JP6250490B2 - 導電性フィルム、タッチパネル付き表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、導電性フィルム、および、タッチパネル付き表示装置に関する。

近年、スマートフォンに代表される携帯液晶端末、および、その他液晶表示装置には、タッチパネル機能が搭載されている。このようなタッチパネル機能を搭載した液晶表示装置は、従来は液晶表示装置上にタッチパネルを取り付けた外付け型が主流であった。
外付け型は、液晶表示装置とタッチパネルとを別々に製造した後に一体化するため、厚みや重さが増えるという問題があった。
このような外付け型の問題（厚みや重さ）を解消するものとして、液晶表示装置の液晶セルと偏光子との間にタッチパネル用導電層を組み込んだ、いわゆるオンセル型のタッチパネル付き液晶表示装置が登場している（例えば、特許文献１）。特許文献１においては、偏光板上にタッチパネル用導電層を配置する態様が開示されており、タッチパネル用導電層としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層が開示されている。
また、近年の液晶表示装置に対する薄膜化、および、コストダウン要望から、特にスマートフォンのような中小型市場では使用する部材の薄膜化、部材削減検討が進められている。従来の偏光板は、偏光子の表裏を保護フィルムで貼合した構成になっているが、前述の要請から、片側または両面の保護フィルムを無くした製品も開発されている（例えば、特許文献２）

特開２００８−００９７５０号公報 特許第４６９１２０５号

一方、ＩＴＯ層を製造する際には、一般的には高温加熱処理を伴う真空蒸着やスパッタリング等のドライプロセスが採用されるが、偏光板上にドライプロセスにてＩＴＯ層を製造しようとすると、偏光板の反りや分解、偏光板に含まれる低分子成分の揮散が生じやすく、偏光子の透過率や偏光度などの劣化が生じやすい。
また、特許文献２のように、偏光子の片側または両側の保護フィルムが無い偏光板は湿熱環境の変動により割れ（クラック）が生じやすいという問題を有している。そのため、特許文献１のような、タッチパネル用導電層と組み合わせた際には、このような問題が抑制されることが望ましい。

本発明は、上記実情に鑑みて、湿熱環境の変動による偏光子の割れを抑制しつつ、偏光子の性能劣化が抑制された、偏光子を含む導電性フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、上記導電性フィルムを含むタッチパネル付き表示装置を提供することも課題とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討を行ったところ、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を使用することにより、上記課題を解決できることを見出した。
つまり、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） 偏光子と、偏光子上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層と、を有する導電性フィルム。
（２） さらに、導電層上に配置されたハードコート層を有する、（１）に記載の導電性フィルム。
（３） シート抵抗値が１０〜１５０Ω／□である、（１）または（２）に記載の導電性フィルム。
（４） 偏光子の厚みが５〜３０μｍである、（１）〜（３）のいずれかに記載の導電性フィルム。
（５） さらに、偏光子と導電層との間に、λ／４板を有する、（１）〜（４）のいずれかに記載の導電性フィルム。
（６） さらに、偏光子の導電層側とは反対側の表面上に保護フィルムを有する、（１）〜（５）のいずれかに記載の導電性フィルム。
（７） タッチパネルに用いられる、（１）〜（６）のいずれかに記載の導電性フィルム。
（８） （７）に記載の導電性フィルムを有する、タッチパネル付き表示装置。

本発明によれば、湿熱環境の変動による偏光子の割れを抑制しつつ、偏光子の性能劣化が抑制された、偏光子を含む導電性フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、上記導電性フィルムを含むタッチパネル付き表示装置を提供することができる。

本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の第１の実施態様を示す概略断面図である。 タッチパネルの概略平面図である。 図２の切断線Ａ−Ａ線に沿った拡大断面図である。 本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の第２の実施態様を示す概略断面図である。 積層体Ｘの概略平面図である。 積層体Ｙの概略平面図である。 本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の第３の実施態様を示す概略断面図である。 タッチパネル付き有機ＥＬ表示装置の一の実施態様を示す概略断面図である。 タッチパネル付き有機ＥＬ表示装置の他の実施態様を示す概略断面図である。

以下に、本発明の導電性フィルム、および、タッチパネル付き表示装置について詳述する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。また、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。

本発明の導電性フィルムの特徴点の一つとしては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を使用している点が挙げられる。後段にて詳述するように、フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、カーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含む。フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、カーボンナノチューブ由来の機械的な柔軟性に加え、フラーレン官能基を加えた効果としてカーボンナノチューブよりも高い導電性を示す材料である。導電層中においては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブ同士が絡まりながらネットワーク構造を形成しやすく、更にフラーレン官能基が隣接するフラーレン官能基化カーボンナノチューブと接触し、結果として優れた導電特性を示す導電層となる。
また、後述するように、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を作製する際には、高温真空条件を必要としない。そのため、ドライプロセスによりＩＴＯ層を作製する場合と比較して、偏光子の性能劣化を抑制することができる。
さらに、上述したように、片側または両側に保護フィルムのない偏光子は湿熱環境の変動において割れを生じやすいが、その主な理由の一つとしては、湿熱環境の変動にて偏光子が膨潤・収縮を繰り返すことが挙げられる。それに対して、導電層内部ではフラーレン官能基化カーボンナノチューブが絡まり合っているため、導電層自体は膨潤・収縮しづらい。よって、このような導電層と偏光子とを組み合わせると、偏光子の膨潤・収縮が抑制され、結果として、偏光子の割れの発生が抑制されると推測される。
つまり、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層は、偏光子の性能劣化を抑制しつつ、偏光子上に配置することでき、かつ、湿熱環境の変動による偏光子の割れの発生を抑制することができる。

本発明の導電性フィルムは、偏光子と、偏光子上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層とを少なくとも有する。
以下、導電性フィルムに含まれる部材（偏光子、導電層）について詳述する。

＜偏光子＞
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、後述する導電層との密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。

偏光子の厚みは特に制限されないが、表示装置の薄型化の点から、３５μｍ以下が好ましく、３〜３０μｍがより好ましく、５〜３０μｍがさらに好ましく、５〜２０μｍが特に好ましい。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の１０点の偏光子の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。

＜導電層＞
導電層には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。フラーレン官能基化カーボンナノチューブに関しては、後段で詳述する。
導電層中におけるフラーレン官能基化カーボンナノチューブの含有量は特に制限されないが、湿熱環境の変動による偏光子の割れがより抑制される点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）、および／または、導電層の導電性がより優れる点で、導電層全質量に対して、６０質量％が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％が挙げられる。
なお、導電層中にはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ以外の添加剤が含まれていてもよく、その含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点、および／または、導電層の導電性がより優れる点で、導電層全質量に対して、０．０１〜４０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％以上がさらに好ましい。
導電層の厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点、および／または、導電層の導電性がより優れる点で、０．１〜１５μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。なお、上記厚みは平均値であり、任意の１０点の導電層の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。

導電層は、偏光子表面（主面）の全面に配置されていても、偏光子表面の一部の領域に配置されていてもよい。特に、後述するように、タッチパネルに適用する場合は、導電層は所定のパターン状に配置されることが好ましい。

導電層の作製方法としては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層が作製できれば特に制限されず、例えば、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを溶媒中に分散させて偏光子上に塗布して、必要に応じて、乾燥処理を実施する方法や、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含むエアロゾルを偏光子に吹き付ける方法が挙げられる。
なお、偏光子上に直接導電層を作製する以外にも、一旦、仮支持体上でフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を作製して、偏光子上に転写する方法も挙げられる。

上述したように、導電層は所定のパターン状に配置してもよい。
導電層を所定のパターンに形成する方法としては特に制限されないが、例えば、支持体（例えば、偏光子、または、仮支持体）上に所定のパターンにマスクしたものに対して、支持体上にフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を堆積させた後、マスクを除去することにより所定パターンの導電層を得る方法、導電層上に所定のパターンのレジストを用意し、強酸、酸化性または腐食性の大きな薬剤、強アルカリ等のウェットプロセスでエッチングを行う方法、スクリーン印刷によるパターニング方法などが挙げられるが、本発明においては、ドライエッチングプロセスでパターニングを行うことが好ましい。
以下にその例を示すが、本発明はこれに限定されない。
導電層上に、マスクとなるアルミニウム膜を形成し、続いて、アルミニウム膜上にパターン形成するためにレジストを塗布する。続いて、上記レジストをパターンと合わせて露光・現像を行なう。続いて上記パターニングされたレジストをマスクに、アルミニウム膜をエッチングする。続いてレジストを剥離する。続いてドライエッチング装置、たとえば、Ｏ_２プラズマアッシング装置を用いて、表面に露出している導電層を燃焼させることによって除去する。ここで燃焼とは、試料温度を上げる場合ばかりでなく、基板温度を上げずに活性化したＯ_２プラズマおよびラジカルで酸化させる方法、つまり、アッシングも含む。最後に、導電層上のアルミニウム膜を燐酸、特に加熱した燐酸によりウェットエッチングにより除去することで、導電層をパターニングできる。
なお、上記ではＯ_２プラズマアッシングを用いて説明したが、他のドライエッチング方法、たとえば、スパッタエッチング、化学エッチング、反応性エッチング、反応性スパッタエッチング、イオンビームエッチング、反応性イオンビームエッチングによるエッチングが可能である。

ガスエッチングまたはラジカル含有のエッチングは化学エッチングまたは反応性エッチングで、炭素と反応除去できる酸素、水素等の反応性ガスを用いて、フラーレン官能基化カーボンナノチューブまたはカーボンを主とするナノパーティクルを除去できる。フラーレン官能基化カーボンナノチューブまたはカーボンナノパーティクル、触媒金属表面を被うアモルファスカーボンのカーボン結合は６員環または５員環より構成されるが、フラーレン官能基化カーボンナノチューブに比較してカーボンナノパーティクル、触媒金属表面被うアモルファスカーボンの結合は不完全で５員環が多く、反応性ガスに対して反応しやすい。
従って、カーボンナノパーティクル、触媒金属表面を被うアモルファスカーボンを含むフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層をパターンニングする場合には、ガスエッチングまたはラジカルを含むエッチングがより効果的である。さらに、ガスエッチングまたはラジカルを含むエッチングでは等方性のエッチングであることより、パターニングするナノチューブの表面ばかりでなく、反応性ガスが表面近傍のナノチューブ、ナノパーティクルの側壁や裏面にも回りこみ、選択的に炭素と反応し、触媒金属以外をすばやく除去できる。さらに、触媒金属のみを除去する工程を追加することにより、ナノパーティクルを含有するフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層をパターニングすることができる。反応生成物は、例えば、酸素の場合、ＣＯやＣＯ_２などのガスとなるため支持体への再付着がなく、表面汚染の問題がない。特に酸素をもちいた燃焼は簡便であり、好ましい。

