JP3388682B2 - 電磁波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フィルムの製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性と透明性を有するフィルム及び
該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害（Electr
o-Magnetic Interference;EMI）も増加の一途をたどっ
ている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズ
に分けられる。伝導ノイズの対策としては、ノイズフィ
ルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノイズの対策
としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、
筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回
路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔
で巻き付けるなどの方法が取られている。これらの方法
では、回路や電源ブロックのＥＭＩシールド効果を期待
できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面より
発生するＥＭＩシールド用途としては、不透明であるた
め適したものではなかった。

【０００３】ＥＭＩシールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だＥＭＩシールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷したＥＭＩシール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成したシールド材料（特開平５−２８３８８９号
公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】（ＥＭＩシールド性と
透明性） ＥＭＩシールド性と透明性を両立させる方法として、特
開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１
号公報に示されている透明性基材上に金属または金属酸
化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法は、透明性が
達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２０００Å）にす
ると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎるため、１ＧＨ
ｚで要求される３０ｄＢ以上のシールド効果に対して２
０ｄＢ以下と不十分であった。（視認性） 良導電性繊維を透明基材に埋め込んだＥＭＩシールド材
（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９
１２号公報）では、１ＧＨｚのＥＭＩシールド効果は４
０〜５０ｄＢと十分大きいが、電磁波漏れのないように
導電性繊維を規則配置させるために必要な繊維径が３５
μｍと太すぎるため、繊維が見えてしまい（以後視認性
という）ディスプレイ用途には適したものではなかっ
た。また、特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−
５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明
基板上に直接印刷したＥＭＩシールド材料の場合も同様
に、印刷精度の限界からライン幅は、１００μｍ前後と
なり視認性が発現するため適したものではなかった。（密着性） さらに特開平５−２８３８８９号公報に記載の厚さが２
ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂
層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシ
ュパターンを形成したシールド材料では、無電解めっき
の密着力を確保するために、透明基板の表面を粗化する
必要がある。この粗化手段として、一般にクロム酸や過
マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用しなければな
らず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂では、満足できる
粗化を行うことは困難となる。この方法により、ＥＭＩ
シールド性と透明性は達成できたとしても、透明基板の
厚さを小さくすることは困難で、フィルム化には適して
いない。透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させる
ことができないため、そこからの電磁波の漏洩が大きく
なる。また製造面においては、シールド材料を巻物等に
することができないため嵩高くなることや自動化に適し
ていないために製造コストがかさむという欠点もある。（課題のまとめ） ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性につ
いては、１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以上のＥＭＩシール
ド機能ばかりでなく、良好な可視光透過性、さらに可視
光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止する
ためディスプレイ面に密着して貼付けられる接着性、シ
ールド材の存在を目視で確認することができない特性で
ある非視認性が必要とされる。また、接着性については
ガラスや汎用ポリマー板に対し比較的低温で容易に貼付
き、長期間にわたって良好な密着性を有することが必要
である。しかし、これらの特性を十分に満たすものは得
られていなかった。本発明はかかる点に鑑み、ＥＭＩシ
ールド性と透明性・非視認性を有する電磁波シールド性
と透明性を有するフィルムを提供することを目的とす
る。 また、本発明は、ＥＭＩシールド性と透明性・非視
認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性と
透明性を有するフィルムを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、透明プラスチ
ック基材に接着層を介して接着層への貼合せ面が粗面化
されている導電性材料の金属箔を貼り合わせて接着層に
金属箔の貼合せ面の粗面形状が転写される工程と、貼り
合わせた金属箔にケミカルエッチングプロセス（フォト
リソ工程）によってライン幅が４０μｍ以下、ライン間
隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下である
金属箔からなる幾何学図形を形成する工程と、金属箔を
除去して形成した幾何学図形を含む接着層の粗面形状が
転写された部分をその接着層との屈折率の差が０．１４
以下である接着剤で被覆する工程とを含む電磁波シール
ド性と透明性を有する用フィルムの製造法である。ま
た、本発明は、上記透明プラスチック基材の接着層側表
面に凹凸面を形成する工程を有する電磁波シールド性と
透明性を有する用フィルムの製造法である。更に、本発
明は、上記接着剤で被覆する工程により、接着層に形成
された凹凸面が接着剤で平滑に塗布される電磁波シール
ド性と透明性を有するディスプレイ用フィルムの製造法
である。また、本発明は、上記金属が少なくとも表面が
黒化処理された銅である電磁波シールド性と透明性を有
するディスプレイ用フィルムの製造法である。また、本
発明は、上記金属が常磁性金属である電磁波シールド性
と透明性を有するディスプレイ用フィルムの製造法であ
る。そして、本発明は、上記透明プラスチック基材がポ
リエチレンテレフタレートフィルムである電磁波シール
ド性と透明性を有するディスプレイ用フィルムの製造法
である。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明でいう透明プラスチック基材とは、ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート
などのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹
脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボ
ネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などの
プラスチックからなるフィルムで全可視光透過率が７０
％以上のものをいう。これらは本発明の目的を妨げない
程度に着色していても良く、さらに単層で使うこともで
きるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして使
ってもよい。このうち透明性、耐熱性、取り扱いやす
さ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルム
が最も適している。この透明プラスチック基材の厚み
は、薄いと取扱性が悪く、厚いと可視光の透過率が低下
するため５〜２００μｍが好ましい。さらに好ましく
は、１０〜１００μｍが、より好ましくは、２５〜５０
μｍである。

