JP3512596B2 - 旋光光学素子およびその製造方法と、それを用いた画像表示装置 - Google Patents
旋光光学素子およびその製造方法と、それを用いた画像表示装置Info
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Description
thode Ray Tube)、液晶表示パネル(Liquid Crystal D
isplay)等の表示装置に装着され、表示装置の画素から
出射される光の偏光方向を調整し、立体視を可能にさせ
る旋光光学素子およびその製造方法と、それを用いた画
像表示装置に関するものである。
体画像表示装置は、従来から種々提案されている。これ
ら立体画像表示装置において立体画像を得る方式として
は、ホログラム方式を除けば次に挙げる3つの方式が代
表的である。
に右目用画像と左目用画像とを交互に時分割表示させる
方式である。この方式では、画像の切り替えと同期して
左右交互に開閉するシャッタメガネを観察者がかけてこ
の表示装置を観察することにより、立体画像が得られる
ようになっている。
に右目用画像と左目用画像とを交互にストライプ状に配
置して表示し、この表示装置に近接して設けられたレン
チキュラーレンズやスリットによって表示画像を左右の
目にそれぞれに割り当てるようにする方式である。
ばれているものである。つまり、右目用、左目用のそれ
ぞれの画素から出射される光の偏波面を直交させ、観察
者のかけるメガネに装着された偏光板によって左右の画
像情報をそれぞれ左右の目に振り分けるようにする方式
である。なお、この方式では、偏波面を直交させるかわ
りに、右回り、左回りの円偏光を利用することも可能で
ある。
ずれも両眼視差を有する左右像を個々に表示し、観察者
の右目と左目とにこれらの画像を独立して入れることに
よって奥行感を想起させるという原理に基づいている。
について述べれば以下の通りである。
で立体画像表示を行うことが可能であり、表示装置の解
像度が落ちない、立体視可能領域が制限されないという
利点を有している。しかし、観察者の装着するメガネは
シャッタ機能を備えているため重く、長時間の使用には
適さない。また、そのような機能を備えているため、メ
ガネは高価なものとなる。
上記したような特殊なメガネをかけなくても立体画像を
観察することができる。しかし、その一方で、立体視で
きる領域が狭いため、観察者は顔を固定しなければなら
ないといった問題点を有している。
特殊なメガネをかける必要があるものの、上記メガネは
上記第1の方式で使用するメガネほど高価で複雑なもの
ではなく、非常に軽くて安価なものである。また、メガ
ネをかければ多人数での観察が可能であるため、上記第
2の方式のように、観察領域に制限を受けないといった
利点を有している。
なる画像を映し出すには、2台の表示装置や投影装置を
用い、これらによって作られる画像をハーフミラー、あ
るいは偏光ミラーで合成する方法がよくとられている。
したがって、この場合、部品点数が多くなって表示装置
側が高価となり、家庭用には不向きであるという問題点
を有している。
る2種類の偏光板をモザイク状、またはストライプ状に
配置した偏光板(マイクロ偏光板)が発明されるように
なり、1台の表示装置の中に右目用画像と左目用画像と
を両方表示することが可能となった。
は、2種類の直線偏光板をその偏光軸が互いに直交する
ようにモザイク状に配置したマイクロ偏光板について開
示されている。上記公報では、上記マイクロ偏光板を表
示装置の前面に配置し、偏光軸が互いに直交する1対の
偏光板を左右両眼にそれぞれ貼ったメガネを通して画像
を観察することで、右目用画像、左目用画像がそれぞれ
の目に振り分けられ、立体画像が得られるようになって
いる。
thode Ray Tube)、液晶パネル(Liquid Crystal Displ
ay)等が用いられている。CRTの場合は、表示管の前
面に上記のマイクロ偏光板を配置すればよい。一方、液
晶パネルの場合は、液晶パネルの両側に元々偏光板が配
置されているので、観察者側の偏光板、または、観察者
側およびバックライト側の両方の偏光板を上記のマイク
ロ偏光板に替えればよいことになる。
い、1行ごとに互いに偏光軸が直交するように、2種類
の偏光板を上記液晶パネルの両面の行方向にストライプ
状に配置するようにした立体画像表示装置の構成を図1
0に示す。
ピッチは、液晶パネル51の列方向の画素ピッチにほぼ
一致している。そして、列方向に交互に左目用画像情報
表示領域52、および右目用画像情報表示領域53が形
成されている。これにより、偏光メガネ54を通して観
察すると、表示されたそれぞれの画像情報が上記偏光メ
ガネ54によって左右の目にそれぞれ振り分けられ、表
示画像が立体的に見えるようになっている。
法については、例えば米国特許、U.S.Patent.No.532
7285に詳しく開示されている。ここで、上記米国特
許に開示されたマイクロ偏光板の製造方法について、図
11(a)ないし(d)に基づいて説明すれば以下の通
りである。
基板61上に偏光板62を貼る。この偏光板62の材料
としては、一軸延長されたPVA(polyvinyl alcohol
)をヨウ素で染色したものが代表的であるが、それ以
外の材料であってもよい。次に、同図(b)に示すよう
に、フォトレジスト63を塗布し、このフォトレジスト
63を画素ピッチと等しい幅で一行おきに、つまり、ス
トライプ状にパターニングする。ここで、同図中のP1
は、例えば右目用画像情報の画素の幅に対応しており、
P2 は、例えば左目用画像情報の画素の幅に対応してい
る。
レジスト63をマスクとして偏光板62を水酸化カリウ
ム(KOH)等で脱色し、非偏光領域64を形成する。
なお、偏光板62として未染色の基材を用い、パターニ
ングであけた穴を通してヨウ素で染色し、ホウ酸で安定
化させて偏光領域を形成するようにしてもよい。
記と同様の方法でもう1枚同じ構成の基板を作製したの
ち、同図(d)に示すように、2枚の基板に設けられた
それぞれの偏光板62・62の偏光方向が互いに直交す
るように、位置決めを行ってそれらを貼り合わせ、マイ
クロ偏光板を得る。
たは染色する以外に、偏光板62を直接エッチングする
方法もある。偏光板62としてPVAを用いた場合は、
水とエタノールとにより直接偏光板62をエッチングす
ることが可能である。また、偏光板62としてPVA以
外の樹脂を用いた場合でも、反応性イオンエッチング
(Reactive Ion Etching)やレーザーエッチングで直接
偏光板62をエッチングすることが可能である。以下
に、エッチングによってマイクロ偏光板を形成する工程
について説明する。
ガラス基板61上に偏光板62を貼り、この偏光板62
上にフォトレジスト63を塗布してパターニングすると
ころまでは、上述の過程と同様である。次に、偏光板6
2を脱色、あるいは染色するかわりに、同図(c)に示
すように、フォトレジスト63をマスクとして、例えば
水とエタノールとにより偏光板62をエッチングする。
その後、フォトレジスト63を剥離し、上記と同様の方
法でもう1枚同じ構成の基板を作製したのち、同図
(d)に示すように、2枚の基板に設けられたそれぞれ
の偏光板62・62の偏光方向が互いに直交するよう
に、位置決めを行ってそれらを貼り合わせ、マイクロ偏
光板を得る。
は、一方の基板におけるガラス側と他方の基板における
偏光層側とを貼り合わせてマイクロ偏光板を形成してい
るが、このほかに、例えば、偏光板62の形成された面
同士が向かい合うように、あるいはガラス基板61同士
が接するように2枚の基板を貼り合わせる方法でマイク
ロ偏光板を形成してもよい。
直接ストライプ状に分断し、こののち2種の基板を互い
に貼り合わせるようにしてもよい。
上に形成するかわりに、図示はしないが、1/4波長板
を基板上に形成し、上記と同様の方法で加工してモザイ
ク、またはストライプ位相差板を作製し、これをパター
ン化されていない偏光板の外側に置いて、互いに逆回転
の円偏光を出射させるようにしてもよい。この場合、円
