JPH09147639A - 透明電極材料 - Google Patents
透明電極材料Info
- Publication number
- JPH09147639A JPH09147639A JP30724995A JP30724995A JPH09147639A JP H09147639 A JPH09147639 A JP H09147639A JP 30724995 A JP30724995 A JP 30724995A JP 30724995 A JP30724995 A JP 30724995A JP H09147639 A JPH09147639 A JP H09147639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent
- film
- transparent electrode
- electrode material
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電気抵抗が低く、安価に製造できる透明電極
材料の提供。 【解決手段】 透明支持体と該支持体上に形成された導
電性材料からなる導電性線分パターンとからなる透明電
極材料であって、該導電性線分パターンが厚さ０.０２
〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電気的導通を保持
しかつ透明支持体の透明性も保持するようにパターン化
した金属薄膜である透明電極材料。
材料の提供。 【解決手段】 透明支持体と該支持体上に形成された導
電性材料からなる導電性線分パターンとからなる透明電
極材料であって、該導電性線分パターンが厚さ０.０２
〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電気的導通を保持
しかつ透明支持体の透明性も保持するようにパターン化
した金属薄膜である透明電極材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電磁波シールド、
液晶パネル、太陽電池などに用いられるＩＴＯ蒸着透明
電極材料に替わる電気抵抗が低く、安価に製造できる透
明電極材料に関する。
液晶パネル、太陽電池などに用いられるＩＴＯ蒸着透明
電極材料に替わる電気抵抗が低く、安価に製造できる透
明電極材料に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】近年、携帯電話・無線Ｌ
ＡＮなどの通信システムの発達により、オフィス情報保
護、および通信混線防止の目的で建物をブロック毎にシ
ールド材で囲み、内外の電波を遮断する必要がでてき
た。特に、窓などの開口部のシールドには透明性も同時
に要求されるため、ＩＴＯなどの透明導電膜を形成した
ガラスが商品化されている。
ＡＮなどの通信システムの発達により、オフィス情報保
護、および通信混線防止の目的で建物をブロック毎にシ
ールド材で囲み、内外の電波を遮断する必要がでてき
た。特に、窓などの開口部のシールドには透明性も同時
に要求されるため、ＩＴＯなどの透明導電膜を形成した
ガラスが商品化されている。
【０００３】一般にＩＴＯ膜形成は真空蒸着法が使えな
いため、成膜に長時間を要するスパッタリング法で行わ
れており生産性が悪い。さらにガラスのような硬質材料
の場合、アルミ蒸着プラスチックフィルムの様なロール
・ツウ・ロールの連続生産方式が取れないため、バッチ
生産を余儀なくされている。従って現在市販されている
ＩＴＯガラス基板は高価である。特にビル用のシールド
ガラスは大型であり、取り扱いが難しい上に特別な大型
の処理装置が必要となる為、極めて高価なものになって
いる。近年外壁をほとんどガラスで覆われたようなビル
の建築が進んでいるが、このような建築物の電磁波シー
ルドには膨大な経費がかかる為、ＩＴＯガラスに替わり
低価格で大型のシールドガラスに適用できる透明電極材
料が切望されている。
いため、成膜に長時間を要するスパッタリング法で行わ
れており生産性が悪い。さらにガラスのような硬質材料