【０００７】本発明の導電性材料としては、銅、アルミ
ニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングス
テン、クロム、チタンなどの金属の内の１種または２種
以上を組み合わせた合金を使用することができる。導電
性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウム
またはニッケルが適しており、厚みが３〜４０μｍの金
属箔であることが好ましい。厚みが４０μｍ以上では、
ライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなるた
めであり、厚みが３μｍ以下では、表面抵抗が大きくな
り、シールド効果に劣るためである。導電性材料が、銅
であり、少なくともその表面が黒化処理されたものであ
ると、コントラストが高くなり好ましい。また、導電性
材料が経時的に酸化され退色されることが防止できる。
黒化処理は、幾何学図形の形成前後で行えば良いが、通
常形成後において、プリント配線板分野で行われている
方法を用いて行うことができる。例えば、亜塩素酸ナト
リウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／
ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９
５℃で２分間処理することにより行うことができる。ま
た、導電性材料が、常磁性金属であると、磁場シールド
性に優れるために好ましい。かかる導電性材料を上記プ
ラスチック基材に密着させる方法としては、アクリルや
エポキシ系樹脂を主成分とした接着層を介して貼り合わ
せるのが最も簡便である。導電層の膜厚を小さくする必
要がある場合には、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっき法な
どの薄膜形成技術のうちの１または２個以上の方法を組
み合わせることにより達成できる。導電性材料の膜厚
は、４０μｍ以下のものが適用できるが、薄いほどディ
スプレイの視野角が広がりＥＭＩシールド材料として好
ましく、１８μｍ以下とすることがさらに好ましい。

【０００８】本発明中の幾何学図形とは正三角形、二等
辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、
ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角
形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形な
どの（正）ｎ角形、円、だ円、星形などを組み合わせた
模様であり、これらの単位の単独の繰り返しあるいは２
種類以上の組み合わせで使うこともできる。ＥＭＩシー
ルド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光
透過性からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が
大きいほど開口率が上がり可視光透過性が大きくなるの
で有利である。このような幾何学図形を描く方法として
は、上記導電性材料付きの透明プラスチック基材をケミ
カルエッチングプロセスによって作製するのが、加工性
の点から効果的である。その他に、幾何学図形を描いた
マスクを用いて透明プラスチック基材上に配した感光性
樹脂層を露光、現像し無電解めっきや電気めっきを組み
合わせて幾何学図形を形成する方法などがある。

