JP4928529B2 - 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 - Google Patents

偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 Download PDF

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Description

本発明は、偏光板の製造方法に関する。また本発明は当該製造方法により得られた偏光板に関する。当該偏光板はこれ単独で、またはこれを積層した光学フィルムとして液晶表示装置(LCD)、有機EL表示装置、CRT、PDP等の画像表示装置を形成しうる。
テレビ、パソコン、携帯電話等に用いられる各種のLCDは、液晶のスイッチングによる偏光状態を可視化させたものであり、その表示原理から、偏光子が一般に用いられている。偏光子としては、例えばポリビニルアルコール系フィルムに代表される親水性ポリマーフィルムにヨウ素等の二色性物質を吸着させ、延伸した構造のヨウ素系偏光子が高透過率、高偏光度の光学特性を有することから、最も一般的な偏光子として広く使用されている。即ち、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸すると、ポリビニルアルコール分子に吸着(染色)した二色性物質が配向して、偏光子になる。二色性物質を高配向させて光学特性を高める方法として、ポリビニルアルコール系フィルムの延伸倍率を大きくする方法が提案されている(特許文献1)。一方、偏光子を外部から保護し、かつ加熱/冷却または水分の吸湿/放出に伴う偏光子の伸縮を抑えために、偏光子は、その片面または両面に透明保護フィルムを接着剤層により貼り合せた偏光板として用いられる。
上記の通り偏光板は各種LCDに用いられるが、携帯電話等の小型LCDの薄型化に伴い、偏光板についても薄型化が急務になっている。偏光板の薄型化は、偏光子または透明保護フィルムを薄型化することが考えられる。
偏光子の薄型化は、偏光子の原材料であるポリビニルアルコール系フィルムを薄くすることで実現できる。しかし、原反フィルムを薄くして、かつ、偏光子の製造に際して、高光学特性を得るためにポリビニルアルコール系フィルムの延伸倍率を大きくすると、当該フィルムの破断を招き、深刻な生産性の低下を引き起こす。一方、延伸倍率を低く設定すると十分な偏光特性が得られないといった問題がある。
即ち、偏光子はポリビニルアルコール系フィルムを縦方向に高度に一軸延伸されると、その延伸倍率に応じて幅と厚みの減少を生じる。このとき高度な偏光特性を得るためには一般に偏光子の延伸倍率は高いほどよい。そのため、膨張性と延伸性を満たし、高性能で均一な偏光子を得るには、偏光子の原反フィルムの厚みはある程度厚くする必要がある。また、フィルムの延伸はフィルムへの応力と印加とそれによる永久変形に基づいてなされることから、フィルムの脆弱な領域ほど強く延伸されることになる。そのため、フィルム厚みは延伸の度合いが高い部分ほど薄くなると同時に、フィルムの断裂のきっかけとなりやすい。このことは原反フィルムの厚みが薄いほど、また延伸倍率が高いほど顕著である。従って、偏光子の安定した生産のためには可能な限りフィルムの断裂を抑制することが必要なため、原反フィルムを薄くすることは困難であった。
一方、透明保護フィルムを薄型化すると、偏光板の剛性が低下して、偏光板が撓むといった問題がある。特に、恒温での加湿環境下での偏光子の吸収軸方向の収縮は、偏光子の延伸の緩和に基づいているといわれ、LCDの製造にあたって偏光板を貼り合せた時に液晶パネルが反る原因になっていた。場合によっては、LCDが大きく撓み、バックライトや背面の拡散板等のフィルムに接触することで表示特性を大きく劣化させたり、液晶パネルを固定するベゼルに当たったりして、光抜けを生じるといった問題が生じていた。
また近年の大型LCDでは必然的に用いられる偏光板は大型化しているが、液晶パネル自体の厚みは変わらないため、偏光板の伸縮に伴う歪がLCD自体を湾曲させるという問題がある。これによって、表示特性に大きな問題が生じることから、偏光板に生じる収縮を低下させることが望まれる。具体的には、加熱や加湿に伴う偏光子の緩和によって、延伸方向に強く収縮する現象があり、これにともない応力の発生や歪の発生が問題となっていた。
上記問題に対しては、剛性の透明保護フィルムを用いたり、前記のように薄型化したポリビニルアルコール系フィルムを用いたりすることが考えられる。しかし、前者で伸縮未源のポリビニルアルコール系フィルム自体に発生する応力は低減できず、後者では前記のようにポリビニルアルコール系フィルムの厚みの低下には限界がある。またポリビニルアルコール系フィルムの延伸倍率を低くすることにより、得られる偏光子の配向を緩和して
偏光子の収縮力を小さくすることも考えられるが、収縮力を小さくできるほど延伸倍率を低下させるとヨウ素錯体の配向性そのものも小さくなり、深刻な光学特性の低下を引き起こすとともに、延伸の均一性を損ない、良好な特性の偏光板を得ることが困難であった。
特開2002‐28971号公報
本発明は、収縮による撓みを抑えることができ、かつ薄型化した偏光板の製造方法を提供することを目的とする。
また本発明は前記製造方法により得られた偏光板を提供することを目的とする。さらに本発明は、当該偏光板を積層した光学フィルムを提供すること、さらには、当該偏光板、光学フィルムを用いた液晶表示装置等の画像表示装置を提供することを目的とする。
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す偏光板の製造方法により前記目的に達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、偏光子の片面に、接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられている偏光板の製造方法であって、
偏光子の少なくとも一方の面に、真空紫外線を照射して、偏光子の表面を処理する工程(A)と、
仮偏光板を製造するために、前記表面処理工程(A)を施した偏光子の面に、第一透明保護フィルムを、第一接着剤層を介して貼り合せる工程(B)と、
前記仮偏光板から、前記第一透明保護フィルムとともに前記表面処理された偏光子の表面層を剥離する工程(C)、を有することを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
前記偏光板の製造方法において、前記偏光子としては、親水性ポリマーフィルムに、少なくとも、二色性物質による染色工程と延伸工程を施すことにより得られたものが好ましい。また、前記親水性ポリマーフィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムであり、二色性物質がヨウ素であることが好ましい。また、前記偏光子は、親水性ポリマーフィルムに、さらに、膨潤工程および架橋工程から選ばれるいずれか少なくとも1つの工程を施すことにより得られたものであることが好ましい。
前記偏光板の製造方法において、前記表面処理工程(A)の真空紫外線の照射に用いる光源の強度が、中心波長に対して、50nm以下の半値幅を有することが好ましい。
前記偏光板の製造方法において、前記表面処理工程(A)の真空紫外線の照射に用いる光源としては、エキシマランプ、エキシマレーザまたは自由電子レーザを用いるのが好ましい。
前記偏光板の製造方法において、前記表面処理工程(A)乃至剥離工程(C)を、偏光子の両面に施す場合には、これら各工程は、順次または同時に施すことができる。
また本発明は、前記製造方法により得られた、
剥離された表面層からなる偏光子の当該剥離に係る面とは反対側の片面に、第一接着剤層を介して第一透明保護フィルムが設けられていることを特徴とする偏光板、に関する。
また本発明は、前記偏光板の前記剥離に係る面に、第二接着剤層を介して第二透明保護フィルムまたは透明保護層が設けられていることを特徴とする偏光板、に関する。
また本発明は、前記偏光板が、少なくとも1枚積層されていることを特徴とする光学フィルム、に関する。
さらに本発明は、前記偏光板または前記光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置、に関する。
本発明では、薄層の偏光子の片面に、接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられている偏光板を以下の方法で製造している。まず、表面処理工程(A)により、偏光子に、真空紫外線を照射して、偏光子の表面層を改質する。当該表面処理工程(A)による改質によって、偏光子の表面層の凝集破壊が生じる。次いで、貼り合せ工程(B)により、前記表面処理工程(A)を施して表面層が改質された偏光子の面に、第一透明保護フィルムを、第一接着剤層を介して貼り合せて、仮偏光板を製造する。次いで、剥離工程(C)により、前記仮偏光板から、前記第一透明保護フィルムとともに前記表面処理された偏光子の凝集破壊がされた表面層を剥離する。前記表面処理工程(A)により改質された偏光子の表面層は、非常に薄い層であるが、光学特性を劣化しない程度に光学特性が維持されており、薄型の偏光子として機能する。また、前記偏光子の表面層は凝集破壊されていることから、偏光子の表面層は、偏光子本体との結合よりも、第一接着剤層との結合が強くなり、第一透明保護フィルムの剥離によって、第一透明保護フィルムとともに、偏光子本体から剥離することができる。このようにして、薄型化した偏光子を有する偏光板を得ることができる。得られる偏光板における、偏光子は、凝集破壊された偏光子の表面層からなっており、当該表面層の剥離は安定して均一に行うことが可能である。
通常の偏光板では、厚み20〜25μmの偏光子が用いられているが、例えば、本発明の偏光板では、厚み2μm程度の偏光子を用いることができる。即ち、本発明の偏光板によれば、偏光子の厚みは従来の約1/10になる。偏光子の収縮力の大きさは、偏光子の厚みに比例するので、単位面積当たりの収縮応力が等しいとすれば、本発明の偏光板の収縮力は通常の偏光板の1/10にすることができる。
偏光板は、一般的には、高温または高温高湿の環境下で偏光子の収縮によって、非常に強い収縮力が働くが、本発明の偏光板は偏光子の厚みが非常に薄いため、偏光子の収縮によって生じる応力を非常に小さくすることができる。そのため、本発明の偏光板は、収縮による撓みを生じさせず、または抑えることができ、偏光板、偏光板を積層した光学フィルム、LCDの変形に関する問題を解消できる。
また、LCDにおいて、従来は、偏光板の収縮による応力が、液晶パネルの反りの原因になっており、また、偏光板に一体化して設けられて位相差板や液晶パネルに対しても、偏光板の収縮に伴う光弾性の発生によって、液晶パネルの表示特性を変化させ、表示ムラや光抜けの原因になっていた。本発明の薄型化した偏光子を用いた偏光板によれば、偏光板の収縮により発生する応力も小さくなるため、上記反りや光弾性の問題を小さく抑えることができ、仮に問題が発生しても容易に修正可能である。また本発明の偏光板は、反りが小さく抑えられており、LCDの撓みを抑え、バックライトや背面の拡散板等のフィルムに接触することで表示特性を大きく劣化させたり、液晶パネルを固定するベゼルに当たったりして、光抜けを生じるといった問題が解消することができる。
以下に図面を参照して本発明の偏光板の製造方法を説明する。図1は、本発明の偏光板の製造方法を示す概略図である。なお、図1では、偏光板の製造方法に用いる、偏光子の製造方法についての概略図も示している。図1では、偏光子の製造から、偏光板の製造までの各工程を連続工程として示しているが、偏光子の製造と、偏光板の製造を個別に行うこともできる。また、図1では、偏光子の製造に係わる各工程、偏光板の製造に係わる各工程を連続工程としているが、これら各工程を個別に行うこともできる。
図1では、本発明の偏光板の製造方法に用いる偏光子を1xを、送り出しロールから搬送される、親水性ポリマーフィルム1yに、染色浴による染色工程(1a)、延伸浴中での延伸工程(1b)、乾燥器中での乾燥工程(1c)を順次に施すことにより製造している。なお、図1には、膨潤工程、架橋工程、洗浄工程等は記載していないが、これら工程は、適宜に施すことができる。
そして、上記で作製した偏光子1xに、まず、表面処理工程(A)を施している。図1の表面処理工程(A)では真空紫外線照射装置Sにより、偏光子1xの片面に、真空紫外線を照射して、偏光子1xの表面改質を行っている。
次いで、貼り合せ工程(B)において、前記表面処理工程(A)を施した偏光子1xの片面に、送り出しロールから搬送される第一透明保護フィルム2aを、第一接着剤層を介して、仮偏光板10´を製造している。貼り合せる工程(B)は一対のロールにより行われている。図1では、第一接着剤層は図示していない。次いで、剥離工程(C)において、仮偏光板10´から、前記第一透明保護フィルム2aとともに前記偏光子1xの表面層を剥離して、薄層の偏光子を有する、本発明の偏光板10aを製造している。図示してはいないが、剥離工程(C)では、剥離手段が設けられている。
偏光板10aの前記偏光子の剥離に係る面には、貼り合せ工程(D)において、第二接着剤層を介して、送り出しロールから搬送される第二透明保護フィルム2bが貼り合わされて、薄層の偏光子の両面に透明保護フィルルム2a、2bを有する偏光板10bを製造している。図1では、第二接着剤層は図示していない。一方、剥離工程(C)において、薄層の偏光子が剥離された偏光子1zは、巻き取りロールにより巻き取られている。
図2Aは、図1の表面処理工程(A)、貼り合せ工程(B)、剥離工程(C)についての箇所のみを特に詳細に簡潔に記載した概略図である。図2Aでは、貼り合せ工程(B)において、前記表面処理工程(A)を施した偏光子1xの片面と、第一透明保護フィルム2aを、供給口Hから供給される第一接着剤により形成される、第一接着剤層3aによって貼り合せて、仮偏光板10´を製造している。
図2Bは、偏光子の両面に、表面処理工程(A)乃至剥離工程(C)を施している場合である。図2Bでは、表面処理工程(A)において、真空紫外線照射装置Sにより、偏光子1xの両面の表面改質を行っている。次いで、貼り合せ工程(B1)において、前記表面処理工程(A)を施した偏光子1xの片面に、第一透明保護フィルム2aを、供給口Hから供給される第一接着剤に形成される、第一接着剤層3aによって貼り合せ、さらに、貼り合せ工程(B2)において、上記同様にして前記表面処理工程(A)を施した偏光子1xのもう一方の片面に、第一透明保護フィルム2aを、第一接着剤層3aによって貼り合せて、偏光子1xの両面に、第一透明保護フィルム2aを有する仮偏光板10´´を製造している。次いで、剥離工程(C)において、仮偏光板10´´の両面からから、前記第一透明保護フィルム2aとともに前記偏光子1xの表面層を剥離して、薄層の偏光子を有する偏光板10aを一度に2つ製造している。なお、図2Bでは、表面処理工程(A)、剥離工程(C)は、偏光子1xの両面に、同時に、一方、貼り合せ工程(B)は順次に施されているが、偏光子1xの両面に施される表面処理工程(A)乃至剥離工程(C)は、適宜に、順次または同時に施すことができる。
表面処理工程(A)は、偏光子の少なくとも一方の面に、真空紫外線を照射することにより行う。一般に、波長10〜200nmの電磁波は真空紫外線と呼ばれる。上記真空紫外線の照射によって、偏光子の表面層の状態を変化させて、剥離工程(C)での、偏光子の表面層の剥離を容易にしている。一方、真空紫外線の照射によって、偏光子の表面層の特性を劣化させると、LCD等の画像表示装置に適用した場合に表示特性の低下を引き起こし好ましくない。そのため、表面処理工程(A)では、真空紫外線の照射によって、偏光子の表面層の状態を変化させ、かつ偏光子の光学特性を変化させないか、または軽微な変化しか引き起こさないように、真空紫外線を照射することにより行っている。
例えば、偏光子の二色性物質としてヨウ素を用いる場合には、ポリヨウ素イオン錯体が親水性ポリマーフィルム中で配向している。当該ヨウ素を含有する偏光子に真空紫外線を照射する場合、照射波長が、ポリヨウ素イオンによるヨウ素錯体の吸収波長であると、真空紫外線は、親水性ポリマーフィルムに吸収されるよりもヨウ素錯体に吸収されて当該ヨウ素錯体が破壊されてしまう。一般に、ヨウ素錯体は波長250nm程度までの吸収をするため、波長250nm以上の活性エネルギー線を照射するとヨウ素錯体が破壊される。またヨウ素イオンの吸収波長は190nm程度であり、可使光部分や比較的長波長部分にブロードな吸収を有するポリヨウ素イオン錯体とは異なり非常にシャープな吸収ピークを持つため、波長190nm以上の真空紫外線または活性エネルギー線を照射するとヨウ素イオンが光を吸収してしまう。以上から、波長190nm以上の真空紫外線または活性エネルギー線を照射すると、ヨウ素やヨウ素錯体が光を吸収することによって、直接的にヨウ素錯体が破壊され、また吸収された光が熱に変化することよって偏光子に熱的なダメージを及ぼして、偏光子の光学特性に影響を及ぼす。
また、偏光子の親水性ポリマーフィルムとしてポリビニルアルコール系フィルムを用いる場合、その吸光は、波長180nm程度から、より短い波長で生じる。そのため、真空紫外線としては、中心波長(吸収ピーク)が180nm以下の場合が好ましい。真空紫外線を照射した場合には、その真空紫外線の強度によって親水性ポリマーフィルムの改質を行うことができる。また、中心波長が180nm以下の真空紫外線を照射する場合には、親水性ポリマーフィルムの最表面で殆ど光が吸収されるため、真空紫外線の影響が最表面に止まり、薄層の偏光子を得るうえで好ましい。
以上から、表面処理工程(A)では、真空紫外線を照射している。照射波長が200nmを超えるとヨウ素が吸収を起こすので好ましくない。一方、照射する真空紫外線の波長が短くなると、親水性ポリマーフィルムの透過性が甚だしく増大する。そのため、偏光子の表面層のみに改質を行い、それを剥離する観点から言えば、照射する真空紫外線の中心波長は50nm以上であるのが好ましく、さらには100nm以上であるのが好ましい。
前記真空紫外線の光源の強度は、発光ピークが単一であり、その半値幅が狭く、フォトンエネルギーが高いものが好ましい。当該光源によれば、偏光子の表面層との化学結合を、より効率的に直接開裂させることができる。また、前記光源によれば、不必要な光吸収によって偏光子に望ましくない変質が起こることを、さらに効果的に抑えることができる。前記半値幅は、真空紫外線の中心波長に対して、50nm以下であるのが好ましく、さらには40nm以下であるの好ましく、さらには30nm以下であるのが好ましい。
前記真空紫外線の光源としては、エキシマランプ、エキシマレーザまたは自由電子レーザが好ましく用いられる。前記光源の具体例としては、Xeエキシマレーザ、Fエキシマレーザ、Krエキシマレーザ、Arエキシマレーザ、非線形光学素子による高調波レーザ、Xeエキシマランプ、Krエキシマランプ、Arエキシマランプ、等があげられる。これらのなかでも中心波長172nmの波長のXeエキシマランプ、が好ましい。
前記表面処理工程(A)は、中心波長が180nm以下の真空紫外線を照射することにより行うが、通常、その強度は、2〜50mW/cm、好ましくは4〜20mW/cmで、1〜300秒間、好ましくは3〜200秒間行うのが好ましい。
貼り合せ工程(B)では、前記表面処理工程(A)を施した偏光子の面に、第一透明保護フィルムを、第一接着剤層を介して貼り合せる。当該貼り合せ工程(B)により、仮偏光板が得られる。
第一接着剤層の形成は、前記表面処理工程(A)の施された偏光子の表面および/または第一透明保護フィルムに第一接着剤を塗工することにより、また、図2、3に示すように、偏光子の表面および/または第一透明保護フィルムの間に第一接着剤を供給することにより、行うことができる。なお、前記塗工された第一接着剤は、貼り合せの前または後に、接着剤の種類に応じて硬化して接着剤層を形成する。
接着剤の塗工方式は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター(ダイレクト,リバースやオフセット)、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーターなどがあげられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。
上記第一接着剤層を介して、前記表面処理工程(A)を施した偏光子の面と第一透明保護フィルムとを貼り合せる。当該貼り合せは、ロールラミネーター等により行うことができる。
なお、第一接着剤層の形成にあたり、前記表面処理工程(A)の施された偏光子の表面および/または第一透明保護フィルムには、必要に応じて、接着剤用下塗り剤を用いることで接着剤を向上させることができる。
剥離工程(C)では、貼り合せ工程(B)で得られた仮偏光板から、前記第一透明保護フィルムとともに前記表面処理された偏光子の表面層を剥離する。剥離工程(C)によって、非常に薄い偏光子層の片面に第一透明保護フィルムを有する本発明の偏光板が得られる。剥離された偏光子層は、前記表面処理工程(A)の真空紫外線の照射条件等を一定にすることにより、略均一な厚みで剥離することができる。前記剥離工程(C)は、一般的な剥離手段を採用することができ、例えば、90°ピール、180°ピール等により行うことができる。こうして得られた本発明の偏光板における、薄層の偏光子層の厚さは、通常、1〜4μmである。
以下に本発明の偏光板の製造方法に用いるに用いる材料について説明する。
本発明の偏光板の製造方法に用いる偏光子としては、親水性ポリマーフィルムに、少なくとも、ヨウ素や二色性染料の二色性物質による染色工程と延伸工程を施すことにより得られたものが好適である。また、偏光子の製造に際しては、親水性ポリマーフィルムに、さらに、膨潤工程、架橋工程等の工程を施すことができる。なお、上記以外の偏光子としては、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。
偏光子の製造は、例えば、親水性ポリマーフィルムを搬送しながら前記各工程を連続処理にて施すのが好ましいが、前記各工程はバッチ処理により施すこともできる。偏光子を製造するに当たり、各工程を連続処理にて施す場合には親水性ポリマーフィルムはロールにした原反フィルムとして用いるのが好ましく、バッチ処理の場合には、所定の大きさにカットした親水性ポリマーフィルムを用いるのが好ましい。
親水性ポリマーフィルムの厚みは、特に制限されないが、延伸性の点より通常、30〜110μm程度であり、好ましくは50〜100μmである。なお、親水性ポリマーフィルムの厚みが、あまりに薄く、例えば厚み20μm以下の場合には、フィルムの延伸困難性や延伸均一性の点で高倍率での延伸が難しくなり、高性能な偏光子を得るうえで好ましくない。
前記偏光子に用いる親水性ポリマーフィルムとしては、各種のものを使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等があげられる。
本発明の偏光子は、親水性ポリマーフィルムとして、ポリビニルアルコール系フィルムを用い、二色性物質としてはヨウ素を用いる場合が好適である。以下は、親水性ポリマーフィルムとして、ポリビニルアルコール系フィルムを代表して説明する。
ポリビニルアルコール系フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、好ましくは100〜10000、さらに好ましくは1000〜5000である。重合度が低すぎると、所定の延伸を行う際に延伸切れしやすく、また重合度が高すぎると、延伸する際に張力が異常に必要となり、機械的に延伸できなくなるおそれがある。偏光子を構成するポリビニルアルコール系フィルムは、任意の適切な方法(例えば樹脂を水または有機溶剤に溶解した溶液を流延製膜する流延法、キャスト法、押出法)で成形され得る。
偏光子の製造方法としては、目的、使用材料および条件などに応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、上記ポリビニルアルコール系フィルムを、通常、膨潤、染色、架橋、延伸、洗浄および乾燥工程を含む一連の製造工程に供する方式が採用される。乾燥工程を除く各処理工程においては、それぞれの工程に用いられる溶液を含む液中にポリビニルアルコール系フィルムを浸漬することにより処理を行う。膨潤、染色、架橋、延伸、洗浄および乾燥の各処理の順番、回数および実施の有無は、目的、使用材料および条件などに応じて適亘設定されえる。例えば、いくつかの処理を1つの工程で同時に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理を同時に行ってもよい。また例えば、架橋処理を延伸処理の前後に行うことが、好適に採用され得る。また例えば、洗浄処理は、全ての処理の後に行ってもよく、特定の処理の後のみに行ってもよい。
膨潤工程は、代表的には、上記親水性ポリマーフィルムを水で満たした処理浴中に浸漬することより行われる。この処理により、親水性ポリマーフィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄すると共に、親水性ポリマーフィルムを膨潤させることで染色ムラ等の不均一性を防止できる。膨潤浴には、グリセリンやヨウ化カリウム等が適宜に添加される。膨潤浴の温度は、通常20〜50℃程度であり、膨潤浴への浸漬時間は、通常5〜300秒間程度である。膨潤浴の温度、時間は、フィルムの状態に応じて適宜に組み合わせることができる。膨潤浴への浸漬によって、膨潤浴中の溶液を吸収、膨潤して、親水性ポリマーフィルムは膨潤前の長さに対して1.1〜2倍に膨らむ。また、膨潤浴中では縦一軸方向(長手方向)に一軸延伸してもよい。膨潤浴中での延伸倍率は、前記膨潤量の1〜2倍程度である。一軸延伸する手段としては、ロール延伸機、テンター延伸機、バッチ延伸機等の任意の適切な延伸機が用いられる。
染色工程は、代表的には、上記親水性ポリマーフィルムを、ヨウ素、有機染料等の二色性物質を含む処理浴中に浸漬することにより行われる。二色性物質としてはヨウ素が好ましい。染色浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。前記溶液における二色性物質の濃度は、特に制限されないが、通常、0.005〜2重量%、好ましくは0.1〜1重量%である。二色性物質としてヨウ素を用いる場合は、染色浴の溶液はヨウ化物等の助剤をさらに含有することが好ましい。染色効率が改善されるからである。ヨウ化物の具体例としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンなどがあげられる。前記溶液における助剤の濃度は、特に制限されないが、好ましくは0.01〜10重量%、さらに好ましくは0.02〜8重量%である。染色浴の温度は、通常、20〜70℃程度であり、染色浴への浸漬時間は、通常、1〜20分間程度である。
上記親水性ポリマーフィルムは、染色浴への浸漬によって、膨潤されたフィルム中と染色浴との濃度差に基づく二色性物質の拡散によって、二色性物質がフィルム中に浸透し、染色される。従って、親水性ポリマーフィルムは、一般に染色浴の濃度、温度が高いほど、染色浴の時間が長いほど濃く染色されることになる。染色浴の温度、時間は、作製する偏光子の光学濃度によって、また染色浴中でのフィルム強度によって適宜に組み合わせることができる。また、染色浴中では縦一軸方向(長手方向)に一軸延伸してもよい。延伸手段は前述の膨潤工程と同様である。
架橋工程は、代表的には、上記染色された親水性ポリマーフィルムを、必要に応じて、架橋剤を含む処理浴中に浸漬することによって行うことができる。架橋浴への浸漬によりフィルム中の分子間の架橋を促す。架橋剤としては任意の適切な架橋剤が採用される。架橋剤の具体例としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等の架橋性の水溶性有機物があげられる。これらは、単独で、または組み合わせて使用される。架橋浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。架橋剤は、溶媒100重量部に対して、通常、0.05〜10重量部の割合で用いられる。架橋浴の溶液は、ヨウ化物等の助剤をさらに含有することが望ましい。面内に均一な特性が得られやすいからである。ヨウ化物の具体例は、染色工程の場合と同様である。前記架橋剤としてはホウ素が好ましく、その助剤としてはヨウ化カリウムが好ましい。架橋浴の温度は、通常、20〜70℃程度、好ましくは30〜60℃である。架橋浴への浸漬条件は、フィルム中への架橋剤の含有量やその分布に応じて、また、架橋浴中でのフィルム強度や張力に応じて適宜に組み合わせることができる。架橋浴への浸漬時間は、通常、1秒間〜15分間程度、好ましくは5秒間〜10分間である。また、架橋浴中では縦一軸方向(長手方向)に一軸延伸してもよい。架橋浴中での延伸倍率は、例えば、前記染色工程後の親水性ポリマーフィルムの長さに対して、1〜3倍程度、好ましくは、1〜2倍である。延伸手段は前述の膨潤工程と同様である。
延伸工程は、上記のようにいずれの段階で行ってもよい。具体的には、染色処理の後に行ってもよく、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理と同時に行ってもよく、架橋処理の後に行ってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムの累積延伸倍率は、通常、4倍以上にする。好ましくは4〜8倍、さらに好ましくは5〜7倍、さらに好ましくは5〜6.5倍である。延伸の具体的な方法としては、任意の適切な方法が採用される。例えば、湿式延伸法を採用した場合には、親水性ポリマーフィルムを処理浴中で所定の倍率に延伸する。延伸浴の溶媒としては、水または有機溶媒(例えばエタノール)が用いられる。また延伸浴中に、各種金属塩、ヨウ化物、ホウ素または亜鉛の化合物を添加した溶液が好適に用いられる。延伸浴中には、例えば、ホウ素およびヨウ化物(ヨウ化カリウム)を含むことが好ましい。前記両者の含有量は、例えば、合計で2〜18重量%の範囲であるのが好ましく、5〜15重量%の範囲であるのがより好ましい。延伸工程における延伸倍率は、前工程(例えば架橋工程)後の親水性ポリマーフィルムの長さに対して、1.05〜6倍程度である。前記延伸浴の温度は、例えば、25〜75℃程度であり、好ましくは30〜70℃である。また延伸処理時間としては、例えば、10〜180秒間程度であり、好ましくは20〜90秒間である。延伸手段は前述の膨潤工程と同様である。延伸条件は必要とする偏光子の偏光特性に応じて適宜に選択することができる。
洗浄工程は、必要に応じて、上記各種処理を施された親水性ポリマーフィルムを処理浴中に浸漬することによって行われる。洗浄工程により親水性ポリマーフィルムのホウ酸等の不要残存物を洗い流すことができる。洗浄浴は、純水であってもよく、ヨウ化物(例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等)の水溶液であってもよい。ヨウ化物水溶液の濃度は、0.5〜20重量%程度、好ましくは1〜15重量%である。ヨウ化物水溶液には硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの助剤を添加してもよい。洗浄浴の温度は好ましくは15〜40℃である。浸漬時間は2〜20秒間程度である。洗浄工程は1回だけでもよく、必要に応じて複数回行ってもよい。複数回実施される場合は、各処理に用いられる洗浄浴に含まれる添加剤の種類や濃度は適宜に調整される。例えば、洗浄工程は上記各種処理を施された親水性ポリマーフィルムをヨウ化カリウム水溶液による浸漬する工程と、純水ですすぐ工程とを含む。また、洗浄工程において、偏光子の表面改質や、偏光子の乾燥効率を上げるために、水と相溶性を有する有機溶媒(例えば、エタノ−ルなど)を適宜添加してもよい。前記洗浄工程の温度、浸漬時間は目的とする偏光子の光学特性に応じて適宜設定することができる。過度な温度、過度の浸漬時間の場合には、フィルムとヨウ素錯体の配向緩和が生じるため、偏光度が低下する傾向があり好ましくない。
偏光子の光学特性はポリヨウ素としてのヨウ素イオン錯体の種類と配合の度合いによる。一般的には約470nmに吸光のある中心波長のあるI 錯体と約600nmに吸光のある中心波長のあるI 錯体があり、これらの錯体の量により、偏光子の色相は決定される。これらの錯体量のバランスは化学平衡に基づいて決定され、洗浄浴(ヨウ化物溶液)への親水性ポリマーフィルムの浸漬によって、フィルム中のヨウ素イオンやカウンターイオンとしてのアルカリ金属イオン等の量を変化させ平衡を移動させることができる。また、ホウ酸水溶液が親水性ポリマーフィルム表面に着いた状態のままであると、場合によってはフィルム表面のホウ酸の結晶化が進行し、透明保護フィルムを貼り合せる際に異物となりうる。上記の通り、この洗浄浴(ヨウ化物溶液)によって前記延伸工程において使用した残存するホウ素を、親水性ポリマーフィルムから、洗い流すことができる。
乾燥工程は、任意の適切な方法(例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、25〜80℃程度、好ましくは30〜75℃である。
本発明の製造方法に用いる偏光子は、水分率が25重量%以下であるのが好ましく、より好ましくは4〜20重量%、さらに好ましくは8〜20重量%である。水分率が25重量%より大きいと、得られた偏光板の寸法変化が大きくなり、高温下あるいは高温高湿下における寸法変化が大きくなってしまうという問題が生じるおそれがある。また、水分率が大きくなると偏光子の伸びが大きくなり、剥離工程(C)をうまく行うことができない場合がある。即ち、偏光子の表面層の剥離は、凝集破壊であるため、フィルムの伸びは破断面に応力が伝わらず、エネルギーが伸びに使われるうえ、配向のうえからも好ましくない。一方、水分率が低くなり過ぎると、ハンドリング性の観点で好ましくない。かかる観点から、偏光子の水分率は上記範囲であるのが好ましい。
本発明の、偏光子の水分率は、任意の適切な方法で調整すればよい。例えば偏光子の製造工程における乾燥工程の条件を調整することにより制御する方法があげられる。
偏光子の水分率は、以下の方法により測定される。すなわち、偏光子を、100×100mmの大きさに切り出して、このサンプルの初期重量を測定した。続いて、このサンプルを120℃で2時間乾燥し、乾燥重量を測定して、下記式により水分率を測定した。水分率(重量%)={(初期重量−乾燥重量)/初期重量}×100。重量の測定はそれぞれ3回ずつ行い、その平均値を用いた。
本発明の偏光板の製造方法に用いる第一透明保護フィルムを構成する材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂)、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびこれらの混合物があげられる。当該透明保護フィルム中には任意の適切な添加剤が1種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などがあげられる。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは50〜100重量%、より好ましくは50〜99重量%、さらに好ましくは60〜98重量%、特に好ましくは70〜97重量%である。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量が50重量%以下の場合、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性等が十分に発現できないおそれがある。
また、第一透明保護フィルムとしては、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルム、例えば、(A)側鎖に置換および/または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、(B)側鎖に置換および/または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物があげられる。具体例としてはイソブチレンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムがあげられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは位相差が小さく、光弾性係数が小さいため偏光板の歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。
第一透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より1〜500μm程度である。かかる厚さであれば、偏光子を機械的に保護し、高温高圧下に曝されても偏光子の収縮が防止され、安定した光学特性を保持することができる。第一透明保護フィルムの厚さは、5〜200μmが好ましく、10〜100μmがより好ましい。本発明が薄型の偏光板を製造することを目的としていることから、偏光子の保護、強度付加の目的が達成できれば、第一透明保護フィルムの厚さは薄い方がよく、かかる観点から第一透明保護フィルムの厚さは、80μm以下であるのがより好ましい。また改質した偏光子表面層を引き剥がすためには、機会的郷土が高く引張り時の延びは小さい方がよく、かかる観点から第一透明保護フィルムの厚さは、10μm以上であるのがより好ましい。
また本発明の透明保護フィルムとしては、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂および(メタ)アクリル樹脂から選ばれるいずれか少なくとも1つを用いるのが好ましい。
セルロース樹脂は、セルロースと脂肪酸のエステルである。このようセルロースエステル系樹脂の具体例としでは、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネート等があげられる。これらのなかでも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルローストリアセテートは多くの製品が市販されており、入手容易性やコストの点でも有利である。セルローストリアセテートの市販品の例としては、富士フイルム社製の商品名「UV−50」、「UV−80」、「SH−80」、「TD−80U」、「TD−TAC」、「UZ−TAC」や、コニカ社製の「KCシリーズ」等があげられる。一般的にこれらセルローストリアセテートは、面内位相差(Re)はほぼゼロであるが、厚み方向位相差(Rth)は、〜60nm程度を有している。
なお、厚み方向位相差が小さいセルロース樹脂フィルムは、例えば、上記セルロース樹脂を処理することにより得られる。例えばシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤を塗工したポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ステンレスなどの基材フィルムを、一般的なセルロース系フィルムに貼り合せ、加熱乾燥(例えば80〜150℃で3〜10分間程度)した後、基材フィルムを剥離する方法;ノルボルネン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂などをシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解した溶液を一般的なセルロース樹脂フィルムに塗工し加熱乾燥(例えば80〜150℃で3〜10分間程度)した後、塗工フィルムを剥離する方法などがあげられる。
また、厚み方向位相差が小さいセルロース樹脂フィルムとしては、脂肪置換度を制御した脂肪酸セルロース系樹脂フィルムを用いることができる。一般的に用いられるトリアセチルセルロースでは酢酸置換度が2.8程度であるが、好ましくは酢酸置換度を1.8〜2.7に制御することによってRthを小さくすることができる。上記脂肪酸置換セルロース系樹脂に、ジブチルフタレート、p−トルエンスルホンアニリド、クエン酸アセチルトリエチル等の可塑剤を添加することにより、Rthを小さく制御することができる。可塑剤の添加量は、脂肪酸セルロース系樹脂100重量部に対して、好ましくは40重量部以下、より好ましくは1〜20重量部、さらに好ましくは1〜15重量部である。
環状ポリオレフィン樹脂の具体的としては、好ましくはノルボルネン系樹脂である。環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平1−240517号公報、特開平3−14882号公報、特開平3−122137号公報等に記載されている樹脂があげられる。具体例としては、環状オレフィンの開環(共)重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとその共重合体(代表的にはランダム共重合体)、および、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、ならびに、それらの水素化物などがあげられる。環状オレフィンの具体例としては、ノルボルネン系モノマーがあげられる。
環状ポリオレフィン樹脂としては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン株式会社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、JSR株式会社製の商品名「アートン」、TICONA社製の商品名「トーパス」、三井化学株式会社製の商品名「APEL」があげられる。
(メタ)アクリル系樹脂としては、Tg(ガラス転移温度)が好ましくは115℃以上、より好ましくは120℃以上、さらに好ましくは125℃以上、特に好ましくは130℃以上である。Tgが115℃以上であることにより、偏光板の耐久性に優れたものとなりうる。上記(メタ)アクリル系樹脂のTgの上限値は特に限定きれないが、成形性当の観点から、好ましくは170℃以下である。(メタ)アクリル系樹脂からは、面内位相差(Re)、厚み方向位相差(Rth)がほぼゼロものフィルムを得ることができる。
(メタ)アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な(メタ)アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ(メタ)アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体(MS樹脂など)、脂環族炭化水素基を有する重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体など)があげられる。好ましくは、ポリ(メタ)アクリル酸メチルなどのポリ(メタ)アクリル酸C1−6アルキルがあげられる。より好ましくはメタクリル酸メチルを主成分(50〜100重量%、好ましくは70〜100重量%)とするメタクリル酸メチル系樹脂があげられる。
(メタ)アクリル系樹脂の具体例として、例えば、三菱レイヨン株式会社製のアクリペットVHやアクリペットVRL20A、特開2004−70296号公報に記載の分子内に環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Tg(メタ)アクリル樹脂系があげられる。
(メタ)アクリル系樹脂として、ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂を用いることもできる。高い耐熱性、高い透明性、二軸延伸することにより高い機械的強度を有するからである。
ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂としては、特開2000−230016号公報、特開2001−151814号公報、特開2002−120326号公報、特開2002−254544号公報、特開2005−146084号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂があげられる。
前記透明保護フィルムは、正面位相差が40nm未満、かつ、厚み方向位相差が80nm未満であるものが、通常、用いられる。正面位相差Reは、Re=(nx−ny)×d、で表わされる。厚み方向位相差Rthは、Rth=(nx−nz)×d、で表される。また、Nz係数は、Nz=(nx−nz)/(nx−ny)、で表される。[ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれnx、ny、nzとし、d(nm)はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。]。なお、透明保護フィルムは、できるだけ色付きがないことが好ましい。厚み方向の位相差値が−90nm〜+75nmである保護フィルムが好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値(Rth)が−90nm〜+75nmのものを使用することにより、透明保護フィルムに起因する偏光板の着色(光学的な着色)をほぼ解消することができる。厚み方向位相差値(Rth)は、さらに好ましくは−80nm〜+60nm、特に−70nm〜+45nmが好ましい。
一方、前記透明保護フィルムとして、正面位相差が40nm以上および/または、厚み方向位相差が80nm以上の位相差を有する位相差板を用いることができる。正面位相差は、通常、40〜200nmの範囲に、厚み方向位相差は、通常、80〜300nmの範囲に制御される。透明保護フィルムとして位相差板を用いる場合には、当該位相差板が透明保護フィルムとしても機能するため、薄型化を図ることができる。
位相差板としては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板の厚さも特に制限されないが、20〜150μm程度が一般的である。
高分子素材としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂)、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物(延伸フィルム)となる。
液晶ポリマーとしては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団(メソゲン)がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどをあげられる。主鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサー部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサー部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これらの液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。
位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであって良く、2種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであっても良い。
透明保護フィルムは、適用される液晶表示装置に応じて適宜に選択できる。例えば、VA(VerticalAlignment,MVA,PVAを含む)の場合は、偏光板の少なくとも片方(セル側)の透明保護フィルムが位相差を有している方が望ましい。具体的な位相差として、Re=0〜240nm、Rth=0〜500nmの範囲である事が望ましい。三次元屈折率で言うと、nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(一軸,二軸,Z化,ネガティブCプレート)の場合が望ましい。液晶セルの上下に偏光板を使用する際、液晶セルの上下共に、位相差を有している、または上下いずれかの透明保護フィルムが位相差を有していてもよい。
例えば、IPS(In−Plane Switching,FFSを含む)の場合、偏光板の片方の透明保護フィルムが位相差を有している場合、有していない場合のいずれも使用できる。例えば、位相差を有していない場合は、液晶セルの上下(セル側)ともに位相差を有していない場合が望ましい。位相差を有している場合は、液晶セルの上下ともに位相差を有している場合、上下のいずれかが位相差を有している場合が望ましい(例えば、上側にZ化、下側に位相差なしの場合や、上側にAプレート、下側にポジティブCプレートの場合)。位相差を有している場合、Re=−500〜500nm、Rth=−500〜500nmの範囲が望ましい。三次元屈折率で言うと、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(一軸,Z化,ポジティブCプレート、ポジティブAプレート)が望ましい。
前記透明保護フィルムは、接着剤を塗工する前に、偏光子との接着性を向上させるために、表面改質処理を行ってもよい。具体的な処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などがあげられる。
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであってもよい。
なお、偏光子の両側に第一透明保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる第一透明保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる第一透明保護フィルムを用いてもよい。
また本発明の偏光板の製造に用いて、前記偏光子と第一透明保護フィルムの貼り合せに用いる第一接着剤層は光学的に透明であれば、特に制限されず水系、溶剤系、ホットメルト系のいずれで接着剤であってもよい。また、接着剤は、常温硬化型、硬化型(熱硬化型、電子線、紫外線等の放射線硬化型、水分硬化型)等の各種形態のものが用いられるが、偏光子への影響を考慮すれば、常温硬化型または水分硬化型が好ましい。熱硬化型接着剤を用いる場合には、できるだけ低温、好ましくは60℃以下で硬化するものがよい。また、接着剤は一液型または二液混合型のいずれも用いることができるが、ポットライフの点からは言えば一液型が好ましい。接着剤層を形成する接着剤には耐久性の向上のため、架橋剤を添加することができる。なお、本願で用いる、接着剤または接着剤層としては、感圧接着剤(粘着剤)または感圧接着剤層(粘着剤層)を用いることもできる。
前記接着剤としては、ポリビニルアルコール系、ゼラチン系、ビニル系ラテックス系、ポリウレタン系、シアノアクリレート系、アクリル系、アルファオレフィン系、イソシアネート系、ポリエステル系、エポキシ系等を例示できる。前記接着剤には各種架橋剤を含有することができる。また前記接着剤には、触媒、カップリング剤、各種粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤などの安定剤等を配合することもできる。また本発明で用いる接着剤には、金属化合物フィラーを含有させることができる。金属化合物フィラーにより、接着剤層の流動性を制御することができ、膜厚を安定化して、良好な外観を有し、面内が均一で接着性のバラツキのない偏光板が得られる。接着剤の固形分は一般に0.1〜20重量%で用いられる。
前記接着剤のなかでも、ポリビニルアルコール系、ポリウレタン系、シアノアクリレート系、アクリル系、アルファオレフィン系の接着剤が好ましい。
接着剤が水系または溶剤系の場合には、前記貼り合せ工程の後に、乾燥工程を施して接着剤層を形成する。前記水系または溶剤系の接着剤を用いる場合、乾燥工程を、乾燥温度20〜80℃程度、好ましくは、40〜80℃で、1〜10分間程度、好ましくは1〜5分間行うのが好ましい。
接着剤が硬化型の場合には、前記貼り合せ工程の後に、硬化工程を施して接着剤層を形成する。電子線硬化型の場合には電子線照射により、紫外線硬化型の場合には紫外線処理により、熱硬化型の場合に熱処理により、それぞれ硬化処理を施す。これら硬化処理は、硬化の種類、接着剤の種類、接着剤層の厚みに対応して、適宜に各条件が設定される。
接着剤用下塗り剤としては、例えば、同一分子ないにアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロル基等の反応性官能基と加水分解性のアルコキシシリル基とを有するシラン系カップリング剤、同一分子内にチタンを含む加水分解性の親水性基と有機官能基とを有するチタネート系カップリング剤、同一分子内にアルミニウムを含む加水分解性の親水性基と有機官能基とを有するアルミネート系カップリング剤、エポキシ樹脂、イソシアネート系樹脂、ウレタン樹脂、エステルウレタン系樹脂等の有機系反応基を有する樹脂を用いることができる。これらのなかでも、工業的に取り扱いやすいことから、シランカップリング剤が好ましい。
前記水系または溶剤系の接着剤により形成される接着剤層の厚みは、10〜500nmであるのが好ましい。前記接着剤層の厚さは、より好ましくは10〜300nmであり、さらに好ましくは20〜100nmである。一方、接着剤層が硬化型接着剤により形成される場合には、前記接着剤層の厚みは、0.1〜50μmであるのが好ましい。より好ましくは、0.5〜10μm、さらに好ましくは0.5〜5μmである。
前記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは1〜500m/min、より好ましくは5〜300m/min、さらに好ましくは10〜100m/minである。ライン速度が小さすぎる場合は、生産性が乏しい、または透明保護フィルムへのダメージが大きすぎ、耐久性試験などに耐えうる偏光板が作製できない。ライン速度が大きすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。
以下に本発明の製造方法で得られた偏光板について説明する。図3は、本発明の製造方法で得られた偏光板10aの断面図を示す。本発明の製造方法で得られた偏光板の断面図は、既に、図2A、Bにも示されている。図3に示すように、本発明の偏光板10aは、剥離された表面層からなる偏光子1の当該剥離に係る面とは反対側の片面に、第一接着剤層3aを介して第一透明保護フィルム2aが設けられている。
本発明の製造方法で得られた偏光板10aは、当該偏光板の前記剥離に係る面に、第二接着剤層を介して第二透明保護フィルムまたは透明保護層を設けることができる。
図4の偏光板10bでは、図3に示す偏光板10aの前記剥離に係る面(偏光子1の側)に、第二接着剤層または接着剤層3bを介して第二透明保護フィルム2bが設けられている場合である。前記第二透明保護フィルムとしては、第一透明保護フィルムと同様の材料のものを例示でき、また同様の厚さを採用することができる。第一透明保護フィルムの材料と、第二透明保護フィルムの材料は同じであってもよく、異なっていてもよい。第二接着剤層についても、第一接着剤層と同様の厚さのものを採用することができる。
図5の偏光板10cでは、図3に示す偏光板10aの前記剥離に係る面(偏光子1の側)に、透明保護層2cが設けられている場合である。透明保護層は、樹脂を塗布、硬化することにより形成することができる。透明保護層を形成することができる、樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化性樹脂または紫外線硬化型樹脂等の活性エネルギー線硬化型樹脂等を用いることができる。透明保護層を形成する樹脂も、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。紫外線硬化型樹脂は強い光照射によって黄変することが多いため耐光性に優れるものが好ましい。なお、前記樹脂は、樹脂溶液や液状樹脂に浸漬して塗布することができる。透明保護層の厚さも第一透明保護フィルムと同様の厚さも保護層としての機能を損なわない限り薄い方が好ましく、好ましくは、0.1〜200μm、より好ましくは1〜50μmである。
また本発明の製造方法で得られた偏光板には、液晶セル等の他部材と接着するために粘着剤層を設けることができる。また粘着剤層を介して、実用に際して他の光学層を設けることができる。粘着剤層には、剥離ライナーを設けることができる。図6の粘着型偏光板20では、図3に示す偏光板10aの前記剥離に係る面(偏光子1の側)に、粘着剤層4が設けられている。粘着剤層4には剥離ライナー5が付設されている。図7の光学フィルム30では、図3に示す偏光板10aの前記剥離に係る面(偏光子1の側)に、粘着剤層4を介して、他の光学層6が設けられ、さらに粘着剤層4が設けられている。粘着剤層4には剥離ライナー5が付設されている。なお、図6、図7では、図1の偏光板10aについて例示しているが、図4、図5の偏光板10b、10cについても図6、図7の態様にて用いることができる。
粘着剤層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
また上記に加えて、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着剤層が好ましい。
粘着剤層は、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着剤層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層などであってもよい。
偏光板や光学フィルムの片面又は両面への粘着剤層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた10〜40重量%程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で偏光板上または光学フィルム上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ(剥離ライナー)上に粘着剤層を形成してそれを偏光板上または光学フィルム上に移着する方式などがあげられる。
粘着剤層の厚みは特に制限されないが、例えば、1〜35μm程度であり、好ましくは2〜25μmである。また、セパレータ(剥離ライナー)には、適宜に剥離剤による処理を施すことができる。
他の光学層としては、上記第一透明保護フィルムで説明した位相差板(1/2や1/4等の波長板を含む)や、反射板、半透過板、視角補償フィルム、輝度向上フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層があげられ、これらは1層または2層以上用いることができる。
偏光板に前記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学フィルムとしたものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着剤層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。
本発明の偏光板または光学フィルムは液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと偏光板または光学フィルム、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による偏光板または光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばTN型やSTN型、π型、VA型、IPS型、などの任意なタイプのものを用いうる。
液晶セルの片側又は両側に偏光板または光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による偏光板または光学フィルムは液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に偏光板または光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に1層又は2層以上配置することができる。
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明の実施形態はこれらに限定されない。
製造例(偏光子の製造)
原反ポリビニルアルコールフィルム[(株)クラレ製,商品名「VF‐PS」,厚さ75μm]を用いた。当該原反フィルムを連続延伸装置に送り出して、下記の順番にて、下記各工程を施した。
(膨潤工程)
膨潤浴の処理液としては、30℃に調整した純水を用いた。上記ポリビニルアルコールフィルムを膨潤浴に搬送し、純水中に浸漬し、膨潤させながら、フィルムの長手方向(MD方向)に1.5倍一軸延伸した。
(染色工程)
染色浴の処理液としては、水:ヨウ化カリウム:ヨウ素(重量比=280:7:1)の割合で含む30℃に調整したヨウ素染色溶液を用いた。上記膨潤処理されたポリビニルアルコールフィルムを染色浴に搬送し、浸漬しながら、元長に対して延伸倍率2.20倍の長さになるようにMD方向に一軸延伸しながら、染色した。
(架橋工程)
架橋浴の処理液としては、ホウ酸を3重量%、ヨウ化カリウムを3重量%含有する60℃に調整したホウ酸水溶液を用いた。上記染色処理されたポリビニルアルコールフィルムを架橋浴に搬送し、浸漬しながら、元長に対して延伸倍率3.30倍の長さになるようにMD方向に一軸延伸した。
(延伸工程)
延伸浴の処理液としては、ホウ酸を4重量%、ヨウ化カリウムを5重量%含有する60℃に調整したホウ酸水溶液を用いた。上記架橋処理されたポリビニルアルコールフィルムを延伸浴に搬送し、浸漬しながら、元長に対して総延伸倍率5.80倍まで、一軸延伸した。
(洗浄工程/乾燥工程)
洗浄浴の処理液としては、30℃に調整したヨウ化カリウムを3重量%含有する水溶液を用いた。上記延伸処理されたポリビニルアルコールフィルムを洗浄浴に搬送し、浸漬した。次いで、上記処理されたポリビニルアルコール系フィルムを、60℃で乾燥して、偏光子(厚み25μm)を得た。
実施例1
(表面処理工程(A))
製造例で得られた偏光子の片面に、ウシオ電機(株)製のエキシマランプUER20H‐172Bを用い、中心波長172nm(半値幅30nm)で強度10mW/cmの真空紫外光を60秒間照射した。このとき、ランプハウス内は、窒素でパージした。
(貼り合せ工程(B))
上記表面処理の施された偏光子の片面と、透明保護フィルム(コニカミノルタオプト(株)製のTACフィルムKC4UK,厚さ40μm)を、ポリウレタン接着剤(三井化学ポリウレタン(株)製のNM89‐50G,湿気硬化型で一液型,溶剤系)により貼り合せた。貼り合せは、前記透明保護フィルム側に、乾燥後の厚さが3μmとなるように接着剤を塗工した後に、偏光子に貼り合せた。次いで、これを、ロール機で貼り合せた。その後、60℃で10分間乾燥して、表面処理の施された偏光子の片面に透明保護フィルムを有する仮偏光板を得た。
(剥離工程(C))
上記仮偏光板の偏光子側をステンレス板に、上記貼り合せ工程(B)で用いたものと同様の接着剤により貼り合せた後、仮偏光板から透明保護フィルムを、180°ピールにより剥離した。その結果、透明保護フィルムの片面に、厚み3μmの接着剤層を介して厚み約2μmの偏光子表面層が接着された偏光板を得た。当該偏光板の厚みは45μmであった。図8に、得られた偏光板の偏光子部分に係る走査電子顕微鏡による断面写真を示す。図8から接着剤層の厚みは2.8μm、偏光子層の厚みは2μmであることが分かる。
上記で得られた偏光板の偏光子側(透明保護フィルム未貼合側)に、上記貼り合せ工程(B)と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、偏光子の両面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板の厚みは88μmであった。
実施例2
実施例1において、表面処理工程(A)における、真空紫外光の照射時間を30秒間に変えたこと以外は、実施例1と同様にして片面および両面に透明保護フィルムを有する偏光板を作成した。片面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは45μm、両面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは88μm、であった。
実施例3
実施例1において、表面処理工程(A)における、真空紫外光の照射時間を5秒間に変えたこと以外は、実施例1と同様にして片面および両面に透明保護フィルムを有する偏光板を作成した。片面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは45μm、両面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは88μm、であった。
実施例4
実施例1において、表面処理工程(A)における、真空紫外光の照射時間を200秒間に変えたこと以外は、実施例1と同様にして片面および両面に透明保護フィルムを有する偏光板を作成した。片面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは45μm、両面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは88μm、であった。
実施例5
(表面処理工程(A))
製造例で得られた偏光子の片面に、ウシオ電機(株)製のエキシマランプUER20H‐126VBを用い、中心波長126nm(半値幅30nm)で強度7.5mW/cmの真空紫外光を60秒間照射した。このとき、ランプハウス内は、窒素でパージした。
上記表面処理の施された偏光子に対して、貼り合せ工程(B)以降は、実施例1と同様にして片面および両面に透明保護フィルムを有する偏光板を作成した。片面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは45μm、両面に透明保護フィルムを有する偏光板の厚みは88μm、であった。
実施例6
(表面処理工程(A))
製造例で得られた偏光子の両面に、ウシオ電機(株)製のエキシマランプUER20H‐172Bを用い、中心波長172nm(半値幅30nm)で強度10mW/cmの真空紫外光を60秒間照射した。このとき、ランプハウス内は、窒素でパージした。
(貼り合せ工程(B))
上記表面処理の施された偏光子の両面に、実施例1と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、表面処理の施された偏光子の両面に透明保護フィルムを有する仮偏光板を得た。
(剥離工程(C))
上記仮偏光板の片側から一方の透明保護フィルムを、180°ピールにより剥離した。その後、もう一方の透明保護フィルムを、180°ピールにより剥離した。その結果、いずれの場合にも、透明保護フィルムの片面に、厚み3μmの接着剤層を介して厚み約2μmの偏光子表面層が接着された偏光板を得た。当該偏光板の厚みはいずれも45μmであった。
上記で得られた偏光板の偏光子側(透明保護フィルム未貼合側)に、上記貼り合せ工程(B)と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、偏光子の両面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板の厚みは88μmであった。
比較例1
実施例1において、製造例で得られた偏光子に表面処理工程(A)を施すことなく、貼り合せ工程(B)を施して、偏光子の片面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板について、実施例1と同様の剥離工程(C)を行ったが、透明保護フィルムを剥離することができなかった。
そこで、上記で得られた偏光板の偏光子側(透明保護フィルム未貼合側)に、実施例1の貼り合せ工程(B)と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、偏光子の両面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板の厚みは111μmであった。
比較例2
(表面処理工程(A´))
製造例で得られた偏光子の両面に、ウシオ電機(株)製のエキシマランプUER20H‐222Bを用い、中心波長222nm(半値幅8nm)で強度8.5mW/cmの紫外光を60秒間照射した。このとき、ランプハウス内は、窒素でパージした。
(貼り合せ工程(B))
上記表面処理の施された偏光子の両面に、実施例1と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、表面処理の施された偏光子の両面に透明保護フィルムを有する仮偏光板を得た。
(剥離工程(C))
上記仮偏光板の偏光子側をステンレス板に、実施例1と同様の剥離を試みたが、透明保護フィルムが破断して剥離することはできなかった。
そこで、上記で得られた仮偏光板の偏光子側(透明保護フィルム未貼合側)に、実施例1の貼り合せ工程(B)と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、偏光子の両面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板の厚みは111μmであった。
比較例3
比較例2において、表面処理工程(A´)における、真空紫外光の照射時間を200秒間に変えたこと以外は、実施例1と同様の操作を行ったが、比較例2と同様に、剥離工程(C)において、透明保護フィルムが破断して剥離することはできなかった。
そこで、上記で得られた仮偏光板の偏光子側(透明保護フィルム未貼合側)に、実施例1の貼り合せ工程(B)と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、偏光子の両面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板の厚みは111μmであった。
比較例4
(表面処理工程(A´))
製造例で得られた偏光子の両面に、アイグラフィックス(株)製の高圧水銀ランプ(メタルハライドランプ)を用い、強度40mW/cmの紫外光を30秒間照射した。このとき、ランプハウス内は、窒素でパージした。
(貼り合せ工程(B))
上記表面処理の施された偏光子の両面に、実施例1と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、表面処理の施された偏光子の両面に透明保護フィルムを有する仮偏光板を得た。
(剥離工程(C))
上記仮偏光板の偏光子側をステンレス板に、実施例1と同様の剥離を試みたが、透明保護フィルムが破断して剥離することはできなかった。
そこで、上記で得られた仮偏光板の偏光子側(透明保護フィルム未貼合側)に、実施例1の貼り合せ工程(B)と同様の透明保護フィルム、接着剤を用いて、同様の方法により貼り合せて、偏光子の両面に透明保護フィルムを有する偏光板を得た。当該偏光板の厚みは111μmであった。
[評価]
実施例および比較例で得られた、偏光板について下記評価を行った。結果を表1に示す。表1には、各例の偏光板の製造条件、得られた偏光板の厚みも示す。
<反り>
得られた偏光板を、偏光子の吸収軸を長手方向にして、200mm×100mmに切断したもの(偏光板が片面にのみ透明保護フィルムを有する場合にはその透明保護フィルム側)を、縦210mm×横110mm×厚み0.7mmのガラス板にアクリル系粘着剤を介して片側に貼り合せた、偏光板付きのガラス板をサンプルとした。当該サンプルを、60℃、90%RHの条件で24時間加熱加湿環境下に置いた後に、その反り量を測定した。図9に示すように、前記サンプルはガラス面を外側にして、偏光子の遅相軸側に反った。反り量の測定は、サンプルの偏光板10を上に向けて水平定盤Tの上に置き、ガラス板Gの四隅のうち、最も大きく反った部分の定盤からの浮きの量(d:mm)を測定した。測定は実施例では隙間ゲージを用いたが、比較例では反りが大きすぎて隙間ゲージでは測定できなかったため、ノギスで測定した。
Figure 0004928529
表1に示すように、実施例によれば、偏光子の厚みが約2μmの薄型の偏光板が得られることから、同じ厚さの透明保護フィルムを両面に有する、通常の偏光板(比較例)に比べて薄型化を実現できている。また、実施例では耐湿熱試験後においても反り量が小さいことが分かる。このことから、本発明の偏光板によれば、湿熱環境下においても吸収軸方向の収縮力が大幅に低減されていることが分かる。
なお、光学特性(単体透過率、偏光度)については、実施例、比較例ともにほとんど差はなく、LCDに貼り合せた場合にも表示特性は良好であった。単体透過率(T)は、紫外可見光分光光度計(日本分光(株)製の商品名「V7100/VAP‐7070」)を用い測定した。偏光度(P)は前記紫外可見光分光光度計を用いて、偏光子を両者の透過軸が平行となるように重ね合わせた場合の透過率(平行透過率:H)および、両者の透過軸が直交するように重ね合わせた場合の透過率(直交透過率:H90)を以下の式に適用することにより求められるものである。
偏光度(%)={(H−H90)/(H+H90)}1/2×100
各透過率は、JIS Z8701−1982に規定の2度視野(C光源)により視感度補整したY値を測定して求めた。
本発明の偏光板の製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の偏光板の製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の偏光板の製造方法の一例を示す概略図である。 本発明の偏光板の一例を示す断面図である。 本発明の偏光板の一例を示す断面図である。 本発明の偏光板の一例を示す断面図である。 本発明の偏光板に粘着剤層を設けた場合の一例を示す断面図である。 本発明の偏光板を用いた光学フィルムの一例を示す断面図である。 実施例1で得られた偏光板の断面を示す電子顕微鏡写真である。 実施例の反りの測定に係る偏光板付きのガラス板の配置を示す断面図である。
符号の説明
1 剥離された偏光子層
1x 偏光子
1y 親水性ポリマーフィルム
2a 第一透明保護フィルム
2b 第二透明保護フィルム
2c 透明保護層
3a 第一接着剤層
3b 第二接着剤層
10a、b、c 偏光板
10´ 仮偏光板
A 表面処理工程(A)
B 貼り合せ工程(B)
C 剥離工程(C)
S 真空紫外線照射装置

Claims (7)

  1. 偏光子の片面に、接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられている偏光板の製造方法であって、
    偏光子の少なくとも一方の面に、真空紫外線を照射して、偏光子の表面を処理する工程(A)と、
    仮偏光板を製造するために、前記表面処理工程(A)を施した偏光子の面に、第一透明保護フィルムを、第一接着剤層を介して貼り合せる工程(B)と、
    前記仮偏光板から、前記第一透明保護フィルムとともに前記表面処理された偏光子の表面層を剥離する工程(C)、を有することを特徴とする偏光板の製造方法。
  2. 前記偏光子が、親水性ポリマーフィルムに、少なくとも、二色性物質による染色工程と延伸工程を施すことにより得られたものであることを特徴とする請求項1記載の偏光板の製造方法。
  3. 親水性ポリマーフィルムが、ポリビニルアルコール系フィルムであり、二色性物質がヨウ素であることを特徴とする請求項2記載の偏光板の製造方法。
  4. 前記偏光子が、親水性ポリマーフィルムに、さらに、膨潤工程および架橋工程から選ばれるいずれか少なくとも1つの工程を施すことにより得られたものであることを特徴とする請求項2または3記載の偏光板の製造方法。
  5. 前記表面処理工程(A)の真空紫外線の照射に用いる光源の強度が、中心波長に対して、50nm以下の半値幅を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
  6. 前記表面処理工程(A)の真空紫外線の照射に用いる光源が、エキシマランプ、エキシマレーザまたは自由電子レーザであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
  7. 前記表面処理工程(A)乃至剥離工程(C)が、偏光子の両面に、順次または同時に施されることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
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