JP6560133B2 - 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法 - Google Patents

積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6560133B2
JP6560133B2 JP2016011550A JP2016011550A JP6560133B2 JP 6560133 B2 JP6560133 B2 JP 6560133B2 JP 2016011550 A JP2016011550 A JP 2016011550A JP 2016011550 A JP2016011550 A JP 2016011550A JP 6560133 B2 JP6560133 B2 JP 6560133B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
transparent conductive
optical unit
retardation
polycycloolefin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016011550A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016224401A (ja
JP2016224401A5 (ja
Inventor
武田　健太郎
健太郎 武田
直樹 津野
直樹 津野
豪彦 安藤
豪彦 安藤
明憲 西村
明憲 西村
貴巳 疋田
貴巳 疋田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to CN201680030382.XA priority Critical patent/CN107615118B/zh
Priority to KR1020177033087A priority patent/KR102684825B1/ko
Priority to PCT/JP2016/062026 priority patent/WO2016194488A1/ja
Priority to US15/575,600 priority patent/US20180155511A1/en
Priority to TW105115174A priority patent/TWI721983B/zh
Publication of JP2016224401A publication Critical patent/JP2016224401A/ja
Publication of JP2016224401A5 publication Critical patent/JP2016224401A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6560133B2 publication Critical patent/JP6560133B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/81—Anodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/868—Arrangements for polarized light emission
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8793—Arrangements for polarized light emission
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/50—Forming devices by joining two substrates together, e.g. lamination techniques
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルム及びその製造方法、そのような透明導電性フィルムを含む積層体のロール、そのような透明導電性フィルムを含む光学ユニット及びその製造方法、そのような光学ユニットを含む有機ＥＬ表示装置に関する。
ポリシクロオレフィンフィルムを基材とした透明導電性フィルムが従来知られている（特許文献１）。ポリシクロオレフィンフィルムは光学的に等方性を有するため、偏光膜や位相差膜といった光の位相を制御する膜と組み合わせて使用するのに好適である。
一方、透明導電性フィルムを用いたタッチセンサ一体型の有機ＥＬ表示装置が、例えば特許文献２に示されるように公知である。この公知の有機ＥＬ表示装置においては、図１に示されるように、有機ＥＬ表示パネル９０１の視認側に、タッチパネル積層体９１６が設けられ、タッチパネル積層体９１６の視認側に円偏光機能を有する偏光機能積層体９２０が設けられている。偏光機能積層体９２０は、偏光膜９２１と位相差膜９２３とを含み、位相差膜９２３の視認側に偏光膜９２１が設けられている。また、タッチパネル積層体９１６は、誘電体層９１５と誘電体層９１５の両面に設けられたパターン電極９１２−１、９１２−２とを積層した構造を有する。また、偏光機能積層体９２０に対して視認側にウインドウ９０２が配置されている。
この有機ＥＬ表示装置において、位相差膜９２３の典型的な例は１／４波長位相差膜であるが、その場合、視認側から入射した光が偏光膜９２１により直線偏光となり、その直線偏光が１／４波長位相差膜により円偏光とされ、内部に入射した光が内部反射して円偏光が逆位相となり、逆位相となった円偏光が１／４波長位相差膜により入射直線偏光の偏光方向とは直交する直線偏光に変換され、偏光膜９２１により視認側に射出されることが防止される。そこで、誘電体層９１５として、光学的に等方性を有する誘電体層を用いることによって、光が誘電体層９１５を通過する際の光の位相の変化を防止し、内部反射防止機能が悪化したり、色相ずれが生じたりすることを防止することが考えられる。したがって、誘電体層９１５として、例えばポリシクロオレフィンフィルム等の光学的に等方性を有するものを使用することが考えられる。
特開２０１４−２２９２７９号公報 特開２０１２−１３３３１２号公報
しかしながら、ポリシクロオレフィンフィルムは完全に光学的に等方性を有するわけではなく、わずかではあるが光学的に異方性を有する。このポリシクロオレフィンフィルムフィルムの異方性はわずかであり、これまでは問題と認識されていなかった。しかしながら、近時の表示装置の視認性についての厳しい要求に対して、このわずかな異方性による視認性の悪化が問題となる。
本発明者らは、ポリシクロオレフィンフィルム原反の幅方向において中央部では遅相軸の方向はＭＤ方向と平行であるが、幅方向において中央部から端部に向かうにつれて、ＭＤ方向に対する遅相軸の方向のずれが大きくなり、面内位相差も大きくなるというこれまで認知されていなかった現象を発見した。すなわち、ポリシクロオレフィンフィルム原反から、幅方向において、いくつかのフィルムを切り出す場合、切り出されたそれぞれのフィルムの光学特性にばらつきが発生するという問題が生じ、また大きな１つのフィルムを切り出す場合においても、切り出されたフィルムの端部において光学特性が悪化する。また、例えば、上述のような公知のタッチセンサ一体型の有機ＥＬ表示装置において、色相ずれ等の視認性の悪化が生じたりする。このようなこれまで認知されていなかった問題を本発明者らは発見した。
そこで、本発明は、透明導電性フィルムの遅相軸の方向や面内位相差のばらつきを抑制すること、有機ＥＬ表示装置において、色相ずれ等の光学特性の悪化を抑制することを目的の１つとする。
本発明の１つの態様は、積層体の長尺体がロール状に巻かれた積層体のロールであって、前記積層体は、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルムを含み、前記積層体の長尺体の全幅に対する５％の幅の両側の各端部を除く全体にわたって、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向が、前記積層体の長尺体の長手方向に対して±２°の範囲内にあるロールを提供するものである。
本発明の別の態様は、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルムと、位相差フィルムと、を含み、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の角度のばらつきは４°の角度範囲内にあり、２３℃において波長５５０ｎｍの光で測定した前記ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差は、３〜８ｎｍの範囲内であり、そのばらつきが１.５ｎｍの範囲内であり、前記位相差フィルムの面内位相差は、前記ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差を相殺して、前記位相差フィルムと前記透明導電性フィルムの全体の面内位相差が所望の値となるようにされている光学ユニットを提供するものである。
本態様の１つの実施形態においては、前記位相差フィルムは１／４波長位相差膜を含み、前記所望の値を約１／４波長とすることができる。
本態様の１つの実施形態においては、前記位相差フィルムは、前記透明導電性フィルム側から順に視野角補償用位相差膜と１／４波長位相差膜を含み、前記所望の値を約１／４波長とすることができる。
これらの場合において、前記１／４波長位相差膜の遅相軸の方向を、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向に対して０°±３°の範囲内とすることができる。
これらの場合において、前記１／４波長位相差膜の遅相軸の方向を、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向に対して９０°±３°の範囲内とすることができる。
本態様の１つの実施形態においては、前記透明導電層はインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）により形成されているものとすることができる。
本態様の１つの実施形態においては、前記光学ユニットは更に偏光機能積層体を含み、前記偏光機能積層体は、偏光膜と前記位相差フィルムを含み、前記位相差フィルムは、前記透明導電性フィルムの前記透明導電層側に配置され、前記偏光膜は前記位相差フィルムに対して前記透明導電性フィルムとは反対側に配置されているものとすることができる。
この場合において、前記偏光機能積層体は、円偏光を生成する機能を有するものとすることができる。
本発明の別の態様は、上記の光学ユニットと、有機ＥＬ表示パネルと、を含み、前記光学ユニットが、前記有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に配置され、前記光学ユニットが、前記透明導電性フィルムが前記偏光膜と前記有機ＥＬ表示パネルとの間に位置するように配置されている有機ＥＬ表示装置を提供するものである。
本発明の更に別の態様は、ポリシクロオレフィンフィルムの長尺体がロール状に巻かれたポリシクロオレフィンフィルムのロールから、前記ポリシクロオレフィンフィルムを繰り出すステップと、繰り出された前記ポリシクロオレフィンフィルムを、巻き取りロールで巻き取りながら、加熱温度１４０〜１６０℃で加熱巻き上げ処理するステップと、加熱巻き上げ処理された前記ポリシクロオレフィンフィルム上に透明導電層を成膜し、透明導電性フィルムを生成するステップと、を含む透明導電性フィルムの製造方法を提供するものである。
本態様の１つの実施形態においては、前記加熱温度は、１４５〜１５５℃とすることができる。
この場合において、前記加熱温度は、１４８〜１５３℃とすることができる。
本発明の更に別の態様は、上記光学ユニットを製造する方法であって、前記偏光機能積層体と、上記製造方法により製造された透明導電性フィルムを貼り合わせ、前記光学ユニットを生成する光学ユニットの製造方法を提供するものである。
本発明によれば、透明導電性フィルムの遅相軸の方向や面内位相差のばらつきを抑制すること、有機ＥＬ表示装置において、色相ずれ等の光学特性の悪化を抑制することができる。
以下、本発明による、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルム及びその製造方法、そのような透明導電性フィルムを含む積層体のロール、そのような透明導電性フィルムを含む光学ユニット及びその製造方法、そのような光学ユニットを含む有機ＥＬ表示装置の実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
従来の有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。 本発明の一実施形態による透明導電性フィルムの断面図である。 図２における第２硬化樹脂層の構成を示す部分拡大図である。 本発明の一実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。 ポリシクロオレフィンフィルムの幅方向の加熱巻き上げ処理前後の正面位相差の変化の一例を示す図である。 ポリシクロオレフィンフィルムの幅方向の加熱巻き上げ処理前後の遅相軸の方向の変化の一例を示す図である。 実施例及び比較例の光学ユニットの反射色相を示す図である。 実施例Ａ１０及びＡ１１、比較例Ａ５及びＡ６の反射率の測定結果を示す図である。
［積層体のロール］
本発明の積層体のロールは、積層体の長尺体がロール状に巻かれた積層体のロールである。
本発明の積層体のロールに用いる積層体は、透明導電性フィルムを含む。
本発明の積層体のロールに用いる透明導電性フィルムは、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む。
本発明の積層体のロールに用いるポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向は、積層体の長尺体の全幅に対する５％の幅の両側の各端部を除く全体にわたって、積層体の長尺体の長手方向に対して±２°、好ましくは±１．５°の範囲内にある。
［光学ユニット］
