CN104297990A - 彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置，该彩膜基板包括彩膜基板主体以及形成在所述彩膜基板主体上用于形成封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，所述催化剂薄膜层图形适于增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。采用本发明提供的彩膜基板，能够提高预固化过程中封框胶的固化速度和均匀程度。

Description

彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置。
背景技术
与阴极射线管显示器相比(CRT)，液晶显示器(LCD)具有很多优点，如厚度较薄，功耗较低等。因此，液晶显示器在很多领域都已经代替了CRT显示器。
现有的液晶面板制造工艺流程中，阵列基板和彩膜基板进行装配成盒(Cell)工艺。具体过程为：阵列基板与彩膜基板完成取向膜的涂覆、固化和摩擦(Rubbing)后，进行液晶滴定、封框胶的涂覆以及将两块基板进行对盒和封框胶的固化工序。在进行完全热固化之前，为了防止液晶扩散至封框胶涂覆区与之接触，发生液晶污染，一般使用的技术对封框胶进行紫外光预固化，防止液晶与未固化的封框胶接触，从而避免液晶污染。
但是尽管使用了紫外光预固化，但由于封框胶不是无色透明的，紫外光的强度在照射方向上因封框胶的吸收而逐渐衰减，参见图1，随着封框胶的深度d(对应于与光源的距离)增加，固化速度p不断降低。即使通过增加光照度，延长光照时间等手段来补偿，但也无法有效的提高封框胶的预固化速度。
发明内容
本发明的目的是提高显示装置制作过程中封框胶的预固化速度。
为了达到上述目的，本发明提供了一种彩膜基板，包括：彩膜基板主体以及形成在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。
进一步的，所述彩膜基板主体包括基底以及形成在所述基底上的彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；所述催化剂薄膜层图形具体形成在所述黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域。
进一步的，所述催化剂薄膜层图形包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料。
进一步的，所述光转换材料为半导体光转换材料或者量子点。
进一步的，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子；所述量子点为锡化镉或者硫化镉。
本发明还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：
形成彩膜基板主体；
在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形；所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。
进一步的，所述形成彩膜基板主体，包括：
在基底上形成彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；
所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：
在所述黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域形成催化剂薄膜层图形。
进一步的，所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：
在所述彩膜基板主体上上沉积催化剂薄膜层；
对沉积的催化剂薄膜进行图案化得到催化剂薄膜层图形。
进一步的，所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：
采用包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料的材料形成催化剂薄膜层图形。
进一步的，所述光转换材料为半导体光转换材料或者量子点。
进一步的，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子；所述量子点为锡化镉或者硫化镉。
本发明还提供了一种显示面板的制作方法，包括：
提供上述任一项所述的彩膜基板；
在所述彩膜基板上涂覆封框胶；
将阵列基板与彩膜基板对盒封装；
使用紫外光从阵列基板朝向彩膜基板的方向对封框胶进行照射。
本发明提供了一种显示面板，包括上述任一项所述的彩膜基板。
本发明提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
本发明提供的彩膜基板，包括彩膜基板主体以及形成在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。采用本发明提供的彩膜基板，能够提高预固化过程中封框胶的固化速度和均匀程度。
附图说明
图1为现有技术中封框胶的固化率随封框胶的深度的变化趋势图；
图2为本发明提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图3为包含有图2所示的彩膜基板的显示面板的结构示意图；
图4为图3所示中的显示面板的封框胶的固化率随封框胶的深度的变化趋势图；
图5为半导体光转换材料的受激跃迁示意图；
图6为本发明提供的一种彩膜基板的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
本发明提供了一种彩膜基板，如图2所示，该彩膜基板包括：
基底21以及形成在所述基底21上的彩膜滤光层图形22和黑矩阵层图形23；形成在所述黑矩阵层图形23上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形24，所述催化剂薄膜层图形24能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。
这里的基底21、彩膜滤光层图形22、黑矩阵层图形23构成彩膜基板的主体，各个层结构的具体结构、各个层结构的材质以及相互的位置关系可以参见现有技术中的彩膜基板，在此不再详细说明。
下面结合图3和图4对图2中所示的彩膜基板提高预固化过程中封框胶的固化速度和均匀程度的原理进行说明，如图3所示，为包含有图2中的彩膜基板的一种显示面板的结构示意图；除了包括如图2所示的彩膜基板外，还包括阵列基板10、封装在阵列基板10和彩膜基板之间的液晶层30、以及封框胶40，在预固化过程中，从阵列基板10朝向彩膜基板的方向对封框胶40进行照射，则封框胶的固化率随封框胶的深度d的变化示意图可以如图4所示，随着封框胶的深度d的增加，紫外线对封框胶的固化速度逐渐降低，但是由于更靠近催化剂薄膜层图形，催化剂薄膜层图形对封框胶的固化的催化作用使得封框胶的速度逐渐增强，最终形成的固化速度基本一致。这样保证了远离光源的封框胶的固化速度，保证了固化的均一性。
可见，本发明提供的彩膜基板中，由于在黑矩阵上设置有能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度的催化剂薄膜层图形，可以有效增大与该催化剂薄膜层图形接触的封框胶的固化速度，提高预固化过程中封框胶的固化速度和固化均匀程度。
需要指出的是，虽然本发明实施例中示出的是，彩膜基板主体仅包含基底21、彩膜滤光层图形22、黑矩阵层图形23，在所述黑矩阵层图形23上用于设置封框胶的区域设置催化剂薄膜层图形24的情形。但是在实际应用中，这里的彩膜基板主体还可能包括保护层，此时所述黑矩阵层图形23可以形成在保护层之上。另外，在实际应用中，用于设置封框胶的区域也可能不包含黑矩阵层图形23，此时黑矩阵层图形23可以直接形成在基底21上。只要催化剂薄膜层图形24形成彩膜基板的主体上表面用于设置封框胶的区域，其具体形成在哪一个层结构上，并不影响发明的实施，相应的技术方案都应该落入本发明的保护范围。
优选的，所述催化剂薄膜层图形24包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料。
通过这种方式，能够将紫外光转换成能量更容易被封框胶吸收的红外线，使强度较小的紫外光有效的被封框胶利用。
进一步的，所述光转换材料为半导体光转换材料。
半导体光转换材料，材料本身的能级结构决定了跃迁层次和能力。如将高能量的紫外线照射半导体材料后，半导体材料后将受激辐射。如图5所示，为导体光转换材料收到激发时能级跃迁示意图，当原子处于激发态E2时恰好有能量为E的光子(紫外光的光子)趋近该原子，原子就可能受到此外来光子的激励而跃迁到低能态E1上，由于弛豫现象，同时发射出一个能量为E’(E’<E,E＝E’+热能+其他能量)红外线。
更具体的，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子。该半导体光转换材料的化学式可以表示为La1-x-y·Ndx·Yby·OX(X＝F,Cl,Br)。
所述光转换材料也可以为量子点，该量子点可以紫外光的照射下产生特定颜色的光，比如红外光。通过控制量子点的结构和晶粒可以控制该量子点所产生的光的颜色。更具体的，这里的量子点可以为锡化镉或者硫化镉。
本发明还提供了一种彩膜基板的制作方法，如图6所示，可用于形成如图3所示的彩膜基板，该方法包括：
步骤601，在基底上形成彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；
步骤602，在黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域形成催化剂薄膜层图形；所述催化剂薄膜层图形适于增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。
同样的，在实际应用中，彩膜基板的主体还可能包括其他结构，比如保护层等，此时催化剂薄膜层图形应形成在该保护层之上。只要是在彩膜基板主体的上表面用于设置封框胶的区域形成催化剂薄膜层图形，其相应的技术方案都应落入本发明的保护范围。
具体的，步骤602包括：在形成彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形的基底上沉积催化剂薄膜层；对沉积的催化剂薄膜进行图案化得到催化剂薄膜层图形。
沉积催化剂薄膜层以及进行图案化得到催化剂薄膜层图形的过程可以参考现有技术中其他层结构图形的过程，在此不再详细说明。
具体的，上述的步骤501可以包括：采用包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料的材料形成催化剂薄膜层图形。
优选的，所述光转换材料为半导体光转换材料。更具体的，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子。
本发明还提供了一种显示面板的制作方法，该方法包括：
提供上述任一项所述的彩膜基板；
在所述彩膜基板上涂覆封框胶；
将阵列基板与彩膜基板对盒封装；
使用紫外光从阵列基板朝向彩膜基板的方向对封框胶进行照射。
本发明提供了一种显示面板，包括上述任一项所述的彩膜基板。
本发明提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
这里的显示装置可以为：电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：彩膜基板主体以及形成在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板主体包括基底以及形成在所述基底上的彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；所述催化剂薄膜层图形具体形成在所述黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域。
3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述催化剂薄膜层图形包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料。
4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述光转换材料为半导体光转换材料或者量子点。
5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子；所述量子点为锡化镉或者硫化镉。
6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
形成彩膜基板主体；
在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形；所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述形成彩膜基板主体，包括：
在基底上形成彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；
所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：
在所述黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域形成催化剂薄膜层图形。
8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：
在所述彩膜基板主体上上沉积催化剂薄膜层；
对沉积的催化剂薄膜进行图案化得到催化剂薄膜层图形。
9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：
采用包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料的材料形成催化剂薄膜层图形。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述光转换材料为半导体光转换材料或者量子点。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子；所述量子点为锡化镉或者硫化镉。
12.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板；
在所述彩膜基板上涂覆封框胶；
将阵列基板与彩膜基板对盒封装；
使用紫外光从阵列基板朝向彩膜基板的方向对封框胶进行照射。
13.一种显示面板，包括如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板。
14.一种显示装置，包括如如权利要求13所述的显示面板。
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