JP4454067B2 - 新規o−アシルオキシム光開始剤 - Google Patents
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018084076A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム |
| WO2018146958A1 (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー |
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| WO2019163969A1 (ja) | 2018-02-23 | 2019-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム |
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| WO2021246402A1 (ja) | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
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Families Citing this family (381)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4505864B2 (ja) * | 1998-11-04 | 2010-07-21 | 凸版印刷株式会社 | 転写型カラーフィルタの製造方法 |
| EP1635220A2 (en) * | 1999-03-03 | 2006-03-15 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
| NL1016815C2 (nl) * | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
| SG97168A1 (en) * | 1999-12-15 | 2003-07-18 | Ciba Sc Holding Ag | Photosensitive resin composition |
| JP5072140B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2012-11-14 | 新中村化学工業株式会社 | 床用塗料組成物およびその塗料被覆物 |
| TWI272451B (en) * | 2000-09-25 | 2007-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Chemically amplified photoresist composition, process for preparation of a photoresist, and use of said chemically amplified photoresist composition |
| US7923173B1 (en) * | 2000-10-19 | 2011-04-12 | Illinois Tool Works Inc. | Photo definable polyimide film used as an embossing surface |
| DE60130531T2 (de) * | 2000-11-30 | 2008-06-12 | Toyoda Gosei Co., Ltd., Nishikasugai | Verfahren zur Herstellung eines Lichtwellenleiters |
| KR100417091B1 (ko) * | 2001-05-15 | 2004-02-05 | 주식회사 엘지화학 | 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물 |
| US7189489B2 (en) | 2001-06-11 | 2007-03-13 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Oxime ester photoiniators having a combined structure |
| JP4982016B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2012-07-25 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物およびそれを用いたカラーフィルター |
| US7329401B2 (en) | 2002-04-15 | 2008-02-12 | The Regents Of The University Of California | Cyclooxygenase-2 selective agents useful as imaging probes and related methods |
| TW200714651A (en) * | 2002-10-28 | 2007-04-16 | Mitsubishi Chem Corp | Photopolymerization composition and color filter using the same |
| CA2505893A1 (en) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups |
| WO2004104051A1 (en) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Bimolecular photoinitiator systems |
| JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| TW200519535A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | Hardenable resin composition, hardened body thereof, and printed circuit board |
| JP4595498B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2010-12-08 | チッソ株式会社 | 有機ケイ素化合物含有重合性液晶組成物 |
| JP2005174778A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム |
| US7165839B2 (en) * | 2003-12-19 | 2007-01-23 | Novartis Ag | Method for producing tinted contact lenses |
| US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| JP2005215147A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物 |
| TWI349677B (en) * | 2004-03-30 | 2011-10-01 | Nippon Steel Chemical Co | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
| WO2005111717A2 (en) | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Fujifilm Corporation | Image recording method |
| JP4448381B2 (ja) * | 2004-05-26 | 2010-04-07 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
| EP1602982B1 (en) | 2004-05-31 | 2013-12-18 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing method |
| CN101084468B (zh) * | 2004-06-01 | 2012-11-07 | 道康宁公司 | 纳米光刻术和微光刻术用物质组合物 |
| DE102004027477A1 (de) * | 2004-06-02 | 2005-12-29 | Beiersdorf Ag | 2-Phenylethylbenzoat in kosmetischen Öl-in-Wasser-UV-Lichtschutzemulsionen |
| DE102004027476A1 (de) * | 2004-06-02 | 2005-12-22 | Beiersdorf Ag | 2-Phenylehtylbenzoat in kosmetischen Öl-in-Wasser-UV-Lichtschutzemulsionen |
| JP4428151B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2010-03-10 | Jsr株式会社 | 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
| JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| KR101193824B1 (ko) * | 2004-07-20 | 2012-10-24 | 시바 홀딩 인크 | 옥심 유도체 및 잠산으로서의 이의 용도 |
| ATE398298T1 (de) | 2004-07-20 | 2008-07-15 | Fujifilm Corp | Bilderzeugendes material |
| US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| US20070115336A1 (en) * | 2004-07-30 | 2007-05-24 | Ko Victory H | Digital ink jet printing process method |
| US20060032390A1 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| KR100799043B1 (ko) | 2004-08-20 | 2008-01-28 | 가부시키가이샤 아데카 | 옥심 에스테르 화합물 및 이 화합물을 함유하는 광중합개시제 |
| ATE389900T1 (de) | 2004-08-24 | 2008-04-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
| JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
| JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
| JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
| JP3798008B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2006-07-19 | 旭電化工業株式会社 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
| US8414982B2 (en) | 2004-12-22 | 2013-04-09 | Basf Se | Process for the production of strongly adherent coatings |
| JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| EP1798031A3 (en) | 2005-01-26 | 2007-07-04 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1696268B1 (en) | 2005-02-28 | 2016-11-09 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| JP4574399B2 (ja) * | 2005-03-07 | 2010-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物及びそれから得られるカラーフィルタ |
| JP2006285187A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
| US7781493B2 (en) | 2005-06-20 | 2010-08-24 | Dow Global Technologies Inc. | Protective coating for window glass |
| US7786183B2 (en) * | 2005-06-20 | 2010-08-31 | Dow Global Technologies Inc. | Coated glass articles |
| TWI290931B (en) * | 2005-07-01 | 2007-12-11 | Eternal Chemical Co Ltd | Photoimageable composition |
| CN101223478B (zh) * | 2005-07-13 | 2011-10-12 | 太阳控股株式会社 | 黑色糊剂组合物及使用其的黑色矩阵图案的形成方法、以及该黑色矩阵图案 |
| TW200720846A (en) * | 2005-07-13 | 2007-06-01 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | Silver paste composition, method for electrically conductive pattern formation using the same, and its electrically conductive pattern |
| JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
| JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP2007056221A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Jsr Corp | 重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
| JP4650211B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
| JP4650212B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
| KR100763744B1 (ko) * | 2005-11-07 | 2007-10-04 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물 |
| US8940464B2 (en) * | 2005-12-01 | 2015-01-27 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| KR100814231B1 (ko) | 2005-12-01 | 2008-03-17 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 투명한 감광성 조성물 |
| KR101351286B1 (ko) * | 2005-12-20 | 2014-02-17 | 시바 홀딩 인크 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| WO2007080947A1 (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | ジケトオキシムエステル化合物及びその用途 |
| TWI406840B (zh) * | 2006-02-24 | 2013-09-01 | Fujifilm Corp | 肟衍生物、光聚合性組成物、彩色濾光片及其製法 |
| US8293436B2 (en) | 2006-02-24 | 2012-10-23 | Fujifilm Corporation | Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same |
| JP4584164B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
| JP2007241144A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
| JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
| JP4698470B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
| JP2007286482A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
| TWI403840B (zh) | 2006-04-26 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 含染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 |
| JP4884853B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2012-02-29 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
| US7524889B2 (en) * | 2006-07-06 | 2009-04-28 | Bisco, Inc. | Light emitting diode curable acrylates with reduced yellowing |
| JP2008037930A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光硬化型インクジェットインキ |
| KR100781690B1 (ko) | 2006-08-24 | 2007-12-03 | 한국화학연구원 | 다가의 옥심 에스테르 기를 갖는 광 개시제 및 이의 제조방법 |
| JP5030527B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-09-19 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
| CA2673346C (en) | 2006-12-19 | 2014-12-02 | Dow Global Technologies Inc. | Adhesion promotion additives and methods for improving coating compositions |
| EP2122638B1 (en) | 2006-12-19 | 2012-11-07 | Dow Global Technologies LLC | Improved composites and methods for conductive transparent substrates |
| CN101553351B (zh) | 2006-12-19 | 2012-09-05 | 陶氏环球技术公司 | 包封的嵌板组件及其制造方法 |
| US8771924B2 (en) | 2006-12-26 | 2014-07-08 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| KR101471644B1 (ko) * | 2006-12-27 | 2014-12-10 | 가부시키가이샤 아데카 | 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제 |
| JP4945432B2 (ja) | 2006-12-28 | 2012-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| TW200831541A (en) * | 2006-12-28 | 2008-08-01 | Jsr Corp | Sealant for liquid crystal display device and liquid crystal display device |
| EP1944173B1 (en) | 2007-01-15 | 2010-04-21 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
| EP1947514A3 (en) | 2007-01-17 | 2010-12-29 | FUJIFILM Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
| WO2008090640A1 (ja) | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Fujifilm Corporation | オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
| JP4881756B2 (ja) | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
| JP4885014B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2012-02-29 | 株式会社リコー | 像担持体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
| JP2008233660A (ja) | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
| DE602008001572D1 (de) | 2007-03-23 | 2010-08-05 | Fujifilm Corp | Negativ-Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit |
| JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
| EP1975702B1 (en) | 2007-03-29 | 2013-07-24 | FUJIFILM Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
| EP1974914B1 (en) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| EP1975710B1 (en) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
| EP1975706A3 (en) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| JP5075450B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| CA2629952C (en) | 2007-04-26 | 2015-10-06 | Finishes Unlimited, Inc. | Radiation-curable coating compositions, composite and plastic materials coated with said compositions and methods for their preparation |
| US8252512B2 (en) | 2007-05-09 | 2012-08-28 | Adeka Corporation | Epoxy compound, alkali-developable resin composition, and alkali-developable photosensitive resin composition |
| DE602008004757D1 (en) * | 2007-05-11 | 2011-03-10 | Basf Se | Oximesther-fotoinitiatoren |
| KR101526618B1 (ko) | 2007-05-11 | 2015-06-05 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| CN101679394B (zh) | 2007-05-11 | 2013-10-16 | 巴斯夫欧洲公司 | 肟酯光引发剂 |
| JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| EP2006738B1 (en) | 2007-06-21 | 2017-09-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| US8426102B2 (en) | 2007-06-22 | 2013-04-23 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
| JP5247261B2 (ja) | 2007-07-02 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
| EP2037323B1 (en) | 2007-07-17 | 2014-12-10 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive compositions |
| KR101007440B1 (ko) * | 2007-07-18 | 2011-01-12 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 |
| US8338081B2 (en) | 2007-08-01 | 2012-12-25 | Adeka Corporation | Alkali-developable photosensitive resin composition and β-diketone compound |
| JP4890388B2 (ja) * | 2007-08-22 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP5496482B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP2009069761A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
| JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
| JP5255369B2 (ja) | 2007-09-25 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法 |
| JP5002399B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の処理方法 |
| EP2042928B1 (en) | 2007-09-28 | 2010-07-28 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
| JP5244518B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
| JP4951454B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作成方法 |
| JP5055077B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法および平版印刷版原版 |
| JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
| KR100830561B1 (ko) * | 2007-10-09 | 2008-05-22 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 다기능성 액정화합물 및 이들의 제조방법 그리고 이로부터얻어진 미세패턴 |
| JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP2009139852A (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| KR101587666B1 (ko) | 2007-12-18 | 2016-01-21 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 유리 결합용 접착제에 대한 접착성이 개선된 창 유리용 보호 코팅 |
| JP5066452B2 (ja) | 2008-01-09 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用現像処理方法 |
| JP2009186997A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法 |
| JP5155677B2 (ja) | 2008-01-22 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、およびその製版方法 |
| JP5371449B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP2009184188A (ja) | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および印刷方法 |
| JP5150287B2 (ja) | 2008-02-06 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| WO2009104468A1 (ja) | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社Adeka | 重合性化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子 |
| JP5287012B2 (ja) * | 2008-02-25 | 2013-09-11 | Jsr株式会社 | 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子 |
| JP5175582B2 (ja) | 2008-03-10 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2009214428A (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP4940174B2 (ja) | 2008-03-21 | 2012-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用自動現像装置 |
| JP2009229771A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用自動現像方法 |
| JP5305704B2 (ja) | 2008-03-24 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
| JP2009236942A (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5422146B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法 |
| JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
| JP2009258705A (ja) | 2008-03-25 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
| JP5535444B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP5507054B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子 |
| EP2105298B1 (en) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| JP5528677B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法 |
| JP4914864B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5137662B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| EP2261201B1 (en) | 2008-04-01 | 2018-05-30 | DIC Corporation | Trifunctional (meth)acrylate compound and polymerizable composition containing the compound |
| US20090260531A1 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-22 | Fujifilm Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
| KR101632081B1 (ko) | 2008-04-25 | 2016-06-20 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 케토옥심에스테르계 화합물 및 그 이용 |
| KR101441998B1 (ko) | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
| JP5222624B2 (ja) | 2008-05-12 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法 |
| JP5566378B2 (ja) | 2008-06-06 | 2014-08-06 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光開始剤 |
| JP5439755B2 (ja) * | 2008-06-26 | 2014-03-12 | 三菱化学株式会社 | ホログラム記録層形成用組成物、並びにそれを用いたホログラム記録材料及びホログラム光記録媒体 |
| JP5171506B2 (ja) | 2008-06-30 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP5296434B2 (ja) | 2008-07-16 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| US8378002B2 (en) | 2008-07-16 | 2013-02-19 | Fujifilm Corporation | Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method |
| JP5359100B2 (ja) * | 2008-08-01 | 2013-12-04 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物 |
| JP2010044273A (ja) | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5274151B2 (ja) | 2008-08-21 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
| JP5444933B2 (ja) | 2008-08-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
| JP5284735B2 (ja) | 2008-09-18 | 2013-09-11 | 株式会社Adeka | 重合性光学活性イミド化合物及び該化合物を含有する重合性組成物 |
| JP5408942B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および製版方法 |
| JP5449898B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| US8151705B2 (en) | 2008-09-24 | 2012-04-10 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| JP5079653B2 (ja) | 2008-09-29 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5171514B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP5127651B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5660268B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
| JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
| JP5315909B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-10-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
| JP5669386B2 (ja) * | 2009-01-15 | 2015-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
| JP5469471B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、 |
| JP4344400B1 (ja) | 2009-02-16 | 2009-10-14 | 株式会社日本化学工業所 | オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
| EP2221665A3 (en) | 2009-02-19 | 2011-03-16 | Fujifilm Corporation | Dispersion composition, photosensitive resin composition for light- shielding color filter, light-shielding color filter, method of producing the same, and solid-state image sensor having the color filter |
| JP5340198B2 (ja) | 2009-02-26 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物 |
| JP5535692B2 (ja) | 2009-03-17 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP5277039B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版およびその製版方法 |
| JP5479163B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5554106B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置 |
| US8663880B2 (en) | 2009-04-16 | 2014-03-04 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition for color filter, color filter, and solid-state imaging device |
| CN101565472B (zh) * | 2009-05-19 | 2011-05-04 | 常州强力电子新材料有限公司 | 酮肟酯类光引发剂 |
| CN102459171B (zh) * | 2009-06-17 | 2014-07-09 | 东洋油墨Sc控股株式会社 | 肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案 |
| JP2011042735A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Fujifilm Corp | 水系着色剤分散物及びその製造方法、インク組成物、インクセット、画像形成方法、並びに分散剤 |
| JP5694654B2 (ja) | 2009-09-09 | 2015-04-01 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセット、および画像形成方法 |
| JP2011056800A (ja) | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Fujifilm Corp | インクセットおよび画像形成方法 |
| JP5535814B2 (ja) | 2009-09-14 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物 |
| JP5501175B2 (ja) | 2009-09-28 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
| JP5535842B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ |
| JP5760374B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2015-08-12 | 三菱化学株式会社 | ケトオキシムエステル系化合物及びその利用 |
| KR20120120117A (ko) | 2009-11-18 | 2012-11-01 | 가부시키가이샤 아데카 | 중합성 화합물을 함유하는 액정 조성물 및 상기 액정 조성물을 이용한 액정 표시 소자 |
| JP5701576B2 (ja) | 2009-11-20 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
| JP4818458B2 (ja) | 2009-11-27 | 2011-11-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
| US8957224B2 (en) | 2009-12-07 | 2015-02-17 | Agfa Graphics Nv | Photoinitiators for UV-LED curable compositions and inks |
| AU2010330040B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-12-19 | Agfa Nv | UV-LED curable compositions and inks |
| KR101594191B1 (ko) * | 2010-01-11 | 2016-02-15 | 동우 화인켐 주식회사 | 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치 |
| JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
| JP2011158655A (ja) | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Fujifilm Corp | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子 |
| KR20110098638A (ko) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치 |
| JP5791874B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
| JP5638285B2 (ja) | 2010-05-31 | 2014-12-10 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子 |
| US8152863B2 (en) | 2010-06-01 | 2012-04-10 | Fujifilm Corporation | Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device |
| CN102439089B (zh) * | 2010-06-28 | 2015-05-06 | 株式会社艾迪科 | 固化性树脂组合物 |
| JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
| JP5544239B2 (ja) | 2010-07-29 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物 |
| JP5680353B2 (ja) | 2010-08-24 | 2015-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物 |
| CN101923287B (zh) * | 2010-08-31 | 2011-11-30 | 常州强力电子新材料有限公司 | 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
| JP2012052066A (ja) | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Fujifilm Corp | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物 |
| IT1402691B1 (it) * | 2010-11-10 | 2013-09-13 | Lamberti Spa | Tioxantoni a bassa migrabilita' |
| EP2472330B1 (en) | 2010-12-28 | 2017-01-25 | Fujifilm Corporation | Black radiation-sensitive composition, black cured film, solid-state imaging element, and method of producing black cured film |
| JP5634888B2 (ja) | 2011-01-12 | 2014-12-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
| US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
| US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
| JP5398760B2 (ja) | 2011-02-23 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| JP5611870B2 (ja) | 2011-03-15 | 2014-10-22 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| KR101930099B1 (ko) * | 2011-03-25 | 2018-12-17 | 가부시키가이샤 아데카 | 옥심에스테르 화합물 및 그 화합물을 함유하는 광중합 개시제 |
| JP5591770B2 (ja) | 2011-08-15 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
| CN103608704B (zh) | 2011-09-14 | 2016-03-16 | 富士胶片株式会社 | 着色放射线敏感性组合物、图案形成方法、彩色滤光片及其制备方法以及固态图像传感器 |
| KR101921368B1 (ko) * | 2011-11-11 | 2018-11-22 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 네거티브형 감광성 수지 조성물, 격벽, 블랙 매트릭스 및 광학 소자 |
| JP5922013B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
| KR20140120894A (ko) | 2012-01-31 | 2014-10-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 화합물, 중합체, 경화성 조성물, 도포용 조성물, 그리고 경화막을 갖는 물품, 친액성 영역과 발액성 영역의 패턴을 갖는 물품 및 그 제조 방법 |
| CN102633603B (zh) * | 2012-03-06 | 2014-06-04 | 无锡济民可信山禾药业股份有限公司 | 一种高纯度左旋龙脑的制备方法 |
| JP5934664B2 (ja) | 2012-03-19 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| JP5775479B2 (ja) | 2012-03-21 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
| WO2013167515A1 (en) * | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2854754B1 (en) | 2012-06-04 | 2019-04-24 | L'oreal | Fast curing cosmetic compositions for tack free surface photocuring of radically polymerizable resins with uv-led |
| JP2014040529A (ja) | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Fujifilm Corp | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
| JP5894943B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子 |
| JP5934682B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
| JP5909468B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-04-26 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
| JP6140593B2 (ja) | 2012-11-30 | 2017-05-31 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
| WO2014084289A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
| JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
| WO2014104136A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
| SG11201505090UA (en) | 2012-12-28 | 2015-08-28 | Fujifilm Corp | Curable Resin Composition, Infrared Ray CutOff Filter And Solid-State Imaging Device Using The Same |
| JP6061697B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2017-01-18 | 株式会社日本化学工業所 | 新規な光重合開始剤及びその使用方法 |
| JP6095408B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-03-15 | 株式会社日本化学工業所 | 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
| KR101852509B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2018-04-26 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
| JP6097128B2 (ja) | 2013-04-12 | 2017-03-15 | 富士フイルム株式会社 | 遠赤外線遮光層形成用組成物 |
| JP2015038979A (ja) * | 2013-07-18 | 2015-02-26 | 富士フイルム株式会社 | イメージセンサー及びその製造方法 |
| JP6162084B2 (ja) | 2013-09-06 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
| KR102282647B1 (ko) | 2013-09-10 | 2021-07-28 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
| CN103833872B (zh) | 2014-03-18 | 2016-04-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
| CN106164206B (zh) | 2014-03-27 | 2019-12-10 | 3M创新有限公司 | 填充的包含聚二有机硅氧烷的组合物及其使用方法 |
| CN106132929B (zh) | 2014-04-04 | 2020-06-19 | 株式会社艾迪科 | 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂 |
| JP6398364B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2018-10-03 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 |
| CN104098720B (zh) * | 2014-07-15 | 2017-01-11 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 含杂环硫醚基团的肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
| KR101525460B1 (ko) * | 2014-08-25 | 2015-06-04 | 애경화학 주식회사 | 신규한 구조를 갖는 옥심에스테르 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물 |
| JP6530902B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2019-06-12 | 株式会社Adeka | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 |
| JP6464764B2 (ja) * | 2015-01-16 | 2019-02-06 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、スペーサー、その形成方法及び液晶表示素子 |
| KR101824429B1 (ko) * | 2015-01-26 | 2018-02-06 | 주식회사 삼양사 | 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
| CN106278967B (zh) * | 2015-06-03 | 2020-08-07 | 江苏和成新材料有限公司 | 用于uv固化材料的酰基肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
| CN106278966B (zh) * | 2015-06-03 | 2019-11-05 | 江苏和成新材料有限公司 | 肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
| EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
| KR102604868B1 (ko) | 2015-09-25 | 2023-11-22 | 가부시키가이샤 아데카 | 옥심에스테르 화합물 및 그 화합물을 함유하는 중합 개시제 |
| TWI634135B (zh) | 2015-12-25 | 2018-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件 |
| CN105523975A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-04-27 | 天津英吉诺科技有限公司 | 一种酮肟酯类光引发剂的绿色合成方法 |
| JP6721670B2 (ja) | 2016-03-14 | 2020-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法 |
| WO2017183428A1 (ja) | 2016-04-21 | 2017-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー |
| TWI810158B (zh) | 2016-08-01 | 2023-08-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、 積層體的製造方法及半導體元件 |
| CN115755526A (zh) * | 2016-08-22 | 2023-03-07 | 旭化成株式会社 | 感光性树脂组合物和固化浮雕图案的制造方法 |
| TW201821280A (zh) | 2016-09-30 | 2018-06-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 積層體以及半導體元件的製造方法 |
| WO2018159626A1 (ja) | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
| EP3590975B1 (en) | 2017-02-28 | 2022-05-04 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and compound |
| SG11201908559XA (en) * | 2017-03-21 | 2019-10-30 | Toray Industries | Photosensitive resin composition, photosensitive resin composition film, insulating film and electronic component |
| CN106986855A (zh) * | 2017-04-05 | 2017-07-28 | 同济大学 | 新型杂环肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
| EP3617787B1 (en) | 2017-04-28 | 2022-06-29 | FUJIFILM Corporation | Image display function-equipped anti-glare mirror |
| WO2018221457A1 (ja) | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、ポリマー前駆体、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法および半導体デバイス |
| WO2018220605A1 (en) | 2017-06-02 | 2018-12-06 | Dsm Ip Assets Bv | Thermally resistant radiation curable coatings for optical fiber |
| WO2019054281A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
| JP7003527B2 (ja) * | 2017-09-25 | 2022-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット組成物セット及びインクジェット記録方法 |
| PL3687949T3 (pl) | 2017-11-03 | 2024-11-04 | Covestro (Netherlands) B.V. | Układy blokujące wodę zawierające włókna powleczone ciekłymi, utwardzanymi promieniowaniem kompozycjami sap |
| EP3710505B1 (en) | 2017-11-15 | 2022-01-05 | BYK-Chemie GmbH | Block co-polymer |
| WO2019096893A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
| EP3767393A4 (en) | 2018-03-13 | 2021-05-05 | FUJIFILM Corporation | Method for manufacturing cured film, and method for manufacturing solid-state imaging element |
| JPWO2019193647A1 (ja) * | 2018-04-03 | 2021-04-30 | Hdマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体の製造方法、感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化物の製造方法、層間絶縁膜、カバーコート層又は表面保護膜の製造方法、及び電子部品の製造方法 |
| CN110437107B (zh) * | 2018-05-03 | 2022-11-08 | 江苏裕事达新材料科技有限责任公司 | 一种丙烯酮肟酯化合物、制备方法、及组合物 |
| JP7218385B2 (ja) | 2018-06-01 | 2023-02-06 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 交互オリゴマーを介して光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物とそれから生成されたコーティング |
| WO2020049930A1 (ja) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法 |
| EP3847179A1 (en) | 2018-09-07 | 2021-07-14 | IGM Resins Italia S.r.l. | Multifunctional bisacylphosphine oxide photoinitiators |
| WO2020059509A1 (ja) | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
| CN112639616B (zh) | 2018-09-28 | 2024-09-13 | 富士胶片株式会社 | 感光性树脂组合物、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件 |
| EP3867207A1 (en) | 2018-12-03 | 2021-08-25 | Ms Holding B.V. | Filled radiation curable compositions for coating optical fiber and the coatings produced therefrom |
| KR102636334B1 (ko) | 2018-12-05 | 2024-02-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 패턴 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 및 디바이스 |
| EP3893053B1 (en) | 2018-12-05 | 2025-01-22 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, multilayer body and device |
| KR102888120B1 (ko) | 2018-12-28 | 2025-11-18 | 아이지엠 레진스 이탈리아 에스.알.엘. | 광개시제 |
| EP3940018A4 (en) | 2019-03-15 | 2022-05-18 | FUJIFILM Corporation | CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE, METHOD OF MAKING CURED FILM AND POLYMER PRECURSOR |
| JP7229337B2 (ja) | 2019-03-29 | 2023-02-27 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ |
| JP7618588B2 (ja) | 2019-05-24 | 2025-01-21 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 強化された高速加工性を備えた光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物 |
| US11932571B2 (en) | 2019-05-24 | 2024-03-19 | Covestro (Netherland) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
| JP7667735B2 (ja) | 2019-06-27 | 2025-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜および光センサ |
| JP7712261B2 (ja) | 2019-07-31 | 2025-07-23 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. | 光ファイバーを被覆するための多官能性長アームオリゴマーを含む放射線硬化性組成物 |
| EP4024097B1 (en) | 2019-08-29 | 2024-05-22 | FUJIFILM Corporation | Composition, film, near-infrared cut-off filter, pattern formation method, laminate, solid-state imaging element, infrared sensor, image display device, camera module and compound |
| JPWO2021039253A1 (OSRAM) | 2019-08-30 | 2021-03-04 | ||
| TWI851818B (zh) | 2019-09-26 | 2024-08-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法 |
| EP4034611A1 (en) | 2019-09-27 | 2022-08-03 | Altana Ag | Composition for preparing a color filter |
| JP7697458B2 (ja) | 2019-10-11 | 2025-06-24 | アイジーエム レシンス イタリア ソチエタ レスポンサビリタ リミタータ | Led光硬化用のクマリングリオキシレート |
| TWI859361B (zh) | 2019-11-21 | 2024-10-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法 |
| KR102685235B1 (ko) | 2019-12-25 | 2024-07-15 | 후지필름 가부시키가이샤 | 수지 조성물, 경화물, 자외선 흡수제, 자외선 차단 필터, 렌즈, 보호재, 화합물 및 화합물의 합성 방법 |
| JP7701147B2 (ja) | 2019-12-26 | 2025-07-01 | 住友化学株式会社 | 表示装置 |
| JP7470780B2 (ja) | 2020-03-30 | 2024-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜及び光センサ |
| JP7788218B2 (ja) | 2020-03-31 | 2025-12-18 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| JP7773859B2 (ja) | 2020-03-31 | 2025-11-20 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| JP7773858B2 (ja) | 2020-03-31 | 2025-11-20 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| US20230117457A1 (en) | 2020-04-03 | 2023-04-20 | Covestro (Netherlands) B.V. | Methods of synthesizing multi-hydrogen bonding oligomers |
| WO2021202623A1 (en) | 2020-04-03 | 2021-10-07 | Dsm Ip Assets B.V. | Self-healing optical fibers and the compositions used to create the same |
| WO2021202638A1 (en) | 2020-04-03 | 2021-10-07 | Dsm Ip Assets B.V. | Multi-layered optical devices |
| JP7449765B2 (ja) | 2020-04-10 | 2024-03-14 | 株式会社Dnpファインケミカル | 感光性着色樹脂組成物、硬化物、カラーフィルタ、表示装置 |
| WO2022002909A1 (en) | 2020-06-30 | 2022-01-06 | Covestro (Netherlands) B.V. | Viscosity index improvers in optical fiber coatings |
| CN115776992B (zh) | 2020-08-21 | 2024-10-22 | 富士胶片株式会社 | 聚合性组合物、聚合物、紫外线遮蔽材料、层叠体、化合物、紫外线吸收剂及化合物的制造方法 |
| JP2022041900A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 積層体及び表示装置 |
| JP2022041901A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 積層体及び表示装置 |
| JP2022041899A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜及び表示装置 |
| EP4216242A4 (en) | 2020-09-18 | 2024-05-22 | FUJIFILM Corporation | COMPOSITION, MAGNETIC PARTICLE-CONTAINING FILM AND ELECTRONIC COMPONENT |
| EP4220669A4 (en) | 2020-09-24 | 2024-03-20 | FUJIFILM Corporation | COMPOSITION, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE INTRODUCED BY MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL |
| WO2022065006A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物 |
| IT202000023815A1 (it) | 2020-10-09 | 2022-04-09 | Igm Resins Italia Srl | Ketoquinolones as photonitiators |
| JPWO2022131191A1 (OSRAM) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | ||
| CN121343178A (zh) | 2020-12-17 | 2026-01-16 | 株式会社艾迪科 | 化合物及组合物 |
| JP7741819B2 (ja) | 2020-12-17 | 2025-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| WO2022175492A1 (en) | 2021-02-22 | 2022-08-25 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
| WO2022196599A1 (ja) | 2021-03-19 | 2022-09-22 | 富士フイルム株式会社 | 膜および光センサ |
| WO2022202394A1 (ja) | 2021-03-22 | 2022-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、磁性粒子含有硬化物、磁性粒子導入基板、電子材料 |
| TW202248755A (zh) | 2021-03-22 | 2022-12-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件 |
| WO2022210175A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性組成物、黒色感光性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット |
| KR20240004522A (ko) | 2021-04-28 | 2024-01-11 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 경화막 및 표시 장치 |
| EP4332122A1 (en) | 2021-04-28 | 2024-03-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Cured film and display device |
| IT202100014885A1 (it) | 2021-06-08 | 2022-12-08 | Igm Resins Italia Srl | Fotoiniziatori a base di silicio bifunzionali |
| CN117616337A (zh) | 2021-07-20 | 2024-02-27 | 株式会社艾迪科 | 半导体用膜形成材料、半导体用构件形成材料、半导体用工序构件形成材料、下层膜形成材料、下层膜及半导体器件 |
| JP7259141B1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液 |
| JPWO2023054142A1 (OSRAM) | 2021-09-29 | 2023-04-06 | ||
| EP4410902A4 (en) | 2021-09-30 | 2025-01-22 | FUJIFILM Corporation | METHOD FOR PRODUCING A COMPOSITION CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE CONTAINING MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL |
| IT202100025868A1 (it) | 2021-10-08 | 2023-04-08 | Igm Resins Italia Srl | Nuovi fotoiniziatori |
| US12612534B2 (en) | 2021-10-29 | 2026-04-28 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radical-curable composition |
| JP7354479B1 (ja) | 2021-12-23 | 2023-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物 |
| CN114522732B (zh) * | 2022-01-07 | 2024-03-08 | 中南大学 | 一种可以作为手性构建单元的手性钛氧簇的制备及其应用 |
| WO2023162687A1 (ja) | 2022-02-24 | 2023-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び、半導体デバイス |
| EP4482881A1 (en) | 2022-02-24 | 2025-01-01 | IGM Resins Italia S.r.l. | Photoinitiators |
| CN119013330A (zh) | 2022-03-29 | 2024-11-22 | 富士胶片株式会社 | 树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件 |
| JP2023152724A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| JP2023152725A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| JP2023152726A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| JP2025513271A (ja) | 2022-04-21 | 2025-04-24 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 光ファイバを被覆するための放射線硬化性組成物 |
| EP4273200B1 (en) | 2022-05-06 | 2026-03-25 | IGM Group B.V. | Photoinitiator package comprising specialised bisacylphosphine oxide photoinitiators and optical brightener sensitizers |
| EP4532576A1 (en) | 2022-05-25 | 2025-04-09 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
| WO2023234095A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
| WO2023234094A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
| EP4535047A4 (en) | 2022-06-01 | 2025-10-08 | Fujifilm Corp | LIGHT DETECTION ELEMENT, IMAGE SENSOR, AND METHOD FOR PRODUCING LIGHT DETECTION ELEMENT |
| JP2024013852A (ja) | 2022-07-21 | 2024-02-01 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
| CN119768477A (zh) | 2022-08-24 | 2025-04-04 | 科思创(荷兰)有限公司 | 提供低光泽涂层的方法 |
| CN120051506A (zh) | 2022-09-30 | 2025-05-27 | 富士胶片株式会社 | 树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件 |
| WO2024070963A1 (ja) | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 膜の製造方法、感光性樹脂組成物、硬化物の製造方法、硬化物、及び積層体 |
| TW202424051A (zh) | 2022-09-30 | 2024-06-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法、積層體的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件 |
| CN120187765A (zh) | 2022-10-05 | 2025-06-20 | 意大利艾坚蒙树脂有限公司 | 聚合物型(甲基)丙烯酸酯光引发剂 |
| EP4610254A1 (en) | 2022-10-26 | 2025-09-03 | Adeka Corporation | Compound, composition, cured product, method for producing cured product, and method for producing electronic component |
| CN120379773A (zh) | 2022-12-15 | 2025-07-25 | 科思创有限公司 | 通过辐射固化制备低光泽涂层表面的方法 |
| IT202300004737A1 (it) | 2023-03-14 | 2024-09-14 | Igm Resins Italia Srl | Uso di fotoiniziatori specifici in un processo di fotopolimerizzazione utilizzando lunghezze d’onda combinate di luce a led |
| WO2024203080A1 (ja) | 2023-03-31 | 2024-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、パターン形成方法 |
| EP4743828A1 (en) | 2023-07-10 | 2026-05-20 | Basf Se | Photocurable and thermally curable compositions suitable for low-temperature curing |
| WO2025027517A1 (en) | 2023-08-03 | 2025-02-06 | Igm Resins Italia S.R.L. | 10,11 -dihydro-5h-dibenzo[b,f]azepine derivatives as photoinitiatiors in photopolymerisation for use in photocurable compositions |
| EP4534614B1 (en) | 2023-10-02 | 2026-04-15 | IGM Group B.V. | Photoinitiator package comprising specialised bisacylphosphine oxide photoinitiators, further acylphosphine oxide photoinitiators and optical brightener sensitizers |
| IT202300028218A1 (it) | 2023-12-28 | 2025-06-28 | Igm Resins Italia Srl | Nuova forma solida di bis(2,4,6-trimetilbenzoil)-n-ottilfosfina ossido |
| EP4578918A1 (en) | 2023-12-29 | 2025-07-02 | IGM Group B.V. | Photosensitizers for photopolymerization |
| EP4579344A1 (en) | 2023-12-29 | 2025-07-02 | IGM Group B.V. | Thioalkylcoumarin photosensitizers for photopolymerization |
| WO2025147343A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-10 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated compounds, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| US12428514B2 (en) | 2024-01-02 | 2025-09-30 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated compounds, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| US12187852B1 (en) | 2024-01-02 | 2025-01-07 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| WO2025147337A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-10 | Covestro Llc | Polysilanes, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| US20250215139A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-03 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| WO2026089881A1 (en) | 2024-10-25 | 2026-04-30 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomer compositions, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| WO2026089883A1 (en) | 2024-10-25 | 2026-04-30 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| WO2026089880A1 (en) | 2024-10-25 | 2026-04-30 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
| WO2026089879A1 (en) | 2024-10-25 | 2026-04-30 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated compounds, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1180846A (en) * | 1967-08-08 | 1970-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds |
| FR2393345A1 (fr) * | 1977-06-01 | 1978-12-29 | Agfa Gevaert Nv | Fabrication d'elements modifies sous forme d'images |
| GB2029423A (en) | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
| CH636601A5 (en) * | 1978-08-30 | 1983-06-15 | Ciba Geigy Ag | Diphenyl ether oxime ethers and diphenyl ether oxime esters with a selective herbicidal action |
| AT365410B (de) * | 1978-08-31 | 1982-01-11 | Ciba Geigy Ag | Mittel zum schutz von kulturpflanzen vor aggressi-ven herbiziden |
| US4416686A (en) * | 1978-08-31 | 1983-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | 3,4-Dichlorophenylacetonitrile-N-tert.butylcarbamoyloxy ether for the protection of crops against injury by herbicides |
| US4347372A (en) * | 1978-09-01 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | Benzoxazolyl-glyoxylonitrile-2-oxime ether derivatives |
| JPS59216141A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-06 | Daicel Chem Ind Ltd | 感光性積層体 |
| US4590145A (en) * | 1985-06-28 | 1986-05-20 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters |
| JPS62184056A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH0755925B2 (ja) * | 1986-02-28 | 1995-06-14 | 旭化成工業株式会社 | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 |
| JP2505746B2 (ja) * | 1986-05-20 | 1996-06-12 | 旭化成工業株式会社 | 感光性組成物 |
| JPS62286961A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新規なオキシムエステル化合物及びその製造方法 |
| JPS6443562A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-15 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive composition |
| JP2640470B2 (ja) * | 1987-08-19 | 1997-08-13 | 旭化成工業株式会社 | 新しい感光性組成物 |
| US5019482A (en) * | 1987-08-12 | 1991-05-28 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition |
| US4934791A (en) | 1987-12-09 | 1990-06-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color filter |
| JPH05323608A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH06201859A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Casio Comput Co Ltd | フィルム液晶表示装置及びフィルム液晶表示機器 |
| KR0147207B1 (ko) * | 1993-07-28 | 1998-08-17 | 단노 다께시 | 광개시제 조성물 및 그를 사용한 감광성 물질 |
| JP3425311B2 (ja) * | 1996-03-04 | 2003-07-14 | 株式会社東芝 | ネガ型感光性ポリマー樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品 |
| JPH10171119A (ja) | 1996-12-11 | 1998-06-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた色フィルタの製造方法 |
| MY121423A (en) * | 1998-06-26 | 2006-01-28 | Ciba Sc Holding Ag | Photopolymerizable thermosetting resin compositions |
| NL1016815C2 (nl) * | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
-
1999
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-
2000
- 2000-10-02 BE BE2000/0621A patent/BE1014009A5/fr not_active IP Right Cessation
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018084076A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム |
| WO2018146958A1 (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー |
| EP4312066A2 (en) | 2017-09-07 | 2024-01-31 | FUJIFILM Corporation | One-way mirror film for displaying projected images, laminated glass for displaying projected images, and image display system |
| WO2019050019A1 (ja) | 2017-09-07 | 2019-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2019163969A1 (ja) | 2018-02-23 | 2019-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム |
| WO2020080355A1 (ja) | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2020122023A1 (ja) | 2018-12-10 | 2020-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2020179787A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム |
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