JP2022091140A - マーク付き光学積層体、及び、マーク付き光学積層体の製造方法 - Google Patents

マーク付き光学積層体、及び、マーク付き光学積層体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】マークの読み取り時に読み取りエラーが生じにくいマーク付き光学積層体及びその製造方法、並びに光学積層体の検査方法を提供する。【解決手段】マーク付き光学積層体の製造方法は、複数の光学フィルム１１～１７が積層された光学積層体１００を準備する工程と、光学フィルムの積層方向に垂直な光学積層体１００の表面にレーザービームＬＢを照射してマークＭを付与する工程と、を備える。光学積層体１００は、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ有する領域Ａと、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さない領域Ｂと、を有する。レーザービームを照射する工程では、光学フィルムの積層方向に垂直な領域Ｂの表面にレーザービームを照射してマークＭを付与する。【選択図】図１

Description

本発明は、マーク付き光学積層体及びその製造方法等に関する。
複数の光学フィルムを有する光学積層体においては、光学積層体における位置を正確に後工程で判断することができるように、レーザービームによりマークを付与することが知られている。
特表２０１９－５１２３９３号公報 特許５３４７４０６号公報 特許５９２５６０９号公報
光学積層体にレーザービームによりマークを付与すると、マークの読み取り時に読み取りエラーが生じることがある。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、マークの読み取り時に読み取りエラーが生じにくいマーク付き光学積層体及びその製造方法、並びに光学積層体の検査方法を提供することを目的とする。
本発明者らが検討した結果、光学積層体の表面にレーザービームによりマークを付与すると、光学フィルム間に気泡が生じることがあること、そして、光学フィルム間に気泡が生じるとマークの読み取り時に読み取りエラーが生じることを見出した。
また、本発明者らが検討した結果、マーク付きの光学積層体の表面が外部に露出したままだと、光学積層体の搬送時にマークの欠落等が生じ、マークの読み取り時に読み取りエラーが生じることを見出した。
本発明の一側面に関するマーク付き光学積層体の製造方法は、複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。前記光学積層体は、前記光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って、
０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ有する領域Ａと、
０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さない領域Ｂと、を有し、前記レーザービームを照射する工程では、前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記領域Ｂの表面にレーザービームを照射してマークを付与する。
本発明によれば、弱接着界面のある領域Ａをさけて、領域Ｂの表面にレーザービームが照射されるので、弱接着界面における気泡の発生が抑制される。
ここで、前記領域Ｂは、
両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルム、及び／又は、
３０ｇｆ／２５ｍｍ以上の密着力を有する界面のみを有する光学フィルムの積層体、を有することができる。
上記の発明において、前記レーザービームを、前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記領域Ｂの表面において、前記光学フィルムの積層方向と垂直な方向に、前記領域Ａ及び前記領域Ｂの境界から、１～２０ｍｍ離れた位置に照射して前記マークを付与することができる。
本発明にかかる他の一側面に係るマーク付き光学積層体の製造方法は、複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。
前記光学積層体は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ備え、前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各前記界面との距離が８０μｍ以上であり、前記レーザービームを照射する工程では、前記光学積層体の前記一方の表面にレーザービームを照射する。
本発明によれば、レーザービームが照射される表面と弱接着界面との距離がある程度確保されるので、弱接着界面におけるレーザービームのエネルギーが弱く、界面での気泡の発生が抑制される。
上記の各発明において、前記表面における前記レーザービームの強度が０．００１～０．１Ｊ／ｍｍ２であることができる。
本発明の更に他の一側面に係るマーク付き光学積層体の製造方法は、複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、
前記光学積層体の前記マークが付与された面上に保護フィルムを積層して前記マークを被覆する工程と、を備える。
本発明によれば、マークが保護フィルムに被覆されるので、光学積層体のハンドリング時にマークが破損することが抑制される。
上記の各発明において、前記光学積層体は長尺形状を有することができ、前記マークは前記光学積層体の長手方向の位置に関する情報を含むことができる。
本発明の一側面に関する光学積層体は、積層された複数の光学フィルムを備え、
前記光学積層体は、前記光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って、
０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ有する領域Ａと、
０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さない領域Ｂと、を有し、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な、前記光学積層体の前記領域Ｂの表面にレーザービームによるマークが付与されている。
上記発明において、前記領域Ｂは、
両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルム、及び／又は、
３０ｇｆ／２５ｍｍ以上の密着力を有する界面のみを有する光学フィルムの積層体、を有することができる。
上記の光学積層体の発明において、前記マークは、前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の前記領域Ｂの表面において、前記光学フィルムの積層方向と垂直な方向に前記領域Ａ及び前記領域Ｂの境界から、１～２０ｍｍ離れた位置に付与されていることができる。
本発明の他の一側面に係る光学積層体は、積層された複数の光学フィルムを備え、
前記光学積層体は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ備え、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各前記界面との距離が８０μｍ以上であり、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の前記一方の表面にレーザービームによるマークが付与されている。
ここで、前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向に離間して複数付与されることができる。
本発明の他の一側面に係る保護フィルム付き光学積層体は、
積層された複数の光学フィルムを有する光学積層体と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面に積層された保護フィルムと、を備え、
前記光学積層体は前記光学積層体の積層方向の一方の表面にレーザービームにより形成されたマークを有し、
前記保護フィルムは、前記マークを被覆している。
ここで、前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向に離間して複数付与されていることができる。
本発明の他の一側面に係る方法は、上記の光学積層体、又は、保護フィルム付き光学積層体における欠陥を検査する方法であって、
前記光学積層体を長手方向に搬送する工程と、
搬送される前記光学積層体における欠陥を検出する工程と、
搬送される前記光学積層体の前記マークを検出する工程と、
検出された欠陥の前記光学積層体の長手方向における位置を検出されたマークの位置を基準として取得する工程と、
前記位置に関する情報を記憶装置に記憶する工程と、を備える。
本発明によれば、マークの読み取り時に読み取りエラーが生じにくい光学積層体、その製造方法、並びに、これを用いた検査方法が提供される。
図１は第１実施形態に係る光学積層体の一例の端部の断面図である。 図２は第１実施形態に係る光学積層体の他の一例の端部の断面図である。 図３は第１実施形態に係る光学積層体の他の一例の端部の断面図である。 図４は第１実施形態に係る光学積層体の一例の端部の断面図である。 図５は第２実施形態に係る光学積層体の一例の端部の断面図である。 図６は第３実施形態に係る光学積層体の一例の端部の断面図である。 図７は第４実施形態に係る光学積層体の検査方法の一例を示す模式図である。
本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１～４を参照して、第１実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法及びマーク付き光学積層体について説明する。
本実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法は、複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
光学フィルムの積層方向に垂直な光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。
本実施形態に係る光学積層体は、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って、
０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ有する領域Ａと、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さない領域Ｂと、を有する。そして、光学フィルムの積層方向に垂直な、光学積層体の領域Ｂの表面にレーザービームによるマークが付与されている。
なお、なお、本明細書において「積層」とは、２つの層が接触し、かつ、当該２つの層の間の密着力が０を超えることを言う。
図１に、本実施形態に係る光学積層体１００（マーク付き光学積層体１００Ｍ）の積層構造の１例を示す。図１では、光学積層体１００は、下側から順に、プロテクトフィルム１１、粘着剤層１２、トリアセチルセルロースフィルム１３、接着剤層１４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム（偏光子層）１５、接着剤層１６、環状オレフィン系樹脂フィルム１７を備える。
プロテクトフィルム１１と粘着剤層１２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム１３と接着剤層１４との界面の密着力、接着剤層１４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５との界面の密着力、及び、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５と接着剤層１６との界面の密着力、及び、接着剤層１６と環状オレフィン系樹脂フィルム１７との界面の密着力は、それぞれ、３０ｆｇ／２５ｍｍ以上であり、好適には、１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上である。
本明細書において、界面の密着力は、以下のように測定される力である。
積層体サンプルの一方の面をソーダガラスの表面にアクリル系粘着剤を用いて固定し、サンプルを構成する層を順次剥離し、剥離に要する荷重を測定することにより、各界面の密着力を測定する。剥離力の測定方法はＪＩＳＫ６８５４－２ １９９９に準拠する。評価サンプルの幅は２５ｍｍ、剥離角は１８０°、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎとする。剥離力はｇｆ／２５ｍｍの単位で表される。具体的には、例えば、（株）島津製作所製の「オートグラフＡＧＳ－５０ＮＸ」を用いて測定することができる。
一方、粘着剤層１２とトリアセチルセルロースフィルム１３との界面ＩＦ１の密着力は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満である。この密着力は、具体的には、３～２５ｇｆ／２５ｍｍであることができる。
プロテクトフィルム１１及び粘着剤層１２の端面は、トリアセチルセルロースフィルム１３の端面よりも内側に配置され、トリアセチルセルロースフィルム１３の下面には粘着剤層１２等の他の層が積層されない部分が形成されている。トリアセチルセルロースフィルム１３の端面ＥＦ１は、粘着剤層１２及びプロテクトフィルム１１の端面ＥＦ２よりも外側に配置されており、端面ＥＦ１，ＥＦ２間の幅は、例えば１～３０ｍｍとすることができる。
接着剤層１４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５、接着剤層１６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム１７の端面ＥＦ３は、トリアセチルセルロースフィルム１３の端面ＥＦ１よりも内側に配置され、トリアセチルセルロースフィルム１３の上面には接着剤層１４等の他の層が積層されない部分が形成されている。なお、図１では、接着剤層１４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５、接着剤層１６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム１７の端面ＥＦ３が、トリアセチルセルロースフィルム１３の端面ＥＦ１よりも内側に配置されているが、同じ位置に配置されていてもよい。これらの端面ＥＦ１、ＥＦ３間の距離に限定はなく、例えば、０～３０ｍｍであることができる。
図１の光学積層体１００において、粘着剤層１２とトリアセチルセルロースフィルム１３との界面ＩＦ１の密着力は０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であるから、光学積層体１００のうち界面ＩＦ１を有する部分が領域Ａとなる。また、光学積層体１００のうち両面に他の光学フィルムが一切積層されていないトリアセチルセルロースフィルム１３のみを有する部分は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さないから領域Ｂとなる。すなわち、光学積層体１００は、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って領域Ａと領域Ｂとを有し、領域Ａと領域Ｂとの境界は粘着剤層１２及びプロテクトフィルム１１の端面ＥＦ２に平行な面ＢＤである。
図２に、本実施形態に係る光学積層体１００の他の１例を示す。図２では、光学積層体１００は、下側から順に、トリアセチルセルロースフィルム（基材）２１、λ／２位相差板２２、紫外線硬化接着剤層２３、λ／４位相差板２４、トリアセチルセルロースフィルム２５を備える。
トリアセチルセルロースフィルム２１とλ／２位相差板２２との界面ＩＦ２の密着力、及び、λ／４位相差板２４とトリアセチルセルロースフィルム２５との界面ＩＦ３の密着力は、それぞれ、０を超え３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であり、好適には、それぞれ、３～２５ｇｆ／２５ｍｍである。
一方、λ／２位相差板２２と紫外線硬化接着剤層２３との界面の密着力、及び、紫外線硬化接着剤層２３とλ／４位相差板２４との界面の密着力は、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上である。この密着力は、具体的には、１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であることができる。
λ／２位相差板２２、紫外線硬化接着剤層２３、及び、λ／４位相差板２４の端面ＥＦ４は、一対のトリアセチルセルロースフィルム２１，２５の端面ＥＦ５と一致しておらず、一対のトリアセチルセルロースフィルム２１，２５の端面ＥＦ５よりも内側に配置されている。端面ＥＦ４と端面ＥＦ５との幅は、１～３０ｍｍとすることができる。
図２の光学積層体１００において、トリアセチルセルロースフィルム２１とλ／２位相差板２２との界面ＩＦ２、及び、トリアセチルセルロースフィルム２５とλ／４位相差板２４とのＩＦ３の密着力は０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であるから、光学積層体１００のうち界面ＩＦ２，ＩＦ３を有する部分が領域Ａとなる。また、光学積層体１００のうち両面に他の光学フィルムが一切積層されていないトリアセチルセルロースフィルム２１，２５のみを有する部分は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さないから領域Ｂとなる。すなわち、図２の光学積層体１００は、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って領域Ａと領域Ｂとを有し、領域Ａと領域Ｂとの境界は、λ／２位相差板２２、紫外線硬化接着剤層２３，及び、λ／４位相差板２４の端面ＥＦ４に平行な面ＢＤである。
なお、図２では、領域Ｂにおいて、トリアセチルセルロースフィルム２１、２５間が離間しており、互いに積層されておらず、密着力は０である。
図３に、本実施形態に係る光学積層体１００の他の１例を示す。図３では、光学積層体１００は、下側から順に、プロテクトフィルム３１、粘着剤層３２、トリアセチルセルロースフィルム３３、接着剤層３４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５，接着剤層３６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム３７を備える。
プロテクトフィルム３１と粘着剤層３２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム３３と接着剤層３４との界面の密着力、接着剤層３４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５との界面の密着力、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５と接着剤層３６との界面の密着力、及び、接着剤層３６と環状オレフィン系樹脂フィルム３７との界面の密着力は、いずれも、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上である。これらの密着力は、具体的には、１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であることができる。
一方、粘着剤層３２とトリアセチルセルロースフィルム３３と粘着剤層３２との界面ＩＦ４の密着力は、０を超え３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であり、好適には、３～２５ｇｆ／２５ｍｍである。
接着剤層３４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５及び接着剤層３６の端面ＥＦ６、トリアセチルセルロースフィルム３３の端面ＥＦ７の位置は、プロテクトフィルム３１、粘着剤層３２、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム３７の端面ＥＦ８の位置と一致しておらず、端面ＥＦ８よりも内側に配置されている。端面ＥＦ８，ＥＦ７間の距離に限定はなく、例えば、１～３０ｍｍであることができる。端面ＥＦ６，ＥＦ７間の距離は０～３０ｍｍとすることができる。
図３では、接着剤層３４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５、及び、接着剤層３６の端面ＥＦ６が、トリアセチルセルロースフィルム３３の端面ＥＦ７よりも更に内側にあるが、同一でもよい。
図３の光学積層体１００において、粘着剤層３２とトリアセチルセルロースフィルム３３との界面ＩＦ４の密着力は０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であるから、光学積層体１００のうち界面ＩＦ４を有する部分が領域Ａとなる。また、光学積層体１００のうち両面に他の光学フィルムが一切積層されていない環状オレフィン系樹脂フィルム３７、及び、プロテクトフィルム３１と粘着剤層３２との積層体を含む部分は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さないから領域Ｂとなる。すなわち、図３の光学積層体１００は、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って領域Ａと領域Ｂとを有し、領域Ａと領域Ｂとは、トリアセチルセルロースフィルム３３の端面ＥＦ７に平行な面ＢＤである。
図４に、本実施形態に係る光学積層体１００の他の１例を示す。図４では、光学積層体１００は、下側から順に、プロテクトフィルム７１、粘着剤層７２、トリアセチルセルロースフィルム７３、接着剤層７４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５、接着剤層７６、環状オレフィン系樹脂フィルム７７、粘着剤層７８，及び、剥離フィルム７９を備える。
プロテクトフィルム７１と粘着剤層７２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム７３と接着剤層７４との界面の密着力、接着剤層７４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５との界面の密着力、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５と接着剤層７６との界面の密着力、接着剤層７６と環状オレフィン系樹脂フィルム７７との界面の密着力、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム７７と粘着剤層７８との界面の密着力は、いずれも、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上である。これらの密着力は、具体的には、１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であることができる。
一方、粘着剤層７２とトリアセチルセルロースフィルム７３との界面ＩＦ５の密着力、及び、粘着剤層７８と剥離フィルム７９の界面ＩＦ６の密着力は、０を超え３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であり、好適には、３～２５ｇｆ／２５ｍｍである。
トリアセチルセルロースフィルム７３、環状オレフィン系樹脂フィルム７７、粘着剤層７８の端面ＥＦ９は、プロテクトフィルム７１、粘着剤層７２、及び剥離フィルム７９の端面ＥＦ１０よりも内側に配置されている。また、接着剤層７４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５、及び、接着剤層７６の端面ＥＦ１１は、トリアセチルセルロースフィルム７３、環状オレフィン系樹脂フィルム７７、粘着剤層７８の端面ＥＦ９の位置と一致しておらず、端面ＥＦ９よりも内側に配置されている。端面ＥＦ１０及びＥＦ９間の距離及び端面ＥＦ９及びＥＦ１１間の距離に限定はなく、それぞれ、例えば、１～３０ｍｍ、０～３０ｍｍであることができる。
図４では、接着剤層７４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５、及び、接着剤層７６の端面ＥＦ１０が、トリアセチルセルロースフィルム７３、環状オレフィン系樹脂フィルム７７、及び粘着剤層７８の端面ＥＦＦ９よりも更に内側にあるが、同一でもよい。
図４の光学積層体１００において、粘着剤層７２とトリアセチルセルロースフィルム７３との界面ＩＦ５及び粘着剤層７８及び剥離フィルム７９との界面ＩＦ６の密着力は０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であるから、光学積層体１００のうち界面ＩＦ５及びＩＦ６を有する部分が領域Ａとなる。また、光学積層体１００のうち両面に他の光学フィルムが一切積層されていない剥離フィルム７９、及び、プロテクトフィルム７１と粘着剤層７２との積層体を含む部分では、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さないから領域Ｂとなる。すなわち、図４の光学積層体１００は、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に沿って領域Ａと領域Ｂとを有し、領域Ａと領域Ｂとは、トリアセチルセルロースフィルム７３、環状オレフィン系樹脂フィルム７７、及び粘着剤層７８の端面ＥＦ９に平行な面ＢＤである。
（その他の光学積層体の態様）
なお、光学積層体の層構成は、領域Ａが０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ有し、領域Ｂが０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を有さない限り、自由に設定することができる。
領域Ｂは、両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルムのみを１又は複数有してもよく、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上の密着力を有する界面のみを有する光学フィルムの積層体を１又は複数有してもよく、これらの任意の組み合わせを有してもよい。
例えば、図１は、領域Ｂが両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルムを１つのみ有する例であり、図２の光学積層体は、領域Ｂが両面に他の光学フィルムが一切積層されていない光学フィルムを２つ有する例であり、図３及び図４は、領域Ｂが、両面に他の光学フィルムが一切積層されていない１つの光学フィルム（環状オレフィン系樹脂フィルム３７）と、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上の密着力を有する界面のみを有する複数の光学フィルムの１つの積層体（粘着剤層３２とプロテクトフィルム３１との積層体）と、を両方有する例である。
これ以外に、領域Ｂは、例えば、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上の密着力を有する界面のみを有する光学フィルムの積層体のみを１又は複数有していてもよい。
領域Ｂは、領域Ａよりも、光学フィルムの積層方向に垂直な方向において、外側に、すなわち、光学積層体の端部に配置されていることが好適である。光学積層体が長尺形状（原反フィルム）である場合には、領域Ｂは、長手方向と直交する方向の端部に設けられていることができる。
領域Ｂの幅Ｗ（光学フィルムの積層方向に垂直な幅）に限定はないが、例えば、３～３０ｍｍであることができる。
光学積層体を構成する光学フィルムにも特に限定はない。
本明細書において、光学フィルムとは、光を透過させることができるフィルムである。光学フィルムの例は、樹脂フィルムであり、樹脂の例は、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状オレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）、アクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート系樹脂等）、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート系樹脂等）、及び、ポリイミド系樹脂（ポリイミド、ポリアミドイミド）等である。
光学フィルムは、保護フィルム、剥離フィルム（粘着剤に弱接着されており、光学積層体を他の部材に貼り付ける際に粘着剤層から剥離される）、プロテクトフィルム（粘着剤に強接着されており、粘着剤と共に保護対象の他の基材から剥離される）、基材フィルム、位相差フィルム、ウィンドウフィルム、偏光子、位相差板（λ／２位相差板、λ／４位相差板等）、接着剤層、粘着剤層等であることができる。
光学フィルムの厚みに限定はなく、５～３００μｍであることができる。
光学積層体１００の全厚みに限定はなく、１０～５００μｍであることができる。
上述のように、光学積層体１００は、枚葉体でもよいが、長尺フィルム（原反）であることが好適である。長尺フィルムである場合の幅に特に限定はなく５００～２，０００ｍｍであることができ、長手方向の長さは１００～３，０００ｍであることができる。
２つの光学フィルム間の界面の密着力は、２つの層の化学組成等によって容易に変更することができる。
続いて、レーザービームの照射工程について説明する。
レーザービームを照射する工程では、図１～４に示すように、光学フィルムの積層方向に垂直な領域Ｂの表面にレーザービームＬＢを照射してマークＭを付与する。本実施形態では、領域Ｂにおいて、積層方向のいずれの表面にレーザービームＬＢを照射してもよい。表面にレーザービームを照射する際には、当該表面にレーザービームの焦点を合わせることが好適である。
例えば、図１の光学積層体では、領域Ｂであれば、トリアセチルセルロースフィルム１３の上下面のいずれにレーザービームを照射してもよい。
例えば、図２の光学積層体では、領域Ｂであれば、トリアセチルセルロースフィルム２５の上面にレーザービームを照射してもよく、トリアセチルセルロースフィルム２１の下面にレーザービームを照射してもよい。
例えば、図３の光学積層体では、領域Ｂであれば、環状オレフィン系樹脂フィルム３７の上面にレーザービームを照射してもよく、粘着剤層３２及びプロテクトフィルム３１の積層体の下面にレーザービームを照射してもよい。
例えば、図４の光学積層体では、領域Ｂであれば、剥離フィルム７９の上面にレーザービームを照射してもよく、粘着剤層７２及びプロテクトフィルム７１の積層体の下面にレーザービームを照射してもよい。
領域Ｂの中でも、レーザービームＬＢを、光学フィルムの積層方向に垂直な領域Ｂの表面において、光学フィルムの積層方向と垂直な方向に、領域Ａ及び領域Ｂの境界の面ＢＤから、領域Ｂの方向に１～２０ｍｍ離れた位置に照射してマークを付与することが好適である。より好ましくは、境界の面ＢＤから１～１０ｍｍの範囲内、更に好ましくは境界の面ＢＤから１～５ｍｍの範囲内がよい。
また、領域Ｂの表面におけるレーザービームの強度が０．００１～０．１Ｊ／ｍｍ２でとなるようにレーザービームを照射することが好適である。この強度はより好ましくは、０．００１～０．０５Ｊ／ｍｍ２であり、更に好ましくは０．００１～０．０１Ｊ／ｍｍ２である。
レーザービームの照射により、光学フィルムの表面において、アブレーションなどによる窪みの形成、光学フィルムの材料の性質の変化等が生じ、マークＭが形成される。このマークＭは外部からカメラなどで認識することができる。
光学積層体の領域Ｂに複数のマークＭを設けることが好適である。この場合、マークＭを場所毎に互いに異ならせると、各マークに基づいて位置を認識できるので好ましい。特に、マークＭが有する文字情報を互いに異ならせることが好適である。例えば、マークＭが有する文字情報を連番（例えば、０００１，０００２，０００３等）にするなどして、マークＭが有する文字情報を互いに異ならせることにより、マークの読み取りにより位置の特定が可能となる。
長尺の光学積層体の場合には、領域Ｂにおいて、長手方向に沿って複数のマークＭをレーザービームにより形成することが好適である。後工程でマークを読み取ることにより長手方向の位置を精度よく把握することができる。例えば、長手方向に沿って一定間隔で多数のマークＭを付与することができる。マークＭの間隔は一定間隔でなく不規則間隔で設けられていても良い。
なお、マークＭは、光学積層体における欠陥に関する情報を含んでいてもよい。
マークの文字情報に特に限定はなく、文字列そのものであってもよく、一次元バーコードであってもよく、２次元コードでもよい。
レーザーの種類に特に限定はないが、好ましいのは、紫外域のレーザ（例えば、ＵＶレーザ）である。
上述の工程により、領域Ｂの一方の表面にマークＭを有するマーク付き光学積層体１００Ｍが得られる。
本実施形態によれば、弱接着界面のある領域Ａを避けて、領域Ｂの表面にレーザービームＬＢが照射されるので、弱接着界面におけるレーザービームの照射に伴う気泡の発生が抑制される。したがって、マーク付き光学積層体１００Ｍにおけるマークの読み取り精度を高くすることができる。
（第２実施形態）
図５を参照して、第２実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法及びマーク付き光学積層体について説明する。本実施形態では、第１実施形態との相違点のみ説明し、重複する記載は省略する。
本実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法は、複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備える。
光学積層体は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ備え、光学フィルムの積層方向に垂直な光学積層体の一方の表面と、当該各界面との距離がいずれも８０μｍ以上である。そして、レーザービームを照射する工程では、光学積層体の当該一方の表面にレーザービームを照射する。
図５に、光学積層体の一例を示す。図５では、光学積層体２００は、下側から順に、プロテクトフィルム４１、粘着剤層４２、トリアセチルセルロースフィルム４３、接着剤層４４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム４５、接着剤層４６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム４７を備える。
プロテクトフィルム４１と粘着剤層４２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム４３と接着剤層４４との界面の密着力、接着剤層４４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム４５との界面の密着力、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム４５と接着剤層４６との界面の密着力、及び、接着剤層４６と環状オレフィン系樹脂フィルム４７との界面の密着力は、いずれも、３０ｇｆ／２５ｍｍ以上である。これらの密着力は、具体的には、１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であることができる。
一方、粘着剤層４２とトリアセチルセルロースフィルム４３との界面ＩＦ７の密着力は、０を超え３０ｇｆ／２５ｍｍ未満であり、好適には、３～２５ｇｆ／２５ｍｍである。
トリアセチルセルロースフィルム４３の端面ＥＦ１１、及び、接着剤層４４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム４５、接着剤層４６の端面ＥＦ１３の位置は、プロテクトフィルム４１、粘着剤層４２、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム４７の端面ＥＦ１２の位置と一致しておらず、端面ＥＦ１２よりも内側に配置されている。端面ＥＦ１１とＥＦ１２間の距離に限定はないが、例えば、１～３０ｍｍであることができる。端面ＥＦ１１とＥＦ１３間の距離にも特に限定はなく、０～３０ｍｍであることができる。
図５では、端面ＥＦ１１が、端面ＥＦ１２よりも内側にあるが、同一位置でもよい。また、端面ＥＦ１３が、端面ＥＦ１１よりも内側にあるが、同一位置でもよい。
本実施形態では、光学フィルムの積層方向に垂直な光学積層体の一方の表面（上面）と、当該界面ＩＦ７との距離Ｄが８０μｍ以上である。この距離Ｄは、１００μｍ以上とすることが好適であり、１５０μｍとすることがより好適である。そして、レーザービームＬＢを照射する工程では、光学積層体の当該一方の表面（上面）にレーザービームＬＢを照射する。
レーザービームＬＢの位置に限定はない。最終製品に残らないところにマークＭを形成することが好ましいので、レーザービームの位置は、端部、例えば、光学積層体の端面から３０ｍｍ以内の領域であることが好適である。図５において、レーザービームＬＢを、界面ＩＦ７が存在する領域Ａに照射してもよく、界面ＩＦ７が存在しない領域Ｂに照射してもよい。本実施形態では、レーザービームを領域Ａに照射しても効果がある。
なお、光学積層体の層構成は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ有し、少なくとも一方の表面から当該各界面への距離が８０μｍ以上である限り、自由に設定することができる。
例えば、各光学フィルムの端面がすべて同一位置に揃っていてもよい。
また、光学積層体は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を複数備えていてもよい。その場合でも、光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各界面との距離が８０μｍ以上であればよい。好ましくは、当該一方の表面と、各界面との距離が１００μｍ以上、より好ましくは、１５０μｍ以上あると良い。
また、両方の表面と、各界面との距離がそれぞれ８０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは１５０μｍ以上である場合には、いずれの表面からレーザービームを照射してもよい。
これにより、保護フィルムを有するマーク付き光学積層体２００Ｍが得られる。
（作用効果）
本実施形態によれば、レーザービームが照射される表面と弱接着界面との距離がある程度確保されるので、弱接着界面におけるレーザービームのエネルギーが弱く、界面での気泡の発生が抑制される。
（第３実施形態）
つづいて、第３実施形態に係るマーク付き光学積層体の製造方法及びこれにより得られる保護フィルムを有するマーク付き光学積層体について説明する。
本実施形態に係る方法は、光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、
前記光学積層体の前記マークが付与された面上に保護フィルムを積層する工程と、を備える。
光学積層体の構成に限定はなく、例えば、第１実施形態の光学積層体、及び、第２実施形態の光学積層体を利用することができる。なお、光学積層体における界面の密着力に特段の限定はない。
レーザービームの照射によるマークの付与方法に特段の限定はなく、例えば、第１実施形態及び第２実施形態と同様の方法を利用できる。第１実施形態及び第２実施形態での方法以外の方法を採用してもよい。
図６に光学積層体の一例を示す。本実施形態の光学積層体５０は、下側から順に、プロテクトフィルム５１、粘着剤層５２、トリアセチルセルロースフィルム５３、接着剤層５４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム５５、接着剤層５６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム５７を備える。
図６においては、接着剤層５４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム５５、接着剤層５６の端面ＥＦ１５は、トリアセチルセルロースフィルム５３の端面ＥＦ１４の位置と一致しておらず端面ＥＦ１４よりも内側に配置され、トリアセチルセルロースフィルム５３の端面ＥＦ１４は、プロテクトフィルム５１、粘着剤層５２、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム５７の端面ＥＦ１５の位置と一致しておらず、端面ＥＦ１５よりも内側に配置されている。しかしながら、各端面の位置関係に特段の限定はない。
マークＭの位置は、光学フィルムの積層方向に垂直な光学積層体１００のいずれかの表面のいずれかの場所に設けてあればよいが、図６では、プロテクトフィルム５１の下面に設けてある。すなわち、マークＭは、第１実施形態又は第２実施形態の位置に設けられていてもよいが、これら以外の位置でも、光学積層体５０の積層方向の表面であれば本実施形態は実施可能である。
本実施形態では、マークＭが設けられたプロテクトフィルム５１の表面に、保護フィルム６０を積層する。ここでは、マークＭを被覆するようにプロテクトフィルム５１を積層すればよい。保護フィルム６０に限定はなく、上述した保護フィルムを使用することができる。これにより、保護フィルム６０を有するマーク付き光学積層体３００が得られる。
保護フィルム６０の端面ＥＦ１６は、マークＭの保護の観点から、光学積層体５０の端面（ＥＦ１５）よりも外側に突出することが好適である。端面ＥＦ１５からの突出量は、２０ｍｍ以下とすることができる。端面ＥＦ１６は、端面ＥＦ１５から突出していなくても実施は可能である。
これにより、保護フィルムを有するマーク付き光学積層体３００が得られる。
（作用効果）
マーク付きの光学積層体のマークＭが付与された表面が外部に露出したままだと、当該光学積層体の搬送時にマークＭが他の部材等と接触してマークの一部または全部が欠落し、その後の、マークの読み取りにおいてエラーが生じることがある。
本実施形態によれば、マークＭが付与された光学積層体５０の表面が保護フィルム６０で覆われており、光学積層体５０の搬送時等にマークＭが他の部材等と接触して欠落することが抑制される。したがって、マークＭの読み取り時に読み取りエラーが生じることを抑制できる。
（第４実施形態）
本実施形態では、図７を参照して、上述のマーク付き光学積層体を用いた光学積層体の検査方法の一実施形態について説明する。
（長手方向位置マーク付与及び欠陥位置把握）
このシステム４００は、コンピュータ８６、測長器８２、レーザー装置８３、マーク読み取りカメラ８４、欠陥検出カメラ８５、記憶装置８７を備えている。測長器８２、レーザー装置８３、マーク読み取りカメラ８４、欠陥検出カメラ８５、及び記憶装置８７はコンピュータ８６に接続されている。マーク読み取りカメラ８４及び欠陥検出カメラ８５は近接する位置に設けられている。
まず、長尺の光学積層体１００を長手方向に搬送する。例えば、ロール８０に巻き取られた長尺の光学積層体１００をロール８０から引き出し、ロール８９との間で平面状に搬送することが好適である。
次に、搬送される光学積層体１００の長手方向の移動量を測長器８２で取得する。例えば、測長器８２は、搬送ロール８１に組み込まれたロータリーエンコーダであることができる。長手方向の移動量の情報はコンピュータ８６に提供される。
続いて、コンピュータ８６は、光学積層体１００が長手方向に所定の距離移動する毎に、レーザー装置８３を駆動し、レーザービームＬＢを照射させて光学積層体１００にマークＭを付与する。第１及び第２実施形態で記載した位置にマークＭを付与することが好適である。長手方向の移動量が所定の距離になる毎にレーザービームを照射し、例えば連番などの互いに異なる情報を含むマークＭを長手方向に付与することができる。マークＭの付与後に、一旦光学積層体をロールに巻き取って、その後、ロールから引きだして後工程に送ってもよい。
続いて、マーク読み取りカメラ８４は、マークＭの情報を読み取って、マークＭにおける長手方向の位置を取得する。マーク読み取りカメラ８４には、バーコードセンサーなどを用いることができる。
欠陥検出カメラ８５は、光学積層体１００の画像を取得する。欠陥検出カメラ８５は、光学積層体の幅方向全体の画像を取得することが好適である。欠陥検出カメラ８５に設けられる画像センサーは、ラインセンサーでもエリアセンサーでもよい。
コンピュータ８６は、欠陥検出カメラ８５により取り込んだ画像情報に基づいて光学積層体１００における欠陥ＤＦの有無を検出する。欠陥の検出は、画像処理技術を用いて行うことができ、公知の種々の検出アルゴリズムを用いることができる。
コンピュータ８６は、欠陥ＤＦの位置に関する情報を生成する。具体的には、欠陥ＤＦの位置に関する情報とは、欠陥ＤＦの幅方向の位置に関する情報と、欠陥ＤＦの長手方向の位置に関する情報である。欠陥の幅方向の位置に関する情報は、欠陥検出カメラ８５の画像情報に基づいて取得することができる。
欠陥ＤＦの長手方向の位置は、いずれかのマークを基準とした位置として取得する。例えば、マーク読み取りカメラ８４がマークＭ１を検出した時刻ｔ１、欠陥検出カメラ８５が欠陥ＤＦを検出した時刻ｔ２、測長器８２により得られる時刻ｔ１とｔ２との間に光学積層体１００が長手方向に移動した距離、及び、マーク読み取りカメラ８４のマークの検出位置と欠陥検出カメラ８５との間の長手方向の距離と、に基づいて、マークＭ１から欠陥ＤＦまでの長手方向の距離を取得することができる。そして、特定のマークＭｎと、当該マークＭｎからの長手方向への距離と、の組み合わせとして欠陥ＤＦの長手方向の位置を取得することができる。
つづいて、コンピュータ８６は、欠陥ＤＦ幅方向の位置、及び、欠陥ＤＦの長手方向の位置（特定のマークＭ及び当該マークからの長手方向の距離の組み合わせ）を記憶装置８７に格納する。
その後、光学積層体１００をロール８９に巻き取って保管する。
なお、欠陥ＤＦの位置に関する情報を生成する方法は、上記に限定されず、マークＭに基づく情報を利用して欠陥の位置情報を生成すれば、上記に限定されない。
マークＭを保護フィルムで覆う場合には、マークの形成後に光学積層体に保護フィルムを積層すればよく、欠陥の検出前に保護フィルムを積層してもよく、欠陥の検出後に保護フィルムを積層してもよい。
（欠陥マークの形成）
このシステム５００は、コンピュータ９５、測長器９２、マーク読み取りカメラ９３、印刷装置９４、記憶装置８７を備えている。測長器９２、マーク読み取りカメラ９３、印刷装置９４、及び記憶装置８７はコンピュータ８６に接続されている。マーク読み取りカメラ９３及び印刷装置９４は近接する位置に設けられている。
まず、長尺の光学積層体１００を長手方向に搬送する。例えば、ロール８９に巻き取られたマークＭが付与された長尺の光学積層体１００をロール８９から引き出し、ロール９８との間で平面状に搬送することが好適である。
次に、搬送される光学積層体１００の長手方向の移動量を一定時間毎に測長器９２で取得する。例えば、測長器９２は、搬送ロール９１に組み込まれたロータリーエンコーダであることができる。長手方向の移動量の情報はコンピュータ８６に提供される。
コンピュータ９５は、記憶装置８７から、欠陥情報、すなわち、欠陥ＤＦの幅方向の位置及び長手方向の位置（特定のマークと当該マークからの長手方向の距離）の組み合わせを読み出す。
コンピュータ９５は、マーク読み取りカメラ９３で光学積層体のマークＭを読み取り、記憶装置８７に格納された情報に基づいて、欠陥ＤＦの上又はその近傍に、印刷装置９４で、欠陥ＤＦが存在することを示す欠陥マークＤＭを形成する。印刷装置９４は、インクジェットプリンタや、レーザーマーカーであることができる。
具体的には、コンピュータ９５は、マーク読み取りカメラ９３が、欠陥情報に関連付けられたマークＭを読み込むと、当該欠陥の位置情報（幅方向の位置、及び、当該マークからの長手方向の位置）にもとづいて、適切なタイミングで印刷装置９４を駆動し、欠陥ＤＦに欠陥マークＤＭを付与する。その後、欠陥マークＤＭが付与された光学積層体１００をロール９８に巻き取る。
ここでは、保護フィルム付き光学積層体を使用することもできる。この場合、保護フィルムを剥離してからマークＭの読み取り及び欠陥マークＤＭの形成を行うことができるが、保護フィルムを剥離することなくマークＭを読み取り、保護フィルムの上に欠陥マークを形成してもよい。
第１実施形態について試験を行った。
（実施例１及び比較例１）
図１の光学積層体を用意した。プロテクトフィルム１１、粘着剤層１２、トリアセチルセルロースフィルム１３、接着剤層１４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５、接着剤層１６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム１７の厚みはそれぞれ、５０μｍ、１μｍ、３０μｍ、０．１μｍ、１０μｍ、０．１μｍ、３０μｍであった。
領域Ｂの幅は２０ｍｍであった。
プロテクトフィルム１１と粘着剤層１２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム１３と接着剤層１４との界面の密着力、接着剤層１４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５との界面の密着力、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム１５と接着剤層１６との界面の密着力、及び、接着剤層１６と環状オレフィン系樹脂フィルム１７との界面の密着力はいずれも１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、粘着剤層１２とトリアセチルセルロースフィルム１３との界面の密着力は４．７ｇｆ／２５ｍｍであった。
当該光学積層体の領域Ｂのトリアセチルセルロースフィルム１３の表面（上面）にレーザービーム（ＵＶレーザー、表面でのエネルギー密度は０．１Ｊ／ｍｍ２）により、マークＭを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ｂのトリアセチルセルロースフィルム１３の表面(下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ａのプロテクトフィルム１１の表面（下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、粘着剤層１２及びトリアセチルセルロースフィルム１３間に気泡が発生していた。
（実施例２及び比較例２）
図２の光学積層体を用意した。トリアセチルセルロースフィルム２５、λ／４位相差板２４、紫外線硬化接着剤層２３、λ／２位相差板２２、及び、トリアセチルセルロースフィルム２１の厚みはそれぞれ、５０μｍ、２μｍ、２μｍ、２μｍ、１００μｍであった。
領域Ｂの幅は２０ｍｍであった。
トリアセチルセルロースフィルム２５とλ／４位相差板２４との界面の密着力は２１．７ｇｆ／２５ｍｍ、λ／４位相差板２４と紫外線硬化接着剤層２３との界面及び紫外線硬化接着剤層２３とλ／２位相差板２２との界面の密着力は１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上、λ／２位相差板２２とトリアセチルセルロースフィルム２１との界面の密着力は９．９ｇｆ／２５ｍｍであった。
当該光学積層体の領域Ｂのトリアセチルセルロースフィルム２５の表面（上面）にレーザービーム（ＵＶレーザー、表面でのエネルギー密度は０．１Ｊ／ｍｍ２）により、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ｂのトリアセチルセルロースフィルム２１の表面(下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ａのトリアセチルセルロースフィルム２５の表面（上面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、トリアセチルセルロースフィルム２５及びλ／４位相差板２４間、並びに、トリアセチルセルロースフィルム２１及びλ／２位相差板２２間に気泡が発生していた。
当該光学積層体の領域Ａのトリアセチルセルロースフィルム２１の表面（下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、トリアセチルセルロースフィルム２５及びλ／４位相差板２４間、ならびに、トリアセチルセルロースフィルム２１及びλ／２位相差板２２間に気泡の発生は確認されなかった。
（実施例３及び比較例３）
図３の光学積層体を用意した。プロテクトフィルム３１、粘着剤層３２、トリアセチルセルロースフィルム３３、接着剤層３４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５，接着剤層３６、及び、環状オレフィン系樹脂フィルム３７の厚みはそれぞれ、５０μｍ、１μｍ、３０μｍ、０．１μｍ、１０μｍ、０．１μｍ、３０μｍであった。
領域Ｂの幅は２０ｍｍであった。
プロテクトフィルム３１と粘着剤層３２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム３３と接着剤層３４との界面の密着力、接着剤層３４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５との界面の密着力、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム３５と接着剤層３６との界面の密着力、及び、接着剤層３６と環状オレフィン系樹脂フィルム３７との界面の密着力はいずれも１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、粘着剤層３２とトリアセチルセルロースフィルム３３との界面の密着力は４．７ｇｆ／２５ｍｍであった。
当該光学積層体の領域Ｂの環状オレフィン系樹脂フィルム３７の表面（上面）にレーザービーム（ＵＶレーザー、表面でのエネルギー密度は０．１Ｊ／ｍｍ２）により、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ｂのプロテクトフィルム３１の表面(下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ａの環状オレフィン系樹脂フィルム３７の表面（上面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、粘着剤層３２及びトリアセチルセルロースフィルム３３間に気泡が発生していた。
当該光学積層体の領域Ａのプロテクトフィルム３１の表面（下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、粘着剤層３２及びトリアセチルセルロースフィルム３３間に気泡が発生していた。
（実施例４及び比較例４）
図４の光学積層体を用意した。プロテクトフィルム７１、粘着剤層７２、トリアセチルセルロースフィルム７３、接着剤層７４、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５、接着剤層７６、環状オレフィン系樹脂フィルム７７、粘着剤層７８、及び、剥離フィルム７９の厚みはそれぞれ、５０μｍ、１μｍ、３０μｍ、０．１μｍ、１０μｍ、０．１μｍ、３０μｍ、３０μｍ、４０μｍであった。
領域Ｂの幅は２０ｍｍであった。
プロテクトフィルム７１と粘着剤層７２との界面の密着力、トリアセチルセルロースフィルム７３と接着剤層７４との界面の密着力、接着剤層７４とポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５との界面の密着力、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム７５と接着剤層７６との界面の密着力、接着剤層７６と環状オレフィン系樹脂フィルム７７との界面の密着力、環状オレフィン系樹脂フィルム７７と粘着剤層７８との界面の密着力はいずれも１５０ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、粘着剤層７２とトリアセチルセルロースフィルム７３との界面の密着力は４．７ｇｆ／２５ｍｍ、粘着剤層７８と剥離フィルム７９との界面の密着力は５．８ｇｆ／２５ｍｍであった。
当該光学積層体の領域Ｂの剥離フィルム７９の表面（上面）にレーザービーム（（ＵＶレーザー、表面でのエネルギー密度は０．１Ｊ／ｍｍ２）により、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ｂのプロテクトフィルム７１の表面(下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。その後、光学積層体を観察したところ、気泡の発生は確認されなかった。
当該光学積層体の領域Ａの剥離フィルム７９の表面（上面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、粘着剤層７８及び剥離フィルム７９間に気泡が発生していた。
当該光学積層体の領域Ａのプロテクトフィルム７１の表面（下面）に同様にレーザービームにより、マークを形成した。光学積層体を観察したところ、粘着剤層７２及びトリアセチルセルロースフィルム７３間に気泡が発生していた。
（界面の密着力の測定）
本実施例では、以下のようにして、界面の密着力を測定した。
積層体サンプルの一方の面をソーダガラスの表面にアクリル系粘着剤を用いて固定し、サンプルを構成する層を順に剥離し、各界面の剥離力を測定した。剥離力の測定方法はＪＩＳＫ６８５４－２ １９９９に準拠した。評価サンプルの幅は２５ｍｍ、剥離角は１８０°、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎとした。（株）島津製作所製の「オートグラフＡＧＳ－５０ＮＸ」を用いて剥離力を測定した。
１１～１７…光学フィルム、２１～２５…光学フィルム、３１～３７…光学フィルム、４１～４７…光学フィルム、５０…光学積層体、５１～５７…光学フィルム、６０…保護フィルム、７１～７９…光学フィルム、１００，２００…光学積層体、１００Ｍ、２００Ｍ…マーク付き光学積層体、３００…保護フィルム付き光学積層体、ＬＢ…レーザービーム、Ｍ…マーク。

Claims (9)

  1. 複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
    前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、を備えるマーク付き光学積層体の製造方法であって、
    前記光学積層体は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ備え、
    前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各前記界面との距離が８０μｍ以上であり、
    前記レーザービームを照射する工程では、前記光学積層体の前記一方の表面にレーザービームを照射する、マーク付き光学積層体の製造方法。
  2. 前記表面における前記レーザービームの強度が０．００１～０．１Ｊ／ｍｍ２である、請求項１に記載の方法。
  3. 複数の光学フィルムが積層された光学積層体を準備する工程と、
    前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の表面にレーザービームを照射してマークを付与する工程と、
    前記光学積層体の前記マークが付与された面上に保護フィルムを積層して前記マークを被覆する工程と、を備える、マーク付き光学積層体の製造方法。
  4. 前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向の位置に関する情報を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
  5. 積層された複数の光学フィルムを備える光学積層体であって、
    前記光学積層体は、０を超えかつ３０ｇｆ／２５ｍｍ未満の密着力を有する界面を少なくとも１つ備え、
    前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面と、各前記界面との距離が８０μｍ以上であり、
    前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の前記一方の表面にレーザービームによるマークが付与された、光学積層体。
  6. 前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向に離間して複数付与された、請求項５に記載の光学積層体。
  7. 積層された複数の光学フィルムを有する光学積層体と、
    前記光学フィルムの積層方向に垂直な前記光学積層体の一方の表面に積層された保護フィルムと、を備え、
    前記光学積層体は前記光学積層体の積層方向の一方の表面にレーザービームにより形成されたマークを有し、
    前記保護フィルムは、前記マークを被覆している、保護フィルム付き光学積層体。
  8. 前記光学積層体は長尺形状を有し、前記マークは前記光学積層体の長手方向に離間して複数付与された、請求項７に記載の保護フィルム付き光学積層体。
  9. 請求項６に記載の光学積層体、又は、請求項８に記載の保護フィルム付き光学積層体における欠陥を検査する方法であって、
    前記光学積層体を長手方向に搬送する工程と、
    搬送される前記光学積層体における欠陥を検出する工程と、
    搬送される前記光学積層体の前記マークを検出する工程と、
    検出された欠陥の前記光学積層体の長手方向における位置を検出されたマークの位置を基準として取得する工程と、
    前記位置に関する情報を記憶装置に記憶する工程と、を備える、方法。

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