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  1. 支持体上に銀塩を含有する銀塩含有層を有する感光材料を露光し、現像処理することにより金属銀部を形成する金属銀形成工程と、
    前記金属銀部を圧密処理する圧密処理工程と、
    を有し、
    前記圧密処理をカレンダーロールにより、線圧力１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ）以上で行うことを特徴とする導電膜の製造方法。
  2. 請求項１記載の導電膜の製造方法において、
    前記圧密処理を線圧力２９６０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇｆ／ｃｍ）以上で行うことを特徴とする導電膜の製造方法。
  3. 請求項１又は２記載の導電膜の製造方法において、
    前記圧密処理を線圧力６８６０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）以下で行うことを特徴とする導電膜の製造方法。
  4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記金属銀形成工程は、前記金属銀部及び光透過性部を形成することを特徴とする導電膜の製造方法。
  5. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記金属銀形成工程は、前記金属銀部及び絶縁性部を形成することを特徴とする導電膜の製造方法。
  6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記圧密処理後の前記金属銀部が銀及び非導電性の高分子からなり、Ａｇ／非導電性高分子の体積比が２／１以上であることを特徴とする導電膜の製造方法。
  7. 請求項６記載の導電膜の製造方法において、
    前記非導電性の高分子は、体積で５０％以上がゼラチンであることを特徴とする導電膜の製造方法。
  8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記圧密処理工程の前段に、さらに還元剤水溶液に浸漬する工程を有することを特徴とする導電膜の製造方法。
  9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記圧密処理工程の後段に、さらに前記金属銀部の表面を黒化処理液で黒化処理する黒化処理工程を有することを特徴とする導電膜の製造方法。
  10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記銀塩含有層におけるＡｇ／バインダの体積比率が１／２以上であることを特徴とする導電膜の製造方法。
  11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記圧密処理工程の前段又は後段に、さらに前記金属銀部の表面にめっき層を形成するめっき工程を有することを特徴とする導電膜の製造方法。
  12. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載の導電膜の製造方法において、
    前記支持体が樹脂フイルムであることを特徴とする導電膜の製造方法。
  13. 支持体上に圧密処理された導電性金属部からなる細線構造部と透明導電性膜とを有し、
    前記細線構造部がない場合の透明導電性膜単独の表面抵抗が、1０ ２ オーム／ｓｑ〜１０ ８ オーム／ｓｑであり、透明導電性フイルムの表面抵抗が０．１オーム／ｓｑ以上１０００オーム／ｓｑ以下であることを特徴とする透明導電性フイルム。
  14. 請求項１３記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記透明導電性膜が導電性材料を含むことを特徴とする透明導電性フイルム。
  15. 請求項１４記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記導電性材料が透明導電性有機ポリマー、導電性無機又は有機水溶性塩及び導電性無機微粒子から選ばれることを特徴とする透明導電性フイルム。
  16. 請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記細線構造部の厚み（高さ）が、１００μｍ以下であることを特徴とする透明導電性フイルム。
  17. 請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記透明導電性フイルムの光の透過率が、５５０ｎｍの光に対して７０％以上であることを特徴とする透明導電性フイルム。
  18. 請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記細線構造部が、前記支持体上に少なくとも感光性銀塩含有層を有する感光層を露光し、現像処理することにより形成された導電性金属銀からなることを特徴とする透明導電性フイルム。
  19. 請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記支持体上に感光性銀塩含有層を有する感光材料を露光・現像することにより導電性金属銀部と光透過性部が形成されてなることを特徴とする透明導電性フイルム。
  20. 請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記細線構造部の導電性金属部が銀を含有し、Ａｇ／バインダ体積比が１／４ 以上であることを特徴とする透明導電性フイルム。
  21. 請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記透明導電性膜を前記細線構造部の上面及び／又は下面に設けることを特徴とする透明導電性フイルム。
  22. 請求項１３〜２１のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記支持体上に少なくとも感光性ハロゲン化銀含有層を含む写真構成層を有し、該写真構成層の少なくとも１層が導電性材料を含有する層である感光材料を露光、現像することにより形成された前記細線構造部が、該導電性材料を含有する透明導電性膜と金属銀部と光透過性部からなることを特徴とする透明導電性フイルム。
  23. 請求項１３〜２２のいずれか１項に記載の透明導電性フイルムにおいて、
    前記細線構造部を形成した後に該細線構造部と前記透明導電性膜とが貼り合わされてなることを特徴とする透明導電性フイルム。
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Families Citing this family (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5207728B2 (ja) * 2006-12-21 2013-06-12 富士フイルム株式会社 導電膜およびその製造方法
JP5192713B2 (ja) 2007-03-30 2013-05-08 富士フイルム株式会社 導電膜及びその製造方法
JP5245111B2 (ja) * 2007-12-06 2013-07-24 コニカミノルタ株式会社 透明導電フィルム
