JP4454067B2 - 新規o−アシルオキシム光開始剤 - Google Patents
新規o−アシルオキシム光開始剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4454067B2 JP4454067B2 JP17486699A JP17486699A JP4454067B2 JP 4454067 B2 JP4454067 B2 JP 4454067B2 JP 17486699 A JP17486699 A JP 17486699A JP 17486699 A JP17486699 A JP 17486699A JP 4454067 B2 JP4454067 B2 JP 4454067B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- phenyl
- substituted
- unsubstituted
- optionally
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 0 C*c(cc1)ccc1C(C(*)=NO*)=O Chemical compound C*c(cc1)ccc1C(C(*)=NO*)=O 0.000 description 6
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/32—Compounds containing nitrogen bound to oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/68—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with at least one of the esterifying carboxyl groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
- C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
- C07D295/135—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
- C07D335/12—Thioxanthenes
- C07D335/14—Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
- C07D335/18—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98810595.3 | 1998-06-26 | ||
| EP98810595 | 1998-06-26 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000080068A JP2000080068A (ja) | 2000-03-21 |
| JP2000080068A5 JP2000080068A5 (https=) | 2006-08-03 |
| JP4454067B2 true JP4454067B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=8236163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17486699A Expired - Lifetime JP4454067B2 (ja) | 1998-06-26 | 1999-06-22 | 新規o−アシルオキシム光開始剤 |
Country Status (23)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6596445B1 (https=) |
| JP (1) | JP4454067B2 (https=) |
| KR (1) | KR100663044B1 (https=) |
| CN (1) | CN1178902C (https=) |
| AT (1) | AT410547B (https=) |
| AU (1) | AU760212B2 (https=) |
| BE (2) | BE1012721A5 (https=) |
| BR (1) | BR9903285A (https=) |
| CA (1) | CA2276588C (https=) |
| CH (1) | CH694095A5 (https=) |
| CZ (1) | CZ298405B6 (https=) |
| DE (1) | DE19928742B4 (https=) |
| DK (1) | DK199900904A (https=) |
| ES (1) | ES2170605B1 (https=) |
| FI (1) | FI991407A7 (https=) |
| FR (1) | FR2781794B1 (https=) |
| GB (1) | GB2339571B (https=) |
| IT (1) | IT1312120B1 (https=) |
| MY (1) | MY133220A (https=) |
| NL (1) | NL1012222C2 (https=) |
| SE (1) | SE521582C2 (https=) |
| SG (1) | SG77689A1 (https=) |
| TW (1) | TW457268B (https=) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018084076A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム |
| WO2018146958A1 (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー |
| WO2019050019A1 (ja) | 2017-09-07 | 2019-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2019163969A1 (ja) | 2018-02-23 | 2019-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2020080355A1 (ja) | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2020122023A1 (ja) | 2018-12-10 | 2020-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2020179787A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2021060402A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター |
| WO2021200655A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2021246402A1 (ja) | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
| WO2022123946A1 (ja) | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2023054324A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
| WO2023080115A1 (ja) | 2021-11-05 | 2023-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 虚像表示装置、ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
| WO2023200018A1 (ja) | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム |
Families Citing this family (377)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4505864B2 (ja) * | 1998-11-04 | 2010-07-21 | 凸版印刷株式会社 | 転写型カラーフィルタの製造方法 |
| AU4102100A (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
| NL1016815C2 (nl) * | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
| SG97168A1 (en) | 1999-12-15 | 2003-07-18 | Ciba Sc Holding Ag | Photosensitive resin composition |
| JP5072140B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2012-11-14 | 新中村化学工業株式会社 | 床用塗料組成物およびその塗料被覆物 |
| TWI272451B (en) * | 2000-09-25 | 2007-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Chemically amplified photoresist composition, process for preparation of a photoresist, and use of said chemically amplified photoresist composition |
| US7923173B1 (en) * | 2000-10-19 | 2011-04-12 | Illinois Tool Works Inc. | Photo definable polyimide film used as an embossing surface |
| EP1211529B1 (en) * | 2000-11-30 | 2007-09-19 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Method for manufacturing optical waveguide |
| KR100417091B1 (ko) * | 2001-05-15 | 2004-02-05 | 주식회사 엘지화학 | 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물 |
| US7189489B2 (en) | 2001-06-11 | 2007-03-13 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Oxime ester photoiniators having a combined structure |
| JP4982016B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2012-07-25 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物およびそれを用いたカラーフィルター |
| US7329401B2 (en) | 2002-04-15 | 2008-02-12 | The Regents Of The University Of California | Cyclooxygenase-2 selective agents useful as imaging probes and related methods |
| TW200714651A (en) * | 2002-10-28 | 2007-04-16 | Mitsubishi Chem Corp | Photopolymerization composition and color filter using the same |
| KR101032582B1 (ko) * | 2002-12-03 | 2011-05-06 | 시바 홀딩 인크 | 헤테로방향족 그룹을 갖는 옥심 에스테르 광개시제 |
| WO2004104051A1 (en) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Bimolecular photoinitiator systems |
| JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| TW200519535A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | Hardenable resin composition, hardened body thereof, and printed circuit board |
| JP2005174778A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム |
| JP4595498B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2010-12-08 | チッソ株式会社 | 有機ケイ素化合物含有重合性液晶組成物 |
| US7165839B2 (en) * | 2003-12-19 | 2007-01-23 | Novartis Ag | Method for producing tinted contact lenses |
| US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| JP2005215147A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物 |