偏光板を貼ったメガネを通して観察すれば、立体画像を
得ることが可能となる。
ように、1/2波長板71を右目用または左目用のいず
れかの画像表示側のみに配置するようにした構成も開示
されている。これにより、1/2波長板71は偏光板7
2を透過した光の偏光方向を90°回転させるので、図
示しない偏光メガネを通して観察することにより、立体
視が可能となっている。
(Twisted Nematic )液晶セルを表示装置の外側に配置
するようにした構成も開示されている。つまり、図14
に示すように、2枚のガラス基板81でTN液晶82が
挟まれ、かつ、表示装置83と同様の画素ピッチで作製
されたTN液晶セル84を、表示装置83の表示画面の
前面に配置する構成である。なお、上記TN液晶82は
90°ねじれるように配向されている。
した光は、偏光板85を通りこのTN液晶セル84に入
射する。ここで、例えば、同図中の領域Bにのみ電圧を
印加すれば、この領域Bを通る光は旋光されずに出射さ
れる一方、領域Aを通る光はTN液晶82の配向状態に
よって、90°旋光されて出射される。
84を表示画面の前面に配置することによって、右目用
または左目用の画像情報に対応するように、それぞれの
画素から出射した光が旋光されることになる。つまり、
このTN液晶セル84は、上述した1/2波長板71
(図13参照)と同等の機能を有していることなる。
許に開示されたマイクロ偏光板の製造方法では、偏光軸
が互いに直交するように2種類の基板を貼り合わせて製
造するため、貼り合わせの際の位置決めに高い精度が要
求される。ここで、一方の基板の偏光層と他方の基板の
ガラス側とを貼り合わせて位置ずれが生じた状態を図1
5(a)に示し、両基板における偏光層同士を貼り合わ
せて位置ずれが生じた状態を図15(b)に示す。
ように、貼り合わせの際の位置ずれにより、偏光板62
・62同士が重なってしまうと、これら偏光板62・6
2は互いに偏光軸が直交しているので、重なり合った部
分においては光が透過しない。したがって、例えばスト
ライプ偏光板であれば、ストライプ方向と同方向に黒帯
(ブラックライン)が発生することになる。
で示すように、貼り合わせの際の位置ずれにより、偏光
板62・62間に隙間が生じてしまうと、その部分にお
いては光がそのまま通過してしまうので、表示すべき情
報に関係なく白い帯(白抜け)が発生することになる。
が低下して位置ずれが生じた場合に、黒帯、白抜け等が
発生し、視認性が損なわれるという問題が生ずる。
ガラス側とを精度良く貼り合わせたとしても、2枚の偏
光板62・62の間にガラス基板61が存在することか
ら、観察する方向によってはやはり黒帯、白抜け等が発
生し、視認性が損なわれるという問題が生ずる。
51からガラス基板61に対して垂直方向に出射する光
91は、それぞれの画素に対応する偏光板62を通過す
るので問題はない。しかし、液晶パネル51からガラス
基板61に対して斜め方向に出射する、例えば光92
は、偏光軸の互いに直交した2枚の偏光板62・62を
通過する。したがって、この方向の表示は常に黒とな
る。一方、液晶パネル51からガラス基板61に対して
同様に斜め方向に出射する、例えば光93は、1枚の偏
光板62も通過しない。したがって、この方向の表示
は、表示すべき情報に関係なく常に白となる。
精度良く貼り合わせたとしても、観察する方向によって
は右目用または左目用の画像情報が観察できない領域、
および無表示領域が発生し、視認性が損なわれるという
という問題が生ずる。
71をスリット状にして貼り合わせる場合においては、
1/2波長板71を精度良くストライプ状に加工するこ
とが困難であるという問題が生ずる。つまり、切削加工
においては、画素ピッチに正確に対応させてストライプ
状に加工することは困難であり、また、加工に要する時
間も長時間となる。一方、エッチング加工においては、
上述の偏光板62(図11参照)の場合は数十μmオー
ダーでエッチングすることができるのに対し、1/2波
長板71では、エッチング量が100〜200μmオー
ダーになることから、厚さ方向にピッチ精度を保ってエ
ッチングすることが困難であるという問題が生ずる。
の表示画面の前面にTN液晶セル84を配置する構成で
は、右目用または左目用に対応する画素に電圧を印加し
て透過光を選択的に旋光させるので、このようにTN液
晶セル84を駆動する電気回路を新たに設ける必要が生
じる他、装置全体が厚くなる、装置自体が重くなる、コ
ストアップになるという問題が生ずる。
なされたもので、その目的は、観察位置によって黒帯、
白抜け等を発生させることのない旋光光学素子およびそ
の製造方法を提供すると共に、上記旋光光学素子を備
え、視認性が良く表示品位の高い画像表示装置を提供す
ることにある。
光光学素子は、上記の課題を解決するために、表示装置
からの光の偏波面を調整する旋光光学素子であって、光
の偏波面を回転させる旋光領域と、光の偏波面を回転さ
せない等方性透明材料からなる非旋光領域とが同一基板
上に形成されていることを特徴としている。
の出射光は、旋光光学素子における旋光領域または非旋
光領域のいずれか一方に入射する。そして、旋光領域に
入射した光は、該領域にて偏波面が回転させられ、例え
ば右目用画像情報に対応する光として出射される。ま
た、非旋光領域に入射した光は、該領域にて偏波面は回
転されず、入射時と同じ偏波面で例えば左目用画像情報
に対応する光として出射される。
は、同一基板上に形成されているので、表示装置の画素
からの出射光は、確実に上記領域のうちのどちらかを通
る。これにより、旋光されるべき光は確実に旋光領域に
て旋光される一方、旋光されるべきでない光は非旋光領
域にて旋光されずにそのまま透過する。
2枚の基板を、互いに偏光軸が直交するように貼り合わ
せる構成であったので、その貼り合わせの精度によって
は、偏光領域同士が重なったり、あるいは偏光領域間に
隙間が形成されたりした。その結果、偏光領域の重なっ
た部分では、光が透過せずに黒表示となる一方、隙間の
形成された部分では表示情報に関係なく白表示となって
いた。
されたとしても、基板には厚みがあるので、表示装置の
画素からの出射光の出射方向によっては、上記出射光が
偏光領域または非偏光領域を二重に通過したりした。そ
の結果、上記と同様の黒表示や白表示が生じていた。
に旋光領域、非旋光領域の両方が形成されるので、その
ような不都合が生じるようなことはなく、表示装置の画
素からの出射光は、必ず旋光領域、非旋光領域のうちの
どちらか一方を通過する。また、画素からの出射光が斜
め方向に出射されても同様である。
を観察する位置に左右されることなく、表示情報に無関
係の黒表示、白表示の発生を確実に回避することがで
き、高品質な表示を実現することができる。
は、画素に応じて選択的に旋光させるために、画素に電
圧を印加するための電気回路等が必要であった。しか
し、上記構成では、そのような回路等が必要ない。した
がって、この旋光光学素子を例えば立体画像表示装置に
適用することによって、装置の小型化、軽量化、および
コストダウンを図ることができる。
記の課題を解決するために、請求項1の構成において、
上記等方性透明材料が、フォトレジスト、または、紫外
線感光樹脂からなることを特徴としている。
記の課題を解決するために、請求項1または2の構成に
おいて上記非旋光領域が、上記基板と同一の材料で形成
されることを特徴としている。
記の課題を解決するために、請求項1ないし3のいずれ
かの構成において、上記旋光領域に入射する光の偏波面
の回転角度が任意に設定可能になっていることを特徴と
している。
記の課題を解決するために、請求項1ないし4のいずれ
かの構成において、上記旋光領域は、該旋光領域に入射
する光の偏波面を90°回転させるようになっているこ
とを特徴としている。
光の偏波面の回転角度を任意に設定することができるの
で、旋光光学素子と表示装置とを組み合わせて種々の画
像表示装置を構成することができる。
場合、旋光領域を通過した光と非旋光領域を通過した光
とは、偏光方向が互いに直交し、それらの光が完全に分
離される。したがって、旋光領域を通過した光と非旋光
領域を通過した光とのうち、一方を例えば右目用画像
に、他方を例えば左目用画像に対応させ、それぞれの偏
光光に対応した互いに直交する偏光板を左右両眼に貼っ
た偏光メガネを通して画像を観察することにより、立体
視が可能となる。したがって、上記回転角度を90°に
設定することによって、立体画像表示装置を容易に得る
ことができる。
した場合、例えば偏光方向の互いに直交する偏光板を左
右に貼った偏光メガネを用いることにより、旋光領域の
画像を例えば両眼で認識させることができると共に、非
旋光領域の画像を例えば片目でのみ認識させることがで
きる。この場合、旋光領域の画像と非旋光領域の画像と
の対応関係を一目瞭然にして見ることができる。
記の課題を解決するために、請求項1ないし5のいずれ
かの構成において、上記旋光領域および上記非旋光領域
は、右目用画像、左目用画像に対応した光を出射する、
表示装置における画素の配置パターンと同じパターンで
形成されていることを特徴としている。
目用画像、左目用画像を作る画素が例えばチェックパタ
ーン、ストライプ状、あるいはその他の不規則なパター
ンで構成されている場合でも、上記画素のパターンと、
旋光領域および非旋光領域のパターンとを一致させるこ
とができる。これにより、右目用画像または左目用画像
に対応する光を確実に旋光させることができ、表示品位
の良い画像を得ることができる。
記の課題を解決するために、請求項1ないし5のいずれ
かの構成において、上記旋光領域は、旋光性を示す光学
活性成分の含まれた重合性液晶材料で形成されているこ
とを特徴としている。
光性を示す光学活性成分の含まれた重合性液晶材料で形
成されているので、上記旋光領域に入射する光を液晶の
分子方向に沿って確実に旋光させることができる。
記の課題を解決するために、請求項7の構成において、
上記重合性液晶材料は、液晶分子の方向に平行な偏波面
を持つ光を透過させる一方、上記方向に垂直な偏波面を
持つ光を吸収する色素材料を含んでいることを特徴とし
ている。
晶分子の方向に平行な偏波面を持つ光を透過させる一
方、上記方向に垂直な偏波面を持つ光を吸収するので、
旋光領域に入射した直線偏光光は液晶分子によって旋光
されつつ、液晶分子に垂直な光つまり楕円偏光を引き起
こす成分の光は上記色素材料に吸収される。これによ
り、旋光領域から出射される光は直線偏光光のみとな
る。
に入射した光の一部が上記色素材料に吸収されることに
より出射光量は落ちるが、出射光として直線偏光光のみ
を得ることができる。その結果、表示装置の画素から出
射される光を、それぞれ右目用画像、左目用画像に対応
する光に効率よく分離することができ、立体画像表示に
おける視認性を向上させることができる。
記の課題を解決するために、請求項7または8の構成に
おいて、上記重合性液晶材料は、光硬化性であることを
特徴としている。
硬化性であるので、上記重合性液晶材料に照射する光と
して、例えば最も一般的な紫外線を用いることができ
る。したがって、紫外線を重合性液晶材料に照射して重
合性液晶材料を硬化させることにより、画素ピッチに対
応した旋光領域を容易にかつ正確に形成することができ
る。
上記の課題を解決するために、請求項7または8の構成
において、上記重合性液晶材料は、熱硬化性であること
を特徴としている。
は熱硬化性であるので、旋光領域に光硬化性の重合性液
晶材料を用いる場合よりも高い重合度を得ることができ
る。これにより、画素ピッチに対応した旋光領域を確実
に得ることができる。
造方法は、上記の課題を解決するために、第1の基板上
に等方性透明材料を塗布し、該等方性透明材料を所望の
形状にパターニングして入射光の偏波面を回転させない
非旋光領域を形成する第1の工程と、その後、入射光の
偏波面を回転させる旋光領域を形成するように、上記第
1の基板上に重合性液晶材料を滴下または塗布する第2
の工程と、第2の基板を上記等方性透明材料の上に押し
当てた状態で、上記重合性液晶材料を重合、硬化させる
第3の工程とを含む構成からなっていることを特徴とし
ている。
樹脂からなる第1の基板上に、例えばフォトレジスト、
紫外線感光樹脂等の等方性透明材料が塗布される。そし
て、この等方性透明材料は、例えばフォトリソグラフィ
技術によって所望の形状にパターニングされ、非旋光領
域が形成される。
料が滴下または塗布され、重合性液晶材料の上から第2
の基板が押し当てられる。このとき、重合性液晶材料
は、第1の基板上の非旋光領域以外の領域に流れ込むこ
とになる。そして、この重合性液晶材料は、第2の基板
が押し当てられた状態で硬化され、入射光の偏波面を回
転させる旋光領域が形成される。
形成の際に、例えばフォトリソグラフィ技術が使用でき
るので、表示側の画素ピッチに合わせて精密な寸法で非
旋光領域を加工、形成することができる。その結果、表
示側の画素ピッチに合わせて重合性液晶材料からなる旋
光領域をも高精度で形成することができ、高品位の旋光
光学素子を提供することができる。
光領域の形成された2枚の基板を互いに貼り合わせると
いった工程が必要でないため、従来よりも簡単な製法で
旋光光学素子を得ることができる。また、そのような工
程がないため、貼り合わせ時の位置ずれ等の不都合も生
じない。したがって、このような方法で製造された旋光
光学素子を例えば立体画像表示装置に適用した場合に、
黒帯、白抜け等の生じない、視認性の優れた立体画像表
示装置を提供することができる。
造方法は、上記の課題を解決するために、請求項11の
構成において、上記第1の工程は、第1の基板上に等方
性透明材料を塗布し、非旋光領域のパターンが刻まれた
型を上記等方性透明材料に押圧して非旋光領域を形成す
る工程であることを特徴としている。
ンが刻まれた型を上記等方性透明材料に押圧することに
よって、等方性透明材料を簡単にパターニングすること
ができる。したがって、上記構成によれば、旋光光学素
子の製造工程をさらに簡素化することができる。また、
フォトリソグラフィ技術等を用いずにパターニングする
ことができるので、製造に要するコストの低減を図るこ
とができる。
造方法は、上記の課題を解決するために、請求項11ま
たは12の構成において、上記第1および第2の基板に
配向処理が施されていることを特徴としている。
板に配向処理が施されているので、上記両基板に挟まれ
た重合性液晶材料の分子方向は、一方の基板と接する部
分では配向処理の方向と一致し、他方の基板に向かうに
連れて徐々に回転する。つまり、上記重合性液晶材料は
上記両基板の間でちょうどねじれて配向する。したがっ
て、上記構成によれば、重合性液晶材料に入射する光を
確実に旋光させることができる。
造方法は、上記の課題を解決するために、請求項13の
構成において、上記第1の基板と上記第2の基板とで、
配向方向が直交するように配向処理が施されていること
を特徴としている。
は、配向方向が直交するように配向処理が施されている
ので、上記第1、第2の基板で挟まれた重合性液晶材料
は、上記両基板の間で90°ねじれて配向する。これに
より、上記重合性液晶材料を通過する光の偏波面は上記
重合性液晶材料にて90°回転させられ、上記重合性液
晶材料を通過しない光とは、その偏光方向は互いに直交
することになる。その結果、入射光を確実に右目用画
像、左目用画像に対応した光に分離することができる。
造方法は、上記の課題を解決するために、請求項11な
いし14のいずれかの構成において、上記第1および第
2の基板がガラスであることを特徴としている。
板がガラスであるので、第1および第2の基板と、表示
装置側に設けられているガラス基板とは、温度変化に対
して同等の熱膨張を生じる。表示装置側と旋光光学素子
のピッチは高精度で一致させなければならないが、この
様に双方の基板に同材料を使用することで、設置後のそ
り量の低減、使用時の温度変化におけるピッチずれを低
減させることができる。したがって、上記構成によれ
ば、温度変化に影響なく非旋光領域を表示装置側の画素
