JP2015011059A - 偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルの熱によるベンドを抑制し、かつ偏光子の劣化も抑制しうる偏光板を提供する。
【解決手段】偏光子と、前記偏光子の一方の面に配置された保護フィルムと、前記偏光子の他方の面に配置された位相差フィルムとを含む偏光板であって、前記保護フィルムは、透明基材層と、防湿層とを含み、前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙであり、前記偏光板の厚みが２５〜９０μｍである、偏光板。
【選択図】図６

Description

本発明は、偏光板および液晶表示装置に関する。

現在、スマートホンやタブレットなどの携帯型の液晶表示装置が広く普及している。これらの液晶表示装置は、薄型化が求められている。

液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含む。液晶セルは、一対のガラス基板と、それらの間に配置される液晶層とを含む。偏光板は、偏光子と、その液晶セル側の面に配置される位相差フィルム（Ｆ２またはＦ３）と、液晶セルとは反対側の面に配置される保護フィルム（Ｆ１またはＦ４）とを含む。

液晶表示装置の薄型化に伴い、液晶セルのガラス基板の薄型化が検討されている。例えば、ＴＶ用の液晶表示装置の液晶セルでは、厚みが０．５ｍｍ以下のガラス基板が用いられてきている。しかしながら、厚みが小さいガラス基板を含む液晶表示パネル（偏光板／液晶セル／偏光板の積層物）は、バックライトからの熱などによって湾曲（ベンド）しやすいという問題があった。

即ち、液晶表示装置では、偏光子がバックライトの熱などによって収縮しやすく、この偏光子の収縮力により、液晶表示パネルがベンドしやすい。液晶表示パネルのベンドは、特に液晶セルのガラス基板の厚みが小さいほど顕著に生じやすく、このような液晶表示パネルのベンドは、液晶表示装置における表示ムラ（ベンドムラ）の原因となる。

これに対して、従来は、偏光板と液晶セルとの接着点を１点にすることで、偏光板の収縮力を、液晶セルに伝わりにくくし、液晶表示パネルのベンドを抑制する方法が提案されている（例えば特許文献１）。また、ガラス基板上に配置する偏光板の厚みを大きくすることによって、液晶表示パネルのベンドを抑制することも検討されている。

また、偏光板には、温度や湿度が変化しても、安定な偏光性能を有することが求められる。そのような偏光板に用いられる保護フィルムとして、セルローストリアセテートを主成分とする透明基材フィルムと、低透湿層として塩化ビニリデン系重合体を含有する層とを含む保護フィルムが提案されている（特許文献２参照）。また、薄膜のポリビニルアルコール系樹脂層と、低透湿な被覆フィルムとを含む偏光子（特許文献３）や、偏光フィルムとアクリル系樹脂フィルムとを、特定の活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層を介して積層した偏光板（特許文献４）などが知られている。

特開２０１１−１０７３９１号公報 特開２００８−１５８４８３号公報 特開２０１２−２５６０１８号公報 特開２０１１−１２３１６９号公報

しかしながら、ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルのベンドは、ガラス基板上に配置する偏光板の厚みを大きくすることによっては十分には抑制できなかった。

本発明者らは、鋭意検討した結果、ガラス基板上に配置する偏光板の厚みをむしろ小さくすることで、ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルのベンドを良好に抑制できることを新たに見出した。

一方で、ガラス基板上に配置する偏光板の厚みを小さくすると、保護フィルムの透湿度が高くなるため、偏光子の劣化が生じるおそれがあった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルの熱によるベンドを抑制し、かつ偏光子の劣化も抑制しうる偏光板を提供することを目的とする。

［１］ 偏光子と、前記偏光子の一方の面に配置された保護フィルムと、前記偏光子の他方の面に配置された位相差フィルムとを含む偏光板であって、前記保護フィルムは、透明基材層と、防湿層とを含み、前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙであり、前記偏光板の厚みが２５〜９０μｍである、偏光板。
即ち、保護フィルムの透湿度が１０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満では、水分が偏光子層内に滞留して偏光度の劣化が生じ、１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙを超えると外部からの湿度が偏光子に入り易くなることで高湿下での偏光度の劣化が生じるため、透湿度が１０〜１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙの範囲が本発明の範囲である。偏光板の厚みが９０μｍ以下であると、ベンドムラの発生が無く、厚みの下限としては２５μｍまでベンドムラが生じないことを確認できている。偏光板の厚みが２５μｍ未満の領域は、強度的な問題や取り扱い性から安定な偏光板を製作出来ず、範囲外としている。
［２］ 前記偏光板の厚みが４０〜７０μｍである、［１］に記載の偏光板。
即ち、偏光板の厚みが４０μｍ以上であることが、高温高湿下の偏光度の低下が少ない点から好ましく、７０μｍ以下であることが、ベンドムラ防止の点から好ましい。
［３］ 前記偏光子の厚みが３〜１２μｍである、［１］または［２］に記載の偏光板。
即ち、偏光子の厚みが３μｍ以上であることが、高温高湿下での偏光度の低下が少ない点で好ましく、１２μｍ以下であることが、ベンドムラを防止する点で好ましい。
［４］ 前記透明基材層の厚みが１０〜３５μｍである、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光板。
即ち、透明基材層の厚みが１０μｍ以上であることが、取り扱い性に優れ、３５μｍ以下であることがベンドムラを防止する点で好ましい。
［５］ 前記防湿層は、前記透明基材層の前記偏光子側の面に配置されている、［１］〜［４］のいずれかに記載の偏光板。
防湿層は、薄膜であり、物理的衝撃などで防湿機能が低下するおそれがあるため、物理的な衝撃などを受け難い透明基材層の偏光子側の面に設けることが好ましい。
［６］ 前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜８０ｇ／ｍ^２・ｄａｙである、［１］〜［５］のいずれかに記載の偏光板。
即ち、高温高湿下での偏光度の低下を防止する点で、上記範囲が好ましい。
［７］ 前記防湿層が、塩化ビニル樹脂を含む層または無機薄膜である、［１］〜［６］のいずれかに記載の偏光板。
［８］ 前記透明基材層が、セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂の一方または両方を含む、［１］〜［７］のいずれかに記載の偏光板。
［９］ 前記透明基材層は、厚み方向に偏在した添加剤をさらに含む、［１］〜［８］のいずれかに記載の偏光板。
［１０］ 前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が２０〜７０ｇ／ｍ^２・ｄａｙである、［１］〜［９］のいずれかに記載の偏光板。
即ち、高温高湿下での偏光度の低下を防止する点で、上記範囲が好ましい。
［１１］ 前記位相差フィルムが、セルロースエステルまたはシクロオレフィン樹脂を含む、［１］〜［１０］のいずれかに記載の偏光板。

［１２］ 厚み０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ未満の第一のガラス基板および第二のガラス基板と、前記第一のガラス基板と前記第二のガラス基板の間に配置された液晶層とを含む液晶セルと、前記液晶セルの前記第一のガラス基板上に配置された第一の偏光板と、前記液晶セルの前記第二のガラス基板上に配置された第二の偏光板とを含み、前記第一の偏光板が、［１］〜［１１］のいずれかに記載の偏光板であり、かつ前記位相差フィルムが、前記偏光子と前記第一のガラス基板との間に配置されているか、または前記第二の偏光板が、［１］〜［１１］のいずれかに記載の偏光板であり、かつ前記位相差フィルムが、前記偏光子と前記第二のガラス基板との間に配置されている、液晶表示装置。
即ち、ベンドムラが生じ易いガラス厚みが０．７ｍｍ未満であり、本発明が有効である。また、ガラス厚みが０．３ｍｍ以上であると、生産性に優れ、実質的にベンドムラ問題が生じることから、本発明が有効である。
［１３］ 前記第一の偏光板と前記第二の偏光板の両方が、［１］〜［１１］のいずれかに記載の偏光板である、［１２］に記載の液晶表示装置。
［１４］ 前記第二の偏光板と対向するように配置されたバックライトをさらに含む、［１２］または［１３］に記載の液晶表示装置。

本発明によれば、ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルの熱によるベンドを抑制し、かつ偏光子の劣化も抑制しうる偏光板を提供できる。

プラズマ製膜装置の概略構成図である。 プラズマ放電処理室の他の例を示す図である。 ロール電極の一例を示す図である。 固定電極の概略斜視図を示す。 プラズマ製膜装置の他の例を示す概略構成図である。 偏光板の層構成の一例を示す模式図である。 液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。

１．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、その一方の面に配置された保護フィルムと、他方の面に配置された位相差フィルムとを含む。

（１）偏光子について
偏光子は、ヨウ素系偏光膜、または二色染料を用いた染料系偏光膜でありうる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られたフィルムであってもよいし；ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向と平行である。

ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。

二色性染料の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素等が含まれる。

偏光子の厚みは、偏光板の厚みが後述する範囲となるように設定されればよく、例えば２５μｍ以下であり、好ましくは３〜１２μｍであり、より好ましくは３〜１０μｍでありうる。熱などによる偏光子の収縮を低減し、表示装置のベンドムラを低減するためである。

偏光子の厚みは、偏光板の厚みに対して４０％以下であることが好ましく、３０％以下であることがより好ましい。偏光子の厚みは、偏光板の厚みに対して２％以上としうる。

従来は、偏光板の厚みを大きくすることで、偏光板の「熱収縮量」を小さくし；「ガラス基板の熱変形量」と「偏光板の熱収縮量」とを均衡させることによって、液晶表示パネルのベンドを抑制することが検討されていた。しかしながら、それによっては、ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルのベンドを十分には抑制できなかった。

これに対して本発明者らは、偏光板の厚みを小さくすることで、ガラス基板を薄くしたときの液晶表示パネルのベンドを十分に抑制できることを見出した。この理由は、必ずしも明らかではないものの、偏光板の厚みを小さくすることで、偏光板の「熱収縮しようとする力」を小さくすることができ；偏光板の「熱収縮しようとする力」を、ガラス基板によって抑え込むことができたためと考えられる。

偏光板の厚みを小さくするためには、保護フィルムや偏光子の厚みを小さくすることが有効である。しかしながら、保護フィルムの厚みを小さくすると、透湿度が高くなることから、偏光子の（透過水分による）劣化が生じやすい。偏光子の（透過水分による）劣化は、偏光子の厚みが小さい場合に顕著となりやすい。

そこで本発明では、保護フィルムの透湿度を一定以下に下げること；具体的には、保護フィルムを透明基材層と防湿層の積層物とすることが好ましい。それにより、透湿度を高めることなく、保護フィルムの厚みを小さくすることができ；偏光板の厚みを薄くすることができる。

また、防湿層は薄膜であることが必須である。ところが、薄膜は機械的な衝撃などによって損傷を受けると欠陥を生じやすく；膜にそのような欠陥があると防湿性が低下し、膜の劣化が生じることが予測される。そこで、防湿層は、物理的な衝撃などによる性能低下が起こり難くするため、機械的損傷を受けやすいと考えられる透明基材層の視認側（例えば、表示装置で直接の表示側となり、物が接触して物理的損傷を受けることが予測される）ではなく、透明基材層の偏光子と対向する面に設けることが好ましい。

（２）保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）について
前述の通り、保護フィルムは、透明基材層と、防湿層とを含む。この保護フィルムは、液晶表示装置において最も視認側の保護フィルム（Ｆ１）または最もバックライト側の保護フィルム（Ｆ４）として好ましく用いられる。

２−１）透明基材層
透明基材層は、熱可塑性樹脂を含む。熱可塑性樹脂の例には、セルロースエステル、（メタ）アクリル樹脂などが含まれる。耐熱性が高く、偏光子との接着性が良好な透明基材層が得られやすい点では、セルロースエステルが好ましい。透湿度が低い透明基材層が得られやすい点では、（メタ）アクリル樹脂が好ましい。

セルロースエステル
セルロースエステルは、セルロースと、炭素原子数２〜２２の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸の少なくとも一方とをエステル化反応させて得られる化合物である。

セルロースエステルの例には、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが含まれる。なかでも、位相差発現性の低いものが好ましく、セルローストリアセテートが好ましい。

セルロースエステルのアシル基の総置換度は、２．０〜３．０程度であり、好ましくは２．５〜２．９５、より好ましくは２．６〜２．９、さらに好ましくは２．８〜２．９１である。位相差発現性を低くするためには、アシル基の総置換度は高くすることが好ましい。

セルロースエステルに含まれるアシル基の炭素原子数は、２〜７であることが好ましく、２〜４であることがより好ましい。良好な耐熱性を得るためなどから、セルロースエステルに含まれるアシル基は、アセチル基を含むことが好ましい。炭素原子数３以上のアシル基の置換度は、０．９以下であることが好ましく、０であることがより好ましい。

セルロースエステルのアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法で測定することができる。

セルロースエステルの重量平均分子量は、一定以上の機械的強度を得るためには、５．０×１０^４〜５．０×１０^５であることが好ましく、１．０×１０^５〜３．０×１０^５であることがより好ましく、１．５×１０^５〜２．８×１０^５であることがさらに好ましい。

セルロースエステルの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、１．０〜４．５であることが好ましい。

