JPH11145676A

JPH11145676A - 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ

Info

Publication number: JPH11145676A
Application number: JP30845897A
Authority: JP
Inventors: Toshishige Uehara; 寿茂上原; Hiroyuki Hagiwara; 裕之萩原; Minoru Tosaka; 実登坂
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1997-11-11
Filing date: 1997-11-11
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】電磁波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性・
非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド
性接着フィルムおよび該フィルムを用いた電磁波遮蔽構
成体、ディスプレイを提供する。【解決手段】加熱または加圧により流動する接着剤層
を有する導電性金属付きプラスチックフィルムをマイク
ロリソグラフ法により導電性金属で描かれた幾何学図形
を有し、その開口率が５０％以上となるようにした電磁
波シールド性接着フィルム。この電磁波シールド性接着
フィルムをプラスチック板と構成し電磁波遮蔽構成体と
する。そして、電磁波シールド性接着フィルムまたは電
磁波遮蔽構成体をＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶、ＥＬなどのデ
ィスプレイ前面に用いたディスプレイ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム及び該フィルムを用いた
電磁波遮蔽構成体、ディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要
求される３０ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ
以下と不十分であった。良導電性繊維を透明基材に埋め
込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公
報、特開平５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ
〜１ＧＨｚの電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十
分大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則
配置させるために必要な繊維径が３５μｍと太すぎるた
め、繊維が見えてしまい（以後視認性という）ディスプ
レイ用途には適したものではなかった。また、特開昭６
２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の
金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷し
た電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界
からライン幅は、１００μｍ前後となり視認性が発現す
るため適したものではなかった。さらに特開平５−２８
３８８９号公報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボ
ネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に
無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した
シールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するた
めに、透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化
手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性
の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、Ａ
ＢＳ以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難
となる。この方法により、電磁波シールド性と透明性は
達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすること
は困難で、フィルム化の方法としては適していなかっ
た。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させ
ることができないため、そこから電磁波の漏洩が大きく
なる。また製造面においては、シールド材料を巻物等に
することができないため嵩高くなることや自動化に適し
ていないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以
上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面より
発生する９００〜１、１００ｎｍの赤外線はリモートコ
ントロールで操作する他のＶＴＲ機器等に悪影響を及ぼ
すため、これを遮蔽する必要がある。この他にも良好な
可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけでな
く、電磁波の漏れを防止するためディスプレイ面に密着
して貼付けられる接着性、シールド材の存在を肉眼で確
認することができない特性である非視認性も必要とされ
る。接着性についてはガラスや汎用ポリマー板に対し比
較的低温で容易に貼付き、長期間にわたって良好な密着
性を有することが必要である。しかし、電磁波シールド
性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性、接着性等の特性
を同時に十分満たす接着フィルムとしては、これまで満
足なものは得られていなかった。本発明はかかる点に鑑
み、電磁波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性・非視認
性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性接着
フィルムおよび該フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、
ディスプレイを得ることを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性および簡便な接着
性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、加熱または加圧により流動する接着剤層を有する導
電性金属付きプラスチックフィルムにおいて、マイクロ
リソグラフ法により導電性金属で描かれた幾何学図形を
有し、その開口率を５０％以上とするものである。本発
明の請求項２に記載の発明は、安価で量産性に優れた電
磁波シールド性と透明性および簡便な接着性を有する電
磁波シールド性接着フィルムを提供するため、請求項１
のマイクロリソグラフ法の微細回路加工法にフォトリソ
グラフ法を使用するものである。本発明の請求項３に記
載の発明は、電磁波シールド性と透明性および簡便な接
着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供する
ため、加熱または加圧により流動する接着剤層の軟化温
度を２００℃以下とするものである。本発明の請求項４
に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性および簡便
な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供
するため、加熱または加圧により流動する接着剤層の屈
折率を１．４５〜１．７０とするものである。本発明の
請求項５に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性お
よび優れた接着性を有する電磁波シールド性接着フィル
ムを提供するため、加熱または加圧により流動する接着
剤層の厚さを導電性金属の厚さ以上とするものである。
本発明の請求項６に記載の発明は、電磁波シールド性と
透明性および優れた赤外線遮蔽性を有する電磁波シール
ド性接着フィルムを提供するため、加熱または加圧によ
り流動する接着剤層中に赤外線吸収剤が含有されている
ことを特徴とするものである。本発明の請求項７に記載
の発明は電磁波シールド性と非視認性に優れた電磁波シ
ールド性接着フィルムを提供するため、プラスチックフ
ィルム上に導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅
を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、ライン
厚さを４０μｍ以下とするものである。本発明の請求項
８に記載の発明は、加工性や密着性に優れ、安価な電磁
波シールド性と非視認性を有する電磁波シールド性接着
フィルムを提供するため、導電性金属の厚みが０．５〜
４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルを使用する
ものである。本発明の請求項９に記載の発明は、電磁波
シールド性と透明性に優れた電磁波シールド性接着フィ
ルムを安価に提供するため、フォトリソグラフ法のうち
ケミカルエッチング法を使用するものである。本発明の
請求項１０に記載の発明は、透明性、安価、耐熱性良好
で取り扱い性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを
提供するため、プラスチックフィルムをポリエチレンテ
レフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルム
とするものである。本発明の請求項１１に記載の発明
は、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シー
ルド性接着フィルムを提供するため、導電性金属を銅と
し、少なくともその表面が黒化処理されていることを特
徴とするものである。本発明の請求項１２に記載の発明
は、磁場シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、導電性金属に常磁性金属を使用す
るものである。