次に、イオン性のスパッタ効果を用いた場合を検討する。パターニングする時に残したい導電層に、例えば、スパッタや蒸着を用いてアルミニウムを被覆するが、導電層の表面は凹凸が大きい場合には、特に凹の内部では十分にアルミニウムを被うことができない場合がある。反応性ガスを用いた場合には、ガスの回り込みがあり、エッチング時間が長時間の場合、保護膜が十分に被覆していない部分より、導電層がエッチングされる。一方、イオン性のスパッタエッチングを用いた場合、イオン種の直進性が強く、上面よりイオン種が進入するため、厚い被覆膜の下部に位置する導電層に対してダメージを与えにくい。さらに、異方性のエッチングであるため、マスクパターンに忠実にしかも垂直にエッチングできる。したがって、ナノパーティクルのうち特に触媒金属の含有がないフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を除去するのに好ましく、また微細なパターニング形成に好ましい。

イオンビームエッチング、反応性イオンビームエッチングではマスクがなく、エッチングすることが可能であるが、ビームを変調する必要があり、面積当たりのプロセス時間が必要である。大面積ディスプレイよりは小型のディスプレイに適している。

また、上記Ｏ_２プラズマアッシング時のマスクとしてアルミニウム膜を使用した例を示したが、除去する際に導電層にダメージを与えない金属、例えば、チタン、金、モリブデン、タングステン、銀などを使用してもよい。チタンでは硝酸、金では王水、モリブデンでは熱濃硫酸または王水、タングステンではフッ化水素酸と硝酸の混合液により速やかに除去できる。しかし、長時間の処理では硝酸、硫酸、フッ化水素では導電層が徐々にではあるが劣化するため、ダメージを受けない条件、特に温度、濃度と所定の時間内で処理する必要がある。室温では硝酸６５％、硫酸９０％、フッ化水素４５％およびそれらの混合物で１時間以内の処理でダメージなく処理することができる。アルミニウムは他の金属に比べ安価であり、また、導電層の被覆状態、特にアルミニウムの結晶粒が密で被覆率が高く、しかもエッチング液である燐酸に対して導電層の劣化が見られず、他の金属よりも好ましい。

一方、原子量の大きい金属はイオンによるスパッタ率が小さく、スパッタ効果が主なドライエッチングの場合にマスク材として相応しい。特に金、タングステン、モリブデンはアルミニウム、チタンよりスパッタに対する耐性が２倍以上あり、マスク直下でのダメージを受けにくく、したがって、ナノパーティクルのうち特に触媒金属の含有がないフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を除去するのに好ましく、また微細なパターニング形成に好ましい。
また、金属以外でも、Ｏ_２プラズマアッシングでのダメージを受けず、除去する際に導電層にダメージを与えない物質、たとえば二酸化珪素、酸化アルミニウムなどであれば、使用することが可能である。

（フラーレン官能基化カーボンナノチューブ）
フラーレン官能基化カーボンナノチューブ（本明細書では、ＣＢＦＦＣＮＴとも呼ぶ）は、カーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含む。つまり、ＣＢＦＦＣＮＴは、フラーレンおよびフラーレン系分子からなる群から選択される１種または複数種が共有結合を介して導入されたカーボンナノチューブである。

カーボンナノチューブとは、炭素原子によって作られる六員環ネットワーク（グラフェンシート）が単層または多層の同軸管状になった物質である。カーボンナノチューブは、炭素原子のみから構成されていてもよく、炭素原子と１種または複数種の他の原子（例えば、ヘテロ原子）を含んでいてもよい。カーボンナノチューブは、末端が開放および／または閉鎖された、円筒形または管状の構造を有することができる。また、他のカーボンナノチューブ構造も可能である。

フラーレンとは、炭素原子を含み、かつ、その構造が実質的に球形、楕円形またはボール状である分子である。フラーレンは、表面が閉鎖された中空の構造を有していてもよく、または、完全に閉鎖されるのではなく、１つまたは複数の開結合（ｏｐｅｎ ｂｏｎｄｓ）を有する実質的に球形の構造を有していてもよい。フラーレンは、例えば、実質的に半球体のような形状および／または任意の他の球のような形状を有することもできる。
フラーレン系分子とは、上述のフラーレンのいずれかであって、分子内の１つまたは複数の炭素原子が、１つまたは複数の、例えば、炭素原子以外の原子（例えば、ヘテロ原子）、分子、基および／または化合物で置換されている分子や、上述のフラーレン分子のいずれかであって、１つまたは複数の追加の原子（例えば、ヘテロ原子）、分子、基および／または化合物がフラーレン内に組み込まれている分子や、上述のフラーレンのいずれかであって、１つまたは複数の追加の原子（例えば、ヘテロ原子）、分子、基および／または化合物がフラーレンの表面にくっ付いている分子を意味する。
なお、１種または複数種の他のフラーレンをカーボンナノチューブ表面にくっ付けることができるという点について触れておくことができるが、これは単なる１つの非限定例である。

１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、カーボンナノチューブの外面および／または内面、好ましくは外面に共有結合させることができる。フラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、２０〜１０００個の原子を含むことができる。フラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、１種または複数種の架橋原子団を介してカーボンナノチューブに共有結合させてもよいし、カーボンナノチューブに直接共有結合させてもよい。
架橋原子団とは、カーボンナノチューブへの共有結合を可能にするのに用いられる任意の原子、元素、分子、基および／または化合物を意味する。好適な架橋原子団は、例えば、元素周期表の第ＩＶ族、第Ｖ族、第ＶＩ族の任意の元素を含むことができる。好適な架橋原子団は、例えば、酸素、水素、窒素、硫黄、アミノ基、チオール基、エーテル基、エステル基および／またはカルボン酸基および／または他の任意の好適な基および／またはそれらの誘導体を含むことができる。好適な架橋原子団は、炭素含有基を含むことができる。
また、上述したように、もう一つの選択肢として、またはこれに加えて、フラーレンおよび／またはフラーレン系分子はカーボンナノチューブへ直接共有結合してもよい。例えば、フラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、１つまたは複数の炭素結合を介して直接共有結合してもよい。

カーボンナノチューブは、単一壁、二重壁、若しくは多重壁のカーボンナノチューブ、または、複合カーボンナノチューブを含むことができる。カーボンナノチューブは、気体、液体および／または固体の分散体、固体構造体、粉末、ペーストおよび／またはコロイド懸濁液の中で配合することができ、および／または、表面上で析出させ、および／または、合成することができる。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、１つまたは複数のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を介して、１つまたは複数のカーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブに結合させることができる。言い換えれば、例えば、共通のフラーレン分子を介して、２つのフラーレン官能基化カーボンナノチューブを互いに付着することができる。

（フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造方法）
１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造方法としては、１種または複数種の触媒粒子、炭素源および／または試薬を互いに接触させ、反応器内で加熱して、１種または複数種のカーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含む１種または複数種のカーボンナノチューブを製造することを含む。
１種または複数種の触媒粒子、炭素源および／または試薬を互いに接触させるステップは、例えば、それらを互いに接触させる任意の好適な方法（例えば、混合）により実施できる。この方法は、反応器内で実施されることが好ましい。このようにして、１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブは製造される。

フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、エアロゾルのような気相中で、および／または、基材上で製造できる。さらに、この方法は、連続流れであるか、バッチプロセスであるか、または、バッチサブプロセスと連続サブプロセスの組み合わせにすることができる。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造においては、種々の炭素含有物質を炭素源として使用できる。また、炭素源を形成する炭素含有前駆物質も使用できる。炭素源は、１種または複数種のアルカン、アルケン、アルキン、アルコール、芳香族炭化水素および任意の他の好適なグループ、化合物または材料からなる群より選択できる。また、炭素源は、例えば、気体の炭素化合物（メタン、エタン、プロパン、エチレン、アセチレン、一酸化炭素など）、液体の揮発性炭素源（ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、メタノール、エタノール、およびオクタノールなど）および他の任意の好適な化合物と、それらの誘導体からなる群より選択できる。チオフェンも炭素源として使用できる。なかでも、一酸化炭素ガスが、炭素源として好ましい。
炭素源としては、１種または複数種を使用できる。
炭素前駆物質を使用する場合、炭素前駆物質は、例えば、加熱されたフィラメントまたはプラズマを用いて、反応器中の所望の場所で活性化させることができる。

１つの実施態様では、１種または複数種の炭素源は、１種または複数種の触媒粒子源、試薬、試薬前駆物質および／または追加の試薬としても機能する。
炭素源は、５〜１００００ｃｃｍ、好ましくは５０〜１０００ｃｃｍ、例えば約３００ｃｃｍの割合で反応器に導入することができる。この方法で用いる種々の材料（例えば、炭素源）の圧力は、０．１〜１０００Ｐａ、好ましくは１〜５００Ｐａにすることができる。
１種または複数種の試薬を、フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造において使用できる。試薬はエッチング剤であってよい。試薬は、水素、窒素、水、二酸化炭素、亜酸化窒素、二酸化窒素および酸素よりなる群から選択できる。さらに、試薬は、例えば、有機および／または無機の酸素含有化合物（オゾン（Ｏ₃）など）および種々の水素化物から選択できる。この方法に用いる１種または複数種の試薬は、一酸化炭素、オクタノールおよび／またはチオフェンから選択できる。
好ましい試薬（１種または複数種）は、水蒸気および／または二酸化炭素である。また他の任意の好適な試薬も、本発明による方法に用いることができる。他の試薬および／または試薬前駆物質を炭素源として用いることもでき、その逆も同様である。そのような試薬の例は、例えば、ケトン、アルデヒド、アルコール、エステルおよび／またはエーテルおよび／または他の任意の好適な化合物である。

これら１種または複数種の試薬、および／または、試薬前駆物質を、例えば、炭素源と一緒かまたは別個に反応器に導入できる。１種または複数種の試薬／試薬前駆物質は、１〜１２０００ｐｐｍ、好ましくは１００〜２０００ｐｐｍの濃度で反応器に導入できる。

カーボンナノチューブに共有結合する１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子の濃度は調整できる。この調整は、使用する１種または複数種の試薬の量（例えば、濃度）を調整することにより、加熱温度を調整することにより、さらに／または滞留時間を調整することにより、行うことができる。調整は合成方法に応じて行われる。加熱は、２５０〜２５００℃、好ましくは６００〜１０００℃の温度で行うことができる。例えば、Ｈ_２ＯおよびＣＯ_２を試薬として用いる場合、試薬の濃度は、水の場合には４５〜２４５ｐｐｍの間、好ましくは１２５〜１８５ｐｐｍの間にし、ＣＯ_２の場合には２０００〜６０００ｐｐｍの間、好ましくは約２５００ｐｐｍにすることができる。このようにして１フラーレン／ｎｍより高いフラーレン密度にすることができる。１種または複数種の試薬の特定濃度でも、加熱温度に最適範囲があることを見出すことができる。

炭素源の分解／不均化の過程を触媒する種々の触媒材料（触媒粒子）を使用できる。
用いる触媒粒子は、例えば、種々の金属および／または非金属の材料を含んでよい。好ましい触媒粒子は、１種類の金属、好ましくは１種類の遷移金属および／または金属（複数種）および／または遷移金属（複数種）の組み合わせを含む。触媒粒子は、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、モリブデン、パラジウムおよび／または他の任意の類似元素を含むことが好ましい。触媒粒子は、化学前駆物質（例えば、フェロセン）から、例えば、フェロセン蒸気の熱分解によって形成させることができる。触媒粒子は、金属または金属含有物質を加熱することにより製造できる。

触媒粒子／触媒前駆物質は、１０〜１００００ｃｃｍ、好ましくは５０〜１０００ｃｃｍ（例えば、約１００ｃｃｍ）の割合で反応器に導入できる。
本発明による方法に用いる触媒粒子は、種々の方法で製造できる。そのような方法の例としては、例えば、触媒前駆物質の化学蒸気分解（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）、物理的蒸気核形成（ｐｈｙｓｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｎｕｃｌｅａｔｉｏｎ）がある。また、他の方法としては、触媒粒子は、例えば、エレクトロスプレー、超音波噴霧、空気噴霧などによって、例えば、金属塩溶液並びにコロイド状金属ナノ粒子溶液から作られる液滴から製造できるか、あるいは、熱乾燥および分解および／または任意の他の適用可能な方法および／またはプロセスおよび／または材料を使用して製造できる。粒子を製造するための他の任意の手順、例えば、ノズル内での断熱膨張、アーク放電および／またはエレクトロスプレーシステムも、触媒粒子の形成に使用できる。熱ワイヤー式発生器（ｈｏｔ ｗｉｒｅ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）を触媒粒子の製造に使用することもできる。本発明によれば、金属蒸気を発生させるために金属を含有した塊を加熱および／または蒸発させる他の手段も可能である。

触媒粒子はあらかじめ合成しておくこともでき、それから反応器に導入することができる。しかし、一般に、ＣＢＦＦＣＮＴの製造に必要な粒度範囲の粒子は、取り扱いおよび／または貯蔵が困難なので、製造プロセスにおける統合ステップとして反応器の近くで粒子を製造することが好ましい。
エアロゾルおよび／または表面担持の触媒粒子を、フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造に使用できる。触媒粒子前駆物質を触媒粒子の製造に使用できる。
基材担持のフラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造の場合、触媒粒子は基材上で直接製造することができ、および／または、拡散、熱泳動（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｓｉｓ）、電気泳動、慣性衝突および／または他の任意の手段によって気相から析出させることができる。
触媒粒子の化学的製造方法の場合、金属有機化合物、有機金属化合物および／または無機化合物、例えば、メタロセン化合物、カルボニル化合物、キレート化合物および／または他の任意の好適な化合物を、触媒前駆物質として使用できる。

触媒粒子の物理的製造方法の場合、例えば、純金属またはその金属の合金を、抵抗加熱、誘導加熱、プラズマ加熱、伝導加熱もしくは放射加熱、または、化学反応などの種々のエネルギー源を用いて蒸発させ（ここで、生成された触媒蒸気の濃度は、放出の場所での核形成に必要なレベルより低い）、その後で過飽和蒸気から核形成、凝縮、および／または凝結させることができる。物理的方法において触媒粒子の形成につながる過飽和蒸気の生成手段としては、例えば、抵抗加熱されたワイヤーの回りでの対流熱伝達、伝導性熱伝達および／または放射熱伝達および／または（例えば、ノズル内の）断熱膨張による気体冷却がある。

触媒粒子の熱分解製造方法の場合、例えば、種々の金属および／または他の任意の好適な物質の硝酸塩、炭酸塩、塩化物および／またはフッ化物などの、無機塩を使用できる。
本発明の方法は、１種または複数種の追加試薬を導入するステップをさらに含むことができる。追加試薬は、カーボンナノチューブの形成を促進するため、炭素源の分解速度を変化させるため、カーボンナノチューブの製造中および／または製造後の無定形炭素と反応させるため、および／または（例えば、カーボンナノチューブの精製、ドーピングおよび／またはさらなる官能基化のために）カーボンナノチューブと反応させるために使用できる。触媒粒子前駆物質、触媒粒子、炭素源、無定形炭素および／またはカーボンナノチューブ（１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子が共有結合しているもの）との化学反応に関与させるための追加試薬を、本発明に従って使用できる。１種または複数種の追加試薬は、炭素源と一緒または別個に導入できる。

本発明によるＣＢＦＦＣＮＴ形成用の促進剤（すなわち、追加試薬）として、硫黄、リンおよび／または窒素元素および／またはそれらの化合物（チオフェン、ＰＨ_３、ＮＨ_３など）などの追加試薬を使用できる。追加の促進剤試薬は、Ｈ_２Ｏ、ＣＯ_２、ＮＯおよび／または任意の他の好適な元素および／または化合物から選択できる。
精製工程では、場合によっては、例えば、望ましくない無定形炭素コーティングおよび／またはＣＢＦＦＣＮＴ内に封入された触媒粒子を除去する必要がありうる。本発明では、１つまたは複数の加熱される別個の反応器／反応器セクションを設けることが可能であり、１つの反応器または反応器の１つのセクションはＣＢＦＦＣＮＴを製造するのに使用し、残りのもの（１つまたは複数）は、例えば、さらなる精製、さらなる官能基化および／またはドーピングに使用する。上記のステップを組み合わせることも可能である。
無定形炭素を除去するための化学物質として、任意の化合物、その化合物の誘導体および／またはその化合物の分解生成物（反応器中においてその場で形成される）を使用できるが、それは好ましくは、黒鉛化炭素とではなく無定形炭素と反応する。そのような試薬の例として、１種または複数種のアルコール、ケトン、有機酸および／または無機酸を使用できる。さらに、Ｈ_２Ｏ、ＣＯ_２および／またはＮＯなどの酸化剤を使用できる。本発明によれば、他の追加試薬も可能である。

１つの実施態様では、ＣＢＦＦＣＮＴをさらに官能基化するために１種または複数種の追加試薬を使用できる。ＣＢＦＦＣＮＴに付着する化学基および／またはナノ粒子により、製造されるＣＢＦＦＣＮＴの性質が変わる。例として、ホウ素、窒素、リチウム、ナトリウム、および／またはカリウム元素によってＣＢＦＦＣＮＴをドーピングすると、ＣＢＦＦＣＮＴの伝導率が変化する。すなわち、超伝導性を有するＣＢＦＦＣＮＴが得られる。フラーレンによってカーボンナノチューブを官能基化すると、付着したフラーレンによってカーボンナノチューブのさらなる官能基化が可能になる。本発明では、ＣＢＦＦＣＮＴの形成前、その形成中、および／またはその形成の後に適切な試薬を導入することにより、その場で官能基化および／またはドーピングを行うことができる。

１つの実施態様では、１種または複数種の追加試薬は、炭素源、キャリヤーガスおよび／または触媒粒子源としても振る舞うことができる。
１つの実施態様では、この方法は、１種または複数種の添加剤を反応器に導入してフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料を製造するステップをさらに含む。例えば、製造されたＣＢＦＦＣＮＴをコーティングし、および／または、ＣＢＦＦＣＮＴと混合して、ＣＢＦＦＣＮＴ複合材を作るために、１種または複数種の添加剤を使用できる。添加剤の目的は、例えば、マトリックスに付着したＣＢＦＦＣＮＴの触媒効率を増大させること、および／または、マトリックスの性質（硬さ、剛性、化学反応性、光学特性および／または熱伝導率および／または電気伝導率および／または膨張係数など）を制御することである。ＣＢＦＦＣＮＴ複合材料用のコーティングまたはエアロゾル化粒子添加剤として、好ましくは１種または複数種の金属含有材料および／または有機材料（ポリマーなど）および／またはセラミック、溶剤および／またはそれらのエアロゾルを使用できる。本発明によれば、他の任意の好適な添加剤も使用できる。
得られた複合材は、例えば、直接回収し、マトリックスに付着させ、および／または表面上に付着させることができる。これは、電気力、熱泳動（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｔｉｃ）力、慣性力、拡散力、乱流移動（ｔｕｒｂｏｐｈｏｒｅｔｉｃ）力、重力および／または他の好適な力によって行って、例えば、厚膜または薄膜、糸、構造体および／または層状材料を形成させることができる。ＣＢＦＦＣＮＴは、１種または複数種の添加する固体または液体および／または固体または液体粒子によってコーティングして、ＣＢＦＦＣＮＴ複合材を構成することができる。

添加剤は、例えば、過飽和蒸気の凝縮、すでに付着している層との化学反応、ドープ剤および／または官能基により、および／または他の手段によって、あるいは添加剤が粒子である場合、気相中で混合および凝集させて、ＣＢＦＦＣＮＴ上に表面コーティングとして付着させることができる。さらに、ＣＢＦＦＣＮＴへの気体および粒子の付着を組み合わせることができる。

１つの実施態様では、反応器へ上記の物質を導入するのに、必要に応じて１種または複数種のキャリヤーガスを使用することができる。キャリヤーガスは、所望される場合には、炭素源、触媒粒子源、試薬源および／または追加試薬源として機能することもできる。
１つの実施態様では、この方法は、固体、液体または気体の分散体（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）、固体構造体、粉末、ペースト、コロイド懸濁液として、および／または表面付着物として、製造された１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料を回収するステップをさらに含む。
１つの実施態様では、この方法は、製造されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料の分散体、例えば、気体分散体を、表面上および／またはマトリックスおよび／または層状構造体および／またはデバイスの中に付着させるステップをさらに含む。
種々の手段（慣性衝突、熱泳動および／または電界内での移動が含まれるが、これらに限定されない）により、合成された材料の付着の制御を行って、電気伝導率および／または熱伝導率、不透明度および／または機械的強度、硬さおよび／または延性などの所望の性質を有する、所望の形状（例えば、糸、点、膜または三次元構造体）に形成させることができる。合成された材料の付着の制御を行う手段として、電気伝導率および／または熱伝導率、不透明度および／または機械的強度、硬さおよび／または延性などの所望の性質を有する所望の形状（例えば、糸、点または膜）を形成させる、重力沈降、ファイバーおよびバリヤー濾過、慣性衝突、熱泳動および／または電界内での移動がさらにあるが、これらに限定されない。

以下、１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブを製造するための装置について述べる。その装置は、１種または複数種の触媒粒子、炭素源および／または試薬を加熱するための反応器を具備し、その加熱は、１種または複数種のカーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含んだ１種または複数種のカーボンナノチューブを製造するために行われる。
かかる装置は、触媒粒子の製造手段；１種または複数種の触媒粒子の導入手段；１種または複数種の触媒粒子前駆物質の導入手段；１種または複数種の炭素源の導入手段；１種または複数種の炭素源前駆物質の導入手段；１種または複数種の試薬の導入手段；１種または複数種の試薬前駆物質の導入手段；１種または複数種の追加試薬の導入手段；１種または複数種の添加剤の導入手段；製造された１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料の回収手段；製造されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはカーボンナノチューブ複合材料の分散体（例えば、気体分散体）を付着させる手段；触媒粒子の製造手段および／または反応器へエネルギーを供給する手段の、１つまたはそれ以上をさらに具備することができる。上記の種々の材料を、例えば、反応器および／または装置の他の任意の部分へ導入するのに使用される手段は、例えば、１つの同じ手段または種々の手段を具備することができる。例えば、本発明の１つの実施態様では、１種または複数種の炭素源および試薬は、１つの同じ手段を用いて反応器に導入することができる。さらに、必要に応じて，装置は反応器内に混合手段を具備することができる。

装置は、１つまたは複数の反応器を具備することができ、それによって、ＣＢＦＦＣＮＴ、さらに官能基化されたＣＢＦＦＣＮＴ、ドーピングされたＣＢＦＦＣＮＴおよび／またはそれらのＣＢＦＦＣＮＴの複合材料の連続製造および／またはバッチ製造が可能である。反応器の構成は、直列および／または並列にして、種々の最終組成物を得ることができる。さらに、反応器は、完全なバッチ手順または部分的なバッチ手順で操作することができる。

反応器は、例えば管、例えば、セラミック材料、鉄、ステンレス鋼および／または任意の他の好適な材料を含む管を具備することができる。本発明の１つの実施態様では、反応器の表面は、反応器に（例えば、上流で）導入される１種または複数種の試薬前駆物質から、ＣＢＦＦＣＮＴの製造に必要な１種または複数種の試薬を触媒的に製造する材料を含んでなることができる。

１つの実施態様では、管の内径は、例えば、０．１〜２００ｃｍ、好ましくは１．５〜３ｃｍにすることができ、管の長さは、例えば、１〜２０００ｃｍ、好ましくは２５〜２００ｃｍにすることができる。任意の他の寸法（例えば、工業的用途におけるもの）も適用できる。

本発明による装置を使用する場合、反応器内の作業圧力は、例えば、０．１〜１０気圧，好ましくは０．５〜２気圧（例えば、約１気圧）にすることができる。さらに、反応器内の温度は、２５０〜２５００℃、例えば、６００〜１０００℃にすることができる。

触媒粒子の製造手段は、例えば、予備反応器（ｐｒｅ‐ｒｅａｃｔｏｒ）を具備することができる。この手段は、例えば、熱ワイヤー式発生器を具備することができる。装置は、触媒粒子を製造するための他の任意の好適な手段をさらに具備することができる。この手段は、反応器とは間隔をあけて分離することができる。あるいは、反応器に組み込まれた一部にすることもできる。本発明による装置を使用する場合、触媒粒子の製造手段は、例えば、反応器温度が２５０〜２５００℃、好ましくは３５０〜９００℃となる場所に置くことができる。

１つの好ましい実施態様では、例えば、予備反応器（例えば、熱ワイヤー式発生器）を通過する流れは、好ましくは水素と窒素の混合物であり、ここで水素の率は好ましくは１％から９９％の間、より好ましくは５から５０％の間、もっとも好ましくはおよそ７％である。流量、例えば、熱ワイヤー式発生器中を通過する流量は、１〜１００００ｃｃｍ、好ましくは２５０〜６００ｃｃｍにすることができる。

本発明によれば、種々のエネルギー源を用いて、例えば、化学反応および／またはＣＢＦＦＣＮＴ合成を、例えば、促進し、および／または妨げることができる。例として、抵抗、伝導、放射および／または原子力および／または化学反応で加熱された反応器および／または予備反応器があるが、これらに限定されない。その他のエネルギー源を反応器および／または予備反応器に使用することもできる。例えば、高周波、マイクロ波、音、レーザーによる誘導加熱および／またはその他の何らかのエネルギー源（化学反応など）を使用できる。

＜その他部材＞
上述した導電性フィルムには、偏光子および導電性フィルム以外の他の部材が含まれていてもよい。以下、任意の構成部材について詳述する。

＜ハードコート層＞
本発明の導電性フィルムは、さらに、導電層上（導電層の偏光子側とは反対側の表面上）に機能層としてハードコート層を有していてもよい。
本発明において、ハードコート層とは、この層を形成することで導電性フィルムの鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。
ハードコート層の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましく、１．５〜２０μｍがさらに好ましい。
ハードコート層は１層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
本発明の導電性フィルムのハードコート層の表面は平坦であって凹凸があっても構わない。また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。

ハードコート層の形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用されるが、一般的には、所定の成分を含むハードコート層形成用組成物を導電層上に塗布して、必要に応じて、硬化処理（例えば、加熱処理および／または光照射処理）を実施する方法が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物の態様においては、後段にて詳述する。
塗布方法としては、公知の塗布方法を採用し得る。例えば、グラビアコート、ロールコート、リバースコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ワイヤーバーコート、カーテンコート、押出コート、スピナーコート等が挙げられる。

ハードコート層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、溶媒を除去するために、組成物の塗布層に対して乾燥処理を施してしてもよい。乾燥処理の方法は特に制限されず、風乾処理や、加熱処理などが挙げられる。

上記塗布により得られた組成物の塗布層を重合硬化させる方法は特に制限されず、加熱処理または/および光照射処理などが挙げられる。
加熱処理の条件は使用される材料により異なるが、反応効率がより優れる点で、４０〜２００℃（好ましくは５０〜１５０℃）で０．５分〜１０分（好ましくは１分〜５分）処理することが好ましい。

光照射処理の条件は特に制限されず、紫外線を発生させて照射して光硬化させるという紫外線照射法が好ましい。このような方法に用いる紫外線ランプとして、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、パルス型キセノンランプ、キセノン／水銀混合ランプ、低圧殺菌ランプ、無電極ランプが挙げられる。これらの紫外線ランプの中でも、メタルハライドランプまたは高圧水銀ランプを用いることが好ましい。
また、照射条件はそれぞれのランプの条件によって異なるが、通常、照射露光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であればよく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であることが好ましい。

加熱処理や光照射はプロセス内で段階的に行なってもよい。また、温度制御の観点からプロセス内で接触するロールの温度制御を行ってもよい。

以下、ハードコート層を形成するために使用されるハードコート層形成用組成物の好適実施態様（その１）および（その２）について詳述する。

［ハードコート層形成用組成物（その１）］
本発明において、ハードコート層は、不飽和二重結合を有する化合物、重合開始剤、必要に応じて、透光性粒子、含フッ素またはシリコーン系化合物、溶剤を含有する組成物を、導電層上に直接または他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。
以下、ハードコート層形成用組成物（その１）に含まれる各成分について説明する。

（不飽和二重結合を有する化合物）
ハードコート層形成用組成物には不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。これらモノマーは、１または２官能のモノマーと３官能以上のモノマーを併用して用いることもできる。

不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基およびＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。

重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。

不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、導電層との密着性、低カール、後述する含フッ素またはシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。

ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の無機成分を除いた全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、６０〜９９質量％がより好ましく、７０〜９９質量％が更に好ましく、８０〜９９質量％が特に好ましい。

ハードコート層形成用組成物に、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、ハードコート層に低透湿性を付与することができる。ハードコート性を高めるために、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を２以上有する化合物を用いることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物はハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物中、１〜９０質量％が好ましく、２〜８０質量％がより好ましく、５〜７０質量％がさらに好ましい。

ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、更に５官能以上の（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
ハードコート層形成用組成物が更に、５官能以上の（メタ）アクリレートを含有する場合、５官能以上の（メタ）アクリレートは、ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物中、１〜７０質量％が好ましく、２〜６０質量％がより好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。

（透光性粒子）
ハードコート層に透光性粒子を含有させることで、ハードコート層表面に凹凸形状を付与したり、内部ヘイズを付与したりすることもできる。
ハードコート層に用いることができる透光性粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）、シリカ粒子（屈折率１．４６）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、または中空や細孔を有する粒子等が挙げられる。
なかでも、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、ハードコート層に好適な表面凹凸、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全ヘイズを達成することができる。バインダー（透光性樹脂）の屈折率は、１．４５〜１．７０が好ましく、１．４８〜１．６５がより好ましい。
また、透光性粒子と、ハードコート層のバインダーとの屈折率の差（「透光性粒子の屈折率」−「透光性粒子を除くハードコート層の屈折率」）は、絶対値として、好ましくは０．０５未満であり、より好ましくは０．００１〜０．０３０、更に好ましくは０．００１〜０．０２０である。ハードコート層中の透光性粒子とバインダーとの屈折率の差を０．０５未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、悪化作用が無く好ましい。

上記の粒子とバインダーの屈折率差を実現するためには、透光性粒子の屈折率を調節しても、バインダーの屈折率を調節してもよい。
好ましい第１の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましい。低屈折率であるアクリル成分と高屈折率であるスチレン成分の組成比を調節することで、透光性粒子とバインダーとの屈折率差を０．０５未満にすることが容易である。アクリル成分とスチレン成分の比率は質量比で５０／５０〜１００／０が好ましく、更に好ましくは６０／４０〜１００／０であり、最も好ましくは６５／３５〜９０／１０である。架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子の屈折率としては、１．４９〜１．５５が好ましく、更に好ましくは１．５０〜１．５４であり、最も好ましくは１．５１〜１．５３である。
好ましい第２の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダーに対して、１〜１００ｎｍの平均粒子サイズの無機微粒子を併用することで、モノマーと無機微粒子からなるバインダーの屈折率を調節し、既存の透光性粒子との屈折率差を調節するものである。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物、具体例としては、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ等が挙げられる。好ましくは、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３などが挙げられる。これら無機粒子は、モノマーの総量に対して１〜９０質量％の範囲で混合して用いることができ、好ましくは５〜６５質量％である。
ここで、透光性粒子を除くハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。

透光性粒子の平均粒径は、１．０〜１２μｍが好ましく、より好ましくは３．０〜１２μｍ、更に好ましくは４．０〜１０．０μｍ、最も好ましくは４．５〜８μｍである。屈折率差および粒子サイズを上記範囲に設定することで、光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプレイの文字ボケ、コントラスト低下を引き起こしにくい。添加する層の膜厚を厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じにくい点で、１２μｍ以下が好ましい。更に上記範囲内にすることは、塗工時の塗布量を抑えられ、乾燥が速く、乾燥ムラ等の面状欠陥を生じにくい点でも好ましい。
透光性粒子の平均粒径の測定方法は、粒子の平均粒径を測る測定方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とできる。

透光性粒子の形状は特に限定されないが、真球状粒子の他に、異形粒子（例えば、非真球状粒子）といった形状の異なる透光性粒子を併用して用いてもよい。特に非真球状粒子の短軸をハードコート層の法線方向にそろえると、真球粒子に比べ、粒子径が小さなものが使用できるようになる。

透光性粒子は、ハードコート層全固形分中に０．１〜４０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは１〜３０質量％、更に好ましくは１〜２０質量％、である。透光性粒子の配合比を上記範囲にすることで内部ヘイズを好ましい範囲に制御することができる。
また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは１０〜２５００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは３０〜２０００ｍｇ／ｍ^２、更に好ましくは１００〜１５００ｍｇ／ｍ^２である。

透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁および１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、および特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。

透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。粒子径の均一さを表すＣＶ値は１５％以下が好ましく、より好ましくは１３％以下、更に好ましくは１０％以下である。更に平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。

（光重合開始剤）
ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を含有させることが好ましい。
ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

（紫外線吸収剤）
導電性フィルムは、タッチパネル付き表示装置の部材などに使用されるが、液晶等の劣化防止の観点から、ＵＶ硬化を阻害しない範囲でハードコート層に紫外線吸収剤を含有させることで、導電性フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。

（溶剤）
ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。

［ハードコート層形成用組成物（その２）］
次に、帯電防止反射防止フィルムに用いる（帯電防止性）ハードコート層形成用組成物について説明する。
以下、ハードコート層形成用組成物（その２）に含まれる各種成分について詳述する。

（４級アンモニウム塩基を有する化合物）
本ハードコート層形成用組成物は、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有する。
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型または高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型のカチオン化合物がより好ましく用いられる。
高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、４級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはＣＨ_２ＣＯＯ⁻Ｍ^＋を表す。Ｙは水素原子またはＣＯＯ⁻Ｍ^＋を表す。Ｍ^＋はプロトンまたはカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−またはＯ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、またはこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ_２、Ｒ_２’およびＲ_２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、またはこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ⁻はアニオンを表す。ｐおよびｑは、それぞれ独立に、０または１を表す。

一般式（ＩＩ）中、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ_３とＲ_４およびＲ_５とＲ_６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
一般式（ＩＩ）中のＡおよびＢ、並びに、一般式（ＩＩＩ）中のＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−または−Ｒ_２３ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−を表す。
一般式（ＩＩＩ）中のＥは、単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−、−Ｒ_２３ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−または−ＮＨＣＯＲ_２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１４、Ｒ_１５、Ｒ_１６、Ｒ_１７、Ｒ_１９、Ｒ_２０、Ｒ_２２、Ｒ_２３、Ｒ_２５およびＲ_２６はアルキレン基を表す。Ｒ_１０、Ｒ_１３、Ｒ_１８、Ｒ_２１およびＲ_２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基およびアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。
Ｘ^‐はアニオンを表す。
Ｚ_１、Ｚ_２は−Ｎ＝Ｃ−基と共に５員または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ^＋［Ｘ⁻］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。

一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数１〜４の分岐または直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

一般式（Ｉ）において、Ｒ_１は水素原子またはメチル基が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｌは、好ましくは−ＣＯＯ−である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基、メチレン基、エチレン基、プロピレン基である。
Ｑは、下記一般式（ＶＩ）で表される基であり、Ｒ_２、Ｒ_２’およびＲ_２’’は各々メチル基である。
Ｘ⁻は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
ｐおよびｑは、好ましくは０または１であり、より好ましくはｐ＝１、ｑ＝１である。

一般式（ＩＩ）において、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、好ましくは炭素数１〜４の置換または無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
一般式（ＩＩ）中のＡおよびＢ、並びに、一般式（ＩＩＩ）中のＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ⁻は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Ｚ_１、Ｚ_２が、−Ｎ＝Ｃ−基と共に形成する５員または６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。

以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位を有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒおよび実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。

上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。

４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば製品名「ライトエステルＤＱ−１００」（共栄社化学（株）製）、製品名「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」（東洋インキ製造（株）製）、製品名「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」（日本合成化薬（株）製）、「ＮＫオリゴＵ−６０１、２０１」（新中村化学（株）製）などが挙げられる。

４級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位（イオン性構造単位）の他に、他の構造単位（繰り返し単位）を有していてもよい。４級アンモニウム塩基を有する化合物がイオン性構造単位以外の構造単位を持つことにより、組成物を作製する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。

上記（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位以外の構造単位を導入するために使用される重合性化合物としては特に限定されないが、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクチルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートノニルフェニルエーテル等のアルキレンオキサイド鎖を有する化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートや、スチレン、メチルスチレン等から選ばれる重合性化合物およびその組み合わせが挙げられる。

ハードコート層形成用組成物中の４級アンモニウム塩基を有する化合物の含有量は、帯電防止性を付与するのに十分な量でかつ膜硬度を減損しにくいという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して１〜３０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。

（不飽和二重結合を有する化合物）
ハードコート層形成用組成物には、不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。不飽和二重結合を有する化合物としては、上述した［ハードコート層形成用組成物（その１）］にて説明した化合物と同義である。
ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９８質量％が好ましく、６０〜９５質量％がより好ましい。

（光重合開始剤）
ハードコート層形成用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、および好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、および、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

（溶剤）
ハードコート層形成用組成物は種々の有機溶剤を含有してもよい。
本発明においては、イオン伝導性化合物との相溶性得る観点で、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メチル−１ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、アセトン、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、上記以外の溶剤を用いてもよい。例えば、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

ハードコート層形成用組成物中の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、最も好ましくは４０〜７０質量％である。

（界面活性剤）
ハードコート層形成用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、帯電防止層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、帯電防止化合物の分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。
界面活性剤としては、具体的には、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。

界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。ハードコート層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。

フッ素系界面活性剤としては、特に、ハジキ、ムラ等による点欠陥を防止する観点から、下記一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーに由来する繰り返し単位と、下記一般式（Ｆ２）で表されるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマーに由来する繰り返し単位とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体が好ましい。
一般式（Ｆ１）

（式中、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
一般式（Ｆ２）

（式中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。Ｌ^１は２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、または置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）

一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーは、下記一般式（Ｆ１−１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーであることも好ましい。
一般式（Ｆ１−１）

（式中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。Ｘは酸素原子、硫黄原、または−Ｎ（Ｒ^２）−を表す。ｍは１以上６以下の整数を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。Ｒ^２は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）

上記フルオロ脂肪族基含有共重合体の好ましい態様、および具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様である。

シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、““Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、 “ＳＴ８０ＰＡ”、 “Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、 “Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００” （商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
界面活性剤は、ハードコート層形成用組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。

なお、上述したハードコート層形成用組成物（その１）およびハードコート層形成用組成物（その２）以外にも、例えば、特開２０１２−７８５２８号公報の感光性組成物を上記ハードコート層形成用組成物として使用してもよい。

＜保護フィルム（偏光子保護フィルム）＞
保護フィルムは、偏光子の導電層側とは反対側の表面上に配置され、偏光子を保護する機能を有する。
保護フィルムとしては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロースアシレート系樹脂や、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）や、（メタ）アクリル系樹脂や、ポリエステル系樹脂を使用することができる。
保護フィルムの厚みは特に限定されないが、厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。

＜λ／４板＞
λ／４板は、偏光子と導電性フィルムとの間に配置される層である。λ／４板を配置することにより、偏光子とλ／４板とで円偏光板を形成することができる。円偏光板は、いわゆる外光反射防止用途に適用できる。
λ／４板（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーション値がλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション値（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０〜１６０ｎｍであることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１３０〜１４５ｎｍであることがさらに好ましい。

偏光子とλ／４板とが円偏光板として機能する場合、単層構造のλ/４板を使用する際には、偏光子の吸収軸と、λ／４板の面内遅相軸とのなす角度θは４５±１０°の範囲であることが好ましい。言い換えると、角度θは３５〜５５°の範囲にあることが好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子表面の法線方向から視認した際の、偏光子の吸収軸とλ／４板の面内遅相軸とのなす角度を意図する。

λ／４板は複層構造であってもよい。複層構造の例としては、例えば、λ／２板とλ／４板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。例えば、偏光子と広帯域λ／４（偏光子側から、λ／２板とλ／４とが含まれる）を積層する場合、偏光子の透過軸とλ／２板の面内遅相軸とのなす角度は１５±１０°、偏光子の透過軸とλ／４板の面内遅相軸とのなす角度は７５±１０°の範囲であることが好ましい。

λ／４板を構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、液晶化合物を含む態様（例えば、ホモジニアス配向した液晶化合物を含む光学異方性層）や、ポリマーフィルムなどが挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、液晶化合物を含むことが好ましい。より具体的には、λ／４板は、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。

＜導電性フィルムおよびその用途＞
導電性フィルムは、偏光子と、偏光子上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層とを少なくとも含む。
導電性フィルムのシート抵抗値は特に制限されないが、導電性がより優れる点で、１０〜１５０Ω／□が好ましく、１０〜１００Ω／がより好ましい。
シート抵抗値は、三菱ケミカルコーポレーションＬｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて四探針法によりＪＩＳ Ｋ ７１９４に準拠して測定した値とする。
上述した導電性フィルムは、種々の用途に適用することができ、例えば、タッチパネルなどが挙げられる。
以下、導電性フィルムをタッチパネルに適用した場合の好適態様について詳述する。

＜タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置＞
上述した導電性フィルムは、タッチパネル（好ましくは、静電容量式タッチパネル）に好適に使用できる。より具体的には、タッチパネルを構成する部材として適用することができ、導電層は、静電容量の変化を感知する検出電極（センサー電極）や、検出電極に電圧を印加するため引き出し配線（周辺配線）などに好適に適用できる。

（第１の実施態様）
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き表示装置の第１の実施態様について、図１を参照して説明する。図１は、本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。なお、図１は、タッチパネル付き液晶表示装置の層構成に対する理解を容易にするために模式的に表したものであり、各層の配置を正確に表した図面ではない。
図１に例示するように、本発明のタッチパネル付き液晶表示装置１０は、偏光子１２と第１タッチパネル用導電層１４Ａとから構成されるタッチパネル１６と、一対の液晶セル用基材１８Ａ、１８Ｂ、および、一対の液晶セル用基材１８Ａ、１８Ｂの間に形成された液晶層２０を有する液晶セル２２と、上記液晶セル２２のタッチパネル１６側とは反対側に偏光子２４とを有する。図１に例示するタッチパネル付き液晶表示装置１０は、第１タッチパネル用導電層１４Ａが偏光子１２と液晶セル用基材１８Ｂとの間に配置されているオンセル構造を有する。また、タッチパネル付き液晶表示装置１０は、さらに、偏光子２４の液晶セル２２側とは反対側にバックライト（図示せず）が配置されていてもよい。また、各部材の間には、図示しない粘着層が配置されていてもよい。さらに、偏光子１２の視認側の表面（第１タッチパネル用導電層１４Ａ側とは反対側の表面）には、必要に応じて、上述した保護フィルム（例えば、樹脂基板、ガラス基板）が配置されていてもよい。
このタッチパネル付き液晶表示装置１０においては、偏光子１２表面（タッチ面）に指が近接、接触すると、指とタッチパネル１６中の検出電極との静電容量が変化する。ここで、図示しない位置検出ドライバは、指と検出電極との間の静電容量の変化を常に検出している。この位置検出ドライバは、所定値以上の静電容量の変化を検出すると、静電容量の変化が検出された位置を入力位置として検出する。このようにして、タッチパネル１６は、入力位置を検出することができる。

図２は、図１に例示されるタッチパネル付き液晶表示装置１０に用いられるタッチパネル１６の一例を示す概略平面図である。図３は、図２の切断線Ａ−Ａ線に沿った拡大断面図であり、第１の電極列と第２の電極列との交差部分を示す図である。
タッチパネル１６は、偏光子１２上に、第１タッチパネル用導電層１４Ａが配置され、第１タッチパネル用導電層１４Ａは、第１の電極３０、第２の電極３２、第１の接続部３４、第２の接続部３６、絶縁層３８、および、引き出し配線４０を有する。
第１の電極３０、第２の電極３２および引き出し配線４０には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。つまり、第１の電極３０、第２の電極３２および引き出し配線４０が、上述した導電層に該当する。なお、本発明はこの態様に限定されず、タッチパネル用導電層１４が、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を有していればよく、第１の電極３０、第２の電極３２および引き出し配線４０以外の第１の接続部３４、および、第２の接続部３６にも、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれていてもよい。
なお、以下に、タッチパネル用導電層１４に含まれる各部材について詳述する。

詳述すると、複数（図２では４個）の第１の電極３０がｘ方向（図２では横方向）に直線状に並べられ、それぞれが第１の接続部３４で連結され、第１の電極列をなしている。そして、この第１の電極列が偏光子１２上に平行に複数（図２では４列）並べられている。この第１の電極列は、いわゆる検出電極に該当する。
また、複数（図２では４個）の第２の電極３２がｘ方向に直交するｙ方向（図２では縦方向）に直線状に並べられ、それぞれが第２の接続部３６で連結され、第２の電極列をなしている。そして、この第２の電極列が偏光子１２上に平行に複数（図２では４列）並べられている。この第２の電極列は、いわゆる検出電極に該当する。
さらに、第１の接続部３４と第２の接続部３６とが重なるように上記第１の電極列と上記第２の電極列とが交差して配されているので、第１の電極３０と第２の電極３２とは偏光子１２上に格子状に配置されている。
さらに、第１の接続部３４と第２の接続部３６とが重なっているので、第１の接続部３４と直交する第２の接続部３６の導通を防止し絶縁するために、第１の接続部３４と第２の接続部３６との間に絶縁層３８が介装されている。
さらに、第１の電極列と第２の電極列にそれぞれ接続する引き出し配線４０が、偏光子１２上に配置されていて、これらの第１の電極３０および第２の電極３２と図示しない制御回路とが引き出し配線４０により接続されている。
なお、第１の電極３０および第２の電極３２がある領域は、操作者によって入力操作が可能な入力領域Ｅ_I（物体の接触を検知可能な入力領域（センシング部））を構成し、入力領域Ｅ_Iの外側に位置する外側領域Ｅ_Oには引き出し配線４０、および、図示しないフレキシブルプリント配線板が配置される。

液晶セル２２には、一対の液晶セル用基材１８Ａおよび１８Ｂ、並びに、液晶層２０が少なくとも含まれ、他の部材（例えば、カラーフィルタ、ＴＦＴＢａｃｋｐｌｅｎｅなど）が含まれていてもよい。
また、タッチパネル付き液晶表示装置１０には、さらに光源が含まれていてもよい。

（第２の実施態様）
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き液晶表示装置の第２の実施態様について、図４を参照して説明する。
図４に例示するように、本発明のタッチパネル付き液晶表示装置１１０は、偏光子１２と、第２タッチパネル用導電層１４Ｂと、粘着層４２と、第３タッチパネル用導電層１４Ｃと、一対の液晶セル用基材１８Ａ、１８Ｂ、および、一対の液晶セル用基材１８Ａ、１８Ｂの間に形成された液晶層２０を有する液晶セル２２と、偏光子２４とを有する。偏光子１２と、第２タッチパネル用導電層１４Ｂと、粘着層４２と、第３タッチパネル用導電層１４Ｃとは、タッチパネル１１６を構成する。後述するように、第２タッチパネル用導電層１４Ｂには、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層が含まれる。つまり、偏光子１２と第２タッチパネル用導電層１４Ｂとを含む導電性フィルムは、本発明の導電性フィルムに該当する。
図４に示すタッチパネル付き液晶表示装置１１０は、タッチパネル１１６の点を除いて、図１に示すタッチパネル付き液晶表示装置１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下、主に、タッチパネル１１６について詳述する。

図５に、視認側（偏光子１２側）から観察した偏光子１２と第２タッチパネル用導電層１４Ｂとを含む積層体Ｘの平面図を示す。また、図６に、視認側から観察した第３タッチパネル用導電層１４Ｃと液晶セル２２とを含む積層体Ｙの平面図を示す。
図５に示すように、積層体Ｘは、偏光子１２と、偏光子１２の裏面側に配置された第２タッチパネル用導電層１４Ｂとを有し、第２タッチパネル用導電層１４Ｂは、第１検出電極５０および第１引き出し配線５２を有する。
第１検出電極５０および第１引き出し配線５２には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。つまり、第１検出電極５０および第１引き出し配線５２が、上述した導電層に該当する。なお、本発明はこの態様に限定されず、第１検出電極５０のみが、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層であってもよい。
なお、第１検出電極５０は、入力領域Ｅ_Iに接近した操作者の指のＹ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第１検出電極５０は、Ｙ方向に延び、Ｙ方向と直交するＸ方向に所定の間隔をあけて配列された電極である。
また、第１引き出し配線５２は、外側領域Ｅ_Oの偏光子１２上に配置され、その一端が対応する第１検出電極５０に電気的に接続され、その他端は図示しないフレキシブルプリント配線板に電気的に接続される。

図６に示すように、積層体Ｙは、液晶セル２２と、液晶セル２２の表面側に配置された第３タッチパネル用導電層１４Ｃとを有し、第３タッチパネル用導電層１４Ｃは、第２検出電極５４および第２引き出し配線５６を有する。
第２検出電極５４および第２引き出し配線５６には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。
第２検出電極５４は、入力領域Ｅ_Iに接近した操作者の指のＸ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第２検出電極５４は、Ｘ方向に延び、Ｙ方向に所定の間隔をあけて配列された電極である。
第２引き出し配線５６は、外側領域Ｅ_Oの液晶セル２２上に配置され、その一端が対応する第２検出電極５４に電気的に接続され、その他端は図示しないフレキシブルプリント配線板に電気的に接続される。