セルロースエステルの重量平均分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されうる。測定条件は、以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０^６〜５．０×１０^２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。

（メタ）アクリル樹脂
（メタ）アクリル樹脂は、特に制限されず、メチルメタクリレートモノマー由来の構造単位５０〜９９質量％と、これと共重合可能な他のモノマー由来の構造単位１〜５０質量％とを含む共重合体であることが好ましい。

共重合可能な他のモノマーの例には、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物、グルタルイミド、ラクトン等が挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して用いることができる。

共重合可能な他のモノマーは、耐熱性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物、グルタルイミド、ラクトンがより好ましい。

（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、透明基材層の機械的強度を一定以上とし、フィルム製造時の流動性を一定以上とするためなどから、８００００〜１００００００であることが好ましい。（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、前述と同様に、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。

透明基材層は、セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂の両方を含んでもよい。セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂の含有比率（質量比）は、求められる耐熱性や透湿度にもよるが、例えばセルロースエステル：（メタ）アクリル樹脂＝５：９５〜３０：７０としうる。

添加剤
添加剤は、特に限定されないが、セルロースエステル樹脂と組み合わされうる好ましい添加剤の例には、糖エステル化合物、ポリエステル化合物が含まれる。

（糖エステル化合物）
糖エステル化合物は、糖に含まれる水酸基とモノカルボン酸とを反応させて得られる化合物である。即ち、糖エステル化合物は、糖由来の構造と、（糖に含まれる）水酸基とモノカルボン酸との反応物由来のアシル基とを含む。

糖エステル化合物に含まれる糖由来の構造は、フラノース構造とピラノース構造の一方または両方が１〜１２個結合した構造であることが好ましく；フラノース構造とピラノース構造の一方または両方が１〜３個、好ましくは２個結合した構造であることが好ましい。なかでも、ピラノース構造とフラノース構造の両方を含むものが好ましい。

糖由来の構造の例には、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロースおよびアラビノースなどの単糖；ラクトース、スクロース、マルチトール、セロビオース、マルトースなどの二糖；セロトリオース、ラフィノースなどの三糖などに由来する構造が含まれる。

糖エステル化合物に含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であっても、芳香族基アシル基であってもよい。

脂肪族アシル基の炭素原子数は１〜２２、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８でありうる。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基などが含まれる。芳香族アシル基の例には、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基が含まれる。

中でも、糖エステル化合物に含まれるアシル基は、透明基材層の疎水性を高めたり、硬度を高めたり、セルロースエステルとの相溶性を高めるためなどから少なくともベンゾイル基を含むことが好ましい。糖エステル化合物に含まれる複数のアシル基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。

糖エステル化合物において、アシル基で置換されていない未反応の水酸基は、通常、そのまま水酸基として残っていてもよい。

糖エステル化合物は、アシル基の種類が同一で、かつ置換度が異なる複数の糖エステル化合物の混合物でありうる。そのような混合物は、無置換体が含まれていてもよい。上記混合物における平均エステル置換率は、６２〜９４％であることが好ましい。上記混合物における平均エステル置換率は、下記式で定義されうる。
平均エステル置換率＝１００％×（混合物中の各糖エステル化合物の含有率）×（混合物中の各糖エステル化合物一分子中のエステル化されたＯＨの数）／（無置換糖の一分子中のＯＨの総数）

糖エステル化合物の具体例には、以下のものが含まれる。

糖エステル化合物の数平均分子量は、好ましくは２００〜３５００、より好ましくは２００〜３０００、特に好ましくは２５０〜２０００としうる。

透明基材層における糖エステル化合物の含有量は、（セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂の合計）に対して２〜２５質量％程度とすることができ、好ましくは５〜２０質量％、さらに好ましくは５〜１５質量％程度としうる。

（ポリエステル化合物）
ポリエステル化合物は、ジカルボン酸とジオールとの縮合物に由来する繰り返し単位を含む。

ジカルボン酸は、脂肪族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸でありうる。脂肪族ジカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは４〜２０であり、より好ましくは４〜１２である。脂肪族ジカルボン酸の例には、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等が含まれ、好ましくはアジピン酸などでありうる。

芳香族ジカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは８〜２０であり、より好ましくは８〜１２である。芳香族ジカルボン酸の例には、１,２-ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１,３-ベンゼンジカルボン酸（イソフタル酸）、１,４-ベンゼンジカルボン酸（テレフタル酸）、１,５-ナフタレンジカルボン酸、１，４−キシリデンジカルボン酸等が含まれ、好ましくはフタル酸やテレフタル酸などでありうる。

脂環式ジカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは６〜１２である。脂環式ジカルボン酸の例には、１，３−シクロブタンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジ酢酸等が含まれる。

ポリエステル化合物を得るためのジカルボン酸は、一種類であっても、二種類以上あってもよい。ポリエステル化合物を得るためのジカルボン酸は、透明基材層の疎水性を高めたり、セルロースエステルとの相溶性を高めたりするためなどから、芳香族ジカルボン酸を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸の両方を含むことがより好ましい。芳香族ジカルボン酸は、好ましくは１,４-ベンゼンジカルボン酸（テレフタル酸）でありうる。

ジオールは、脂肪族ジオール、アルキルエーテルジオール、脂環式ジオールまたは芳香族ジオールでありうる。

脂肪族ジオールの炭素数は、好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２〜１２である。脂肪族ジオールの例には、エチレングリコール、１,２-プロピレングリコール、１,３-プロピレングリコール、１,２-ブタンジオール、１,３-ブタンジオール、１,２-プロパンジオール、２-メチル-１,３-プロパンジオール、１,４-ブタンジオール、１,５-ペンタンジオール、２,２-ジメチル-１,３-プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２,２-ジエチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールペンタン）、２-ｎ-ブチル-２-エチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールヘプタン）、３-メチル-１,５-ペンタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、２,２,４-トリメチル-１,３-ペンタンジオール、２-エチル-１,３-ヘキサンジオール、２-メチル-１,８-オクタンジオール、１,９-ノナンジオール、１,１０-デカンジオール、および１,１２-オクタデカンジオールなどが含まれる。アルキルエーテルジオールの炭素原子数は、好ましくは４〜２０であり、より好ましくは４〜１２である。アルキルエーテルジオールの例には、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコールおよびポリプロピレンエーテルグリコールなどが含まれる。

脂環式ジオールの炭素原子数は、好ましくは４〜２０であり、より好ましくは４〜１２である。脂環式ジオールの例には、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが含まれる。

芳香族ジオールの炭素原子数は、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは６〜１２である。芳香族ジオールの例には、１,２-ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１,３-ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１,４-ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などが含まれる。

ポリエステル化合物を得るためのジオールは、一種類であっても、二種類以上あってもよい。ポリエステル化合物を得るためのジオールは、脂肪族ジオールを含むことが好ましい。

なかでも、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、脂肪族ジオールとの縮合物に由来する繰り返し単位を含むポリエステル化合物が、それを含むフィルムの透明性が良好である点から、好ましい。

ポリエステル化合物の分子末端は、未封止であってもよいが、必要に応じてモノカルボン酸またはモノアルコールで封止されていてもよい。

モノカルボン酸は、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸でありうる。脂肪族モノカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは２〜３０、より好ましくは２〜４でありうる。脂肪族カルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸などが含まれる。脂環式モノカルボン酸の例には、シクロヘキシルモノカルボン酸などが含まれる。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸などが含まれる。

モノアルコールは、脂肪族モノアルコール、脂環式モノアルコールまたは芳香族モノアルコールでありうる。脂肪族モノアルコールの炭素原子数は１〜３０であり、好ましくは１〜３でありうる。脂肪族モノアルコールの例には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどが含まれる。脂環式モノアルコールの例には、シクロヘキシルアルコールなどが含まれる。芳香族モノアルコールの例には、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどが含まれる。

ポリエステル化合物の具体例には、以下のものが含まれる。表１において、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＰＡ：フタル酸、ＳＡ：コハク酸、ＡＡ：アジピン酸を示す。

ポリエステル化合物の数平均分子量は、３００〜２０００であることが好ましく、４００〜１５００であることがより好ましい。数平均分子量が３００未満であるポリエステル化合物のブリードアウトが生じるおそれがある。

ポリエステル化合物の含有量は、主成分となる樹脂（セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂の合計）に対して０．５〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。ポリエステル化合物の含有量が５質量％未満であると、十分な可塑化効果が得られない可能性がある。一方、ポリエステル化合物の含有量が３０質量％超であると、フィルムからブリードアウトしやすくなる。

（メタ）アクリル樹脂と組み合わされうる可塑剤の例には、前述の糖エステル化合物やポリエステル化合物などのほか、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル等のフタル酸ジアルキル化合物；フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸アルキルベンジル化合物；フタル酸アルキルアリール化合物；フタル酸ジベンジル化合物；フタル酸ジアリール化合物；リン酸トリクレシル等のリン酸トリアリール化合物；リン酸トリアルキル化合物；リン酸アルキルアリール化合物；アジピン酸エステル化合物；エーテル化合物；エポキシ化大豆油等の大豆油化合物などが含まれる。これらは、それぞれの可塑剤が有する特徴に応じて適宜組み合わせて用いられうる。これらの可塑剤は、１種を単独で用いてもよいし、目的に応じて２種以上の可塑剤を混合して用いてもよい。

糖エステル化合物とポリエステル化合物の含有量は、前述と同様の範囲としうる。それ以外の可塑剤の含有量は、（メタ）アクリル樹脂に対して１〜４０質量％であり、好ましくは５〜３０質量％としうる。可塑剤の含有量がこの範囲にあると、（メタ）アクリル樹脂を含むフィルムの柔軟性と強度とのバランスが良好となりやすい。

透明基材層と偏光子との密着性を高める観点から、透明基材層における糖エステル化合物、ポリエステル化合物またはその他の可塑剤は、透明基材層の厚み方向に偏在していること；具体的には、透明基材層の一方の面近傍における可塑剤の含有量が、他方の面近傍における可塑剤の含有量よりも多いことが好ましい。透明基材層の、可塑剤の含有量が多い方の面は、活性エネルギー線硬化性接着剤などの有機系接着剤を用いたときに、偏光子との良好な接着性が得られやすい。一方、透明基材層の、可塑剤含有量の少ない方の面は、鹸化型のポリビニルアルコ−ル系接着剤（水系接着剤）を用いたときに、偏光子との良好な接着性が得られやすい。

厚み方向に可塑剤が偏在した透明基材層は、例えば溶液流延法で製膜して得ることができる。さらに、透明基材層の厚み方向に可塑剤を偏在させやすくするためには、溶液流延法で製膜する際に用いられるドープ中の可塑剤の溶解度パラメーターの値（ＳＰ値）と溶剤のＳＰ値との差の絶対値を、可塑剤のＳＰ値と主成分となる樹脂（セルロースエステルまたは（メタ）アクリル樹脂）のＳＰ値との差の絶対値よりも小さくすることが好ましい。具体的には、可塑剤のＳＰ値と主成分となる樹脂のＳＰ値との差の絶対値は、好ましくは０．５以上であり、より好ましくは１．０以上としうる。可塑剤のＳＰ値は、９．５〜１１．５の範囲としうる。

透明基材層は、必要に応じて他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、他の可塑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤などの添加剤やマット剤などが含まれる。

紫外線吸収剤
透明基材層に含まれうる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシベンゾフェノン系化合物またはサリチル酸フェニルエステル系化合物等でありうる。それらの例には、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類が含まれる。

これらのなかでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいことから、比較的少量の添加で効果的に耐候性が得られやすい。このため、紫外線吸収剤の分子量は、２５０〜１０００であることが好ましく、４００〜８００であることがより好ましい。

分子量が４００以上の紫外線吸収剤の例には、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが含まれる。これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのなかでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が好ましい。

紫外線防止剤の含有量は、透明基材層中に質量割合で０．００１％〜５％であることが好ましく、０．１〜３％であることがさらに好ましい。

さらに、透明基材層は、成形加工時の熱による分解や着色を抑制するために、各種の酸化防止剤を含んでもよい。また、透明基材層は、帯電防止性能を付与するためなどから、帯電防止剤をさらに含んでもよい。

マット剤
透明基材層は、滑り性を付与するためにマット剤をさらに含有してもよい。マット剤は、無機微粒子または有機微粒子でありうる。

無機微粒子を構成する無機化合物の例には、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等が含まれる。なかでも、セルロースエステルと屈折率が近く、フィルムの透明性（ヘイズ）に優れる二酸化珪素が好ましい。

二酸化珪素の例には、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、Ｒ２０２（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥＰ−１０、ＫＥＰ−３０、ＫＥＰ−５０（以上、株式会社日本触媒製）などが含まれる。

粒子の形状は、特に制限されず、不定形、針状、扁平、球状等でありうる。なかでも、得られる透明基材層の透明性が良好であることから、球状の粒子が好ましい。

粒子の大きさは、可視光の波長に近いと光が散乱し、透明性が低下するため、可視光の波長より小さいことが好ましく、さらに可視光の波長の１／２以下であることが好ましい。粒子の大きさが小さすぎると、滑り性が改善されない場合があるので、８０ｎｍから１８０ｎｍの範囲であることが好ましい。粒子の大きさとは、粒子が１次粒子の凝集体の場合は、凝集体の大きさを意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。

マット剤の含有量は、セルロースエステルに対して０．０５〜１．０質量％程度とすることができ、好ましくは０．１〜０．８質量％としうる。

透明基材層の厚みは、偏光板の厚みが後述する範囲に調整される範囲であればよい。具体的には、熱などによる偏光板の収縮を低減し、表示装置のベンドムラを抑制するためなどから、一定以下であることが好ましく、１０〜８０μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１０〜３５μｍであることがさらに好ましい。

透明基材層の厚みは、偏光子の厚みの８０〜４０００％とすることができ、好ましくは８０〜１８００％としうる。

透明基材層は、溶融流延法または溶液流延法で製造されうる。なかでも、可塑剤などの添加剤を厚み方向に偏在させやすいことから、透明基材層は、溶液流延法で製造されることが好ましい。

即ち、溶液流延法による透明基材フィルムの製造は、例えば１）主成分となるセルロースエステルまたは（メタ）アクリル樹脂と、可塑剤などの添加剤とを溶剤に溶解させてドープを得る工程、２）該ドープを無端状の金属支持体上に流延する工程、３）流延されたドープを乾燥させて得られる膜状物を、金属支持体から剥離する工程、必要に応じて４）膜状物を延伸する工程を経て行われうる。

１）のドープの調製に用いられる有機溶媒は、セルロースエステルや（メタ）アクリル樹脂などの樹脂成分と添加剤などとを同時に溶解するものであれば、任意のものであってよい。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレンが挙げられる。非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等が挙げられる。なかでも、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンなどが好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中にアルコールを含有させることで、膜状物がゲル化しやすく、金属支持体からの剥離が容易になる。炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。

透明基材層の厚み方向に、可塑剤を偏在させるためには、セルロースエステル、可塑剤および溶剤の、Ｆｅｄｏｒｓの溶解度パラメーターの値（ＳＰ値）を、それぞれＳＰ_Ｃ、ＳＰ_Ｇ、ＳＰ_Ｓとしたとき、下記の関係を満たすように各材料を選択することが好ましい。ＳＰ値の差の絶対値が小さいほど、物質同士が溶解しやすいことを意味する。
｜ＳＰ_Ｇ−ＳＰ_Ｃ｜＞｜ＳＰ_Ｇ−ＳＰ_Ｓ｜

ＳＰ値は、Ｆｅｄｏｒｓのパラメーターを用いて計算で求めることが好ましい。ＳＰ値の単位は、凝集エネルギー密度△Ｅをモル体積Ｖで除した値の平方根で、「（ｃｍ^３／ｃａｌ）１／２」を用いることができる。Ｆｅｄｏｒｓのパラメーターは、参考文献：コーティングの基礎科学 原田勇次著 槇書店（１９７７）のｐ５４〜５７に記載されている。

金属支持体上でドープを乾燥させるとき、ドープの、金属支持体に接していない面（空気と接する面）から溶剤が蒸発する。そのため、ドープの金属支持体と接する面近傍の溶剤濃度が、金属支持体と接しない面（空気と接する面）近傍の溶剤濃度よりも高くなり、ドープの厚み方向に溶剤の濃度勾配が生じる。主成分となる樹脂（セルロースエステルまたは（メタ）アクリル樹脂）よりも溶剤との親和性が高い可塑剤を選択することで、可塑剤を、（溶剤濃度が高い）金属支持体と接する面近傍に多く存在させることができる。

２−２）防湿層
防湿層は、保護フィルムの透湿度を低下させるために、透明基材層上に直接または他の層（下塗り層など）を介して設けられうる。防湿層は、塩化ビニル樹脂を含む層、層状無機化合物を含む層、無機薄膜、ハードコート層、防眩層、反射防止層などであってよい。中でも、透湿度を低減する効果が高いことから、好ましくは塩化ビニル樹脂を含む層、層状無機化合物を含む層、または無機薄膜であり；より好ましくは塩化ビニル樹脂を含む層または無機薄膜である。

塩化ビニル樹脂を含む層
塩化ビニル樹脂は、塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位を含む重合体であり；塩素含有ビニル単量体の単独重合体、または塩素含有ビニル単量体とそれと共重合可能な他の単量体との共重合体でありうる。塩素含有ビニル単量体の例には、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが含まれる。

共重合可能な他の単量体の例には、オレフィン類、スチレン類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸エステル類、フマル酸ジエステル類、Ｎ−アルキルマレイミド類、無水マレイン酸、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類、不飽和カルボン酸類等から選ばれる単量体が挙げられる。

オレフィン類の例には、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、イソプレン、クロロプレン等が挙げられる。スチレン類の例には、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレンなどが含まれる。（メタ）アクリル酸エステルの例には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレートなどが含まれる。（メタ）アクリルアミド類の例には、（メタ）アクリルアミド、メチル（メタ）アクリルアミド、エチル（メタ）アクリルアミドなどが含まれる。

ビニルエーテル類の例には、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなどが含まれる。ビニルエステルの例には、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレートなどが含まれる。ビニルケトン類の例には、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが含まれる。

イタコン酸ジエステル類の例には、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチルなどが含まれ；マレイン酸ジエステル類の例には、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチルなどが含まれ、フマル酸ジエステル類の例には、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなどが含まれる。グリシジルエステル類の例には、グリシジル（メタ）アクリレートなどが含まれる。不飽和ニトリル類の例には、アクリロニトリルなどが含まれる。不飽和カルボン酸の例には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などが含まれる。

塩化ビニル樹脂における、塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位の含有割合は、５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９８質量％であることがより好ましく、７０〜９７質量％であることがさらに好ましい。塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位の含有割合が５０質量％以上であれば、防湿層の透湿度を十分に下げやすい。塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位の含有割合が９９質量％以下であれば、溶剤への溶解性が得られやすい。

塩化ビニル樹脂は、旭化成ケミカルズ（株）、呉羽化学（株）の市販品であってもよい。旭化成ケミカルズ（株）の市販品の例には、「サランレジンＲ２４１Ｃ」、「サランレジンＦ２１６」、「サランレジンＲ２０４」、「サランラテックスＬ５０２」、「サランラテックスＬ５２９Ｂ」、「サランラテックスＬ５３６Ｂ」、「サランラテックスＬ５４４Ｄ」、「サランラテックスＬ５４９Ｂ」、「サランラテックスＬ５５１Ｂ」、「サランラテックスＬ５５７」、「サランラテックスＬ５６１Ａ」、「サランラテックスＬ１１６Ａ」、「サランラテックスＬ４１１Ａ」、「サランラテックスＬ１２０」、「サランラテックスＬ１２３Ｄ」、「サランラテックスＬ１０６Ｃ」、「サランラテックスＬ１３１Ａ」、「サランラテックスＬ１１１」、「サランラテックスＬ２３２Ａ」、「サランラテックスＬ３２１Ｂ」などが含まれる。ケトン類溶媒（メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）に可溶である点では、サランレジンＦ２１６が好ましい。結晶性が高く、防湿層の透湿度を十分に下げやすい点では、サランレジンＲ２０４が好ましい。

塩化ビニル樹脂の含有量は、塩化ビニル樹脂を含む層全体に対して、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましい。

塩化ビニル樹脂を含む層は、必要に応じて劣化防止剤や、ブロッキングを抑制するための有機または無機微粒子をさらに含んでもよい。

例えば、塩化ビニル樹脂は、熱、光、紫外線によって分解され、着色しやすいことから、塩化ビニル樹脂を含む層は、劣化防止剤をさらに含むことが好ましい。劣化防止剤の例には、酸化防止剤、紫外線吸収剤などが含まれる。酸化防止剤の例には、クマロン系化合物、クマラン系化合物、フェノール系化合物（例えばヒンダードフェノール類）、ハイドロキノン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系化合物が含まれる。紫外線吸収剤の例には、前述と同様のものが含まれる。

無機微粒子は、前述のマット剤と同様のものを用いることができる。有機粒子は、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、組み合わされる樹脂との屈折率差が０．００１以上０．３以下になるものが好ましい。有機粒子の例には、架橋ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）などが含まれる。

層状無機化合物を含む層
層状無機化合物を含む層は、層状無機化合物と、それを保持するためのバインダ樹脂とを含む。

層状無機化合物は、原子が共有結合等によって強く結合して密に配列したシートが、ファンデルワールス力、静電気力などによってほぼ平行に積み重なった構造を有し；層間に溶媒を配位または吸収して、膨潤またはへき開する性質を示す無機化合物をいう。

層状無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えばスメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スチブンサイトなど）、バーミキュライト群粘土鉱物（バーミキュライトなど）、カオリン型鉱物（ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイトなど）、フィロケイ酸塩（タルク、パイロフィライト、マイカ、マーガライト、白雲母、金雲母、テトラシリリックマイカ、テニオライトなど）、ジャモン石群鉱物（アンチゴライトなど）、緑泥石群鉱物（クロライト、クックアイト、ナンタイトなど）などが含まれる。これらの膨潤性層状無機化合物は、天然物でも合成物でもよい。

層状無機化合物は、有機化処理がさらに施されたものであってもよい。有機化処理は、有機オニウムイオン（例えばモノアルキルの１級〜４級のアンモニウムイオン）からなる有機化剤を、層状無機化合物に添加して行うことができる。

層状無機化合物は、透明基材層との密着性を高める観点などから、微粒子化処理が施されていてもよい。微粒子化処理された層状無機化合物は、通常、板状または扁平状であり、無定形状などであってもよい。

層状無機化合物の平面形状の平均粒子径は、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜８μｍがより好ましく、０．８〜６μｍが更に好ましい。粒径が０．１μｍより小さいと、透湿度の低減効果が充分でなく；粒径が１０μｍより大きいと、ヘイズや表面粗さなどが増大するおそれがある。

平面形状の平均粒子半径とは、一般的な粒度分布計、例えば、光散乱方式の粒度分布計（日機装社製「マイクロトラックＵＰＡ」）で測定される粒子半径分布値のうち、その値を有する粒子数が最も多くなる粒子半径である。

バインダ樹脂は、透湿性が比較的低い樹脂であればよく、好ましくはポリビニルアルコール系重合体でありうる。ビニルアルコール系重合体の例には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの単独重合体や、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）などが含まれる。これらのビニルアルコール系重合体は、その一部がカルボニル変性、シラノール変性、エポキシ変性、アセトアセチル変性、アミノ変性またはアンモニウム変性されていてもよい。

ビニルアルコール系重合体の鹸化度は、８０モル％以上であることが好ましく、９５モル％以上であることがさらに好ましい。ビニルアルコール系重合体の重合度は、透湿度、塗布性の点から、１００〜５０００が好ましく、２００〜４０００がより好ましく、２００〜３０００程度がさらに好ましい。

ビニルアルコール系重合体は、必要に応じてチタン化合物などの架橋剤で架橋されていてもよい。

層状無機化合物を含む層は、前述と同様に、必要に応じて劣化防止剤や、有機または無機微粒子などをさらに含んでもよい。

層状無機化合物の含有量は、バインダ樹脂（好ましくはビニルアルコール系重合体）に対して、２〜２０質量％が好ましく、３〜１０質量％がより好ましい。層状無機化合物の濃度が２質量％未満であると、透湿度の低減効果が充分でなく；層状無機化合物の濃度が２０質量％超であると、ヘイズが増加したり、脆性が高くなったりすることがある。

塩化ビニル樹脂を含む層および層状無機化合物を含む層の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、１〜７μｍであることがより好ましく、１〜３μｍであることがさらに好ましい。塩化ビニル樹脂を含む層の厚みが大きすぎると、得られる保護フィルムにカールが生じることがある。一方、塩化ビニル樹脂を含む層の厚みが小さすぎると、保護フィルムの透湿度を十分には下げられないことがある。防湿層は、一層のみであってもよいし、二層以上であってもよい。

塩化ビニル樹脂を含む層および層状無機化合物を含む層は、前述した各成分と溶媒とを含む塗布液（防湿層用塗布液）を、透明基材層上に塗布した後、乾燥させて得ることができる。

透明基材層と防湿層との接着性を高めるために、透明基材層は、易接着処理されていてもよい。易接着処理の例には、アルカリ鹸化処理、コロナ処理などが含まれ、好ましくはアルカリ鹸化処理である。また、透明基材層上に、接着性を高めるための後述の下塗り層が形成されてもよい。

塗布液に含まれる溶媒は、特に制限されないが、透明基材層（好ましくはセルローストリアセテート）を溶解または膨潤させうる溶剤、透明基材層を溶解しない溶剤、水、またはそれらの混合溶媒でありうる。

透明基材層（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解または膨潤させうる溶媒の例には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフランなどの炭素原子数３〜１２のエーテル類；
アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノンなどの炭素原子数が３〜１２のケトン類；
蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、及びγ−ブチロラクトン等の炭素数が３〜１２のエステル類などが含まれる。

透明基材層（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解しない溶媒の例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール系溶剤が含まれる。