【０００６】本発明の請求項１３に記載の発明は、電磁
波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性基板を
提供するため、上記の電磁波シールド性接着フィルムと
プラスチック板から構成された電磁波遮蔽構成体とする
ものである。本発明の請求項１４に記載の発明は、電磁
波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性基板を
提供するため、上記の電磁波シールド性接着フィルムを
少なくともプラスチック板の片面に貼り合わせた電磁波
遮蔽構成体とするものである。本発明の請求項１５に記
載の発明は、上記の電磁波シールド性と透明性及び赤外
線遮蔽性を有する電磁波シールド性基板を提供するた
め、上記の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチッ
ク板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を有する
接着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波遮蔽構
成体とするものである。

【０００７】本発明の請求項１６に記載の発明は、電磁
波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フ
ィルムをディスプレイに用いたものである。本発明の請
求項１７に記載の発明は、上記の電磁波シールド性と透
明性を有する電磁波シールド性接着フィルムとプラスチ
ック板からなる電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用い
たものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明で用いる加熱または加圧により流動する接着剤層
は、２００℃以下の加熱または１Ｋｇｆ／ｃｍ²以上の
加圧により流動性を示す接着剤組成物であると好まし
く、加熱または加圧により導電性金属で描かれた開口率
５０％以上の幾何学図形を有した電磁波シールド性接着
フィルムを被着体であるディスプレイやプラスチック板
に接着剤層を流動させて容易に接着することができる。
この接着剤層は、導電性金属で描かれた開口率５０％以
上の幾何学図形の開口から流動し幾何学図形面や被着体
に流動することにより電磁波シールド性接着フィルムと
被着体を接着させることができる。流動できるので電磁
波シールド性接着フィルムを被着体にラミネートや加圧
成形により、また曲面、複雑形状を有する被着体にも容
易に接着することができる。このためには、接着剤層の
軟化温度が２００℃以下であると好ましい。軟化温度
は、粘度が１０¹²ポイズ以下になる温度のことで、通常
その温度では１〜１０秒程度の時間のうちに流動が認め
られる。

【０００９】このような加熱または加圧により流動する
接着剤層となる接着剤組成物として、主に以下に示す熱
可塑性樹脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば
天然ゴム(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、
ポリ−１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n
=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプ
チル−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブ
チル−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−
ブタジエン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシ
エチレン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、
ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキ
シルエーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=
1.456)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n
=1.467)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポ
リエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセル
ロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポ
リアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル
(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=
1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリ
レート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、
ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポ
リ−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−３−エ
トキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカ
ルボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポリメチル
アクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタ
クリレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレート(n=
1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.475)、
ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−
３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート
(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ
−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=
1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレー
ト(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.489)など
のポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。
これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共
重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用する
ことも可能である。

【００１０】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート(n=1.48〜1.6
0)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエーテル
アクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルアクリレー
ト(n=1.48〜1.54)なども使うこともできる。特に接着性
の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシ
アクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジ
ルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、
レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグ
リシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリント
リグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポ
キシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有する
ポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹
脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。こ
れらの接着剤となるポリマーの軟化温度は、取扱い性か
ら２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好まし
い。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、使用さ
れる環境が通常８０℃以下であるので接着剤層の軟化温
度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一
方、ポリマーの重量平均分子量は、５００以上のものを
使用することが好ましい。分子量が５００以下では接着
剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が
低下するおそれがある。本発明で使用する接着剤樹脂組
成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、
充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加
剤を配合してもよい。

【００１１】本発明で用いる加熱または加圧により流動
する接着剤層の屈折率は１．４５〜１．７０のものを使
用するのが好ましい。これは本発明で使用するプラスチ
ックフィルムと接着剤層の屈折率、または導電性金属付
きプラスチックフィルムのプラスチックフィルムに導電
性金属を接着するために使用した接着剤と本発明で使用
する接着剤層の屈折率が異なると可視光透過率が低下す
るためであり、屈折率が１．４５〜１．７０であると可
視光透過率の低下が少なく良好で上述したポリマーの屈
折率はこの範囲内にある。

【００１２】本発明の導電性金属として、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属
の２種以上を組み合わせた合金を使用することができ
る。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、厚さが０．５〜
４０μｍの金属箔、めっき金属、蒸着などの真空下で形
成される金属が使われる。厚さが４０μｍを超えると、
細かいライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭く
なる。また厚さが０．５μｍ未満では、表面抵抗が大き
くなり、電磁波シールド効果が劣る傾向にある。

【００１３】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色
されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形
成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント
配線板分野で行われている方法を用いて行うことができ
る。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸
化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２
ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することによ
り行うことができる。また導電性金属が、常磁性金属で
あると、磁場シールド性に優れるために好ましい。かか
る導電性金属を上記プラスチックフィルムに密着させる
方法としては、アクリルやエポキシ系樹脂を主成分とし
た上記の加熱または加圧により流動する接着剤層を介し
て貼り合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導電
層の厚みを小さくする必要がある場合は真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電
解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１または
２以上の方法を組み合わせることにより達成できる。導
電性金属の厚みは４０μｍ以下とすることが好ましく、
厚みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シ
ールド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることが
さらに好ましい。

【００１４】本発明で使用するプラスチックフィルムと
しては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
エチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポ
リオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
などのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサル
ホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ア
クリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可
視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好
ましい。これらは単層で使うこともできるが、２層以上
を組み合わせた多層フィルムとして使用してもよい。前
記プラスチックフィルムのうち透明性、耐熱性、取り扱
いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフ
ィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。プ
ラスチックフィルム厚さは、５〜５００μｍが好まし
い。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、５００μｍ
を超えると可視光の透過率が低下してくる。１０〜２０
０μｍとすることがより好ましい。

【００１５】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整
数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は５０％以上が必要とされる。開口率は、６０％以上が
さらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描か
れた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見
える割合となる。

【００１６】このような幾何学図形を形成させる方法と
しては、上記導電性金属付きのプラスチックフィルムを
マイクロリソグラフ法で作製するのが回路加工の精度お
よび回路加工の効率の点から有効である。このマイクロ
リソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソグラ
フ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法
などがあり、これらの他にスクリーン印刷法なども含ま
れる。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフ
ォトリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカ
ルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その
簡便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好まし
い。フォトリソグラフ法の中ではケミカルエッチング法
の他にも無電解めっきや電気めっきによる方法、または
無電解めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組
み合わせて幾何学図形を形成することも可能である。

【００１７】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン幅は、４０μ
ｍ以下、好ましくは２５μｍ以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので１μｍ以上が好ましい。ライン厚みは４
０μｍ以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので０．５μｍ
以上が好ましく、さらに１μｍ以上がさらに好ましい。
ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過
率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用す
る場合、開口率は５０％以上が必要であるが、６０％以
上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎる
と、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１０
００μｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ラ
イン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、
繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に
換算してその一辺の長さをライン間隔とする。

【００１８】本発明で使用する赤外線吸収剤として、酸
化鉄、酸化セリウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの
金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴ
Ｏ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二銅、ク
ロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体またはア
ミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会
社製商品名）またはアントラキノン系（ＳＩＲ−１１
４）、金属錯体系（ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、
ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、Ｓ
ＩＲ−１６２）、フタロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）
（以上、三井東圧化学株式会社製商品名）などの有機系
赤外線吸収剤などが挙げられ、これらを上記接着剤層中
に含有させることが好ましい。この他にバインダー樹脂
中に分散させた組成物を接着剤としてプラスチックフィ
ルム上に形成した加熱または加圧により流動する接着剤
層の面に塗布したり、プラスチックの面に直接塗布しさ
らにその上に加熱または加圧により流動する接着剤層を
形成したり、プラスチックフィルムに形成した接着剤層
の面と反対側のフィルム背面に塗布することもできる。
また、予めプラスチックフィルム中に赤外線吸収剤を含
有させたプラスチックフィルムを使用することもでき
る。これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に
赤外線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴ
Ｏ、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体
系などの赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外
の赤外線吸収剤の場合、これらの化合物の一次粒子の粒
径に注意する必要がある。粒径が赤外線の波長より大き
すぎると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起
き、ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒
径が赤外線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下
する。好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μ
ｍがさらに好ましい。

【００１９】赤外線吸収性の材料である赤外線吸収剤
は、バインダー樹脂として、例えば、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノ
ボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイ
ソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテ
ン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリ
ル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビ
ニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどの
ポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂中に均一に
分散される。その配合の最適量は、バインダー樹脂１０
０重量部に対して赤外線吸収剤が０．０１〜１０重量部
であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０
１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量部
を超えると透明性が損なわれる。

【００２０】接着剤層中に、上記の赤外線吸収剤を含有
させた接着剤層はプラスチックフィルムの片面に形成さ
れ、さらにその接着剤層の面に導電性金属が被覆される
と好ましい。また、前述したように、赤外線吸収剤を含
有した組成物をプラスチックフィルム面に形成し、その
上に加熱または加圧により流動する接着剤層（赤外線吸
収剤を含有または含有してなくても良い）を形成しても
よいし、プラスチックフィルム面に接着剤層を形成し、
その上に赤外線吸収剤を含有した組成物を形成しても良
い。さらに、電磁波シールド性接着フィルムの導電性金
属の反対側の面に形成しても良い。また、電磁波シール
ド性接着フィルムとプラスチック板から構成された電磁
波遮蔽構成体のいずれかの層に形成しても良い。例え
ば、１枚の電磁波シールド性接着フィルムと１枚のプラ
スチック板から構成された電磁波遮蔽構成体であれば、
電磁波シールド性接着フィルムの面Ａ、電磁波シールド
性接着フィルムとプラスチック板の間の面Ｂ、プラスチ
ック板の面Ｃのいずれの面に形成しても良い。この場
合、赤外線吸収剤を含有した組成物は、これを直接上記
のＡ，Ｂ，Ｃの少なくとも一つの面に形成しても良い。
赤外線吸収剤を含有した層が少なくとも１層は必要であ
り、それ以外の層は赤外線吸収剤を含有してなくても良
い。赤外線吸収剤を含有した層は、接着性を有していた
方が、作業性や加工性が容易となり好ましい。具体的に
は、電磁波シールド性接着フィルムの接着剤層面または
フィルム背面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。
塗布された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱や
紫外線を使用して硬化させてもよい。一方、赤外線吸収
剤は上述した加熱または加圧により流動する接着剤層の
接着剤組成物に直接混合して使うことも可能である。そ
の際の添加量は接着剤の主成分となるポリマー１００重
量部に対して効果と透明性から、０．０１〜５重量部が
最適である。

【００２１】本発明で使用するプラスチック板は、プラ
スチックからなる板であり、具体的には、ポリスチレン
樹脂(n=1.59)、アクリル樹脂(n=1.49)、ポリメチルメタ
クリレート樹脂(n=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n=1.5
8)、ポリ塩化ビニル樹脂(n=1.54)、ポリ塩化ビニリデン
樹脂(n=1.6〜1.63)、ポリエチレン樹脂(n=1.51)、ポリ
プロピレン樹脂(n=1.50)、ポリアミド樹脂(n=1.52)、ポ
リアミドイミド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルイミド樹脂
(n=1.5)、ポリエーテルケトン樹脂(n=1.45)、ポリアリ
レート樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリアセタール樹脂(n=1.5〜
1.6)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(n=1.57)、ポリ
エチレンテレフタレート樹脂(n=1.58)などの熱可塑性ポ
リエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂(n=1.49)、フッ素
樹脂(n=1.4〜1.5)、ポリスルホン樹脂(n=1.63)、ポリエ
ーテルスルホン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリメチルペンテ
ン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリウレタン樹脂(n=1.45〜1.
6)、フタル酸ジアリル樹脂(n=1.45〜1.6)などの熱可塑
性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透
明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメ
チルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポ
リメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。本発明で使
用するプラスチック板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍが
ディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。

【００２２】本発明の電磁波遮蔽構成体は、電磁波シー
ルド性接着フィルムとプラスチック板から構成され、そ
の組合せは多数有る。図１は本発明の電磁波シールド性
接着フィルムの斜視図（ａ）と断面図（ｂ）であり、加
熱または加圧により流動する接着剤層１と導電性金属で
描かれた幾何学図形２とプラスチックフィルム３から電
磁波シールド性接着フィルム４が構成される。この電磁
波シールド性接着フィルム４は、図２（ａ）に示すよう
にディスプレイの画面５に直接形成しても良いし、図２
（ｂ）に示すようにプラスチック板６の片面に形成しど
ちらかの面をディスプレイ画面に接着剤又は取付治具を
介してディスプレイ画面に設ける。図２（ｃ）は、前述
した赤外線吸収剤を含有した接着剤組成物７をプラスチ
ック板６の一方の面に、他方の面に電磁波シールド性接
着フィルム４を形成した電磁波遮蔽構成体８の例であ
る。また、図２（ｄ）はプラスチックフィルム３の片面
に赤外線吸収剤を含有した接着剤組成物７を形成し接着
剤面をプラスチック板６に接着させ、他方の面に電磁波
シールド性接着フィルム４を形成した電磁波遮蔽構成体
８の例である。図２（ｅ）は、電磁波シールド性接着フ
ィルム４とプラスチック板６より構成され、電磁波シー
ルド性接着フィルム４の上面に接着剤層９を形成し、こ
の接着剤層９をディスプレイ画面５に張り合わせる電磁
波遮蔽構成体８である。図２（ｆ）は、電磁波シールド
性接着フィルム４のプラスチックフィルム面側に接着剤
層９を形成しその面にプラスチック板６を設け、電磁波
シールド性接着フィルム４の導電性金属で描かれた幾何
学図形が形成された面にプラスチック板６を形成した電
磁波遮蔽構成体８である。電磁波シールド性接着フィル
ムや電磁波遮蔽構成体のいずれかの面には、赤外線遮蔽
性を有する層、反射防止処理を有する層、防眩処理を有
する層、表面硬度の高い耐擦性を有する層を形成するこ
とができる。これらは例示であり、この他の形態で使用
することができる。ガラス板の片面に電磁波シールド性
接着フィルムを接着し、このガラス板をディスプレイ前
面に取り付けガラス面がディスプレイ装置の外側になる
ようにしても良い。

【００２３】本発明の電磁波シールド性接着フィルム
は、加熱または加圧により流動する接着剤層、幾何学図
形を有する導電性金属及びプラスチックフィルムから基
本的に構成される。導電性金属は金属箔の使用が好まし
く、この場合接着性向上のため金属箔の面を粗化形状に
することが多く、幾何学図形を形成すると、除去された
金属部分は、接着層にその粗化形状を転写して金属と接
している接着剤層の部分に粗化形状が転写されてしまい
可視光線がそこで散乱されてしまうので光線透過率が低
下し透明性が損なわれる。また、プラスチックフィルム
においても、フィルムの成形加工性向上のため微量のフ
ィラーを添加しフィルム表面に凹凸を付与しフィルム巻
き取り時のフィルム同士の滑りを良くして巻き取り性を
向上させたり、フィルム表面に接着剤との接着性向上の
ためマット加工等の粗化処理をされることがある。この
ように、接着剤層の導電性金属が除去された部分やプラ
スチックフィルム自体は密着性向上等のために意図的に
凹凸を有していたり、導電性金属の背面形状を転写した
りするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわ
れるが、本発明の接着剤層はプラスチックフィルムの凹
凸面を埋めその凹凸面にプラスチックフィルムと屈折率
が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さ
えられ、また導電性金属の粗化形状の転写は、接着剤層
が流動することにより解消され被着体の表面形状に沿っ
て流動するので透明性が発現するようになると考えられ
る。さらにプラスチックフィルム上の導電性材料で形成
された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいため肉眼
で視認されない。またライン間隔も十分に大きいため見
掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽すべ
き電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間隔は十
分に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられ
る。

