JP3870485B2

JP3870485B2 - 透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法

Info

Publication number: JP3870485B2
Application number: JP14920897A
Authority: JP
Inventors: 寿茂上原; 昭士中祖; 和徳山本; 禎一稲田
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd; Showa Denko Materials Co Ltd; Resonac Corp
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1997-06-06
Filing date: 1997-06-06
Publication date: 2007-01-17
Anticipated expiration: 2017-06-06
Also published as: JPH10338848A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生する電磁波を遮蔽する電磁波シールド性フィルムの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年各種の電気設備や電子応用設備の利用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の一途をたどっている。
ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノイズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。これらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透明であるため適用できなかった。
【０００３】
電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案されている。
一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８８９号公報参照）が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎるため、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分であった。良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報）では、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させるために必要な繊維径が３５μｍと太すぎるため、繊維が見えてしまい（以後視認性という）ディスプレイ用途には適したものではなかった。また、特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からライン幅は、１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したものではなかった。さらに特開平５−２８３８８９号公報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難となる。この方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、フィルム化やウエブ化の方法としては適していなかった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また製造面においては、シールド材料を巻物等にすることができないため嵩高くなることや自動化に適していないために製造コストがかさむという欠点もある。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性については、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面より発生する９００〜１、１００ｎｍの赤外線は他のＶＴＲ機器等に悪影響を及ぼすため、これを遮蔽する必要がある。この他にも良好な可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができない特性である非視認性も必要とされる。接着性についてはガラスや汎用ポリマー板に対し比較的低温で容易に貼付き、長期間にわたって良好な密着性を有することが必要である。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性、非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たし、これをウエブ状にした接着フィルムとしては、これまで満足なものは得られていなかった。本発明はかかる点に鑑み、電磁波シールド性および透明性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造する方法を提供することを目的とする。また、本発明は、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性および透明性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造する方法を提供することを目的とする。また、本発明は、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性および非視認性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造する方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性、非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造する方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、プラスチックフィルムからなる基材に接着剤を介して、転写されると透明性を損なう程度の背面形状を有する導電性金属箔をその背面形状が前記接着剤に転写されるように貼り付ける工程、前記接着剤を介してプラスチックフィルムに貼り付けられた導電性金属箔にエッチング法により開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工程、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲であり、かつ、前記導電性金属箔の背面形状が転写される接着剤と屈折率の差が０．１４以下である接着剤組成物を、前記幾何学図形を含み、導電性金属箔の背面形状が転写された部分の接着剤に塗布する工程、９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布された面またはその反対側の面に塗布する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行うことを特徴とする透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。