JP5262032B2 - 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は、光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置の最表面には、種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
このような光学積層体は、厚みが約４０〜１００μｍからなる薄いシートであり、製造工程において、このシートを巻き取ったり、重ねたりすると互いに貼りついてしまうといった問題があった。例えば、光学積層体の製造において、基材上にハードコート層を形成した後、このシートを一旦巻き取り、次の工程にて再び上記シートを剥がす際に、シートが貼りついて工程内不良が生じるといった問題があった。そのような薄いシートの貼りつきを防ぐために、一般に、シートの表面に微細な凹凸形状を形成することが知られている（特許文献１）。
一方、上記の光学積層体において、低反射性や防眩性を付与するために、粒子を添加して表面に凹凸形状を形成する方法が知られている（特許文献２）。
しかし、単に表面に凹凸形状を形成する目的で上記粒子を添加すると、ヘイズ（曇り）も付与されてしまうため、光学特性に影響を与えずに高い透明性を有する層を形成するのは困難であった。特に、クリヤータイプの光学積層体に対して、このような貼り付き防止を図ることは困難であった。
特開２００４−２８４９９９号公報
特開２００４−６９８６７号公報
しかし、単に表面に凹凸形状を形成する目的で上記粒子を添加すると、ヘイズ（曇り）も付与されてしまうため、光学特性に影響を与えずに高い透明性を有する層を形成するのは困難であった。特に、クリヤータイプの光学積層体に対して、このような貼り付き防止を図ることは困難であった。
本発明は、上記現状に鑑みて、製造工程において、巻き取ったり重ねたりしても互いに張り付くことなく容易に剥離することができ、透明性の高い光学積層体を製造するための光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有し、上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性ジアクリレートとの組み合わせ、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレートとの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つの組み合わせを含み、上記浸透性が高い溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンからなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする光学積層体の製造方法である。
上記浸透性が高い溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記浸透性が高い溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも１つの元素の酸化物を含有することが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を含むことが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素系化合物及び／又はフッ素系化合物を含むことが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
上記光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有することが好ましい。
本発明の光学積層体の製造方法は、低屈折率層を形成する工程を更に有することが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を含むことが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素系化合物及び／又はフッ素系化合物を含むことが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
上記光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有することが好ましい。
本発明の光学積層体の製造方法は、低屈折率層を形成する工程を更に有することが好ましい。
本発明はまた、上述の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体でもある。
上記光学積層体は、全光線透過率が９１％以上であることが好ましい。
上記光学積層体は、ヘイズ値が０．７％以下であることが好ましい。
本発明はまた、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、上記光透過基材上に塗布して形成されたものであり、上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性ジアクリレートとの組み合わせ、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレートとの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つの組み合わせを含み、上記浸透性が高い溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンからなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする光学積層体でもある。
上記光学積層体は、全光線透過率が９１％以上であることが好ましい。
上記光学積層体は、ヘイズ値が０．７％以下であることが好ましい。
本発明はまた、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、上記光透過基材上に塗布して形成されたものであり、上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性ジアクリレートとの組み合わせ、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレートとの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つの組み合わせを含み、上記浸透性が高い溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンからなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする光学積層体でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置である。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有することを特徴とする光学積層体の製造方法である。このため、光学積層体の製造工程において、光透過性基材上にハードコート層を形成して巻き取った際にシートが互いに貼りつくことがなく、優れた透明性を有する光学積層体を好適に製造することができる。