【００２４】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。（実施例１）＜電磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成
体１作製例＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東
洋紡績株式会社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ=
１．５７５）を用い、その片面に下記の赤外線吸収剤を
含む接着剤層１を室温でアプリケータを用いて所定の乾
燥塗布厚になるように塗布し、９０℃、２０分間加熱乾
燥させた。その接着剤層１を介して導電性金属である厚
さ１２μｍの電解銅箔を、その粗化面が接着剤層側にな
るようにして、１８０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で
加熱ラミネートして導電性金属付きプラスチックフィル
ムである銅箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔
付きＰＥＴフィルムにケミカルエッチング法を使用した
フォトリソグラフ工程（レジストフィルム貼付け−露光
−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）
を経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅
格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シー
ルド性接着フィルム１を得た。この電磁波シールド性接
着フィルム１の可視光透過率は２０％以下であった。こ
の電磁波シールド性接着フィルム１を熱プレス機を使用
し市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商
品名、厚み３ｍｍ、ｎ＝１．４９）に接着剤層が形成さ
れている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇｆ／
ｃｍ²、１５分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体１
を得た。接着剤層１の組成物を使用し、乾燥後の接着剤
層１の厚みが２０μｍになるようにして作製した電磁波
シールド性接着フィルム１とプラスチック板から得た電
磁波遮蔽構成体１を実施例１とした。

【００２５】＜接着剤層１の組成物＞５００ｃｍ³の温
度計、冷却管、窒素導入管を有した三つ口フラスコにト
ルエン２００ｃｍ³、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５
０g、メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）５g、アクリルアミ
ド（ＡＭ）２g、ＡＩＢＮ２５０mgを入れ、窒素でバブ
リングさせながら１００℃で３時間、還流中で攪拌を行
った。その後、メタノールで再沈殿させ、得られたポリ
マーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸エステルを
合成した。この収率は７５重量％であった。これを接着
剤層１の主成分とした。ポリアクリル酸エステル（MMA／EMA／AM=８８／９／３、Ｍｗ=７０万）１００重量部ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧化学株式会社製商品名）０．５重量部トルエン４５０重量部酢酸エチル１０重量部上記の接着剤層１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
４８、軟化点は１０５℃であった。

【００２６】（実施例２）＜電磁波シールド性接着フィルム２及び電磁波遮蔽構成
体２作製例＞厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムの片面に下
記の赤外線吸収剤を含む接着剤層２を室温でアプリケー
タを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。
その接着剤層２を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を加熱
ラミネート（１３０℃、２０Ｋｇ／ｃｍ²）して接着さ
せアルミ箔付きＰＥＴフィルムを得た。このアルミ箔付
きＰＥＴフィルムに前記電磁波シールド性接着フィルム
１及び電磁波遮蔽構成体１作製例と同様のフォトリソグ
ラフ工程を経て、ライン幅１５μｍ、ライン間隔１２５
μｍのアルミ格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し
た。この電磁波シールド性接着フィルム２の可視光透過
率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着フ
ィルム２を市販のアクリル板（コモグラス；株式会社ク
ラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成されてい
る面が接するようにして１２０℃、３０Ｋｇｆ／ｃ
ｍ²、３０分の条件で熱プレス機を使用し加熱圧着し電
磁波遮蔽構成体２を得た。接着剤層２の組成物を使用
し、乾燥後の接着剤層２の厚みが４０μｍになるように
して作製した電磁波シールド性接着フィルム２とプラス
チック板から得た電磁波遮蔽構成体２を実施例２とし
た。

【００２７】＜接着剤層２の組成物＞ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、Ｍｗ=３０万）１００重量部ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均粒径０．１μｍ）０．４重量部ＭＥＫ３３０重量部シクロヘキサノン１５重量部上記の接着剤層２の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５７、軟化点は７９℃であった。

【００２８】（実施例３）＜電磁波シールド性接着フィルム３及び電磁波遮蔽構成
体３作製例＞厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムの片面に下
記の接着剤層３を室温でアプリケータを用いて塗布し、
９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層に、マ
スク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に形成す
ることによりライン幅１０μｍ、ライン間隔１００μ
ｍ、厚さ１μｍのニッケル格子パターンをＰＥＴフィル
ム上に形成した電磁波シールド性接着フィルム３を作製
した。この電磁波シールド性接着フィルム３の可視光透
過率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着
フィルム３をロールラミネータを使用し市販のアクリル
板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍ
ｍ）に接着剤層が形成されている面が接するようにして
１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で加熱圧着し電磁
波遮蔽構成体３を得た。接着剤層３の組成物を使用し、
乾燥後の接着剤層３の厚みが５μｍになるようにして作
製した電磁波シールド性接着フィルム３とプラスチック
板から得た電磁波遮蔽構成体３を実施例３とした。

【００２９】＜接着剤層３の組成物＞バイロンＵＲ―１４００（東洋紡績株式会社製商品名；飽和ポリエステル樹脂、Ｍｎ＝４万）１００重量部ＩＲＧ―００２（赤外線吸収剤３：日本化薬株式会社製商品名；アミニウム系化合物）１．２重量部ＭＥＫ２８５重量部シクロヘキサノン５重量部上記の接着剤層３の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５５、軟化点は８３℃であった。

【００３０】（実施例４）接着剤層１の組成物の主成分
であるポリアクリル酸エステルの組成をメタクリル酸メ
チル（ＭＭＡ）／メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）／アク
リルアミド（ＡＭ）=８５／１０／５とし、同じ条件で
合成しＭｗ=５５万のポリアクリル酸エステルを得た。
このポリアクリル酸エステル以外は同じ組成としたもの
を接着剤層４の組成とし実施例１の電磁波シールド性接
着フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１と同様にして作製
した電磁波遮蔽構成体４を実施例４とした。接着剤層４
の溶媒乾燥後の屈折率は１．４７、軟化点は９９℃であ
った。

【００３１】（実施例５）実施例１の接着剤層１の組成
物の主成分であるポリアクリル酸エステルをポリブタジ
エンエラストマー（Poly bd R−４５ＨＴ：出光石油化
学株式会社製商品名）としたものを接着剤層５の組成物
とし、それ以外の条件は実施例１と同様にして作製した
電磁波遮蔽構成体５を実施例５とした。接着剤層５の溶
媒乾燥後の屈折率は１．５０、軟化点は６１℃であっ
た。

【００３２】（実施例６）実施例１の接着剤層１の組成
物の主成分であるポリアクリル酸エステルをバイロン―
２００（東洋紡績株式会社製商品名、Ｍｎ＝１５、００
０、線状飽和ポリエステル樹脂）としたものを接着剤層
６の組成物とし、それ以外の条件は実施例１と同様にし
て作製した電磁波遮蔽構成体６を実施例６とした。接着
剤層６の溶媒乾燥後の屈折率は１．５５、軟化点は１６
３℃であった。

【００３３】（実施例７）プラスチックフィルムをＰＥ
Ｔ（５０μｍ）からポリカーボネートフィルム（５０μ
ｍ、ｎ＝１．５８）に、接着剤層２の厚みを４０μｍか
ら３０μｍにした以外は実施例２と同様にして電磁波遮
蔽構成体７を得た。

【００３４】（実施例８）ライン幅を１０μｍから３０
μｍに、ライン間隔を１００μｍから５００μｍに、接
着剤層の厚みを５μｍから１０μｍにした以外は実施例
３と同様にして得た電磁波遮蔽構成体８を実施例８とし
た。

【００３５】（実施例９）フォトリソグラフ工程を経て
ＰＥＴフィルム上に形成した銅格子パターンに黒化処理
を施したこと以外は実施例１と同様にして得た電磁波遮
蔽構成体９を実施例９とした。

【００３６】（比較例１）下記組成を接着剤層７の組成
物としこれで作製した電磁波遮蔽構成体１０を比較例１
とした。それ以外の条件は実施例１と同様にした。な
お、ポリアクリル酸エステルは、実施例１の接着剤層１
の組成物のポリアクリル酸エステルと同じ条件で合成し
た（ＢＡ：ブチルアクリレート、ＨＥＡ；ヒドロキシエ
チルアクリレート）。〈接着剤層７の組成物〉ポリアクリル酸エステル（ＭＭＡ／ＢＡ／ＨＥＡ=８５／１０／５、Ｍｗ=５５万）１００重量部コロネートＬ（３官能イソシアネート：日本ポリウレタン工業株式会社製商品名）３．５重量部ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧株式会社製商品名）０．５重量部トルエン４５０重量部酢酸エチル１０重量部上記の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．４８、軟化点
は２００℃以上であった。

【００３７】（比較例２）下記組成を接着剤層８の組成
物としこれで作製した電磁波遮蔽構成体１１を比較例２
とした。それ以外の条件は実施例２と同様にした。〈接着剤層８の組成物〉ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、Ｍｗ=３０万）１００重量部ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート）１２．５重量部２−エチル−４−メチルイミダゾール０．３重量部ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均粒径０．１μｍ）０．４重量部ＭＥＫ３３０重量部シクロヘキサノン１５重量部上記組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５７、軟化点は
２００℃以上であった。

【００３８】（比較例３）実施例３の接着剤層３のバイ
ロンＵＲ―１４００の代わりに、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂（Ｍｗ=５万）を使用し、接着剤層９の組
成物とした。それ以外の条件は全て実施例３と同様にし
て得た電磁波遮蔽構成体１２を比較例３とした。この接
着剤層９の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．７３、軟
化点は８５℃であった。

【００３９】（比較例４）接着剤層の厚みを２０μｍか
ら５μｍにした以外は実施例１と同様にして電磁波遮蔽
構成体１３を作製し比較例４とした。

【００４０】（比較例５）ライン間隔を２５０μｍから
５０μｍにした以外は実施例１と同様にして電磁波遮蔽
構成体１４を作製し比較例５とした。

【００４１】（比較例６）ライン幅を２５μｍから５０
μｍにライン間隔を２５０μｍから１５０μｍした以外
は実施例１と同様にして電磁波遮蔽構成体１５を作製し
比較例６とした。

【００４２】（比較例７）接着剤層２の組成物から赤外
線吸収剤を除いた以外は実施例２と同様にして電磁波遮
蔽構成体１６を作製し比較例７とした。

【００４３】（比較例８）導電材料として０．１μｍ
（１、０００Å）全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使
い、パターンを形成しないで、直接接着剤層１の組成物
から赤外線吸収剤を除いた組成物を塗布し、実施例１と
同様にして得た電磁波遮蔽構成体１７を比較例８とし
た。

【００４４】（比較例９）接着剤としてポリジメチルシ
ロキサン（Ｍｗ=４．５万、ｎ=１．４３）を使用し、接
着剤層１０の組成物とした。それ以外の条件は実施例３
と同様にして得た電磁波遮構成体１８を比較例９とし
た。

【００４５】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形
の開口率、電磁波シールド性、可視光透過率、非視認
性、赤外線遮蔽率、加熱処理前後の接着特性を測定し
た。結果を表１、２に示した。

【００４６】なお接着剤層の組成物の屈折率は、屈折計
（株式会社アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計）で
測定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は
顕微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールド性は、同
軸導波管変換器（日本高周波株式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−
０２４）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムア
ナライザー（ＹＨＰ製、８５１０Ｂベクトルネットワー
クアナライザー）を用い、周波数３０ＭＨz〜１ＧＨｚ
で測定した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光
光度計（株式会社日立製作所製、２００−１０型）を用
いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均値を用いた。
非視認性は、アクリル板に電磁波シールド性接着フィル
ムを貼り付けた電磁波遮蔽構成体を０．５ｍ離れた場所
から目視して導電性金属で形成された幾何学図形を認識
できるかどうかで評価し、認識できないものを良好と
し、認識できるものをＮＧとした。赤外線遮蔽率は、分
光光度計（株式会社日立製作所製、Ｕ−３４１０）を用
いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線吸収率の
平均値を用いた。接着力は、引張り試験機（東洋ボール
ドウィン株式会社製、テンシロンＵＴＭ−４−１００）
を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、剥離速度５０ｍｍ
／分で測定した。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】比較例１、２は、接着剤層の軟化温度が２
００℃以上であり、接着剤層が流動しにくく導電性金属
の銅箔やアルミニウム箔で形成された幾何学図形の厚み
相当以上の流動性がなく被着体のプラスチック板に十分
に密着しないので接着力に劣った。また、転写された接
着剤層の表面に形成された粗化形状が流動性がないため
ほとんどその形状が維持され透過光が散乱されてしまい
可視光透過率に劣った。比較例３は、接着剤層９の屈折
率が１．７３と高く接着剤層とプラスチック板との界面
での散乱が大きく可視光透過率に劣った。比較例４は、
接着剤層１の厚み５μｍが導電性金属である銅箔の厚み
１２μｍより薄いため、接着剤層１が流動してプラスチ
ック板との密着性は良いが、導電性金属を十分に埋める
ことができず可視光透過率に劣った。比較例５は、ライ
ン間隔が５０μｍで電磁波シールド性が良好であり、ラ
イン幅が２５μｍと細いため非視認性に優れるが、ライ
ン間隔が狭く開口率が５０％以下の２５％であるため可
視光透過率に劣った。比較例６は、ライン幅が、５０μ
ｍであり、非視認性に劣った。比較例７は、赤外線吸収
剤を配合しない接着剤層を使用したものであり、赤外線
遮蔽性に劣った。比較例８は、ＰＥＴフィルムにＩＴＯ
（インジウム−スズ酸化物）を蒸着したものであるが、
電磁波シールド性に劣った。比較例９は、接着剤層に屈
折率が１．４３の接着剤層１０を使用したものである
が、比較例３と同様、接着剤層とプラスチック板との界
面での散乱が大きく可視光透過率に劣った。これらの比
較例に対して、本発明の実施例で示した、導電性金属で
描かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上
で、接着剤層に軟化温度が２００℃以下、屈折率が１．
４５〜１．７０の範囲にあり、接着剤層の厚みが導電性
金属の厚さ以上で、赤外線吸収剤が含有されている接着
剤層がいずれも好ましい値を示した。また、導電性金属
で描かれたライン幅が、４０μｍ以下、ライン間隔が１
００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下の導電性金属
が好ましい値を示した。また、実施例９で示した銅を黒
化処理した電磁波遮蔽構成体は、コントラストが大きく
鮮明な画像を快適に鑑賞することができた。

【００５０】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着
フィルムは実施例からも明らかなように、被着体に容易
に貼付けて使用でき、しかも密着性が優れているので電
磁波漏れがなくシールド機能が特に良好である。また可
視光透過率、非視認性などの光学的特性が良好で、しか
も長時間にわたって高温での接着特性に変化が少なく良
好であり、優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供
することができる。請求項２に記載のマイクロリソグラ
フ法をフォトリソグラフ法とすることにより、安価で量
産性に優れた電磁波シールド性と透明性、および簡便な
接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供す
ることができる。請求項３に記載の接着剤層の軟化温度
を２００℃以下とすることにより、被着体に容易に貼付
けることができ、取り扱い性に優れた電磁波シールド性
接着フィルムを提供することができる。請求項４に記載
の接着剤層の屈折率を１．４５〜１．７０とすることに
より、透明性、像鮮明性に優れた電磁波シールド性接着
フィルムを提供することができる。請求項５に記載の接
着剤層の厚さを導電性金属の厚さ以上にすることによ
り、透明性、接着性に優れた電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供することができる。請求項６に記載の加熱ま
たは加圧により流動する接着剤層中に赤外線吸収剤が含
有されていることにより、赤外線遮蔽性および透明性に
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。請求項７に記載の導電性金属で描かれた幾何学
図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μ
ｍ以上、ライン厚みを４０μｍ以下とすることにより、
電磁波シールド性と透明性及び広視野角の電磁波シール
ド性接着フィルムを得ることができる。請求項８に記載
の導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属
を、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニ
ッケルとすることにより、電磁波シールド性、加工性、
及び安価な電磁波シールド性接着フィルムを提供するこ
とができる。請求項９に記載のケミカルエッチング法に
より導電性金属を描画することにより、安価で可視光透
過率に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供する
ことができる。請求項１０に記載の導電性金属付きプラ
スチックフィルムのプラスチックフィルムをポリエチレ
ンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィ
ルムとすることにより、安価で透明性、耐熱性に優れた
電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項１１に記載の導電性金属が銅であり、少なく
ともその表面が黒化処理されていることにより、コント
ラストと電磁波シールド性に優れた電磁波シールド性接
着フィルムを提供することができる。請求項１２に記載
の導電性金属を常磁性金属とすることにより、磁場シー
ルド性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供す
ることができる。

【００５１】請求項１３に記載の電磁波シールド性接着
フィルムとプラスチック板から構成される電磁波遮蔽構
成体とすることにより、透明性を有する電磁波シールド
性に優れた基板とすることができ、ディスプレイに提供
することができる。請求項１４に記載の電磁波シールド
性接着フィルムをプラスチック板の少なくとも片面に張
り合わせ電磁波遮蔽構成体とすることにより、透明性を
有する電磁波シールド性に優れた基板とすることがで
き、取扱性が容易で、ディスプレイに提供することがで
きる。請求項１５に記載の電磁波シールド性接着フィル
ムをプラスチック板の片面に張り合わせ、他面に赤外線
遮蔽性を有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせ
た電磁波遮蔽構成体とすることにより、赤外線遮蔽性、
透明性を有する電磁波シールド性基板を提供することが
できる。請求項１６に記載の電磁波シールド性と透明性
を有する電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ
に用いることにより、軽量、コンパクトで透明性に優れ
電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供することができ
る。請求項１７に記載の電磁波シールド性と透明性を有
する電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いることによ
り、軽量、コンパクトで電磁波漏洩が少なくディスプレ
イ保護板を兼用したディスプレイを提供することができ
る。ディスプレイに使用した場合、可視光透過率が大
きく、非視認性が良好であるのでディスプレイの輝度を
高めることなく通常の状態とほぼ同様の条件下で鮮明な
画像を快適に鑑賞することができる。本発明の電磁波シ
ールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波
シールド性や透明性に優れているため、ディスプレイの
他に電磁波を発生したり、あるいは電磁波から保護する
測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐
体、特に透明性を要求される窓のような部位に設けて使
用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電磁波シールド性接着フィルムの斜
視図（ａ）とその断面図（ｂ）である。

【図２】本発明の電磁波シールド性接着フィルムのデ
ィスプレイ使用例（ａ）及び電磁波シールド性接着フィ
ルムとプラスチック板から構成される電磁波遮蔽構成体
（（ｂ）〜（ｆ））の例。

【符号の説明】

１．接着剤層２．導電性金属で描かれた幾何学図形３．プラスチックフィルム４．電磁波シールド性接着フィルム５．ディスプレイの画面６．プラスチック板８．電磁波遮蔽構成体９．接着剤層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】加熱または加圧により流動する接着剤層
を有する導電性金属付きプラスチックフィルムにおい
て、マイクロリソグラフ法により導電性金属で描かれた
幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上である電磁
波シールド性接着フィルム。
【請求項２】マイクロリソグラフ法がフォトリソグラ
フ法である請求項１に記載の電磁波シールド性接着フィ
ルム。
【請求項３】加熱または加圧により流動する接着剤層
の軟化温度が２００℃以下である請求項１または請求項
２に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項４】加熱または加圧により流動する接着剤層
の屈折率が１．４５〜１．７０の範囲にある請求項１な
いし請求項３に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項５】加熱または加圧により流動する接着剤層
の厚さが導電性金属の厚さ以上であることを特徴とする
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の電磁波シー
ルド性接着フィルム。
【請求項６】加熱または加圧により流動する接着剤層
中に赤外線吸収剤が含有されていることを特徴とする請
求項１ないし請求項５のいずれかに記載の電磁波シール
ド性接着フィルム。
【請求項７】導電性金属で描かれた幾何学図形のライ
ン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ラ
イン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項６
のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項８】導電性金属付きプラスチックフィルムの
導電性金属が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウ
ムまたはニッケルである請求項１ないし請求項７のいず
れかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項９】フォトリソグラフ法がケミカルエッチン
グ法である請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の
電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１０】導電性金属付きプラスチックフィルム
のプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレート
フィルムまたはポリカーボネートフィルムである請求項
１ないし請求項９のいずれかに記載の電磁波シールド性
接着フィルム。
【請求項１１】導電性金属が銅であり、少なくともそ
の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１
ないし請求項１０のいずれかに記載の電磁波シールド性
接着フィルム。
【請求項１２】導電性金属が常磁性金属である請求項
１ないし請求項１１のいずれかに記載の電磁波シールド
性接着フィルム。
【請求項１３】請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック
板から構成された電磁波遮蔽構成体。
【請求項１４】請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック
板の少なくとも片面に貼り合わせた電磁波遮蔽構成体。
【請求項１５】請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック
板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を有する接
着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波遮蔽構成
体。
【請求項１６】請求項1ないし請求項１２のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディス
プレイ。
【請求項１７】請求項１３ないし請求項１５のいずれ
かに記載の電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。