本発明の光学ユニットは、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルムと、位相差フィルムとを含む。位相差フィルムは、透明導電性フィルムの透明導電層側に配置される。
本発明の光学ユニットに用いられるポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の角度ばらつきは４°の範囲内にある。２３℃ において波長５５０ｎｍの光で測定したポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差は、３〜８ｎｍの範囲内であり、そのばらつきが１．５ｎｍの範囲内である。
本明細書において、Ｒｅ［５５０］とは、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値をいう。Ｒｅ［５５０］は、波長５５０ｎｍにおけるフィルムの遅相軸方向、進相軸方向の屈折率を、それぞれｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルムの厚みとしたとき、式：Ｒｅ［５５０］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求めることができる。なお、遅相軸とは面内の屈折率の最大となる方向をいう。
本発明の光学ユニットに用いられる位相差フィルムの面内位相差は、ポリシクロオレフィンフィルムのばらつきがほとんどないほぼ一定の面内位相差を相殺して、位相差フィルムと透明導電性フィルムの全体の面内位相差が所望の値となるようにされている。
本発明の光学ユニットに用いられる位相差フィルムは、１／４波長位相差膜を含み、上記所望の値を約１／４波長とすることができる。また、本発明の光学ユニットに用いられる位相差フィルムは、透明導電性フィルム側から順に視野角補償用位相差膜と１／４波長位相差膜を含み、上記所望の値を約１／４波長とすることができる。ここで、上記所望の値を約１／４波長とするとは、理想的には可視光領域の全ての波長において上記所望の値を約１／４波長とするという意味である。波長５５０ｎｍにおける面内位相差は、１３０〜１５０ｎｍであることが好ましく、１４０〜１４６ｎｍであることがより好ましい。
１／４波長位相差膜の遅相軸の方向は、ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向とほぼ平行、すなわちポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向に対して±２°の範囲内とすることができる。このような構成により、ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差の位相差フィルムによる相殺を容易に行うことができる。
光学ユニットは更に偏光機能積層体を含み、偏光機能積層体は、偏光膜と前記位相差フィルムを含み、位相差フィルムは、透明導電性フィルムの透明導電層側に配置され、偏光膜は位相差フィルムに対して透明導電性フィルムとは反対側に配置されることができる。
偏光機能積層体は、円偏光を生成する機能を有することができる。
［透明導電性フィルムの製造方法］
本発明の透明導電性フィルムの製造方法は、ポリシクロオレフィンフィルムを含む積層体の長尺体がロール状に巻かれたポリシクロオレフィンフィルムのロールから、前記ポリシクロオレフィンフィルムを繰り出すステップと、繰り出された前記ポリシクロオレフィンフィルムを、巻き取りロールで巻き取りながら 、加熱温度１４０〜１６０℃で加熱巻き上げ処理するステップと、加熱巻き上げ処理された前記ポリシクロオレフィンフィルム上に透明導電層を成膜し、透明導電性フィルムを生成するステップと、を含む。
このように、ポリシクロオレフィンフィルムを含む積層体の長尺体を巻き取りロールで巻き取りながら、すなわち一定の張力をポリシクロオレフィンフィルムに与えながら、ポリシクロオレフィンフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）である１６５℃に近い温度で加熱巻き上げ処理を行うことによって、遅相軸の方向をＭＤ方向に揃えることができる。
上記加熱温度は、１４５〜１５５℃であることがより好ましく、１４８〜１５３℃であることが更により好ましい。
［光学ユニットの製造方法］
本発明の光学ユニットの製造方法は、位相差フィルムと偏光膜とを含む偏光機能積層体と、上記製造方法により製造された透明導電性フィルムを貼り合わせ、光学ユニットを生成する。
＜偏光膜＞
本発明の光学ユニットに用いる偏光膜は、空中延伸（乾式延伸）やホウ酸水中延伸工程等の延伸工程によって延伸された、ヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂を用いることができる。
偏光膜の製造方法としては、代表的には、特開２００４−３４１５１５号公報に記載のあるような、ＰＶＡ系樹脂の単層体を染色する工程と延伸する工程を含む製法（単層延伸法）がある。また、特開昭５１−０６９６４４号公報、特開２０００−３３８３２９号公報、特開２００１−３４３５２１号公報、国際公開第２０１０/１００９１７号、特開２０１２−０７３５６３号公報、特開２０１１−２８１６号公報に記載のあるような、ＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法が挙げられる。この製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。
積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法には、上述の特開昭５１−０６９６４４号公報、特開２０００−３３８３２９号公報、特開２００１−３４３５２１号公報に記載のあるような空中延伸（乾式延伸）法がある。そして、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、国際公開第２０１０/１００９１７号、特開２０１２−０７３５６３号公報に記載のあるような、ホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法が好ましく、特に特開２０１２−０７３５６３号公報のようなホウ酸水溶液中で延伸する前に空中補助延伸を行う工程を含む製法（２段延伸法）が好ましい。また、特開２０１１−２８１６号公報に記載のあるような、ＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸した後に、ＰＶＡ系樹脂層を過剰に染色し、その後脱色する製法（過剰染色脱色法）も好ましい。本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、上述のようなヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなり、空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸された偏光膜とすることができる。また、本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、上述のようなヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなり、延伸されたＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材の積層体を過剰に染色し、その後脱色することにより作製された偏光膜とすることができる。
＜位相差フィルム＞
本発明の光学ユニットに用いる位相差フィルムは、単層又は多層の位相差膜を含む。
＜位相差膜＞
本発明の光学ユニットに用いる位相差膜は、高分子フィルムを延伸させて得られるものや液晶材料を配向、固定化させたものを用いることができる。本明細書において、位相差膜は、面内及び／又は厚み方向に複屈折を有し、それによって所定の機能を実現するものをいう。
位相差膜としては、反射防止用位相差膜（特開２０１２−１３３３０３号公報〔０２２１〕、〔０２２２〕〔０２２８〕参照）、視野角補償用相差膜（特開２０１２−１３３３０３号公報〔０２２５〕、〔０２２６〕参照）、視野角補償用の傾斜配向位相差膜（特開２０１２−１３３３０３号公報〔０２２７〕参照）等が挙げられる。
位相差膜としては、実質的に上記の機能を有するものであれば、例えば、位相差値、配置角度、３次元複屈折率、単層か多層かなどは特に限定されず公知の位相差膜を使用することができる。
本発明の位相差膜のｎｘ−ｎｙである面内複屈折Δｎは、０．００１〜０．２、好ましくは０．００２〜０．１５である。
上記位相差膜は、好ましくは２３℃において、波長５５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［５５０］）が、波長４５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［４５０］）よりも大きい。このような波長分散特性を有する位相差膜は、前記比率がこの範囲であれば、長波長ほど位相差が発現し、可視領域の各波長において理想的な位相差特性を得ることができる。例えば、有機ＥＬディスプレイに用いた場合、１／４波長板としてこのような波長依存性を有する位相差膜を作製し、偏光板と貼り合わせることにより、円偏光板等を作製することができ、色相の波長依存性が少ない、ニュートラルな偏光板および表示装置の実現が可能である。一方、前記比率がこの範囲外の場合には、反射色相の波長依存性が大きくなり、偏光板や表示装置に着色の問題が生じる。
上記位相差膜のＲｅ［５５０］とＲｅ［４５０］の比（Ｒｅ［４５０］／Ｒｅ［５５０］）は、０．８ 以上１．０未満、より好ましくは０．８〜０．９８である。
上記位相差膜は、好ましくは２３℃において、波長５５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［５５０］）が、波長６５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［６５０］）よりも小さい。このような波長分散特性を有する位相差膜は、赤色の領域で位相差値が一定になり、例えば、液晶表示装置に用いた場合に、見る角度によって光漏れが生じる現象や、表示画像が赤味を帯びる現象（レッドイッシュ現象ともいう）を改善することができる。
上記位相差膜のＲｅ［６５０］とＲｅ［５５０］の比（Ｒｅ［５５０］／Ｒｅ［６５０］）は、０．８以上１．０未満、好ましくは０．８〜０９７である。Ｒｅ［５５０］／Ｒｅ［６５０］を上記の範囲とすることによって、例えば、上記位相差膜を有機ＥＬディスプレイに用いた場合に、より一層優れた表示特性を得ることができる。
Ｒｅ［４５０］、Ｒｅ［５５０］、Ｒｅ［６５０］は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製 製品名「ＡｘｏＳｃａｎ」を用いて測定することができる。
本明細書において、ＮＺは、厚み方向複屈折であるｎｘ−ｎｚと面内複屈折であるｎｘ−ｎｙとの比をいう（Ｎｚ係数ともいう）。
本発明の位相差膜のＮＺは、−１０〜１．５、好ましくは−８〜１．４、より好ましくは−６〜１．３である。
例えば、通常縦延伸を行う場合は、フィルムの長手方向の延伸に対し、幅方向が固定されていないため、幅収縮が起こる。そのため、より一軸方向に分子が配向した状態となり、屈折率の関係としては、例えば、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚとなる。この場合は、延伸方向であるフィルムの長手方向の耐折強さは強くなるが、幅方向の耐折強さは非常に弱くなる。これを解決するために、延伸方向に対して交差する角度方向に、幅を規制する力を発生した状態（例えば、横一軸延伸の場合、延伸方向であるフィルムの幅方向に対して直角方向であるフィルムの長手方向の長さを一定にする力が発生している）で、延伸を施すことで、延伸方向のみならず、延伸方向と交差する角度方向にも分子を配向させることができ、屈折率の関係としては、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとすることができる。これより、延伸方向の耐折強さと幅方向の耐折強さを、高いレベルで両立することができる。
上記位相差膜の２３℃における光弾性係数の絶対値；Ｃ（ｍ2／Ｎ）は、０．５×１０-12〜１００×１０-12（ｍ2／Ｎ）、好ましくは１×１０-12〜８０×１０-12（ｍ2／Ｎ）である。偏光膜の収縮応力や、表示パネルの熱や、周囲の環境（耐湿・耐熱）によって、位相差膜に力がかかり、それにより発生する位相差値の変化を防ぐことができ、その結果、良好な表示均一性を有する表示パネル装置を得ることができる。好ましくは、上記位相差膜のＣは３×１０-12〜４５×１０-12であり、特に好ましくは５×１０-12〜４０×１０-12以下である。Ｃを上記の範囲とすることによって、上記位相差膜に力がかかった時に発生する位相差値の変化やムラを低減することができる。また、光弾性係数とΔｎはトレードオフの関係になりやすく、この光弾性係数範囲であれば、位相差発現性を低減させることなく、表示品位を保つことが可能となる。
本発明の位相差膜としては、一枚のフィルムにより逆分散の波長依存性（逆分散波長特性）を示す位相差膜が好適に用いることができる。この逆分散性を示す位相膜としては、帝人社製、商品名「ピュアエースＷＲ」や特許第４９３８１５１号記載のポリカーボネート樹脂や特願２０１３−２１４９８６記載のオリゴフルオレンを含有する樹脂が用いることができる。
１つの実施形態において、本発明の位相差膜は、高分子フィルムを延伸することによって、配向させて作製される。
上記高分子フィルムを延伸する方法としては、目的に応じて、任意の適切な延伸方法が採用され得る。本発明に適した上記延伸方法としては、例えば、横一軸延伸方法、縦横同時二軸延伸方法、縦横逐次二軸延伸方法等が挙げられる。延伸する手段としては、テンター延伸機、二軸延伸機等々の、任意の適切な延伸機が用いられ得る。好ましくは、上記延伸機は、温度制御手段を備える。加熱して延伸を行う場合は、延伸機の内部温度は連続的に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。工程は１回でも２回以上に分割してもいい。延伸方向はフィルム幅方向（ＴＤ方向）や斜め方向に延伸するのがよい。
斜め延伸は、未延伸樹脂フィルムを長手方向に送出しつつ、幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に延伸する斜め延伸処理を連続的に行う。これにより、フィルムの幅方向と遅相軸とがなす角度（配向角θ）が前記特定の範囲となる長尺位相差膜を得ることができる。
斜め延伸する方法としては、未延伸樹脂フィルムの幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に連続的に延伸して、遅相軸をフィルムの幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に形成できるものであれば特に制約されない。特開２００５−３１９６６０、特開２００７−３０４６６、特開２０１４−１９４４８２、特開２０１４−１９９４８３、特開２０１４−１９９４８３等、従前公知のこのような延伸方法から任意の適切な方法を採用することができる。
未延伸樹脂フィルムを延伸する温度（延伸温度）は、目的に応じて、適宜、適切な値が選択され得る。好ましくは、延伸は、高分子フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃の範囲で行なう。このような条件を選択することによって、位相差値が均一になり易く、かつ、フィルムが結晶化（白濁）しにくくなる。具体的には、上記延伸温度は９０℃〜２１０℃であり、さらに好ましくは１００℃〜２００℃であり、特に好ましくは１００℃〜１８０℃である。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７）に準じたＤＳＣ法によって求めることができる。
上記延伸温度を制御する手段としては、任意の適切な手段が採用され得る。上記温度制御手段としては、例えば、熱風または冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波または遠赤外線を利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール、金属ベルト等が挙げられる。
上記未延伸樹脂フィルムを延伸する倍率（延伸倍率）は、目的に応じて、適宜、選択され得る。上記延伸倍率は、好ましくは１を超え６倍以下であり、さらに好ましくは１．５倍を超え４倍以下である。
また、延伸時の送り速度は、特に制限はないが、機械精度、安定性等から好ましくは０．５ｍ／分〜３０ｍ／分であり、より好ましくは１ｍ／分〜２０ｍ／分である。上記の延伸条件であれば、目的とする光学特性が得られ得るのみならず、光学均一性に優れた位相差膜を得ることができる。
また。この別の実施形態として、ポリシクロオレフィンフィルムやポリカーボネートフィルムなどを用いて、偏光板の吸収軸と１／２波長板の遅相軸とのなす角が１５°、偏光板の吸収軸と１／４波長板の遅相軸とのなす角が７５°となるようにアクリル系粘着剤を用いて枚葉貼り合せされた位相差膜を用いてもよい。
他の実施形態において、本発明の位相差膜は、液晶材料を配向、固定化させることによって作製される位相差層を積層させたものを用いることができる。それぞれの位相差層は、液晶化合物の配向固化層であり得る。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、円偏光板（最終的には、有機ＥＬ表示装置）のさらなる薄型化を実現することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。本実施形態においては、代表的には、棒状の液晶化合物が位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）や面内方向に対して法線方向に遅相軸が並んだ状態で配向している（ホメオトロピック配向）などがある。液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。
液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。
液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃〜１００℃であり、最も好ましくは６０℃〜９０℃である。
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。
液晶化合物の配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された配向固化層は、偏光膜の表面に転写され得る。この時偏光膜の吸収軸と液晶配向固化層の遅相軸とのなす角が１５°となるように配置される。また、液晶配向固化層の位相差は５５０ｎｍの波長に対してλ／２（約２７０ｎｍ）である。さらに、前述と同様に５５０ｎｍの波長に対してλ／４（約１４０ｎｍ）である液晶配向固化層を転写可能な基材上に形成し、偏光膜と１／２波長板の積層体の１／２波長板側に、偏光膜の吸収軸と１／４波長板の遅相軸とのなす角が７５°になるように積層される。
上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
［保護膜］
本発明の光学ユニットに用いる透明樹脂材料の保護膜は、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂などを用いることができる。
本発明の光学積層体に用いる保護膜の厚さは、１０〜５０μｍ、好ましくは１５〜４５μｍであり、適宜アンチグレア層又は反射防止層などの表面処理層を設けることができる。
本発明の光学積層体に用いる保護膜の透過湿度は、２００ｇ／ｍ2以下、好ましくは１７０ｇ／ｍ2以下、より好ましくは１３０ｇ／ｍ2以下、特に好ましくは９０ｇ／ｍ2以下である。
[透明導電性フィルム]
図２は本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。図２の透明導電性フィルムは、基材積層体１と透明導電層１３とを含む。前記基材積層体１は、ポリシクロオレフィンフィルム１０と、ポリシクロオレフィンフィルム１０の第１主面Ｓ１に形成された第１硬化樹脂層１１と、ポリシクロオレフィンフィルム１０の第１主面Ｓ１とは反対側の第２主面Ｓ２側に形成された第２硬化樹脂層１２とを含んでいる。また、前記第１硬化樹脂層１１と前記透明導電層１３との間に光学調整層１６が設けられている。第２硬化樹脂層１２は、図３に示すように、複数の球状粒子１４と、前記球状粒子をポリシクロオレフィンフィルム１０の表面に固定するバインダー樹脂層１５とを有している。第２硬化樹脂層１２は表面に凸部１２ａを有しているため、透明導電性フィルムをロールtoロール製法にて巻き取った場合に、透明導電性フィルム同士がブロッキングすることを抑制することができる。また、基材積層体１は、ポリシクロオレフィンフィルム１０のみ又はポリシクロオレフィンフィルム１０と第１硬化樹脂層若しくは第２硬化樹脂層で構成することができるが、前記透明導電層１３が形成される側の第１硬化樹脂層１１と、ポリシクロオレフィンフィルム１０と、第２硬化樹脂層１２とをこの順で含むことが好ましい。
［透明導電層］
透明導電層は、金属酸化物により形成された層であることが好ましい。金属酸化物としては、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。中でも、インジウム・スズ複合酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛複合酸化物が好ましい。この他にも４価金属イオン又は２価金属イオンがドープされた酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３)が用いられる。このようなインジウム系複合酸化物層は、可視光領域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）で透過率が８０％以上と高く、且つ単位面積当りの表面抵抗値が低い（３００Ω／□以下：ohms per square)という特徴を有している。
上記インジウム系複合酸化物層の表面抵抗値は、好ましくは３００Ω／□以下であり、さらに好ましくは２７０Ω／□以下である。このような表面抵抗値の小さい透明導電性フィルムは、例えば、スパッタリング法又は真空蒸着法により、インジウム系複合酸化物の非晶質層を硬化樹脂層上に形成した後、１２０℃〜２００℃で３０〜９０分間程度加熱処理して、非晶質層を結晶質層に変化させることにより得られる。この転化させる手段は、特に限定されないが空気循環式オーブンやＩＲヒーターなどが用いられる。
（結晶質の定義）
基材積層体上に透明導電層が形成された透明導電性フィルムを、２０℃、濃度５重量％の塩酸に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ間の端子間抵抗をテスタにて測定を行い、端子間抵抗が１０ｋΩを超えない場合、ＩＴＯ膜の結晶質への転化が完了したものとする。
透明導電層の厚みは、１５ｎｍ〜５０ｎｍとするのが好ましく、２０〜４０ｎｍであることがより好ましく、更に好ましくは２５〜３５ｎｍの範囲内である。透明導電層の厚みが１５ｎｍ未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電層の厚みが５０ｎｍを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。透明導電層としては、異なる組成の透明導電層を複数層積層した構造であってもよい。
前記透明導電層の表面の４５２μm×５９５μmの視野における算術平均表面粗さＲａは、透明性を向上させる観点から、０ｎｍより大きく１０ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍより大きく９ｎｍ以下であることがより好ましく、０ｎｍより大きく７ｎｍ以下であることが更に好ましい。第２硬化樹脂層の表面の４５２μm×５９５μmの視野における算術平均表面粗さＲａと前記透明導電層の表面の４５２μm×５９５μmの視野における算術平均表面粗さＲａとの差は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、１５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
前記透明導電層は、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含むことができる。
（金属ナノワイヤ）
金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。さらに、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
前記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。前記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。
（金属メッシュ）
金属メッシュを含む透明導電層は、前記基材積層体上に、金属細線が格子状のパターンに形成されてなる。前記金属ナノワイヤを構成する金属と同様の金属を使用することが可能である。金属メッシュを含む透明導電層は、任意の適切な方法により形成させることができる。透明導電層は、例えば、銀塩を含む感光性組成物（透明導電層形成用組成物）を基材積層体上に塗布し、その後、露光処理および現像処理を行い、金属細線を所定のパターンに形成することにより得ることができる。
[硬化樹脂層]
シクロオレフィン系樹脂自体は非常に傷つきやすい傾向にある。透明導電層の形成や透明導電層のパターン化または電子機器への搭載などの各工程でポリシクロオレフィンフィルム１０に傷が入りやすいので、ポリシクロオレフィンフィルム１０の両面に硬化樹脂層として、第１硬化樹脂層及び第２硬化樹脂層を形成することが好ましい。
硬化樹脂層は、それぞれ硬化型樹脂を硬化させることにより得られた層である。硬化型樹脂には、硬化メカニズムとして熱硬化、活性エネルギー線硬化、またはその両方を併用する樹脂のいずれを採用してもよい。必要に応じて架橋剤、開始剤、増感剤などを硬化型樹脂とともに使用してもよい。第１硬化樹脂層および第２硬化樹脂層の厚みは、いずれも独立して好ましくは０．５μｍ〜５μｍであり、より好ましくは０．７μｍ〜３μｍであり、最も好ましくは０．８μｍ〜２μｍである。第１硬化樹脂層および第２硬化樹脂層は、各硬化型樹脂と必要に応じて加える架橋剤、開始剤、増感剤などを含む樹脂組成物を透明樹脂フィルム上に塗布し、樹脂組成物が溶剤を含む場合には、溶剤の乾燥を行い、熱、活性エネルギー線またはその両方のいずれかの適用により硬化させることにより得られる。熱は空気循環式オーブンやＩＲヒーターなど公知の手段を用いることができるがこれらの方法に限定されない。活性エネルギー線の例としては紫外線、電子線、ガンマ線などがあるが特に限定されない。硬化型樹脂としては、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂が好ましく、より好ましくはアクリル系樹脂である。
第１硬化樹脂層１１又は第２硬化樹脂層１２は、複数の球状粒子１４と、前記球状粒子をポリシクロオレフィンフィルム１０の表面に固定するバインダー樹脂層１５とを含むことが好ましい。特に、第２硬化樹脂層１２に、前記複数の球状粒子１４と、前記バインダー樹脂層１５とを含むことがより好ましい。図３は、図２における第２硬化樹脂層１２の構成を示す部分拡大図である。第２硬化樹脂層１２は、複数の球状粒子１４と、前記球状粒子１４をポリシクロオレフィンフィルム１０の表面に固定するバインダー樹脂層１５とを有している。球状粒子１４の最頻粒子径はｗと、バインダー樹脂層１５の厚みはｄと記載している。第２硬化樹脂層１２の外側表面、すなわちポリシクロオレフィンフィルム１０と接しない側の表面において、球状粒子１４が存在する部分は、およそ差ｗ−ｄの分だけ突出した凸形状を有しており、球状粒子１４が存在しない部分は、略平面形状を有している。また各球状粒子１４の上面にはバインダー樹脂層１５の一部が薄く形成されている。ここで「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいう。「バインダー樹脂層の厚み」とは、球状粒子が存在しない平坦部分の厚みをいう。第２硬化樹脂層１２においては、球状粒子１４の最頻粒子径ｗと、バインダー樹脂層１５の厚みｄとの関係は、ｗ−ｄが０より大きく１．２μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ〜１．０μｍがより好ましく、０．３μｍ〜０．９μｍがさらに好ましい。これにより、ヘイズへの影響を抑えつつ、ロールtoロール製法に耐えうるアンチブロッキング性をより確実に実現できるようになる。
第１硬化樹脂層の表面の算術平均表面粗さＲａは、透明性を向上させる観点から、０ｎｍより大きく１０ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍより大きく９ｎｍ以下であることがより好ましく、０ｎｍより大きく７ｎｍ以下であることが更に好ましい。
第２硬化樹脂層の表面の算術平均表面粗さＲａは、５ｎｍより大きく１００ｎｍ以下であることが好ましく、７ｎｍより大きく７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍより大きく６０ｎｍ以下であることが更に好ましい。算術平均表面粗さＲａが上記範囲内であることにより、ロールtoロール製法に耐えうるアンチブロッキング性を向上させることができる。
第２硬化樹脂層側の算術平均表面粗さＲａの方が、第１硬化樹脂層側の算術平均表面粗さＲａよりも粗い方が好ましい。これにより、ロールtoロール製法に耐えうるアンチブロッキング性を有するとともに、透明導電層側の白モヤ感（ヘイズ）を低減させることができる。また、第２硬化樹脂層の表面の４５２μm×５９５μmの視野における算術平均表面粗さＲａと第１硬化樹脂層の表面の４５２μm×５９５μmの視野における算術平均表面粗さＲａとの差は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、１５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
前記球状粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、真球性と耐熱性の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。
前記第１硬化樹脂層中の球状粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分１００重量部に対して０．００００〜０．００２０重量部が好ましく、０．００００〜０．００１５重量部であることがより好ましく、０．００００〜０．００１０重量部であることがさらに好ましい。また、前記第２硬化樹脂層中の球状粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分１００重量部に対して０．００１０〜０．０３００重量部であることが好ましく、０．００１５〜０．０２００重量部であることがより好ましく、０．００２０〜０．０１５０重量部であることがさらに好ましい。前記第１硬化樹脂層又は前記第２硬化樹脂層中の球状粒子の含有量が前記範囲であると、両面の算術平均表面粗さＲａを別々に調整することができるため、アンチブロッキング性や易滑性を付与するのに十分なベース隆起部が形成されやすくなるとともに、球状粒子による光散乱に起因した透明導電性フィルムのヘイズが小さくなり、視認性が上がる傾向がある。
前記バインダー樹脂層に用いられるバインダー樹脂の材料としては、球状粒子を固定できるものであれば、任意の材料を選択することができる。このバインダー樹脂は、例えば、硬化性樹脂組成物を紫外線や電子線によって硬化させたものである。硬化性樹脂組成物は、好ましくは、ペンタエリスリトールやジペンタエリスリトール等の多官能アクリレート重合体、グリシジルアクリレート系重合体にアクリル酸を付加反応させた重合体および重合開始剤を含む。
[光学調整層]
図２に示すように、透明導電性フィルムは第１硬化樹脂層１１と透明導電層１３との間に、１層以上の光学調整層１６をさらに含むことができる。透明導電性フィルムの透過率の上昇や、透明導電層１３がパターン化される場合には、パターンが残るパターン部とパターンが残らない開口部の間で透過率差や反射率差の低減し、視認性に優れた透明導電性フィルムを得るために用いられる。
光学調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。光学調整層を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｉＯ２、ＬａＦ３、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯｘ（ｘは１．５以上２未満）などの無機物や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。光学調整層は、上記の材料を用いて、グラビアコート法やバーコート法などの塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより形成できる。
光学調整層の厚みは、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜１３０ｎｍであることがさらに好ましい。光学調整層の厚みが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、光学調整層の厚みが過度に大きいと、透明導電性フィルムの透明性が低下したり、光学調整層にクラックが生じ易くなったりする傾向がある。
光学調整層は、平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。光学調整層中のナノ微粒子の含有量は０．１重量％〜９０重量％であることが好ましい。光学調整層に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましい。また、光学調整層中のナノ微粒子の含有量は１０重量％〜８０重量％であることがより好ましく、２０重量％〜７０重量％であることがさらに好ましい。光学調整層中にナノ微粒子を含有することによって、光学調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。
ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
［ポリシクロオレフィンフィルム］
金属配線層を支持するフィルム基材であるポリシクロオレフィンフィルムは、単層であってもよいし、複層であってもよい。ポリシクロオレフィンフィルムの厚みは、透明性や取扱性の観点から、好ましくは２０μｍ〜２００μｍである。
ポリシクロオレフィンフィルムは、金属配線層が形成される両面に複数の突起を有している。ポリシクロオレフィンフィルムの表面に複数の突起を設けることによって、ポリシクロオレフィンフィルムに滑り性や耐磨耗性を付与し、金属配線層を連続的に成膜する際に、品質を高く維持しながら、その成膜速度を高めて生産性を向上させることができる。
突起は、ポリシクロオレフィンフィルムの金属配線層が形成される側の表面の平面視において、その外径Ｄが０を超え３μｍ以下、好ましくは、０．１μｍ〜２μｍである。突起の外径は、例えばポリシクロオレフィンフィルムの金属配線層が形成される側の表面を所定倍率で画像観察することにより測定することができる。外径Ｄが３μｍ以下である場合、ポリシクロオレフィンフィルムの表面と突起表面の境界部近傍で金属配線が断線するのを確実に防止することができる。
突起の高さは、ポリシクロオレフィンフィルムの平坦な面を基準として、好ましくは０を超え３μｍ以下であり、さらに好ましくは０．１μｍ〜２μｍである。
突起の形状は、本実施形態では略ドーム型であり、ポリシクロオレフィンフィルムの面方向断面は略円形、厚み方向断面は略半円形である。ただし、本発明における突起は、ポリシクロオレフィンフィルムに滑り性や耐磨耗性を付与し、また、高品質な金属配線層を連続的且つ速い速度で成膜し得るものであれば、ドーム型以外の他の形状であってもよい。
ポリシクロオレフィンフィルム上に突起を設ける手段としては、該ポリシクロオレフィンフィルムの内部に滑剤を分散させる方法、フィルム表面に、複数の粒子を分散させたバインダー（binder）を塗布する方法などが挙げられる。
ポリシクロオレフィンフィルムは、例えば日本ゼオン株式会社等から入手できる。
（金属配線層）
金属配線層は、透光性を付与するために、例えば網目状にパターン形成されたものである。上記金属配線層の網目状パターンは、特に制限はなく、例えば、正方形格子、ひし形格子、又は多角形格子である。
上記金属配線層を形成する材料は、電気伝導性を有するものであれば制限はないが、好ましくは銀、銅又はそれらの合金であり、さらに好ましくは銅である。
上記金属配線層の線幅は、５μｍを超え８μｍ未満であり、好ましくは５．５μｍを超え７μｍ以下である。このような線幅の範囲であれば、フィルム基材の突起に起因する断線を防ぐことができる。線幅が５μｍ以下である場合は、金属配線層の網目状パターンが視認され難くはなるものの、フィルム基材の突起によって、金属配線が断線する頻度が高くなり、大量生産すると品質及び信頼性が低くなる。一方、線幅が８μｍ以上である場合は、金属配線層の網目状パターンが顕著に視認される。
金属配線層の厚みは、０．１μｍ以上０．５μｍ未満であり、好ましくは０．１μｍを超え０．４μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ〜０．３５μｍである。金属配線層は、その厚みを例えば２μｍよりも薄くすることによって、より一層、網目状パターンが視認されることを防ぐ。このような構成は、タッチセンサに対して、斜め方向から外光が入射したとき、金属配線層の側面が光輝せず、視認され難い。
金属配線層は、扁平形状を有している点に特徴があり、厚みに対する線幅の比率（線幅／厚み）は、好ましくは１０以上８０未満であり、さらに好ましくは１５〜５０である。このような関係を満足するタッチセンサは、生産性に優れ、金属配線の断線を生じず、且つ金属配線層の網目状パターンが視認され難い。
金属配線層の断面積は、タッチパネルセンサに必要な電気伝導性を得るために、好ましくは０．５μｍ2〜４μｍ2であり、さらに好ましくは０．５μｍ2〜３．２μｍ2であり、特に好ましくは０．５μｍ2〜２．５μｍ2である。
金属配線層のピッチ間隔は、十分な透光性を得るために、好ましくは２００μｍ〜８００μｍであり、さらに好ましくは３５０μｍ〜６５０μｍである。金属配線層の開口率は、好ましくは９５％〜９９％であり、さらに好ましくは９６％〜９９％である。
上記金属配線層を形成する方法としては、例えば、フィルム基材の表面全体に金属層を成膜した後、金属層上に所定のレジストパターン（resist pattern）を積層し、エッチング（etching）により、網目状の金属配線層が形成されるように、不要領域の金属層を除去した後、レジストを剥離する方法が用いられる。上記金属層は、例えば、スパッタリング（spattering）法、メッキ（plating）法、又はそれらの組み合わせにより成膜することができる。
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上記の光学ユニットと、有機ＥＬ表示パネルとを含み、光学ユニットが、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に配置され、光学ユニットが、透明導電性フィルムが偏光膜と有機ＥＬ表示パネルとの間に位置するように配置されている。
任意ではあるが、有機ＥＬ表示装置用積層体に対して視認側にウインドウが配置されることができる。
図４は、本発明による有機ＥＬ表示装置の１つの実施形態を示す断面図である。この有機ＥＬ表示装置１００は、光学ユニット１１０と、有機ＥＬ表示パネル１０１とを含む。そして、有機ＥＬ表示パネル１０１に対して視認側に光学ユニット１１０が配置されている。
任意ではあるが、光学ユニット１１０に対して視認側に透明なウインドウ１０２が配置されることができる。
光学ユニット１１０は、透明導電性フィルム１１６と、偏光膜１２１と、位相差フィルム１２３とを含む。
偏光膜１２１は位相差フィルム１２３に対して透明導電性フィルム１１６とは反対側に配置される。そして、この場合、偏光膜１２１と位相差フィルム１２３は、偏光機能積層体１２０を構成する。偏光機能積層体１２０は、例えば、偏光膜１２１の視認側から内部に入射した光が内部反射して視認側に射出されることを防止するために円偏光を生成したり、視野角を補償したりするためのものである。
任意ではあるが、偏光膜１２１の片面又は両面に、保護フィルムが接着されることができる。
光学ユニット１１０は、透明導電性フィルム１１６が偏光膜１２１と有機ＥＬ表示パネル１０１との間に位置するように配置されている。
透明導電性フィルム１１６は、ポリシクロオレフィンフィルム１１５と透明導電層１１２とを含む。
ポリシクロオレフィンフィルム１１５の遅相軸の角度ばらつきは４°の角度範囲内にあり、２３℃において波長５５０ｎｍの光で測定した前記ポリシクロオレフィンフィルム１１５の面内位相差は、３〜８ｎｍの範囲内であり、そのばらつきが１．５ｎｍの範囲内である。位相差フィルム１２３の面内位相差は、ポリシクロオレフィンフィルム１１５の面内位相差を相殺して、位相差フィルム１２３と透明導電性フィルム１１６の全体の面内位相差が所望の値となるようにされている。
本実施形態においては、位相差フィルム１２３の面内位相差が、ポリシクロオレフィンフィルム１１５のばらつきがほとんどないほぼ一定の３〜８ｎｍの範囲内の面内位相差を相殺して、位相差フィルム１２３と透明導電性フィルム１１６の全体の面内位相差が、約１／４波長となるようにされたので、反射色相が良好なものとなる。
任意ではあるが、位相差フィルム１２３は、１／４波長位相差膜を含み、上記所望の値が約１／４波長である。
任意ではあるが、位相差フィルム１２３は、透明導電性フィルム１１６側から順に視野角補償用位相差膜と１／４波長位相差膜を含み、上記所望の値が約１／４波長である。
任意ではあるが、上記１／４波長位相差膜の遅相軸の方向が、ポリシクロオレフィンフィルム１１５の遅相軸の方向に対して±３°の範囲内にある。このような構成により、ポリシクロオレフィンフィルム１１５の面内位相差の位相差フィルム１２３による相殺を容易に行うことができると共に、光学ユニットの偏光膜側の表面から入射する光の反射率を低減することができる。
任意ではあるが、上記１／４波長位相差膜の遅相軸の方向が、ポリシクロオレフィンフィルム１１５の遅相軸の方向に対して９０°±３°の範囲内にある。したがって、ポリシクロオレフィンフィルム１１５の面内位相差の位相差フィルム１２３による相殺を容易に行うことができると共に、光学ユニットの偏光膜側の表面から入射する光の反射率を低減することができる。
本発明のポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルム及びその製造方法、そのような透明導電性フィルムを含む積層体のロール、そのような透明導電性フィルムを含む光学ユニット及びその製造方法、そのような光学ユニットを含む有機ＥＬ表示装置について、以下の実施例を用いて更に説明する。なお、本発明のポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルム及びその製造方法、そのような透明導電性フィルムを含む積層体のロール、そのような透明導電性フィルムを含む光学ユニット及びその製造方法、そのような光学ユニットを含む有機ＥＬ表示装置は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
〔実施例Ａ１〕
［透明導電性フィルム］
（硬化樹脂層の形成）
紫外線硬化性樹脂組成物（ＤＩＣ社製 商品名「ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）ＲＳ２９−１２０」）を１００重量部と、最頻粒子径が１．９μｍであるアクリル系球状粒子（綜研化学社製 商品名「ＭＸ−１８０ＴＡ」）を０．００２重量部とを含む、球状粒子入り硬化性樹脂組成物を準備した。準備した球状粒子入り硬化性樹脂組成物を厚みが５０μｍ、幅１５５０ｍｍの長尺状のポリシクロオレフィンフィルム（日本ゼオン製 商品名「ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）」）の一方の面に塗布し、塗布層を形成した。
次いで、塗布層が形成された側から塗布層に紫外線を照射して、厚みが１．０μｍとなる様に第２硬化樹脂層を形成した。ポリシクロオレフィンフィルムの他方の面に、球状粒子を含まない以外は上記と同様の方法で、厚みが１．０μｍとなる様に第１硬化樹脂層を形成した。
さらに、第１硬化樹脂層上に、光学調整層として平均粒径が３０ｎｍの酸化ジルコニウム粒子とアクリル系樹脂のバインダーで構成された有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７４１２（登録商標）、固形分：２０％、溶媒：８０％）を形成して基材積層体とし、ロール状に巻かれた基材積層体のロールを作製した。
（加熱巻き上げ処理）
次いで、ロールtoロール方式で、得られた基材積層体のロールから繰り出された基材積層体を空気循環式オーブンに投入し、巻き取りロールで巻き取りながら、１５０℃で３分の加熱巻き上げ処理を実施し、ロール状に巻かれた、加熱巻き上げ処理された基材積層体のロールを作製した。
（透明導電層の形成）
次に、得られた加熱巻き上げ処理された基材積層体のロールから繰り出された基材積層体を、巻き取り式スパッタ装置に投入し、第１硬化樹脂層の表面に、厚みが２７ｎｍの非晶質のインジウム・スズ酸化物層を形成した。その後、該インジウム・スズ酸化物の非晶質層が形成されたポリシクロオレフィンフィルムを、ロールtoロール方式で空気循環式オーブンに投入し、１３０℃で９０分間の加熱処理を行い、透明導電層を非晶質から結晶質に転化させ、透明導電層の表面抵抗値が１００Ω／□の透明導電性フィルムを形成し、ロール状に巻かれた透明導電性フィルムのロールを作製した。
［位相差膜］
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）、イソソルビド（ＩＳＢ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）、および酢酸マグネシウム４水和物を、モル比率でＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ／ＤＰＣ／酢酸マグネシウム＝０．４３８／０．５３７／０．０２５／１．００５／１．００×１０-5になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後（酸素濃度０．０００５〜０．００１ｖｏｌ％）、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。
第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、反応液をストランドの形態で抜出し、回転式カッターでペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ＝４３．８／５３．７／２．５［ｍｏｌ％］の共重合組成のポリカーボネート樹脂Ａを得た。このポリカーボネート樹脂の還元粘度は０．４３０ｄＬ／ｇ、ガラス転移温度は１４５℃であった。
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２４０℃）、Ｔダイ（幅９００ｍｍ、設定温度：２４０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１５０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂フィルムから幅２５０ｍｍ、長さ２５０ｍｍの試料を切り出した。そして、この試料を、バッチ式二軸延伸装置（ブルックナー社製 商品名「KARO-IV」）にて、延伸温度１４５．６℃、延伸倍率２．４倍で固定端一軸横延伸し、厚み７０μｍの位相差膜を作製した。
［偏光膜］
長尺状のポリビニルアルコールフィルムを下記［１］〜［５］の５浴に周速の異なる複数セットのロール間を通して順次フィルム長手方向に張力を付与しながら浸漬し、最終的な延伸倍率がフィルム元長に対し、６．０倍になるように延伸した。このフィルムを５０℃オーブンで４分間乾燥させ、厚み１２μｍの偏光膜を得た。
［１］膨潤浴：３０℃の純水
［２］染色浴：水１００重量部に対し、ヨウ素濃度を０．０２〜０．２重量％の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を０．１４〜１．４重量％の範囲内とした。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は１対７である。これらを含む３０℃の水溶液へ、最終的な偏光膜の単体透過率が４１〜４７％となるように任意の時間浸漬した。
［３］第１の架橋浴：３重量％のヨウ化カリウムと３重量％のホウ酸とを含む、４０℃の水溶液。
［４］第２の架橋浴：５重量％のヨウ化カリウムと４重量％のホウ酸とを含む、６０℃の水溶液。
［５］洗浄浴：３重量％のヨウ化カリウムを含む、２５℃の水溶液
［偏光機能積層体］
ハードコート処理されたトリアセチルセルロース製の保護フィルム（コニカミノルタ社製 商品名「ＫＣ２ＵＡ」、厚み２５μｍ）にハードコート処理したフィルム、表面処理がされていないトリアセチルセルロース製の保護フィルム（コニカミノルタ社製 商品名「ＫＣ２ＵＡ」、厚み２５μｍ）を準備した。上記のようにして得られた偏光膜、位相差フィルムを、それぞれ１５０ｍｍ×３００ｍｍに切り出した。位相差フィルムは、遅相軸が短辺又は長辺に対して４５°の角度をなすように切り出した。そして偏光膜の両面に上記の２つの保護フィルムをそれぞれポリビニルアルコール系接着剤を介して貼り合わせた。更に、偏光膜両面に保護フィルムが貼り付けられた積層体の表面処理がされていない保護フィルムの側に、位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸が４５°の角度をなすように、位相差フィルムを、アクリル系粘着剤層を介して貼り合わせた。次いで、作製した偏光機能積層体を７０ｍｍ×１２０ｍｍのサイズにトリミングし、円偏光板として機能する偏光機能積層体を作製した。
［光学ユニット］
上記のようにして得られた長尺状の透明導電性フィルムから７０ｍｍ×１２０ｍｍのサイズの透明導電性フィルムを切り出した。その際に、透明導電性フィルムの中心点が、長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の中央とほぼ一致するように、かつ長手方向がＭＤ方向に平行となるように、透明導電性フィルムを切り出した。切り出した透明導電性フィルムの透明導電層側の面と、上記のようにして得られた偏光機能積層体の位相差膜側の面とを、位相差膜の遅相軸の方向と透明導電性フィルムのＭＤ方向とが平行になるように、アクリル系粘着剤層を介して貼り合せ、光学ユニットを作製した。
得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットについて、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ２〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ３〕
加熱巻き上げ処理の温度を１４０℃とした点と、面内位相差が異なる位相差膜を得るために、位相差膜の延伸温度を１４５．４℃とした点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ４〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ３と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ５〕
加熱巻き上げ処理の温度を１４５℃とした点と、面内位相差が異なる位相差膜を得るために、位相差膜の延伸温度を１４５．４℃とした点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ６〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ５と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ７〕
加熱巻き上げ処理の温度を１５５℃とした点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ８〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ７と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ９〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約１００ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ１０〕
光学ユニットの作製において、位相差膜の遅相軸の方向と透明導電性フィルムのＭＤ方向が３°の角度をなすように、透明導電性フィルムと偏光機能積層体を貼り合わせた点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ１１〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ１０と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ１２〕
光学ユニットの作製において、位相差膜の遅相軸の方向と透明導電性フィルムのＭＤ方向が９０°の角度をなすように、透明導電性フィルムと偏光機能積層体を貼り合わせた点と、面内位相差が異なる位相差膜を得るために、位相差膜の延伸温度を１４６．１℃とした点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ａ１３〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ａ１２と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ｂ１〕
透明導電性フィルムの製造に用いた長尺状のポリシクロオレフィンフィルムとして実施例Ａ１とはロットの異なるものを用いた点と、面内位相差が異なる位相差膜を得るために、位相差膜の延伸温度を１４６．１℃とした点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ｂ２〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ｂ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ｂ３〕
加熱巻き上げ処理の温度を１４０℃とした点を除き、実施例Ｂ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ｂ４〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、実施例Ｂ３と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔実施例Ｃ〕
基材積層体の製造に用いた長尺状のポリシクロオレフィンフィルムとして実施例Ａ１及びＢ１とはロットの異なるものを用いた点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体を製造及び加熱巻き上げ処理し、以下のように加熱巻き上げ処理前後の各種評価を行った。加熱巻き上げ処理前後の基材積層体の特性を図５、６に示す。
〔比較例Ａ１〕
加熱巻き上げ処理を行わない点と、位相差膜の延伸温度が１４５．０℃である点とを除き、実施例Ａ１と同様の条件で透明導電性フィルム、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ａ２〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、比較例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ａ３〕
加熱巻き上げ処理の温度を１３０℃とした点を除き、比較例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ａ４〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、比較例Ａ３と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ａ５〕
光学ユニットの作製において、位相差膜の遅相軸の方向と透明導電性フィルムのＭＤ方向が５°の角度をなすように、透明導電性フィルムと偏光機能積層体を貼り合わせた点を除き、実施例Ａ１と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ａ６〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、比較例Ａ５と同様の条件で基材積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ１〕
加熱巻き上げ処理を行わない点と、位相差膜の延伸温度が１４５．０℃である点とを除き、実施例Ｂ１と同様の条件で透明導電性フィルム、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ２〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、比較例Ｂ１と同様の条件で機能積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ３〕
加熱巻き上げ処理を実施例Ｂ１、Ｂ２と同様に１５０℃で行った点を除き、比較例Ｂ１と同様の条件で機能積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ４〕
加熱巻き上げ処理の温度を１３０℃とした点を除き、実施例Ｂ１〜Ｂ４と同様の条件で機能積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ５〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、比較例Ｂ４と同様の条件で機能積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ６〕
加熱巻き上げ処理の温度を１６５℃とした点と、面内位相差が異なる位相差膜を得るために、位相差膜の延伸温度を１４６．４℃とした点を除き、比較例Ｂ１と同様の条件で機能積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた加熱巻き上げ処理後の基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
〔比較例Ｂ７〕
透明導電性フィルムの中心点が長尺状の透明導電性フィルムの幅方向の端から約５０ｍｍの位置となるように透明導電性フィルムを切り出した点を除き、比較例Ｂ６と同様の条件で機能積層体、位相差膜、光学ユニットを製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。得られた基材積層体、位相差膜、光学ユニットの特性を表１に示す。
Figure 0006560133
Figure 0006560133
［評価］
（厚みの測定）
偏光膜、位相差膜、保護膜の厚みは、ダイヤルゲージ（ミツトヨ製）を用いて測定した。
（面内位相差及び遅相軸の方向の測定）
基材積層体の面内位相差及び遅相軸の方向、並びに位相差膜の面内位相差は、［Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製 製品名「ＡｘｏＳｃａｎ」］を用いて２３℃の室内で測定した。ここで、得られた基材積層体の面内位相差及び遅相軸の方向の測定において、基材積層体中の第１及び第２の硬化樹脂層及び光学調整層の影響は無視できるため、測定された基材積層体の面内位相差及び遅相軸の方向は、ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差及び遅相軸の方向とみなすことができる。実施例Ａ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ２、比較例Ａ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ３の基材積層体については、得られた長尺状の基材積層体から７０ｍｍ×１２０ｍｍのサイズに切り出し、その際に、切り出された基材積層体の中心点が、長尺状の基材積層体の幅方向の中央又は端から５０ｍｍの位置となるように、かつ長手方向がＭＤ方向に平行となるように切り出してサンプルを作製した。そして、基材積層体の遅相軸の方向は、サンプルの長手方向すなわちＭＤ方向に対する角度を測定した。また、実施例Ｃの基材積層体については、得られた加熱巻き上げ処理前の基材積層体のロールの基材積層体と得られた加熱巻き上げ処理された基材積層体のロールの基材積層体について、切り出さずにそのまま幅方向の端から５０ｎｍ間隔で面内位相差及び遅相軸の方向を測定した。
（光学ユニットの反射率及び色相の測定）
得られた光学ユニットの透明導電性フィルム側にアクリル系粘着剤（厚み２３μｍ）を用いて、PETにアルミ蒸着した反射板（東レフィルム加工製 製品名「セラピールＤＭＳ−Ｘ４２」）を貼り合せ測定サンプルとした。光学ユニットの偏光膜側の表面の中心点付近の反射率と反射色相（ａ*, ｂ*）を、反射分光スペクトルを分光測色計［コニカミノルタセンシング（株）製 製品名「ＣＭ−２６００ｄ」］を用いて、２３℃の室内で測定した。光源はＤ６５の時の値を使用し、ＳＣＩ（Specular Component Included）方式（正反射光含む）で測定した。
測定結果を表１に示す。また、実施例Ｃのポリシクロオレフィンフィルムの幅方向にわたる加熱巻き上げ処理前後の遅相軸の方向の変化及び位相差の変化を図５、６に示す。ここで、上述のように、得られた基材積層体の面内位相差及び遅相軸の方向の測定において、基材積層体中の第１及び第２の硬化樹脂層及び光学調整層の影響は無視できるため、測定された基材積層体の面内位相差及び遅相軸の方向は、ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差及び遅相軸の方向とみなすことができる。また、実施例Ａ１〜Ａ１３及び比較例Ａ１〜Ａ６、実施例Ｂ１〜Ｂ４及び比較例Ｂ１〜Ｂ７の反射色相の測定結果を図７（ａ）、（ｂ）に示す。図７（ａ）、（ｂ）において、比較例で用いた位相差膜単体の反射色相（ａ*, ｂ*）＝（−０．５９，−２．１５）を目標値として示す。また、実施例Ａ１０及びＡ１１、比較例Ａ５及びＡ６の反射率の測定結果を図８に示す。
（評価）
図５から以下のことが分かった。加熱巻き上げ処理前のポリシクロオレフィンフィルムの幅方向において中央部から端部に向かうにつれて、面内位相差が大きくなった。面内位相差の最小値は１．３０ｎｍ、最大値は２．８６ｎｍであった。これに対して、加熱巻き上げ処理後のポリシクロオレフィンフィルムでは、面内位相差の最小値が３．９９ｎｍ、最大値が５．１１ｎｍと、幅方向にわたって、面内位相差の値が大きくなるものの、面内位相差のばらつきは、加熱巻き上げ処理前の１．５５ｎｍから１．１２ｎｍに抑制された。
また、加熱巻き上げ処理前のポリシクロオレフィンフィルムの幅方向において中央部では遅相軸の方向はＭＤ方向と平行であるが、幅方向において中央部から端部に向かうにつれて、ＭＤ方向に対する遅相軸の方向のずれが大きくなった。ＭＤ方向に対する遅相軸の方向は、−７．２７〜＋７．０８°の角度範囲をとり、±２°の角度範囲を大幅に超えるものとなった。これに対して、加熱巻き上げ処理後のポリシクロオレフィンフィルムでは、ＭＤ方向に対する遅相軸の方向は、−１．２６〜＋０．６７°の角度範囲と、ＭＤ方向に対して±１、５°の角度範囲内にあった。すなわち、加熱巻き上げ処理によって、ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向をＭＤ方向に揃え、遅相軸の方向のばらつきを抑制することができた。
表１から以下のことが分かった。実施例Ａ１〜Ａ９及びＢ１〜Ｂ４では、ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向が、透明導電性フィルムのＭＤ方向に対して±２°の範囲内にあり、ほぼＭＤ方向に揃っているが、端部を切り取った比較例Ａ２、Ａ４、Ｂ２、Ｂ５では、透明導電性フィルムのＭＤ方向に対するポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向が、２．７°以上と±２°を超えた。すなわち、各実施例のポリシクロオレフィンフィルムにおいて、遅相軸の方向をＭＤ方向に揃え、遅相軸の方向のばらつきを抑制できた。
そして、実施例Ａ２、Ａ４、Ａ６、Ａ８及び比較例Ａ４、実施例Ｂ２、Ｂ４及び比較例Ｂ５において、加熱巻き上げ処理の温度が、ポリシクロオレフィンフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）である１６５℃に近づくにつれて、より遅相軸の方向がＭＤ方向に近づき、遅相軸の方向のばらつきが抑制されたことが分かった。
また、比較例Ｂ６、Ｂ７では、ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差が９．５ｎｍ以上となった。すなわち、加熱巻き上げ処理の温度がポリシクロオレフィンフィルムのＴｇである１６５℃となると、ポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差が８ｎｍを超えた。
したがって、加熱巻き上げ処理の温度が、実施例Ａ１〜Ａ９及びＢ１〜Ｂ４においては１４０〜１５５℃であり、比較例Ａ４、Ｂ５においては１３０℃であり、比較例Ｂ６、Ｂ７においては１６５℃であることから、加熱巻き上げ処理の温度は、１４０〜１６０℃であることが好ましく、１４５〜１５５℃であることがより好ましく、１４８〜１５３℃であることが更により好ましいことが分かった。
また、実施例Ａ１〜Ａ９、Ｂ１〜Ｂ４のポリシクロオレインフィルムの面内位相差は、加熱巻き上げ処理なしの長尺状のポリシクロオレフィンフィルムの比較例Ａ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ２の面内位相差に比べて大きくなっているが、実施例Ａ１、Ａ２及びＡ９、実施例Ａ３及びＡ４、実施例Ａ５及びＡ６、実施例Ａ７及びＡ８、実施例Ｂ１及びＢ２、実施例Ｂ３及びＢ４の各々において、長尺状のポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差のばらつきは１ｎｍの範囲内と、ポリシクロオレフィンフィルム内の位置によらず、面内位相差がほぼ一定であった。
また、図７（ａ）、（ｂ）から分かるように、実施例Ａ１〜Ａ９、Ａ１２〜Ａ１３、Ｂ１〜Ｂ４の反射色相は、目標値の反射色相に近く、実施例Ａ２、Ａ４及びＡ９、実施例Ｂ２の反射色相は、比較例Ａ２及びＡ４、比較例Ｂ２、Ｂ５及びＢ７の反射色相に比べて目標値の反射色相に近くなった。また、実施例Ｂ１〜Ｂ４の反射色相は、比較例Ｂ３の反射色相に比べて目標値の反射色相に近くなった。
すなわち、各実施例の光学ユニットにおいて、加熱巻き上げ処理によってポリシクロオレフィンフィルムの面内位相差は大きくなるが、ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向はＭＤ方向に揃い、また面内位相差がポリシクロオレフィンフィルム内の位置によらずほぼ一定となった。そして、位相差膜の面内位相差が、ポリシクロオレフィンフィルムのばらつきがほとんどないほぼ一定の面内位相差を相殺して、位相差膜と透明導電性フィルムの全体の面内位相差が、約１／４波長となるようにされたので、光学ユニットの反射色相が良好なものとなった。
また、空気から偏光膜に光が入射すること自体で、偏光膜表面において反射率が約５％の反射が生じることを考慮すると、図８から分かるように、透明導電性フィルムのＭＤ方向に対する位相差膜の遅相軸の方向が３°（ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸に対する位相差膜の遅相軸の方向が３°、３．５°）の実施例Ａ１０、Ａ１１の光学ユニットの反射率は、透明導電性フィルムのＭＤ方向に対する位相差膜の遅相軸の方向が５°（ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸に対する位相差膜の遅相軸の方向が５°、５．５°）の比較例Ａ５、Ａ６の反射率に比較して大幅に小さくなったことが分かる。透明導電性フィルムのＭＤ方向に対する位相差膜の遅相軸の方向が０°又は９０°である実施例Ａ１〜Ａ９、Ａ１２〜Ａ１３、Ｂ１〜Ｂ４の反射率は、実施例Ａ１０、Ａ１１よりも小さかったから、各実施例の光学ユニットにおいて、反射率を抑制できた。
以上、本発明を特定の実施形態について図面を参照して説明したが、本発明は、図示し説明した構成以外にも、幾多の変更が可能である。したがって、本発明は、図示し説明した構成に限定されるものではなく、その範囲は、添付の特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ定められるべきである。
１ 基材積層体
１０ ポリシクロオレフィンフィルム
１１ 第１硬化樹脂層
１２ 第２硬化樹脂層
１２ａ （第２硬化樹脂層表面の）凸部
１３ 透明導電層
１４ 球状粒子
１６ 光学調整層
Ｓ１ （ポリシクロオレフィンフィルムの）第１主面
Ｓ２ （ポリシクロオレフィンフィルムの）第２主面
ｗ 球場粒子の最頻粒子径
ｄ バインダー樹脂層の厚み
１００ 有機ＥＬ表示装置
１０１ 有機ＥＬ表示パネル
１０２ ウィンドウ
１１０ 光学ユニット
１１２ 透明導電層
１１５ ポリシクロオレフィンフィルム
１１６ 透明導電性フィルム
１２０ 偏光機能積層体
１２１ 偏光膜
１２３ 位相差フィルム
９００ 有機ＥＬ表示装置
９０１ 有機ＥＬ表示パネル
９１２−１、９１２−２ パターン電極
９１５ 誘電体層
９２０ 偏光機能積層体
９２１ 偏光膜
９２３ 位相差層

Claims (14)

  1. 積層体の長尺体がロール状に巻かれた積層体のロールであって、
    前記積層体は、ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルムを含み、
    前記積層体の長尺体の全幅に対する５％の幅の両側の各端部を除く全体にわたって、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向が、前記積層体の長尺体の長手方向に対して±２°の範囲内にあり、
    ２３℃において波長５５０ｎｍの光で測定した前記ポリシクロオレフィンフィルムの、厚み５０μｍあたりの面内位相差は、３〜８ｎｍの範囲内であり、そのばらつきが１．５ｎｍの範囲内であるロール。
  2. ポリシクロオレフィンフィルムと透明導電層とを含む透明導電性フィルムと、
    位相差フィルムと、
    を含み、
    前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向のばらつきは４°の角度範囲内にあり、
    ２３℃において波長５５０ｎｍの光で測定した前記ポリシクロオレフィンフィルムの、厚み５０μｍあたりの面内位相差は、３〜８ｎｍの範囲内であり、そのばらつきが１．５ｎｍの範囲内である光学ユニット。
  3. 前記位相差フィルムは、１／４波長位相差膜を含む請求項２に記載の光学ユニット。
  4. 前記位相差フィルムは、前記透明導電性フィルム側から順に視野角補償用位相差膜と１／４波長位相差膜を含む請求項２に記載の光学ユニット。
  5. 前記１／４波長位相差膜の遅相軸の方向が、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向に対して０°±３°の範囲内にある請求項３又は４に記載の光学ユニット。
  6. 前記１／４波長位相差膜の遅相軸の方向が、前記ポリシクロオレフィンフィルムの遅相軸の方向に対して９０°±３°の範囲内にある請求項３又は４に記載の光学ユニット。
  7. 前記透明導電層はインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）により形成されている請求項２〜６のいずれかに記載の光学ユニット。
  8. 前記光学ユニットは更に偏光機能積層体を含み、
    前記偏光機能積層体は、偏光膜と前記位相差フィルムを含み、
    前記位相差フィルムは、前記透明導電性フィルムの前記透明導電層側に配置され、
    前記偏光膜は前記位相差フィルムに対して前記透明導電性フィルムとは反対側に配置されている請求項２〜７のいずれかに記載の光学ユニット。
  9. 前記偏光機能積層体は、円偏光を生成する機能を有する請求項８に記載の光学ユニット。
  10. 請求項９に記載の光学ユニットと、
    有機ＥＬ表示パネルと、
    を含み、
    前記光学ユニットが、前記有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に配置され、
    前記光学ユニットが、前記透明導電性フィルムが前記偏光膜と前記有機ＥＬ表示パネルとの間に位置するように配置されている有機ＥＬ表示装置。
  11. ポリシクロオレフィンフィルムの長尺体がロール状に巻かれたポリシクロオレフィンフィルムのロールから、前記ポリシクロオレフィンフィルムを繰り出すステップと、
    繰り出された前記ポリシクロオレフィンフィルムを、巻き取りロールで巻き取りながら、加熱温度１４０〜１６０℃で加熱巻き上げ処理して、厚み５０μｍあたりの面内位相差が、３〜８ｎｍの範囲内であり、そのばらつきが１．５ｎｍの範囲内であるポリシクロオレフィンフィルムを得るステップと、
    加熱巻き上げ処理された前記ポリシクロオレフィンフィルム上に透明導電層を成膜し、透明導電性フィルムを生成するステップと、
    を含む透明導電性フィルムの製造方法。
  12. 前記加熱温度は、１４５〜１５５℃である請求項１１に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
  13. 前記加熱温度は、１４８〜１５３℃である請求項１１に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
  14. 請求項８に記載の光学ユニットを製造する方法であって、前記偏光機能積層体と、請求項１１〜１３のいずれかに記載の製造方法により製造された透明導電性フィルムを貼り合わせ、前記光学ユニットを生成する光学ユニットの製造方法。
JP2016011550A 2015-05-29 2016-01-25 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法 Active JP6560133B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201680030382.XA CN107615118B (zh) 2015-05-29 2016-04-14 层叠体的卷、光学单元、有机el显示装置
KR1020177033087A KR102684825B1 (ko) 2015-05-29 2016-04-14 적층체의 롤, 광학 유닛, 유기 ｅｌ 표시 장치, 투명 도전성 필름 및 광학 유닛의 제조 방법
PCT/JP2016/062026 WO2016194488A1 (ja) 2015-05-29 2016-04-14 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法
US15/575,600 US20180155511A1 (en) 2015-05-29 2016-04-14 Laminate roll, optical unit, organic el display device, and methods for manufacturing transparent electrically conductive film and optical unit
TW105115174A TWI721983B (zh) 2015-05-29 2016-05-17 層合體之捲體、光學單元、有機ｅｌ顯示裝置、透明導電性膜及光學單元之製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015110402 2015-05-29
JP2015110402 2015-05-29

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019030858A Division JP2019142227A (ja) 2015-05-29 2019-02-22 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016224401A JP2016224401A (ja) 2016-12-28
JP2016224401A5 JP2016224401A5 (ja) 2017-05-18
JP6560133B2 true JP6560133B2 (ja) 2019-08-14

Family

ID=57748105

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016011550A Active JP6560133B2 (ja) 2015-05-29 2016-01-25 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法
JP2019030858A Withdrawn JP2019142227A (ja) 2015-05-29 2019-02-22 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019030858A Withdrawn JP2019142227A (ja) 2015-05-29 2019-02-22 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20180155511A1 (ja)
JP (2) JP6560133B2 (ja)
KR (1) KR102684825B1 (ja)
CN (1) CN107615118B (ja)
TW (1) TWI721983B (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102069286B1 (ko) * 2015-11-20 2020-01-22 동우 화인켐 주식회사 플렉서블 표시 장치
CN110785684B (zh) * 2017-06-29 2022-06-03 3M创新有限公司 制品及其制造方法
TW201930967A (zh) * 2017-12-28 2019-08-01 鼎茂光電股份有限公司 具有導電功能的光學膜
JP6988640B2 (ja) * 2018-03-28 2022-01-05 大日本印刷株式会社 表示パネル、表示装置、及び表示パネルの位相差層の選別方法
JP7430480B2 (ja) * 2018-04-27 2024-02-13 日東電工株式会社 保護フィルム付き導電性フィルム
KR102435573B1 (ko) * 2018-06-20 2022-08-23 삼성에스디아이 주식회사 광학필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
WO2020241705A1 (ja) * 2019-05-28 2020-12-03 東洋紡株式会社 円偏光素子転写用積層体及びこれを用いた光学物品の製造方法
JP7700674B2 (ja) * 2019-05-30 2025-07-01 大日本印刷株式会社 光学用のプラスチックフィルム、偏光板及び画像表示装置
CN114514116A (zh) * 2019-10-15 2022-05-17 科思创知识产权两合公司 可电调光的装配玻璃
JP7211555B2 (ja) * 2020-03-31 2023-01-24 大日本印刷株式会社 光学用のプラスチックフィルム、並びに、それを用いた光学積層体、偏光板及び画像表示装置

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001201632A (ja) * 2000-01-17 2001-07-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd タッチパネル付き液晶表示装置及びタッチパネル
JP2002156624A (ja) * 2000-11-16 2002-05-31 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶表示装置
JP4260362B2 (ja) * 2000-12-25 2009-04-30 富士フイルム株式会社 光学補償シートの製造方法
JP2003337202A (ja) * 2002-05-21 2003-11-28 Konica Minolta Holdings Inc 反射防止フィルム、それを有する表示装置及び光学フィルムの製造方法
US7324180B2 (en) * 2002-09-06 2008-01-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Laminated retardation optical element, process of producing the same, and liquid crystal display
KR100526402B1 (ko) * 2002-11-22 2005-11-08 주식회사 엘지화학 고리형 올레핀계 부가 중합체를 포함하는 네가티브Ｃ-플레이트(ｎｅｇａｔｉｖｅ Ｃ-ｐｌａｔｅ)형 광학이방성 필름 및 이의 제조방법
JP2005242345A (ja) * 2004-01-30 2005-09-08 Nippon Zeon Co Ltd 液晶表示装置
JP3841306B2 (ja) * 2004-08-05 2006-11-01 日東電工株式会社 位相差フィルムの製造方法
JP3985969B2 (ja) * 2004-09-29 2007-10-03 日東電工株式会社 液晶パネル及び液晶表示装置
JP4677781B2 (ja) * 2004-12-27 2011-04-27 コニカミノルタオプト株式会社 ハードコートフィルム、その製造方法、それを用いた偏光板及び表示装置
JP2007002027A (ja) * 2005-06-21 2007-01-11 Fujifilm Holdings Corp 飽和ノルボルネン樹脂フィルムおよびその製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム並びに液晶表示装置
JP2007063417A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Fujifilm Corp フィルムおよびフィルムの製造方法、ガスバリア層付フィルム、透明導電層付フィルム、並びに、画像表示装置
JP2007147884A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Nitto Denko Corp 液晶表示装置
US20090286098A1 (en) * 2005-12-12 2009-11-19 Takatoshi Yajima Optical Film, Method of Producing the Same and Image Displaying Apparatus Employing the Optical Film
JPWO2007069473A1 (ja) * 2005-12-12 2009-05-21 コニカミノルタオプト株式会社 偏光板保護フィルム、フィルム製造方法、偏光板及び液晶表示装置
JP5483804B2 (ja) * 2007-04-27 2014-05-07 富士フイルム株式会社 シクロオレフィン樹脂フィルム、およびこれらを用いた偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、液晶表示装置、ならびに、シクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法
JP2008273059A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Fujifilm Corp シクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法、シクロオレフィン樹脂フィルム、該フィルムを用いた偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、液晶表示装置
JP2008292982A (ja) 2007-04-27 2008-12-04 Jsr Corp 偏光板およびタッチパネル
JP5104110B2 (ja) * 2007-05-30 2012-12-19 日本ゼオン株式会社 偏光板および液晶表示装置
US8088831B2 (en) * 2007-07-19 2012-01-03 Konica Minolta Opto, Inc. Cellulose ester film, method for producing cellulose ester film, polarizing plate using the same, and liquid crystal display
JP5156336B2 (ja) * 2007-11-02 2013-03-06 株式会社カネカ 透明導電膜
JP2009227868A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Fujifilm Corp 樹脂組成物およびフィルム
JP5186991B2 (ja) * 2008-04-24 2013-04-24 Ｊｓｒ株式会社 積層光学フィルムの製造方法、積層光学フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP4691205B1 (ja) 2010-09-03 2011-06-01 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法
TW201310140A (zh) * 2011-06-22 2013-03-01 Zeon Corp 圖案位相差板與其製造方法以及液晶顯示裝置
JP2013015563A (ja) * 2011-06-30 2013-01-24 Nippon Zeon Co Ltd パターン位相差フィルムの評価方法
JP2013109219A (ja) 2011-11-22 2013-06-06 Keiwa Inc 光学シート、透明導電性積層体及びタッチパネル
US20140353140A1 (en) * 2011-11-28 2014-12-04 Nitto Denko Corporation Method for manufacturing transparent electroconductive film
JP5787779B2 (ja) * 2012-01-25 2015-09-30 日東電工株式会社 導電性フィルムロールの製造方法
US9500790B2 (en) * 2012-02-22 2016-11-22 Konica Minolta, Inc. Optical film, circularly polarizing plate, and image display device
JP5745686B2 (ja) * 2012-03-15 2015-07-08 富士フイルム株式会社 光学積層体を有する有機ｅｌディスプレイ素子
JP5944302B2 (ja) * 2012-04-13 2016-07-05 富士フイルム株式会社 位相差フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP5895880B2 (ja) * 2013-03-18 2016-03-30 ソニー株式会社 光学素子、投射型画像表示装置および原盤
JP6014551B2 (ja) 2013-05-27 2016-10-25 日東電工株式会社 タッチパネルセンサ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016224401A (ja) 2016-12-28
CN107615118B (zh) 2020-07-07
US20180155511A1 (en) 2018-06-07
TW201725405A (zh) 2017-07-16
TWI721983B (zh) 2021-03-21
CN107615118A (zh) 2018-01-19
KR102684825B1 (ko) 2024-07-12
JP2019142227A (ja) 2019-08-29
KR20180013884A (ko) 2018-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6560133B2 (ja) 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法
CN203930282U (zh) 图像显示装置
CN111556976B (zh) 相位差板、带光学补偿层的偏振片、图像显示装置及带触控面板的图像显示装置
KR20180088405A (ko) 장척상의 광학 적층체 및 화상 표시 장치
JP2016126130A (ja) 有機ｅｌ表示装置用積層体及び有機ｅｌ表示装置
CN108279535A (zh) 图像显示装置
TWI770333B (zh) 相位差膜、附光學補償層之偏光板、圖像顯示裝置、及附觸控面板之圖像顯示裝置
JP7281025B2 (ja) 偏光膜の製造方法
CN108627901B (zh) 带防反射层及防映入层的偏振片及其制造方法
WO2016194488A1 (ja) 積層体のロール、光学ユニット、有機ｅｌ表示装置、透明導電性フィルム及び光学ユニットの製造方法
JP7294908B2 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7294909B2 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7321005B2 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP6797499B2 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP6804168B2 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP2020064280A (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7321004B2 (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
CN111045137B (zh) 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
CN118837988B (zh) 带相位差层的偏振片及使用了该带相位差层的偏振片的图像显示装置
JP2023118722A (ja) 位相差フィルム、光学補償層付偏光板、画像表示装置、およびタッチパネル付き画像表示装置
KR20240115165A (ko) 광학 적층체 및 해당 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치
JP2020115225A (ja) 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170329

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170329

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20170329

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20170612

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170619

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20170818

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171018

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171113

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180409

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20181122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190517

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190718

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6560133

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250