ピッチに合わせて高精度で形成することができる。
造方法は、上記の課題を解決するために、請求項11な
いし14のいずれかの構成において、上記第1および第
2の基板が樹脂であることを特徴としている。
板が例えばプラスチック等の樹脂であるので、第1およ
び第2の基板をガラスで構成したときよりも基板厚さを
薄くできる。これにより、旋光光学素子の小型化、軽量
化を図ることができる。また、上記樹脂は一般的に弾力
性を有しているため、例えば第1の基板に型押しを行う
ことによって、容易に非旋光領域を形成することができ
る。したがって、その結果、旋光光学素子を容易に大量
生産することができる。
上記の課題を解決するために、光の偏波面を回転させる
旋光領域と、光の偏波面を回転させない等方性透明材料
からなる非旋光領域とが同一基板上に形成され、表示装
置からの光の偏波面を調整する旋光光学素子と、上記旋
光領域および上記非旋光領域と対応する画素を有する表
示装置とからなることを特徴としている。
画素は、旋光光学素子における旋光領域および非旋光領
域と対応しているので、上記各画素から出射される光
は、旋光光学素子の旋光領域または非旋光領域に確実に
入射する。したがって、上記旋光光学素子を表示装置に
取り付けて例えば立体画像表示装置を構成した場合に、
表示情報に無関係な黒帯、白抜け等のない、視認性の優
れた、表示品位の高い立体画像表示装置を提供すること
ができる。また、従来のように画素に電圧を印加するた
めの電気回路等を設ける必要もなく、上記構成によれ
ば、装置の小型化、軽量化およびコストダウンを図るこ
とができる。
1ないし図9に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。まず、本発明の旋光板としての旋光光学素子6の製
造方法等について説明する前に、旋光板および位相差板
について説明する。
回転させる性質を有する光学素子のことであり、上記の
性質を旋光性(optical rotatory power)と呼ぶ。本実
施形態における旋光板は、後述する光重合性液晶材料を
配向処理して紫外線硬化させることにより得られる。そ
して、図6(a)に示すように、旋光板35の光入射面
と光出射面とで、液晶分子36の配向方向が90°異な
るように、その厚さ方向に液晶分子36の軸が連続的に
回転した構造となっている。これにより、旋光板35に
直線偏光が入射すると、この直線偏光は偏波面が90°
回転して旋光板35から出射される。なお、液晶分子3
6は、長軸と短軸とで異なる屈折率を有している。
は、主に1軸性の屈折率異方性を持つ材料からなる光学
素子であり、図6(b)に示すように、一般に分子の方
向およびこれに直交する方向にそれぞれ光軸N1・N2
を有している。なお、素子内部での分子の分布は一様と
なっている。そして、双方の光軸N1・N2における屈
折率の大小関係で、高速軸、低速軸が定義される。例え
ば、同図に示すようにN1>N2であれば、光軸N1が
低速軸となる。
1/2波長板37に、その光軸に対して45°傾いた偏
波面を有する直線偏光を入射させると、出射光は入射光
の偏波面をちょうど90°回転させた直線偏光光として
出射される。したがって、1/2波長板37は、旋光板
35と同様の作用を奏することになるが、以下の点で旋
光板35とは相違するものである。
向に分子が一様に分布しているが、旋光板35では、液
晶分子36の配向は回転しているため、旋光板35の厚
さ方向に液晶分子36が一様には分布していない。
に示すように、入射する直線偏光の偏波面を2θ(例え
ば90°)回転させるためには、1/2波長板37の光
軸N1に対して偏波面がθ(例えば45°)傾いた直線
偏光を入射させる必要がある。つまり、光軸N1を対称
軸として偏波面がθだけ傾いた直線偏光を出射させるた
めには、光軸N1に対して上記とは反対側に偏波面がθ
だけ傾いた直線偏光を1/2波長板37に入射させなけ
ればならない。このように、1/2波長板37を用いた
場合、直線偏光を入射させる際に、1/2波長板37の
光軸N1に対する偏波面の角度を規定する必要がある。
液晶材料のねじれ角度を調整して適当に選択することが
できる。また、光重合性液晶材料のねじれ角度を調整す
ることにより、偏波面を任意の角度で回転させることが
できるので、立体画像表示装置以外の装置に旋光板35
を適用することができる。
を透過する直線偏光の透過率はともに、入射光の波長に
依存するが、旋光板35における透過率の波長依存性
は、1/2波長板37に比べ小さい。以下に、上記両者
における透過率の波長依存性について詳細に説明する。
た偏光板で挟んだ場合、1/2波長板37の透過率IR
は、一般的に次式で表される。
わち、Δn=n1−n2である。また、dは、1/2波
長板37の厚さである。
率IR をとって上記の式をグラフ化したものを図8に示
す。同図において、透過率IR =1とは、入射側偏光板
を通り直線偏光となった光が、1/2波長板37にてそ
の偏波面が90°回転されて出射側偏光板を透過するこ
とを示している。一方、透過率IR =0とは、入射側偏
光板を通り直線偏光となった光が、1/2波長板37に
てその偏波面が180°回転され、出射側偏光板から出
射されずに該偏光板にて吸収されることを示している。
た偏光板で挟んだ場合、旋光板35の透過率I0 は、一
般的に次式で表される。
わち、Δn=n1−n2である。また、dは、旋光板3
5の厚さである。また、上記と同様に、横軸にΔnd/
λを、縦軸に透過率I0 をとって上記の式をグラフ化し
たものを図9に示す。
過する直線偏光の透過率IR は、Δnd/λに対して透
過と吸収との間を単に振動する。これは、入射光の波長
λに応じて透過率IR が常に変化するということであ
る。つまり、例えば緑色の光(λ=550nm)の透過
率IR が“1”となるようにΔndを選んでも、青色の
光(λ=420nm)や赤色の光(λ=620nm)を
1/2波長板37に入射させた場合、入射光の偏波面は
90°回転されず、1/2波長板37から楕円偏光が出
射される。そして、出射光の一部は出射側偏光板にて吸
収される。このように、入射光の波長λに応じて透過率
IR が変化するので、例えば白色光を1/2波長板37
に入射させた場合、1/2波長板37からは色付きの光
が出射されることになる。
35を透過する直線偏光の透過率I0 は、Δnd/λが
小さいところでは振動するが、Δnd/λが増加するに
つれて“1”に収束する。つまり、旋光板35において
も、1/2波長板37と同様、透過率I0 は入射光の波
長λに依存しているが、1/2波長板37のように、振
動がΔnd/λに対して常に続くことはない。したがっ
て、可視光波長λに対し、旋光板35の厚さdを厚くす
る等によってΔndを大きくすれば、透過率I0 の波長
依存性は1/2波長板37に比べて小さいものとなる。
したがって、旋光板35を用いた場合、Δndを大きく
することにより、白色光を入射させたときに色付きの光
が出射されるのを回避することができる。
35と1/2波長板37とは機能が相違するものであ
る。そして、本発明は、特に上記(2)で説明した旋光
板35の利点を生かすものである。
について、図1(a)ないし図1(e)に基づいて説明
する。
め配向処理の施されたガラスまたは樹脂からなる基板1
(第1の基板)上に、フォトレジスト2(等方性透明材
料)を塗布する。なお、後にフォトレジスト2を除去す
るための溶剤として、基板1がダメージを受けないよう
な溶剤を選定するのはいうまでもない。なお、本実施形
態では、配向膜として一般的に用いられるポリイミドを
基板1に塗布、焼成することにより、上記の配向処理を
行っている。
の樹脂材料としては、例えばPMMA(polymethyl met
hacrylate )、PET(polyethylene terephthalat
e)、PES(polyether sulfone )の他、日本合成ゴ
ムのARTON、PC(polycarbonate )等、極力複屈
折の少ない材料が望ましい。また、フォトレジスト2と
しては、例えば日本合成ゴムのMFRシリーズ、新日鉄
化学のV259PA等がある。
ば、配向材料であるポリイミドの焼成温度に耐えること
ができない場合がある。このときは、配向材料としてS
iO、SiO2 を用いたり、配向材料を用いずに樹脂基
板1を直接ラビングすればよい。なお、上記した材料は
本実施形態における一例であり、上記の材料に限定する
わけではない。
トレジスト2上に所望のパターンを形成したマスク(図
示しない)を当て、紫外線にて上記フォトレジスト2を
露光し、現像する。なお、上記フォトレジスト2には旋
光性を示す成分が含まれてはいないので、上記フォトレ
ジスト2は入射光の偏波面を回転させない非旋光領域を
形成する。なお、本実施形態の場合、上記フォトレジス
ト2はストライプ状に形成されている。
る。その後、同図(c)に示すように、入射光の偏波面
を回転させる旋光領域が形成されるように、この基体の
上に旋光性を示す光学活性成分が含まれた重合性液晶3
(重合性液晶材料)を塗布または滴下する。これによ
り、上記旋光領域に入射する光を液晶の分子方向に沿っ
て確実に旋光させることができるようになる。
ば、Proc.International Display Research Conferenc
e,1994,pp.161-164(H.Hasebe et al. )で報告されて
いる材料を用いることができる。
化タイプ)は、アクリル基を液晶分子中に有し、室温で
ネマチック層を示すものである。ちなみに、H.Hasebeら
は、この重合性液晶をSTN(Super Twisted Nematic
)液晶パネルにおける光学補償に利用したり、視野角
を改善するための位相差層に用いたりしている。
が2通り示されている。これらの製造方法を簡単に紹介
しておくと次の通りである。1つは、2枚の基板にそれ
ぞれ配向膜をつけて配向処理し、上記両基板の間に上記
の重合性液晶を入れて硬化させたのち、一方の基板を剥
して所望の位相差板を得る方法である。そして、もう1
つは、それぞれの基板の上に電極と配向膜とをつけて配
向処理し、それらの基板の間に上記の重合性液晶を入
れ、上記電極にかける電圧を調整して位相差を各R(re
d )、G(green )、B(blue)に対応させて制御した
のち上記の重合性液晶を硬化させ位相差板を得る方法で
ある。
アゾ系またはアントラキノン系色素に代表されるn型二
色性色素(色素材料)が1%添加されている。なお、こ
の二色性色素は黒色に調整されている。この色素分子
は、液晶の分子方向に平行に配向すると共に、液晶分子
の方向に平行な偏波面を持つ光を透過させる一方、上記
方向に垂直な偏波面を持つ光を吸収する性質を有してい
る。
の配向方向と直交するように、上記と同様の方法であら
かじめ表面に配向処理の施された別の基板4(第2の基
板)をこの基体の上に置き、上から押さえ付ける。これ
により、重合性液晶3は、上下両基板1・4に挟まれた
非旋光領域以外の領域に流れ込む。このとき、上下両基
板1・4の配向方向は互いに直交しているので、上記重
合性液晶3はこの間でちょうど90°ねじれて配向する
ことになる。そして、この基体に紫外線5を照射し、重
合性液晶3を重合、硬化させる。その結果、入射光の偏
波面を90°回転させるストライプ状の旋光領域が形成
され、旋光光学素子6が完成する。
・4に対して配向処理を施した後に、旋光領域を形成し
ているが、フォトレジスト2を現像後に、基板1上のフ
ォトレジスト2の形成されていない領域または全面に対
して配向膜を形成し、その後上記配向膜をラビングして
もよい。なお、配向膜としては、上述のように例えばポ
リイミド、SiO、SiO2 等を用いることができる。
領域はストライプ状に形成されているが、必ずしもこれ
に限ることはない。結果として、表示装置における右目
用画像、左目用画像に対応する光を出射する画素の配置
パターンと同じパターンになるように旋光領域、非旋光
領域が形成されればよい。つまり、上記画素が、例えば
チェックパターン、あるいはその他の不規則なパターン
で構成されていれば、旋光領域、非旋光領域もチェック
パターン、あるいはその他の不規則なパターンで構成す
ればよい。これにより、上記画素のパターンと、旋光領
域および非旋光領域のパターンとが一致するので、右目
用画像または左目用画像に対応する光を確実に旋光させ
ることができ、表示品位の良い画像を得ることができ
る。
剥して、旋光光学素子6(同図(d)参照)よりも素子
全体の厚さの薄い旋光光学素子6′を形成してもよい。
取り付けて例えば立体画像表示装置を構成する場合、基
板4(同図(d)参照)を剥した面、つまり、旋光領域
と非旋光領域とが形成されている面を表示装置側にして
取り付ける方がよい。その理由は、前述したように、表
示装置と旋光領域との間に距離ができると、斜め方向か
ら観察した場合に隣の画素領域を同時に見てしまうとい
うクロストークが起こるからである。
場合、ガラスの厚みは0.5〜1.0mmであるので、
上記の理由から観察領域が制限されることが十分にあり
得る。したがって、この場合は、図1(e)に示すよう
に、一方の基板4を剥して旋光光学素子6′を形成する
方がよい。
により、基板1・4と、表示装置側に設けられているガ
ラス基板とは、温度変化が生じたときに同等の熱膨張を
生じる。表示装置側と旋光光学素子6のピッチは高精度
で一致させなければならないが、この様に双方の基板に
同材料を使用することで、設置後のそり量の低減、使用
時の温度変化におけるピッチずれを低減させることがで
きる。したがって、表示パネルの外寸が大きい場合に
は、基板1・4をガラスで構成する方が良い。
前面に置かれるため、基板1・4の厚みはできるだけ薄
い方がよいが、基板1・4を薄いガラスで構成すること
は製造上困難である。
は、その厚みを50〜200μmと薄くすることができ
るので、同図(d)に示すように、一方の基板4を剥さ
ずとも上述したクロストークを極力避けることが可能と
なる。
より、基板1・4をガラスで構成したときよりも基板厚
さを薄くできる。これにより、旋光光学素子6・6′の
小型化、軽量化を図ることができる。また、上記樹脂は
一般的に弾力性を有しているため、例えば基板1に型押
しを行うことによって、容易に非旋光領域を形成するこ
とができる。したがって、その結果、旋光光学素子6・
6′を容易に大量生産することができる。なお、型押し
によって旋光光学素子6・6′を得る方法については後
述する。
り大きな熱膨張性、弾力性を有するため、ガラスほどの
寸法精度が得られない。したがって、基板1・4が樹脂
からなる旋光光学素子6・6′を大量生産する場合は、
寸法精度があまり要求されないとき、例えば1ピッチが
十分大きい小型の表示装置に旋光光学素子6・6′を適
用する場合が望ましい。また、大量生産する場合は、単
品の大きさがガラス製のパネルよりも小型のものを生産
する場合に適する。
際に、上述のようなフォトリソグラフィ技術が使用でき
るので、表示側の画素ピッチに合わせて精密な寸法で非
旋光領域を加工、形成することができる。その結果、表
示側の画素ピッチに合わせて旋光領域をも高精度で形成
することができ、表示側の画素寸法と一致した高品位の
旋光光学素子6・6′を提供することができる。
領域の形成された2枚の基板を互いに貼り合わせるとい
った工程が必要でないため、従来よりも簡単な製法で旋
光光学素子6・6′を得ることができる。また、そのよ
うな工程が必要でないため、貼り合わせ時の位置ずれ等
の不都合も生じない。したがって、このような方法で製
造された旋光光学素子6・6′を立体画像表示装置に適
用した場合に、黒帯、白抜け等の発生しない、視認性の
優れた立体画像表示装置を提供することができる。
ロ偏光板、マイクロ位相差板よりも簡単な工程で旋光光
学素子を製造することができるため、この方法によって
製造された旋光光学素子を表示装置に取り付けて立体画
像表示装置を構成した場合に、低コストで表示品位のよ
い立体画像表示装置を提供することができる。
該偏光の偏波面は重合性液晶3の分子方向に沿って回転
する。しかし、回転させられる過程で光は偏波面以外の
方向の成分を持つため、出射光は必ずしも直線偏光にな
らず、上記方向の成分と直線成分とが合成されたいわゆ
る楕円偏光となる。
入射した直線偏光は液晶分子によって旋光されつつ、液
晶分子に垂直な光、つまり楕円偏光を引き起こす成分の
光はn型二色性色素によって吸収されるので、旋光領域
から出射される光は直線偏光のみとなる。したがって、
旋光領域に入射した光の一部が吸収されることにより出
射光量は落ちるが、出射光の偏光状態は安定に保たれる
ので、右目用画素、左目用画素からそれぞれ出射される
出射光の分離が良くなる。その結果、上記構成によれ
ば、立体画像表示における視認性を向上させることがで
きる。
軟化させる必要がないので、基板1として樹脂以外に比
較的安価なガラスを使用することもできる。
する光の偏波面は、該領域にて90°回転させられるの
で、旋光領域を通過する光と非旋光領域を通過する光と
では、その偏光方向は互いに直交することになる。その
結果、旋光光学素子に入射する光を確実に右目用画像、
左目用画像に対応した光に分離することができる。
光硬化性であるので、例えば最も一般的な紫外線を重合
性液晶3に照射して重合性液晶3を硬化させることによ
り、画素ピッチに対応した旋光領域を容易にかつ正確に
形成することができる。
てもよい。この場合、旋光領域に光硬化性の重合性液晶
材料を用いる場合よりも高い重合度を得ることができ
る。これにより、画素ピッチに対応した旋光領域を確実
に得ることができる。
向処理が施されているので、上側の基板4と下側の基板
1とを、それらの配向処理方向を一致させないように配
置させると、上記両基板1・4に挟まれた重合性液晶3
の分子方向は、一方の基板と接する部分では配向処理の
方向と一致し、他方の基板に向かうに連れて徐々に回転
する。つまり、上記重合性液晶3は上記両基板1・4の
間でちょうどねじれて配向する。したがって、上記構成
によれば、重合性液晶3に入射する光を確実に旋光させ
ることができる。
に直交するように、基板1および基板4に配向処理が施
されているので、基板1・4で挟まれた重合性液晶3
は、上記両基板1・4の間で90°ねじれて配向する。
これにより、上記重合性液晶3を通過する光の偏波面は
上記重合性液晶3にて90°回転させられ、上記重合性
液晶3を通過しない光とは、その偏光方向は互いに直交
することになる。その結果、入射光を確実に右目用画
像、左目用画像に対応した光に分離することができる。
%のn型二色性色素を添加しているが、添加する上記色
素の割合が0.5〜20%であれば、本実施形態と同様
の効果が得られることが実験的に分かっている。
たように、フォトレジスト2を紫外線により感光し、非
旋光領域を形成しているが、これ以外にも、例えば図2
(a)ないし(c)に示すように、非旋光領域のパター
ンの刻まれた型10を用いて基板1を型取りし、非旋光
領域を形成することもできる。
チックまたはフィルム等の樹脂からなる基板1を軟化す
る程度に暖めたのち、同図(b)に示すように、型10
を基板1にプレスする。その後、同図(c)に示すよう
に、型10を基板1から剥して非旋光領域の型取られた
基板1を得る。
1を直接成形するのではなく、紫外線硬化樹脂を用いて
非旋光領域を形成することもできる。この場合の形成工
程は、上記の図2(a)ないし(c)で示した工程とほ
ぼ同様である。つまり、基板上に紫外線硬化樹脂を塗布
したのち、非旋光領域のパターンの刻まれた型でプレス
し、そして、紫外線にて上記の紫外線硬化樹脂を硬化さ
せたのち上記の型を剥す。
えばダイキン工業のUV−2000を用いることができ
るが、その他の紫外線硬化樹脂を用いても勿論構わな
い。
域のパターンが刻まれた型10を押圧することによっ
て、上記紫外線硬化樹脂を簡単にパターニングすること
ができるので、旋光光学素子の製造工程をさらに簡素化
することができる。また、フォトリソグラフィ技術等を
用いずにパターニングすることができるので、製造に要
するコストの低減を図ることができる。
る場合において、旋光領域および非旋光領域とからなる
旋光層を量産する場合は、次のような工程で行うことも
できる。
ルな基板としてのフィルム11上に、ノズル12にて紫
外線硬化樹脂13を塗布する。次に、この紫外線硬化樹
脂13を図示しないローラで均一に引き伸ばし、非旋光
領域のパターンが形成された型ローラ14を押し当て、
型取りする。このとき、下面から紫外線15を照射して
上記紫外線硬化樹脂13を硬化させ、非旋光領域を形成
する。
の光硬化性液晶17を基板上に塗布する。そして、この
上に、基板としてのフィルム18をローラ19の回転に
よってプレスする。このとき、下面から上記と同様に紫
外線20を照射することにより、上記光硬化性液晶17
を配向を保ったまま硬化させる。なお、この後、フィル
ム11、フィルム18のうちいずれか一方を剥してもよ
い。
学素子6を表示装置21の表示画面の前面に配置するよ
うにした立体画像表示装置27の断面図を図4に示す。
(Thin Film Transistor)22の形成された基板23
と、この基板23と対向して設けられる基板24との間
に液晶25が充填された液晶表示装置である。また、表
示装置21の基板23におけるバックライト側、および
基板24における旋光光学素子6側には偏光板26・2
6がそれぞれ設けられている。
は、重合性液晶からなる旋光領域31と、フォトレジス
トまたは紫外線硬化樹脂からなる非旋光領域32とから
構成されている。そして、図中の画素領域R、Lは、そ
れぞれ右目用画像情報、左目用画像情報を与える画素領
域を示している。なお、図4では、画素領域Rが旋光領
域31と対応しており、画素領域Lが非旋光領域32と
対応しているが、これらは反対になっても構わない。
された光は偏光板26を通過した後、旋光領域31に入
り、偏光方向が90°旋光されて出射される。一方、画
素領域Lから出射した光は偏光板26を通過した後、非
旋光領域32に入り、偏光方向は変わらずに出射され
る。したがって、画素領域R、Lから出射した光は、旋
光層30を通過することによって、その偏光方向が互い
に直交するようになる。そして、偏光軸が互いに直交し
た偏光板を左右に備えた偏光メガネを通して観察するこ
とにより、立体画像を見ることができるようになってい
る。
素子6は、旋光領域31と非旋光領域32とが同一基板
上にパターン化されて形成されているので、表示装置2
1の画素からの出射光は、確実に上記領域のうちのどち
らかを通る。これにより、旋光されるべき光は確実に旋
光領域31にて旋光されると共に、旋光されるべきでな
い光は確実に非旋光領域32にて旋光されなくなる。
2枚の基板を、互いに偏光軸が直交するように貼り合わ
せる構成であったので、その貼り合わせの精度によって
は、偏光領域同士が重なったり、あるいは偏光領域間に
隙間が形成されたりした。その結果、偏光領域の重なっ
た部分では、光が透過せずに黒表示となる一方、隙間の
形成された部分では表示情報に関係なく白表示となって
いた。
されたとしても、基板には厚みがあるので、表示装置の
画素からの出射光の出射方向によっては、上記出射光が
偏光領域または非偏光領域を二重に通過したりした。そ
の結果、上記と同様の黒表示や白表示が生じていた。
に旋光領域31、非旋光領域32の両方が形成されるの
で、そのような不都合が生じるようなことはなく、表示
装置21の画素からの出射光は、旋光領域31、非旋光
領域32のうちのどちらか一方を1回だけ通過する。ま
た、画素から出射光が斜め方向に出射されても同様であ
る。
21を観察する方向に左右されることなく、表示情報に
無関係の黒表示、白表示の発生を確実に回避することが
でき、高品質な表示を実現することができる。
は、画素に応じて選択的に旋光させるために、画素に電
圧を印加するための電気回路等が必要であった。しか
し、上記構成では、そのような回路等が必要ない。した
がって、本実施形態のように、この旋光光学素子6を用
いて立体画像表示装置27を構成した場合に、装置の小
型化、軽量化およびコストダウンを図ることができる。
置21の表示画面の前面に旋光光学素子6が配置された
構成となっているが、旋光光学素子6のかわりに旋光光
学素子6′を用いても、本実施形態と同様の効果が得ら
れるのは勿論のことである。
て液晶表示装置を例に挙げたが、CRT、PDP(Plas
ma Display Panel)、FED(Field Emission Displa
y)、LED(Light-Emitting Diode)を用いたディス
プレイ、無機および有機EL(electroluminescence )
を用いたディスプレイ等であっても構わない。ただし、
これらはいずれも自発光型であるため、本発明の旋光光
学素子6の光入射側、すなわち、ディスプレイ側に偏光
板を設置しなければならないことは言うまでもない。
重合性液晶3は上下両基板1・4の間でちょうど90°
ねじれて配向しているが、基板1・4の配向処理次第で
重合性液晶3のねじれ角度を任意に設定することができ
る。これにより、立体画像表示装置以外の画像表示装置
をも構成することができる。
に設定すると、図4において、画素領域Rから出射され
た光は偏光板26を通過した後、旋光領域31に入り、
偏光方向が45°旋光されて出射される。一方、画素領
域Lから出射した光は偏光板26を通過した後、非旋光
領域32に入り、偏光方向は変わらずに出射される。し
たがって、画素領域R、Lから出射した光は、旋光層3
0を通過することによって、その偏光方向が互いに45
°の角度をなすようになる。
子6と表示装置21とからなる画像表示装置27′を構
成した場合、偏光軸が互いに直交した偏光板33・34
をそれぞれ左右に備えた偏光メガネ35を通して領域3
6を観察すると、旋光領域31の画像においては、左右
両目で観察することができる。しかし、非旋光領域32
の画像においては、偏光メガネ35の右目側偏光板34
の偏光方向が、非旋光領域32の偏光方向と直交するた
め、右目には届かず左目のみに届く。つまり、旋光領域
31の画像は、両目で常時観察されるべき画像となり得
る一方、非旋光領域32の画像は、片目のみで一時的に
観察されるべき画像となり得る。
用いることによって、常時観察されるべき画像と、必要
なときに一時的に観察されるべき画像とを同時に表示可
能なインポーズ画面を得ることができる。このようなイ
ンポーズ画面は、例えば2者間の対応関係を見るような
場合に非常に有効である。つまり、インポーズ画面で
は、例えばある文章を旋光領域31に常時表示させる一
方、必要なときにのみ上記文章に対応する翻訳文を非旋
光領域32に表示させることができ、この場合、上記両
者の対応関係を一目瞭然にして見ることができる。
以上のように、表示装置からの光の偏波面を調整する旋
光光学素子であって、光の偏波面を回転させる旋光領域
と、光の偏波面を回転させない等方性透明材料からなる
非旋光領域とが同一基板上に形成されている構成であ
る。
されることなく、表示情報に無関係の黒表示、白表示の
発生を確実に回避することができ、高品質な表示を実現
することができるという効果を奏する。また、画素に電
圧を印加するための電気回路等が必要でないので、この
旋光光学素子を例えば立体画像表示装置に適用すること
によって、装置の小型化、軽量化、およびコストダウン
を図ることができるという効果を併せて奏する。
上のように、請求項1の構成において、上記等方性透明
材料が、フォトレジスト、または、紫外線感光樹脂から
なる構成である。
上のように、請求項1または2の構成において上記非旋
光領域が、上記基板と同一の材料で形成される構成であ
る。
上のように、請求項1ないし3のいずれかの構成におい
て、上記旋光領域に入射する光の偏波面の回転角度が任
意に設定可能になっている構成である。
の回転角度を任意に設定することができるので、旋光光
学素子と表示装置とを組み合わせて種々の画像表示装置
を構成することができるという効果を奏する。
上のように、請求項1ないし4のいずれかの構成におい
て、上記旋光領域は、該旋光領域に入射する光の偏波面
を90°回転させるようになっている構成である。
は、該領域にて90°回転させられるので、旋光領域を
通過する光と非旋光領域を通過する光とでは、その偏光
方向は互いに直交することになる。その結果、旋光光学
素子に入射する光を右目用画像、左目用画像に対応した
光に確実に分離することができるという効果を奏する。
上のように、請求項1ないし5のいずれかの構成におい
て、上記旋光領域および上記非旋光領域は、右目用画
像、左目用画像に対応した光を出射する、表示装置にお
ける画素の配置パターンと同じパターンで形成されてい
る構成である。
左目用画像を作る画素が例えばチェックパターン、スト
ライプ状、あるいはその他の不規則なパターンで構成さ
れている場合でも、上記画素のパターンと、旋光領域お
よび非旋光領域のパターンとを一致させることができ
る。これにより、右目用画像または左目用画像に対応す
る光を確実に旋光させることができ、表示品位の良い画
像を得ることができるという効果を奏する。
上のように、請求項1ないし6のいずれかの構成におい
て、上記旋光領域は、旋光性を示す光学活性成分の含ま
れた重合性液晶材料で形成されている構成である。
光学活性成分の含まれた重合性液晶材料で形成されてい
るので、上記旋光領域に入射する光を液晶の分子方向に
沿って確実に旋光させることができるという効果を奏す
る。
上のように、請求項7の構成において、上記重合性液晶
材料は、液晶分子の方向に平行な偏波面を持つ光を透過
させる一方、上記方向に垂直な偏波面を持つ光を吸収す
る色素材料を含んでいる構成である。
上記色素材料に吸収されることにより出射光量は落ちる
が、出射光として直線偏光光のみを得ることができる。
その結果、表示装置の画素から出射される光を、それぞ
れ右目用画像、左目用画像に対応する光に効率よく分離
することができ、立体画像表示における視認性を向上さ
せることができるという効果を奏する。
上のように、請求項7または8の構成において、上記重
合性液晶材料は、光硬化性である構成である。
して重合性液晶材料を硬化させることにより、画素ピッ
チに対応した旋光領域を容易にかつ正確に形成すること
ができるという効果を奏する。
以上のように、請求項7または8の構成において、上記
重合性液晶材料は、熱硬化性である構成である。
であるので、旋光領域に光硬化性の重合性液晶材料を用
いる場合よりも高い重合度を得ることができる。これに
より、画素ピッチに対応した旋光領域を確実に得ること
ができるという効果を奏する。
造方法は、以上のように、第1の基板上に等方性透明材
料を塗布し、該等方性透明材料を所望の形状にパターニ
ングして入射光の偏波面を回転させない非旋光領域を形
成する第1の工程と、その後、入射光の偏波面を回転さ
せる旋光領域を形成するように、上記第1の基板上に重
合性液晶材料を滴下または塗布する第2の工程と、第2
の基板を上記等方性透明材料の上に押し当てた状態で、
上記重合性液晶材料を重合、硬化させる第3の工程とを
含む構成からなっている構成である。
ばフォトリソグラフィ技術が使用できるので、表示側の
画素ピッチに合わせて精密な寸法で非旋光領域を加工、
形成することができる。その結果、表示側の画素ピッチ
に合わせて重合性液晶材料からなる旋光領域をも高精度
で形成することができ、高品位の旋光光学素子を提供す
ることができるという効果を奏する。
光領域の形成された2枚の基板を互いに貼り合わせると
いった工程が必要でないため、従来よりも簡単な製法で
旋光光学素子を得ることができる。また、そのような工
程がないため、貼り合わせ時の位置ずれ等の不都合も生
じない。したがって、このような方法で製造された旋光
光学素子を例えば立体画像表示装置に適用した場合に、
黒帯、白抜け等の生じない、視認性の優れた立体画像表
示装置を提供することができるという効果を併せて奏す
る。
造方法は、以上のように、請求項11の構成において、
上記第1の工程は、第1の基板上に等方性透明材料を塗
布し、非旋光領域のパターンが刻まれた型を上記等方性