ラテックスではない塩化ビニル樹脂を含む層を得るためには、例えばテトラヒドロフランもしくは、メチルエチルケトンやシクロヘキサノンなどのケトン系溶剤を用いることが好ましく；塩化ビニル樹脂ラテックスを含む層を得るためには、水を用いることが好ましい。層状無機化合物と、ポリビニルアルコール系重合体とを含む防湿層を得るためには、例えば水とアルコール系溶剤の混合溶媒を用いることが好ましい。

無機薄膜
無機薄膜は、金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物を主成分として含有することが好ましい。このような無機薄膜が形成された透明基材層は、水分透過性が低減されうる。「金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物を主成分として含有する」とは、金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物を、無機薄膜中８０％以上の割合で含むことを意味する。

金属酸化物、金属窒化物あるいは金属酸窒化物の例には、ケイ素、ジルコニウム、チタン、タングステン、タンタル、アルミニウム、亜鉛、インジウム、クロム、バナジウム、スズ、およびニオブからなる群より選ばれる１種類以上の元素の酸化物、窒化物または酸窒化物が含まれる。具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化スズ、アルミナ等の金属酸化物；窒化珪素等の金属窒化物；酸窒化珪素、酸窒化チタン等の金属酸窒化物等が挙げられる。なかでも、水分透過性が特に低いことから、無機薄膜は、酸化珪素を主成分として含有すること；具体的には、酸化珪素を無機薄膜の８０質量％以上の割合で含有することが好ましい。

酸化珪素を主成分として含む無機薄膜は、透明性が高いものの、水分等のバリア性をさらに向上させるためなどから、窒素原子をさらに含んでもよい。窒素源としては、後述するシラザンや窒素ガス等を用いることができる。ただし、窒素原子の含有比率を高めると、膜のバリア性は向上するが、逆に光透過率が低下しやすい。そのため、例えば酸窒化珪素や酸窒化チタンを主成分とする無機薄膜は、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙのｘおよびｙが下記式を満たすように調整し、無機薄膜の光透過性を過剰に低下させないことが好ましい。例えば、ｘ＝０である場合、即ちＳｉＮは、光透過性が極めて低い。
０．４≦ｘ／（ｘ＋ｙ）≦０．８

無機薄膜中の酸素原子や窒素原子の含有比率は、ＸＰＳ（ＶＧサイエンティフィック社製ＥＳＣＡＣＡＢ−２００Ｒ）を用いて測定できる。

無機薄膜は、例えば、ゾルゲル法といわれる溶液を塗設する方法、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ法等で形成されうる。なかでも、スパッタリングやプラズマＣＶＤ法により形成されることが好ましい。プラズマＣＶＤ法は、大気圧若しくはその近傍の圧力下で行われうる。大気圧近傍とは、２０ｋＰａ〜１１０ｋＰａ、好ましくは９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａの範囲の圧力を示す。

大気圧プラズマ法では、有機金属化合物を反応性ガスとして用い、対向する電極間でプラズマ状態とした反応性ガスに透明基材フィルムを曝すことで、透明基材フィルム上に薄膜を形成する。大気圧プラズマ法は、緻密な膜を形成でき、反応性ガスの種類やプラズマ発生条件などによって膜の物性を調整できるため好ましい。

反応性ガスは、例えば有機金属化合物や金属水素化合物のガスでありうる。有機金属化合物や金属水素化合物は、常温常圧で、気体、液体、固体いずれの状態であってもよい。これらの化合物が気体である場合は、そのまま放電空間に導入でき；液体または固体である場合は、加熱、減圧、超音波照射等により気化させて用いることができる。また、これらの化合物を溶媒で希釈して使用してもよい。溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサンなどの有機溶媒およびこれらの混合溶媒を使用することができる。希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において、分子状、原子状に分解されるため、これらの膜特性への影響はほとんど無視できる。

酸化珪素を主成分として含む無機薄膜を得るための有機金属化合物は、腐食性や有害ガスの発生がないことなどから、例えば下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。

一般式（I）中、Ｒ_２１〜Ｒ_２６は、水素原子または１価の基を表す。ｎ１は自然数を表す。一般式（I）で表される化合物の例には、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン等が含まれる。

一般式（II）中、Ｒ_３１およびＲ_３２は、水素原子または１価の基を表す。ｎ２は自然数を表す。一般式（II）で表される化合物の例には、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等が挙げられる。

一般式（III）中、Ｒ_４１およびＲ_４２は、水素原子または１価の基を表す。ｎは、０から３までの整数を表す。一般式（III）で表される有機珪素化合物の例には、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−へキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が含まれる。

一般式（IV）中、Ａは、単結合あるいは２価の基を表す。Ｒ_５１〜Ｒ_５５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環基、アミノ基またはシリル基を表す。Ｒ_５１およびＲ_５２、Ｒ_５４およびＲ_５５は縮合して環を形成していてもよい。

一般式（IV）において、Ａとして好ましくは単結合あるいは、炭素数１〜３の２価の基である。Ｒ_５４およびＲ_５５は縮合して環を形成していてもよく、形成される環の例には、ピロール環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾール環等が含まれる。Ｒ_５１〜Ｒ_５３は、好ましくは水素原子、メチル基またはアミノ基である。

一般式（IV）で表される化合物の例には、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、１−トリメチルシリルピロール、１−トリメチルシリルピロリジン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、アニリノトリメチルシラン、２−ピペリジノエチルトリメチルシラン、３−ブチルアミノプロピルトリメチルシラン、３−ピペリジノプロピルトリメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、１−トリメチルシリルイミダゾール、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ブチルアミノ）ジメチルシラン、２−アミノエチルアミノメチルジメチルフェニルシラン、３−（４−メチルピペラジノプロピル）トリメチルシラン、ジメチルフェニルピペラジノメチルシラン、ブチルジメチル−３−ピペラジノプロピルシラン、ジアニリノジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン等があげられる。

一般式（IV）は、一般式（Ｖ）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｖ）中、Ｒ_６１〜Ｒ_６６は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基または芳香族複素環基を表す。Ｒ_６１〜Ｒ_６６は、気化を容易にする観点から、好ましくは炭素数１〜１０の炭化水素基であり、より好ましくはＲ_６１〜Ｒ_６３のうち少なくとも２つおよびＲ_６４〜Ｒ_６６のうち少なくとも２つがメチル基である。

一般式（Ｖ）で表される化合物の例としては、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビス（クロロメチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン等が挙げられる。

酸化スズを形成するための有機金属化合物や金属水素化合物は、例えばジブチル錫ジアセテート等が挙げられる。さらに、酸素ガスや窒素ガスを所定割合で上記有機金属化合物と組み合わせることで、酸素原子と窒素原子の少なくともいずれかと、珪素または錫等の金属原子とを含有する膜を得ることができる。

さらに、膜中の炭素含有率を調整するために、前述のように混合ガス中に水素ガスや不活性ガスを混合してもよい。不活性ガスの例には、周期表の第１８属原子、具体的にはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が含まれ；好ましくはヘリウム、アルゴンである。

不活性ガスと反応性ガスの割合は、得ようとする膜の性質によって異なるが、混合ガス全体に対し、不活性ガスの割合を９０．０〜９９．９％とすることが好ましい。

例えば、反応性ガスとしてシラザンを用いることで、酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）を含む膜を得ることができる。Ｓｉ源としては、上記のような有機珪素化合物だけでなく、無機珪素化合物を用いてもよい。酸素源としては、酸素ガス以外にオゾン、二酸化炭素、水（水蒸気）等を用いてもよいし；窒素源としては、シラザンや窒素ガス以外に、アンモニア、窒素酸化物等を用いてもよい。

無機薄膜は、ある程度の厚みがなければ、水分のバリア性が充分でない。一方で、厚みが大きすぎると、水分のバリア性には優れるがクラックが生じやすい。そのため、無機薄膜の厚みは、３０ｎｍ〜１５００ｎｍ、好ましくは７０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。

従って、一定以上の厚みを有する無機薄膜を塗布によって一度に形成しやすい点では、ゾルゲル法が有効である。また、緻密な膜が得られやすい点では、スパッタリングや大気圧またはその近傍下でのプラズマＣＶＤ法が有効である。プラズマＣＶＤ法で一定以上の厚みの無機薄膜を得るためには、プラズマ処理の回数や時間を増やせばよい。

（プラズマ製膜装置）
無機薄膜は、前述の通り、大気圧またはその近傍下でのプラズマＣＶＤ法で形成されうる。プラズマ製膜装置は、種々のものを用いることができる。長尺状の透明基材フィルム上への無機薄膜の形成に適したプラズマ製膜装置の例を、以下説明する。

図１は、プラズマ製膜装置５０の概略構成図を示す。図１に示されるように、プラズマ製膜装置５０は、プラズマ放電処理室３０と、ガス発生装置５１と、プラズマ放電処理室３０内の電極間に電圧を印加する電源４１と、電極冷却ユニット５５とを含む。

プラズマ放電処理室３０は、主にロール電極２５と、その外周に設けられた複数の固定電極３６と、複数の固定電極３６を囲むように設けられた放電容器１１とを含む。

ロール電極２５は、長尺状の透明基材フィルムを支持する。複数の固定電極３６は、ロール電極２５の周面と対向するように配置され、それぞれ筒状に構成されている。複数の固定電極３６は、図１に示されるように角型状であってもよいし、図２に示されるように円筒状であってもよい。

後述する電圧や電力を印加するためには、ロール電極２５と固定電極３６の少なくとも一方；好ましくは両方が、金属母材上に誘電体を被覆したものであることが好ましい。誘電体は、非誘電率が６〜４５の無機物であることが好ましい。

ロール電極２５と固定電極３６との間のギャップ（最短距離）は、いずれも均一な放電を行う観点から、０．５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、特に好ましくは１ｍｍ±０．５ｍｍである。この距離は、電極表面の誘電体の厚みや印加電圧の大きさなどを考慮して設定される。

プラズマ処理は、透明基材フィルムＦを、ロール電極２５と固定電極３６との間に固定あるいは搬送させながら行う。そのため、透明基材フィルムＦをロール電極２５に接して搬送できるようにし；さらにロール電極２５または固定電極３６に設けられた誘電体表面を研磨仕上げして表面粗さＲｍａｘ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１）を１０μｍ以下にすることで、誘電体の厚みおよび電極間のギャップを一定に保ち、放電状態を安定化させることが好ましい。さらに、ロール電極２５と固定電極３６の少なくとも一方を、誘電体の熱収縮差や残留応力による歪みやひび割れがなく、かつノンポーラスな高精度の無機誘電体で被覆することで、耐久性を顕著に向上させうる。

金属母材上に誘電体被覆を形成するには、前述のように、誘電体表面を研磨仕上げすることや、電極の金属母材と誘電体間の熱膨張の差をなるべく小さくすることが必要である。そのため、金属母材の表面に、応力を吸収できる層として泡混入量をコントロールして無機質の材料をさらにライニングすることが好ましい。そのような無機質の材料の例には、特に琺瑯等で知られる溶融法により得られるガラスであることが好ましい。さらに、金属母材に接する最下層の泡混入量を２０〜３０体積％とし、その上に積層される層を５体積％以下とすることで、緻密かつひび割れ等のない良好な電極を得ることができる。

また、金属母材を誘電体で被覆する別の方法として、セラミックスの溶射を空隙率１０ｖｏｌ％以下まで緻密に行い、さらにゾルゲル反応により硬化する無機質の材料にて封孔処理を行うことがあげられる。ゾルゲル反応の促進には、熱硬化やＵＶ硬化がよく、さらに封孔液を希釈し、コーティングと硬化を逐次で数回繰り返すと、より一層無機質化が向上し、劣化のない緻密な電極ができる。

図３（ａ）および図３（ｂ）は、ロール電極２５の一例を示す図である。アース電極であるロール電極２５ｃは、図３（ａ）に示すように、金属等の導電性母材２５ａと、その周面にセラミックスを溶射した後、無機材料を用いて封孔処理して設けられたセラミック被覆処理誘電体２５ｂとを含む。ロール電極２５ｃは、図示しないドライブ機構により軸部２５ｄを中心に回転駆動可能に構成されている。

ロール電極２５は、アースに接地される。導電性母材２５ａの周面に設けられるセラミック被覆処理誘電体２５ｂの厚みは、１ｍｍ程度とし、ロール電極２５ｃのロール径が２００φとなるように設定されうる。

金属等の導電性母材２５ａとしては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等が挙げられるが、加工の観点からステンレスが好ましく、冷却水による冷却手段を有するステンレス製ジャケットロール母材がより好ましい。溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ・窒化珪素等が好ましく用いられるが、この中でもアルミナが加工しやすいので、さらに好ましく用いられる。

図３（ｂ）に示すように、ロール電極２５Ｃは、金属等の導電性母材２５Ａと、その周面に設けられたライニング材（無機材料）からなるライニング処理誘電体２５Ｂとを含む。ロール電極２５Ｃは、図示しないドライブ機構により、軸部２５Ｄを中心に回転駆動可能に構成されている。

導電性母材２５Ａは、前述と同様としうる。ライニング材としては、珪酸塩系ガラス、硼酸塩系ガラス、リ酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩系ガラス、バナジン酸塩ガラスが好ましく用いられるが、この中でもホウ酸塩系ガラスが加工しやすいので、さらに好ましく用いられる。

図４（ａ）は、固定電極３６の概略斜視図を示す。固定電極３６は、角柱形状に限らず、図４（ｂ）に示されるように円筒状でもよい。角柱型の固定電極３６は、円柱型の固定電極２６に比べて放電範囲を広げられることから、求められる膜の特性に応じて好ましく用いられる。

固定電極３６（または２６）は、いずれも前述のロール電極２５ｃ（または２５Ｃ）と同様に構成されうる。即ち、固定電極３６（または２６）は、中空のステンレスパイプ２６ａ（または３６ａ）と、その周囲を被覆する誘電体２６ｂ（または３６ｂ）とを含み；放電中は冷却水による冷却が行えるようになっている。

誘電体２６ｂおよび３６ｂは、セラミック被覆処理誘電体であってもよいし、ライニング処理誘電体であってもよい。

固定電極３６（または２６）は、誘電体の被覆後の径が１２φまたは１５φとなるように製作される。固定電極３６（または２６）は、例えば上記ロール電極２５の円周上に沿って１４本設置されうる。

放電容器１１は、混合ガスの給気口１２と、処理後のガスの排気口１３とを有するパイレックス（登録商標）ガラス製などの容器でありうる。放電容器１１は、複数の固定電極３６と絶縁されていれば、金属で構成されてもよい。例えば、アルミニウムまたはステンレス製の金属フレームの内面にポリイミド樹脂層が設けられたものであってもよく、該金属フレームにセラミックス溶射を行い、複数の固定電極３６と絶縁させてもよい。

放電容器１１のフィルムの搬入口付近には、ニップローラ１５および１５が配置され、その近傍には仕切板１４が配置される。同様に、放電容器１１のフィルムの搬出口付近には、ニップローラ１６が配置され、その近傍に仕切板１４がさらに配置される。それにより、透明基材フィルムＦに同伴する空気が、放電容器１１内に進入するのを抑制しうる。放電容器１１内に同伴される空気は、放電容器１１内の気体の全体積に対し、１体積％以下に抑えることが好ましく、０．１体積％以下に抑えることがより好ましい。

電源４１は、特に限定はないが、ハイデン研究所製インパルス高周波電源（連続モードで使用１００ｋＨｚ）、パール工業製高周波電源（２００ｋＨｚ）、パール工業製高周波電源（８００ｋＨｚ）、日本電子製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ）、パール工業製高周波電源（１５０ＭＨｚ）等が使用できる。

電極冷却ユニット５５は、冷却剤の入ったタンク５７とポンプ５６とを含む。冷却剤としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が用いられる。

このように構成されたプラズマ製膜装置５０では、プラズマ放電処理室３０内に、ロール電極２５、固定電極３６を所定位置に配置し；ガス発生装置５１で発生させた混合ガスを流量制御して、給気口１２より供給する。そして、放電容器１１内をプラズマ処理に用いる混合ガスで充填し、不要分については排気口１３より排気する。

そして、長尺状の透明基材フィルムのロール体ＦＦから、ロール５４、５４、５４を介して透明基材フィルムＦを供給し、ガイドロール２４を介して、プラズマ放電処理室３０内に搬送する。そして、透明基材フィルムＦをロール電極２５に接触させた状態で、ロール電極２５と固定電極３６との間に導入する。次いで、電源４１により固定電極３６に電圧を印加し、ロール電極２５はアースに接地し、放電プラズマを発生させる。

電極間に印加する電圧は、高いプラズマ密度を得て製膜速度を大きくし、さらに炭素含有率を所定割合内に制御するために、高周波電圧で、大きな電力を供給することが好ましい。具体的には、３ｋＨｚ以上１３．５６ＭＨｚ以下の高周波電圧を印加することが好ましく、１０ｋＨｚ以上であればさらに好ましく、５０ｋＨｚ以上であればさらに好ましく、１００ｋＨｚ以上であればより一層好ましい。また、電極間に供給する電力の下限値は、１Ｗ／ｃｍ^２以上５０Ｗ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、２Ｗ／ｃｍ^２以上であればより一層好ましい。電極における電圧の印加面積（ｃｍ^２）は、放電が起こる範囲の面積のことである。また、電極間に印加する高周波電圧は、断続的なパルス波であっても、連続したサイン波であってもよいが、製膜速度が大きくなることから、サイン波であることが好ましい。

放電プラズマにより透明基材フィルムＦの表面を放電処理した後、ガイドロール２７を介して次工程に搬送する。透明基材フィルムＦは、ロール電極２５に接触していない面のみが放電処理される。

また、放電時の高温による悪影響を抑制するため、必要に応じて、透明基材フィルムＦの温度を常温（１５℃〜２５℃）〜２００℃未満、さらに好ましくは常温〜１００℃内にできるように、電極冷却ユニット５５で冷却する。

このようなプラズマ製膜装置を用いることで、大気圧プラズマ法により、無機薄膜を形成できる。

図５は、プラズマ製膜装置の他の例を示す概略構成図である。この装置は、予めプラズマ状態にした反応性ガスを、透明基材フィルム上に噴射して薄膜を形成するものである。図５に示されるように、プラズマ製膜装置６０は、一対の平板状の金属母材３５ｂと、その表面に設けられた一対の誘電体３５ａと、一対の金属母材３５ｂ間に電圧を印加するための電源６５とを含む。金属母材３５ｂ、誘電体３５ａおよび電源６５は、それぞれ前述と同様のものが用いられる。

一対の金属母材３５ｂ間に形成されたスリット状の放電空間に、上部から不活性ガスおよび反応性ガスからなる混合ガスを導入し、電源６５により高周波電圧を印加する。それにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、該プラズマ状態の反応性ガスを透明基材フィルム６１上に噴射して、薄膜を形成することができる。

また、Ｊ．Ｓｏｌ−Ｇｅｌ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈ．，ｐ１４１〜１４６（１９９８）に開示されているように、無機薄膜のひび割れ（クラック）防止のため、無機薄膜上に各種コーティング材を塗布して、クラックを封止し、一層の透湿度の低減を図ることができる。

防湿層は、透明基材層の偏光子側の面またはそれとは反対側の面に配置されうる。なかでも、外部から加わる機械的な衝撃などによって防湿層が損傷を受けて欠陥を生じ、それによる防湿効果の低下を抑制するためなどから、防湿層は、透明基材層の偏光子側の面（偏光子と対向する面）に配置されることが好ましい。

防湿層は、保護フィルムに低透湿性を付与する観点から、透湿度は一定以下であることが好ましい。具体的には、厚み５μｍの防湿層の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は１０〜２００ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることが好ましく、１０〜１５０ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることがより好ましい。

厚み５μｍの防湿層の透湿度は、以下の方法で測定されうる。即ち、ポリフッ化ビニリデン基板上に、防湿層用塗布液を押し出して塗布した後、６０〜１１０℃で３〜１０分乾燥させて膜厚５μｍの被覆膜を形成する。得られた被覆膜を基板から剥離した後、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により測定する。そして、面積１ｍ^２当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求める。

保護フィルムに含まれる防湿層の、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は、１０〜１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることが好ましく、１０〜８０ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることがより好ましい。保護フィルムに含まれる防湿層の透湿度は、保護フィルムから防湿層部分を剥離した後；得られる膜の透湿度を、前述と同様にしてＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法で測定すればよい。

防湿層のヘイズは、得られる保護フィルムの透明性を確保するためなどから、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。

２−３）保護フィルムの物性
（透湿度）
保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は、１０〜１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることが好ましく、１０〜８０ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることがより好ましく、２０〜７０ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることがさらに好ましい。保護フィルムの透湿度が１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙを超えると、透過水分により偏光子が劣化しやすいため、保護フィルムの厚みを大きくする必要がある。一方、保護フィルムの透湿度が１０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満であると、保護フィルム内に取り込まれた水分が抜けにくいため、偏光子の劣化を抑制できないことがある。

保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠した方法（カップ法）で測定されうる。保護フィルムの透湿度は、防湿層がカップの外側となるように配置して測定される。

保護フィルムの透湿度は、防湿層の種類および厚み、透明基材層の種類および厚みなどで調整されうる。

（ヘイズ）
保護フィルムのヘイズ値は、１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがさらに好ましい。保護フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）にて測定されうる。

（レターデーション）
保護フィルムは、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される面内方向のレターデーションＲ_０は、０≦Ｒ_０≦２０ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒ_０≦１０ｎｍを満たすことがより好ましい。保護フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される厚み方向のレターデーションＲｔｈは、０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦８０ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍを満たすことがより好ましい。このようなレターデーション値を有する保護フィルムは、後述するように、液晶表示装置の保護フィルム（Ｆ１またはＦ４）として好ましく用いられる。

Ｒ_０およびＲｔｈは、セルロースエステルのアシル基の総置換度や延伸条件などによって調整することができる。Ｒ_０を小さくするためには、例えばセルロースエステルのアシル基の総置換度を高くしたり、ＴＤ／ＭＤ方向の延伸倍率の差を小さくしたりすればよい。

レターデーションＲ_０およびＲｔｈは、それぞれ以下の式で定義される。
式（Ｉ）：Ｒ_０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、保護フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
ｎｙは、保護フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
ｎｚは、保護フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
ｄ（ｎｍ）は、保護フィルムの厚みを表す）

レターデーションＲ_０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって求めることができる。
１）保護フィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿する。調湿後の光学補償フィルムの平均屈折率をアッベ屈折計などで測定する。
２）調湿後の保護フィルムに、当該フィルム表面の法線に平行に測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのＲ_０を、ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株）にて測定する。
３）ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、保護フィルムの面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、保護フィルムの表面の法線に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定する。レターデーション値Ｒ（θ）の測定は、θが０°〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行うことができる。保護フィルムの面内の遅相軸は、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより確認することができる。
４）測定されたＲ_０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長５９０ｎｍでのＲｔｈを算出する。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。

保護フィルムの面内遅相軸とフィルムの幅方向とのなす角θ１（配向角）は、好ましくは−１°〜＋１°であり、さらに好ましくは−０．５°〜＋０．５°である。保護フィルムの配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器）を用いて測定することができる。

保護フィルムは、全光線透過率が好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９３％以上である。

（３）位相差フィルム（Ｆ２またはＦ３）について
偏光子の、前述の保護フィルムが配置される面とは反対側の面には、位相差フィルムが配置されることが好ましい。

保護フィルムが配置される面とは反対側の面に配置される位相差フィルム（Ｆ２、Ｆ３）の材料は、透明性に優れ、位相差調整剤などの添加剤、延伸などの生産プロセス条件により、ＶＡモード液晶パネルやＩＰＳモード液晶パネルなどに求められる位相差に比較的調整しやすいことなどから、例えばセルロースエステル樹脂、シクロオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂などでありうる。これらの中でも、例えばＶＡモード液晶パネルに求められる位相差に調整しやすい点などから、セルロースエステル樹脂やシクロオレフィン樹脂などが好ましい。

セルロースエステル
位相差フィルムに含まれるセルロースエステルの例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどが含まれる。

セルロースエステルは、総アシル基置換度が１．５以上２．５以下であることが好ましく、下記式（ａ）と（ｂ）とを同時に満たすことがより好ましい。
式（ａ） ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦２．５
式（ｂ） ０≦Ｙ≦１．５
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはそれらの混合物の置換度を示す）

セルロースエステルの重量平均分子量は、前述の透明基材層に含まれるセルロースエステルと同様としうる。

セルロースエステルを含む位相差フィルムは、必要に応じて位相差上昇剤、可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤や、保護フィルムに含まれるものと同様の添加剤（糖エステル化合物など）をさらに含んでもよい。可塑剤、紫外線吸収剤および糖エステル化合物は、前述と同様のものを用いることができる。位相差上昇剤の例には、特開２００１−１６６１４４号の段落００１４〜０１０７に記載のトリアジン化合物、特開２０００−１１１９１４号の段落００１０〜００８５に記載の二つの芳香族環を有する化合物、特開２００４−００４５５０号の段落００２７〜００５０に記載の棒状化合物などが含まれる。

位相差上昇剤の含有量は、主成分となる樹脂（好ましくはセルロースエステル）に対して０．１〜１５質量％程度、好ましくは１〜１０質量％としうる。

シクロオレフィン樹脂
シクロオレフィン樹脂は、主鎖に脂環式構造を有するポリオレフィンでありうる。脂環式構造の例には、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが含まれる。なかでも、機械強度、耐熱性などが良好である点などから、シクロアルカン構造が好ましい。

脂環式構造を構成する炭素原子数は、通常、４〜３０程度であり、好ましくは５〜２０、より好ましくは５〜１５である。シクロオレフィン樹脂に含まれる、脂環式構造を含有する繰り返し単位の割合は、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上でありうる。

脂環式ポリオレフィン樹脂は、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、およびこれらの水素化物等でありうる。なかでも、透明性と成形性が良好であることから、ノルボルネン系樹脂が好ましい。

ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン構造を有するモノマーの開環重合体もしくはノルボルネン構造を有するモノマーと他のモノマーとの開環共重合体またはそれらの水素化物であってもよいし；ノルボルネン構造を有するモノマーの付加重合体もしくはノルボルネン構造を有するモノマーと他のモノマーとの付加共重合体またはそれらの水素化物であってもよい。

ノルボルネン構造を有するモノマーの例には、ビシクロ[２．２．１]ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ[４．３．０．１２，５]デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）などが含まれる。これらの化合物に含まれる環は、置換基をさらに有してもよい。置換基の例には、アルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体は、１種類であってもよいし、２種以上を組み合わせたものであってもよい。

ノルボルネン構造を有するモノマーと開環共重合可能な他のモノマーの例には、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンなどが含まれる。

ノルボルネン構造を有するモノマーと付加共重合可能な他のモノマーの例には、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエンなどが含まれ、好ましくはα−オレフィンであり、より好ましくはエチレンである。これらの単量体は、１種類であってもよいし、２種以上を組み合わせてもよい。

ノルボルネン系樹脂の中でも、繰り返し単位として、Ｘ：ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４−ジイル−エチレン構造と、Ｙ：トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカン−７，９−ジイル−エチレン構造とを含むことが好ましい。これらの繰り返し単位の含有量は、ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して９０重量％以上であり、かつＸの含有割合とＹの含有割合との比が、Ｘ：Ｙの重量比で１００：０〜４０：６０であることが好ましい。このような樹脂を含む位相差フィルムは、寸法変化が比較的少なく、かつ安定した光学特性を有しうる。

シクロオレフィン樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００〜１０００００、好ましくは１５０００〜８００００、より好ましくは２００００〜５００００である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度が得られ、かつ成型加工性も良好である。シクロオレフィン樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、シクロヘキサンを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー測定により、ポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）として求められる。

シクロオレフィン樹脂を含むフィルムは、所望のレターデーションを有する位相差フィルムを得るためなどから、溶融製膜法または溶液製膜法で得られる膜状物を、二軸延伸して得られることが好ましい。

位相差フィルムの厚みは、偏光板の厚みが後述する範囲を満たし、かつ所定の位相差が得られる程度であればよい。例えば、熱などによる偏光板の収縮を低減し、表示装置のベンドムラを抑制するためなどから、位相差フィルムの厚みは、一定以下に調整されていることが好ましく、例えば１０〜８０μｍ、好ましくは１０〜７０μｍ、より好ましくは１０〜３５μｍとしうる。

位相差フィルムのレターデーションは、組み合わされる液晶セルの種類に応じて設定されうる。例えば、位相差フィルムの、２３℃ＲＨ５５％下、波長５９０ｎｍで測定される面内リターデーションＲｏ（５９０）は３０〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましく、厚さ方向のリターデーションＲｔｈ（５９０）は７０〜３００ｎｍの範囲であることが好ましい。レターデーションが上記範囲である位相差フィルムは、例えばＶＡ型液晶セルなどの位相差フィルムとして好ましく用いることができる。

本発明の偏光板の好ましい構成の例には、位相差フィルム／偏光子／透明基材層／防湿層や；位相差フィルム／偏光子／防湿層／透明基材層などが含まれる。なかでも、透湿度を十分に低減しやすいことから、位相差フィルム／偏光子／透明基材層／防湿層をこの順に有する構成が好ましい。

図６は、偏光板の層構成の一例を示す模式図である。図６に示されるように、偏光板７０は、偏光子７１と、その一方の面に配置される保護フィルム７３と、他方の面に配置される位相差フィルム７５とを含み；保護フィルム７３の透明基材層７３Ａが、偏光子７１と対向するように配置され、防湿層７３Ｂが、偏光子７１と対向しないように配置されている。

前述の通り、液晶セルの基板の厚みを小さくした場合の液晶表示パネルのベンドを抑制するためには、本発明の偏光板の厚みは一定以下であることが好ましい。一方、偏光板の厚みが小さすぎても安定した偏光性能が得られにくく、液晶表示パネルのベンドを逆に抑制できない可能性もある。これらのことから、偏光板の厚みは、２５〜９０μｍであることが好ましく、４０〜７０μｍであることがより好ましい。

偏光板の厚みは、後述する液晶表示装置の液晶セルを構成する基板（好ましくはガラス基板）の厚みの３０％以下、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下としうる。

２．偏光板の製造方法
本発明の偏光板は、保護フィルムと偏光子または偏光子と位相差フィルムとを接着剤を介して貼り合わせる工程を経て製造されうる。貼り合わせに用いられる接着剤は、完全鹸化型のポリビニルアルコ−ル系接着剤、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系接着剤、または活性エネルギー線硬化性接着剤などでありうる。

得られる接着剤層の弾性率が高く、偏光板の寸法変化を抑制しやすいことなどから、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いることが好ましい。即ち、保護フィルムと偏光子とは、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層を介して接着されていることが好ましい。

活性エネルギー線硬化性接着剤の好ましい例としては、特開２０１１−０２８２３４に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、および（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の活性エネルギー線硬化性接着剤が用いられてもよい。

活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた偏光板の製造方法は、例えば１）保護フィルムの偏光子を接着する面を易接着処理する工程と、２）偏光子と保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する工程と、３）得られた接着剤層を介して偏光子と保護フィルムとを貼り合せる工程と、４）接着剤層を介して偏光子と保護フィルムとが貼り合わされた状態で接着剤層を硬化させる工程とを含む。

１）前処理工程
保護フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。偏光子の両面にそれぞれ保護フィルムを接着させる場合は、それぞれの保護フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。この前処理工程は、必要に応じて実施すればよい。

また、保護フィルムの種類によっては（例えば透明基材層の主成分がＰＥＴである場合など）、偏光子との接着性を高めるために、易接着層を設けてもよい。

易接着層は、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂またはポリアクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂の少なくとも１種類を主成分として；具体的には、易接着層を構成する固形成分のうち５０質量％以上の量で含みうる。

易接着層は、水溶性または水分散性の共重合ポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂を含む水性塗布液を塗布および乾燥させて得ることができる。塗布液は、例えば特許第３５６７９２７号などに開示されたものを用いることができる。具体的には、易接着層は、塗布液を縦方向の１軸延伸フィルムの片面または両面に塗布した後、１００〜１５０℃で乾燥し、さらに横方向に延伸して得ることができる。最終的な易接着層の塗布量は、偏光子との接着性を高め、かつブロッキングを抑制する観点などから、０．０５〜０．２０ｇ／ｍ^２とすることが好ましい。

易接着層には易滑性を付与するために粒子をさらに含有することが好ましい。微粒子の平均粒径は２μｍ以下の粒子を用いることが好ましい。粒子の平均粒径が２μｍを超えると、粒子が被覆層から脱落しやすくなる。易接着層に含有させる粒子の例には、前述のマット剤と同様のものが使用できる。

２）塗布工程
接着剤塗布工程では、偏光子と保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する。塗布方法の例には、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等の塗工方式が含まれる。また、偏光子と保護フィルムの間に、活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させた後、ロール等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。

３）貼合工程
得られた接着剤層を介して偏光子と保護フィルムとを貼り合せる。具体的には、偏光子と保護フィルムとを接着剤層を介して積層した積層物を、例えば一対のロール等で挟んで加圧して貼り合わせる。ロールの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。

４）硬化工程
硬化工程では、未硬化の活性エネルギー線硬化性接着剤に活性エネルギー線を照射して、エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む接着剤層を硬化させる。それにより、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して重ね合わせた偏光子と保護フィルムとを接着させる。偏光子の片面に保護フィルムを貼り合わせる場合、活性エネルギー線は、偏光子側または保護フィルム側のいずれから照射してもよい。

活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等を用いることができ、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般的には、電子線または紫外線が好ましく用いられる。

電子線の照射条件は、接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、保護フィルムや偏光子にダメージを与えるおそれがある。照射線量は、５〜１００ｋＧｙの範囲内、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙの範囲内である。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、保護フィルムや偏光子にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じやすい。

紫外線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。

硬化後の接着剤層の厚さは、特に限定されないが、通常、０．０１〜１０μｍであり、好ましくは０．５〜５μｍであり、より好ましくは０．５〜２μｍである。

３．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含む。そして、一対の偏光板の少なくとも一方を、本発明の偏光板としうる。

図７は、液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。図７に示されるように、本発明の液晶表示装置８０は、液晶セル９０と、それを挟持する第一の偏光板１１０および第二の偏光板１２０とを含み；必要に応じて第二の偏光板１２０と対向するように配置されたバックライト１３０をさらに含む。

液晶セル９０は、例えばＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ等の種々の表示モードのものが提案されている。高いコントラストを得るためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）モードが好ましい。

液晶セル９０は、通常、一対の基板９１および９３と、それらの間に挟持された液晶層９５とを有する。

基板９１および９３は、ガラス基板であることが好ましい。基板９１および９３の厚みは、液晶表示装置を薄型化するためなどから、一定以下であることが好ましく、０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．３〜０．５ｍｍであることがより好ましい。

例えば、ＶＡ方式の液晶セルに含まれる一対の基板９１および９３のうち、一方の基板９３は、液晶分子に電圧を印加するための画素電極が配置されうる。対向電極は、（画素電極が配置された）基板９３に配置されてもよいし、他方の基板９１に配置されてもよい。

ＶＡ方式の液晶セルに含まれる液晶層９５は、負または正の誘電率異方性を有する液晶分子を含む。一方の基板９３に画素電極が配置され、他方の基板９１に対向電極が配置される場合、液晶層９５は、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含みうる。一方の基板９３に、画素電極と対向電極の両方が配置される場合、液晶層９５は、正の誘電率異方性を有する液晶分子を含みうる。液晶分子は、基板９１または９３に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧無印加時（画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時）には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。

このようなＶＡ方式の液晶セルでは、画素電極に画像信号（電圧）を印加することで、画素電極と対向電極との間に電界を生じさせる。それにより、基板９１の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板９１面に対して水平方向となるように配向させて、各副画素の透過率などを変化させて画像表示を行う。

第一の偏光板１１０は、液晶セル９０の基板９１上に配置されており；第一の偏光子１１１と、第一の偏光子１１１の基板９１が配置された面とは反対側の面に配置された保護フィルム１１３（Ｆ１）と、第一の偏光子１１１と基板９１との間に配置された位相差フィルム１１５（Ｆ２）とを含む。第二の偏光板１２０は、液晶セル９０の基板９３上に配置されており；第二の偏光子１２１と、第二の偏光子１２１と基板９３との間に配置された位相差フィルム１２３（Ｆ３）と、第二の偏光子１２１の基板９３が配置された面とは反対側の面に配置された保護フィルム１２５（Ｆ４）とを含む。

そして、第一の偏光板１１０と第二の偏光板１２０の一方または両方；好ましくは両方が、本発明の偏光板であることが好ましい。即ち、図７に示されるように、保護フィルム１１３（Ｆ１）は、透明基材層１１３Ａと防湿層１１３Ｂとを有し；保護フィルム１２５（Ｆ４）は、透明基材層１２５Ａと防湿層１２５Ｂとを有しうる。

第一の偏光板１１０と液晶セル９０の基板９１、または第二の偏光板１２０と液晶セル９０の基板９３とは、粘着剤層（不図示）などを介して接着されうる。粘着剤層の厚みは、１〜３０μｍ程度としうる。

本発明では、基板９１上に配置された第一の偏光板１１０の厚みと、基板９３上に配置された第二の偏光板１２０の厚みの一方または両方が、一定以下に調整されている。それにより、バックライトなどの熱による、第一の偏光子１１１または第二の偏光子１２１の収縮しようとする力を少なくすることができ；液晶セル９０の基板９１または９３によって第一の偏光子１１１または第二の偏光子１２１の収縮しようとする力を抑え込むことができる。それにより、液晶セル９０の基板９１および９３が薄くても、バックライト１３０などの熱による液晶表示パネル（第一の偏光板１１０／液晶セル９０／第二の偏光板１２０）のベンドを良好に抑制でき、それによる表示ムラ（ベンドムラ）を抑制できる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

１．透明基材フィルムの作製
（１）材料
（セルロースエステル）
ＴＡＣ１：トリアセチルセルロース（アセチル基置換度２．８９、重量平均分子量Ｍｗ＝１９万）
ＣＡＰ１：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．５６、アシル基総置換度２．７５、重量平均分子量Ｍｗ＝２０万）

（可塑剤）
重縮合エステル化合物１：
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、無水フタル酸２４４ｇ、アジピン酸１０３ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込んだ。これを、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温し、重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後、２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去して、重縮合エステル化合物１（表１の化合物Ｐ１３）を得た。重縮合エステル化合物１の酸価は０．１０、数平均分子量は４５０であった。

重縮合エステル化合物２：
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、テレフタル酸３５４ｇ、ｐ−トロイル酸６８０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込んだ。これを、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温し、重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後、２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去して、重縮合エステル化合物２（表１の化合物Ｐ７）を得た。重縮合エステル化合物２の酸価は０．３０、数平均分子量は４００であった。

（紫外線吸収剤）
ＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ（株）製）

（２）透明基材フィルムの作製
［透明基材フィルムＡ１］
下記成分を混合して、ドープを調製した。
（ドープの組成）
ＢＲ８５（アクリル樹脂、三菱レイヨン社製）：１００質量部
重縮合エステル化合物１：５．０質量部
ＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ（株）製）（紫外線吸収剤）：１．５質量部
塩化メチレン ２１３．９質量部
エタノール ６７．６質量部

得られたドープを、ベルト流延装置を用いて、温度３０℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶剤量が７０％になるまでドープ中の溶媒を蒸発させた。そして、得られた膜状物をステンレスバンド支持体上から剥離した。

次いで、剥離した膜状物を４５℃でさらに乾燥させた後、得られたフィルムを１１０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥させた。得られたフィルムを１．５ｍ幅にスリットし、フィルムの幅方向両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工をさらに施して巻き取った。それにより、膜厚２５μｍの透明基材フィルムＡ１を得た。

［透明基材フィルムＡ２〜Ａ６］
透明基材フィルムの膜厚を、表２に示されるように変更した以外は透明基材フィルムＡ１と同様にして透明基材フィルムＡ２〜Ａ６を作製した。

［透明基材フィルムＣ１］
二酸化珪素希釈分散液の調製
下記成分をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散させて二酸化珪素分散液を得た。
（二酸化珪素分散液）
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製）：１０質量部
エタノール：９０質量部
得られた分散液に、８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を得た。得られた分散希釈液を、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過した。

セルロースアシレートのドープの調製
下記成分を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解させた後、濾過した。得られたセルロースエステル溶液に、前述の二酸化珪素分散希釈液を４質量部、撹拌しながら加えて、更に３０分間撹拌してドープ液を得た。
（セルロースエステル溶液）
ＴＡＣ１：トリアセチルセルロース（アセチル基置換度２．８９、Ｍｗ＝１９万）：１００質量部
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）：２．５質量部
重縮合エステル化合物１：７．０質量部
重縮合エステル化合物２：１．６質量部
メチレンクロライド：５４０質量部
エタノール ：３５質量部

得られたドープ液を、ベルト流延装置を用いて、温度３５℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、ドープ液の残留溶剤量が１００質量％になるまで溶剤を蒸発させた後、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離して得られたウェブを５０℃で乾燥しながら搬送させ、スリットし、その後、テンターでＴＤ方向（フィルムの搬送方向と直交する方向）に１６０℃の温度条件下、３０％の延伸倍率で延伸した。テンターで延伸を始めたときのウェブの残留溶剤量は５．０％であった。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０５倍であった。

その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、スリットし、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、透明基材フィルムＣ１を得た。フィルムの残留溶剤量は０．１％未満であり、膜厚は２５μｍ、幅２ｍ、巻長さは６０００ｍであった。

［透明基材フィルムＣ２およびＣ４］
透明基材フィルムの膜厚を、表２に示されるように変更した以外は透明基材フィルムＣ１と同様にして透明基材フィルムＣ２およびＣ４を作製した。

［透明基材フィルムＣ３］
セルロースエステルの種類を変更し、かつ下記の溶融製膜法で作製した以外は同様にして透明基材フィルムＣ３を作製した。具体的には、ＣＡＰ１：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．５６、アシル基総置換度２．７５、重量平均分子量Ｍｗ＝２０万）を、真空ナウターミキサーにて７０℃、減圧下で３時間乾燥させ、室温まで冷却した後、各添加剤を混合した。
（混合物の組成）
ＣＡＰ１：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．５６、アシル基総置換度２．７５、重量平均分子量Ｍｗ＝２０万）：９０質量部
グリセリントリベンゾエート：１０質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８（ＢＡＳＦチバジャパン（株）製）：１．１質量部
ＧＳＹ−Ｐ１０１（堺化学工業（株）製）：０．２５質量部
Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製）：０．５質量部
ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ（住友化学（株）製）：０．２４質量部
Ｒ９７２Ｖ（アエロジル社製）：０．１５質量部

得られた混合物を一軸押し出し機に投入し、窒素雰囲気下、２４０℃にて溶融混練した。溶融樹脂を、流延ダイから９０℃に設定した第１冷却ロール上に押し出し、第１冷却ロールと弾性タッチロールとの間にフィルムを挟圧して成形した。

流延ダイから押出した樹脂を、第１、第２および第３冷却ロール上で冷却固化して得られたフィルムを、剥離ロールで剥離した。このフィルムをテンターに導入し、幅方向に１６０℃で１．３倍延伸した後、幅方向に３％緩和しながら３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、フィルム両端に幅２０ｍｍ、高さ２５μｍのナーリング加工を施し、巻き取り張力２２０Ｎ／ｍで巻芯に巻き取った。

［透明基材フィルムＰ１］
ポリエステルＡの合成
エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部およびエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行いゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０.０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。

重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂（Ａ）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。

ポリエステルＢの合成
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）１０質量部、ＰＥＴ（Ａ）９０質量部を混合し、混練押出機を用いてポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｂ）を得た。

接着性改質塗布液の調製
常法によりエステル交換反応および重縮合反応を行って、ジカルボン酸成分として（ジカルボン酸成分全体に対して）テレフタル酸４６モル％、イソフタル酸４６モル％および５−スルホナトイソフタル酸ナトリウム８モル％、グリコール成分として（グリコール成分全体に対して）エチレングリコール５０モル％およびネオペンチルグリコール５０モル％の組成の水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂を調製した。次いで、水５１．４質量部、イソプロピルアルコール３８質量部、ｎ−ブチルセルソルブ５質量部、ノニオン系界面活性剤０．０６質量部を混合した後、加熱撹拌し、７７℃に達したら、上記水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂５質量部を加え、樹脂の固まりが無くなるまで撹拌し続けた後、樹脂水分散液を常温まで冷却して、固形分濃度５．０質量％の均一な水分散性共重合ポリエステル樹脂液を得た。さらに、凝集体シリカ粒子（富士シリシア（株）社製、サイリシア３１０）３質量部を水５０質量部に分散させた後、上記水分散性共重合ポリエステル樹脂液９９．４６質量部にサイリシア３１０の水分散液０．５４質量部を加えて、撹拌しながら水２０質量部を加えて、接着性改質塗布液を得た。

ポリエチレンテレフタレートフィルムの作製
透明基材フィルムのコア層用原料として、ＰＥＴ（Ａ）樹脂ペレット９０質量部とＰＥＴ（Ｂ）樹脂ペレット１０質量部を１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機２（コア層用）に供給した。また、ＰＥＴ（Ａ）樹脂ペレットを、常法により乾燥して押出機１（スキン層用）にそれぞれ供給し、２８５℃で溶解した。この２種のポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種３層合流ブロックにて積層し、口金よりシート状にして押し出した。その後、シート状の樹脂を、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを得た。スキン層／コア層／スキン層の厚さの比は、１０：８０：１０とした。

次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ^２になるように、上記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。得られた未延伸フィルムを、加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に４．０倍延伸した。その後、テンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約２５μｍの二軸配向ＰＥＴフィルムを得た。

［透明基材フィルムＣＯＰ３］
ノルボルネン系樹脂であるＺＥＯＮＯＲ１４２０（日本ゼオン（株）製）のペレットを１００℃で５時間乾燥した後、常法によって該ペレットを押出し機に供給して２５０℃で溶融してダイから冷却ドラム上に吐出し、厚さ１５０μｍのウェブを得た。次いで、ロール間でのフロート方式を用いた縦延伸機にて、ウェブを１４３℃の温度で縦方向に１．２倍に延伸し、さらにテンター法を用いた横延伸機にて、１５０℃の温度で横方向に１．８倍に延伸して、厚み２５μｍの二軸延伸されたシクロオレフィン樹脂フィルム（透明基材フィルムＣＯＰ３）を得た。

得られた透明基材フィルムの組成や製造条件を、表２にまとめた。

２．保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）の作製
［防湿層用塗布液１］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、防湿層用塗布液１を調製した。
（防湿層用塗布液１の組成）
塩素含有重合体（旭化成ライフ＆リビング（株）製サランレジンＲ２０４）：１２質量部
テトラヒドロフラン：６３質量部

（製造例１）
上記作製した透明基材フィルムＡ１を、５０℃、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液で鹸化処理した。そして、透明基材フィルムＡ１の鹸化処理した面上に、スロットルダイを有するコーターを用いて、防湿層用塗布液１を押し出して塗布した後、６０℃で５分乾燥させた。それにより、厚み１．５μｍの防湿層を有する保護フィルム１０１を得た。フィルムの搬送速度は３０ｍ／分とした。

（製造例２〜５）
防湿層の厚みを表３に示されるように変更した以外は製造例１と同様にして保護フィルム１０２〜１０５を得た。

（製造例６〜８）
防湿層を設けず、膜厚の異なる透明基材フィルムＡ１〜Ａ３をそのまま用いた以外は同様にして保護フィルム１０６〜１０８を得た。

（製造例９〜１１）
透明基材フィルムの厚みを表３に示されるように変更した以外は製造例３と同様にして保護フィルム１０９〜１１１を得た。

（製造例１２〜１４）
透明基材フィルムＡ１を、透明基材フィルムＣ１に変更し、かつ防湿層の厚みを表３に示されるように変更した以外は製造例１と同様にして保護フィルム１１２〜１１４を得た。

（製造例１５〜１６）
防湿層を設けず、透明基材フィルムＣ１およびＣ２をそのまま保護フィルム１１５〜１１６とした。

（製造例１７〜１８、２３〜２４）
表３に示される透明基材フィルムＣ１、Ａ１、Ａ４またはＣ４を、スパッタロールコート装置に装填した。そして、ＤＣマグネトロンスパッタにより、Ｓｉをターゲットとして用いて、到達真空度１．０×１０^−４Ｐａ以下、成膜温度１８０℃でプロセスガスとしてアルゴンガスと酸素ガスを導入し、反応性スパッタで表３に示される透明基材フィルムＣ１、Ａ１、Ａ４またはＣ４上に、膜厚７０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１．８、ＸＰＳにより測定）の無機薄膜を形成した。

（製造例１９）
透明基材フィルムＣ１を、溶融製膜法で製造した透明基材フィルムＣ３に変更した以外は製造例１２と同様にして保護フィルム１１９を得た。

（製造例２０）
透明基材フィルムＣ１を、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる透明基材フィルムＰ１に変更した以外は製造例２と同様にして保護フィルム１２０を得た。

（製造例２１〜２２）
透明基材フィルムＡ１を、表３に示される透明基材フィルムＣＯＰ３に変更し、かつ防湿層を設けなかった以外は製造例１と同様にして保護フィルム１２１〜１２２を得た。

得られた保護フィルムの透湿度を、以下の方法で測定した。

（透湿度）
得られた保護フィルムの防湿層がカップの外側となるように配置した。そして、保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により測定した。そして、面積１ｍ^２当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求めた。

製造例１〜２４で得られた保護フィルムの構成と透湿度の評価結果を、表３に示す。

３．位相差フィルム（Ｆ２、Ｆ３）の作製
［位相差フィルムＲＴ１］
下記成分を加熱しながら十分に攪拌および溶解させて、ドープを調製した。
（ドープの組成）
セルロースエステル（アセチル基置換度２．３、重量平均分子量（Ｍｗ）１８．５万のジアセチルセルロース）：１００質量部
化合物Ａ（リターデーション上昇剤）：４質量部
糖エステル１：１０質量部
化合物Ｂ（フタル酸／アジピン酸／１，２−プロパンジオール＝５０／５０／１００モル比の縮合物の両末端を安息香酸エステル基で封止したもの、分子量４４０）：２質量部
マット剤：Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル社製、シリカ粒子、平均粒径＝１６ｎｍ）：０．２０質量部
メチレンクロライド：３００質量部
エタノール：４０質量部

得られたドープを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。次いで、剥離したドープのウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１ｍ幅にスリットし、その後、ゾーン延伸で搬送方向（ＭＤ方向）に１．１倍、テンター延伸で幅手方向（ＴＤ方向）に１．５倍延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。テンターによる延伸を開始したときの残留溶媒量は８％であった。テンターで延伸した後、１３０℃で５分間の緩和処理を施した後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施した後、コアに巻き取った。以上のようにして、乾燥膜厚２５μｍの位相差フィルムＲＴ１を得た。

［位相差フィルムＲＴ２〜４］
ウェブの厚みまたは延伸倍率を調整して、厚みの異なる位相差フィルムＲＴ２（１５μｍ）、ＲＴ３（３５μｍ）、ＲＴ４（１０μｍ）を得た。

［位相差フィルムＣＯＰ１］
前述の透明基材フィルムＣＯＰ１（厚み２５μｍ）を、位相差フィルムＣＯＰ１として準備した。

［位相差フィルムＣＯＰ２］
透明基材フィルムＣＯＰ１の作製において、ウェブの厚みまたは延伸条件を調整した以外は同様にして厚み４０μｍのシクロオレフィン樹脂フィルム（位相差フィルムＣＯＰ２）を得た。

４．偏光板の作製
（実施例１）
１）偏光子の調製
厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇおよび水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇおよび水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率４倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ１０μｍの偏光子を得た。

厚さ４０μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を５倍に変更した以外は前述と同様にして厚み１６μｍの偏光子を得た。厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を３倍に変更した以外は前述と同様にして厚み１２μｍの偏光子を得た。厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を５倍に変更した以外は前述と同様にして厚み８μｍの偏光子を得た。厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を４倍に変更した以外は前述と同様にして厚み５μｍの偏光子を得た。厚さ１０μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を５倍に変更した以外は前述と同様にして厚み１μｍの偏光子を得た。

２）活性エネルギー線硬化性接着剤の調製
下記成分を混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化性接着剤を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
（活性エネルギー線硬化性接着剤の組成）
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート：４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂）：４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル：１５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート：２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン：０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン：２．０質量部

３）偏光板の作製
作製した保護フィルム１０１上に、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤を、マイクログラビアコーターを用いて乾燥厚みが１μｍになるように塗布して、活性エネルギー線硬化性接着剤層を形成した。塗布は、グラビアローラ＃３００、回転速度１４０％／ライン速の条件で行った。

同様に、位相差フィルムＲＴ１上に、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤を、乾燥厚み１μｍとなるように塗布して活性エネルギー線硬化性接着剤層を形成した。

上記作製した膜厚１０μｍの偏光子の一方の面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層が形成された保護フィルム１０１を配置した。保護フィルム１０１の配置は、防湿層が透明基材層の偏光子側の面に配置されるように行った。また、偏光子の他方の面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層が形成された位相差フィルムＲＴ１を配置して、保護フィルム１０１／活性エネルギー線硬化性接着剤層／偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤層／位相差フィルムＲＴ１の積層物を得た。得られた積層物を、ローラ機で貼り合わせた。貼り合わせは、位相差フィルムＲＴ１の遅相軸と偏光子の吸収軸とが互いに直交になるように行った。

貼り合わせた積層物の両面側から、電子線を照射して、活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて偏光板２０１を得た。ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎ、加速電圧は２５０ｋＶ、照射線量は２０ｋＧｙとした。

（実施例２〜５、比較例１〜３）
主に、保護フィルムの防湿層の厚みを表４に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして偏光板２０２〜２０８を作製した。

（実施例６〜１０、比較例４〜５）
透明基材フィルム、偏光子、および位相差フィルムのいずれか一以上により偏光板の厚みを表４に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして偏光板２０９〜２１５を作製した。

（実施例１１〜１３、比較例６〜７）
保護フィルムの透明基材層の種類をセルロースエステルとし、かつ防湿層の厚みを表４に示されるように変更した（あるいは設けなかった）以外は実施例１と同様にして偏光板２１６〜２２０を作製した。

（比較例８〜９）
保護フィルムの透明基材層の種類をシクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ３）とし、かつフィルム厚みを表４に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして偏光板２２１〜２２２を作製した。

（実施例１４、比較例１０〜１２）
位相差フィルムの種類および防湿層の厚みを表５のように変更した以外は実施例３と同様にして偏光板２２３〜２２６を作製した。

（実施例１５〜１８）
防湿層の種類を、表６に示されるように変更した以外は実施例１１または１と同様にして偏光板２２７〜２３０を得た。

（実施例１９〜２４）
偏光子の厚みを、表７に示されるように変更した以外は実施例１４と同様にして偏光板２３１〜２３６を得た。

（実施例２５）
保護フィルムの透明基材層の種類を、表８に示されるように変更した以外は実施例３と同様にして偏光板２３７を得た。

得られた偏光板の偏光度を、以下の方法で測定した。

（偏光度）
得られた偏光板を、６０℃９５％ＲＨの環境下１０００時間放置、２３℃５５％の環境下で２４時間放置した後、波長５５０ｎｍの光の平行透過率と直交透過率を、自動偏光フィルム測定装置（ＶＡＰ-７０７０、日本分光株式会社製）を用いて測定した。それにより、下記式に基づいて偏光度を求めた。そして、偏光子の劣化を、下記基準に基づいて評価した。

◎：偏光度９９％以上で問題ない。
○：偏光度９８．５％以上９９％未満で問題ない。
△：偏光度９８％以上９８．５％未満で実用上問題ない。
×：偏光度９８％未満であり、問題である。

実施例１〜１３および比較例１〜９の評価結果を表４に示し；実施例１４および比較例１０〜１２の評価結果を表５に示し；実施例１５〜１８の評価結果を表６に示し；実施例１９〜２４の評価結果を表７に示し；実施例２５の評価結果を表８に示す。

表４に示されるように、防湿層を有する保護フィルムを用いた実施例１〜２５の偏光板は、厚みが薄いにも係わらず、高温高湿下での偏光度が良好で、劣化が少ないことがわかる。これに対して、防湿層を有しない保護フィルムを用いた比較例１、３、６〜９、１０および１２の偏光板は、厚みが薄いと、いずれも高温高湿下での偏光度が低く、劣化が大きいことがわかる。

さらに、溶融流延法で得られた透明基材フィルムＣ３と、溶液流延法で得られた透明基材フィルムＣ１の、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いたときの偏光子との密着性および防湿層との密着性を、以下の方法で比較した。

偏光子／透明基材層界面の密着性は、偏光板を作製し、偏光板の偏光子／透明基材層の界面における透明基材層を、その表面の法線方向に一定の荷重３０（Ｎ／５０ｍｍ）で引っ張って剥離したときの剥離状態を目視観察して行った。

防湿層／透明基材層界面の密着性は、碁盤目試験により評価した。即ち、防湿層の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて合計１００個の正方形の升目を刻んだ。その上に、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）を圧着し、２４時間放置した。その後、粘着テープを引き剥がす操作を、同じ場所で繰り返し３回行い、剥がれの有無を目視で観察した。

その結果、偏光子との密着性、および防湿層との密着性は、いずれも溶液流延法で得られた透明基材フィルムＣ１のほうが、溶融流延法で得られた透明基材フィルムＣ３よりも高いことがわかった。これは、透明基材フィルムＣ１は、溶液流延法で得られることから、添加剤が厚み方向に分布しており、偏光子や防湿層との良好な密着性が得られたためと考えられる。

５．液晶表示装置の作製
（実施例２６）
液晶セルとして、厚みが０．５ｍｍの二枚のガラス基板と、それらの間に配置された液晶層とを有するＶＡ方式の液晶セルを準備した。そして、上記準備した液晶セルの両面に、リンテック社製の厚さ２５μｍの両面テープ（基材レステープ ＭＯ−３００５Ｃ）を介して上記作製した偏光板２０１をそれぞれ貼り合わせて、液晶表示パネルを得た。貼り合わせは、偏光板２０１の位相差フィルムＲＴ１が液晶セルのガラス基板と接するように行った。

そして、ＳＯＮＹ製４０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ ＫＬＶ-４０Ｊ３０００（ＶＡ方式）から、液晶表示パネル（偏光板／液晶セル／偏光板の積層物）を取り外した後、上記作製した液晶表示パネルを配置して、液晶表示装置３０１を得た。取り付けた液晶表示パネルは、位相差フィルムＲＴ１の遅相軸と、予め貼られていた偏光板の遅相軸とが平行となるようにした。

（実施例２７〜５０、比較例１３〜２４）
偏光板の組み合わせを、表９〜１３に示されるように変更した以外は実施例２６と同様にして液晶表示装置３０２〜３３８を得た。

（実施例５１〜５７）
液晶セルと偏光板との間の粘着剤層の厚みを、表１４に示されるように変更した以外は実施例２６と同様にして液晶表示装置３３９〜３４５を得た。

（実施例５８〜６０）
偏光板の組み合わせを、表１５に示されるように変更した以外は実施例２６と同様にして液晶表示装置３４６〜３４８を得た。

得られた液晶表示装置のベンドムラを、以下の方法で測定した。

（ベンドムラ）
上記作製した液晶表示装置を、４０℃９５％ＲＨの環境下で２４時間放置した。次いで、４０℃ドライの環境下で液晶表示装置を黒表示させた状態で、表示画面の４頂点付近の輝度と表示画面中央部付近の輝度との差（中心部と周辺部との画像ムラ）を目視観察した。

そして、以下の基準に基づいて、ベンドムラの評価を行った。
◎：ベンドムラが全く認められない
○：ベンドムラがわずかに認められる
△：ベンドムラが認められるが、実用上は許容される品質である
×：明らかなベンドムラが認められる

実施例２６〜３８および比較例１３〜２１の評価結果を表９に示し；実施例３９および比較例２２〜２４の評価結果を表１０に示し；実施例４０〜４３の評価結果を表１１に示し；実施例４４〜４９の評価結果を表１２に示し；実施例５０の評価結果を表１３に示し；実施例５１〜５７の評価結果を表１４に示し；実施例５８〜６０の評価結果を表１５に示す。表中の偏光板厚みは、第一の偏光板の厚みと第二の偏光板の厚みが互いに異なる場合、第一の偏光板厚み（μｍ）／第二の偏光板厚み（μｍ）で示した。

表９に示されるように、偏光板の厚みを９０μｍ以下とした実施例２６〜６０の表示装置は、液晶セルのガラス基板の厚みが０．５ｍｍと薄くても、パネルベンドによるムラが生じないことがわかる。これに対して、偏光板の厚みを９０μｍ超とした比較例１４、１６、１７、１９、２１および２３の表示装置は、液晶セルのガラス基板の厚みが０．５ｍｍと薄くすると、パネルベンドによるムラが生じることがわかる。

また、表１４に示されるように、液晶セルと偏光板との間の粘着剤層の厚みを変更しても、液晶表示装置のベンドムラはいずれも良好であることがわかる。これらのことから、粘着剤層の厚みはベンドにほとんど影響しないことがわかった。

また、表９および表１５に示されるように、第一および第二の偏光板の両方の厚みを９０μｍとした実施例２６のほうが、第一および第二の偏光板の一方の厚みだけを９０μｍ以下とした実施例５８〜６０よりもベンドムラが高度に抑制できることがわかる。

本発明によれば、偏光子の厚みが薄くても、透湿した水分による偏光子の劣化が少ない偏光板を提供することができる。

７０ 偏光板
７１ 偏光子
７３ 保護フィルム
７３Ａ、１１３Ａ、１２５Ａ 透明基材層
７３Ｂ、１１３Ｂ、１２５Ｂ 防湿層
７５ 位相差フィルム
８０ 液晶表示装置
９０ 液晶セル
９１、９３ 基板
９５ 液晶層
１１０ 第一の偏光板
１１１ 第一の偏光子
１１３ 保護フィルム（Ｆ１）
１１５ 保護フィルム（Ｆ２）
１２０ 第二の偏光板
１２１ 第二の偏光子と、
１２３ 保護フィルム（Ｆ３）
１２５ 保護フィルム（Ｆ４）
１３０ バックライト

Claims (14)

1. 偏光子と、前記偏光子の一方の面に配置された保護フィルムと、前記偏光子の他方の面に配置された位相差フィルムとを含む偏光板であって、
   前記保護フィルムは、透明基材層と、防湿層とを含み、
   前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙであり、
   前記偏光板の厚みが２５〜９０μｍである、偏光板。
2. 前記偏光板の厚みが４０〜７０μｍである、請求項１に記載の偏光板。
3. 前記偏光子の厚みが３〜１２μｍである、請求項１または２に記載の偏光板。
4. 前記透明基材層の厚みが１０〜３５μｍである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の偏光板。
5. 前記防湿層は、前記透明基材層の前記偏光子側の面に配置されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光板。
6. 前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜８０ｇ／ｍ^２・ｄａｙである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板。
7. 前記防湿層が、塩化ビニル樹脂を含む層または無機薄膜である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の偏光板。
8. 前記透明基材層が、セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂の一方または両方を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光板。
9. 前記透明基材層は、厚み方向に偏在した添加剤をさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の偏光板。
10. 前記保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が２０〜７０ｇ／ｍ^２・ｄａｙである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の偏光板。
11. 前記位相差フィルムが、セルロースエステルまたはシクロオレフィン樹脂を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の偏光板。
12. 厚み０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ未満の第一のガラス基板および第二のガラス基板と、前記第一のガラス基板と前記第二のガラス基板の間に配置された液晶層とを含む液晶セルと、
    前記液晶セルの前記第一のガラス基板上に配置された第一の偏光板と、
    前記液晶セルの前記第二のガラス基板上に配置された第二の偏光板と
    を含み、
    前記第一の偏光板が、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の偏光板であり、かつ前記位相差フィルムが、前記偏光子と前記第一のガラス基板との間に配置されているか、
    または
    前記第二の偏光板が、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の偏光板であり、かつ前記位相差フィルムが、前記偏光子と前記第二のガラス基板との間に配置されている、
    液晶表示装置。
13. 前記第一の偏光板と前記第二の偏光板の両方が、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の偏光板である、請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 前記第二の偏光板と対向するように配置されたバックライトをさらに含む、請求項１２または１３に記載の液晶表示装置。

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