WO2015002353A1 - 편광 펄스 ｕｖ를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법 - Google Patents

편광 펄스 ｕｖ를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법 Download PDF

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WO2015002353A1
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polarized
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polarization
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신교직
이상국
최경호
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한국생산기술연구원
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Definitions

  • the present invention relates to a photo-alignment method and a method of manufacturing a patterned retarder, and more particularly, to a method of forming a photo-alignment layer by irradiating polarization pulse UV to the alignment layer and a method of manufacturing a patterned retarder using the same.
  • liquid crystal display devices are widely used in the field of optical information processing.
  • TN Transmission Nematic
  • the electrodes are installed on two substrates and the liquid crystal directors are arranged to be twisted 90 degrees, and then It is a technique of driving a liquid crystal director by applying a voltage.
  • TN type liquid crystal display device provides excellent contrast and color reproducibility, among which vertical alignment (VA) mode in which the long axis of the liquid crystal molecules is arranged perpendicular to the upper and lower display panels without an electric field applied thereto.
  • VA vertical alignment
  • Liquid crystal display devices are in the spotlight due to their large contrast ratios.
  • the TN type liquid crystal display has a problem that the viewing angle is narrow.
  • a PVA mode Powered Verticlally Aligned Mode
  • IPS mode In-Plane Switching Mode
  • the gap between the counter electrode and the pixel electrode is formed to be narrow between the counter electrode and the pixel electrode while the counter electrode and the pixel electrode are formed of a transparent conductor.
  • Fringe field switching mode (FFS) for operating liquid crystal molecules has emerged.
  • the FIS mode has been developed to solve the problem that the light efficiency of the FFS mode is less than the TN mode, in addition to improving the low transmittance between the pixel electrode in the conventional FFS mode, voltage application method through two thin film transistors As a result, a liquid crystal display device capable of driving a low voltage can be achieved.
  • each of these modes has a unique liquid crystal array and optical anisotropy. Therefore, in order to compensate for the phase difference resulting from the optical anisotropy of these liquid crystal modes, the optical retardation film of the optical anisotropy corresponding to each mode is required.
  • the optical retardation film was developed as a color compensation film of LCD, but in recent years, various functions such as high wavelength dispersion, wide viewing angle, temperature compensation, and high phase difference film are required.
  • stereoscopic images expressing 3D are made by the principle of stereo vision through two eyes, and by using the binocular disparity, which is caused by the disparity of two eyes, that is, the eyes are about 65mm apart.
  • a 3D image display device capable of displaying a stereoscopic image has been proposed.
  • a typical 3D image display device includes a liquid crystal display that displays an image largely, a patterned retarder attached to an outer surface of the liquid crystal display, and an image that passes through the patterned retarder from the liquid crystal display. It consists of glasses which permeate selectively.
  • the patterned retarder may have a different phase value for the left eye image and the right eye image of the 2D image from the liquid crystal display device, such as left circularly polarized light for the left eye image and right circularly polarized light for the right eye image.
  • it requires the formation of multi-domain photo-aligned at different angles.
  • a number of applications such as Korean Patent Publication No. 10-2013-0035631 have been disclosed.
  • the orientation of the liquid crystal molecules controlled in advance is changed to another alignment state by applying an electric field, and the polarization direction or polarization state of the transmitted light is changed, and the change is made into a contrast of contrast with a polarizing plate or the like. It is common to change the display.
  • a contact rubbing method is used in which a polymer film such as polyimide is applied to a substrate such as glass, and the surface is rubbed with a fiber such as nylon or polyester in a constant direction.
  • the liquid crystal alignment by the contact rubbing method as described above has the advantage of obtaining a simple and stable alignment of the liquid crystal, but when the fiber and the polymer film is rubbed, fine dust or electrostatic discharge (ESD) is generated and the substrate is damaged.
  • ESD electrostatic discharge
  • a method for producing a non-contact alignment film there are a photoalignment method, an energy beam alignment method, a vapor deposition orientation method, an etching method using lithography, and the like.
  • the photo-orientation method refers to a mechanism in which a photoreaction material bound to a photoreactive polymer by linearly polarized UV causes a photoreaction (photoisomerization, photodimerization, photolysis) to be uniformly arranged, thereby aligning the liquid crystals.
  • the photoreactive material when irradiating linearly polarized ultraviolet rays, the photoreactive material should be arranged in a certain direction and angle according to the polarization direction, and the matching with the reactive liquid crystal is well performed so that the liquid crystal alignment is well performed by interaction with the reactive liquid crystal. Should be done.
  • the photo-alignment material forming the photo-alignment layer should have good physical properties such as printability, orientation stability, and thermal stability.
  • the photoreaction by UV irradiation already includes photopolymerization (photodimerization) reaction of cinnamate, coumarin, chalcone, stilbene, diazo, photoisomerization of cis-trans isomerization, and molecular chain cleavage of decomposition.
  • photopolymerization photodimerization
  • cinnamate coumarin
  • chalcone stilbene
  • diazo photoisomerization of cis-trans isomerization
  • molecular chain cleavage of decomposition Known.
  • the molecular light reaction by ultraviolet rays is applied to the alignment of liquid crystals by ultraviolet irradiation through the design of appropriate alignment layer molecules and optimization of ultraviolet irradiation conditions.
  • the liquid crystal alignment ability is imparted by the linearly polarized ultraviolet irradiation, characterized in that having a liquid crystal alignment film and a liquid crystal alignment film
  • a liquid crystal display element is disclosed.
  • Patents related to the optical alignment method have been filed in a number of applications, particularly in Japan, Korea, Europe, and the United States, which are related to the LCD industry. However, since the initial idea was derived, it has been in mass production but has not been widely applied throughout the industry.
  • the photo-alignment method has lower productivity or reliability than the rubbing method.
  • the main causes of such problems include low alignment energy (anchoring energy), low orientation stability of the liquid crystal compared to the rubbing method.
  • the present invention has been made to solve the problems described above, by shortening the optical alignment process time using polarized pulse UV, optical alignment using polarized pulse UV which has the effect of improving productivity by maximizing the efficiency of optical alignment It is an object of the present invention to provide a method and a method for producing a patterned retarder.
  • preparing a substrate (a) preparing a substrate; (b) applying a photoreactant on the substrate to form a photoreactive layer; And (c) irradiating polarization pulse UV to the photoreaction layer to form a photoalignment layer.
  • the step (c) may include: (c-1) exposing the photoreaction layer to the entire surface by irradiating polarized pulse UV polarized in a first direction; And (c-2) irradiating the polarization pulse UV polarized in the second direction to the photoreactive layer, blocking a region corresponding to the first domain using a photomask, and only a region corresponding to the second domain. Partial exposure.
  • the exposure time and the exposure energy in the step (c-2) are greater than the exposure time and the exposure energy in the step (c-1).
  • (d) may further comprise the step of curing and then coating and drying the reactive liquid crystal on the optically exposed layer of the second exposure.
  • the polarization pulse UV preferably has a 0.1mJ / pulse ⁇ 500J / pulse energy.
  • the polarization pulse UV is preferably irradiated at 1Hz ⁇ 60Hz.
  • the flash voltage of the polarization pulse UV is preferably 1kV ⁇ 4kV.
  • the exposure time by the said polarization pulse UV is 0.1 second-10.0 second.
  • the exposure distance by the polarization pulse UV is preferably 0.5cm ⁇ 10.0cm.
  • FIG. 1 is a flow chart of an optical alignment method using a polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention.
  • 2 is a graph comparing the peak power of the normal UV and pulsed UV.
  • 3 is a polarization optical micrograph according to the exposure time of the normal UV and pulsed UV.
  • Figure 4 is a graph comparing the unoriented distribution of the optical alignment layer with the exposure time of the normal UV and pulsed UV.
  • 5 is a graph comparing the phase difference change of the optical alignment layer according to the exposure time of the general UV and pulse UV.
  • FIG. 7 is a graph showing unoriented distribution of the optical alignment layer according to the exposure distance of the polarization pulse UV.
  • 10 is a graph showing the unoriented distribution of the optical alignment layer for each flash voltage and frequency of pulse UV at an exposure distance of 1.5 cm.
  • 11 is a graph comparing the phase difference change of the optical alignment layer for each flash voltage and frequency of pulse UV at an exposure distance of 1.5 cm.
  • FIG. 13 is a graph showing an unoriented distribution diagram of an optical alignment layer according to flash voltage and frequency of pulse UV at an exposure distance of 7.0 cm.
  • FIG. 14 is a graph comparing the phase difference change of the optical alignment layer for each flash voltage and frequency of pulse UV at an exposure distance of 7.0 cm.
  • 15 is a graph comparing the pretilt angle according to the exposure time of the normal UV and pulsed UV.
  • 16 is a flow chart of a method for manufacturing a patterned retarder using polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention.
  • 17a to 17c is a step-by-step process diagram of a method for manufacturing a patterned retarder using polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 18 is a polarization optical micrograph comparing orientations according to a 0 ° / 45 ° multidomain formation method during polarization pulse UV exposure.
  • 19 is a graph comparing orientation according to a 0 ° / 45 ° multi-domain formation method during polarized pulse UV exposure.
  • FIG. 20 is a polarization optical micrograph comparing the orientation according to the 0 ° / 90 ° multi-domain formation method during polarized pulse UV exposure.
  • FIG. 21 is a graph comparing orientations according to a 0 ° / 90 ° multidomain formation method during polarized pulse UV exposure.
  • FIG. 1 is a flow chart of an optical alignment method using a polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention.
  • an optical alignment method using polarization pulse UV according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1.
  • the board substrate for forming a photo-alignment layer on the surface is prepared.
  • the substrate may be selected in various standards as needed, and may be made of a transparent insulating substrate such as a glass substrate, a film, a flexible substrate, and the like.
  • the film is tri-acetate cellulose (TAC), cyclo olefin polymer (COP), cyclic olefin copolymer (COC), poly vinyl alcohol (PVA), polycarbonate (PC), poly methyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET) ), Polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polystyrene (PS), polyimide (PI), polyarylate (polyarylate), and PEEK (polyetheretherketon).