透明材料に押圧して非旋光領域を形成する工程である構
成である。
た型を上記等方性透明材料に押圧することによって、等
方性透明材料を簡単にパターニングすることができる。
したがって、上記構成によれば、旋光光学素子の製造工
程をさらに簡素化することができるという効果を奏す
る。また、フォトリソグラフィ技術等を用いずにパター
ニングすることができるので、製造に要するコストの低
減を図ることができるという効果を併せて奏する。
造方法は、以上のように、請求項11または12の構成
において、上記第1および第2の基板に配向処理が施さ
れている構成である。
間でちょうどねじれて配向する。したがって、上記構成
によれば、重合性液晶材料に入射する光を確実に旋光さ
せることができるという効果を奏する。
造方法は、以上のように、請求項13の構成において、
上記第1の基板と上記第2の基板とで、配向方向が直交
するように配向処理が施されている構成である。
偏波面は上記重合性液晶材料にて90°回転させられ、
上記重合性液晶材料を通過しない光とは、その偏光方向
は互いに直交することになる。その結果、入射光を確実
に右目用画像、左目用画像に対応した光に分離すること
ができるという効果を奏する。
造方法は、以上のように、請求項11ないし14のいず
れかの構成において、上記第1および第2の基板がガラ
スである構成である。
装置側に設けられているガラス基板とは、温度変化に対
して同等の熱膨張を生じる。表示装置側と旋光光学素子
のピッチは高精度で一致させなければならないが、この
様に双方の基板に同材料を使用することで、設置後のそ
り量の低減、使用時の温度変化におけるピッチずれを低
減させることができる。したがって、上記構成によれ
ば、温度変化に影響なく非旋光領域を表示装置側の画素
ピッチに合わせて高精度で形成することができるという
効果を奏する。
造方法は、以上のように、請求項11ないし14のいず
れかの構成において、上記第1および第2の基板が樹脂
である構成である。
で構成したときよりも基板厚さを薄くできる。これによ
り、旋光光学素子の小型化、軽量化を図ることができる
という効果を奏する。また、上記樹脂は一般的に弾力性
を有しているため、例えば第1の基板に型押しを行うこ
とによって、容易に非旋光領域を形成することができ
る。したがって、その結果、旋光光学素子を容易に大量
生産することができるという効果を併せて奏する。
以上のように、光の偏波面を回転させる旋光領域と、光
の偏波面を回転させない等方性透明材料からなる非旋光
領域とが同一基板上に形成され、表示装置からの光の偏
波面を調整する旋光光学素子と、上記旋光領域および上
記非旋光領域と対応する画素を有する表示装置とからな
る構成である。
射される光は、旋光光学素子の旋光領域または非旋光領
域に確実に入射する。したがって、上記旋光光学素子を
表示装置に取り付けて例えば立体画像表示装置を構成し
た場合に、表示情報に無関係な黒帯、白抜け等のない、
視認性の優れた、表示品位の高い立体画像表示装置を提
供することができるという効果を奏する。また、従来の
ように画素に電圧を印加するための電気回路等を設ける
必要もなく、上記構成によれば、装置の小型化、軽量化
およびコストダウンを図ることができるという効果を併
せて奏する。
素子の製造工程を示す断面図である。
ける非旋光領域の別の製造工程を示す断面図である。
る。
を示す断面図である。
で観察する際の、光の透過具合いを示す斜視図である。
を示す斜視図であり、(b)は、1/2波長板の光軸を
示す斜視図である。
偏波面が90°回転されて出射されることを示す説明図
であり、(b)は、1/2波長板に入射した光が、その
偏波面が2θ回転されて出射されることを示す説明図で
ある。
との関係を示すグラフである。
係を示すグラフである。
板の製造工程を示す断面図である。
の別の製造工程を示す断面図である。
示す断面図である。
す断面図である。
わせて得られるマイクロ偏光板の断面図である。
を示す断面図である。
Claims (17)
- 【請求項1】表示装置からの光の偏波面を調整する旋光
光学素子であって、 光の偏波面を回転させる旋光領域と、光の偏波面を回転
させない等方性透明材料からなる非旋光領域とが同一基
板上に形成されていることを特徴とする旋光光学素子。 - 【請求項2】上記等方性透明材料は、フォトレジスト、
または、紫外線感光樹脂からなることを特徴とする請求
項1に記載の旋光光学素子。 - 【請求項3】上記非旋光領域は、上記基板と同一の材料
で形成されることを特徴とする請求項1または2に記載
の旋光光学素子。 - 【請求項4】上記旋光領域に入射する光の偏波面の回転
角度が、任意に設定可能になっていることを特徴とする
請求項1ないし3のいずれかに記載の旋光光学素子。 - 【請求項5】上記旋光領域は、該旋光領域に入射する光
の偏波面を90°回転させるようになっていることを特
徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の旋光光学
素子。 - 【請求項6】上記旋光領域および上記非旋光領域は、右
目用画像、左目用画像に対応した光を出射する、表示装
置における画素の配置パターンと同じパターンで形成さ
れていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか
に記載の旋光光学素子。 - 【請求項7】上記旋光領域は、旋光性を示す光学活性成
分の含まれた重合性液晶材料で形成されていることを特
徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の旋光光学
素子。 - 【請求項8】上記重合性液晶材料は、液晶分子の方向に
平行な偏波面を持つ光を透過させる一方、上記方向に垂
直な偏波面を持つ光を吸収する色素材料を含んでいるこ
とを特徴とする請求項7に記載の旋光光学素子。 - 【請求項9】上記重合性液晶材料は、光硬化性であるこ
とを特徴とする請求項7または8に記載の旋光光学素
子。 - 【請求項10】上記重合性液晶材料は、熱硬化性である
ことを特徴とする請求項8または9に記載の旋光光学素
子。 - 【請求項11】第1の基板上に等方性透明材料を塗布
し、該等方性透明材料を所望の形状にパターニングして
入射光の偏波面を回転させない非旋光領域を形成する第
1の工程と、 その後、入射光の偏波面を回転させる旋光領域が形成さ
れるように、上記第1の基板上に重合性液晶材料を滴下
または塗布する第2の工程と、 第2の基板を上記等方性透明材料の上に押し当てた状態
で、上記重合性液晶材料を重合、硬化させる第3の工程
とを含むことを特徴とする 旋光光学素子の製造方法。 - 【請求項12】上記第1の工程は、第1の基板上に等方
性透明材料を塗布し、非旋光領域のパターンが刻まれた
型を上記等方性透明材料に押圧して非旋光領域を形成す
る工程であることを特徴とする請求項11に記載の旋光
光学素子の製造方法。 - 【請求項13】上記第1および第2の基板に配向処理が
施されていることを特徴とする請求項11または12に
記載の旋光光学素子の製造方法。 - 【請求項14】配向方向が互いに直交するように、上記
第1の基板および上記第2の基板に配向処理が施されて
いることを特徴とする請求項13に記載の旋光光学素子
の製造方法。 - 【請求項15】上記第1および第2の基板がガラスであ
ることを特徴とする請求項11ないし14のいずれかに
記載の旋光光学素子の製造方法。 - 【請求項16】 上記第1および第2の基板が樹脂である
ことを特徴とする請求項11ないし14のいずれかに記
載の旋光光学素子の製造方法。 - 【請求項17】光の偏波面を回転させる旋光領域と、光
の偏波面を回転させない等方性透明材料からなる非旋光
領域とが同一基板上に形成され、表示装置からの光の偏
波面を調整する旋光光学素子と、 上記旋光領域および上記非旋光領域と対応する画素を有
する表示装置とからなることを特徴とする画像表示装
置。
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