JPH08278408A - 偏光素子とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 - Google Patents
偏光素子とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置Info
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- JPH08278408A JPH08278408A JP7082915A JP8291595A JPH08278408A JP H08278408 A JPH08278408 A JP H08278408A JP 7082915 A JP7082915 A JP 7082915A JP 8291595 A JP8291595 A JP 8291595A JP H08278408 A JPH08278408 A JP H08278408A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】位相差の生じない偏光素子とその製造方法およ
び該偏光素子を用いた視野角特性に優れる液晶表示装置
を提供する。 【構成】(1)膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄膜を
固有複屈折が0.01以下かつ−0.01以上の高分子
フィルム上に積層する偏光素子。 (2)フッ素系樹脂配向膜上に形成された膜厚1nm以
上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈折が0.01以下か
つ−0.01以上の高分子フィルム上に転写する(1)
記載の偏光素子の製造方法。 (3)電極を有する一対の透明電極基板間に、正の誘電
率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加しない状態で
は分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分子長軸が90
°以上270°以下の間でその螺旋軸が基板に垂直方向
に捩れた構造をとるように構成された液晶セルにおい
て、その両外側に(1)記載の偏光素子を配置する液晶
表示装置。
び該偏光素子を用いた視野角特性に優れる液晶表示装置
を提供する。 【構成】(1)膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄膜を
固有複屈折が0.01以下かつ−0.01以上の高分子
フィルム上に積層する偏光素子。 (2)フッ素系樹脂配向膜上に形成された膜厚1nm以
上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈折が0.01以下か
つ−0.01以上の高分子フィルム上に転写する(1)
記載の偏光素子の製造方法。 (3)電極を有する一対の透明電極基板間に、正の誘電
率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加しない状態で
は分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分子長軸が90
°以上270°以下の間でその螺旋軸が基板に垂直方向
に捩れた構造をとるように構成された液晶セルにおい
て、その両外側に(1)記載の偏光素子を配置する液晶
表示装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高視野角を有する液晶表
示装置およびその製造方法に関する。詳しくは、高視野
角を有する液晶表示装置のための偏光素子とその使用方
法に関する。
示装置およびその製造方法に関する。詳しくは、高視野
角を有する液晶表示装置のための偏光素子とその使用方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】偏光素子は液晶ディスプレイ(以下、L
CDと記すことがある。)の表示に欠かせないものとし
て広く使用されている。現在、偏光素子は、延伸配向し
たポリビニルアルコール(以下、PVAと記すことがあ
る。)またはその誘導体フィルムにヨウ素や二色性色素
材料を吸着させることによって製造されている。
CDと記すことがある。)の表示に欠かせないものとし
て広く使用されている。現在、偏光素子は、延伸配向し
たポリビニルアルコール(以下、PVAと記すことがあ
る。)またはその誘導体フィルムにヨウ素や二色性色素
材料を吸着させることによって製造されている。
【0003】これらの偏光素子が液晶セルの両側に配置
されることで液晶表示装置の最も基本的な構造が構成さ
れている。一般的には電極を有する一対の透明電極基板
間に、正の誘電率異方性を有する液晶分子が、電圧を印
加しない状態では分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ
分子長軸が90°以上270°以下の間でその螺旋軸が
基板に垂直方向に捩れた構造をとるように構成された液
晶セルの両外側に偏光素子を配置する。この時、2枚の
偏光素子の偏光方向は各々が接する液晶セルの基板上の
液晶分子の分子長軸とほぼ平行に配置されるため、2枚
の偏光素子の偏光方向も90°以上270°以下の捩れ
角とほぼおなじ角度をなして配置される。
されることで液晶表示装置の最も基本的な構造が構成さ
れている。一般的には電極を有する一対の透明電極基板
間に、正の誘電率異方性を有する液晶分子が、電圧を印
加しない状態では分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ
分子長軸が90°以上270°以下の間でその螺旋軸が
基板に垂直方向に捩れた構造をとるように構成された液
晶セルの両外側に偏光素子を配置する。この時、2枚の
偏光素子の偏光方向は各々が接する液晶セルの基板上の
液晶分子の分子長軸とほぼ平行に配置されるため、2枚
の偏光素子の偏光方向も90°以上270°以下の捩れ
角とほぼおなじ角度をなして配置される。
【0004】このうち、90度捩じる場合はツイストネ
マティック(以下、TNと記すことがある。)型と呼ば
れ、特に各画素に薄膜トランジスタを添付する能動型の
駆動方式と組み合わせることにより大容量の表示素子が
構成されている。この方式では捩れた配向状態にてセル
内の液晶がセル面内で特定の方向に高い屈折率を示す
(複屈折)ことがないため、液晶セル面に鉛直に入射す
る光のオンオフはほぼ完全で、この構造で高いコントラ
スト比を有する液晶表示装置が作製できる。また表示に
無用な着色が発生することはない。したがって、白黒表
示やカラー表示にも適している。
マティック(以下、TNと記すことがある。)型と呼ば
れ、特に各画素に薄膜トランジスタを添付する能動型の
駆動方式と組み合わせることにより大容量の表示素子が
構成されている。この方式では捩れた配向状態にてセル
内の液晶がセル面内で特定の方向に高い屈折率を示す
(複屈折)ことがないため、液晶セル面に鉛直に入射す
る光のオンオフはほぼ完全で、この構造で高いコントラ
スト比を有する液晶表示装置が作製できる。また表示に
無用な着色が発生することはない。したがって、白黒表
示やカラー表示にも適している。
【0005】しかし、この装置を斜めから見た場合、特
に偏光素子による直線偏光が液晶セルの面内で偏光方向
から約45°をなす線を含む鉛直面内から斜めに入射す
る場合には偏光素子内部で位相差が発生してしばしばコ
ントラスト比を低下させることが知られている。したが
って、正面から見た場合と斜めから見た場合で、表示さ
れる画像の階調が著しく異なる場合がしばしば発生し
た。従来の偏光素子は、厚みがあり、しかも素子フィル
ム面に垂直な方向の屈折率がフィルム面内の分子鎖の配
向方向の屈折率より小さいために上記の位相差が発生す
るという解釈が採られている。
に偏光素子による直線偏光が液晶セルの面内で偏光方向
から約45°をなす線を含む鉛直面内から斜めに入射す
る場合には偏光素子内部で位相差が発生してしばしばコ
ントラスト比を低下させることが知られている。したが
って、正面から見た場合と斜めから見た場合で、表示さ
れる画像の階調が著しく異なる場合がしばしば発生し
た。従来の偏光素子は、厚みがあり、しかも素子フィル
ム面に垂直な方向の屈折率がフィルム面内の分子鎖の配
向方向の屈折率より小さいために上記の位相差が発生す
るという解釈が採られている。
【0006】一方、90°以上捩じる場合、特に180
°〜270°程度捩じる場合はスーパーツイストネマテ
ィック(以下、STNと記すことがある。)型と呼ば
れ、急峻な電圧しきい値を有することから単純マトリッ