本発明の光学積層体の製造方法は、上記特定の粒子径を有するスチレン粒子を特定量含み、かつ親水性のバインダー樹脂及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を使用してハードコート層を形成するものである。本発明で使用する上記樹脂組成物を基材に塗布して被膜を形成した場合、親水性が高い、重量平均分子量が１０００以下の（メタ）アクリレー系化合物が、浸透性が高い溶剤と共に、基材に浸透する。そのため、上記被膜内において、上記（メタ）アクリレート系化合物が基材側へ偏在する。逆に疎水性のスチレン粒子は表面へ偏在しやすくなる。その結果として、表面に凹凸形状を形成することができると考えられる。このように、本発明の光学積層体の製造方法は、スチレン粒子を少量添加しただけで、所望の凹凸形状を表面に形成することができるため、ヘイズを付与したり、表面の硬度を低下させたりすることなく、シートの貼り付きを防止できる光学積層体を好適に得ることができる。
また、上述したように、樹脂を硬化させる前に表面に凹凸がすでに形成されるため、弱い活性エネルギー線の照射であっても、所望の効果を得ることのできる凹凸形状を表面に形成することができる。
更に、形成されるハードコート層は表面に凹凸形状を有しているので、その上に、例えば、低屈折率層を形成した場合、これらの層間の密着性を向上させることもできる。
更に、形成されるハードコート層は表面に凹凸形状を有しているので、その上に、例えば、低屈折率層を形成した場合、これらの層間の密着性を向上させることもできる。
このように本発明は、特定粒子径を有するスチレン粒子、特定のバインダー樹脂、及び、浸透性が高い溶剤を含むことで、製造工程においてシートを巻き取った際に貼り付くことがなく容易に剥離でき、優れた透明性を有する光学積層体を好適に製造することができることを見出したものである。
本発明の光学積層体の製造方法は、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有する。そのような特定の成分を含む樹脂組成物を使用してハードコート層を形成するため、光学積層体の製造工程においてシートを巻き取った際、シートが互いに貼りつくことがなく、光学積層体を好適に製造することができる。また、そのようにして得られた光学積層体は、干渉縞が発生せず外観が良好であり、かつ光透過性等の光学特性にも優れる。
上記樹脂組成物は、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を含む。特定粒子径のスチレン粒子を含むことにより、少量の添加でヘイズを付与することなく所望の凹凸形状を有する層を形成することができる。１０ｎｍ未満であると、表面にできる凹凸が小さくなり、透明性には優れるものの、光透過性基材上にハードコート層を形成して巻き取った際にシートが互いに貼りついてしまうおそれがある。３００ｎｍを超えると、表面にできる凹凸が大きくなり、透明性が悪化し、ヘイズも悪化するおそれがある。
なお、上記平均粒子径は、５質量％のメチルエチルケトン分散液として、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を使用して測定して得られた値である。
なお、上記平均粒子径は、５質量％のメチルエチルケトン分散液として、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を使用して測定して得られた値である。
上記樹脂組成物は、上記平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含む。上記スチレン粒子の含有量が０．１質量部未満であると、表面には凹凸ができにくく、光透過性基材上にハードコート層を形成して巻き取った際にシートが互いに貼りついてしまうおそれがある。５質量部を超えると、表面には凹凸が多数できるものの、透明性が悪化しヘイズも悪化するおそれがある。
上記樹脂組成物は、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物を含む。上記樹脂組成物を光透過性基材に塗布して被膜を形成した場合、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物が光透過性基材に浸透して、疎水性の上記スチレン粒子をハードコート表面に偏在させ、所望の凹凸形状を表面に形成し本発明の効果を好適に得ることができる。
上記重量平均分子量が１０００を超えると、後述する浸透性が高い溶剤とともに基材に浸透したり又は基材側へ偏在する効果が不充分になり、本発明の所望の効果を充分に得られない。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
上記重量平均分子量が１０００を超えると、後述する浸透性が高い溶剤とともに基材に浸透したり又は基材側へ偏在する効果が不充分になり、本発明の所望の効果を充分に得られない。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
上記（メタ）アクリレート系化合物としては、同一分子内に、ＯＨ基、ＣＯＯＨ基、ＮＨ２基、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性基、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性基、カプロラクトン変性基、イソシアヌル酸変性基等の親水性の高い置換基を有する（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(日本化薬社；ＰＥＴ３０)、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート(ダイセルサイテック社；Ｅｂｅｃｒｙｌ ４０)、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ダイセルサイテック社；Ｅｂｅｃｒｙｌ １６０、ＴＭＰＥＯＴＡ）、カプロラクオン変性トリメチロールプロパントリアクリレート(ダイセルサイテック社；Ｅｂｅｃｒｙｌ ２０４７)、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート(東亞合成社；Ｍ２１５)、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート（東亞合成社；Ｍ３１５）、イソシアヌル酸カプロラクトン変性トリアクリレート（東亞合成社；Ｍ３２５）、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（東亞合成社；Ｍ３５０、Ｍ３６０）、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート（東亞合成社；Ｍ３２０、Ｍ３１０）、トリプロピレングリコールジアクリレート（東亞合成社；Ｍ２２０、日本化薬社；ＴＰＧＤＡ）、ポリプロピレングリコールジアクリレート（東亞合成社；Ｍ２２５）、ポリエチレングリコールジアクリレート（東亞合成社；Ｍ２４０、Ｍ２４３、Ｍ２４５、Ｍ２６０）、ジエチレングリコールジメタクリレート（共栄社化学社；ＤＥＧＤＭＡ）、ポリエチレングリコールジメタクリレート（共栄社化学社；ＰＥＧ２００ＤＭＡ）、ポリプロピレングリコールジメタクリレート（共栄社化学社；ＰＰＧ４００ＤＭＡ）、トリエチレングリコールジメタクリレート（共栄社化学社；ＴＲＥＧＤＭＡ）、テトラエチレングリコールジメタクリレート（共栄社化学社；ＴＴＥＧＤＭＡ）、アミン変性ポリエステルアクリレート（Ｅｂｅｃｒｙｌ ８０、８１、８４、８３）、カプロラクオン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社；ＤＰＣＡ２０、ＤＰＣＡ３０）、メトキシポリプロピレングリコールポリエチレングリコールメタクリレート（新中村化学社；ＮＫエステルＭ０６１７ＰＥ、ＮＫエステルＭ０３２０ＰＥ）等を挙げることができる。これらは、２種以上を併用してもよい。
なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性ジアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。
上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、屈折率が１．４５〜１．６５であることが好ましい。
なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性ジアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。
上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、屈折率が１．４５〜１．６５であることが好ましい。
上記樹脂組成物は、浸透性が高い溶剤を含む。
上記浸透性が高い溶剤は、光透過性基材に対して浸透性が高く、上記基材を溶解又は膨潤させることができる溶剤である。そのような溶剤を含むことにより、上記スチレン粒子が表面により偏在しやすくなり、本発明の効果が顕著なものとなりやすい。また、干渉縞の発生を抑制することができる。
上記浸透性が高い溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類；その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記浸透性が高い溶剤は、光透過性基材に対して浸透性が高く、上記基材を溶解又は膨潤させることができる溶剤である。そのような溶剤を含むことにより、上記スチレン粒子が表面により偏在しやすくなり、本発明の効果が顕著なものとなりやすい。また、干渉縞の発生を抑制することができる。
上記浸透性が高い溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類；その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記浸透性が高い溶剤の添加量としては、形成するハードコート層の厚さに合わせて適宜調整され、特に限定されないが、上記樹脂組成物中において、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、３０〜５００質量部であることが好ましい。３０質量部未満であると、上記樹脂組成物を光透過性基材に塗布した際に、上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物が充分に光透過性基材に浸透せず、本発明の効果を充分に得ることができないおそれがある。また、形成するハードコート層の光透過性基材に対する密着性も不充分になることがある。５００質量部を超えると、充分な厚さのハードコート層を形成することができないことがあり、製造する光学積層体の透過性等の機能が不充分となることがある。より好ましい下限は４０質量部、より好ましい上限は４００質量部である。
上記樹脂組成物は、バインダー樹脂として、上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物と共に、その他の樹脂を更に含んでいてもよい。上記その他の樹脂としては、透明性が高いものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
また、上記（メタ）アクリレートは、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート等のオリゴマーであってもよい。これらは、２種以上を併用してもよい。
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
本発明の光学積層体において、上記光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材や所望により形成する帯電防止層との密着性と透明性とを向上させることができる。更に、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
上記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
なかでも、上記その他の樹脂としては、重量平均分子量１０００以上であり、かつ６官能以上であるウレタン（メタ）アクリレート系化合物であることが好ましい。
上記樹脂組成物がその他の樹脂を含有する場合、上記その他の樹脂と上記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物との含有比は、樹脂固形分質量比で０／１００〜７０／３０であることが好ましく、０／１００〜５０／５０であることがより好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びジルコニウムからなる群より選択される少なくとも１つの元素の酸化物（以下、これらをまとめて金属酸化物ともいう）を含有することが好ましい。上記金属酸化物を有することで、製造する光学積層体の鉛筆硬度を向上させたり、高屈折率化させたり、帯電防止性能を付与したりすることができる。
上記金属酸化物としては、なかでも、光反応性基を表面に有するコロイダルシリカが好適である。製造する光学積層体の鉛筆硬度を極めて優れたものとすることができる。
上記光反応性基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような光反応性基を表面に有するコロイダルシリカは、例えば、シリカ微粒子の表面に上記光反応性基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等が挙げられる。
上記光反応性基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような光反応性基を表面に有するコロイダルシリカは、例えば、シリカ微粒子の表面に上記光反応性基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等が挙げられる。
上記樹脂組成物における金属酸化物の配合量としては特に限定されず、該金属酸化物を有することによる鉛筆硬度向上効果を充分に享有するできるとともに、上述した本発明により製造される光学積層体の効果を阻害しない範囲で、上記樹脂組成物に適宜配合されることが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を含んでいてもよい。
上記帯電防止剤としては、特に限定されず、例えば、リチウム塩化合物、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を使用することができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用することができる。
上記帯電防止剤としては、特に限定されず、例えば、リチウム塩化合物、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を使用することができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用することができる。
上記帯電防止剤としてはまた、上記イオン伝導性帯電防止剤としてのリチウム塩を挙げることができる。
上記イオン伝導性帯電防止剤としてのリチウム塩としては、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウム、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミド、又は、過塩素酸リチウムが好ましく挙げられる。更に詳しくは、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウムとしては、トリフルオロメチルスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエチルスルホン酸リチウム等を好ましく挙げることができ、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミドとしては、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド又はリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド等を好ましく挙げることができる。中でも、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド又はリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミドは、特に環境信頼性に優れるので好ましく適用される。
上記イオン伝導性帯電防止剤としてのリチウム塩としては、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウム、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミド、又は、過塩素酸リチウムが好ましく挙げられる。更に詳しくは、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウムとしては、トリフルオロメチルスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエチルスルホン酸リチウム等を好ましく挙げることができ、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミドとしては、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド又はリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド等を好ましく挙げることができる。中でも、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド又はリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミドは、特に環境信頼性に優れるので好ましく適用される。
上記帯電防止剤としてはまた、電子伝導性高分子や、有機ホウ素化合物等のイオン伝導性帯電防止剤を例示することができる。
上記電子伝導性高分子としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。なかでも、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント（電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記これらの導電性ポリマーの誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。
上記有機ホウ素化合物としては、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体が特に好ましい。
上記電子伝導性高分子としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。なかでも、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント（電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記これらの導電性ポリマーの誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。
上記有機ホウ素化合物としては、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体が特に好ましい。
上記帯電防止剤としてはまた、導電性微粒子が挙げられる。
上記導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は３０〜７０ｎｍ程度であり、二次粒径は２００ｎｍ以下程度が好ましい。
上記導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は３０〜７０ｎｍ程度であり、二次粒径は２００ｎｍ以下程度が好ましい。
上記帯電防止剤として、その他にも、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、フラーレンなどの炭素材料を挙げることができる。上記カーボンナノチューブは、炭素６員環構造を主構造とする黒鉛（グラファイト）シートが円筒状に閉じた構造を有する単層又は多層のチューブ状の炭素多面体である。上記カーボンナノホーンは、カーボンナノチューブの先端が閉じている円錐状の形状を有するものである。
カーボンナノチューブは、特に限定されないが、例えば、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ：ｓｉｎｇｌｅ−ｗａｌｌｅｄ ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅ）；多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ：ｍｕｌｔｉ−ｗａｌｌｅｄ ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅ）；カーボンナノホーン（ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｈｏｒｎ：カーボンナノチューブと同様にグラファイト（炭素の６員環が規則正しく並んだ構造）シートをベースにしたナノ・メートルサイズの構造体である。ナノカーボン材料の一種で、グラファイト・シートは単層であり、片方の先端は５個の５員環を含む角状（ｈｏｒｎ：ホーン）のグラファイト・シートで閉じているという特徴を持つ）が挙げられる。またこれらの混合物であってもよい。
カーボンナノチューブは、特に限定されないが、例えば、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ：ｓｉｎｇｌｅ−ｗａｌｌｅｄ ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅ）；多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ：ｍｕｌｔｉ−ｗａｌｌｅｄ ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅ）；カーボンナノホーン（ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｈｏｒｎ：カーボンナノチューブと同様にグラファイト（炭素の６員環が規則正しく並んだ構造）シートをベースにしたナノ・メートルサイズの構造体である。ナノカーボン材料の一種で、グラファイト・シートは単層であり、片方の先端は５個の５員環を含む角状（ｈｏｒｎ：ホーン）のグラファイト・シートで閉じているという特徴を持つ）が挙げられる。またこれらの混合物であってもよい。
上記樹脂組成物における上記帯電防止剤の配合量としては特に限定されず、上述した本発明により製造される光学積層体の効果を阻害しない範囲で、上記樹脂組成物に適宜配合されることが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に防汚剤を含んでいてもよい。上記防汚剤としては、フッ素系化合物及び／又はケイ素系化合物を挙げることができる。防汚剤を添加することにより、形成されるハードコート層の撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を良好にすることができる。
上記樹脂組成物は、上述したスチレン粒子、バインダー樹脂、浸透性が高い溶剤及び上述した成分の他に、本願の効果を害しない範囲で必要に応じて、その他の成分を含有することができる。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、その他の樹脂等を挙げることができる。
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤は、公知のものを使用するとよい。
また、上記樹脂組成物は、表面ヘイズを付与するような粒子は含まないものであることが好ましい。
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤は、公知のものを使用するとよい。
また、上記樹脂組成物は、表面ヘイズを付与するような粒子は含まないものであることが好ましい。
上記樹脂組成物は、上述した特定のスチレン粒子、バインダー樹脂、浸透性が高い溶剤及びその他の成分を混合分散することにより得られる。
上記混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。
上記混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。
本発明の光学積層体の製造方法は、上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有する。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物が挙げられる。なかでも、発明の効果を発揮しやすいという観点からトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であることがより好ましい。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物が挙げられる。なかでも、発明の効果を発揮しやすいという観点からトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であることがより好ましい。
上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましい下限は３０μｍ、より好ましい上限は２００μｍである。
更に、上記光透過性基材は、その上にハードコート層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。また、上記光透過性基材がトリアセチルセルロースの場合、ケン化処理をあらかじめ行ってもよい。上記ケン化処理は既知の方法・条件で行ってよい。
また、上記光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有していてもよい。光透過性基材上に、帯電防止層とハードコート層が順に形成された光学積層体であっても、本発明の効果を充分発揮することができ。上記帯電防止層は、上述の帯電防止剤と樹脂を含む組成物を使用して公知の方法で形成することができる。
上記塗布の方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることができ、例えば、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等を挙げることができる。
上記樹脂組成物の塗布量は、１〜３０ｇ／ｍ２であることが好ましい。１ｇ／ｍ２未満であると、ハードコート性が弱い光学積層体となってしまうおそれがある。３０ｇ／ｍ２を超えると、カール（反り）が大きくなるとともにクラック・ヒビが入りやすくなりトラブルの原因となる。またバインダー樹脂の値段が高くなりコスト高となってしまうおそれがある。上記塗布量は、１〜３０ｇ／ｍ２であることがより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２が更に好ましい。
上記樹脂組成物の塗布量は、１〜３０ｇ／ｍ２であることが好ましい。１ｇ／ｍ２未満であると、ハードコート性が弱い光学積層体となってしまうおそれがある。３０ｇ／ｍ２を超えると、カール（反り）が大きくなるとともにクラック・ヒビが入りやすくなりトラブルの原因となる。またバインダー樹脂の値段が高くなりコスト高となってしまうおそれがある。上記塗布量は、１〜３０ｇ／ｍ２であることがより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２が更に好ましい。
上記ハードコート層は、上記樹脂組成物を光透過性基材に塗布した後、必要に応じて加熱し、活性エネルギー線照射により硬化させて形成することができる。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
上記紫外線照射する場合、硬化により層が白濁しない点で、窒素雰囲気下で行うことが好ましい。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
上記紫外線照射する場合、硬化により層が白濁しない点で、窒素雰囲気下で行うことが好ましい。
上記ハードコート層は、ＪＩＳ ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましい。上記硬度を有することにより、耐擦傷性が良好なものとなる。
本発明の光学積層体の製造方法は、上述したような方法で光学積層体を形成するものであるため、光学積層体の製造工程において、光透過性基材上にハードコート層を形成した積層体シートを巻き取った場合に、シートが互いに貼り付くことがなく、また低エネルギーで硬化させて層を形成することができるので、光学積層体を好適に形成することができるものである。また本発明の光学積層体の製造方法により得られたシートは、高い透過性を有するものである。
本発明の光学積層体の製造方法は、更に、低屈折率層を形成する工程を有するものであってもよい。
上記低屈折率層は、上記ハードコート層の表面に形成されてなり、その屈折率がハードコート層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、上記ハードコート層の屈折率が１．４５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．４５未満であり、好ましくは１．４０以下で構成されてなるものが好ましい。
上記低屈折率層は、上記ハードコート層の表面に形成されてなり、その屈折率がハードコート層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、上記ハードコート層の屈折率が１．４５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．４５未満であり、好ましくは１．４０以下で構成されてなるものが好ましい。
上記低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。
本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層を有するものであるが、上記帯電防止層及び上記低屈折率層の他にも必要に応じて、任意の層として、防眩層、防汚染層、高屈折率層又は中屈折率層等を備えているものであってよい。上記防眩層、防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防眩剤、防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。
