JP2924902B2 - 基材の表面を光触媒的に超親水性にする方法、超親水性の光触媒性表面を備えた基材、および、その製造方法 - Google Patents
基材の表面を光触媒的に超親水性にする方法、超親水性の光触媒性表面を備えた基材、および、その製造方法Info
- Publication number
- JP2924902B2 JP2924902B2 JP18837298A JP18837298A JP2924902B2 JP 2924902 B2 JP2924902 B2 JP 2924902B2 JP 18837298 A JP18837298 A JP 18837298A JP 18837298 A JP18837298 A JP 18837298A JP 2924902 B2 JP2924902 B2 JP 2924902B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- layer
- contact angle
- photocatalytic
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 158
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 243
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 174
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 165
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 97
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 claims description 23
- 230000007480 spreading Effects 0.000 claims description 8
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 8
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 4
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 464
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 149
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 73
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 62
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 60
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 48
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 32
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 22
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 20
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 17
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 16
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 16
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 15
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 14
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 14
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 14
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 14
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 14
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000002585 base Substances 0.000 description 13
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 13
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 10
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 9
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 9
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 9
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 8
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 8
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 8
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 7
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 6
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 6
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 5
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 5
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 description 5
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 241001074085 Scophthalmus aquosus Species 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LMEWRZSPCQHBOB-UHFFFAOYSA-M silver;2-hydroxypropanoate Chemical compound [Ag+].CC(O)C([O-])=O LMEWRZSPCQHBOB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 4
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 3
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 3
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 2
- 239000002553 antibacterial enhancer Substances 0.000 description 2
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L copper;diacetate;hydrate Chemical compound O.[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWFJMIVZYSDULZ-PXOLEDIWSA-N (4s,4ar,5s,5ar,6s,12ar)-4-(dimethylamino)-1,5,6,10,11,12a-hexahydroxy-6-methyl-3,12-dioxo-4,4a,5,5a-tetrahydrotetracene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2[C@](O)(C)[C@H]3[C@H](O)[C@H]4[C@H](N(C)C)C(=O)C(C(N)=O)=C(O)[C@@]4(O)C(=O)C3=C(O)C2=C1O OWFJMIVZYSDULZ-PXOLEDIWSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- JRGQKLFZSNYTDX-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOCC1CO1 JRGQKLFZSNYTDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKQXZSHRPUFBSW-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silyl]propan-1-amine Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)CCCN XKQXZSHRPUFBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQMCVFDSKWCIGP-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silyl]propane-1-thiol Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)CCCS LQMCVFDSKWCIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WALYBSCHCQWCPC-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C WALYBSCHCQWCPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXKAXHPVFLEQHV-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropan-1-amine Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCN OXKAXHPVFLEQHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJUFQURUUZMUOG-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropane-1-thiol Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCS CJUFQURUUZMUOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHPNMYQJQQGAJS-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C(C)=C CHPNMYQJQQGAJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GZTBKEOTCAVWNJ-UHFFFAOYSA-L C(C)O.C(C)(=O)[O-].[Cu+2].C(C)(=O)[O-] Chemical compound C(C)O.C(C)(=O)[O-].[Cu+2].C(C)(=O)[O-] GZTBKEOTCAVWNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HIPOUHVMWKIMII-UHFFFAOYSA-N C(CCC)O[SiH3].C1(=CC=CC=C1)[SiH2][SiH2][SiH3] Chemical compound C(CCC)O[SiH3].C1(=CC=CC=C1)[SiH2][SiH2][SiH3] HIPOUHVMWKIMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAGDAIVNVPMTON-UHFFFAOYSA-N Cl[SiH3].C1(=CC=CC=C1)[SiH]([SiH3])C1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl[SiH3].C1(=CC=CC=C1)[SiH]([SiH3])C1=CC=CC=C1 DAGDAIVNVPMTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000114 Corrugated plastic Polymers 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- 241001302584 Escherichia coli str. K-12 substr. W3110 Species 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003594 H2PtCl6.6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZZINWWGSYUHGU-UHFFFAOYSA-J ToTo-1 Chemical compound [I-].[I-].[I-].[I-].C12=CC=CC=C2C(C=C2N(C3=CC=CC=C3S2)C)=CC=[N+]1CCC[N+](C)(C)CCC[N+](C)(C)CCC[N+](C1=CC=CC=C11)=CC=C1C=C1N(C)C2=CC=CC=C2S1 MZZINWWGSYUHGU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- INNSZZHSFSFSGS-UHFFFAOYSA-N acetic acid;titanium Chemical compound [Ti].CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O INNSZZHSFSFSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002785 anti-thrombosis Effects 0.000 description 1
- 239000003146 anticoagulant agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002928 artificial marble Substances 0.000 description 1
- UWMGVIKSCFGFDR-UHFFFAOYSA-N benzyl(dibromo)silane Chemical compound Br[SiH](Br)CC1=CC=CC=C1 UWMGVIKSCFGFDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 238000012258 culturing Methods 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LILGYOCNANBWTO-UHFFFAOYSA-N decyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C LILGYOCNANBWTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGUMJWWZSTXCAM-UHFFFAOYSA-N decyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C AGUMJWWZSTXCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N dibromo(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Br)Br LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUGVTOEUNNUHR-UHFFFAOYSA-N dibromo(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 DBUGVTOEUNNUHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 230000009189 diving Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQRPSOKLSZSNAR-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)C=C BQRPSOKLSZSNAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N ethyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](CC)(OC(C)C)OC(C)C MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVQNVYMTWXEMSF-UHFFFAOYSA-N ethyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](CC)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C ZVQNVYMTWXEMSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000013611 frozen food Nutrition 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTKSEHTOJHGOV-UHFFFAOYSA-N hexyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C DPTKSEHTOJHGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QECCXOBPOBIUMS-UHFFFAOYSA-N hexyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C QECCXOBPOBIUMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 231100001240 inorganic pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHQDZKRRVNGIQL-UHFFFAOYSA-N methyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C AHQDZKRRVNGIQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IHVVJLCVJNNCDK-UHFFFAOYSA-N octadecyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C IHVVJLCVJNNCDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- VPLNCHFJAOKWBT-UHFFFAOYSA-N phenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C1=CC=CC=C1 VPLNCHFJAOKWBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000013033 photocatalytic degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N propoxysilane Chemical compound CCCO[SiH3] ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- PCADGSDEFOMDNL-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCC(F)(F)F PCADGSDEFOMDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQVCTPXBBSKLFS-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C MQVCTPXBBSKLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLZOPJVPCGTFGS-UHFFFAOYSA-N tribromo(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Br)(Br)Br MLZOPJVPCGTFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYZDWEPTQWHDLZ-UHFFFAOYSA-N tribromo(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Br)(Br)Br LYZDWEPTQWHDLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C=C BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Br)(Br)Br KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRUFDMFAHKOFOT-UHFFFAOYSA-N tribromo(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Br)(Br)Br VRUFDMFAHKOFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N tribromo(methyl)silane Chemical compound C[Si](Br)(Br)Br KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCEOWKUMFSNHFM-UHFFFAOYSA-N tribromo(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Br)(Br)Br RCEOWKUMFSNHFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N tribromo(phenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRKNKVDHIEKHS-UHFFFAOYSA-N tribromo(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Br)(Br)Br RWRKNKVDHIEKHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N trichloro(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIOBRIJHDZBWDE-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)CCC(F)(F)F JIOBRIJHDZBWDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUSDGIZCXCUHAI-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)CCCOCC1CO1 WUSDGIZCXCUHAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXKYGZRLZACSIK-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C RXKYGZRLZACSIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPPYBTFPZSGK-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C DIZPPYBTFPZSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47G—HOUSEHOLD OR TABLE EQUIPMENT
- A47G1/00—Mirrors; Picture frames or the like, e.g. provided with heating, lighting or ventilating means
- A47G1/02—Mirrors used as equipment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/256—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/3663—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties specially adapted for use as mirrors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
- C04B41/5041—Titanium oxide or titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
- C09D5/1612—Non-macromolecular compounds
- C09D5/1618—Non-macromolecular compounds inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F13/00—Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing
- F28F13/18—Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing by applying coatings, e.g. radiation-absorbing, radiation-reflecting; by surface treatment, e.g. polishing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/229—Non-specific enumeration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/25—Metals
- C03C2217/251—Al, Cu, Mg or noble metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/75—Hydrophilic and oleophilic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/0081—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as catalysts or catalyst carriers
- C04B2111/00827—Photocatalysts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
- C08K2003/2241—Titanium dioxide
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F2245/00—Coatings; Surface treatments
- F28F2245/02—Coatings; Surface treatments hydrophilic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Mirrors, Picture Frames, Photograph Stands, And Related Fastening Devices (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Dental Tools And Instruments Or Auxiliary Dental Instruments (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Specific Sealing Or Ventilating Devices For Doors And Windows (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
表面を高度の親水性になし、かつ、維持する技術に関す
る。より詳しくは、本発明は、鏡、レンズ、板ガラスそ
の他の透明基材の表面を高度に親水化することにより、
基材の曇りや水滴形成を防止する防曇技術に関する。本
発明は、また、建物や窓ガラスや機械装置や物品の表面
を高度に親水化することにより、表面が汚れるのを防止
し、又は表面を自己浄化(セルフクリーニング)し若し
くは容易に清掃する技術に関する。
スや窓ガラス、建物の窓ガラス、眼鏡のレンズ、および
各種計器盤のカバーガラスが凝縮湿分で曇るのはしばし
ば経験されることである。また、浴室や洗面所の鏡や眼
鏡のレンズが湯気で曇ることも良く遭遇される。物品の
表面に曇りが生じるのは、表面が雰囲気の露点以下の温
度に置かれると雰囲気中の湿分が凝縮して表面に結露す
るからである。凝縮水滴が充分に細かく、それらの直径
が可視光の波長の1/2程度であれば、水滴は光を散乱
し、ガラスや鏡は見かけ上不透明となり、可視性が失わ
れる。
が互いに融合してより大きな離散した水滴に成長すれ
ば、水滴と表面との界面並びに水滴と空気との界面にお
ける光の屈折により、表面は翳り、ぼやけ、斑模様にな
り、或いは曇る。その結果、ガラスのような透明物品で
は透視像が歪んで透視性が低下し、鏡では反射像が乱さ
れる。更に、車両の風防ガラスや窓ガラス、建物の窓ガ
ラス、車両のバックミラー、眼鏡のレンズ、マスクやヘ
ルメットのシールドが降雨や水しぶきを受け、離散した
多数の水滴が表面に付着すると、それらの表面は翳り、
ぼやけ、斑模様になり、或いは曇り、やはり可視性が失
われる。本明細書および添付の請求の範囲で用いる“防
曇”の用語は、このような曇りや凝縮水滴の成長や水滴
の付着による光学的障害を防止する技術を広く意味す
る。
の作業の能率に深い影響を与える。例えば、車両の風防
ガラスや窓ガラスやバックミラーが曇り或いは翳ると車
両や交通の安全性が損なわれる。内視鏡レンズや歯科用
歯鏡が曇ると、的確な診断、手術、処置の障害となる。
計器盤のカバーガラスが曇るとデータの読みが困難とな
る。寒冷時や雨天に視界を確保するため、自動車その他
の車両の風防ガラスには一般にワイパーやデフロスト装
置やヒーターが組み込んである。しかし、自動車の側方
窓ガラスや車外に配置されたバックミラーにこれらの装
置を取り付けるのは商業的な実現可能性がない。また、
建物の窓ガラスや眼鏡のレンズ、内視鏡レンズや歯科用
歯鏡、ゴグル、マスク或いはヘルメットのシールド、計
器盤のカバーガラスにこれらの防曇装置を取り付けるの
は不可能ではないまでも困難である。
防曇方法は、ポリエチレングリコールのような親水性化
合物或いはシリコーンのような撥水性化合物を含んだ防
曇性組成物を表面に塗布することである。しかし、この
種の防曇性被膜はあくまで一時的なもので、水洗や接触
によって容易に取り除かれ、早期に効果を失うという難
点がある。実開平3-129357号(三菱レイヨン)には、基
材の表面にポリマー層を設け、この層に紫外線を照射し
た後アルカリ水溶液により処理することにより高密度の
酸性基を生成し、これによりポリマー層の表面を親水性
にすることからなる鏡の防曇方法が開示されている。し
かし、この方法においても、表面に付着する汚染物質に
より時間が経つにつれて表面は親水性を失い、防曇性能
が次第に失われるものと考えられる。
は、親水基を有するアクリル系モノマーと疎水基を有す
るモノマーとのグラフト重合体からなる防曇性フィルム
が開示されている。このグラフト重合体の水との接触角
は50゜程度であり、この防曇性フィルムは充分な防曇
性能を備えていないものと考えられる。嘉悦勲著「ガラ
スの防曇性コーティング技術」(最新コーティング技
術、p. 237−249、総合技術センター発行、1986)に
は、従来技術の種々の防曇技術が記載されている。しか
し、著者の嘉悦氏は、表面の親水化による防曇技術も実
用上克服されるべき大きな問題点があり、現在の防曇性
コーティング技術は1つの壁に突き当たっていると考え
られる、と述べておられる。
術における問題に鑑みてなされたものであって、本発明
の目的は、鏡、レンズ、ガラス、その他の透明基材の高
度の可視性を実現することの可能な防曇方法を提供する
ことである。
ス、その他の透明基材の表面を長期間にわたって高度の
親水性に維持することの可能な防曇方法を提供すること
である。本発明の更に他の目的は、鏡、レンズ、ガラ
ス、その他の透明基材の表面をほぼ恒久的に高度の親水
性に維持することの可能な防曇方法を提供することであ
る。本発明の他の目的は、耐久性と耐摩耗性に優れた防
曇性コーティングを提供することである。本発明の他の
目的は、防曇を要する表面に容易に被着することが可能
な防曇性コーティングを提供することである。
面を高度の親水性に維持し、高度の防曇性能を維持する
ことの可能な防曇性の鏡、レンズ、ガラス、その他の透
明基材、およびその製造方法を提供することである。他
方、建築および塗装の分野においては、環境汚染に伴
い、建築外装材料や屋外建造物やその塗膜の汚れが問題
となっている。大気中に浮遊する煤塵や粒子は晴天には
建物の屋根や外壁に堆積する。堆積物は降雨に伴い雨水
により流され、建物の外壁を流下する。更に、雨天には
浮遊煤塵は雨によって持ち運ばれ、建物の外壁や屋外建
造物の表面を流下する。その結果、表面には、雨水の道
筋に沿って汚染物質が付着する。表面が乾燥すると、表
面には縞状の汚れが現れる。
ラックのような燃焼生成物や、都市煤塵や、粘土粒子の
ような無機質物質の汚染物質からなる。このような汚染
物質の多様性が防汚対策を複雑にしているものと考えら
れている(橘高義典著“外壁仕上材料の汚染の促進試験
方法”、日本建築学会構造系論文報告集、第404号、198
9年10月、p. 15−24)。従来の通念では、建築外装など
の汚れを防止するためにはポリテトラフルオロエチレン
(PTFE)のような撥水性の塗料が好ましいと考えられて
いたが、最近では、親油性成分を多く含む都市煤塵に対
しては、塗膜の表面を出来るだけ親水性にするのが望ま
しいと考えられている(高分子、44巻、1995年5月号、
p. 307)。
を塗装することが提案されている(新聞“化学工業日
報”、1995年1月30日)。報告によれば、この塗膜は水
との接触角が30〜40゜の親水性を呈する。しかしな
がら、粘土鉱物で代表される無機質塵埃の水との接触角
は20゜から50゜であり、水との接触角が30〜40
゜のグラフトポリマーに対して親和性を有しその表面に
付着しやすいので、このグラフトポリマーの塗膜は無機
質塵埃による汚れを防止することができないと考えられ
る。
コン樹脂、水性シリコーン、シリコーン樹脂とアクリル
との樹脂とのブロック重合体、アクリルスチレン樹脂、
ソルビタン脂肪酸エチレンオキサイド、ソルビタン脂肪
酸エステル、ウレタン系アセテート、ポリカーボネート
ジオール及び/又はポリイソシアネートの架橋型ウレタ
ン、ポリアクリル酸アルキルエステル架橋体などからな
る種々の親水性塗料が市販されている。これらの親水性
塗料の水との接触角はせいぜい50〜70゜であり、親
油性成分を多く含む都市煤塵による汚れを効果的に防止
することができない。従って、本発明の他の目的は、基
材の表面を高度の親水性にする方法を提供することであ
る。
械装置や物品の表面を高度に親水化することにより、表
面が汚れるのを防止し、又は表面を自己浄化(セルフク
リーニング)し或いは容易に清掃する方法を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、表面が汚れるのを防止
し、又は表面を自己浄化し或いは容易に清掃することの
可能な高度に親水性の防汚性基材およびその製造方法を
提供することである。ある種の装置においては、表面に
付着した湿分凝縮水が水滴に成長するとその機能が阻害
される。例えば、熱交換器においては、放熱フィンに付
着した水滴が大きな水滴に成長すると熱交換効率が低下
する。そこで、本発明の他の目的は、表面を高度に親水
化することにより、付着した湿分凝縮水を水膜化し、付
着した湿分凝縮水が大きな水滴に成長するのを防止する
方法を提供することである。
励起すると光触媒の表面が高度に親水化されることを発
見した。詳しくは、光触媒性チタニアを紫外線で光励起
したところ、水との接触角が10゜以下、より詳しくは
5゜以下、特に約0゜になる程度に表面が高度に親水化
されることが発見された。本発明は斯る発見に基づくも
ので、本発明は、広義には、基材の表面を高度の親水性
にする方法、高度に親水性の表面を備えた基材、および
その製造方法を提供する。本発明によれば、基材の表面
は光触媒半導体材料からなる耐摩耗性の光触媒性コーテ
ィングによって被覆される。光触媒半導体のバンドギャ
ップエネルギより高いエネルギの波長をもった光を充分
な照度で充分な時間照射すると、光触媒性コーティング
の表面は超親水性を呈するに至る。ここで用いる“超親
水性(superhydrophilicity)”又は“超親水性の(sup
erhydrophilic)”の用語は、水との接触角に換算して
約5゜以下の高度の親水性(即ち水濡れ性)を意味す
る。同様に、“超親水化(superhydrophilificatio
n)”又は“超親水化する(superhydrophilify)”の用
語は、表面を水との接触角に換算して約5゜以下の高度
の親水性にすることを意味する。
水化現象は、現在のところ、必ずしも明確に説明するこ
とはできない。光触媒による超親水化現象は、光触媒の
分野において従来知られている光触媒的酸化還元反応に
よる物質の光分解とは必ずしも同じではないように見受
けられる。この点に関し、光触媒的酸化還元反応に関す
る従来の定説は、光励起により電子−正孔対が生成し、
生成した電子は表面酸素を還元してスーパーオキサイド
イオン(O2-)を生成し、正孔は表面水酸基を酸化して
水酸ラジカル(・OH)を生成し、これらの高度に反応性
の活性酸素種(O2-や・OH )の酸化還元反応によって物
質が分解されるというものであった。しかしながら、光
触媒による超親水化現象は、少なくとも2つの点におい
て、物質の光触媒的分解に関する従来の知見と合致しな
い。第1に、従来の定説では、ルチルや酸化錫のような
光触媒は、伝導帯のエネルギ準位が十分に高くないた
め、還元反応が進行せず、その結果、伝導帯に光励起さ
れた電子が過剰となり、光励起により生成した電子−正
孔対が酸化還元反応に関与することなく再結合すると考
えられていた。これに対して、光触媒による超親水化現
象は、後述するように、ルチルや酸化錫のような光触媒
でも起こることが確認された。
る物質の分解は光触媒層の膜厚が少なくとも100nm
以上でないと起こらないと考えられている。これに対し
て、光触媒性超親水化は、光触媒性コーティングの膜厚
が数nmのオーダーでも起こることが観察された。従っ
て、明確には結論できないが、光触媒による超親水化現
象は、光触媒的酸化還元反応による物質の光分解とはや
や異なる現象であると考えられる。しかしながら、後述
するように、光触媒のバンドギャップエネルギより高い
エネルギの光を照射しなければ表面の超親水化は起こら
ないことが確認された。おそらくは、光触媒の光触媒作
用によって光触媒性コーティングの表面に水が水酸基
(OH-)の形で化学吸着されることにより、表面が超親
水性になると考えられる。光励起により光触媒性コーテ
ィングの表面が一旦高度に親水化されたならば、基材を
暗所に保持しても、表面の親水性はある程度の期間持続
する。時間の経過に伴い表面水酸基に汚染物質が吸着さ
れ、表面が次第に超親水性を失った時には、再び光励起
すれば超親水性は回復する。
るためには、光触媒のバンドギャップエネルギより高い
エネルギの波長をもった任意の光源を利用することがで
きる。チタニアのように光励起波長が紫外線領域に位置
する光触媒の場合には、光触媒性コーティングで被覆さ
れた基材に太陽光が当たるような条件では、太陽光に含
まれる紫外線を好適に利用することができる。屋内や夜
間には、人工光源により光触媒を光励起することができ
る。後述するように、光触媒性コーティングがシリカ配
合チタニアからなる場合には、蛍光灯に含まれる微弱な
紫外線でも容易に親水化することができる。光触媒性コ
ーティングの表面が一旦超親水化された後には、比較的
微弱な光によって超親水性を維持し、或いは、回復させ
ることができる。例えば、チタニアの場合には、超親水
性の維持と回復は、蛍光灯のような室内照明灯に含まれ
る微弱な紫外線でも充分に行うことができる。光触媒性
コーティングは非常に薄くしても超親水性を発現し、特
に金属酸化物からなる光触媒半導体材料は充分な硬度を
有するので、光触媒性コーティングは充分な耐久性と耐
摩耗性を有する。
とができる。本発明の一観点においては、本発明は、透
明部材の防曇方法、防曇性の透明部材、並びに、その製
造方法を提供する。本発明によれば、予め光触媒性コー
ティングが被覆された透明部材が準備され、或いは、透
明部材の表面は光触媒性コーティングによって被覆され
る。透明部材は、車両用バックミラー、浴室用又は洗面
所用鏡、歯科用歯鏡、道路鏡のような鏡;眼鏡レンズ、
光学レンズ、写真機レンズ、内視鏡レンズ、照明用レン
ズのようなレンズ;プリズム;建物や監視塔の窓ガラ
ス;自動車、鉄道車両、航空機、船舶、潜水艇、雪上
車、ロープウエーのゴンドラ、遊園地のゴンドラ、宇宙
船のような乗り物の窓ガラス;自動車、鉄道車両、航空
機、船舶、潜水艇、雪上車、スノーモービル、オートバ
イ、ロープウエーのゴンドラ、遊園地のゴンドラ、宇宙
船のような乗り物の風防ガラス;防護用又はスポーツ用
ゴグル又はマスク(潜水用マスクを含む)のシールド;
ヘルメットのシールド;冷凍食品陳列ケースのガラス;
計測機器のカバーガラスを含む。
光を照射して光触媒を光励起することにより、光触媒性
コーティングの表面を超親水化すると、空気中の湿分や
湯気が結露しても、凝縮水は個々の水滴を形成すること
なく一様な水膜になるので、表面には光散乱性の曇りは
発生しない。同様に、窓ガラスや車両用バックミラーや
車両用風防ガラスや眼鏡レンズやヘルメットのシールド
が降雨や水しぶきを浴びても、表面に付着した水滴は速
やかに一様な水膜に広がるので、離散した目障りな水滴
が形成されない。従って、高度の視界と可視性を確保す
ることができ、車両や交通の安全性を保証し、種々の作
業や活動の能率を向上させることができる。本発明の他
の観点においては、本発明は、基材の表面を超親水化す
ることにより、基材の表面を降雨により自己浄化(セル
フクリーニング)する方法、自己浄化性の基材、並び
に、その製造方法を提供する。基材は、例えば、金属、
セラミックス、ガラス、プラスチックス、木、石、セメ
ント、コンクリート、それらの組み合わせ、それらの積
層体、又はその他の材料で形成された建物の外装、窓
枠、構造部材、窓ガラス;自動車、鉄道車両、航空機、
船舶のような乗り物の外装および塗装;機械装置や物品
の外装、防塵カバーおよび塗装;交通標識、各種表示装
置、広告塔の外装および塗装を含む。基材の表面は光触
媒性コーティングにより被覆される。
は、日中は太陽光にさらされるので、光触媒性コーティ
ングの表面は高度に親水化される。さらに、表面は時折
降雨にさらされる。超親水化された表面が降雨を受ける
都度、基材の表面に付着した煤塵や汚染物質は雨滴によ
り洗い流され、表面は自己浄化される。光触媒性コーテ
ィングの表面は水との接触角が5゜以下、特に約0゜に
なる程度に高度に親水化されるので、親油性成分を多く
含む都市煤塵だけでなく、粘土鉱物のような無機質塵埃
も容易に表面から洗い流される。こうして、基材の表面
は自然の作用により高度に自己浄化され、清浄に維持さ
れる。例えば、高層ビルのガラス拭き作業は不要になる
か、大幅に省くことができる。
は、建物や窓ガラスや機械装置や物品の表面に光触媒性
コーティングを設け、表面を高度に親水化することによ
り、表面が汚れるのを防止する方法を提供する。超親水
化された表面は、大気中に浮遊する煤塵のような汚染物
を同伴する雨水が流下するときに、汚染物が表面に付着
するのを阻止する。従って、前述した降雨による自己浄
化作用と相俟って、建物などの表面はほぼ恒久的に高度
に清浄に維持される。本発明の他の観点においては、金
属、セラミックス、ガラス、プラスチックス、木、石、
セメント、コンクリート、それらの組み合わせ、又はそ
れらの積層体で形成された装置又は物品(例えば、建物
の外装、建物の内装材、窓ガラス、住宅設備、便器、浴
槽、洗面台、照明器具、台所用品、食器、流し、調理レ
ンジ、キッチン4フード、換気扇)の表面は光触媒性コ
ーティングで被覆され、必要に応じ光励起される。
し、水で濡らし、又は水で濯ぐと、油汚れは超親水化さ
れた光触媒性コーティングの表面から釈放され、容易に
除去される。例えば、油や脂肪で汚れた食器を洗剤を使
用することなく洗浄することができる。本発明の他の観
点においては、本発明は、基材に付着した水滴の成長を
防止し、或いは付着水滴を一様な水膜に広げる方法を提
供する。このため、基材の表面は光触媒性コーティング
で被覆される。光触媒性コーティングを光励起して表面
を超親水化すると、基材の表面に付着した湿分凝縮水又
は水滴は表面に広がり、一様な水膜を形成する。この方
法を例えば熱交換器の放熱フィンに適用すると、熱交換
媒体の通路が凝縮水によって目詰まりするのを防止し、
熱交換効率を増加させることができる。或いは、この方
法を鏡、レンズ、窓ガラス、風防ガラス、舗装に適用す
れば、水濡れ後の表面の乾燥を促進することができる。
図面を参照して説明する。 実施の形態1 表面の超親水化を要する基材を準備し、光触媒性コーテ
ィングで被覆する。基材が金属、セラミックス、ガラス
のような耐熱性の材料で形成されている場合には、後述
するように光触媒の粒子を焼結することにより光触媒性
コーティングを基材の表面に固定することができる。或
いは、無定形の光触媒前駆体の薄膜を基材の表面に固定
し、加熱して結晶化させることにより、光活性のある光
触媒に変換してもよい。
材料で形成されている場合や基材が塗料で塗装されてい
る場合には、後述するように光触媒を含有する耐光酸化
性塗料を表面に塗布し硬化させることにより、光触媒性
コーティングを形成することができる。防曇性鏡を製造
する場合には、予め反射コーティングが形成された鏡の
前面に光触媒性コーティングを被覆するか、被覆工程の
前、後、若しくは途中で基材に反射コーティングを形成
することができる。
は、チタニア(TiO2)が最も好ましい。チタニアは、無
害であり、化学的に安定であり、かつ、安価に入手可能
である。更に、チタニアはバンドギャップエネルギが高
く、従って、光励起には紫外線を必要とし、光励起の過
程で可視光を吸収しないので、補色成分による発色が起
こらない。従って、ガラスやレンズや鏡のような透明部
材にコーティングするのに特に適している。
づれも使用することができる。アナターゼ型チタニアの
利点は、非常に細かな微粒子を分散させたゾルを市場で
容易に入手することができ、非常に薄い薄膜を容易に形
成することができることである。他方、ルチル型チタニ
アは、高温で焼結することができ、強度と耐摩耗性に優
れた被膜が得られるという利点がある。図1に示したよ
うに、ルチル型チタニアはアナターゼ型よりも伝導帯準
位が低いが、光触媒による超親水化の目的に使用するこ
とができる。
アからなる光触媒性コーティング12で被覆し、チタニ
アを紫外線によって光励起すると、光触媒作用によって
水が水酸基(OH-)の形で表面に化学吸着され、その結
果、表面が超親水性になると考えられる。
な他の光触媒としては、図1に示したように、ZnO、SnO
2、SrTiO3、WO3、 Bi2O3、Fe2O3のような金属酸化物が
ある。これらの金属酸化物は、チタニアと同様に、表面
に金属元素と酸素が存在するので、表面水酸基(OH-)
を吸着しやすいと考えられる。図2Bに示したように、
光触媒の粒子14を金属酸化物の層16内に配合するこ
とにより光触媒性コーティングを形成してもよい。特
に、後述するようにシリカ又は酸化錫に光触媒を配合し
た場合には、表面を高度に親水化することができる。
料からなる場合には、光触媒性コーティングの膜厚は
0.2μm以下にするのが好ましい。そうすれば、光の干
渉による光触媒性コーティングの発色を防止することが
できる。また、光触媒性コーティングが薄ければ薄いほ
ど基材の透明度を確保することができる。更に、膜厚を
薄くすれば光触媒性コーティングの耐摩耗性が向上す
る。 親水化可能な保護層 本発明では、基材10を被覆した光触媒性コーティング
12の表面12aに、更に親水化可能な耐摩耗性又は耐
食性の保護層が設けられる。前述した図2Bに示したよ
うに、光触媒の粒子14を金属酸化物の層16内に配合
することにより光触媒性コーティングを形成することが
でき、その様にすることによってシリカ又は酸化錫に光
触媒を配合した場合には、表面を高度に親水化すること
ができる。その場合、その用途に応じて親水化可能な耐
摩耗性又は耐食性の保護層をさらに設けることもでき
る。具体的には例えば酸化錫に光触媒を配合した金属酸
化物の層に被覆させて、シリカの層を設けることによ
り、かかるシリカの層は親水化可能な耐摩耗性又は耐食
性の保護層として機能する。ここでいう親水化とは前述
した“超親水性(superhydrophilicity)”又は“超親
水性の(superhydrophilic)”の用語と同意義のものと
して限定されるものではなく、“超親水性(superhydro
philicity)”又は“超親水性の(superhydrophili
c)”の用語が水との接触角に換算して約5゜以下の高
度の親水性(即ち水濡れ性)を意味し、同様に、“超親
水化(superhydrophilification)”又は“超親水化す
る(superhydrophilify)”の用語が、表面を水との接
触角に換算して約5゜以下の高度の親水性にすることを
意味したのに対し、通常の意味における水になじむ性
格、言い換えれば溌水性の反対概念としての親水性であ
り概念的に超親水化を含む。また耐摩耗性又は耐食性は
光触媒性コーティング12の表面12aに対し相対的に
大きな耐摩耗性又は耐食性であれば機能を充足すること
ができることは自ずから理解できる。光触媒性コーティ
ングは非常に薄くしても超親水性を発現し、特に金属酸
化物からなる光触媒半導体材料は充分な硬度を有するの
で、光触媒性コーティングは充分な耐久性と耐摩耗性を
有する。またルチル型チタニアは、高温で焼結すること
ができ、強度と耐摩耗性に優れた被膜が得られるという
利点がある。図1に示したように、ルチル型チタニアは
アナターゼ型よりも伝導帯準位が低いが、光触媒による
超親水化の目的に使用することができる。さらに一般に
チタニアの割合が多いトップコートはよりもチタニア割
合が少ないトップコートは耐摩耗性が高い。すなわち、
トップコートの耐摩耗性はチタニア含有量の減少に伴い
増加する。またチタニア・シリカ焼結膜の耐摩耗性を調
べるとシリカのモル分率が増加するにつれて耐摩耗性が
増大する。この様なことから、光触媒性コーティング1
2の基材との連結性及び超親水性の程度を勘案しながら
十分な耐摩耗性又は耐食性を具備した表面層を得ること
を目的として光触媒性コーティング12に対して相対的
に耐摩耗性又は耐食性が大きい表面層を得るために保護
層の設定が有効となる。
成 基材が金属、セラミックス、ガラスのような耐熱性の材
料で形成されている場合には、水との接触角が0゜にな
る程度の超親水性を呈する耐摩耗性に優れた光触媒性コ
ーティングを形成する好ましいやり方の1つは、先ず基
材の表面を無定形チタニアで被覆し、次いで焼成により
無定形チタニアを結晶性チタニア(アナターゼ又はルチ
ル)に相変化させることである。無定形チタニアの形成
には、次のいづれかの方法を採用することができる。
縮重合 チタンのアルコキシド、例えば、テトラエトキシチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−プロポキ
シチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシチタ
ン、に塩酸又はエチルアミンのような加水分解抑制剤を
添加し、エタノールやプロパノールのようなアルコール
で希釈した後、部分的に加水分解を進行させながら又は
完全に加水分解を進行させた後、混合物をスプレーコー
ティング、フローコーティング、スピンコーティング、
ディップコーティング、ロールコーティングその他のコ
ーティング法により、基材の表面に塗布し、常温から20
0℃の温度で乾燥させる。乾燥により、チタンのアルコ
キシドの加水分解が完遂して水酸化チタンが生成し、水
酸化チタンの脱水縮重合により無定形チタニアの層が基
材の表面に形成される。チタンのアルコキシドに代え
て、チタンのキレート又はチタンのアセテートのような
他の有機チタン化合物を用いてもよい。
ニアの形成 無機チタン化合物、例えば、TiCl4又はTi(SO4)2の酸性
水溶液をスプレーコーティング、フローコーティング、
スピンコーティング、ディップコーティング、ロールコ
ーティングにより、基材の表面に塗布する。次いで無機
チタン化合物を約100℃〜200℃の温度で乾燥させること
により加水分解と脱水縮重合に付し、無定形チタニアの
層を基材の表面に形成する。或いは、TiCl4の化学蒸着
により基材の表面に無定形チタニアを被着させても良
い。
アの形成 金属チタンのターゲットに酸化雰囲気で電子ビームを照
射することにより基材の表面に無定形チタニアを被着す
る。 (4)焼成温度 無定形チタニアの焼成は少なくともアナターゼの結晶化
温度以上の温度で行う。400℃〜500℃以上の温度で焼成
すれば、無定形チタニアをアナターゼ型チタニアに変換
させることができる。600℃〜700℃以上の温度で焼成す
れば、無定形チタニアをルチル型チタニアに変換させる
ことができる。
むガラスや施釉タイルの場合には、基材と無定形チタニ
ア層との間に予めシリカ等の中間層を形成しておくのが
良い。そうすれば、無定形チタニアの焼成中にアルカリ
網目修飾イオンが基材から光触媒性コーティング中に拡
散するのが防止され、水との接触角が0゜になる程度の
超親水性が実現される。
耗性に優れた光触媒性コーティングを形成する他の好ま
しいやり方は、チタニアとシリカとの混合物からなる光
触媒性コーティングを基材の表面に形成することであ
る。チタニアとシリカとの合計に対するシリカの割合
は、5〜90モル%、好ましくは10〜70モル%、よ
り好ましくは10〜50モル%にすることができる。シ
リカ配合チタニアからなる光触媒性コーティングの形成
には、次のいづれかの方法を採用することができる。
の粒子とシリカの粒子とを含む懸濁液を基材の表面に塗
布し、基材の軟化点以下の温度で焼結する。 (2)無定形シリカの前駆体(例えば、テトラエトキシ
シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−プロ
ポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、等のテトラアルコキシシラン;それらの加水分
解物であるシラノール; 又は平均分子量3000以下のポ
リシロキサン)と結晶性チタニアゾルとの混合物を基材
の表面に塗布し、必要に応じて加水分解させてシラノー
ルを形成した後、約100℃以上の温度で加熱してシラノ
ールを脱水縮重合に付すことにより、チタニアが無定形
シリカで結着された光触媒性コーティングを形成する。
特に、シラノールの脱水縮重合を約200℃以上の温度で
行えば、シラノールの重合度を増し、光触媒性コーティ
ングの耐アルカリ性能を向上させることができる。
アルコキシド、キレート、又はアセテートのような有機
チタン化合物、又はTiCl4又はTi(SO4)2のような無機チ
タン化合物)の溶液にシリカの粒子を分散させてなる懸
濁液を基材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から20
0℃の温度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、
シリカ粒子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成す
る。次いで、チタニアの結晶化温度以上の温度、かつ、
基材の軟化点以下の温度に加熱することにより、無定形
チタニアを結晶性チタニアに相変化させる。 (4)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート、又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4又はTi(SO4)2のような無機チタン化合
物)の溶液に無定形シリカの前駆体(例えば、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn
−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメ
トキシシラン、等のテトラアルコキシシラン;それらの
加水分解物であるシラノール; 又は平均分子量3000以
下のポリシロキサン)を混合し、基材の表面に塗布す
る。次いで、これらの前駆体を加水分解と脱水縮重合に
付すことにより、無定形チタニアと無定形シリカの混合
物からなる薄膜を形成する。次いで、チタニアの結晶化
温度以上の温度、かつ、基材の軟化点以下の温度に加熱
することにより、無定形チタニアを結晶性チタニアに相
変化させる。
耗性に優れた光触媒性コーティングを形成する更に他の
好ましいやり方は、チタニアと酸化錫との混合物からな
る光触媒性コーティングを基材の表面に形成することで
ある。チタニアと酸化錫との合計に対する酸化錫の割合
は、1〜95重量%、好ましくは1〜50重量%にする
ことができる。酸化錫配合チタニアからなる光触媒性コ
ーティングの形成には、次のいづれかの方法を採用する
ことができる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子と酸化
錫の粒子とを含む懸濁液を基材の表面に塗布し、基材の
軟化点以下の温度で焼結する。 (2)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート、又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4又はTi(SO4)2のような無機チタン化合
物)の溶液に酸化錫の粒子を分散させてなる懸濁液を基
材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から200℃の温
度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、酸化錫粒
子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成する。次い
で、チタニアの結晶化温度以上の温度、かつ、基材の軟
化点以下の温度に加熱することにより、無定形チタニア
を結晶性チタニアに相変化させる。
媒性コーティングを形成する更に他の好ましいやり方
は、未硬化の若しくは部分的に硬化したシリコーン(オ
ルガノポリシロキサン)又はシリコーンの前駆体からな
る塗膜形成要素に光触媒の粒子を分散させてなる塗料用
組成物を用いることである。この塗料用組成物を基材の
表面に塗布し、塗膜形成要素を硬化させた後、光触媒を
光励起すると、実施例12及び実施例13に関連して後
述するように、シリコーン分子のケイ素原子に結合した
有機基は光触媒の光触媒作用により水酸基に置換され、
光触媒性コーティングの表面は超親水化される。このや
り方には、幾つかの利点がある。光触媒含有シリコーン
塗料は常温又は比較的低温で硬化させることができるの
で、プラスチックスのような非耐熱性の材料で形成され
ている基材にも適用することができる。光触媒を含有し
たこの塗料用組成物は、表面の超親水化を要する既存の
基材に、刷毛塗り、スプレーコーティング、ロールコー
ティングなどにより必要に応じ何時でも塗布することが
できる。光触媒の光励起による超親水化は、太陽光のよ
うな光源でも容易に行うことができる。
塗膜を形成した場合には、塗膜を硬化させた後、光励起
する前に、鋼板を必要に応じ容易に塑性加工することが
できる。光励起前には、シリコーン分子のケイ素原子に
は有機基が結合しており、従って塗膜は充分な可撓性を
備えているので、塗膜を損傷させることなく容易に鋼板
を塑性加工することができる。塑性加工後には、光触媒
を光励起すればシリコーン分子のケイ素原子に結合した
有機基は光触媒作用により水酸基に置換され、塗膜の表
面は超親水化される。光触媒含有シリコーン塗料はシロ
キサン結合を有するので、光触媒の光酸化作用に対する
充分な対抗性を有する。光触媒含有シリコーン塗料から
なる光触媒性コーティングの更に他の利点は、表面が一
旦超親水化された後には、暗所に保持しても長期間超親
水性を維持し、かつ、蛍光灯のような室内照明灯の光で
も超親水性を回復することである。
シラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチ
ルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシ
シラン;n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピル
トリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、
n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイ
ソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシ
ラン;n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルト
リブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n
−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソ
プロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラ
ン;n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロ
ムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシル
トリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシ
ラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタ
デシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロム
シラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オ
クタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリ
イソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブト
キシシラン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシ
ラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキ
シジエトキシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチ
ルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフ
ェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロル
シラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラ
ン;トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラ
ン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシ
ラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブト
キシヒドロシラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルト
リブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、
ビニルトリt−ブトキシシラン;トリフルオロプロピル
トリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシ
ラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリ
フルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピ
ルトリt−ブトキシシラン;γ−グリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシ
シラン;γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポ
キシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソ
プロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキ
シシラン;γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリt−ブトキシシラン;β−(3、4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−
(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシ
シラン;および、それらの部分加水分解物;およびそれ
らの混合物を使用することができる。
保するためには、3次元架橋型シロキサンを10モル%
以上含有させるのが好ましい。更に、良好な硬度と平滑
性を確保しながら塗膜の充分な可撓性を提供するために
は、2次元架橋型シロキサンを60モル%以下含有させ
るのが好ましい。また、シリコーン分子のケイ素原子に
結合した有機基が光励起により水酸基に置換される速度
を速めるには、シリコーン分子のケイ素原子に結合する
有機基がn−プロピル基若しくはフェニル基からなるシ
リコーンを使用するのが好ましい。シロキサン結合を有
するシリコーンに替えて、シラザン結合を有するオルガ
ノポリシラザン化合物を使用することも可能である。
ーピングすることができる。光触媒にAg、Cu、又はZnを
ドーピングするためには、光触媒粒子の懸濁液にこれら
の金属の可溶性塩を添加し、得られた溶液を用いて光触
媒性コーティングを形成することができる。或いは、光
触媒性コーティングを形成後、これらの金属の可溶性塩
を塗布し、光照射により光還元析出させてもよい。
性コーティングは、表面に付着した細菌を死滅させるこ
とができる。更に、この光触媒性コーティングは、黴、
藻、苔のような微生物の成長を抑制する。従って、建
物、機械装置、住宅設備、物品等の表面を長期間にわた
って清浄に維持することができる。
s、Irのような白金族金属をドーピングすることができ
る。これらの金属も、同様に、光還元析出や可溶性塩の
添加により光触媒にドーピングすることができる。光触
媒を白金族金属でドーピングすると、光触媒の酸化還元
活性を増強させることができ、表面に付着した汚染物質
を分解することができる。
は、チタニアのように高いバンドギャップエネルギを有
し紫外線によってのみ光励起される光触媒で光触媒性コ
ーティングを形成するのが好ましい。そうすれば、可視
光が光触媒性コーティングに吸収されることがなく、ガ
ラスやレンズや鏡が補色成分によって発色することがな
い。アナターゼ型チタニアは波長387nm以下、ルチル型
チタニアは413nm以下、酸化錫は344nm以下、酸化亜鉛は
387nm以下の紫外線で光励起することができる。紫外線
光源としては、蛍光灯、白熱電灯、メタルハライドラン
プ、水銀ランプのような室内照明灯を使用することがで
きる。防曇性のガラスやレンズや鏡は紫外線にさらさ
れ、光触媒の光励起により表面が超親水化される。車両
のバックミラーのように太陽光にさらされる条件では、
有利なことに太陽光に含まれる紫外線により光触媒は自
然に光励起される。
下、特に約0゜になるまで行い、或いは行わせることが
できる。一般には、0.001mW/cm2の紫外線照度で光
励起すれば、数日で水との接触角が約0゜になるまで超
親水化することができる。地表に降り注ぐ太陽光に含ま
れる紫外線の照度は約0.1〜1mW/cm2であるから、太
陽光にさらせばより短時間で表面を超親水化することが
できる。基材の表面を降雨により自己浄化(セルフクリ
ーニング)したり、汚染物質の付着を防止するに際して
は、紫外線或いは可視光で光励起可能な光触媒で光触媒
性コーティングを形成することができる。光触媒性コー
ティングで被覆された物品は屋外に配置され、太陽光の
照射と降雨にさらされる。
コーンで形成されている場合には、シリコーン分子のケ
イ素原子に結合した表面有機基が充分な量だけ水酸基に
置換されるに充分な照度で光触媒を光励起するのが好ま
しい。このための最も有利な方法は、太陽光を利用する
ことである。表面が一旦高度に親水化された後は、親水
性は夜間でも持続する。再び太陽光にさらされる度に親
水性は回復され、維持される。本発明の光触媒性コーテ
ィングで被覆された基材を使用者に提供するに際して
は、光触媒性コーティングを予め超親水化しておくのが
望ましい。
を種々の観点から示すものである。 実施例1 防曇性鏡−シリカ層を挟んだ防曇性光触媒性コーティン
グ エタノールの溶媒86重量部に、テトラエトキシシランSi
(OC2H5)4(和光純薬、大阪)6重量部と純水6重量部と
テトラエトキシシランの加水分解抑制剤として36%塩酸
2重量部を加えて混合し、シリカコーティング溶液を調
製した。混合により溶液は発熱するので、混合液を約1
時間放置冷却した。この溶液をフローコーティング法に
より10cm四角のソーダライムガラス板の表面に塗布
し、80℃の温度で乾燥させた。乾燥に伴い、テトラエト
キシシランは加水分解を受けて先ずシラノールSi(OH)4
になり、続いてシラノールの脱水縮重合により無定形シ
リカの薄膜がガラス板の表面に形成された。次に、テト
ラエトキシチタンTi(OC2H5)4(Merck)1重量部とエタ
ノール9重量部との混合物に加水分解抑制剤として36%
塩酸を0.1重量部添加してチタニアコーティング溶液
を調製し、この溶液を前記ガラス板の表面に乾燥空気中
でフローコーティング法により塗布した。塗布量はチタ
ニアに換算して45μg/cm2とした。テトラエトキシチタ
ンの加水分解速度は極めて早いので、塗布の段階でテト
ラエトキシチタンの一部は加水分解され、水酸化チタン
Ti(OH)4が生成し始めた。
℃の温度に保持することにより、テトラエトキシチタン
の加水分解を完了させると共に、生成した水酸化チタン
を脱水縮重合に付し、無定形チタニアを生成させた。こ
うして、無定形シリカの上に無定形チタニアがコーティ
ングされたガラス板を得た。この試料を500℃の温度で
焼成して、無定形チタニアをアナターゼ型チタニアに変
換させた。無定形チタニアコーティングの下層には無定
形シリカのコーティングが施されているので、焼成の際
中にガラス板中のナトリウムのようなアルカリ網目修飾
イオンがガラス基材からチタニアコーティング中に拡散
していないと考えられる。次に、このガラス板の裏面に
真空蒸着によりアルミニウムの反射コーティングを形成
して鏡を製作し、#1試料を得た。
のブルーライトブラック(BLB)蛍光灯(三共電気、FL2
0BLB)を用いて試料の表面に0.5mW/cm2の紫外線照度
(アナターゼ型チタニアのバンドギャップエネルギより
高いエネルギの紫外線−387nmより短い波長の紫外線
−の照度)で約1時間紫外線を照射し、#2試料を得
た。比較のため、シリカおよびチタニアのコーティング
を施さないガラス板の裏面に真空蒸着によりアルミニウ
ムの反射コーティングを形成し、数日間暗所に放置した
後、#3試料を得た。#2試料と#3試料の水との接触
角を接触角測定器(埼玉県朝霞市の協和界面科学社製、
形式CA-X150)により測定した。この接触角測定器の低
角度側検出限界は1゜であった。接触角は、マイクロシ
リンジから試料表面に水滴を滴下した後30秒後に測定し
た。#2試料の表面の水に対する測定器の読みは0゜で
あり、超親水性を示した。これに対し、#3試料の水と
の接触角は30〜40゜であった。
性と付着水滴の広がりかたを評価した。防曇性の評価
は、500mlのビーカーに約80℃の湯を300ml入れ、次いで
ビーカー上に鏡の表面を下に向けて試料を約10秒間保持
し、その直後の試料表面の曇りの有無と試験者の顔の映
り具合で評価した。#3試料では鏡の表面は湯気で曇
り、試験者の顔の映像がよく映らなかったが、#2試料
では曇りは全く観察されず、試験者の顔は明瞭に反映さ
れた。付着水滴の広がり状態の評価は、45゜に傾斜させ
た鏡の表面にスポイドで上方から多数の水滴を滴下し、
鏡を一度垂直にした後の水滴付着状態と試験者の顔の映
り具合で評価した。
りな孤立した水滴が付着し、水滴による光の屈折により
反射像が乱され、反射像を明瞭に観察するのが困難であ
った。これに対し、#2試料では、鏡の表面に付着した
水滴は孤立した水滴を形成することなく表面に広がって
一様な水膜を形成した。水膜の存在により反射像には多
少の歪みが観察されたが、試験者の顔の反射像は充分明
瞭に認識することができた。
ィング 日本板硝子製の鏡(MFL3)の表面に実施例1と同様の方
法で無定形シリカの薄膜を形成した。次に、テトラエト
キシシラン(和光純薬)0.69gとアナターゼ型チタニア
ゾル(日産化学、TA-15、平均粒径0.01μm)1.07gとエ
タノール29.88gと純水0.36gを混合し、コーティング
溶液を調製した。このコーティング溶液をスプレーコー
ティング法により鏡の表面に塗布した。この鏡を約20分
間約150℃の温度に保持することにより、テトラエトキ
シシランを加水分解と脱水縮重合に付し、アナターゼ型
チタニア粒子が無定形シリカのバインダーで結着された
コーティングを鏡の表面に形成した。チタニアとシリカ
の重量比は1であった。この鏡を数日間暗所に放置した
後、BLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照度で約1時間
紫外線を照射し、#1試料を得た。この鏡の表面の水と
の接触角を実施例1と同様の接触角測定器で測定したと
ころ、接触角の読みは0゜であった。次に、#1試料と
光触媒性コーティングのない鏡MFL3について実施例1と
同様の方法で防曇性と付着水滴の広がりかたを評価し
た。防曇性の検査では、鏡MFL3では鏡の表面に曇りが観
察され、試験者の顔の映像がよく映らなかったが、#1
試料では曇りは全く観察されず、試験者の顔も明瞭に反
映された。付着水滴の広がりかたの検査では、鏡MFL3で
は、表面に分散した水滴により光が屈折して反射像が乱
され、反射像を明瞭に観察するのが困難であったが、#
1試料では、鏡の表面に付着した水滴は表面に広がって
一様な水膜を形成し、水膜の存在により反射像には多少
の歪みが観察されたが、試験者の顔の反射像は充分明瞭
に認識することができた。
無定形シリカの薄膜を形成した。次に、実施例2と同様
のコーティング溶液をスプレーコーティング法によりレ
ンズの両面に塗布した後、約20分間約150℃の温度に保
持することによりテトラエトキシシランを加水分解と脱
水縮重合に付し、アナターゼ型チタニア粒子が無定形シ
リカのバインダーで結着されたコーティングをレンズの
両面に形成した。このレンズを数日間暗所に放置した
後、BLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照度で約1時間
紫外線を照射した。このレンズの表面の水との接触角を
実施例1と同様の接触角測定器で測定したところ、接触
角の読みは0゜であった。このレンズを眼鏡の右側フレ
ームに装着し、比較のため左側フレームには通常のレン
ズを装着した。数時間後に試験者がこの眼鏡を装着して
約5分間入浴したところ、左側の通常のレンズは湯気で
曇り視界が失われたが、紫外線照射された光触媒性コー
ティングを備えた右側のレンズには曇りは全く生じなか
った。次に、試験者がこの眼鏡に故意にシャワーをかけ
たところ、左側の通常のレンズには目障りな水滴が付着
し視界が妨げられたが、右側のレンズに付着した水滴は
速やかに水膜に広がり、充分な視界が確保された。
ート含有液を塗布し、チタンキレートを加水分解と脱水
縮重合に付すことにより、無定形チタニアをガラス板の
表面に形成した。このガラス板を500℃の温度で焼成し
て、アナターゼ型チタニア結晶からなる表面層を形成し
た。表面層の膜厚は7nmであった。得られた試料の表面
に先ず、BLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照度で約1
時間紫外線を照射した。この試料の表面の水との接触角
を接触角測定器(ERMA社製、形式G-I-1000、低角度側検
出限界3゜)で測定したところ、接触角の読みは3゜未
満であった。次に、20Wの白色蛍光灯(東芝、FL20SW)
を用いて0.01mW/cm2の紫外線照度で紫外線を照射し
ながら、接触角の時間的変化を測定した。結果を図3の
グラフに示す。このグラフから分かるように、白色蛍光
灯から出る微弱な紫外線によっても試料の表面が高度の
親水性に維持された。この実施例から、光触媒性チタニ
アコーティングの膜厚を7nmと非常に薄くしても表面が
高度の親水性に維持されることが分かる。これは、窓ガ
ラスのような基材の透明度を確保する上で極めて重要で
ある。
ナターゼ型チタニア結晶からなる表面層を形成した。表
面層の膜厚は20nmであった。実施例4と同様に、得ら
れた試料の表面に先ずBLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2
の照度で約1時間紫外線を照射した後、白色蛍光灯を用
いて0.01mW/cm2の紫外線照度で紫外線を照射しなが
ら、接触角の時間的変化を測定した。結果を図4のグラ
フに示す。この実施例においても、白色蛍光灯の微弱な
紫外線によって試料の表面が高度の親水性に維持され
た。
ラス板の表面に先ず無定形シリカの薄膜を形成し、次い
で、その上に無定形チタニアの薄膜を形成し、複数の試
料を得た。これらのガラス板を夫々450℃、 475℃、 50
0℃、 525℃の温度で焼成した。粉末X線回折で調べた
ところ、475℃、 500℃、 525℃の温度で焼成した試料
についてはアナターゼ型の結晶質チタニアが検出され、
無定形チタニアがアナターゼ型結晶質チタニアに変換さ
れているのが確認されたが、450℃で焼成した試料につ
いてはアナターゼ型チタニアは検出されなかった。得ら
れたガラス板の表面に先ずBLB蛍光灯を用いて0.5mW/
cm2の紫外線照度で約3時間紫外線を照射した後、白色
蛍光灯を用いて0.02mW/cm2の紫外線照度で紫外線を
照射しながら、接触角測定器(CA-X150)を用いて接触
角の時間的変化を測定した。得られた結果を表1に示
す。
525℃の温度で焼成されアナターゼ結晶が観察された試
料については、白色蛍光灯の紫外線を照射し続ける限り
接触角が0゜に維持され、ガラス板の表面が超親水性に
維持されることが確認された。しかし、450℃で焼成し
た試料の無定形チタニア被覆には光触媒活性がなく、時
間の経過につれて接触角が増加することが確認された。
475℃、 500℃、 525℃の温度で焼成した試料に息を吹
きかけたところ、試料の表面には曇りは全く生じなかっ
た。
この溶液を10cm四角のソーダライムガラス板の表面に
フローコーティング法により塗布した。塗布量は実施例
1と同様にチタニアに換算して45μg/cm2とした。この
ガラス板を同様にして1〜10分間約150℃の温度に保
持することにより、ガラス板の表面に無定形チタニアを
生成させた。この試料を500℃の温度で焼成して、無定
形チタニアをアナターゼ型チタニアに変換させた。この
試料を数日間暗所に放置した後、BLB蛍光灯を用いて試
料の表面に0.5mW/cm2の紫外線照度で約1時間紫外線
を照射した。接触角測定器(CA-X150)により水との接
触角を測定したところ、接触角は3゜であった。この試
料の接触角が0゜にならなかったのは、実施例1に較
べ、この実施例ではガラス基材とチタニア層との間にシ
リカの層が介在させてないので、500℃での焼成中にナ
トリウムのようなアルカリ網目修飾イオンがガラス基材
からチタニアコーティング中に拡散し、アナターゼの光
触媒活性を阻害したものと考えられる。従って、水との
接触角が0゜になる程度の超親水性を実現するために
は、実施例1のようにシリカの中間層を介在させた方が
良いと考えられる。
形成 10cm四角のソーダライムガラス板の表面にスパッタリ
ングにより金属チタン膜を被着し、500℃の温度で焼成
した。 粉末X線回折で調べたところ、ガラス板の表面
にはアナターゼ型チタニアが生成していることが観察さ
れた。焼成により金属チタンが酸化され、アナターゼが
生成したものと考えられる。焼成直後からBLB蛍光灯を
用いて試料の表面に0.5mW/cm2の紫外線照度で紫外線
を照射しながら、接触角測定器(CA-X150)により水と
の接触角を測定し、接触角の時間的変化を観測した。そ
の結果を図5のグラフに示す。このグラフから分かるよ
うに、水との接触角は3゜未満に維持された。この試験
から、スパッタリングにより光触媒層を形成した場合に
も紫外線の照射によりガラス板の表面が高度の親水性に
維持されることが確認された。
同様の方法で無定形シリカの薄膜を形成した。次に、実
施例2のコーティング溶液をスプレーコーティング法に
よりガラス板の表面に塗布した。このガラス板を約20分
間約150℃の温度に保持することにより、アナターゼ型
チタニア粒子が無定形シリカのバインダーで結着された
コーティングをガラス板の表面に形成した。チタニアと
シリカの重量比は1であった。このガラス板を数日間暗
所に放置した後、BLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照
度で約1時間紫外線を照射した。紫外線照射後のこのガ
ラス板の表面の水との接触角を接触角測定器(CA-X15
0)で測定したところ、接触角は0゜であった。次い
で、この試料に白色蛍光灯を用いて0.004mW/cm
2(800ルクス)の紫外線照度で4日間紫外線を照射し続
けた。照射中は試料表面の接触角は2゜未満に維持され
た。4日後にガラス板に息を吹きかけたところ、曇りは
生じなかった。以上のことから、白色蛍光灯のような室
内照明下において微弱な紫外線によってガラス板の表面
が高度の親水性に維持され、ガラス板が曇るのが防止さ
れることが確認された。
型チタニアゾル(日産化学、TA-15 )とエタノールと純
水を混合し、テトラエトキシシランとチタニアゾルとの
配合比の異なる4種のコーティング溶液を調製した。テ
トラエトキシシランとチタニアゾルとの割合は、テトラ
エトキシシランを無定形シリカに変換した後のシリカと
チタニアの合計に対するシリカの割合に換算して、10
モル%、30モル%、50モル%、70モル%になるよ
うにした。これらのコーティング溶液を10cm四角のソ
ーダライムガラス板の表面にスプレーコーティング法に
より塗布し、約20分間約150℃の温度に保持することに
より、テトラエトキシシランを加水分解と脱水縮重合に
付し、アナターゼ型チタニア粒子が無定形シリカのバイ
ンダーで結着されたコーティングをガラス板の表面に形
成した。これらの試料を1週間暗所に放置した後、BLB
蛍光灯を用いて0.3mW/cm2の照度で約1時間紫外線を
照射した。紫外線照射後のこれらの試料の表面の水との
接触角を接触角測定器(CA-X150)で測定したところ、
接触角はいづれも0゜であった。次いで、これらの試料
のうち、シリカの割合が30モル%および50モル%の
試料に白色蛍光灯を用いて0.004mW/cm2の紫外線照
度で3日間紫外線を照射し続けたところ、照射中は試料
表面の接触角は3゜未満に維持された。
エタノール9重量部との混合物に加水分解抑制剤として
36%塩酸を0.1重量部添加してチタニアコーティング
溶液を調製した。このコーティング溶液を10cm四角の
複数の石英ガラス板の表面に乾燥空気中でフローコーテ
ィング法により塗布した。塗布量はチタニアに換算して
45μg/cm2とした。次に、これらのガラス板を1〜10
分間約150℃の温度に保持することにより、テトラエト
キシチタンを加水分解と脱水縮重合に付し、ガラス板の
表面に無定形チタニアのコーティングを形成した。これ
らの試料を650℃および800℃の温度で焼成して、無定形
チタニアを結晶化させた。粉末X線回折法により調べた
ところ、650℃焼成試料の結晶型はアナターゼ型であ
り、800℃焼成試料の結晶型はルチル型であることが分
かった。得られた試料を1週間暗所に放置した後、BLB
蛍光灯を用いて0.3mW/cm2の照度で2日間紫外線を照
射した。紫外線照射後に接触角を測定したところ、いづ
れの試料の表面の水との接触角も0゜であった。以上か
ら、アナターゼ型チタニアだけでなく、光触媒がルチル
の場合でも表面が高度の親水性に維持されることが分か
る。このことから、光触媒による超親水化現象は、光触
媒性酸化還元反応とは必ずしも同じではないように見受
けられる。
ィングに紫外線を照射すれば、塗膜が高度に親水化され
るという発見に関するものである。基材として10cm四
角のアルミニウム基板を使用した。基板の表面を平滑化
するため、予めシリコーン層で被覆した。このため、日
本合成ゴム(東京)の塗料用組成物“グラスカ”のA液
(シリカゾル)とB液(トリメトキシメチルシラン)
を、シリカ重量とトリメトキシメチルシランの重量の比
が3になるように混合し、この混合液をアルミニウム基
板に塗布し、150℃の温度で硬化させ、膜厚3μmのシリ
コーンのベースコートで被覆された複数のアルミニウム
基板(#1試料)を得た。
#1試料を被覆した。塗料の塗膜形成要素が光触媒の光
酸化作用によって劣化するのを防止するため、塗膜形成
要素としてシリコーンを選んだ。より詳しくは、アナタ
ーゼ型チタニアゾル(日産化学、TA-15)と前記“グラ
スカ”のA液(シリカゾル)を混合し、エタノールで希
釈後、更に“グラスカ”の上記B液を添加し、チタニア
含有塗料用組成物を調製した。この塗料用組成物の組成
は、シリカ3重量部、トリメトキシメチルシラン1重量
部、チタニア4重量部であった。
し、150℃の温度で硬化させ、アナターゼ型チタニア粒
子がシリコーン塗膜中に分散されたトップコートを形成
し、#2試料を得た。次に、#2試料にBLB蛍光灯を用
いて0.5mW/cm2の照度で5日間紫外線を照射し、#3
試料を得た。この試料の表面の水との接触角を接触角測
定器(ERMA社製)で測定したところ、驚いたことに、接
触角の読みは3゜未満であった。
たところ、70゜であった。#1試料の接触角を測定し
たところ、90゜であった。更に、#1試料に#2試料
と同じ条件で5日間紫外線を照射し、接触角を測定した
ところ、接触角は85゜であった。以上から、シリコー
ンは本来かなり疎水性であるにも拘わらず、光触媒を含
有させ、かつ、紫外線照射により光触媒を励起した場合
には、高度に親水化されることが発見された。
の紫外線照度で2時間紫外線を照射し、#4試料を得
た。照射前の#2試料と照射後の#4試料のラマン分光
分析を行った。比較のため、#1試料にも同様の条件で
紫外線を照射し、照射前後の試料のラマン分光分析を行
った。ラマンスペクトルを図6のグラフに示す。#1試
料の照射前後のラマンスペクトルは同一であったので、
図6のグラフではカーブ#1で示す。図6のグラフを参
照するに、#2試料のラマンスペクトルにおいて、波数
2910cm-1の位置にはsp3混成軌道のC−H結合対称伸縮の
大きなピークが認められ、波数2970cm-1の位置にはsp3
混成軌道のC−H結合逆対称伸縮の大きなピークが認めら
れる。従って、#2試料にはC−H結合が存在することが
帰結される。
波数2910cm-1の位置および2970cm-1の位置のいづれにも
ピークが認められない。その代わりに、波数3200cm-1の
位置にピークを有する広い幅のO−H結合対称伸縮が認め
られる。従って、#4試料にはC−H結合が存在せず、そ
の代わりに、 O−H結合が存在することが帰結される。
これに対して、#1試料のラマンスペクトルにおいて
は、照射前後を通じて、波数2910cm-1の位置にはsp3混
成軌道のC−H結合対称伸縮の大きなピークが認められ、
2970cm-1の位置にはsp3混成軌道のC−H結合逆対称伸縮
の大きなピークが認められる。従って、#1試料にはC
−H結合が存在することが確認される。以上のことか
ら、光触媒を含有するシリコーンに紫外線を照射した場
合には、下記の一般式(1)で示すシリコーンの分子の
ケイ素原子に結合した有機基が光触媒作用によって水酸
基に置換され、式(2)で示すようなシリコーン誘導体
が表面に形成されているものと考えられる。
防曇性コーティング プラスチック基材が光触媒により劣化するのを防止する
ため、基材の表面を予めシリコーン層で被覆した。この
ため、実施例12と同様のやり方で、日本合成ゴムの
“グラスカ”のA液とB液を、シリカ重量とトリメトキ
シメチルシランの重量の比が3になるように混合し、コ
ーティング液を調製した。このコーティング液を10cm
四角のアクリル樹脂板の表面に塗布し、100℃の温度で
硬化させ、膜厚5μmのシリコーンのベースコートで被
覆された複数のアクリル樹脂板(#1)を得た。次に、
アナターゼ型チタニアゾル(日産化学、TA-15)と前記
“グラスカ”のA液を混合し、エタノールで希釈後、更
に“グラスカ”のB液を添加し、組成の異なる4種のコ
ーティング液を調製した。これらのコーティング液の組
成は、チタニア重量とシリカ重量とトリメトキシメチル
シラン重量との和に対するチタニアの重量の比が、夫
々、5%、10%、50%、80%になるように調製し
た。
覆された前記アクリル樹脂板に塗布し、100℃の温度で
硬化させ、アナターゼ型チタニア粒子がシリコーン塗膜
中に分散されたトップコートを形成し、#2〜#5試料
を得た。#1〜#5試料にBLB蛍光灯を0.5mW/cm2の
照度で最大200時間紫外線を照射しながら、異なる時間
間隔でこれらの試料の表面の水との接触角を接触角測定
器(ERMA社製)で測定し、接触角の時間的変化を観測し
た。結果を第7図のグラフに示す。図7のグラフから分
かるように、チタニア含有層のない#1試料において
は、紫外線を照射しても水との接触角には殆ど変化が見
られない。これに対して、チタニアの割合が10重量%
以上の#3〜#5試料においては、水との接触角は3゜
以下になることが分かる。更に、チタニアの割合が夫々
50重量%と80重量%の#4試料と#5試料において
は、短時間の紫外線照射で水との接触角は3゜以下にな
ることが注目される。#4試料に息を吹きかけたとこ
ろ、曇りは生じなかった。#4試料を2週間暗所に放置
した後、接触角測定器(CA-X150)により水との接触角
を測定したところ、水との接触角は3゜以下であった。
筆スクラッチ試験を行った。実施例14と同様の方法
で、10cm四角の複数のアクリル樹脂板の表面に膜厚5
μmのシリコーンのベースコートを被覆し、次いでチタ
ニア含有量の異なるトップコートを夫々被覆した。トッ
プコートのチタニアの割合は、夫々、50重量%、60
重量%、90重量%であった。日本工業規格(JIS)H86
02に従い、試料の表面を鉛筆の芯でスクラッチし、トッ
プコートが剥離する最も硬い鉛筆芯を検出した。また、
ベースコートのみで被覆された試料についても同様に試
験した。結果を、図8のグラフに示す。チタニアの割合
が90重量%のトップコートは硬度5Bの鉛筆芯で剥離
したが、チタニア割合が60重量%のトップコートは硬
度Hの鉛筆芯に耐えることができ、充分な耐摩耗性を呈
した。明らかに、トップコートの耐摩耗性はチタニア含
有量の減少に伴い増加する。
ム板の表面に先ず膜厚5μmのシリコーンのベースコー
トを形成し、次いで、その上に膜厚の異なるアナターゼ
型チタニア含有トップコートを形成し、複数の試料を得
た。#1試料のトップコート膜厚は0.03μm、#2試料
のトップコート膜厚は0.1μm、#3試料のトップコー
ト膜厚は0.2μm、#4試料のトップコート膜厚は0.
6μm、#5試料のトップコート膜厚は2.5μmであっ
た。夫々の試料にBLB蛍光灯により0.5mW/cm2の紫外
線照度で紫外線を照射しながら、接触角測定器(ERMA社
製)を用いて試料の表面の水との接触角の時間的変化を
調べた。結果を図9のグラフに示す。
試料においても、膜厚に関係なく、照射50時間以内に
表面は高度に親水化され、水との接触角は3゜未満にな
った。特に、チタニア含有トップコートの膜厚を0.2
μm以下にしても、トップコート表面を高度に親水化す
るに充分な光触媒活性が得られることが注目される。こ
の点に関し、一般に、透明層の膜厚が0.2μm以上にな
れば光の干渉による発色が起こることが知られている。
この実施例は、トップコートの膜厚を0.2μm以下にす
れば、光の干渉によるトップコートの発色を防止しなが
らも表面を高度に親水化することができることを示して
いる。次に、#1試料から#5試料についてメチルメル
カプタンの光分解性能を調べた。紫外線を透過可能な石
英ガラス製の容積11リッターのデシケータ内に夫々の
試料を配置し、メチルメルカプタンを含有する窒素ガス
をメチルメルカプタンの濃度が3ppmになるように注入
した。デシケータ内に試料から8cmの距離のところに4
WのBLB蛍光灯を配置し、0.3mW/cm2の紫外線照度で紫
外線を照射した。30分後にデシケータ内のガスを採取
し、ガスクロマトグラフによりメチルメルカプタン濃度
を測定し、メチルメルカプタンの除去率を求めた。結果
を第10図のグラフに示す。図10のグラフは、光触媒
層の膜厚が増加するにつれてメチルメルカプタンの光分
解性能が増加することを示している。図9のグラフに関
連して前述したように、光触媒による超親水化現象は膜
厚の影響を受けないのに対して、光触媒の光分解性能は
明らかに膜厚の影響を受けることが判る。従って、光触
媒による超親水化現象は、光触媒の分野において従来知
られている光触媒性酸化還元反応とは必ずしも同じでは
ないように見受けられる。
ティング 実施例12と同様のやり方で、10cm四角のアルミニウ
ム板の表面に先ず膜厚5μmのシリコーンのベースコー
トを形成した。次に、アナターゼ型チタニアゾル(日産
化学、TA-15)と前記“グラスカ”のB液(トリメトキ
シメチルシラン)を混合し、エタノールで希釈し、チタ
ニア含有塗料用組成物を調製した。トリメトキシメチル
シランの重量とチタニアの重量の比は1であった。
し、150℃の温度で硬化させ、アナターゼ型チタニア粒
子がシリコーン塗膜中に分散されたトップコートを形成
した。トップコートの膜厚は0.1μmであった。次に、
この試料にBLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照度で1
日間紫外線を照射した。この試料の表面の水との接触角
を接触角測定器(CA-X150)で測定したところ、接触角
の読みは0゜であった。更に、この試料を3週間暗所に
保管しながら、1週間毎に水との接触角を測定した。接
触角を表3に示す。
旦超親水化すれば、光励起しなくてもかなりの長期間に
わたって超親水性が持続する。
ラス板の表面に無定形シリカの薄膜と無定形チタニアの
薄膜を形成し、この試料を500℃の温度で焼成して、無
定形チタニアをアナターゼ型チタニアに変換させ、#1
試料を得た。次に、#1試料の表面に1重量%の乳酸銀
水溶液を塗布し、試料から距離20cmのところに20WのB
LB蛍光灯を配置して点灯し、試料に紫外線を1分間照射
し、#2試料を得た。紫外線照射により、乳酸銀が光還
元されて銀が析出すると共に、チタニアの光触媒作用に
より試料の表面が親水化された。#1試料にも同じ条件
で紫外線を照射した。接触角測定器(ERMA社製)を用い
て#1試料と#2試料の表面の水との接触角を調べたと
ころ、いづれも3゜未満であった。更に、これらの試料
に息を吹きかけたところ、曇りは生じなかった。比較の
ため、基材のソーダライムガラス板を調べたところ、水
との接触角は50゜であり、息を吹きかけると容易に曇り
が生じた。次に、#1試料と#2試料とソーダライムガ
ラス板について抗菌性能を調べた。大腸菌(Escherichi
a coli W3110株)を一夜振とう培養した培養液を遠心洗
浄し、滅菌蒸留水で1万倍に希釈して菌液を調製した。
この菌液0.15ml(10000−50000CFU)を10cm四角の3
枚のスライドガラスに滴下し、夫々のスライドガラスを
予め70%エタノールで殺菌した#1試料と#2試料とソ
ーダライムガラス板に密着させ、スライドガラスの前面
から白色蛍光灯を3500ルクスの照度で30分間照射し
た。次に、夫々の試料の菌液を滅菌ガーゼで拭い取って
10 mlの生理食塩水に回収し、回収した菌液を普通寒天
培地に塗布した後、37℃で1日間培養した。培地上の大
腸菌集落数を計数し、大腸菌の生存率を求めた。その結
果、#1試料とソーダライムガラス板については大腸菌
の生存率は70%以上であったが、#2試料では10%
未満であった。この試験は、光触媒をAgでドーピングし
た場合には、基材の表面が高度に親水化されるだけでな
く、抗菌性を呈することを示す。
ラス板の表面に無定形シリカの薄膜を形成し、複数の#
1試料を得た。次に、実施例1と同様の方法で、#1試
料の表面に無定形チタニアの薄膜を生成させ、500℃の
温度で焼成して無定形チタニアをアナターゼ型チタニア
に変換させた。この試料の表面に1重量%の酢酸銅エタ
ノール溶液をスプレーコーティング法により塗布した後
乾燥させ、試料から距離20cmのところに配置した20W
のBLB蛍光灯により試料に紫外線を1分間照射すること
により酢酸銅エタノールを光還元析出させ、チタニア結
晶が銅でドーピングされた#2試料を得た。#2試料を
肉眼で観察したところ、充分な光透過性を備えていた。
ソーダライムガラス板と製作直後の#2試料および#1
試料(チタニアコーティングなし)の防曇性と水との接
触角を検査した。防曇性の検査は、試料に息を吹きかけ
て試料の表面に曇りを生じさせ、顕微鏡により凝縮水滴
の有無を観察することにより行った。接触角は接触角測
定器(ERMA社製)により測定した。結果を表4に示す。
ガラス板の夫々にBLB蛍光灯を0.5mW/cm2の紫外線照
度で約1カ月間照射した後、防曇性と水との接触角を同
様に検査した。結果を表5に示す。
とソーダライムガラス板について実施例18と同様の方
法で抗菌性能を調べた。その結果、ソーダライムガラス
板および#1試料については大腸菌の生存率は70%以
上であったが、#2試料では10%未満であった。次
に、製作直後の#2試料および#1試料とソーダライム
ガラス板について脱臭性能を調べた。紫外線を透過可能
な石英ガラス製の容積11リッターのデシケータ内に夫
々の試料を配置し、メチルメルカプタンを含有する窒素
ガスをメチルメルカプタンの濃度が3ppmになるように
注入した。デシケータ内に試料から8cmの距離のところ
に4WのBLB蛍光灯を配置し、0.3mW/cm2の紫外線照度
で紫外線を照射した。30分後にデシケータ内のガスを
採取し、ガスクロマトグラフによりメチルメルカプタン
濃度を測定し、メチルメルカプタンの除去率を求めた。
#1試料とソーダライムガラス板ではメチルメルカプタ
ンの除去率は10%未満であったが、#2試料では除去
率は90%以上であり、良好な脱臭性能を示した。
液(トリメトキシメチルシラン)を、シリカ重量とトリ
メトキシメチルシランの重量の比が3になるように混合
し、この混合液を10cm四角のアクリル樹脂板の表面に
塗布し、100℃の温度で硬化させ、膜厚3μmのシリコー
ンのベースコートで被覆されたアクリル樹脂板を得た。
次に、アナターゼ型チタニアゾル(TA-15 )と3重量%
の酢酸銅水溶液を混合し、更に“グラスカ”のA液(シ
リカゾル)を添加し、プロパノールで希釈した。次に
“グラスカ”のB液を添加し、チタニア含有塗料用組成
物を調製した。この塗料用組成物の組成は、シリカ3重
量部、トリメトキシメチルシラン1重量部、チタニア4
重量部、酢酸銅は金属銅に換算して0.08重量部であ
った。この塗料用組成物をアクリル樹脂板の表面に塗布
し、100℃の温度で硬化させてトップコートを形成し
た。次に、この試料にBLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2
の照度で5日間紫外線を照射し、#1試料を得た。実施
例19と同様の方法で#1試料とアクリル樹脂板につい
て防曇性と水との接触角と抗菌性能と脱臭性能を調べ
た。アクリル樹脂板では水との接触角は70゜であり、
息を吹きかけると曇りが発生したが、#1試料では水と
の接触角は3〜9゜であり、曇りは生じなかった。抗菌
性については、アクリル樹脂板については大腸菌の生存
率は70%以上であったが、#1試料では10%未満で
あった。脱臭性能に関し、アクリル樹脂板ではメチルメ
ルカプタンの除去率は10%未満であったが、#1試料
では除去率は90%以上であった。
ラス板の表面に先ず無定形シリカの薄膜を形成し、次い
で、その上に無定形チタニアの薄膜を形成し、500℃の
温度で焼成して無定形チタニアをアナターゼ型チタニア
に変換させた。次に、この試料に白金濃度0.1重量%
の塩化白金酸6水和物H2PtCl6・6H2O水溶液を1ml塗布
した後、BLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照度で1分
間紫外線を照射し、塩化白金酸6水和物を光還元し白金
を析出させ、チタニア結晶が白金でドーピングされた試
料を得た。得られた試料を1日放置した後、BLB蛍光灯
を用いて0.5mW/cm2の照度で1日間紫外線を照射し
た。紫外線照射後に水との接触角を測定したところ、0
゜であった。また、実施例19と同様の方法でメチルメ
ルカプタンの除去率を求めたところ、98%であった。
2の照度で10時間紫外線を照射し、#3試料を得た。
この試料の表面の水との接触角を接触角測定器(ERMA社
製)で測定したところ、接触角の読みは3゜未満であっ
た。茅ヶ崎市所在の建物の屋上に図11Aおよび図11
Bに示す屋外汚れ加速試験装置を設置した。図11Aお
よび図11Bを参照するに、この装置は、フレーム20
に支持された傾斜した試料支持面22を備え、試料24
を取り付けるようになっている。フレームの頂部には前
方に傾斜した屋根26が固定してある。この屋根は波形
プラスチック板からなり、集まった雨が試料支持面22
に取り付けた試料24の表面に筋を成して流下するよう
になっている。この装置の試料支持面22に#3試料
と、実施例12の#1試料と、実施例12の#2試料を
夫々複数取り付け、1995年6月12日から9日間天候条件
に暴露した。この間の天気と降雨量は表6の通りであっ
た。
は、試料表面に縦筋状の汚れが観察された。これは、前
日の大雨の際に、大気中のカーボンブラックなどの燃焼
生成物や都市塵埃のような疎水性汚れが雨に持ち運ば
れ、雨が試料表面を流下する間に斯る疎水性汚れが試料
表面に付着したものと考えられる。それに対して、#3
試料では、汚れは観察されなかった。これは、試料表面
の親水性が高いので、疎水性汚れを含んだ雨水が流下し
ても汚れが親水性表面に付着しにくいことと、汚れが降
雨により洗い流されたことによると考えられる。#2試
料では、斑な汚れが観察された。これは、紫外線照射が
なされていない#2試料を試験装置に取り付けた後、光
触媒被膜が太陽光による紫外線照射を未だ十分に受けて
おらず、表面が不均一に親水化されていたためであると
考えられる。
ない#1試料では、試料表面の縦筋状の汚れが顕著に観
察された。これに対して、光触媒被膜がある#3試料と
#2試料では、汚れは観察されなかった。水との接触角
を測定したところ、#1試料では70゜、#2試料およ
び#3試料ではいづれも3゜未満であった。#2試料の
接触角が3゜未満になったのは、太陽光に含まれる紫外
線の照射により、#2試料のトップコート中のシリコー
ン分子のケイ素原子に結合した有機基が光触媒作用によ
って水酸基に置換され、トップコートが高度に親水化さ
れたことを示している。#3試料でも太陽光照射により
高親水性が維持されていることが分かる。
速試験装置に取り付ける前と取り付け1カ月後に表面の
色差を色差計(東京電色)を用いて計測した。色差は日
本工業規格(JIS)H0201に従い、ΔE* 表示を用いた。
加速試験装置取り付け前後の色差変化を表7に示す。
し、光触媒被膜がない#1試料では、雨水の流路である
縦筋部に多量の汚れが付着したことを示している。更
に、バックグラウンドの汚れにも、#2試料と#1試料
ではかなりの差があることが認められる。
塗布し、試料表面を水平姿勢に保持しながら夫々の試料
を水槽に満たした水の中に浸漬した。#1試料では、オ
レイン酸は試料の表面に付着したままであった。これに
対し、#3試料では、オレイン酸は丸まって油滴とな
り、試料の表面から釈放されて浮上した。このように、
基材の表面が光触媒性トップコートにより被覆されてい
ると、基材の表面が親水性に維持され、油性汚れが水中
で表面から容易に釈放され表面が清浄化されることが確
認された。この実施例は、例えば、食器の表面に光触媒
性コーティングを設け、紫外線により光触媒を励起すれ
ば、油で汚れた食器を洗剤を使用することなく水に漬け
るだけで簡単に清浄化できることを示している。
後、晴れた日に屋外に放置し、自然乾燥にゆだねた。気
温は約25℃であった。30分後に、#1試料を観察し
たところ、試料の表面には水滴が残存していた。これに
対し、#3試料の表面は完全に乾燥していた。光触媒性
コーティングを備えた#3試料では、付着させた水滴が
一様な水膜になり、その故に乾燥が促進されるものと考
えられる。この実施例は、例えば眼鏡レンズや自動車の
風防ガラスが水に濡れても、速やかに乾燥させることが
できることを示している。
とコロイダルシリカゾル(日産化学、スノーテックス
O)を固形分のモル比で88:12の割合で混合し、1
5cm四角の施釉タイル(東陶機器、AB02E01)の表面に
スプレーコーティング法により塗布し、800℃の温度で
1時間焼成し、チタニアとシリカからなる被膜で被覆さ
れた試料を得た。被膜の膜厚は0.3μmであった。焼成
直後の水との接触角は5゜であった。試料を1週間暗所
に放置した後の水との接触角は依然5゜であった。BLB
蛍光灯を用いて試料の表面に0.03mW/cm2の紫外線照
度で1日間紫外線を照射したところ、水との接触角は0
゜になった。
カゾル(日産化学、スノーテックス20)を固形分のモ
ル比で80:20の割合で混合し、15cm四角の施釉タ
イル(AB02E01)の表面にスプレーコーティング法によ
り塗布し、800℃の温度で1時間焼成し、チタニアとシ
リカからなる被膜で被覆された試料を得た。被膜の膜厚
は0.3μmであった。焼成直後の水との接触角は5゜で
あった。試料を2週間暗所に放置した後の水との接触角
は14゜であった。白色蛍光灯を用いて試料の表面に
0.004mW/cm2の紫外線照度で1日間紫外線を照射し
たところ、水との接触角は4゜になった。従って、室内
照明下でも充分に親水化されることが分かった。
カゾル(日産化学、スノーテックス20)を異なる割合
で混合した複数の懸濁液を調製した。夫々の懸濁液の固
形分におけるシリカのモル分率は、0%、5%、10
%、15%、20%、25%、30%であった。夫々の
懸濁液0.08gを別々の15cm四角の施釉タイル(AB02E0
1)の表面に夫々スプレーコーティング法により均一に
塗布し、800℃の温度で1時間焼成し、チタニアとシリ
カからなる被膜で被覆された複数の試料を得た。焼成直
後の各試料の水との接触角は図12のグラフに示す通り
であった。図12のグラフから分かるように、シリカを
添加すると初期の接触角が低くなる傾向がある。
触角を図13のグラフに示す。図12のグラフと図13
のグラフを対比すれば分かるように、シリカのモル分率
が10%以上の試料では暗所放置による親水性の喪失が
小さい。その後、 BLB蛍光灯を用いて試料の表面に0.
03mW/cm2の紫外線照度で2日間紫外線を照射した。
照射後の水との接触角を図14のグラフに示す。チタニ
アにシリカが添加されている場合には、紫外線照射によ
り容易に親水性が回復することが分かる。その後更に試
料を8日間暗所に放置し、水との接触角を調べた。結果
を図15に示す。チタニアにシリカが添加されている場
合には、紫外線照射後暗所に放置しても親水性の喪失が
小さいことが分かる。チタニア・シリカ焼結膜の耐摩耗
性を調べるため、鉛筆スクラッチ試験を行った。結果
を、図16のグラフに示す。シリカのモル分率が増加す
るにつれて耐摩耗性が増大することが分かる。
カゾル(スノーテックス20)との混合物(固形分にお
けるシリカの割合が10重量%)を固形分換算で4.5m
gだけ15cm四角の施釉タイル(AB02E01)に塗布し、88
0℃の温度で10分焼成した。この試料に、 BLB蛍光灯
を用いて0.5mW/cm2の紫外線照度で3時間紫外線を照
射し、#1試料を得た。#1試料と施釉タイル(AB02E0
1)の水との接触角は夫々0゜および30゜であった。
イエローオーカー64.3重量%、焼成関東ローム粘土21.4
重量%、疎水性カーボンブラック4.8重量%、シリカ粉
4.8重量%、親水性カーボンブラック4.7重量%を含む粉
体混合物を1.05g/リッターの濃度で水に懸濁させたス
ラリーを調製した。45度に傾斜させた#1試料および
施釉タイル(AB02E01)に上記スラリー150mlを流下させ
て15分間乾燥させ、次いで蒸留水150mlを流下させて
15分間乾燥させ、このサイクルを25回反復した。試
験前後の色差変化と光沢度変化を調べた。光沢度の測定
は日本工業規格(JIS)Z8741の規定に従って行い、光沢
度変化は試験後の光沢度を試験前の光沢度で割ることに
より求めた。結果を表8に示す。
との関係 種々の試料を実施例29と同様の汚泥試験に付した。調
べた試料は、実施例29の#1試料と、チタニアが銅で
ドーピングされた#2試料試料と、施釉タイル(AB02E0
1)と、アクリル樹脂板と、ポリエステル樹脂をマトリ
ックスとする人造大理石板(東陶機器、ML03)、ポリテ
トラフルオロエチレン(PTFE)板であった。#2試料
は、実施例29の#1試料に、銅濃度50μmol/gの酢
酸銅1水塩の水溶液を0.3gスプレーコーティング法
により塗布した後乾燥させ、BLB蛍光灯により0.4mW/
cm2の紫外線照度で紫外線を10分間照射して酢酸銅1
水塩を光還元析出させることにより得た。汚泥試験の結
果を表9に示す。
例22と同様の汚れ加速試験に付した。用いた試料は、
実施例29の#1試料と、施釉タイル(AB02E01)と、
アクリル樹脂板と、実施例12と同様の方法によりシリ
コーンのベースコートで被覆したアルミニウム板と、PT
FE板であった。加速試験の結果を表10に示す。表10
において、色差変化は、実施例23と同様、試料の縦筋
部の色差変化を表す。
した水との接触角および色差変化を図17のグラフにプ
ロットした。図17のグラフにおいて、カーブAは汚れ
加速試験における大気中のカーボンブラックなどの燃焼
生成物や都市塵埃のような汚れによる色差変化と水との
接触角との関係を示し、カーブBは汚泥試験における汚
泥による色差変化と水との接触角との関係を示す。図1
7のグラフを参照するに、カーブAから良く分かるよう
に、基材の水との接触角が増加するにつれて燃焼生成物
や都市塵埃による汚れが目立つようになる。これは、燃
焼生成物や都市塵埃のような汚染物質は基本的に疎水性
であり、従って、疎水性の表面に付着しやすいからであ
る。これに対して、カーブBは、汚泥による汚れは水と
の接触角が20゜から50゜の範囲でピーク値を呈する
ことを示している。これは、泥や土のような無機物質
は、本来、水との接触角が20゜から50゜程度の親水
性を有し、類似の親水性を有する表面に付着しやすいか
らである。従って、表面を水との接触角が20゜以下の
親水性にするか、或いは、水との接触角が60゜以上に
疎水化すれば、表面への無機物質の付着を防止すること
ができることが分かる。
よる汚れが減少するのは、表面が水との接触角が20゜
以下の高度の親水性になると、無機物質に対する親和性
よりも水に対する親和性の方が高くなり、表面に優先的
に付着する水によって無機物質の付着が阻害されると共
に、付着した或いは付着しようとする無機物質が水によ
って容易に洗い流されるからである。以上から、建物な
どの表面に疎水性の汚れ物質と親水性の汚れ物質のいづ
れもが付着しないようにするため、或いは、表面に堆積
した汚れが降雨により洗い流されて表面がセルフクリー
ニングされるようにするには、表面の水との接触角が5
゜以下になるようにすればよいことが分かる。
木化学、兵庫県加古川市、平均結晶子径3.5nm)を次
表11に示す種々の配合比(チタニアと酸化錫との合計
に対する酸化錫の重量%)で混合し、15cm四角の施釉
タイル(AB02E01)の表面にスプレーコーティング法に
より塗布し、750℃又は800℃の温度で10分間焼成し、
#1試料〜#6試料を得た。#2試料、#4試料、#5
試料、#6試料については、焼成後に更に1重量%の硝
酸銀水溶液を塗布し光還元析出させることにより銀をド
ーピングした。更に、施釉タイルに酸化錫ゾルのみ又は
チタニアゾルのみを塗布して焼成した#7試料〜#9試
料を作製した。#7試料と#9試料には、焼成後に更に
銀をドーピングした。夫々の試料を1週間暗所に放置し
た後、BLB蛍光灯を用いて試料の表面に0.3mW/cm2の
紫外線照度で3日間紫外線を照射し、水との接触角を測
定した。結果を表11に示す。
被覆された#8試料および#9試料においては、水との
接触角は10゜を超えている。これは、焼成中にナトリ
ウムのようなアルカリ網目修飾イオンが釉薬からチタニ
ア中に拡散し、アナターゼの光触媒活性を阻害したから
である。それに較べ、SnO2を配合した#1試料から#6
試料においては、表面が高度に親水化されて水との接触
角は5゜以下となっている。#7試料から分かるよう
に、酸化錫もチタニアと同様に半導体光触媒であり、表
面を親水化する上で効果がある。理由は明らかではない
が、この実施例は、チタニアに酸化錫を添加するとアル
カリ網目修飾イオンの拡散の影響を克服できることを示
している。
15cm四角の施釉タイル(AB02E01)の表面にスプレー
コーティング法により塗布し、約20分間約150℃の温度
に保持することにより、テトラエトキシシランを加水分
解と脱水縮重合に付し、無定形シリカ層を施釉タイルの
表面に形成した。次に、この施釉タイルの表面にアナタ
ーゼ型チタニアゾル(STS-11)をスプレーコーティング
法により塗布し、800℃の温度で1時間焼成した。この
試料と比較のため実施例31の#8試料を1週間暗所に
放置した後、BLB蛍光灯を用いて試料の表面に0.3mW/
cm2の紫外線照度で1日間紫外線を照射し、水との接触
角を測定した。実施例31の#8試料では水との接触角
は12゜であったが、無定形シリカ層を介在させた試料
では、水との接触角3゜未満まで親水化された。無定形
シリカ層は釉薬中のアルカリ網目修飾イオンの拡散を防
止する上で効果的であると考えられる。
02E01)の表面に先ず無定形シリカの薄膜を形成し、次
いで、その上に無定形チタニアの薄膜を形成した。この
タイルを500℃の温度で焼成し、無定形チタニアをアナ
ターゼ型チタニアに変換した。得られた試料を数日間暗
所に放置した後、BLB蛍光灯を用いて0.5mW/cm2の照
度で1日間紫外線を照射し、試料を得た。この試料の水
との接触角を測定したところ0゜であった。実施例32
と同様に、無定形シリカ層はタイルの表面を高度に親水
化する上で効果的であると考えられる。
イル表面を水平姿勢に保持しながらタイルを水槽に満た
した水の中に浸漬したところ、オレイン酸は丸まって油
滴となり、タイルの表面から釈放されて浮上した。この
実施例も、また、タイルや食器のような陶磁器の表面に
光触媒性コーティングを設け、紫外線により光触媒を励
起すれば、陶磁器を水に漬けるか又は水で濡らすだけで
油で汚れた表面を簡単に清浄化できることを示してい
る。
ラス板の表面に先ず無定形シリカの薄膜を形成し、次い
で、その上に無定形チタニアの薄膜を形成した。このガ
ラス板を500℃の温度で焼成し、無定形チタニアをアナ
ターゼ型チタニアに変換した。このガラス板の表面にオ
レイン酸を塗布し、ガラス板表面を水平姿勢に保持しな
がらガラス板を水槽に満たした水の中に浸漬したとこ
ろ、オレイン酸は丸まって油滴となり、ガラス板の表面
から釈放されて浮上した。
の汚れ加速試験に付した。1カ月後に目視により観察し
たところ、縦筋状の汚れは認められなかった。
(AB02E01)の表面にチタニアとシリカからなる被膜を
形成した。次に、このタイルの表面に1重量%の乳酸銀
水溶液を塗布し、BLB蛍光灯を用いて紫外線を照射する
ことにより乳酸銀を光還元して銀を析出させ、チタニア
が銀でドーピングされた試料を得た。水との接触角を調
べたところ0゜であった。次に、このタイルについて実
施例18と同様の方法で抗菌性能を調べたところ、大腸
菌の生存率は10%未満であった。
(AB02E01)の表面にチタニアとシリカからなる被膜を
形成した。次に、このタイルの表面に1重量%の酢酸銅
1水塩の水溶液を塗布し、BLB蛍光灯を用いて紫外線を
照射することにより酢酸銅を光還元して銅を析出させ、
チタニアが銅でドーピングされた試料を得た。水との接
触角を調べたところ3゜未満であった。次に、このタイ
ルについて実施例18と同様の方法で抗菌性能を調べた
ところ、大腸菌の生存率は10%未満であった。
(AB02E01)の表面にチタニアとシリカからなる被膜を
形成した。次に、このタイルの表面に実施例21と同様
の方法で白金をドーピングした。水との接触角を調べた
ところ0゜であった。次に、実施例19と同様の方法で
メチルメルカプタンの除去率を求めたところ、98%で
あった。
覆のない施釉タイル(AB02E01)を10日間暗所に放置
した後、Hg−Xeランプを用いて次表12の条件で紫外線
を照射しながら水との接触角の時間的変化を計測した。
図18Aから図18Cにおいて、白点でプロットした値
は実施例31の#8試料の水との接触角を表し、黒点で
プロットした値はチタニア被覆のない施釉タイルの接触
角を表す。図18Cから分かるように、アナターゼ型チ
タニアのバンドギャップエネルギに相当する波長387nm
より低いエネルギの紫外線(387nmより長い波長の紫外
線)では、紫外線を照射しても親水化が起こらない。
示すように、アナターゼ型チタニアのバンドギャップエ
ネルギより高いエネルギの紫外線では、紫外線照射に応
じて表面が親水化されることが分かる。以上のことか
ら、表面の親水化は、光半導体が光励起されることに密
接な関連があることが確認された。
ゼロックス、モノクロPPC用OHPフィルム、JF-001)に実
施例17と同様のチタニア含有塗料用組成物を塗布し、
110℃の温度で硬化させ、チタニア含有シリコーンで被
覆された#1試料を得た。更に、 他のPETフィルム(JF
-001)に水性ポリエステル塗料(高松油脂製、A-124S)
を塗布し、110℃の温度で硬化させ、プライマーコート
を形成した。このプライマーコートの上に、実施例17
と同様のチタニア含有塗料用組成物を塗布し、110℃の
温度で硬化させ、#2試料を得た。
17と同様のチタニア含有塗料用組成物を塗布し、110
℃の温度で硬化させ、#3試料を得た。更に、 他のポ
リカーボネート板に水性ポリエステル塗料(A-124S)を
塗布し、110℃の温度で硬化させ、プライマーコートを
形成した後、実施例17と同様のチタニア含有塗料用組
成物を塗布し、110℃の温度で硬化させ、#4試料を得
た。#1試料から#4試料およびPETフィルム(JF-00
1)とポリカーボネート板にBLB蛍光灯を用いて0.6mW
/cm2の照度で紫外線を照射しながら、試料の表面の水
との接触角の時間的変化を測定した。結果を表13に示
す。
れて試料表面が親水化され、およそ3日後には表面が超
親水化されている。実施例13に関連して前述したよう
に、チタニア含有シリコーン層のシリコーン分子のケイ
素原子に結合した有機基が光励起による光触媒作用によ
って水酸基に置換されたことに因るものと考えられる。
周知のように、0.6mW/cm2の紫外線照度は、地表に降
り注ぐ太陽光に含まれる紫外線の照度にほぼ等しい。従
って、チタニア含有シリコーンの塗膜をただ単に太陽光
にさらすだけでも超親水化を達成することができること
が注目される。
板)と#2試料(チタニア含有シリコーン塗膜で被覆さ
れたアルミニウム基板)を耐候試験機(スガ試験機製、
WEL-SUN-HC)を用いて、カーボンアーク灯による光照射
をしながら、60分中12分雨噴霧、温度40℃の条件で耐候
試験に付した。耐候性は、光沢保持率(初期光沢度に対
する試験後の光沢度の100分率)で評価した。試験結果
を表14に示す。
タニアの有無に拘わらずほぼ同等であった。これは、チ
タニアの光触媒作用によってシリコーンの主鎖を構成す
るシロキサン結合は破壊されていないことを示してい
る。従って、シリコーン分子のケイ素原子に結合した有
機基が水酸基に置換されても、シリコーンの耐候性には
影響がないと考えられる。以上には本発明の特定の実施
例について記載したが、本発明はこれらに限定されるも
のではなく、種々の修正や変更を施すことができる。更
に、本発明は上記用途以外の種々の分野に応用すること
ができる。例えば、水中で表面への気泡の付着を防止す
るため超親水化された表面を利用することができる。ま
た、超親水化された表面は、一様な水膜を形成し、保持
するために利用することができる。更に、超親水性の光
触媒性コーティングは生体に対する親和性に優れるの
で、コンタクトレンズ、人工臓器、カテーテル、抗血栓
材料、などの医療分野に利用することができる。
電子帯と伝導帯の準位を示す説明図。
を顕微鏡的に拡大して示す模式的断面図で、光触媒の光
励起により表面に水酸基が化学吸着される様子を示す説
明図。
の接触角の時間的変化を示すグラフ
の接触角の時間的変化を示すグラフ
の接触角の時間的変化を示すグラフ
表面のラマン分光スペクトルを示す説明図。
の接触角の時間的変化を示すグラフ
の接触角の時間的変化を示すグラフ
の膜厚とメチルメルカプタンの分解性能との関係を示す
グラフ
水との接触角との関係を示すグラフ
水との接触角との関係を示すグラフ
水との接触角との関係を示すグラフ
水との接触角との関係を示すグラフ
泥によって汚れる度合いを示すグラフ
グの表面に照射したときの水との接触角の時間的変化を
示すグラフ
4・・・光触媒粒子、16・・金属酸化物層。
Claims (15)
- 【請求項1】 反射コーティングを備えた基材と、 前記基材の表面に接合され、光触媒性半導体材料を含む
実質的に透明な層とを備え、 前記光触媒性材料は光励起に応じて前記層の表面を光励
起時に水との接触角に換算して約5゜以下の水濡れ性を
呈する親水性になし、もって、付着した湿分の凝縮水及
び/又は水滴が前記層の表面に広がり、基材が湿分凝縮
水及び/又は水滴によって曇り若しくは翳るのが防止さ
れるようになったことを特徴とする防曇性鏡。 - 【請求項2】透明なレンズ形成体と、 前記レンズ形成体の表面に接合された実質的に透明で光
触媒性半導体材料を含む層とを備え、 前記光触媒性材料は光励起に応じて前記層の表面を水と
の接触角に換算して約5゜以下の親水性になし、もっ
て、付着した湿分の凝縮水及び/又は水滴が前記層の表
面に広がり、レンズ形成体が湿分凝縮水及び/又は水滴
によって曇り若しくは翳るのが防止されるようになった
防曇性レンズ。 - 【請求項3】透明な基材と、 前記基材の表面に接合された実質的に透明で光触媒性半
導体材料を含む層とを備え、 前記光触媒性材料は光励起に応じて前記層の表面を光励
起時に水との接触角に換算して約5゜以下の水濡れ性を
呈する親水性になし、もって、付着した湿分の凝縮水及
び/又は水滴が前記層の表面に広がり、基材が湿分凝縮
水及び/又は水滴によって曇り若しくは翳るのが防止さ
れるようになった防曇性透明板状部材。 - 【請求項4】 親水性表面を備えた複合材であって: 基材と、 前記基材の表面に接合され光触媒性半導体材料を含む層
とを備え、 前記光触媒性材料は、光励起に応じて、前記複合材の表
面が水との接触角に換算して約5゜以下の水濡れ性を呈
するべく前記複合材の表面を親水性になすことを特徴と
する複合材。 - 【請求項5】 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴によ
って鏡が曇り若しくは翳るのを防止するための防曇方法
であって: 実質的に透明で光触媒性半導体材料を含む層で被覆され
た鏡を準備する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を親水との接触角に換算して約5゜以下の親水性なし、
もって、付着湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面
に広がらせる工程; からなる鏡の防曇方法。 - 【請求項6】 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴によ
って鏡が曇り若しくは翳るのを防止するための防曇方法
であって: 鏡を準備する工程と; 実質的に透明で光触媒性半導体材料を含む層で前記鏡の
表面を被覆する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になし、
もって、付着湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面
に広がらせる工程; からなる鏡の防曇方法。 - 【請求項7】 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴によ
ってレンズが曇り若しくは翳るのを防止するための防曇
方法であって: 実質的に透明で光触媒性半導体材料を含む層で被覆され
たレンズを準備する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になし、
もって、付着湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面
に広がらせる工程; からなるレンズの防曇方法。 - 【請求項8】 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴によ
ってレンズが曇り若しくは翳るのを防止するための防曇
方法であって: レンズを準備する工程と; 実質的に透明で光触媒性半導体材料を含む層で前記レン
ズの表面を被覆する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になし、
もって、付着湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面
に広がらせる工程; からなるレンズの防曇方法。 - 【請求項9】 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴によ
って透明板状部材が曇り若しくは翳るのを防止するため
の防曇方法であって: 実質的に透明で光触媒性半導体材料を含む層で被覆され
た透明板状部材を準備する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になし、
もって、付着湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面
に広がらせる工程; からなる透明板状部材の防曇方法。 - 【請求項10】 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴に
よって透明板状部材が曇り若しくは翳るのを防止するた
めの防曇方法であって: 透明板状部材を準備する工程と; 実質的に透明で光触媒性半導体材料を含む層で前記透明
板状部材の表面を被覆する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になし、
もって、付着湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面
に広がらせる工程; からなる透明板状部材の防曇方法。 - 【請求項11】 基材に付着した水滴の成長を防止する
方法であって: 光触媒性半導体材料を含む層で被覆された基材を準備す
る工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の水濡れ性を呈す
る親水性になす工程と; 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面に広
がらせる工程; からなる水滴成長防止方法。 - 【請求項12】 基材に付着した水滴の成長を防止する
方法であって: 基材を準備する工程と; 光触媒性半導体材料を含む層で前記基材の表面を被覆す
る工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になす工
程と; 付着した湿分凝縮水及び/又は水滴を前記層の表面に広
がらせる工程; からなる水滴成長防止方法。 - 【請求項13】 防曇性鏡の製造方法であって: 反射コーティングを備えた若しくは備えていない基材を
準備する工程と; 光触媒性半導体材料を含む実質的に透明な層で前記基材
の表面を被覆する工程と; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になす工
程と; 必要に応じ、前記被覆工程の前、後、若しくは途中にお
いて前記基材の反対面に反射コーティングを形成する工
程; からなる方法。 - 【請求項14】 防曇性レンズの製造方法であって: レンズ形成体を準備する工程と; 光触媒性半導体材料を含み光反応性の実質的に透明な層
で前記レンズ形成体の表面を被覆する工程; 前記光触媒性材料を光励起することにより前記層の表面
を水との接触角に換算して約5゜以下の親水性になす工
程と; からなる方法。 - 【請求項15】 防曇性透明板状部材の製造方法であっ
て: 透明な基材を準備する工程と; 光触媒性半導体材料を含み実質的に透明で光励起時に水
との接触角に換算して約5゜以下の水濡れ性を呈する光
反応性の層で前記基材の表面を被覆する工程;からなる
方法。
Applications Claiming Priority (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-99425 | 1995-03-20 | ||
JP9942595 | 1995-03-20 | ||
JP11760095 | 1995-04-06 | ||
JP7-117600 | 1995-04-06 | ||
JP7-182019 | 1995-06-14 | ||
JP7-182020 | 1995-06-14 | ||
JP18202095 | 1995-06-14 | ||
JP18201995 | 1995-06-14 | ||
JP7-205019 | 1995-07-08 | ||
JP20501995 | 1995-07-08 | ||
JP7-326167 | 1995-11-09 | ||
JP32616795 | 1995-11-09 | ||
JP35464995 | 1995-12-22 | ||
JP7-354649 | 1995-12-22 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9082156A Division JPH10146251A (ja) | 1995-03-20 | 1997-03-14 | 光触媒性親水性表面を備えた複合材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11153701A JPH11153701A (ja) | 1999-06-08 |
JP2924902B2 true JP2924902B2 (ja) | 1999-07-26 |
Family
ID=27565635
Family Applications (16)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52829096A Expired - Lifetime JP2756474B2 (ja) | 1995-03-20 | 1996-03-21 | 基材の表面を光触媒的に親水性にする方法、親水性の光触媒性表面を備えた基材、その製造方法、および、光触媒性親水性コーティング組成物 |
JP9082156A Pending JPH10146251A (ja) | 1995-03-20 | 1997-03-14 | 光触媒性親水性表面を備えた複合材 |
JP9157458A Expired - Lifetime JP2943768B2 (ja) | 1995-03-20 | 1997-05-30 | 親水性の光触媒性表面を備えた複合材 |
JP10187837A Pending JPH1170613A (ja) | 1995-03-20 | 1998-07-02 | 親水性表面を備えた複合材 |
JP18837298A Expired - Lifetime JP2924902B2 (ja) | 1995-03-20 | 1998-07-03 | 基材の表面を光触媒的に超親水性にする方法、超親水性の光触媒性表面を備えた基材、および、その製造方法 |
JP11195193A Pending JP2000075114A (ja) | 1995-03-20 | 1999-07-09 | 光触媒性親水性表面を備えた複合材 |
JP2000145029A Pending JP2001026070A (ja) | 1995-03-20 | 2000-05-17 | 親水性表面を備えた複合材の製造方法およびこの製造方法により製造される複合材 |
JP2000265863A Expired - Lifetime JP3334710B2 (ja) | 1995-03-20 | 2000-09-01 | 光触媒性親水性表面を備えた防曇性部材 |
JP2000265791A Expired - Lifetime JP3334709B2 (ja) | 1995-03-20 | 2000-09-01 | 光触媒性親水性表面を備えた自己浄化性部材 |
JP2002060643A Expired - Lifetime JP3709931B2 (ja) | 1995-03-20 | 2002-03-06 | 光触媒性親水性表面を備えた自己浄化性部材 |
JP2003076275A Pending JP2003291243A (ja) | 1995-03-20 | 2003-03-19 | 基材表面の清浄化方法、清浄化表面を備えた基材及び清浄性コーティング組成物 |
JP2003167053A Expired - Lifetime JP3786366B2 (ja) | 1995-03-20 | 2003-06-11 | 親水性表面を備えた複合材、その製造方法、および親水性表面を備えた複合材を製造するためのコーティング組成物 |
JP2003167044A Expired - Lifetime JP3786365B2 (ja) | 1995-03-20 | 2003-06-11 | 親水性表面を備えた部材 |
JP2003167027A Expired - Lifetime JP3786364B2 (ja) | 1995-03-20 | 2003-06-11 | 親水性表面を備えた部材 |
JP2005124100A Pending JP2005325351A (ja) | 1995-03-20 | 2005-04-21 | 防曇性部材および清浄化表面を備えた部材 |
JP2009064365A Pending JP2009167097A (ja) | 1995-03-20 | 2009-03-17 | 光触媒性部材 |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52829096A Expired - Lifetime JP2756474B2 (ja) | 1995-03-20 | 1996-03-21 | 基材の表面を光触媒的に親水性にする方法、親水性の光触媒性表面を備えた基材、その製造方法、および、光触媒性親水性コーティング組成物 |
JP9082156A Pending JPH10146251A (ja) | 1995-03-20 | 1997-03-14 | 光触媒性親水性表面を備えた複合材 |
JP9157458A Expired - Lifetime JP2943768B2 (ja) | 1995-03-20 | 1997-05-30 | 親水性の光触媒性表面を備えた複合材 |
JP10187837A Pending JPH1170613A (ja) | 1995-03-20 | 1998-07-02 | 親水性表面を備えた複合材 |
Family Applications After (11)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11195193A Pending JP2000075114A (ja) | 1995-03-20 | 1999-07-09 | 光触媒性親水性表面を備えた複合材 |
JP2000145029A Pending JP2001026070A (ja) | 1995-03-20 | 2000-05-17 | 親水性表面を備えた複合材の製造方法およびこの製造方法により製造される複合材 |
JP2000265863A Expired - Lifetime JP3334710B2 (ja) | 1995-03-20 | 2000-09-01 | 光触媒性親水性表面を備えた防曇性部材 |
JP2000265791A Expired - Lifetime JP3334709B2 (ja) | 1995-03-20 | 2000-09-01 | 光触媒性親水性表面を備えた自己浄化性部材 |
JP2002060643A Expired - Lifetime JP3709931B2 (ja) | 1995-03-20 | 2002-03-06 | 光触媒性親水性表面を備えた自己浄化性部材 |
JP2003076275A Pending JP2003291243A (ja) | 1995-03-20 | 2003-03-19 | 基材表面の清浄化方法、清浄化表面を備えた基材及び清浄性コーティング組成物 |
JP2003167053A Expired - Lifetime JP3786366B2 (ja) | 1995-03-20 | 2003-06-11 | 親水性表面を備えた複合材、その製造方法、および親水性表面を備えた複合材を製造するためのコーティング組成物 |
JP2003167044A Expired - Lifetime JP3786365B2 (ja) | 1995-03-20 | 2003-06-11 | 親水性表面を備えた部材 |
JP2003167027A Expired - Lifetime JP3786364B2 (ja) | 1995-03-20 | 2003-06-11 | 親水性表面を備えた部材 |
JP2005124100A Pending JP2005325351A (ja) | 1995-03-20 | 2005-04-21 | 防曇性部材および清浄化表面を備えた部材 |
JP2009064365A Pending JP2009167097A (ja) | 1995-03-20 | 2009-03-17 | 光触媒性部材 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6013372A (ja) |
EP (4) | EP0816466B1 (ja) |
JP (16) | JP2756474B2 (ja) |
KR (1) | KR100342150B1 (ja) |
CN (1) | CN1129659C (ja) |
AT (2) | ATE326513T1 (ja) |
AU (1) | AU718733B2 (ja) |
BR (1) | BR9607868A (ja) |
CA (1) | CA2215925C (ja) |
DE (3) | DE19655363B4 (ja) |
DK (2) | DK0816466T3 (ja) |
ES (3) | ES2229049T5 (ja) |
HK (1) | HK1009829A1 (ja) |
MX (1) | MX9707108A (ja) |
PT (2) | PT1304366E (ja) |
WO (1) | WO1996029375A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6997570B2 (en) | 2003-04-03 | 2006-02-14 | Kabushiki Kaisha Tokai-Rika-Denki Seisakusho | Reflecting mirror |
US7910220B2 (en) | 2007-07-25 | 2011-03-22 | Alcoa Inc. | Surfaces and coatings for the removal of carbon dioxide |
US8088216B2 (en) | 2007-06-21 | 2012-01-03 | Trade Service Corporation | Water-borne complete inorganic alkali metal silicate composition and its aqueous solution, and water-borne coat agent, its aqueous solution, complete inorganic colored coating material and binder for high temperature and heat resistance coating material of the same composition, as well as method of using water-borne complete inorganic alkali metal silicate compound |
US8617665B2 (en) | 2009-08-03 | 2013-12-31 | Alcoa, Inc. | Self-cleaning substrates and methods for making the same |
Families Citing this family (440)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6387844B1 (en) | 1994-10-31 | 2002-05-14 | Akira Fujishima | Titanium dioxide photocatalyst |
US6830785B1 (en) * | 1995-03-20 | 2004-12-14 | Toto Ltd. | Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof |
EP0816466B1 (en) * | 1995-03-20 | 2006-05-17 | Toto Ltd. | Use of material having ultrahydrophilic and photocatalytic surface |
JP3972080B2 (ja) * | 1995-07-08 | 2007-09-05 | Toto株式会社 | 自動車及びその塗装方法 |
JP3704806B2 (ja) * | 1995-07-08 | 2005-10-12 | 東陶機器株式会社 | 超親水性を有する意匠材による水膜形成方法 |
JP3516186B2 (ja) * | 1995-09-05 | 2004-04-05 | 日本曹達株式会社 | 窓用ガラス |
FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
JP3930591B2 (ja) * | 1995-12-22 | 2007-06-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品 |
JPH09230105A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-05 | Toto Ltd | 防曇方法及びそれを施した設備 |
JP3293449B2 (ja) * | 1996-02-26 | 2002-06-17 | 三菱マテリアル株式会社 | Nox 浄化用混練物を適用する方法 |
JPH09241037A (ja) * | 1996-03-07 | 1997-09-16 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材およびその製造方法 |
US5939194A (en) * | 1996-12-09 | 1999-08-17 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material |
US6165256A (en) * | 1996-07-19 | 2000-12-26 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifiable coating composition |
CN1142991C (zh) * | 1996-07-19 | 2004-03-24 | 东陶机器株式会社 | 光催化性亲水性涂敷组合物 |
JPH1081840A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-03-31 | Toto Ltd | 光触媒性親水性塗料組成物 |
US6238738B1 (en) | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
JP3400259B2 (ja) * | 1996-08-26 | 2003-04-28 | セントラル硝子株式会社 | 親水性被膜およびその製造方法 |
DE19736925A1 (de) * | 1996-08-26 | 1998-03-05 | Central Glass Co Ltd | Hydrophiler Film und Verfahren zur Erzeugung desselben auf einem Substrat |
CN1152927C (zh) * | 1996-10-08 | 2004-06-09 | 日本曹达株式会社 | 光催化剂涂层剂组合物及载有光催化剂的构造体 |
JP3291558B2 (ja) * | 1996-11-18 | 2002-06-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 光触媒塗料及びその製造方法並びにこれを塗布した塗膜 |
JP3573392B2 (ja) * | 1996-12-09 | 2004-10-06 | 東芝ライテック株式会社 | 光触媒体、光源および照明器具 |
JP3700358B2 (ja) * | 1996-12-18 | 2005-09-28 | 日本板硝子株式会社 | 防曇防汚ガラス物品 |
JPH10182189A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-07 | Toto Ltd | 建築用窓ガラス |
EP0857770B1 (en) * | 1997-02-06 | 2004-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating compositions, hydrophilic films, and hydrophilic film-coated articles |
JP3863620B2 (ja) * | 1997-02-24 | 2006-12-27 | 株式会社ティオテクノ | 光触媒体及びその製造法 |
JP4672822B2 (ja) * | 1997-02-24 | 2011-04-20 | 株式会社ティオテクノ | 親水性コーティング剤及び表面親水性基体 |
JPH10237358A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 帯電防止機能無機塗料、それを用いた塗装品およびそれらの用途 |
US7096692B2 (en) | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
EP0942052B1 (en) * | 1997-03-14 | 2006-07-05 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Antifouling silicone emulsion coating composition, process for producing the same and antifouling article coated therewith |
US20020155299A1 (en) * | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
US20030039843A1 (en) * | 1997-03-14 | 2003-02-27 | Christopher Johnson | Photoactive coating, coated article, and method of making same |
JPH10259324A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Mitsubishi Materials Corp | 光触媒塗料およびその製造方法並びにそれを塗布した塗膜 |
JPH10259320A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Mitsubishi Materials Corp | 光触媒塗料およびその製造方法並びにそれを塗布した塗膜 |
US6337129B1 (en) | 1997-06-02 | 2002-01-08 | Toto Ltd. | Antifouling member and antifouling coating composition |
TW517082B (en) * | 1997-06-04 | 2003-01-11 | Toto Ltd | A process for pre-treating the surface of a substrate before the formation of a photocatalytically hydrophilifiable coating, the cleaning agent used therein and the undercoating composition. |
JP3384284B2 (ja) * | 1997-06-09 | 2003-03-10 | 日産自動車株式会社 | 親水性被膜、これを備えた親水性基体及びそれらの製造方法 |
JP3951366B2 (ja) * | 1997-06-13 | 2007-08-01 | Jsr株式会社 | 水系分散体 |
JPH1135342A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-09 | Central Glass Co Ltd | 多機能ガラス及びその製法 |
JP3109457B2 (ja) * | 1997-07-17 | 2000-11-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性親水性部材、及び光触媒性親水性コ−ティング組成物 |
FR2766494B1 (fr) * | 1997-07-22 | 2003-09-26 | Rhodia Chimie Sa | Dispersion de particules de titane comprenant un liant a base d'un polyorganosiloxane |
JP3996682B2 (ja) * | 1997-10-20 | 2007-10-24 | 日本デコール株式会社 | 有機物分解機能を有する化粧シート及びその製造方法 |
US6055085A (en) * | 1997-10-23 | 2000-04-25 | Central Glass Company, Limited | Photocatalytic glass pane equipped with light source for activating same |
US20010036897A1 (en) * | 1997-12-10 | 2001-11-01 | Kazuya Tsujimichi | Photocatalytic hydrophilifiable material |
EP0924164A3 (en) | 1997-12-18 | 2000-01-05 | Hoya Corporation | Methods for producing oxides or composites thereof |
JP3167733B2 (ja) * | 1997-12-22 | 2001-05-21 | 日立建機株式会社 | 旋回式建設機械並びに該建設機械に用いるキャブ、機器カバーおよびカウンタウエイト |
US6217999B1 (en) * | 1997-12-26 | 2001-04-17 | Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. | Photochemical reactor element containing microcapsulated titanium dioxide photocatalyst |
US6881505B2 (en) * | 1998-03-20 | 2005-04-19 | Glaverbel | Coated substrate with high reflectance |
GB9806027D0 (en) | 1998-03-20 | 1998-05-20 | Glaverbel | Coated substrate with high reflectance |
ATE403707T1 (de) | 1998-04-10 | 2008-08-15 | Matsushita Electric Works Ltd | Verfahren zur herstellung eines hydrophilen anorganischen beschichtungsfilms und eine zusammensetzung für anorganische beschichtungen |
US6352758B1 (en) * | 1998-05-04 | 2002-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Patterned article having alternating hydrophilic and hydrophobic surface regions |
JPH11323188A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-26 | Mitsubishi Materials Corp | 光触媒膜およびその形成方法と光触媒塗料 |
JPH11323192A (ja) * | 1998-05-15 | 1999-11-26 | Mitsubishi Materials Corp | 帯電防止効果のある光触媒膜とその形成用の光触媒塗料 |
JP3190984B2 (ja) * | 1998-06-24 | 2001-07-23 | 経済産業省産業技術総合研究所長 | 二酸化珪素を含有する二酸化チタン薄膜及びその製造方法 |
JP3496923B2 (ja) * | 1998-08-18 | 2004-02-16 | 株式会社不二機販 | 光触媒コーティング成形物及びその成形方法 |
WO2000012313A1 (fr) | 1998-08-27 | 2000-03-09 | Seiko Epson Corporation | Structure hydrophile, tete d'impression a jet d'encre, procede de production de celles-ci, imprimante a jet d'encre et autres elements structurels |
KR20010031599A (ko) | 1998-09-30 | 2001-04-16 | 마쯔무라 미노루 | 광촉매 물품과 방담방오 물품 및 방담방오 물품의 제조방법 |
CN100349660C (zh) | 1998-10-19 | 2007-11-21 | Toto株式会社 | 防污性材料、其制造方法及用于该方法的涂料组合物和装置 |
TW473400B (en) | 1998-11-20 | 2002-01-21 | Asahi Chemical Ind | Modified photocatalyst sol |
JP3529306B2 (ja) | 1998-12-09 | 2004-05-24 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
EP1188716B1 (en) * | 1998-12-21 | 2013-02-20 | JGC Catalysts and Chemicals Ltd. | Fine particle, sol having fine particles dispersed, method for preparing said sol and substrate having coating thereon |
US6964731B1 (en) * | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
US6974629B1 (en) * | 1999-08-06 | 2005-12-13 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces |
JP2000189795A (ja) * | 1998-12-26 | 2000-07-11 | Toto Ltd | 光触媒性被膜形成用表面処理剤およびこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法 |
EP1022318B1 (en) | 1999-01-19 | 2008-03-19 | JSR Corporation | Method of making coating layers containing photocatalyst and a photocatalyst coating film formed thereby |
US6480335B1 (en) | 1999-01-19 | 2002-11-12 | Kabushiki Kaisha Tokai-Rika-Denki-Seisakusho | Reflecting mirror |
JP4165014B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-10-15 | Toto株式会社 | 親水性部材、その製造方法、その製造のためのコーティング剤および装置 |
GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
US6929862B2 (en) * | 1999-06-08 | 2005-08-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Coated substrates |
US6816297B1 (en) | 1999-06-25 | 2004-11-09 | Gentex Corporation | Electrochromic mirror having a self-cleaning hydrophilic coating |
US6193378B1 (en) | 1999-06-25 | 2001-02-27 | Gentex Corporation | Electrochromic device having a self-cleaning hydrophilic coating |
US20060158735A1 (en) * | 2004-02-20 | 2006-07-20 | Tonar William L | Electro-optic device having a self-cleaning hydrophilic coating |
EP1738958A3 (en) * | 1999-06-25 | 2007-04-18 | Gentex Corporation | An electro-optic device having a self-cleaning hydrophilic coating |
CN1100836C (zh) * | 1999-06-30 | 2003-02-05 | 中国科学院感光化学研究所 | 一种光诱导下合成钛溶胶-凝胶涂料的方法 |
US6582839B1 (en) | 1999-09-02 | 2003-06-24 | Central Glass Company, Limited | Article with photocatalytic film |
JP4675535B2 (ja) * | 1999-10-01 | 2011-04-27 | 日本曹達株式会社 | 光触媒転写シート |
US6435660B1 (en) | 1999-10-05 | 2002-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head substrate, ink jet recording head, ink jet recording unit, and ink jet recording apparatus |
US20050224335A1 (en) * | 1999-11-22 | 2005-10-13 | Gary Carmignani | Apparatus and method for photocatalytic purification and disinfection of fluids |
US20010030876A1 (en) | 1999-12-03 | 2001-10-18 | Ing-Feng Hu | Self-cleaning automotive head lamp |
US6291762B1 (en) * | 1999-12-08 | 2001-09-18 | Industrial Technology Research Institute | Dust-proof and weather resistant photovoltaic module and fabricating method thereof |
TW468053B (en) * | 1999-12-14 | 2001-12-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Antireflection film, process for forming the antireflection film, and antireflection glass |
EP1246897B1 (en) | 1999-12-22 | 2005-08-31 | Reckitt Benckiser (UK) LIMITED | Photocatalytic compositions and methods |
US6537379B1 (en) | 2000-01-13 | 2003-03-25 | Hrl Laboratories, Llc | Photocatalytic coating and method for cleaning spacecraft surfaces |
JP5252757B2 (ja) * | 2000-01-26 | 2013-07-31 | 株式会社豊田中央研究所 | 親水性材料 |
AU778201B2 (en) | 2000-02-08 | 2004-11-25 | Hiraoka & Co. Ltd. | Photocatalyst-carrying tent cloth canvas and production method therefor |
WO2001068786A1 (fr) * | 2000-03-13 | 2001-09-20 | Toto Ltd. | Element hydrophile et son procede de fabrication |
US6569520B1 (en) | 2000-03-21 | 2003-05-27 | 3M Innovative Properties Company | Photocatalytic composition and method for preventing algae growth on building materials |
US6777091B2 (en) | 2000-03-22 | 2004-08-17 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Substrate with photocatalytic film and method for producing the same |
US7027549B2 (en) * | 2000-03-31 | 2006-04-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nuclear power plant system and method of operating the same |
JP2001323189A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-20 | Showa Highpolymer Co Ltd | 酸化チタン光触媒コーティング膜接着保護層用組成物およびこれを用いた複合体 |
JP3372527B2 (ja) * | 2000-05-17 | 2003-02-04 | 株式会社村上開明堂 | 複合材 |
US7021421B2 (en) | 2000-06-07 | 2006-04-04 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Transparent noise-barrier wall |
AU2001264215A1 (en) * | 2000-06-07 | 2001-12-17 | Showa Denko K K | Self-cleaning transparent sound barrier and process for producing the same |
US6846512B2 (en) | 2001-01-30 | 2005-01-25 | The Procter & Gamble Company | System and method for cleaning and/or treating vehicles and the surfaces of other objects |
EP1166871A1 (en) * | 2000-06-21 | 2002-01-02 | Fuji Photo Film B.V. | Photocalytic sheet of film and its manufacturing process |
US6866937B2 (en) | 2000-08-22 | 2005-03-15 | Central Glass Company, Limited | Glass plate with oxide film and process for producing same |
GB0021396D0 (en) * | 2000-09-01 | 2000-10-18 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
AU2001292660A1 (en) | 2000-09-11 | 2002-03-26 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic surfaces carrying temporary protective covers |
US6921579B2 (en) * | 2000-09-11 | 2005-07-26 | Cardinal Cg Company | Temporary protective covers |
WO2003031060A1 (fr) * | 2000-09-22 | 2003-04-17 | Japan Science And Technology Agency | Mince film transparent et procede de production de celui-ci |
JP2002097013A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Japan Science & Technology Corp | 透明薄膜とその製造方法 |
JP2002105641A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Murakami Corp | 複合材およびその製造方法 |
JP4846088B2 (ja) * | 2000-11-07 | 2011-12-28 | 多木化学株式会社 | 酸化チタン含有光触媒塗布液およびその製造方法ならびに酸化チタン光触媒構造体 |
US7658968B2 (en) * | 2000-12-15 | 2010-02-09 | Carrier Corporation | Method for making a film with improved wettability properties |
EP1217056A1 (en) * | 2000-12-21 | 2002-06-26 | Johnson Matthey Public Limited Company | Photocatalytic material |
US20040047997A1 (en) * | 2001-01-12 | 2004-03-11 | Harald Keller | Method for rendering surfaces resistant to soiling |
US6863933B2 (en) | 2001-01-30 | 2005-03-08 | The Procter And Gamble Company | Method of hydrophilizing materials |
US6971948B2 (en) | 2001-02-08 | 2005-12-06 | Cardinal Cg Company | Method and apparatus for removing coatings applied to surfaces of a substrate |
DE60214472T2 (de) | 2001-06-11 | 2007-05-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Flachdruckplattenvorläufer, Substrat dafür und hydrophiles Oberflächenmaterial |
JP4292759B2 (ja) * | 2001-06-28 | 2009-07-08 | 富士ゼロックス株式会社 | 基材上に酸化チタン光触媒薄膜を形成する方法 |
DE60221753T2 (de) * | 2001-06-29 | 2007-12-06 | Crystal Systems Inc. | Beschlagungsresistente transparente Artikel, Stoffe, die eine hydrophile anorganische Schicht hoher Härte bilden und Verfahren zur Herstellung einer beschlagungsarmen Linse |
JP3926117B2 (ja) | 2001-07-17 | 2007-06-06 | リンテック株式会社 | ハードコートフィルム |
TWI240700B (en) | 2001-07-19 | 2005-10-01 | Sumitomo Chemical Co | Ceramics dispersion liquid, method for producing the same, and hydrophilic coating agent using the same |
EP1411386A4 (en) | 2001-07-26 | 2005-02-09 | Murakami Corp | ANTIBLEND ANTI-TESTING EQUIPMENT AND VEHICLE MIRROR MIRRORS |
US6902813B2 (en) * | 2001-09-11 | 2005-06-07 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic surfaces carrying temporary protective covers |
US7288232B2 (en) * | 2001-09-24 | 2007-10-30 | L2B Environmental Systems, Inc. | Self-cleaning UV reflective coating |
US6936399B2 (en) | 2001-10-22 | 2005-08-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Hydrophilic member, hydrophilic graft polymer, and support of planographic printing plate |
EP1445095B1 (en) * | 2001-10-25 | 2012-12-26 | Panasonic Corporation | Composite thin film holding substrate, transparent conductive film holding substrate, and panel light emitting body |
US20050109238A1 (en) * | 2001-10-25 | 2005-05-26 | Takeyuki Yamaki | Coating material composition and article having coating film formed therewith |
EP1449583A4 (en) * | 2001-11-29 | 2010-06-09 | Shibaura Mechatronics Corp | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A PHOTOCATALYZERELEMENTS |
US6977132B2 (en) | 2001-12-07 | 2005-12-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
GB0129434D0 (en) * | 2001-12-08 | 2002-01-30 | Pilkington Plc | Self-cleaning glazing sheet |
JP4116300B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2008-07-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 酸化チタン光触媒薄膜および該酸化チタン光触媒薄膜の製造方法 |
JP2003231827A (ja) | 2002-02-12 | 2003-08-19 | Canon Inc | 防曇性コーティング材料、防曇性コーティング膜および防曇性光学部材 |
US6679978B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-01-20 | Afg Industries, Inc. | Method of making self-cleaning substrates |
JP2003246622A (ja) * | 2002-02-25 | 2003-09-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 酸化チタン前駆体、その製造方法およびそれを用いる酸化チタンの製造方法 |
KR100952256B1 (ko) * | 2002-02-27 | 2010-04-09 | 사스티나부르 . 테크노로지 가부시키가이샤 | 초친수성 광촉매 피막 형성액, 및 그 피막을 구비한구조체, 및 그제조방법 |
EP1491498A1 (en) * | 2002-02-28 | 2004-12-29 | Japan Science and Technology Agency | Titania nanosheet alignment thin film, process for producing the same and article including the titania nanosheet alignment thin film |
AU2003227187A1 (en) * | 2002-03-19 | 2003-09-29 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Thin silica film and silica-titania composite film, and method for preparing them |
EP1495877B1 (en) * | 2002-03-22 | 2007-08-22 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method for regenerating lithographic printing plate |
JP4374869B2 (ja) | 2002-05-27 | 2009-12-02 | 住友化学株式会社 | セラミックス分散液の製造方法 |
JP2005535544A (ja) * | 2002-05-29 | 2005-11-24 | エアルス アクツィエンゲセルシャフト | 光触媒コーティングを有するセラミック成形物体およびそれを製造するための方法 |
CN1301795C (zh) * | 2002-06-03 | 2007-02-28 | 旭化成株式会社 | 光催化剂组合物 |
DE10224895A1 (de) | 2002-06-04 | 2003-12-18 | Roehm Gmbh | Selbstreinigender Kunststoffkörper und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP4307017B2 (ja) * | 2002-06-13 | 2009-08-05 | 大日本印刷株式会社 | 基板の洗浄方法 |
CZ20022108A3 (en) * | 2002-06-17 | 2004-04-14 | U.S. Spa Spol. S R. O. | Bath and/or relaxation vessel |
JP2004026553A (ja) | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | 酸化チタン分散液およびその保存容器 |
CN1156336C (zh) * | 2002-07-12 | 2004-07-07 | 清华大学 | 柔性基底材料表面负载二氧化钛薄膜光催化剂的制备方法 |
FI116389B (fi) * | 2002-07-16 | 2005-11-15 | Millidyne Oy | Menetelmä pinnan ominaisuuksien säätämiseksi |
EP1527028B1 (en) | 2002-07-31 | 2018-09-12 | Cardinal CG Company | Temperable high shading performance coatings |
US6902397B2 (en) * | 2002-08-01 | 2005-06-07 | Sunstar Americas, Inc. | Enhanced dental hygiene system with direct UVA photoexcitation |
JP4122891B2 (ja) * | 2002-08-09 | 2008-07-23 | 宇部興産株式会社 | 傾斜組成を有するセラミックス薄膜被覆材料及びその製造方法 |
DE10237226A1 (de) * | 2002-08-14 | 2004-03-04 | Airbus Deutschland Gmbh | Frischwassersystem eines Verkehrsflugzeuges |
DE10239071A1 (de) * | 2002-08-26 | 2004-03-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Oberflächen, auf denen Flüssigkeiten nicht haften |
KR20020077852A (ko) * | 2002-08-30 | 2002-10-14 | 주식회사 새롬원 | 김서림방지용 유리판 |
ATE370835T1 (de) | 2002-09-05 | 2007-09-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer |
JP2005538921A (ja) * | 2002-09-17 | 2005-12-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ポーラスな界面活性剤媒介金属酸化物フィルム |
CN1304493C (zh) * | 2002-09-20 | 2007-03-14 | 中国科学院化学研究所 | 紫外和/或可见光活性自清洁的杂氮二氧化钛纳米涂层及其制法 |
JP4269621B2 (ja) * | 2002-10-04 | 2009-05-27 | 住友化学株式会社 | 酸化チタンの製造方法 |
JP4415069B2 (ja) * | 2002-11-05 | 2010-02-17 | 利男 川上 | 光触媒の転動成形方法およびこの方法によって製造された光触媒 |
EP1561144B1 (en) | 2002-11-05 | 2015-09-23 | Magna Mirrors of America, Inc. | Electro-optic reflective element assembly |
US7521039B2 (en) * | 2002-11-08 | 2009-04-21 | Millennium Inorganic Chemicals, Inc. | Photocatalytic rutile titanium dioxide |
US7965336B2 (en) | 2002-11-14 | 2011-06-21 | Donnelly Corporation | Imaging system for vehicle |
US20040149307A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-08-05 | Klaus Hartig | Reversible self-cleaning window assemblies and methods of use thereof |
JP2004196626A (ja) | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Sumitomo Chem Co Ltd | 酸化チタンの製造方法 |
US6811884B2 (en) * | 2002-12-24 | 2004-11-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Water repellant surface treatment and treated articles |
US20060165934A1 (en) * | 2002-12-26 | 2006-07-27 | Tohcello Co., Ltd. | Antifouling material using hydroxyl group-containing acrylamide derivative and use thereof |
DE60334407D1 (de) * | 2002-12-31 | 2010-11-11 | Cardinal Cg Co | Beschichtungsgerät mit einem reinigungsgerät für substrat und beschichtungsverfahren, das ein solches beschichtungsgerät benutzt |
TW200420499A (en) * | 2003-01-31 | 2004-10-16 | Sumitomo Chemical Co | A method for producing titanium oxide |
US20030138661A1 (en) * | 2003-02-19 | 2003-07-24 | Ferro Corporation | Sol-gel composition and method of making same |
DE10311907B4 (de) * | 2003-03-17 | 2006-11-02 | Schollglas Holding- und Geschäftsführungsgesellschaft mbH | Duschkabine mit gemauerten und/oder transparenten Duschtrennwänden |
JP2004319800A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Canon Inc | 太陽電池モジュール |
JP4423492B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2010-03-03 | 東レフィルム加工株式会社 | パラジウムフィルムの製造方法 |
JP2004339021A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Murakami Corp | 微弱紫外光下で高度な光触媒活性を示す酸化チタン薄膜 |
JP4361343B2 (ja) * | 2003-10-03 | 2009-11-11 | ダイキン工業株式会社 | 対水接触角の制御方法 |
WO2005032707A1 (ja) | 2003-10-03 | 2005-04-14 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | 流体の制御方法 |
US20050286132A1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-12-29 | Tonar William L | Electrochromic device having a self-cleaning hydrophilic coating with a controlled surface morphology |
EP1689525B1 (en) | 2003-10-30 | 2009-03-18 | Showa Denko K.K. | Transparent film-forming composition |
JP2007510184A (ja) * | 2003-10-30 | 2007-04-19 | ジェンテックス コーポレイション | 耐酸下層を有する自浄親水性塗膜を有するエレクトロクロミックデバイス |
WO2005063646A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
FR2864844B1 (fr) * | 2004-01-07 | 2015-01-16 | Saint Gobain | Dispositif d'eclairage autonettoyant |
US20050164876A1 (en) * | 2004-01-28 | 2005-07-28 | The Hong Hong Polytechnic University, A University Of Hong Kong | Photocatalyst and methods of making such |
JP2005281368A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Hideo Konuki | 粉体の結着方法、粉体の結着装置、粉体結着体、光拡散板の製造方法、光拡散板の製造装置、光拡散板、光触媒体の製造方法、光触媒体の製造装置、及び光触媒体 |
FR2868792B1 (fr) * | 2004-04-13 | 2006-05-26 | Saint Gobain | Substrat photocatalytique actif sous lumiere visible |
WO2005103172A2 (en) * | 2004-04-15 | 2005-11-03 | Avery Dennison Corporation | Dew resistant coatings |
EP1740660B1 (en) * | 2004-04-26 | 2011-12-21 | Showa Denko K.K. | Coating material and use thereof |
TWI285566B (en) * | 2004-05-06 | 2007-08-21 | Sustainable Titania Technology | Method for protecting substrate |
US7354624B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings and related methods |
US7354650B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings with an inorganic oxide network containing layer and methods for their application |
US7959980B2 (en) * | 2004-05-28 | 2011-06-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydrophilic compositions, methods for their production, and substrates coated with such compositions |
DE102004027842A1 (de) * | 2004-06-08 | 2006-01-12 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat |
JP4576526B2 (ja) * | 2004-07-07 | 2010-11-10 | 国立大学法人京都大学 | 紫外及び可視光応答性チタニア系光触媒 |
US7713632B2 (en) | 2004-07-12 | 2010-05-11 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
JP4662122B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2011-03-30 | 財団法人電力中央研究所 | 超親水性薄膜及びその形成方法 |
JP4805156B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-11-02 | 日揮触媒化成株式会社 | チタニウム含有シリカゾルおよびその製造方法、防汚被膜およびインク受容層付基材、ならびに記録用基材の再生方法 |
EP1797017B1 (en) * | 2004-10-04 | 2010-11-24 | Cardinal CG Company | Thin film coating and temporary protection technology, insulating glazing units, and associated methods |
US20060096614A1 (en) * | 2004-11-08 | 2006-05-11 | Krisko Annette J | Surface treating methods, compositions and articles |
WO2006080968A2 (en) * | 2004-11-15 | 2006-08-03 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing coatings having sequenced structures |
US7923114B2 (en) * | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
US8092660B2 (en) * | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
JP3965480B2 (ja) * | 2004-12-16 | 2007-08-29 | Toto株式会社 | 複合材、コーティング液および複合材の製造方法 |
JP2006194639A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Denso Corp | レーダ装置 |
CN101120055B (zh) * | 2005-02-18 | 2014-07-23 | 日本曹达株式会社 | 有机无机复合体 |
JP4541929B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2010-09-08 | 財団法人電力中央研究所 | 飛行体 |
JP4707051B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2011-06-22 | 財団法人電力中央研究所 | 船舶 |
US7438948B2 (en) * | 2005-03-21 | 2008-10-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for coating a substrate with an undercoating and a functional coating |
DE102005057747A1 (de) * | 2005-04-06 | 2006-10-12 | Sto Ag | Beschichtungszusammensetzung (II) |
US20060238870A1 (en) * | 2005-04-26 | 2006-10-26 | Brian Sneek | Gauge lens with embedded anti-fog film and method of making the same |
TR200502005A2 (tr) * | 2005-05-27 | 2006-12-21 | Dyo Boya Fabr�Kalari Sanay� Ve T�Caret Anon�M ��Rket� | Bir boya ve üretim yöntemi |
US7358218B2 (en) | 2005-06-03 | 2008-04-15 | Research Foundation Of The University Of Central Florida, Inc. | Method for masking and removing stains from rugged solid surfaces |
WO2006136058A1 (fr) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Kuo, Ming Cheng | Fibre revêtue d'un photocatalyseur munie de films protecteurs et procédé pour la fabriquer |
EP1905512B1 (en) | 2005-07-15 | 2015-11-04 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | Method for producing photocatalytic material |
US8344238B2 (en) * | 2005-07-19 | 2013-01-01 | Solyndra Llc | Self-cleaning protective coatings for use with photovoltaic cells |
US7342716B2 (en) | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
FR2892408B1 (fr) * | 2005-10-21 | 2008-01-11 | Saint Gobain | Utilisation d'un substrat anti-salissures |
CN101816008A (zh) * | 2005-10-28 | 2010-08-25 | 马格纳电子系统公司 | 用于车辆视觉系统的摄像机模块 |
JP4886271B2 (ja) | 2005-10-31 | 2012-02-29 | 株式会社東芝 | 蒸気タービンおよびその親水性コーティング材料 |
US8087377B2 (en) * | 2005-11-04 | 2012-01-03 | Tokuyama Corporation | Coating apparatus |
GR1005283B (el) * | 2005-11-09 | 2006-09-12 | Ιωαννης Αραμπατζης | Αυτοκαθαριζομενα, αυτοαποστειρουμενα, και αντιθαμβωτικα υμενια απο λυματα διοξειδιου του τιτανιου, παρασκευασμενα απο φυσικα, υδατοδιαλυτα πολυμερη δεξτρινης |
WO2007058373A1 (en) * | 2005-11-16 | 2007-05-24 | Fujifilm Corporation | Surface-hydrophilic structure |
JP5094081B2 (ja) * | 2005-11-17 | 2012-12-12 | 富士フイルム株式会社 | 親水性部材及びその製造方法 |
US8097340B2 (en) * | 2006-02-08 | 2012-01-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates having undercoating layers that exhibit improved photocatalytic activity |
GB0602933D0 (en) | 2006-02-14 | 2006-03-22 | Pilkington Automotive Ltd | Vehicle glazing |
CN101384680B (zh) * | 2006-02-20 | 2012-05-30 | 多摩化学工业株式会社 | 均匀分散性光催化涂覆液及其制造方法、以及使用它而得到的光催化活性复合材料 |
US20070195260A1 (en) * | 2006-02-22 | 2007-08-23 | Microban Products Company | Antimicrobial spectacle |
DE102006008784A1 (de) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Rodenstock Gmbh | Kratzfeste entspiegelte Oberfläche mit Antifog-Eigenschaften |
EP1829991A1 (fr) * | 2006-03-02 | 2007-09-05 | UGINE & ALZ FRANCE | Tôle en acier inoxydable revêtue par un revêtement auto-nettoyant |
US7922950B2 (en) * | 2006-03-14 | 2011-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Monolithic building element with photocatalytic material |
JP2007244971A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Ulvac Japan Ltd | 防汚膜、基体構造体及び基体構造体の作製方法 |
DE102006011848A1 (de) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Bayerische Motoren Werke Ag | Selbstreinigende Oberfläche |
JP5129975B2 (ja) | 2006-04-11 | 2013-01-30 | 日本板硝子株式会社 | 向上した低保守特性を有する光触媒コーティング |
US7989094B2 (en) | 2006-04-19 | 2011-08-02 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
JP5377820B2 (ja) * | 2006-06-14 | 2013-12-25 | 日本曹達株式会社 | 機能性物質含有有機無機複合体 |
US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
EP2059271A2 (en) * | 2006-08-10 | 2009-05-20 | Medtronic, Inc. | Devices with photocatalytic surfaces and uses thereof |
US8012591B2 (en) | 2006-09-21 | 2011-09-06 | Fujifilm Corporation | Hydrophilic composition and hydrophilic member |
US20080097018A1 (en) | 2006-10-18 | 2008-04-24 | John Stratton | Depolluting coating composition |
US20080102286A1 (en) * | 2006-10-30 | 2008-05-01 | Makoto Fukuda | Hydrophilic member and substrate for hydrophilic member |
CA2668700C (en) * | 2006-11-09 | 2015-10-13 | Akzo Nobel N.V. | Pigment dispersion |
JP4876123B2 (ja) * | 2006-12-11 | 2012-02-15 | 国立大学法人三重大学 | イオン電極用応答ガラス膜の製造方法、イオン電極用応答ガラス膜及びイオン電極 |
JP5064817B2 (ja) * | 2007-01-30 | 2012-10-31 | トヨタ自動車株式会社 | 自動車用ホイールの汚染防止方法および自動車用ホイール |
US20080187457A1 (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-07 | Mangiardi John R | Antibacterial Titanium Dioxide Compositions |
WO2008096456A1 (ja) | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Central Japan Railway Company | 光触媒薄膜、光触媒薄膜の形成方法及び光触媒薄膜被覆製品 |
JP5201930B2 (ja) | 2007-02-16 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 親水性部材及びその製造方法 |
US7659226B2 (en) | 2007-02-26 | 2010-02-09 | Envont Llc | Process for making photocatalytic materials |
JP5134835B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2013-01-30 | 勝之 中野 | 分解方法 |
US7857905B2 (en) * | 2007-03-05 | 2010-12-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Flexible thermal cure silicone hardcoats |
EP1970196A3 (en) * | 2007-03-13 | 2010-01-27 | FUJIFILM Corporation | Hydrophilic member and process for producing the same |
US7453412B2 (en) | 2007-03-26 | 2008-11-18 | Motorola, Inc. | Nanostructured, magnetic tunable antennas for communication devices |
US7919425B2 (en) * | 2008-03-26 | 2011-04-05 | Toto Ltd. | Photocatalyst-coated body and photocatalytic coating liquid for the same |
JP4092714B1 (ja) * | 2007-03-26 | 2008-05-28 | Toto株式会社 | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 |
JP2008238711A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 親水性部材及び下塗り組成物 |
US7729106B2 (en) | 2007-03-29 | 2010-06-01 | Motorola, Inc. | Smudge removal from electronic device displays |
US8017247B2 (en) | 2007-03-30 | 2011-09-13 | Alcoa Inc. | Self cleaning aluminum alloy substrates |
US20090014048A1 (en) * | 2007-04-26 | 2009-01-15 | Beranek Gerald D | Solar collector with hydrophilic photocatalytic coated protective pane |
US20080264411A1 (en) * | 2007-04-26 | 2008-10-30 | Beranek Gerald D | Solar Collector with Hydrophilic Photocatalytic Coated Protective Pane |
US20090029179A1 (en) * | 2007-05-14 | 2009-01-29 | Fujifilm Corporation | Two-liquid composition, hydrophilic composition and hydrophilic member |
JP5337394B2 (ja) | 2007-05-15 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 親水性コーティング組成物及びこれを用いた親水性部材 |
WO2008147971A2 (en) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Certainteed Corporation | Photocatalytic roofing granules, photocatayltic roofing products, and process for preparing same |
WO2008147972A2 (en) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Certainteed Corporation | Roofing granules with high solar reflectance, roofing products with high solar reflectance, and processes for preparing same |
JP4658093B2 (ja) | 2007-06-21 | 2011-03-23 | 株式会社トレードサービス | 水性無機コート剤及びその水溶液 |
JP4880755B2 (ja) * | 2007-07-03 | 2012-02-22 | 日本曹達株式会社 | ハードコート層を形成するための成形用シート |
RU2492056C2 (ru) * | 2007-08-22 | 2013-09-10 | Ренолит Аг | Пленка с фотокаталитически активной поверхностью |
KR20090025602A (ko) * | 2007-09-06 | 2009-03-11 | (주)유브이테크인터내셔날 | 자외선을 이용한 기능성 광촉매 안경 |
JP5469837B2 (ja) | 2007-09-12 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 親水性組成物 |
EP2066594B1 (en) | 2007-09-14 | 2016-12-07 | Cardinal CG Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
JP2009256564A (ja) | 2007-09-26 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | 親水性膜形成用組成物および親水性部材 |
JP5511159B2 (ja) | 2007-10-16 | 2014-06-04 | 宇部エクシモ株式会社 | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法 |
MX2010004294A (es) * | 2007-10-19 | 2010-09-30 | Biointraface Inc | Composiciones novedosas y metodos, recubrimientos y articulos relacionados. |
JP5145023B2 (ja) * | 2007-12-19 | 2013-02-13 | 住友軽金属工業株式会社 | 熱交換器用フィン材、及びその製造方法 |
US20090162560A1 (en) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Envont L.L.C. | Hybrid vehicle systems |
US20090163647A1 (en) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Envont Llc | Hybrid metal oxides |
US20090163656A1 (en) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Envont Llc | Hybrid vehicle systems |
US20090181256A1 (en) * | 2008-01-14 | 2009-07-16 | Guardian Industries Corp. | Methods of making silica-titania coatings, and products containing the same |
EP2247548A1 (en) * | 2008-01-24 | 2010-11-10 | Basf Se | Superhydrophilic coating compositions and their preparation |
JP5124496B2 (ja) * | 2008-02-01 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 親水性部材 |
GB0802927D0 (en) * | 2008-02-18 | 2008-03-26 | Robert Gordon The University | Coating process and coated products |
CA2714597A1 (en) * | 2008-02-19 | 2009-08-27 | Tee Group Films, Inc. | Roofing underlayment |
EP2253590A4 (en) | 2008-02-25 | 2011-08-10 | Central Glass Co Ltd | ORGANOSOL CONTAINING MAGNESIUM FLUORIDE HYDROXIDE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
JP2009244388A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujinon Corp | レンズ組立体および撮像装置 |
DE102008026988A1 (de) * | 2008-06-05 | 2009-12-10 | Fachhochschule Kiel | Hydrophobe Beschichtung |
US7846866B2 (en) * | 2008-09-09 | 2010-12-07 | Guardian Industries Corp. | Porous titanium dioxide coatings and methods of forming porous titanium dioxide coatings having improved photocatalytic activity |
US8647652B2 (en) * | 2008-09-09 | 2014-02-11 | Guardian Industries Corp. | Stable silver colloids and silica-coated silver colloids, and methods of preparing stable silver colloids and silica-coated silver colloids |
US20100062032A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Guardian Industries Corp. | Doped Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Doped Titanium Dioxide Coatings |
US20100062966A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Novipella, Inc. | Self-cleaning thin-film forming compositions |
US20100062265A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Guardian Industries Corp. | Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Titanium Dioxide Coatings Having Reduced Crystallite Size |
US10188103B2 (en) | 2008-09-15 | 2019-01-29 | The Boeing Company | Antimicrobial coating fabrication method and structure |
US10537915B2 (en) | 2008-09-15 | 2020-01-21 | The Boeing Company | Contaminant resistant coating fabrication structure and method |
US8482664B2 (en) | 2008-10-16 | 2013-07-09 | Magna Electronics Inc. | Compact camera and cable system for vehicular applications |
US8545899B2 (en) * | 2008-11-03 | 2013-10-01 | Guardian Industries Corp. | Titanium dioxide coatings having roughened surfaces and methods of forming titanium dioxide coatings having roughened surfaces |
CN102301495B (zh) * | 2009-02-04 | 2014-03-19 | 英派尔科技开发有限公司 | 可变聚光透镜装置和太阳能电池装置 |
JP5570007B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2014-08-13 | 日本曹達株式会社 | 有機無機複合体 |
EP2394426A4 (en) | 2009-02-06 | 2013-02-20 | Magna Electronics Inc | IMPROVED CAMERA FOR A VEHICLE |
DE102009014602B3 (de) * | 2009-03-24 | 2010-04-29 | Dyckerhoff Ag | Verfahren zur photokatalytischen Aktivierung von Bauteiloberflächen sowie nach dem Verfahren hergestelltes Bauteil |
EP2411856B1 (en) | 2009-03-25 | 2018-08-01 | Magna Electronics Inc. | Vehicular camera and lens assembly |
CH700763A2 (de) * | 2009-04-01 | 2010-10-15 | Alcan Tech & Man Ltd | Reflektor. |
EP2436436A4 (en) * | 2009-05-29 | 2012-10-10 | Sustainable Titania Technology Inc | METHOD FOR GAS REMOVAL OR DETOXIFICATION |
FI20095616L (fi) * | 2009-06-02 | 2010-12-03 | Pomatec Oy | Menetelmä huokoisen tuotteen prosessoimiseksi ja huokoinen tuote |
JP5441508B2 (ja) * | 2009-06-16 | 2014-03-12 | 株式会社Uacj | 内外装用アルミニウム材料、及びその製造方法 |
KR101103264B1 (ko) * | 2009-07-29 | 2012-01-11 | 한국기계연구원 | 기능성 표면의 제조방법 |
JP5428621B2 (ja) * | 2009-07-30 | 2014-02-26 | Toto株式会社 | 光触媒塗装体、および光触媒コーティング液 |
KR20120091081A (ko) | 2009-09-15 | 2012-08-17 | 바스프 에스이 | 하이브리드 네트워크 중 항균제를 함유하는 수성 분산액 |
US20110076450A1 (en) * | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Sharma Pramod K | Titanium dioxide coatings and methods of forming improved titanium dioxide coatings |
ES2335262B1 (es) | 2009-11-20 | 2010-12-22 | Ceracasa, S.A | Composicion de esmalte ceramico. |
JP2011136325A (ja) | 2009-12-01 | 2011-07-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 貴金属担持光触媒体粒子分散液の製造方法、貴金属担持光触媒体粒子分散液、親水化剤及び光触媒機能製品 |
EP2508257A4 (en) | 2009-12-01 | 2013-11-06 | Sumitomo Chemical Co | VIRUIDE AND FUNCTIONAL VIRCIDATE PRODUCT THEREWITH |
JP5393583B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2014-01-22 | 櫻護謨株式会社 | 消防用ホース |
EP2581352A4 (en) * | 2010-06-11 | 2014-12-10 | Asahi Glass Co Ltd | METHOD FOR PRODUCING A GLASS SUBSTRATE WITH A SILICON OXIDE FILM WITH INORGANIC MICROPARTICLES |
DE102010024698A1 (de) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | Eads Deutschland Gmbh | Verfahren, Vorrichtung und Anordnung zur Entfernung organischer Verschmutzung von Anströmbereichen eines Luftfahrzeugs |
US9272949B2 (en) | 2010-07-09 | 2016-03-01 | Guardian Industries Corp. | Coated glass substrate with heat treatable ultraviolet blocking characteristics |
EP2599546A4 (en) | 2010-07-29 | 2014-04-23 | Toto Ltd | PHOTOCATALYTIC LAYER COMPRISING AN INORGANIC MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND PHOTOCATALYTIC COATING LIQUID FOR INORGANIC MATERIAL |
CN102061111B (zh) * | 2010-10-27 | 2013-12-25 | 中山市旌旗纳米材料科技有限公司 | 自清洁陶瓷化纳米玻璃减反射涂料制造方法及其减反射膜制造方法 |
CN102080313B (zh) * | 2010-12-08 | 2012-09-05 | 中原工学院 | 一种适合纳米后整理的流水线式服装喷雾后处理装置 |
US10350647B2 (en) | 2011-03-10 | 2019-07-16 | Dlhbowles, Inc. | Integrated automotive system, nozzle assembly and remote control method for cleaning an image sensor's exterior or objective lens surface |
EP2858755B1 (en) | 2011-03-10 | 2017-09-20 | dlhBowles Inc. | Integrated automotive system, nozzle assembly and remote control method for cleaning an image sensor's lens |
WO2012145501A1 (en) | 2011-04-20 | 2012-10-26 | Magna Electronics Inc. | Angular filter for vehicle mounted camera |
US8518495B1 (en) | 2011-06-13 | 2013-08-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Superhydrophilic coatings for improved sonobuoy performance |
US8567133B2 (en) * | 2011-07-05 | 2013-10-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Photocatalytic panel and system for recovering output products thereof |
US9871971B2 (en) | 2011-08-02 | 2018-01-16 | Magma Electronics Inc. | Vehicle vision system with light baffling system |
US9596387B2 (en) | 2011-08-02 | 2017-03-14 | Magna Electronics Inc. | Vehicular camera system |
CN102382490A (zh) * | 2011-08-30 | 2012-03-21 | 西北永新集团有限公司 | 具有光催化活性的亲水性自清洁涂料的制备及应用 |
CN102380230B (zh) * | 2011-09-05 | 2013-07-24 | 北京航空航天大学 | 一种基于微纳米分级结构网膜的光控油水分离器件及其应用方法 |
CN103030214A (zh) | 2011-09-29 | 2013-04-10 | Toto株式会社 | 抑制水垢生成的用水处器具 |
EP2791256B1 (en) | 2011-12-15 | 2017-06-07 | 3M Innovative Properties Company | Anti-fog coating comprising aqueous polymeric dispersion, an aziridine crosslinker and a surfactant |
CN104080861B (zh) | 2011-12-15 | 2017-06-06 | 3M创新有限公司 | 包含水性聚合物分散体、交联剂和聚环氧烷的酸或盐的防雾涂料 |
CN102603208B (zh) * | 2012-03-16 | 2015-04-22 | 惠州市长润发涂料有限公司 | 一种自清洁玻璃的制作方法 |
US9859038B2 (en) | 2012-08-10 | 2018-01-02 | General Cable Technologies Corporation | Surface modified overhead conductor |
US20140045677A1 (en) * | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Empire Technology Development Llc | Inorganic hydrophilic self-cleaning coatings |
CN102862515B (zh) * | 2012-09-07 | 2015-09-09 | 俞钟晓 | 一种汽车后视镜雨滴分散器 |
JP5865237B2 (ja) * | 2012-11-21 | 2016-02-17 | 株式会社村上開明堂 | 親水性部材およびその製造方法 |
JP2014177743A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-09-25 | Toto Ltd | トイレ装置 |
US10957468B2 (en) | 2013-02-26 | 2021-03-23 | General Cable Technologies Corporation | Coated overhead conductors and methods |
JP6096536B2 (ja) * | 2013-03-07 | 2017-03-15 | 宇部エクシモ株式会社 | 光触媒複合粒子及びその製造方法 |
US20140256540A1 (en) * | 2013-03-08 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corporation | High surface area photocatalyst material and method of manufacture |
JP6391943B2 (ja) | 2013-03-12 | 2018-09-19 | 東芝ライフスタイル株式会社 | 冷蔵庫、カメラ装置、庫内画像表示プログラム |
JP6411753B2 (ja) * | 2013-03-12 | 2018-10-24 | 東芝ライフスタイル株式会社 | 冷蔵庫、及びカメラ装置 |
JP6498866B2 (ja) | 2013-03-12 | 2019-04-10 | 東芝ライフスタイル株式会社 | 冷蔵庫、カメラ装置 |
JP6118154B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-04-19 | パナホーム株式会社 | 光触媒体 |
JP6232061B2 (ja) * | 2013-06-12 | 2017-11-15 | 東洋ゴム工業株式会社 | 酸性ガス含有ガス処理用分離膜、及び酸性ガス含有ガス処理用分離膜の製造方法 |
CN103466960A (zh) * | 2013-08-27 | 2013-12-25 | 天津儒创新材料科技有限公司 | 一种光诱导自清洁玻璃的制备方法 |
EP2845773B1 (en) | 2013-09-10 | 2021-09-08 | dlhBowles Inc. | Integrated automotive system, pop-up nozzle assembly and remote control method for cleaning a wide-angle image sensor's exterior surface |
CN103451934B (zh) * | 2013-09-11 | 2015-06-17 | 南通金仕达超微阻燃材料有限公司 | 功能强化的自清洁材料及其制造方法 |
US9451138B2 (en) | 2013-11-07 | 2016-09-20 | Magna Electronics Inc. | Camera for vehicle vision system |
CN103710956B (zh) * | 2013-12-24 | 2015-08-12 | 东华大学 | 一种纤维织物专用光固化空气净化整理剂的制备方法 |
CN103710955B (zh) * | 2013-12-24 | 2015-11-18 | 东华大学 | 一种纤维织物专用光固化钛基空气净化整理剂的制备方法 |
WO2015105986A1 (en) | 2014-01-08 | 2015-07-16 | General Cable Technologies Corporation | Self-cleaning cable assemblies |
JP6487708B2 (ja) * | 2014-02-24 | 2019-03-20 | Toto株式会社 | 塗料組成物および塗装体 |
US9749509B2 (en) | 2014-03-13 | 2017-08-29 | Magna Electronics Inc. | Camera with lens for vehicle vision system |
DE102014205660B4 (de) * | 2014-03-26 | 2020-02-13 | Bundesrepublik Deutschland, vertr. durch das Bundesministerium für Wirtschaft und Energie, dieses vertreten durch den Präsidenten der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt | Prüfkörper zur Kalibrierung eines Raman-Mikroskops |
WO2015148312A1 (en) | 2014-03-27 | 2015-10-01 | Innosense, Llc | Hydrophilic anti-fog coatings |
JP6092145B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 抗菌層付き基材、抗菌シート、放射線撮影装置、タッチパネル |
EP3131797B1 (en) | 2014-04-11 | 2019-06-12 | dlhBowles Inc. | Integrated automotive system, compact, low-profile nozzle assembly and compact fluidic circuit for cleaning a wide-angle image sensor's exterior surface |
JP6645984B2 (ja) | 2014-04-16 | 2020-02-14 | ディエルエイチ・ボウルズ・インコーポレイテッドdlhBOWLES Inc. | 画像センサの支持部及びレンズの統合的洗浄アセンブリ |
CN103934756B (zh) * | 2014-04-20 | 2016-10-05 | 杭州道盈信息科技有限公司 | 防眩光玻璃的制作工艺 |
CN104086092B (zh) * | 2014-06-30 | 2016-06-22 | 华南理工大学 | 一种超亲水性自洁净防雾复合薄膜及其制备方法与应用 |
US9638394B2 (en) | 2014-07-31 | 2017-05-02 | GE Lighting Solutions, LLC | Light emitting diode (LED) lighting system with antimicrobial/air cleaning functions from highly specular multilayer thin film reflector |
KR101905225B1 (ko) | 2014-08-06 | 2018-10-08 | (주)엘지하우시스 | 광촉매 기능성 필름 및 이의 제조방법 |
KR101942261B1 (ko) * | 2014-09-24 | 2019-01-28 | (주)엘지하우시스 | 가시광 활성 광촉매 타일 |
CN104232357B (zh) * | 2014-09-30 | 2018-06-15 | 安徽大泽生物肥料科技有限公司 | 一种厨房清洁剂及其制备方法 |
DE102014220798A1 (de) | 2014-10-14 | 2016-04-14 | Scheuten S.À.R.L. | Hydrophil beschichtetes Isolierglas für Gewächshäuser |
JP6284083B2 (ja) * | 2014-12-11 | 2018-02-28 | 太陽工業株式会社 | 光触媒担持シートおよびその製造方法 |
JP2018077260A (ja) * | 2015-03-19 | 2018-05-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 親水レンズ |
CN104744715B (zh) * | 2015-04-03 | 2017-04-19 | 宁波工程学院 | 一种制备亲水性尼龙膜的方法 |
EP3090990A1 (en) * | 2015-05-04 | 2016-11-09 | Rioglass Solar, S.A. | Coated glass for solar reflectors |
CN105174739B (zh) * | 2015-05-22 | 2021-04-09 | 信义节能玻璃(四川)有限公司 | 具有抗菌防指纹增透三重功效的玻璃及其制备方法 |
CN104944796A (zh) * | 2015-06-30 | 2015-09-30 | 同济大学 | 一种高透光自清洁彩色二氧化硅涂层的制备方法 |
BR112018001195B1 (pt) | 2015-07-21 | 2022-08-09 | General Cable Technologies Corp | Acessórios elétricos para sistemas de transmissão de potência e métodos para preparar tais acessórios elétricos |
JP6656848B2 (ja) * | 2015-08-31 | 2020-03-04 | 株式会社日本マイクロニクス | 酸化物半導体二次電池の製造方法 |
CN108348065B (zh) * | 2015-09-07 | 2021-05-04 | 宜家供应有限公司 | 可延伸桌 |
RU2708257C2 (ru) | 2015-09-07 | 2019-12-05 | Икея Сапплай Аг | Система скольжения раздвижного экрана |
CN108135356B (zh) | 2015-09-07 | 2021-01-08 | 宜家供应有限公司 | 抽屉和用于这种抽屉的抽屉滑动系统 |
CN106518169B (zh) * | 2015-09-15 | 2019-07-05 | Toto株式会社 | 具有光催化剂层的卫生陶器 |
JP6750348B2 (ja) | 2015-09-15 | 2020-09-02 | Toto株式会社 | 光触媒層を有する衛生陶器 |
CN105177503B (zh) * | 2015-09-19 | 2018-04-27 | 苏州柯利达集团有限公司 | 一种用于改善狭缝式涂布模具表面润湿性能的镀膜方法 |
CN108463745B (zh) | 2015-09-29 | 2019-12-06 | 富士胶片株式会社 | 亲水性多层膜及其制造方法和摄像系统 |
US10668259B2 (en) | 2015-10-21 | 2020-06-02 | Materials Science Associates, LLC | Metal oxide and polymer controlled delivery systems, sunscreens, treatments, and topical coating applicators |
US10230875B2 (en) | 2016-04-14 | 2019-03-12 | Magna Electronics Inc. | Camera for vehicle vision system |
US10560613B2 (en) | 2015-11-05 | 2020-02-11 | Magna Electronics Inc. | Vehicle camera with modular construction |
US10351072B2 (en) | 2015-11-05 | 2019-07-16 | Magna Electronics Inc. | Vehicle camera with modular construction |
US10250004B2 (en) | 2015-11-05 | 2019-04-02 | Magna Electronics Inc. | Method of forming a connector for an electrical cable for electrically connecting to a camera of a vehicle |
WO2017100118A1 (en) | 2015-12-11 | 2017-06-15 | Cardinal Cg Company | Method of coating both sides of a substrate |
JP6137716B1 (ja) * | 2016-01-22 | 2017-05-31 | ダイニック株式会社 | 抗ウイルス性壁紙 |
EP3205399A1 (en) * | 2016-02-10 | 2017-08-16 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method for grafting polysiloxanes on surfaces of photocatalytic metal oxides, polysiloxane-grafted metal oxide surfaces and applications thereof |
US10142532B2 (en) | 2016-04-08 | 2018-11-27 | Magna Electronics Inc. | Camera for vehicle vision system |
KR101930709B1 (ko) * | 2016-06-13 | 2018-12-20 | (주)엘지하우시스 | 광촉매 기능성 필터 |
JP6964344B2 (ja) | 2016-07-08 | 2021-11-10 | 国立大学法人 東京大学 | 表面処理剤、表面処理方法、表面処理基材、及び表面処理基材の製造方法 |
US10898600B2 (en) | 2016-08-10 | 2021-01-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Disinfecting method and disinfecting apparatus |
US10237456B2 (en) | 2016-08-22 | 2019-03-19 | Magna Electronics Inc. | Vehicle camera assembly process |
WO2018093985A1 (en) | 2016-11-17 | 2018-05-24 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
JP6856929B2 (ja) * | 2017-02-01 | 2021-04-14 | 株式会社オプトジャパン | 構造物表面の保護層形成方法 |
SE540465C2 (en) | 2017-03-03 | 2018-09-18 | Ikea Supply Ag | Furniture lubricant comprising a C10 to C28 alkane and a triglyceride |
SE540785C2 (en) | 2017-03-03 | 2018-11-13 | Ikea Supply Ag | A furniture rotary system having reduced friction, and a piece of furniture comprising such system |
JP6714530B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2020-06-24 | 旭化成株式会社 | 光触媒組成物、光触媒塗膜及び光触媒塗装製品 |
US11040731B2 (en) * | 2017-04-29 | 2021-06-22 | Universal Studios LLC | Passenger restraint with integrated lighting |
CN108931087A (zh) * | 2017-05-26 | 2018-12-04 | 博西华电器(江苏)有限公司 | 一种制冷器具 |
DE112018002852T5 (de) | 2017-06-05 | 2020-02-27 | Dlhbowles, Inc. | Kompakte Fluiddüse mit geringer Durchflussrate für Sprüh- und Reinigungsanwendungen mit einer umgekehrten Pilzeinsatzgeometrie |
US11396605B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-07-26 | Lg Electronics Inc. | Heat exchanger |
EP3431455A1 (fr) | 2017-07-20 | 2019-01-23 | AGC Glass Europe | Verre à entretien facilité |
EP3431456A1 (fr) | 2017-07-20 | 2019-01-23 | AGC Glass Europe | Verre anti-condensation à entretien facilité |
CN107650479A (zh) * | 2017-08-25 | 2018-02-02 | 浙江西大门新材料股份有限公司 | 一种抗紫外隔热窗帘及其制备方法 |
CN107537320A (zh) * | 2017-08-25 | 2018-01-05 | 杭州高瓴环境科技有限公司 | 一种复合膜及其制备方法 |
US11709155B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes |
US11709156B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved analytical analysis |
JP2019070247A (ja) * | 2017-10-06 | 2019-05-09 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 窓用フィルム |
RO132438B1 (ro) * | 2017-10-09 | 2020-11-27 | Răzvan Cătălin Bucureşteanu | Compoziţie de vopsea lavabilă biocidă cu proprietăţi fotocatalitice şi metodă fotocatalitică pentru dezinfecţia suprafeţelor interioare |
CN108090263B (zh) * | 2017-12-05 | 2021-08-24 | 国网新疆电力有限公司电力科学研究院 | 输电线脱冰振动缩尺试验气动阻尼的验证方法 |
JP7095986B2 (ja) * | 2017-12-22 | 2022-07-05 | 株式会社シマノ | 両軸受リール |
TWI639466B (zh) * | 2018-02-09 | 2018-11-01 | 燕成祥 | Photocatalyst composition |
CN108844022A (zh) * | 2018-03-24 | 2018-11-20 | 袁静 | 一种智能交通照明灯 |
US10597857B2 (en) * | 2018-03-27 | 2020-03-24 | Toto Ltd. | Toilet device and toilet seat device |
CN108761556B (zh) * | 2018-06-15 | 2019-10-29 | 北京理工大学 | 一种用于探测近岸水面太阳亮带内目标的方法 |
JP7101570B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2022-07-15 | シャープ株式会社 | 光触媒塗料、光触媒塗料の製造方法、及び光触媒体の製造方法 |
RO134047A2 (ro) * | 2018-10-11 | 2020-04-30 | Răzvan Cătălin Bucureşteanu | Compoziţie de glazură ceramică fotocatalitică biocidă, şi metodă fotocatalitică pentru dezinfecţia suprafeţelor produselor ceramice, a obiectelor din porţelan sanitar şi a celor acoperite cu plăci ceramice |
CN109505114A (zh) * | 2018-11-19 | 2019-03-22 | 义乌市梦兹戈服饰有限公司 | 一种高活性纳米抗菌功能面料 |
CN109762377B (zh) * | 2018-12-28 | 2021-02-26 | 山西艾珂灵环境科技有限公司 | 纳米自清洁薄膜的制备方法和灯具 |
JP7499561B2 (ja) | 2018-12-28 | 2024-06-14 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズの製造方法 |
CN109928644A (zh) * | 2019-04-09 | 2019-06-25 | 张家港市国华安全玻璃有限公司 | 一种安全玻璃生产用表面处理方法 |
JP7421281B2 (ja) * | 2019-06-10 | 2024-01-24 | 三井化学株式会社 | 易洗浄の衛生材料または生活用品、および微生物の除去方法 |
CN110273498B (zh) * | 2019-07-01 | 2020-10-27 | 湖州海明机械科技有限公司 | 一种玻璃幕墙 |
IT201900015677A1 (it) | 2019-09-05 | 2021-03-05 | Italcer S P A | Ceramica fotocatalitica |
CN111042469A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-21 | 许望东 | 一种碳热复合建筑装饰板材及制备方法 |
CN110842366A (zh) * | 2019-12-02 | 2020-02-28 | 北京航空航天大学 | 一种制备陶瓷表面超亲水结构的激光加工方法 |
WO2021112116A1 (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 株式会社小糸製作所 | 樹脂成形品、車窓用樹脂成形品、および、樹脂成形品の製造方法 |
EP4082891A4 (en) * | 2019-12-27 | 2024-02-07 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | TRANSPARENT LAMINATE |
CN111139550B (zh) * | 2019-12-30 | 2022-05-03 | 江苏众恒可来比家具有限公司 | 一种床品填充用自清洁聚酯纤维及其制备方法 |
CN111188129B (zh) * | 2020-01-16 | 2023-06-23 | 中国农业科学院农业信息研究所 | 一种乙烯传感器及乙烯敏感薄膜的制备方法 |
US11918936B2 (en) | 2020-01-17 | 2024-03-05 | Waters Technologies Corporation | Performance and dynamic range for oligonucleotide bioanalysis through reduction of non specific binding |
US20230149913A1 (en) * | 2020-03-11 | 2023-05-18 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Greenhouse and glass sheet with coating film |
CN111483740A (zh) * | 2020-03-29 | 2020-08-04 | 国网河北省电力有限公司故城县供电分公司 | 一种电力物资储存管理设备 |
US11476289B2 (en) | 2020-04-07 | 2022-10-18 | Globalfoundries U.S. Inc. | Photodetector with buried airgap reflectors |
CN111437442B (zh) * | 2020-05-08 | 2021-09-21 | 江南大学 | 一种镁基医用植入物表面用可降解电泳涂层的制备方法 |
RU199620U1 (ru) * | 2020-05-19 | 2020-09-09 | Общество с ограниченной ответственностью "Химико-фармацевтические технологии" (ООО "ХимФармТех") | Основание устройства нагружающего для изготовления образцов стоматологического фиксирующего материала |
CN111821506A (zh) * | 2020-06-16 | 2020-10-27 | 温州医科大学附属口腔医院 | 一种锶/银纳米涂层改性的骨仿生钛种植体的制备 |
CN111849263A (zh) * | 2020-07-27 | 2020-10-30 | 三棵树涂料股份有限公司 | 一种高耐候光致超亲水自洁抗污外墙漆及其制备方法 |
CN112291547B (zh) * | 2020-10-29 | 2022-01-04 | 浙江中烟工业有限责任公司 | 一种具备图像识别功能的除杂系统 |
CN112409897A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-02-26 | 江西昌浩实业有限公司 | 一种超亲水被动式自洁涂料及其制备方法和应用 |
CN112709162A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-04-27 | 中铁六局集团北京铁路建设有限公司 | 大跨度薄壁混凝土声屏障浇筑台车 |
CN114752234A (zh) * | 2021-01-08 | 2022-07-15 | 杭州三花研究院有限公司 | 复合材料及其制备方法、换热器及热管理系统 |
EP4053186B1 (en) | 2021-03-01 | 2023-10-25 | Essilor International | Article having a surface displaying antimicrobial and antifog properties |
CN112961520A (zh) * | 2021-04-06 | 2021-06-15 | 广州大学 | 一种耐水长效无机氧化锌超亲水涂料及其制备方法与应用 |
CN113215536B (zh) * | 2021-04-20 | 2022-08-19 | 北方夜视技术股份有限公司 | 一种小晶粒锐钛矿光学薄膜、制备方法及其用途 |
US20220342122A1 (en) * | 2021-04-22 | 2022-10-27 | Tianchen Innovative Materials Technology Co., Ltd | Optical material, optical product, and manufacturing method thereof |
CN113499762B (zh) * | 2021-05-18 | 2022-05-10 | 浙江大学 | 一种简易的蓝/黑色二氧化钛光催化材料的制备方法 |
CN113430891A (zh) * | 2021-06-16 | 2021-09-24 | 江西达美地坪工程有限公司 | 一种发光防滑透水路面的施工方法 |
CN114106609A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-03-01 | 广州大学 | 一种具有抗菌协同防细菌黏附功能的智能表面结构及应用 |
CN114352457B (zh) * | 2021-12-29 | 2022-09-02 | 大连理工大学 | 一种雨滴驱动的旋转运动装置 |
CN115142364A (zh) * | 2022-06-21 | 2022-10-04 | 中铁工程设计咨询集团有限公司 | 一种装配式地铁站台结构及其施工方法 |
CN115626779B (zh) * | 2022-09-27 | 2023-12-05 | 深圳市鸿合创新信息技术有限责任公司 | 防蓝光溶液、耐磨光净化防蓝光玻璃及制备方法和应用 |
CN115895004B (zh) * | 2022-11-10 | 2023-12-08 | 江苏凯伦建材股份有限公司 | 一种自清洁卷材及其制备方法和应用 |
CN116023038A (zh) * | 2023-02-01 | 2023-04-28 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种亲水型自洁玻璃及其制备方法 |
Family Cites Families (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL301972A (ja) * | 1963-04-03 | |||
DE1239850B (de) * | 1964-10-14 | 1967-05-03 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung siliciumorganischer Bindemittel |
US3871881A (en) * | 1973-02-12 | 1975-03-18 | Minnesota Mining & Mfg | Coated aluminum substrates having a binder of aluminum hydroxyoxide |
US3976497A (en) * | 1974-06-25 | 1976-08-24 | Dow Corning Corporation | Paint compositions |
JPS53149281A (en) * | 1977-06-02 | 1978-12-26 | Teijin Ltd | Laminate with hydrophilic film |
JPS6183106A (ja) * | 1984-10-01 | 1986-04-26 | Giken Kogyo Kk | 水と接触する固体表面の汚損防止方法 |
JPS6191042A (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-09 | Toyota Motor Corp | 防曇ガラス及びその製造方法 |
JPS60221702A (ja) * | 1985-01-23 | 1985-11-06 | Toray Ind Inc | 透明被覆層を有する成形体 |
DE3635567C2 (de) * | 1985-10-29 | 1993-10-14 | Andreas Biedermann | Dekorierter Gegenstand |
JPS635301A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射鏡 |
JPS63100042A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 汚れ難いガラス物品 |
ATE78010T1 (de) * | 1987-04-24 | 1992-07-15 | Arturo Broggini | Kuenstliche steine und verfahren zur herstellung derselben. |
EP0476724A3 (en) * | 1988-01-22 | 1992-06-03 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for removing stink |
JP2574840B2 (ja) * | 1988-01-22 | 1997-01-22 | 株式会社日立製作所 | 脱臭装置 |
JPH06102155B2 (ja) * | 1988-02-29 | 1994-12-14 | 株式会社日立製作所 | 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置 |
JPH01238867A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光触媒による脱臭方法 |
JPH01288321A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光触媒による脱臭方法 |
JPH0373304A (ja) * | 1989-05-09 | 1991-03-28 | Ain:Kk | 脱臭性、抗殺菌性、遠赤外線放射性及び帯電防止性を有する木材 |
JPH03101926A (ja) * | 1989-06-14 | 1991-04-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 防曇プラスチック |
JPH0637283B2 (ja) * | 1989-12-20 | 1994-05-18 | セントラル硝子株式会社 | 酸化物薄膜の成膜方法 |
JP2618287B2 (ja) * | 1990-11-06 | 1997-06-11 | 日本ゼオン株式会社 | 光反応性有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法 |
US5616532A (en) * | 1990-12-14 | 1997-04-01 | E. Heller & Company | Photocatalyst-binder compositions |
JP2667331B2 (ja) * | 1992-03-13 | 1997-10-27 | 東陶機器株式会社 | 光触媒機能を有する部材及びその製造方法 |
JP3340149B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2002-11-05 | セントラル硝子株式会社 | 親水性被膜ならびにその被膜の形成方法 |
JPH06293519A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-10-21 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 酸化チタンの粒子と膜の製造方法 |
JPH06205977A (ja) * | 1992-09-01 | 1994-07-26 | Toto Ltd | 光触媒組成物の製造方法及び光触媒組成物 |
JPH06278241A (ja) * | 1992-09-22 | 1994-10-04 | Takenaka Komuten Co Ltd | 建築材料 |
US5595813A (en) * | 1992-09-22 | 1997-01-21 | Takenaka Corporation | Architectural material using metal oxide exhibiting photocatalytic activity |
JP3316048B2 (ja) * | 1992-11-06 | 2002-08-19 | 株式会社竹中工務店 | 建築材料及びその製造方法 |
ATE179083T1 (de) * | 1992-11-10 | 1999-05-15 | Toto Ltd | Luftbehandlungsverfahren mit hilfe von einem photokatalysator und innenbeleuchtung |
JP3158746B2 (ja) * | 1992-12-15 | 2001-04-23 | 富士ゼロックス株式会社 | プリントシステム |
JPH06315614A (ja) * | 1993-03-11 | 1994-11-15 | Agency Of Ind Science & Technol | 汚染物質の除去方法及び浄化材 |
JPH06289336A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-18 | Shiseido Co Ltd | コンタクトレンズ洗浄剤 |
JPH085660B2 (ja) * | 1993-04-13 | 1996-01-24 | 工業技術院長 | 酸化チタン超微粒子分散シリカゲルの製造方法 |
JP3554343B2 (ja) * | 1993-04-19 | 2004-08-18 | 日揮ユニバーサル株式会社 | シート状エチレン分解触媒およびエチレン分解装置 |
AU676299B2 (en) * | 1993-06-28 | 1997-03-06 | Akira Fujishima | Photocatalyst composite and process for producing the same |
DE69431573T2 (de) * | 1993-07-28 | 2003-06-12 | Asahi Glass Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Schichten |
JPH0751646A (ja) * | 1993-08-12 | 1995-02-28 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 固体表面の汚れ浄化方法 |
JP3334767B2 (ja) * | 1993-10-20 | 2002-10-15 | 日新製鋼株式会社 | 吸湿・放湿機能を備えた建材 |
DE69433980T2 (de) * | 1993-10-26 | 2005-09-01 | E. Heller & Co., Oakland | Photokatalysator und bindemittel enthaltende zusammensetzungen |
JPH08119673A (ja) * | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Kansai Paint Co Ltd | ガラスの親水化処理方法 |
EP1203617A1 (en) * | 1994-10-31 | 2002-05-08 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | Titanium dioxide photo catalyst structure |
JP3732247B2 (ja) * | 1994-12-13 | 2006-01-05 | コルコート株式会社 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 |
JP3885248B2 (ja) * | 1995-03-13 | 2007-02-21 | 旭硝子株式会社 | 光触媒組成物 |
EP0816466B1 (en) * | 1995-03-20 | 2006-05-17 | Toto Ltd. | Use of material having ultrahydrophilic and photocatalytic surface |
JPH08313705A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-29 | Seiko Epson Corp | 防曇性物品及びその製造方法 |
FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
JPH09173783A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 板ガラスと樹脂板とその製造方法と汚染物質の除去方法 |
JP3780592B2 (ja) * | 1995-12-21 | 2006-05-31 | 旭硝子株式会社 | 光触媒組成物とその製造方法および光触媒組成物付き基体 |
JP3930591B2 (ja) * | 1995-12-22 | 2007-06-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品 |
WO1997023572A1 (fr) * | 1995-12-22 | 1997-07-03 | Toto Ltd. | Procede photocatalytique pour rendre une surface hydrophile et materiau composite ayant une surface rendue hydrophile par un processus photocatalytique |
JPH09227157A (ja) * | 1996-02-26 | 1997-09-02 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法 |
JPH09227158A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-02 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法 |
JPH09235140A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-09 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ガラス |
JPH09241037A (ja) * | 1996-03-07 | 1997-09-16 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材およびその製造方法 |
WO1997045502A1 (fr) * | 1996-05-31 | 1997-12-04 | Toto Ltd. | Element anti-encrassement et composition pour revetement anti-encrassement |
US6238738B1 (en) * | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
DE19831610A1 (de) * | 1997-07-15 | 1999-01-21 | Central Glass Co Ltd | Photokatalytischer Glasgegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE19911738A1 (de) * | 1999-03-16 | 2000-09-28 | Fraunhofer Ges Forschung | Mit Fe·3··+·-Ionen dotierter Titandioxid-Photokatalysator |
GB9913315D0 (en) * | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
DE10001565A1 (de) * | 2000-01-15 | 2001-07-19 | Andreas Biedermann | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines photoaktiven Überzugs |
-
1996
- 1996-03-21 EP EP96906906A patent/EP0816466B1/en not_active Revoked
- 1996-03-21 EP EP20020028664 patent/EP1304366B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 DK DK96906906T patent/DK0816466T3/da active
- 1996-03-21 KR KR1019970706530A patent/KR100342150B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-03-21 CA CA002215925A patent/CA2215925C/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 ES ES02028664T patent/ES2229049T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 JP JP52829096A patent/JP2756474B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 DE DE19655363A patent/DE19655363B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 CN CN96193834A patent/CN1129659C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 BR BR9607868A patent/BR9607868A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-03-21 DE DE19681289T patent/DE19681289C5/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 AT AT96906906T patent/ATE326513T1/de active
- 1996-03-21 WO PCT/JP1996/000733 patent/WO1996029375A1/ja active IP Right Grant
- 1996-03-21 PT PT02028664T patent/PT1304366E/pt unknown
- 1996-03-21 ES ES96906906T patent/ES2265150T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 AU AU50140/96A patent/AU718733B2/en not_active Expired
- 1996-03-21 DK DK02028664T patent/DK1304366T4/da active
- 1996-03-21 EP EP20060010083 patent/EP1712530B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 ES ES06010083.1T patent/ES2538807T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 DE DE29623901U patent/DE29623901U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-21 EP EP20060010085 patent/EP1712531A3/en not_active Withdrawn
- 1996-03-21 PT PT96906906T patent/PT816466E/pt unknown
- 1996-03-21 AT AT02028664T patent/ATE279490T1/de active
-
1997
- 1997-03-14 JP JP9082156A patent/JPH10146251A/ja active Pending
- 1997-05-30 JP JP9157458A patent/JP2943768B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-18 MX MX9707108A patent/MX9707108A/es unknown
- 1997-09-19 US US08/933,886 patent/US6013372A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-02 JP JP10187837A patent/JPH1170613A/ja active Pending
- 1998-07-03 JP JP18837298A patent/JP2924902B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-14 HK HK98110622A patent/HK1009829A1/xx not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-07-09 JP JP11195193A patent/JP2000075114A/ja active Pending
-
2000
- 2000-05-17 JP JP2000145029A patent/JP2001026070A/ja active Pending
- 2000-09-01 JP JP2000265863A patent/JP3334710B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-01 JP JP2000265791A patent/JP3334709B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-03-06 JP JP2002060643A patent/JP3709931B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-03-19 JP JP2003076275A patent/JP2003291243A/ja active Pending
- 2003-06-11 JP JP2003167053A patent/JP3786366B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-06-11 JP JP2003167044A patent/JP3786365B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-06-11 JP JP2003167027A patent/JP3786364B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-04-21 JP JP2005124100A patent/JP2005325351A/ja active Pending
-
2009
- 2009-03-17 JP JP2009064365A patent/JP2009167097A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6997570B2 (en) | 2003-04-03 | 2006-02-14 | Kabushiki Kaisha Tokai-Rika-Denki Seisakusho | Reflecting mirror |
US8088216B2 (en) | 2007-06-21 | 2012-01-03 | Trade Service Corporation | Water-borne complete inorganic alkali metal silicate composition and its aqueous solution, and water-borne coat agent, its aqueous solution, complete inorganic colored coating material and binder for high temperature and heat resistance coating material of the same composition, as well as method of using water-borne complete inorganic alkali metal silicate compound |
US7910220B2 (en) | 2007-07-25 | 2011-03-22 | Alcoa Inc. | Surfaces and coatings for the removal of carbon dioxide |
US8435446B2 (en) | 2007-07-25 | 2013-05-07 | Alcoa Inc. | Surfaces and coatings for the removal of carbon dioxide |
US8617665B2 (en) | 2009-08-03 | 2013-12-31 | Alcoa, Inc. | Self-cleaning substrates and methods for making the same |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2924902B2 (ja) | 基材の表面を光触媒的に超親水性にする方法、超親水性の光触媒性表面を備えた基材、および、その製造方法 | |
US6830785B1 (en) | Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof | |
JP3003593B2 (ja) | 光触媒性親水性部材 | |
JP3661814B2 (ja) | 膜構造材及びその清浄化方法 | |
TW313630B (en) | The surface substrate with light catalyst and hydrophilicity and its manufacturing method | |
JPH0977535A (ja) | 基材表面の親水化処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314533 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080507 Year of fee payment: 9 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080507 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090507 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090507 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100507 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100507 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110507 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120507 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120507 Year of fee payment: 13 |
|
S211 | Written request for registration of transfer of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314211 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120507 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130507 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130507 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140507 Year of fee payment: 15 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |