CN104483733B - 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 - Google Patents
一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104483733B CN104483733B CN201410841901.3A CN201410841901A CN104483733B CN 104483733 B CN104483733 B CN 104483733B CN 201410841901 A CN201410841901 A CN 201410841901A CN 104483733 B CN104483733 B CN 104483733B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wire grid
- mixture
- polymer monomer
- grid polarizer
- raised
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 99
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 84
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 claims 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 16
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- BAZVSMNPJJMILC-UHFFFAOYSA-N triadimenol Chemical compound C1=NC=NN1C(C(O)C(C)(C)C)OC1=CC=C(Cl)C=C1 BAZVSMNPJJMILC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00634—Production of filters
- B29D11/00644—Production of filters polarizing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2033/00—Use of polymers of unsaturated acids or derivatives thereof as moulding material
- B29K2033/04—Polymers of esters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
- B29K2105/0002—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped monomers or prepolymers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
Abstract
本发明实施例提供一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够解决线栅偏振片制作过程中生产成本高的问题。所述线栅偏振片的制作方法包括:在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体;对对应预设位置处的第一聚合物单体进行固化处理;在衬底基板的表面形成间隔设置的第一凸起的图案;在形成有第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物;对对应预设位置处的所述混合物进行固化处理;在衬底基板的表面形成由间隔设置的第二凸起构成的线栅图案;其中,每一个第二凸起覆盖一个第一凸起的至少一个起偏表面。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置。
背景技术
TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置,因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点,而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。
TFT-LCD如图1a所示,由阵列基板10和彩膜基板11构成。在阵列基板10和彩膜基板11之间设置有液晶层12。此外,在彩膜基板11的上表面设置有第一偏振片13,在阵列基板10和背光模组14之间设置有第二偏振片15。其中,第一偏振片13与第二偏振片15的光轴垂直。当在液晶层12上未施加电场时,背光模组14发出的光线经第二偏振片15入射至液晶层12,液晶分子经入射光的行进方向进行旋转,使其从第一偏振片13射出。当在液晶层上施加电场时,液晶层12中的液晶分子排列方向发生变化,使得入射光无法穿透。从而可以对光线强弱进行控制,并在彩膜基板11的滤光作用,实现彩色图像显示。
现有技术中,上述偏振片(第一偏振片13和第二偏振片15)可以采用聚乙烯醇(PVA)薄膜构成。会将自然光中的一个偏振分量透过,而两外一个偏振分量被偏振片吸收。这样一来,将造成光线的大量损失,使得光线的利用率大大降低。
为了解决上述问题,现有技术中还提供了一种由金属材料构成的线栅偏振片20,如图1b所示。当光线入射至所述线栅偏振片20时,在金属表面自由电子的振荡作用下,将与线栅平行振动的电场矢量分量的光线几乎全部反射,而将垂直于线栅的电场矢量分量的光线几乎全部透过。此外,被线栅偏振片20反射的光线能够再次利用。因此光线的利用率得到了有效的提升。
然而,现有技术中,在制作上述线栅偏振片20的过程中,需要利用金属靶材,通过需要蒸发磁控溅射的方法在基板上形成用于金属薄膜层,因此靶材的消耗量大。因此,现有技术的制作生产成本高。
发明内容
本发明的实施例提供一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置,能够解决线栅偏振片制作过程中生产成本高的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明实施例的一方面,提供一种线栅偏振片的制作方法,包括:
在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体;