このように、本発明の光学積層体の製造方法は、製造工程において、光透過性基材上にハードコート層を形成し、巻き取った際に、この積層体が互いに貼り付くのを防ぎ、容易に剥離することができ、かつ、その後の工程で各種機能層を積層して光学積層体を製造しても、その光学特性に影響を与えることなく、所望の特性を有する光学積層体を好適に得ることができるものである。このような本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体も、本発明の一つである。
上記光学積層体の全光線透過率は、９１％以上であることが好ましい。９１％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましい。
上記光学積層体のヘイズ値は、０．７％以下であることが好ましい。０．７％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、白く、もやがかかったように見え、色再現性を損なうおそれがある。上記ヘイズ値は、０．３％以下であることがより好ましい。
本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体の一態様について、図１を用いて説明する。図１は、上から順に、ハードコート層１、光透過性基材２を備えてなる光学積層体を示す。上記ハードコート層１は、その表面に微細な凹凸を有する。本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体の他の態様としては、図２のように、ハードコート層１、帯電防止層３、光透過性基材２を備えてなる光学積層体であってもよい。本発明の光学積層体は、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、上述した態様に限定されないものである。
本発明の光学積層体の製造方法は、ハードコート層を光透過性基材上に形成したものを一度巻き取った後、ハードコート層の上に、低屈折率層等を積層する際、歩留まり、品質の面でも良好である。このように、本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体も、本発明の一つである。
本発明の光学積層体の製造方法は、ハードコート層を光透過性基材上に形成したものを一度巻き取った後、ハードコート層の上に、低屈折率層等を積層する際、歩留まり、品質の面でも良好である。このように、本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体も、本発明の一つである。
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、上記光学積層体を、上記光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
本発明の光学積層体の製造方法は、上述した構成からなるものであるため、製造工程においてシートを巻き取った際に互いに貼り付くことなく、高い透明性を有する光学積層体を好適に形成することができるものである。このため、本発明の製造方法により得られる光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（製造例１ ハードコート層形成用組成物１）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例２ ハードコート層形成用組成物２）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物２を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．１質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物２を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．１質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例３ ハードコート層形成用組成物３）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物３を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物３を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例４ ハードコート層形成用組成物４）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物４を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径５０ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物４を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径５０ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例５ ハードコート層形成用組成物５）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物５を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径３００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物５を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径３００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例６ ハードコート層形成用組成物６）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物６を調製した。
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬製 ＤＰＨＡ、重量平均分子量５２４） ７質量部
・イソシアヌル酸変性トリアクリレート（東亜合成製 Ｍ３１５、重量平均分子量４２３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物６を調製した。
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬製 ＤＰＨＡ、重量平均分子量５２４） ７質量部
・イソシアヌル酸変性トリアクリレート（東亜合成製 Ｍ３１５、重量平均分子量４２３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例７ ハードコート層形成用組成物７）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物７を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・酢酸メチル １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物７を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・酢酸メチル １０質量部
（製造例８ ハードコート層形成用組成物８）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物８を調製した。
・ウレタンアクリレート（日本合成製 ＵＶ１７００Ｂ、重量平均分子量２０００） ４質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ３質量部
・イソシアヌル酸変性トリアクリレート（東亜合成製 Ｍ３１５、重量平均分子量４２３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物８を調製した。
・ウレタンアクリレート（日本合成製 ＵＶ１７００Ｂ、重量平均分子量２０００） ４質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ３質量部
・イソシアヌル酸変性トリアクリレート（東亜合成製 Ｍ３１５、重量平均分子量４２３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例９ ハードコート層形成用組成物９）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物９を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） １０質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物９を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） １０質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例１０ ハードコート層形成用組成物１０）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１０を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．００１質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１０を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．００１質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例１１ ハードコート層形成用組成物１１）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１１を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径５００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１１を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径５００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例１２ ハードコート層形成用組成物１２）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１２を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・トルエン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１２を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・トルエン １０質量部
（製造例１３ ハードコート層形成用組成物１３）
・下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１３を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・シリカ微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
・下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１３を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３） ３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・シリカ微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例１４ ハードコート層形成用組成物１４）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１４を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３）３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
・ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド微粒子
（平均粒径２０００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１４を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製 ＰＥＴ３０、重量平均分子量２９８） ７質量部
・イソシアヌル酸変性ジアクリレート（東亜合成製 Ｍ２１５、重量平均分子量３３３）３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
・ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド微粒子
（平均粒径２０００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．５質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
（製造例１５ ハードコート層形成用組成物１５）
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１５を調製した。
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ダイセルサイテック製 ＩＲＲ２１４Ｋ、重量平均分子量３０４、疎水性置換基含有） １０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
下記組成の成分を混合し、ハードコート層形成用組成物１５を調製した。
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ダイセルサイテック製 ＩＲＲ２１４Ｋ、重量平均分子量３０４、疎水性置換基含有） １０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・スチレン微粒子（平均粒径２００ｎｍ） ０．５質量部
・レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５） ０．２質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
実施例１
トリアセチルセルロースフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、上述のハードコート層形成用組成物１を、湿潤重量２６ｇ／ｍ２（乾燥重量１３ｇ／ｍ２）で塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線２００ｍＪ／ｃｍ２を照射して、ハードコート層を有する光学積層体を形成した。
トリアセチルセルロースフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、上述のハードコート層形成用組成物１を、湿潤重量２６ｇ／ｍ２（乾燥重量１３ｇ／ｍ２）で塗布した。７０℃にて６０秒乾燥し、紫外線２００ｍＪ／ｃｍ２を照射して、ハードコート層を有する光学積層体を形成した。
実施例２、参考例１、実施例４〜８、比較例１〜７
実施例１において、使用したハードコート層形成用組成物１の代わりに、ハードコート層形成用組成物２〜１５を使用した以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を製造した。
実施例１において、使用したハードコート層形成用組成物１の代わりに、ハードコート層形成用組成物２〜１５を使用した以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を製造した。
得られた光学積層体について、下記の項目にて評価を行った。結果を表１に示す。
（貼付防止効果）
トリアセチルセルロースフィルム基材に各種ハードコート層を積層したフィルムを作成し、ロール上に巻取った。５日間常温で放置した後、空ロールへ巻き返し、貼りつきの有無を目視で確認した。
○：貼り付きなし
×：貼り付きあり
（貼付防止効果）
トリアセチルセルロースフィルム基材に各種ハードコート層を積層したフィルムを作成し、ロール上に巻取った。５日間常温で放置した後、空ロールへ巻き返し、貼りつきの有無を目視で確認した。
○：貼り付きなし
×：貼り付きあり
（全光線透過率）
全光線透過率（％）について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：全光線透過率９１％以上
×：全光線透過率９１％未満
全光線透過率（％）について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：全光線透過率９１％以上
×：全光線透過率９１％未満
（ヘイズ値）
ヘイズ値（％）について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：ヘイズ値０．７％以下
×：ヘイズ値０．７％を超える
ヘイズ値（％）について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：ヘイズ値０．７％以下
×：ヘイズ値０．７％を超える
（干渉縞の発生）
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を下記の基準にて評価した。
○：干渉縞の発生はなかった。
×：干渉縞の発生があった。
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を下記の基準にて評価した。
○：干渉縞の発生はなかった。
×：干渉縞の発生があった。
表１より、実施例の光学積層体は、貼付防止効果が優れ、かつ全光線透過率、ヘイズが良好であり、干渉縞の発生も見られなかったのに対し、比較例の光学積層体は、全項目において良好なものではなかった。
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
１ ハードコート層
２ 光透過性基材
３ 帯電防止層
２ 光透過性基材
３ 帯電防止層
Claims (15)
- 光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、
平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、前記光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有し、
前記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性ジアクリレートとの組み合わせ、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレートとの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つの組み合わせを含み、
前記浸透性が高い溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンからなる群より選択される少なくとも１種である
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。 - 浸透性が高い溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１記載の光学積層体の製造方法。
- 樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも１つの元素の酸化物を含有する請求項１又は２記載の光学積層体の製造方法。
- 樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を含む請求項１、２又は３記載の光学積層体の製造方法。
- 樹脂組成物は、更に、ケイ素系化合物及び／又はフッ素系化合物を含む請求項１、２、３又は４記載の光学積層体の製造方法。
- 光透過性基材は、トリアセチルセルロースである請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体の製造方法。
- 光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有する請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体の製造方法。
- 低屈折率層を形成する工程を更に有する請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体の製造方法。
- 請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体。
- 全光線透過率は、９１％以上である請求項９記載の光学積層体。
- ヘイズ値は、０．７％以下である請求項９又は１０記載の光学積層体。
- 光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであり、
前記ハードコート層は、平均粒子径１０〜３００ｎｍのスチレン粒子を樹脂固形分１００質量部に対して０．１〜５質量部含み、かつ、重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物及び浸透性が高い溶剤を含む樹脂組成物を、前記光透過基材上に塗布して形成されたものであり、
前記重量平均分子量１０００以下の（メタ）アクリレート系化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性ジアクリレートとの組み合わせ、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとイソシアヌル酸変性トリアクリレートとの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つの組み合わせを含み、
前記浸透性が高い溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンからなる群より選択される少なくとも１種である
ことを特徴とする光学積層体。 - 最表面に請求項９、１０、１１又は１２記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
- 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
上記偏光板は、偏光素子表面に請求項９、１０、１１又は１２記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。 - 最表面に請求項９、１０、１１若しくは１２記載の光学積層体、又は、請求項１４記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
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