JP2008139730A - ワイヤグリッド型偏光子及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム及び液晶表示素子 - Google Patents

ワイヤグリッド型偏光子及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム及び液晶表示素子 Download PDF

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Abstract

【課題】金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能なワイヤグリッド型偏光子の製造方法を提供すること。
【解決手段】サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムを準備する工程と、
前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有する導電性ナノ材料を前記凹部に充填する工程と、
前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する工程と、
を含むことを特徴とするワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、ワイヤグリッド型偏光子及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム及び液晶表示素子に関する。
光学分野における偏光子としては、シートポラライザー、偏光プリズム、パイル・オブ・プレイツ（Ｐｉｌｅ ｏｆ Ｐｌａｔｅｓ）、ワイヤグリッド型偏光子が用いられている。そして、これらの偏光子の中でも、ワイヤグリッド型偏光子は、格子の間隔が光の波長よりも十分に短い金属格子では、格子に平行な偏光は反射し、垂直な偏光は透過することを利用した偏光子であり、薄膜化できるために利用用途が多く、また、シートポラライザーと比較して高い消光比が得られ、しかも高い耐久性を有することから、投射光学系の偏光子として広く使用されていた。
また、このようなワイヤグリッド型偏光子は、従来は、主に赤外線領域用の偏光子として用いられていたが、金属格子の格子周期を短くすることにより可視光領域（４００〜８００ｎｍ）用の偏光子としても用いることができることが知られており、その製造方法の検討されている。例えば、特開２００６−２０１５４０号公報（特許文献１）には、表面に０．０１〜１００μｍピッチの微細凹凸格子を有する被延伸部材を、前記凹凸格子の長手方向と略直交する方向の前記被延伸部材の幅を自由にした状態で前記長手方向と略平行な方向に一軸延伸する工程と、前記一軸延伸された延伸部材の前記微細凹凸格子上に金属層を形成する工程と、偏光板本体を前記延伸部材に押圧し、前記偏光板本体を前記延伸部材から外して前記偏光板本体上に前記微細凹凸格子に対応するピッチの金属線を形成する工程と、を具備するワイヤグリッド型偏光子の製造方法が開示されている。
しかしながら、特許文献１に記載されているようなワイヤグリッド型偏光子の製造方法は、複雑な工程を必要とし、特に真空プロセスを必要とする金属蒸着を行う工程を必要とすることから、大面積のワイヤグリッド型偏光子を工業的に製造する方法としては適していなかった。
また、特開２００６−８４７７６号公報（特許文献２）には、型を製作する段階と、基板上に金属薄膜とポリマーを所定の順序で形成する段階と、前記型を利用してポリマーを成形する段階と、前記成形されたポリマーを利用して金属薄膜をエッチングして金属格子パターンを形成する段階と、前記ポリマーを除去する段階とを含むワイヤグリッド型偏光子の製造方法が開示されている。
しかしながら、特許文献２に記載されているようなワイヤグリッド型偏光子の製造方法は、エッチング工程を少なくとも２度必要とするため、工程が複雑であると共に量産性の点で問題があった。
特開２００６−２０１５４０号公報 特開２００６−８４７７６号公報
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能なワイヤグリッド型偏光子の製造方法、及びその製造方法により得られるワイヤグリッド型偏光子、並びにそのワイヤグリッド型偏光子をフィルム表面に備えた位相差フィルム及びそれを用いた液晶表示素子を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムを準備する工程と、前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有する導電性ナノ材料を前記凹部に充填する工程と、前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する工程と、を含むワイヤグリッド型偏光子の製造方法により、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法は、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムを準備する工程と、
前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有する導電性ナノ材料を前記凹部に充填する工程と、
前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する工程と、
を含むことを特徴とする方法である。
また、本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法においては、前記導電性ナノ材料が、複素屈折率のうち虚数部の絶対値が０．１よりも大きいものであることが好ましい。
さらに、本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法においては、前記樹脂フィルムが、格子周期４００ｎｍ以下、線幅２００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることが好ましい。
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムと、
前記凹部に充填されている導電性ナノ材料又はその凝集体と、
を備えることを特徴とするものである。
また、本発明のワイヤグリッド型偏光子においては、前記導電性ナノ材料が、複素屈折率のうち虚数部の絶対値が０．１よりも大きいものであることが好ましい。
さらに、本発明のワイヤグリッド型偏光子においては、前記樹脂フィルムが、格子周期４００ｎｍ以下、線幅２００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることが好ましい。
本発明の位相差フィルムは、前記ワイヤグリッド型偏光子を備えることを特徴とするものである。また、本発明の液晶表示素子は、前記位相差フィルムを備えることを特徴とするものである。
本発明によれば、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能なワイヤグリッド型偏光子の製造方法、及びその製造方法により得られるワイヤグリッド型偏光子、並びにそのワイヤグリッド型偏光子をフィルム表面に備えた位相差フィルム及びそれを用いた液晶表示素子を提供することを提供することが可能となる。
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。
先ず、本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法について説明する。すなわち、本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法は、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムを準備する工程（第１の工程）と、
前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有する導電性ナノ材料を前記凹部に充填する工程（第２の工程）と、
前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する工程（第３の工程）と、
を含むことを特徴とする方法である。
第１の工程においては、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムを準備する。このような樹脂フィルムは、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されているものであることが必要である。本発明においては、このような凹部に後述する導電性ナノ材料を充填して金属格子とすることから、このような凹部の格子周期が短いほど、金属格子の格子周期がより短いワイヤグリッド型偏光子を製造することができる。そのため、このような樹脂フィルムは、格子周期４００ｎｍ以下、線幅２００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることが好ましく、格子周期２００ｎｍ以下、線幅１００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることがより好ましい。前記格子周期又は線幅が前記上限を超えると、得られるワイヤグリッド型偏光子の可視光領域における偏光度が不十分となる傾向にある。
また、このような樹脂フィルムは、可視光透過率が８０％以上のものであることが必要である。可視光透過率が８０％未満では、得られるワイヤグリッド型偏光子の可視光透過率が不十分となる。さらに、このような樹脂フィルムの厚みは特に限定されないが、０．５〜３００μｍの範囲であることが好ましく、１〜１００μｍの範囲であることがより好ましい。厚みが前記下限未満では、得られるワイヤグリッド型偏光子の強度が不十分となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、得られるワイヤグリッド型偏光子の可視光透過率が不十分となる傾向にある。
また、このような樹脂フィルムの材料としては、可視光透過率が８０％以上の樹脂であればよく特に限定されないが、例えば、光硬化性樹脂；エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂；トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸トリフルオロエチル、ポリメタクリル酸イソブチル、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリアクリル酸メチル、フタル酸ジアリル、ポリメタクリル酸フェニル、ポリ安香酸ビニル、ラクトン酸含有アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。これらの樹脂フィルムの材料は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
また、このように格子形状を有する凹部が形成されている樹脂フィルムを作製する方法としては、特に限定されないが、例えば、モールド上に硬化性樹脂を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜上に支持フィルムを配置する工程と、前記硬化性樹脂を硬化せしめることによって格子形状を有する凹部が形成されている塗膜と前記支持フィルムとを接着させて樹脂フィルムを形成する工程と、前記樹脂フィルムを前記モールドから剥離する工程とを含む方法を採用することができる。
このようなモールドとしては、表面にサブミクロンサイズの格子形状を有する凹部又は凸部を備えるものであればよく、例えば反射型の回折格子を用いてもよい。また、このようなモールドの材質は特に制限されず、金属であってもよく、ガラス等の無機物であってもよいが、ケイ素、炭化ケイ素、石英、シリカ、ニッケル、タンタルが好ましい。さらに、このような硬化性樹脂としては、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれも用いることができるが、作業性の観点から、光硬化性樹脂が好ましい。また、このような支持フィルムとしては、可視光透過率が８０％以上の樹脂からなるフィルムであればよく、適宜公知のものを用いることができる。
第２の工程においては、前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有する導電性ナノ材料を前記凹部に充填する。このような導電性ナノ材料とは、導電体のナノ粒子又はナノファイバーのことをいう。また、導電体としては、例えば、銀、銅、金、アルミニウム、酸化スズ、亜鉛、タングステン、ニッケル、白金等の金属；酸化スズ、フッ素添加酸化スズ、酸化インジウム、スズ添加酸化インジウム、酸化亜鉛等の金属酸化物；カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、フラーレン、グラファイト等の炭素材料を挙げることができる。
また、このような導電性ナノ材料は、前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有するものである必要がある。平均直径が前記凹部の平均線幅の１／２を超えると、導電性ナノ材料を樹脂フィルムの凹部に十分に充填することができない。なお、平均直径とは、このような導電性ナノ材料が導電体のナノ粒子の場合には平均粒子径のことをいい、また導電体のナノチューブ又はナノファイバーの場合には、円筒の断面形状を内接する近似円の直径のことをいう。さらに、このような導電性ナノ材料が導電体のナノ粒子の場合には、ナノ粒子の平均粒子径が３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜２０ｎｍの範囲であることがより好ましい。平均粒子径が前記上限を超えると、導電性ナノ材料を樹脂フィルムの凹部に十分に充填することができない傾向にある。他方、平均粒子径が前記下限未満のナノ粒子を製造することは困難な傾向にある。
さらに、このような導電性ナノ材料は、高偏光度を得るために効率良く光プラズマ共鳴を生じさせるという観点から、複素屈折率のうち虚数部の絶対値が０．１よりも大きいものであることが好ましい。
また、このように導電性ナノ材料を前記凹部に充填する方法としては、導電性ナノ材料を含有するインク又はペーストを前記樹脂フィルムの前記凹部が形成されている表面に塗布する方法を採用することができる。このような方法によれば、前記導電性ナノ材料は前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有するものであるため、前記導電性ナノ材料を前記凹部に充填することができる。
また、このような導電性ナノ材料を含有するインク又はペーストとしては、所望の平均直径を有する導電性ナノ材料を含有するものを適宜選択して用いることができ、導電性ナノ材料の他に、例えば、樹脂組成物；分散安定剤、界面活性剤等の添加剤；水、有機溶剤等の分散媒を含有するものを用いることができる。さらに、このような導電性ナノ材料を含有するインク又はペーストとしては、例えば、国際公開第２００２／３３５５４号パンフレット、特開２００６−２１９６９３号公報、特開２００４−２７３２０５号公報、特開２００５−８１５０１号公報、特表２００５−５３１６７９号公報、特表２００５−５０７４５２号公報に記載されているようなインク又はペーストを用いることができる。また、このような導電性ナノ材料を含有するインク又はペーストとしては、市販されているものを用いてもよく、例えば、銀ナノメタルインク、金ナノメタルインク、銅ナノメタルインク、ＩＴＯ（スズ添加酸化インジウム）ナノメタルインク（以上、アルバックマテリアル社製）、カーボンナノファイバー（ジェムコ社製）を用いることができる。
第３の工程においては、前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する。前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する方法としては、例えば、（i）ワイパーを用いて、前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を格子長手方向に垂直な方向に拭き取る方法、（ii）グラビア印刷法におけるドクターブレードのような薄い金属板を押し付け、前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を掻き取る方法を採用することができる。また、このようなワイパーとしては、低塵性のものを用いることが好ましい。さらに、このような第３の工程においては、前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去した後に、前記凹部に充填されている導電性ナノ材料を、例えば温度８０〜４００℃にて３〜１２０分間焼成もしくは乾燥してもよい。
本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法は、前述した第１の工程、第２の工程及び第３の工程を含むことを特徴とする方法である。このようなワイヤグリッド型偏光子の製造方法によれば、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能となる。
次に、本発明のワイヤグリッド型偏光子について説明する。すなわち、本発明のワイヤグリッド型偏光子は、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムと、
前記凹部に充填されている導電性ナノ材料又はその凝集体と、
を備えることを特徴とするものである。
そして、このようなワイヤグリッド型偏光子は、前述した本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法により得ることができる。また、このようなワイヤグリッド型偏光子は、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるものである。
本発明にかかる樹脂フィルムは、サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上のものである。また、このような樹脂フィルムは、格子周期４００ｎｍ以下、線幅２００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることが好ましく、格子周期２００ｎｍ以下、線幅１００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることがより好ましい。前記格子周期又は線幅が前記上限を超えると、得られるワイヤグリッド型偏光子の可視光領域における偏光度が不十分となる傾向にある。また、このような樹脂フィルムとしては、前述した本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法に用いるものと同様のものを用いることができる。
本発明にかかる導電性ナノ材料は、前記凹部に充填されているものである。また、本発明においては、このような導電性ナノ材料の凝集体が前記凹部に充填されていてもよい。さらに、このような導電性ナノ材料は、高偏光度を得るために効率良く光プラズマ共鳴を生じさせるという観点から、複素屈折率のうち虚数部の絶対値が０．１よりも大きいものであることが好ましい。また、このような導電性ナノ材料としては、前述した本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法に用いるものと同様のものを用いることができる。
次に、本発明の位相差フィルム及び液晶表示素子について説明する。すなわち、本発明の位相差フィルムは、前記ワイヤグリッド型偏光子を備えることを特徴とするものである。このような位相差フィルムは、光学分野において偏光子一体型位相差フィルムとして有用である。また、本発明の液晶表示素子は、このような位相差フィルムを備えることを特徴とするものである。
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
先ず、石英モールド（ＮＴＴ−ＡＴ ナノファブリケーション社製、製品名「ＮＩＭ−８０Ｌ ＲＥＳＯ」）と、紫外線硬化樹脂（東亜合成社製、製品名「ＵＶ−３４００」）と、支持フィルム（富士写真フィルム社製、製品名「トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム」、膜厚：８０μｍ）を準備した。
そして、格子周期２００ｎｍ、線幅１００ｎｍの格子形状の凹部が形成されている石英モールド上に紫外線硬化樹脂を数滴滴下し、支持フィルムで覆った後に、支持フィルム上をハンドローラーで擦ることによって紫外線硬化樹脂を石英モールド上に均一に延ばした。次に、紫外線硬化樹脂に支持フィルム側より６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させることによって、格子形状を有する凹部が形成されている紫外線硬化樹脂の塗膜と支持フィルムとを接着させて、格子形状の凹部が形成されている樹脂フィルムを形成した。その後、得られた樹脂フィルムを石英モールドから剥離した。なお、得られた樹脂フィルムは、格子周期２００ｎｍ、線幅１００ｎｍの格子形状の凹部が形成されているものであった。
次に、得られた樹脂フィルムの表面に銀ナノメタルインク（アルバックマテリアル社製、製品名「銀ナノメタルインクＡｇ１ＴｅＨ」）を滴下して、樹脂フィルムに形成されている凹部に銀ナノメタルインクを充填した。そして、ワイパー（旭化成社製、製品名「クリーンワイプ−Ｐ」）を用いて、凹部に充填されていない銀ナノメタルインクを格子長手方向に垂直な方向に拭き取った後に、温度９０℃にて１時間乾燥してワイヤグリッド型偏光子を得た。
得られたワイヤグリッド型偏光子の走査型電子顕微鏡写真を図１に示す。図１に示すように、格子周期２００ｎｍ、線幅１００ｎｍの金属格子を備えるワイヤグリッド型偏光子が得られたことが確認された。
（実施例２）
格子周期４００ｎｍ、線幅２００ｎｍの格子形状の凹部が形成されている石英モールド上に紫外線硬化樹脂を滴下した以外は実施例１と同様にして、樹脂フィルム及びワイヤグリッド型偏光子を得た。なお、得られた樹脂フィルムは、格子周期４００ｎｍ、線幅２００ｎｍの格子形状の凹部が形成されているものであった。
得られたワイヤグリッド型偏光子の走査型電子顕微鏡写真を図２に示す。図２に示すように、格子周期４００ｎｍ、線幅２００ｎｍの金属格子を備えるワイヤグリッド型偏光子が得られたことが確認された。
（実施例３）
格子周期６００ｎｍ、線幅３００ｎｍの格子形状の凹部が形成されている石英モールド上に紫外線硬化樹脂を滴下した以外は実施例１と同様にして、樹脂フィルム及びワイヤグリッド型偏光子を得た。なお、得られた樹脂フィルムは、格子周期６００ｎｍ、線幅３００ｎｍの格子形状の凹部が形成されているものであった。
得られたワイヤグリッド型偏光子の走査型電子顕微鏡写真を図３に示す。図３に示すように、格子周期６００ｎｍ、線幅３００ｎｍの金属格子を備えるワイヤグリッド型偏光子が得られたことが確認された。
＜偏光度の測定＞
（i）偏光度の測定方法
実施例１〜３で得られたワイヤグリッド型偏光子を試料として、透過型偏光顕微鏡（ミノルタ社製）に分光器（浜松ホトニクス社製、製品名「ＰＭＡ−１１」）を取り付けた顕微分光器を用いて、偏光下での透過スペクトル（透過率と透過光の波長との関係を示すスペクトル）を測定し、得られた測定結果から以下のようにして可視光領域における偏光度を算出した。
すなわち、先ず、顕微鏡付属の偏光子の透過軸角度を０度とし、スライドグラスの透過率を測定し、得られた測定値を０度用リファレンスとした。その後、試料をスライドグラス上に固定し、格子長手方向が９０度となるように顕微鏡の試料台におき、倍率４００倍で試料に焦点が合った状態で透過率を測定した。そして、顕微鏡付属の偏光子の透過軸角度を０度とした場合の試料の透過率Ｔ０を下記計算式：
Ｔ０＝（スライドグラス+試料の透過率）／（０度用リファレンス）×１００％
により算出した。
次に、顕微鏡付属の偏光子の透過軸角度を９０度とし、スライドグラスの透過率を測定し、得られた測定値を９０度用リファレンスとした。その後、試料をスライドグラス上に固定し、格子長手方向が９０度となるように顕微鏡の試料台におき、倍率４００倍で試料に焦点が合った状態で透過率を測定した。そして、顕微鏡付属の偏光子の透過軸角度を９０度とした場合の試料の透過率Ｔ９０を下記計算式：
Ｔ９０＝（スライドグラス+試料の透過率）／（９０度用リファレンス）×１００％
により算出した。
次いで、得られたＴ０及びＴ９０の値を用いて、試料の偏光度Ｐは下記計算式：
Ｐ＝｛（Ｔ０−Ｔ９０）／（Ｔ０＋Ｔ９０）｝１／２
により算出した。
（ii）測定結果
実施例１〜３で得られたワイヤグリッド型偏光子における偏光度と透過光の波長との関係を示すグラフを図４〜６にそれぞれ示す。
図４に示した結果から明らかなように、本発明のワイヤグリッド型偏光子（実施例１）は、可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）において十分な偏光度が得られていることが確認され、特に波長が４５０〜５７０ｎｍの範囲において６０％を超える偏光度が得られ、最高値では約９０％に達することが確認された。また、図５に示した結果から明らかなように、本発明のワイヤグリッド型偏光子（実施例２）は、波長が５５０ｎｍよりも短波長側の可視光領域では十分な偏光度が得られないものの、波長が５５０ｎｍよりも長波長側の可視光領域では６０％を超える偏光度が得られていることが確認された。さらに、図６に示した結果から明らかなように、本発明のワイヤグリッド型偏光子（実施例３）は、可視光領域において偏光度が得られるものの、その偏光度は５０％に満たないものであった。したがって、格子周期及び線幅が短いほど可視光領域において高い偏光度が達成されることが確認された。
また、本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法によれば、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能となることが確認された。
以上説明したように、本発明によれば、金属格子の格子周期が十分に短く、可視光領域用の偏光子として用いることができるワイヤグリッド型偏光子を効率よく且つ確実に製造することが可能なワイヤグリッド型偏光子の製造方法、及びその製造方法により得られるワイヤグリッド型偏光子、並びにそのワイヤグリッド型偏光子をフィルム表面に備えた位相差フィルム及びそれを用いた液晶表示素子を提供することが可能となる。
実施例１で得られたワイヤグリッド型偏光子の走査型電子顕微鏡写真である。 実施例２で得られたワイヤグリッド型偏光子の走査型電子顕微鏡写真である。 実施例３で得られたワイヤグリッド型偏光子の走査型電子顕微鏡写真である。 実施例１で得られたワイヤグリッド型偏光子における偏光度と透過光の波長との関係を示すグラフである。 実施例２で得られたワイヤグリッド型偏光子における偏光度と透過光の波長との関係を示すグラフである。 実施例３で得られたワイヤグリッド型偏光子における偏光度と透過光の波長との関係を示すグラフである。

Claims (8)

  1. サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムを準備する工程と、
    前記凹部の平均線幅の１／２以下の平均直径を有する導電性ナノ材料を前記凹部に充填する工程と、
    前記凹部に充填されていない導電性ナノ材料を除去する工程と、
    を含むことを特徴とするワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
  2. 前記導電性ナノ材料が、複素屈折率のうち虚数部の絶対値が０．１よりも大きいものであることを特徴とする請求項１に記載のワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
  3. 前記樹脂フィルムが、格子周期４００ｎｍ以下、線幅２００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
  4. サブミクロンサイズの格子形状を有する凹部が形成されている、可視光透過率が８０％以上の樹脂フィルムと、
    前記凹部に充填されている導電性ナノ材料又はその凝集体と、
    を備えることを特徴とするワイヤグリッド型偏光子。
  5. 前記導電性ナノ材料が、複素屈折率のうち虚数部の絶対値が０．１よりも大きいものであることを特徴とする請求項４に記載のワイヤグリッド型偏光子。
  6. 前記樹脂フィルムが、格子周期４００ｎｍ以下、線幅２００ｎｍ以下の格子形状を有する凹部が形成されているものであることを特徴とする請求項４又は５に記載のワイヤグリッド型偏光子。
  7. 請求項４〜６のうちのいずれか一項に記載のワイヤグリッド型偏光子を備えることを特徴とする位相差フィルム。
  8. 請求項７に記載の位相差フィルムを備えることを特徴とする液晶表示素子。
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