JP4784308B2 - ディスプレイ基板用透明フィルム、該フィルムを用いたディスプレイ基板およびその製造方法、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、およびタッチパネル - Google Patents
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Description
(式中、R、R′は水素原子または1価の置換基を表し、nは3または4である。)
(3)イソシアナート基、チオイソシアナート基、酸無水物残基のいずれかを複数有する有機架橋剤を1〜20質量%含有させ、セルロースエステルを架橋させたことを特徴とする前記(1)または(2)に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
式(B) 1.0≦X+Y≦2.9
(ここで、Xはアセチル基による置換度、Y はアルコキシシリル基を有する置換基による置換度を表す。)
(6)前記セルロースエステルのアセチル基による置換度が2.2以上2.9未満であることを特徴とする前記(1)〜(5)のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
(式中、R、R′は水素原子または1価の置換基を表し、nは3または4である。)
3. 前記セルロースエステルと前記一般式(1)で表されるアルコキシシランの加水分解重縮合物が、下記一般式(2)で表され、前記一般式(2)で表される無機高分子化合物の質量の和が、前記透明フィルムに対して40質量%未満であることを特徴とする前記2に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
(ここにおいて、Rは前記一般式(1)と同義である。)
4. イソシアナート基、チオイソシアナート基、酸無水物残基のいずれかを複数有する有機架橋剤を1〜20質量%含有させ、セルロースエステルを架橋させたことを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
式(B) 1.0≦X+Y≦2.9
(ここで、Xはアセチル基による置換度、Yはアルコキシシリル基を有する置換基による置換度を表す。)
7. 前記セルロースエステルのアセチル基による置換度が2.2以上2.9未満であることを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
式(B) 1.0≦X+Y≦2.9
ここにおいて、Xは、骨格となるセルロースの水酸基のアセチル基による置換度を、Yは、アルコキシシリル基を有する置換基による置換度を表す。
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
これらの低分子化合物についても、セルロースエステルフィルム中に総和で1質量%未満である必要がある。
この加水分解重縮合物の添加量としては、一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物が加水分解重縮合して形成される無機高分子を前記一般式(2)で表した際に、該無機高分子がフィルム全体に対し1〜20質量%以下の量で含有することが好ましい。
親水性基を多く有する無機高分子が添加されることにより、セルロースエステル分子間の水素結合が強固となり、ガラス転移温度が上昇するという効果が見られる。しかし一定量以上添加するとディスプレイ用基板フィルムが脆くなるというデメリットが発生するため、20質量%以下の添加量が好ましい。より好ましくは3〜15質量%、さらに好ましくは5〜10質量%の添加が好ましい。
O=C=N−L−(N=C=O)v
式中、vは1以上の整数であり、Lはアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を部分構造として有する2価以上の連結基を表す。
ここにおいて、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
流延工程の前に、セルロースエステルは有機溶媒に溶解される。溶解は常圧でも加圧でも良く、また冷却(0〜−78℃)・加熱(40〜150℃)しながら溶解させても良い。
ここで、Mはウェブ(溶媒を含有したフィルム)の任意時点における質量、NはMのウェブを120℃で3時間乾燥させた時の質量である。
予熱フィルムを横延伸する前に、50℃以上150℃以下、より好ましくは60℃以上140℃以下、さらに好ましくは70℃以上130℃以下で予熱することが好ましい。予熱する時間は、5秒以上3分以下、より好ましくは10秒以上2分以下、さらに好ましくは15秒以上90秒以下である。予熱は、フィルムをチャックで把持したままテンター内で実施することが好ましい。
予熱フィルムを縦延伸する前に、50℃以上150℃以下、より好ましくは60℃以上140℃以下、さらに好ましくは70℃以上130℃以下で予熱することが好ましい。予熱する時間は、5秒以上3分以下、より好ましくは10秒以上2分以下、さらに好ましくは15秒以上90秒以下である。予熱は熱ロール上あるいは/および加熱槽中を通過させて予熱することが好ましい。
最も好ましいのは10%以上30%以下である。
本発明のディスプレイ基板用透明フィルムには、水蒸気透過性を低減させるため、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物等の皮膜を、防湿膜として透明フィルムの少なくとも一方の面に形成することが好ましい。これらは積層されていても良いし、両面に形成されていても良い。
次に透明導電膜について説明する。
約100〜140nmとすることが好ましい。
大気圧プラズマ処理方法とは、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に電界を発生させることで、電極間にある反応性ガスをプラズマ状態とし、このプラズマ状態となった反応性ガスに基材を晒すことによって基材上に膜を形成する方法である。
大気圧プラズマ放電処理装置は、アース電極であるロール電極と、対向する位置に配置された印加電極である複数の固定電極を有し、これらの電極の間で放電させ、当該電極間に導入した不活性ガスと反応性ガスを含有する反応ガスをプラズマ状態とし、該ロール電極に巻回されながら移送する基材フィルムを該プラズマ状態の反応ガスに晒すことによって、該フィルムの上に防湿膜や導電膜等の薄膜を形成する。
本発明のディスプレイ基板用透明フィルム上に防湿膜を形成する反応ガスについて説明する。使用する反応ガスは、基本的に、不活性ガスと、薄膜を形成するための反応性ガスを含んでなる反応ガスである。
を発生しやすいのではないかと推定される。アルゴンガスは、反応ガス(希ガスと反応性ガスの混合ガス)100体積%に対し、90.0〜99.9体積%含有されることが好ましい。
防湿膜形成用反応性ガスには、適切な防湿性を得ることの出来る化合物であれば制限なく使用出来るが、チタン化合物、錫化合物、珪素化合物、フッ素化合物、フッ素を有する珪素化合物あるいはこれらの化合物の混合物を好ましく用いることが出来るが、最も好ましくはケイ素化合物である。
次に、大気圧プラズマ処理により透明導電膜を形成するために用いられる透明導電膜形成用反応性ガスは、放電空間でプラズマ状態となり、透明導電膜を形成する成分を含有するものであり、βジケトン金属錯体、金属アルコキシド、アルキル金属等の有機金属化合物が用いられる。反応性ガスには透明導電膜主成分となる反応性ガスとドーピングを目的に少量用いられる反応性ガスがある。更に、透明導電膜の抵抗値を調整する為に用いる反応性ガスがある。
大気圧プラズマ処理による薄膜形成方法では、対向する電極間に、100kHzを越えた高周波電圧で、且つ、1W/cm2以上の電力(出力密度)を供給し、反応性ガスを励起してプラズマを発生させることが好ましい。
大気圧プラズマ処理に用いられる電極としては、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、このようなハイパワーの電界を、大面積の電極に印加しても、均一な放電状態を保つことが出来る高耐久電極をプラズマ放電処理装置に採用する必要がある。
本発明のこれらディスプレイ基板用透明フィルムには、上記の防湿膜・透明導電膜のような金属化合物層を直接形成させてもよいが、他の中間層を少なくとも1層設けた上に形成させてもよい。他の層として、防眩層やクリアハードコート層等を好ましく用いることが出来、これらの層が紫外線等活性線により硬化する活性線硬化樹脂層であることが好ましく、このような紫外線で硬化された樹脂層の上に本発明に係る防湿膜・透明導電膜を形成させることによって耐擦り傷性に優れた透明導電性フィルムを得ることが出来る。
本発明に係わる前記ディスプレイ基板用透明フィルム上に防湿膜または透明導電膜のそれぞれの薄膜が製膜されたディスプレイ基板において、これらの層は、互いに積層されていても良いし、基板の片面ずつに成膜されていても良い。また防湿膜は両面に成膜されてもよい。
(A) 本発明のディスプレイ基板用透明フィルム(基材)/中間層/防湿膜/透明導電膜
(B) 防汚層/本発明のディスプレイ基板用透明フィルム(基材)/中間層/防湿膜/透明導電膜
(C) 防湿膜/中間層/本発明のディスプレイ基板用透明フィルム(基材)/中間層/透明導電膜
(D) 防汚層/防湿膜/中間層/本発明のディスプレイ基板用透明フィルム(基材)/中間層/防湿膜/透明導電膜
〈透明、複屈折の波長分散特性〉
本発明の防湿膜または透明導電膜を形成したディスプレイ基板用透明フィルムにおいては、フィルムの全光線透過率が50%以上であるものが好ましい。しかし一般に光学用途に用いられるフィルムとしては、全光線透過率が80%以上のものが好ましく、より好ましくは90%以上のフィルムである。尚、全光線透過率とは、試験片の平行入射光束に対する全透過光束の割合である(JISK−7361−1参照)。
〈合成例1〉
J. Appl.Polym.Sci.,vol.58,1263−1274(1995)に記載の合成法を参考に合成を行った。
ミキシングタンクに、エタノール60質量部、塩化メチレン685質量部、DAC100質量部とを投入し、80℃で加熱しながら攪拌して溶解し、ドープAを得た。
フィルムを80℃で10秒予熱した後、延伸終了時に130℃になるように温度勾配をつけながら延伸した。なお、延伸速度は100%/分で実施した。また予熱から延伸に移る際、延伸開始部に100mmの曲率半径を持たせてテンターレールを広げた。延伸の後、130℃で30秒間、フィルムを5%の緩和させた。なおこの状態で所定の延伸倍率となるように延伸を行った。
フィルムを90℃で10秒予熱した後、90℃に加熱した延伸直前のロールを通過させた後、フィルム中央部が130℃、両端部が145℃となるよう、幅方向に3分割した赤外線ヒーターで加熱しながら延伸した。なお、延伸ロール間隔をベース幅で割った値が5倍となるように設定した。また延伸速度はいずれも300%/分で実施した。この後、ロールの温度差を延伸温度から順に30℃ずつ低く設定した4本の冷却ロールを通過させフィルムを徐冷した。この間フィルムを縦方向に3%緩和させた。なおこの状態で所定の延伸倍率となるように延伸を行った。
残留溶媒量(質量%)=(M−N)/N×100
Mは剥ぎ取り直後のフィルム質量、Nは剥ぎ取ったフィルムを120℃で30分乾燥した直後のフィルム質量を表す。
前記ドープAをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が60%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に20%、ついでMD方向に20%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム102を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
前記ドープAをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が70%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に30%、ついでMD方向に30%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム103を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
前記ドープAに可塑剤であるEPEG(エチルフタリルエチルグリコレート)を0.1質量%含有させ、これをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が70%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に30%、ついでMD方向に30%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム104を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
前記ドープAに可塑剤であるEPEG(エチルフタリルエチルグリコレート)を0.5質量%含有させ、これをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が70%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に30%、ついでMD方向に30%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム105を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
前記ドープAに可塑剤であるEPEG(エチルフタリルエチルグリコレート)を1.0質量%含有させ、これをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が70%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に30%、ついでMD方向に30%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム106を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
ミキシングタンクに、エタノール60質量部、塩化メチレン685質量部、トリアセチルセルロース(以下TAC)100質量部を投入し、80℃で加熱しながら攪拌して溶解し、ドープBを得た。
前記ドープBをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が60%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に20%、ついでMD方向に20%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム108を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
前記ドープAをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が70%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に30%、ついでMD方向に30%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム109を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
ミキシングタンクにドープAを作製しておく。
前記ドープDをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が60%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に20%、ついでMD方向に20%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム111を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
ミキシングタンクに、エタノール60質量部、塩化メチレン685質量部、前記合成例1で合成したセルロースエステル1を100質量部投入し、120℃で加熱しながら攪拌して溶解し、ドープEを得た。
前記ドープFをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が60%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に20%、ついでMD方向に20%延伸を行ったのち、120℃で乾燥して本発明のフィルム113を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
ミキシングタンクに、エタノール60質量部、塩化メチレン685質量部、コロネートL(日本ポリウレタン社製)10質量部、DAC100質量部と、を投入し、40℃で加熱しながら攪拌して溶解し、ドープGを得た。
前記ドープGをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が60%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に20%、ついでMD方向に20%延伸を行ったのち、150℃で乾燥して本発明のフィルム115を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
ミキシングタンクに、エタノール60質量部、塩化メチレン685質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(化合物例35)30質量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン3質量部、DAC100質量部と、を投入し、80℃で加熱しながら攪拌して溶解し、ドープHを得た。
前記ドープHをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が50%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に30%、ついでMD方向に30%延伸を行ったのち、残留溶媒量が3%以下となったところでメタルハライドランプを用いて200mW/cm2の紫外線をフィルムの両面からそれぞれ10秒間照射後、120℃で乾燥して本発明のフィルム117を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
前記ドープHをバンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が70%となったところでバンド上から剥ぎ取り、ただちにテンターに搬送し、TD方向に50%、ついでMD方向に50%延伸を行ったのち、残留溶媒量が3%以下となったところでメタルハライドランプを用いて200mW/cm2の紫外線をフィルムの両面からそれぞれ10秒間照射後、120℃で乾燥して本発明のフィルム118を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
基板フィルム101を作製したのと同じドープAを調製し、バンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が50%となったところでバンド上から剥ぎ取り、延伸操作はせずにそのまま120℃で乾燥し、本発明のフィルム119を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
基板フィルム107を作製したのと同じドープBを調製し、バンド流延機を用いて流延し、残留溶媒量が50%となったところでバンド上から剥ぎ取り、延伸操作はせずにそのまま120℃で乾燥し、本発明のフィルム120を得た。なお膜厚は最終的に100μmとなるように調整して流延した。
フィルム厚100μmのポリエーテルスルホンフィルムである住友ベークライト(株)製「スミライトFS−1300」を比較の基板フィルム121とした。
フィルム厚100μmのポリカーボネートフィルムである帝人(株)製「ピュアエース」を比較の基板フィルム122とした。
フィルム厚100μmのポリノルボルネンフィルムであるJSR(株)製「アートン」を比較の基板フィルム123とした。
本発明のセルロースエステル類のガラス転移温度は、走査型示差熱量計(DSC)の測定では、不明確で測定されないことが多いため、熱応力歪み測定(TMA)における温度−歪み曲線の変曲点をガラス転移温度とした。
王子計測機器(株)製自動複屈折計KOBRA−21ADHで測定し、各基板フィルムの面内のX方向、Y方向の屈折率の差に、厚みを50μmと仮定して乗じた値を複屈折(nm)として表した。
《全光透過率の測定》
東京電色製TURBIDITY METER T−2600DAで測定した。
EPEG;エチルフタリルエチルグリコレート(可塑剤)
比較例の基板フィルム122、123はガラス転移温度が低く、線膨張率が大きく好ましくない。また比較例の基板フィルム121は、ガラス転移温度は高いが、線膨張率が大きく好ましくない。比較例のフィルム119、120は、ガラス転移温度は高いが、線膨張率が大きく好ましくない。
実施例1で得られた基板フィルム101〜123に、クリアハードコート層(両面)、防湿膜(両面)、透明導電膜(片面)の順にそれぞれの薄膜を形成した透明導電性フィルム201〜223を作製した。