JP5245113B2 (ja) * 2007-12-14 2013-07-24 コニカミノルタ株式会社 透明補助電極フィルム及び透明補助電極フィルムの製造方法と、透明導電性フィルム及び透明導電性フィルムの製造方法
KR100927421B1 (ko) * 2007-12-17 2009-11-19 삼성전기주식회사 구형 표면을 갖는 태양전지 및 그 제조방법
JP2009193797A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Hitachi Displays Ltd 表示装置およびその製造方法
JP2009259479A (ja) * 2008-04-14 2009-11-05 Fujifilm Corp 発光システム
US9069418B2 (en) * 2008-06-06 2015-06-30 Apple Inc. High resistivity metal fan out
JP5478126B2 (ja) * 2008-06-25 2014-04-23 富士フイルム株式会社 導電膜形成用感光材料、導電性材料及びエレクトロルミネッセンス素子
WO2010002182A2 (en) * 2008-06-30 2010-01-07 Kolon Industries, Inc. Plastic substrate and device including the same
JP5397376B2 (ja) * 2008-08-11 2014-01-22 コニカミノルタ株式会社 透明電極、有機エレクトロルミネッセンス素子及び透明電極の製造方法
JP5397377B2 (ja) * 2008-08-11 2014-01-22 コニカミノルタ株式会社 透明電極、有機エレクトロルミネッセンス素子及び透明電極の製造方法
WO2010050318A1 (ja) * 2008-10-31 2010-05-06 コニカミノルタホールディングス株式会社 透明導電性基板、透明導電性基板の製造方法、及び電気化学表示素子
KR100992776B1 (ko) 2008-11-14 2010-11-05 엘지이노텍 주식회사 반도체 발광소자 및 그 제조방법
JP2010192557A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Toppan Printing Co Ltd 電磁波シールドフィルム
JP5396916B2 (ja) * 2009-03-03 2014-01-22 コニカミノルタ株式会社 透明電極の製造方法、透明電極および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP5255532B2 (ja) 2009-03-26 2013-08-07 富士フイルム株式会社 Ｅｌ素子、導電膜形成用感光材料および導電膜
JP5155231B2 (ja) * 2009-03-30 2013-03-06 富士フイルム株式会社 Ｅｌ素子、導電膜形成用感光材料および導電膜
JP5584991B2 (ja) * 2009-04-02 2014-09-10 コニカミノルタ株式会社 透明電極、透明電極の製造方法、および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2010251611A (ja) * 2009-04-17 2010-11-04 Fujifilm Corp 太陽電池及びその製造方法
CN101989136B (zh) * 2009-08-07 2012-12-19 清华大学 触摸屏及显示装置
WO2011021470A1 (ja) * 2009-08-17 2011-02-24 コニカミノルタホールディングス株式会社 透明導電性基板の製造方法、透明導電性基板、及び電気化学表示素子
JP5564866B2 (ja) * 2009-09-11 2014-08-06 東洋紡株式会社 金属薄膜製造方法および金属薄膜
JP5629077B2 (ja) * 2009-09-29 2014-11-19 富士フイルム株式会社 導電膜の製造方法
US20120211739A1 (en) * 2009-10-28 2012-08-23 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electronic device
JP5363953B2 (ja) * 2009-11-20 2013-12-11 日東電工株式会社 長尺電極基板およびその製造方法
JP5554971B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-23 パナソニック株式会社 導体パターンの形成方法、導体パターン、導体パターン形成基材
US8664518B2 (en) * 2009-12-11 2014-03-04 Konica Minolta Holdngs, Inc. Organic photoelectric conversion element and producing method of the same
JP2011175890A (ja) * 2010-02-25 2011-09-08 Toray Ind Inc 導電性フィルム
JP5866765B2 (ja) 2010-04-28 2016-02-17 ソニー株式会社 導電性素子およびその製造方法、配線素子、情報入力装置、表示装置、ならびに電子機器
WO2011148931A1 (ja) * 2010-05-28 2011-12-01 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機電子デバイス用電極
US8802479B2 (en) * 2010-06-03 2014-08-12 NuvoSun, Inc. Solar cell interconnection method using a flat metallic mesh
JP2012004042A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Fujifilm Corp 透明導電性フイルム及び透明導電性フイルムの製造方法
JP5609307B2 (ja) * 2010-06-22 2014-10-22 コニカミノルタ株式会社 透明導電性支持体
JP5495982B2 (ja) * 2010-06-29 2014-05-21 富士フイルム株式会社 導電性フイルムの製造方法および発光デバイス
WO2012014621A1 (ja) * 2010-07-29 2012-02-02 コニカミノルタホールディングス株式会社 透明導電膜、および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2012059417A (ja) * 2010-09-06 2012-03-22 Fujifilm Corp 透明導電フィルム、その製造方法、電子デバイス、及び、有機薄膜太陽電池
JP2012080091A (ja) * 2010-09-07 2012-04-19 Fujifilm Corp 透明導電フィルム、その製造方法、それを用いた有機薄膜太陽電池
JP5983408B2 (ja) * 2010-09-24 2016-08-31 コニカミノルタ株式会社 透明電極の製造方法
JP5664119B2 (ja) 2010-10-25 2015-02-04 ソニー株式会社 透明導電膜、透明導電膜の製造方法、光電変換装置および電子機器
CN102063951B (zh) * 2010-11-05 2013-07-03 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 一种透明导电膜及其制作方法
US9240500B2 (en) 2010-12-02 2016-01-19 Nissan Chemical Industries, Ltd. Film-forming material
WO2012074058A1 (ja) * 2010-12-02 2012-06-07 日産化学工業株式会社 膜形成材料
CN103384918B (zh) * 2010-12-06 2017-05-10 阪本顺 面板、面板的制造方法、太阳电池模块、印刷装置及印刷方法
JP6077194B2 (ja) * 2010-12-07 2017-02-08 ソニー株式会社 導電性光学素子ならびに情報入力装置および表示装置
TWI404996B (zh) * 2010-12-31 2013-08-11 Au Optronics Corp 觸控面板的製造方法以及觸控面板
JP5913809B2 (ja) * 2011-01-05 2016-04-27 リンテック株式会社 透明電極基板、その製造方法、該透明電極基板を有する電子デバイス及び太陽電池
US8932898B2 (en) 2011-01-14 2015-01-13 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior Univerity Deposition and post-processing techniques for transparent conductive films
GB2505292B (en) * 2011-01-28 2015-06-10 Novalia Ltd Printed article
JP5720278B2 (ja) * 2011-02-07 2015-05-20 ソニー株式会社 導電性素子およびその製造方法、情報入力装置、表示装置、ならびに電子機器
CN102655031A (zh) * 2011-03-01 2012-09-05 新科实业有限公司 用于光电子器件的透明导电膜
CN102222538B (zh) * 2011-03-11 2012-12-05 苏州纳格光电科技有限公司 图形化的柔性透明导电薄膜及其制法
JP5782855B2 (ja) * 2011-06-17 2015-09-24 コニカミノルタ株式会社 透明電極及び有機エレクトロルミネッセンス素子
US8628840B2 (en) * 2011-06-29 2014-01-14 Eastman Kodak Company Electronically conductive laminate donor element
JP6212050B2 (ja) 2011-12-22 2017-10-11 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 高い光透過を備えた導電性物品
EP2794262A4 (en) 2011-12-22 2015-08-19 3M Innovative Properties Co CARBON-COATED ARTICLES AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
WO2013118599A1 (ja) 2012-02-10 2013-08-15 コニカミノルタ株式会社 透明電極形成用組成物、透明電極、有機電子素子および透明電極の製造方法
CN109390495A (zh) * 2012-05-31 2019-02-26 乐金显示有限公司 有机发光器件及其制备方法
JP6044823B2 (ja) * 2012-08-24 2016-12-14 国立大学法人 東京大学 透明電極、導電性透明薄膜の製造方法ならびに導電性透明薄膜
US20150280173A1 (en) * 2012-10-26 2015-10-01 Pioneer Corporation Light emitting device and manufacturing method of light emitting device
WO2014064832A1 (ja) * 2012-10-26 2014-05-01 パイオニア株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法
WO2014064833A1 (ja) * 2012-10-26 2014-05-01 パイオニア株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法
WO2014064834A1 (ja) * 2012-10-26 2014-05-01 パイオニア株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法
CN103857172A (zh) * 2012-12-06 2014-06-11 富葵精密组件(深圳)有限公司 透明印刷电路板
CN103902115B (zh) * 2012-12-28 2018-04-06 深圳欧菲光科技股份有限公司 触摸屏用透明导电体及其制备方法和应用
KR20140105640A (ko) * 2013-02-22 2014-09-02 (주)엘지하우시스 복사열을 이용한 자동차용 면상 발열체
CN103176650B (zh) * 2013-03-01 2016-09-28 南昌欧菲光科技有限公司 导电玻璃基板及其制作方法
CN107571572B (zh) * 2013-03-28 2019-10-18 株式会社神户制钢所 金属基板、使用其的衬底型薄膜太阳能电池及顶部发光型有机el元件
JP6129769B2 (ja) 2013-05-24 2017-05-17 富士フイルム株式会社 タッチパネル用透明導電膜、透明導電膜の製造方法、タッチパネル及び表示装置
CN105122381B (zh) 2013-08-01 2018-02-02 Lg化学株式会社 透明导电层压板、包含透明导电层压板的透明电极及透明导电层压板的制造方法
JP6255796B2 (ja) * 2013-08-19 2018-01-10 凸版印刷株式会社 透明電極の製造方法、透明電極、及びそれを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子
CN105519249B (zh) 2013-08-30 2018-07-13 富士胶片株式会社 导电性膜、触摸屏、显示装置、以及导电性膜的评价方法
JP2015195341A (ja) * 2014-03-24 2015-11-05 三菱電機株式会社 光電変換素子および光電変換素子の製造方法
JP6196180B2 (ja) * 2014-03-26 2017-09-13 日東電工株式会社 透光性導電フィルム
US10158096B2 (en) 2014-05-15 2018-12-18 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting device
CN104037359B (zh) * 2014-06-20 2017-01-25 上海和辉光电有限公司 一种oled阴极结构及其制造方法
CN105280840B (zh) * 2014-07-09 2018-05-08 Tcl集团股份有限公司 一种柔性透明电极及其制备方法
WO2016027620A1 (ja) 2014-08-21 2016-02-25 コニカミノルタ株式会社 透明電極、透明電極の製造方法、及び、電子デバイス
US9869918B2 (en) * 2015-01-16 2018-01-16 Ricoh Company, Ltd. Electrochromic apparatus, electrochromic element, and method of manufacturing electrochromic element
CN104600207B (zh) * 2015-01-27 2017-02-01 中国科学院长春应用化学研究所 透明电极及其制备方法与应用
JP2016212250A (ja) * 2015-05-08 2016-12-15 富士フイルム株式会社 めっき処理用積層体、導電性積層体の製造方法、タッチパネルセンサー、タッチパネル
DE102015212477A1 (de) * 2015-07-03 2017-01-05 Osram Oled Gmbh Organisches lichtemittierendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines organischen lichtemittierenden Bauelements
WO2017046987A1 (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 ソニー株式会社 導電性素子およびその製造方法、入力装置ならびに電子機器
CN108027688B (zh) * 2015-09-30 2021-04-13 住友金属矿山株式会社 导电性基板
JP6588852B2 (ja) * 2016-03-28 2019-10-09 株式会社ジャパンディスプレイ センサ及びセンサ付き表示装置
CN106400072B (zh) * 2016-11-07 2018-11-30 深圳市博耀新材料有限公司 一种耐腐蚀铝基复合材料及其制备工艺
JP6945307B2 (ja) * 2017-03-09 2021-10-06 株式会社カネカ 配線フィルムおよび光電変換素子モジュール
JP6645574B2 (ja) * 2017-03-17 2020-02-14 東レ株式会社 配線電極付き基板の製造方法
JP6809499B2 (ja) * 2017-04-04 2021-01-06 株式会社Ｓｏｋｅｎ 光透過型アンテナ、窓部貼付型通信モジュール、及び、周辺監視ユニット
EP3690945A4 (en) * 2017-09-26 2020-10-28 LG Chem, Ltd. ELECTRODE SUBSTRATE FOR TRANSPARENT LUMINESCENT DIODE DISPLAY UNIT AND ITS MANUFACTURING PROCESS
JP7028737B2 (ja) 2017-11-15 2022-03-02 株式会社神戸製鋼所 造形物の製造方法、製造装置及び造形物
KR102341557B1 (ko) * 2018-01-09 2021-12-20 도요 알루미늄 가부시키가이샤 유기 디바이스용 전극 기판 재료
CN108446430B (zh) * 2018-02-05 2021-08-06 西安电子科技大学 基于投影法的高频电磁遮挡判断方法
CN112088410B (zh) * 2018-03-09 2023-08-08 大日本印刷株式会社 导电性膜、传感器、触控面板和图像显示装置
CN109061978A (zh) * 2018-09-25 2018-12-21 无锡威峰科技股份有限公司 一种显示电浆模组及其制造方法
KR102654448B1 (ko) * 2018-12-07 2024-04-03 현대자동차 주식회사 자동차용 기호 버튼 및 이의 제조 방법
JP2020194653A (ja) * 2019-05-27 2020-12-03 株式会社アルバック 透明電極シート及び発光デバイス
CN111312064A (zh) * 2019-11-25 2020-06-19 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 透明显示屏及其制作方法
CN111180293A (zh) * 2020-02-14 2020-05-19 福建工程学院 一种柔性ZnO@TiN核壳结构阵列阴极及其制备方法
CN115053302A (zh) * 2020-03-17 2022-09-13 韩国机械研究院 包括纳米结构的透明导体及其制造方法

Family Cites Families (151)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB235211A (ja) 1900-01-01
US1623499A (en) 1925-06-16 1927-04-05 A corpora
US2274782A (en) 1937-11-24 1942-03-03 Chromogen Inc Light-sensitive photographic material
GB584609A (en) 1944-12-30 1947-01-20 Harry Derek Edwards Improvements in or relating to photographic light-sensitive materials
US2533472A (en) 1947-01-17 1950-12-12 Eastman Kodak Co Unsymmetrical oxonol filter and antihalation dyes
BE483860A (ja) 1947-07-11
US2725295A (en) 1952-07-17 1955-11-29 Eastman Kodak Co Hardening of gelatin with organic acid chlorides
US2725294A (en) 1952-07-17 1955-11-29 Eastman Kodak Co Hardening of gelatin with polyanhydrides
US2732316A (en) 1952-12-03 1956-01-24 Hardening of gelatin
US2732303A (en) 1953-09-16 1956-01-24 Antifoggevg and hardening agents for
US2861056A (en) 1953-11-12 1958-11-18 Eastman Kodak Co Resinous carboxy ester-lactones and process for preparing them
US2983611A (en) 1957-09-16 1961-05-09 Eastman Kodak Co Gelatin compositions containing hardeners
US2956879A (en) 1958-01-07 1960-10-18 Eastman Kodak Co Filter and absorbing dyes for use in photographic emulsions