| TWI349677B (en) * | 2004-03-30 | 2011-10-01 | Nippon Steel Chemical Co | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
| WO2005111717A2 (en) | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Fujifilm Corporation | Image recording method |
| JP4448381B2 (ja) * | 2004-05-26 | 2010-04-07 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
| EP2618215B1 (en) | 2004-05-31 | 2017-07-05 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
| EP1794655B1 (en) * | 2004-06-01 | 2011-12-28 | Dow Corning Corporation | A material composition for nano- and micro-lithography |
| DE102004027477A1 (de) * | 2004-06-02 | 2005-12-29 | Beiersdorf Ag | 2-Phenylethylbenzoat in kosmetischen Öl-in-Wasser-UV-Lichtschutzemulsionen |
| DE102004027476A1 (de) * | 2004-06-02 | 2005-12-22 | Beiersdorf Ag | 2-Phenylehtylbenzoat in kosmetischen Öl-in-Wasser-UV-Lichtschutzemulsionen |
| JP4428151B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2010-03-10 | Jsr株式会社 | 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
| JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| DE602005007427D1 (de) | 2004-07-20 | 2008-07-24 | Fujifilm Corp | Bilderzeugendes Material |
| WO2006008250A2 (en) * | 2004-07-20 | 2006-01-26 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime derivatives and the use therof as latent acids |
| US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| US20070115336A1 (en) * | 2004-07-30 | 2007-05-24 | Ko Victory H | Digital ink jet printing process method |
| US20060032390A1 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| JP3992725B2 (ja) | 2004-08-20 | 2007-10-17 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| US7745090B2 (en) | 2004-08-24 | 2010-06-29 | Fujifilm Corporation | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
| JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
| JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
| JP3798008B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2006-07-19 | 旭電化工業株式会社 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
| US8414982B2 (en) | 2004-12-22 | 2013-04-09 | Basf Se | Process for the production of strongly adherent coatings |
| JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP2007055224A (ja) | 2005-01-26 | 2007-03-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体 |
| EP1696268B1 (en) | 2005-02-28 | 2016-11-09 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| JP4574399B2 (ja) * | 2005-03-07 | 2010-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物及びそれから得られるカラーフィルタ |
| JP2006285187A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
| US7781493B2 (en) | 2005-06-20 | 2010-08-24 | Dow Global Technologies Inc. | Protective coating for window glass |
| US7786183B2 (en) * | 2005-06-20 | 2010-08-31 | Dow Global Technologies Inc. | Coated glass articles |
| TWI290931B (en) * | 2005-07-01 | 2007-12-11 | Eternal Chemical Co Ltd | Photoimageable composition |
| KR100989744B1 (ko) * | 2005-07-13 | 2010-10-26 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 은 페이스트 조성물, 및 그것을 이용한 도전성 패턴의 형성방법 및 그의 도전성 패턴 |
| CN101223478B (zh) * | 2005-07-13 | 2011-10-12 | 太阳控股株式会社 | 黑色糊剂组合物及使用其的黑色矩阵图案的形成方法、以及该黑色矩阵图案 |
| JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
| JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP2007056221A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Jsr Corp | 重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
| JP4650211B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
| JP4650212B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
| KR100763744B1 (ko) | 2005-11-07 | 2007-10-04 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물 |
| US8940464B2 (en) * | 2005-12-01 | 2015-01-27 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| KR100814231B1 (ko) * | 2005-12-01 | 2008-03-17 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 투명한 감광성 조성물 |
| KR101351286B1 (ko) * | 2005-12-20 | 2014-02-17 | 시바 홀딩 인크 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| CN101370772B (zh) * | 2006-01-13 | 2012-10-17 | 东洋油墨制造株式会社 | 二酮肟酯化合物及其用途 |
| US8293436B2 (en) | 2006-02-24 | 2012-10-23 | Fujifilm Corporation | Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same |
| CN101024624B (zh) | 2006-02-24 | 2013-09-11 | 富士胶片株式会社 | 肟衍生物、可光聚合的组合物、滤色片及其制造方法 |
| JP4584164B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
| JP2007241144A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
| JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
| JP4698470B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
| JP2007286482A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
| TWI403840B (zh) | 2006-04-26 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 含染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 |
| JP4884853B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2012-02-29 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
| US7524889B2 (en) * | 2006-07-06 | 2009-04-28 | Bisco, Inc. | Light emitting diode curable acrylates with reduced yellowing |
| JP2008037930A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光硬化型インクジェットインキ |
| KR100781690B1 (ko) | 2006-08-24 | 2007-12-03 | 한국화학연구원 | 다가의 옥심 에스테르 기를 갖는 광 개시제 및 이의 제조방법 |
| JP5030527B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-09-19 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
| RU2455329C2 (ru) | 2006-12-19 | 2012-07-10 | ДАУ ГЛОБАЛ ТЕКНОЛОДЖИЗ ЭлЭлСи | Добавки, способствующие адгезии, и способы улучшения композиций для покрытия |
| WO2008077042A1 (en) | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Dow Global Technologies, Inc. | Encapsulated panel assemblies and method for making same |
| CN101558456B (zh) | 2006-12-19 | 2013-07-24 | 陶氏环球技术公司 | 经改善的用于导电透明基材的复合材料和方法 |
| US8771924B2 (en) | 2006-12-26 | 2014-07-08 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| CN101528682B (zh) * | 2006-12-27 | 2012-08-08 | 株式会社艾迪科 | 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂 |
| JP4945432B2 (ja) | 2006-12-28 | 2012-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| TW200831541A (en) * | 2006-12-28 | 2008-08-01 | Jsr Corp | Sealant for liquid crystal display device and liquid crystal display device |
| US7985785B2 (en) | 2007-01-15 | 2011-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
| EP2447780B1 (en) | 2007-01-17 | 2013-08-28 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
| WO2008090640A1 (ja) | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Fujifilm Corporation | オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
| JP4881756B2 (ja) | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
| JP4885014B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2012-02-29 | 株式会社リコー | 像担持体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
| JP2008233660A (ja) | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
| DE602008001572D1 (de) | 2007-03-23 | 2010-08-05 | Fujifilm Corp | Negativ-Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit |
| JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
| EP1975702B1 (en) | 2007-03-29 | 2013-07-24 | FUJIFILM Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
| JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| EP1974914B1 (en) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| EP1975706A3 (en) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP1975710B1 (en) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
| JP5075450B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| US20080286592A1 (en) | 2007-04-26 | 2008-11-20 | Finishes Unlimited, Inc. | Radiation-curable coating compositions, composite and plastic materials coated with said compositions and methods for their preparation |
| US8252512B2 (en) | 2007-05-09 | 2012-08-28 | Adeka Corporation | Epoxy compound, alkali-developable resin composition, and alkali-developable photosensitive resin composition |
| JP5535064B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2014-07-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光重合開始剤 |
| WO2008138733A1 (en) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US8911921B2 (en) * | 2007-05-11 | 2014-12-16 | Ciba Corporation | Oxime ester photoinitiators |
| JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| EP2006738B1 (en) | 2007-06-21 | 2017-09-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| US8426102B2 (en) | 2007-06-22 | 2013-04-23 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
| JP5247261B2 (ja) | 2007-07-02 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
| TWI436163B (zh) | 2007-07-17 | 2014-05-01 | Fujifilm Corp | 混合物、可光聚合的組成物、彩色濾鏡以及平版印刷的印刷板前驅物 |
| KR101007440B1 (ko) * | 2007-07-18 | 2011-01-12 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 |
| KR20100028020A (ko) | 2007-08-01 | 2010-03-11 | 가부시키가이샤 아데카 | 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물 및 β-디케톤 화합물 |
| JP4890388B2 (ja) | 2007-08-22 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP5496482B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
| JP2009069761A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
| JP5255369B2 (ja) | 2007-09-25 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法 |
| JP4951454B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作成方法 |
| JP5244518B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP2009098688A (ja) | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法および平版印刷方法 |
| ATE475906T1 (de) | 2007-09-28 | 2010-08-15 | Fujifilm Corp | Negatives lichtempfindliches material und negativer planographischer druckplattenvorläufer |
| JP5002399B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の処理方法 |
| JP5055077B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法および平版印刷版原版 |
| JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
| KR100830561B1 (ko) * | 2007-10-09 | 2008-05-22 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 다기능성 액정화합물 및 이들의 제조방법 그리고 이로부터얻어진 미세패턴 |
| JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP2009139852A (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| CN101903483B (zh) | 2007-12-18 | 2014-09-10 | 陶氏环球技术公司 | 对玻璃粘合剂具有增强的粘合性的窗玻璃用保护涂层 |
| JP5066452B2 (ja) | 2008-01-09 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用現像処理方法 |
| JP2009186997A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法 |
| JP5155677B2 (ja) | 2008-01-22 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、およびその製版方法 |
| JP5371449B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP2009184188A (ja) | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および印刷方法 |
| JP5150287B2 (ja) | 2008-02-06 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| US8283000B2 (en) | 2008-02-22 | 2012-10-09 | Adeka Corporation | Liquid crystal composition containing polymerizable compound and liquid crystal display using the liquid crystal composition |
| JP2009230095A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-10-08 | Jsr Corp | 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子 |
| JP5175582B2 (ja) | 2008-03-10 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2009214428A (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP4940174B2 (ja) | 2008-03-21 | 2012-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用自動現像装置 |
| JP2009229771A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用自動現像方法 |
| JP5305704B2 (ja) | 2008-03-24 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP2009236942A (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
| JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
| JP5422146B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法 |
| JP2009258705A (ja) | 2008-03-25 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
| JP5507054B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子 |
| EP2105298B1 (en) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| JP5535444B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP4914864B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5137662B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5528677B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法 |
| KR20110003312A (ko) | 2008-04-01 | 2011-01-11 | 가부시키가이샤 아데카 | 3관능 (메타)아크릴레이트 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 중합성 조성물 |
| US20090260531A1 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-22 | Fujifilm Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
| KR101441998B1 (ko) | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
| WO2009131189A1 (ja) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 三菱化学株式会社 | ケトオキシムエステル系化合物及びその利用 |