基板フィルム101上に下記ハードコート層塗布組成物が3μmの膜厚となるように押出しコーターでコーティングし、ついで80℃に設定された乾燥部で1分間乾燥した後、120mW/cm2で紫外線照射することにより形成した。
ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部
ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部
ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部
ジメトキシベンゾフェノン 4質量部
酢酸エチル 50質量部
メチルエチルケトン 50質量部
イソプロピルアルコール 50質量部
〈防湿膜の作製〉
プラズマ放電装置としては、電極が平行平板型のものを用い、この電極間に上記基板フィルムを載置し、且つ、混合ガスを導入して薄膜形成を行った。
不活性ガス:アルゴン 99.3体積%
反応性ガス1:水素 0.5体積%
反応性ガス2:テトラエトキシシラン 0.3体積%
クリアハードコート層が設けられた基板フィルム101〜123のクリアハードコート層上に、上記反応ガス、反応条件により大気圧プラズマ処理を行い、防湿膜としてそれぞれ180nmの膜厚の酸化ケイ素膜を作製した。
供給電力を12W/cm2に変更した以外は、防湿膜の形成と同様の大気圧プラズマ条件で、混合ガスは下記の組成に変更したものを流し透明導電膜を作製した。
不活性ガス:ヘリウム 98.69体積%
反応性ガス1:水素 0.05体積%
反応性ガス2:インジウムアセチルアセトナト 1.2体積%
反応性ガス3:ジブチル錫ジアセテート 0.05体積%
反応性ガス4:テトラエトキシシラン 0.01体積%
クリアハードコート層、酸化ケイ素層が設けられた基板フィルム101〜123の酸化ケイ素層上に、上記反応ガス、反応条件により大気圧プラズマ処理を行い、透明導電膜として錫ドープ酸化インジウム膜(ITO膜)を作製し(厚み110nm)、透明導電性フィルム201〜223とした。
東京電色製TURBIDITY METER T−2600DAで測定した。
透湿度はJIS−Z−0208に記載の条件(40℃、90%RH)で測定した。また、1時間180℃で加熱後、1時間室温で放冷するという一連の冷熱サイクルを10回行った後での測定も行った。
JIS−R−1637に従い、四端子法により求めた。なお、測定には三菱化学製ロレスタ−GP、MCP−T600を用いた。
上述した本発明の透明導電性フィルム201〜205、207〜218、比較例の透明導電性フィルム206、219〜223を用いて、第4図に示すようなTN液晶表示素子を以下の方法で作製した。
上記透明導電性フィルムを透明導電性基材401としてその上に、平滑化のための樹脂層(省略)をコートし、さらにその上に直接あるいは二酸化ケイ素膜等を介して透明導電膜を形成し、ストライプ形状等にパターニング加工して表示用電極402を形成させ、同じ透明導電性基材を用いて対向基板を作製、即ち、対向基板側にも表示用電極を形成し、さらに、配向膜403、シール材(図示していない)をそれぞれ印刷法等で形成し、スペーサー散布を行った後、両基板を対向させて圧着し空セルを構成する。そしてこの空セルに真空注入法で液晶404を注入し、対向する表示用電極に駆動電圧が印加されるように端子部を取り出し、図示していないが、位相差板、偏光板、タッチパネル、光源を組み合わせることによって液晶表示素子を形成した。
また、本発明の透明導電性フィルム201〜205、207〜218、比較例の透明導電性フィルム206、219〜223を用いて、第5図に示すような単純マトリックス駆動有機EL素子を以下の方法で作製した。
透明導電性基材501として前記透明導電性フィルムを用い、この上に透明導電膜(陽電極)502をパターニングした。その後、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄し、次いで煮沸エタノール中から引き上げ乾燥した。次いで、透明導電膜表面をUV/O3洗浄した後、真空蒸着装置でN,N′−ジフェニル−m−トリル−4,4′−ジアミン−1,1′−ビフェニル(TPD)を蒸着速度0.2nm/secで55nmの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層503とした。
さらに、上述した本発明の透明導電性フィルム201〜205、207〜218、比較例の透明導電性フィルム206、219〜223を用いて、第6図に示すようなタッチパネルを以下の方法で組み立てた。
第6図における下部電極606にはタッチパネル用ガラスITO(スパッタリング製膜品)を用い、上部電極605の透明導電性基材601として、本発明の透明導電性フィルム201〜205、207〜218、比較例の透明導電性フィルム206、219〜223を用いた。そして、透明導電性基材の透明導電膜面603、604を向かい合わせにし、熱硬化タイプドットスペーサ607を用い、間隔を7μm空けてパネル化してタッチパネルを組み立てた。符号602は、タッチパネル用ガラス基材である。
Claims (18)
- ディスプレイ基板用透明フィルムにおいて、セルロースエステルを含有し、且つ、可塑剤含有量が1%未満であって、搬送方向と巾手方向とそれぞれに10〜30%延伸され、さらにガスバリア性無機薄膜を有することを特徴とするディスプレイ基板用透明フィルム。
- 前記セルロースエステルと下記一般式(1)で表されるアルコキシシランの加水分解重縮合物を含有することを特徴とする請求の範囲第1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
一般式(1) R4−nSi(OR′)n
(式中、R、R′は水素原子または1価の置換基を表し、nは3または4である。) - イソシアナート基、チオイソシアナート基、酸無水物残基のいずれかを複数有する有機架橋剤を1〜20質量%含有させ、セルロースエステルを架橋させたことを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- 前記セルロースエステルの数平均分子量が、100000以上であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- 前記セルロースエステルの置換基が、下記の式(A)および(B)を満たすセルロースエステルであることを特徴とする請求の範囲第1項〜第4項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
式(A) 0≦Y≦1.5
式(B) 1.0≦X+Y≦2.9
(ここで、Xはアセチル基による置換度、Y はアルコキシシリル基を有する置換基による置換度を表す。) - 前記セルロースエステルのアセチル基による置換度が2.2以上2.9未満であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- 架橋ポリマーを含有し、前記セルロースエステルと前記架橋ポリマーとがセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイを形成していることを特徴とする請求の範囲第1項〜第6項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- 前記架橋ポリマーが前記ディスプレイ基板用透明フィルムに対し、5〜50質量%含有されていることを特徴とする請求の範囲第7項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- TMA(応力ひずみ測定)で測定したガラス転移温度が180℃以上で、かつMD方向(搬送方向)とTD方向(巾手方向)の線膨張率がいずれも5〜50ppm/℃の範囲にあるセルロースエステルフィルムからなることを特徴とする請求の範囲第1項〜第8項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- 波長590nmでの面内リターデーション値をR0(590)とし、波長480nmでの面内リターデーション値をR0(480)としたとき、その比[R0(480)/R0(590)]が0.8以上1.0未満であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルム。
- 請求の範囲第1項〜第10項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板用透明フィルムの少なくとも一方の面に形成されたガスバリア性無機薄膜が、金属酸化物または金属窒化物を含有する防湿膜であり、さらにこの防湿膜上または防湿膜が設けられた面と反対側の面に透明導電膜が設けられていることを特徴とするディスプレイ基板。
- 前記防湿膜が主として酸化珪素から構成されていることを特徴とする請求の範囲第11項に記載のディスプレイ基板。
- 前記防湿膜および前記透明導電膜が大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に高周波電圧をかけて放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、前記プラズマ状態の反応性ガスに前記透明フィルムを晒すことによって形成されたことを特徴とする請求の範囲第11項または第12項に記載のディスプレイ基板。
- 請求の範囲第11項〜第13項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板を用いた液晶ディスプレイ。
- 請求の範囲第11項〜第13項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板を用いた有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ。
- 請求の範囲第11項〜第13項のいずれか1項に記載のディスプレイ基板を用いたタッチパネル。
- 流延製膜法によりディスプレイ基板用透明フィルムを製造する方法であって、流延用支持体上に、セルロースエステルを含有し、且つ、可塑剤含有量が1%未満のドープを流延し、ウェブを形成した後、前記ウェブを搬送方向と巾手方向とそれぞれに10〜30%延伸し、前記ウェブを乾燥することを特徴とするディスプレイ基板用透明フィルムの製造方法。
- 請求の範囲第17項に記載の製造方法で製造したディスプレイ基板用透明フィルム上に、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に高周波電圧をかけて放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、前記プラズマ状態の反応性ガスに前記透明フィルムを晒すことによって、防湿膜および透明導電膜を形成することを特徴とするディスプレイ基板の製造方法。
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