濃度部之鹼金屬及/或鹼土類金屬的含量理想為3.6重量%以下，較理想為2.5重量%以下，更理想為1.0重量%以下，尤其理想為0.5重量%以下。低濃度部之鹼金屬及/或鹼土類金屬含量若在此範圍內，便可良好維持藉 由與後述鹼性溶液之接觸所形成的低濃度部之形狀(即，可實現具有優異尺寸穩定性的低濃度部)。該含量例如可從利用螢光X射線分析測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料所作成之檢測線求得。此含量在與後述之鹼性溶液的接觸中，可藉由減低接觸部的鹼金屬及/或鹼土類金屬而實現。
在一實施形態中，非偏光部係製成比其他部位更薄的薄片部。例如，形成偏光件其中一面側之表面呈凹陷的凹部而製成薄片部。此時，非偏光部與其他部位之段差(凹部之深度)例如為0.02μm以上。另一方面，段差理想為2μm以下，更理想為1μm以下。當凹部之形成係源自上述B項中記載之脫色處理(例如，非偏光部之透射率為90%以上之情況及/或雙色性物質之含量為0.2重量%以下之情況)時，段差的上限若在此範圍內，便可良好抑制源自輥形成所致之捲痕等段差所造成的失常。又，即便僅於一面側形成凹部，還是可防止捲痕的發生。其結果，可顯著抑制裁切本發明之偏光件而製得之最終可使用的偏光件之品質參差。而，在本說明書中，「段差(凹部之深度)」係指凹部之最深部分的深度。
在一實施形態中，偏光件之吸收軸與長條方向或寬度方向實質上為平行，且偏光件之兩端部於長條方向平行地施有開縫加工。若為此種構成，則以偏光件之端面為基準進行裁切作業時，便可輕易地製造多數個具有非偏光部且於適宜的方向上具有吸收軸的偏光件。
偏光件實用上可提供作為偏光板。偏光板具有偏光件及配置於偏光件之至少一側的保護薄膜(未圖示)。實用上，偏光板具有黏著劑層作為最外層。黏著劑層代表上為影像顯示裝置側之最外層。於黏著劑層暫黏有一隔件可剝離，可以保護黏著劑層直到實際使用為止，同時可進行捲物形成。
偏光板更可因應目的具有任意且適宜的光學功能層。就光學功能層之代表例來說，可列舉相位差薄膜(光學補償薄膜)、表面處理層。例如，得以於保護薄膜與黏著劑層之間配置相位差薄膜。相位差薄膜之光學特性(例如，折射率橢圓體、面內相位差、厚度方向相位差)可因應目的、影像顯示裝置之特性等適當設定。例如，當影像顯示裝置為IPS模式液晶顯示裝置時，可配置折射率橢圓體為nx>ny>nz之相位差薄膜及折射率橢圓體為nz>nx>ny之相位差薄膜。相位差薄膜亦可兼作保護薄膜。此時，可省略保護薄膜。相反地，保護薄膜亦可具有光學補償功能(即，可因應目的具有適當的折射率橢圓體、面內相位差及厚度方向相位差)。而，「nx」為薄膜面內之折射率最大之方向(即，慢軸方向)的折射率，「ny」為薄膜面內與慢軸正交之方向的折射率，「nz」則為厚度方向之折射率。
表面處理層可配置於偏光板的目視側。就表面處理層之代表例來說，可舉如硬塗層、抗反射層、防眩層。例如在提升偏光件之加濕耐久性之目的下，表面處理層以透濕度低之層為佳。硬塗層係以防止偏光板表面損傷等為 目的而設置。硬塗層例如可以於表面附加由丙烯系、聚矽氧系等適宜的紫外線硬化型樹脂製得之硬度及滑度特性等優異的硬化皮膜之方式等來形成。就硬塗層而言，鉛筆硬度以2H以上為佳。抗反射層係以防止偏光板表面之外光反射為目的而設置之低反射層。就抗反射層來說，可列舉如日本特開2005-248173號公報中所揭示之薄層型，係利用光的干涉作用獲得反射光之取消效果而防止反射；及如日本特開2011-2759號公報中所揭示之表面結構型，係藉由對表面賦予微細結構而出現低反射率。防眩層係以防止外光在偏光板表面反射而阻礙偏光板透射光之目視等為目的所設置。防眩層例如可藉由利用噴砂方式或壓花加工方式之粗面化方式、及透明微粒子之摻混方式等的適當方式對表面賦予微細凹凸結構而形成。防眩層亦可兼作讓偏光板透射光擴散以擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。亦可對目視側的保護薄膜表面施予同樣的表面處理來取代設置表面處理層。
在理想的實施形態中，上述偏光件係以偏光板之狀態提供於上述預定尺寸之裁切。具體而言，偏光板可用來製造多數個偏光板片，該偏光板片係被裁切成預定尺寸並具有具非偏光部之偏光件及配置於該偏光件之至少一側的保護薄膜。
實施例
以下將藉由實施例具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。
[實施例1]
就樹脂基材使用一長條狀且吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)。對基材之一面施行電暈處理，並在25℃下對該電暈處理面塗佈以9：1之比例含有聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200、乙醯乙醯基改質度4.6%、皂化度99.0莫耳%以上、日本合成化學工業公司製、商品名「GohsefimerZ200」)之水溶液，使其乾燥而形成一厚度11μm之PVA系樹脂層來製作積層體。
將製得之積層體在120℃之烘箱內在周速互異之輥件間沿延著縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.0倍(空氣中輔助延伸)。
接著將積層體浸漬於液溫30℃之不溶浴(相對於水100重量份摻混有4重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶化處理)。
接下來，以偏光板成為預定透射率的方式一邊調整碘濃度及浸漬時間，並一邊將其浸漬於液溫30℃之染色浴中。在本實施例中，係浸漬於相對於水100重量份摻混0.2重量份之碘及摻混1.5重量份之碘化鉀而製得的碘水溶液中60秒鐘(染色處理)。
接著浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀及摻混3重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。
然後，將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸及摻混5重量份之碘化鉀而製得的水溶液)，並同時讓其在周速互異之輥件間，以沿著縱向(長邊方向)成為總延伸倍率5.5倍的方式進行單軸延伸(水中延伸)。
之後將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份摻混有4重量份之碘化鉀而製得的水溶液)(洗淨處理)。
接下來，將PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製、商品名「Gohsefimer(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度：3重量%)塗佈於積層體之PVA系樹脂層表面並貼合保護薄膜(厚度25μm)後，以維持在60℃之烘箱將之加熱5分鐘。然後將基材從PVA系樹脂層剝離而獲得寬1200mm且長43m的長條狀偏光板(厚度5μm之偏光件(單體透射率42.3%)/保護薄膜)。
於寬1200mm且長43m之酯系樹脂薄膜(厚度38μm)之一面塗佈厚度5μm的黏著劑(丙烯系黏著劑)。於該附黏著劑之酯系樹脂薄膜上，使用尖刃於長條方向上每隔250mm且於寬度方向上每隔400mm之處形成直徑2.8mm之貫通孔。
於製得之總厚30μm的偏光板之偏光件側以輥對輥貼合上述附黏著劑之酯系樹脂薄膜，並將之浸漬於1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中30秒，接著將之浸漬於1mol/L(1N)之鹽酸中10秒。然後在60℃下進行乾燥而於偏 光件形成透明部。
[實施例2]
將厚度60μm之PVA薄膜(Kuraray公司製、PE6000)浸漬於30℃之水溶液中30秒(膨潤步驟)。
接著，以製得之偏光板成為預定透射率的方式一邊調整碘濃度、浸漬時間，並一邊將PVA薄膜浸漬於液溫30℃之染色浴中。在本實施例中，係浸漬於相對於水100重量份摻混0.15重量份之碘及摻混1.0重量份之碘化鉀而製得的碘水溶液中60秒鐘(染色處理)。
接下來，浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀及摻混3重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。
然後，將PVA薄膜浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸及摻混5重量份之碘化鉀而製得的水溶液)並同時在周速互異之輥件間沿著縱向(長邊方向)單軸延伸成5.5倍(水中延伸)。
之後將PVA薄膜浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而製得的水溶液(洗淨處理)。
洗淨後，於PVA薄膜之一面塗佈PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製、商品名「Gohsefimer(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度：3重量%)並貼合三乙醯基纖維素薄膜(KONICA MINOLTA公司製、商品名「KC4UY」、厚度40μm)，以維持在60℃之烘箱將之加熱5分鐘而製出具有厚度 22μm之偏光件(單體透射率42.5%)且寬1200mm、長43m的偏光板。
於製得之偏光板的偏光件表面以輥對輥貼合形成有上述貫通孔之附黏著劑之酯系樹脂薄膜，將之浸漬於1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中180秒，接著浸漬於1mol/L(1N)之鹽酸中60秒。然後在60℃下進行乾燥而於偏光件形成透明部。
針對各實施例之偏光板的透明部，就以下項目進行評估。
1.透射率(Ts)
使用分光光度計(村上色彩技術研究所(股)製製品名「DOT-3」)進行測定。透射率(T)係藉由JlS Z 8701-1982之2度視野(C光源)進行視感度補正之Y值。
2.碘含量
利用螢光X射線分析求出偏光件之透明部的碘含量。具體而言係從以下述條件測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料作成的檢測線求出偏光件之碘含量。
‧分析裝置：理學電機工業製 螢光X射線分析裝置(XRF)製品名「ZSX100e」
‧對陰極：銠
‧分析晶體：氟化鋰
‧激發光能量：40kV-90mA
‧碘測定線：I-LA
‧定量法：FP法
‧2θ角峰值：103.078deg(碘)
‧測定時間：40秒
實施例1及2中所製得之偏光板的透明部(浸漬於鹽酸前)的透射率分別為90.3%(實施例1)及90.2%(實施例2)，碘含量則分別為0.08重量%(實施例1)及0.12重量%(實施例2)。偏光件之透明部以外的部位之碘含量約5重量%，在兩實施例中均有形成雙色性物質含量比其他部位更低且可作為非偏光部發揮功能的透明部。
3.鈉含量
利用螢光X射線分析求出偏光件之透明部的鈉含量。具體而言係從以下述條件測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料作成的檢測線求出偏光件之鈉含量。鈉含量之測定係在浸漬於鹽酸前及浸漬後進行。
‧分析裝置：理學電機工業製 螢光X射線分析裝置(XRF)製品名「ZSX100e」
‧對陰極：銠
‧分析晶體：氟化鋰
‧激發光能量：40kV-90mA
‧鈉測定線：Na-KA
‧定量法：FP法
‧測定時間：40秒
在實施例1之偏光板中，透明部之鈉含量在浸漬於鹽酸前為4.0重量%，浸漬後為0.04重量%。又，在實施例2之偏光板中，透明部之鈉含量在浸漬於鹽酸前為4.1重量 %，浸漬後則為0.05重量%。
又，將各實施例中所製得之偏光板在65℃/90%RH之環境下放置500小時後，在兩實施例中於加濕試驗前後均未見透明部尺寸的大幅變化。針對除了未進行鹽酸之浸漬以外以與實施例1及2同樣的方式製作而成的偏光板進行同樣的加濕試驗結果，透明部之尺寸在兩者偏光板中均變大約1.3倍。
此外，使用Canon公司製光學計測器「ZYGO New View 7300」測定透明部附近的表面平滑性。將實施例1及2之透明部附近的表面平滑性(凹凸大小)之評估結果顯示於圖6(a)、(b)。在偏光件厚度為5μm之實施例1中，透明部(凹部)與其他部位之段差小至0.8μm以下，表面較為平滑。
產業上之可利用性
藉由本發明製造方法製得的偏光件適合使用於智慧型手機等行動電話、筆記型PC、數位板PC等附相機之影像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL元件)。

Claims (14)

  1. 一種長條狀偏光件之製造方法，該長條狀偏光件具有非偏光部，且該長條狀偏光件之製造方法包含：於長條狀偏光件其中一面積層長條狀表面保護薄膜而形成長條狀偏光薄膜積層體，且該長條狀表面保護薄膜具有於長條方向及寬度方向上以實質上等間隔配置之貫通孔；透過該表面保護薄膜之貫通孔將該偏光件進行部分脫色而形成非偏光部；及去除該表面保護薄膜。
  2. 如請求項1之製造方法，其中前述貫通孔係配置成點狀。
  3. 如請求項1之製造方法，其中前述貫通孔之俯視形狀為略圓形或略矩形。
  4. 如請求項1之製造方法，其中前述脫色係藉由使前述偏光件與鹼性溶液接觸而進行。
  5. 如請求項1之製造方法，其中前述長條狀偏光件另一面配置有長條狀保護薄膜。
  6. 如請求項1之製造方法，其更包含：在前述脫色前於前述長條狀偏光件另一面的最外部積層長條狀第2表面保護薄膜；及於該脫色後去除該第2表面保護薄膜。
  7. 如請求項4之製造方法，其中前述脫色係藉由將前述偏光件浸漬於鹼性溶液而進行。
  8. 如請求項1至7中任一項之製造方法，其係藉由前述脫色而於前述偏光件之前述表面保護薄膜側形成凹部。
  9. 如請求項1至7中任一項之製造方法，其中藉由前述脫色形成之前述非偏光部為雙色性物質含量比其他部位更低的低濃度部。
  10. 如請求項9之製造方法，其中前述雙色性物質之減低係使前述低濃度部之雙色性物質含量成為0.2重量%以下而進行。
  11. 如請求項4至7中任一項之製造方法，其更包含：於前述脫色後，在使前述偏光件與前述鹼性溶液接觸之接觸部減低該偏光件所含的鹼金屬及/或鹼土類金屬。
  12. 如請求項11之製造方法，其中前述鹼金屬及/或鹼土類金屬之減低係使前述接觸部之鹼金屬及/或鹼土類金屬的含量成為3.6重量%以下而進行。
  13. 如請求項1至7中任一項之製造方法，其中前述偏光件之厚度為10μm以下。
  14. 如請求項5至7中任一項之製造方法，其中前述保護薄膜之厚度為80μm以下。
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