図５および図６に示すように、タッチパネル付き液晶表示装置１１０を視認側から観察すると、第１検出電極５０および第２検出電極５４が互いに直交するように配置されている。
第１検出電極５０および第２検出電極５４がある領域は、操作者によって入力操作が可能な入力領域Ｅ_I（物体の接触を検知可能な入力領域（センシング部））を構成し、入力領域Ｅ_Iの外側に位置する外側領域Ｅ_Oには第１引き出し配線５２および第２引き出し配線５６が配置される。

なお、粘着層４２は、各部材間を接続する層であり、公知の粘着層を使用することができる。

（第３の実施態様）
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き液晶表示装置の第３の実施態様について、図７を参照して説明する。
図７に例示するように、本発明のタッチパネル付き液晶表示装置２１０は、偏光子１２と、第２タッチパネル用導電層１４Ｂと、一対の液晶セル用基材１８Ａ、１８Ｂ、および、一対の液晶セル用基材１８Ａ、１８Ｂの間に形成された液晶層２０および第３タッチパネル用導電層１４Ｃと、偏光子２４とを有する。偏光子１２と、第２タッチパネル用導電層１４Ｂと、第３タッチパネル用導電層１４Ｃとは、タッチパネルを構成する。
図７に示すタッチパネル付き液晶表示装置２１０は、各層の配置が異なる点を除いて、図４に示すタッチパネル付き液晶表示装置１１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
タッチパネル付き液晶表示装置２１０においては、図４に示すタッチパネル付き液晶表示装置１１０と同様に、第２タッチパネル用導電層１４Ｂ中の第１検出電極５０と、第３タッチパネル用導電層１４Ｃ中の第２検出電極５４とが、互いに直交するように配置される。

（その他用途への適用）
上述したように、本発明の導電性フィルムにはλ／４板が含まれていてもよい。その場合、得られた導電性フィルムは、いわゆる円偏光板としても機能し、例えば、有機ＥＬ表示装置上に配置することにより、タッチパネルの構成要素となると共に、外光反射を防止する円偏光板としても機能する。
具体的な態様としては、図８に示すように、偏光子１２と、λ／４板６０と、第１タッチパネル用導電層１４Ａと、有機ＥＬ表示装置７０とを有する、タッチパネル付き有機ＥＬ表示装置８０が挙げられる。偏光子１２と、λ／４板６０と、第１タッチパネル用導電層１４Ａとは、本発明の導電性フィルムを構成し、偏光子１２の透過軸と、λ／４板６０の面内遅相軸とのなす角度は４５°である。
また、他の具体的な態様としては、図９に示すような、偏光子１２と、λ／４板６０と、第２タッチパネル用導電層１４Ｂと、粘着層４２と、第３タッチパネル用導電層１４Ｃと、有機ＥＬ表示装置７０とを有する、タッチパネル付き有機ＥＬ表示装置１８０が挙げられる。偏光子１２の透過軸と、λ／４板６０の面内遅相軸とのなす角度は４５°である。

以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜実施例１＞
（保護フィルム付き偏光子の作製）
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタックＴＪ２５ＵＬ、富士フイルム（株）製）を、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗した。その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
鹸化処理したフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて膜厚８μｍの偏光子（ポリビニルアルコール系樹脂（ＰＶＡ）含有偏光子）の片面に貼り合わせ、７０℃で１０分以上乾燥し、保護フィルム付き偏光子を作製した。ここで、偏光子の透過軸とフィルムの搬送方向とが直交するように配置した。

（フラーレン官能基化カーボンナノチューブ（ＣＢＦＦＣＮＴ）の合成）
触媒粒子源としてフェロセン、試薬（１種または複数種）として水蒸気および／または二酸化炭素を用い、炭素源としての一酸化炭素からのＣＢＦＦＣＮＴの合成を行った。以下に、その条件を詳述する。
炭素源：ＣＯ。触媒粒子源：フェロセン（反応器内の蒸気分圧は０．７Ｐａ）。使用炉温：８００、１０００、および、１１５０℃。使用流量：３００ｃｃｍのＣＯの内部流（フェロセン蒸気を含む）および１００ｃｃｍのＣＯの外部流。試薬：水蒸気（１５０および２７０ｐｐｍ）および／または二酸化炭素（１５００〜１２０００ｐｐｍ）。
この合成は、特表２００９−５１５８０４の図３（ａ）に示す態様で実施した。この実施態様では、触媒粒子はその場でフェロセン蒸気分解によって成長した。室温のＣＯを、ガスボンベ（２）から（３００ｃｃｍの流量で）フェロセン粉末を満たしたカートリッジ（４）を通過させることにより、前駆物質を蒸発させた。その後、フェロセン蒸気を含んだ流れを、水冷プローブ（５）を通してセラミック管反応器の高温ゾーンに導入し、１００ｃｃｍの流量の追加のＣＯ流れ（１）と混合した。
次に、酸化エッチング剤（例えば、水および／または二酸化炭素）を、炭素源と一緒に導入した。さらに、反応器内のフェロセンの蒸気分圧を０．７Ｐａに維持した。その後、反応器の壁の設定温度は、８００℃から１１５０℃まで変化させた。
エアロゾル生成物は、銀円板フィルターまたは透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）のグリッドのいずれかによって反応器の下流で回収した。これらエアロゾル生成物中に、カーボンナノチューブとフラーレンが共有結合したＣＢＦＦＣＮＴがあることが確認された。

得られたエアロゾルを直径２．４５ｃｍのニトロセルロースのフィルターを用いて、フィルタリングすることで、フィルター上にＣＢＦＦＣＮＴを含む導電層を作製した。なお、フィルタリングする際のフィルター表面の温度は４５℃であった。
次に、フィルター上に配置された導電層を、保護フィルム付き偏光子の偏光子面上に転写して、偏光子上に導電層（厚み：１０μｍ）を配置した。

次に、得られた導電層上に、以下に記載の方法によりハードコート層（厚み：６μｍ）を作製し、導電性フィルムを得た。
（ハードコート層作製手順）
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）／メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が４０質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）とＵ−４ＨＡ（４官能ウレタンオリゴマー、重量平均分子量６００、新中村化学社製）とＵ−１５ＨＡ（１５官能ウレタンオリゴマー、重量平均分子量２３００、新中村化学社製）とポリマー（７９７５−Ｄ４１、アクリル二重結合当量２５０、重量平均分子量１５０００、日立化成工業社製）を、固形分比で、２５質量部：２５質量部：４０質量部：１０質量部となるように添加して攪拌した。この溶液に、レベリング剤（製品名：メガファックＦ−４７７、ＤＩＣ社製）を固形分比で０．２質量部添加して撹拌し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
このハードコート層形成用組成物を、導電層上に、スリットリバースコートにより塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成した。

＜実施例２〜１４＞
実施例１にして使用した保護フィルム付き偏光子の種類を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
なお、実施例２〜１０においては、保護フィルムの種類および偏光子の厚みを変更して、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを作製した。
また、実施例１１〜１２においては、後段で詳述する塗布型ＰＶＡ偏光子含有積層体である、アクリルフィルムと偏光子（厚み：５μｍ）とを含む積層体Ｚ、および、アクリルフィルムと偏光子（厚み：３μｍ）とを含む積層体Ｗを、保護フィルム付き偏光子の代わりに使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを作製した。
さらに、実施例１３〜１４においては、後段で詳述する塗布型ＰＶＡ偏光子含有積層体である、セルロースアシレートフィルムと偏光子（厚み：５μｍ）とを含む積層体Ｖ、および、セルロースアシレートフィルムと偏光子（厚み：３μｍ）とを含む積層体Ｐを、保護フィルム付き偏光子の代わりに使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを作製した。

（塗布型ＰＶＡ偏光子含有積層体の作製）
特許第４６９１２０５号の実施例５（段落０１６１）において、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの代わりに、アクリルフィルム（テクノロイＳ００１Ｇ，住友化学（株）製）を用いた以外は、同様の手順に従って、アクリルフィルムと偏光子（厚み：５μｍ）との積層体（積層体Ｚ）を作製した。また、上記偏光子の厚みを５μｍから３μｍに変更して、同様の手順に従って、アクリルフィルムと偏光子（厚み：３μｍ）との積層体（積層体Ｗ）を作製した。
また、上記アクリルフィルムの代わりに、セルロースアシレートフィルム（ＴＪ２５ＵＬ、富士フイルム（株）製）を用いて、セルロースアシレートフィルムと偏光子（厚み：５μｍ）との積層体（積層体Ｖ）を作製した。さらに、上記偏光子の厚みを５μｍから３μｍに変更して、同様の手順に従って、セルロースアシレートフィルムと偏光子（厚み：３μｍ）との積層体（積層体Ｐ）を作製した。

上記で得られた各実施例の導電性フィルムを用いて、以下の評価を実施した。なお、得られた結果は表１にまとめて示す。
なお、比較例１および２に関しては、上述した積層体Ｚおよび積層体Ｗを用意して、後述する各種測定を実施した。

＜湿熱耐久性試験＞
作製した導電性フィルムから５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出し、粘着剤を用いて、導電性フィルム中のハードコート層（比較例１および２に関しては、偏光子）をガラス板に貼合した。作製したサンプルを、−３０℃で３０分間処理後、５℃／分の速度で７０℃まで昇温し、その後、７０℃で３０分間処理し、さらに、−５℃／分の速度で−３０℃まで降温する一連の操作を２００回繰り返した。一連の操作が終了後、導電性フィルムを目視にて観察して、偏光子に割れが無い場合を「Ａ」、偏光子に割れがある場合を「Ｂ」とした。

＜透過率、偏光度測定＞
作製した導電性フィルムの単体透過率Ｔ（％）、平行透過率Ｔｐ（％）、直交透過率Ｔｃ（％）を、紫外可視分光光度計（日本分光社製Ｖ７１００）を用いて測定した。これらのＴ、Ｔｐ、Ｔｃは、ＪＩＳ Ｚ ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により測定して視感度補正を行なったＹ値である。
次に、偏光度Ｐを上記の透過率を用い、次式により求めた。
偏光度Ｐ（％）＝｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
なお、後段の表１中の「透過率（％）」は、上記「単体透過率（％）」に該当する。また、上記平行透過率とは、２枚の導電性フィルムを用意して、導電性フィルム中の偏光子の透過軸が平行となるように、２枚の導電性フィルムを積層して得られるサンプルの透過率である。さらに、上記直交透過率とは、２枚の導電性フィルムを用意して、導電性フィルム中の偏光子の透過軸が直交するように、２枚の導電性フィルムを積層して得られるサンプルの透過率である。

＜シート抵抗値測定＞
作製した導電性フィルムから８０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出し、三菱ケミカルコーポレーションＬｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、四探針法によりＪＩＳ Ｋ ７１９４に準拠して、シート抵抗値を測定した。

表１中、「ＰＶＡ」とは、ポリビニルアルコール系樹脂を意図する。
表１中、「ＨＣ層」とは、ハードコート層を意図する。
表１中の「保護フィルム」欄に記載の各記号で表される支持体の種類を以下に示す。
・ＴＪ２５：セルロースアシレートフィルム（フジタックＴＪ２５ＵＬ、富士フイルム（株）製）
・サンプルＡ：下記参照
・ＴＧ４０：セルロースアシレートフィルム（フジタックＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）
・ＺＲＤ４０：セルロースアシレートフィルム（フジタックＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）
・シクロオレフィン：シクロオレフィンフィルム（ＺＦ１４、日本ゼオン（株）製）
・アクリル：アクリルフィルム（テクノロイＳ００１Ｇ、住友化学（株）製）

（サンプルＡの作製）
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調整した。
----------------------------------------------------------------
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
エステルオリゴマーＡ １０質量部
下記の添加剤Ｂ ４質量部
紫外線吸収剤Ｃ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
----------------------------------------------------------------

（エステルオリゴマーＡ）
芳香族ジカルボン酸（アジピン酸：フタル酸比率３：７）とジオール（エチレングリコール）の共重合体（末端はアセチル基）。分子量１０００。

（添加剤Ｂ）

（紫外線吸収剤Ｃ）

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記組成のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調整した。
----------------------------------------------------------------
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ １質量部
----------------------------------------------------------------

（セルロースアシレートフィルムの作製）
コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶媒が３〜１５％の状態で、横方向に１．１倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ４０μｍのセルロースアシレートフィルム（サンプルＡ）を作製した。

表１に示すように、本発明の導電性フィルムは、湿熱耐久性試験において偏光子の割れが抑制され、かつ、偏光子の性能劣化も起こっていなかった。
一方、導電層を配置していない比較例１および２においては、湿熱耐久性試験において偏光子の割れが発生することが確認された。
なお、上記実施例１〜１４においてはハードコート層を含む導電性フィルムを用いて各種評価を行ったが、ハードコート層が無い導電性フィルムにおいても、湿熱耐久性試験において偏光子の割れが抑制され、かつ、偏光子の性能劣化も起こっていなかった。

＜実施例１３：タッチパネルの作製＞
実施例１の手順に従って、保護フィルム付き偏光子上に導電層を配置した。その後、後述する手順に従って、図５に示すような、第１検出電極、および、第１引き出し配線に位置する部分の導電層のみを残して、他の導電層をエッチングにより除去した。その後、実施例１の手順に従って、パターン状の導電層上にハードコート層をそれぞれ配置して、導電性フィルムを得た。なお、第１検出電極の長さは１７０ｍｍであり、本数は３２本であった。
次に、実施例１の手順を参照して、図６に示すような、第２検出電極、および、第２引き出し配線の位置にＣＢＦＦＣＮＴを含む導電層が存在する、第３タッチパネル用導電層１４Ｃを用意した。なお、第３タッチパネル用導電層に含まれる第２検出電極の長さは３００ｍｍであり、本数は５６本であった。
次に、得られた導電性フィルムおよび液晶セルを用いて、図４に示すような積層順にて、各種部材を貼り合せて、図４に示すタッチパネル付き表示装置を得た。

（導電層のエッチング方法）
偏光子上に配置された導電層に対して、紫外線レーザーを用いたレーザーエッチング法（例えば、ＷＯ２０１３／１７６１５５参照）で、所望のパターンを形成した。

なお、上記では、偏光子上に導電層を配置してエッチング処理を施し、その後、パターン状の導電層上にハードコート層を配置したが、それ以外にも、偏光子上に導電層およびハードコート層を配置した後、上記エッチング方法にて所定のパターン状の導電層を作製して、上記手順に従って、タッチパネル付き表示装置を作製した。

また、偏光子の一方の面上に導電層は配置して、上記導電層のエッチングパターンを変えて、図２に示す、第１タッチパネル用導電層１４Ａに示すパターンに変更して、所定の導電層を作製して、図１に示すような積層順にて、各種部材を貼り合せて、図１に示すタッチパネル付き表示装置を得た。
さらに、導電層の位置を変更することによって、図７に示すタッチパネル付き表示装置も得た。
なお、上記では実施例１で使用された保護フィルム付き偏光子を用いたが、実施例２〜１２にて用いた保護フィルム付き偏光子を用いても、上記と同様に、各種タッチパネル付き表示装置を得た。

実施例１の作製の際に、偏光子と導電層との間にλ／４板を配置することにより、λ／４板を含む導電性フィルムを作製した。なお、その際、導電層は、図２に示す、第１タッチパネル用導電層１４Ａに示すパターンとなるように調整した。
得られたλ／４板を含む導電性フィルムを、図８に示すように、有機ＥＬ表示装置上に配置した。
なお、λ／４板の作製方法は、以下に従った。

（アルカリ鹸化処理）
セルロースアシレートフィルム（ＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（（株）ノリタケカンパニーリミテド製）の下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

アルカリ溶液組成
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液（Ａ）を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は９６．８％であった。

配向膜塗布液（Ａ）の組成
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下記変性ポリビニルアルコール−１ １０質量部
水 ３０８質量部
メタノール ７０質量部
イソプロパノール ２９質量部
光重合開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン製）０．８質量部
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［変性ポリビニルアルコール−１］

（第１光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１５°）。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ａ）を上記作製した配向膜上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布し、下記条件にて処理して、第１光学異方性層（Ｈ）を含む位相差板（Ｆ１）を作製した。なお、フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１３０℃の温風で９０秒間、続いて、１００℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。第１光学異方性層（Ｈ）の厚みは２．０μｍであった。ＤＬＣ化合物（ディスコティック液晶化合物）の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ＤＬＣ化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、１５°であった。

光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
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ディスコティック液晶−１ ８０質量部
ディスコティック液晶−２ ２０質量部
配向膜界面配向剤−１ ０．５５質量部
配向膜界面配向剤−２ ０．０５質量部
含フッ素化合物（ＦＰ−１） ０．１質量部
変性トリメチロールプロパントリアクリレート １０質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
メチルエチルケトン ２００質量部
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ディスコティック液晶−１

ディスコティック液晶−２

配向膜界面配向剤−１

配向膜界面配向剤−２

含フッ素化合物（ＦＰ−１）

位相差板（Ｆ２）の作製

（剥離性支持体の作製）
前述のセルロースアシレートフィルムにアルカリ鹸化処理することなく、配向膜の作製を以下のように実施した以外は、配向膜の製造と同様の手順に従って、剥離性支持体を製造した。

（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルムに、下記組成の配向膜塗布液（Ｂ）を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。

配向膜塗布液（Ｂ）の組成
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下記変性ポリビニルアルコール−２ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製 ＡＳ３） ０．１７５質量部
光重合開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン製） ２．０質量部
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［変性ポリビニルアルコール−２］

（第２光学異方性層（Ｑ）の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１５°）。

下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ｂ）を、上記作製した配向膜上に＃２．２のワイヤーバーで連続的に塗布し、下記条件にて処理して、第２光学異方性層（Ｑ）を含む位相差板（Ｆ２）を作製した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。第２光学異方性層（Ｑ）の厚みは０．８μｍであった。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、１０５°であった。

光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成
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棒状液晶化合物−１ ８０質量部
棒状液晶化合物−２ ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
含フッ素化合物（ＦＰ−２） ０．３質量部
メチルエチルケトン １９３質量部
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［棒状液晶化合物−１］

［棒状液晶化合物−２］

［含フッ素化合物（ＦＰ−２）］

（λ/４板の作製）
前述の位相差板（Ｆ１）の第１光学異方性層（Ｈ）が塗設された面と、前述の位相差板（Ｆ２）の第２光学異方性層（Ｑ）の面とを粘着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時に前述の剥離性支持体をセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）と配向膜との間で剥離させた。このようにして長尺状の円偏光板（Ｐ２）を作製した。なお、導電性フィルム中の偏光子の吸収軸は、偏光板の長手方向と一致しており、偏光子の吸収軸と第２光学異方性層（Ｑ）の遅相軸とのなす角度が１５°であった。
なお、第１光学異方性層（Ｈ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは２７５ｎｍであり、第２光学異方性層（Ｑ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１３７．５ｎｍであった。また、導電性フィルム中においては、第１光学異方性層（Ｈ）が偏光子側に配置されていた。

１０，１１０，２１０ タッチパネル付き表示装置
１２，２４ 偏光子
１４Ａ 第１タッチパネル用導電層
１４Ｂ 第２タッチパネル用導電層
１４Ｃ 第３タッチパネル用導電層
１６，１１６ タッチパネル
１８Ａ，１８Ｂ 液晶セル用基材
２０ 液晶層
２２，２２２ 液晶セル
３０ 第１の電極
３２ 第２の電極
３４ 第１の接続部
３６ 第２の接続部
３８ 絶縁層
４０ 引き出し配線
４２ 粘着層
５０ 第１検出電極
５２ 第１引き出し配線
５４ 第２検出電極
５６ 第２引き出し配線
６０ λ／４板
７０ 有機ＥＬ表示装置
８０，１８０ タッチパネル付き有機ＥＬ表示装置

Claims (8)

1. 偏光子と、
   前記偏光子に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層と、を有する導電性フィルム。
2. さらに、前記導電層上に配置されたハードコート層を有する、請求項１に記載の導電性フィルム。
3. シート抵抗値が１０〜１５０Ω／□である、請求項１または２に記載の導電性フィルム。
4. 前記偏光子の厚みが５〜３０μｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
5. 偏光子と、
   λ／４板と、
   前記λ／４板に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層と、を有する導電性フィルム。
6. さらに、前記偏光子の前記導電層側とは反対側の表面上に保護フィルムを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
7. タッチパネルに用いられる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
8. 請求項７に記載の導電性フィルムを有する、タッチパネル付き表示装置。