对对应预设位置处的所述第一聚合物单体进行固化处理;
在所述衬底基板的表面形成间隔设置的第一凸起的图案;
在形成有所述第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物;
对对应所述预设位置处的所述混合物进行固化处理;
在所述衬底基板的表面形成由间隔设置的第二凸起构成的线栅图案;其中,每一个所述第二凸起覆盖一个所述第一凸起的至少一个起偏表面,所述起偏表面为所述第一凸起的上表面或,与线栅排列方向平行的侧面。
本发明实施例的另一方面,提供一种线栅偏振片,包括:
衬底基板;
位于所述衬底基板表面的间隔设置的第一凸起;所述第一凸起由第一树脂材料构成
位于所述衬底基板表面的间隔设置的第二凸起;所述第二凸起由掺杂有金属粒子的第二树脂材料构成;
其中,每一个所述第二凸起覆盖一个所述第一凸起的至少一个起偏表面,所述起偏表面为所述第一凸起的上表面或,与线栅排列方向平行的侧面。
本发明实施例的又一方面,提供一种显示装置包括如上所述的任意一种线栅偏振片。
本发明实施例提供一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置。其中,所述线栅偏振片的制作方法包括:首先,在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体。然后,对对应预设位置处的第一聚合物单体进行固化处理;可以在此步骤之前或之后,去除预设位置以外的未发生固化的第一聚合物单体,从而在衬底基板的表面形成间隔设置的第一凸起的图案。接下来,在形成有第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物。然后,对对应预设位置处的混合物进行固化处理。可以在此步骤之前或之后,将所述预设位置以外的未进行固化处理的所述混合物去除,以在衬底基板的表面形成由间隔设置的第二凸起构成的线栅图案。其中,每一个第二凸起覆盖一个第一凸起的至少一个起偏表面。这样一来,一方面,由上述第二凸起中具有金属粒子,因此可以利用金属粒子中自由电子的振荡特性,对入射光进行起偏,从而能够形成具有反射特性的线栅偏振片;另一方面,由于第一聚合物单体和第二聚合物单体一般为树脂材料,从而在制作线栅偏振片的过程中可以降低金属材料的消耗,并且树脂材料相对于金属靶材而言,材料的成本较低,因此能够降低生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1a为现有技术提供的一种显示装置的结构示意图;
图1b为现有技术提供的一种线栅偏振片的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的一种线栅偏振片的制作方法流程图;
图3为本发明实施例提供的另一种线栅偏振片的制作方法流程图;
图4a-图4f为本发明实施例提供的一种制作线栅偏振片的各个制作过程中的结构示意图;
图4g为本发明实施例提供的一种第一凸起的立体结构示意图;
图5为本发明实施例提供的又一种线栅偏振片的制作方法流程图;
图6为本发明实施例提供的另一种制作线栅偏振片的制作过程中的结构示意图;
图7为本发明实施例提供的又一种制作线栅偏振片的制作过程中的结构示意图。
附图说明:
01-衬底基板;10-阵列基板;11-彩膜基板;12-液晶层;13-第一偏振片;14-背光模组;15-第二偏振片;20-线栅偏振片;100-混合物;101-第一聚合物单体;102-第二聚合物单体;103-金属粒子;110-第一凸起;111-第二凸起;201-第一掩膜版;A-第一掩膜版的透光区域;B-第一掩膜版的遮光区域;202-第二掩膜版;A’-第二掩膜版的透光区域;B’-第二掩膜版的遮光区域;203-第一压印模,204-第二压印模;E-起偏表面;E1-第一凸起的上表面;E2-第一凸起上与线栅排列方向平行的侧面;。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种线栅偏振片的制作方法,如图2所示,可以包括:
S101、如图4a所示,在衬底基板01的表面涂覆第一聚合物单体101。
其中,构成衬底基板01的材料可以包括玻璃、石英石的至少一种。当所述线栅偏振片应用于柔性显示面板时,构成所述衬底基板01的材料可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三醋酸纤维素(TAC)中的至少一种,以满足柔性显示面板能够弯曲,卷折的设计要求。
S102、对对应预设位置处的所述第一聚合物单体101进行固化处理。
S103、在衬底基板01的表面形成间隔设置的第一凸起110的图案。
S104、在形成有第一凸起110的基板表面涂覆第二聚合物单体102与金属粒子103的混合物100。
S105、对对应预设位置处的混合物100进行固化处理。
S106、在衬底基板的表面形成由间隔设置的第二凸起111构成的线栅图案。
其中,每一个第二凸起111覆盖一个第一凸起110的至少一个起偏表面E。所述起偏表面E,如图4g所示,可以为第一凸起110的上表面E1或,与线栅排列方向X平行(或沿栅排列方向X上)的侧面E2。
本发明实施例提供一种线栅偏振片的制作方法,包括:首先,在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体。然后,对对应预设位置处的第一聚合物单体进行固化处理;可以在此步骤之前或之后,去除预设位置以外的未发生固化的第一聚合物单体,从而在衬底基板的表面形成间隔设置的第一凸起的图案。接下来,在形成有第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物。然后,对对应预设位置处的混合物进行固化处理。可以在此步骤之前或之后,将所述预设位置以外的未进行固化处理的所述混合物去除,以在衬底基板的表面形成由间隔设置的第二凸起构成的线栅图案。其中,每一个第二凸起覆盖一个第一凸起的至少一个起偏表面。这样一来,一方面,由上述第二凸起中具有金属粒子,因此可以利用金属粒子中自由电子的振荡特性,对入射光进行起偏,从而能够形成具有反射特性的线栅偏振片;另一方面,由于第一聚合物单体和第二聚合物单体一般为树脂材料,从而在制作线栅偏振片的过程中可以降低金属材料的消耗,并且树脂材料相对于金属靶材而言,材料的成本较低,因此能够降低生产成本。
需要说明的是,第一、构成上述第一聚合物单体101或所述第二聚合物单体102的材料可以包括丙烯酸系单体,例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯和甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正丁酯中的至少一种。