US3100704A (en) 1958-07-24 1963-08-13 Gen Aniline & Film Corp Photographic materials containing carbodhmides
US3103437A (en) 1959-04-10 1963-09-10 Hardening
US3017280A (en) 1959-04-20 1962-01-16 Eastman Kodak Co Hardening of coatings of polymers containing carboxyl groups
US3091537A (en) 1959-05-04 1963-05-28 Eastman Kodak Co Hardening of photographic layers
US3247127A (en) 1960-04-14 1966-04-19 Eastman Kodak Co Light-absorbing water-permeable colloid layer containing an oxonol dye
GB994869A (en) 1960-08-03 1965-06-10 Kodak Ltd Improvements in photographic silver halide emulsions
US3428451A (en) 1960-09-19 1969-02-18 Eastman Kodak Co Supports for radiation-sensitive elements and improved elements comprising such supports
US3288775A (en) 1961-04-07 1966-11-29 Ciba Ltd Method of hardening gelatin by reacting with conjugated heterocyclic compounds containing halogen atoms and water-solubilizing acid groups
BE627309A (ja) 1962-01-22
BE627808A (ja) 1962-02-03
US3206312A (en) 1962-06-12 1965-09-14 Eastman Kodak Co Photographic film having antistatic agent therein
US3125449A (en) 1962-07-25 1964-03-17 Amino-phosphorylchloride hardeners
GB1030882A (en) 1962-12-31 1966-05-25 Eastman Kodak Co Photographic gelatin with incorporated isoxazolium salts
GB1054123A (ja) 1963-03-14
GB1121496A (en) 1964-11-16 1968-07-31 Eastman Kodak Co Silver halide emulsions
US3232764A (en) 1965-05-25 1966-02-01 Eastman Kodak Co Gelatin compositions adapted for the preparation of hardened coatings
CA800958A (en) 1965-06-17 1968-12-10 Eastman Kodak Company Sensitization of photographic systems
GB1143609A (ja) 1965-10-13
US3320069A (en) 1966-03-18 1967-05-16 Eastman Kodak Co Sulfur group sensitized emulsions
DE1522378A1 (de) 1966-05-13 1969-07-24 Agfa Gevaert Ag Verfahren zur Haertung von photographischen,gelatinehaltigen Schichten
CH484980A (de) 1967-03-06 1970-03-13 Ciba Geigy Verwendung von Biscarbonsäureimiden zum Härten von Gelatine
GB1210253A (en) 1967-06-16 1970-10-28 Agfa Gevaert Nv Coloured colloid materials
US3543292A (en) 1967-06-20 1970-11-24 Eastman Kodak Co Photographic gelatin hardened with bis isoxazole compounds and their quaternary salts
GB1177429A (en) 1967-09-27 1970-01-14 Ilford Ltd Filter Dyes
GB1265485A (ja) 1968-05-21 1972-03-01
US3575704A (en) 1968-07-09 1971-04-20 Eastman Kodak Co High contrast light sensitive materials
GB1295462A (ja) 1969-03-12 1972-11-08
DE2104694C3 (de) 1971-02-02 1980-04-17 Eduard Kuesters Maschinenfabrik, 4150 Krefeld Vorrichtung zum kontinuierlichen Auftragen von Flüssigkeiten auf Bahnen
GB1396696A (en) 1971-05-27 1975-06-04 Kodak Ltd Sensitive silver halide photographic materials
JPS5418038B2 (ja) 1971-09-12 1979-07-04
US3772031A (en) 1971-12-02 1973-11-13 Eastman Kodak Co Silver halide grains and photographic emulsions
JPS5146607B2 (ja) 1972-02-10 1976-12-10
JPS4999620A (ja) 1973-01-29 1974-09-20
JPS5510059B2 (ja) 1973-02-28 1980-03-13
JPS5216364A (en) 1975-07-18 1977-02-07 Tadao Tatsumi Process for producing caffee cake fertilizer
JPS5812576B2 (ja) 1975-08-09 1983-03-09 コニカ株式会社 チヨクセツハンテンハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウ
JPS5851252B2 (ja) 1976-12-28 1983-11-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真乳剤
GB1535016A (en) 1977-10-17 1978-12-06 Ilford Ltd Monodispersed emulsions
US4242445A (en) 1978-02-02 1980-12-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing light-sensitive silver halide grains
JPS6035055B2 (ja) 1978-12-07 1985-08-12 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真乳剤
DE2921164A1 (de) 1979-05-25 1980-12-04 Agfa Gevaert Ag Verfahren zur bildung von metallsalzen, photographische materialien und deren verwendung zur herstellung photographischer bilder
JPS59154439A (ja) 1983-02-21 1984-09-03 Fuji Photo Film Co Ltd 直接反転ハロゲン化銀写真感光材料
JPS59208548A (ja) 1983-05-12 1984-11-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
GB8609135D0 (en) 1986-04-15 1986-05-21 Minnesota Mining & Mfg Silver halide photographic materials
JPS62299959A (ja) 1986-06-20 1987-12-26 Konica Corp 放射線用ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0640200B2 (ja) 1986-11-20 1994-05-25 コニカ株式会社 放射線用ハロゲン化銀写真感光材料
JP2664153B2 (ja) 1987-06-05 1997-10-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびその現像処理方法
JP2533333B2 (ja) 1987-09-01 1996-09-11 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0769583B2 (ja) 1987-10-26 1995-07-31 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH01118832A (ja) 1987-11-02 1989-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH01179939A (ja) 1988-01-11 1989-07-18 Fuji Photo Film Co Ltd 超硬調なネガ画像形成方法
JPH07119940B2 (ja) 1988-03-17 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
US4835093A (en) 1988-04-08 1989-05-30 Eastman Kodak Company Internally doped silver halide emulsions
US4933272A (en) 1988-04-08 1990-06-12 Eastman Kodak Company Photographic emulsions containing internally modified silver halide grains
JPH087399B2 (ja) 1988-04-18 1996-01-29 富士写真フイルム株式会社 赤外感光性ハロゲン化銀感光材料
JPH01285941A (ja) 1988-05-13 1989-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法
JP2949192B2 (ja) 1988-07-07 1999-09-13 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0212236A (ja) 1988-06-30 1990-01-17 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0816777B2 (ja) 1988-10-13 1996-02-21 富士写真フイルム株式会社 画像形成方法
JPH0778604B2 (ja) 1988-11-02 1995-08-23 富士写真フイルム株式会社 ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料
JP2632038B2 (ja) 1989-03-27 1997-07-16 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0339948A (ja) 1989-04-20 1991-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JP2649967B2 (ja) 1989-04-24 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2889960B2 (ja) 1989-04-28 1999-05-10 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2813746B2 (ja) 1989-05-16 1998-10-22 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2694374B2 (ja) 1989-09-18 1997-12-24 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH03136038A (ja) 1989-10-23 1991-06-10 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外感光性ハロゲン化銀感光材料
JP2876081B2 (ja) 1989-10-25 1999-03-31 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
EP0452772B1 (en) 1990-04-10 1997-07-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide photographic materials
JP2840877B2 (ja) 1990-08-30 1998-12-24 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH04204640A (ja) 1990-11-30 1992-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JP2725088B2 (ja) 1991-01-17 1998-03-09 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2654722B2 (ja) 1991-02-27 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2879119B2 (ja) 1991-03-11 1999-04-05 富士写真フイルム株式会社 画像形成方法
JP2655211B2 (ja) 1991-07-04 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
JP2724639B2 (ja) 1991-04-25 1998-03-09 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
JP2699029B2 (ja) 1991-05-08 1998-01-19 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2811257B2 (ja) 1992-04-24 1998-10-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH05313284A (ja) 1992-05-14 1993-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JP2893156B2 (ja) 1992-09-04 1999-05-17 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた写真画像形成方法
JPH06324426A (ja) 1993-05-17 1994-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
JPH07113072A (ja) 1993-10-18 1995-05-02 Hitachi Maxell Ltd 赤外吸収材料およびこれを用いた赤外吸収性塗料、熱転写印字用インクリボン、印刷物ならびに赤外吸収材料の製造法
JP3729516B2 (ja) 1993-11-30 2005-12-21 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP3444646B2 (ja) 1994-03-16 2003-09-08 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP3616173B2 (ja) 1994-09-22 2005-02-02 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法
JPH08180974A (ja) 1994-12-26 1996-07-12 Nippondenso Co Ltd Ｅｌ素子およびその製造方法
TW455568B (en) 1994-12-27 2001-09-21 Ishihara Sangyo Kaisha Process for the preparation of acicular electroconductive tin oxide fine particles
JPH08201791A (ja) 1995-01-31 1996-08-09 Teijin Ltd 透明電極基板
JPH08249929A (ja) 1995-03-10 1996-09-27 Idemitsu Kosan Co Ltd 座標データ入力装置の入力パネル用透明電極膜
JPH08245902A (ja) 1995-03-14 1996-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd シアニン化合物の固体微粒子分散物
JPH08333519A (ja) 1995-04-07 1996-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 固体微粒子分散状のシアニン染料
JPH095913A (ja) 1995-06-19 1997-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた検知方法
JPH09147639A (ja) 1995-11-27 1997-06-06 Nippon Paint Co Ltd 透明電極材料
JP3522941B2 (ja) 1995-12-26 2004-04-26 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP3388682B2 (ja) 1996-05-23 2003-03-24 日立化成工業株式会社 電磁波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フィルムの製造法
JPH10162961A (ja) 1996-10-02 1998-06-19 Toppan Printing Co Ltd Ｅｌ表示装置
US5719016A (en) 1996-11-12 1998-02-17 Eastman Kodak Company Imaging elements comprising an electrically conductive layer containing acicular metal-containing particles
JPH11224782A (ja) 1998-02-06 1999-08-17 Kawaguchiko Seimitsu Kk エレクトロルミネッセンス
JPH11223901A (ja) 1998-02-06 1999-08-17 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像記録材料
JP2000013088A (ja) 1998-06-26 2000-01-14 Hitachi Chem Co Ltd 電磁波シールドフィルムの製造方法および該電磁波シールドフィルムを用いた電磁波遮蔽体、ディスプレイ
JP2000269682A (ja) * 1999-03-18 2000-09-29 Sumitomo Rubber Ind Ltd 透光性電磁波シールド部材の製造方法
JP2000275770A (ja) 1999-03-29 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真乳剤およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料
JP2002283462A (ja) * 2001-01-22 2002-10-03 Tdk Corp 導電層及び機能性層により表面が被覆された物体を製造する方法及び表面被覆物体
JP4043778B2 (ja) 2001-12-19 2008-02-06 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽用シート
JP4479161B2 (ja) * 2002-03-25 2010-06-09 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜とこの透明導電膜形成用塗布液および透明導電性積層構造体と表示装置
WO2004019345A1 (en) 2002-08-22 2004-03-04 Agfa-Gevaert Process for preparing a substantially transparent conductive layer
US7026079B2 (en) * 2002-08-22 2006-04-11 Agfa Gevaert Process for preparing a substantially transparent conductive layer configuration
JP2004085655A (ja) 2002-08-23 2004-03-18 Asahi Kasei Aimii Kk 耐汚染性の含水ソフトコンタクトレンズ
JP4084645B2 (ja) 2002-12-03 2008-04-30 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP4807934B2 (ja) 2002-12-27 2011-11-02 富士フイルム株式会社 透光性電磁波シールド膜およびその製造方法
JP4641719B2 (ja) 2002-12-27 2011-03-02 富士フイルム株式会社 透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜
JP2004244080A (ja) 2003-02-17 2004-09-02 Maruha Corp 冷凍ころも付きえび用収納トレー
JP4255293B2 (ja) 2003-02-21 2009-04-15 三菱製紙株式会社 透明導電性フィルムの製造方法
JP4322549B2 (ja) 2003-05-12 2009-09-02 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP2005010752A (ja) 2003-05-22 2005-01-13 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料及び画像形成方法
JP2005302508A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd 透明導電性シートおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子
JP2006012935A (ja) 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性電磁波シールド膜の製造方法および透光性電磁波シールド膜
JP2006010795A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性ハロゲン化銀乳剤、これを用いた導電性銀薄膜、導電性銀材料
JP4666961B2 (ja) * 2004-06-29 2011-04-06 Ｔｄｋ株式会社 透明導電層が付与された物体、及び転写用導電性フィルム
JP2006024485A (ja) * 2004-07-09 2006-01-26 Mitsubishi Paper Mills Ltd 導電性膜または導電性画像作製方法
JP2006202738A (ja) * 2004-12-21 2006-08-03 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
JP2006228836A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性導電性膜を用いた光学フィルター
JP2006228478A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 電性膜及びその製造方法、並びに導電性膜を用いた光学フィルター
JP2006228473A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性導電性膜の製造に用いられる現像液
JP2006228469A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 導電性膜形成用感光材料、導電性膜、透光性電磁波シールド膜、及びそれらの製造方法
JP2006228480A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性導電性膜を用いたプラズマディスプレー用光学フィルター
JP4719739B2 (ja) * 2005-03-15 2011-07-06 富士フイルム株式会社 透光性導電性膜及び透光性導電性膜の製造方法
JP2006267627A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜形成用定着液並びに透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらの製造方法
JP2006267635A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜形成用定着液並びに透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらの製造方法
JP2006269795A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜形成用現像液並びに透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらの製造方法
JP2006283133A (ja) 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法、並びに、電解めっき装置及び電解めっき方法
JP2006286410A (ja) 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法
JP2006283137A (ja) 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd めっき被膜付きフィルムの製造方法及び装置
US20070015094A1 (en) * 2005-07-13 2007-01-18 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Electromagnetic wave shielding material, method for manufacturing the same and electromagnetic wave shielding material for plasma display panel
JP4856498B2 (ja) * 2005-08-26 2012-01-18 三井化学株式会社 フレキシブルディスプレイ用電極基板
WO2007069495A1 (ja) * 2005-12-16 2007-06-21 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 電磁波遮蔽材料、電磁波遮蔽材料の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用電磁波遮蔽材料
DE112007001519B4 (de) * 2006-06-22 2022-03-10 Mitsubishi Paper Mills Limited Verfahren zum Herstellen eines leitfähigen Materials
JP5207728B2 (ja) * 2006-12-21 2013-06-12 富士フイルム株式会社 導電膜およびその製造方法

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