JP7330253B2 - マーク付き光学積層体、及び、マーク付き光学積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。前記光学積層体は、前記光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って、
0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を少なくとも1つ有する領域Aと、
0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を有さない領域Bと、を有し、前記レーザービームを照射する工程では、前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記領域Bの表面にレーザービームを照射してマークを付与する。
両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルム、及び/又は、
30gf/25mm以上の密着力を有する界面のみを有する光学フィルムの積層体、を有することができる。
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。
前記光学積層体は、0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を少なくとも1つ備え、前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各前記界面との距離が80μm以上であり、前記レーザービームを照射する工程では、前記光学積層体の前記一方の表面にレーザービームを照射する。
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、
前記光学積層体の前記マークが付与された面上に保護フィルムを積層して前記マークを被覆する工程と、を備える。
前記光学積層体は、前記光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って、
0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を少なくとも1つ有する領域Aと、
0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を有さない領域Bと、を有し、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な、前記光学積層体の前記領域Bの表面にレーザービームによるマークが付与されている。
両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルム、及び/又は、
30gf/25mm以上の密着力を有する界面のみを有する光学フィルムの積層体、を有することができる。
前記光学積層体は、0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を少なくとも1つ備え、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各前記界面との距離が80μm以上であり、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の前記一方の表面にレーザービームによるマークが付与されている。
積層された複数の光学フィルムを有する光学積層体と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面に積層された保護フィルムと、を備え、
前記光学積層体は前記光学積層体の積層方向の一方の表面にレーザービームにより形成されたマークを有し、
前記保護フィルムは、前記マークを被覆している。
前記光学積層体を長手方向に搬送する工程と、
搬送される前記光学積層体における欠陥を検出する工程と、
搬送される前記光学積層体の前記マークを検出する工程と、
検出された欠陥の前記光学積層体の長手方向における位置を検出されたマークの位置を基準として取得する工程と、
前記位置に関する情報を記憶装置に記憶する工程と、を備える。
図1~4を参照して、第1実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法及びマーク付き光学積層体について説明する。
光学フィルムの積層方向に垂直な光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。
0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を少なくとも1つ有する領域Aと、0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を有さない領域Bと、を有する。そして、光学フィルムの積層方向に垂直な、光学積層体の領域Bの表面にレーザービームによるマークが付与されている。
積層体サンプルの一方の面をソーダガラスの表面にアクリル系粘着剤を用いて固定し、サンプルを構成する層を順次剥離し、剥離に要する荷重を測定することにより、各界面の密着力を測定する。剥離力の測定方法はJISK6854-2 1999に準拠する。評価サンプルの幅は25mm、剥離角は180°、剥離速度300mm/minとする。剥離力はgf/25mmの単位で表される。具体的には、例えば、(株)島津製作所製の「オートグラフAGS-50NX」を用いて測定することができる。
なお、光学積層体の層構成は、領域Aが0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を少なくとも1つ有し、領域Bが0を超えかつ30gf/25mm未満の密着力を有する界面を有さない限り、自由に設定することができる。
図5を参照して、第2実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法及びマーク付き光学積層体について説明する。本実施形態では、第1実施形態との相違点のみ説明し、重複する記載は省略する。
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。
本実施形態によれば、レーザービームが照射される表面と弱接着界面との距離がある程度確保されるので、弱接着界面におけるレーザービームのエネルギーが弱く、界面での気泡の発生が抑制される。
つづいて、第3実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法及びこれにより得られる保護フィルムを有するマーク付き光学積層体について説明する。
光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、
前記光学積層体の前記マークが付与された面上に保護フィルムを積層する工程と、を備える。
マーク付きの光学積層体のマークMが付与された表面が外部に露出したままだと、当該光学積層体の搬送時にマークMが他の部材等と接触してマークの一部または全部が欠落し、その後の、マークの読み取りにおいてエラーが生じることがある。
本実施形態では、図7を参照して、上述のマーク付き光学積層体を用いた光学積層体の検査方法の一実施形態について説明する。
このシステム400は、コンピュータ86、測長器82、レーザー装置83、マーク読み取りカメラ84、欠陥検出カメラ85、記憶装置87を備えている。測長器82、レーザー装置83、マーク読み取りカメラ84、欠陥検出カメラ85、及び記憶装置87はコンピュータ86に接続されている。マーク読み取りカメラ84及び欠陥検出カメラ85は近接する位置に設けられている。
なお、欠陥DFの位置に関する情報を生成する方法は、上記に限定されず、マークMに基づく情報を利用して欠陥の位置情報を生成すれば、上記に限定されない。
マークMを保護フィルムで覆う場合には、マークの形成後に光学積層体に保護フィルムを積層すればよく、欠陥の検出前に保護フィルムを積層してもよく、欠陥の検出後に保護フィルムを積層してもよい。
このシステム500は、コンピュータ95、測長器92、マーク読み取りカメラ93、印刷装置94、記憶装置87を備えている。測長器92、マーク読み取りカメラ93、印刷装置94、及び記憶装置87はコンピュータ86に接続されている。マーク読み取りカメラ93及び印刷装置94は近接する位置に設けられている。
(実施例1及び比較例1)
図1の光学積層体を用意した。プロテクトフィルム11、粘着剤層12、トリアセチルセルロースフィルム13、接着剤層14、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム15、接着剤層16、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム17の厚みはそれぞれ、50μm、1μm、30μm、0.1μm、10μm、0.1μm、30μmであった。
図2の光学積層体を用意した。トリアセチルセルロースフィルム25、λ/4位相差板24、紫外線硬化接着剤層23、λ/2位相差板22、及び、トリアセチルセルロースフィルム21の厚みはそれぞれ、50μm、2μm、2μm、2μm、100μmであった。
図3の光学積層体を用意した。プロテクトフィルム31、粘着剤層32、トリアセチルセルロースフィルム33、接着剤層34、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム35,接着剤層36、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム37の厚みはそれぞれ、50μm、1μm、30μm、0.1μm、10μm、0.1μm、30μmであった。
図4の光学積層体を用意した。プロテクトフィルム71、粘着剤層72、トリアセチルセルロースフィルム73、接着剤層74、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム75、接着剤層76、環状オレフィン系樹脂フィルム77、粘着剤層78、及び、剥離フィルム79の厚みはそれぞれ、50μm、1μm、30μm、0.1μm、10μm、0.1μm、30μm、30μm、40μmであった。
本実施例では、以下のようにして、界面の密着力を測定した。
積層体サンプルの一方の面をソーダガラスの表面にアクリル系粘着剤を用いて固定し、サンプルを構成する層を順に剥離し、各界面の剥離力を測定した。剥離力の測定方法はJISK6854-2 1999に準拠した。評価サンプルの幅は25mm、剥離角は180°、剥離速度300mm/minとした。(株)島津製作所製の「オートグラフAGS-50NX」を用いて剥離力を測定した。
Claims (5)
- 複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、
前記光学積層体の前記マークが付与された面上に保護フィルムを積層して前記マークを被覆する工程と、を備え、
前記保護フィルムの端面は、前記光学積層体の端面よりも外側に突出している、マーク付き光学積層体の製造方法。 - 前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向の位置に関する情報を含む、請求項1に記載の方法。
- 積層された複数の光学フィルムを有する光学積層体と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面に積層された保護フィルムと、を備え、
前記光学積層体は前記光学積層体の積層方向の一方の表面にレーザービームにより形成されたマークを有し、
前記保護フィルムは、前記マークを被覆しており、
前記保護フィルムの端面は、前記光学積層体の端面よりも外側に突出している、保護フィルム付き光学積層体。 - 前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向に離間して複数付与された、請求項3に記載の保護フィルム付き光学積層体。
- 請求項4に記載の保護フィルム付き光学積層体における欠陥を検査する方法であって、
前記光学積層体を長手方向に搬送する工程と、
搬送される前記光学積層体における欠陥を検出する工程と、
搬送される前記光学積層体の前記マークを検出する工程と、
検出された欠陥の前記光学積層体の長手方向における位置を検出されたマークの位置を基準として取得する工程と、
前記位置に関する情報を記憶装置に記憶する工程と、を備える、方法。
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