の場合、アルミ蒸着プラスチックフィルムの様なロール
・ツウ・ロールの連続生産方式が取れないため、バッチ
生産を余儀なくされている。従って現在市販されている
ＩＴＯガラス基板は高価である。特にビル用のシールド
ガラスは大型であり、取り扱いが難しい上に特別な大型
の処理装置が必要となる為、極めて高価なものになって
いる。近年外壁をほとんどガラスで覆われたようなビル
の建築が進んでいるが、このような建築物の電磁波シー
ルドには膨大な経費がかかる為、ＩＴＯガラスに替わり
低価格で大型のシールドガラスに適用できる透明電極材
料が切望されている。
【０００４】一方、ＩＴＯ膜をポリエチレンフタレート
(ＰＥＴ)等の透明プラスチックフィルム上に形成した透
明導電性フィルムも市販されている。このフィルムはロ
ール・ツウ・ロールの連続生産方式が取れるため、比較
的安価であるが、プラスチックフィルム上のＩＴＯ膜は
導電性が悪く、電磁波シールドに必要な低電気抵抗値の
膜が得られない。また、ＩＴＯ膜の膜厚を上げれば抵抗
値は下がるが透明性が悪くなる傾向がある。
(ＰＥＴ)等の透明プラスチックフィルム上に形成した透
明導電性フィルムも市販されている。このフィルムはロ
ール・ツウ・ロールの連続生産方式が取れるため、比較
的安価であるが、プラスチックフィルム上のＩＴＯ膜は
導電性が悪く、電磁波シールドに必要な低電気抵抗値の
膜が得られない。また、ＩＴＯ膜の膜厚を上げれば抵抗
値は下がるが透明性が悪くなる傾向がある。
【０００５】このＩＴＯガラスは電磁波シールドの用途
だけでなく、透明電極基板として液晶表示素子、太陽電
池等の幅広い用途に用いられている。ここでは低価格の
要望の外に、表示速度の向上、エネルギー変換効率の向
上の目的で、現行ＩＴＯガラスよりさらに透明性が良
く、低い電気抵抗値の透明電極材料が要望されている。
だけでなく、透明電極基板として液晶表示素子、太陽電
池等の幅広い用途に用いられている。ここでは低価格の
要望の外に、表示速度の向上、エネルギー変換効率の向
上の目的で、現行ＩＴＯガラスよりさらに透明性が良
く、低い電気抵抗値の透明電極材料が要望されている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、０.５μ〜
１００μの線幅で導電性線分パターンを、透明材料上に
金属薄膜で描くことで、低電気抵抗値の透明電極材料が
得られることを見いだした。
１００μの線幅で導電性線分パターンを、透明材料上に
金属薄膜で描くことで、低電気抵抗値の透明電極材料が
得られることを見いだした。
【０００７】また、食品包装用として安価に市販されて
いるアルミ蒸着フィルムをアルカリ現像型エッチングレ
ジストを用いてフォトリソグラフィー法でパターン形成
することで、低コストで効率よく透明電極材料が得られ
ることも見いだした。
いるアルミ蒸着フィルムをアルカリ現像型エッチングレ
ジストを用いてフォトリソグラフィー法でパターン形成
することで、低コストで効率よく透明電極材料が得られ
ることも見いだした。
【０００８】さらに、この蒸着金属で描かれたパターン
上に透明導電膜を全面に蒸着した透明電極材料は液晶表
示素子などの一般の透明電極基板にも使用可能で、現行
のＩＴＯガラスより透明性が高いうえに、低電気抵抗値
であることを見いだし本発明を完成するに至った。
上に透明導電膜を全面に蒸着した透明電極材料は液晶表
示素子などの一般の透明電極基板にも使用可能で、現行
のＩＴＯガラスより透明性が高いうえに、低電気抵抗値
であることを見いだし本発明を完成するに至った。
【０００９】即ち、透明支持体と該支持体上に形成され
た導電性材料からなる導電性線分パターンとからなる透
明電極材料であって、該導電性線分パターンが厚さ０.
０２〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電気的導通を
保持しかつ透明支持体の透明性も保持するようにパター
ン化した金属薄膜である透明電極材料を提供する。
た導電性材料からなる導電性線分パターンとからなる透
明電極材料であって、該導電性線分パターンが厚さ０.
