JP6126975B2 - 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法 - Google Patents

白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6126975B2
JP6126975B2 JP2013231334A JP2013231334A JP6126975B2 JP 6126975 B2 JP6126975 B2 JP 6126975B2 JP 2013231334 A JP2013231334 A JP 2013231334A JP 2013231334 A JP2013231334 A JP 2013231334A JP 6126975 B2 JP6126975 B2 JP 6126975B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
white
photosensitive resin
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013231334A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015034961A (ja
Inventor
翔一 中村
翔一 中村
高桑 英希
英希 高桑
嶋田 和人
和人 嶋田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2013231334A priority Critical patent/JP6126975B2/ja
Publication of JP2015034961A publication Critical patent/JP2015034961A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6126975B2 publication Critical patent/JP6126975B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0209Inorganic, non-metallic particles

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

本発明は、白色感光性樹脂組成物、これを用いた白色硬化膜、白色パターン、及びその製造方法に関する。
プリント配線板は、一般的に積層板に張り合わせた銅箔の不用な部分をエッチングにより除去して回路配線を形成したものであり、電子部品がはんだ付けにより所定の場所に配置されている。このようなプリント配線板の作製には、ソルダーレジスト膜が使用されている。すなわち、ソルダーレジスト膜は、電子部品をはんだ付けする際の回路の保護膜として使用される。ソルダーレジスト膜は、はんだ付けの際に、はんだが不必要な部分に付着するのを防止すると共に、回路導体が空気に直接曝されて、酸素や湿分と反応することを防止する。さらに、回路基板の永久保護膜としても機能する。そのため、密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性などの諸特性が要求される。
特に、半田リフロー時の高温に晒されたり、または光が照射されたりしたときに、白色から変色し難いことが要求される。
例えば、特許文献1には、スレン系青色染料を用い、熱履歴による変色を抑えた硬化物が得られる白色感光性樹脂組成物が記載されているが、着色剤の添加が要求され、また、パターンの解像性に課題があった。
プリント配線板は、高密度化実現のため微細化(ファイン化)、多層化及びワンボード化の一途をたどっており、実装方式も、表面実装技術(SMT)へと推移している。そのため、ソルダーレジスト膜も、ファイン化、高解像性、高精度、高信頼性の要求が高まっている。
このようなソルダーレジストのパターンを形成する技術として、微細なパターンを正確に形成できるフォトレジスト法が主流となっており、特に、環境面の配慮等から、アルカリ現像型のフォトレジスト法が主流となっている。
例えば、特許文献2には、オキシムエステル系光重合開始剤を使用した白色感光性樹脂組成物が開示され、パターン潜像を正確に形成することができることが記載されているが、耐着色性について課題があった。
特開2012−150461号公報 特開2008−134621号公報
本発明は上記従来技術の課題に鑑みなされたものであり、加熱(例えば、265℃15分)しても黄変等の着色し難く、ホール径50μm以下のホールパターン等の微細なパターンを有する白色硬化膜を形成し得る白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、白色パターン、及びその製造方法を提供することを目的とする。
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
[1]
(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び(E)着色防止剤を含有し、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、光電変換素子基板上の塗布に供される、白色感光性樹脂組成物。

上記一般式(A)中、
、R及びRは、各々独立に、1価の置換基を表す。
[2]
(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び(E)着色防止剤を含有し、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、前記バインダーポリマー(A)が下記一般式(ED)で表される化合物の単量体成分を含む、白色感光性樹脂組成物。

上記一般式(A)中、
、R 及びR は、各々独立に、1価の置換基を表す。

上記一般式(ED)中、
及びR は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。

二酸化チタン(D)の平均粒径が180nm以上である、[1]又は[2]に記載の白色感光性樹脂組成物。

二酸化チタン(D)の含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中35質量%以上である[1]〜[3]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。

前記着色防止剤(E)がフェノール化合物である、[1]〜[]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。

前記着色防止剤(E)がフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するフェノール化合物である、[1]〜[]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。

分散剤を更に含有し、バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24質量%以上46質量%以下である[1]〜[]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。

バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中30質量%以上46質量%以下である[]に記載の白色感光性樹脂組成物。

前記分散剤が、吸着部位を有する高分子分散剤である、[]又は[]に記載の白色感光性樹脂組成物。
10
前記吸着部位が酸系吸着部位である、[]に記載の白色感光性樹脂組成物。
11
前記酸系吸着部位がリン原子含有基またはカルボン酸基の少なくとも一方である、[10]に記載の白色感光性樹脂組成物。
[12]
前記高分子分散剤が下記一般式(1)で表される、[]に記載の白色感光性樹脂組成物。

上記一般式(1)中、
は、(m+n)価の連結基を表し、Rは単結合又は2価の連結基を表す。Aは酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。n個のA及びRは、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
mは8以下の正の数、nは1〜9を表し、m+nは3〜10を満たす。
はポリマー鎖を表す。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。
[13]
(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び分散剤を含有し、前記バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%であり、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、光電変換素子基板上の塗布に供される、白色感光性樹脂組成物。

上記一般式(A)中、
、R及びRは、各々独立に、1価の置換基を表す。
[14]
(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び分散剤を含有し、前記バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%であり、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、前記バインダーポリマー(A)が下記一般式(ED)で表される化合物の単量体成分を含む、白色感光性樹脂組成物。

上記一般式(A)中、
、R 及びR は、各々独立に、1価の置換基を表す。

上記一般式(ED)中、
及びR は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
15
前記バインダーポリマー(A)がカルボキシル基を有する単量体を含む、[1]〜[14]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
16
前記バインダーポリマー(A)がエポキシ基を有する単量体を含む、[1]〜[15]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
17
前記バインダーポリマー(A)がラジカル重合性二重結合を有する単量体を含む、[1]〜[16]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
18
前記バインダーポリマー(A)が下記一般式(ED)で表される化合物の単量体成分を含む、[1]又は[13]に記載の白色感光性樹脂組成物。

上記一般式(ED)中、
及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
19
前記バインダーポリマー(A)の酸価が50〜400mgKOH/gである、[2]、[14]又は[18]に記載の白色感光性樹脂組成物。
20
バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中30〜46質量%である、[13]に記載の白色感光性樹脂組成物。
21
265℃15分の加熱前後の色差ΔE*abが3以下の白色硬化膜を形成し得る、[1]〜[20]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
22
265℃15分の加熱前後の色差ΔE*abが2以下の白色硬化膜を形成し得る、[1]〜[21]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
23
ホール径50μm以下のホールパターンを有する白色硬化膜を形成し得る、[1]〜[22]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
24
[1]〜[23]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物を用いて形成された白色硬化膜。
25
基板上に、[1]〜[23]のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物を塗布して白色膜を形成する工程と、前記白色膜をマスクを介して露光する工程と、露光後の前記白色膜を現像して白色パターンを形成する工程とを有する白色パターンの製造方法。
なお、本発明は上記[1]〜[25]に記載の構成を有するものであるが、以下その他についても参考のため記載した。
<1>
(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び(E)着色防止剤を含有する白色感光性樹脂組成物。
<2>
二酸化チタン(D)の平均粒径が180nm以上である、<1>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<3>
二酸化チタン(D)の含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中35質量%以上である<1>又は<2>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<4>
上記着色防止剤(E)がフェノール化合物である、<1>〜<3>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
<5>
上記着色防止剤(E)がフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するフェノール化合物である、<1>〜<4>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
<6>
分散剤を更に含有し、バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24質量%以上46質量%以下である<1>〜<5>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
<7>
バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中30質量%以上46質量%以下である<6>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<8>
上記分散剤が、吸着部位を有する高分子分散剤である、<6>又は<7>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<9>
前記吸着部位が酸系吸着部位である、<8>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<10>
前記酸系吸着部位がリン原子含有基またはカルボン酸基の少なくとも一方である、<9>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<11>
前記高分子分散剤が酸系吸着部位としてリン原子含有基を有する高分子分散剤であり、前記高分子分散剤がソルスパース26000、36000、又は41000(いずれもルーブリゾール社製)である、<10>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<12>
前記高分子分散剤が下記一般式(1)で表される、<8>に記載の白色感光性樹脂組成物。
上記一般式(1)中、
は、(m+n)価の連結基を表し、Rは単結合又は2価の連結基を表す。Aは酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。n個のA及びRは、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
mは8以下の正の数、nは1〜9を表し、m+nは3〜10を満たす。
はポリマー鎖を表す。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。
<13>
重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物である、<1>〜<12>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
上記一般式(A)中、
、R及びRは、各々独立に、1価の置換基を表す。
<14>
(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び分散剤を含有し、バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%である、白色感光性樹脂組成物。
<15>
バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中30〜46質量%である、<14>に記載の白色感光性樹脂組成物。
<16>
265℃15分の加熱前後の色差ΔE*abが3以下の白色硬化膜を形成し得る、<1>〜<15>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
<17>
265℃15分の加熱前後の色差ΔE*abが2以下の白色硬化膜を形成し得る、<1>〜<16>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
<18>
ホール径50μm以下のホールパターンを有する白色硬化膜を形成し得る<1>〜<17>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
<19>
<1>〜<18>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物を用いて形成された白色硬化膜。
<20>
基板上に、<1>〜<18>のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物を塗布して白色膜を形成する工程と、前記白色膜をマスクを介して露光する工程と、露光後の前記白色膜を現像して白色パターンを形成する工程とを有する白色パターンの製造方法。
<21>
<20>に記載の製造方法により製造された白色パターン。
本発明によれば、加熱(例えば、265℃15分)しても黄変等の着色し難く、ホール径50μm以下のホールパターン等の微細なパターンを有する白色硬化膜を形成し得る白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、白色パターン、及びその製造方法を提供することができる。
本明細書に於ける基(原子団)の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
なお、本明細書において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタアクリレートを表し、“(メタ)アクリルはアクリル及びメタアクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本発明における単量体は、オリゴマー及びポリマーと区別され、質量平均分子量が2,000以下の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基を言う。
<白色感光性樹脂組成物>
本発明の白色感光性樹脂組成物は、(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び(E)着色防止剤を含有する。これにより、例えば、265℃15分の加熱前後の色差ΔEabが5以下であり、好ましくは3以下であり、かつホール径50μm以下のホールパターンを有する白色硬化膜を形成し得る。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、加熱(例えば、265℃15分)しても着色し難く、かつホール径50μm以下(好ましくは40μm以下、より好ましくは30μm以下、さらに好ましくは20μm以下)の微細なパターンを形成し得る白色硬化膜を形成することができる。このような微細なパターンを有する白色硬化膜を形成することができる性能を、以下、単に「解像性」ということもある。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、265℃15分の加熱前後の色差ΔEabが5以下(3以下であることがより好ましく、2以下であることが更に好ましく、1以下であることが特に好ましい)の白色硬化膜を形成し得るものが好ましい。これにより白色硬化膜の黄変等の着色の防止を規定することができる。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、膜厚4.0μmの白色硬化膜を形成した時、該硬化膜の厚み方向に対する光透過率が、400〜700nmの波長領域全域に渡って5%未満となる組成物であることが好ましく、3%未満となる組成物であることがより好ましい。
すなわち、本発明の白色硬化膜は、膜厚4.0μmにおいて、膜の厚み方向に対する光透過率が、400〜700nmの波長領域全域に渡って5%未満であることが好ましく、3%未満であることがより好ましい。
[(A)バインダーポリマー]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、皮膜特性向上などの観点から、バインダーポリマーを含有する。
バインダーポリマーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭54−92723号公報公報、特開昭59−53836号公報、特開昭59−71048号公報に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、4−カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
本発明において、バインダーポリマーとして、共重合体を用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記(1)〜(12)の化合物が挙げられる。
(1)2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、2−フェニルビニルアクリレート、1−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、2−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、1−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、N,N−ジアリルアクリルアミド、N,N−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、p−アセトキシスチレン等のスチレン類。
(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(12)α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特開2002−309057号、特開2002−311569号等の各公報に記載の化合物を挙げる事ができる。
本発明において、これらのモノマーは本発明の範囲内において特に制限なく組み合わせることによって、共重合体の合成に適用できる。例えば下記にこれらのモノマーを含む単量体成分を重合してなる共重合体の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記に示す例示化合物の組成比はモル%である。
前記バインダーポリマーには、下記一般式(ED)で表される化合物(以下「エーテルダイマー」と称することもある。)の単量体成分を重合してなる繰り返し単位を含むことが好ましい。
(式(ED)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。)
これにより、本発明の白色感光性樹脂組成物は、例えば、265℃15分等の加熱に対する耐着色性に優れる白色硬化膜を形成しうる。前記エーテルダイマーを示す前記一般式(ED)中、R及びRで表される置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、t−アミル、ステアリル、ラウリル、2−エチルヘキシル等の直鎖状又は分岐状のアルキル基;フェニル等のアリール基;シクロヘキシル、t−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、2−メチル−2−アダマンチル等の脂環式基;1−メトキシエチル、1−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基;ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基;等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい1級又は2級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。
エーテルダイマーの具体例としては、特開2012−208494号の段落[0565](対応する米国特許出願公開第2012/235099号明細書の[0694])に記載のエーテルダイマーの具体例が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
エーテルダイマーの具体例としては、特に、ジメチル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジエチル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジシクロヘキシル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジベンジル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、1種のみ使用してもよいし、2種以上使用してもよい。また、前記一般式(ED)で示される化合物由来の構造体は、その他のモノマーを共重合させてもよい。
エーテルダイマーと共に共重合しうるその他の単量体としては、例えば、酸基を導入するための単量体、ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体、エポキシ基を導入するための単量体、及び、これら以外の他の共重合可能な単量体が挙げられる。このような単量体は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
酸基を導入するための単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられる。これらの中でも特に、(メタ)アクリル酸が好ましい。
また、酸基を導入するための単量体は、重合後に酸基を付与しうる単量体であってもよく、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する単量体、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有する単量体、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート等のイソシアネート基を有する単量体等が挙げられる。ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体を用いる場合、重合後に酸基を付与しうる単量体を用いる場合、重合後に酸基を付与する処理を行うことが要求され得る。重合後に酸基を付与する処理は、単量体の種類によって異なり、例えば、次の処理が挙げられる。水酸基を有する単量体を用いる場合であれば、例えば、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物等の酸無水物を付加させる処理が挙げられる。エポキシ基を有する単量体を用いる場合であれば、例えば、N−メチルアミノ安息香酸、N−メチルアミノフェノール等のアミノ基と酸基を有する化合物を付加させか、又は、例えば(メタ)アクリル酸のような酸を付加させた後に生じた水酸基に、例えば、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物等の酸無水物を付加させる処理が挙げられる。イソシアネート基を有する単量体を用いる場合であれば、例えば、2−ヒドロキシ酪酸等の水酸基と酸基を有する化合物を付加させる処理が挙げられる。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、酸基を導入するための単量体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、5〜70質量%が好ましく、より好ましくは10〜60質量%である。
ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体としては、例えば、例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー;グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−(またはm−、またはp−)ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマー;等が挙げられる。ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体を用いる場合、重合後にラジカル重合性二重結合を付与するための処理を行う必要がある。重合後にラジカル重合性二重結合を付与するための処理は、用いるラジカル重合性二重結合を付与しうるモノマーの種類によって異なり、例えば、次の処理が挙げられる。(メタ)アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマーを用いる場合であれば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−(またはm−、またはp−)ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させる処理が挙げられる。無水マレイン酸や無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマーを用いる場合であれば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させる処理が挙げられる。グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−(またはm−、またはp−)ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマーを用いる場合であれば、(メタ)アクリル酸等の酸基とラジカル重合性二重結合とを有する化合物を付加させる処理が挙げられる。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、ラジカル重合性二重結合を導入するための単量体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、5〜70質量量%が好ましく、より好ましくは10〜60質量%である。
エポキシ基を導入するための単量体としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−(またはm−、またはp−)ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、エポキシ基を導入するための単量体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、全単量体成分中、5〜70質量%が好ましく、より好ましくは10〜60質量%である。
他の共重合可能な単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸メチル2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル類;スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物;N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のN−置換マレイミド類;ブタジエン、イソプレン等のブタジエンまたは置換ブタジエン化合物;エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレンまたは置換エチレン化合物;酢酸ビニル等のビニルエステル類;等が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、スチレンが、透明性が良好で、耐熱性を損ないにくい点で好ましい。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が、他の共重合可能な単量体を含む場合、その含有割合は特に制限されないが、95質量%以下が好ましく、85質量%以下であるのがより好ましい。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体の重量平均分子量は、特に制限されないが、白色感光性樹脂組成物の粘度、及び該組成物により形成される塗膜の耐熱性の観点から、好ましくは2000〜200000、より好ましくは5000〜100000であり、更に好ましくは5000〜20000である。
また、一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体が酸基を有する場合には、酸価が、好ましくは30〜500mgKOH/g、より好ましくは50〜400mgKOH/gであるのがよい。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体は、少なくとも、エーテルダイマーを含む前記の単量体を重合することにより、容易に得ることができる。このとき、重合と同時にエーテルダイマーの環化反応が進行してテトラヒドロピラン環構造が形成される。
一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体の合成に適用される重合方法としては、特に制限はなく、従来公知の各種重合方法を採用することができるが、特に、溶液重合法によることが好ましい。詳細には、例えば、特開2004−300204号公報に記載されるポリマー(a)の合成方法に準じて、一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体を合成することができる。
以下、一般式(ED)で表される化合物を含む単量体成分を重合してなる重合体の例示化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記に示す例示化合物の組成比はモル%である。
本発明では特に、ジメチル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート(以下「DM」と称する)、ベンジルメタクリレート(以下「BzMA」と称する)、メタクリル酸メチル(以下「MMA」と称する)、メタクリル酸(以下「MAA」と称する)、2−ヒドロキシプロピレングリコールジメタクリレート(以下「X」と称する)を共重合させた重合体が好ましい。特に、DM:BzMA:MMA:MAA:Xのモル比が5〜15:40〜50:5〜15:5〜15:20〜30であることが好ましい。本発明で用いる共重合体を構成する成分の95質量%以上がこれらの成分であることが好ましい。また、かかる重合体の重量平均分子量は9000〜20000であることが好ましい。
本発明で用いる重合体は、重量平均分子量(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)が1000〜2×10であることが好ましく、2000〜1×10であることがより好ましく、5000〜5×10であることがさらに好ましい。
本発明の白色感光性樹脂組成物で使用しうるバインダーポリマーの重量平均分子量(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)としては、好ましくは5,000以上であり、更に好ましくは1万以上30万以下の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1,000以上であり、更に好ましくは2,000以上25万以下の範囲である。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1以上10以下の範囲である。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
本発明で用いうるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
本発明の白色感光性樹脂組成物において用いうるバインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
本発明の白色感光性樹脂組成物において、バインダーポリマーは、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
バインダーポリマーの含有量は、白色感光性樹脂組成物の全固形分に対して、1質量%以上60質量%以下であることが好ましく、3質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上46質量%以下であることが更に好ましく、20質量%以上46質量%以下であることがより更に好ましく、24質量%以上46質量%以下であることが特に好ましい。
[(B)重合性モノマー]
(B)重合性モノマーとして、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を使用することが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物を使用することがより好ましい。このような化合物は当該技術分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。
また、(B)重合性モノマーとしては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート及びこれらの混合物を挙げることができ、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートであることが好ましい。
中でも、重合性モノマー等としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としては、A−TMMT;新中村化学工業株式会社製)、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(市販品としては KAYARAD D−330;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としては KAYARAD D−320;日本化薬株式会社製)ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としては KAYARAD D−310;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としては KAYARAD DPHA;日本化薬株式会社製)が好ましく、ペンタエリスリトールテトラアクリレートがより好ましい。
重合性モノマー等としては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していても良い。従って、エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入しても良い。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。
本発明において、酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び/又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのM−305、M−510、M−520などが挙げられる。
酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、0.1〜40mg−KOH/gであり、特に好ましくは5〜30mg−KOH/gである。異なる酸基の多官能モノマーを2種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸価が上記範囲に入るように調製することが必須である。
これらの重合性モノマーについて、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、白色感光性樹脂組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、白色感光性樹脂組成物に含有される他の成分(例えば、重合開始剤、二酸化チタン粒子等)との相溶性、分散性に対しても、重合性モノマーの選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の他の成分の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
白色感光性樹脂組成物の全固形分に対して、(B)重合性モノマーの含有量は、1質量%〜40質量%の範囲であることが好ましく、3質量%〜35質量%の範囲であることがより好ましく、5質量%〜30質量%の範囲であることが更に好ましい。
この範囲内であると、着色を防ぎ、かつ硬化性が良好で好ましい。
[(C)重合開始剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、重合開始剤(C)を含有する。これにより硬化性が向上される。
前記重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の重合開始剤の中から適宜選択することができる。
また、後述する放射線照射による露光工程における硬化を良好にする観点などから、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感放射線性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記重合開始剤は、約300nm〜800nm(330nm〜500nmがより好ましい。)の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも1種含有していることが好ましい。
重合開始剤としては、オキシム系化合物であることが好ましく、オキシムエステル系化合物であることがより好ましい。
オキシム系開始剤の具体例としては、特開2001−233842号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、特開2006−342166号公報記載の化合物を用いることができる。
本発明で重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−(4−トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン−2−オン、及び2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オンなどが挙げられる。
オキシムエステル化合物としては、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653−1660)、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156−162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年)pp.202−232、Journal of Applied Polymer Science(2012年)pp.725−731、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報、特表2004−534797号公報、特開2006−342166号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
また上記記載以外のオキシムエステル化合物として、カルバゾールN位にオキシムが連結した特表2009−519904号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許7626957号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開2010−15025号公報及び米国特許公開2009−292039号記載の化合物、国際公開特許2009−131189号公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許7556910号公報に記載の化合物、405nmに吸収極大を有しg線光源に対して良好な感度を有する特開2009−221114号公報記載の化合物などを用いてもよい。
さらに、特開2007−231000号公報、及び、特開2007−322744号公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開2010−32985号公報、特開2010−185072号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化し得る。
また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開2009−242469号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成できる。
他にも、特開2007−269779号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009−191061号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
なかでも、重合開始剤(C)としては、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であることが特に好ましい。
上記一般式(A)中、
、R及びRは、各々独立に、1価の置換基を表す。
なお、オキシムのN−O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
についての1価の置換基としては、特に制限はないが、アリール基、複素環基等が挙げられる。また、これらの基は1以上の更なる置換基を有していてもよい。
アリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましい。
複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族又は脂肪族の複素環が好ましい。
についてのアリール基、複素環基が有し得る更なる置換基としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子等が挙げられる。
として、なかでも、特に好ましくは以下に示す構造Sub−1〜Sub−11である。
なお、以下に示される基において、「*」は、前記一般式(A)におけるカルボニル基Yとの結合位置を示し、各基は1以上の更なる置換基を有していてもよい。更なる置換基としては前述の通りである。
についての1価の置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、シクロアルキル基、アルキニル基等が挙げられ、炭素数1〜12であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。また、これらの基は1以上の更なる置換基を有していてもよい。
についてのアルキル基、シクロアルキル基、アルキニル基が有し得る更なる置換基としてはヘキシル基、Rについてのアリール基、複素環基が有し得る更なる置換基として前述した更なる置換基等が挙げられるが、アリールチオ基であることが好ましく、該更なる置換基としてのアリールチオ基が、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニルチオ基であることがより好ましく、以下に示す構造であることが感度の点で更に好ましい。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。
についての1価の置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、アリール基等が挙げられる。また、これらの基は1以上の更なる置換基を有していてもよい。
についてのアルキル基としては、Rについての1価の置換基として前述したアルキル基が挙げられる。
についてのアリール基としては、Rについての1価の置換基として前述したアリール基が挙げられる。
についてのアルキル基、アリール基が有し得る更なる置換基としては、Rについてのアリール基、複素環基が有し得る更なる置換基として前述した更なる置換基が挙げられる。
好適に用いられるオキシム化合物の具体例(PIox−1)〜(PIox−13)を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
市販品ではIRGACURE−OXE01(BASF社製)、IRGACURE−OXE02(BASF社製)が好適に用いられ、IRGACURE−OXE01(BASF社製)であることが特に好ましい。
オキシム化合物は、350nm〜500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm〜480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び455nmの吸光度が高いものが特に好ましい。
オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1,000〜300,000であることが好ましく、2,000〜300,000であることがより好ましく、5,000〜200,000であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Carry−5 spctrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
本発明に用いられる重合開始剤は、必要に応じて2種以上を組み合わせて使用しても良い。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、微細なパターンをシャープな形状で形成することが要求されるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。
このような観点からは、重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、重合開始剤の添加量も低く抑えることが要求されるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するには(C)重合開始剤としては、オキシム化合物を用いることが最も好ましい。
本発明の白色感光性樹脂組成物に含有される(C)重合開始剤の含有量(2種以上の場合は総含有量)は、白色感光性樹脂組成物の全固形分に対し0.1質量%以上40質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量%以上20質量%以下、更に好ましくは1質量%以上15質量%以下であり、特に好ましくは3質量%以上9質量%以下である。この範囲とすることで、着色の問題を生じることなく、感度よく、良好な硬化性と、パターン形成性とが得られる。なお、本発明の白色感光性樹脂組成物は光が透過し難いため、通常の感光性樹脂組成物よりも多く重合開始剤を添加することが好ましい。
[(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子]
本発明における二酸化チタン粒子としては、化学式TiOで表すことができ、純度が70%以上であることが好ましく、純度80%以上であることがより好ましく、純度85%以上であることが更に好ましい。一般式Ti2n−1(nは2〜4の数を表す。)で表される低次酸化チタン、酸窒化チタン等は30質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、15質量%以下であることが更に好ましい。
本発明における二酸化チタン粒子は、平均粒径100nm以上であれば特に制限はなく、例えば、市販の二酸化チタン粒子から適宜選択して用いることができる。
前記二酸化チタン粒子の平均粒径(数平均粒子径)は100nm以上であるが、180nm以上であることが好ましい。二酸化チタン粒子の平均粒径が100nm未満の場合には、反射率が低下する場合がある。
前記二酸化チタン粒子の平均粒径の上限としては特に制限はないが、1000nm以下であることが好ましく、500nm以下であることがより好ましい。
本発明における二酸化チタン粒子の平均粒径は、二酸化チタン粒子を含む混合液又は分散液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで80倍に希釈し、得られた希釈液について動的光散乱法を用いて測定することにより得られた値のことを言う。
この測定は、日機装株式会社製マイクロトラックUPA−EX150を用いて得られた数平均粒子径のこととする。
本発明において二酸化チタン粒子の屈折率としては特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、1.75〜2.70であることが好ましく、1.90〜2.70であることが更に好ましい。
また二酸化チタン粒子の比表面積は、10m/gから400m/gであることが好ましく、10m/gから200m/gであることが更に好ましく、10m/gから150m/gであることがより更に好ましく、10m/gから40m/gであることが最も好ましい。
また二酸化チタン粒子の形状には特に制限はない。例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることができる。
本発明における二酸化チタン粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。中でもシランカップリング剤が好ましい。また、本発明における二酸化チタン粒子は、Al(アルミニウム)、Si(ケイ素)及び有機物で処理されたものであることが好ましい。
表面処理は、1種単独の表面処理剤でも、2種類以上の表面処理剤を組み合わせて実施してもよい。
また二酸化チタン粒子の表面が、アルミニウム、ケイ素、ジルコニアなどの酸化物により覆われていることもまた好ましい。これにより、より耐候性が向上する。
本発明における二酸化チタン粒子としては、市販されているものを好ましく用いることができる。
二酸化チタン粒子の市販物としては、例えば、石原産業株式会社製の商品名タイペークR−550、R−580、R−630、R−670、R−680、R−780、R−780−2、R−820、R−830、R−850、R−855、R−930、R−980、CR−50、CR−50−2、CR−57、CR−58、CR−58−2、CR−60、CR−60−2、CR−63、CR−67、CR−Super70、CR−80、CR−85、CR−90、CR−90−2、CR−93、CR−95、CR−953、CR−97、PF−736、PF−737、PF−742、PF−690、PF−691、PF−711、PF−739、PF−740、PC−3、S−305、CR−EL、PT−301、PT−501A、PT−501R、堺化学工業株式会社製の商品名R−3L、R−5N、R−7E、R−11P、R−21、R−25、R−32、R−42、R−44、R−45M、R−62N、R−310、R−650、SR−1、D−918、GTR−100、FTR−700、TCR−52、テイカ株式会社製の商品名JR、JRNC、JR−301、JR−403、JR−405、JR−600A、JR−600E、JR−603、JR−605、JR−701、JR−800、JR−805、JR−806、JR−1000、チタン工業株式会社製の商品名KR−310、KR−380、KR−380N、富士チタン工業株式会社製の商品名TR−600、TR−700、TR−750、TR−840、TR−900等が挙げられ、タイペークCR−90−2であることが好ましい。
本発明において二酸化チタン粒子(D)は、1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の白色感光性樹脂組成物における二酸化チタン粒子の含有量としては、白色感光性樹脂組成物全固形分に対して30質量%以上であることが好ましく、35質量%以上であることがより好ましい。
含有量の上限としては特に制限はないが、白色感光性樹脂組成物全固形分に対して95質量%以下であることが好ましく、90質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましく、60質量%以下であることが最も好ましい。
[分散剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、組成物中での二酸化チタン粒子(D)の分散性を向上させる観点から分散剤を含有することが好ましく、吸着部位を有する高分子分散剤を含有することがより好ましい。
本発明において、二酸化チタン粒子(D)に対する吸着能を有する部位を、適宜、「吸着部位」と総称する。
本発明における吸着部位としては、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基等が挙げられる。
前記「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン原子含有基(リン酸基、モノリン酸エステル基、ポリリン酸エステル基等)、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン原子含有基(リン酸基、モノリン酸エステル基、ポリリン酸エステル基等)がより好ましく、カルボン酸基またはリン原子含有基が特に好ましい。
前記「ウレア基」として、例えば、−NR15CONR1617(ここで、R15、R16、及びR17は各々独立に、水素原子、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、又は炭素数7以上のアラルキル基を表す。)が好ましい例として挙げられ、−NR15CONHR17(ここで、R15及びR17は各々独立に、水素原子あるいは、炭素数1から10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)がより好ましく、−NHCONHR17(ここで、R17は水素原子あるいは、炭素数1から10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)が特に好ましい。
前記「ウレタン基」として、例えば、−NHCOOR18、−NR19COOR20、−OCONHR21、−OCONR2223(ここで、R18、R19、R20、R21、R22及びR23は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などが好ましい例として挙げられ、−NHCOOR18、−OCONHR21(ここで、R18、R21は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などがより好ましく、−NHCOOR18、−OCONHR21(ここで、R18、R21は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などが特に好ましい。
前記「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。
また、前記「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、及びR10は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)、下記式(a1)で表されるグアニジル基、下記式(a2)で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。
式(a1)中、R11及びR12は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。
式(a2)中、R13及びR14は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。
これらの中でも、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、及びR10は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。)、前記式(a1)で表されるグアニジル基〔式(a1)中、R11及びR12は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、前記式(a2)で表されるアミジニル基〔式(a2)中、R13及びR14は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、及びR10は各々独立に、炭素数1から5までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。)、前記式(a1)で表されるグアニジル基〔式(a1)中、R11及びR12は各々独立に、炭素数1から5までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、前記式(a2)で表されるアミジニル基〔式(a2)中、R13及びR14は各々独立に、炭素数1から5までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。
前記「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数1から20までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。
前記「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数1から20までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
前記「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
前記「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基(メチル基等)、アシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基など)等で置換されていてもよい。
前記「複素環構造」としては、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等のイミド基、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノンが好ましい例として挙げられる。
なお、前記「複素環構造」は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1から20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6から16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1から6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1から20までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
前記「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
前記「エポキシ基」としては、置換又は無置換のオキシラン基(エチレンオキシド基)が挙げられる。
前記吸着部位としては、酸系吸着部位であることが好ましい。酸系吸着部位としては酸基等が挙げられる。なかでも、酸系吸着部位がリン原子含有基またはカルボン酸基の少なくとも一方であることが好ましい。
本発明において、前記吸着部位を有する高分子分散剤が下記一般式(1)で表される高分子分散剤であることが好ましい。
上記一般式(1)中、
は、(m+n)価の連結基を表し、Rは単結合又は2価の連結基を表す。
は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。n個のA及びRは、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
mは8以下の正の数、nは1〜9を表し、m+nは3〜10を満たす。
はポリマー鎖を表す。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。
上記一般式(1)で表される高分子化合物としては、特開2007−277514号公報段落0039(対応する米国特許出願公開第2010/0233595号明細書の[0053])以降の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
前記一般式(1)で表される高分子分散剤が有する、置換基Aは二酸化チタン粒子(D)と相互作用することができるので、前記一般式(1)で表される分散剤はn個(1〜9個)の置換基Aを有することにより二酸化チタン粒子(D)と強固に相互作用することができる。また、前記一般式(1)で表される高分子分散剤がm個有するポリマー鎖Pは立体反発基として機能することができ、m個有することにより良好な立体反発力を発揮して二酸化チタン粒子(D)を均一に分散することができる。さらに、前記一般式(1)で表される高分子分散剤は分子構造的に、従来のグラフトランダム構造の分散剤で生じ得た粒子間架橋による粒子の凝集などの弊害が生じることもないものと推定される。
以下、前記一般式(1)における各基について詳細に説明する。なお、一般式(1)で表される高分子分散剤は特開2007−277514(特願2006−269707)にも同様の高分子分散剤が開示されており、その記載で説明されている内容及び好適な構造は下記の説明でも適用でき、重複する記載については適宜省略する。
前記Aは、二酸化チタン粒子(D)に対する吸着能を有する官能基、複素環構造のような二酸化チタン粒子(D)に対する吸着能を有し得る構造を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。
なお、この二酸化チタン粒子(D)に対する吸着能を有する部位(上記官能基及び構造)は、上記「吸着部位」に相当する。
前記吸着部位は、1つのAの中に、少なくとも1種含まれていればよく、2種以上を含んでいてもよい。
についての酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基の詳細については、吸着部位としての、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基として前述した通りである。
また、本発明において、「吸着部位を少なくとも1種有する1価の置換基」は、前述の吸着部位と、1から200個までの炭素原子、0個から20個までの窒素原子、0個から100個までの酸素原子、1個から400個までの水素原子、及び0個から40個までの硫黄原子から成り立つ連結基とが結合してなる1価の置換基である。なお、吸着部位自体が1価の置換基を構成しうる場合には、吸着部位そのものがAで表される1価の置換基であってもよい。
前記吸着部位と結合する連結基としては、単結合、又は、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ連結基が好ましく、この有機連結基は、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
上記の中では、前記Aとして、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基及び配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基であることが好ましい。
特に、二酸化チタン粒子(D)との相互作用を良好にし、屈折率を向上し、かつ組成物の粘度を低減する観点から、Aは、pKa5〜14の官能基を少なくとも1種有する1価の置換基であることがより好ましい。
ここでいう「pKa」とは、化学便覧(II)(改訂4版、1993年、日本化学会編、丸善株式会社)に記載されている定義のものである。
上記pKa5〜14の官能基としては、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基が挙げられる。
具体的には、例えば、ウレア基(pKa 12〜14程度)、ウレタン基(pKa 11〜13程度)、配位性酸素原子としての−COCHCO−(pKa 8〜10程度)、スルホンアミド基(pKa 9〜11程度)等が挙げられる。
前記Aは、下記一般式(4)で表される1価の置換基として表されることが好ましい。
前記一般式(4)中、Bは前記吸着部位(即ち、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基又は水酸基)を表し、R24は単結合又は(a+1)価の連結基を表す。aは、1〜10の整数を表し、一般式(4)中にa個存在するBは同一であっても、異なっていてもよい。
前記Bで表される吸着部位としては、前述の一般式(1)のAを構成する吸着部位と同様のものが挙げられ、好ましい例も同様である。
中でも、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基であることが好ましく、pKa5〜14の官能基であることがより好ましい観点から、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基であることがより好ましい。
24は、単結合又は(a+1)価の連結基を表し、aは1〜10を表す。好ましくは、aは1〜7であり、より好ましくは、aは1〜5であり、特に好ましくは、aは1〜3である。
(a+1)価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
24としては、単結合、又は、1から50個までの炭素原子、0個から8個までの窒素原子、0個から25個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から10個までの硫黄原子から成り立つ(a+1)価の連結基が好ましく、単結合、又は、1から30個までの炭素原子、0個から6個までの窒素原子、0個から15個までの酸素原子、1個から50個までの水素原子、及び0個から7個までの硫黄原子から成り立つ(a+1)価の連結基がより好ましく、単結合、又は、1から10個までの炭素原子、0個から5個までの窒素原子、0個から10個までの酸素原子、1個から30個までの水素原子、及び0個から5個までの硫黄原子から成り立つ(a+1)価の連結基が特に好ましい。
上記のうち、(a+1)価の連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1から20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6から16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1から6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1から6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
前記一般式(1)中、Rは単結合あるいは2価の連結基を表す。n個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。
2価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
としては、単結合、又は、1から50個までの炭素原子、0個から8個までの窒素原子、0個から25個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から10個までの硫黄原子から成り立つ2価の連結基が好ましく、単結合、又は、1から30個までの炭素原子、0個から6個までの窒素原子、0個から15個までの酸素原子、1個から50個までの水素原子、及び0個から7個までの硫黄原子から成り立つ2価の連結基がより好ましく、単結合、又は、1から10個までの炭素原子、0個から5個までの窒素原子、0個から10個までの酸素原子、1個から30個までの水素原子、及び0個から5個までの硫黄原子から成り立つ2価の連結基が特に好ましい。
上記のうち、2価の連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1から20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6から16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1から6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1から6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
前記一般式(1)中、Rは、(m+n)価の連結基を表す。m+nは3〜10を満たす。
前記Rで表される(m+n)価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
前記Rで表される(m+n)価の連結基の具体的な例としては、特開2007−277514号公報の段落0082及び008に開示の具体例(1)〜(17)が挙げられる。
前記一般式(1)中、mは8以下の正の数を表す。mとしては、0.5〜5が好ましく、1〜4がより好ましく、1〜3が特に好ましい。
また、前記一般式(1)中、nは1〜9を表す。nとしては、2〜8が好ましく、2〜7がより好ましく、3〜6が特に好ましい。
前記一般式(1)中、Pはポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。
ポリマーの中でも、ポリマー鎖を構成するには、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物、又は共重合体〔例えば、ポリエーテル/ポリウレタン共重合体、ポリエーテル/ビニルモノマーの重合体の共重合体など(ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。)を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及びこれらの変性物又は共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
ポリマー鎖Pが少なくとも1種の繰り返し単位を含有することが好ましい。
ポリマー鎖Pにおける、前記少なくとも1種の繰り返し単位の繰り返し数kが、立体反発力を発揮し分散性を向上する観点から、3以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましい。
また、前記一般式(1)で表される高分子分散剤の嵩張りを抑え、白色硬化膜中に二酸化チタン粒子(D)を密に存在させる観点から、前記少なくとも1種の繰り返し単位の繰り返し単位数kは、50以下であることが好ましく、40以下であることがより好ましく、30以下であることが更に好ましい。
なお、前記ポリマー鎖は有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が低いと、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に十分な吸着層を確保できなくなることがある。
前記一般式(1)で表される高分子分散剤の中でも、下記一般式(2)で表される高分子分散剤が好ましい。
前記一般式(2)において、Aは、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。n個のAは同一であっても、異なっていてもよい。
なお、Aは、前記一般式(1)における前記Aと同義であり、好ましい態様も同様である。
前記一般式(2)において、R、Rは各々独立に単結合あるいは2価の連結基を表す。n個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。また、m個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。
、Rで表される2価の連結基としては、前記一般式(1)のRで表される2価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
前記一般式(2)において、Rは、(m+n)価の連結基を表す。m+nは3〜10を満たす。
前記Rで表される(m+n)価の連結基としては、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
前記Rで表される(m+n)価の連結基として、具体的には、前記一般式(1)のRで表される(m+n)価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
前記一般式(2)中、mは8以下の正の数を表す。mとしては、0.5〜5が好ましく、1〜4がより好ましく、1〜3が特に好ましい。
また、前記一般式(2)中、nは1〜9を表す。nとしては、2〜8が好ましく、2〜7がより好ましく、3〜6が特に好ましい。
また、一般式(2)中のPは、ポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。ポリマーの好ましい態様については、前記一般式(1)におけるPと同様である。
前記一般式(2)で表される高分子分散剤のうち、以下に示すR、R、R、P、m、及びnを全て満たすものが最も好ましい。
:前記具体例(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、又は(17)
:単結合、又は、下記の構造単位若しくは該構造単位が組み合わさって構成される「1から10個までの炭素原子、0個から5個までの窒素原子、0個から10個までの酸素原子、1個から30個までの水素原子、及び0個から5個までの硫黄原子」から成り立つ2価の連結基(置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1から20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6から16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1から6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1から6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。)
:単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基(a)、又は下記基(b)
なお、下記基中、R12は水素原子又はメチル基を表し、lは1又は2を表す。
:ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー及びこれらの変性物
m:1〜3
n:3〜6
前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤の酸価は特に制限はないが、分散性の観点から、酸価が400mgKOH/g以下であることが好ましく、300mgKOH/g以下であることがより好ましく、250mgKOH/g以下であることが特に好ましい。
なお、酸価の下限値としては特に制限はないが、二酸化チタン粒子の分散安定性の観点から、5mgKOH/g以上であることが好ましく、10mgKOH/g以上であることがより好ましい。
ここで、前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤の酸価は、固形分酸価である。
本発明において、前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤の酸価は、例えば、前記一般式(1)又は(2)で表される分散剤中における酸基の平均含有量から算出することができる。
前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤の分子量としては、重量平均分子量で、1000〜50000が好ましく、3000〜30000がより好ましく、3000〜20000が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の前記吸着部位の効果が十分に発揮され、二酸化チタン粒子表面への吸着性に優れた性能を発揮し得る。
上記一般式(1)で表される高分子化合物の具体例としては、特開2007−277514公報段落0266(対応する米国特許出願公開第2010/0233595号明細書の[0389])以降の実施例で合成された化合物C−1〜C−57の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
(前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤の合成方法)
前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤は、特に制限されないが、特開2007−277514号公報段落0114〜0140及び0266〜0348に記載の合成方法に準じて合成することができる。
分散剤としては、以下に説明する樹脂(以下、適宜、「分散樹脂2」と称する)を使用することもできる。分散樹脂2は、pKa14以下の官能基を有する基Xを有する繰り返し単位と、側鎖に原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yとを有し、かつ塩基性窒素原子を含有することを特徴とする。
後に詳述するように分散樹脂2中の窒素原子と基Xが有するpKa14以下の官能基との双方で二酸化チタン粒子(D)と相互作用し、さらに分散樹脂2が原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yを有するために、例えば、前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Yが立体反発基として機能することにより、良好な分散性を発揮して、二酸化チタン粒子(D)を均一に分散することができる。また、組成物が室温等で長期間保存された場合にも、前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Yと溶媒とが相互作用を行うことにより、二酸化チタン粒子(D)の沈降を長期間抑制することができる。さらに、前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Yが立体反発基として機能することで二酸化チタン粒子(D)の凝集が防止されるため、二酸化チタン粒子(D)の含有量を高くしても、上記のように、分散性及び分散安定性が損なわれにくい。
ここで、塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はないが、分散樹脂2がpKb14以下の窒素原子を有する構造を含有することが好ましく、pKb10以下の窒素原子を有する構造を含有することがより好ましい。
本発明において塩基強度pKとは、水温25℃でのpKをいい、塩基の強さを定量的に表すための指標のひとつであり、塩基性度定数と同義である。塩基強度pKと、酸強度pKとは、pK=14−pKの関係にある。
pKa14以下の官能基を有する基Xについては、分散樹脂2−1について後述する基Xと同義である。
分散樹脂2が側鎖に有する原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yとしても、分散樹脂2−1について後述する原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yと同義である。
分散樹脂2としては、下記式で表されるpKa14以下の官能基を有する基Xを有する繰り返し単位、下記式で表される塩基性窒素原子を有する繰り返し単位、及び下記式で表される原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yを有する繰り返し単位(下記繰り返し単位の構造の左から順に対応する。)を含有する樹脂などが挙げられる。
上記式中、x、y、及びzはそれぞれ繰り返し単位の重合モル比を示し、xは5〜50、yは5〜60、zは10〜90であることがこのましい。lはポリエステル鎖の連結数を示し、原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を形成し得る整数であり、70〜2000であることが好ましい。
前記分散樹脂2は、前記pKa14以下の官能基を有する基Xが結合する窒素原子を含有する繰り返し単位と、側鎖に原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yとを有する樹脂であることが好ましい。
前記分散樹脂2は、(i)ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の、窒素原子を含有する繰り返し単位であって、前記窒素原子に結合し、かつpKa14以下の官能基を有する基Xを有する繰り返し単位と、側鎖に(ii)原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yとを有する樹脂2−1(以下、適宜、「分散樹脂2−1」と称する)であることが特に好ましい。
((i)ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の窒素原子を含有する繰り返し単位)
本発明の分散樹脂2−1は、ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の窒素原子を含有する繰り返し単位(i)を有する。これにより、二酸化チタン粒子(D)表面への吸着力が向上し、且つ前記二酸化チタン粒子(D)間の相互作用が低減できる。
ポリ(低級アルキレンイミン)は鎖状であっても網目状であってもよい。
ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の窒素原子を含有する繰り返し単位(i)を重合して得られる主鎖の数平均分子量、すなわち、分散樹脂2−1から側鎖の前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Y部分を除いた部分の数平均分子量は、100〜10,000が好ましく、200〜5,000がさらに好ましく、300〜2,000が最も好ましい。主鎖部の数平均分子量は、核磁気共鳴分光法で測定した末端基と主鎖部の水素原子積分値の比率から求めるか、原料であるアミノ基を含有するオリゴマー又はポリマーの分子量の測定により求めることができる。
窒素原子を含有する繰り返し単位(i)としては、特にポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、又はポリアリルアミン系繰り返し単位であることが好ましい。なお、本発明において、ポリ(低級アルキレンイミン)における低級とは炭素数が1〜5であることを示し、低級アルキレンイミンとは炭素数1〜5のアルキレンイミンを表す。この構造を明示すれば、本発明の分散樹脂2−1は、一般式(I−1)で表される繰り返し単位及び一般式(I−2)で表される繰り返し単位を有する構造、或いは、一般式(II−1)で表される繰り返し単位及び一般式(II−2)で表される繰り返し単位を有する構造を含むことが好ましい。
(一般式(I−1)で表される繰り返し単位及び一般式(I−2)で表される繰り返し単位)
本発明の分散樹脂2−1の好ましい構成成分である一般式(I−1)で表される繰り返し単位及び一般式(I−2)で表される繰り返し単位について詳細に説明する。
上記一般式(I−1)及び(I−2)中、
及びRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。aは、各々独立に、1〜5の整数を表す。*は繰り返し単位間の連結部を表す。
XはpKa14以下の官能基を有する基を表す。
Yは原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を表す。
本発明の分散樹脂2−1は、一般式(I−1)又は一般式(I−2)で表される繰り返し単位に加えて、さらに一般式(I−3)で表される繰り返し単位を共重合成分として有することが好ましい。このような繰り返し単位を併用することで、二酸化チタン粒子(D)の分散性能がさらに向上する。
上記一般式(I−3)中、
*、R、R及びaは一般式(I−1)と同義である。
Y’はアニオン基を有する原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を表す。
上記一般式(I−3)で表される繰り返し単位は、主鎖部に一級又は二級アミノ基を有する樹脂に、アミンと反応して塩を形成する基を有するオリゴマー又はポリマーを添加して反応させることで形成することが可能である。
一般式(I−1)、一般式(I−2)及び一般式(I−3)において、R及びRは特に水素原子であることが好ましい。aは2であることが原料入手の観点から好ましい。
本発明の分散樹脂2−1は、一般式(I−1)、一般式(I−2)及び一般式(I−3)で表される繰り返し単位以外に、低級アルキレンイミンを繰り返し単位として含んでいてもよい。前述と同様に、低級アルキレンイミンとは、炭素数1〜5のアルキレンイミンを表す。分散樹脂2−1は、そのような低級アルキレンイミン繰り返し単位を含有していても、含有していなくてもよいが、含有する場合、低級アルキレンイミン繰り返し単位は、分散樹脂2−1に含まれる全繰り返し単位中、1〜70モル%含有することが好ましい。なお、そのような低級アルキレンイミン繰り返し単位における窒素原子には、さらに、前記X、Y又はY’で示される基が結合していてもよい。このような主鎖構造に、Xで示される基が結合した繰り返し単位とYが結合した繰り返し単位の双方を含む樹脂もまた、分散樹脂2−1に包含される。
一般式(I−1)で表される繰り返し単位は、pKa14以下の官能基を有する基Xが結合する窒素原子を含有する繰り返し単位であり、このような窒素原子を含有する繰り返し単位は、保存安定性・現像性の観点から、分散樹脂2−1に含まれる全繰り返し単位中、1〜80モル%含有することが好ましい。
一般式(I−2)で表される繰り返し単位は、原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を有する繰り返し単位であり、このような繰り返し単位は、保存安定性の観点から、分散樹脂2−1の全繰り返し単位中、10〜90モル%含有することが好ましい。
両者の含有比について検討するに、分散安定性及び親疎水性のバランスの観点からは、繰り返し単位(I−1):(I−2)はモル比で10:1〜1:100の範囲であることが好ましい。
なお、所望により併用される一般式(I−3)で表される繰り返し単位は原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を含む部分構造が、主鎖の窒素原子にイオン的に結合しているものであり、分散樹脂2−1の全繰り返し単位中、効果の観点からは、0.5〜20モル%含有することが好ましい。
(一般式(II−1)で表される繰り返し単位及び(II−2)で表される繰り返し単位)
分散樹脂2−1の他の好ましい構成成分である一般式(II−1)で表される繰り返し単位及び一般式(II−2)で表される繰り返し単位について詳細に説明する。
一般式(II−1)及び(II−2)中、
、R、R及びRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表す。*、X及びYは一般式(I−1)及び(I−2)中の*、X及びYと同義である。
分散樹脂2−1は、一般式(II−1)で表される繰り返し単位、一般式(II−2)で表される繰り返し単位に加えて、さらに一般式(II−3)で表される繰り返し単位を共重合成分として含むことが好ましい。このような繰り返し単位を併用することで、二酸化チタン粒子(D)の分散性能が更に向上する。
一般式(II−3)中、*、R、R、R及びRは一般式(II−1)と同義である。Y’は一般式(I−3)中のY’と同義である。
一般式(II−1)、(II−2)及び(II−3)において、R、R、R及びRは水素原子であることが原料の入手性の観点から好ましい。
一般式(II−1)はpKa14以下の官能基を有する基Xが結合する窒素原子を含有する繰り返し単位であり、このような窒素原子を含有する繰り返し単位は、保存安定性・現像性の観点から、分散樹脂2−1に含まれる全繰り返し単位中、1〜80モル%含有することが好ましい。
一般式(II−2)は原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yを有する繰り返し単位であり、このような繰り返し単位は、保存安定性の観点から、分散樹脂2−1の全繰り返し単位中、10〜90モル%含有することが好ましい。
両者の含有比について検討するに、分散安定性及び親疎水性のバランスの観点からは、繰り返し単位(II−1):(II−2)はモル比で10:1〜1:100の範囲であることが好ましい。
所望により併用される一般式(II−3)で表される繰り返し単位は分散樹脂2−1の全繰り返し単位中、0.5〜20モル%含有することが好ましい。
分散樹脂2−1においては、分散性の観点から、特に一般式(I−1)で表される繰り返し単位と一般式(I−2)で表される繰り返し単位の双方を含むことが最も好ましい。
<pKa14以下の官能基を有する基X>
Xは水温25℃でのpKaが14以下の官能基を有する。
「pKa14以下の官能基」は、物性がこの条件を満たすものであれば、その構造などは特に限定されず、公知の官能基でpKaが上記範囲を満たすものが挙げられるが、特にpKaが12以下である官能基が好ましく、pKaが11以下である官能基が最も好ましい。具体的には、例えば、カルボン酸(pKa 3〜5程度)、スルホン酸(pKa −3〜−2程度)、−COCHCO−(pKa 8〜10程度)、−COCHCN(pKa 8〜11程度)、−CONHCO−、フェノール性水酸基、−RCHOH又は−(RCHOH(Rはペルフルオロアルキル基を表す。pKa 9〜11程度)、スルホンアミド基(pKa 9〜11程度)等が挙げられる。
前記基Xが有する官能基のpKaが14以下であることにより、前記二酸化チタン粒子(D)との相互作用を達成することができる。
このpKa14以下の官能基を有する基Xは、前記窒素原子を含有する繰り返し単位における窒素原子に直接結合することが好ましいが、前記窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子とXとは、共有結合のみならず、イオン結合して塩を形成する態様で連結していてもよい。
本発明におけるpKa14以下の官能基を含有する基Xとしては、特に一般式(V−1)、一般式(V−2)又は一般式(V−3)で表される構造を有するものが好ましい。
上記一般式(V−1)、一般式(V−2)中、
Uは単結合又は2価の連結基を表す。
d及びeは、それぞれ独立して0又は1を表す。
上記一般式(V−3)中、Qはアシル基又はアルコキシカルボニル基を表す。
Uで表される2価の連結基としては、例えば、アルキレン(より具体的には、例えば、−CH−、−CHCH−、−CHCHMe−、−(CH−、−CHCH(n−C1021)−等)、酸素を含有するアルキレン(より具体的には、例えば、−CHOCH−、−CHCHOCHCH−等)、アリーレン基(例えば、フェニレン、トリレン、ビフェニレン、ナフチレン、フラニレン、ピロリレン等)、アルキレンオキシ(例えば、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、フェニレンオキシ等)、アルケニレン基(例えば、ビニレン基)等が挙げられる。また、生産性の観点から、dは1が好ましく、また、eは0が好ましい。
Qはアシル基又はアルコキシカルボニル基を表す。Qは、特にアシル基が好ましく、アセチル基が製造のし易さ、原料(Xの前駆体X’)の入手性の観点から好ましい。
本発明における基Xは、窒素原子を含有する繰り返し単位の前記窒素原子と結合していることが好ましい。これにより、前記二酸化チタン粒子(D)の分散性・分散安定性が飛躍的に向上する。
さらに、基Xはそこに部分構造としてpKa14以下の官能基を含むものであるため、アルカリ可溶性基としても機能する。それにより、未硬化領域のアルカリ現像液への現像性が向上し、分散性・分散安定性・現像性の鼎立が可能になったと考えられる。
XにおけるpKa14以下の官能基の含有量は特に制限がないが、分散樹脂2 1gに対し、0.01〜5mmolであることが好ましい。この範囲において、前記二酸化チタン粒子(D)の分散性、分散安定性が向上し、且つ、未硬化部の現像性に優れることになる。また、酸価の観点からは、分散樹脂2の酸価が5〜50mgKOH/g程度となる量、含まれることが、現像性の観点から好ましい。
(原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Y)
Yとしては、分散樹脂2の主鎖部と連結できるポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ(メタ)アクリル酸エステル等の公知のポリマー鎖が挙げられる。Yの分散樹脂2との結合部位は、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Yの末端であることが好ましい。
Yは、ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の窒素原子を含有する繰り返し単位の前記窒素原子と結合していることが好ましい。ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の窒素原子を含有する繰り返し単位などの主鎖部とYとの結合様式は、共有結合、イオン結合、又は、共有結合及びイオン結合の混合である。Yと前記主鎖部の結合様式の比率は、共有結合:イオン結合=100:0〜0:100であるが、95:5〜5:95が好ましい。この範囲外であると、分散性・分散安定性が悪化し、且つ溶剤溶解性が低くなる。
Yは、前記窒素原子を含有する繰り返し単位の前記窒素原子とアミド結合、又はカルボン酸塩としてイオン結合していることが好ましい。
前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Yの原子数としては、分散性・分散安定性・現像性の観点から、50〜5,000であることが好ましく、60〜3,000であることがより好ましい。
前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Y1本あたりの原子数が40未満では、グラフト鎖が短いため、立体反発効果が小さくなり分散性が低下する場合がある。一方、前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Y1本あたりの原子数が10000を超えると、前記オリゴマー鎖又はポリマー鎖Yが長くなりすぎ、二酸化チタン粒子(D)への吸着力が低下して分散性が低下する場合がある。
また、Yの数平均分子量はGPC法によるポリスチレン換算値により測定することができる。Yの数平均分子量は、特に1,000〜50,000が好ましく、1,000〜30,000が分散性・分散安定性・現像性の観点から最も好ましい。
Yで示される側鎖構造は、主鎖連鎖に対し、樹脂1分子中に、2つ以上連結していることが好ましく、5つ以上連結していることが最も好ましい。
特に、Yは一般式(III−1)で表される構造を有するものが好ましい。
一般式(III−1)中、Zはポリエステル鎖を部分構造として有するポリマー又はオリゴマーであり、下記一般式(IV)で表される遊離のカルボン酸を有するポリエステルからカルボキシル基を除いた残基を表す。
一般式(IV)中、Zは一般式(III−1)中のZと同義である。
分散樹脂2−1が一般式(I−3)又は(II−3)で表される繰り返し単位を含有する場合、Y’が一般式(III−2)であることが好ましい。
一般式(III−2)中、Zは一般式(III−1)のZと同義である。
片末端にカルボキシル基を有するポリエステル(一般式(IV)で表わされるポリエステル)は、(IV−1)カルボン酸とラクトンの重縮合、(IV−2)ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合、(IV−3)二価アルコールと二価カルボン酸(もしくは環状酸無水物)の重縮合などにより得ることができる。
(IV−1)カルボン酸とラクトンの重縮合反応において用いるカルボン酸は、脂肪族カルボン酸(炭素数1〜30の直鎖又は分岐のカルボン酸が好ましい。これらカルボン酸は混合して用いても良い。ラクトンは、公知のラクトンを用いることができる。
これらラクトンは複数種を混合して用いても良い。
カルボン酸とラクトンの反応時の仕込みモル比率は、目的のポリエステル鎖の分子量によるため一義的に決定できないが、カルボン酸:ラクトン=1:1〜1:1,000が好ましく、1:3〜1:500が最も好ましい。
(IV−2)ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合におけるヒドロキシ基含有カルボン酸は、前記(IV−1)におけるヒドロキシ基含有カルボン酸と同様であり、好ましい範囲も同様である。
(IV−3)二価アルコールと二価カルボン酸(もしくは環状酸無水物)の重縮合反応における二価アルコールとしては、直鎖又は分岐の脂肪族ジオール(炭素数2〜30のジオールが好ましい。
二価カルボン酸としては、直鎖又は分岐の二価の脂肪族カルボン酸(炭素数1〜30の二価の脂肪族カルボン酸が好ましい。
二価カルボン酸と二価アルコールは、モル比で1:1で仕込むことが好ましい。これにより、末端にカルボン酸を導入することが可能となる。
ポリエステル製造時の重縮合は、触媒を添加して行うことが好ましい。触媒としては、ルイス酸として機能する触媒が好ましい。
ポリエステルの数平均分子量はGPC法によるポリスチレン換算値として測定することができる。ポリエステルの数平均分子量は、1,000〜1,000,000であるが、2,000〜100,000が好ましく、3,000〜50,000が最も好ましい。分子量がこの範囲にある場合、分散性・現像性の両立ができる。
Yにおけるポリマー鎖を形成するポリエステル部分構造は、特に、(IV−1)カルボン酸とラクトンの重縮合、及び、(IV−2)ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合、により得られるポリエステルであることが、製造容易性の観点から好ましい。
分散樹脂2の具体的態様〔(A−1)〜(A−61)〕を、樹脂が有する繰り返し単位の具体的構造とその組合せにより以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記式中、k、l、m、及びnはそれぞれ繰り返し単位の重合モル比を示し、kは1〜80、lは10〜90、mは0〜80、nは0〜70であり、且つk+l+m+n=100である。p及びqはポリエステル鎖の連結数を示し、それぞれ独立に5〜100,000を表す。R’は水素原子又はアルキルカルボニル基を表す。
分散樹脂2を合成する方法としては、特願2011−190180号の公開公報に記載の方法で合成することができる。
本発明における分散樹脂2は、GPC法により測定された重量平均分子量が3,000〜100,000であることが好ましく、5,000〜55,000であることがさらに好ましい。分子量が上記範囲において、高現像性・高保存安定性を達成しうるという利点を有する。また、分散樹脂2における窒素原子を含有する繰り返し単位(i)における窒素原子の存在は、酸滴定等の方法により確認することができ、pKaが14以下である官能基の存在、及び、その官能基が前記繰り返し単位の窒素原子と結合していることは塩基滴定・核磁気共鳴分光法・赤外分光法等の方法により確認することができる。また、(ii)原子数40〜10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yを側鎖に有する点については、核磁気共鳴分光法・GPC法等の方法で確認することができる。
以下に、分散樹脂2の具体例をその分子量とともに記載する。R’はアルキル基を表す。
(前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤、分散樹脂2以外の分散剤)
本発明の白色感光性樹脂組成物は、前記一般式(1)又は(2)で表される高分子分散剤、分散樹脂2以外の分散剤(以下、「その他の分散剤」と称する場合がある)を含有していてもよい。
本発明に用いることができるその他の分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、酸系吸着部位としてリン原子含有基またはカルボン酸などの酸基を有する高分子分散剤、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。なかでも、微細なホールパターンを良好に形成する観点から、酸系吸着部位としてリン原子含有基またはカルボン酸基の少なくとも一方を有する高分子分散剤であることが好ましい。リン原子含有基としては、リン酸エステル基、ポリリン酸エステル基、リン酸基等が挙げられる。
その他の分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
その他の分散剤は、二酸化チタン粒子の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、二酸化チタン粒子表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。
一方で、その他の分散剤は、二酸化チタン粒子表面を改質することで、分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
その他の分散剤の具体例としては、BYK Chemie社製「DISPERBYK101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110、180(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK−P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、EFKA社製「EFKA4047、4050、4010、4165(ポリウレタン系)、EFKA4330、4340(ブロック共重合体)、4400、4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファィンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822」、共栄社化学社製「フローレンTG−710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS−860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA−703−50、DA−705、DA−725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN−B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL−18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、
ルーブリゾール社製「ソルスパース5000(SOLSPERSE5000)(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、26000、28000、32000、36000、38500(グラフト型高分子)、41000」、
日光ケミカル社製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS−IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」等が挙げられる。
本発明において、酸系吸着部位としてリン原子含有基(例えば、リン酸基等)を有する高分子分散剤として、ソルスパース26000(SOLSPERSE26000)、36000、又は41000を好適に用いることができる。
本発明の白色感光性樹脂組成物において、分散剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の白色感光性樹脂組成物の全固形分に対する分散剤の含有量は、分散性の観点から、1〜40質量%の範囲が好ましく、1.3〜30質量%の範囲がより好ましく、1.5〜20質量%の範囲が更に好ましく、2〜10質量%の範囲が特に好ましく、2〜6質量%の範囲が最も好ましい。
また、本発明の白色感光性樹脂組成物が分散剤を含有する場合、分散剤が多すぎると剥がれの原因になることもあり得るため、組成物中、分散剤の質量は、二酸化チタン粒子(D)の質量よりも少ないことが好ましく、分散剤と二酸化チタン粒子(D)の組成物中の質量比は、分散剤/二酸化チタン粒子(D)=0.01〜0.8であることがより好ましく、分散剤/二酸化チタン粒子(D)=0.03〜0.5であることが更に好ましく、分散剤/二酸化チタン粒子(D)=0.05〜0.3であることが特に好ましい。
さらに、バインダーポリマー(A)と分散剤との総含有量(ポリマー含有量と称することもある)が解像性へ大きく寄与しており、ポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中20〜50質量%の範囲が好ましく、24〜50質量%の範囲がより好ましく、24〜46質量%の範囲がさらに好ましく、30〜46質量%の範囲が特に好ましい。この場合、バインダーポリマーとしては酸基を有するバインダーポリマーが好ましく、分散剤としては酸性基及び/又は塩基性基を有する分散剤が好ましい。
本発明の白色感光性樹脂組成物を用いて膜厚2〜6μmの白色硬化膜を形成するとき、ホール径50μm以下のホールパターン等の微細なパターンを有する白色硬化膜の形成の観点(解像性の観点)から、ポリマー含有量が、色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%であることが好ましく、24〜42質量%であることがより好ましく、30〜39質量%であることが更に好ましい。
また、本発明の白色感光性樹脂組成物を用いて膜厚7〜15μmの白色硬化膜を形成するときには、解像性の観点から、ポリマー含有量が、色感光性樹脂組成物固形分中24〜50質量%であることが好ましく、30〜46質量%であることがより好ましく、35〜45質量%であることが更に好ましく、39〜45質量%であることが特に好ましい。
本発明は、(A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び分散剤を含有し、バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%である、白色感光性樹脂組成物にも関する。
この実施態様によれば、ホール径50μm以下のホールパターン等の微細なパターンの形成に特に優れる白色硬化膜を形成し得る。
本発明の白色感光性樹脂組成物のこの実施態様においても、解像性の観点から、バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量の好ましい範囲は上記したバインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量と同様である。
[溶媒]
本発明の白色感光性樹脂組成物は溶媒を含有することが好ましい。該溶媒は種々の有機溶剤を用いて構成することができる。
ここで使用できる有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの有機溶剤は、単独あるいは混合して使用することができる。本発明の白色感光性樹脂組成物における固形分の濃度は、2〜60質量%であることが好ましい。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、更に、必要に応じて、以下に詳述する任意成分を更に含有してもよい。
[青色顔料ないしは紫色顔料]
本発明の白色感光性樹脂組成物により形成される白色硬化膜の耐着色性を向上させる観点から、本発明の白色感光性樹脂組成物に青色顔料ないしは紫色顔料を含有させることができる。
前記青色顔料ないしは紫色顔料としては、C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42、及び、C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80から選択される1種以上であることが好ましい。
−顔料の調合−(色合わせ)
これら有機顔料は、単独もしくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。上記組合せの具体例を以下に示す。
青の顔料としては、フタロシアニン系顔料を1種単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。特に好適な例として、C.I.ピグメント・ブルー15:6とC.I.ピグメント・バイオレット23との混合を挙げることができる。
青色顔料と紫色顔料との質量比は、100:0〜100:100が好ましく、より好ましくは100:70以下である。
青色顔料ないしは紫色顔料の分散を行う際に分散剤を含有させることが好ましい。分散剤としては、その種類に特に制限はないが、好ましくは高分子分散剤を用いることが好ましい。高分子分散剤としては、DisperBYK−101、DisperBYK−102、DisperBYK−103、DisperBYK−106、DisperBYK−111、DisperBYK−161、DisperBYK−162、DisperBYK−163、DisperBYK−164、DisperBYK−166、DisperBYK−167、DisperBYK−168、DisperBYK−170、DisperBYK−171、DisperBYK−174、DisperBYK−182(以上BYKケミー社製)、EFKA4010、EFKA4046、EFKA4080、EFKA5010、EFKA5207、EFKA5244、EFKA6745、EFKA6750、EFKA7414、EFKA7462、EFKA7500、EFKA7570、EFKA7575、EFKA7580(以上エフカアディティブ社製)、ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100(サンノプコ製)等の高分子分散剤;ソルスパース3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000、32000、36000、39000、41000、71000などの各種ソルスパース分散剤、(ゼネカ社製);アデカプルロニックL31,F38,L42,L44,L61,L64,F68,L72,P95,F77,P84,F87、P94,L101,P103,F108、L121、P−123(旭電化(株)製)及びイソネットS−20(三洋化成(株)製)楠本化成社製「ディスパロン KS−860、873SN、874(高分子分散剤)、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル型)」が挙げられる。
また、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745(エフカ社製))、ソルスパース5000、12000、ソルスパース22000(ゼネカ(株)製)等の顔料誘導体もあわせて使用することができる。
[シランカップリング剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物には、更なる基板との密着性向上の観点から、シランカップリング剤を使用することができる。
シランカップリング剤は、無機材料と化学結合可能な加水分解性基としてアルコキシシリル基を有するものが好ましい。また有機樹脂との間で相互作用もしくは結合形成して親和性を示す基を有することが好ましく、そのような基としては(メタ)アクリロイル基、フェニル基、メルカプト基、グリシジル基、オキセタニル基を有するものが好ましく、その中でも(メタ)アクリロイル基又はグリシジル基を有するものが好ましい。
即ち、本発明に用いるシランカップリング剤としては、アルコキシシリル基と、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基と、を有する化合物であることが好ましく、具体的には下記構造の(メタ)アクリロイル−トリメトキシシラン化合物、グリシジル−トリメトキシシラン化合物等が挙げられる。
また、本発明におけるシランカップリング剤は、一分子中に少なくとも2種の反応性の異なる官能基を有するシラン化合物も好ましく、特に、官能基としてアミノ基とアルコキシ基とを有するものが好ましい。このようなシランカップリング剤としては、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン)(信越化学工業社製商品名 KBM−602)、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBM−603、信越化学工業社製)、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBE−602)、γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBM−903)、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBE−903)等がある。
シランカップリング剤を用いる場合の添加量としては、白色感光性樹脂組成物の全固形分中、0.01質量%〜5.0質量%の範囲であることが好ましく、0.05質量%〜3.0質量%がより好ましい。
[着色防止剤(E)]
本発明の白色感光性樹脂組成物は着色防止剤(E)を含有する。
本発明における着色防止剤として、フェノール化合物、及び酸化防止剤として知られる亜リン酸エステル化合物又はチオエーテル化合物であることが好ましく、分子量500以上であるフェノール化合物、及び分子量500以上である亜リン酸エステル化合物又はチオエーテル化合物であることがより好ましい。これらは2種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位(オルト位)に置換基を有することが好ましく、その場合の置換基としては炭素数1〜22の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、t−ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、2−エチルへキシル基がより好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する安定剤も好ましい素材として挙げられる。
これらは、市販品として容易に入手可能であり、下記のメーカーから販売されている。旭電化工業株式会社から、アデカスタブ AO−50、アデカスタブ AO−60、アデカスタブ AO−20、アデカスタブ AO−70、アデカスタブ AO−80として入手できる。
白色感光性樹脂組成物中における着色防止剤の含有量は、固形分換算で、0.01質量%以上20質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上15質量%以下がより好ましい。
[増感剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、(C)重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。
本発明に用いることができる増感剤としては、前記した(C)重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ、300nm〜450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
増感剤としては、具体的には、特開2010−106268号公報段落0231〜0253(対応する米国特許出願公開第2011/0124824号明細書の[0256]〜[0273])の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
白色感光性樹脂組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始剤の分解効率の観点から、固形分換算で、0.1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上15質量%以下がより好ましい。
増感剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、白色感光性樹脂組成物に含有しうる好ましい増感剤としては、上記増感剤の他、下記一般式(II)で表される化合物、及び、一般式(III)で表される化合物から選択される少なくとも一種が挙げられる。
これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
[共増感剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。
本発明において共増感剤は、(C)重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは、酸素による(B)重合性モノマーの重合阻害を抑制する等の作用を有する。
共増感剤としては、具体的には、特開2010−106268号公報段落0254〜0257(対応する米国特許出願公開第2011/0124824号明細書の[0277]〜[0279])の説明を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、白色感光性樹脂組成物の全固形分の質量に対し、0.1質量%以上30質量%以下の範囲が好ましく、1質量%以上25質量%以下の範囲がより好ましく、1.5質量%以上20質量%以下の範囲が更に好ましい。
[重合禁止剤]
本発明においては、白色感光性樹脂組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な重合を阻止するために、重合禁止剤を添加することが好ましい。
本発明に用いうる重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物、N−オキシド化合物類、ピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、ジアゾニウム化合物類、及びカチオン染料類、スルフィド基含有化合物類、ニトロ基含有化合物類、FeCl、CuCl等の遷移金属化合物類が挙げられる。
さらに好ましい態様としては、以下の通りである。
フェノール系水酸基含有化合物が、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
N−オキシド化合物類が、5,5−ジメチル−1−ピロリンN−オキシド、4−メチルモルホリンN−オキシド、ピリジンN−オキシド、4−ニトロピリジンN−オキシド、3−ヒドロキシピリジンN−オキシド、ピコリン酸N−オキシド、ニコチン酸N−オキシド、及びイソニコチン酸N−オキシドからなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
ピペリジン1−オキシル フリーラジカル化合物類が、ピペリジン1−オキシルフリーラジカル、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−マレイミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、及び4−ホスホノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカルからなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
ピロリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類が3−カルボキシプロキシルフリーラジカル(3−カルボキシ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジン1−オキシルフリーラジカル)であるのが好ましい。
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類が、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩からなる化合物群から選択される化合物であるのが好ましい。
ジアゾニウム化合物類が、4−ジアゾフェニルジメチルアミンの硫酸水素塩、4−ジアゾジフェニルアミンのテトラフルオロホウ酸塩、及び3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンのヘキサフルオロリン酸塩からなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
本発明に使用しうる好適な重合禁止剤を以下に例示するが、本発明はこれらに制限されるものではない。なおフェノール系重合禁止剤としては、下記例示化合物(P−1)〜(P−24)が挙げられる。
アミン系重合禁止剤としては、下記例示化合物(N−1)〜(N−7)が挙げられる。
硫黄系重合禁止剤としては、下記例示化合物(S−1)〜(S−5)が挙げられる。
フォスファイト系重合禁止剤としては、下記例示化合物(R−1)〜(R−5)が挙げられる。
さらに、以下に示す各化合物もまた、好適な重合禁止剤として使用しうる。
上記例示化合物のなかでも、好ましくは、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)のフェノール系水酸基含有化合物、ピペリジン1−オキシル フリーラジカル化合物類若しくは、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−マレイミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、及び4−ホスホノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカルのピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物、若しくはN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物であり、より好ましくは、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−マレイミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、及び4−ホスホノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカルのピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物、若しくはN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物であり、更に好ましくは、−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物である。
重合禁止剤の好ましい添加量としては、(C)重合開始剤100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下であることが好ましく、更に0.01質量部以上8質量部以下であることが好ましく、0.01質量部以上5質量部以下の範囲にあることが最も好ましい。
上記範囲とすることで、非画像部における硬化反応抑制及び画像部における硬化反応促進が充分おこなわれ、画像形成性及び感度が良好となる。
[界面活性剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の白色感光性樹脂組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性(特に、流動性)がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する白色感光性樹脂組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量%〜40質量%が好適であり、より好ましくは5質量%〜30質量%であり、特に好ましくは7質量%〜25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、白色感光性樹脂組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA社製)等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1、パイオニンD−6512、D−6414、D−6112、D−6115、D−6120、D−6131、D−6108−W、D−6112−W、D−6115−W、D−6115−X、D−6120−X(竹本油脂(株)製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)等が挙げられる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745、森下産業(株)製)、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学(株)製)、W001(裕商(株)製)等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017(裕商(株)社製)等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング(株)製「トーレシリコーンDC3PA」、「トーレシリコーンSH7PA」、「トーレシリコーンDC11PA」,「トーレシリコーンSH21PA」,「トーレシリコーンSH28PA」、「トーレシリコーンSH29PA」、「トーレシリコーンSH30PA」、「トーレシリコーンSH8400」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「TSF−4440」、「TSF−4300」、「TSF−4445」、「TSF−4460」、「TSF−4452」、信越シリコーン株式会社製「KP341」、「KF6001」、「KF6002」、ビックケミー社製「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等が挙げられる。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
白色感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、界面活性剤の添加量は、白色感光性樹脂組成物の全質量に対して、0.001質量%〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005質量%〜1.0質量%である。
[その他の添加剤]
更に、白色感光性樹脂組成物に対しては、硬化皮膜の物性を改良するために可塑剤や感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーを使用した場合、重合性化合物とバインダーポリマーとの合計質量に対し10質量%以下添加することができる。
[紫外線吸収剤]
本発明の白色感光性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、共役ジエン系化合物である下記一般式(I)で表される化合物が特に好ましい。
前記一般式(I)において、R及びRは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、又は炭素原子数6〜20のアリール基を表し、RとRとは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
また、R及びRは、R及びRが結合する窒素原子と共に、環状アミノ基を形成してもよい。環状アミノ基としては、例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。
前記R及びRは、電子求引基を表す。ここで電子求引基は、ハメットの置換基定数σ値(以下、単に「σ値」という。)が、0.20以上1.0以下の電子求引性基である。好ましくは、σ値が0.30以上0.8以下の電子求引性基である。R及びRは互いに結合して環を形成してもよい。
また、上記のR、R、R、及びRの少なくとも1つは、連結基を介して、ビニル基と結合したモノマーより導かれるポリマーの形になっていてもよい。他のモノマーとの共重合体であっても良い。
前記式(I)で示される紫外線吸収剤の置換基の説明は、WO2009/123109号公報段落0024〜0033(対応する米国特許出願公開第2011/0039195号明細書の[0040]〜[0059])の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。前記式(I)で表される化合物の好ましい具体例は、WO2009/123109号公報段落0034〜0037(対応する米国特許出願公開第2011/0039195号明細書の[0060])の例示化合物(1)〜(14)の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、白色感光性樹脂組成物の全固形分に対して、0.1質量%〜10質量%が好ましく、0.1質量%〜5質量%がより好ましく、0.1質量%〜3質量%が特に好ましい。
また、本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の白色感光性樹脂組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフッ素樹脂、ナイロン−6、ナイロン−6,6等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量を含む)等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)が好ましい。
フィルタの孔径は、0.2〜10.0μm程度が適しており、好ましくは0.3〜7.0μm程度、更に好ましくは0.4〜5.0μm程度である。この範囲とすることにより、溶解した顔料等に混入しており、後工程において均一及び平滑な白色感光性樹脂組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせても良い。その際、第1のフィルタでのフィルタリングは、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。異なるフィルターを組み合わせて2回以上フィルタリングを行う場合は1回目のフィルタリングの孔径より2回目以降の孔径が大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第2のフィルタは、上述した第1のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第2のフィルタの孔径は、0.5〜7.0μm程度が適しており、好ましくは2.5〜7.0μm程度、更に好ましくは4.5〜6.0μm程度である。この範囲とすることにより、混合液に含有されている成分粒子を残存させたまま、混合液に混入しており、後工程でおいて均一及び平滑な白色感光性樹脂組成物の調製を阻害する異物を除去することができる。
例えば、第1のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタリングを行ってもよい。
本発明の白色感光性樹脂組成物の製造方法としては、特に制限はなく通常用いられる組成物の製造方法を適用することができる。例えば、バインダーポリマー(A)、重合性モノマー(B)、重合開始剤(C)、二酸化チタン粒子(D)、分散剤、着色防止剤(E)、及び溶媒を混合し、循環型分散装置(ビーズミル)等を用いて分散処理することで製造することができる。
<白色硬化膜>
本発明の白色感光性樹脂組成物は、例えば、265℃15分で加熱しても着色し難く、また、ホール径50μm以下の微細なパターン形成し得ることから、白色硬化膜の形成に好適に使用することができる。
すなわち、本発明の白色感光性樹脂組成物は、白色硬化膜形成用であることが好ましい。
また、本発明は、本発明の白色感光性樹脂組成物を用いて形成された白色硬化膜にも関する。
[白色硬化膜の製造方法]
本発明の白色硬化膜の製造方法としては、前述の白色感光性樹脂組成物を基板上にスプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、バー塗布法等で塗布する工程、
続く第一の加熱工程、及び
更に続いてより高い温度での第二の加熱及び/又は露光により硬化する硬化工程を有する。
第一の加熱工程における条件としては、70℃以上110℃以下で2分以上4分以下程度の条件下で乾燥されることが好ましい。
白色硬化膜の膜厚としては特に限定はないが、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、乾燥後の膜厚で、0.2μm以上50μm以下が好ましく、0.5μm以上30μm以下がより好ましく、0.7μm以上20μm以下が更に好ましく、2μm以上20μm以下がより更に好ましく、3μm以上20μm以下が特に好ましい。
<白色パターン及びその製造方法>
以下、本発明の白色パターンについて、その製造方法を通じて詳述する。
本発明の白色パターンの製造方法は、基板上に、本発明の白色感光性樹脂組成物を塗布して白色膜を形成する工程と、前記白色膜をマスクを介して露光する工程(以下、適宜「露光工程」と略称する。)と、露光後の前記白色膜を現像して白色パターンを形成する工程(以下、適宜「現像工程」と略称する。)とを有する。
本発明の白色パターンの製造方法においては、上述した、白色膜を形成する工程、露光工程、及び現像工程を行った後に、形成された白色パターンを加熱及び/又は露光により硬化する硬化工程を有することが好ましい。
具体的には、本発明の白色感光性樹脂組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、白色膜を形成し(白色膜形成工程)、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させ(露光工程)、現像液で現像することによって(現像工程)、白色パターンを形成することができる。
以下、各工程について説明する。
[白色膜形成工程]
白色膜形成工程では、基板上に、本発明の白色感光性樹脂組成物を塗布して白色膜を形成する。
前記基板としては、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体(CMOS)等が挙げられる。
また、これらの基板上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止あるいは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
基板上への本発明の白色感光性樹脂組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スプレー塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。
白色膜の塗布膜厚としては特に限定はないが、解像度と現像性の観点から、0.2μm以上50μm以下が好ましく、0.5μm以上30μm以下がより好ましく、0.7μm以上20μm以下が更に好ましい。
基板上に塗布された白色感光性樹脂組成物は、通常、70℃以上110℃以下で2分以上4分以下程度の条件下で乾燥され、白色膜が形成される。
〔露光工程〕
露光工程では、前記形成された白色膜をマスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、g線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられ、高圧水銀灯がより好まれる。照射強度は5mJ/cm以上1500mJ/cm以下が好ましく10mJ/cm以上1200mJ/cm以下がより好ましく、10mJ/cm以上1000mJ/cm以下が最も好ましい。
〔現像工程〕
露光工程に次いで、現像工程(好ましくはアルカリ現像工程)を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分だけが残る。
現像工程において使用する現像液は特に限定しないが、例えば、アルカリ現像液又は有機溶剤を含有する現像液を用いることができる。
現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が好ましい。現像温度としては通常20℃以上30℃以下であり、現像時間は20秒以上90秒以下である。
アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、n−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−n−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドドキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラペンチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ブチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリアミルアンモニウムヒドロキシド、ジブチルジペンチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジン等の環状アミン類等のアルカリ性水溶液を使用することができる。更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ現像液のアルカリ濃度は、通常0.001〜20質量%であり、0.01〜10質量%であることが好ましく、0.1〜1質量%であることがより好ましい。アルカリ現像液のpHは、通常10.0〜15.0である。アルカリ現像液のアルカリ濃度及びpHは、適宜調製して用いることができる。アルカリ現像液は、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加して用いてもよい。
なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄(リンス)する。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。
また、実施例中、酸価は電位差法(溶媒テトラヒドロフラン/水=54/6(体積比)、滴定液 0.1N水酸化ナトリウム水溶液(酸価))により決定した。
また、以降における重量平均分子量の測定は、測定装置としてHPC−8220GPC(東ソー製)、ガードカラムとしてTSKguardcolumn SuperHZ−L、カラムとしてTSKgel SuperHZM−M、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ3000、TSKgel SuperHZ2000を直結したカラムを用い、カラム温度を40℃にして、試料濃度0.1質量%のテトラヒドロフラン溶液を10μl注入し、溶出溶媒としてテトラヒドロフランを毎分0.35mlの流量でフローさせ、RI検出装置にて試料ピークを検出し、標準ポリスチレンを用いて作製した検量線を用いて計算した。
<実施例1>
[二酸化チタン分散液の調製1]
下記組成の混合液に対し、循環型分散装置(ビーズミル)として、寿工業株式会社製ウルトラアペックスミルを用いて、以下のようにして分散処理を行い、二酸化チタン分散液を得た。
〜組成〜
・二酸化チタン(石原産業(株)製 CR−90−2)(純度90%以上)
:540.00部
・分散剤(A−1)(30質量%PGMEA溶液) :129.00部
・プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート(PGMEA)
:531.00部
上記式中、nは14であり、分散剤(A−1)のポリスチレン換算の重量平均分子量6400であり、酸価は80mgKOH/gである。
また分散装置は以下の条件で運転した。
・ビーズ径:φ0.2mm
・ビーズ充填率:75体積%
・周速:10m/秒
・ポンプ供給量:10kg/時間
・冷却水:水道水
・ビーズミル環状通路内容積:0.15L
・分散処理する混合液量:1.20kg
分散開始後、30分間隔(1パスの時間)で平均粒子径の測定を行った。
平均粒子径は分散時間(パス回数)とともに減少していったが、次第にその変化量が少なくなっていった。粒度分布におけるd50が250nm未満、d90が350nm未満となった時点で分散を終了した。なお、この分散液中の二酸化チタン粒子の平均粒径は253nmであった。
この測定は、日機装株式会社製マイクロトラックUPA−EX150を用いて得られた数平均粒子径のこととする。
[白色感光性樹脂組成物の調製1]
上記で得られた二酸化チタン分散液を用いて、以下の組成となるように各成分を混合して実施例1の白色感光性樹脂組成物を得た。
〜白色感光性樹脂組成物の組成〜
・上記で調製した二酸化チタン分散液 :36.67部
・下記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :31.58部
重量平均分子量(Mw)は11000であり、共重合比(モル比)は下記の通りである。
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :8.92部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT;下記表においてM−1)
・重合開始剤(K−1) :2.54部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.21部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)
:0.04部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)0.2質量%PGMEA溶液
:4.17部
・PGMEA :3.10部
・シクロヘキサノン :12.76部
<実施例2〜4及び7>
分散剤、重合開始剤、バインダーポリマーの種類を変更(下記分散剤(A−2)、下記重合開始剤(K−2)、(K−3)、下記バインダーポリマー(B−2))する以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜4及び7の白色感光性樹脂組成物を調製した。
A−2について重量平均分子量(Mw)は9000であり、共重合比(モル比)は上記の通りである。
上記式中、nは9であり、B−2について重量平均分子量(Mw)は10,000であり、共重合比(モル比)は上記の通りである。
<実施例5>
[青顔料分散液の調製]
下記組成の混合液に対し、上記の二酸化チタン分散処理に準ずる操作により、青顔料分散液(C−1)を得た。
〜組成〜
・C.I.Pigment Blue 15:6 :88.80部
・C.I.Pigment Violet 23 :23.20部
・分散剤(ソルスパース36000;ルーブリゾール社製)30質量%PGMEA溶液
:152.00部
・PGMEA :536.00部
[白色感光性樹脂組成物の調製2]
上記の方法で調製した青顔料分散液(C−1)を用いて、以下の組成となるように各成分を混合して実施例5の白色感光性樹脂組成物を得た。
〜白色感光性樹脂組成物の組成〜
・上記の方法で調製した青顔料分散液(C−1) :0.03部
・実施例1と同様に調製した二酸化チタン分散液 :36.66部
・前記バインダー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :31.57部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :8.92部
(新中村化学工業株式会社製A−TMMT;下記表においてM−1)
・前記重合開始剤(K−2) :2.54部
・着色防止剤((株)アデカ製アデカスタブAO−80) :0.21部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン) :0.04部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)0.2質量%PGMEA溶液
:4.17部
・PGMEA :3.10部
・シクロヘキサノン :12.75部
<実施例6>
青顔料分散液の種類を下記青顔料分散液(C−2)に変更する以外は、実施例5と同様にして、実施例6の白色感光性樹脂組成物を調製した。
実施例6においては下記のように混合液を調製し、上記の二酸化チタン分散処理に準ずる操作により、青顔料分散液(C−2)を得た。
〜組成〜
・C.I.Pigment Violet 23 :80.00部
・分散剤(ソルスパース36000;ルーブリゾール社製)30質量%PGMEA溶液
:232.00部
・PGMEA :488.00部
<実施例8>
[二酸化チタン分散液の調製2]
組成及び分散処理する混合液量を下記のように変更する以外は、実施例1と同様にして、分散液を調製した。
〜組成〜
・二酸化チタン(石原産業(株)製 CR−90−2)(純度90%以上)
:272.57部
・分散剤(SOLSPERSE36000)(30質量%PGMEA溶液)
:136.29部
・プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート(PGMEA)
:241.14部
・分散処理する混合液量:0.65kg
[白色感光性樹脂組成物の調製3]
上記の方法で調製した二酸化チタン分散液を用いて、以下の組成となるように各成分を混合して実施例8の白色感光性樹脂組成物を得た。
〜白色感光性樹脂組成物の組成〜
・上記の方法で調製した二酸化チタン分散液 :40.56部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :28.35部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :8.92部
(新中村化学工業株式会社製A−TMMT;下記表においてM−1)
・前記重合開始剤(K−2) :2.54部
・着色防止剤((株)アデカ製アデカスタブAO−80) :0.21部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)1質量%シクロヘキサノン溶液 :4.20部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)0.2質量%PGMEA溶液
:4.17部
・PGMEA :11.04部
<実施例9、10>
分散剤の種類をSOLSPERSE26000、SOLSPERSE41000に変更する以外は、実施例8と同様にして、白色感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例11>
[白色感光性樹脂組成物の調製4]
以下の組成となるように各成分を混合して実施例11の白色感光性樹脂組成物を得た。
〜白色感光性樹脂組成物の組成〜
・二酸化チタン分散液の調製2で調整した分散液 :45.63部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :42.07部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :5.88部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT;下記表においてM−1)
・重合開始剤(K−2) :2.82部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.24部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.47部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.24部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.90部
・PGMEA :1.99部
このように調製した白色感光性樹脂組成物を用いて、白色硬化膜を形成し、[耐熱性(色差ΔEab)]、[分光測定(透過率)]、[パターン形成性]を評価した。
[白色硬化膜の形成(膜厚:4.0μm)]
実施例1〜11の白色感光性樹脂組成物をそれぞれ、ソーダガラス(75mm×75mm正方、厚さ1.1mm)上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で100℃で2分間加熱して膜厚4.0μmの塗布膜を得た。この塗布膜を、ウシオ電機(株)製超高圧水銀ランプ「USH−500BY」により700mJ/cmで露光した。さらに、200℃で5分、ホットプレート上で加熱して、白色硬化膜(膜厚:4.0μm)を得た。
[耐熱性評価]
(分光測定(反射))
上記形成した白色硬化膜の分光L,a,bをSpectro EyeLT(サカタインクス社製)で測定した。なお、測定の際には、白色硬化膜を形成したガラスを、黒色レジストで被覆した台(黒色台)に置いて測定した。黒色台の黒色レジスト層のODは400nmで3.5(透過率0.03%)、550nmで3.2(透過率0.06)、700nmで2.5(透過率0.32%)であり、反射率は400nm〜700nmで7%であった。該黒色台のODは大塚電子(株)製「MCPD−3000」で測定し、反射率はコニカミノルタ(株)製「SPECTROPHOTOMETER CM−2600」で測定した。
上記の白色硬化膜を、265℃で15分、ホットプレート上で加熱し、加熱後の白色硬化膜の色濃度を前記の方法に準じて測定し、色差ΔEabを算出した。
[分光測定(透過率)]
上記の白色硬化膜の分光(透過率)を、大塚電子(株)製「MCPD−3000」で測定した。
[パターン形成(膜厚4.0μm)]
前記の白色感光性樹脂組成物をソーダガラス(100mm×100mm正方、厚さ0.7mm)上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で100℃で2分間加熱して膜厚4.00μmの塗布膜を得た。この塗布膜を、直径50μm及び20μmの円形パターンを多数有するマスクを介してウシオ電機(株)製超高圧水銀ランプ「USH−500BY」により700mJ/cmで露光した。
これをアルカリ現像液(CD−2060)(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて、室温にて60秒間、パドル現像した後、さらに20秒間スピンシャワーにて純水でリンスを行った。その後更に、純水にて水洗を行い、その後、高速回転にて基板を乾燥させ、ホールパターンを形成した。
下記評価基準に基づいて、ホール径50μm及び20μmのホールパターンそれぞれについてパターン形成性について評価した。
パターン形成性:
1.パターン形成せず。
2.多くの残渣あり、パターン形状が悪い。
3.残渣が少しあるが、パターン形状は悪くない。
4.残渣が少しあるが、はっきりとパターン形成している。
5.残渣なくはっきりとパターン形成している。
結果を下記表1に示す。
表1から明らかなように、実施例1〜11は、耐熱試験前後の色差ΔEabが3以下で着色が抑制され、ホール径50μm以下のホールパターンが良好に形成できることが分かる。
さらに、酸系吸着部位としてリン原子含有基を有する高分子分散剤を使用することで、20μm以下のホールパターンが良好に形成できることが分かる。
また、実施例11は膜厚を10μmまで厚くしても耐熱試験前後の着色が少ないことを確認した。また、後記の表2からも明らかなように、50μm以下のホールパターンが良好に形成できることもわかった。
次に、上記実施例8及び11の白色感光性樹脂組成物、並び下記実施例12〜17の白色感光性樹脂組成物について、膜厚4.0μm及び10.0μmの白色硬化膜を形成し、ホールパターンについてパターン形成性を評価した。
白色感光性組成物の内容を下記の通りに変更する以外は、実施例8と同様にして実施例12〜17の白色感光性樹脂組成物を調製した。
<実施例12>
・二酸化チタン分散液の調製2で調製した分散液 :45.63部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :21.39部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :14.15部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT)
・重合開始剤(K−2) :2.82部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.23部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.47部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.90部
・PGMEA :14.40部
<実施例13>
・二酸化チタン分散液の調製2で調製した分散液 :45.63部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :34.17部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :9.04部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT)
・重合開始剤(K−2) :2.82部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.23部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.47部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.90部
・PGMEA :6.73部
<実施例14>
・二酸化チタン分散液の調製2で調製した分散液 :45.63部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :36.70部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :8.03部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT)
・重合開始剤(K−2) :2.82部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.23部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.47部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.90部
・PGMEA :5.21部
<実施例15>
・二酸化チタン分散液の調製2で調製した分散液 :45.63部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :40.29部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :6.61部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT)
・重合開始剤(K−2) :2.80部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.24部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.47部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.90部
・PGMEA :3.05部
<実施例16>
・二酸化チタン分散液の調製2で調製した分散液 :44.66部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :46.05部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :3.80部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT)
・重合開始剤(K−2) :2.76部
・着色防止剤((株)アデカ製 アデカスタブAO−80) :0.23部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.46部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.92部
・PGMEA :1.11部
<実施例17>
・二酸化チタン分散液の調製2で調製した分散液 :45.63部
・前記バインダーポリマー(B−1)40質量%PGMEA溶液 :42.48部
・重合性モノマー(ペンタエリスリトールテトラアクリレート) :5.93部
(新中村化学工業株式会社製 A−TMMT)
・重合開始剤(K−2) :2.84部
・シランカップリング剤(N−2−(アミノメチルエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)(10%シクロヘキサノン溶液) :0.47部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) :0.01部
・界面活性剤(DIC社製メガファックF−781F)1質量%PGMEA溶液
:0.90部
・PGMEA :1.74部
[白色硬化膜の形成(膜厚10.0μm)]
膜厚10.0μmの白色硬化膜の形成は、膜厚10.0μmの塗布膜を得た後に、膜厚10.0μmの白色硬化膜を得た以外は、[白色硬化膜の形成(膜厚4.0μm)]と同様にして膜厚10.0μmの白色硬化膜を得た。
[パターン形成(膜厚10.0μm)]
前記の白色感光性樹脂組成物をソーダガラス(100mm×100mm正方、厚さ0.7mm)上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で100℃で2分間加熱して膜厚10.0μmの塗布膜を得た。この塗布膜を、直径50μmの円形パターンを多数有するマスクを介してウシオ電機(株)製超高圧水銀ランプ「USH−500BY」により1000mJ/cmで露光した。
これをアルカリ現像液(CD−2060)(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて、室温にて30秒間、パドル現像した後、さらに20秒間スピンシャワーにて純水でリンスを行った。その後更に、純水にて水洗を行い、その後、高速回転にて基板を乾燥させ、ホールパターンを形成した。
下記評価基準に基づいて、ホール径50μmのホールパターンそれぞれについてパターン形成性について評価した。
パターン形成性:
1.パターン形成せず。
2.多くの残渣あり、パターン形状が悪い。
3.残渣が少しあるが、パターン形状は悪くない。
4.残渣が少しあるが、はっきりとパターン形成している。
5.残渣なくはっきりとパターン形成している。
実施例8、11〜17の白色感光性樹脂組成物について、のポリマー含有量(固形分中のバインダーポリマー(A)及び分散剤の総含有量)と解像性の関係を下記表2に示す。
上記表2に示した実施例8、11〜17の白色感光性樹脂組成物の結果から明らかなように、いずれもポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中24〜46質量%のとき良好な解像性を示すことがわかる。
さらに、膜厚4μmではポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中24〜42質量%のとき特に良好な解像性を示すことがわかる。また、膜厚10μmではポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中35〜45質量%のとき特に良好な解像性を示すことがわかる。
また、着色防止剤を含有しない実施例17の白色感光性樹脂組成物についても良好な解像性を示すことがわかる。
なお、着色防止剤を含有させないこと以外は、実施例8、12〜16の白色感光性樹脂組成物と同様の組成の白色感光性樹脂組成物について実施例8、12〜16と同様に白色硬化膜を形成し、パターン形成を評価した結果、ポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中24〜46質量%のとき良好な解像性を示す結果が得られ、膜厚4μmではポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中24〜42質量%のとき特に良好な解像性を示す結果がえられ、また、膜厚10μmではポリマー含有量が白色感光性樹脂組成物の全固形分中35〜45質量%のとき特に良好な解像性を示す結果が得られた。

Claims (25)

  1. (A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び(E)着色防止剤を含有し、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、光電変換素子基板上の塗布に供される、白色感光性樹脂組成物。

    上記一般式(A)中、
    、R及びRは、各々独立に、1価の置換基を表す。
  2. (A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び(E)着色防止剤を含有し、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、前記バインダーポリマー(A)が下記一般式(ED)で表される化合物の単量体成分を含む、白色感光性樹脂組成物。

    上記一般式(A)中、
    、R 及びR は、各々独立に、1価の置換基を表す。

    上記一般式(ED)中、
    及びR は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
  3. 二酸化チタン(D)の平均粒径が180nm以上である、請求項1又は2に記載の白色感光性樹脂組成物。
  4. 二酸化チタン(D)の含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中35質量%以上である請求項1〜3のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  5. 前記着色防止剤(E)がフェノール化合物である、請求項1〜のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  6. 前記着色防止剤(E)がフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するフェノール化合物である、請求項1〜のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  7. 分散剤を更に含有し、バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24質量%以上46質量%以下である請求項1〜のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  8. バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中30質量%以上46質量%以下である請求項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  9. 前記分散剤が、吸着部位を有する高分子分散剤である、請求項又はに記載の白色感光性樹脂組成物。
  10. 前記吸着部位が酸系吸着部位である、請求項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  11. 前記酸系吸着部位がリン原子含有基またはカルボン酸基の少なくとも一方である、請求項10に記載の白色感光性樹脂組成物。
  12. 前記高分子分散剤が下記一般式(1)で表される、請求項に記載の白色感光性樹脂組成物。

    上記一般式(1)中、
    は、(m+n)価の連結基を表し、Rは単結合又は2価の連結基を表す。Aは酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。n個のA及びRは、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
    mは8以下の正の数、nは1〜9を表し、m+nは3〜10を満たす。
    はポリマー鎖を表す。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。
  13. (A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び分散剤を含有し、前記バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%であり、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、光電変換素子基板上の塗布に供される、白色感光性樹脂組成物。

    上記一般式(A)中、
    、R及びRは、各々独立に、1価の置換基を表す。
  14. (A)バインダーポリマー、(B)重合性モノマー、(C)重合開始剤、(D)平均粒径100nm以上の二酸化チタン粒子、及び分散剤を含有し、前記バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中24〜46質量%であり、前記重合開始剤(C)が、下記一般式(A)で表されるオキシムエステル系化合物であり、前記バインダーポリマー(A)が下記一般式(ED)で表される化合物の単量体成分を含む、白色感光性樹脂組成物。

    上記一般式(A)中、
    、R 及びR は、各々独立に、1価の置換基を表す。

    上記一般式(ED)中、
    及びR は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
  15. 前記バインダーポリマー(A)がカルボキシル基を有する単量体を含む、請求項1〜14のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  16. 前記バインダーポリマー(A)がエポキシ基を有する単量体を含む、請求項1〜15のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  17. 前記バインダーポリマー(A)がラジカル重合性二重結合を有する単量体を含む、請求項1〜16のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  18. 前記バインダーポリマー(A)が下記一般式(ED)で表される化合物の単量体成分を含む、請求項1又は13に記載の白色感光性樹脂組成物。

    上記一般式(ED)中、
    及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
  19. 前記バインダーポリマー(A)の酸価が50〜400mgKOH/gである、請求項2、14又は18に記載の白色感光性樹脂組成物。
  20. バインダーポリマー(A)と前記分散剤との総含有量が、白色感光性樹脂組成物固形分中30〜46質量%である、請求項13に記載の白色感光性樹脂組成物。
  21. 265℃15分の加熱前後の色差ΔE*abが3以下の白色硬化膜を形成し得る、請求項1〜20のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  22. 265℃15分の加熱前後の色差ΔE*abが2以下の白色硬化膜を形成し得る、請求項1〜21のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  23. ホール径50μm以下のホールパターンを有する白色硬化膜を形成し得る、請求項1〜22のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物。
  24. 請求項1〜23のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物を用いて形成された白色硬化膜。
  25. 基板上に、請求項1〜23のいずれか1項に記載の白色感光性樹脂組成物を塗布して白色膜を形成する工程と、前記白色膜をマスクを介して露光する工程と、露光後の前記白色膜を現像して白色パターンを形成する工程とを有する白色パターンの製造方法。
JP2013231334A 2012-11-16 2013-11-07 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法 Active JP6126975B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013231334A JP6126975B2 (ja) 2012-11-16 2013-11-07 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012252633 2012-11-16
JP2012252633 2012-11-16
JP2013146905 2013-07-12
JP2013146905 2013-07-12
JP2013231334A JP6126975B2 (ja) 2012-11-16 2013-11-07 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015034961A JP2015034961A (ja) 2015-02-19
JP6126975B2 true JP6126975B2 (ja) 2017-05-10

Family

ID=50731085

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013231334A Active JP6126975B2 (ja) 2012-11-16 2013-11-07 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6126975B2 (ja)
TW (1) TWI600693B (ja)
WO (1) WO2014077171A1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6448447B2 (ja) * 2015-04-07 2019-01-09 日本化薬株式会社 白色活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
JP6553439B2 (ja) * 2015-07-28 2019-07-31 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物
JP2017044976A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 三洋化成工業株式会社 感光性樹脂組成物
WO2017056901A1 (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 富士フイルム株式会社 組成物、硬化膜、パターン、パターンの製造方法、光学センサー、及び撮像素子
WO2017134998A1 (ja) 2016-02-02 2017-08-10 富士フイルム株式会社 膜の製造方法
KR102134138B1 (ko) 2016-03-14 2020-07-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 경화막, 광학 센서 및 막의 제조 방법
WO2018012440A1 (ja) 2016-07-15 2018-01-18 富士フイルム株式会社 積層体、キット、積層体の製造方法および光学センサ
JP6630754B2 (ja) * 2017-02-16 2020-01-15 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜及び表示装置
WO2018180116A1 (ja) 2017-03-29 2018-10-04 富士フイルム株式会社 構造体および光センサ
US11294284B2 (en) * 2018-07-17 2022-04-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition and pattern forming process
JPWO2020262270A1 (ja) 2019-06-27 2020-12-30
TW202112837A (zh) 2019-09-26 2021-04-01 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
WO2021199748A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 組成物、膜及び光センサ
JP7211611B2 (ja) * 2021-02-19 2023-01-24 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、ソルダーレジスト及びプリント配線板
EP4310556A1 (en) 2021-03-19 2024-01-24 FUJIFILM Corporation Film and photosensor
JPWO2023054142A1 (ja) 2021-09-29 2023-04-06

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007314617A (ja) * 2006-05-24 2007-12-06 Toyo Ink Mfg Co Ltd ビニル系共重合体とその製造方法、およびそれを用いた顔料組成物
JP2010197952A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Sekisui Chem Co Ltd 感光性組成物及びソルダーレジスト組成物
JP5377021B2 (ja) * 2009-03-23 2013-12-25 太陽ホールディングス株式会社 硬化性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム及びプリント配線板
JP5434620B2 (ja) * 2010-01-19 2014-03-05 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用白色トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2011170050A (ja) * 2010-02-17 2011-09-01 Taiyo Holdings Co Ltd ソルダーレジスト組成物およびプリント配線板
JP5645446B2 (ja) * 2010-03-31 2014-12-24 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP5820568B2 (ja) * 2010-03-31 2015-11-24 太陽ホールディングス株式会社 硬化性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム及びプリント配線板
WO2011161817A1 (ja) * 2010-06-25 2011-12-29 リケンテクノス株式会社 塗料およびこれを用いたプライマー、インクジェット用インク
JP2012174929A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Techno Polymer Co Ltd 太陽電池用裏面保護フィルム及び太陽電池モジュール
JP5745886B2 (ja) * 2011-02-16 2015-07-08 株式会社カネカ 新規な白色感光性樹脂組成物及びその利用
JP5626009B2 (ja) * 2011-02-25 2014-11-19 富士ゼロックス株式会社 画像形成方法、及び画像形成装置
JP5858740B2 (ja) * 2011-11-15 2016-02-10 株式会社カネカ 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013205552A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性積層体、フレキシブル回路基板、及び永久パターン形成方法
JP5832973B2 (ja) * 2012-08-28 2015-12-16 株式会社タムラ製作所 白色活性エネルギー線硬化性樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TWI600693B (zh) 2017-10-01
TW201420659A (zh) 2014-06-01
JP2015034961A (ja) 2015-02-19
WO2014077171A1 (ja) 2014-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6126975B2 (ja) 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法
KR101965175B1 (ko) 감광성 조성물, 이것을 이용한 회색 경화막, 회색 화소 및 고체 촬상 소자
JP5909468B2 (ja) 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5894943B2 (ja) 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
WO2017159190A1 (ja) 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
TWI756268B (zh) 分散液、組成物、膜、膜的製造方法及分散劑
KR102146312B1 (ko) 조성물, 조성물의 제조 방법, 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
JP5934682B2 (ja) マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
WO2018012440A1 (ja) 積層体、キット、積層体の製造方法および光学センサ
WO2018163668A1 (ja) 組成物、膜、光センサおよび分散剤
WO2019176409A1 (ja) 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
JPWO2018061583A1 (ja) 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、近赤外線センサ、及び、近接センサ
JP5977770B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
JP6097128B2 (ja) 遠赤外線遮光層形成用組成物
JP5894944B2 (ja) 化合物及び分散組成物
JP6721670B2 (ja) 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
JP6598868B2 (ja) 組成物、硬化膜、パターン、パターンの製造方法、光学センサー、及び撮像素子
TW202012306A (zh) 遮光性組成物、硬化膜、濾色器、遮光膜、固體攝像元件、圖像顯示裝置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150427

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20150828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160119

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161028

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20170123

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170314

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170410

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6126975

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250