【０００９】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は２００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とされる。また幾何学図形の非視認性
の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光透過率の点
からライン間隔は５００μｍ以上、ライン厚み１８μｍ
以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大きいほど可視
光透過率は向上するが、この値が大きくなり過ぎると、
ＥＭＩシールド性が低下するため、１ｍｍ以下とするの
が好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形等の組合
わせ等で複雑となる場合、繰り返し単位を基準としてそ
の面積を正方形の面積に換算し、その一辺の長さをライ
ン間隔とする。

【００１０】次にこの幾何学図形を被覆するための接着
剤は前述した透明プラスチック基材との屈折率の差が
０．１４以下とされる。また透明プラスチック基材が接
着層を介して導電性材料と積層されている場合において
は、接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の
差が０．１４以下とされる。これは、透明プラスチック
基材と接着剤の屈折率、または接着剤と接着層の屈折率
が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率
の差が０．１４以下であると可視光透過率の低下が少な
く良好となる。そのような要件を満たす接着剤の材料と
しては、透明プラスチック基材がポリエチレンテレフタ
レート（ｎ=1.575；屈折率）の場合、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テ
トラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラ
ック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリ
アルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレ
フィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノ
ールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折率が1.55〜1.6
0）を使うことができる。エポキシ樹脂以外では天然ゴ
ム（ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.521）、ポリ
１，２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイソブテン（ｎ=
1.505〜1.51）、ポリブテン（ｎ=1.5125）、ポリ−２−
ヘプチル−１，３−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリ−２
−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン（ｎ=1.506）、ポリ
−１，３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの（ジ）エン
類、ポリオキシエチレン（ｎ=1.4563）、ポリオキシプ
ロピレン（ｎ=1.4495）、ポリビニルエチルエーテル
（ｎ=1.454）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ=1.459
1）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ=1.4563）などのポ
リエーテル類、ポリビニルアセテート（ｎ=1.4665）、
ポリビニルプロピオネート（ｎ=1.4665）などのポリエ
ステル類、ポリウレタン（ｎ=1.5〜1.6）、エチルセル
ロース（ｎ=1.479）、ポリ塩化ビニル（ｎ=1.54〜1.5
5）、ポリアクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリメタクリ
ロニトリル（ｎ=1.52）、ポリスルホン（ｎ=1.633）、
ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェノキシ樹脂（ｎ=1.5〜
1.6）などを挙げることができる。これらは、好適な可
視光透過率を発現する。

【００１１】一方、透明プラスチック基材がアクリル樹
脂の場合、上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート
（ｎ=1.4685）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.46
6）、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.46
3）、ポリ−ｔ-ブチルアクリレート（ｎ=1.4638）、ポ
リ−３−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、
ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.46
5）、ポリメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポ
リイソプロピルメタクリレート（ｎ=1.4728）、ポリド
デシルメタクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシル
メタクリレート（ｎ=1.4746）、ポリ−ｎ−プロピルメ
タクリレート（ｎ=1.484）、ポリ−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリ
エチルメタクリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ
−２−メチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.4868）、
ポリテトラカルバニルメタクリレート（ｎ=1.4889）、
ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=
1.4889）、ポリメチルメタクリレート（ｎ=1.4893）な
どのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能であ
る。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以
上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使う
こともできる。

【００１２】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレートなども使うこともできる。特に接着性の点か
ら、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート
が優れており、エポキシアクリレートとしては、１，６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコール
ジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエ
ーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジ
グリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタ
エリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付
加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水
酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共
重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができ
る。接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量
は、１，０００以上のものが使われる。分子量が１，０
００以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体へ
の密着性が低下する。

【００１３】接着剤の硬化剤としてはトリエチレンテト
ラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン
などのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水
ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフ
ェニルスルホン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェ
ノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメ
チルイミダゾールなどを使うことができる。これらは単
独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
これらの架橋剤の添加量は上記ポリマー１００重量部に
対して０．１〜５０重量部、好ましくは１〜３０重量部
の範囲で選択するのがよい。この添加量が、０．１重量
部未満であると硬化が不十分となり、５０重量部を越え
ると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合があ
る。本発明で使用する接着剤の樹脂組成物には必要に応
じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与
剤などの添加剤を配合してもよい。そして、この接着剤
の樹脂組成物は、透明プラスチック基材の表面に導電性
材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料の基材の一
部または全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、
加熱硬化工程をへたのち、接着フィルムにする。この接
着フィルムの接着剤によりＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶、ＥＬ
などのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリ
ル板、ガラス板等の板やシートに貼り付けてディスプレ
イに使用する。また、この接着フィルムは、電磁波を発
生する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞくた
めの窓や筐体に上記と同様にして使用する。さらに、電
波塔や高圧線等により電磁波障害を受ける恐れのある建
造物の窓や自動車の窓等に設ける。そして、導電性材料
で描かれた幾何学図形にはアース線を設けることが好ま
しい。

【００１４】本発明は、透明プラスチック基材上の導電
性材料が除去された部分は密着性向上のために意図的に
凹凸を有していたり、導電性材料の背面形状を転写した
りするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわ
れるが、その凹凸面に透明プラスチック基材と屈折率が
近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さえ
られ、透明性が発現するようになる。さらに透明プラス
チック基材上の導電性材料で描写された幾何学図形は、
ライン幅が非常に小さいため肉眼で視認されない。また
ピッチも十分に大きいため見掛け上透明性を発現すると
考えられる。一方、遮蔽すべき電磁波の波長に比べて、
幾何学図形のピッチは十分に小さいため、優れたシール
ド性を発現すると考えられる。

【００１５】

【実施例】（実施例１）＜接着フィルム１の作製例＞ 透明プラスチック基材として厚さ５０μｍの透明ＰＥＴ
フィルム（屈折率ｎ＝１．５７５）を用い、その上に接
着層となるエポキシ系接着シート（ニカフレックスＳＡ
Ｆ；ニッカン工業（株）製、ｎ＝１．５８）を介して導
電性材料である厚さ１８μｍの電解銅箔の粗化面がエポ
キシ系接着シート側になるようにして、１８０℃、３０
ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で加熱ラミネートして接着させ
た。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程
（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッ
チング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅２５
μｍ、ライン間隔５００μｍの銅格子パターンの幾何学
図形をＰＥＴフィルム上に形成し構成材料１を得た。こ
の構成材料１上に後述の接着剤１を乾燥塗布厚が約４０
μｍになるように塗布、乾燥して電磁波シールド性と透
明性を有するフィルム１を得た。そして、接着フィルム
１をロールラミネータを使用し市販のアクリル板（コモ
グラス；（株）クラレ製、厚み３ｍｍ）に１１０℃、２
０ｋｇｆ／ｃｍ^２の条件で加熱圧着した。

【００１６】（実施例２）＜接着フィルム２の作製例＞ 透明プラスチック基材として厚さ２５μｍの透明ＰＥＴ
フィルムを用い、この上に導電性材料である厚み２５μ
ｍのアルミニウム箔を、接着層となるパイララックスＬ
Ｆ−０２００（デュポン・ジャパンリミテッド製、アク
リル系接着フィルム、ｎ＝１．４７）を介して、ロール
ラミネータにより１７０℃、２０ｋｇ／ｃｍ2の条件で
ラミネートした。このアルミ付きＰＥＴフィルムに接着
フィルム１の作製例と同様のフォトリソ工程を経て、ラ
イン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍのアルミ格子パ
ターンの幾何学図形をＰＥＴフィルム上に形成し構成材
料２を得た。この構成材料２の上に後述の接着剤を乾燥
塗布厚が約３０μｍになるように塗布、乾燥して電磁波
シールド性と透明性を有するフィルム２を得た。そし
て、接着フィルム２を市販のアクリル板に１１０℃、３
０ｋｇｆ／ｃｍ^２、３０分の条件で熱プレス機を使って
加熱圧着した。

【００１７】（実施例３）＜接着フィルム３の作製例＞ 透明プラスチック基材として厚さ５０μｍの透明ＰＥＴ
フィルムを用い、この上に、マスクを用いて導電性材料
となる無電解ニッケルめっきを行い、ライン幅１２μ
ｍ、ライン間隔５００μｍ、ライン厚み２μｍのニッケ
ル格子パターンの幾何学図形をＰＥＴフィルム上に作製
し構成材料３を得た。この構成材料３の上に後述の接着
剤を乾燥塗布厚が約７０μｍになるように塗布、乾燥し
て電磁波シールド性と透明性を有するフィルム３を得
た。そして、接着フィルム３をロールラミネータを使用
して市販のアクリル板に１１０℃、２０ｋｇｆ／ｃ
ｍ^２、３０分の条件で加熱圧着した。

【００１８】＜接着剤１の組成物＞ ＴＢＡ-ＨＭＥ（日立化成工業（株）製；高分子量エポ
キシ樹脂、Ｍｗ=３０万）１００重量部、 ＹＤ-８１２５（東都化成（株）製；ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂） ２５重量部、 ＩＰＤＩ（日立化成工業（株）製；マスクイソシアネー
ト） １２．５重量部、２−エチル−４−メチルイミダ
ゾール ０．３重量部、 ＭＥＫ ３３０重量部 シクロヘキサノン １５重量部 上記接着剤の成分をＭＥＫとシクロヘキサノンに溶解さ
せ、接着剤１のワニスを作製した。このワニスをガラス
板に流延し、加熱乾燥して得られるフィルムの屈折率は
１．５７であった。

【００１９】＜接着剤２の組成物＞ ＹＰ−３０（東都化成（株）製；フェノキシ樹脂、Ｍｗ
=６万） １００重量部、 ＹＤ−８１２５（東都化成（株）製；ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂） １０重量部、 ＩＰＤＩ（日立化成工業（株）製；マスクイソシアネー
ト） ５重量部、 ２−エチル−４−メチルイミダゾール ０．３重量部、 ＭＥＫ ２８５重量部、 シクロヘキサノン ５重量部、 上記接着剤の成分をＭＥＫとシクロヘキサノンに溶解さ
せ、接着剤２のワニスを作製した。このワニスをガラス
板に流延し、加熱乾燥して得られるフィルムの屈折率は
１．５５であった。

【００２０】＜接着剤３の組成物＞ ＨＴＲ−６００ＬＢ（帝国化学産業（株）製；ポリアク
リル酸エステル、Ｍｗ=７０万） １００重量部、 コロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製；３官能イソ
シアネート） ４．５重量部、 ジブチル錫ジラウリレート ０．４重量部、 トルエン ４５０重量部、 酢酸エチル １０重量部、 上記接着剤の成分をトルエンと酢酸エチルに溶解させ、
接着剤３のワニスを作製した。このワニスをガラス板に
流延し、加熱乾燥して得られるフィルムの屈折率は１．
４７であった。

【００２１】（実施例４） ライン幅を２５μｍから３５μｍにし、それ以外の条件
は全て実施例１と同様にして接着フィルムを得た。 （実施例５） ライン幅を２５μｍから１２μｍにし、それ以外の条件
は全て実施例２と同様にして接着フィルムを得た。 （実施例６） ライン間隔を５００μｍから８００μｍにし、それ以外
の条件は全て実施例３と同様にして接着フィルムを得
た。 （実施例７） ライン間隔を５００μｍから２５０μｍにし、それ以外
の条件は全て実施例１と同様にして接着フィルムを得
た。 （実施例８） ライン厚みを２５μｍから３５μｍにし、それ以外の条
件は全て実施例２と同様にして接着フィルムを得た。 （実施例９） 導電性材料として黒化処理された銅を使い、それ以外の
条件は全て実施例１と同様にして接着フィルムを得た。 （実施例１０） 実施例１で形成した格子パターンの代わりに正３角形の
繰り返しパターンを作製したこと以外の条件は全て実施
例１と同様にして接着フィルムを得た。 （実施例１１） 実施例１で形成した格子パターンの代わりに正６角形の
繰り返しパターンを作製したこと以外の条件は全て実施
例１と同様にして接着フィルムを得た。 （実施例１２） 実施例１で形成した格子パターンの代わりに正８角形と
正方形よりなる繰り返しパターンを作製したこと以外の
条件は全て実施例１と同様にして接着フィルムを得た。

【００２２】（比較例１） アルミニウムの代わりにＩＴＯ膜を２，０００Å全面蒸
着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パターンを形成しな
いで、直接接着剤を塗布した。その後、実施例１と同様
にして接着フィルムを得た。 （比較例２） 透明プラスチック基材として厚さ２５μｍの透明ＰＥＴ
フィルムを用い、この上に導電性材料であるアルミニウ
ムを、２０００Å蒸着させた。幾何学図形を形成せず、
直接接着剤２を塗布した。その後、実施例２と同様にし
て接着フィルムを得た。 （比較例３） ライン幅を２５μｍから５０μｍにし、それ以外の条件
は全て実施例１と同様にしてフィルムを得た。 （比較例４） ライン間隔を２５０μｍから１５０μｍにし、それ以外
の条件は全て実施例２と同様にして接着フィルムを得
た。 （比較例５） ライン厚を２５μｍから７０μｍにし、それ以外の条件
は全て実施例２と同様にして接着フィルムを得た。 （比較例６） 接着剤としてフェノール-ホルムアルデヒド樹脂（Ｍｗ=
５万、ｎ=１．７３）を使い、その他の条件は全て実施
例１と同様にして接着フィルムを得た。 （比較例７） 接着剤としてポリジメチルシロキサン（Ｍｗ=４．５
万、ｎ=１．４３）を使い、その他の条件は全て実施例
３と同様にして接着フィルムを得た。 （比較例８） 接着剤としてポリビニリデンフルオライド（Ｍｗ=１２
万、ｎ=１．４２）を使い、その他の条件は全て実施例
３と同様にして接着フィルムを得た。 （比較例９） プラスチック基材として厚み６０μｍの充填剤入りポリ
エチレンフィルム（可視光透過率２０％以下）を使い、
その他の条件は全て実施例１と同様にして接着フィルム
を得た。

【００２３】以上のようにして得られた接着フィルムを
用いた構成物のＥＭＩシールド性、可視光透過率、非視
認性、加熱処理前後の接着特性、退色特性を測定した。
結果を表１と表２に示す。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【表２】

【００２６】なお、ＥＭＩシールド性は、同軸導波管変
換器（日本高周波（株）製、ＴＷＣ−Ｓ−０２４）のフ
ランジ間に試料を挿入し、スペクトロアナライザー（Ｙ
ＨＰ製、８５１０Ｂベクトルネットワークアナライザ
ー）を用い、周波数１ＧＨｚで測定した。可視光透過率
の測定は、ダブルビーム分光光度計（（株）日立製作所
製、２００−１０型）を用いて、４００〜８００ｎｍの
透過率の平均値を用いた。非視認性は、アクリル板に貼
付けた接着フィルムを０．５ｍ離れた場所から目視して
導電性材料で描かれた幾何学図形を認識できるかどうか
で評価し、認識できないものを「非常に良」、「良好」
とし、認識できるものをＮＧとした。接着力は、引張り
試験器（東洋ボールドウィン（株）製、テンシロンＵＴ
Ｍ−４−１００）を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、
剥離速度５０ｍｍ／分で測定した。屈折率は、屈折計
（（株）アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計）を使
用し、２５℃で測定した。

【００２７】

【発明の効果】本発明の電磁波シールド性と透明性を有
するディスプレイ用フィルムの製造法は、ＥＭＩシール
ド性と透明性・非視認性および良好な接着特性を有する
フィルムの量産性を高めることができ、そして、得られ
たフィルムは、実施例からも明らかなように、被着体に
密着して使用できるので電磁波漏れがなくＥＭＩシール
ド性が特に良好であり、また、可視光透過率、非視認性
などの光学特性が良好である。さらに、接着剤で被覆し
たので、接着特性を有することができる。透明プラスチ
ック基材上の導電性材料が除去された部分は密着性向上
のために意図的に凹凸を有していてもその凹凸面に透明
プラスチック基材と屈折率が近い樹脂又は接着剤が平滑
に塗布されると乱反射が最小限に抑えられ、透明性が発
現するようになる。 また、透明プラスチック基材をポリ
エチレンテレフタレートフィルムとすることにより、透
明性、耐熱性が良好なうえ、安価で取扱性に優れた電磁
波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フィルム
を提供することができる。導電性材料が、銅、アルミニ
ウムまたはニッケルの金属箔を使用し、透明プラスチッ
ク基材への接着面を粗面とすることにより、加工性に優
れ、安価で電磁波シールド性と透明性を有するディスプ
レイ用フィルムを提供することができる。導電性材料を
銅として、少なくともその表面を黒化処理されたものと
することにより、退色性が小さく、コントラストの大き
い電磁波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フ
ィルムを提供することができる。透明プラスチック基材
上の幾何学図形をケミカルエッチングプロセスにより描
画させることにより、加工性に優れた電磁波シールド性
と透明性を有するディスプレイ用フィルムを提供するこ
とができる。導電性材料を常磁性金属とすることによ
り、磁場シールド性に優れた電磁波シールド性と透明性
を有するディスプレイ用フィルムを提供することができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 敦之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社 下館研究所内 (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社 下館研究所内 (72)発明者 津山 宏一 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社 下館工場内 (56)参考文献 特開 平２−296398（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−251890（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−302988（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−134189（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−307088（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−218673（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−293989（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−212078（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−225301（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−307297（ＪＰ，Ａ) 実開 平６−2791（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H05K 9/00 B32B 7/02 G09F 9/00

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明プラスチック基材に接着層を介して
   接着層への貼合せ面が粗面化されている導電性材料の金
   属箔を貼り合わせて接着層に金属箔の貼合せ面の粗面形
   状が転写される工程と、貼り合わせた金属箔にケミカル
   エッチングプロセスによってライン幅が４０μｍ以下、
   ライン間隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以
   下である金属箔からなる幾何学図形を形成する工程と、
   金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着層の粗
   面形状が転写された部分をその接着層との屈折率の差が
   ０．１４以下である接着剤で被覆する工程とを含むこと
   を特徴とする電磁波シールド性と透明性を有するディス
   プレイ用フィルムの製造法。
2. 【請求項２】 上記透明プラスチック基材の接着層側表
   面に凹凸面を形成する工程を有する請求項１記載の電磁
   波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フィルム
   の製造法。
3. 【請求項３】 上記接着剤で被覆する工程により、接着
   層に形成された凹凸面が接着剤で平滑に塗布される請求
   項２記載の電磁波シールド性と透明性を有するディスプ
   レイ用フィルムの製造法。
4. 【請求項４】 上記金属が少なくとも表面が黒化処理さ
   れた銅である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁
   波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フィルム
   の製造法。
5. 【請求項５】 上記金属が常磁性金属である請求項１〜
   ３のいずれか１項に記載の電磁波シールド性と透明性を
   有するディスプレイ用フィルムの製造法。
6. 【請求項６】 上記透明プラスチック基材がポリエチレ
   ンテレフタレートフィルムである請求項１〜５のいずれ
   か１項に記載の電磁波シールド性と透明性を有するディ
   スプレイ用フィルムの製造法。