  • TAC tri-acetate cellulose
  • COP cyclo olefin polymer
  • COC cyclic olefin copolymer
  • PVA poly vinyl alcohol
  • PC polycarbonate
  • PMMA poly methyl methacrylate
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN Polyethylene naphthalate
  • PES polyethersulfone
  • PS polystyrene
  • PI polyimide
  • polyarylate polyarylate
  • the photoreactive agent is apply
  • the photoreactive agent may be, for example, polyimide, polyvinyl, polysiloxane, polysiloxane, polysiloxane including a photoreaction such as cinnamate, chalcone, coumarin, stilbene, diazo, etc. It may be made of acrylic (polyacryl) material.
  • the photoreaction layer formed on the substrate is irradiated with polarized pulse UV (S31) to form an optical alignment layer having a pretilt angle (S32).
  • UV Ultra Violet
  • UV having high energy in the form of pulses is irradiated.
  • This pulsed UV is only irradiated for a very short time and cooled for a relatively long time. That is, since the duty cycle (the time the pulse is on / the total time the pulse is repeated ⁇ 100 (%)) has a very small value of less than 1%, the overall UV irradiation time is short and the cooling time is long, thus There is an advantage that no heat is generated during the pulse UV irradiation process.
  • Figure 2 compares the peak power and irradiation time when normal UV and pulsed UV are irradiated with the same energy of 1200 Watt-seconds.
  • Normal UV with a peak power of 10 Watts is irradiated for 120 seconds, whereas pulse UV with a pulse width of 1 millisecond and peak power of 100,000 Watts is 12 for 12 seconds.
  • Pulses with multiple pulses (multiple pulses) and a pulse width of 3 milliseconds and a peak power of 400,000 Watts are irradiated with one pulse (single pulse). In other words, pulsed UV is able to irradiate the same energy in a very short time compared to normal UV.
  • the polarized pulse UV may be irradiated with a pulse width of 20 microseconds or less and 0.1 mJ / pulse to 500 J / pulse with a waveform of 1 to 60 Hz per second, thus shortening the light irradiation time during optical alignment. By shortening the process time, thereby improving the productivity.
  • the flash voltage of polarization pulse UV is 1 kV-4 kV, and exposure time is 0.1 second-10.0 second.
  • the light intensity difference between the light intensity at the point corresponding to the center of the lamp and the peripheral portion thereof is more severe. Therefore, although the brightness and uniformity of UV light emitted from the UV lamp during the optical alignment are closer to the substrate, in the conventional case, the minimum exposure distance has to be maintained due to thermal deformation directly received by the substrate. Generally, an exposure distance of about 10 to 15 cm is secured. In this case, the uniformity of the central portion and the peripheral portion of the UV light irradiated onto the substrate is about 30%.
  • the exposure distance of the polarization pulse UV is preferably 0.5cm ⁇ 10.0cm.
  • the polarized pulse UV irradiates the instantaneous pulse wave in a very short time, it has a strong penetration force in the optical orientation. As a result, the polarization pulse UV can evenly orient the thick layer of the photoreactive layer.
  • polarized pulse UV lamp can reduce the power consumption by 80% or more than when using a conventional arc discharge UV lamp. This is because polarized pulsed UV uses instantaneous UV energy, which reduces power usage.
  • the polarized pulse UV enables instant ON / OFF function, which can turn off the UV lamp when UV irradiation is unnecessary in the process flow, saving energy and eliminating the need for a separate switch such as a shutter.
  • a separate switch such as a shutter.
  • the cost of replacing consumables, such as a cold mirror and a hot mirror, which are used in the optical alignment using conventional UV there is an advantage in terms of economy.
  • a liquid crystal cell was produced and used as follows in order to compare the orientation according to each exposure time.
  • a photoreaction layer was prepared by applying a photoreactive agent dissolved in a 1% MEK / toluene organic solvent onto a substrate. Formed.
  • the polarized light UV and the polarized pulse UV were irradiated to the photoreaction layer at an exposure distance of 7 cm for 0.1 seconds to 0.4 seconds, respectively, to form a photo alignment layer on the substrate, and the reactive liquid crystal was dissolved in 12% toluene organic solvent for coating and Dried.
  • the general polarized UV was irradiated with a power density of 10.5 mW / cm 2
  • the polarized pulse UV was irradiated with a flash voltage of 3 kV and a frequency of 50 Hz.
  • FIG 3 is a polarized optical microscope (POM) picture according to the exposure time of the normal UV and pulsed UV
  • Figure 4 is a graph comparing the unoriented distribution of the optical alignment layer according to the exposure time of the normal UV and pulsed UV
  • 5 is a graph comparing the phase difference change of the optical alignment layer according to the exposure time of the general UV and pulse UV.
  • the optical alignment process time is reduced by about 50% by improving the optical alignment speed.
  • the exposure energy is 5.0 mJ / cm 2 for 0.4 seconds until the unoriented distribution is 1% or less
  • the optically oriented layer is irradiated with polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention.
  • the exposure energy saving effect of about 36% compared to the conventional.
  • FIG. 5 shows that the phase difference converges in a range (eg, 125 nm ⁇ 10 nm) within a faster time when using polarized pulse UV, compared to the case of using normal polarized UV. Indicates done.
  • the liquid crystal cell When irradiating polarization pulse UV and forming a photo-alignment layer, in order to compare the orientation according to an exposure distance, the liquid crystal cell was produced and used as follows.
  • a photoreaction layer was prepared by applying a photoreactive agent dissolved in a 1% MEK / toluene organic solvent onto a substrate. Formed.
  • the photoalignment layer was formed by irradiating the polarization pulse UV on the photoreaction layer under severe conditions of exposure time of 0.1 sec. It was dissolved in a solvent and applied and dried.
  • the polarization pulse UV was irradiated with a flash voltage of 3 kV and a frequency of 50 Hz.
  • FIG. 6 is a polarization optical micrograph according to the exposure distance of the polarization pulse UV
  • Figure 7 is a graph showing the unoriented distribution of the optical alignment layer according to the exposure distance of the polarization pulse UV.
  • the closer the exposure distance between the UV lamp and the exposure surface (photoreaction layer) irradiating polarized pulse UV the smaller the unoriented distribution and the clearer the black image and the white image.
  • the unoriented distribution increases, and the sharpness of the black image and the white image decreases.
  • the exposure distance exceeds 7 cm the unoriented distribution distribution with the increased exposure distance is insignificant.
  • FIG. 8 is a graph showing a phase difference change of the optical alignment layer according to the exposure distance of the polarization pulse UV, it can be seen that the phase difference decreases with a certain slope as the exposure distance increases.
  • the liquid crystal cell When irradiating polarization pulse UV and forming a photo-alignment layer, in order to compare the orientation of each polarization pulse UV light by flash voltage and frequency, the liquid crystal cell was produced and used as follows.
  • a photoreaction layer was prepared by applying a photoreactive agent dissolved in a 1% MEK / toluene organic solvent onto a substrate. Formed.
  • the polarization pulse UV was irradiated to the photoreaction layer at an exposure time of 0.2 seconds and an exposure distance of 1.5 cm to form a photoalignment layer.
  • the reactive liquid crystal was dissolved in 12% toluene organic solvent, and applied and dried.
  • the flash voltage of the polarized pulse UV was set to 2.0kV, 2.5kV and 3.0kV, respectively, and the polarized pulse UV of 1Hz, 20Hz, 30Hz, 40Hz, and 50Hz frequency was irradiated at each flash voltage.
  • Figure 9 is a polarizing optical micrograph of the pulse UV and the frequency of the pulse UV at an exposure distance of 1.5cm
  • Figure 10 is a graph showing the unoriented distribution of the optical alignment layer for each of the flash voltage and frequency of the pulse UV at an exposure distance of 1.5cm
  • 11 is a graph comparing the phase difference change of the optical alignment layer for each flash voltage and frequency of pulse UV at an exposure distance of 1.5 cm.
  • the unoriented distribution when the frequency of the polarization pulse UV is 40Hz or more, the unoriented distribution was 1% or less even at the flash voltage of 2.0kV. When the flash voltage was 3kV, the unoriented distribution was 1% or less at the frequency of 20Hz. That is, when the flash voltage of the polarized pulse UV is 3kV, the optimal black image is realized at the frequency of 20 Hz and the unoriented distribution is minimal. When the flash voltage of the polarized pulse UV is 2.0 kV and the 2.5 kV, the optimal black image is performed at the frequency of 40 kV. The image implementation and the unoriented distribution are minimal.
  • Figure 12 is a polarizing optical micrograph of the pulse voltage and the frequency of the pulse UV at an exposure distance of 7.0cm
  • Figure 13 is a non-orientation distribution of the optical alignment layer by the flash voltage and frequency of the pulse UV at an exposure distance of 7.0cm
  • FIG. 14 is a graph comparing the phase difference change of the optical alignment layer for each flash voltage and frequency of pulse UV at an exposure distance of 7.0 cm.
  • the optimal black at the frequency 20 Hz when the flash voltage of the polarization pulse UV is 3 kV and at the frequency 40 Hz when the flash voltage is 2.5 kV You can see that the image is implemented.
  • the exposure distance is set to 7cm, the unoriented distribution degree is shown to increase as a whole compared to the above-described experimental example with an exposure distance of 1.5cm, which is due to the increased light leakage phenomenon in the outer portion of the liquid crystal cell according to the increase in the exposure distance.
  • a liquid crystal cell In the case of forming a photoalignment layer by irradiating general UV and in forming a photoalignment layer by irradiating pulsed UV, in order to compare the pretilt angle according to each exposure time, a liquid crystal cell is manufactured and used as follows. It was.
  • a photoreaction layer was prepared by applying a photoreactive agent dissolved in a 1% MEK / toluene organic solvent onto a substrate. Formed.
  • the polarized light UV and the polarized pulse UV were irradiated to the photoreaction layer at an exposure distance of 7 cm for 0.1 seconds to 0.4 seconds, respectively, to form a photoalignment layer, and the liquid crystal layer was formed of a twisted nematic liquid crystal (TN). It was.
  • the general polarized UV was irradiated with a power density of 10.5 mW / cm 2
  • the polarized pulse UV was irradiated with a flash voltage of 3 kV and a frequency of 50 Hz.
  • FIG. 15 is a graph comparing pretilt angles according to exposure times of normal polarized light and pulsed polarized light UV.
  • FIG. 15 As shown in FIG. 15, both the irradiated normal polarized UV light and the irradiated polarized light UV light tend to decrease the pretilt angle with increasing exposure time.
  • the pretilt angle when exposed by polarized pulse UV, the pretilt angle is lower than when exposed by normal polarized UV, and by polarized pulse UV, the pretilt angle converges to a constant value after 0.2 second of exposure time.
  • the alignment is performed, whereas in the case of general polarized UV light, the alignment is performed over an exposure time of 0.4 seconds. That is, in the case of using the polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention, it can be seen that excellent horizontal orientation can be realized with less energy.
  • FIGS. 16 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a patterned retarder using polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention
  • FIGS. 17A to 17C illustrate a patterned retarder manufactured using polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention.
  • a step-by-step flowchart of the method a method of manufacturing a patterned retarder using polarization pulse UV will be described with reference to FIGS. 16 to 17C.
  • the substrate 10 for forming a multi-domain on the surface is prepared.
  • the substrate 10 may be selected in various standards as needed, and may be made of a transparent insulating substrate such as a glass substrate, a film, a flexible substrate, and the like.
  • the film is tri-acetate cellulose (TAC), cyclo olefin polymer (COP), cyclic olefin copolymer (COC), poly vinyl alcohol (PVA), polycarbonate (PC), poly methyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET) ), Polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polystyrene (PS), polyimide (PI), polyarylate (polyarylate), and PEEK (polyetheretherketon).
  • TAC tri-acetate cellulose
  • COP cyclo olefin polymer
  • COC cyclic olefin copolymer
  • PVA poly vinyl alcohol
  • PC polycarbonate
  • the substrate 10 may include a photo-mask 40 for forming a multi-domain pattern.
  • a photoreactant is applied to a surface of the prepared substrate 10 to form a photoreaction layer 20 as an alignment layer.
  • the photoreactive agent may be, for example, polyimide, polyvinyl, polysiloxane, polysiloxane, polysiloxane including a photoreaction such as cinnamate, chalcone, coumarin, stilbene, diazo, etc. It may be made of acrylic (polyacryl) material.
  • the optical alignment layer 30 By irradiating polarization pulse UV to the photoreaction layer 20 on the substrate 10, the optical alignment layer 30 in which the stripe type first domain 31 and the second domain 32 are alternately continuous.
  • the first domain 31 is oriented in the first direction by the polarization pulse UV polarized in the first direction (eg 0 °)
  • the second domain 32 is in the second direction (eg 45 ° or 90 °). Oriented in the second direction by polarization pulse UV polarized by °).
  • the polarized pulse UV polarized in the first direction is irradiated to the entire area of the photoreaction layer 20, so that the photoreaction layer 20 is moved in the first direction.
  • the photoreaction layer 20 is moved in the first direction.
  • a photo-mask 40 having a light transmission area TA and a blocking area BA is positioned on the substrate 10, and the photomask 40 may be disposed on the substrate 10.
  • the polarization pulse UV polarized in the second direction from the top is irradiated perpendicularly to the substrate 10 direction.
  • a region corresponding to the transmissive region TA of the photomask 40 is partially exposed and has a state of being photo-oriented in a second direction. (32) is achieved.
  • the photoreaction layer 20 is subjected to the entire surface exposure step and the partial exposure step by the polarization pulse UV, the first domain 31 oriented in the first direction and the second domain 32 oriented in the second direction
  • the alternating continuous optical alignment layer 30 will be formed.
  • the first and second domains 31 and 2 having different orientations in the photoalignment layer 30 are formed by the front exposure of the photoreactive layer 20 and the partial exposure using the photomask 40. 32 has been described, but the method of forming the optical alignment layer 30 having the multi-domain may be variously performed.
  • the second region is secondarily formed using a second photomask in which the region corresponding to the first domain 31 is a blocking region BA and the region corresponding to the second domain 32 is a transmission region TA. It is also possible to form a multi-domain by exposing.
  • the method of forming the multi-domain by using the first photomask and the second photomask is inferior to the process shown in FIGS. 17B and 17C, and the method of forming the multi-domain by performing full exposure after partial exposure is The orientation is lower than the embodiment shown in Figs. 17B and 17C. This will be described later with reference to FIGS. 18 to 21.
  • the method of manufacturing a patterned retarder using polarized pulse UV according to an embodiment of the present invention is characterized by using polarized pulse UV during exposure for forming a multi-domain.
  • the multi-domains were formed by three different methods as follows.
  • a glass substrate or a triacetate (TAC) substrate was used, and a photoreactive layer was dissolved by applying a photoreactive agent dissolved in a 1% MEK / toluene organic solvent onto a substrate. Formed.
  • exposure for forming a multi-domain was performed by polarized pulse UV irradiation with a flash voltage of 3 kV, a frequency of 50 Hz, and an exposure distance of 7 cm. Then, the reactive liquid crystal was dissolved in 12% toluene organic solvent, and applied and dried.
  • the first domain is exposed to the first domain.
  • the multi-domain was formed by secondary exposure using a second photomask in which the corresponding region was the blocking region and the region corresponding to the second domain was the transmission region.
  • the first domain is formed by primary exposure irradiating polarized pulse UV polarized in the first direction
  • the second domain is formed by secondary exposure irradiated polarized pulse UV polarized in the second direction.
  • the first front exposure is performed by irradiating polarized pulse UV polarized in the first direction to the entire area of the photoreactive layer, and then the area corresponding to the first domain is a blocking region and the second domain Multi-domain was formed by performing secondary partial exposure using a photomask having the region as a transmissive region.
  • the first domain is formed by the first front exposure to irradiate the polarized pulse UV polarized in the first direction
  • the second domain is formed by the second partial exposure to irradiate the polarized pulse UV polarized in the second direction. do.
  • the third method was performed in the reverse order to the second method, first forming the first domain by primary partial exposure, and then forming the second domain by secondary front exposure. That is, first, the photoreactive layer is first partially exposed using a photomask having a region corresponding to the first domain as a transmissive region and a region corresponding to the second domain as a blocking region, and then partially exposed to the first domain. The entire area of the formed photoreaction layer was secondarily exposed to form a second domain. At this time, the polarization pulse UV polarized in the first direction is irradiated to the photoreaction layer through the photomask during the first partial exposure, and the polarization pulse UV polarized in the second direction during the second front exposure is partially in the first domain. The total area of the formed photoreaction layer was irradiated.
  • the first domain and the second domain were optically aligned at 0 ° and 45 °, respectively, and observed with a polarization optical microscope. Black and white images appeared alternately clearly. This indicates that the multi-domain including the first domain and the second domain is formed in the photoalignment layer. Accordingly, it can be seen that the patterned retarder can be manufactured using the polarization pulse UV in the exposure process.
  • FIG 19 is a graph comparing the orientations according to the 0 ° / 45 ° multi-domain formation method during polarization pulse UV exposure, and shows an orientation angle ⁇ according to the exposure time.
  • the orientation angle ⁇ shown in the drawing indicates an angle between the liquid crystal optical axis oriented by the primary exposure and the liquid crystal optical axis oriented by the secondary exposure.
  • the time exposure time was 0.2 second-1.4 second.
  • the orientation angle ⁇ increases as the secondary partial exposure time increases, and the orientation angle ⁇ is 45 ° when the exposure time is 0.8 seconds. That is, it is preferable that the exposure time and exposure energy at the time of secondary partial exposure are larger than the exposure time and exposure energy at the time of primary front surface exposure. Then, the orientation angle ⁇ decreases as the secondary partial exposure time passes 0.8 seconds. In the second method (Case 2), the primary front exposure time is 0.2 seconds, and the secondary partial exposure time is 0.8 seconds. It can be seen that the best orientation when.
  • the orientation angle ⁇ increases as the primary partial exposure time increases, and then the orientation angle ⁇ decreases as the primary partial exposure time passes 0.8 seconds. have. That is, the third method (Case 3) can be seen that the most excellent orientation when the first partial exposure time is 0.8 seconds, the second front exposure time is 0.2 seconds. However, according to the third method (Case 3), the orientation angle ( ⁇ ) is less than 45 ° regardless of the exposure time, which results in a lower orientation than the second method (Case 2). .
  • the second method (Case 2) is superior to the first method (Case 1) and the third method (Case 3).
  • Figure 21 is the orientation according to the 0 ° / 90 ° multi-domain formation method in the polarization pulse UV exposure It is a graph comparing.
  • the second method (Case 2) showed the best results, and the second method (Case 2) showed the highest orientation at the first front exposure time of 0.2 seconds and the second partial exposure time of 0.8 seconds. Excellent.
  • various applications may be manufactured by the optical alignment method using the polarization pulse UV and the patterned retarder manufacturing method as described above.
  • the optical alignment method using the polarization pulse UV and the patterned retarder manufacturing method as described above.
  • by irradiating the polarization pulse UV on the photoreaction layer formed on the substrate it is possible to obtain a photo-alignment film photo-aligned in at least one direction, in particular by using a photo-mask, in different directions
  • a film-type patterned retarder (FPR) having a photo-alignment layer in which two photo-aligned domains are alternately continuous may be manufactured.
  • a liquid crystal display including such a photoalignment film can be manufactured.
  • an optical film eg, ⁇ / 4 or ⁇ / 2 retardation film, polarizing film, etc.
  • an optical alignment film formed by polarized pulse UV irradiation may be prepared, and the optical film may be attached to the surface of a 3D display lens. Manufacturing is also possible.
  • an optical alignment method using a polarized pulse UV and a method of manufacturing a patterned retarder According to an optical alignment method using a polarized pulse UV and a method of manufacturing a patterned retarder according to an exemplary embodiment of the present invention, shortening the time for forming an optical alignment layer or a multi-domain by an exposure process using polarized pulsed UV and energy required Since it is possible to reduce, productivity and mass production are easy.
  • the photoalignment layer or the multi-domain can have the orientation and the orientation stability to have an excellent retardation ability.

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Abstract

본 발명은 배향막에 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층, 또는 제1 방향으로 광배향된 제1 도메인과 제2 방향으로 광배향된 제2 도메인을 포함하는 패턴드 리타더를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 편광 펄스 UV를 이용하여 광배향 공정시간을 단축시킴으로써, 생산성 향상과 광배향 효율의 극대화가 가능하다.

Description

편광 펄스 ＵＶ를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법
본 발명은 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 배향막에 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 방법 및 이를 이용한 패턴드 리타더 제조방법에 관한 것이다.
액정 패널 제조 기술의 진보에 따라, 액정 표시 소자는 광정보 처리 분야에서 널리 이용되고 있다.
종래의 경우, 중소형 디스플레이에서 응용되고 있는 액정 표시 소자로서 TN(Twisted Nematic) 표시 방법이 가장 많이 응용되고 있는데, 이는 두 기판에 각각 전극을 설치하고 액정 방향자가 90도 트위스트 되도록 배열한 다음, 전극에 전압을 가하여 액정 방향자를 구동하는 기술이다.
TN 방식 액정표시소자는 우수한 콘트라스트(contrast)와 색상 재현성을 제공하는데, 그 중에서도 전계가 인가되지 않은 상태에서 액정 분자의 장축을 상하 표시판에 대하여 수직을 이루도록 배열한 수직 배향(VA; Vertical alignment) 모드 액정표시소자는 대비비가 커서 각광받고 있다. 그러나, TN 방식 액정표시소자는 시야각이 좁다는 문제를 안고 있다.
이러한 TN 방식의 시야각 문제를 해결하기 위하여, 수직 배향 모드의 액정 표시 장치에 절개부를 적용한 PVA 모드(Patterned Verticlally Aligned Mode)와, 하나의 기판 상에 두 개의 전극을 형성하고, 두 전극 사이에서 발생하는 횡전계로 액정의 방향자를 조절하는 IPS 모드(In-Plane Switching Mode)가 도입되었다.
이후에는, 상기 IPS 모드의 낮은 개구율 및 투과율을 향상시키기 위해서, 상대전극과 화소전극을 투명전도체로 형성하면서 상대전극과 화소전극 사이의 간격을 좁게 형성하여, 상기 상대전극과 화소전극 사이에서 형성되는 프린지 필드에 의해 액정분자를 동작시키는 FFS 모드(Fringe Field Switching Mode)가 대두되었다.
한편, FFS 모드의 광효율이 TN 모드에 미치지 못하는 문제점을 해결하기 위해 FIS 모드가 개발되었는데, 종래의 FFS 모드에서 화소 전극 간의 낮은 투과율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라, 두 개의 박막 트랜지스터를 통한 전압 인가 방식으로 저전압 구동이 가능한 액정표시소자를 이룰 수 있다.
또한, 이들 각각의 모드는 고유한 액정 배열과 광학 이방성을 갖고 있다. 따라서, 이들 액정 모드의 광학 이방성으로 인한 위상차를 보상하기 위해서는 각각의 모드에 대응하는 광학 이방성의 광 위상차 필름이 요구된다. 광 위상차 필름은 LCD의 색보상 필름으로서 개발되었으나, 최근에는 고파장 분산화, 광시야각화, 온도보상, 고위상차값 필름 등 보다 다양한 기능이 요구되고 있다.
최근에는 입체성을 가져 더욱 실감나는 영상을 표현할 수 있는 즉, 3D 영상 구현이 가능한 표시 장치에 대한 소비자들의 요구가 증대됨으로써, 이에 부응하여 3D 영상 표현이 가능한 표시 장치가 개발되고 있다.
일반적으로 3D를 표현하는 입체화상은 두 눈을 통한 스테레오 시각의 원리에 의해 이루어지게 되며, 두 눈의 시차 즉, 두 눈이 약 65mm 정도 떨어져서 존재하기 때문에 나타나게 되는 양안시차(binocular disparity)를 이용하여 입체감 있는 영상을 보여줄 수 있는 3D 영상 구현 표시 장치가 제안되었다.
일반적인 3D 영상 구현 표시 장치는 크게 화상을 표시하는 액정 표시 장치와, 액정 표시 장치의 외측면에 부착되는 패턴드 리타더(patterned retarder)와, 액정 표시 장치로부터 패턴드 리타더를 통과하여 나오는 화상을 선택적으로 투과시키는 안경으로 구성되고 있다.
이때, 패턴드 리타더는 액정 표시 장치로부터 나오는 2D 화상 중 좌안용 화상과 우안용 화상에 대해 서로 다른 위상값을 갖도록, 예컨대 좌안용 화상에 대해서는 좌원편광 되도록 하고 우안용 화상에 대해서는 우원편광 되도록 하는 역할을 하며, 이를 위해서는 서로 다른 각도로 광배향된 멀티도메인(multi-domain)의 형성을 필요로 한다. 이러한 패턴드 리타더 및 그 제조방법과 관련하여, 대한민국 공개특허공보 제10-2013-0035631호 등 다수의 출원이 개시되어 있다.
액정 표시 장치의 경우, 미리 제어된 액정 분자의 배향을 전계를 인가시키는 것에 의해 다른 배향 상태로 변화시키고, 투과하는 빛의 편광방향이나 편광상태를 변화시키며, 이 변화를 편광판 등으로 명암의 콘트라스트로 변화시켜 표시하는 것이 일반적이다.
액정을 배향시키는 통상적인 방법으로, 유리 등의 기판에 폴리이미드와 같은 고분자 막을 도포하고, 이 표면을 나일론이나 폴리에스테르 같은 섬유로 일정한 방향으로 문지르는 접촉식 러빙 방법을 이용하고 있다. 상기와 같은 접촉식 러빙 방법에 의한 액정 배향은 간단하면서도 안정적인 액정의 배향 성능을 얻을 수 있다는 장점이 있으나, 섬유질과 고분자막이 마찰될 때 미세한 먼지나 정전기(electrostatic discharge; ESD)가 발생하여 기판이 손상될 수 있고, 공정시간의 증가 및 유리의 대형화로 인해 롤(roll)이 대형화됨에 따라, 러빙 강도(rubbing strength)의 불균일 등 공정상의 어려움으로 액정 패널 제조시 심각한 문제점을 야기시킬 수 있다.
상기와 같은 접촉식 러빙 방법의 문제점을 해결하기 위해, 새로운 방법의 비접촉식 배향막의 제조에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다. 비접촉식 배향막의 제조방법으로는 광배향법, 에너지빔 배향법, 증기증착 배향법, 리쏘그래피를 이용한 식각법 등이 있다.
특히 광배향법이란, 선편광된 UV에 의해서 광반응성 고분자에 결합된 광반응 물질이 광반응(광이성화, 광이량화, 광분해)을 일으켜 일정한 배열을 하게 됨으로써 결국 액정이 배향되는 메커니즘을 말한다.
이를 위해서는 선편광 자외선을 조사할 때, 광반응성 물질이 편광방향에 따라 일정한 방향과 각도로 배열되는 특성이 있어야 하며, 반응성 액정과의 상호작용에 의해 액정배향이 잘 이루어지도록 반응성 액정과의 매칭이 잘 이루어져야 한다. 특히 광배향막을 형성하는 광배향 물질은 인쇄성, 배향안정성, 열안정성 등의 물성이 좋아야 한다.
자외선 조사에 의한 광 반응으로는 신나메이트, 쿠마린, 샬콘, 스틸벤, 디아조 등의 광 중합(광이량화) 반응, 시스-트랜스 이성질화의 광 이성화 반응, 및 분해의 분자사슬 절단 등이 이미 알려져 있다. 이러한 자외선에 의한 분자 광 반응을 적절한 배향막 분자의 설계와 자외선 조사 조건의 최적화를 통해서 자외선 조사에 의한 액정 배향에 응용한 사례들이 있다.
예를 들어, 대한민국 등록특허공보 제10-0423213호에서는, 러빙 처리를 실시하지 않고, 직선 편광된 자외선 조사에 의해 액정 배향능을 부여하는 것을 특징으로 하는 액정 배향막의 제조방법 및 그 액정 배향막을 갖는 액정 표시 소자를 개시하고 있다. 이러한 광배향법 관련 특허는 특히, LCD 산업과 관련이 있는 일본, 한국, 유럽, 미국 등에서 다수 출원되고 있는 실정이다. 그러나, 초기 아이디어가 도출된 이후, 일부 양산중이기는 하나 산업계 전반적으로 널리 적용되지는 못하고 있다.
이는 상기 광 반응으로 단순한 액정 배향을 유도하는 것은 가능하나, 외부의 열, 빛, 물리적인 충격 및 화학적인 충격 등의 측면에서 안정적인 배향 특성을 유지하거나 제공하지 못하기 때문이다. 즉, 광배향법은 러빙 방법에 비해 생산성 또는 신뢰성이 낮다. 이러한 문제점의 주요 원인으로는 러빙 방법에 비해 낮은 배향 규제력(anchoring energy), 낮은 액정의 배향 안정성 등이 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 편광 펄스 UV를 이용하여 광배향 공정시간을 단축시킴으로써, 광배향의 효율성 극대화로 인한 생산성 향상의 효과가 있는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, (a) 기판을 준비하는 단계; (b) 상기 기판 상에 광반응제를 도포하여 광반응층을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 광반응층에 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 단계를 포함하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법이 제공된다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 의하면, (a) 기판을 준비하는 단계; (b) 상기 기판 상에 광반응제를 도포하여 광반응층을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 광반응층을 노광하여 스트라이프 타입의 제1 도메인과 제2 도메인이 교대로 연속하는 광배향층을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 제1 도메인은 편광 펄스 UV에 의해 제1 방향으로 광배향되고, 상기 제2 도메인은 편광 펄스 UV에 의해 제2 방향으로 광배향되는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법이 제공된다.
여기서, 상기 (c) 단계는, (c-1) 상기 광반응층에 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하여 전면 노광하는 단계; 및 (c-2) 상기 광반응층에 제2 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하되, 포토마스크를 이용하여 상기 제1 도메인에 대응되는 영역을 차단하고, 상기 제2 도메인에 대응되는 영역만 부분 노광하는 단계를 포함한다.
이때, 상기 (c-2) 단계에서의 노광시간 및 노광 에너지가, 상기 (c-1) 단계에서의 노광시간 및 노광 에너지보다 큰 것이 바람직하다.
또한, (d) 2차 노광된 상기 광배향층 위에 반응성 액정을 도포 및 건조한 후 경화하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 편광 펄스 UV는 0.1mJ/pulse ~ 500J/pulse 에너지를 갖는 것이 바람직하다.
또한, 상기 편광 펄스 UV는 1Hz ~ 60Hz로 조사되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 편광 펄스 UV의 플래시 전압은 1kV ~ 4kV인 것이 바람직하다.
또한, 상기 편광 펄스 UV에 의한 노광시간은 0.1초 ~ 10.0초인 것이 바람직하다.
아울러, 상기 편광 펄스 UV에 의한 노광거리는 0.5cm ~ 10.0cm인 것이 바람직하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법의 순서도.
도 2는 일반 UV와 펄스 UV의 피크 파워를 비교한 그래프.
도 3은 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 편광 광학 현미경 사진.
도 4는 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 광배향층의 미배향 분포도를 비교한 그래프.
도 5는 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 광배향층의 위상차 변화를 비교한 그래프.
도 6은 편광 펄스 UV의 노광거리에 따른 편광 광학 현미경 사진.
도 7은 편광 펄스 UV의 노광거리에 따른 광배향층의 미배향 분포도를 나타낸 그래프.
도 8은 편광 펄스 UV의 노광거리에 따른 광배향층의 위상차 변화를 나타낸 그래프.
도 9는 노광거리 1.5cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 편광 광학 현미경 사진.
도 10은 노광거리 1.5cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 미배향 분포도를 나타낸 그래프.
도 11은 노광거리 1.5cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 위상차 변화를 비교한 그래프.
도 12는 노광거리 7.0cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 편광 광학 현미경 사진.
도 13은 노광거리 7.0cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 미배향 분포도를 나타낸 그래프.
도 14는 노광거리 7.0cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 위상차 변화를 비교한 그래프.
도 15는 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 프리틸트각을 비교한 그래프.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법의 순서도.
도 17a 내지 도 17c는 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법의 단계별 공정도.
도 18은 편광 펄스 UV 노광시 0°/45° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 편광 광학 현미경 사진.
도 19는 편광 펄스 UV 노광시 0°/45° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 그래프.
도 20은 편광 펄스 UV 노광시 0°/90° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 편광 광학 현미경 사진.
도 21은 편광 펄스 UV 노광시 0°/90° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 그래프.
이하, 본 발명인 편광 펄스 ＵＶ를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.
또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 내려져야 할 것이다.
아울러, 아래의 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니라 본 발명의 청구범위에 제시된 구성요소의 예시적인 사항에 불과하며, 본 발명의 명세서 전반에 걸친 기술사상에 포함되고 청구범위의 구성요소에서 균등물로서 치환 가능한 구성요소를 포함하는 실시예는 본 발명의 권리범위에 포함될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법의 순서도이다. 이하, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법을 설명하기로 한다.
기판을 준비하는 단계(S10):
표면에 광배향층을 형성하기 위한 기판을 준비한다. 기판은 필요에 따라 다양한 규격으로 선택될 수 있으며, 유리(glass) 기판, 필름, 플렉서블 기판 등 투명한 절연기판으로 이루어진다. 이때, 필름은 TAC(tri-acetate cellulose), COP(cyclo olefin polymer), COC(cyclic olefin copolymer), PVA(poly vinyl alcohol), PC(poly carbonate), PMMA(poly methyl methacrylate), PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PES(polyethersulfone), PS(polystyrene), PI(poly imide), 폴리아릴레이트(polyarylate), PEEK(polyetheretherketon) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
기판 상에 광반응층을 형성하는 단계(S20):
준비된 기판의 표면에 광반응제를 도포하여 배향막인 광반응층을 형성한다. 여기서, 광반응제는 예를 들어 신나메이트(cinnamate), 샬콘, 쿠말린, 스틸벤, 디아조 등의 광 반응을 포함하는 폴리이미드(polyimide), 폴리비닐(polyvinyl), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리아크릴(polyacryl)계 물질로 이루어질 수 있다.
광반응층에 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 단계(S30):
기판 상에 형성된 광반응층에 편광 펄스 UV를 조사하여(S31), 프리틸트각(pretilt angle)을 가진 광배향층을 형성한다(S32).
종래의 광배향법에서는 일정한 에너지를 가진 UV(Ultra Violet; 자외선)가 일정 시간 동안 계속 조사되는 방법을 취하였으나, 본 발명에서는 펄스(pulse) 형태로 고에너지를 가지는 UV가 조사된다. 이러한 펄스 UV는 매우 짧은 시간만 조사되며, 상대적으로 긴 시간 동안 냉각된다. 즉, 듀티 사이클(duty cycle; 펄스가 켜져 있는 시간 / 펄스가 반복되는 총 시간 × 100(%))이 1% 미만의 매우 작은 값을 가지므로, 전체적으로 UV 조사시간이 짧고 냉각시간이 길며, 따라서 펄스 UV 조사 공정 중에 열이 발생하지 않는 장점이 있다.
도 2는 일반 UV와 펄스 UV가 1200 Watt-seconds의 동일한 에너지로 조사될 때의 피크 파워 및 조사시간을 비교하고 있다.
10Watts의 피크 파워(peak power)를 가진 일반 UV의 경우 120초 동안 조사되는 반면에, 펄스 폭(pulse width)이 1밀리초(milisecond)이고 100,000Watts의 피크 파워를 가진 펄스 UV는 12초 동안 12개의 펄스(멀티플 펄스)로 조사되고, 펄스 폭이 3밀리초이고 400,000Watts의 피크 파워를 가진 펄스 UV는 하나(싱글 펄스)의 펄스로 조사된다. 즉, 일반 UV에 비해 펄스 UV는 극히 짧은 시간에 동일한 에너지를 조사할 수 있는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 편광 펄스 UV는 펄스 폭 20 마이크로초 이하, 초당 1~60Hz의 파형으로 0.1mJ/pulse ~ 500J/pulse로 조사될 수 있으며, 따라서 광배향시 광 조사시간의 단축에 의한 공정시간의 단축과, 이로 인한 생산성 향상의 효과가 있다. 이때, 편광 펄스 UV의 플래시 전압은 1kV ~ 4kV이고, 노광시간은 0.1초 ~ 10.0초인 것이 바람직하다.
한편, 발광 램프는 대상체의 표면과 거리가 멀어질수록, 램프 중심부와 대응하는 지점의 광도와 그 주변부의 광도차가 더 심하게 나타난다. 따라서, 광배향시 UV램프로부터 발산되는 UV광의 광도와 균일도는 기판과 가까울수록 우수하지만, 종래의 경우에는 기판이 직접적으로 받는 열 변형 때문에 최소한의 노광거리를 유지하여야 하였다. 일반적으로는 10~15cm 정도의 노광거리를 확보하게 되는데, 이 경우 기판에 조사되는 UV광의 중심부와 주변부의 균일도는 약 30% 정도의 차이를 보이게 된다.
그러나, 본 발명의 일 실시예에 따라 펄스 UV를 조사하는 경우에는, 열 발생이 거의 미미하므로 기판 표면에 열적인 영향을 주지 않게 되며, 따라서 최대한 기판의 표면에 근접하여 펄스 UV를 조사함으로써 UV광의 균일도를 거의 100% 수준으로 유지할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 의하면, 편광 펄스 UV의 노광거리는 0.5cm ~ 10.0cm 인 것이 바람직하다.
또한, 편광 펄스 UV는 초단시간에 순간적인 펄스파를 조사하므로, 광배향시 강한 침투력을 갖는다. 그 결과, 편광 펄스 UV는 광반응층이 두꺼운 후막(tick layer)도 고르게 광배향시킬 수 있다.
비용적인 측면에서는, 편광 펄스 UV 램프에 의할 경우 종래의 아크방전 UV 램프를 사용하는 경우보다 전력 사용량을 80% 이상 저감시킬 수 있다. 편광 펄스 UV는 순간적인 UV 에너지를 사용하기 때문에 전력 사용량이 줄어들게 되기 때문이다.
게다가, 편광 펄스 UV는 순간적인 ON/OFF 기능이 가능하여, 공정 흐름상 UV 조사가 불필요할 경우 UV 램프를 OFF할 수 있으므로, 에너지 절감 효과가 있으며 셔터와 같은 별도의 개폐장치를 필요로 하지 않는다. 아울러, 종래의 일반 UV를 이용한 광배향시 사용되는 콜드미러, 핫미러 등의 소모품 교체 비용이 들지 않게 되기 때문에 경제적인 측면에서도 장점이 있다.
일반 편광 UV와 편광 펄스 UV 사용시 노광시간에 따른 배향성 비교
일반 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우와 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우에 있어서, 각각의 노광시간에 따른 배향성을 비교하기 위해, 아래와 같이 액정 셀을 제작하여 이용하였다.
먼저, 기판으로는 유리(glass) 기판 또는 트리아세테이트(TAC) 기판을 사용하였으며, 광배향 물질을 1% MEK/톨루엔(toluene) 유기용제에 녹인 광반응제를 기판 상에 도포하여 광반응층을 형성시켰다.
이후, 일반 편광 UV와 편광 펄스 UV를 각각 0.1초 ~ 0.4초 동안 노광거리 7cm로 광반응층에 조사하여 기판 상에 광배향층을 형성시켰으며, 반응성 액정을 12% 톨루엔 유기용제에 녹여 도포 및 건조하였다.
이때, 일반 편광 UV는 10.5mW/㎠의 파워 밀도(power density)로 조사되었으며, 편광 펄스 UV는 플래시 전압 3kV, 주파수 50Hz로 조사되었다.
도 3은 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 편광 광학 현미경(POM; Polarized Optical Microscopes) 사진이고, 도 4는 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 광배향층의 미배향 분포도를 비교한 그래프이며, 도 5는 일반 UV와 펄스 UV의 노광시간에 따른 광배향층의 위상차 변화를 비교한 그래프이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 일반 편광 UV를 조사한 경우와 편광 펄스 UV를 조사한 경우 모두 노광시간이 증가할수록 미배향 분포도가 감소하여 블랙 이미지(black image)와 화이트 이미지(white image)가 선명하게 나타났다.
다만, 도 4에 도시된 바와 같이, 일반 편광 UV를 조사한 경우에는 노광시간이 0.4초에 이르러서야 미배향 분포도가 1% 이하로 떨어지는 반면에, 편광 펄스 UV를 조사한 경우에는 0.2초의 노광시간에서도 미배향 분포도가 1% 이하로 떨어지며, 이때 도 3에 도시된 바와 같이 블랙 이미지와 화이트 이미지가 선명하게 나타났다.
즉, 본 발명의 일 실시예에 따라 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우, 광배향 속도의 향상에 의해 광배향 공정 시간을 약 50% 단축하는 효과가 있음을 알 수 있다.
또한, 일반 편광 UV에 의하면 미배향 분포도가 1% 이하로 나타날 때까지 0.4초 동안 노광 에너지가 5.0mJ/㎠ 소요된 반면에, 본 발명의 일 실시예에 따라 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우에는 0.2초 동안 3.2mJ/㎠의 노광 에너지가 소요되었으며, 따라서 본 발명의 일 실시예에 의할 경우, 종래에 비해 약 36%의 노광 에너지 절감 효과를 볼 수 있다.
아울러, 도 5는 일반 편광 UV를 사용하는 경우에 비해, 편광 펄스 UV를 사용할 때 더욱 빠른 시간 내에 위상차가 일정 범위(예컨대, 125nm±10nm)로 수렴하는 것을 보여주고 있는데, 이는 더 단시간에 배향이 이루어짐을 가리킨다.
편광 펄스 UV 사용시 노광거리에 따른 배향성 비교
편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우에 있어서, 노광거리에 따른 배향성을 비교하기 위해, 아래와 같이 액정 셀을 제작하여 이용하였다.
먼저, 기판으로는 유리(glass) 기판 또는 트리아세테이트(TAC) 기판을 사용하였으며, 광배향 물질을 1% MEK/톨루엔(toluene) 유기용제에 녹인 광반응제를 기판 상에 도포하여 광반응층을 형성시켰다.
이후, 노광거리를 각각 1.5cm, 3cm, 4cm, 7cm로 달리하면서, 노광시간 0.1초의 가혹조건으로 편광 펄스 UV를 광반응층에 조사하여 광배향층을 형성시켰으며, 반응성 액정을 12% 톨루엔 유기용제에 녹여 도포 및 건조하였다.
이때, 편광 펄스 UV는 플래시 전압 3kV, 주파수 50Hz로 조사되었다.
도 6은 편광 펄스 UV의 노광거리에 따른 편광 광학 현미경 사진이고, 도 7은 편광 펄스 UV의 노광거리에 따른 광배향층의 미배향 분포도를 나타낸 그래프이다.
도 6과 도 7에 도시된 바와 같이, 편광 펄스 UV를 조사하는 UV 램프와 노광면(광반응층) 사이의 노광거리가 가까울수록 미배향 분포도가 작고 블랙 이미지와 화이트 이미지가 선명하게 나타났다. 반면에, 노광거리가 멀수록 미배향 분포도가 증가하면서 블랙 이미지와 화이트 이미지의 선명도가 감소하게 되는데, 노광거리가 7cm를 초과하는 경우에는 노광거리 증가에 따른 미배향 분포도의 변화가 미미하였다.
도 8은 편광 펄스 UV의 노광거리에 따른 광배향층의 위상차 변화를 나타낸 그래프이며, 노광거리의 증가에 따라 위상차가 일정 기울기로 감소함을 볼 수 있다.
편광 펄스 UV 사용시 플래시 전압별, 주파수별 배향성 비교
편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우에 있어서, 편광 펄스 UV광의 플래시 전압별, 주파수별 배향성을 비교하기 위해, 아래와 같이 액정 셀을 제작하여 이용하였다.
먼저, 기판으로는 유리(glass) 기판 또는 트리아세테이트(TAC) 기판을 사용하였으며, 광배향 물질을 1% MEK/톨루엔(toluene) 유기용제에 녹인 광반응제를 기판 상에 도포하여 광반응층을 형성시켰다.
이후, 편광 펄스 UV를 노광시간 0.2초, 노광거리 1.5cm로 광반응층에 조사하여 광배향층을 형성시켰으며, 반응성 액정을 12% 톨루엔 유기용제에 녹여 도포 및 건조하였다. 이때, 편광 펄스 UV의 플래시 전압을 2.0kV, 2.5kV, 3.0kV로 각각 설정하였으며, 각각의 플래시 전압에서 1Hz, 20Hz, 30Hz, 40Hz, 50Hz 주파수의 편광 펄스 UV를 조사하였다.
도 9는 노광거리 1.5cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 편광 광학 현미경 사진이고, 도 10은 노광거리 1.5cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 미배향 분포도를 나타낸 그래프이며, 도 11은 노광거리 1.5cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 위상차 변화를 비교한 그래프이다.
도 9와 도 10은 편광 펄스 UV의 주파수가 증가할수록, 그리고 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 증가할수록, 미배향 분포도가 감소하여 블랙 이미지(black image)가 선명하게 나타남을 보여주고 있다.
또한, 도 11은 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 증가할수록 더욱 낮은 주파수에서 배향이 이루어질 수 있음을 보여주고 있다.
특히, 편광 펄스 UV의 주파수가 40Hz 이상일 때에는 플래시 전압 2.0kV에서도 미배향 분포도가 1% 이하로 나타났으며, 플래시 전압이 3kV인 경우에는 주파수 20Hz에서 미배향 분포도가 1% 이하로 나타났다. 즉, 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 3kV인 경우에는 주파수 20Hz에서 최적의 블랙 이미지가 구현되고 미배향 분포도가 최소였으며, 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 2.0kV, 2.5kV일 때에는 주파수 40Hz에서 최적의 블랙 이미지 구현과 미배향 분포도 최소를 나타내었다.
한편, 도 12는 노광거리 7.0cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 편광 광학 현미경 사진이고, 도 13은 노광거리 7.0cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 미배향 분포도를 나타낸 그래프이며, 도 14는 노광거리 7.0cm에서 펄스 UV의 플래시 전압별, 주파수별 광배향층의 위상차 변화를 비교한 그래프이다.
도 12 내지 도 14를 참조하면, 노광거리를 1.5cm에서 7.0cm로 증가시킨 경우, 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 3kV일 때에는 주파수 20Hz에서, 그리고 플래시 전압이 2.5kV일 때에는 주파수 40Hz에서 최적의 블랙 이미지가 구현됨을 확인할 수 있다. 아울러, 노광거리를 7cm로 하는 경우, 노광거리 1.5cm인 전술한 실험예에 비해 미배향 분포도가 전체적으로 증가하는 결과를 보이고 있는데, 이는 노광거리 증가에 따른 액정 셀 외곽부의 빛샘 현상 증가에 기인한다.
일반 편광 UV와 편광 펄스 UV 사용시 프리틸트각(pretilt angle) 비교
일반 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우와 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 경우에 있어서, 각각의 노광시간에 따른 프리틸트각을 비교하기 위해, 아래와 같이 액정 셀을 제작하여 이용하였다.
먼저, 기판으로는 유리(glass) 기판 또는 트리아세테이트(TAC) 기판을 사용하였으며, 광배향 물질을 1% MEK/톨루엔(toluene) 유기용제에 녹인 광반응제를 기판 상에 도포하여 광반응층을 형성시켰다.
이후, 일반 편광 UV와 편광 펄스 UV를 각각 0.1초 ~ 0.4초 동안 노광거리 7cm로 광반응층에 조사하여 광배향층을 형성시켰으며, 액정층은 트위스트 네마틱(TN; Twisted Nematic) 액정으로 형성하였다.
이때, 일반 편광 UV는 10.5mW/㎠의 파워 밀도(power density)로 조사되었으며, 편광 펄스 UV는 플래시 전압 3kV, 주파수 50Hz로 조사되었다.
도 15는 일반 편광 UV와 펄스 편광 UV의 노광시간에 따른 프리틸트각을 비교한 그래프이다. 도 15에 도시된 바와 같이, 일반 편광 UV를 조사한 경우와 편광 펄스 UV를 조사한 경우 모두, 노광시간의 증가에 따라 프리틸트각이 감소하는 경향을 보이고 있다.
다만, 편광 펄스 UV에 의해 노광한 경우, 일반 편광 UV에 의해 노광한 경우보다 프리틸트각이 더 낮게 나타나며, 편광 펄스 UV에 의한 경우 노광시간 0.2초를 지나면서 프리틸트각이 일정값으로 수렴하여 배향이 이루어짐을 나타내고 있는 반면에, 일반 편광 UV에 의한 경우에는 노광시간 0.4초를 지나면서 배향이 이루어짐을 나타내고 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따라 편광 펄스 UV를 사용하는 경우, 더욱 적은 에너지로 우수한 수평 배향을 구현할 수 있음을 알 수 있다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법의 순서도이고, 도 17a 내지 도 17c는 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법의 단계별 공정도이다. 이하, 도 16 내지 도 17c를 참조하여 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법을 설명하기로 한다.
기판 준비 단계(S100):
표면에 멀티 도메인을 형성하기 위한 기판(10)을 준비한다. 기판(10)은 필요에 따라 다양한 규격으로 선택될 수 있으며, 유리(glass) 기판, 필름, 플렉서블 기판 등 투명한 절연기판으로 이루어진다. 이때, 필름은 TAC(tri-acetate cellulose), COP(cyclo olefin polymer), COC(cyclic olefin copolymer), PVA(poly vinyl alcohol), PC(poly carbonate), PMMA(poly methyl methacrylate), PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PES(polyethersulfone), PS(polystyrene), PI(poly imide), 폴리아릴레이트(polyarylate), PEEK(polyetheretherketon) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
한편, 기판(10)은 멀티 도메인(multi-domain) 패턴 형성을 위한 포토마스크(photo-mask)(40)를 포함할 수 있다.
광반응층 형성 단계(S200):
도 17a에 도시된 바와 같이, 준비된 기판(10)의 표면에 광반응제를 도포하여 배향막인 광반응층(20)을 형성한다. 여기서, 광반응제는 예를 들어 신나메이트(cinnamate), 샬콘, 쿠말린, 스틸벤, 디아조 등의 광 반응을 포함하는 폴리이미드(polyimide), 폴리비닐(polyvinyl), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리아크릴(polyacryl)계 물질로 이루어질 수 있다.
편광 펄스 UV 조사에 의한 멀티 도메인 형성 단계(S300):
기판(10) 상의 광반응층(20)에 편광 펄스 UV를 조사하여, 스트라이프 타입(stripe type)의 제1 도메인(31)과 제2 도메인(32)이 교대로 연속하는 광배향층(30)을 형성한다. 이때, 제1 도메인(31)은 제1 방향(예컨대, 0°)으로 편광된 편광 펄스 UV에 의해 제1 방향으로 배향되고, 제2 도메인(32)은 제2 방향(예컨대, 45° 또는 90°)으로 편광된 편광 펄스 UV에 의해 제2 방향으로 배향된다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 먼저 도 17b에 도시된 바와 같이 광반응층(20)의 전체 면적에 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하여, 광반응층(20)이 제1 방향으로 광배향된 상태를 갖는 제1 도메인(31)을 이루도록 한다.
다음, 도 17c에 도시된 바와 같이 기판(10) 상에 빛의 투과영역(TA)과 차단영역(BA)을 갖는 포토마스크(photo-mask)(40)를 위치시키고, 포토마스크(40)의 상부에서 제2 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 기판(10) 방향으로 수직하게 조사한다. 이때, 제1 도메인(31)을 이루는 광반응층(20)에서 포토마스크(40)의 투과영역(TA)에 대응되는 영역이 부분적으로 노광되어 제2 방향으로 광배향된 상태를 갖는 제2 도메인(32)을 이루게 된다.
즉, 광반응층(20)은 편광 펄스 UV에 의한 전면 노광 단계와 부분 노광 단계를 거쳐, 제1 방향으로 배향된 제1 도메인(31)과 제2 방향으로 배향된 제2 도메인(32)이 교대로 연속하는 광배향층(30)을 이루게 되는 것이다.
상술한 실시예에서는 광반응층(20)의 전면 노광과 포토마스크(40)를 이용한 부분 노광에 의해, 광배향층(30)에 서로 다른 배향을 갖는 제1 도메인(31)과 제2 도메인(32)을 형성하는 예를 설명하였으나, 멀티 도메인을 갖는 광배향층(30)의 형성 방법은 다양하게 실시될 수 있다.
예를 들어, 제1 도메인(31)에 해당하는 영역을 투과영역(TA)으로 하고, 제2 도메인(32)에 해당하는 영역을 차단영역(BA)으로 하는 제1 포토마스크를 이용하여 1차 노광한 후, 제1 도메인(31)에 해당하는 영역을 차단영역(BA)으로 하고, 제2 도메인(32)에 해당하는 영역을 투과영역(TA)으로 하는 제2 포토마스크를 이용하여 2차 노광함으로써 멀티 도메인을 형성할 수도 있다.
또한, 도 17b와 도 17c에 도시된 실시예와 반대로, 먼저 부분 노광에 의해 제1 도메인(31)을 형성하고, 이후 전면 노광에 의해 제2 도메인(32)을 형성하는 방법도 있다.
그러나, 제1 포토마스크와 제2 포토마스크를 이용하여 멀티 도메인을 형성하는 방법은 도 17b와 도 17c에 도시된 실시예에 비해 공정성이 떨어지고, 부분 노광 후 전면 노광하여 멀티 도메인을 형성하는 방법은 도 17b와 도 17c에 도시된 실시예에 비해 배향성이 낮다. 이에 대하여는 도 18 내지 도 21을 참조하여 후술하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법은, 멀티 도메인 형성을 위한 노광시 편광 펄스 UV를 이용하는 것을 특징으로 한다.
편광 펄스 UV 노광시 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성 비교
편광 펄스 UV 노광시 멀티 도메인을 형성하는 방법에 따른 배향성을 비교하기 위해, 아래와 같이 서로 다른 세 가지 방법으로 멀티 도메인을 형성하였다.
이때, 기판으로는 유리(glass) 기판 또는 트리아세테이트(TAC) 기판을 사용하였으며, 광배향 물질을 1% MEK/톨루엔(toluene) 유기용제에 녹인 광반응제를 기판 상에 도포하여 광반응층을 형성시켰다.
또한, 멀티 도메인 형성을 위한 노광은 플래시 전압 3kV, 주파수 50Hz, 노광거리 7cm의 편광 펄스 UV 조사에 의해 이루어졌으며, 이후 반응성 액정을 12% 톨루엔 유기용제에 녹여 도포 및 건조하였다.
Case 1
첫 번째로, 제1 도메인에 해당하는 영역을 투과영역으로 하고, 제2 도메인에 해당하는 영역을 차단영역으로 하는 제1 포토마스크를 이용하여 광반응층을 1차 노광한 후, 제1 도메인에 해당하는 영역을 차단영역으로 하고, 제2 도메인에 해당하는 영역을 투과영역으로 하는 제2 포토마스크를 이용하여 2차 노광함으로써 멀티 도메인을 형성하였다. 이때, 제1 도메인은 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하는 1차 노광에 의해 형성되고, 제2 도메인은 제2 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하는 2차 노광에 의해 형성된다.
Case 2
두 번째로, 먼저 광반응층의 전체 면적에 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하여 1차 전면 노광을 하고, 이후 제1 도메인에 해당하는 영역을 차단영역으로 하고 제2 도메인에 해당하는 영역을 투과영역으로 하는 포토마스크를 이용하여 2차 부분 노광을 함으로써 멀티 도메인을 형성하였다. 이때, 제1 도메인은 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하는 1차 전면 노광에 의해 형성되고, 제2 도메인은 제2 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하는 2차 부분 노광에 의해 형성된다.
Case 3
세 번째 방법은 두 번째 방법과 반대의 순서로 수행하였으며, 먼저 1차 부분 노광에 의해 제1 도메인을 형성한 후, 2차 전면 노광에 의해 제2 도메인을 형성하였다. 즉, 먼저 제1 도메인에 해당하는 영역을 투과영역으로 하고 제2 도메인에 해당하는 영역을 차단영역으로 하는 포토마스크를 이용하여 광 반응층을 1차 부분 노광한 후, 부분 노광에 의해 제1 도메인이 형성된 광반응층의 전체 면적을 2차 전면 노광하여 제2 도메인을 형성하였다. 이때, 1차 부분 노광시에는 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 포토마스크를 통해 광반응층에 조사하였으며, 2차 전면 노광시에는 제2 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 부분적으로 제1 도메인이 형성된 광반응층의 전체 면적에 조사하였다.
도 18은 편광 펄스 UV 노광시 0°/45° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 편광 광학 현미경 사진이다.
상술한 세 가지 방법으로 광반응층에 편광 펄스 UV를 조사하여 제1 도메인과 제2 도메인을 각각 0°, 45°로 광배향한 후, 편광 광학 현미경으로 관찰한 결과, 세 가지 방법 모두 스트라이프 타입의 블랙 이미지와 화이트 이미지가 교대로 선명하게 나타났다. 이는 광배향층에 제1 도메인과 제2 도메인을 포함하는 멀티 도메인이 형성되었음을 가리키는 것으로, 따라서 노광 공정에서 편광 펄스 UV를 이용하여 패턴드 리타더의 제조가 가능함을 알 수 있다.
도 19는 편광 펄스 UV 노광시 0°/45° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 그래프로서, 노광시간에 따른 배향각(θ)을 나타내고 있다. 이때, 도면에 표시된 배향각(θ)은 1차 노광에 의해 배향된 액정 광학축과 2차 노광에 의해 배향된 액정 광학축 사이의 각도를 가리키며, 전면 노광시 노광시간은 0.2초로 하였고, 부분 노광시 노광시간은 0.2초 ~ 1.4초로 하였다.
두 번째 방법(Case 2)의 경우, 2차 부분 노광시간이 증가하면서 배향각(θ)이 증가하며, 노광시간이 0.8초일 때 배향각(θ)은 45°를 나타내었다. 즉, 2차 부분 노광시 노광시간 및 노광 에너지는 1차 전면 노광시의 노광시간 및 노광 에너지보다 큰 것이 바람직하다. 이후, 2차 부분 노광시간이 0.8초를 지나면서 배향각(θ)이 감소하게 되는바, 두 번째 방법(Case 2)은 1차 전면 노광시간이 0.2초이고, 2차 부분 노광시간이 0.8초일 때 가장 배향성이 우수함을 볼 수 있다.
세 번째 방법(Case 3)의 경우, 1차 부분 노광시간이 증가하면서 배향각(θ)이 증가하고, 이후 1차 부분 노광시간이 0.8초를 지나면서 배향각(θ)이 감소함을 볼 수 있다. 즉, 세 번째 방법(Case 3)은 1차 부분 노광시간이 0.8초이고, 2차 전면 노광시간이 0.2초일 때 가장 배향성이 우수함을 알 수 있다. 다만, 세 번째 방법(Case 3)에 의할 경우, 노광시간에 관계없이 배향각(θ)이 45°에 미치지 못하므로, 두 번째 방법(Case 2)에 비해서는 배향성이 떨어지는 결과를 보여주고 있다.
아울러, 첫 번째 방법(Case 1)의 경우, 0.2초 1차 노광과 0.2초 2차 노광에 의해 45°배향이 이루어짐을 보여주고 있으나, 제1 포토마스크와 제2 포토마스크를 각각 따로 준비 및 관리하여야 하고, 노광 공정 중에 제1 포토마스트와 제2 포토마스크를 적절히 교체해야 하므로, 두 번째 방법(Case 2)과 세 번째 방법(Case 3)에 비해 공정성이 낮다는 문제가 있다.
즉, 배향성과 공정성을 종합하여 고려하면, 두 번째 방법(Case 2)이 첫 번째 방법(Case 1)과 세 번째 방법(Case 3)에 비해 더욱 우수하다.
도 20은 편광 펄스 UV 노광시 0°/90° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 편광 광학 현미경 사진이고, 도 21은 편광 펄스 UV 노광시 0°/90° 멀티 도메인 형성 방법에 따른 배향성을 비교한 그래프이다.
배향각(θ)을 90°로 달리한 경우에도, 도 18과 도 19를 참조하여 전술한 바와 같은 결과를 나타내었다.
즉, 배향성과 공정성을 고려할 때 두 번째 방법(Case 2)이 가장 우수한 결과를 보여주었고, 두 번째 방법(Case 2)은 1차 전면 노광시간 0.2초, 2차 부분 노광시간 0.8초에서 가장 배향성이 우수하였다.
한편, 상술한 바와 같은 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법 및 패턴드 리타더 제조방법에 의해, 다양한 어플리케이션(application)이 제조될 수 있다. 예를 들어, 기판 상에 형성된 광반응층에 편광 펄스 UV를 조사함으로써, 적어도 하나의 방향으로 광배향된 광배향막을 얻을 수 있으며, 특히 포토마스크(photo-mask)를 이용함으로써, 서로 다른 방향으로 광배향된 2개의 도메인(domain)이 교대로 연속되는 광배향막을 가진 필름 타입의 패턴드 리타더(FPR; Film-type Patterned Retarder)가 제조될 수 있다. 또한, 이러한 광배향막을 포함하는 액정 디스플레이가 제조될 수 있다.
아울러, 편광 펄스 UV 조사에 의해 형성된 광배향막을 가진 광학필름(예컨대, λ/4 또는 λ/2 위상차 필름, 편광필름 등)을 제조할 수 있으며, 이러한 광학필름이 표면에 부착된 3D 디스플레이 렌즈의 제조도 가능하다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법과 패턴드 리타더 제조방법에 의하면, 편광된 펄스 UV를 이용하여 노광 공정에 의한 광배향층 또는 멀티 도메인 형성 시간 단축과 소요 에너지 절감이 가능하므로, 생산성 향상 및 대량 생산이 용이한 효과가 있다.
아울러, 편광된 펄스 UV를 이용하기 때문에, 광배향층 또는 멀티 도메인이 배향성 및 배향 안정성을 가져 우수한 위상차 능력을 갖도록 할 수 있다.

Claims (24)

  1. (a) 기판을 준비하는 단계;
    (b) 상기 기판 상에 광반응제를 도포하여 광반응층을 형성하는 단계; 및
    (c) 상기 광반응층에 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하는 단계를 포함하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV는 0.1mJ/pulse ~ 500J/pulse 에너지를 갖는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV는 1Hz ~ 60Hz로 조사되는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 1kV ~ 4kV인 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV에 의한 노광시간이 0.1초 ~ 10.0초인 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV에 의한 노광거리가 0.5cm ~ 10.0cm인 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 광배향막.
  8. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 패턴드 리타더.
  9. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이.
  10. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 광학필름.
  11. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 3D 디스플레이 렌즈.
  12. (a) 기판을 준비하는 단계;
    (b) 상기 기판 상에 광반응제를 도포하여 광반응층을 형성하는 단계; 및
    (c) 상기 광반응층을 노광하여 스트라이프 타입의 제1 도메인과 제2 도메인이 교대로 연속하는 광배향층을 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 제1 도메인은 편광 펄스 UV에 의해 제1 방향으로 광배향되고, 상기 제2 도메인은 편광 펄스 UV에 의해 제2 방향으로 광배향되는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  13. 청구항 12에 있어서, 상기 (c) 단계는,
    (c-1) 상기 광반응층에 제1 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하여 전면 노광하는 단계; 및
    (c-2) 상기 광반응층에 제2 방향으로 편광된 편광 펄스 UV를 조사하되, 포토마스크를 이용하여 상기 제1 도메인에 대응되는 영역을 차단하고, 상기 제2 도메인에 대응되는 영역만 부분 노광하는 단계를 포함하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  14. 청구항 12에 있어서,
    (d) 2차 노광된 상기 광배향층 위에 반응성 액정을 도포 및 건조한 후 경화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  15. 청구항 12에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV는 0.1mJ/pulse ~ 500J/pulse 에너지를 갖는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  16. 청구항 12에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV는 1Hz ~ 60Hz로 조사되는 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  17. 청구항 12에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV의 플래시 전압이 1kV ~ 4kV인 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  18. 청구항 12에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV에 의한 노광시간이 0.1초 ~ 10.0초인 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  19. 청구항 13에 있어서,
    상기 (c-2) 단계에서의 노광시간 및 노광 에너지가, 상기 (c-1) 단계에서의 노광시간 및 노광 에너지보다 큰 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  20. 청구항 12에 있어서,
    상기 편광 펄스 UV에 의한 노광거리가 0.5cm ~ 10.0cm인 것을 특징으로 하는 편광 펄스 UV를 이용한 패턴드 리타더 제조방법.
  21. 청구항 12 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 광 배향막.
  22. 청구항 12 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이.
  23. 청구항 12 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 광학필름.
  24. 청구항 12 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 3D 디스플레이 렌즈.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9494420B2 (en) 2013-04-30 2016-11-15 Korea Institute Of Industrial Technology Optical alignment device using UV pulse

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10656148B2 (en) * 2014-11-13 2020-05-19 Pathogen Systems, Inc. System and method for detecting pathogens on treated and untreated substrates using liquid crystal chromonic AZO dye

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10123523A (ja) * 1996-10-22 1998-05-15 Nec Corp 液晶配向膜の製造方法
JPH1114995A (ja) * 1997-04-30 1999-01-22 Jsr Corp 液晶配向膜、その製造法およびそれを用いた液晶表示素子
KR20080043610A (ko) * 2006-11-14 2008-05-19 엘지디스플레이 주식회사 3차원 표시 장치 및 그 제조방법
JP2012198522A (ja) * 2011-03-04 2012-10-18 Dainippon Printing Co Ltd パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置
US20130035446A1 (en) * 2010-04-23 2013-02-07 Rolic Ag Photoaligning material
JP2013061372A (ja) * 2011-09-12 2013-04-04 Fujifilm Corp フィルム・パターンド・リターダーの製造方法、並びにフィルム・パターンド・リターダー、及びそれを有する偏光板及び画像表示装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3265567B2 (ja) 1995-09-13 2002-03-11 ジェイエスアール株式会社 液晶配向膜の製造方法及び液晶表示素子
CN1142451C (zh) 1997-12-16 2004-03-17 “尼奥匹克”俄罗斯联邦全国科技中心 偏振片和液晶显示元件
JP4626039B2 (ja) 2000-09-26 2011-02-02 コニカミノルタホールディングス株式会社 光配向層の製造方法
US6909473B2 (en) 2002-01-07 2005-06-21 Eastman Kodak Company Display apparatus and method
US7206059B2 (en) 2003-02-27 2007-04-17 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
US7391569B2 (en) 2004-12-29 2008-06-24 3M Innovative Properties Company Projection system including intrinsic polarizer
JP2006243640A (ja) * 2005-03-07 2006-09-14 Joyo Kogaku Kk 液晶配向膜の製造方法及び製造装置
JP2007079533A (ja) 2005-08-17 2007-03-29 Fujifilm Corp 光学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置
KR101373462B1 (ko) 2006-06-29 2014-03-11 엘지디스플레이 주식회사 폴리카보네이트계 감광성 액정 배향제 조성물, 이를 이용한액정 배향막 및 그 제조방법과 액정 배향막을 구비한액정표시장치 및 그 제조방법
JP4151746B2 (ja) 2006-11-08 2008-09-17 Ｄｉｃ株式会社 光配向膜用組成物、光配向膜、及び光学異方体
US8982197B2 (en) 2009-02-03 2015-03-17 Lg Chem, Ltd. Optical filter
JP4691205B1 (ja) 2010-09-03 2011-06-01 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法
KR20120088970A (ko) * 2011-02-01 2012-08-09 삼성전자주식회사 수직 배향막 형성 방법, 이를 이용한 표시장치의 제조 방법 및 표시장치
US9213212B2 (en) * 2011-05-27 2015-12-15 Samsung Display Co., Ltd. Lens panel, method for manufacturing the lens panel, display apparatus having the lens panel, display panel, a method for manufacturing the display panel and a display apparatus having the display panel
KR20130035631A (ko) 2011-09-30 2013-04-09 코오롱인더스트리 주식회사 3ｄ 디스플레이용 필름 타입의 패턴 리타더의 제조방법 및 이를 이용한 3ｄ 디스플레이용 필름 타입의 패턴 리타더
KR101879860B1 (ko) 2011-10-25 2018-07-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 그 제조 방법
JP2013092707A (ja) 2011-10-27 2013-05-16 Fujifilm Corp 調光用偏光板、及びシャッター用偏光板
KR101372932B1 (ko) 2013-04-30 2014-03-12 한국생산기술연구원 펄스 ｕｖ를 이용한 광배향 장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10123523A (ja) * 1996-10-22 1998-05-15 Nec Corp 液晶配向膜の製造方法
JPH1114995A (ja) * 1997-04-30 1999-01-22 Jsr Corp 液晶配向膜、その製造法およびそれを用いた液晶表示素子
KR20080043610A (ko) * 2006-11-14 2008-05-19 엘지디스플레이 주식회사 3차원 표시 장치 및 그 제조방법
US20130035446A1 (en) * 2010-04-23 2013-02-07 Rolic Ag Photoaligning material
JP2012198522A (ja) * 2011-03-04 2012-10-18 Dainippon Printing Co Ltd パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置
JP2013061372A (ja) * 2011-09-12 2013-04-04 Fujifilm Corp フィルム・パターンド・リターダーの製造方法、並びにフィルム・パターンド・リターダー、及びそれを有する偏光板及び画像表示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9494420B2 (en) 2013-04-30 2016-11-15 Korea Institute Of Industrial Technology Optical alignment device using UV pulse

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Publication number Publication date
JP2016520880A (ja) 2016-07-14
US20160085010A1 (en) 2016-03-24
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