また、本発明は、前記屈折率が１．４５〜１．６０である接着剤組成物が９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物である透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。そして、本発明は、プラスチックフィルムからなる基材に接着剤を介して、転写されると透明性を損なう程度の背面形状を有する導電性金属箔をその背面形状が前記接着剤に転写されるように貼り付ける工程、前記接着剤を介してプラスチックフィルムに貼り付けられた導電性金属箔にエッチング法により開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工程、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲であり、かつ、前記導電性金属箔の背面形状が転写される接着剤と屈折率の差が０．１４以下である接着剤組成物を、前記幾何学図形を含み、導電性金属箔の背面形状が転写された部分の接着剤に塗布する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまで連続的に行うことを特徴とする透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。更に、本発明は、プラスチックフィルム上に導電性金属箔で形成された幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下である透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。また、本発明は、プラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。そして、本発明は、導電性金属が、厚み３〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルの導電性金属で、プラスチックフィルムへの接着面が表面粗さ１μｍ以上の粗面である透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。更に、本発明は、導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されている透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。また、本発明は、導電性金属が常磁性金属である透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下本発明を詳細に説明する。
本発明でいうプラスチックフィルムとはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可視光透過率が７０％以上のものをいう。これらは単層で使うこともできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートが最も適している。この基材厚みは５〜２００μｍが好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、２００μｍを越えると可視光の透過率が低下する。１０〜１００μｍがより好ましく、２５〜５０μｍが最も好ましい。
【０００７】
本発明の導電性金属として使用可能な金属は銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の１種または２種以上を組み合わせた合金を使うことができる。導電性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムまたはニッケルが適しており、厚みが３〜４０μｍの金属箔を使用すると好ましい。厚みが４０μｍを超えると、細かいライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなる。また厚みが３μｍ未満では、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果が劣るためである。導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されたものであると、コントラストが高くなり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント配線板分野で行われている方法を用いて行うことができる。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することにより行うことができる。また導電性金属が、常磁性金属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。
かかる導電性金属を上記プラスチックフィルムに密着させ導電性金属付きプラスチックフィルムとするには、導電性金属の箔あるいは、プラスチックフィルムにアクリルやエポキシ系樹脂を主成分とした接着剤を塗布し、その接着剤を介して貼り合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導電層の膜厚を小さくする必要がある場合は連続した巻物のプラスチックフィルムに真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１または２以上の方法を組み合わせることにより達成できる。導電性金属の膜厚は４０μｍ以下のものが適用できるが、膜厚が小さいほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シールド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることがさらに好ましい。導電性金属付きプラスチックフィルムは、連続した巻物で有ることが必要であり、このためには導電性金属の箔やプラスチックフィルムが連続した巻物であると好ましい。導電性金属の箔の上に接着剤組成物である接着剤ワニスを均一に塗布し、溶剤を乾燥させ、その後プラスチックフィルムとロールラミネータを使用し貼り合わせ導電性金属付きプラスチックフィルムとする。あるいは、プラスチックフィルム上に接着剤組成物である接着剤ワニスを均一に塗布し、溶剤を乾燥させ、その後導電性金属とロールラミネータを使用し貼り合わせ導電性金属付きプラスチックフィルムとし紙、プラスチックあるいは金属製の芯管に巻いた巻物とする。
【０００８】
そして得られた導電性金属付きプラスチックフィルムは、導電性金属をエッチング法により、開口率が８０％以上となるよう幾何学図形を形成する工程を行う。本発明中の幾何学図形とは正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大きいほど開口率が上がり、可視光透過性が大きくなるので有利である。
このような幾何学図形を形成させる方法としては、プリント配線板分野で実施されているケミカルエッチングプロセスを用いて行うことができる。この方法は、上記導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属表面にスクリーン印刷で幾何学図形を形成するパターンにレジストインクを塗布しエッチングレジストを形成する。レジストパターンの形成は、逐次的に行い一定間隔で塗布してはずらす操作を繰り返し、乾燥工程が必要で有れば乾燥を行う工程を付加しレジストパターンを形成する。また、レジストパターンを感光性樹脂フィルムで形成する場合は、導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属の上に感光性樹脂フィルムをラミネートし、幾何学図形を形成したネガあるいはポジフィルムを密着させ露光、現像を行いレジストパターンを連続的に形成する。その後、レジストパターンが形成された電性金属付きプラスチックフィルムを連続してエッチング液に浸漬したりエッチング液をシャワーリングし導電性金属をエッチングする。エッチングした後、水洗、乾燥を行い連続した巻物とする。もちろんエッチングレジスト形成工程とエッチング工程を連続した工程で行う方法でも良く、効率が良い。この様にケミカルエッチングプロセスによって作製し、ウエブ状（巻物）のまま巻き取るのが加工効率の点から効果的である。その他に幾何学図形を形成したマスクを用いて透明プラスチックフィルム上に配した感光性樹脂層を露光、現像し、無電解めっきや電気めっきと組合せて幾何学図形を形成することも可能である。
【０００９】
このような幾何学図形のライン幅は４０μｍ以下、ライン間隔は２００μｍ以上、ライン厚みは４０μｍ以下の範囲とされる。また幾何学図形の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光透過率の点からライン間隔は２５０μｍ以上、ライン厚み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過率は向上する。ディスプレイ前面に使用する場合、開口率は８０％以上が必要であるが、この値が大きくなり過ぎると、電磁波シールド性が低下するため、ライン間隔は１ｍｍ以下とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形の組合せ等で複雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換算し、その一辺の長さをライン間隔とする。
【００１０】
次にこの幾何学図形を被覆する接着剤の屈折率は１．４５〜１．６０のものが使用される。これはプラスチックフィルムと接着剤の屈折率、またはプラスチックフィルムに導電性金属を貼り合わせるために用いた接着剤層と接着剤の屈折率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率が１．４５〜１．６０であると可視光透過率の低下が少なく良好となる。幾何学図形を被覆する接着剤とプラスチックフィルムに導電性金属を貼り合わせるため用いた接着剤層と接着剤との屈折率の差が０．１４以下のものが特に好ましい。これはプラスチックフィルム若しくはプラスチックフィルムに導電性金属を接着剤を介して貼り合わせた場合、プラスチックフィルム、導電性金属貼り合わせ接着剤と被覆する接着剤の屈折率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率の差が０．１４以下であると可視光透過率の低下が少なく良好となる。そのような要件を満たす接着剤の材料としては、プラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレート（ｎ=1.575；屈折率）の場合、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折率が1.55〜1.60）を使うことができる。エポキシ樹脂以外では天然ゴム（ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.521）、ポリ−１、２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイソブテン（ｎ=1.505〜1.51）、ポリブテン（ｎ=1.5125）、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.506）、ポリ−１、３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ=1.4563）、ポリビニルエチルエーテル（ｎ=1.454）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ=1.4591）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ=1. 4563）などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート（ｎ=1.4665）、ポリビニルプロピオネート（ｎ=1.4665）などのポリエステル類、ポリウレタン（ｎ=1.5〜1.6）、エチルセルロース（ｎ=1.479）、ポリ塩化ビニル（ｎ=1.54〜1.55）、ポリアクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリメタクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェノキシ樹脂（ｎ=1.5〜1.6）などを挙げることができる。これらは好適な可視光透過率を発現する。
【００１１】
一方、プラスチックフィルムがアクリル樹脂の場合、上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート（ｎ=1.469）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.466）、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.463）、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ=1.464）、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.465）、ポリメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポリイソプロピルメタクリレート（ｎ=1.473）、ポリドデシルメタクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシルメタクリレート（ｎ=1.475）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリ−３、３、５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリエチルメタクリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.487）、ポリ−１、１−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.489）、ポリメチルメタクリレート（ｎ=1.489）などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使うことも可能である。
【００１２】
さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使うこともできる。特に接着性の点から、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量は、１、０００以上のものが使われる。分子量が１、０００以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下する。
【００１３】
接着剤の架橋・硬化剤としてはトリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、Ｎ−アミノテトラミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使うことができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。これらの架橋・硬化剤の添加量は上記ポリマー１００重量部に対して０．１〜５０重量部、好ましくは１〜３０重量部の範囲で選択するのが好ましい。この量が０．１重量部未満であると架橋・硬化が不十分となり、５０重量部を超えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明で使用する樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。そしてこの接着剤の樹脂組成物は、ウエブ状（巻物）のプラスチックフィルムの表面に導電性金属で形成された幾何学図形を含む基材の一部または全面を被覆するため、塗布され、溶剤乾燥、加熱一部架橋・硬化工程を経たのち、ウエブ状（巻物）で巻き取られ、本発明に係わる電磁波シールド性フィルムにする。この屈折率が１．４５〜１．６０の範囲である接着剤組成物を幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布する工程は、ロールコーター、カーテンコーター、グラビアコーター等の塗工機により一定厚みに塗布され、接着剤組成物中の溶剤を加熱などにより除去し幾何学図形を含む基材の一部または全面に接着剤層を形成する。また、必要により前記接着剤組成物が塗布された面の反対側の面にも同様に塗布し接着剤層を形成する。
【００１４】
次に接着フィルムの９００〜１、１００ｎｍの領域における赤外線吸収率が平均で５０％以上の接着剤樹脂組成物とする方法としては、酸化鉄、酸化セリウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴＯ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二銅、クロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体またはアミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会社製）またはアントラキノン系（ＳＩＲ−１１４）、金属錯体系（ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１６２）、フタロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）（以上三井東圧化学株式会社製商品名）などの有機系赤外線吸収剤などを上記接着剤組成物に含有させたり、バインダー樹脂中に分散させた組成物を前記の接着剤組成物が塗布された面またはその反対側の面に塗布し、赤外線吸収剤層を設ける。ディスプレイから放射される赤外線は、他のＴＶ、ＶＴＲ、ラジオ、パソコン等に使用される赤外線を利用したリモコンに誤動作を与えるおそれがあるが、赤外線吸収層を設けることにより誤動作を防止することができる。
これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に赤外線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴＯ、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体系などの赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外の赤外線吸収剤の場合注意すべきことは、これらの化合物の一次粒子の粒径である。粒径が赤外線の波長より大きすぎると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が赤外線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下する。好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μｍがさらに好ましい。この赤外線吸収性の材料は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂中に均一に分散される。その配合の最適量は、バインダー樹脂１００重量部に対して赤外線吸収性の材料が０．０１〜１０重量部であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量部を越えると透明性が損なわれる。これらの組成物は導電性金属付プラスチックフィルムの幾何学図形上に形成された接着剤面またはその反対面のフィルム背面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。塗布された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱やＵＶを使って硬化させてもよい。
一方、赤外線吸収性の化合物は上述した接着剤組成物に直接混合して使うことも可能である。その際の添加量は接着剤の主成分となるポリマー１００重量部に対して効果と透明性から、０．０１〜５重量部が最適である。
【００１５】
本発明は、プラスチックフィルム上の導電性金属が除去された部分は密着性向上のために意図的に凹凸を有していたり、導電性金属の背面形状を転写したりするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわれるが、その凹凸面にプラスチックフィルムまたはプラスチックフィルムに導電性金属を貼り合わせる為の接着剤と屈折率が近い接着剤が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さえられ、透明性が発現するようになると考えられる。さらにプラスチックフィルム上の導電性金属で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいため肉眼で視認されない。またピッチも十分に大きいため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のピッチは十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられる。上記のように（ａ）導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属をエッチング法により、開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工程、（ｂ）該幾何学図形上に、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲である接着剤組成物を、該幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布する工程、（ｃ）９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布された面またはその反対側の面に塗布する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行う電磁波シールド性フィルムの製造方法では、各工程で連続的に作業ができ材料やエネルギーの無駄がないため、歩留まりが良く、加工性に優れ効率よく品質の安定した電磁波シールド性フィルムを製造することができる。また、（ａ）導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属をエッチング法により、開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工程、（ｂ）該幾何学図形上に、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲にあり、９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物を該幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行う電磁波シールド性フィルムの製造方法でも、上記と同様の各工程で連続的に作業ができ材料やエネルギーの無駄がないため、歩留まりが良く、加工性に優れ効率よく品質の安定した電磁波シールド性接着フィルムを製造することができる。本発明では、プラスチックフィルムに導電性金属を貼り合わせる工程、幾何学図形を形成する工程、接着剤を塗布し接着剤層を設ける工程を連続して行ったり、各工程を一部連続して行っても良い。このようにして得られた電磁波シールド性フィルムは、アクリル板やポリエステル板等のプラスチック基板の片面に貼り付けたり、２枚のプラスチック基板の間に貼り付け外形加工を行いディスプレイとする。さらに、得られた電磁波シールド性フィルムは、その接着剤面を直接ＰＤＶ等の画面に密着性良く貼り付けて使用することもできる。電磁波シールド性フィルムとプラスチック基板は、ロールラミネータを用いてプラスチック基板を連続的に供給しながら連続して積層することができる。プラスチック基板は、無色透明性を有するものが好ましいが、淡色であっても透明性を有すれば良く特に限定されるものではない。厚みが０．５〜１０ｍｍで、全光線透過率が５０％以上、好ましくは８０％以上である基板が特に好ましい。これらの基板の代表的なものとしては、ポリカーボネート、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、アクリロニトリル−スチレン共重合体等が挙げられる。
【００１６】
【実施例】
次に実施例に於いて本発明を具体的に述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。
＜電磁波シールド性接着フィルム１作製例＞
プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍ、巻長さ３００ｍの透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製商品名、Ａ−４１００、屈折率ｎ=１．５７５）を用い、その上に接着層となるエポキシ系接着フィルム（ニカフレックスＳＡＦ；ニッカン工業株式会社製商品名、ｎ=１．５８、厚み２０μｍ）を介して導電性金属である厚さ１８μｍの電解銅箔を、その粗化面がエポキシ系接着フィルム側になるようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍの条件で巻き出しから巻き取りまで連続して加熱ラミネートして接着させた導電性金属付きプラスチックフィルムの巻物を得た。
得られた銅箔付きＰＥＴフィルムの巻物にフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、塩化鉄エッチング液によりスプレーしてライン幅２５μｍ、ライン間隔５００μｍの銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料１の巻物を得た。得られた巻物にはしわ等の外観不良は観察されなかった。この構成材料１の可視光透過率は２０％以下であった。この構成材料１に赤外線吸収剤を含む後述の接着剤組成物を乾燥塗布厚が約４０μｍになるように連続的に塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を有する巻き出しから巻き取りまで連続して電磁波シールド性接着フィルム１の巻物を得た。その後、電磁波シールド性接着フィルム１をロールラミネータを使用し市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）を供給して接着剤が塗布されている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇ／ｃｍの条件で加熱圧着しディスプレイ素材を連続製造し、アクリル板とアクリル板の継ぎ目でカットした。そして外形加工をしてディスプレイを作製した。
【００１７】
＜電磁波シールド性接着フィルム２作製例＞
厚さ２５μｍ、巻長さ４００ｍの透明ＰＥＴフィルム上にアクリル系接着フィルム（パイララックスＬＦ−０２００；デュポン社製、ｎ＝１．４７、厚み２０μｍ）を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を接着させた。このアルミ箔付きＰＥＴフィルムに電磁波シールド性接着フィルム１作製例と同様のフォトリソ工程を経て、塩酸エッチング液によりスプレーしてライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍのアルミ格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料２の巻物を得た。この構成材料の可視光透過率は２０％以下であった。この構成材料２に赤外線吸収剤を含む後述の接着剤を乾燥塗布厚が約３０μｍになるように連続的に塗布、乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム２の巻物を得た。得られた巻物にはしわ等の外観不良は観察されなかった。その後、電磁波シールド性接着フィルム２を熱プレス機を使用し市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）の接着剤が塗布されている面が接するようにして１１０℃、３０Ｋｇ／ｃｍ²、３０分の条件で加熱圧着し、外形加工をしてディスプレイを作製した。
【００１８】
＜電磁波シールド性接着フィルム３作製例＞
厚さ５０μｍ、巻長さ３００ｍのＰＥＴフィルム上に厚み２０μｍのアディテイブ接着剤（ｎ＝１．５７）を用い厚み２μｍの無電解ニッケルめっきを形成した巻物を得、電磁波シールド性接着フィルム１作製例と同様のフォトリソ工程を経て、エッチング液として塩化第二銅液によりスプレーしてライン幅１２μｍ、ライン間隔５００μｍ、厚み２μｍのニッケル格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料３の巻物を得た。この構成材料３の可視光透過率は２０％以下であった。この構成材料３の幾何学図形が形成されている面に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約７０μｍになるように連続的に塗布、乾燥し、さらに接着剤が塗布されている面とは反対側の面に、乾燥塗布厚が３μｍになるように後述の赤外線遮蔽層（１）を連続的に塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム３の巻物を得た。この電磁波シールド性接着フィルム３の得られた巻物にはしわ等の外観不良は観察されなかった。
その後、電磁波シールド性接着フィルム３をロールラミネータを使って市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）を連続して供給し、幾何学図形を被覆した接着剤が塗布されている面が接するようにして１１０℃、２０ｋｇｆ／ｃｍの条件で加熱圧着しディスプレイ素材を連続製造し、アクリル板とアクリル板の継ぎ目でカットした。そして外形加工をしてディスプレイを作製した。
【００１９】

この接着剤組成物１の溶剤乾燥後の屈折率は１．５７であった。
【００２０】

この接着剤組成物２の溶剤乾燥後の屈折率は１．５５であった。
【００２１】

この接着剤組成物３の溶剤乾燥後の屈折率は１．４７であった。
【００２２】

ロールコーターを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱硬化させた。そのときの屈折率は、１．４９であった。
【００２３】
＜赤外線遮蔽層をなす組成物２＞
赤外線遮蔽層をなす組成物１のＵＦＰ−ＨＸの代わりに硫化第二銅（和光純薬株式会社製；ヘンシェルミキサーにより０．５μｍの平均粒径に粉砕）１重量部を用いた以外は同じにした組成物を赤外線遮蔽層をなす組成物２とした。得られた組成物２の屈折率は、１．５０であった。
【００２４】
（実施例１）
接着剤組成物１を使用して電磁波シールド性接着フィルム１作製例の手順で得たディスプレイを実施例１とした。
（実施例２）
接着剤組成物２を使用して電磁波シールド性接着フィルム２作製例の手順で得たディスプレイを実施例２とした。
（実施例３）
接着剤組成物３、赤外線遮蔽層をなす組成物１を使用し電磁波シールド性接着フィルム３の手順で得たディスプレイを実施例３とした。
（実施例４）
ライン幅を２５μｍから３５μｍとした以外は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例４とした。
（実施例５）
ライン幅を２５μｍから１２μｍとした以外は全て実施例２と同様にして得たディスプレイを実施例５とした。
（実施例６）
ライン間隔を５００μｍから８００μｍにし、赤外線遮蔽層をなす組成物１を赤外線遮蔽層をなす組成物２とした以外は全て実施例３と同様にして得たディスプレイを実施例６とした。
（実施例７）
ライン間隔を５００μｍから２５０μｍにし、それ以外の条件は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例７とした。
（実施例８）
ライン厚を２５μｍから３５μｍにした以外は全て実施例２と同様にして得たディスプレイを実施例８とした。
（実施例９）
導電性金属として黒化処理された銅を使用した以外は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例９とした。
（実施例１０）
実施例１で形成した格子パターンの代わりに正三角形の繰り返しパターンを作製した以外の条件は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例１０とした。
（実施例１１）
実施例１で形成した格子パターンの代わりに正六角形の繰り返しパターンを作製した以外の条件は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例１１とした。
（実施例１２）
実施例１で形成した格子パターンの代わりに正八角形と正方形よりなるの繰り返しパターンを作製した以外の条件は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例１２とした。
【００２５】
（比較例１）
銅箔の代わりにＩＴＯ膜を２、０００Å全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パターンを形成しないで、直接接着剤組成物１を塗布した。その後、実施例１と同様にして得たディスプレイを比較例１とした。
（比較例２）
比較例１と同様にＩＴＯに代えて全面アルミ蒸着したままパターンを形成しないで、直接接着剤組成物２を塗布した。その後比較例１と同様にして得たディスプレイを比較例２とした。
（比較例３）
ライン幅を２５μｍから５０μｍにした以外の条件は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを比較例３とした。
（比較例４）
ライン間隔を２５０μｍから１５０μｍにした以外の条件は全て実施例２と同様にして得たディスプレイを比較例４とした。
（比較例５）
ライン厚を２５μｍから７０μｍにした以外の条件は全て実施例２と同様にして得たディスプレイを比較例５とした。
【００２６】
以上のようにして得られた電磁波シールド性接着フィルムやディスプレイの赤外線遮蔽率、電磁波シールド性、可視光透過率、非視認性、加熱処理前後の接着特性、退色特性、巻物の外観を測定し、その結果を表１、表２に示した。
【００２７】
なお赤外線遮蔽率は、分光光度計（Ｕ−３４１０；株式会社日立製作所製商品名）を用いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線吸収率の平均値を用いた。
電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（ＴＷＣ−Ｓ−０２４；日本高周波株式会社製商品名）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトロアナライザー（８５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー；ＹＨＰ製商品名）を用い、周波数１ＧＨｚで測定した。
可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計（２００−１０型；株式会社日立製作所製商品名）を用いて、４００〜８００ｎｍの透過率の平均値を用いた。
非視認性は、ディスプレイを０．５ｍ離れた場所から目視して導電性金属で形成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認識できないものを程度に応じ非常に良、良好とし、認識できるものをＮＧとした。
接着力は、引張り試験機（テンシロンＵＴＭ−４−１００；東洋ボールドウィン株式会社製商品名）を使用し、幅１０ｍｍ、９０度方向、剥離速度５０ｍｍ／分で測定した。
屈折率は、屈折計（アッベ屈折計；株式会社アタゴ光学機械製作所製商品名）を使用し、２５℃で測定した。
【００２８】
【表１】

【００２９】
【表２】

【００３０】
比較例１、２は、導電性金属としてＩＴＯとＡｌを蒸着させたものであるが、ＩＴＯの場合電磁波シールド性に劣り、Ａｌの場合可視光透過率に劣る。比較例３は、ライン幅を本発明の開口率８０％以上で好ましくは４０μｍ以下にするのに対し、５０μｍと大きいため可視光透過率が低く、また非視認性も悪い。比較例４は、ライン間隔を本発明の開口率８０％以上で好ましくは２００μｍ以上にするのに対し、１５０μｍと間隔が狭いためライン幅が大きい比較例３と同様、可視光透過率が低く、また非視認性も悪い。比較例５は、開口率８０％以上で好ましくはラインの厚みを本発明の４０μｍ以下にするのに対し、７０μｍと厚いため非視認性が悪い。これに対して、本発明の実施例１〜１２は、電磁波シールド性が３０ｄＢ以上と高く良好な電磁波シールド性を有する。そして、可視光線透過率が６８％以上と高く、非視認性も良好である。さらに初期接着力や８０℃で行う接着力の促進試験１，０００ｈ後でも接着力の低下が少なく、ウエブの外観に関しても良好である。
【００３１】
【発明の効果】
本発明によれば、電磁波シールド性および透明性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造するができる。また、本発明によれば、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性および透明性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造することができる。また、本発明によれば、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性および非視認性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造することができる。さらに、本発明によれば、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性、非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性フィルムをウエブ状（巻物状）で製造することができる。

Claims

プラスチックフィルムからなる基材に接着剤を介して、転写されると透明性を損なう程度の背面形状を有する導電性金属箔をその背面形状が前記接着剤に転写されるように貼り付ける工程、前記接着剤を介してプラスチックフィルムに貼り付けられた導電性金属箔にエッチング法により開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工程、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲であり、かつ、前記導電性金属箔の背面形状が転写される接着剤と屈折率の差が０．１４以下である接着剤組成物を、前記幾何学図形を含み、導電性金属箔の背面形状が転写された部分の接着剤に塗布する工程、９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布された面またはその反対側の面に塗布する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行うことを特徴とする透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
前記屈折率が１．４５〜１．６０である接着剤組成物が９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物である請求項１記載の透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
プラスチックフィルムからなる基材に接着剤を介して、転写されると透明性を損なう程度の背面形状を有する導電性金属箔をその背面形状が前記接着剤に転写されるように貼り付ける工程、前記接着剤を介してプラスチックフィルムに貼り付けられた導電性金属箔にエッチング法により開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工程、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲であり、かつ、前記導電性金属箔の背面形状が転写される接着剤と屈折率の差が０．１４以下である接着剤組成物を、前記幾何学図形を含み、導電性金属箔の背面形状が転写された部分の接着剤に塗布する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまで連続的に行うことを特徴とする透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
プラスチックフィルム上に導電性金属箔で形成された幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
プラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
導電性金属が、厚み３〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルの導電性金属で、プラスチックフィルムへの接着面が表面粗さ１μｍ以上の粗面である請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されている請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。
導電性金属が常磁性金属である請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法。