| JP5222624B2 (ja) | 2008-05-12 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法 |
| JP5566378B2 (ja) | 2008-06-06 | 2014-08-06 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光開始剤 |
| JP5439755B2 (ja) * | 2008-06-26 | 2014-03-12 | 三菱化学株式会社 | ホログラム記録層形成用組成物、並びにそれを用いたホログラム記録材料及びホログラム光記録媒体 |
| JP5171506B2 (ja) | 2008-06-30 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| US8378002B2 (en) | 2008-07-16 | 2013-02-19 | Fujifilm Corporation | Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method |
| JP5296434B2 (ja) | 2008-07-16 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| JP5359100B2 (ja) * | 2008-08-01 | 2013-12-04 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物 |
| JP2010044273A (ja) | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5274151B2 (ja) | 2008-08-21 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
| JP5444933B2 (ja) | 2008-08-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
| JP5284735B2 (ja) | 2008-09-18 | 2013-09-11 | 株式会社Adeka | 重合性光学活性イミド化合物及び該化合物を含有する重合性組成物 |
| JP5408942B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および製版方法 |
| JP5449898B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| JP2010102330A (ja) | 2008-09-24 | 2010-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5171514B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP5079653B2 (ja) | 2008-09-29 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5660268B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
| JP5127651B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
| JP5315909B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-10-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
| JP5669386B2 (ja) * | 2009-01-15 | 2015-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP5469471B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、 |
| JP4344400B1 (ja) | 2009-02-16 | 2009-10-14 | 株式会社日本化学工業所 | オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
| JP5371824B2 (ja) | 2009-02-19 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタの製造方法 |
| JP5340198B2 (ja) | 2009-02-26 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物 |
| JP5535692B2 (ja) | 2009-03-17 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP5277039B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版およびその製版方法 |
| JP5554106B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置 |
| JP5479163B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| WO2010119924A1 (ja) | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子 |
| CN101565472B (zh) * | 2009-05-19 | 2011-05-04 | 常州强力电子新材料有限公司 | 酮肟酯类光引发剂 |
| KR101678028B1 (ko) * | 2009-06-17 | 2016-11-21 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 옥심에스테르 화합물, 라디칼 중합개시제, 중합성 조성물, 네가티브형 레지스트 및 화상 패턴 |
| JP2011042735A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Fujifilm Corp | 水系着色剤分散物及びその製造方法、インク組成物、インクセット、画像形成方法、並びに分散剤 |
| JP5694654B2 (ja) | 2009-09-09 | 2015-04-01 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセット、および画像形成方法 |
| JP2011056800A (ja) | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Fujifilm Corp | インクセットおよび画像形成方法 |
| JP5535814B2 (ja) | 2009-09-14 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物 |
| JP5501175B2 (ja) | 2009-09-28 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5535842B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ |
| JP5760374B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2015-08-12 | 三菱化学株式会社 | ケトオキシムエステル系化合物及びその利用 |
| EP2502973A4 (en) | 2009-11-18 | 2014-07-23 | Adeka Corp | LIQUID CRYSTAL COMPOSITION COMPRISING A POLYMERIZABLE COMPOUND AND A LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT COMPRISING THIS LIQUID CRYSTAL COMPOSITION |
| JP5701576B2 (ja) | 2009-11-20 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
| JP4818458B2 (ja) | 2009-11-27 | 2011-11-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| CN102639501B (zh) * | 2009-12-07 | 2015-04-29 | 爱克发印艺公司 | 用于uv-led可固化组合物和墨水的光引发剂 |
| AU2010330040B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-12-19 | Agfa Nv | UV-LED curable compositions and inks |
| KR101594191B1 (ko) * | 2010-01-11 | 2016-02-15 | 동우 화인켐 주식회사 | 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치 |
| JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
| JP2011158655A (ja) | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Fujifilm Corp | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子 |
| KR20110098638A (ko) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치 |
| JP5791874B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
| JP5638285B2 (ja) | 2010-05-31 | 2014-12-10 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子 |
| US8152863B2 (en) | 2010-06-01 | 2012-04-10 | Fujifilm Corporation | Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device |
| JP5778038B2 (ja) * | 2010-06-28 | 2015-09-16 | 株式会社Adeka | 硬化性樹脂組成物 |
| JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
| JP5544239B2 (ja) | 2010-07-29 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物 |
| JP5680353B2 (ja) | 2010-08-24 | 2015-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物 |
| CN101923287B (zh) * | 2010-08-31 | 2011-11-30 | 常州强力电子新材料有限公司 | 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
| JP2012052066A (ja) | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Fujifilm Corp | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物 |
| IT1402691B1 (it) * | 2010-11-10 | 2013-09-13 | Lamberti Spa | Tioxantoni a bassa migrabilita' |
| KR101830206B1 (ko) | 2010-12-28 | 2018-02-20 | 후지필름 가부시키가이샤 | 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법 |
| JP5634888B2 (ja) | 2011-01-12 | 2014-12-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
| US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
| US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
| JP5398760B2 (ja) | 2011-02-23 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| JP5611870B2 (ja) | 2011-03-15 | 2014-10-22 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| JP6000942B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2016-10-05 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| JP5591770B2 (ja) | 2011-08-15 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
| EP2715416B1 (en) | 2011-09-14 | 2019-10-30 | FUJIFILM Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
| WO2013069789A1 (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-16 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、ブラックマトリックス及び光学素子 |
| JP5922013B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| WO2013115195A1 (ja) | 2012-01-31 | 2013-08-08 | 旭硝子株式会社 | 化合物、重合体、硬化性組成物、塗布用組成物、ならびに硬化膜を有する物品、親液性領域と撥液性領域とのパターンを有する物品およびその製造方法 |
| CN102633603B (zh) * | 2012-03-06 | 2014-06-04 | 无锡济民可信山禾药业股份有限公司 | 一种高纯度左旋龙脑的制备方法 |
| JP5934664B2 (ja) | 2012-03-19 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| JP5775479B2 (ja) | 2012-03-21 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| KR102013541B1 (ko) * | 2012-05-09 | 2019-08-22 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| WO2013184090A1 (en) | 2012-06-04 | 2013-12-12 | L'oreal S.A. | Fast curing cosmetic compositions for tack free surface photocuring of radically polymerizable resins with uv-led |
| JP2014040529A (ja) | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Fujifilm Corp | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
| JP5894943B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子 |
| JP5909468B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-04-26 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
| JP5934682B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
| SG11201504182RA (en) | 2012-11-30 | 2015-06-29 | Fujifilm Corp | Curable resin composition, production method of image sensor chip using the same, and image sensor chip |
| SG11201504205WA (en) | 2012-11-30 | 2015-07-30 | Fujifilm Corp | Curable resin composition, production method of image sensor chip using the same, and image sensor chip |
| JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
| JP6343446B2 (ja) | 2012-12-28 | 2018-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| SG11201505047WA (en) | 2012-12-28 | 2015-08-28 | Fujifilm Corp | Curable resin composition for forming infrared reflective film, infrared reflective film and manufacturing method thereof, infrared ray cutoff filter and solid-state imaging device using the same |
| JP6061697B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2017-01-18 | 株式会社日本化学工業所 | 新規な光重合開始剤及びその使用方法 |
| JP6095408B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-03-15 | 株式会社日本化学工業所 | 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
| KR101852509B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2018-04-26 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
| JP6097128B2 (ja) | 2013-04-12 | 2017-03-15 | 富士フイルム株式会社 | 遠赤外線遮光層形成用組成物 |
| JP2015038979A (ja) * | 2013-07-18 | 2015-02-26 | 富士フイルム株式会社 | イメージセンサー及びその製造方法 |
| JP6162084B2 (ja) | 2013-09-06 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
| CN105531260B (zh) * | 2013-09-10 | 2019-05-31 | 巴斯夫欧洲公司 | 肟酯光引发剂 |
| CN103833872B (zh) | 2014-03-18 | 2016-04-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
| WO2015148318A1 (en) | 2014-03-27 | 2015-10-01 | 3M Innovative Properties Company | Filled polydiorganosiloxane-containing compositions, and methods of using same |
| US10189847B2 (en) | 2014-04-04 | 2019-01-29 | Adeka Corporation | Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing said compound |
| JP6398364B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2018-10-03 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 |
| CN104098720B (zh) * | 2014-07-15 | 2017-01-11 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 含杂环硫醚基团的肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
| KR101525460B1 (ko) * | 2014-08-25 | 2015-06-04 | 애경화학 주식회사 | 신규한 구조를 갖는 옥심에스테르 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물 |
| JP6530902B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2019-06-12 | 株式会社Adeka | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 |
| JP6464764B2 (ja) * | 2015-01-16 | 2019-02-06 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、スペーサー、その形成方法及び液晶表示素子 |
| KR101824429B1 (ko) * | 2015-01-26 | 2018-02-06 | 주식회사 삼양사 | 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
| CN106278967B (zh) * | 2015-06-03 | 2020-08-07 | 江苏和成新材料有限公司 | 用于uv固化材料的酰基肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
| CN106278966B (zh) * | 2015-06-03 | 2019-11-05 | 江苏和成新材料有限公司 | 肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
| EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
| JP6799540B2 (ja) | 2015-09-25 | 2020-12-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤 |
| TWI634135B (zh) | 2015-12-25 | 2018-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件 |
| CN105523975A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-04-27 | 天津英吉诺科技有限公司 | 一种酮肟酯类光引发剂的绿色合成方法 |
| WO2017158914A1 (ja) | 2016-03-14 | 2017-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法 |
| WO2017183428A1 (ja) | 2016-04-21 | 2017-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー |
| TWI810158B (zh) | 2016-08-01 | 2023-08-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、 積層體的製造方法及半導體元件 |
| JP6368066B2 (ja) * | 2016-08-22 | 2018-08-01 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物及び硬化レリーフパターンの製造方法 |
| TW201821280A (zh) | 2016-09-30 | 2018-06-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 積層體以及半導體元件的製造方法 |
| EP3590976A4 (en) | 2017-02-28 | 2020-03-25 | Fujifilm Corporation | CURABLE COMPOSITION, ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE |
| BR112019017946B8 (pt) | 2017-02-28 | 2023-03-21 | Fujifilm Corp | Métodos para produção de uma chapa de impressão litográfica do tipo revelação em máquina |
| US20200019060A1 (en) * | 2017-03-21 | 2020-01-16 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive resin composition, photosensitive resin composition film, insulating film, and electronic component |
| CN106986855A (zh) * | 2017-04-05 | 2017-07-28 | 同济大学 | 新型杂环肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
| WO2018198559A1 (ja) | 2017-04-28 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示機能付き防眩ミラー |
| CN110692018B (zh) | 2017-05-31 | 2023-11-03 | 富士胶片株式会社 | 感光性树脂组合物、聚合物前体、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件 |
| US10884182B2 (en) | 2017-06-02 | 2021-01-05 | Dsm Ip Assets B.V. | Thermally resistant radiation curable coatings for optical fiber |
| WO2019054281A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
| JP7003527B2 (ja) * | 2017-09-25 | 2022-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット組成物セット及びインクジェット記録方法 |
| JP7364239B2 (ja) | 2017-11-03 | 2023-10-18 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. | 液体放射線硬化性sap組成物でコーティングされたファイバーを含む水遮断システム |
| WO2019096891A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
| US20200347171A1 (en) | 2017-11-15 | 2020-11-05 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
| JP7016403B2 (ja) | 2018-03-13 | 2022-02-04 | 富士フイルム株式会社 | 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法 |
| US11807721B2 (en) * | 2018-04-03 | 2023-11-07 | Hd Microsystems, Ltd. | Method for producing polyimide precursor, method for producing photosensitive resin composition, method for producing pattern cured product, method for producing interlayer insulating film, cover coat layer or surface protective film, and method for producing electronic component |
| CN110437107B (zh) * | 2018-05-03 | 2022-11-08 | 江苏裕事达新材料科技有限责任公司 | 一种丙烯酮肟酯化合物、制备方法、及组合物 |
| EP3802452A1 (en) | 2018-06-01 | 2021-04-14 | DSM IP Assets B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber via alternative oligomers and the coatings produced therefrom |
| CN112601912A (zh) | 2018-09-07 | 2021-04-02 | 富士胶片株式会社 | 车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜、前照灯用遮光膜的制造方法 |
| EP3847179A1 (en) | 2018-09-07 | 2021-07-14 | IGM Resins Italia S.r.l. | Multifunctional bisacylphosphine oxide photoinitiators |
| JP7114724B2 (ja) | 2018-09-20 | 2022-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
| KR102571972B1 (ko) | 2018-09-28 | 2023-08-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및 반도체 디바이스 |
| CN113165971A (zh) | 2018-12-03 | 2021-07-23 | Ms控股有限公司 | 用于涂布光纤的填充式可辐射固化组合物以及由其产生的涂层 |
| SG11202105559WA (en) | 2018-12-05 | 2021-06-29 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device |
| JP7261818B2 (ja) | 2018-12-05 | 2023-04-20 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、及び、デバイス |
| JP7472429B2 (ja) | 2018-12-28 | 2024-04-23 | アイジーエム レシンス イタリア ソチエタ レスポンサビリタ リミタータ | 光開始剤 |
| KR102647598B1 (ko) | 2019-03-15 | 2024-03-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 반도체 디바이스, 및, 폴리머 전구체 |
| WO2020203277A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ |
| US11932571B2 (en) | 2019-05-24 | 2024-03-19 | Covestro (Netherland) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
| JP7618588B2 (ja) | 2019-05-24 | 2025-01-21 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 強化された高速加工性を備えた光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物 |
| TWI842917B (zh) | 2019-06-27 | 2024-05-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 組成物、膜及光感測器 |
| EP4003927A1 (en) | 2019-07-31 | 2022-06-01 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions with multi-functional long-armed oligomers for coating optical fibers |
| WO2021039205A1 (ja) | 2019-08-29 | 2021-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 |
| KR102838505B1 (ko) | 2019-08-30 | 2025-07-25 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 막, 광학 필터 및 그 제조 방법, 고체 촬상 소자, 적외선 센서, 및, 센서 모듈 |
| TWI851818B (zh) | 2019-09-26 | 2024-08-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法 |
| WO2021058320A1 (en) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | Altana Ag | Composition for preparing a color filter |
| EP4041719A1 (en) | 2019-10-11 | 2022-08-17 | IGM Resins Italia S.r.l. | Coumarin glyoxylates for led photocuring |
| TWI859361B (zh) | 2019-11-21 | 2024-10-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法 |
| CN114867790B (zh) | 2019-12-25 | 2025-08-19 | 富士胶片株式会社 | 树脂组合物、固化物、紫外线吸收剂、紫外线截止滤波器、透镜、保护材料、化合物及化合物的合成方法 |
| JP7701147B2 (ja) | 2019-12-26 | 2025-07-01 | 住友化学株式会社 | 表示装置 |
| WO2021199748A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜及び光センサ |
| JP7788218B2 (ja) | 2020-03-31 | 2025-12-18 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| JP7773858B2 (ja) | 2020-03-31 | 2025-11-20 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| JP7773859B2 (ja) | 2020-03-31 | 2025-11-20 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| KR20220164742A (ko) | 2020-04-03 | 2022-12-13 | 코베스트로 (네덜란드) 비.브이. | 자가-치유 올리고머 및 이의 용도 |
| CN115515784A (zh) | 2020-04-03 | 2022-12-23 | 科思创(荷兰)有限公司 | 多层光学器件 |
| CN115427853B (zh) | 2020-04-03 | 2026-03-13 | 科思创(荷兰)有限公司 | 自我修复光纤和用于制造其的组合物 |
| JP7449765B2 (ja) | 2020-04-10 | 2024-03-14 | 株式会社Dnpファインケミカル | 感光性着色樹脂組成物、硬化物、カラーフィルタ、表示装置 |
| WO2022002909A1 (en) | 2020-06-30 | 2022-01-06 | Covestro (Netherlands) B.V. | Viscosity index improvers in optical fiber coatings |
| CN115776992B (zh) | 2020-08-21 | 2024-10-22 | 富士胶片株式会社 | 聚合性组合物、聚合物、紫外线遮蔽材料、层叠体、化合物、紫外线吸收剂及化合物的制造方法 |
| JP2022041899A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜及び表示装置 |
| JP2022041900A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 積層体及び表示装置 |
| JP2022041901A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 積層体及び表示装置 |
| WO2022059706A1 (ja) | 2020-09-18 | 2022-03-24 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品 |
| JPWO2022065183A1 (https=) | 2020-09-24 | 2022-03-31 | ||
| EP4220859A4 (en) | 2020-09-28 | 2024-03-27 | FUJIFILM Corporation | LAMINATE PRODUCTION PROCESS, ANTENNA-IN-PACKAGE PRODUCTION PROCESS, LAMINATE AND COMPOSITION |
| IT202000023815A1 (it) | 2020-10-09 | 2022-04-09 | Igm Resins Italia Srl | Ketoquinolones as photonitiators |
| WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| KR20230121723A (ko) | 2020-12-17 | 2023-08-21 | 가부시키가이샤 아데카 | 화합물 및 조성물 |
| CN116888221A (zh) | 2021-02-22 | 2023-10-13 | 科思创(荷兰)有限公司 | 提供低光泽涂层的方法 |
| JPWO2022196599A1 (https=) | 2021-03-19 | 2022-09-22 | ||
| TW202248755A (zh) | 2021-03-22 | 2022-12-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件 |
| KR102925447B1 (ko) | 2021-03-22 | 2026-02-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 자성 입자 함유 경화물, 자성 입자 도입 기판, 전자 재료 |
| EP4318057A4 (en) | 2021-03-29 | 2024-11-06 | FUJIFILM Corporation | BLACK PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING BLACK PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM, COLOR FILTER, LIGHT-SHIELDING FILM, OPTICAL ELEMENT, SOLID-STATE IMAGE PICK-UP ELEMENT, AND HEADLIGHT UNIT |
| EP4332123A4 (en) | 2021-04-28 | 2025-05-21 | Sumitomo Chemical Company Limited | CURED FILM, AND DISPLAY DEVICE |
| CN117203246A (zh) | 2021-04-28 | 2023-12-08 | 住友化学株式会社 | 固化膜和显示装置 |
| IT202100014885A1 (it) | 2021-06-08 | 2022-12-08 | Igm Resins Italia Srl | Fotoiniziatori a base di silicio bifunzionali |
| KR20240035990A (ko) | 2021-07-20 | 2024-03-19 | 가부시키가이샤 아데카 | 반도체용 막 형성 재료, 반도체용 부재 형성 재료, 반도체용 공정 부재 형성 재료, 하층막 형성 재료, 하층막 및 반도체 디바이스 |
| JP7259141B1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液 |
| EP4410855A4 (en) | 2021-09-29 | 2024-12-18 | FUJIFILM Corporation | COMPOSITION, RESIN, FILM AND OPTICAL SENSOR |
| EP4410902A4 (en) | 2021-09-30 | 2025-01-22 | FUJIFILM Corporation | METHOD FOR PRODUCING A COMPOSITION CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE CONTAINING MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL |
| IT202100025868A1 (it) | 2021-10-08 | 2023-04-08 | Igm Resins Italia Srl | Nuovi fotoiniziatori |
| CN118176225A (zh) | 2021-10-29 | 2024-06-11 | 科思创(荷兰)有限公司 | 可自由基固化的组合物 |
| JP7354479B1 (ja) | 2021-12-23 | 2023-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物 |
| CN114522732B (zh) * | 2022-01-07 | 2024-03-08 | 中南大学 | 一种可以作为手性构建单元的手性钛氧簇的制备及其应用 |
| EP4482881A1 (en) | 2022-02-24 | 2025-01-01 | IGM Resins Italia S.r.l. | Photoinitiators |
| KR102927378B1 (ko) | 2022-02-24 | 2026-02-13 | 후지필름 가부시키가이샤 | 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 |
| KR20240156619A (ko) | 2022-03-29 | 2024-10-30 | 후지필름 가부시키가이샤 | 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 |
| JP2023152726A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| JP2023152725A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| JP2023152724A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| EP4511336A1 (en) | 2022-04-21 | 2025-02-26 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fibers |
| EP4273200B1 (en) | 2022-05-06 | 2026-03-25 | IGM Group B.V. | Photoinitiator package comprising specialised bisacylphosphine oxide photoinitiators and optical brightener sensitizers |
| EP4532577A1 (en) | 2022-05-25 | 2025-04-09 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
| EP4535047A4 (en) | 2022-06-01 | 2025-10-08 | Fujifilm Corp | LIGHT DETECTION ELEMENT, IMAGE SENSOR, AND METHOD FOR PRODUCING LIGHT DETECTION ELEMENT |
| WO2023234094A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
| EP4535432A4 (en) | 2022-06-01 | 2025-10-29 | Fujifilm Corp | PHOTOSENSING ELEMENT, IMAGE SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSING ELEMENT |
| JP2024013852A (ja) | 2022-07-21 | 2024-02-01 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| WO2024042082A1 (en) | 2022-08-24 | 2024-02-29 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
| TW202424051A (zh) | 2022-09-30 | 2024-06-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法、積層體的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件 |
| CN120051506A (zh) | 2022-09-30 | 2025-05-27 | 富士胶片株式会社 | 树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件 |
| EP4597225A4 (en) | 2022-09-30 | 2026-01-21 | Fujifilm Corp | FILM PRODUCTION PROCESS, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, HARDENED PRODUCT PROCESS, HARDENED AND LAMINATED PRODUCT |
| KR20250088509A (ko) | 2022-10-05 | 2025-06-17 | 아이지엠 레진스 이탈리아 에스.알.엘. | 폴리머 (메트)아크릴레이트 광개시제 |
| KR20250091208A (ko) | 2022-10-26 | 2025-06-20 | 가부시키가이샤 아데카 | 화합물, 조성물, 경화물, 경화물의 제조 방법 및 전자부품의 제조 방법 |
| EP4633833A1 (en) | 2022-12-15 | 2025-10-22 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for producing low gloss coating surface by radiation curing |
| IT202300004737A1 (it) | 2023-03-14 | 2024-09-14 | Igm Resins Italia Srl | Uso di fotoiniziatori specifici in un processo di fotopolimerizzazione utilizzando lunghezze d’onda combinate di luce a led |
| JPWO2024203080A1 (https=) | 2023-03-31 | 2024-10-03 | ||
| KR20260035964A (ko) | 2023-07-10 | 2026-03-13 | 바스프 에스이 | 저온 경화에 적합한 광경화성 및 열 경화성 조성물 |
| CN121646581A (zh) | 2023-08-03 | 2026-03-10 | 意大利艾坚蒙树脂有限公司 | 10,11-二氢-5h-二苯并[b,f]氮杂䓬衍生物作为光聚合中的光引发剂用于光固化组合物 |
| EP4534614B1 (en) | 2023-10-02 | 2026-04-15 | IGM Group B.V. | Photoinitiator package comprising specialised bisacylphosphine oxide photoinitiators, further acylphosphine oxide photoinitiators and optical brightener sensitizers |
| IT202300028218A1 (it) | 2023-12-28 | 2025-06-28 | Igm Resins Italia Srl | Nuova forma solida di bis(2,4,6-trimetilbenzoil)-n-ottilfosfina ossido |
| EP4578918A1 (en) | 2023-12-29 | 2025-07-02 | IGM Group B.V. | Photosensitizers for photopolymerization |
| EP4579344A1 (en) | 2023-12-29 | 2025-07-02 | IGM Group B.V. | Thioalkylcoumarin photosensitizers for photopolymerization |
| WO2025147337A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-10 | Covestro Llc | Polysilanes, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| WO2025147343A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-10 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated compounds, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| US12187852B1 (en) | 2024-01-02 | 2025-01-07 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| US20250215139A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-03 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| US12428514B2 (en) | 2024-01-02 | 2025-09-30 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated compounds, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1180846A (en) * | 1967-08-08 | 1970-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds |
| FR2393345A1 (fr) * | 1977-06-01 | 1978-12-29 | Agfa Gevaert Nv | Fabrication d'elements modifies sous forme d'images |
| GB2029423A (en) | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
| CH636601A5 (en) * | 1978-08-30 | 1983-06-15 | Ciba Geigy Ag | Diphenyl ether oxime ethers and diphenyl ether oxime esters with a selective herbicidal action |
| AT365410B (de) * | 1978-08-31 | 1982-01-11 | Ciba Geigy Ag | Mittel zum schutz von kulturpflanzen vor aggressi-ven herbiziden |
| US4416686A (en) * | 1978-08-31 | 1983-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | 3,4-Dichlorophenylacetonitrile-N-tert.butylcarbamoyloxy ether for the protection of crops against injury by herbicides |
| US4347372A (en) * | 1978-09-01 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | Benzoxazolyl-glyoxylonitrile-2-oxime ether derivatives |
| JPS59216141A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-06 | Daicel Chem Ind Ltd | 感光性積層体 |
| US4590145A (en) * | 1985-06-28 | 1986-05-20 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters |
| JPS62184056A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH0755925B2 (ja) * | 1986-02-28 | 1995-06-14 | 旭化成工業株式会社 | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 |
| JP2505746B2 (ja) * | 1986-05-20 | 1996-06-12 | 旭化成工業株式会社 | 感光性組成物 |
| JPS62286961A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新規なオキシムエステル化合物及びその製造方法 |
| JPS6443562A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-15 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive composition |
| JP2640470B2 (ja) * | 1987-08-19 | 1997-08-13 | 旭化成工業株式会社 | 新しい感光性組成物 |
| US5019482A (en) * | 1987-08-12 | 1991-05-28 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition |
| US4934791A (en) | 1987-12-09 | 1990-06-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color filter |
| JPH05323608A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH06201859A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Casio Comput Co Ltd | フィルム液晶表示装置及びフィルム液晶表示機器 |
| KR0147207B1 (ko) * | 1993-07-28 | 1998-08-17 | 단노 다께시 | 광개시제 조성물 및 그를 사용한 감광성 물질 |
| JP3425311B2 (ja) * | 1996-03-04 | 2003-07-14 | 株式会社東芝 | ネガ型感光性ポリマー樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品 |
| JPH10171119A (ja) | 1996-12-11 | 1998-06-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた色フィルタの製造方法 |
| MY121423A (en) * | 1998-06-26 | 2006-01-28 | Ciba Sc Holding Ag | Photopolymerizable thermosetting resin compositions |
| NL1016815C2 (nl) * | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
-
1999
- 1999-05-27 SG SG1999002594A patent/SG77689A1/en unknown
- 1999-06-02 MY MYPI99002207A patent/MY133220A/en unknown
- 1999-06-03 NL NL1012222A patent/NL1012222C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1999-06-04 TW TW088109264A patent/TW457268B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-06-15 GB GB9913756A patent/GB2339571B/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-16 AT AT0106399A patent/AT410547B/de not_active IP Right Cessation
- 1999-06-21 CH CH01154/99A patent/CH694095A5/de not_active IP Right Cessation
- 1999-06-21 FI FI991407A patent/FI991407A7/fi not_active Application Discontinuation
- 1999-06-21 BE BE9900431A patent/BE1012721A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1999-06-22 SE SE9902078A patent/SE521582C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1999-06-22 JP JP17486699A patent/JP4454067B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 US US09/338,152 patent/US6596445B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 DE DE19928742A patent/DE19928742B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 AU AU35844/99A patent/AU760212B2/en not_active Ceased
- 1999-06-24 CZ CZ0231799A patent/CZ298405B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-06-24 ES ES009901409A patent/ES2170605B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-24 FR FR9908070A patent/FR2781794B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-24 DK DK199900904A patent/DK199900904A/da not_active Application Discontinuation
- 1999-06-25 CN CNB991085981A patent/CN1178902C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-25 KR KR1019990024286A patent/KR100663044B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-25 CA CA002276588A patent/CA2276588C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-25 IT IT1999MI001423A patent/IT1312120B1/it active
- 1999-06-28 BR BR9903285-6A patent/BR9903285A/pt not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-10-02 BE BE2000/0621A patent/BE1014009A5/fr not_active IP Right Cessation
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018084076A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム |
| WO2018146958A1 (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー |
| EP4312066A2 (en) | 2017-09-07 | 2024-01-31 | FUJIFILM Corporation | One-way mirror film for displaying projected images, laminated glass for displaying projected images, and image display system |
| WO2019050019A1 (ja) | 2017-09-07 | 2019-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2019163969A1 (ja) | 2018-02-23 | 2019-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2020080355A1 (ja) | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2020122023A1 (ja) | 2018-12-10 | 2020-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2020179787A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2021060402A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター |
| WO2021200655A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2021246402A1 (ja) | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
| WO2022123946A1 (ja) | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2023054324A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
| WO2023080115A1 (ja) | 2021-11-05 | 2023-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 虚像表示装置、ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
| WO2023200018A1 (ja) | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4454067B2 (ja) | 新規o−アシルオキシム光開始剤 | |
| EP1395615B1 (en) | Oxime ester photoinitiators having a combined structure | |
| JP5680274B2 (ja) | オキシムエステル光開始剤 | |
| JP5117397B2 (ja) | オキシムエステル光開始剤 | |
| KR100680729B1 (ko) | 옥심 에스테르 광개시제, 이를 포함하는 광중합성 조성물 및 이를 사용한 광중합 방법 | |
| EP1778636B1 (en) | Oxime ester photoinitiators | |
| EP1567518B1 (en) | Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups | |
| EP1163553B1 (en) | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060615 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060615 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090904 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090909 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091216 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100126 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100202 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4454067 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140212 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |