JP7470780B2 - 組成物、膜及び光センサ - Google Patents

組成物、膜及び光センサ Download PDF

Info

Publication number
JP7470780B2
JP7470780B2 JP2022511643A JP2022511643A JP7470780B2 JP 7470780 B2 JP7470780 B2 JP 7470780B2 JP 2022511643 A JP2022511643 A JP 2022511643A JP 2022511643 A JP2022511643 A JP 2022511643A JP 7470780 B2 JP7470780 B2 JP 7470780B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
structural unit
resin
formula
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022511643A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021199748A1 (ja
Inventor
恭平 荒山
峻輔 北島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of JPWO2021199748A1 publication Critical patent/JPWO2021199748A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7470780B2 publication Critical patent/JP7470780B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
    • C08F2/16—Aqueous medium
    • C08F2/20—Aqueous medium with the aid of macromolecular dispersing agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/061—Polyesters; Polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/062—Polyethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G63/685—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen
    • C08G63/6852—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen derived from hydroxy carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/91—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G63/912—Polymers modified by chemical after-treatment derived from hydroxycarboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/02—Homopolymers or copolymers of acids; Metal or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/66—Additives characterised by particle size
    • C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/66—Additives characterised by particle size
    • C09D7/68—Particle size between 100-1000 nm
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2217—Oxides; Hydroxides of metals of magnesium
    • C08K2003/222—Magnesia, i.e. magnesium oxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/30—Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
    • C08K2003/3009—Sulfides
    • C08K2003/3036—Sulfides of zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/30—Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
    • C08K2003/3045—Sulfates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/002—Physical properties
    • C08K2201/003—Additives being defined by their diameter
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/011—Nanostructured additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/24—Acids; Salts thereof
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

本発明は、組成物、膜、及び光センサに関する。
酸化チタンは屈折率が高い粒子である。このような屈折率の高い粒子を光散乱膜などに用いる試みが検討されている。
特許文献１には、互いに屈折率の異なる複数のポリマーを含み、かつ少なくとも一部の領域で共連続相構造を有する光散乱層を含む光散乱シートであって、入射光を等方的に透過して散乱し、かつ散乱光強度の極大値を示す散乱角が２～４０°であるとともに、全光線透過率が７０～１００％である光散乱シートに関する発明が記載されている。共連続相構造を形成するいずれかの連続相は、高屈折微粒子を含んでもよいとされている。
また特許文献２には、着色剤と、樹脂と、を含有する分散組成物であって、上記樹脂が、高分子鎖を有する構造単位Ａと、酸性基を有する構造単位Ｂと、を含有し、上記高分子鎖は２種以上の構造単位ＧＦを含有し、上記構造単位ＧＦは、オキシアルキレン基からなる構造単位、及び、オキシアルキレンカルボニル基からなる構造単位からなる群から選択される、分散組成物が記載されている。
特開２０１６－１６１８５９号公報 国際公開第２０１７／１５０１１２号
近年では、可視光を適度に遮光し、かつ、光散乱性の高い膜についての需要が増えている。
また、上記膜と支持体との密着性についても更なる向上の余地が有った。
本発明の目的は、密着性及び光散乱性に優れた膜を形成できる組成物、上記組成物からなる膜又は密着性及び光散乱性に優れた膜、並びに、上記膜を含む光センサを提供することである。
本発明の代表的な態様の例を以下に示す。
＜１＞ 屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子と、樹脂及び重合性モノマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分と、溶剤と、を含む組成物であって、
上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
上記樹脂の少なくとも１種が、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、下記条件１及び下記条件２の少なくとも一方を満たす樹脂Ａであり、
上記構成単位ＧＦは、下記式（１－１）で表される構成単位、及び、下記式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される構成単位である
組成物；
条件１：上記構成単位Ａが２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む；
条件２：上記樹脂Ａが、構成単位ＧＦの構造が異なる、２種以上の上記構成単位Ａを含む；
式（１－１）又は式（１－２）中、ＲＡは２価の有機基を表し、ＲＢは２価の有機基を表す。
＜２＞ 上記組成物を加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、上記膜中には上記白色粒子を含む第１の相と、上記第１の相よりも上記白色粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成される、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ 上記組成物を加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、上記膜の波長４００～１，０００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ 上記樹脂の少なくとも１種が、上記条件１を満たす、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜５＞ 上記構成単位Ａが、式（１）で表される構成単位Ｌ１と、式（２）で表される構成単位、及び、式（３）で表される構成単位からなる群から選択される構成単位Ｌ２と、を含有する、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
式（１）中のＲ１はアルキレン基を表し、ｎは０又は１を表す。式（２）中のＲ２はＲ１とは異なるアルキレン基を表し、ｍは０又は１を表す。式（３）中、Ｒ３はそれぞれ独立に、アルキル基を表す。
＜６＞ 上記構成単位Ａが式（Ａ）で表される構成単位であり、上記構成単位Ｂが式（Ｂ）で表される構成単位である、＜５＞に記載の組成物；
式（Ａ）中、Ｒ４は水素原子又はアルキル基を表し、ＸＡは単結合又は２価の連結基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１以上の整数を表し、ＺＡは水素原子又は１価の有機基を表し、ＬＡ１及びＬＡ２は、それぞれ上記構成単位Ｌ１及び上記構成単位Ｌ２を表す；
式（Ｂ）中、Ｒ４は水素原子又はアルキル基を表し、ＸＢは単結合又は２価の連結基を表し、ＺＢは、水素原子、又は、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基、及び、チオール基からなる群から選択される酸性基若しくはその誘導体基を表し、ＺＢが水素原子の場合は、ＸＢは単結合を表す。
＜７＞ 上記式（Ａ）におけるｐ及びｑの和が、５より大きく、１２０未満である、＜６＞に記載の組成物。
＜８＞ 上記構成単位Ｌ２に対する上記構成単位Ｌ１の質量比が、５０／５０より大きく、９５／５未満である、＜５＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜９＞ 上記構成単位Ｌ２として式（２）で表される構成単位を含み、上記式（１）におけるＲ１、及び、上記式（２）におけるＲ２が、それぞれ、エチレン基、プロピレン基、１－エチルエチレン基、トリメチレン基、１－メチルトリメチレン基、１－ブチルトリメチレン基、テトラメチレン基、２－メチルテトラメチレン基、１－トリデシルテトラメチレン基、ペンタメチレン基、１－メチルペンタメチレン基、３－メチルペンタメチレン基、１－エチルペンタメチレン基、又は、１－デシルペンタメチレン基である、＜５＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１０＞ 上記樹脂Ａの酸価が２０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇである、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１１＞ 上記膜形成成分が、上記樹脂Ａとは異なる樹脂である樹脂Ｂを更に含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１２＞ 上記樹脂Ａと、上記樹脂Ｂのうち、一方が上記白色粒子の分散剤であり、他方がバインダーである、＜１１＞に記載の組成物。
＜１３＞ 上記樹脂Ａと、上記樹脂ＢとのＳＰ値の差が、０．２０ＭＰａ０．５以上である、＜１１＞又は＜１２＞に記載の組成物。
＜１４＞ 上記樹脂Ｂが星型高分子である、＜１１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１５＞ 上記樹脂Ｂの重量平均分子量が、５，０００以上である、＜１１＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１６＞ １００質量部の上記樹脂Ａに対して、上記樹脂Ｂを１０～２５０質量部含む、＜１１＞～＜１５＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１７＞ ＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の組成物からなる膜。
＜１８＞ 屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子と、樹脂及び重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分又は上記膜形成成分の硬化物とを含む膜であって、
上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
上記樹脂の少なくとも１種が、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、下記条件１及び下記条件２の少なくとも一方を満たす樹脂Ａであり、
上記構成単位ＧＦは、下記式（１－１）で表される構成単位、及び、下記式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される
膜；
条件１：上記構成単位Ａが２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む；
条件２：上記樹脂Ａが、構成単位ＧＦの構造が異なる、２種以上の上記構成単位Ａを含む；
式（１－１）又は式（１－２）中、ＲＡは２価の有機基を表し、ＲＢは２価の有機基を表す。
＜１９＞ ＜１７＞又は＜１８＞に記載の膜を含む光センサ。
本発明によれば、組成物の保存安定性に優れ、密着性及び光散乱性に優れた膜を形成できる組成物、上記組成物からなる膜又は密着性及び光散乱性に優れた膜、並びに、上記膜を含む光センサを提供することができる。
本発明の光センサの一実施形態を示す概略図である。 本発明の光センサの他の実施形態を示す概略図である。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）を包含する。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルを表し、「（メタ）アリル」は、アリル及びメタリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－ＨとＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００とＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とを連結したカラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いることによって求めることができる。
本明細書において、屈折率の値は、特に断りがない限り、２３℃での波長５８９ｎｍの光に対する屈折率の値である。
（組成物）
本発明の組成物は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子と、樹脂及び重合性モノマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分と、溶剤と、を含む組成物であって、上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、上記樹脂の少なくとも１種が、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、下記条件１及び下記条件２の少なくとも一方を満たす樹脂Ａであり、上記構成単位ＧＦは、下記式（１－１）で表される構成単位、及び、下記式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される構成単位である。
条件１：上記構成単位Ａが２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む；
条件２：上記樹脂Ａが、構成単位ＧＦの構造が異なる、２種以上の上記構成単位Ａを含む；
式（１－１）又は式（１－２）中、ＲＡは２価の有機基を表し、ＲＢは２価の有機基を表す。
本発明の組成物は、膜形成成分として、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、上記樹脂の少なくとも一種が、特定構造の樹脂Ａである。
そのため、上記膜中には上記白色粒子を含む第１の相と、第１の相よりも上記白色粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されていると推測される。
この相分離構造により、膜中で白色粒子の存在位置に偏りができ、膜中に屈折率の大きい領域である第１の相と屈折率の小さい領域である第２の相とが混在すると考えられる。この２つの相の間で光の散乱が生じるため、本発明の組成物により得られた膜は光散乱性に優れると推測される。
また、樹脂Ａは構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、上記条件１又は条件２を満たす。
樹脂Ａが構成単位ＧＦを含むことにより、長波長側（例えば、波長９４０ｎｍ以上など）の光散乱性に優れた膜を得ることができると考えられる。これは、上記構成単位Ａを含むことにより、樹脂Ａの結晶性及び相分離性が向上し、樹脂Ａが第１の相に含まれる場合であっても、第２の相に含まれる場合であっても、上述の第１の相の大きさがある程度大きくなるためであると推測される。
また、樹脂Ａが上述の条件１及び条件２の少なくとも一方を満たすことにより、短波長側（例えば、波長４５０ｎｍ以下など）の光散乱性に優れた膜を得ることができると考えられる。これは、条件１及び条件２の少なくとも一方を満たすことにより、樹脂Ａの結晶性及び相分離性が大きくなりすぎず、樹脂Ａが第１の相に含まれる場合であっても、第２の相に含まれる場合であっても、上述の第１の相の大きさがある程度小さくなるためであると推測される。
このように、本発明によれば、第１の相の大きさを適切な大きさとすることができるため、光散乱性に優れると推測される。また、特に幅広い波長（例えば、４００ｎｍ～１，０００ｎｍ）において、光散乱性に優れると考えられる。
また、樹脂Ａは酸性基を有する構成単位Ｂを含む。これにより、膜の現像性が向上し、現像後に得られた膜の支持体との密着性が向上すると推測される。
また、膜の光散乱性を高めるには、粒径が大きく、かつ、屈折率が高い粒子を用いる方法が知られている。しかしながら、屈折率の高い粒子（以下、高屈折粒子ともいう）は、一般的に比重が大きい傾向がある。このような比重の大きい粒子を、溶剤を含む組成物中に含有させて用いた場合、組成物の保管時に粒子が沈降することがある。このため、従来知られている組成物では、保存安定性と、得られる膜の光散乱性とを高い水準で両立させることは困難である場合がある。
しかし、本発明の組成物は、保存安定性が良好であると考えられる。
本発明の組成物は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子を含む。ここで、屈折率が２．０以上の白色粒子は一般的に比重の大きいものが多いが、本発明の組成物は、屈折率が２．０以上の白色粒子として、平均一次粒子径が２００ｎｍ以下と、比較的小さい粒子径のものを用いているため、溶剤を含む組成物中での上記粒子の沈降を抑制でき、その結果、組成物の保存安定性が良好となると推測される。
また、樹脂Ａが上述の条件１及び条件２の少なくとも一方を満たすことにより、組成物からなる膜を形成後に膜の状態で保管（例えば、７２時間の保管など）を行った後でも、膜中における異物の発生が抑制されやすいと考えられる。本発明において、上記のように保管後の膜中に異物の発生が抑制されることを、「引き置き異物の発生が抑制される」ともいう。これは、樹脂Ａが上述の条件１及び条件２の少なくとも一方を満たすことにより、樹脂Ａ自体の結晶性が低下し、膜中で結晶化することが抑制される等の理由によるものであると推測される。
ここで、特許文献１に記載された発明である光散乱シートは、全光線透過率が７０～１００％であるとされていることから、可視光を適度に遮光するような部材ではなく、むしろ、可視光透過性の高いものである。
また、特許文献２に記載された発明においては、相分離構造を形成することにより光散乱性を向上させるという技術思想については記載されていない。
以下、本発明の組成物の特性、及び、組成物に含まれる各成分の詳細について説明する。
＜相分離構造＞
本発明の組成物は、加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、上記膜中には上記粒子を含む第１の相と、上記第１の相よりも上記粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されることが好ましい。
膜中にこのような相分離構造が形成されることにより、光散乱性が向上し、また、散乱光の角度依存性を低減させることもできる。
第１の相及び第２の相の母材は、膜形成成分又は膜形成成分由来の硬化物である。
また、上記粒子の単なる凝集物は粒子の一形態であって、上記粒子の単なる凝集物そのものは第１の相ではない。膜形成成分又は膜形成成分由来の硬化物中に、上記粒子が存在しているものが上記第１の相である。また、第２の相は、第１の相よりも上記粒子の含有量が少ないものであればよく、上記粒子を実質的に含んでいなくてもよい。より優れた光散乱性が得られやすいという理由から第２の相は、上記粒子を実質的に含んでいないことが好ましい。
膜中に第１の相と、第２の相との相分離構造が形成されていることは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は光学顕微鏡を用いて観測することができる。例えば、組成物をガラス基板などの支持体上に塗布し、例えば２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した後、得られた膜の厚み方向の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は光学顕微鏡を用いて観察することで膜中に第１の相と、第２の相との相分離構造が形成されているかどうか調べることができる。
また、例えば組成物が膜形成成分として重合性化合物及び光重合開始剤を含む場合、上記加熱の前に重合性化合物の硬化のための露光を行ってもよい。
上記相分離構造は、例えば、組成物に含まれる膜形成成分として用いられる樹脂（例えば、樹脂Ａ、樹脂Ａ以外の樹脂）、重合性モノマーの種類などを適宜変更することにより形成することができる。
一態様として、膜形成成分として第１の樹脂と、第１の樹脂との相溶性の低い第２の樹脂とを含むものを用いる方法が挙げられる。このような膜形成成分を用いた場合には、膜形成時に第１の樹脂を主成分として含む相と、第２の樹脂を主成分として含む相との相分離構造を形成することができる。例えば、第１の樹脂及び第２の樹脂の一方が粒子の分散剤としての樹脂で、他方がバインダー樹脂であるものを用いた場合には、分散剤としての樹脂を主成分として含む相には粒子を多く偏在させることができる。
また、別の態様として、膜形成成分として第１の樹脂と、第１の樹脂との相溶性の低い重合性モノマーを含むものを用いる方法が挙げられる。このような膜形成成分を用いた場合には、膜形成時に第１の樹脂を主成分として含む相と、重合性モノマー由来の硬化物を主成分として含む相との相分離構造を形成することができる。
また、別の態様としては、膜形成成分に用いられる樹脂や重合性モノマーの種類などを適宜変更し、製膜時に膜形成成分をスピノーダル分解させて、第１の相と、第２の相との相分離構造を形成する方法が挙げられる。
上記膜における相分離構造は、膜中で相界面が等方的に存在することが好ましく、例えば海島構造又は共連続相構造であることがより好ましい。これらの相分離構造が形成されていることにより、第１の相と第２の相との間で光を効果的に散乱することができ、特に優れた光散乱性が得られやすい。なお、海島構造とは、連続領域である海領域と、非連続領域である島領域により形成される構造のことである。海島構造においては、第２の相が海で、第１の相が島を形成していてもよく、第１の相が海で、第２の相が島を形成していてもよい。第一の相が海で、第二の相が島を形成している場合は、透過率の観点で好ましい。第１の相が島で、第２の相が海を形成して場合は、角度依存性の観点で好ましい。また、共連続相構造とは、第１の相と第２の相のそれぞれが相互貫入的に連続相構造を形成しているネットワーク構造のことである。
＜透過率の最大値＞
本発明の組成物を加熱して厚さ４μｍの膜を形成した際において、上記膜の４００～１，０００ｎｍの光の透過率の最大値は、８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記の透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。
また、可視光の分散性の観点からは、上記膜の波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値は、光散乱の波長依存性低減の観点から８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記の透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。
上記相分離構造の確認のための加熱の条件、又は、上記透過率の最大値を測定するための加熱条件は、組成物に含まれる成分に応じて適宜設定すればよいが、例えば、２００℃５分間の加熱が好ましく挙げられる。
＜相間屈折率差＞
上記膜中の相間屈折率差の平均値は、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましく、０．３以上であることがさらに好ましく、０．４以上であることが特に好ましい。
＜ヘイズ＞
上記膜のＪＩＳ Ｋ ７１３６に基づくヘイズは、３０～１００％であることが好ましい。上限は９９％以下であることが好ましく、９５％以下であることがより好ましく、９０％以下であることが更に好ましい。下限は３５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることが更に好ましい。
＜分光特性の調整方法＞
このような分光特性を有する膜を形成するには、相分離構造の形状、粒子の屈折率、粒子の膜中の存在量や偏在具合などを適宜調整することで達成することができる。この際、光分散性の観点からは、粒子の屈折率、粒子の存在量、粒子の偏在具合は高いほどよい場合がある。
＜固形分濃度＞
本発明の組成物の固形分濃度は、より優れた保存安定性が得られやすいという理由から５～８０質量％であることが好ましい。上限は、７５質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましい。
以下、本発明の組成物に用いられる各成分について説明する。
＜粒子Ｐ１（屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子）＞
本発明の組成物は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子（以下、粒子Ｐ１ともいう）を含む。
粒子Ｐ１の平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であり、組成物の保存安定性の観点から１００ｍｎ以下であることが好ましい。また、粒子Ｐ１の平均一次粒子径は、組成物の保存安定性及び得られる膜の光散乱性の観点から５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましく、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより一層好ましく、４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが特に好ましい。
なお、本明細書において、粒子の平均一次粒子径は以下の方法で測定した値である。すなわち、粒子の一次粒子径は、粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分（一次粒子）を観測することで求めることができる。粒子の粒度分布については、一次粒子を、透過型電子顕微鏡を用いて透過型電子顕微鏡写真を撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で粒度分布を測定して求めることができる。本明細書において、粒子の平均一次粒子径は、粒度分布から算出された個数基準の算術平均径を平均一次粒子径とした。本明細書では、透過型電子顕微鏡として（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ－７０００）を用い、画像処理装置として（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いる。
粒子Ｐ１の屈折率は、２．０以上であり、２．２以上であることが好ましく、２．４以上であることが更に好ましい。粒子Ｐ１の屈折率の上限は特に限定はないが５以下とすることができ、４以下とすることもできる。
なお、本明細書において、粒子の屈折率は以下の方法で測定した値である。まず、粒子と、屈折率が既知である樹脂（分散剤）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとを用いて分散液を作製する。その後、作製した分散液と屈折率が既知の樹脂とを混合し、塗布液の全固形分中における粒子の濃度が１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％の塗布液を作製する。これらの塗布液をシリコンウエハ上に３００ｎｍの厚さで製膜した後、得られる膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００、（株）ＳＣＲＥＥＮホールディングス製）を用いて測定する。その後、粒子の濃度に対応する屈折率をグラフ上にプロットし、粒子の屈折率を導出する。
粒子Ｐ１の比重は、１～７ｇ／ｃｍ３であることが好ましい。上限は６ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、５ｇ／ｃｍ３以下であることがより好ましい。比重の下限は特に限定はないが、１．５ｇ／ｃｍ３以上とすることができ、２ｇ／ｃｍ３以上とすることもできる。
なお、本明細書において、粒子の比重は、以下の方法で測定した値である。まず、１００ｍＬメスフラスコ中に５０ｇの粒子を投入する。続いて別の１００ｍＬメスシリンダーを用いて水を１００ｍＬ量り取る。その後、まず粒子が浸る程度、量り取った水をメスフラスコに入れ、続いて、メスフラスコに超音波を加えて、粒子と水をなじませた。その後、メスフラスコの標線に到達するまで追加で水を入れ、５０ｇ／（メスフラスコに残った水の体積）＝比重として算出する。
粒子Ｐ１は、白色の粒子である。また、粒子Ｐ１は無機粒子であることが好ましい。無機粒子の種類としては、酸化チタン粒子、チタン酸ストロンチウム粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化亜鉛粒子、酸化マグネシウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、硫酸バリウム粒子、硫化亜鉛粒子などが挙げられる。粒子Ｐ１として用いられる無機粒子は、チタン原子を有する粒子であることが好ましく、酸化チタン粒子であることがより好ましい。
酸化チタン粒子は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）の含有量（純度）が７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、８５質量％以上であることが更に好ましい。酸化チタン粒子は、ＴｉｎＯ２ｎ－１（ｎは２～４の数を表す。）で表される低次酸化チタン、酸窒化チタン等の含有量が３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることが更に好ましい。
酸化チタンは、ルチル型酸化チタンであってもよく、アナターゼ型酸化チタンでもよい。着色性、分散液や組成物の経時安定性の観点から、ルチル型酸化チタンが好ましい。特にルチル型酸化チタンは加熱しても、色差の変化が少なく、良好な着色性を有している。また、酸化チタンのルチル化率は、９５％以上が好ましく、９９％以上がより好ましい。
ルチル型酸化チタンとしては、公知のものを使用することができる。ルチル型酸化チタンの製造方法には、硫酸法と塩素法の２種類あり、いずれの製造方法により製造された酸化チタンも好適に使用することができる。ここで、硫酸法は、イルメナイト鉱石やチタンスラグを原料とし、これを濃硫酸に溶解して鉄分を硫酸鉄として分離し、分離した溶液を加水分解して水酸化物の沈殿物を得て、これを高温で焼成してルチル型酸化チタンを取り出す製造方法をいう。また、塩素法は、合成ルチルや天然ルチルを原料とし、これを約１，０００℃の高温で塩素ガスとカーボンを反応させて四塩化チタンを合成し、これを酸化してルチル型酸化チタンを取り出す製造方法をいう。ルチル型酸化チタンは、塩素法で得られるルチル型酸化チタンが好ましい。
酸化チタン粒子の比表面積は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ，Ｅｍｍｅｔｔ，Ｔｅｌｌｅｒ）法にて測定した値が１０～４００ｍ２／ｇであることが好ましく、１０～２００ｍ２／ｇであることがより好ましく、１０～１５０ｍ２／ｇであることが更に好ましく、１０～４０ｍ２／ｇであることが特に好ましく、１０～２０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。酸化チタンのｐＨは、６～８が好ましい。酸化チタンの吸油量は、１０～６０（ｇ／１００ｇ）であることが好ましく、１０～４０（ｇ／１００ｇ）であることがより好ましい。
酸化チタン粒子は、Ｆｅ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５及びＮａ２Ｏの合計量が、０．１質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以下であることがより好ましく、０．０２質量％以下であることがさらに好ましく、これらを実質的に含まないことが特に好ましい。
酸化チタン粒子の形状には特に制限はない。例えば、等方性形状（例えば、球状、多面体状等）、異方性形状（例えば、針状、棒状、板状等）、不定形状等の形状が挙げられる。酸化チタン粒子の硬度（モース硬度）は、５～８であることが好ましく、７～７．５であることがより好ましい。
酸化チタン粒子などの無機粒子は、有機化合物などの表面処理剤により表面処理されていてもよい。酸化チタンの表面処理に用いる表面処理剤としては、ポリオール、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、シリカ（酸化ケイ素）、含水シリカ、アルカノールアミン、ステアリン酸、オルガノシロキサン、酸化ジルコニウム、ハイドロゲンジメチコン、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。中でもシランカップリング剤が好ましい。表面処理は、１種類単独の表面処理剤を用いて実施してもよく、２種類以上の表面処理剤を組み合わせて実施してもよい。
酸化チタン粒子などの無機粒子は、塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物により被覆されていることも好ましい。塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物として、マグネシウム、ジルコニウム、セリウム、ストロンチウム、アンチモン、バリウム又はカルシウム等を含有する金属化合物が挙げられる。
また、酸化チタン粒子としては「酸化チタン 物性と応用技術 清野学著 １３～４５ページ １９９１年６月２５日発行、技報堂出版発行」に記載の酸化チタン粒子も好適に使用できる。
粒子Ｐ１は、市販されているものを好ましく用いることができる。市販品はそのまま使用してもよく、分級処理したものを用いてもよい。酸化チタン粒子の市販品としては、例えば、石原産業（株）製の商品名タイペークＲ－５５０、Ｒ－５８０、Ｒ－６３０、Ｒ－６７０、Ｒ－６８０、Ｒ－７８０、Ｒ－７８０－２、Ｒ－８２０、Ｒ－８３０、Ｒ－８５０、Ｒ－８５５、Ｒ－９３０、Ｒ－９８０、ＣＲ－５０、ＣＲ－５０－２、ＣＲ－５７、ＣＲ－５８、ＣＲ－５８－２、ＣＲ－６０、ＣＲ－６０－２、ＣＲ－６３、ＣＲ－６７、ＣＲ－Ｓｕｐｅｒ７０、ＣＲ－８０、ＣＲ－８５、ＣＲ－９０、ＣＲ－９０－２、ＣＲ－９３、ＣＲ－９５、ＣＲ－９５３、ＣＲ－９７、ＰＦ－７３６、ＰＦ－７３７、ＰＦ－７４２、ＰＦ－６９０、ＰＦ－６９１、ＰＦ－７１１、ＰＦ－７３９、ＰＦ－７４０、ＰＣ－３、Ｓ－３０５、ＣＲ－ＥＬ、ＰＴ－３０１、ＰＴ－４０１Ｍ、ＰＴ－４０１Ｌ、ＰＴ－５０１Ａ、ＰＴ－５０１Ｒ、ＵＴ７７１、ＴＴＯ－５１、ＴＴＯ－８０Ａ、ＴＴＯ－Ｓ－２、Ａ－２２０、ＭＰＴ－１３６、ＭＰＴ－１４０、ＭＰＴ－１４１；
堺化学工業（株）製の商品名Ｒ－３Ｌ、Ｒ－５Ｎ、Ｒ－７Ｅ、Ｒ－１１Ｐ、Ｒ－２１、Ｒ－２５、Ｒ－３２、Ｒ－４２、Ｒ－４４、Ｒ－４５Ｍ、Ｒ－６２Ｎ、Ｒ－３１０、Ｒ－６５０、ＳＲ－１、Ｄ－９１８、ＧＴＲ－１００、ＦＴＲ－７００、ＴＣＲ－５２、Ａ－１１０、Ａ－１９０、ＳＡ－１、ＳＡ－１Ｌ、ＳＴＲ－１００Ａ－ＬＰ、ＳＴＲ－１００Ｃ－ＬＰ、ＴＣＡ－１２３Ｅ；
テイカ（株）製の商品名ＪＲ、ＪＲＮＣ、ＪＲ－３０１、ＪＲ－４０３、ＪＲ－４０５、ＪＲ－６００Ａ、ＪＲ－６００Ｅ、ＪＲ－６０３、ＪＲ－６０５、ＪＲ－７０１、ＪＲ－８００、ＪＲ－８０５、ＪＲ－８０６、ＪＲ－１０００、ＭＴ－０１、ＭＴ－０５、ＭＴ－１０ＥＸ、ＭＴ－１００Ｓ、ＭＴ－１００ＴＶ、ＭＴ－１００Ｚ、ＭＴ－１００ＡＱ、ＭＴ－１００ＷＰ、ＭＴ－１００ＳＡ、ＭＴ－１００ＨＤ、ＭＴ－１５０ＥＸ、ＭＴ－１５０Ｗ、ＭＴ－３００ＨＤ、ＭＴ－５００Ｂ、ＭＴ－５００ＳＡ、ＭＴ－５００ＨＤ、ＭＴ－６００Ｂ、ＭＴ－６００ＳＡ、ＭＴ－７００Ｂ、ＭＴ－７００ＢＳ、ＭＴ－７００ＨＤ、ＭＴ－７００Ｚ；
チタン工業（株）製の商品名ＫＲ－３１０、ＫＲ－３８０、ＫＲ－３８０Ｎ、ＳＴ－４８５ＳＡ１５；
富士チタン工業（株）製の商品名ＴＲ－６００、ＴＲ－７００、ＴＲ－７５０、ＴＲ－８４０、ＴＲ－９００；
白石カルシウム（株）製の商品名Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ１５００等が挙げられる。また、特開２０１５－０６７７９４号公報の段落番号００２５～００２７に記載の酸化チタン粒子を用いることもできる。
チタン酸ストロンチウム粒子の市販品としては、ＳＷ－１００（チタン工業（株）製）などが挙げられる。硫酸バリウム粒子の市販品としては、ＢＦ－１Ｌ（堺化学工業（株）製）などが挙げられる。酸化亜鉛粒子の市販品としては、Ｚｉｎｃｏｘ Ｓｕｐｅｒ Ｆ－１（ハクスイテック（株）製）などが挙げられる。酸化ジルコニウム粒子の市販品としては、Ｚ－ＮＸ（太陽鉱工（株）製）、Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｃｐ（（株）アイテック製）などが挙げられる。
粒子Ｐ１の含有量は、組成物の全固形分中５～９０質量％であることが好ましい。上限は、８５質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。下限は、６質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。
本発明の組成物は、粒子Ｐ１を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。粒子Ｐ１を１種類のみ含む場合はより優れた保存安定性が得られやすい。また、粒子Ｐ１を２種以上含む場合は、光散乱の角度依存性をより低減することができる。粒子Ｐ１を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜粒子Ｐ２＞
本発明の組成物は、屈折率が２．０未満で、平均一次粒子径が５００ｎｍ以上で、粒子Ｐ１よりも比重の小さい粒子（以下、粒子Ｐ２ともいう）を含有することができる。
本発明の組成物がＰ１のほかにＰ２を含む場合は、粒子Ｐ１と粒子Ｐ２との間で散乱が生じて、膜に照射された光を効率よく散乱して透過させることができる。このため、このような組成物を用いることでより光散乱性に優れた膜を形成することができる。
粒子Ｐ２の平均一次粒子径は、５００ｎｍ以上であり、５００ｎｍ以上６，０００ｎｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以上５，０００ｎｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以上３，０００ｎｍ未満であることが更に好ましく、５００ｎｍ以上２，５００ｎｍ以下であることがより一層好ましく、５００ｎｍ以上２，０００ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、５００ｎｍ以上１，５００ｎｍ以下であることが特に好ましく、５００ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下であることが最も好ましい。
粒子Ｐ２の屈折率は、２．０未満であり、１．９以下であることが好ましく、１．８以下であることが更に好ましく、１．７以下であることが特に好ましい。粒子Ｐ２の屈折率の下限は特に限定はないが１．０以上とすることができ、１．１以上とすることもできる。
粒子Ｐ１の屈折率と粒子Ｐ２の屈折率の差は、光散乱性に優れた膜が得られやすいという理由から、０．５以上であることが好ましく、０．７以上であることがより好ましく、０．９以上であることが更に好ましい。なお、本発明の組成物が粒子Ｐ１を２種以上含む場合は、上記屈折率の差の算出にあたり、粒子Ｐ１の屈折率の値は、２種以上の粒子Ｐ１の屈折率の質量平均値を用いる。本発明の組成物が粒子Ｐ２を２種以上含む場合についても同様である。
粒子Ｐ２の比重は、２．５ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、２．４ｇ／ｃｍ３以下であることがより好ましく、２．２ｇ／ｃｍ３以下であることが更に好ましく、２．０ｇ／ｃｍ３以下であることが特に好ましい。粒子Ｐ２の比重の下限は特に限定はないが、０．５ｇ／ｃｍ３以上とすることができ、０．９ｇ／ｃｍ３以上とすることもできる。
粒子Ｐ２は、透明又は白色の粒子であることが好ましい。粒子Ｐ２としては、無機粒子及び樹脂粒子などが挙げられる。無機粒子の種類としては、シリカ粒子、中空酸化チタン粒子、中空ジルコニア粒子などが挙げられ、シリカ粒子であることが好ましい。無機粒子の市販品としては、富士シリシア化学（株）製のサイリシアシリーズ（例えば、サイリシア３１０Ｐなど）、（株）日本触媒製のシーホスターシリーズ（例えば、シーホスターＫＥ－Ｓ２５０）などが挙げられる。
樹脂粒子としては、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリエステル樹脂、メラニン樹脂、シリコーン樹脂などの合成樹脂からなる粒子、及び、キチン、キトサン、セルロース、架橋澱粉、架橋セルロース等の天然高分子からなる粒子などが挙げられる。なかでも、合成樹脂粒子は、粒子サイズを制御しやすいなどの利点があり、好ましく用いられる。
樹脂粒子の製造方法としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のような比較的に硬い樹脂の場合では、破砕法による微粒子化も可能であるが、乳化懸濁重合法により樹脂粒子を製造する方法が、粒子径制御の容易性、精度から好ましい。樹脂粒子の製造方法については、「超微粒子と材料」日本材料科学会編、裳華房、１９９３年発刊、「微粒子・粉体の作製と応用」川口春馬監修、シーエムシー出版、２００５年発刊等に詳細に記載されている。
樹脂粒子は市販品としても入手可能であり、例えば、ＭＸ－４０Ｔ、ＭＸ－８０Ｈ３ｗＴ、ＭＸ－１５０、ＭＸ－１８０ＴＡ、ＭＸ－３００、ＭＸ－５００、ＭＸ－１０００、ＭＸ－１５００Ｈ、ＭＲ－２ＨＧ、ＭＲ－７ＨＧ，ＭＲ－１０ＨＧ、ＭＲ－３ＧＳＮ、ＭＲ－５ＧＳＮ、ＭＲ－７Ｇ、ＭＲ－１０Ｇ、ＭＲ－５Ｃ、ＭＲ－７ＧＣ（以上、綜研化学（株）製、アクリル樹脂粒子）、ＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ、ＳＸ－５００Ｈ（以上、綜研化学（株）製、スチレン樹脂粒子）、ＭＢＸ－５、ＭＢＸ－８、ＭＢＸ－１２ＭＢＸ－１５、ＭＢＸ－２０、ＭＢ２０Ｘ－５、ＭＢ３０Ｘ－５、ＭＢ３０Ｘ－８、ＭＢ３０Ｘ－２０、ＳＢＸ－６、ＳＢＸ－８、ＳＢＸ－１２、ＳＢＸ－１７（以上、積水化成品工業（株）製、アクリル樹脂粒子）、ケミパールＷ１００、Ｗ２００、Ｗ３００、Ｗ３０８、Ｗ３１０、Ｗ４００、Ｗ４０１、Ｗ４０５、Ｗ４１０、Ｗ５００、ＷＦ６４０、Ｗ７００、Ｗ８００、Ｗ９００、Ｗ９５０、ＷＰ１００（以上、三井化学（株）製、ポリオレフィン樹脂粒子）、トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・テクノロジーズ社製、シリコーン樹脂粒子）、オプトビーズ２０００Ｍ（日産化学（株）製、メラニン樹脂粒子）などが挙げられる。
粒子Ｐ２は、中空粒子であることも好ましい。中空粒子とは、粒子表面より内部に粒子を構成する素材が存在しない空隙部分を持つ粒子のことを指す。空隙部分のサイズや形状、数は特に限定されない。中心部分に空隙部分を持つ外殻構造であってもよいし、粒子内部に微細な空隙部が複数分散した構造であってもよい。
中空粒子の空隙率は１～９０％であることが好ましい。空隙率の下限は５％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましい。空隙率の上限は８５％以下であることが好ましく、８０％以下であることがより好ましい。なお、中空粒子の空隙率とは、中空粒子の体積の総量に対する空隙が占める体積の割合を言う。中空粒子の空隙率は透過型電子顕微鏡を用いて中空粒子を観察して外径と空隙径を測長し、下記の式によって「体積の総量に対する空隙が占める体積の割合」を算出することで測ることが出来る。
式：｛（空隙径）３／（外径）３｝×１００％
より具体的には、透過型電子顕微鏡によって観察された中空粒子を任意に１００個選定し、これらの中空粒子についてそれぞれ外側と空隙の円相当径を測長して外径、空隙径とし、上記式によって空隙率を算出してその平均値を空隙率とする方法が挙げられる。また、粒子のシェルの材料（その屈折率）と中空状であることがわかっている場合には、粒子屈折率の測定から知ることも出来る。
中空粒子の形状は、球形であることが好ましいが、不定形等の球形以外の形状であってもよい。
中空粒子は、無機材料で構成された中空粒子（以下、中空無機粒子ともいう）であってもよく、樹脂材料で構成された中空粒子（以下、中空樹脂粒子ともいう）であってもよい。
中空樹脂粒子を構成する材料としては、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、メラニン樹脂などが挙げられ、（メタ）アクリル樹脂及びスチレン樹脂が好ましく、（メタ）アクリル樹脂がより好ましい。中空樹脂粒子の製造方法としては、例えば、樹脂粒子に発泡剤を含有させておき、後に発泡剤を発泡させる方法や、樹脂粒子中に揮発性物質を封入しておき、後に揮発性物質をガス化させて膨張させる方法や、樹脂粒子を溶融させ、これに空気等の気体を注入する方法や、重合性単量体と非重合性の溶剤を混合して重合し、溶剤を内包した樹脂粒子を得た後、溶剤を除去する方法（以下、溶剤除去法ともいう）等が挙げられる。
中空無機粒子としては、中空シリカ粒子であることが好ましい。すなわち、中空無機粒子は、中心部分に空隙部分を持つシリカ粒子であることが好ましい。中空シリカ粒子の具体例としては、特開２０１３－２３７５９３号公報、国際公開第２００７／０６０８８４号などに記載されている中空粒子が挙げられる。
粒子Ｐ２の含有量は、組成物の全固形分中１～９０質量％であることが好ましい。上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。下限は、２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。
本発明の組成物は、粒子Ｐ２を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。粒子Ｐ２を１種類のみ含む場合はより優れた保存安定性が得られやすい。また、粒子Ｐ２を２種以上含む場合は、光散乱の角度依存性をより低減することができる。粒子Ｐ２を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
組成物の全固形分中における粒子Ｐ１と粒子Ｐ２との合計の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、３５質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。
組成物における粒子Ｐ１と粒子Ｐ２との割合については、粒子Ｐ２の１００質量部に対して粒子Ｐ１が２０～５００質量部であることが好ましい。上限は、４５０質量部以下であることが好ましく、４００質量部以下であることがより好ましく、３００質量部以下であることが更に好ましい。下限は、２５質量部以上であることが好ましく、３０質量部以上であることがより好ましく、３５質量部以上であることが更に好ましい。
光散乱性の観点から、本発明の組成物における、白色粒子の含有量（例えば、上述の粒子Ｐ１及び、白色粒子である上述の粒子Ｐ２の合計量）は、組成物に含まれる全粒子の全質量に対して８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることが更に好ましく、９８質量％以上であることが特に好ましく、９９質量％以上であることが特に好ましい。上記含有量の上限は、特に限定されず、１００質量％であってもよい。
＜膜形成成分＞
本発明の組成物は、樹脂及び重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分を含む。本発明で用いられる膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含むものである。
また、本発明の組成物は、膜形成成分として、樹脂Ａを含む。
〔樹脂Ａ〕
樹脂Ａは、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、条件１及び条件２の少なくとも一方を満たす樹脂であり、上記構成単位ＧＦは、式（１－１）で表される構成単位、及び、式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される構成単位である。
条件１：上記構成単位Ａが２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む。
条件２：上記樹脂Ａが、構成単位ＧＦの構造が異なる、２種以上の上記構成単位Ａを含む。
樹脂Ａは、例えば、粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。
樹脂Ａは、バインダーの用途で配合されることが好ましい。
－条件１、条件２－
樹脂Ａは、条件１及び条件２の少なくとも一方を満たす。
条件１は、構成単位Ａが少なくとも２種の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含むことを意味する。構成単位Ａ中の構成単位ＧＦの種類は２種以上であればよいが、例えば、２～１０種などとすることができ、２～４種であることが好ましい。
条件２は、樹脂Ａがある構成単位Ａと別の構成単位Ａとを有し、上記ある構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦと、上記別の構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦとが異なることを意味する。
樹脂Ａは、条件１及び条件２の両方を満たしてもよい。すなわち、樹脂Ａがある構成単位Ａと別の構成単位Ａとを有し、上記ある構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦと、上記別の構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦとが異なり、かつ、上記ある構成単位Ａ及び上記別の構成単位Ａのうち少なくとも１つが構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含んでもよい。
樹脂Ａは、少なくとも条件１を満たすことが好ましい。
－構成単位Ａ－
構成単位Ａは、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む。
構成単位Ａの式量は特に限定されないが、１，０００～１００，０００であることが好ましく、１，５００～５０，０００であることがより好ましく、２，０００～５０，０００であることがより好ましく、２，５００～３０，０００であることがより好ましい。
樹脂Ａが条件１を満たす場合、構成単位Ａは２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む。
ここで、２種以上の構成単位ＧＦとは、２種以上の互いに構造が異なる構成単位を意図する。より具体的には、２種以上の構成単位ＧＦの態様としては、例えば、式（１－１）で表される構成単位と式（１－２）で表される構成単位との組み合わせのように異種の構成単位が構成単位Ａに含まれる場合が挙げられる。また、分子鎖中に、ＲＡの構造が異なる２種以上の式（１－１）で表される構成単位が含まれる態様も挙げられる。
樹脂Ａが条件１を満たす場合、構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦに該当する構成単位の総モル量に対する、構成単位ＧＦに該当する構成単位のうち最も多い構成単位のモル量の割合は、２０～９８％であることが好ましく、３０～９５％であることがより好ましく、４０～９０％であることが更に好ましい。
また、樹脂Ａが条件１を満たし、構成単位Ａが構成単位ＧＦに該当する構成単位を２種含む場合、構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦに該当する構成単位の総モル量に対する、構成単位ＧＦに該当する構成単位のうち多く含まれる方のモル量の割合は、５０～９０％であることが好ましく、６０～９０％であることがより好ましく、７０～８５％であることが更に好ましい。
樹脂Ａが条件２を満たす場合、樹脂Ａがある構成単位Ａと別の構成単位Ａとを有し、上記ある構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦと、上記別の構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦとが異なる。
樹脂Ａが条件２を満たす場合、樹脂Ａに含まれる構成単位ＧＦに該当する構成単位の総モル量に対する、構成単位ＧＦに該当する構成単位のうち最も多い構成単位のモル量の割合は、２０～９８％であることが好ましく、３０～９５％であることがより好ましく、４０～９０％であることが更に好ましい。
また、樹脂Ａが条件２を満たし、構成単位Ａが構成単位ＧＦに該当する構成単位を２種含む場合、構成単位Ａに含まれる構成単位ＧＦに該当する構成単位の総モル量に対する、構成単位ＧＦに該当する構成単位のうち多く含まれる方のモル量の割合は、５０～９０％であることが好ましく、６０～９０％であることがより好ましく、７０～８５％であることが更に好ましい。
＜＜高分子の結晶化温度＞＞
構成単位Ａは高分子構造を含むことが好ましい。
構成単位Ａに含まれる高分子構造としては、構成単位Ａの式量を上述の範囲内とする高分子であればよいが、例えば、分子量（分子量分布を有する場合は、重量平均分子量）が１，０００以上である分子鎖が挙げられる。上記分子量は、１，０００～１００，０００であることが好ましく、１，５００～５０，０００であることがより好ましく、２，０００～５０，０００であることがより好ましく、２，５００～３０，０００であることがより好ましい。
構成単位Ａに含まれる高分子構造は、構成単位Ａにおいて構成単位ＧＦ及び末端を構成する構成単位により形成される高分子構造であることが好ましい。また、上記高分子構造は、構成単位Ａに含まれる全ての構成単位ＧＦ及び末端を構成する構成単位を含んでなる高分子構造であることも好ましい。
上記末端を構成する構成単位としては、後述の式（ａ）中のＺＡに記載した構造と同様の構造が挙げられ、好ましい態様も同様である。
構成単位Ａに含まれる高分子構造としては、例えば、ランダム共重合体、交互共重合体、及び、ブロック共重合体からなる群から選択される重合体により形成される分子鎖が挙げられる。
また、組成物中における白色粒子の分散性をより向上させるために、高分子の分子鎖末端を公知の変性剤を用いて変性したものであってもよい。
上記高分子構造は結晶性を有していてもよい。高分子構造が結晶性を有している場合、高分子構造の結晶化温度としては特に制限されないが、低温環境下での析出物の発生がより抑制された組成物が得られる点で、２０．０℃未満が好ましく、１７℃以下がより好ましい。
結晶化温度の下限値としては特に制限されないが、－２０．０℃超が好ましく、－１１．０℃超がより好ましい。
なお、本明細書において、上記高分子構造の結晶化温度とは、示差走査熱量計（ＤＳＣ；Differential scanning calorimetry）を用いて、後述する実施例に記載した方法により測定された結晶化温度を意図する。すなわち、上記結晶化温度は後述する構成単位Ａの合成に用いられるマクロモノマーの結晶化温度として測定することができる。
また、上記樹脂を含有する組成物から上記高分子構造の結晶化温度を測定することもできる。組成物から上記結晶化温度を測定する場合は、塩酸、又は水酸化ナトリウム等を用いて、組成物中の樹脂を、強酸、又は強塩基条件で加水分解し、高分子構造を分離して高分子を得て、その後、上記と同様の方法で測定してもよい。
＜＜構成単位ＧＦ＞＞
構成単位ＧＦは、上述の式（１－１）又は式（１－２）で表される構成単位である。
構成単位Ａは、構成単位ＧＦを繰返し単位として含むことが好ましい。構成単位Ａが構成単位ＧＦを繰返し単位として含むとは、構成単位Ａが、構成単位ＧＦに含まれる構成単位の繰返しにより形成される分子鎖を含むことをいう。構成単位Ａが、構成単位ＧＦに該当する構成単位のみの繰返しにより形成される分子鎖を含む態様も好ましい態様の一つである。
構成単位Ａが構成単位ＧＦを繰返し単位として含む場合、構成単位ＧＦの繰返し数（構成単位Ａが複数の構成単位ＧＦを含む場合、その合計繰返し数）は、５～１００であることが好ましく、８～６０がより好ましく、１０～５０が更に好ましい。
式（１－１）中、ＲＡは炭化水素基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、又は、これらの結合により表される基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
上記炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲で置換基を有していてもよい。また、無置換の炭化水素基である態様も、本発明の好ましい態様の一つである。
上記飽和脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～２０のアルキレン基が好ましく、炭素数２～６のアルキレン基がより好ましく、炭素数４～５のアルキレン基が更に好ましい。
上記飽和脂肪族炭化水素基としては、エチレン基、プロピレン基、１－エチルエチレン基、トリメチレン基、１－メチルトリメチレン基、１－ブチルトリメチレン基、テトラメチレン基、２－メチルテトラメチレン基、１－トリデシルテトラメチレン基、ペンタメチレン基、１－メチルペンタメチレン基、３－メチルペンタメチレン基、１－エチルペンタメチレン基、又は、１－デシルペンタメチレン基等が挙げられ、テトラメチレン基又はペンタメチレン基が好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基又はナフチレン基がより好ましく、フェニレン基が更に好ましい。
式（１－２）中、ＲＢは炭化水素基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、又は、これらの結合により表される基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
上記炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲で置換基を有していてもよい。また、無置換の炭化水素基である態様も、本発明の好ましい態様の一つである。
上記飽和脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～２０のアルキレン基が好ましく、炭素数２～６のアルキレン基がより好ましい。
上記飽和脂肪族炭化水素基としては、エチレン基、プロピレン基、１－エチルエチレン基、トリメチレン基、１－メチルトリメチレン基、テトラメチレン基等が挙げられ、エチレン基又はプロピレン基が好ましい。
本発明において、プロピレン基とは、エチレン基の４つの水素原子のうち１つの水素原子がメチル基により置換された基をいう。
上記芳香族炭化水素基としては、炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基又はナフチレン基がより好ましく、フェニレン基が更に好ましい。
構成単位Ａは、式（１）で表される構成単位Ｌ１と、式（２）で表される構成単位、及び、式（３）で表される構成単位からなる群から選択される構成単位Ｌ２と、を含有することが好ましい。式（３）で表される構成単位は、式（１－１）で表される構成単位が２つ連結することにより形成された構成単位に該当する。
式（１）中のＲ１はアルキレン基を表し、ｎは０又は１を表す。式（２）中のＲ２はＲ１とは異なるアルキレン基を表し、ｍは０又は１を表す。式（３）中、Ｒ３はそれぞれ独立に、アルキル基を表す。
式（１）中、Ｒ１で表されるアルキレン基としては特に制限されないが、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が好ましく、組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基がより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基がさらに好ましい。
式（１）中、ｎは０又は１を表す。
式（２）中のＲ２はＲ１とは異なるアルキレン基を表す。ここで、異なるアルキレン基とは、炭素数が異なること、及び、枝分かれの状態が異なることの少なくとも一方を満たすことをいう。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては特に制限されないが、組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基がより好ましい。
式（２）中、ｍは０又は１を表す。
上述のＲ１及びＲ２の炭素数が異なる場合、Ｒ１で表されるアルキレン基の炭素数と、Ｒ２で表されるアルキレン基の炭素数とは、いずれがより大きくても構わないが、例えば、Ｒ１で表されるアルキレン基の炭素数が、Ｒ２で表されるアルキレン基の炭素数よりも大きい態様が挙げられる。この場合、Ｒ１で表されるアルキレン基の炭素数は２以上となる。
また、上述のＲ１及びＲ２の枝分かれの状態が異なる場合とは、Ｒ１で表されるアルキレン基が直鎖状であるのに対して、Ｒ２で表されるアルキレン基が分岐鎖状である、もしくはその逆、又は、Ｒ１及びＲ２で表されるアルキレン基が、それぞれ分岐鎖状であって、分岐の数及び態様（例えば、分岐の位置）の少なくとも一方が異なることをいう。
式（１）におけるｎと、式（２）におけるｍとは、等しいことがより好ましい。つまり、ｎが０の場合はｍも０であり、ｎが１の場合はｍが１であることがより好ましい。なかでも、ｎ及びｍが１であることがさらに好ましい。ｎとｍが等しいと、重合により上述の構成単位Ａとなりえる化合物の製造がより容易になる。なお、ここでいう重合により構成単位Ａとなりえる化合物とは、重合によって上記構成単位Ａとなりえる、樹脂Ａの製造原料である化合物（以下、「マクロモノマー」ともいう。）をさす。
構成単位Ｌ２は式（３）で表される構成単位であってもよい。式（３）中、Ｒ３はアルキル基を示し、構成単位中に２つあるＲ３はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。アルキル基としては特に制限されないが、例えば、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が好ましく、組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１～５のアルキル基がさらに好ましく、炭素数１～３のアルキル基が特に好ましい。なかでもメチル基が好ましい。
構成単位Ａの製造がより容易となりかつ、組成物の品質がより安定する点で、構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２は、環状化合物を開環重合して得られた構成単位であることが好ましい。
環状化合物としては、公知のものを用いることができる。このような環状化合物としては、加水分解によって開環し得るものが好ましく、例えば、ε－カプロラクタム等の環状アミド化合物；Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等の環状尿素誘導体、β－プロピオラクトン、β－ブチロラクトン、β－バレロラクトン、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、γ－カプリロラクトン、δ－バレロラクトン、β－メチル－δ－バレロラクトン、δ－ステアロラクトン、ε－カプロラクトン、γ－オクタノイックラクトン、２－メチル－ε－カプロラクトン、４－メチル－ε－カプロラクトン、ε－カプリロラクトン、ε－パルミトラクトン、α－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトン、及び、α－メチル－γ－ブチロラクトン等の環状エステル（ラクトン化合物）；グリコリド、ラクチド等の環状ジエステル；などが挙げられる。なかでも、開環重合の反応性が良好である点で、環状化合物としては、ラクトン化合物又はラクチドが好ましく、反応性がより高く、原料の入手がより容易な点で、ラクトン化合物がより好ましく、β－プロピオラクトン、β－ブチロラクトン、β－バレロラクトン、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、γ－カプリロラクトン、δ－バレロラクトン、β－メチル－δ－バレロラクトン、δ－ステアロラクトン、ε－カプロラクトン、２－メチル－ε－カプロラクトン、４－メチル－ε－カプロラクトン、ε－カプリロラクトン、及び、ε－パルミトラクトンからなる群から選択される少なくとも１種であることがさらに好ましい。
合成容易性、及び、本発明の効果がより顕著となる観点からは、上記構成単位Ｌ２として式（２）で表される構成単位を含み、上記式（１）におけるＲ１、及び、上記式（２）におけるＲ２が、それぞれ、エチレン基、プロピレン基、１－エチルエチレン基、トリメチレン基、１－メチルトリメチレン基、１－ブチルトリメチレン基、テトラメチレン基、２－メチルテトラメチレン基、１－トリデシルテトラメチレン基、ペンタメチレン基、１－メチルペンタメチレン基、３－メチルペンタメチレン基、１－エチルペンタメチレン基、又は、１－デシルペンタメチレン基であることが好ましく、それぞれ、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、又は、ペンタメチレン基であることがより好ましい。
構成単位ＧＦの具体例としては、下記構成単位が挙げられるが、これに限定されるものではない。下記式中、＊はそれぞれ独立に、他の構造との結合部位を表す。
樹脂Ａは、櫛型高分子（グラフト高分子）又は星型高分子であることが好ましく、櫛形高分子であることがより好ましい。
つまり、上述した構成単位Ａ中に含まれる分子鎖（上述の高分子構造）を側鎖（グラフト鎖）に有する樹脂であることが好ましい。これは、樹脂Ａ中の分子鎖が、他の樹脂又は重合性モノマー（膜形成成分）と相溶しにくくなり、得られる膜内で相分離構造が形成されやすくなるためである。
構成単位Ａ中に含まれる分子鎖の長さについては、式量が１，０００以上であることが好ましく、水素原子を除いた原子数が４０～１０，０００の範囲であるものがより好ましく、水素原子を除いた原子数が５０～２，０００であるものが更に好ましく、水素原子を除いた原子数が６０～５００であるものが特に好ましい。
樹脂Ａは、例えば、所定の分子鎖を有し、かつ、反応性二重結合性基を有するマクロモノマーを重合及び／又は共重合することによって作製することができる。このような態様によれば、櫛型高分子が得られる。上述のマクロモノマーとしては、例えば、上述の分子鎖を末端に有する変性ポリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また、樹脂Ａは、例えば、上記マクロモノマーと、分岐点及び１以上の硫黄原子を有する化合物とを反応させることにより作成することもできる。このような態様によれば、星型高分子が得られる。例えば、構成単位Ａに含まれる分子鎖は後述の式（ＳＰ－１）で表される構造と同様の構造の樹脂における、Ｐ１として含まれてもよい。
構成単位Ａは、下記式（ａ）で表されるマクロモノマーに基づく構成単位であることが好ましい。
式（ａ）中、Ｒ４、Ｒ５、及び、Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、なかでも、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）が好ましい。
式（ａ）中、Ｒ４、Ｒ５、及び、Ｒ６は、より好ましくは、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数が１～３のアルキル基であり、さらに好ましくは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基である。式（ａ）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ水素原子であることが特に好ましい。
また、式（ａ）中、のＸＡは、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の例としては、２価の脂肪族基（例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、及び置換アルキニレン基）、２価の芳香族基（例えば、アリーレン基、及び置換アリーレン基）、２価の複素環基、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ結合（－ＮＲ４１’－、ここでＲ４１’は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、カルボニル結合（－ＣＯ－）、及び、これらの組合せ等が挙げられる。
２価の脂肪族基は、環状構造又は分岐鎖構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。
２価の芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。
２価の複素環基は、複素環として５員環又は６員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環又は芳香族環のうち１つ以上が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ４２、ここでＲ４２は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。
式（ａ）中、ＬＡ１及びＬＡ２は、それぞれ上述した構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２を表す。ここで、式（ａ）中のＬＡ１及びＬＡ２の配列は、構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２の配列順序を示すものではなく、構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２の繰返し数がｐ及びｑであれば配列順序は制限されない。すなわち、構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２の配列順序は、ランダム、交互、及び、ブロックのいずれであってもよい。また、式（Ａ）中の左末端基に構成単位Ｌ２が結合してもよく、右末端基に構成単位Ｌ１が結合してもよい。組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２の配列順序は、ランダム、又は交互であることが好ましい。構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２の配列順序がランダム、又は交互であると、樹脂Ａの分子鎖の立体規則性がより低下し、樹脂Ａの結晶性がより低下するものと推測される。
ｐ及びｑはそれぞれ１以上の整数を表す。ｐの範囲としては、１～１２０が好ましく、２～６０がより好ましい。ｑの範囲としては、１～１２０が好ましく、２～６０がより好ましい。
式（ａ）において、ＺＡは、１価の有機基を表す。有機基の種類は、特に限定されないが、具体的には、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、及びアミノ基などが挙げられる。これらの中でも、ＺＡで表される有機基としては、特に、白色粒子の分散性向上の観点から、立体反発効果を有するものが好ましく、炭素数５から２４のアルキル基又はアルコキシ基が好ましく、その中でも、特に炭素数５から２４の分岐鎖状アルキル基、炭素数５から２４の環状アルキル基、又は、炭素数５から２４のアルコキシ基が好ましい。なお、アルコキシ基中に含まれるアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれでもよい。
組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、構成単位Ａは下記式（Ａ）で表される構成単位であることが好ましい。
また、構成単位Ａが式（Ａ）で表される構成単位であり、構成単位Ｂが後述する式（Ｂ）で表される構成単位である態様も本発明の好ましい一態様である。
式（Ａ）中、Ｒ４は水素原子又はアルキル基を表し、ＸＡは単結合又は２価の連結基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１以上の整数を表し、ＺＡは水素原子又は１価の有機基を表し、ＬＡ１及びＬＡ２は、それぞれ上記構成単位Ｌ１及び上記構成単位Ｌ２を表す。
式（Ａ）中、Ｒ４は、水素原子、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）が好ましい。
また、式（Ａ）中のＸＡ、ＬＡ１、ＬＡ２、ｐ、ｑ、ＺＡの好適な態様は、式（ａ）中のＸＡ、ＬＡ１、ＬＡ２、ｐ、ｑ、ＺＡと同様である。
式（ａ）及び式（Ａ）におけるｐ及びｑの和（以下、「ｐ＋ｑ」と表記する。）は、５より大きく、１２０未満であることが好ましい。ｐ＋ｑが下限値より大きいと、組成物がより優れた経時安定性を有する。一方、ｐ＋ｑが上限値より小さいと、組成物は、低温環境下での析出物の発生がより抑制され、かつ、より優れた経時安定性を有する。また、より優れた現像性を有する組成物を得ることができる。
構成単位Ａ中における構成単位Ｌ１の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、構成単位Ａの全質量に対して、２～９８質量％が好ましく、５～９５質量％がより好ましい。
構成単位Ａ中における構成単位Ｌ２の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、構成単位Ａの全質量に対して、２～９８質量％が好ましく、５～９５質量％がより好ましい。
構成単位Ｌ２に対する構成単位Ｌ１の質量比は、５０／５０より大きく、９５／５未満であることがより好ましい。上述の質量比が上記範囲であると、低温環境下において組成物中での析出物の発生がより抑制される。また、組成物がより優れた現像性を有する。また、上記質量比は、５０／５０より大きく、９０／１０未満であることがさらに好ましい。上限値が９０／１０未満上述の質量比が上限値より小さいと、組成物がより優れた経時安定性を有する。
構成単位Ａの式量は、１，０００～３０，０００であることが好ましく、１，２００～２０，０００であることがより好ましい。式量が上限値以下であると、組成物は、より優れた経時安定性を有する。一方、下限値以上であると、組成物はより優れた本発明の効果を有し、かつ、より優れた経時安定性を有する。
なお、本明細書において、構成単位Ａが上述のマクロモノマーにて形成される場合、上記式量はマクロモノマーの重量平均分子量に該当する。マクロモノマーの重量平均分子量は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）法で測定することができる。
なお、本明細書において重量平均分子量とは、後段で詳述するＧＰＣ法により測定される。
－構成単位Ｂ－
構成単位Ｂは、樹脂Ａの構成単位であり、その構造中に酸性基を有する。構造中に酸性基を有するとは、樹脂Ａの主鎖の形成に寄与しない側鎖に酸性基を有することをいう。ここで、酸性基とは、ブロンステッド酸及びルイス酸の少なくともいずれかの定義に該当する官能基、及び、その誘導体基（例えば、その塩の構造を有する官能基）であり、例えば、カルボン酸基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基、及び、チオール基から選択される酸性基、ならびに、その誘導体基（例えば、酸性基の塩）などが挙げられる。
構成単位Ｂは、樹脂Ａの製造がより容易になる点で、反応性二重結合性基を有する化合物（以下「重合性モノマー」ともいう。）に基づく構成単位であることが好ましい。上述の反応性二重結合性基及び酸性基は、直接連結してもよいし、連結基を介して結合してもよい。
また、樹脂Ａが星型高分子である場合、構成単位Ｂは後述の式（ＳＰ－１）で表される構造における、Ａ１と同様の構造として含まれてもよい。
なお本明細書において、構成単位Ｂは、上述の構成単位Ａ、後述の構成単位Ｃ、及び構成単位Ｄとは異なる構成単位をいう。
構成単位Ｂは、酸性基を有するため、白色粒子と相互作用を形成し得る。特に、酸性基として、カルボン酸基などのアルカリ可溶性基を有することで、現像によるパターン形成のためのより優れた現像性を樹脂Ａに付与することができる。
また、樹脂Ａが酸性基を有する構成単位を含有することにより、樹脂Ａが溶剤となじみやすくなり、組成物の支持体への塗布性も向上する傾向となる。
これは、例えば構成単位Ｂにおける酸性基が白色粒子と相互作用しやすく、構成単位Ｂが白色粒子を安定的に分散すると共に、白色粒子を分散する樹脂Ａの粘度が低くなり、樹脂Ａ自体も安定的に分散されやすいためであると推測される。
白色粒子と相互作用を形成しうる官能基である酸性基としては、例えば、カルボン酸基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基、又は、チオール基などがあり、好ましくは、カルボン酸基、スルホン酸基、及び、リン酸基のうち少なくとも１種であり、特に好ましいものは、白色粒子への吸着力が良好で、且つ、その分散性が高いカルボン酸基である。
すなわち、樹脂Ａは、カルボン酸基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基、及び、チオール基のうち少なくとも１種を有する構成単位をさらに有することが好ましい。
本発明における樹脂Ａに、酸性基がどのように導入されているかは特に限定はされないが、樹脂Ａは、下記一般式（ｉｂ）～（ｉｉｉｂ）で表される単量体に由来の構成単位から選択された１種以上の構成単位を有することが好ましい。
式（ｉｂ）～（ｉｉｉｂ）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、なかでも、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）が好ましい。
式（ｉｂ）中のＸｂは、酸素原子（－Ｏ－）又はイミノ基（－ＮＨ－）を表し、酸素原子であることが好ましい。
また、式（ｉｉｂ）中のＹｂは、メチン基又は窒素原子を表す。
また、式（ｉｂ）～（ｉｉｉｂ）中、Ｌｂは、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の例としては、２価の脂肪族基（例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、及び置換アルキニレン基）、２価の芳香族基（例えば、アリーレン基、及び置換アリーレン基）、２価の複素環基、酸素原子（－Ｏ－）、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ結合（－ＮＲ３１’－、ここでＲ３１’は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、カルボニル結合（－ＣＯ－）、及び、これらの組合せ等が挙げられる。
２価の脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。
２価の芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。
２価の複素環基は、複素環として５員環又は６員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環又は芳香族環のうち１つ以上が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ３２、ここでＲ３２は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。
Ｌｂは、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基であってもよい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造であることがより好ましい。また、Ｌｂは、オキシアルキレン構造を２以上繰返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としては、ポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、－（ＯＣＨ２ＣＨ２）Ｖ－で表され、ｖは、２以上の整数が好ましく、２～１０の整数であることがより好ましい。
式（ｉｂ）～（ｉｉｉｂ）中、Ｚｂは、酸性基を表す。
一般式（ｉｉｉｂ）中、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び、臭素原子等）、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）、－Ｚｂ、又はＬｂ－Ｚｂを表す。ここでＬｂ及びＺｂは、上記におけるＬｂ及びＺｂと同義であり、好適態様も同様である。Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９としては、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
式（ｉｉｂ）で表される単量体としては、Ｒ４が水素原子又はメチル基であって、Ｌｂがアルキレン基であって、Ｚｂがカルボン酸基であって、Ｙｂがメチン基である化合物が好ましい。
式（ｉｉｉｂ）で表される単量体としては、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Ｚｂがカルボン酸基である化合物が好ましい。
上述の単量体の例としては、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合及びヒドロキシ基を有する化合物（例えば、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル）とコハク酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及びヒドロキシ基を有する化合物とフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及びヒドロキシ基を有する化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及びヒドロキシ基を有する化合物と無水トリメリット酸との反応物、分子内に付加重合性二重結合及びヒドロキシ基を有する化合物とピロメリット酸無水物との反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、及び、４－ビニル安息香酸などが挙げられる。
より優れた本発明の効果を有する組成物が得られる点で、構成単位Ｂは式（Ｂ）で表される構成単位であることが好ましい。
式（Ｂ）中、Ｒ４は水素原子又はアルキル基を表し、ＸＢは単結合又は２価の連結基を表し、ＺＢは、水素原子、又は、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基、及び、チオール基からなる群から選択される酸性基、若しくはその誘導体基を表し、ＺＢが水素原子の場合は、ＸＢは単結合を表す。
式（Ｂ）中、Ｒ４は水素原子、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）が好ましい。
ＸＢの２価の連結基としての好適態様は、上述のＬｂと同様である。すなわち、ＸＢが２価の連結基である場合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含んでもよい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造であることがより好ましい。また、ＸＢは、オキシアルキレン構造を２以上繰返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としては、ポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、－（ＯＣＨ２ＣＨ２）Ｖ－で表され、ｖは、２以上の整数が好ましく、２～１０の整数であることがより好ましい。
－構成単位Ｃ－
本発明に用いられる樹脂Ａは、本発明の効果を奏する範囲において、構成単位Ｃとして疎水性構成単位を含有してもよい。なお、本明細書において、疎水性構成単位は、構成単位Ｌ１及び構成単位Ｌ２を含有する構成単位Ａを有さず、かつ、酸性基を有さない。
疎水性構成単位は、好ましくは、ＣｌｏｇＰ値が１．２以上の化合物（モノマー）に由来する（対応する）構成単位であり、より好ましくは、ＣｌｏｇＰ値が１．２～８の化合物に由来する構成単位である。
ＣｌｏｇＰ値は、Ｄａｙｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ， Ｉｎｃ．から入手できるプログラム“ＣＬＯＧＰ”で計算された値である。このプログラムは、Ｈａｎｓｃｈ， Ｌｅｏのフラグメントアプローチ（下記文献参照）により算出される“計算ｌｏｇＰ”の値を提供する。フラグメントアプローチは化合物の化学構造に基づいており、化学構造を部分構造（フラグメント）に分割し、そのフラグメントに対して割り当てられたｌｏｇＰ寄与分を合計することにより化合物のｌｏｇＰ値を推算している。その詳細は以下の文献に記載されている。本発明では、プログラムＣＬＯＧＰ ｖ４．８２により計算したＣｌｏｇＰ値を用いる。
Ａ． Ｊ． Ｌｅｏ， Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｖｏｌ．４， Ｃ． Ｈａｎｓｃｈ， Ｐ． Ｇ． Ｓａｍｍｎｅｎｓ， Ｊ． Ｂ． Ｔａｙｌｏｒ ａｎｄ Ｃ． Ａ． Ｒａｍｓｄｅｎ， Ｅｄｓ．， ｐ．２９５， Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ， １９９０ Ｃ． Ｈａｎｓｃｈ ＆ Ａ． Ｊ． Ｌｅｏ． ＳＵｂｓｔｉｔｕｅｎｔ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ Ｆｏｒ Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ． Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ． Ａ．Ｊ． Ｌｅｏ． Ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ ｌｏｇＰｏｃｔ ｆｒｏｍ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ． Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ．， ９３， １２８１－１３０６， １９９３．
ｌｏｇＰは、分配係数Ｐ（Ｐａｒｔｉｔｉｏｎ Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）の常用対数を意味し、ある有機化合物が油（一般的には１－オクタノール）と水の２相系の平衡でどのように分配されるかを定量的な数値として表す物性値であり、以下の式で示される。
ｌｏｇＰ＝ｌｏｇ（Ｃｏｉｌ／Ｃｗａｔｅｒ）
式中、Ｃｏｉｌは油相中の化合物のモル濃度を、Ｃｗａｔｅｒは水相中の化合物のモル濃度を表す。
ｌｏｇＰの値が０をはさんでプラスに大きくなると油溶性が増し、マイナスで絶対値が大きくなると水溶性が増すことを意味し、有機化合物の水溶性と負の相関があり、有機化合物の親疎水性を見積るパラメータとして広く利用されている。
疎水性構成単位としては、下記一般式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される単量体に基づく構成単位から選択される１種以上の構成単位を有することが好ましい。
上記式（ｉｃ）～（ｉｉｉｃ）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、なかでも、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）が好ましい。
Ｘｃ及びＬｃは、それぞれ、構成単位Ｂに含有される上述のＸｂ及びＬｂと同義であって、好適態様も同様である。Ｚｃとしては、脂肪族基（例えば、アルキル基、置換アルキル基、不飽和アルキル基、置換不飽和アルキル基、）、芳香族基（例えば、アリール基、置換アリール基、アリーレン基、置換アリーレン基）、複素環基、及び、これらの組み合わせが挙げられる。これらの基には、酸素原子（－Ｏ－）、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ基（－ＮＲ３１－、ここでＲ３１は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、又は、カルボニル基（－ＣＯ－）が含まれていてもよい。
脂肪族基は、環状構造又は分岐鎖構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。脂肪族基には、さらに環集合炭化水素基、架橋環式炭化水素基が含まれ、環集合炭化水素基としては、ビシクロヘキシル基、パーヒドロナフタレニル基、ビフェニル基、及び、４－シクロヘキシルフェニル基などが挙げられる。架橋環式炭化水素環としては、例えば、ピナン、ボルナン、ノルピナン、ノルボルナン、ビシクロオクタン環（ビシクロ［２．２．２］オクタン環、及び、ビシクロ［３．２．１］オクタン環等）などの２環式炭化水素環、ホモブレダン、アダマンタン、及び、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、トリシクロ［４．３．１．１２，５］ウンデカン環などの３環式炭化水素環、並びに、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカン、及び、パーヒドロ－１，４－メタノ－５，８－メタノナフタレン環などの４環式炭化水素環などが挙げられる。また、架橋環式炭化水素環には、縮合環式炭化水素環、例えば、パーヒドロナフタレン（デカリン）、パーヒドロアントラセン、パーヒドロフェナントレン、パーヒドロアセナフテン、パーヒドロフルオレン、パーヒドロインデン、及び、パーヒドロフェナレン環などの５～８員シクロアルカン環が複数個縮合した縮合環も含まれる。
脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、脂肪族基は、置換基として酸性基を有さない。
芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、芳香族基は、置換基として酸性基を有さない。
複素環基は、複素環として５員環又は６員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ３２、ここでＲ３２は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、複素環基は、置換基として酸性基を有さない。
上記式（ｉｉｉｃ）中、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、及び、臭素等）、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）、ＺＣ、又は－ＬＣ－ＺＣを表す。ここでＬＣ及びＺＣは、上記におけるものと同義である。Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９としては、水素原子、又は炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
本発明においては、式（ｉｃ）で表される単量体として、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６が水素原子又はメチル基であって、Ｌｃが単結合又はアルキレン基若しくはオキシアルキレン構造を含む２価の連結基であって、Ｘｃが酸素原子又はイミノ基であって、Ｚｃが脂肪族基、複素環基又は芳香族基である化合物が好ましい。
また、上記式（ｉｉｃ）で表される単量体として、Ｒ４が水素原子又はメチル基であって、Ｌｃがアルキレン基であって、Ｚｃが脂肪族基、複素環基又は芳香族基である化合物が好ましい。
また、上記式（ｉｉｉｃ）で表される単量体として、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９が水素原子又はメチル基であって、Ｚｃが脂肪族基、複素環基又は芳香族基である化合物が好ましい。
上記式（ｉｃ）～（ｉｉｉｃ）で表される単量体としては、優れた重合性を有する点で、式（ｉｃ）で表される化合物がより好ましい。なかでも、式（ｉｃ）中、Ｒ４が水素原子又はメチル基であって、Ｒ５及びＲ６が水素原子であり、Ｌｃが単結合であり、Ｘｃが酸素原子であり、Ｚｃが芳香族基である化合物（（メタ）アクリル酸エステル類）がさらに好ましく、より優れた疎水性を有し、かつ組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、ベンジル（メタ）アクリレートがもっとも好ましい。
式（ｉｃ）～（ｉｉｉｃ）で表される代表的な化合物の例としては、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、及び、スチレン類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。
なお、式（ｉｃ）～（ｉｉｉｃ）で表される代表的な化合物の例としては、特開２０１３－２４９４１７号公報の段落００８９～００９３に記載の化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
－構成単位Ｄ－
さらに、樹脂Ａは、画像強度などの諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、構成単位Ａ、構成単位Ｂ、及び、構成単位Ｃとは異なる、種々の機能を有する他の構成単位Ｄ（例えば、分散物に用いられる分散媒との親和性を有する官能基などを有する構成単位）をさらに有していてもよい。
このような、他の構成単位としては、例えば、アクリロニトリル類、及び、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性化合物に由来の構成単位が挙げられる。
－重合性基－
また、樹脂Ａは重合性基を有する樹脂（重合性樹脂）であってもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基、ブロックイソシアネート基等が挙げられる。
上記エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、メタリル基、（メタ）アクリロイル基、スチレン基（ビニルフェニル基）、シンナモイル基及びマレイミド基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、マレイミド基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。
樹脂Ａが重合性基を有する樹脂である場合、１ｇの樹脂Ａに含まれる重合性基の量（重合性樹脂の重合性基価）は、０．０１～５．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。上限は、４．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましく、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが更に好ましく、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより一層好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが特に好ましい。下限は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。
上記重合性樹脂の重合性基価は、後述する樹脂Ｂにおける重合性基価の算出方法と同様の方法により算出することができる。
樹脂Ａが重合性基を有する樹脂である場合、樹脂Ａは、上述の構成単位Ｄとして、重合性基を有する構成単位を含んでもよい。
また、樹脂Ａが星型高分子である場合、構成単位Ａは後述の式（ＳＰ－１）で表される構造と同様の構造の樹脂において、重合性基はＺ１、Ａ１及びＰ１のいずれかに含まれていればよいが、Ｐ１に含まれることが好ましく、Ｐ１に構成単位Ｄとして含まれることが好ましい。
構成単位Ｄが、重合性基を有する構成単位である場合、構成単位Ｄは繰返し単位として含まれることが好ましい。このような繰返し単位としては、例えば、後述する式（Ａ－１－１）で表される繰返し単位が好ましく挙げられる。
構成単位Ｄが重合性基を有する構成単位である場合、構成単位Ｄは、重合性基を有する単量体（例えば、グリシジルメタクリレート、メタクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル等）を単量体として用いることにより導入される。
また、上記構成単位Ｄは、単量体を重合して樹脂を得た後に、構成単位Ｂに含まれる酸性基と反応する基及び重合性基を有する化合物を樹脂と反応させることにより導入される。
例えば、構成単位Ｂが酸性基としてカルボキシ基を有する場合、樹脂と、エポキシ基及びエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を反応することにより、構成単位Ｂの一部を、エチレン性不飽和結合含有基を有する構成単位Ｄへと変更することができる。
また、例えば、構成単位Ｂが酸性基としてフェノール性ヒドロキシ基を有する場合、樹脂と、イソシアナト基及びエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を反応することにより、構成単位Ｂの一部を、エチレン性不飽和結合含有基を有する構成単位Ｄへと変更することができる。
その他、樹脂がヒドロキシ基等のイソシアナト基と反応可能な基を有する構成単位を含む場合、樹脂と、イソシアナト基及びエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物とを反応することにより、上記イソシアナト基と反応可能な基の少なくとも一部に重合性基を導入し、上記構成単位を構成単位Ｄとすることもできる。
また、例えば樹脂に２－（２－ブロモイソブチリルオキシ）エチルメタクリラートに由来する構成単位を導入し、塩基を作用させて脱ＨＢｒすることによりメタクリロキシ基を導入する、等の方法により構成単位Ｄを含む樹脂Ａを得ることもできる。
構成単位Ｄの具体例としては、例えば下記構造が挙げられるが、これに限定されるものではない。
樹脂Ａは、公知の方法に基づいて合成でき、樹脂Ａを合成する際に用いられる溶剤としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２－メトキシエチルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、及び、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶剤は単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
－樹脂Ａ中の各構成単位の含有量－
樹脂Ａの全質量に対して、上述の構成単位Ａの含有量は、それぞれ、３～９０質量％であることが好ましく、１０～９０質量％がより好ましく、３０～８０質量％がさらに好ましい。構成単位Ａの含有量が上述の範囲内であると、組成物はより優れた本発明の効果を有する。
樹脂Ａの全質量に対して、上述の構成単位Ｂの含有量は、それぞれ、３～９０質量％であることが好ましく、１０～９０質量％がより好ましく、１０～６０質量％がさらに好ましい。構成単位Ｂの含有量が上述の範囲内であると、組成物はより優れた本発明の効果を有する。
また、樹脂Ａの全質量に対して、構成単位Ｃの含有量は、３～９０質量％が好ましく、５～６０質量％がより好ましく、１０～４０質量％がさらに好ましい。構成単位Ｃの含有量が上記範囲内であると、組成物は、優れたパターン形成性を有する。
また、樹脂Ａの全質量に対して、構成単位Ｄの含有量は、０～８０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましい。構成単位Ｄの含有量が上記範囲内であると、組成物は、優れたパターン形成性を有する。
中でも、上記構成単位Ａの含有量が、上記樹脂Ａの全質量に対して、１０～９０質量％であり、上記構成単位Ｂの含有量が、上記樹脂Ａの全質量に対して、１０～９０質量％であることが好ましい。
なお、各構成単位は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
－樹脂Ａの重量平均分子量－
樹脂Ａの重量平均分子量は２，０００～３００，０００が好ましく、１０，０００～２００，０００がより好ましく、１２，０００～１００，０００がさらに好ましく、１５，０００～５０，０００が特に好ましい。樹脂Ａの重量平均分子量が上述の範囲内であると、組成物は、より優れた本発明の効果を有する。
なお、樹脂Ａの重量平均分子量は、後述する実施例に具体的に示す方法にて測定する。
－樹脂Ａの酸価－
樹脂Ａの酸価は、１０～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、２０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、３０～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。樹脂Ａの酸価が上述の範囲内であると、より優れた現像性を有する組成物を得ることができる。また、白色粒子の沈降をより抑制でき、粗大粒子数をより少なくすることができ、組成物の経時安定性がより向上する。
本明細書において、樹脂の酸価は、例えば、樹脂中における酸性基の平均含有量から算出することができる。また、樹脂の構成単位である酸性基を含有する構成単位の含有量を変化させることで所望の酸価を有する樹脂を得ることができる。
酸価は水酸化ナトリウム水溶液を用いた中和滴定により求めることができる。具体的には、樹脂を溶媒に溶解させた溶液に、電位差測定法を用いて水酸化ナトリウム水溶液で滴定し、樹脂の固形分１ｇに含まれる酸の量を算出し、次に、その値をＫＯＨ当量に換算することで求めることができる。
－ＳＰ値－
光散乱性及び白色粒子の分散性の観点からは、樹脂Ａの溶解度パラメータ（ＳＰ値）は、２０．００～２１．００ＭＰａ０．５であることが好ましく、２０．０５～２０．９０ＭＰａ０．５であることがより好ましく、２０．１０～２０．７０ＭＰａ０．５であることが更に好ましい。
樹脂Ａがバインダーである場合、２０．００～２１．００ＭＰａ０．５であることが好ましく、２０．０５～２０．９０ＭＰａ０．５であることがより好ましく、２０．１０～２０．７０ＭＰａ０．５であることが更に好ましい。
樹脂Ａが分散剤である場合、２０．００～２１．００ＭＰａ０．５であることが好ましく、２０．４０～２０．９５ＭＰａ０．５であることがより好ましく、２０．５０～２０．９０ＭＰａ０．５であることが更に好ましい。
また、樹脂Ａが分散剤であり、溶剤として後述するプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を含む場合、白色粒子の分散性の観点からは、構成単位Ａに含まれる上述の高分子構造のＳＰ値は、１７．６１～２０．０６ＭＰａ０．５であることが好ましく、１８．０２～１９．６５ＭＰａ０．５であることがより好ましく、１８．４３～１９．２４ＭＰａ０．５であることが更に好ましい。
溶剤としてＰＧＭＥＡとは異なる溶剤を使用する場合、構成単位Ａに含まれる上述の高分子構造のＳＰ値（好ましくは、構成単位ＧＦ及び末端構造からなる高分子構造のＳＰ値）は、構成単位Ａに含まれる上述の高分子構造のＳＰ値と、溶剤のＳＰ値との差が、後述の範囲となる値であることが好ましい。
本発明において、溶解度パラメータ（ＳＰ値）の値は、沖津法による値を用いる。沖津法の文献としては、沖津 俊直、日本接着学会誌、ｖｏｌ．２９，Ｎｏ．５，２０４－２１１（１９９３）や、ＳＰ値 基礎・応用と計算方法（山本、情報機構、２００５）に従う。但し、本文献に記載の方法で測定できない特別な事情がある場合は、他の方法によって測定してもよい。
－樹脂Ａの具体例－
樹脂Ａの具体例としては、後述の実施例における樹脂Ａ－１～樹脂Ａ－３６、樹脂Ａ－１０１～樹脂Ａ－１０２等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
－樹脂Ａの合成方法及び含有量－
なお、上記樹脂Ａは、公知の方法により合成できる。
組成物中における樹脂Ａの含有量は、組成物中の全固形分に対して、１～７０質量％が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、組成物がより優れた本発明の効果を有する点で、１０～４０質量％がさらに好ましい。
また、特に、樹脂Ａを分散剤として組成物中に導入する場合には、組成物中における樹脂Ａの含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１～５０質量％が好ましく、０．３～４０質量％がより好ましく、より優れた現像性を有する組成物が得られる点で、０．５～３０質量％がさらに好ましい。含有量を上記範囲とすることで、白色粒子の分散性もより良好となる。
〔樹脂Ｂ〕
本発明の組成物における膜形成成分は、上記樹脂Ａとは異なる樹脂である樹脂Ｂを更に含むことが好ましい。
樹脂Ｂは、樹脂Ａには該当しない樹脂であり、例えば、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａを有しない樹脂、又は、上述の条件１及び条件２をいずれも満たさない樹脂である。
樹脂Ｂは、例えば、粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。ただし、樹脂Ｂのこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。
本発明において、上記樹脂Ａと、上記樹脂Ｂのうち、一方が上記粒子の分散剤であり、他方がバインダーであることが好ましい。
また、上記樹脂Ａがバインダーであり、上記樹脂Ｂが分散剤である態様も、好ましい態様の一つである。
本発明の組成物は、膜形成成分として含まれる樹脂の全質量に対して、分散剤としての樹脂を１０質量％以上含むものであることが好ましく、２０質量％以上含むものであることがより好ましく、３０質量％以上含むものであることが更に好ましい。
本発明の組成物は、分散剤としての樹脂の１００質量部に対して、バインダーとしての樹脂を１０～２５０質量部含むことが好ましく、２０～２２５質量部含むことがより好ましく、３０～２００質量部含むことが更に好ましい。
また、組成物は、１００質量部の上記樹脂Ａに対して、上記樹脂Ｂを１０～２５０質量部含むことが好ましく、２０～２２５質量部含むことがより好ましく、３０～２００質量部含むことが更に好ましい。
また、下記態様１～態様３に該当する組み合わせも、本発明の好ましい態様である。
（態様１）上記樹脂Ａが櫛型高分子であり、上記樹脂Ｂが星型高分子である。
（態様２）上記樹脂Ａが星型高分子であり、上記樹脂Ｂが櫛型高分子である。
（態様３）上記樹脂Ａが櫛型高分子であり、上記樹脂Ｂが櫛型高分子である。
これらの中でも、光散乱性の観点からは、態様１が好ましい。
上記態様１において、樹脂Ａがバインダーであり、樹脂Ｂが分散剤であることが好ましい。
上記態様２において、樹脂Ａが分散剤であり、樹脂Ｂがバインダーであることが好ましい。
上記態様３において、樹脂Ａがバインダーであり、樹脂Ｂが分散剤であるか、又は、樹脂Ａが分散剤であり、樹脂Ｂがバインダーであることが好ましく、樹脂Ａが分散剤であり、樹脂Ｂがバインダーであることがより好ましい。
－樹脂ＢのＳＰ値－
樹脂ＢのＳＰ値は、特に限定されないが、１９．９０～２１．００ＭＰａ０．５であることが好ましい。
樹脂Ｂが分散剤である場合、樹脂ＢのＳＰ値は、２０．３０～２１．００ＭＰａ０．５であることが好ましく、２０．４０～２０．９５ＭＰａ０．５であることがより好ましく、２０．５０～２０．９０ＭＰａ０．５であることが更に好ましい。
樹脂Ｂがバインダーである場合、樹脂ＢのＳＰ値は、１９．８０～２０．４０ＭＰａ０．５であることが好ましく、１９．９０～２０．３０ＭＰａ０．５であることがより好ましく、１９．９５～２０．２５ＭＰａ０．５であることが更に好ましい。
光散乱性の観点からは、上記樹脂Ａと、上記樹脂ＢとのＳＰ値の差が、０．２０ＭＰａ０．５以上であることが好ましく、０．３０ＭＰａ０．５以上であることがより好ましく、０．４０ＭＰａ０．５以上であることが更に好ましい。上記ＳＰ値の差の上限は１．０ＭＰａ０．５以下であることが好ましく、０．７ＭＰａ０．５以下であることがより好ましく、０．５ＭＰａ０．５以下であることが更に好ましい。
上記のようにＳＰ値に差がある樹脂Ａ及び樹脂Ｂを用いることにより、相分離構造が形成されやすくなり、光散乱性が向上すると推測される。
樹脂Ａ及び樹脂Ｂの少なくとも一方として、２種以上の樹脂を用いる場合、ある樹脂Ａと、ある樹脂Ｂとの組み合わせのうち少なくとも１つの組み合わせにおいて、ＳＰ値の差が上記範囲内であることが好ましく、樹脂ＡにおけるＳＰ値の平均値と、樹脂ＢにおけるＳＰ値の平均値との差が上記範囲内であることがより好ましく、ある樹脂Ａと、ある樹脂Ｂとの組み合わせのうち全ての組み合わせにおいて、ＳＰ値の差が上記範囲内であることが更に好ましい。
樹脂Ａとして２以上の樹脂を含む場合、上記樹脂ＡにおけるＳＰ値の平均値は、各樹脂の質量含有量で重みづけした加重平均値として算出される。
例えば、樹脂Ａとしてｍ個の樹脂（以下、Ａ１、Ａ２・・・Ａｍ）を含み、Ａ１の質量含有量がＭ１、Ａ２の質量含有率がＭ２、Ａｍの質量含有量がＭｍ、Ａ１のＳＰ値がＳＰ１、ＳＰ２のＳＰ値がＳＰ２、ＡｍのＳＰ値がＳＰｍである場合、樹脂ＡにおけるＳＰ値の平均値ＡｖＳＰは、下記式により表される。樹脂Ｂとしてｍ個の樹脂を含む場合についても、樹脂ＢにおけるＳＰ値の平均値は同様に算出される。
また、白色粒子の分散性の観点から、分散剤はバインダーよりもＳＰ値が大きいことが好ましい。
樹脂Ａよりも樹脂Ｂの方がＳＰ値が大きい態様も、本発明の好ましい態様の一つである。
樹脂Ｂとしては、公知の樹脂を任意に使用できる。例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。
樹脂Ｂの重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００以上が好ましく、３，０００以上が好ましく、４，０００以上がより好ましく、５，０００以上が更に好ましい。
また、樹脂Ｂの重量平均分子量は、２，０００，０００以下が好ましく、１，０００，０００以下がより好ましく、５００，０００以下が更に好ましい。
樹脂Ｂとしては、酸性基を有する樹脂を用いることができる。酸性基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシ基又はリン酸基が好ましく、カルボキシ基がより好ましい。酸性基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂や、分散剤として用いることもできる。酸性基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。酸性基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
樹脂Ｂとしては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物及び／又は下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰返し単位を含む樹脂を用いることができる。
式（ＥＤ１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
樹脂Ｂとしては、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰返し単位を含む樹脂を用いることができる。
式（Ｘ）において、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。
また、樹脂Ｂは、上述の式（１－１）で表される構成単位、及び、上述の式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される構成単位を含むことが好ましく、上述の式（１－１）で表される構成単位を含むことがより好ましい。
式（１－１）で表される構成単位、及び、上述の式（１－２）で表される構成単位の好ましい態様は上述のとおりである。
－星型高分子－
樹脂Ｂは星型高分子であることも好ましい。
星型高分子である樹脂Ｂは、バインダーとして用いられてもよいが、分散剤としても散られることが好ましい。
星型高分子としては、例えば、下記式（ＳＰ－１）で表される構造の樹脂（以下、樹脂（ＳＰ－１）ともいう）が挙げられる。樹脂（ＳＰ－１）は、分散剤として好ましく用いることができるが、バインダーとして用いてもよい。
式中、Ｚ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、
Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して単結合又は連結基を表し、
Ａ１は、複素環基、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及びヒドロキシ基から選ばれる置換基を含む基を表し、
Ｐ１はポリマー鎖を表し、
ｎは１～２０を表し、ｍは１～２０を表し、ｍ＋ｎは３～２１であり、
ｎ個のＹ１及びＡ１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、
ｍ個のＹ２及びＰ１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
式（ＳＰ－１）のＺ１、Ａ１及びＰ１の少なくとも一つはエチレン性不飽和結合含有基を含んでいてもよい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、メタリル基、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、シンナモイル基及びマレイミド基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、マレイミド基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。
樹脂（ＳＰ－１）がエチレン性不飽和結合含有基を含む場合、このような樹脂は後述する重合性樹脂に該当する。エチレン性不飽和結合含有基は、式（ＳＰ－１）中のＺ１、Ａ１及びＰ１のいずれかに含まれていればよいが、Ｐ１に含まれていることが好ましい。また、Ｐ１がエチレン性不飽和結合含有基を含む場合、Ｐ１は、側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰返し単位を有するポリマー鎖であることが好ましい。
式（ＳＰ－１）において、Ａ１は上述した置換基を含む基を表す。置換基としては、複素環基、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基及びヒドロキシ基が好ましく、酸性基がより好ましい。酸性基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
上述した置換基は、１つのＡ１中に、少なくとも１個含まれていればよく、２個以上を含んでいてもよい。Ａ１は、上述した置換基を１～１０個含むことが好ましく、１～６個含むことがより好ましい。また、Ａ１が表す上述した置換基を含む基としては、上述した置換基と、１～２００個の炭素原子、０～２０個の窒素原子、０～１００個の酸素原子、１～４００個の水素原子、及び０～４０個の硫黄原子から成り立つ連結基とが結合して形成された基が挙げられる。例えば、炭素数１～１０の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～１０の環状飽和炭化水素基、又は、炭素数５～１０の芳香族炭化水素基を介して１個以上の酸性基が結合して形成された基等が挙げられる。上記の鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～１６のアリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、炭素数１～６のアシルオキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数２～７のアルコキシカルボニル基、シアノ基、炭酸エステル基、及びエチレン性不飽和結合含有基等が挙げられる。また、上記置換基そのものがＡ１であってもよい。
Ａ１の化学式量としては、３０～２，０００であることが好ましい。上限は、１，０００以下であることが好ましく、８００以下であることがより好ましい。下限は、５０以上であることが好ましく、１００以上であることがより好ましい。
式（ＳＰ－１）において、Ｚ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、及び０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、下記の構成単位又は以下の構成単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）が挙げられる。
（ｍ＋ｎ）価の連結基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～１６のアリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、炭素数１～６のアシルオキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数２～７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、炭酸エステル基、エチレン性不飽和結合含有基等が挙げられる。
Ｚ１が表す（ｍ＋ｎ）価の連結基は、下記式のいずれかで表される基であることが好ましい。
Ｌ３は３価の基を表す。Ｔ３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴ３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ４は４価の基を表す。Ｔ４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴ４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ５は５価の基を表す。Ｔ５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴ５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ６は６価の基を表す。Ｔ６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴ６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｔ３～Ｔ６が表す２価の連結基としては、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、脂肪族環基、芳香族炭化水素環基、ヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。脂肪族環基、芳香族炭化水素環基及びヘテロ環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。２価の連結基は、上述した置換基をさらに有していてもよい。
Ｌ３が表す３価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を１個除いた基が挙げられる。Ｌ４が表す４価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を２個除いた基が挙げられる。Ｌ５が表す５価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を３個除いた基が挙げられる。Ｌ６が表す６価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を４個除いた基が挙げられる。Ｌ３～Ｌ６が表す３～６価の基は、上述した置換基をさらに有していてもよい。
Ｚ１の化学式量としては、２０～３，０００であることが好ましい。上限は、２，０００以下であることが好ましく、１，５００以下であることがより好ましい。下限は、５０以上であることが好ましく、１００以上であることがより好ましい。Ｚ１の化学式量が上記範囲であれば、組成物中での顔料の分散性を向上できる。なお、Ｚ１の化学式量は、構造式から計算した値である。
（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体例については、特開２０１４－１７７６１３号公報の段落番号００４３～００５５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
式（ＳＰ－１）において、Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して単結合又は連結基を表す。連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、及び０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。上述の基は、上述した置換基を更に有していてもよい。Ｙ１及びＹ２が表す連結基としては、下記の構成単位又は以下の構成単位が２以上組み合わさって構成される基を挙げることができる。
式（ＳＰ－１）において、Ｐ１はポリマー鎖を表す。Ｐ１が表すポリマー鎖としては、主鎖中に、ポリ（メタ）アクリル構造の繰返し単位、ポリエーテル構造の繰返し単位、ポリエステル構造の繰返し単位、ポリアミド構造の繰返し単位、ポリイミド構造の繰返し単位、ポリイミン構造の繰返し単位及びポリウレタン構造の繰返し単位から選ばれる少なくとも１種の構造の繰返し単位を有するポリマー鎖であることが好ましい。また、Ｐ１が表すポリマー鎖は、下記式（Ｐ１－１）～（Ｐ１－５）で表される繰返し単位を含むポリマー鎖であることが好ましい。
上記式において、ＲＧ１及びＲＧ２は、それぞれアルキレン基を表す。ＲＧ１及びＲＧ２で表されるアルキレン基としては、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が更に好ましい。アルキレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基等が挙げられる。
上記式において、ＲＧ３は、水素原子又はメチル基を表す。
上記式において、ＱＧ１は、－Ｏ－又は－ＮＨ－を表し、ＬＧ１は、単結合又はアリーレン基を表し、ＬＧ２は、単結合又は２価の連結基を表す。ＱＧ１は、－Ｏ－であることが好ましい。ＬＧ１は、単結合であることが好ましい。ＬＧ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、及びこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。
ＲＧ４は、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基、酸性基等が挙げられる。
Ｐ１における、前述の繰返し単位の繰返し数は、３～２，０００であることが好ましい。上限は、１，５００以下であることが好ましく、１，０００以下であることがより好ましい。下限は、５以上であることが好ましく、７以上であることがより好ましい。また、Ｐ１は、側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰返し単位を有するポリマー鎖であることが好ましい。また、Ｐ１を構成する全繰返し単位中における、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に含む繰返し単位の割合は、１モル％以上であることが好ましく、２モル％以上であることがより好ましく、３モル％以上であることが更に好ましい。上限は、１００モル％とすることができる。また、Ｐ１が側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰返し単位を有するポリマー鎖である場合において、Ｐ１は側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰返し単位の他に、他の繰返し単位を含むことも好ましい。他の繰返し単位としては、側鎖に酸性基を含む繰返し単位などが挙げられる。Ｐ１が側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰返し単位の他に、さらに側鎖に酸性基を含む繰返し単位を含むことで、フォトリソグラフィ法でパターン形成した際において、現像残渣の発生をより効果的に抑制できる。Ｐ１が側鎖に酸性基を含む繰返し単位を含む場合、Ｐ１を構成する全繰返し単位中における、酸性基を側鎖に含む繰返し単位の割合は、５０モル％以下であることが好ましく、２～４８モル％であることがより好ましく、４～４６モル％であることが更に好ましい。
Ｐ１が表すポリマー鎖の重量平均分子量は、１，０００以上であることが好ましく、１，０００～１０，０００であることがより好ましい。上限は、９，０００以下であることが好ましく、６，０００以下であることがより好ましく、３，０００以下であることが更に好ましい。下限は、１，２００以上であることが好ましく、１，４００以上であることがより好ましい。なお、Ｐ１の重量平均分子量は、同ポリマー鎖の導入に用いた原料の重量平均分子量から算出した値である。
樹脂（ＳＰ－１）の具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１、特開２０１４－１７７６１３号公報の段落番号０２５６～０２６９に記載された高分子化合物（Ｃ－１）～（Ｃ－６１）、国際公開第２０１８／１６３６６８号の段落番号００６１に記載された構造の樹脂が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
－櫛形高分子－
樹脂Ｂとしては、櫛型高分子を用いることもできる。
樹脂Ｂが櫛型高分子であることにより、側鎖（グラフト鎖）による立体障害により、組成物中での粒子の凝集などをより効果的に抑制でき、優れた保存安定性が得られる。また、製膜時に膜中に相分離構造を形成しやすくできる。グラフト鎖を有する繰返し単位を含む樹脂Ｂは、分散剤として用いてもよく、バインダーとして用いてもよい。
本発明において、グラフト鎖とは、櫛型高分子の主鎖から枝分かれして伸びるポリマー鎖のことを意味する。グラフト鎖の長さについては特に制限されないが、グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり、粒子の分散性を高めたり、相分離構造を形成しやすくできる。グラフト鎖としては、水素原子を除いた原子数が４０～１０，０００であることが好ましく、水素原子を除いた原子数が５０～２，０００であることがより好ましく、水素原子を除いた原子数が６０～５００であることが更に好ましい。
グラフト鎖は、ポリエステル構造の繰返し単位、ポリエーテル構造の繰返し単位、ポリ（メタ）アクリル構造の繰返し単位、ポリウレタン構造の繰返し単位、ポリウレア構造の繰返し単位及びポリアミド構造の繰返し単位から選ばれる少なくとも１種の構造の繰返し単位を含むことが好ましく、ポリエステル構造の繰返し単位、ポリエーテル構造の繰返し単位及びポリ（メタ）アクリル構造の繰返し単位から選ばれる少なくとも１種の構造の繰返し単位を含むことがより好ましく、ポリエステル構造の繰返し単位を含むことが更に好ましい。ポリエステル構造の繰返し単位としては、下記の式（Ｇ－１）、式（Ｇ－４）又は式（Ｇ－５）で表される構造の繰返し単位が挙げられる。また、ポリエーテル構造の繰返し単位としては、下記の式（Ｇ－２）で表される構造の繰返し単位が挙げられる。また、ポリ（メタ）アクリル構造の繰返し単位としては、下記の式（Ｇ－３）で表される構造の繰返し単位が挙げられる。
上記式において、ＲＧ１及びＲＧ２は、それぞれアルキレン基を表す。ＲＧ１及びＲＧ２で表されるアルキレン基としては特に制限されないが、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が更に好ましい。
上記式において、ＲＧ３は、水素原子又はメチル基を表す。
上記式において、ＱＧ１は、－Ｏ－又は－ＮＨ－を表し、ＬＧ１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アルキレンオキシ基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレンオキシ基）、オキシアルキレンカルボニル基（好ましくは炭素数１～１２のオキシアルキレンカルボニル基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、ＯＣＯ－、－Ｓ－及びこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。
ＲＧ４は、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。
グラフト鎖の末端構造としては、特に限定されない。水素原子であってもよく、置換基であってもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。なかでも、粒子の分散性向上などの観点から、立体反発効果を有する基が好ましく、炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基が好ましい。アルキル基及びアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状又は分岐状が好ましい。
グラフト鎖としては、下記式（Ｇ－１ａ）、式（Ｇ－２ａ）、式（Ｇ－３ａ）、式（Ｇ－４ａ）又は式（Ｇ－５ａ）で表される構造であることが好ましい。
上記式において、ＲＧ１及びＲＧ２は、それぞれアルキレン基を表し、ＲＧ３は、水素原子又はメチル基を表し、ＱＧ１は、－Ｏ－又は－ＮＨ－を表し、ＬＧ１は、単結合又は２価の連結基を表し、ＲＧ４は、水素原子又は置換基を表し、Ｗ１００は水素原子又は置換基を表す。ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立して２以上の整数を表す。ＲＧ１～ＲＧ４、ＱＧ１、ＬＧ１については、式（Ｇ－１）～（Ｇ－５）で説明したＲＧ１～ＲＧ４、ＱＧ１、ＬＧ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（Ｇ－１ａ）～（Ｇ－５ａ）において、Ｗ１００は置換基であることが好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。なかでも、顔料などの分散性向上の観点から、立体反発効果を有する基が好ましく、炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基が好ましい。アルキル基及びアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状又は分岐状が好ましい。
式（Ｇ－１ａ）～（Ｇ－５ａ）において、ｎ１～ｎ５は、それぞれ２～１００の整数が好ましく、２～８０の整数がより好ましく、８～６０の整数が更に好ましい。
式（Ｇ－１ａ）において、ｎ１が２以上の場合における各繰返し単位中のＲＧ１同士は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、ＲＧ１が異なる繰返し単位を２種以上含む場合においては、各繰返し単位の配列は特に限定は無く、ランダム、交互、及び、ブロックのいずれであってもよい。式（Ｇ－２ａ）～式（Ｇ－５ａ）においても同様である。
グラフト鎖を有する繰返し単位としては、下記式（Ａ－１－２）で表される繰返し単位が挙げられる。
式（Ａ－１－２）において、Ｘ２は繰返し単位の主鎖（櫛型高分子の主鎖に含まれる構造）を表し、Ｌ２は単結合又は２価の連結基を表し、Ｗ１はグラフト鎖を表す。
式（Ａ－１－２）におけるＸ２が表す繰返し単位の主鎖としては、後述する式（Ａ－１－１）のＸ１で説明した構造が挙げられ、好ましい範囲も同様である。式（Ａ－１－２）におけるＬ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、ＯＣＯ－、－Ｓ－及びこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。式（Ａ－１－２）におけるＷ１が表すグラフト鎖としては、上述したグラフト鎖が挙げられる。
式（Ａ－１－２）で表される繰返し単位の具体例としては、下記式（Ａ－１－２ａ）で表される繰返し単位、下記式（Ａ－１－２ｂ）で表される繰返し単位などが挙げられる。
式（Ａ－１－２ａ）において、Ｒｂ１～Ｒｂ３は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基を表し、Ｑｂ１は、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－又はフェニレン基を表し、Ｌ２は、単結合又は２価の連結基を表し、Ｗ１はグラフト鎖を表す。Ｒｂ１～Ｒｂ３が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。Ｑｂ１は、－ＣＯＯ－又は－ＣＯＮＨ－であることが好ましく、－ＣＯＯ－であることがより好ましい。
式（Ａ－１－２ｂ）において、Ｒｂ１０及びＲｂ１１は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基を表し、ｍ２は１～５の整数を表し、Ｌ２は、単結合又は２価の連結基を表し、Ｗ１はグラフト鎖を表す。Ｒｂ１０及びＲｂ１１が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～３がより好ましい。
グラフト鎖を有する繰返し単位の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００以上であることが好ましく、１，０００～１０，０００であることがより好ましく、１，０００～７，５００であることが更に好ましい。なお、本発明において、グラフト鎖を有する繰返し単位の重量平均分子量は、同繰返し単位の重合に用いた原料モノマーの重量平均分子量から算出した値である。例えば、グラフト鎖を有する繰返し単位は、マクロモノマーを重合することで形成できる。ここで、マクロモノマーとは、ポリマー末端に重合性基が導入された高分子化合物を意味する。マクロモノマーを用いてグラフト鎖を有する繰返し単位を形成した場合においては、マクロモノマーの重量平均分子量がグラフト鎖を有する繰返し単位に該当する。
樹脂Ｂは重合性基を有する樹脂（以下、重合性樹脂ともいう）であってもよい。重合性樹脂は、例えば、上述の櫛型高分子、又は、上述の星型高分子であってもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基やエポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基、ブロックイソシアネート基等が挙げられる。重合性樹脂を用いることで、硬化後の膜において、相分離が過剰に進行することを抑制できる。重合性樹脂の重合性基含有基量（「重合性樹脂の重合性基価」ともいう。）は、０．０１～５．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。上限は、４．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましく、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが更に好ましく、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより一層好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが特に好ましい。下限は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。重合性樹脂の重合性基量とは、重合性樹脂の固形分１ｇあたりの重合性基のモル量を表した数値である。重合性樹脂の重合性基価は、重合性樹脂の合成に用いた原料から算出できるものについては仕込みの原料から算出した値を用いる。また、重合性樹脂の重合性基価について、重合性樹脂の合成に用いた原料から算出ができないものについては、例えばエチレン性不飽和含有基の場合、加水分解法を用いて測定した値を用いる。具体的には、アルカリ処理によって重合性樹脂から重合性基部位の低分子成分（ａ）を取り出し、その含有量を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により測定し、下記式から算出する。また、重合性樹脂から重合性基をアルカリ処理で抽出することができない場合においては、ＮＭＲ法（核磁気共鳴）にて測定した値を用いる。
重合性樹脂の重合性基価［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（低分子成分（ａ）の含有量［ｐｐｍ］／低分子成分（ａ）の分子量［ｇ／ｍｏｌ］）／（重合性樹脂の秤量値［ｇ］×（重合性樹脂の固形分濃度［質量％］／１００）×１０）
重合性樹脂としては、重合性基を側鎖に有する繰返し単位を含む樹脂、上述した式（ＳＰ－１）で表される樹脂であって、Ｚ１、Ａ１及びＰ１の少なくとも一つが重合性基を含む構造の樹脂などが挙げられる。
重合性基を側鎖に有する繰返し単位としては、下記式（Ａ－１－１）で表される繰返し単位が挙げられる。下記式（Ａ－１－１）で表される繰返し単位を含む樹脂は、分散剤として用いてもよく、バインダーとして用いてもよい。重合性樹脂において、重合性基を有する繰返し単位の含有量は、重合性樹脂の全繰返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
式（Ａ－１－１）において、Ｘ１は繰返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合又は２価の連結基を表し、Ｙ１は重合性基を表す。
式（Ａ－１－１）において、Ｘ１が表す繰返し単位の主鎖としては、特に限定はない。公知の重合可能なモノマーから形成される連結基であれば特に制限ない。例えば、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基、ポリエステル系連結基、ポリウレタン系連結基、ポリウレア系連結基、ポリアミド系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリスチレン系連結基などが挙げられ、原料素材の入手性や製造適性の観点からポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基が好ましく、ポリ（メタ）アクリル系連結基がより好ましい。
式（Ａ－１－１）において、Ｌ１が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アルキレンオキシ基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレンオキシ基）、オキシアルキレンカルボニル基（好ましくは炭素数１～１２のオキシアルキレンカルボニル基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－及びこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。アルキレン基、アルキレンオキシ基におけるアルキレン基、オキシアルキレンカルボニル基におけるアルキレン基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状又は分岐状が好ましい。また、アルキレン基、アルキレンオキシ基におけるアルキレン基、オキシアルキレンカルボニル基におけるアルキレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基などが挙げられ、製造適性の観点からヒドロキシ基が好ましい。
式（Ａ－１－１）において、Ｙ１が表す重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基及び環状エーテル基が挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、メタリル基、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、シンナモイル基及びマレイミド基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、マレイミド基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。
上記式（Ａ－１－１）で表される繰返し単位を含む樹脂は、更にグラフト鎖を有する繰返し単位を含んでいてもよい。グラフト鎖を有する繰返し単位としては、上述した式（Ａ－１－２）で表される繰返し単位などが挙げられる。重合性樹脂において、グラフト鎖を有する繰返し単位の含有量は、重合性樹脂の全繰返し単位中１．０～６０モル％であることが好ましく、１．５～５０モル％であることがより好ましい。
上記式（Ａ－１－１）で表される繰返し単位を含む樹脂は、更に酸性基を有する繰返し単位を含んでいてもよい。酸性基を有する繰返し単位の含有量は、重合性樹脂の全繰返し単位中８０モル％以下であることが好ましく、１０～８０モル％がより好ましい。
樹脂Ｂは、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋシリーズ（例えば、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、２００１など）、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパースシリーズ（例えば、ソルスパース２００００、７６５００など）、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を樹脂Ｂとして用いることもできる。
樹脂Ｂの含有量は、組成物の全固形分中０．１～６０質量％であることが好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、４５質量％以下がより好ましい。
また、組成物に用いられる樹脂は、樹脂の全質量に対して重合性樹脂（好ましくはエチレン性不飽和結合含有基を含む樹脂）を１０質量％以上含むものであることが好ましく、２０質量％以上含むものであることがより好ましく、３０質量％以上含むものであることが更に好ましい。
組成物中における分散剤として用いられる樹脂の含有量は、上述した白色粒子１００質量部に対して５～１５０質量部であることが好ましい。上限は、１４０質量部以下であることが好ましく、１２５量部以下であることがより好ましく、１００質量部以下であることが更に好ましい。下限は、１０質量部以上であることが好ましく、１５質量部以上であることがより好ましく、２５質量部以上であることが更に好ましい。
また、本発明の組成物は、重合性基を有する樹脂と、重合性基を有しない樹脂とを含むことも好ましい。この態様によれば重合性相分離により相分離がより進行しやすくなる。この場合、重合性基を有する樹脂の含有量は、重合性基を有さない樹脂の１００質量部に対して５～９０質量部であることが好ましい。上限は、８５質量部以下であることが好ましく、８０質量部以下であることがより好ましく、７０質量部以下であることが更に好ましい。下限は、１０質量部以上であることが好ましく、１５質量部以上であることがより好ましく、２５質量部以上であることが更に好ましい。
＜重合性モノマー＞
重合性モノマーとしては、ラジカル、酸又は熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。重合性モノマーは、ラジカル重合性モノマー又はカチオン重合性モノマーが好ましく、ラジカル重合性モノマーがより好ましい。
また、本発明で用いられる重合性モノマーは環構造を含む重合性モノマーであってもよく、その場合、環構造を含むラジカル重合性モノマーであることがより好ましい。環構造を含む重合性モノマーとして環構造を含むものを用いた場合においては、樹脂との相分離を生じやすい傾向にある。特に、環構造を含むラジカル重合性モノマーを用いた場合においては上記の効果が顕著である。重合性モノマーに含まれる環構造は、上記効果がより顕著に得られやすいという理由から脂肪族環であることが好ましい。また、脂肪族環は、脂肪族架橋環であることが好ましい。脂肪族架橋環とは、１つの脂肪族環において、互いに隣接しない２個以上の原子が連結した構造の脂肪族環のことである。脂肪族架橋環の具体例としては、トリシクロデカン環、アダマンタン環などが挙げられ、トリシクロデカン環であることが好ましい。重合性モノマー中に含まれる環構造の数は、モノマーの運動性の観点から１～５個であることが好ましく、１～３個であることがより好ましく、１個であることがより好ましい。環構造を含むラジカル重合性モノマーの具体例としては、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、１，３－アダマンタンジオールジアクリレートなどが挙げられる。
ラジカル重合性モノマーとしては、ラジカルの作用により重合可能な化合物であればよく、特に限定はない。ラジカル重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を２個以上有する化合物がより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合含有基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性モノマーは、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。また、ラジカル重合性モノマーは環構造を含むものであることも好ましい。
ラジカル重合性モノマーの分子量は、２００～３，０００であることが好ましい。分子量の上限は、２，５００以下が好ましく、２，０００以下が更に好ましい。分子量の下限は、２５０以上が好ましく、３００以上が更に好ましい。
ラジカル重合性モノマーは、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和結合含有基を持つ化合物であることも好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート及びこれらの混合物を挙げることができ、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
ラジカル重合性モノマーとしては、式（ＭＯ－１）～式（ＭＯ－５）で表される化合物も好適に用いることができる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、Ｔにおける炭素原子側の末端がＲに結合する。
上記式において、ｎは０～１４であり、ｍは１～８である。同一分子内に複数存在するＲ、Ｔ、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される化合物の各々において、複数存在するＲの少なくとも１つは、－ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２で表される基を表す。式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される化合物の具体例としては、特開２００７－２６９７７９号公報の段落番号０２４８～０２５１に記載されている化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
ラジカル重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
また、ラジカル重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
ラジカル重合性モノマーは、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸性基を有していてもよい。酸性基を有するラジカル重合性モノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のアロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。酸性基を有するラジカル重合性モノマーの酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。
カチオン重合性モノマーとしては、カチオン重合性基を有する化合物が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基などの環状エーテル基などが挙げる。カチオン重合性モノマーは、環状エーテル基を有する化合物であることが好ましく、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物ともいう）であることがより好ましい。
カチオン重合性モノマーの分子量は、２００～３，０００であることが好ましい。分子量の上限は、２，５００以下が好ましく、２，０００以下が更に好ましい。分子量の下限は、２５０以上が好ましく、３００以上が更に好ましい。
エポキシ化合物としては、１分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１～１００個有することが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。
エポキシ化合物としては、下記式（ＥＰ１）で表される化合物が挙げられる。
式（ＥＰ１）中、ＲＥＰ１～ＲＥＰ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。アルキル基は、環状構造を有するものであってもよく、また、置換基を有していてもよい。ＲＥＰ１とＲＥＰ２、ＲＥＰ２とＲＥＰ３は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ＱＥＰは単結合又はｎＥＰ価の有機基を表す。ＲＥＰ１～ＲＥＰ３は、ＱＥＰと結合して環構造を形成していても良い。ｎＥＰは２以上の整数を表し、好ましくは２～１０であり、より好ましくは２～６である。但しＱＥＰが単結合の場合、ｎＥＰは２である。ＲＥＰ１～ＲＥＰ３、ＱＥＰの詳細について、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８７～００８８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。式（ＥＰ１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００９０に記載の化合物、特開２０１０－０５４６３２号公報の段落番号０１５１に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
カチオン重合性モノマーとしては、市販品を用いることもできる。例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカグリシロールシリーズ（例えば、アデカグリシロールＥＤ－５０５など）、（株）ダイセル製のエポリードシリーズ（例えば、エポリードＧＴ４０１など）などが挙げられる。
重合性モノマーの含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。重合性モノマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合性モノマーを２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。また、重合性モノマーを２種併用する場合は、ラジカル重合性モノマーのみを２種以上用いてもよく、ラジカル重合性モノマーとカチオン重合性モノマーとを併用してもよい。
また、重合性モノマーと樹脂との合計の含有量は、組成物の全固形分中１０～９０質量％が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。
また、重合性モノマーと樹脂との比率は、樹脂１００質量部に対して重合性モノマーが１０～４００質量部であることが好ましい。下限は、１５質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。上限は、３８０質量部以下が好ましく、３５０質量部以下がより好ましい。
＜溶剤＞
本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３－メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル、ブチルジグリコールアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独にて、又は混合して使用することができる。
本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレン又はナイロンが好ましい。
有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
有機溶剤中の過酸化物の含有率は０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
溶剤のＳＰ値は、１７．００～２４．００ＭＰａ０．５であることが好ましく、１８．００～２２．００ＭＰａ０．５であることがより好ましく、１８．５０～２０．００ＭＰａ０．５であることがより好ましい。
ＳＰ値が上記範囲内である溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（１８．８３）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２３．５７）、シクロヘキサノン（２０．４７）、シクロペンタノン（２１．２５）、酢酸ブチル（１９．８４）等が挙げられる。括弧内の数値は、それぞれの溶剤のＳＰ値を表す。
また、白色粒子の分散性の観点からは溶剤のＳＰ値と、上述の構成単位Ａに含まれる高分子構造のＳＰ値との差は、０．００～１．２３ＭＰａ０．５であることが好ましく、０．００～０．８２ＭＰａ０．５であることがより好ましく、０．００～０．４１ＭＰａ０．５であることがより好ましい。
組成物中における溶剤の含有量は１０～９５質量％であることが好ましい。下限は、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８５質量％以下であることがより好ましく、８０質量％以下であることが更に好ましい。溶剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。溶剤を２種以上併用する場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。
＜光重合開始剤＞
本発明の組成物は、光重合開始剤を含有することができる。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。重合性モノマーの種類に応じて選択して用いることが好ましい。重合性モノマーとしてラジカル重合性モノマーを用いた場合においては、光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。また、重合性モノマーとしてカチオン重合性モノマーを用いた場合においては、光重合開始剤として光カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。
光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。本発明の組成物は、光重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
〔光ラジカル重合開始剤〕
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物及び３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ １２７（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。
光重合開始剤として、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されるＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
光重合開始剤としては、２官能又は３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、着色組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能又は３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）及び化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）などが挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。本発明の組成物は、光ラジカル重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光ラジカル重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜光カチオン重合開始剤＞
光カチオン重合開始剤としては、光酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ－ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。
光カチオン重合開始剤としては、例えば、下記式（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）で表される化合物が挙げられる。
上記式において、Ｒ２０１～Ｒ２０７は、各々独立に有機基を表す。有機基の炭素数は、１～３０であることが好ましい。有機基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。式（ｂ１）において、Ｒ２０１～Ｒ２０３のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。上記式において、Ｘ－は、非求核性アニオンを表す。非求核性アニオンとしては、例えばスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ４ －、ＰＦ６ －、ＳｂＦ６ －などが挙げられる。式（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）で表される化合物の詳細については特開２００９－２５８６０３号公報の段落番号０１３９～０２１４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
光カチオン重合開始剤の具体例としては、例えば、下記構造の化合物などが挙げられる。
光カチオン重合開始剤は市販品を用いることもできる。光カチオン重合開始剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカアークルズ ＳＰシリーズ（例えば、アデカアークルズＳＰ－６０６など）、（株）ＢＡＳＦ製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２７０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９０などが挙げられる。
光カチオン重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。本発明の組成物は、光カチオン重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光カチオン重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜顔料誘導体＞
本発明の組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、発色団の一部分を、酸性基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。酸性基としては、スルホ基、カルボキシ基及びその４級アンモニウム塩基などが挙げられる。塩基性基としては、アミノ基などが挙げられる。顔料誘導体の詳細は、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～３０質量部であることが好ましく、３～２０質量部であることがより好ましい。顔料誘導体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。顔料誘導体を２種以上併用する場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。
＜着色防止剤＞
本発明の組成物は、着色防止剤を含有してもよい。本明細書に記載の着色防止剤は重合禁止剤としても使用できる。着色防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられ、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。また、着色防止剤は、フェノール化合物が好ましく、分子量５００以上のフェノール化合物がより好ましい。
フェノール化合物としては、フェノール系着色防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。
フェノール性ヒドロキシ基含有化合物類としては、特に多置換フェノール系化合物が好適に用いられる。多置換フェノール系化合物には、安定なフェノキシラジカル生成に起因する捕捉するパーオキシラジカルへの反応性から、置換位置及び構造の異なる３種類（下記式（Ａ）ヒンダードタイプ、式（Ｂ）セミヒンダードタイプ及び式（Ｃ）レスヒンダードタイプ）がある。
式（Ａ）～（Ｃ）において、Ｒは水素原子又は置換基である。Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基が好ましく、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基がより好ましい。
さらに好ましい形態は、上記式（Ａ）～（Ｃ）で表される着色防止機能を発現する構造が同一分子内に複数存在する複合系着色防止剤であり、具体的には上記式（Ａ）～（Ｃ）で表される着色防止機能を発現する構造が同一分子内に２～４個存在する化合物が好ましい。これらの中では、式（Ｂ）セミヒンダードタイプが着色性の観点からより好ましい。市販品として入手できる代表例としては、（Ａ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ ＢＨＴ（住友化学製）、Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、１２２２（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ－２０、ＡＯ－５０、ＡＯ－６０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。（Ｂ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ ＢＢＭ－Ｓ（住友化学（株）製）、Ｉｒｇａｎｏｘ ２４５（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。（Ｃ）としてはアデカスタブＡＯ－３０、ＡＯ－４０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
亜リン酸エステル化合物、及び、チオエーテル化合物としては、国際公開第２０１７／１５９９１０号の段落０２１３～０２１４に記載の化合物及び市販品が挙げられる。
着色防止剤の市販品としては、上述の代表例のほかに、アデカスタブ ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ－３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。
また、着色防止剤としては、
５，５－ジメチル－１－ピロリンＮ－オキシド、４－メチルモルホリンＮ－オキシド、ピリジンＮ－オキシド、４－ニトロピリジンＮ－オキシド、３－ヒドロキシピリジンＮ－オキシド、ピコリン酸Ｎ－オキシド、ニコチン酸Ｎ－オキシド、及びイソニコチン酸Ｎ－オキシドなどのＮ－オキシド化合物類；
ピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－マレイミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、及び４－ホスホノオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカルなどのピペリジン－１－オキシルフリーラジカル化合物類；
３－カルボキシプロキシルフリーラジカル、３－カルボキシ－２，２，５，５－テトラメチルピロリジン１－オキシルフリーラジカルなどのピロリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類；
Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩などのＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類；
４－ジアゾフェニルジメチルアミンの硫酸水素塩、４－ジアゾジフェニルアミンのテトラフルオロホウ酸塩、及び３－メトキシ－４－ジアゾジフェニルアミンのヘキサフルオロリン酸塩などのジアゾニウム化合物類；
カチオン染料；
ニトロ基含有化合物類；
ＦｅＣｌ３、ＣｕＣｌ２等の遷移金属化合物類を用いることもできる。これらの詳細については、特開２０１５－０３４９６１号公報の段落０２１１～０２２３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
着色防止剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～２０質量％であることが着色性及び耐溶剤性の観点から好ましく、０．１～１５質量％がより好ましく、０．３～５質量％が特に好ましい。着色防止剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜紫外線吸収剤＞
本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～１０質量％であることがパターン形状及び耐溶剤性の観点から好ましく、０．１～７質量％であることがより好ましく、０．１～５質量％であることが更に好ましく、０．１～３質量％であることが特に好ましい。紫外線吸収剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜密着剤＞
本発明の組成物は、密着剤を含有してもよい。密着剤としては特に制限は無く、公知の密着剤が使用できる。密着剤としては、例えば、シランカップリング剤を挙げることができる。
本明細書において、シランカップリング剤とは、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物のことを意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－６０３）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＥ－６０２）、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－９０３）、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－５０２）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－５０３）等がある。また、シランカップリング剤の具体例については、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
密着剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～１０質量％が好ましく、０．１～７質量％がより好ましく、１～５質量％が特に好ましい。密着剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜重合禁止剤＞
本発明の組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、１，４－ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０００１～５質量％が好ましい。
＜連鎖移動剤＞
本発明の組成物は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤としては、国際公開第２０１７／１５９１９０号の段落０２２５に記載の化合物を用いることができる。
連鎖移動剤の含有量は、組成物の全固形分中０．２～５．０質量％が好ましく、０．４～３．０質量％がより好ましい。また、連鎖移動剤の含有量は、重合性モノマーの１００質量部に対し、１～４０質量部が好ましく、２～２０質量部がより好ましい。連鎖移動剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜増感剤＞
本発明の組成物は、光重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。増感剤としては、光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。増感剤は、３００～４５０ｎｍの範囲に吸収を有する化合物が挙げられる。増感剤の詳細については、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号０２３１～０２５３（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落番号０２５６～０２７３）の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
増感剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～２０質量％が好ましく、０．５～１５質量％がより好ましい。増感剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜共増感剤＞
本発明の組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。共増感剤は、光重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、又は、酸素による重合性モノマーの重合阻害を抑制する等の作用を有する。共増感剤については、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号０２５４～０２５７（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落番号０２７７～０２７９）の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
共増感剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～３０質量％が好ましく、１～２５質量％がより好ましく、１．５～２０質量％が更に好ましい。共増感剤は１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜界面活性剤＞
本発明の組成物は、塗布適性をより向上させる観点から、各種類の界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種類の界面活性剤を使用できる。
本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布適性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェントＦＴＸ２１８（ネオス社製）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰返し単位の割合を示す％はモル％である。
また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０及び段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、国際公開第２０１７／１５９１９０号の段落０２４３に記載の化合物が挙げられる。
界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分中０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜その他の添加剤＞
更に、組成物に対しては、膜の物性を改良するために可塑剤や感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。可塑剤の含有量は、組成物に含まれる全ての樹脂及び重合性モノマーの全質量に対して１０質量％以下が好ましい。
＜収容容器＞
本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、組成物の保存安定性を高めたり、成分変質を抑制するなどの目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜組成物の調製方法＞
本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解及び分散のうち少なくとも一方をした後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。
また、組成物の調製にあたり、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また、粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられるものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１～１０．０μｍであることが好ましく、０．０５～３．０μｍであることがより好ましく、０．１～２．０μｍ程であることが更に好ましい。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）及び株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
（膜）
本発明の膜の第１の態様は、上述した本発明の組成物からなる膜である。第１の態様の膜は、波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。
また、本発明の膜の第２の態様は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子と、樹脂及び重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分又は上記膜形成成分の硬化物とを含む膜であって、
上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
上記樹脂の少なくとも１種が、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、上述の条件１及び条件２の少なくとも一方を満たす樹脂Ａであり、
上記構成単位ＧＦは、上述の式（１－１）で表される構成単位、及び、上述の式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される膜である。
第２の態様の膜に含まれる粒子及び膜形成成分については、上述した本発明の組成物の項で説明した素材が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
また、第２の態様の膜は、上述した本発明の組成物が含む粒子及び膜形成成分以外の素材を更に含んでもよい。これらの素材の好ましい態様は上述のとおりである。
光散乱性の観点から、上記膜中に、上記白色粒子を含む第１の相と、上記第１の相よりも上記白色粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されていることが好ましい。
第２の態様の膜において、上記相分離構造は、海島構造又は共連続相構造であることが好ましい。これらの相分離構造が形成されていることにより、第１の相と第２の相との間で光を効果的に散乱することができ、特に優れた光散乱性が得られやすい。海島構造においては、第２の相が海で、第１の相が島を形成していてもよく、第１の相が海で、第２の相が島を形成していてもよい。第一の相が海で、第二の相が島を形成している場合は、透過率の観点で好ましい。第１の相が島で、第２の相が海を形成して場合は、角度依存性の観点で好ましい。
第２の態様の膜は、波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が、８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。
本発明の第１の態様及び第２の態様の膜（以下、単に本発明の膜ともいう）の４００～１０００ｎｍの光の透過率の最大値は、８０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましく、５０％以下であることが更に好ましい。上記の透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。
本発明の膜のＪＩＳ Ｋ ７１３６に基づくヘイズは、３０～１００％であることが好ましい。上限は９９％以下であることが好ましく、９５％以下であることがより好ましく、９０％以下であることが更に好ましい。下限は３５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることが更に好ましい。膜のヘイズは、後述する実施例に記載の方法で測定した値である。
本発明の膜のＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値は、３５～１００であることが好ましい。Ｌ＊の値は、４０以上であることが好ましく、５０以上であることがより好ましく、６０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜とすることができる。また、Ｌ＊の値は、９５以下であることが好ましく、９０以下であることがより好ましく、８５以下であることが更に好ましい。この態様によれば、適度な可視光透明性を有する膜とすることができる。
また、ａ＊の値は、－１５以上が好ましく、－１０以上がより好ましく、－５以上が更に好ましい。また、ａ＊の値は、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、０以下が更に好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜とすることができる。
また、ｂ＊の値は、－３５以上が好ましく、－３０以上がより好ましく、－２５以上が更に好ましい。また、ｂ＊の値は、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、０以下が更に好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜とすることができる。
本発明の膜の厚さは、２～４０μｍであることが好ましい。膜厚の上限は、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が更に好ましい。膜厚の下限は、３μｍ以上が好ましく、４μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上が更に好ましい。膜厚が上記範囲であれば、センサの薄膜化、クロストーク抑制によるデバイス光学感度の向上という効果が期待できる。
＜膜の製造方法＞
本発明の膜は、本発明の組成物を支持体上に適用する工程を経て製造できる。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜などが形成されていてもよい。有機膜の材料としては樹脂などが挙げられる。また、支持体としては、樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。
支持体への組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。スピンコート法での塗布は、塗布適性の観点から、３００～６０００ｒｐｍの範囲でスピン塗布することが好ましく、４００～３０００ｒｐｍの範囲でスピン塗布することが更に好ましい。また、スピンコート時における支持体の温度は、１０～１００℃が好ましく、２０～７０℃がより好ましい。上記の範囲であれば、塗布均一性に優れた膜を製造しやすい。滴下法（ドロップキャスト）の場合、所定の膜厚で、均一な膜が得られるように、支持体上にフォトレジストを隔壁とする組成物の滴下領域を形成することが好ましい。組成物の滴下量及び固形分濃度、滴下領域の面積を制御することで、所望の膜厚が得られる。
支持体上に形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベーク条件は、例えば、６０～１５０℃の温度で、３０秒間～１５分間が好ましい。
膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
〔フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合〕
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を適用して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を除去することにより現像してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
－露光工程－
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。
また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰返して露光する方式の露光方法のことである。パルス露光の場合、パルス幅は、１００ナノ秒（ｎｓ）以下であることが好ましく、５０ナノ秒以下であることがより好ましく、３０ナノ秒以下であることが更に好ましい。パルス幅の下限は、特に限定はないが、１フェムト秒（ｆｓ）以上とすることができ、１０フェムト秒以上とすることもできる。周波数は、１ｋＨｚ以上であることが好ましく、２ｋＨｚ以上であることがより好ましく、４ｋＨｚ以上であることが更に好ましい。周波数の上限は５０ｋＨｚ以下であることが好ましく、２０ｋＨｚ以下であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以下であることが更に好ましい。最大瞬間照度は、５０，０００，０００Ｗ／ｍ２以上であることが好ましく、１００，０００，０００Ｗ／ｍ２以上であることがより好ましく、２００，０００，０００Ｗ／ｍ２以上であることが更に好ましい。また、最大瞬間照度の上限は、１，０００，０００，０００Ｗ／ｍ２以下であることが好ましく、８００，０００，０００Ｗ／ｍ２以下であることがより好ましく、５００，０００，０００Ｗ／ｍ２以下であることが更に好ましい。なお、パルス幅とは、パルス周期における光が照射されている時間のことである。また、周波数とは、１秒あたりのパルス周期の回数のことである。また、最大瞬間照度とは、パルス周期における光が照射されている時間内での平均照度のことである。また、パルス周期とは、パルス露光における光の照射と休止を１サイクルとする周期のことである。
また、照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましく、０．０８～０．５Ｊ／ｃｍ２が最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができる。例えば、大気下で露光してもよく、酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することができ、１０００～１００，０００Ｗ／ｍ２の範囲から選択することが好ましい。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１０，０００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２０，０００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
－現像工程－
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上させるため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰返してもよい。
現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面及び安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。なお、アルカリ性水溶液を現像液として使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２６０℃が好ましい。加熱温度の下限は１２０℃以上であることが好ましく、１６０℃以上であることがより好ましい。加熱温度の上限は２４０℃以下であることが好ましく、２２０℃以下であることがより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載の方法で行ってもよい。
〔ドライエッチング法でパターン形成する場合〕
ドライエッチング法でのパターン形成は、本発明の組成物を支持体上に適用して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
（光センサ）
本発明の光センサは、本発明の膜を有する。光センサの種類としては、環境光センサ、照度センサなどが挙げられ、環境光センサとして好ましく用いられる。環境光センサとは、周囲の光（環境光）の色合いを検知するセンサのことである。
本発明の光センサは、本発明の膜の他に、着色画素及び赤外線透過フィルタの画素から選ばれる少なくとも１種の画素を有する光学フィルタを有することも好ましい。着色画素としては、赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、シアン色画素、マゼンタ色画素などが挙げられる。また、本発明の膜は、上記光学フィルタよりも光入射側に設けられていることが好ましい。光学フィルタよりも光入射側に本発明の膜を設けることで、各画素に対して角度依存性をより低減することができる。
図面を用いて光センサの一実施形態を示す。図１に示す光センサ１は、光電変換素子１０１上に画素１１１～１１４を有する光学フィルタ１１０が設けられている。そして、光学フィルタ１１０上に本発明の膜１２１が形成されている。光学フィルタ１１０を構成する画素１１１～１１４の一例として、画素１１１が赤色画素、画素１１２が青色画素、画素１１３が緑色画素、画素１１４が赤外線透過フィルタの画素である組み合わせが挙げられる。なお、図１に示す光センサ１では、光学フィルタ１１０として、４種類の画素（画素１１１～１１４）を有するものを用いたが、画素の種類は１～３種類であってもよく、５種類以上であってもよい。用途に応じて適宜選択することができる。また、光電変換素子１０１と光学フィルタ１１０との間、又は、光学フィルタ１１０と本発明の膜１２１との間には平坦化層が介在していてもよい。
図２に光センサの他の実施形態を示す。図２に示す光センサ２においては、光電変換素子１０１上に画素１１１～１１４を有する光学フィルタ１１０が設けられている。光学フィルタ１１０は、上述した実施形態と同様の構成のものである。そして、光学フィルタ１１０上に、透明支持体１３０の表面に本発明の膜１２２が形成された部材が配置されている。透明支持体１３０としては、ガラス基板、樹脂基板などが挙げられる。なお、図２に示す光センサ２では、光学フィルタ１１０上に、所定の間隔をおいて透明支持体１３０の表面に本発明の膜１２２が形成された部材が配置されているが、光学フィルタ１１０と透明支持体１３０の表面に本発明の膜１２２が形成された部材とは接していてもよい。また、図２に示す光センサ２では、透明支持体１３０の片面のみに本発明の膜１２２が形成されているが、透明支持体１３０の両面に本発明の膜１２２が形成されていてもよい。また、図２に示す光センサ２では、透明支持体１３０の光学フィルタ１１０側の面に本発明の膜１２２が形成されているが、透明支持体１３０の光学フィルタ１１０側とは反対側の面に本発明の膜１２２が形成されていてもよい。また、光電変換素子１０１と光学フィルタ１１０との間、又は、本発明の膜１２２と透明支持体１３０との間には平坦化層が介在していてもよい。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
＜粒子の平均一次粒子径の測定＞
粒子の一次粒子径は、粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分（一次粒子）を観測して求めた。具体的には、一次粒子を透過型顕微鏡を用いて透過型電子顕微鏡写真を撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で粒度分布を測定して求めた。粒子の平均一次粒子径は、粒度分布から算出された個数基準の算術平均径を平均一次粒子径とした。透過型電子顕微鏡として（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ－７０００）を用い、画像処理装置として（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いた。
＜粒子の屈折率の測定＞
粒子と、屈折率が既知である樹脂（分散剤）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとを用いて分散液を作製した。その後、作製した分散液と屈折率が既知の樹脂とを混合し、塗布液の全固形分中における粒子の濃度が１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％の塗布液を作製した。これらの塗布液をシリコンウエハ上に３００ｎｍの厚さで製膜した後、得られた膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００、（株）ＳＣＲＥＥＮホールディングス製）を用いて測定した。その後、粒子の濃度と屈折率をグラフ上にプロットし、粒子の屈折率を導出した。
＜粒子の比重の測定＞
１００ｍＬメスフラスコ中に５０ｇの粒子を投入した。続いて別の１００ｍＬメスシリンダーを用いて水を１００ｍＬ量り取った。その後、粒子が浸る程度、量り取った水をメスフラスコに入れ、続いて、メスフラスコに超音波を加えて、粒子と水をなじませた。その後、メスフラスコの標線に到達するまで追加で水を入れ、５０ｇ／（メスフラスコに残った水の体積）＝比重として算出した。
＜高分子の結晶化温度の測定＞
高分子の結晶化温度（Ｔｃ）は下記測定条件の下、ＤＳＣ測定により算出した。なお、高分子の結晶化温度は、各樹脂の合成に用いられたマクロモノマーの結晶化温度として測定した。測定対象の高分子（マクロモノマー）を約５ｍｇ量りとって測定用アルミニウム製パンにセットし、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）社製、示差走査熱量計（ＤＳＣ、Ｑ１０００型）に装着した。測定は、２５℃から１０℃／分の速度で１５０℃まで昇温させ、その後、１５０℃で５分間保持した後、１５０℃から１０℃／分で－３０℃まで冷却して行った。結晶化温度は、上記方法によって得られたＤＳＣ曲線上に現れる、発熱ピークのピークトップ温度とした。なお、下記表１及び表２において、上記方法によって結晶化を示す発熱ピークが観察されなかった場合は「－」、結晶化温度が５０℃を超えた場合は「＞５０」と示した。
＜樹脂の重量平均分子量の測定＞
樹脂（分散剤及びバインダー）の重量平均分子量は、以下の条件に従って、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した。
カラムの種類：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈと、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とを連結したカラム
展開溶媒：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度０．１質量％）
装置名：東ソー（株）製 ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂
＜樹脂の酸価の測定＞
酸価は、固形分１ｇあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業製）を用いて、得られた溶液を、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．５×ｆ／ｗ
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
ｗ：測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）
＜ＳＰ値の測定方法＞
本発明において、溶解度パラメータの値は、沖津法による値を用いた。沖津法の文献としては、沖津 俊直、日本接着学会誌、ｖｏｌ．２９，Ｎｏ．５，２０４－２１１（１９９３）や、ＳＰ値 基礎・応用と計算方法（山本、情報機構、２００５）に従った。
＜合成例１：マクロモノマーＭＭ－１の合成＞
三口フラスコに、ε－カプロラクトン（３１９．１ｇ）、δ－バレロラクトン（３５．５）、及び、２－エチル－１－ヘキサノール（２０．５ｇ）を導入し、窒素を吹き込みながら、混合物を撹拌した。次に、混合物にモノブチル錫オキシド（０．１８ｇ）を加え、得られた混合物を９０℃に加熱した。７時間後、１Ｈ－ＮＭＲ（ｎｕｃｌｅａｒ ｍａｇｎｅｔｉｃ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）にて、原料である２－エチル－１－ヘキサノールに由来するシグナルが消失したのを確認後、混合物を１１０℃に加熱した。窒素下にて１１０℃で１２時間重合反応を続けた後、１Ｈ－ＮＭＲでε－カプロラクトン及びδ－バレロラクトンに由来するシグナルの消失を確認し、混合物を８０℃まで降温した。
フラスコ内を空気置換した後、混合物に２，６－ジｔ－ブチル－４－メチルフェノール（０．１０ｇ）を添加した後、さらに、得られた混合物に対して、カレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製、メタクリル酸２－イソシアナトエチル）（２４．９ｇ）を３０分かけて滴下した。空気下にて１時間反応を続けた後、１Ｈ－ＮＭＲにてメタクリル酸２－イソシアナトエチルに由来するシグナルが消失したのを確認した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（４００．０ｇ）を混合物に添加し、濃度が５０質量％のマクロモノマーＭＭ－１溶液（８００ｇ）を得た。
マクロモノマーＭＭ－１の構造（下記式（ＭＭ－１））は１Ｈ-ＮＭＲにより確認した。構成単位Ｌ１と構成単位Ｌ２の比率（式（ＭＭ－１）中のｐ１とｐ２の比率）は、原料のε－カプロラクトンとδ－バレロラクトンの仕込み重量から算出し、９０／１０（質量比）であった。繰返し数（式（ＭＭ－１）中のｐ１＋ｐ２の値）は、原料のε－カプロラクトン、δ－バレロラクトン及び２－エチル－１－ヘキサノールの仕込みモル数から算出し、２０であった。なお、各繰返し単位は、以下の構造式に示した順で連結して繰返し単位毎のブロックを形成していることに限定されず、各繰返し単位がランダムに結合していてもよい。マクロモノマーＭＭ－１の重量平均分子量は６，０００、結晶化温度は６℃であった。
＜合成例２～１４：マクロモノマーＭＭ－２～ＭＭ－１４の合成＞
マクロモノマーＭＭ－１の合成において用いたラクトン化合物（ε－カプロラクトンとδ－バレロラクトン）の種類、及び、その仕込み量を、それぞれ下記表１及び表２の記載の通りに変更して所望の重量平均分子量及び繰返し数となるように調整した以外は、上記合成例１（マクロモノマーＭＭ－１の合成方法）と同様の手順により、マクロモノマーＭＭ－２～１４を得た。マクロモノマーＭＭ－２～ＭＭ－１４の構造（下記式（ＭＭ－２）～（ＭＭ－１４））は１Ｈ-ＮＭＲにより確認した。表１及び表２に各マクロモノマーの、構成単位Ｌ１と構成単位Ｌ２の比率、繰返し数、重量平均分子量、及び、結晶化温度をまとめて示した。
＜合成例１５：マクロモノマーＭＭ－１５の合成＞
マクロモノマーＭＭ－６の合成において用いたカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製、メタクリル酸２－イソシアナトエチル）をカレンズＡＯＩ（昭和電工（株）製、アクリル酸２－イソシアナトエチル）にモル数合わせで変更した以外は、上記合成例６（マクロモノマーＭＭ－６の合成方法）と同様の手順により、マクロモノマーＭＭ－１５を得た。マクロモノマーＭＭ－１５の構造（下記式（ＭＭ－１５））は１Ｈ-ＮＭＲにより確認した。表２に、構成単位Ｌ１と構成単位Ｌ２の比率、繰返し数、重量平均分子量、及び、結晶化温度を示した。
＜合成例１６：マクロモノマーＭＭ－９１の合成＞
三口フラスコに、ＰＧＭＥＡ（１２０．２ｇ）を導入し、窒素を吹き込みながら、７５℃に加熱した。次いで、メタクリル酸エチル（１０９．６ｇ）、メタクリル酸メチル（３２．１ｇ）、６－メルカプト－１－ヘキサノール（８．３４ｇ）、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸メチル）（Ｖ－６０１、富士フイルム和光純薬（株）製）（０．８１ｇ）、及び、ＰＧＭＥＡ（９８．３ｇ）の混合液を、窒素雰囲気下で、２時間かけてフラスコ内の溶液に滴下し、滴下終了後７５℃で１時間撹拌した。混合物にＶ－６０１（０．８１ｇ）を添加し、７５℃でさらに２時間撹拌した。混合物にＶ－６０１（０．８１ｇ）を添加し、９０℃でさらに３時間撹拌した後、混合物を０℃まで冷却した。
フラスコ内を空気置換した後、混合物に２，６－ジｔ－ブチル－４－メチルフェノール（０．０４９ｇ）、テトラキス（２，４－ペンタンジオナト）ジルコニウム（IV）（０．３２ｇ）、及び、ＰＧＭＥＡ（２５．３ｇ）を添加した後、さらに、得られた混合物に対して、カレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製、メタクリル酸２－イソシアナトエチル）（９．９３ｇ）を１５分かけて滴下した。空気下０℃にて２時間、次いで３０℃で１時間反応を続けた後、１Ｈ－ＮＭＲにてメタクリル酸２－イソシアナトエチルに由来するシグナルが消失したのを確認し、濃度が３９質量％のマクロモノマーＭＭ－９１溶液（４０６ｇ）を得た。
マクロモノマーＭＭ－９１の構造（下記式（ＭＭ－９１））は１Ｈ-ＮＭＲにより確認した。式（ＭＭ－９１）中のｐ１とｐ２の比率は、原料のメタクリル酸エチルとメタクリル酸メチルの仕込み重量から算出し、７７／２３（質量比）であった。繰返し数（式（ＭＭ－９１）中のｐ１＋ｐ２の値）は、原料のメタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル及び６－メルカプト－１－ヘキサノールの仕込みモル数から算出し、２１であった。なお、各繰返し単位は、以下の構造式に示した順で連結して繰返し単位毎のブロックを形成していることに限定されず、各繰返し単位がランダムに結合していてもよい。マクロモノマーＭＭ－９１の重量平均分子量は４，１００で、結晶化を示す発熱ピークは観察されなかった。
＜合成例１７：樹脂Ａ－１の合成＞
三口フラスコに、マクロモノマーＭＭ－１溶液（ＰＧＭＥＡ５０質量％、６０．０ｇ、全モノマーの合計質量に対して５０質量％）、構成単位Ｂを得るためのモノマーとしてＮＫエステルＣＢ－１（新中村化学工業（株）製、フタル酸モノ－２－（メタクリロイルオキシ）エチル）（１８．０ｇ、全モノマーの合計質量に対して３０質量％）、構成単位Ｃを得るためのモノマーとしてメタクリル酸ベンジル（１２．０ｇ、全モノマーの合計質量に対して２０質量％）、及び、ＰＧＭＥＡ（８１．４ｇ）を導入し、窒素を吹き込みながら混合物を撹拌し、７５℃まで昇温した。次に、混合物に、連鎖移動剤として１－ドデカンチオール（０．８８ｇ、全モノマーの合計モル数に対して３モル％）、次いで、重合開始剤としてＶ－６０１（０．２２ｇ、連鎖移動剤のモル数に対して２２モル％）を添加し、重合反応を開始した。混合物を７５℃で２時間加熱した後、さらにＶ－６０１（０．２２ｇ）を混合物に追加した。２時間後、さらにＶ－６０１（０．２２ｇ）を混合物に追加した。さらに２時間反応後、混合物を９０℃に昇温し、２時間撹拌することで樹脂Ａ－１（下記式（Ａ－１）で表される構造の化合物）の３５質量％溶液を得た。得られた樹脂Ａ－１の重量平均分子量は２７，３００、酸価は５９ｍｇＫＯＨ／ｍｇ、ＳＰ値は２０．２２ＭＰａ０．５であった。
樹脂Ａ－１における構成単位Ａの式量は１，０００以上である。
＜合成例１８～５６：樹脂Ａ－２～Ａ－３６、Ａ－１０１、Ｂ－１～Ｂ－３の合成＞
樹脂Ａ－１の合成において用いたマクロモノマーの種類、構成単位Ｂを得るためのモノマーの種類、構成単位Ｃを得るためのモノマーの種類、それらの仕込み量、及び、連鎖移動剤の仕込み量を、それぞれ表１及び表２の記載の通りに変更した以外は、上記合成例１６（樹脂Ａ－１の合成方法）と同様の手順により、樹脂Ａ－２～Ａ－３６、Ａ－１０１、Ｂ－１～Ｂ－３（下記式（Ａ－２）～（Ａ－３６）、（Ａ－１０１）、（Ｂ－１）～（Ｂ－３）で表される構造の化合物）を得た。表１及び表２に各樹脂の、重量平均分子量、酸価、及び、ＳＰ値をまとめて示した。
樹脂Ａ－２～Ａ－３６、Ａ－１０１における構成単位Ａの式量は、いずれも１，０００以上である。
表１又は表２に記載した各種略称を以下に示す。
（マクロモノマー）
・ＭＭ－１～ＭＭ－１４、ＭＭ－９１：上述したマクロモノマーＭＭ－１～ＭＭ－１４、ＭＭ－９１
・ＭＭ－５１：ブレンマー５５ＰＥＴ－８００（日油（株）製、下記式（ＭＭ－５１）で表されるマクロモノマー、各繰返し単位はランダムに結合）
・ＭＭ－５２：ブレンマーＰＭＥ－１０００（日油（株）製、下記式（ＭＭ－５２）で表されるマクロモノマー、繰返し数は２３）
・ＭＭ－５３：ブレンマーＰＰ－８００（日油（株）製、下記式（ＭＭ－５３）で表されるマクロモノマー、繰返し数は１３）
（構成単位）
Ｌ－１～Ｌ－３、Ｌ－１１、Ｌ－１２、Ｌ－１３：下記構造
（モノマー）
・ＭＢ－１：ＮＫエステルＣＢ－１（新中村化学工業（株）製、フタル酸モノ－２－（メタクリロイルオキシ）エチル）
・ＭＢ－２：メタクリル酸
・ＭＢ－３：ライトエステルＨＯ－ＭＳ（Ｎ）（共栄社化学（株）製、こはく酸モノ（２－メタクリロイルオキシエチル））
・ＭＢ－４：ライトアクリレートＨＯＡ－ＭＳ（Ｎ）（共栄社化学（株）製、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル））
・ＭＢ－５：ライトアクリレートＨＯＡ－ＨＨ（Ｎ）（共栄社化学（株）製、ヘキサヒドロフタル酸モノ－２－（アクリロイルオキシ）エチル）
・ＭＢ－６：アロニックスＭ－５３００（東亞合成（株）製、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート）
・ＭＢ－７～ＭＢ－８：下記式（ＭＢ－７）～（ＭＢ－８）で表される化合物
・ＭＢ－９：４－ビニル安息香酸
・ＭＣ－１：メタクリル酸ベンジル
・ＭＣ－２：メタクリル酸メチル
・ＭＣ－３：メタクリル酸２－（アセトアセチルオキシ）エチル
＜合成例５７：樹脂Ｂ－１０１の合成＞
三口フラスコにイタコン酸（２６１．７ｇ）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（４５０．０ｇ）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）（１，６６１ｇ）を入れ、窒素雰囲気下にて８０℃に昇温し撹拌した。次いで、Ｖ－６０１（１．１６ｇ）を添加し、２時間撹拌した。さらに、Ｖ－６０１（１．１６ｇ）を添加し、９０℃に昇温し２時間撹拌することでチオール変性体Ｘ－１（ＤＰＭＰ１分子中の６個のチオールの内、平均３．５個がイタコン酸で変性された化合物）の３０質量％溶液（２３７５ｇ）を得た。
三口フラスコにＰＧＭＥＡ（６４．１ｇ）を入れ、窒素雰囲気下にて８０℃に昇温した。次いで、チオール変性体Ｘ－１（１０４．５ｇ）、メタクリル酸メチル（８８．７ｇ）、Ｖ－６０１（０．６１ｇ、メタクリル酸メチルの０．３モル％）、及びＰＧＭＥＡ（１５．２ｇ）の混合液を２．５時間かけてフラスコ内の溶液に滴下した。滴下終了後２．５時間撹拌し、Ｖ－６０１（０．６１ｇ）を添加した。９０℃に昇温して２時間撹拌し、ＰＧＭＥＡ（１２７．２ｇ）を加えることで、樹脂Ｂ－１０１（下記式（Ｂ－１０１）で表される構造の化合物）の３０質量％溶液を得た。得られた樹脂Ｂ－１０１の重量平均分子量は６，３００、酸価は８３ｍｇＫＯＨ／ｍｇ、ＳＰ値は２０．５３ＭＰａ０．５であった。
＜合成例５８：樹脂Ｂ－１０２の合成＞
三口フラスコにＰＧＭＥＡ（１０８．３ｇ）を入れ、窒素雰囲気下にて８０℃に昇温した。次いで、チオール変性体Ｘ－１（１１７．３ｇ）、メタクリル酸メチル（１４７．１ｇ）、メタクリル酸（１２．１ｇ）、Ｖ－６０１（１．１１ｇ、全モノマーの合計モル数に対して０．３モル％）、及びＰＧＭＥＡ（１７０．６ｇ）の混合液を２．５時間かけてフラスコ内の溶液に滴下した。滴下終了後２．５時間撹拌し、Ｖ－６０１（１．１１ｇ）を添加した。９０℃に昇温して２時間撹拌し、ＰＧＭＥＡ（９２．５ｇ）を加えることで、樹脂Ｂ－１０２（下記式（Ｂ－１０２）で表される構造の化合物）の３０質量％溶液を得た。式（Ｂ－１０２）中のｑ１とｑ２の比率は、原料のメタクリル酸メチルとメタクリル酸の仕込み重量から算出し、９２．４／７．６（質量％）であった。繰返し数（式（Ｂ－１０２）中のｑ１＋ｑ２の値）は、原料のチオール変性体Ｘ－１、メタクリル酸メチル、及びメタクリル酸の仕込みモル数から算出し、２２．７であった。なお、各繰返し単位は、以下の構造式に示した順で連結して繰返し単位毎のブロックを形成していることに限定されず、各繰返し単位がランダムに結合していてもよい。得られた樹脂Ｂ－１０２の重量平均分子量は９，２００、酸価は１００ｍｇＫＯＨ／ｍｇ、ＳＰ値は２０．４３ＭＰａ０．５であった。
＜合成例５９～６６：樹脂Ｂ－１０３～Ｂ－１０９の合成＞
樹脂Ｂ－１０２の合成において用いたモノマー（メタクリル酸メチルとメタクリル酸）の仕込み量を、それぞれ下記表３に記載の組成比及び繰返し数となるように調整した以外は、上記合成例５８（樹脂Ｂ－１０２の合成方法）と同様の手順により、樹脂Ｂ－１０３～Ｂ－１０９を得た。表３に各樹脂の、組成比、繰返し数、重量平均分子量、酸価、及び、ＳＰ値をまとめて示した。
＜合成例６７：樹脂Ａ－１０２の合成＞
三口フラスコにＰＧＭＥＡ（２０．３ｇ）を入れ、窒素雰囲気下にて８０℃に昇温した。次いで、チオール変性体Ｘ－１（１１７．３ｇ）、マクロモノマーＭＭ－１５の５０質量％ＰＧＭＥＡ溶液（１９７．３ｇ）、Ｖ－６０１（０．０４９ｇ、マクロモノマーのモル数に対して０．３モル％）、及びＰＧＭＥＡ（４７．５ｇ）の混合液を２．５時間かけてフラスコ内の溶液に滴下した。滴下終了後２．５時間撹拌し、Ｖ－６０１（０．０４９ｇ）を添加した。９０℃に昇温して２時間撹拌し、ＰＧＭＥＡ（６３．７ｇ）を加えることで、樹脂Ａ－１０２（下記式（Ａ－１０２）で表される構造の化合物）の３０質量％溶液を得た。得られた樹脂Ａ－１０２の重量平均分子量は９，７００、酸価は８３ｍｇＫＯＨ／ｍｇ、ＳＰ値は２０．８４ＭＰａ０．５であった。
樹脂Ａ－１０２における構成単位Ａの式量は１，０００以上である。
＜分散液の製造＞
下記の表に記載の組成の混合液に対し、循環型分散装置（ビーズミル）として、寿工業（株）製ウルトラアペックスミルを用いて、以下の分散処理を行い、分散液を製造した。ビーズ径：直径０．２ｍｍビーズ充填率：６５体積％周速：６ｍ／秒ポンプ供給量：１０．８ｋｇ／時冷却水：水道水ビーズミル環状通路内容積：０．１５Ｌ分散処理する混合液量：０．６５ｋｇ
上記表に記載の原料は以下の通りである。
〔粒子（白色粒子）〕
なお、上記表中の屈折率の値は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率である。
〔樹脂（分散剤）〕
・Ｂ－１０１～Ｂ－１０９、Ａ－１０１、Ａ－１０２：上述した樹脂Ｂ－１０１～Ｂ－１０９、Ａ－１０１、Ａ－１０２
〔溶剤〕
・Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
・Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
Ｓ－３：シクロペンタノン
＜組成物の調製＞
下記表６～１１に記載の原料を混合して、組成物を製造した。
上記表に記載の原料は以下の通りである。
〔分散液〕
・分散液１～２１：上述した分散液１～２１
〔樹脂（バインダー樹脂）〕
・Ａ－１～Ａ－３６、Ｂ－１～Ｂ－３：上述した樹脂Ａ－１～Ａ－３６、Ｂ－１～Ｂ－３
〔重合性モノマー〕
・Ｍ－１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート）
・Ｍ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）
・Ｍ－３：ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製）
・Ｍ－４：ライトアクリレートＤＣＰ－Ａ（共栄社化学（株）製、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート）
・Ｍ－５：ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ（新中村化学工業（株）製）
・Ｍ－６：ＥＢＥＣＲＹＬ１６０Ｓ（ダイセル・オルネクス（株）製）
〔光重合開始剤〕
・Ｉ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
・Ｉ－２：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）
・Ｉ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）
〔添加剤〕
・Ａｄ－１：アデカスタブＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製、着色防止剤）
・Ａｄ－２：Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０（ＢＡＳＦ社製、着色防止剤）
・Ａｄ－３：下記構造の化合物
〔界面活性剤〕
・Ｓｕ－１：下記化合物（繰返し単位の割合を示す％はモル％である。重量平均分子量：１４，０００）
・Ｓｕ－２：フタージェントＦＴＸ－２１８（ネオス社製）
〔重合禁止剤〕
・Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール
・Ｉｎ－２：１，４－ベンゾキノン
〔溶剤〕
・Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
・Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
・Ｓ－３：シクロペンタノン
＜評価＞
〔光散乱性の評価〕
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のガラスウエハ上に、ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行い、膜を形成した。
得られた膜の波長４００～１，０００ｎｍの範囲の光の透過率を分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ－４１００）を用いて測定し、４５０ｎｍと９４０ｎｍの透過率差を測定した。透過率差ΔＴ％を以下の基準で評価した。評価結果は後述する表の「光散乱性」の欄に記載した。
－評価基準－
５：ΔＴ％が１３％未満であった。
４：ΔＴ％が１３％以上１６％未満であった。
３：ΔＴ％が１６％以上１９％未満であった。
２：ΔＴ％が１９％以上２５％未満であった。
１：ΔＴ％が２５％以上であった。
〔保存安定性の評価〕
上記で得られた各組成物を液高さが２０ｃｍとなる容器に入れて１２ヶ月冷蔵庫（４±１℃）で静置した。静置後、上から１ｃｍの液と下から１ｃｍの液をサンプリングし、それぞれ下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製ＣＴ－４０００Ｌ；厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）ガラスウエハ上にポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１，０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行い、膜を形成した。
得られた膜の波長４００～１，０００ｎｍにおける透過率を分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ－４１００）を用いて測定した。
上から１ｃｍの液を用いて形成した膜の波長４００～１，０００ｎｍにおける透過率の最大値（Ｔ１）と、下から１ｃｍの液を用いて形成した膜の波長４００～１，０００ｎｍにおける透過率の最大値（Ｔ２）と、差（Ｔ１－Ｔ２）であるΔＴを求め、以下の評価基準に従い保存安定性を評価した。ΔＴが小さいほど保存安定性が優れていることを意味する。評価結果は後述する表の「保存安定性」の欄に記載した。
－評価基準－
５：ΔＴが３％以下であった。
４：ΔＴが３％より大きく、５％以下であった。
３：ΔＴが５％より大きく、１０％以下であった。
２：ΔＴが１０％より大きく、２０％以下であった。
１：ΔＴが２０％より大きく、１００％以下であった。
〔引き置き異物の評価〕
各組成物をポストベーク後の膜厚が４μｍとなるようにスピンコーター（ミカサ（株）製）を用いてシリコン基板上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間の加熱（プリベーク）を行った後、７２時間静置した。その後ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光を行った後、再度ホットプレートを用いて２００℃、３００秒間の加熱（ポストベーク）を行い、膜を得た。得られた膜について、走査型電子顕微鏡を用いて観察（測定倍率＝１０，０００倍）し、１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物の数を測定した。下記評価基準に従い引き置き異物の発生を評価した。異物の数が少ないほど引き置き異物の発生が抑制されていることを意味する。評価結果は後述する表の「引き置き異物」の欄に記載した。
－評価基準－
５：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物がない。
４：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が０個を超え５個以下であった。
３：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が５個を超え１０個以下であった。
２：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が１０個を超え１００個以下であった。
１：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が１００個を超えた。
〔密着性の評価〕
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製ＣＴ－４０００Ｌ；厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）ガラスウエハ上にポストベーク後の膜厚が４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長光を、幅１００μｍ×長さ１，０００μｍのラインを２５本形成するパターンマスクを介して露光（露光量５０～１，７００ｍＪ／ｃｍ２）した。
次いで、露光後の組成物層に対し、現像装置（東京エレクトロン製Ａｃｔ８）を使用して現像を行った。現像液には水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間シャワー現像を行った。その後、純水を用いたスピンシャワーにてリンスを行い、次いで、スピン乾燥し、次いで、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行ってパターンを得た。
幅１００μｍ×長さ１，０００μｍのパターンを形成するのに要する最小の露光量Ｅ１と、上述のパターンがすべて密着するのに要する最小の露光量Ｅ２との差ΔＥ（Ｅ２－Ｅ１）を求め、以下の評価基準に従って密着性を評価した。評価結果は後述する表の「密着性」の欄に記載した。ΔＥが小さいほど密着性に優れることを意味する。パターンが密着していること、及び、パターンのサイズについては、光学顕微鏡を用いて観察した（倍率２００倍）。
－評価基準－
５：ΔＥが１００ｍＪ／ｃｍ２を超えた。
４：ΔＥが０ｍＪ／ｃｍ２を超え１００ｍＪ／ｃｍ２以下であった。
３：ΔＥが０ｍＪ／ｃｍ２であった。
２：５０～１，７００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて、幅１００μｍ×長さ１，０００μｍのラインのパターンを少なくとも１本形成できたが、２５本すべてのパターンは形成することはできなかった。
１：５０～１，７００ｍＪ／ｃｍ２の露光量では、幅１００μｍ×長さ１，０００μｍのパターンを形成できなかった。
〔透過率の最大値の測定〕
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のガラスウエハ上に、ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１，０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行って厚さ４μｍの膜を形成した。
得られた膜の波長４００～１，０００ｎｍの範囲の光の透過率を分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ－４１００）を用いて測定し、前述の範囲における透過率の最大値を測定した。透過率の最大値を以下の基準で評価した。評価結果は後述する表の「透過率最大値」の欄に記載した。
５：透過率の最大値が５０％以下であった。
４：透過率の最大値が５０％を超え、６０％以下であった。
３：透過率の最大値が６０％を超え、７０％以下であった。
２：透過率の最大値が７０％を超え、８０％以下であった。
１：透過率の最大値が８０％を超えた。
〔相分離状態の確認〕
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のガラスウエハ上に、ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１，０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行い、膜を形成した。
得られた膜の厚み方向の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（Ｓ－４８００Ｈ、（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて観察（倍率：１０，０００倍）し、白色粒子の偏在状態を確認して相分離状態が形成されているかどうか調べた。評価結果は後述する表の「相分離状態」の欄に記載した。
Ａ：膜中に白色粒子を含む第１の相と、第１の相よりも白色粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されている。
Ｂ：相分離構造が形成されていない。
〔分散剤とバインダーのＳＰ値差〕
組成物において、分散剤として用いられた分散液中の樹脂のＳＰ値と、バインダーとして用いられた組成物中の樹脂のＳＰ値との差を、表中の「分散剤とバインダーのＳＰ値差（ＭＰａ１／２）」の欄に記載した。
以上の結果から、実施例に係る組成物は保存安定性に優れており、かつ、実施例に係る組成物により得られる膜は、光散乱性及び密着性に優れることがわかる。
また、光散乱性の評価、保存安定性の評価、透過率の最大値の測定、及び、相分離状態の確認において、それぞれ、「ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、」という操作を「ポストベーク後の厚さが８μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、」とした以外は、上述の方法と同様の方法により光散乱性の評価、保存安定性の評価、透過率の最大値の測定、相分離状態の確認を行った。いずれの評価結果も、４μｍの場合の評価結果と同様であった。
また、密着性の評価及び引き置き異物の評価において、それぞれ、「プリベーク後の膜厚が４μｍとなるように」という操作を「プリベーク後の膜厚が４μｍとなるように」とした以外は、上述の方法と同様の方法により密着性の評価及び引き置き異物の評価を行った。いずれの評価結果も、４μｍの場合の評価結果と同様であった。
（実施例１０１）
国際公開第２０１６／０９１７５７号（以下、「文献Ａ」と記載する。）の記載を参考に光学センサを作製した。
文献Ａの図１に記載された光学センサにおいて、ディフューザー１０（diffuser 10）を上述の実施例１～７８のいずれかにおいて調製した組成物からなる膜に変更した以外は、文献Ａの記載を参考に、文献Ａの図１に記載された光学センサを作製した。
得られた光学センサは、実施例１～７８のうち、いずれにおいて調製した組成物を用いた場合であっても、正常に動作した。
１、２：光センサ
１０１：光電変換素子
１１１～１１４：画素
１１０：光学フィルタ
１２１、１２２：膜
１３０：透明支持体

Claims (18)

  1. 屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子と、樹脂及び重合性モノマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分と、溶剤と、を含む組成物であって、
    前記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
    前記樹脂の少なくとも１種が、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、下記条件１を満たす樹脂Ａであり、
    前記構成単位ＧＦは、下記式（１－１）で表される構成単位、及び、下記式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される構成単位であり、
    前記構成単位Ａが、式（１）で表される構成単位Ｌ１と、式（２）で表される構成単位、及び、式（３）で表される構成単位からなる群から選択される構成単位Ｌ２と、を含有し、
    前記構成単位Ａが式（Ａ）で表される構成単位であり、
    樹脂Ａの酸価が１０～２５０ｍｇ／ＫＯＨである
    組成物；
    条件１：前記構成単位Ａが２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む；

    式（１－１）又は式（１－２）中、ＲＡは２価の有機基を表し、ＲＢは２価の有機基を表す。
    式（１）中のＲ １ はアルキレン基を表し、ｎは０又は１を表す。式（２）中のＲ ２ はＲ １ とは異なるアルキレン基を表し、ｍは０又は１を表す。式（３）中、Ｒ ３ はそれぞれ独立に、アルキル基を表す。
    式（Ａ）中、Ｒ ４ は水素原子又はアルキル基を表し、Ｘ Ａ は単結合又は２価の連結基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１以上の整数を表し、Ｚ Ａ は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｌ Ａ１ 及びＬ Ａ２ は、それぞれ前記構成単位Ｌ１及び前記構成単位Ｌ２を表し、ｐ及びｑの和が５より大きい。
  2. 前記組成物を加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、前記膜中には前記白色粒子を含む第１の相と、前記第１の相よりも前記白色粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成される、請求項１に記載の組成物。
  3. 前記組成物を加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、前記膜の波長４００～１，０００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下である、請求項１又は２に記載の組成物。
  4. 前記樹脂の少なくとも１種が、前記条件１を満たす、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 前記構成単位Ｂが式（Ｂ）で表される構成単位である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物；

    式（Ｂ）中、Ｒ４は水素原子又はアルキル基を表し、ＸＢは単結合又は２価の連結基を表し、ＺＢは、水素原子、又は、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基、及び、チオール基からなる群から選択される酸性基若しくはその誘導体基を表し、ＺＢが水素原子の場合は、ＸＢは単結合を表す。
  6. 前記式（Ａ）におけるｐ及びｑの和が、１２０未満である、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 前記構成単位Ｌ２に対する前記構成単位Ｌ１の質量比が、５０／５０より大きく、９５／５未満である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. 前記構成単位Ｌ２として式（２）で表される構成単位を含み、前記式（１）におけるＲ１、及び、前記式（２）におけるＲ２が、それぞれ、エチレン基、プロピレン基、１－エチルエチレン基、トリメチレン基、１－メチルトリメチレン基、１－ブチルトリメチレン基、テトラメチレン基、２－メチルテトラメチレン基、１－トリデシルテトラメチレン基、ペンタメチレン基、１－メチルペンタメチレン基、３－メチルペンタメチレン基、１－エチルペンタメチレン基、又は、１－デシルペンタメチレン基である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 前記樹脂Ａの酸価が２０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 前記膜形成成分が、前記樹脂Ａとは異なる樹脂である樹脂Ｂを更に含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物。
  11. 前記樹脂Ａと、前記樹脂Ｂのうち、一方が前記白色粒子の分散剤であり、他方がバインダーである、請求項１０に記載の組成物。
  12. 前記樹脂Ａと、前記樹脂ＢとのＳＰ値の差が、０．２０ＭＰａ０．５以上である、請求項１０又は１１に記載の組成物。
  13. 前記樹脂Ｂが星型高分子である、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の組成物。
  14. 前記樹脂Ｂの重量平均分子量が、５，０００以上である、請求項１０～１３のいずれか１項に記載の組成物。
  15. １００質量部の前記樹脂Ａに対して、前記樹脂Ｂを１０～２５０質量部含む、請求項１０～１４のいずれか１項に記載の組成物。
  16. 請求項１～１５のいずれか１項に記載の組成物からなる膜。
  17. 屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の白色粒子と、樹脂及び重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分又は前記膜形成成分の硬化物とを含む膜であって、
    前記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、又は、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
    前記樹脂の少なくとも１種が、式量が１，０００以上である構成単位Ａであって、かつ、構成単位ＧＦを含む構成単位Ａと、酸性基を有する構成単位Ｂとを含有し、下記条件１を満たす樹脂Ａであり、
    前記構成単位ＧＦは、下記式（１－１）で表される構成単位、及び、下記式（１－２）で表される構成単位よりなる群から選択される構成単位であり、
    前記構成単位Ａが、式（１）で表される構成単位Ｌ１と、式（２）で表される構成単位、及び、式（３）で表される構成単位からなる群から選択される構成単位Ｌ２と、を含有し、
    前記構成単位Ａが式（Ａ）で表される構成単位であり、
    樹脂Ａの酸価が１０～２５０ｍｇ／ＫＯＨである
    膜；
    条件１：前記構成単位Ａが２種以上の構成単位ＧＦを含有する分子鎖を含む；

    式（１－１）又は式（１－２）中、ＲＡは２価の有機基を表し、ＲＢは２価の有機基を表す。
    式（１）中のＲ １ はアルキレン基を表し、ｎは０又は１を表す。式（２）中のＲ ２ はＲ １ とは異なるアルキレン基を表し、ｍは０又は１を表す。式（３）中、Ｒ ３ はそれぞれ独立に、アルキル基を表す。
    式（Ａ）中、Ｒ ４ は水素原子又はアルキル基を表し、Ｘ Ａ は単結合又は２価の連結基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１以上の整数を表し、Ｚ Ａ は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｌ Ａ１ 及びＬ Ａ２ は、それぞれ前記構成単位Ｌ１及び前記構成単位Ｌ２を表し、ｐ及びｑの和が５より大きい。
  18. 請求項１６又は１７に記載の膜を含む光センサ。
JP2022511643A 2020-03-30 2021-02-17 組成物、膜及び光センサ Active JP7470780B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020060819 2020-03-30
JP2020060819 2020-03-30
PCT/JP2021/005797 WO2021199748A1 (ja) 2020-03-30 2021-02-17 組成物、膜及び光センサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021199748A1 JPWO2021199748A1 (ja) 2021-10-07
JP7470780B2 true JP7470780B2 (ja) 2024-04-18

Family

ID=77928902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022511643A Active JP7470780B2 (ja) 2020-03-30 2021-02-17 組成物、膜及び光センサ

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP4130147A4 (ja)
JP (1) JP7470780B2 (ja)
TW (1) TW202136364A (ja)
WO (1) WO2021199748A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2022196599A1 (ja) * 2021-03-19 2022-09-22
US20230197749A1 (en) * 2021-12-22 2023-06-22 Visera Technologies Company Ltd. Light diffuser, image sensor package having the same, and manufacturing method thereof

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004050775A1 (ja) 2002-12-05 2004-06-17 Tokuyama Corporation コーティング組成物および光学物品
JP2008285385A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Toagosei Co Ltd 炭酸カルシウム用分散剤
WO2010024188A1 (ja) 2008-08-27 2010-03-04 株式会社村田製作所 セラミック成形体および積層型セラミック電子部品の製造方法
CN105384592A (zh) 2015-12-04 2016-03-09 湖北航天化学技术研究所 一种采用高分子材料对粉体物料进行包覆的方法
JP6172555B2 (ja) 2014-11-21 2017-08-02 株式会社村田製作所 ウエハの接合方法
WO2018066296A1 (ja) 2016-10-04 2018-04-12 富士フイルム株式会社 分散組成物、硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、赤外線センサ、分散組成物の製造方法、硬化性組成物の製造方法、及び、硬化膜の製造方法
WO2018173570A1 (ja) 2017-03-24 2018-09-27 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2023195295A1 (ja) 2022-04-06 2023-10-12 住友電気工業株式会社 光ファイバ被覆用の樹脂組成物、光ファイバの着色被覆材料、光ファイバ、及び光ファイバリボン

Family Cites Families (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
NL1016815C2 (nl) 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
EP1395615B1 (en) 2001-06-11 2009-10-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a combined structure
JP2003261827A (ja) 2002-03-07 2003-09-19 Sekisui Chem Co Ltd 着色樹脂エマルジョン、インクジェット印刷用インク及びカラーフィルター
JP4305608B2 (ja) 2002-03-11 2009-07-29 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ保護膜用組成物および保護膜
JP2003185831A (ja) 2002-11-14 2003-07-03 Seiko Epson Corp カラーフィルタ及びその製造方法、液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器
JP2006169325A (ja) 2004-12-14 2006-06-29 Sony Corp インクジェット用記録液、インクカートリッジ、およびインクジェット記録方法
CN101312909B (zh) 2005-11-25 2011-11-16 日挥触媒化成株式会社 中空二氧化硅微粒、含有该微粒的透明涂膜形成用组合物、及覆有透明涂膜的基材
JP5354863B2 (ja) 2006-02-24 2013-11-27 富士フイルム株式会社 オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
US20090292039A1 (en) 2006-12-27 2009-11-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
US8349548B2 (en) 2007-05-11 2013-01-08 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2009041400A1 (ja) 2007-09-26 2009-04-02 Fujifilm Corporation ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
JP2009145395A (ja) 2007-12-11 2009-07-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd プリウェット剤及びそのプリウェット剤を用いたレジスト保護膜形成方法
JP5344843B2 (ja) 2008-03-31 2013-11-20 富士フイルム株式会社 重合性組成物および固体撮像素子
JP5339781B2 (ja) 2008-05-30 2013-11-13 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
EP2285836B1 (en) 2008-06-06 2012-01-18 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5371313B2 (ja) 2008-07-28 2013-12-18 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示素子
JP2010054632A (ja) 2008-08-26 2010-03-11 Fujifilm Corp ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
JP2010164965A (ja) 2008-12-19 2010-07-29 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルタ画素形成用組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機ｅｌディスプレイ
JP5702925B2 (ja) 2008-12-26 2015-04-15 株式会社日本触媒 α−アリルオキシメチルアクリル酸系重合体及びその製造方法
JP2010262028A (ja) 2009-04-30 2010-11-18 Nippon Steel Chem Co Ltd ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物
TWI605063B (zh) 2009-11-25 2017-11-11 住友化學股份有限公司 Resin composition and display device
WO2011119272A2 (en) 2010-03-22 2011-09-29 Henkel Corporation Macro-photoinitiators and curable compositions thereof
JP5734602B2 (ja) 2010-08-26 2015-06-17 富士フイルム株式会社 赤色着色組成物、着色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP2011252065A (ja) 2010-06-01 2011-12-15 Fujifilm Corp 顔料分散組成物、着色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP2012014052A (ja) 2010-07-02 2012-01-19 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
EP2625166B1 (en) 2010-10-05 2014-09-24 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
JP2012126830A (ja) 2010-12-15 2012-07-05 Sony Corp インクジェット用インク組成物、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
JP5816428B2 (ja) 2010-12-24 2015-11-18 富士フイルム株式会社 固体撮像素子のカラーフィルタ用感光性透明組成物、並びに、これを用いた固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子のカラーフィルタ、及び、固体撮像素子
US9052458B2 (en) 2011-03-17 2015-06-09 Fujifilm Corporation Radiation-sensitive colored composition, colored cured film, color filter and method of producing the same, solid-state imaging device, liquid crystal display apparatus, and method of producing dye
JP5657442B2 (ja) 2011-03-22 2015-01-21 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5623958B2 (ja) 2011-03-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5851141B2 (ja) 2011-07-29 2016-02-03 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
JP2013043962A (ja) 2011-08-26 2013-03-04 Fujifilm Corp 着色剤含有粒子、着色剤含有粒子分散液、及び高分子化合物
JP2013064993A (ja) 2011-08-31 2013-04-11 Fujifilm Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
JP2013068814A (ja) 2011-09-22 2013-04-18 Fujifilm Corp 着色感放射線性組成物、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子
JP2013114249A (ja) 2011-12-01 2013-06-10 Toppan Printing Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
JP6113181B2 (ja) 2011-12-07 2017-04-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ オキシムエステル光開始剤
JP5772642B2 (ja) 2012-02-09 2015-09-02 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子
CN104284888B (zh) 2012-05-09 2017-10-27 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP6032591B2 (ja) 2012-05-16 2016-11-30 国立大学法人 名古屋工業大学 シリカナノ中空粒子の製造方法
JP2013249417A (ja) 2012-06-01 2013-12-12 Fujifilm Corp 分散組成物、並びに、これを用いた、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、及び、撮像ユニット
JP5946389B2 (ja) 2012-07-27 2016-07-06 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5894943B2 (ja) * 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP6088794B2 (ja) 2012-10-31 2017-03-01 富士フイルム株式会社 積層体およびこれを有するカラーフィルタ
JP6126975B2 (ja) 2012-11-16 2017-05-10 富士フイルム株式会社 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6065596B2 (ja) 2013-01-16 2017-01-25 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子
WO2015004565A1 (en) 2013-07-08 2015-01-15 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP6530410B2 (ja) 2013-09-10 2019-06-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ オキシムエステル光開始剤
JP5968291B2 (ja) 2013-09-30 2016-08-10 太陽インキ製造株式会社 プリント配線板用白色硬化型組成物、これを用いた硬化塗膜及びプリント配線板
WO2015053183A1 (ja) * 2013-10-11 2015-04-16 富士フイルム株式会社 感光性組成物、分散組成物、これを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP6198058B2 (ja) 2013-12-19 2017-09-20 Dic株式会社 界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物
JP5898172B2 (ja) 2013-12-27 2016-04-06 コダマ樹脂工業株式会社 耐薬品性吹込み成形積層容器
JP2015157893A (ja) 2014-02-24 2015-09-03 日本化薬株式会社 インドレニン化合物
CN103819583B (zh) 2014-03-18 2016-05-18 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
JP6340871B2 (ja) 2014-03-31 2018-06-13 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP6595983B2 (ja) 2014-04-04 2019-10-23 株式会社Ａｄｅｋａ オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
KR101966125B1 (ko) 2014-05-01 2019-04-05 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물, 막, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서
CN104076606B (zh) 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
WO2016034963A1 (en) 2014-09-04 2016-03-10 Basf Se Polycyclic photoinitiators
EP3032583B1 (en) 2014-12-08 2020-03-04 ams AG Integrated optical sensor and method of producing an integrated optical sensor
JP2016161859A (ja) 2015-03-04 2016-09-05 株式会社ダイセル 等方性光散乱シート及びその製造方法並びにその用途
JP6628072B2 (ja) 2015-05-20 2020-01-08 Dic株式会社 フッ素系界面活性剤およびこれを含有する組成物
KR20180017055A (ko) 2015-06-15 2018-02-20 토요잉크Sc홀딩스주식회사 감광성 조성물, 컬러필터용 감광성 조성물, 및 컬러필터
CN107923689B (zh) 2015-08-26 2020-05-19 普和希控股公司 超低温冰箱
WO2017051680A1 (ja) 2015-09-25 2017-03-30 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤
JP6750249B2 (ja) 2016-02-26 2020-09-02 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP6689360B2 (ja) 2016-02-29 2020-04-28 富士フイルム株式会社 分散組成物、硬化性組成物、遮光膜、カラーフィルタ、固体撮像装置、画像表示装置、樹脂、および、硬化膜の製造方法
JP6688875B2 (ja) 2016-03-14 2020-04-28 富士フイルム株式会社 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
KR101727429B1 (ko) 2016-03-16 2017-04-14 주식회사 수콘 휴대단말기 스피커용 인쇄회로기판형 진동장치
JP6762739B2 (ja) 2016-03-17 2020-09-30 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置
KR20180124013A (ko) 2016-03-25 2018-11-20 도레이 카부시키가이샤 착색 수지 조성물, 컬러 필터 기판, 및 액정 표시 장치
JP2018087956A (ja) 2016-04-26 2018-06-07 Jsr株式会社 着色硬化膜の製造方法及びカラーフィルタの画素パターンの形成方法
JP6860978B2 (ja) 2016-04-27 2021-04-21 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP6859353B2 (ja) * 2016-08-25 2021-04-14 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及びその製造方法、硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、並びに、赤外線センサ
JPWO2018056127A1 (ja) * 2016-09-20 2019-08-29 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収有機顔料、顔料分散液、硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
KR102302380B1 (ko) 2017-03-07 2021-09-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 광 센서 및 분산제
JP6994044B2 (ja) * 2017-10-06 2022-01-14 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004050775A1 (ja) 2002-12-05 2004-06-17 Tokuyama Corporation コーティング組成物および光学物品
JP2008285385A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Toagosei Co Ltd 炭酸カルシウム用分散剤
WO2010024188A1 (ja) 2008-08-27 2010-03-04 株式会社村田製作所 セラミック成形体および積層型セラミック電子部品の製造方法
JP6172555B2 (ja) 2014-11-21 2017-08-02 株式会社村田製作所 ウエハの接合方法
CN105384592A (zh) 2015-12-04 2016-03-09 湖北航天化学技术研究所 一种采用高分子材料对粉体物料进行包覆的方法
WO2018066296A1 (ja) 2016-10-04 2018-04-12 富士フイルム株式会社 分散組成物、硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、赤外線センサ、分散組成物の製造方法、硬化性組成物の製造方法、及び、硬化膜の製造方法
WO2018173570A1 (ja) 2017-03-24 2018-09-27 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2023195295A1 (ja) 2022-04-06 2023-10-12 住友電気工業株式会社 光ファイバ被覆用の樹脂組成物、光ファイバの着色被覆材料、光ファイバ、及び光ファイバリボン

Also Published As

Publication number Publication date
TW202136364A (zh) 2021-10-01
WO2021199748A1 (ja) 2021-10-07
EP4130147A4 (en) 2023-08-09
EP4130147A1 (en) 2023-02-08
JPWO2021199748A1 (ja) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6893236B2 (ja) 組成物、膜、光センサおよび分散剤
JP6744921B2 (ja) 分散液、組成物、膜、膜の製造方法および分散剤
WO2020262270A1 (ja) 組成物、膜および光センサ
JP7470780B2 (ja) 組成物、膜及び光センサ
JP7016891B2 (ja) 組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物の製造方法
WO2017175545A1 (ja) 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
JP2024014989A (ja) 着色感光性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置
JP7312824B2 (ja) 組成物、膜および光センサ
JP7167312B2 (ja) 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2023054142A1 (ja) 組成物、樹脂、膜および光センサ
WO2022024554A1 (ja) 着色組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、並びに、樹脂及びその製造方法
WO2023210394A1 (ja) 組成物、膜、光センサおよび光センサの製造方法
TWI842917B (zh) 組成物、膜及光感測器
WO2022196599A1 (ja) 膜および光センサ
WO2024053471A1 (ja) 光硬化性組成物、膜、光センサおよび光センサの製造方法
JP7437422B2 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
JP7507865B2 (ja) 着色組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、並びに、樹脂及びその製造方法
JP7344370B2 (ja) 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置
WO2024043111A1 (ja) 感光性組成物、膜および光センサ
JP2023099085A (ja) 樹脂、硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置及び高分子化合物
JP2023143987A (ja) 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220823

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230912

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20231026

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240110

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240408

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7470780

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150