クス型の駆動方式により大容量の表示を行うために使用
されている。この方式では捩れた配向状態にてセル内の
液晶がセルの面内で特定の方向に高い屈折率を示す(複
屈折)ために、液晶セル面に鉛直に入射する光でもセル
内で光の位相差が発生する。このためセルに入射した直
線偏光は楕円偏光になってしまい、出射側の偏光素子で
完全な光のオン、オフができないばかりか、着色して白
黒表示、カラー表示を困難にする。このため多くの場
合、位相差フィルムと呼ばれる高分子フィルムを液晶セ
ルと偏光素子の間に挟み込み、液晶セルで発生する位相
差を相殺して楕円偏光を直線偏光に変える方法が行われ
ている。
°〜270°程度捩じる場合はスーパーツイストネマテ
ィック(以下、STNと記すことがある。)型と呼ば
れ、急峻な電圧しきい値を有することから単純マトリッ
クス型の駆動方式により大容量の表示を行うために使用
されている。この方式では捩れた配向状態にてセル内の
液晶がセルの面内で特定の方向に高い屈折率を示す(複
屈折)ために、液晶セル面に鉛直に入射する光でもセル
内で光の位相差が発生する。このためセルに入射した直
線偏光は楕円偏光になってしまい、出射側の偏光素子で
完全な光のオン、オフができないばかりか、着色して白
黒表示、カラー表示を困難にする。このため多くの場
合、位相差フィルムと呼ばれる高分子フィルムを液晶セ
ルと偏光素子の間に挟み込み、液晶セルで発生する位相
差を相殺して楕円偏光を直線偏光に変える方法が行われ
ている。
【0007】しかし、この方式においてもTN型の場合
と同様にこの装置を斜めから見た場合、特に偏光素子に
よる直線偏光が液晶セルの面内で偏光方向から約45°
をなす線を含む鉛直面内から斜めに入射する場合には、
偏光素子内部で位相差が発生してしばしばコントラスト
比を低下させることが知られている。
と同様にこの装置を斜めから見た場合、特に偏光素子に
よる直線偏光が液晶セルの面内で偏光方向から約45°
をなす線を含む鉛直面内から斜めに入射する場合には、
偏光素子内部で位相差が発生してしばしばコントラスト
比を低下させることが知られている。
【0008】近年、LCDのフルカラー化が進展してい
るが、カラーの場合には表示される階調やコントラスト
の変化はしばしば、色調の著しい変化となるためモノク
ロ以上に正面から見た場合と斜めから見た場合での表示
される画像の階調変化やコントラスト低下を抑制する必
要がある。
るが、カラーの場合には表示される階調やコントラスト
の変化はしばしば、色調の著しい変化となるためモノク
ロ以上に正面から見た場合と斜めから見た場合での表示
される画像の階調変化やコントラスト低下を抑制する必
要がある。
【0009】一方、J.C.Wittmannらは、ポ
リテトラフルオロエチレン(以下、PTFEと記すこと
がある。)を加熱しながら圧力をかけてガラス基板にこ
すりつけることにより、配向したPTFE薄膜が得られ
ることを示した。これを配向膜とすることにより、アル
カン類、液晶分子、ポリマー、オリゴマー、無機塩など
を配向させることができることが報告されている〔ネイ
チャー(NATURE)第352巻、414頁(199
1年)〕。
リテトラフルオロエチレン(以下、PTFEと記すこと
がある。)を加熱しながら圧力をかけてガラス基板にこ
すりつけることにより、配向したPTFE薄膜が得られ
ることを示した。これを配向膜とすることにより、アル
カン類、液晶分子、ポリマー、オリゴマー、無機塩など
を配向させることができることが報告されている〔ネイ
チャー(NATURE)第352巻、414頁(199
1年)〕。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、位相
差の生じない偏光素子とその製造方法および該偏光素子
を用いた視野角特性に優れる液晶表示装置を提供するこ
とにある。
差の生じない偏光素子とその製造方法および該偏光素子
を用いた視野角特性に優れる液晶表示装置を提供するこ
とにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達した
ものである。すなわち、本発明は、次に記す発明からな
る。 (1)膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈
折が0.01以下かつ−0.01以上の高分子フィルム
上に積層したことを特徴とする偏光素子。 (2)フッ素系樹脂配向膜上に形成された膜厚1nm以
上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈折が0.01以下か
つ−0.01以上の高分子フィルム上に転写することを
特徴とする(1)記載の偏光素子の製造方法。
を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達した
ものである。すなわち、本発明は、次に記す発明からな
る。 (1)膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈
折が0.01以下かつ−0.01以上の高分子フィルム
上に積層したことを特徴とする偏光素子。 (2)フッ素系樹脂配向膜上に形成された膜厚1nm以
上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈折が0.01以下か
つ−0.01以上の高分子フィルム上に転写することを
特徴とする(1)記載の偏光素子の製造方法。
【0012】(3)電極を有する一対の透明電極基板間
に、正の誘電率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加
しない状態では分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分
子長軸が90°以上270°以下の間でその螺旋軸が基
板に垂直方向に捩れた構造をとるように構成された液晶
セルにおいて、その両外側に(1)記載の偏光素子を配
置したことを特徴とする液晶表示装置。 (4)電極を有する一対の透明電極基板間に、正の誘電
率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加しない状態で
は分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分子長軸が90
°以上270°以下の間でその螺旋軸が基板に垂直方向
に捩れた構造をとるように構成された液晶セルにおい
て、その両外側に、膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄
膜を高分子フィルムの片側表面に積層した偏光素子を該
偏光薄膜を液晶セル側に向けて配置したことを特徴とす
る液晶表示装置。
に、正の誘電率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加
しない状態では分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分
子長軸が90°以上270°以下の間でその螺旋軸が基
板に垂直方向に捩れた構造をとるように構成された液晶
セルにおいて、その両外側に(1)記載の偏光素子を配
置したことを特徴とする液晶表示装置。 (4)電極を有する一対の透明電極基板間に、正の誘電
率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加しない状態で
は分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分子長軸が90
°以上270°以下の間でその螺旋軸が基板に垂直方向
に捩れた構造をとるように構成された液晶セルにおい
て、その両外側に、膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄
膜を高分子フィルムの片側表面に積層した偏光素子を該
偏光薄膜を液晶セル側に向けて配置したことを特徴とす
る液晶表示装置。
【0013】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明に用いられる偏光薄膜はフッ素系樹脂配向膜上にて
形成されることが好ましい。
発明に用いられる偏光薄膜はフッ素系樹脂配向膜上にて
形成されることが好ましい。
【0014】フッ素系樹脂の配向膜は公知の方法で作成
できるが、特に米国特許5180470号記載の方法を
用いることにより高配向の膜が得られる。具体的には、
加熱下において基板にフッ素系樹脂の塊を圧力をかけて
こすりつけることにより作成できる。
できるが、特に米国特許5180470号記載の方法を
用いることにより高配向の膜が得られる。具体的には、
加熱下において基板にフッ素系樹脂の塊を圧力をかけて
こすりつけることにより作成できる。
【0015】配向膜に用いられるフッ素系樹脂として
は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリ3
フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン(以下、PVD
Fと記すことがある。)テトラフルオロエチレン−パー
クルオロアルキルビニルエーテル共重合体(以下、PF
Aと記すことがある。)、テトラフルオロエチレン−エ
チレン共重合体(以下、ETFEと記すことがある。)
等が例示されるが、PTFEが好ましい。
は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリ3
フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン(以下、PVD
Fと記すことがある。)テトラフルオロエチレン−パー
クルオロアルキルビニルエーテル共重合体(以下、PF
Aと記すことがある。)、テトラフルオロエチレン−エ
チレン共重合体(以下、ETFEと記すことがある。)
等が例示されるが、PTFEが好ましい。
【0016】配向膜をこすりつける基板は、耐熱性があ
り平滑なものが使用できる。具体的にはガラス、金属
(ステンレス、真鍮、アルミニウム、銅、ニッケル、ク
ロム、等)、セラミックス、耐熱性高分子材料が例示さ
れる。
り平滑なものが使用できる。具体的にはガラス、金属
(ステンレス、真鍮、アルミニウム、銅、ニッケル、ク
ロム、等)、セラミックス、耐熱性高分子材料が例示さ
れる。
【0017】基板の加熱温度は、樹脂とこすりつける基
板の種類によるが、樹脂の分解温度以下であり、100
℃以上350℃以下が好ましい。樹脂がPTFEであ
り、こすりつける基板がガラスの場合、好ましくは13
0℃以上340℃以下、さらに好ましくは250℃以上
340℃以下、特に好ましくは300℃以上340℃以
下である。
板の種類によるが、樹脂の分解温度以下であり、100
℃以上350℃以下が好ましい。樹脂がPTFEであ
り、こすりつける基板がガラスの場合、好ましくは13
0℃以上340℃以下、さらに好ましくは250℃以上
340℃以下、特に好ましくは300℃以上340℃以
下である。
【0018】こすりつける圧力は樹脂とこすりつける基
板の種類により適宜選択できる。樹脂がPTFEであ
り、こすりつける基板がガラスの場合、均一で配向特性
に優れた配向膜を得るためには、0.5kgf/cm2
以上40kgf/cm2 以下が好ましく、5kgf/c
m2 以上20kgf/cm2 以下がさらに好ましい。
板の種類により適宜選択できる。樹脂がPTFEであ
り、こすりつける基板がガラスの場合、均一で配向特性
に優れた配向膜を得るためには、0.5kgf/cm2
以上40kgf/cm2 以下が好ましく、5kgf/c
m2 以上20kgf/cm2 以下がさらに好ましい。
【0019】こすりつける速度も樹脂とこすりつける基
板の種類により適宜選択できる。樹脂がPTFEであ
り、こすりつける基板がガラスの場合、均一で配向特性
に優れた配向膜を得るためには、0. 01cm/秒以上
10cm/秒以下が好ましく、0. 01cm/秒以上
0. 5cm/秒以下がさらに好ましい。
板の種類により適宜選択できる。樹脂がPTFEであ
り、こすりつける基板がガラスの場合、均一で配向特性
に優れた配向膜を得るためには、0. 01cm/秒以上
10cm/秒以下が好ましく、0. 01cm/秒以上
0. 5cm/秒以下がさらに好ましい。
【0020】本発明の偏光薄膜は、たとえばフッ素系樹
脂配向膜上に二色性色素材料の薄膜を形成することで得
られる。
脂配向膜上に二色性色素材料の薄膜を形成することで得
られる。
【0021】本発明に用いられる二色性色素材料は、ア
スペクト比(分子長軸長さ/分子短軸長さ)が好ましく
は2以上、さらに好ましくは3以上であり、分子軸と遷
移モーメントとのなす角が20°以内であり、色素分子
の長軸方向における最大吸収波長での吸光度と短軸方向
の吸光度との比が好ましくは5以上、さらに好ましくは
8以上、特に好ましくは10以上であれば、染料、顔料
を問わず使用できる。このほか、一般に共役系高分子と
して知られる着色した高分子材料も使用することができ
る。特に、従来の染料系偏光フィルムやゲスト−ホスト
型液晶ディスプレイに使用される二色性色素材料のう
ち、ネマチック液晶に溶解させて液晶セルに入れて配向
させる方法、延伸配向したPVAまたはその誘導体フィ
ルムに吸着させる方法等により色素を配向させた場合
に、特定の吸収波長での配向方向における吸光度と、そ
れと直交する方向における吸光度との比の最大値が好ま
しくは5以上、さらに好ましくは8以上、特に好ましく
は10以上となるものが好適に用いられる。
スペクト比(分子長軸長さ/分子短軸長さ)が好ましく
は2以上、さらに好ましくは3以上であり、分子軸と遷
移モーメントとのなす角が20°以内であり、色素分子
の長軸方向における最大吸収波長での吸光度と短軸方向
の吸光度との比が好ましくは5以上、さらに好ましくは
8以上、特に好ましくは10以上であれば、染料、顔料
を問わず使用できる。このほか、一般に共役系高分子と
して知られる着色した高分子材料も使用することができ
る。特に、従来の染料系偏光フィルムやゲスト−ホスト
型液晶ディスプレイに使用される二色性色素材料のう
ち、ネマチック液晶に溶解させて液晶セルに入れて配向
させる方法、延伸配向したPVAまたはその誘導体フィ
ルムに吸着させる方法等により色素を配向させた場合
に、特定の吸収波長での配向方向における吸光度と、そ
れと直交する方向における吸光度との比の最大値が好ま
しくは5以上、さらに好ましくは8以上、特に好ましく
は10以上となるものが好適に用いられる。
【0022】ゲスト−ホスト型液晶ディスプレイ用二色
性色素材料では、メロシアニン系、スチリル系、アゾメ
チン系、アゾ系、キノン系、キノフタロン系、ペリレン
系、インジゴ系、テトラジン系などが知られており、耐
候性等で実用的に使用されるアゾ系、アントラキノン系
の二色性色素材料が好ましい。特に、アゾ系色素ではジ
スアゾ系とトリスアゾ系が例示される。一方、染料系偏
光フィルムに用いられる二色性色素材料ではポリアゾ系
色素、アントラキノン系染料が例示される。
性色素材料では、メロシアニン系、スチリル系、アゾメ
チン系、アゾ系、キノン系、キノフタロン系、ペリレン
系、インジゴ系、テトラジン系などが知られており、耐
候性等で実用的に使用されるアゾ系、アントラキノン系
の二色性色素材料が好ましい。特に、アゾ系色素ではジ
スアゾ系とトリスアゾ系が例示される。一方、染料系偏
光フィルムに用いられる二色性色素材料ではポリアゾ系
色素、アントラキノン系染料が例示される。
【0023】ただし、フッ素系樹脂配向膜上でこれら二
色性色素材料の一軸配向を行う必要があるので、膜の作
製方法に応じて高い配向が得られるように二色性色素材
料を選択して使用する必要がある。
色性色素材料の一軸配向を行う必要があるので、膜の作
製方法に応じて高い配向が得られるように二色性色素材
料を選択して使用する必要がある。
【0024】具体的には、アゾ系色素としては、下記表
1に示すものが例示されるが、得られる薄膜の配向の点
でD1、D6、D10が好ましく、D10が特に好まし
い。
1に示すものが例示されるが、得られる薄膜の配向の点
でD1、D6、D10が好ましく、D10が特に好まし
い。
【表1】
【0025】フッ素系樹脂配向膜の上に二色性色素材料
単独またはバインダー材料との混合物を製膜することに
より、偏光薄膜となる高配向色素含有膜が得られる。
単独またはバインダー材料との混合物を製膜することに
より、偏光薄膜となる高配向色素含有膜が得られる。
【0026】偏光薄膜の膜厚は、二色性色素材料の二色
性や、モル吸光係数、膜中の色素の配向度にもよるが、
ピンホールがなく、均一な薄膜を形成するという観点か
らは厚い方が良く、高配向度かつ位相差を生じないため
には薄い方が良い。また、薄すぎると、単体透過率が大
きすぎるため、偏光素子として十分な性能が得られな
い。よって膜厚は、1nm以上1μm以下、好ましくは
5nm以上0. 5μm以下、さらに好ましくは10nm
以上0.2μm以下である。該偏光薄膜の色素含有率
は、二色性色素材料の種類にもよるが好ましくは1wt
%以上100wt%以下であり、さらに好ましくは5w
t%以上100wt%以下、特に好ましくは10wt%
以上100wt%以下である。また、該偏光薄膜は40
0nmから800nmに吸収ピークを持ち、吸収ピーク
波長での二色性比が5以上あることが好ましく、20以
上であることが特に好ましい。さらに、単体透過率が3
5%以上80%以下であることが好ましい。
性や、モル吸光係数、膜中の色素の配向度にもよるが、
ピンホールがなく、均一な薄膜を形成するという観点か
らは厚い方が良く、高配向度かつ位相差を生じないため
には薄い方が良い。また、薄すぎると、単体透過率が大
きすぎるため、偏光素子として十分な性能が得られな
い。よって膜厚は、1nm以上1μm以下、好ましくは
5nm以上0. 5μm以下、さらに好ましくは10nm
以上0.2μm以下である。該偏光薄膜の色素含有率
は、二色性色素材料の種類にもよるが好ましくは1wt
%以上100wt%以下であり、さらに好ましくは5w
t%以上100wt%以下、特に好ましくは10wt%
以上100wt%以下である。また、該偏光薄膜は40
0nmから800nmに吸収ピークを持ち、吸収ピーク
波長での二色性比が5以上あることが好ましく、20以
上であることが特に好ましい。さらに、単体透過率が3
5%以上80%以下であることが好ましい。
【0027】偏光薄膜の製造方法は、フッ素系樹脂配向
膜上への、二色性色素材料の蒸着、溶融した二色性色素
材料の塗布、色素溶液の塗布などが例示される。また、
偏光薄膜は、バインダー材料に二色性色素材料を分散さ
せた膜でもよい。この場合の製造方法は、二色性色素材
料とバインダー材料との溶融混合物の塗布、二色性色素
材料とバインダー材料の混合溶液の塗布などが例示され
る。
膜上への、二色性色素材料の蒸着、溶融した二色性色素
材料の塗布、色素溶液の塗布などが例示される。また、
偏光薄膜は、バインダー材料に二色性色素材料を分散さ
せた膜でもよい。この場合の製造方法は、二色性色素材
料とバインダー材料との溶融混合物の塗布、二色性色素
材料とバインダー材料の混合溶液の塗布などが例示され
る。
【0028】蒸着により作成する場合は、二色性色素材
料を真空下、分解温度以下で加熱することにより昇華さ
せて基板上に堆積させる。二色性色素材料は、加熱によ
り分解しないで昇華するものが用いられる。
料を真空下、分解温度以下で加熱することにより昇華さ
せて基板上に堆積させる。二色性色素材料は、加熱によ
り分解しないで昇華するものが用いられる。
【0029】溶融混合物の塗布により作成する場合は、
分解温度以下で融解し、基板上に塗布する。色素は、加
熱により分解する前に融解し、液体状態で安定であるも
のが用いられる。
分解温度以下で融解し、基板上に塗布する。色素は、加
熱により分解する前に融解し、液体状態で安定であるも
のが用いられる。
【0030】色素溶液から作成する場合は、二色性色素
材料を溶媒に溶解させ、塗布後、乾燥する。溶媒に対し
て少なくとも0.1wt%の溶解度を示し、溶液が安定
で、塗布後に均一な薄膜ができるものが用いられる。こ
れらの方法のうち、膜厚の制御や配向度の点で、蒸着が
最も好ましい。
材料を溶媒に溶解させ、塗布後、乾燥する。溶媒に対し
て少なくとも0.1wt%の溶解度を示し、溶液が安定
で、塗布後に均一な薄膜ができるものが用いられる。こ
れらの方法のうち、膜厚の制御や配向度の点で、蒸着が
最も好ましい。
【0031】二色性色素材料とバインダー材料とを用い
る場合、バインダーとして用いる材料は、可視光に対し
て透明で、二色性色素材料とともに溶融または、水や溶
媒への溶解が可能であればよい。成膜性の点から、バイ
ンダー材料としては、高分子化合物が好適に用いられ
る。具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n
−ブチルメタクリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレ
ート、ポリグリコールメタクリレート、ポリアクリル
酸、ポリビニルアセテート、ポリビニルブチレート、ポ
リオキシメチルフェニルシリレン、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエチレン、ポリプロピレン、およびそれらの共重合
体または誘導体等が例示される。これらのうちポリメチ
ルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメタクリレート、
ポリ−t−ブチルメタクリレート、ポリグリコールメタ
クリレート、ポリアクリル酸、ポリビニルアセテート、
ポリビニルブチレート、ポリオキシメチルフェニルシリ
レン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリ
エチレンがバインダーの複屈折や配向性の点で好まし
く、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメタ
クリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレートが特に好
ましい。
る場合、バインダーとして用いる材料は、可視光に対し
て透明で、二色性色素材料とともに溶融または、水や溶
媒への溶解が可能であればよい。成膜性の点から、バイ
ンダー材料としては、高分子化合物が好適に用いられ
る。具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n
−ブチルメタクリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレ
ート、ポリグリコールメタクリレート、ポリアクリル
酸、ポリビニルアセテート、ポリビニルブチレート、ポ
リオキシメチルフェニルシリレン、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエチレン、ポリプロピレン、およびそれらの共重合
体または誘導体等が例示される。これらのうちポリメチ
ルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメタクリレート、
ポリ−t−ブチルメタクリレート、ポリグリコールメタ
クリレート、ポリアクリル酸、ポリビニルアセテート、
ポリビニルブチレート、ポリオキシメチルフェニルシリ
レン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリ
エチレンがバインダーの複屈折や配向性の点で好まし
く、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメタ
クリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレートが特に好
ましい。
【0032】本発明における偏光薄膜中でのバインダー
材料の割合は、二色性色素材料とバインダー材料の種類
にもよるが、通常99wt%以下、好ましくは95wt
%以下、さらに好ましくは90wt%以下である。
材料の割合は、二色性色素材料とバインダー材料の種類
にもよるが、通常99wt%以下、好ましくは95wt
%以下、さらに好ましくは90wt%以下である。
【0033】使用する色素に必要な純度は、不純物の種
類によって異なる。不純物の種類によってはかなり純度
が低下しても配向が低下しない場合もあるが、一般には
純度が高いことが好ましい。不純物の種類にもよるが、
純度は好ましくは90wt%以上100wt%以下であ
り、さらに好ましくは95wt%以上100wt%以下
であり、特に好ましくは99wt%以上100wt%以
下である。
類によって異なる。不純物の種類によってはかなり純度
が低下しても配向が低下しない場合もあるが、一般には
純度が高いことが好ましい。不純物の種類にもよるが、
純度は好ましくは90wt%以上100wt%以下であ
り、さらに好ましくは95wt%以上100wt%以下
であり、特に好ましくは99wt%以上100wt%以
下である。
【0034】偏光素子は上記偏光薄膜を高分子フィルム
に積層して得られる。このため偏光薄膜は、基板からこ
れらのフィルム上に転写される。この場合、フィルムに
強く押し当てる、または加熱しながら押し当てることに
より転写する方法、表面に接着剤をつけたフィルムを張
り付けて剥離することにより転写する方法等が例示され
る。
に積層して得られる。このため偏光薄膜は、基板からこ
れらのフィルム上に転写される。この場合、フィルムに
強く押し当てる、または加熱しながら押し当てることに
より転写する方法、表面に接着剤をつけたフィルムを張
り付けて剥離することにより転写する方法等が例示され
る。
【0035】複屈折の小さい高分子フィルム上に偏光薄
膜を転写して得られる偏光素子をTN型液晶セルの両外
側に配置することで視野角特性に優れた液晶表示素子を
構成できる。または、複屈折があるフィルムであっても
フィルム上に偏光薄膜を転写して偏光素子を作製し、こ
れを液晶セルの両外側に偏光薄膜を液晶側に向けて配置
することでも視野角特性に優れた液晶表示素子が構成で
きる。
膜を転写して得られる偏光素子をTN型液晶セルの両外
側に配置することで視野角特性に優れた液晶表示素子を
構成できる。または、複屈折があるフィルムであっても
フィルム上に偏光薄膜を転写して偏光素子を作製し、こ
れを液晶セルの両外側に偏光薄膜を液晶側に向けて配置
することでも視野角特性に優れた液晶表示素子が構成で
きる。
【0036】複屈折の小さい高分子フィルムには、フィ
ルム内部で分子の配向が小さく光学的に等方な高分子材
料で透明なものが使用できる。一般的に高分子の配向に
よる複屈折Δnは高分子の固有複屈折Δn0 と配向関数
fを用いて、下記数1のように表される。
ルム内部で分子の配向が小さく光学的に等方な高分子材
料で透明なものが使用できる。一般的に高分子の配向に
よる複屈折Δnは高分子の固有複屈折Δn0 と配向関数
fを用いて、下記数1のように表される。
【数1】Δn= Δn0 ×f
【0037】複屈折の小さい高分子フィルムとしては、
ぞの固有複屈折が0.01以下かつ−0.01以上のも
のが使用できるが、0.005以下かつ−0.005以
上のものが好ましい。高分子の複屈折を低減する方法と
しては、単独で固有複屈折の小さい高分子を使用する方
法、固有複屈折が正の高分子と負の高分子を混合し全体
の固有複屈折を小さくする方法、配向関数を小さくする
方法が例示される。単独の固有複屈折が小さい高分子と
して、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメ
タクリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレート、ポリ
グリコールメタクリレートなどのポリメタクリル酸誘導
体やポリアクリル酸、ポリメチルアクリレート、ポリエ
チルアクリレートなどのポリアクリル酸誘導体やポリビ
ニルアセテート、ポリビニルブチレート、ポリオキシメ
チルフェニルシリレンなどが例示される。これらのなか
でもポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメタ
クリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレートが好まし
い。
ぞの固有複屈折が0.01以下かつ−0.01以上のも
のが使用できるが、0.005以下かつ−0.005以
上のものが好ましい。高分子の複屈折を低減する方法と
しては、単独で固有複屈折の小さい高分子を使用する方
法、固有複屈折が正の高分子と負の高分子を混合し全体
の固有複屈折を小さくする方法、配向関数を小さくする
方法が例示される。単独の固有複屈折が小さい高分子と
して、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメ
タクリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレート、ポリ
グリコールメタクリレートなどのポリメタクリル酸誘導
体やポリアクリル酸、ポリメチルアクリレート、ポリエ
チルアクリレートなどのポリアクリル酸誘導体やポリビ
ニルアセテート、ポリビニルブチレート、ポリオキシメ
チルフェニルシリレンなどが例示される。これらのなか
でもポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルメタ
クリレート、ポリ−t−ブチルメタクリレートが好まし
い。
【0038】次に、正の固有複屈折を有する高分子と負
の固有複屈折を有する高分子とを混合して用いる場合
に、正の固有複屈折を有する高分子としては、ポリ塩化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデン・三
フッ化エチレン共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポ
リフェニレンオキサイド、ポリカーボネート等が例示さ
れ、負の固有複屈折を有する高分子としては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリスチレン等が例示される。
の固有複屈折を有する高分子とを混合して用いる場合
に、正の固有複屈折を有する高分子としては、ポリ塩化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデン・三
フッ化エチレン共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポ
リフェニレンオキサイド、ポリカーボネート等が例示さ
れ、負の固有複屈折を有する高分子としては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリスチレン等が例示される。
【0039】正または負の固有複屈折を有する高分子で
あって、相溶する高分子の組み合わせと全体の固有複屈
折が小さくなる混合比(重量比)としては、ポリフェニ
レンオキサイドとポリスチレンでは20:80〜30:
70、ポリエチレンオキサイドとポリメチルメタクリレ
ートでは30:70〜40:60、フッ化ビニリデン・
三フッ化エチレン共重合体とポリメチルメタクリレート
では5:95〜15:85、ポリフッ化ビニリデンとポ
リメチルメタクリレートでは15:85〜25:75、
ポリ塩化ビニルとポリメチルメタクリレートでは15:
85〜25:75等が例示される。これらのなかでも溶
媒に溶けやすいポリフェニレンオキサイドとポリスチレ
ン、ポリエチレンオキサイドとポリメチルメタクリレー
トの組み合わせが好ましい。また、これら材料は配向関
数を小さくするために一切の延伸工程を経ずに製造され
ることが好ましい。また、延伸処理後に熱処理などの配
向を緩和させる処理を行ったものも同様に好適に使用さ
れる。
あって、相溶する高分子の組み合わせと全体の固有複屈
折が小さくなる混合比(重量比)としては、ポリフェニ
レンオキサイドとポリスチレンでは20:80〜30:
70、ポリエチレンオキサイドとポリメチルメタクリレ
ートでは30:70〜40:60、フッ化ビニリデン・
三フッ化エチレン共重合体とポリメチルメタクリレート
では5:95〜15:85、ポリフッ化ビニリデンとポ
リメチルメタクリレートでは15:85〜25:75、
ポリ塩化ビニルとポリメチルメタクリレートでは15:
85〜25:75等が例示される。これらのなかでも溶
媒に溶けやすいポリフェニレンオキサイドとポリスチレ
ン、ポリエチレンオキサイドとポリメチルメタクリレー
トの組み合わせが好ましい。また、これら材料は配向関
数を小さくするために一切の延伸工程を経ずに製造され
ることが好ましい。また、延伸処理後に熱処理などの配
向を緩和させる処理を行ったものも同様に好適に使用さ
れる。
【0040】偏光素子上の偏光薄膜を液晶側に向けて配
置する場合の高分子フィルムとしては、一般に透明なも
のが使用できるが、このような材料として、ポリメチル
メタアクリレート(以下、PMMAと記すことがあ
る。)、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリビニルアルコール、セルロー
ス、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレ
ート、およびこれらの誘導体が挙げられる。
置する場合の高分子フィルムとしては、一般に透明なも
のが使用できるが、このような材料として、ポリメチル
メタアクリレート(以下、PMMAと記すことがあ
る。)、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリビニルアルコール、セルロー
ス、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレ
ート、およびこれらの誘導体が挙げられる。
【0041】本発明の液晶表示装置の構造を説明する。
図1に実施例1に示した液晶表示装置の概略図を示す。
図2に実施例2に示した液晶表示装置の概略図を示す。
図1〜図2において、1は偏光薄膜、2は複屈折の小さ
な高分子フィルム、3はガラス基板、4は透明電極、5
は絶縁性の液晶配向制御膜、6はスペーサー、7は液晶
層、8は透明な高分子フィルムである。
図1に実施例1に示した液晶表示装置の概略図を示す。
図2に実施例2に示した液晶表示装置の概略図を示す。
図1〜図2において、1は偏光薄膜、2は複屈折の小さ
な高分子フィルム、3はガラス基板、4は透明電極、5
は絶縁性の液晶配向制御膜、6はスペーサー、7は液晶
層、8は透明な高分子フィルムである。
【0042】ただし、図1〜図2は本発明の液晶表示装
置に最低必要な基本的構成のみを示すに過ぎず、必要に
応じ他の構成要素を含むことができる。このような構成
要素として、カラーフィルター、薄膜トランジスタ、防
眩フィルム、粘着材、接着材などが例示される。特に、
図1、図2における1と5の間で使用する粘着材、接着
材等の材料は透明でかつ複屈折の小さい材料を使用する
か、または透明で極めて薄い層として使用することが好
ましい。複屈折の小さい材料としては、アクリル樹脂、
アクリル−エポキシ樹脂等の系統の材料が例示できる。
極めて薄い層として使用するばあい、その膜厚は1μm
以下であることが好ましく、さらに好ましくは0. 2μ
m以下、特に好ましくは0. 1μm以下で使用する。
置に最低必要な基本的構成のみを示すに過ぎず、必要に
応じ他の構成要素を含むことができる。このような構成
要素として、カラーフィルター、薄膜トランジスタ、防
眩フィルム、粘着材、接着材などが例示される。特に、
図1、図2における1と5の間で使用する粘着材、接着
材等の材料は透明でかつ複屈折の小さい材料を使用する
か、または透明で極めて薄い層として使用することが好
ましい。複屈折の小さい材料としては、アクリル樹脂、
アクリル−エポキシ樹脂等の系統の材料が例示できる。
極めて薄い層として使用するばあい、その膜厚は1μm
以下であることが好ましく、さらに好ましくは0. 2μ
m以下、特に好ましくは0. 1μm以下で使用する。
【0043】透明電極4は、液晶層側のガラス基板3上
に被覆されており、通常ITO(Indium−Tin
Oxide)、In2 O3 、SnO2 などが用いられ
ている。透明電極3の液晶層側5には、絶縁性の液晶配
向制御膜が設置されている。この際、液晶配向制御膜が
それ単独で充分な絶縁性を有する場合には、配向膜のみ
でよいが、必要に応じて液晶配向制御膜の下に絶縁層を
設置し、その両者で絶縁性配向膜としてもかまわない。
に被覆されており、通常ITO(Indium−Tin
Oxide)、In2 O3 、SnO2 などが用いられ
ている。透明電極3の液晶層側5には、絶縁性の液晶配
向制御膜が設置されている。この際、液晶配向制御膜が
それ単独で充分な絶縁性を有する場合には、配向膜のみ
でよいが、必要に応じて液晶配向制御膜の下に絶縁層を
設置し、その両者で絶縁性配向膜としてもかまわない。
【0044】液晶配向制御膜5としては、有機物、無機
物、低分子、高分子など、公知のものを使用することが
できる。高分子化合物としては、例えば、ポリイミド、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエステルイミド
や種々のフォトレジストなどを必要に応じて用いること
ができる。
物、低分子、高分子など、公知のものを使用することが
できる。高分子化合物としては、例えば、ポリイミド、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエステルイミド
や種々のフォトレジストなどを必要に応じて用いること
ができる。
【0045】また、これらの高分子物質を液晶配向制御
膜として用いた場合には、必要に応じてこれら膜の表面
を、ガーゼやアセテート植毛布などを用いて、一方向に
こする、いわゆるラビング処理を行なうことによって液
晶分子の配向をより一層促進することができる。
膜として用いた場合には、必要に応じてこれら膜の表面
を、ガーゼやアセテート植毛布などを用いて、一方向に
こする、いわゆるラビング処理を行なうことによって液
晶分子の配向をより一層促進することができる。
【0046】絶縁膜としては、例えば、チタン酸化物、
アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、シリコン酸
化物、シリコン窒化物などを用いることができる。
アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、シリコン酸
化物、シリコン窒化物などを用いることができる。
【0047】これらの液晶配向制御膜や絶縁膜を形成す
る方法としては、必要に応じて、それら用いる物質によ
って最適な方法を用いることができる。例えば、高分子
物質の場合には、その高分子物質またはその前駆体を、
それらの物質を溶解できる溶媒に溶解後、スクリーン印
刷法、スピンナー塗布法、浸漬法などの方法で塗布する
ことができる。無機物質の場合には、浸漬法、蒸着法、
斜方蒸着法などを用いることができる。これら絶縁性配
向膜の厚みとしては、特に限定するものではないが、好
ましくは1nm〜2μm、さらに好ましくは2nm〜1
00nmである。
る方法としては、必要に応じて、それら用いる物質によ
って最適な方法を用いることができる。例えば、高分子
物質の場合には、その高分子物質またはその前駆体を、
それらの物質を溶解できる溶媒に溶解後、スクリーン印
刷法、スピンナー塗布法、浸漬法などの方法で塗布する
ことができる。無機物質の場合には、浸漬法、蒸着法、
斜方蒸着法などを用いることができる。これら絶縁性配
向膜の厚みとしては、特に限定するものではないが、好
ましくは1nm〜2μm、さらに好ましくは2nm〜1
00nmである。
【0048】これら液晶配向制御膜5および透明電極4
を設置した2枚のガラス基板3は、スペーサー6を介し
て所定の間隔に保持される。スペーサーとしては、所定
の直径または厚みを有する、ビーズ、ファイバーまたは
フィルム状の絶縁性の材料を用いることができる。具体
的にはシリカ、アルミナ、高分子物質(ポリスチレン
等)が例示できる。これらスペーサー6を2枚のガラス
基板3で挾持し、周囲を例えばエポキシ系接着剤等を用
いてシールした後、液晶を封入することができる。
を設置した2枚のガラス基板3は、スペーサー6を介し
て所定の間隔に保持される。スペーサーとしては、所定
の直径または厚みを有する、ビーズ、ファイバーまたは
フィルム状の絶縁性の材料を用いることができる。具体
的にはシリカ、アルミナ、高分子物質(ポリスチレン
等)が例示できる。これらスペーサー6を2枚のガラス
基板3で挾持し、周囲を例えばエポキシ系接着剤等を用
いてシールした後、液晶を封入することができる。
【0049】一般に2枚のガラス基板3の外側には、そ
れぞれ偏光素子が必要であるので2枚の偏光素子が設置
される。しかし、液晶層に二色性色素を含ませて使用す
るいわゆるゲストホスト型の液晶素子の場合には、片側
の偏光素子を省き、もう一方の偏光素子を本発明の偏光
素子とする。図1、図2には2枚の偏光素子を用いた場
合が例示されている。
れぞれ偏光素子が必要であるので2枚の偏光素子が設置
される。しかし、液晶層に二色性色素を含ませて使用す
るいわゆるゲストホスト型の液晶素子の場合には、片側
の偏光素子を省き、もう一方の偏光素子を本発明の偏光
素子とする。図1、図2には2枚の偏光素子を用いた場
合が例示されている。
【0050】透明電極4は、適当なリード線が接続され
ており、外部の駆動回路に接続されている。外部の駆動
回路の一部を、液晶セル上に形成した薄膜トランジスタ
回路(通称TFT)とすると、極めて性能の高い表示素
子ができるので特に有用である。
ており、外部の駆動回路に接続されている。外部の駆動
回路の一部を、液晶セル上に形成した薄膜トランジスタ
回路(通称TFT)とすると、極めて性能の高い表示素
子ができるので特に有用である。
【0051】
【実施例】以下本発明の実施例を示すが、本発明はこれ
らによって限定されるものではない。 実施例1 <配向膜の形成>米国特許5180470号記載の方法
を用いることにより、PTFEの配向膜を得た。具体的
には、約300℃に加熱したガラス基板(2.5cm×
8.0cm)上に、同様に加熱した長さ2cm直径1.
0cmのPTFEの円柱の側面たる曲面を押しつけ、基
板を0.1cm/秒の速度で移動することにより、幅
2.0cm×長さ7.0cmのPTFE配向膜を得た。
この際、円柱は5kgfの圧力で基板に押しつけた。基
板との接触面積を観察すると約0. 4cm2 であった。 <偏光薄膜の形成>得られたPTFE配向膜上に、表1
記載のD10(日本感光色素社製、商品名G205)を
蒸着した。蒸着の際の真空度は、10-5Torr以下で
あり、得られた色素膜の厚さは、約100nmであっ
た。
らによって限定されるものではない。 実施例1 <配向膜の形成>米国特許5180470号記載の方法
を用いることにより、PTFEの配向膜を得た。具体的
には、約300℃に加熱したガラス基板(2.5cm×
8.0cm)上に、同様に加熱した長さ2cm直径1.
0cmのPTFEの円柱の側面たる曲面を押しつけ、基
板を0.1cm/秒の速度で移動することにより、幅
2.0cm×長さ7.0cmのPTFE配向膜を得た。
この際、円柱は5kgfの圧力で基板に押しつけた。基
板との接触面積を観察すると約0. 4cm2 であった。 <偏光薄膜の形成>得られたPTFE配向膜上に、表1
記載のD10(日本感光色素社製、商品名G205)を
蒸着した。蒸着の際の真空度は、10-5Torr以下で
あり、得られた色素膜の厚さは、約100nmであっ
た。
【0052】<偏光素子の形成>PMMAフィルム面上
に、光硬化性樹脂(ノーランド社製、商品名60)を塗
布した。この樹脂塗布面を、上記の色素膜を有するガラ
ス基板に圧着した。次に、光硬化樹脂膜側のフィルムの
裏側から紫外線を照射して、光硬化樹脂を硬化させた。
フィルムをガラス基板から引き剥がす操作により、色素
膜をフィルム上の光硬化樹脂膜の表面に転写した。同様
の操作で同じ色素膜と光硬化樹脂膜を有するフィルムを
もう1枚作製した。 <偏光素子の視角特性の測定>図3、図4に示す配置
で、上記偏光素子2枚を重ね合わせ、光を斜めから入射
して透過光量を測定した。図3は2枚の偏光素子を重ね
合わせて光透過を測定する際の偏光素子面中央から同面
に対して鉛直に離れた所から見た図である。図4は2枚
の偏光素子を重ね合わせて光透過を測定する際の偏光素
子面に垂直でかつ測定の光軸を含む断面の図である。図
3、図4において、9は入射光、10は第1の偏光素子
の偏光軸、11は第2の偏光素子の偏光軸、12は偏光
素子の偏光軸と入射光の光軸のフィルム面への投影がな
す角度で45°、13は出射光、14は第1の偏光素
子、15は第2の偏光素子、16は偏光素子面への光の
入射角度で45°である。510nmの波長の吸光度は
2であった。 <液晶セルの観察>得られた偏光素子をTN型液晶セル
の両側に90°捩じって配置し、TN型液晶セルを駆動
する。この際各偏光フィルムの偏光方向は、それが接す
るセル基板の表面の液晶の配向方向と平行としノーマリ
オン型とする。一方の面に約510nmの光を出す面状
光源たるバックライトを装着する。セルの前面を鉛直方
向から傾けること45°の角度でかつ液晶セル基板の面
内で2枚の偏光素子の偏光方向から45°をなす直線を
含む面内から液晶セルを観察する。観察されるコントラ
ストは良好である。
に、光硬化性樹脂(ノーランド社製、商品名60)を塗
布した。この樹脂塗布面を、上記の色素膜を有するガラ
ス基板に圧着した。次に、光硬化樹脂膜側のフィルムの
裏側から紫外線を照射して、光硬化樹脂を硬化させた。
フィルムをガラス基板から引き剥がす操作により、色素
膜をフィルム上の光硬化樹脂膜の表面に転写した。同様
の操作で同じ色素膜と光硬化樹脂膜を有するフィルムを
もう1枚作製した。 <偏光素子の視角特性の測定>図3、図4に示す配置
で、上記偏光素子2枚を重ね合わせ、光を斜めから入射
して透過光量を測定した。図3は2枚の偏光素子を重ね
合わせて光透過を測定する際の偏光素子面中央から同面
に対して鉛直に離れた所から見た図である。図4は2枚
の偏光素子を重ね合わせて光透過を測定する際の偏光素
子面に垂直でかつ測定の光軸を含む断面の図である。図
3、図4において、9は入射光、10は第1の偏光素子
の偏光軸、11は第2の偏光素子の偏光軸、12は偏光
素子の偏光軸と入射光の光軸のフィルム面への投影がな
す角度で45°、13は出射光、14は第1の偏光素
子、15は第2の偏光素子、16は偏光素子面への光の
入射角度で45°である。510nmの波長の吸光度は
2であった。 <液晶セルの観察>得られた偏光素子をTN型液晶セル
の両側に90°捩じって配置し、TN型液晶セルを駆動
する。この際各偏光フィルムの偏光方向は、それが接す
るセル基板の表面の液晶の配向方向と平行としノーマリ
オン型とする。一方の面に約510nmの光を出す面状
光源たるバックライトを装着する。セルの前面を鉛直方
向から傾けること45°の角度でかつ液晶セル基板の面
内で2枚の偏光素子の偏光方向から45°をなす直線を
含む面内から液晶セルを観察する。観察されるコントラ
ストは良好である。
【0053】実施例2 <配向膜の形成>実施例1と同じ操作でガラス基板上に
PTFE配向膜を得た。 <偏光薄膜の形成>得られたPTFE配向膜上に、表1
記載のD6(日本感光色素社製、商品名G232)を蒸
着した。蒸着の際の真空度は、10-5Torr以下であ
り、得られた色素膜の厚さは、約100nmであった。 <偏光素子の形成>実施例1と同じ操作で偏光素子を得
た。 <偏光素子の視角特性の測定>上記の偏光素子について
実施例1と同様の透過光量を測定する。450nmの波
長の吸光度は1. 6以上である。 <液晶セルの観察>得られた偏光素子をTN型液晶セル
の両側に90°捩じって配置し、TN型液晶セルを駆動
する。この際各偏光素子の偏光方向はそれが接するセル
基板の表面の液晶の配向方向と平行としノーマリオン型
とする。一方の面に面状光源たるバックライトを装着す
る。セルの前面を鉛直方向から傾けること45°の角度
でかつ液晶セル基板の面内で2枚の偏光素子の偏光方向
から45°をなす直線を含む面内から液晶セルを観察す
る。観察されるコントラストは良好である。
PTFE配向膜を得た。 <偏光薄膜の形成>得られたPTFE配向膜上に、表1
記載のD6(日本感光色素社製、商品名G232)を蒸
着した。蒸着の際の真空度は、10-5Torr以下であ
り、得られた色素膜の厚さは、約100nmであった。 <偏光素子の形成>実施例1と同じ操作で偏光素子を得
た。 <偏光素子の視角特性の測定>上記の偏光素子について
実施例1と同様の透過光量を測定する。450nmの波
長の吸光度は1. 6以上である。 <液晶セルの観察>得られた偏光素子をTN型液晶セル
の両側に90°捩じって配置し、TN型液晶セルを駆動
する。この際各偏光素子の偏光方向はそれが接するセル
基板の表面の液晶の配向方向と平行としノーマリオン型
とする。一方の面に面状光源たるバックライトを装着す
る。セルの前面を鉛直方向から傾けること45°の角度
でかつ液晶セル基板の面内で2枚の偏光素子の偏光方向
から45°をなす直線を含む面内から液晶セルを観察す
る。観察されるコントラストは良好である。
【0054】実施例3 <配向膜の形成>実施例1と同じ操作でガラス基板上に
PTFE配向膜を得た。 <色素膜の形成>実施例1と同じ操作でガラス基板上に
色素膜を得た。 <偏光素子の形成>ポリエチレンテレフタレートフィル
ム面上に、光硬化性樹脂(ノーランド社製、商品名6
0)を塗布した。この樹脂塗布面を、上記の色素膜を有
するガラス基板に圧着した。次に、光硬化樹脂膜側のフ
ィルムの裏側から紫外線を照射して、光硬化樹脂を硬化
させた。フィルムをガラス基板から引き剥がす操作によ
り、色素膜をフィルム上の光硬化樹脂膜の表面に転写し
た。同様の操作で同じ色素膜と光硬化樹脂膜を有するフ
ィルムをもう1枚作製した。 <偏光素子の視角特性の測定>上記の偏光素子について
実施例1と同様の透過光量を測定した。510nmの波
長の吸光度は2であった。 <液晶セルの観察>得られた偏光フィルムをTN型液晶
セルの両側に90度捩じって配置し、TN型液晶セルを
駆動する。この際各偏光素子の偏光方向はそれが接する
セル基板の表面の液晶の配向方向と平行としノーマリオ
ン型とする。一方の面に面状光源たるバックライトを装
着する。セルの前面を鉛直方向から傾けること45°の
角度でかつ液晶セル基板の面内で2枚の偏光素子の偏光
方向から45°をなす直線を含む面内から液晶セルを観
察する。観察されるコントラストは良好である。
PTFE配向膜を得た。 <色素膜の形成>実施例1と同じ操作でガラス基板上に
色素膜を得た。 <偏光素子の形成>ポリエチレンテレフタレートフィル
ム面上に、光硬化性樹脂(ノーランド社製、商品名6
0)を塗布した。この樹脂塗布面を、上記の色素膜を有
するガラス基板に圧着した。次に、光硬化樹脂膜側のフ
ィルムの裏側から紫外線を照射して、光硬化樹脂を硬化
させた。フィルムをガラス基板から引き剥がす操作によ
り、色素膜をフィルム上の光硬化樹脂膜の表面に転写し
た。同様の操作で同じ色素膜と光硬化樹脂膜を有するフ
ィルムをもう1枚作製した。 <偏光素子の視角特性の測定>上記の偏光素子について
実施例1と同様の透過光量を測定した。510nmの波
長の吸光度は2であった。 <液晶セルの観察>得られた偏光フィルムをTN型液晶
セルの両側に90度捩じって配置し、TN型液晶セルを
駆動する。この際各偏光素子の偏光方向はそれが接する
セル基板の表面の液晶の配向方向と平行としノーマリオ
ン型とする。一方の面に面状光源たるバックライトを装
着する。セルの前面を鉛直方向から傾けること45°の
角度でかつ液晶セル基板の面内で2枚の偏光素子の偏光
方向から45°をなす直線を含む面内から液晶セルを観
察する。観察されるコントラストは良好である。
【0055】比較例 <偏光素子の視角特性の測定>ヨウ素で染色されたポリ
ビニルアルコールを偏光膜とする偏光フィルム(住友化
学工業(株)製、商品名スミカランSH−1832A
型)について実施例1と同様の透過光量を測定した。5
10nmの波長の吸光度は1.6であった。 <偏光セルの観察>偏光フィルム(住友化学工業(株)
製、商品名スミカランSH−1832A型)をTN型液
晶セルの両側に90°捩じって配置し、TN型液晶セル
を駆動する。この際各偏光フィルムの偏光方向はそれが
接するセル基板の表面の液晶の配向方向と平行としノー
マリオン型とする。一方の面に面状光源たるバックライ
トを装着する。セルの前面を鉛直方向から傾けること4
5°の角度でかつ液晶セル基板の面内で2枚の偏光フィ
ルムの偏光方向から45°をなす直線を含む面内から液
晶セルを観察する。観察されるコントラストは実施例1
および3の方が高い。
ビニルアルコールを偏光膜とする偏光フィルム(住友化
学工業(株)製、商品名スミカランSH−1832A
型)について実施例1と同様の透過光量を測定した。5
10nmの波長の吸光度は1.6であった。 <偏光セルの観察>偏光フィルム(住友化学工業(株)
製、商品名スミカランSH−1832A型)をTN型液
晶セルの両側に90°捩じって配置し、TN型液晶セル
を駆動する。この際各偏光フィルムの偏光方向はそれが
接するセル基板の表面の液晶の配向方向と平行としノー
マリオン型とする。一方の面に面状光源たるバックライ
トを装着する。セルの前面を鉛直方向から傾けること4
5°の角度でかつ液晶セル基板の面内で2枚の偏光フィ
ルムの偏光方向から45°をなす直線を含む面内から液
晶セルを観察する。観察されるコントラストは実施例1
および3の方が高い。
【0056】
【発明の効果】本発明の偏光素子を用いた液晶表示装置
は視野角が広く、斜めから見た時の表示性能が優れ、工
業的価値が大きい。
は視野角が広く、斜めから見た時の表示性能が優れ、工
業的価値が大きい。
【図1】実施例1に示した液晶表示装置の概略断面図。
【図2】実施例3に示した液晶表示装置の概略断面図。
【図3】偏光素子の視野角特性の測定方法を示す概略図
(平面図)。
(平面図)。
【図4】偏光素子の視野角特性の測定方法を示す概略図
(側面図)。
(側面図)。
1………偏光薄膜 2………複屈折の小さな高分子フィルム 3………ガラス基板 4………透明電極 5………絶縁性の液晶配向制御膜 6………スペーサー 7………液晶層 8………透明な高分子フィルム。 9………入射光 10………第1の偏光素子の偏光軸 11………第2の偏光素子の偏光軸 12………偏光素子の偏光軸と入射光の光軸のフィルム
面への投影がなす角度で45° 13………出射光 14………第1の偏光素子 15………第2の偏光素子 16………フィルム面への光の入射角度で45°
面への投影がなす角度で45° 13………出射光 14………第1の偏光素子 15………第2の偏光素子 16………フィルム面への光の入射角度で45°
Claims (4)
- 【請求項1】膜厚1nm以上1μm以下の偏光薄膜を固
有複屈折が0.01以下かつ−0.01以上の高分子フ
ィルム上に積層したことを特徴とする偏光素子。 - 【請求項2】フッ素系樹脂配向膜上に形成された膜厚1
nm以上1μm以下の偏光薄膜を固有複屈折が0.01
以下かつ−0.01以上の高分子フィルム上に転写する
ことを特徴とする請求項1記載の偏光素子の製造方法。 - 【請求項3】電極を有する一対の透明電極基板間に、正
の誘電率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加しない
状態では分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分子長軸
が90°以上270°以下の間でその螺旋軸が基板に垂
直方向に捩れた構造をとるように構成された液晶セルに
おいて、その両外側に請求項1記載の偏光素子を配置し
たことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項4】電極を有する一対の透明電極基板間に、正
の誘電率異方性を有する液晶分子が、電圧を印加しない
状態では分子長軸を基板に対してほぼ平行かつ分子長軸
が90°以上270°以下の間でその螺旋軸が基板に垂
直方向に捩れた構造をとるように構成された液晶セルに
おいて、その両外側に、膜厚1nm以上1μm以下の偏
光薄膜を高分子フィルムの片側表面に積層した偏光素子
を該偏光薄膜を液晶セル側に向けて配置したことを特徴
とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7082915A JPH08278408A (ja) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | 偏光素子とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7082915A JPH08278408A (ja) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | 偏光素子とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08278408A true JPH08278408A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=13787555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7082915A Pending JPH08278408A (ja) | 1995-04-07 | 1995-04-07 | 偏光素子とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08278408A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001194527A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | ノルボルネン系樹脂組成物及び位相差板 |
JP2010117516A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
JP2016040640A (ja) * | 2010-09-03 | 2016-03-24 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光膜を含む光学フィルム積層体、及び、偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造に用いるための延伸積層体、並びにそれらの製造方法、並びに偏光膜を有する有機el表示装置 |
-
1995
- 1995-04-07 JP JP7082915A patent/JPH08278408A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001194527A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | ノルボルネン系樹脂組成物及び位相差板 |
JP2010117516A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
JP2016040640A (ja) * | 2010-09-03 | 2016-03-24 | 日東電工株式会社 | 偏光膜、偏光膜を含む光学フィルム積層体、及び、偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造に用いるための延伸積層体、並びにそれらの製造方法、並びに偏光膜を有する有機el表示装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050517 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050927 |