０２〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電気的導通を
保持しかつ透明支持体の透明性も保持するようにパター
ン化した金属薄膜である透明電極材料を提供する。
【００１０】本発明に用いられる透明支持体とは硬質透
明支持体(たとえば、ガラス)および透明プラスチックフ
ィルム(たとえば、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥ
Ｔ)フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレン
フィルムなど)が挙げられる。面積の小さなものではガ
ラス上に導電性線分パターンを形成することも容易であ
るが、大面積のものになると透明プラスチックフィルム
上に導電性線分パターンを形成し、これを適当な基材、
たとえばガラスなどに張り付けることの方が容易であ
る。本発明の透明支持体はその表面に形成される導電性
線分パターンとの関係から、基本的に絶縁性であること
は言うまでもない。
明支持体(たとえば、ガラス)および透明プラスチックフ
ィルム(たとえば、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥ
Ｔ)フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレン
フィルムなど)が挙げられる。面積の小さなものではガ
ラス上に導電性線分パターンを形成することも容易であ
るが、大面積のものになると透明プラスチックフィルム
上に導電性線分パターンを形成し、これを適当な基材、
たとえばガラスなどに張り付けることの方が容易であ
る。本発明の透明支持体はその表面に形成される導電性
線分パターンとの関係から、基本的に絶縁性であること
は言うまでもない。
【００１１】上記透明支持体上には、導電性材料からな
る導電性線分パターンが形成される。導電性線分パター
ンは厚さ０.０２〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電
気的導通を保持しかつ透明支持体の透明性も保持するよ
うにパターン化した金属薄膜である。このような導電性
線分パターンは、上記透明支持体上に別に形成された導
電性線分パターンを張り付けるようなことも可能である
が、実際上はそのようなことは難しい。したがって、一
旦透明支持体上全面に金属薄膜を形成した後、これを適
当な方法でパターン化することが一般的に行われる。
る導電性線分パターンが形成される。導電性線分パター
ンは厚さ０.０２〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電
気的導通を保持しかつ透明支持体の透明性も保持するよ
うにパターン化した金属薄膜である。このような導電性
線分パターンは、上記透明支持体上に別に形成された導
電性線分パターンを張り付けるようなことも可能である
が、実際上はそのようなことは難しい。したがって、一
旦透明支持体上全面に金属薄膜を形成した後、これを適
当な方法でパターン化することが一般的に行われる。
【００１２】透明支持体上に金属薄膜を形成する方法は
金属を蒸着、スパッタリングまたは無電解メッキするこ
とにより所定の厚さの金属薄膜が得られる。金属薄膜の
膜厚は通常０.０２〜２０μの範囲である。２０μを越
えると、生産性が悪く、逆に０.０２μでは十分な低い
電気抵抗値の材料が得られない。通常この膜厚レベルの
金属薄膜の生産には、高速連続生産が可能な真空蒸着法
が最も適している。使用しうる金属は導電性が確保され
れば、いかなるものを用いてもよい、たとえば鉄、アル
ミニウム、銅、あるいはニッケルなどが挙げられるが、
これらに限定されるものではない。特に低い電気抵抗値
が必要な場合、金属箔をラミネートするか、上記金属薄
膜上に電気メッキした材料も使用できるが、２０μを越
えると細線の形成が困難になり、透明性が保てなくな
る。
金属を蒸着、スパッタリングまたは無電解メッキするこ
とにより所定の厚さの金属薄膜が得られる。金属薄膜の
膜厚は通常０.０２〜２０μの範囲である。２０μを越
えると、生産性が悪く、逆に０.０２μでは十分な低い
電気抵抗値の材料が得られない。通常この膜厚レベルの
金属薄膜の生産には、高速連続生産が可能な真空蒸着法
が最も適している。使用しうる金属は導電性が確保され
れば、いかなるものを用いてもよい、たとえば鉄、アル
ミニウム、銅、あるいはニッケルなどが挙げられるが、
これらに限定されるものではない。特に低い電気抵抗値
が必要な場合、金属箔をラミネートするか、上記金属薄
膜上に電気メッキした材料も使用できるが、２０μを越
えると細線の形成が困難になり、透明性が保てなくな
る。
【００１３】上記の金属薄膜が予め形成された材料とし
て、アルミ蒸着フィルムが大量かつ安価に生産され、市
場に投入されている。たとえば、ポテトチップスに代表
されるスナック菓子類の包装にも用いられている。この
ものは１〜３m幅の連続真空蒸着装置で大量に生産され
ており、本発明に最も好適に使用しうることができる。
て、アルミ蒸着フィルムが大量かつ安価に生産され、市
場に投入されている。たとえば、ポテトチップスに代表
されるスナック菓子類の包装にも用いられている。この
ものは１〜３m幅の連続真空蒸着装置で大量に生産され
ており、本発明に最も好適に使用しうることができる。
【００１４】本発明で言うところの導電性線分パターン
は電気的導通を保持し、かつ透明支持体の透明性も保持
するようにパターン化されている。このようなパターン
は図１(ａ)〜(ｅ)に示されるような、網目状、格子状な
どのパターンが用いられる。このような導電性線分パタ
ーンは複数の線分(１次元の線分)が交差して電気的な導
通状態を確保しているので、２次元パターンと呼ぶこと
も可能である。またこのように細い線幅のパターンであ
れば、下記にも述べるが、可視光が透過することがで
き、透明性が確保される。このような導電性線分パター
ンは電磁波フィルターとしての利用価値も生じる。電磁
波は波長の１／５０以下の最大間隙の導電性線分パター
ン(２次元パターン)を通過することができないことが判
った。本発明の対照とするシールドすべき電波波長は
０.５cm〜３００cm(６０ＧＨz〜１００ＭＨz)であり、
１００μ以下の間隙の導電性線分パターンは電波シール
ド能力を十分有している。一方、透明性を支配する可視
光も電磁波の一種であると考えられるが、波長が極端に
短くて、１μ以下であり、通常可視光はこのような導電
性線分パターンを通過するため、透明性は確保される。
は電気的導通を保持し、かつ透明支持体の透明性も保持
するようにパターン化されている。このようなパターン
は図１(ａ)〜(ｅ)に示されるような、網目状、格子状な
どのパターンが用いられる。このような導電性線分パタ
ーンは複数の線分(１次元の線分)が交差して電気的な導
通状態を確保しているので、２次元パターンと呼ぶこと
も可能である。またこのように細い線幅のパターンであ
れば、下記にも述べるが、可視光が透過することがで
き、透明性が確保される。このような導電性線分パター
ンは電磁波フィルターとしての利用価値も生じる。電磁
波は波長の１／５０以下の最大間隙の導電性線分パター
ン(２次元パターン)を通過することができないことが判
った。本発明の対照とするシールドすべき電波波長は
０.５cm〜３００cm(６０ＧＨz〜１００ＭＨz)であり、
１００μ以下の間隙の導電性線分パターンは電波シール
ド能力を十分有している。一方、透明性を支配する可視
光も電磁波の一種であると考えられるが、波長が極端に
短くて、１μ以下であり、通常可視光はこのような導電
性線分パターンを通過するため、透明性は確保される。
【００１５】導電性線分パターンの線幅は電気的導通さ
え取れていれば細いほど透明性の点で優れているが、導
電性線分パターンを形成する製法に限度があり、現在の
技術では０.５μが下限であると考えられる。また、細
線化の限界は製造装置のクリーン度にもよる。この点で
は多線交差型の図２や図３のようなパターンを選ぶこと
が、低い抵抗値をうるのに対し好ましい。
え取れていれば細いほど透明性の点で優れているが、導
電性線分パターンを形成する製法に限度があり、現在の
技術では０.５μが下限であると考えられる。また、細
線化の限界は製造装置のクリーン度にもよる。この点で
は多線交差型の図２や図３のようなパターンを選ぶこと
が、低い抵抗値をうるのに対し好ましい。
【００１６】導電性線分パターンを形成する方法とし
て、たとえば予め水溶性インクを印刷した非蒸着面に金
属を蒸着し、その後インキ塗布部を水洗脱離する方法あ
るいは、全面蒸着後エッチングレジストを印刷した後、
蒸着膜をエッチングして所望のパターンを形成するリソ
グラフ法などが挙げられる。好ましくは写真印刷法でエ
ッチングレジストを印刷し、パターンを形成する方法
(フォトリソグラフィー法)である。この方法は１００μ
以下の細線パターンが描けるため、微細な導電性線分パ
ターンが形成でき、高周波数領域に対応した電磁波シー
ルド材および低電気抵抗値の透明電極基板が得られる。
フォトリソグラフィー法をさらに詳しく説明すると、金
属薄膜上に、感光性エッチングレジストを全面に塗布し
た後、パターンマスクを密着させて露光し、その後現像
液で露光し、露光部と未露光部との溶解度差を利用して
レジストパターンを形成する。さらにエッチング液でそ
のパターン部分を除いた金属を溶出して金属パターンを
形成する。本発明の場合、金属蒸着部分がアルミニウム
の場合、アルカリ現像型レジストを用いればエッチング
する金属が現像液に可溶であるため、現像工程で同時に
金属エッチングが行われ、パターン形成が容易になる。
て、たとえば予め水溶性インクを印刷した非蒸着面に金
属を蒸着し、その後インキ塗布部を水洗脱離する方法あ
るいは、全面蒸着後エッチングレジストを印刷した後、
蒸着膜をエッチングして所望のパターンを形成するリソ
グラフ法などが挙げられる。好ましくは写真印刷法でエ
ッチングレジストを印刷し、パターンを形成する方法
(フォトリソグラフィー法)である。この方法は１００μ
以下の細線パターンが描けるため、微細な導電性線分パ
ターンが形成でき、高周波数領域に対応した電磁波シー
ルド材および低電気抵抗値の透明電極基板が得られる。
フォトリソグラフィー法をさらに詳しく説明すると、金
属薄膜上に、感光性エッチングレジストを全面に塗布し
た後、パターンマスクを密着させて露光し、その後現像
液で露光し、露光部と未露光部との溶解度差を利用して
レジストパターンを形成する。さらにエッチング液でそ
のパターン部分を除いた金属を溶出して金属パターンを
形成する。本発明の場合、金属蒸着部分がアルミニウム
の場合、アルカリ現像型レジストを用いればエッチング
する金属が現像液に可溶であるため、現像工程で同時に
金属エッチングが行われ、パターン形成が容易になる。
【００１７】上述のような構成により本発明の透明電極
が形成される。本発明の透明電極は電磁波シールド能力
を有する場合には、パターン形成面に接着剤または粘着
剤層を形成し、窓ガラスなどに張り付ける方法がある
が、２枚のガラス板で挟んで、複合ガラスとして使用す
る方法も考えられる。
が形成される。本発明の透明電極は電磁波シールド能力
を有する場合には、パターン形成面に接着剤または粘着
剤層を形成し、窓ガラスなどに張り付ける方法がある
が、２枚のガラス板で挟んで、複合ガラスとして使用す
る方法も考えられる。
【００１８】一方、液晶表示素子のような透明電磁基板
に使用する場合、この材料を部分エッチングして電極パ
ターンを形成するため金属面を露出しておく必要があ
る。金属蒸着膜は極めて薄膜であるため、空気酸化によ
る影響を受けやすい。さらに本発明の電極は平面電極で
はないので、電極面積はＩＴＯ電極と異なる。これらの
問題を解決する手段として、本発明の透明電極材料のパ
ターン面に透明電極(ＩＴＯ)などをスパッタリングする
のが好ましい。通常フィルム上のＩＴＯ膜は電気抵抗値
が高く、かなり厚い膜厚で形成しなければならないが、
本発明の場合金属パターンが電流の主たる通路になるた
め、透明電極は極めて薄くてよい。透明電極の薄膜化
は、スパッタリング時間の短縮ばかりでなく、この材料
を用いた電極パターン形成時のエッチング時間の短縮に
なり、さらに高精度の電極パターン形成も可能になる。
通常液晶電子素子のような透明電極基板に使用されてい
るＩＴＯガラス基板の膜厚は、表面抵抗値１０Ω／□を
実現するために、ＩＴＯ膜で２０００Å以上必要である
が、本発明の場合、５００Å以下でもこの値が実現でき
る。
に使用する場合、この材料を部分エッチングして電極パ
ターンを形成するため金属面を露出しておく必要があ
る。金属蒸着膜は極めて薄膜であるため、空気酸化によ
る影響を受けやすい。さらに本発明の電極は平面電極で
はないので、電極面積はＩＴＯ電極と異なる。これらの
問題を解決する手段として、本発明の透明電極材料のパ
ターン面に透明電極(ＩＴＯ)などをスパッタリングする
のが好ましい。通常フィルム上のＩＴＯ膜は電気抵抗値
が高く、かなり厚い膜厚で形成しなければならないが、
本発明の場合金属パターンが電流の主たる通路になるた
め、透明電極は極めて薄くてよい。透明電極の薄膜化
は、スパッタリング時間の短縮ばかりでなく、この材料
を用いた電極パターン形成時のエッチング時間の短縮に
なり、さらに高精度の電極パターン形成も可能になる。
通常液晶電子素子のような透明電極基板に使用されてい
るＩＴＯガラス基板の膜厚は、表面抵抗値１０Ω／□を
実現するために、ＩＴＯ膜で２０００Å以上必要である
が、本発明の場合、５００Å以下でもこの値が実現でき
る。
【００１９】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。本発明はこれら実施例に限定されるものと解しては
ならない。
る。本発明はこれら実施例に限定されるものと解しては
ならない。
【００２０】＜実施例１＞尾池工業製アルミ蒸着ＰＥＴ
フィルム(蒸着膜厚２０００Å、ＰＥＴ厚１００μ)上に
日本ペイント製ポジ型液状レジスト(オプトＥＲ Ｐ−
６００)を乾燥膜厚０.５μになるように塗布した後熱風
オーブンで乾燥せしめた。この上に図２または図３のパ
ターンマスクを重ね、平行光露光機で３０mＪ／cm2露光
した後１％苛性ソーダ水で現像と同時に露出したアルミ
蒸着膜部分をエッチングし、２種類のアルミ蒸着パター
ンフィルムを得、これをそのまま透明電極材料とした。
フィルム(蒸着膜厚２０００Å、ＰＥＴ厚１００μ)上に
日本ペイント製ポジ型液状レジスト(オプトＥＲ Ｐ−
６００)を乾燥膜厚０.５μになるように塗布した後熱風
オーブンで乾燥せしめた。この上に図２または図３のパ
ターンマスクを重ね、平行光露光機で３０mＪ／cm2露光
した後１％苛性ソーダ水で現像と同時に露出したアルミ
蒸着膜部分をエッチングし、２種類のアルミ蒸着パター
ンフィルムを得、これをそのまま透明電極材料とした。
【００２１】＜実施例２＞常法により、実施例１で得た
アルミ蒸着パターンフィルム上にＩＴＯを膜厚５００Å
になるようにスパッタリングし、透明電極材料を得た。 ＜実施例３＞実施例１において、アルミ蒸着パターンフ
ィルムの代わりに、市販のアルミ箔ラミネートフィルム
(膜厚１８μ：パナック(株)製)を用いること以外は、実
施例１と同様に作成したアルミ箔パターンフィルムを用
い、実施例２と同様の方法でＩＴＯをスパッタリング
し、透明電極材料を得た。
アルミ蒸着パターンフィルム上にＩＴＯを膜厚５００Å
になるようにスパッタリングし、透明電極材料を得た。 ＜実施例３＞実施例１において、アルミ蒸着パターンフ
ィルムの代わりに、市販のアルミ箔ラミネートフィルム
(膜厚１８μ：パナック(株)製)を用いること以外は、実
施例１と同様に作成したアルミ箔パターンフィルムを用
い、実施例２と同様の方法でＩＴＯをスパッタリング
し、透明電極材料を得た。
【００２２】＜比較例＞市販金属メッシュ(線径４４
μ、線間１４０μ)入りシールドガラスを比較例１とし
た。市販ＩＴＯシールドガラスを比較例２とした。市販
ＩＴＯガラスを比較例３(ＩＴＯ膜厚２０００Å)とし
た。市販ＩＴＯ透明導電性フィルム(ＩＴＯ膜厚１００
０Å)を比較例４とした。実施例１〜２、比較例１〜４
の透明電極材料を下記測定法で測定した結果を表１に示
す。
μ、線間１４０μ)入りシールドガラスを比較例１とし
た。市販ＩＴＯシールドガラスを比較例２とした。市販
ＩＴＯガラスを比較例３(ＩＴＯ膜厚２０００Å)とし
た。市販ＩＴＯ透明導電性フィルム(ＩＴＯ膜厚１００
０Å)を比較例４とした。実施例１〜２、比較例１〜４
の透明電極材料を下記測定法で測定した結果を表１に示
す。
【００２３】＜表面抵抗値の測定＞三和無線測器研究所
製のホール係数測定装置(ＭＩ−６７５)により表面抵抗
を測定した。
製のホール係数測定装置(ＭＩ−６７５)により表面抵抗
を測定した。
【００２４】＜光線透過率の測定＞大塚電子製、瞬間マ
ルチ測光により光線透過率を測定した。
ルチ測光により光線透過率を測定した。
【００２５】＜電波シールド性能の測定方法＞対向させ
て設置した１対のガイドホーンアンテナにネットワーク
アナライザー(ＨＰ社製 ８５１０Ｂ)を接続し、フリー
スペースタイムドメイン法により、アンテナ間の直接伝
送波のＳパラメータ(Ｓ２１)を測定した。これを透過減
衰量０dＢとして、次にアンテナ間にシールド性能を評
価する試料を設置し、同様にしてＳ２１を測定して、透
過減衰量を得た。この測定周波数１０ＧＨＺの値をシー
ルド性能とした。
て設置した１対のガイドホーンアンテナにネットワーク
アナライザー(ＨＰ社製 ８５１０Ｂ)を接続し、フリー
スペースタイムドメイン法により、アンテナ間の直接伝
送波のＳパラメータ(Ｓ２１)を測定した。これを透過減
衰量０dＢとして、次にアンテナ間にシールド性能を評
価する試料を設置し、同様にしてＳ２１を測定して、透
過減衰量を得た。この測定周波数１０ＧＨＺの値をシー
ルド性能とした。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【発明の効果】本発明の実施例１〜２と比較例１〜４を
比べれば判る通り、金属蒸着導電性線分パターンの形成
により、現在電波シールド及び透明電極の分野で用いら
れているＩＴＯスパッタリング製品より透明性が高く、
低電気抵抗値の透明電極材料が得られる。しかもこの材
料は、取り扱いやすいフィルム状にもできるため、容易
に大型のものが得られる。また極めて安価なアルミ蒸着
フィルムを用いることができ、ＩＴＯスパッタリング製
品より高速生産が可能なため、低コストで提供すること
が可能になる。
比べれば判る通り、金属蒸着導電性線分パターンの形成
により、現在電波シールド及び透明電極の分野で用いら
れているＩＴＯスパッタリング製品より透明性が高く、
低電気抵抗値の透明電極材料が得られる。しかもこの材
料は、取り扱いやすいフィルム状にもできるため、容易
に大型のものが得られる。また極めて安価なアルミ蒸着
フィルムを用いることができ、ＩＴＯスパッタリング製
品より高速生産が可能なため、低コストで提供すること
が可能になる。
【図１】 本発明の導電性線分パターンの例である。
【図２】 実施例で用いた、本発明の２線交差型網目状
導電性線分パターンである。
導電性線分パターンである。
【図３】 実施例で用いた、本発明の４線交差型網目状
導電性線分パターンである。
導電性線分パターンである。
Claims (5)
- 【請求項１】 透明支持体と該支持体上に形成された導
電性材料からなる導電性線分パターンとからなる透明電
極材料であって、該導電性線分パターンが厚さ０.０２
〜２０μ、線幅０.５〜１００μで、電気的導通を保持
しかつ透明支持体の透明性も保持するようにパターン化
した金属薄膜である透明電極材料。 - 【請求項２】 透明支持体が透明プラスチックフィルム
である請求項１記載の透明電極材料。 - 【請求項３】 導電性線分パターンが透明支持体上に金
属薄膜を蒸着により形成し、ついでフォトリソグラフィ
ー法によりパターンを形成することにより得られる請求
項１記載の透明電極材料。 - 【請求項４】 導電性線分パターンが蒸着アルミ薄膜か
ら形成される請求項３記載の透明電極材料。 - 【請求項５】 パターン化した金属薄膜上に５００Å以
下の透明導電膜を全体に形成した請求項１記載の透明記
録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30724995A JPH09147639A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | 透明電極材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30724995A JPH09147639A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | 透明電極材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09147639A true JPH09147639A (ja) | 1997-06-06 |
Family
ID=17966834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30724995A Pending JPH09147639A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | 透明電極材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09147639A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
| JP2008277233A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-11-13 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フィルム及びその製造方法 |
| WO2009084851A2 (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-09 | Dongjin Semichem Co., Ltd. | Conductive glass for dye sensitive solar cell and method of preparing the same |
| WO2009157244A1 (ja) * | 2008-06-24 | 2009-12-30 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 透明導電性基板、透明導電性基板の製造方法、及び電気化学表示素子 |
| WO2010007871A1 (ja) | 2008-07-17 | 2010-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 曲面状成形体及びその製造方法並びに車両灯具用前面カバー及びその製造方法 |
| WO2010106933A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Fujifilm Corporation | Inorganic phosphor particle and dispersion-type electroluminescence device using the same |
| WO2010106934A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Fujifilm Corporation | Dispersion-type electroluminescence device |
| KR101051448B1 (ko) * | 2010-10-26 | 2011-07-22 | 한국기계연구원 | 인쇄기반 금속 배선을 이용한 투명전극 제조 방법 및 그 투명전극 |
| EP2369674A2 (en) | 2010-03-25 | 2011-09-28 | Sony Ericsson Mobile Communications Japan, Inc. | Antenna device and mobile device |
| US8513878B2 (en) | 2006-09-28 | 2013-08-20 | Fujifilm Corporation | Spontaneous emission display, spontaneous emission display manufacturing method, transparent conductive film, electroluminescence device, solar cell transparent electrode, and electronic paper transparent electrode |
| WO2016185942A1 (ja) * | 2015-05-19 | 2016-11-24 | 富士フイルム株式会社 | アンテナ、アンテナの製造方法およびタッチセンサ |
-
1995
- 1995-11-27 JP JP30724995A patent/JPH09147639A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8513878B2 (en) | 2006-09-28 | 2013-08-20 | Fujifilm Corporation | Spontaneous emission display, spontaneous emission display manufacturing method, transparent conductive film, electroluminescence device, solar cell transparent electrode, and electronic paper transparent electrode |
| WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
| JP2008277233A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-11-13 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フィルム及びその製造方法 |
| WO2009084851A2 (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-09 | Dongjin Semichem Co., Ltd. | Conductive glass for dye sensitive solar cell and method of preparing the same |
| WO2009084851A3 (en) * | 2007-12-27 | 2009-10-29 | Dongjin Semichem Co., Ltd. | Conductive glass for dye sensitive solar cell and method of preparing the same |
| WO2009157244A1 (ja) * | 2008-06-24 | 2009-12-30 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 透明導電性基板、透明導電性基板の製造方法、及び電気化学表示素子 |
| WO2010007871A1 (ja) | 2008-07-17 | 2010-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 曲面状成形体及びその製造方法並びに車両灯具用前面カバー及びその製造方法 |
| JP2010045014A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | 曲面状成形体及びその製造方法並びに車両灯具用前面カバー及びその製造方法 |
| US8940386B2 (en) | 2008-07-17 | 2015-01-27 | Fujifilm Corporation | Formed body with curved surface shape, method of producing the formed body, front cover for vehicle lighting device, and method of producing the front cover |
| WO2010106934A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Fujifilm Corporation | Dispersion-type electroluminescence device |
| WO2010106933A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Fujifilm Corporation | Inorganic phosphor particle and dispersion-type electroluminescence device using the same |
| EP2369674A2 (en) | 2010-03-25 | 2011-09-28 | Sony Ericsson Mobile Communications Japan, Inc. | Antenna device and mobile device |
| US8570225B2 (en) | 2010-03-25 | 2013-10-29 | Sony Corporation | Antenna device and mobile device |
| KR101051448B1 (ko) * | 2010-10-26 | 2011-07-22 | 한국기계연구원 | 인쇄기반 금속 배선을 이용한 투명전극 제조 방법 및 그 투명전극 |
| US8912086B2 (en) | 2010-10-26 | 2014-12-16 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Method for manufacturing transparent electrode using print-based metal wire and transparent electrode manufactured thereby |
| WO2016185942A1 (ja) * | 2015-05-19 | 2016-11-24 | 富士フイルム株式会社 | アンテナ、アンテナの製造方法およびタッチセンサ |
| US10747375B2 (en) | 2015-05-19 | 2020-08-18 | Fujifilm Corporation | Touch sensor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI721822B (zh) | 一種液晶天線及其製作方法 | |
| JP3874806B2 (ja) | 新規な導電性ループパターン及びこれを有する周波数選択性電磁波シールド材 | |
| JPH09147639A (ja) | 透明電極材料 | |
| US5489489A (en) | Substrate having an optically transparent EMI/RFI shield | |
| CN111355026B (zh) | 透明天线及其制作方法、电子设备 | |
| US6989487B2 (en) | Electromagnetic wave shielding film | |
| CN106681561B (zh) | 触控面板及其制造方法、触控显示装置 | |
| KR20020011716A (ko) | 도금방식에 의한 도체박막을 사용하는 터치판넬 | |
| JP2979021B2 (ja) | 透視性電磁波シールド材料とその製造方法 | |
| JPH11195890A (ja) | 特定範囲の周波数の電磁波を反射する新規な導電性双極性素子パターン及びこれを有する周波数選択性電磁波シールド材 | |
| JPWO2003045127A1 (ja) | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 | |
| CN111370854B (zh) | 天线及其制作方法、电子设备 | |
| TW490880B (en) | Printed-on-display antenna installed on the display of wireless mobile communication terminal | |
| JP2002317280A (ja) | 金属化プラスチックフィルム | |
| US10305163B2 (en) | Method and apparatus for semitransparent antenna and transmission lines | |
| WO2021174422A1 (zh) | 透明天线及其制作方法、电子设备 | |
| JPH11307989A (ja) | 周波数選択表面を有する電波遮蔽材料およびその製造方法 | |
| CN218735803U (zh) | 一种低方阻金属网格屏蔽膜 | |
| WO2021174426A1 (zh) | 天线及其制作方法、电子设备 | |
| CN213122542U (zh) | 电致变色功能窗 | |
| CN110165415B (zh) | 一种镂空型的上下层耦合型类电磁诱导透明 | |
| KR101118801B1 (ko) | 디스플레이용 단위기판의 열변형 방지장치 | |
| EP1492398A1 (en) | Electromagnetic wave shielding film | |
| CN117926378A (zh) | 一种金属可逆电沉积微波动态反射可调器件及制备方法 | |
| CN115882222A (zh) | 一种基于微金属线结构的高透光率宽带透射阵天线 |