第二、本发明实施例中的固化处理可以是指在采用加热、加压、固化剂或紫外光作用下,使得第一聚合物单体101或所述第二聚合物单体102的材料发生化学反应,其线型的分子之间产生化学键,使线型分子相互连在一起形成网状结构,最终交联固化成为不溶不熔物质。当对由丙烯酸系单体构成的第一聚合物单体101或所述第二聚合物单体102采用上述固化处理后,可以形成丙烯酸系聚合物。本发明中的以下实施例以固化处理采用紫外光照射工艺为例进行说明。
第三、上述金属粒子103是指纳米级的金属颗粒,可以由铁单质、铜单质以及铝单质中的一种或多种构成。由于金属铝的导电性能较强,因此金属铝中含有的自由电子较多。而本发明中的线栅偏振片正是利用金属中自由电子的振荡特性实现对入射光的起偏。因此,本发明实施例中优选的金属粒子103的可以为铝粒子或铝合金粒子。
第四、具有线栅图案的线栅偏振片20需要对入射光具有偏振作用,在此情况下,构成上述线栅图案的第二凸起111,其周期T(相邻两个第二凸起111的中心距)需小于等于入射光波长的二分之一。
此外、上述预设位置为对应第二凸起111的位置,而第二凸起111的位置与入射光有关。因此,预设位置可以根据不同的入射光进行设定。例如,当入射光为可见光时,由于可见光的波长为400~800nm。因此第二凸起111的周期T可以小于等于200nm。从而可以根据周期T(即相邻两个第二凸起111的中心距)≤200nm对预设位置进行设定。又例如,当上述线栅偏振片应用于红外摄像头时,由于作为入射光的红外光其波长为760nm~1mm。因此第二凸起111的周期T可以小于等于380nm。从而可以根据周期T≤380nm对预设位置进行设定。
由于在确保线栅偏振片能够正常使用的前提下,第二凸起111的周期T越小越好。然而第二凸起111的周期T越小,制作精度越高,加工难度越大。因此综合考虑工艺难度系数以及偏振效果,本发明优选的第二凸起111的周期T小于等于100nm。
以下通过具体的实施例对上述线栅偏振片的制作方法进行详细的描述。
实施例一
S201、如图3和图4a所示,在衬底基板01的表面涂覆由丙烯酸系单体构成的第一聚合物单体101。
S202、如图4b所示,将第一掩膜版201设置于第一聚合物单体101的表面,对第一聚合物单体101对应第一掩膜版201透光区域A的位置进行紫外线曝光。
其中,第一掩膜版201还包括不透光的遮光区域B。这样在遮光区域B的遮挡下,对应遮光区域B位置处的第一聚合物单体101将不会受到紫外线光照的作用而产生固化。
S203、如图4c所示,将对应第一掩膜版201遮光区域B的第一聚合物单体101去除,以形成间隔设置的第一凸起110的图案。
具体的,由于对应第一掩膜版201遮光区域B的第一聚合物单体101没有固化,呈流动性,因此将完成步骤S202之后的基板可以采用能够溶解聚合物单体的溶剂,对基板进行冲洗。
S204、如图4d所示,在形成有第一凸起110的基板表面涂覆第二聚合物单体102与金属粒子103的混合物100。
优选的,步骤S101或步骤S201中在衬底基板01的表面形成的第一聚合单体层聚合物单体101与步骤S204中形成的第二聚合单体层聚合物单体102的厚度之和可以在20nm~100nm之间。包括端值20nm与100nm。一方面,当第一聚合单体层聚合物单体101和第二聚合单体层聚合物单体102的厚度之和小于20nm时,形成的第二凸起111与衬底基板01之间的段差太小,从而使制得的线栅偏振片无法对入射光进行起偏。另一方面,当第一聚合单体层聚合物单体101和第二聚合单体层聚合物单体102的厚度之和大于100nm时,会造成线栅偏振片的厚度过厚,从而使得制备的显示装置无法满足超薄化的趋势。
具体的,在满足上述厚度条件,以及形成的线栅偏振片能够对入射光进行起偏的前提下,可以尽可能的增加第一聚合物单体101的厚度,以降低制作成本。
S205、如图4e所示,将第二掩膜版202设置于混合物100的表面,对混合物100对应第二掩膜版202透光区域A’的位置进行曝光。
其中,第二掩膜版200还可以包括不透光的遮光区域B’。这样在遮光区域B’的遮挡下,对应遮光区域B’位置处的混合物100将不会受到紫外线光照的作用而产生固化。
需要说明的是,第二掩膜版202的透光区域A’对应第一掩膜版201的透光区域A,第二掩膜版202的不透光区域B’对应第一掩膜版201的不透光区域B。优选的,第二掩膜版202的透光区域A’的宽度可以小于等于50nm。这样制得的第二凸起111的宽度小于等于50nm,进而最终值得的线栅偏振片的偏振效果更佳。此外,为了保证形成的第二凸起111能够对第一凸起110进行包裹,因此第一掩膜版201的透光区域A的宽度小于第二掩膜版202的透光区域A’的宽度。
S206、如图4f所示,将对应第二掩膜版202遮光区域B的混合物100去除,以形成由间隔设置的第二凸起111构成的线栅图案。具体的,由于对应第二掩膜版202遮光区域B’的混合物100没有固化,呈流动性,因此在步骤S206中可以采用能够溶解聚合物单体的溶剂,对基板进行冲洗,以去除未经过曝光处理的混合物100。
实施例二
S301、如图5所示,在衬底基板01的表面涂覆由丙烯酸系单体构成的第一聚合物单体101。
S302、将第一压印模203压印至第一聚合物单体101中,并与衬底基板01相接触。可以将第一聚合物单体101包裹于第一压印模203的凹槽中。
S303、对第一压印模203中的第一聚合物单体101进行曝光。
具体的,当第一压印模203可以采用不透光的材料构成时,可以如图6所示,在衬底基板01远离第一压印模203一侧的表面对第一压印模203中的第一聚合物单体101进行曝光。
或者,优选的上述第一压印模203可以采用透明材料制成。这样一来,不仅可以在衬底基板01远离第一压印模203一侧的表面对第一压印模203中的第一聚合物单体101进行曝光,还可以将光源设置于第一压印模203的上表面。此外,由于第一压印模203能够透光,因此光线还可以进入第一压印模203中,并穿透第一压印模203凹槽的侧壁,对位于凹槽中的第一聚合物单体101进行固化处理,从而增加了凹槽中第一聚合物单体101与紫外光的接触面,可以减小紫外固化的时间,提高生产效率。
S304、将第一压印模203与曝光后的第一聚合物单体101以及衬底基板01分离。以形成如图4c所示的,间隔设置的第一凸起110的图案。
S305、如图4d所示,在形成有第一凸起110的基板表面涂覆第二聚合物单体102与金属粒子103的混合物100。
S306、将第二压印模204压印至混合物100中,并与衬底基板01相接触。这样一来,可以将混合物100以及第一凸起110包裹于第二压印模204的凹槽中。
优选的,第二压印模204凹槽的宽度可以小于等于50nm。这样制得的第二凸起111的宽度将小于等于50nm,以使得线栅偏振片的偏振效果更佳。此外,为了保证形成的第二凸起111能够对第一凸起110进行包裹,因此第一压印模203凹槽的宽度小于第二压印模204凹槽的宽度。
S307、对第二压印模204中的混合物100进行曝光。可以如图7所示,在衬底基板01远离第二压印模204一侧的表面对第二压印模204中的混合物100进行曝光。
或者,优选的上述第二压印模204可以采用透明材料制成。这样一来,不仅可以在衬底基板01远离第二压印模204一侧的表面对第二压印模204中的混合物100进行曝光,还可以将光源设置于第二压印模204的上表面。此外,由于第二压印模204能够透光,因此光线还可以进入第二压印模204中,并穿透第二压印模204凹槽的侧壁,对位于凹槽中的混合物100进行固化处理,从而增加了凹槽中混合物100与紫外光的接触面,可以减小紫外固化的时间,提高生产效率。
S308、将第二压印模204与曝光后的混合物100以及衬底基板01分离。以形成如图4f所示的,间隔设置的第二凸起111的图案。
综上所述,实施例一采用掩膜紫外线固化的方法分别形成第一凸起110和第二凸起111。实施例二采用压印的方法分别形成第一凸起110和第二凸起111。由于在实施例二的压印的过程中,已经将相邻两个预形成的第一凸起110之间的第一聚合物单体101(或第二凸起111之间的第二聚合物单体102)挤出。因此无需实施例一中去除未固化的第一聚合物单体101(或第二聚合物单体102)的步骤。从而因此可以避免去除未固化的第一聚合物单体101(或第二聚合单体层聚合物单体102)时,由于去除工艺的缺陷导致未固化的第一聚合单体层聚合物单体101(或第二聚合单体层聚合物单体102)部分残留。但是实施例二中,还需要对在压印过程中被挤出的第一聚合单体层聚合物单体101(或第二聚合单体层聚合物单体102)进行清理,以避免污染线栅偏振片。因此,本领域技术人员可以根据实际需要,对制作线栅偏振片的方法进行选择。
此外,在制作上述线栅图案时,还可以采用步骤S201至步骤S203的掩膜紫外线固化的方法形成第一凸起110的图案,然后采用步骤S305至步骤S308的压印方法形成第二凸起111的图案。其中,为了保证形成的第二凸起111能够对第一凸起110进行包裹,在步骤S305至步骤S308的压印方法中采用的第二压印模204凹槽的宽度大于在步骤S201至步骤S203的掩膜紫外线固化的方法中采用的第一掩膜版201透光区域的宽度。
或者,采用步骤S301至步骤S304的压印方法形成第一凸起110的图案,然后采用步骤S204至步骤S206的掩膜紫外线固化的方法形成第二凸起111的图案。其中,为了保证形成的第二凸起111能够对第一凸起110进行包裹,在步骤S204至步骤S206的掩膜紫外线固化的方法中采用的第二掩膜版202透光区域的宽度大于在步骤S301至步骤S304的压印方法中采用的第一压印模203凹槽的宽度。
以上仅仅是对线栅偏振片制作过程的举例说明。其它制作方法在此不再一一赘述,但都应当属于本发明的保护范围。
本发明实施例提供一种线栅偏振片,如图4f所示,可以包括:
衬底基板01。
位于衬底基板01表面的间隔设置的第一凸起110;所述第一凸起110由第一树脂材料构成。
位于衬底基板01表面的间隔设置的第二凸起111;所述第二凸起111由掺杂有金属粒子103的第二树脂材料构成。
其中,每一个所述第二凸起111覆盖一个第一凸起110的至少一个起偏表面E。所述起偏表面E,如图4g所示,可以为第一凸起110的上表面E1或,与线栅排列方向X平行的侧面E2。
需要说明的是,第一、第一树脂材料或第二树脂可以包括丙烯酸系聚合物。其中,丙烯酸系聚合物可以由丙烯酸系单体聚合而成。所述丙烯酸系单体可以是丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯和甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正丁酯中的至少一种。
第二、所述金属粒子103是指纳米级的金属颗粒,可以由铁单质、铜单质以及铝单质中的一种或多种构成。由于金属铝的导电性能较强,因此金属铝中含有的自由电子较多。而本发明中的线栅偏振片正是利用金属中自由电子的振荡特性实现对入射光的起偏。因此,本发明实施例中优选的金属粒子103为铝粒子或铝合金粒子。
本发明实施例提供一种线栅偏振片,可以包括:衬底基板、位于衬底基板表面的间隔设置的第一凸起,所述第一凸起由第一树脂材料构成;以及位于衬底基板表面的间隔设置的第二凸起;所述第二凸起由掺杂有金属粒子的第二树脂材料构成。其中,每一个第二凸起覆盖一个第一凸起的至少一个起偏表面。这样一来,一方面,由上述第二凸起中具有金属粒子,因此可以利用金属粒子中自由电子的振荡特性,对入射光进行起偏,从而能够形成具有反射特性的线栅偏振片;另一方面,由于第一聚合物单体和第二聚合物单体一般为树脂材料,从而在制作线栅偏振片的过程中可以降低金属材料的消耗,并且树脂材料相对于金属靶材而言,材料的成本较低,因此能够降低生产成本。
本发明实施例提供一种显示装置,包括如上所述的任意一种线栅偏振片。具有与前述实施例中的线栅偏振片相同的有益效果。由于前述实施例中,已经对线栅偏振片的结构、制作方法以及有益效果进行了详细的说明,在此不再赘述。
需要说明的是,在本发明实施例中,显示装置具体至少可以包括液晶显示装置和有机发光二极管显示装置,例如该显示装置可以为液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机或平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (14)
1.一种线栅偏振片的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体;
对对应预设位置处的所述第一聚合物单体进行固化处理;
在所述衬底基板的表面形成间隔设置的第一凸起的图案;
在形成有所述第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物;
对对应所述预设位置处的所述混合物进行固化处理;
在所述衬底基板的表面形成由间隔设置的第二凸起构成的线栅图案;其中,每一个所述第二凸起覆盖一个所述第一凸起的上表面和与线栅排列方向平行的侧面。
2.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在所述在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体的步骤之后,形成所述第一凸起的步骤包括:
将第一掩膜版设置于所述第一聚合物单体的表面,对所述第一聚合物单体对应所述第一掩膜版透光区域的位置进行曝光;
将对应所述第一掩膜版遮光区域的所述第一聚合物单体去除。
3.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在所述在衬底基板的表面涂覆第一聚合物单体的步骤之后,形成所述第一凸起的步骤包括:
将第一压印模压印至所述第一聚合物单体中,并与所述衬底基板相接触;
对所述第一压印模中的所述第一聚合物单体进行曝光;
将所述第一压印模与曝光后的所述第一聚合物单体以及所述衬底基板分离。
4.根据权利要求2所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在形成有所述第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物的步骤之后,形成所述第二凸起的步骤包括:
将第二掩膜版设置于所述混合物的表面,对所述混合物对应所述第二掩膜版透光区域的位置进行曝光;其中,所述第二掩膜版透光区域的宽度大于所述第一掩膜版透光区域的宽度;
将对应所述第二掩膜版遮光区域的所述混合物去除。
5.根据权利要求3所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在形成有所述第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物的步骤之后,形成所述第二凸起的步骤包括:
将第二掩膜版设置于所述混合物的表面,对所述混合物对应所述第二掩膜版透光区域的位置进行曝光;其中,所述第二掩膜版透光区域的宽度大于所述第一压印模凹槽的宽度;
将对应所述第二掩膜版遮光区域的所述混合物去除。
6.根据权利要求2所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在形成有所述第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物的步骤之后,形成所述第二凸起的步骤包括:
将第二压印模压印至所述混合物中,并与所述衬底基板相接触;其中,所述第二压印模凹槽的宽度大于所述第一掩膜版透光区域的宽度;
对所述第二压印模中的所述混合物进行曝光;
将所述第二压印模与曝光后的所述混合物以及所述衬底基板分离。
7.根据权利要求3所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在形成有所述第一凸起的基板表面涂覆第二聚合物单体与金属粒子的混合物的步骤之后,形成所述第二凸起的步骤包括:
将第二压印模压印至所述混合物中,并与所述衬底基板相接触;其中,所述第二压印模凹槽的宽度大于所述第一压印模凹槽的宽度;
对所述第二压印模中的所述混合物进行曝光;
将所述第二压印模与曝光后的所述混合物以及所述衬底基板分离。
8.根据权利要求6所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,所述第二压印模采用透明材料制成。
9.根据权利要求7所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,所述第一压印模和/或所述第二压印模采用透明材料制成。
10.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,构成所述第一聚合物单体或第二聚合物单体的材料包括丙烯酸系单体;所述金属粒子由铁单质、铜单质以及铝单质中的一种或多种构成。
11.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述第二凸起的周期小于等于100nm。
12.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述第二凸起的宽度小于等于50nm。
13.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述第一聚合物单体与所述混合物的厚度之和为20nm~100nm。
14.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
构成所述衬底基板的材料包括玻璃、石英石的至少一种,或聚对苯二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素中的至少一种。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410841901.3A CN104483733B (zh) | 2014-12-30 | 2014-12-30 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
PCT/CN2015/078474 WO2016107040A1 (zh) | 2014-12-30 | 2015-05-07 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
US14/893,703 US10042099B2 (en) | 2014-12-30 | 2015-05-07 | Wire grid polarizer and manufacturing method thereof, and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410841901.3A CN104483733B (zh) | 2014-12-30 | 2014-12-30 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104483733A CN104483733A (zh) | 2015-04-01 |
CN104483733B true CN104483733B (zh) | 2017-11-21 |
Family
ID=52758297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410841901.3A Expired - Fee Related CN104483733B (zh) | 2014-12-30 | 2014-12-30 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10042099B2 (zh) |
CN (1) | CN104483733B (zh) |
WO (1) | WO2016107040A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104297835B (zh) | 2014-10-17 | 2017-03-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片的制作方法 |
CN104459865A (zh) | 2014-12-30 | 2015-03-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
CN104483733B (zh) * | 2014-12-30 | 2017-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
CN104865744A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-08-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种3d显示装置及其制作方法 |
CN105911628B (zh) * | 2016-06-07 | 2018-08-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振器结构、显示基板母板及制作方法 |
CN106226853B (zh) * | 2016-07-29 | 2018-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种光栅及其制备方法、显示装置 |
Family Cites Families (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1737615A (zh) | 2004-08-17 | 2006-02-22 | 力特光电科技股份有限公司 | 具有光学均匀性质的偏光板结构及其形成方法 |
JP4821614B2 (ja) * | 2004-12-16 | 2011-11-24 | 東レ株式会社 | 偏光板、その製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 |
JP2006184624A (ja) | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Tokyo Institute Of Technology | 薄膜型偏光子及びその製造方法並びにそれを用いた光デバイス |
KR20070074787A (ko) | 2005-06-13 | 2007-07-18 | 삼성전자주식회사 | 계조 전압 발생 장치 및 액정 표시 장치 |
JP2007017641A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Sekisui Chem Co Ltd | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法 |
JP4275692B2 (ja) | 2005-10-17 | 2009-06-10 | 旭化成株式会社 | ワイヤグリッド偏光板及びそれを用いた液晶表示装置 |
US7894019B2 (en) | 2005-10-17 | 2011-02-22 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Wire grid polarizer and liquid crystal display device using the same |
CN1952700B (zh) | 2005-10-17 | 2010-06-09 | 旭化成电子材料株式会社 | 线栅偏振片及其制造方法 |
JP2007121507A (ja) | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学部材及び光学部材の製法 |
JP2007183524A (ja) | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Cheil Industries Inc | 偏光光学素子及びそれを用いた液晶表示装置 |
CN101401015B (zh) | 2006-03-10 | 2011-03-23 | 株式会社日本触媒 | 偏振片保护薄膜、偏振板、以及图像显示装置 |
KR20090006066A (ko) | 2006-04-07 | 2009-01-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 와이어 그리드형 편광자 및 그 제조 방법 |
KR101281163B1 (ko) * | 2006-11-21 | 2013-07-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 와이어 그리드 편광자 제조방법 |
JP5096735B2 (ja) * | 2006-12-05 | 2012-12-12 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | ワイヤグリッド型偏光子及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム及び液晶表示素子 |
JP4795214B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-10-19 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法 |
KR101196231B1 (ko) | 2006-12-19 | 2012-11-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 와이어 그리드 편광자의 제조방법 |
JP4488033B2 (ja) | 2007-02-06 | 2010-06-23 | ソニー株式会社 | 偏光素子及び液晶プロジェクター |
US7957062B2 (en) | 2007-02-06 | 2011-06-07 | Sony Corporation | Polarizing element and liquid crystal projector |
JP2009031392A (ja) | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Seiko Epson Corp | ワイヤーグリッド型偏光素子、その製造方法、液晶装置および投射型表示装置 |
CN101419298A (zh) | 2007-10-24 | 2009-04-29 | 中华映管股份有限公司 | 多功能光学膜片与偏光片 |
JP5274006B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-08-28 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | ワイヤグリッド偏光子およびその製造方法 |
KR20110002008A (ko) * | 2008-04-03 | 2011-01-06 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 와이어 그리드형 편광자 및 그 제조 방법 |
WO2010005059A1 (ja) | 2008-07-10 | 2010-01-14 | 旭硝子株式会社 | ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法 |
KR20100009473A (ko) | 2008-07-18 | 2010-01-27 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 및 액정표시장치 |
KR20100035347A (ko) | 2008-09-26 | 2010-04-05 | 주식회사 코오롱 | 와이어 그리드 편광판 |
GB2468635B (en) | 2009-02-05 | 2014-05-14 | Api Group Plc | Production of a surface relief on a substrate |
JP2010204626A (ja) | 2009-02-05 | 2010-09-16 | Asahi Glass Co Ltd | ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法 |
KR20120018750A (ko) | 2009-04-30 | 2012-03-05 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 와이어그리드형 편광자 및 그 제조 방법 |
JP5359541B2 (ja) * | 2009-05-12 | 2013-12-04 | 王子ホールディングス株式会社 | 凹凸形状を有する金属細線シートの製造方法、および凹凸形状を有する金属細線シート |
KR20100127954A (ko) | 2009-05-27 | 2010-12-07 | 도레이첨단소재 주식회사 | 반사방지필름 및 이를 포함하는 편광판 |
WO2011002042A1 (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法およびワイヤグリッド型偏光子の製造方法 |
KR20110033025A (ko) * | 2009-09-22 | 2011-03-30 | 주식회사 엘지화학 | 광배향막 제조용 자외선 고투과 이중 선 격자 편광판 및 이의 제조방법 |
WO2011043439A1 (ja) | 2009-10-08 | 2011-04-14 | 旭硝子株式会社 | ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法 |
CN102087377B (zh) | 2009-12-02 | 2013-12-11 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 偏振元件及其制作方法 |
JP5710151B2 (ja) | 2010-04-13 | 2015-04-30 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ワイヤグリッド偏光板 |
KR20130079323A (ko) | 2010-04-19 | 2013-07-10 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 와이어 그리드형 편광자의 제조 방법 및 액정 표시 장치 |
KR20120072201A (ko) | 2010-12-23 | 2012-07-03 | 한국전자통신연구원 | 편광소자의 제조방법 |
CN102540306B (zh) | 2010-12-31 | 2015-03-25 | 北京京东方光电科技有限公司 | 光栅片、液晶显示装置及光栅片、液晶面板的制造方法 |
CN102096134B (zh) | 2011-01-17 | 2012-11-28 | 西安交通大学 | 量子点植入反射式主动光栅及其制造方法 |
JP2012168301A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Bridgestone Corp | 金属細線の形成方法及びこれを用いたワイヤグリッド型偏光子の製造方法 |
KR20130015471A (ko) | 2011-08-03 | 2013-02-14 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이패널 및 이를 채용한 디스플레이장치 |
CN202433543U (zh) | 2011-10-10 | 2012-09-12 | 旭化成电子材料株式会社 | 线栅偏振片 |
KR101854124B1 (ko) | 2011-10-11 | 2018-05-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광판의 제조 방법, 이를 포함하는 표시 장치의 제조 방법 및 그 표시 장치 |
KR101795119B1 (ko) | 2011-10-12 | 2017-11-07 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 화상 표시 장치용 방현 시트 |
US9726929B2 (en) | 2011-10-14 | 2017-08-08 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Wire grid polarizing plate and projection type image display device |
KR20130057261A (ko) | 2011-11-23 | 2013-05-31 | 한국전자통신연구원 | 나노 와이어 그리드 편광자의 제조 방법 |
KR101457769B1 (ko) | 2011-12-15 | 2014-11-13 | 주식회사 엘지화학 | 반사형 편광판 |
US20140216783A1 (en) | 2013-02-05 | 2014-08-07 | David P. Trauernicht | Micro-wire pattern with offset intersections |
US20150227230A1 (en) | 2014-02-12 | 2015-08-13 | Ronald Steven Cok | Micro-wire touch screen with thin cover |
CN104297835B (zh) | 2014-10-17 | 2017-03-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片的制作方法 |
CN104483733B (zh) * | 2014-12-30 | 2017-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
CN104459865A (zh) | 2014-12-30 | 2015-03-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 |
-
2014
- 2014-12-30 CN CN201410841901.3A patent/CN104483733B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-05-07 WO PCT/CN2015/078474 patent/WO2016107040A1/zh active Application Filing
- 2015-05-07 US US14/893,703 patent/US10042099B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104483733A (zh) | 2015-04-01 |
US10042099B2 (en) | 2018-08-07 |
US20160341861A1 (en) | 2016-11-24 |
WO2016107040A1 (zh) | 2016-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104483733B (zh) | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 | |
CN104297835B (zh) | 一种线栅偏振片的制作方法 | |
CN104459865A (zh) | 一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置 | |
CN104062794B (zh) | 掩膜板以及紫外线掩膜板、阵列基板的制造方法 | |
CN103091894B (zh) | 一种彩膜基板和液晶面板 | |
WO2017049878A1 (zh) | 一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置 | |
CN104253089B (zh) | 一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置 | |
CN104297978B (zh) | 一种显示基板的制备方法、显示装置的制备方法 | |
CN101097265A (zh) | 光束方向控制元件及其制造方法 | |
CN106249487A (zh) | 一种彩膜基板和显示装置 | |
CN108490738B (zh) | 黑色矩阵材料组合物及黑色矩阵的制作方法 | |
CN104297990A (zh) | 彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置 | |
CN103969944A (zh) | 紫外掩膜及其制作方法 | |
CN102628971A (zh) | 一种彩色滤光片及其制作方法、装置 | |
CN104570445A (zh) | 显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法 | |
CN106773354A (zh) | 一种液晶显示装置及其制作方法 | |
CN104101923B (zh) | 具有随机微米/纳米混合结构的光扩散片的制备方法 | |
US11977289B2 (en) | Wide-viewing-angle optical film, manufacturing method of the same, and liquid crystal display device | |
CN109917591A (zh) | 液晶显示面板的制作方法 | |
CN106501991B (zh) | 黑色矩阵、液晶显示面板边框胶的固化方法及液晶显示面板 | |
CN206292499U (zh) | 一种液晶显示装置 | |
CN203012350U (zh) | 微细凹凸图案基材、模具以及线栅偏振片 | |
CN102315167B (zh) | 广视角液晶显示器阵列基板制作方法 | |
CN1721956A (zh) | 框胶固化方法及液晶面板制造方法 | |
CN117215112A (zh) | 一种扩散板及其制备方法和显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20171121 Termination date: 20201230 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |