JPH11191692A - 耐候性に優れた電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスプレイ前面から発生する電磁波のシー
ルド性に優れるとともに耐候性、赤外線遮蔽性、透明
性、非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シー
ルド性接着フィルム及びそれを用いた電磁波遮蔽構成
体、ディスプレイを提供する。 【解決手段】 加熱または加圧により流動する接着剤層
を有する導電性金属付きプラスチックフィルムにおい
て、接着剤層等に耐候性向上剤を含有させ、若しくは最
外層に耐候性向上剤含有の樹脂層を設け、フォトリソグ
ラフ法により開口率が５０％以上で、導電性金属で描か
れた幾何学図形を有する電磁波シールド性接着フィルム
を得、それをディスプレイや電磁波遮蔽体に用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム及び該接着フィルムを用
いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】画面全面から電磁波が
漏洩するため、それを防止するシールド材料が必須であ
るディスプレイ、特にプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）
用途を想定すると、視野角度が大きいメリットを生かし
た交通機関（駅のホームの監視用，時刻表，広告用ディ
スプレイ）あるいはアミューズメント（パチンコホール
の新台および出玉情報表示用ディスプレイ）等、一度に
複数の人が見るディスプレイという性格が強い。そのた
め設置場所を考慮すると、日光等からの紫外線劣化防止
を図った耐候性を有する電磁波シールド材料が必要であ
った。さらには、シールド材料中に含まれる安定性に欠
ける赤外線遮蔽剤の吸収能の経時低下を防止するために
も、耐候性を付与させることが必要である。しかし、い
ずれの公報も電磁波シールド材料に上記耐候性対策を行
っておらず、屋外（半屋外）で使用すると、電磁波シー
ルド材料を構成している接着剤等が紫外線劣化により黄
変し、ディスプレイ映像の色調に悪影響を与えてしま
う。最悪の場合には接着剤の低分子量化が進行し、シー
ルド材料からプラスチックフィルムが剥離する等の重大
問題を生じるおそれがある。さらには、赤外線吸収剤の
紫外線劣化により、画面全面から９００〜１１００ｎｍ
の赤外線が漏洩し、リモートコントロールで操作するＶ
ＴＲ機器等の誤動作を生じる。一方、電磁波シールド性
に関しては、特開平１−２７８８００号公報、特開平５
−３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金
属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方
法は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜
２、０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなり
すぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄ
Ｂ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分で
あった。良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シ
ールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−
２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電
磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きいが、電
磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させるため
に必要な繊維径が３５μｍと太すぎるため、繊維が見え
てしまい（以後視認性という）ディスプレイ用途には適
したものではなかった。また、特開昭６２−５７２９７
号公報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からライン幅
は、１００μｍ前後となり視認性が発現するため適した
ものではなかった。さらに特開平５−２８３８８９号公
報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透
明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき
法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材料
では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明基
板の表面を粗化する必要がある。この粗化手段として、
一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤
を使用しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹
脂では、満足できる粗化を行うことは困難となる。この
方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できたと
しても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、フ
ィルム化の方法としては適していなかった。さらに透明
基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができな
いため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また製造
面においては、シールド材料を巻物等にすることができ
ないため嵩高くなることや自動化に適していないために
製造コストがかさむという欠点もあった。ディスプレイ
前面から発生する電磁波のシールド性については、３０
ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以上の電磁波シール
ド機能の他に、ディスプレイ前面より発生する９００〜
１、１００ｎｍの赤外線は他のＶＴＲ機器等に悪影響を
及ぼすため、これを遮蔽する必要がある。この他にも良
好な可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけで
なく、電磁波の漏れを防止するためディスプレイ面に密
着して貼付けられる接着性、シールド材の存在を肉眼で
確認することができない特性である非視認性も必要とさ
れる。接着性についてはガラスや汎用ポリマー板に対し
比較的低温で容易に貼付き、長期間にわたって良好な密
着性を有することが必要である。しかし、電磁波シール
ド性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性、接着性等の特
性を同時に十分満たす接着フィルムとしては、これまで
満足なものは得られていなかった。特願平９−３０８４
５８号公報においては、電磁波シールド性（４０ｄＢ以
上）および透明性（４００〜７００ｎｍ平均透過率６０
％以上）の実用上使用可能なシールド材料が提案されて
いるが、屋外用途への対応は困難であった。本発明はか
かる点に鑑み、耐候性に優れた電磁波シールド性と赤外
線遮蔽性、透明性・非視認および良好な接着特性を有す
る接着フィルムを得るすることを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の発明は、耐候性に優れた電磁波シールド性と透明性お
よび簡便な接着性を有する電磁波シ−ルド性接着フィル
ムを提供するため、接着剤層、プライマ層、導電性金属
で描かれた開口率が５０％以上の幾何学図形を有した導
電性金属、プラスチックフィルムを構成材料とする導電
性金属付きプラスチックフィルムにおいて、接着剤層、
プライマ層あるいはプラスチックフィルムの少なくとも
いずれかに耐候性向上剤を含有するものである。本発明
の請求項２に記載の発明は、請求項１と同様に耐候性に
優れた電磁波シールド性と透明性および簡便な接着性を
有する電磁波シ−ルド性接着フィルムを提供するため、
接着剤層、導電性金属で描かれた開口率が５０％以上の
幾何学図形を有した導電性金属、プラスチックフィルム
を構成材料とする導電性金属付きプラスチックフィルム
において、接着剤層またはプラスチックフィルムのいず
れかに耐候性向上剤を含有するものである。本発明の請
求項３に記載の発明は、請求項１および２と同様に耐候
性に優れた電磁波シールド性と透明性および簡便な接着
性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、接着剤層、導電性金属で描かれた開口率が５０％以
上の幾何学図形を有した導電性金属、プラスチックフィ
ルムを構成材料とする導電性金属付きプラスチックフィ
ルムにおいて、プラスチックフィルムの表面に耐候性向
上剤を含有した樹脂層を設けるものである。本発明の請
求項４に記載の発明は、耐候性に優れた電磁波シールド
性と透明性および簡便な接着性を有する電磁波シールド
性接着フィルムを提供するため、耐候性向上剤として有
機系紫外線吸収剤、無機系紫外線吸収剤、ヒンダードア
ミン光安定剤、酸化防止剤、ヒドロペルオキシド分解
剤、重金属不活性化剤から選ばれた少なくとも一種以上
を含有させるものである。本発明の請求項５に記載の発
明は、耐候性に優れた電磁波シールド性と透明性および
簡便な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを
提供するため、接着剤層、プライマ層、プラスチックフ
ィルムまたは樹脂層中に含有する耐候性向上剤の配合量
が、ベース樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重
量部とするものである。本発明の請求項６に記載の発明
は、耐候性に優れた電磁波シールド性と透明性および簡
便な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提
供するため、接着剤層の厚みを導電性金属の厚み以上と
するものである。本発明の請求項７に記載の発明は、耐
候性に優れた電磁波シールド性と透明性および簡便な接
着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供する
ため、プライマ層の厚みを５μｍ以下とするものであ
る。本発明の請求項８に記載の発明は、耐候性に優れた
電磁波シールド性と透明性および簡便な接着性を有する
電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、プラス
チックフィルムの表面に設けた耐候性向上剤を含有した
樹脂層の厚みを、１００μｍ以下とするものである。本
発明の請求項９に記載の発明は、耐候性に優れた電磁波
シールド性と透明性および簡便な接着性を有する電磁波
シールド性接着フィルムを提供するため、ＪＩＳ Ａ１
４１５に準拠した耐候性促進試験を行い、処理時間２０
０時間でのＬ*ａ*ｂ*表色系による色差ΔＥ*ａｂを５.
０以下とするものである。本発明の請求項１０に記載の
発明は、安価で量産性に優れた電磁波シールド性と透明
性および簡便な接着性を有する電磁波シールド性接着フ
ィルムを提供するため、導電性金属で描かれた開口率が
５０％以上の幾何学図形を有した導電性金属の形成にマ
イクロリソグラフ法の微細回路加工法を使用するもので
ある。本発明の請求項１１に記載の発明は、安価で量産
性に優れた電磁波シールド性と透明性および簡便な接着
性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、導電性金属で描かれた開口率が５０％以上の幾何学
図形を有した導電性金属の形成にフォトリソグラフ法を
使用するものである。本発明の請求項１２に記載の発明
は、電磁波シールド性と透明性および優れた赤外線遮蔽
性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、軟化温度２００℃以下の加熱または加圧により流動
する接着剤層とするものである。本発明の請求項１３に
記載の発明は、電磁波シールド性と透明性および優れた
赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルムを
提供するため、接着剤層、プライマ層、樹脂層の屈折率
を１.４５〜１.７０とするものである。本発明の請求項
１４に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性および
優れた赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、接着剤層中に赤外線吸収剤を含有
させたことを特徴とするものである。本発明の請求項１
５に記載の発明は、電磁波シールド性と非視認性に優れ
た電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、プラ
スチックフィルム上に導電性金属で形成された幾何学図
形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ
以上、ライン厚さを４０μｍ以下とするものである。本
発明の請求項１６に記載の発明は、加工性や密着性に優
れ、安価な電磁波シールド性と非視認性を有する接着フ
ィルムを提供するため、導電性金属の厚みが０.５〜４
０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルの金属箔を使
用するものである。本発明の請求項１７に記載の発明
は、電磁波シールド性と透明性に優れた電磁波シールド
性接着フィルムを安価に提供するため、フォトリソグラ
フ法のうちケミカルエッチング法を利用するものであ
る。本発明の請求項１８に記載の発明は、透明性、安
価、耐熱性良好で取り扱い性に優れた電磁波シールド性
接着フィルムを提供するため、プラスチックフィルムを
ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボ
ネートフィルムとするものである。本発明の請求項１９
に記載の発明は、退色性が小さく、コントラストの大き
い電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、導電
性金属を銅とし、少なくともその表面が黒化処理されて
いることを特徴とするものである。本発明の請求項２０
に記載の発明は、磁場シールド性に優れた電磁波シール
ド性接着フィルムを提供するため、導電性金属に常磁性
金属を使用するものである。本発明の請求項２１に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シ
ールド性基板を提供するため、上記の電磁波シールド性
接着フィルムとプラスチック板から構成された電磁波遮
蔽構成体とするものである。本発明の請求項２２に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シ
ールド性基板を提供するため、上記の電磁波シールド性
接着フィルムを少なくともプラスチック板の片面に貼り
合わせた電磁波遮蔽構成体とするものである。本発明の
請求項２３に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性
及び赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性基板を提供
するため、上記の電磁波シールド性接着フィルムをプラ
スチック板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を
有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波
遮蔽構成体とするものである。本発明の請求項２４に記
載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波
シールド性接着フィルムをディスプレイに用いたもので
ある。本発明の請求項２５に記載の発明は、電磁波シー
ルド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム
とプラスチック板からなる電磁波遮蔽構成体をディスプ
レイに用いたものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明の電磁波シールド性接着フィルムの第一の構成は、
プラスチックフィルム表面にプライマ層を設け、その上
に接着剤層が形成され、さらに接着剤層面に導電性金属
が形成されている４層構成体からなり、接着剤層、プラ
イマ層またはプラスチックフィルムの少なくともいずれ
かに耐候性向上剤が含有されている。第二の構成は、導
電性金属面にプライマ層を設け、その上に接着剤層が形
成されておりさらに接着剤層面にプラスチックフィルム
が形成されている４層構成体からなり、接着剤層、プラ
イマ層またはプラスチックフィルムの少なくともいずれ
かに耐候性向上剤が含有されている。第三の構成は、プ
ラスチックフィルム表面に接着剤が形成され、さらに接
着剤層面に導電性金属が接着されている３層構成体から
なり、接着剤層またはプラスチックフィルムの少なくと
もいずれかに耐候性向上剤が含有されているものであ
る。第四の構成は、プラスチックフィルム表面に接着剤
層が形成され、さらに接着剤層面に導電性金属が形成さ
れている３層構成体からなり、プラスチックフィルム表
面（背面）に耐候性向上剤を含有した樹脂層を設けたも
のである。本発明で用いる耐候性向上剤としては、有機
系紫外線吸収剤、無機系紫外線吸収剤、ヒンダードアミ
ン光安定剤、酸化防止剤、ヒドロペルオキシド分解剤、
重金属不活性化剤から選ばれた一種以上を使用し、有機
系紫外線吸収剤と酸化防止剤、ヒンダードアミン光安定
剤と酸化防止剤、無機系紫外線吸収剤等を組み合わせて
使用することが好ましい。

【０００７】具体的な材料としては、ベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系、サリシレート系、シアノア
クリレート系、トリアジン系、シュウ酸アニリド系、ニ
ッケル系等の有機系紫外線吸収剤、または酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化セシウム、酸化鉄等の無機系紫外線吸収
剤、さらにはヒンダードアミン光安定（ＨＡＬＳ）、フ
ェノール系、芳香族アミン系等の酸化防止剤、リン系、
硫黄系等のヒドロペルオキシド分解剤、シュウ酸誘導
体、サリチル酸誘導体、ヒドラジン誘導体等の重金属不
活性化剤が挙げられる。

【０００８】接着剤層、プライマ層、樹脂層のいずれか
に添加し含有させる耐候性向上剤の配合量は、ベース樹
脂１００重量部に対し、０．０１〜２０重量部であるこ
とが好ましい。２０重量部を超えると、耐候性向上剤の
ブルームあるいは接着性能の顕著な低下が見られるので
好ましくない。０．０１重量部未満では、配合効果が見
られない。

【０００９】本発明で用いる加熱または加圧により流動
する接着剤層は、２００℃以下の加熱または１Ｋｇｆ／
ｃｍ²以上の加圧により流動性を示す接着剤組成物であ
ると好ましく、加熱または加圧により導電性金属で描か
れた開口率５０％以上の幾何学図形を有した電磁波シー
ルド性接着フィルムを被着体であるディスプレイやプラ
スチック板に接着剤層を流動させて容易に接着すること
ができる。この接着剤層は、導電性金属で描かれた開口
率５０％以上の幾何学図形の開口から流動し幾何学図形
面や被着体に流動することにより電磁波シールド性接着
フィルムと被着体を接着させることができる。流動でき
るので電磁波シールド性接着フィルムを被着体にラミネ
ートや加圧成形により、また曲面、複雑形状を有する被
着体にも容易に接着することができる。このためには、
接着剤層の軟化温度が２００℃以下であると好ましい。
軟化温度は、粘度が１０¹²ポイズ以下になる温度のこと
で、通常その温度では１〜１０秒程度の時間のうちに流
動が認められる。

【００１０】このような加熱または加圧により流動する
接着剤層となる接着剤組成物として、主に以下に示す熱
可塑性樹脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば
天然ゴム(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、
ポリ−１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n
=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプ
チル−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブ
チル−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−
ブタジエン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシ
エチレン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、
ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキ
シルエーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=
1.456)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n
=1.467)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポ
リエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセル
ロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポ
リアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル
(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=
1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリ
レート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、
ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポ
リ−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−３−エ
トキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカ
ルボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポリメチル
アクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタ
クリレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレート(n=
1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.475)、
ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−
３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート
(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ
−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=
1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレー
ト(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.489)など
のポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。
これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共
重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用する
ことも可能である。

【００１１】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート(n=1.48〜1.6
0)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエーテル
アクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルアクリレー
ト(n=1.48〜1.54)なども使うこともできる。特に接着性
の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシ
アクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジ
ルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、
レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグ
リシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリント
リグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポ
キシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有する
ポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹
脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。こ
れらの接着剤層となるポリマーの軟化温度は、取扱い性
から２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好ま
しい。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、使用
される環境が通常８０℃以下であるので接着剤層の軟化
温度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一
方、ポリマーの重量平均分子量は、５００以上のものを
使用することが好ましい。分子量が５００以下では接着
剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が
低下するおそれがある。一方、プライマ層，樹脂層とし
ては上記材料の範囲内で使用することができる。

【００１２】本発明で用いる接着剤層の厚みとしては、
導電性金属の厚み以上とすることがが好ましい。それ以
下の厚みであると、導電性金属が接着剤中に完全に埋没
しないため、表面凹凸が生じ可視光透過率の低下を招
く。

【００１３】本発明で用いるプライマ層の厚みとして
は、５μｍ以下であることが好ましい。５μｍを超える
と、既存の塗工機ではプライマ層−接着剤層を連続塗工
できず２回に分けて塗工する必要があり量産性に欠け
る。また、プライマ層の厚みは、特に制限はないが、
０．０５μｍ以上とすることが耐候性向上剤を含有させ
たり、塗工により形成するうえで好ましい。

【００１４】本発明で用いる樹脂層の厚みとしては、１
００μｍ以下であることが好ましい。１００μｍを超え
ると、塗工機で塗工できる上限となり、塗工ムラ等が発
生し量産性に欠ける。樹脂層を設ける方法としては、プ
ラスチック表面に直接塗工するかまたは離型フィルムに
予め樹脂層を塗工しておきラミネート等によりプラスチ
ックフィルムに転写し接着させることができる。しか
し、この方法に限らずプラスチックフィルムに樹脂層を
形成できればいずれの方法を用いても良い。また、樹脂
層の厚みは特に制限はないが、０．１μｍ以上とするこ
とが耐候性向上剤を含有させたり、塗工により形成する
ため好ましい。

【００１５】本発明の耐候性試験としては、ＪＩＳ Ａ
１４１５（建築材料の促進耐候性試験）に準拠し、処理
時間２００時間でのＬ*ａ*ｂ*表色系による色差ΔＥ*ａ
ｂが５.０以下であることが好ましい。色差５を超える
と肉眼で容易に色調変化が確認できディスプレイ表示性
に悪影響を与え、鑑賞に耐えがたくなってしまう。

【００１６】本発明で用いる接着剤層、プライマ層、樹
脂層の屈折率は１．４５〜１．７０のものを使用したほ
うが好ましい。これはプラスチックフィルムとプライマ
層の屈折率、またはプライマ層と接着剤層、プラスチッ
クフィルムと樹脂層等の接着剤層、プライマ層、樹脂層
及びプラスチックフィルムの隣接する各層の屈折率が大
きく異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折
率が１．４５〜１．７０であると可視光透過率の低下が
少なく良好で上述したポリマーの屈折率はこの範囲内に
ある。

【００１７】本発明の導電性金属として、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属
の２種以上を組み合わせた合金を使用することができ
る。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、厚さが０．５〜
４０μｍの金属箔、めっき金属、蒸着などの真空下で形
成される金属が使われる。厚さが４０μｍを超えると、
細かいライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭く
なる。また厚さが０．５μｍ未満では、表面抵抗が大き
くなり、電磁波シールド効果が劣る傾向にある。

【００１８】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色
されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形
成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント
配線板分野で行われている方法を用いて行うことができ
る。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸
化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２
ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することによ
り行うことができる。また導電性金属が、常磁性金属で
あると、磁場シールド性に優れるために好ましい。かか
る導電性金属を上記プラスチックフィルムに密着させる
方法としては、アクリルやエポキシ系樹脂を主成分とし
た上記の加熱または加圧により流動する接着剤層を介し
て貼り合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導電
層の厚みを小さくする必要がある場合は真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電
解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１または
２以上の方法を組み合わせることにより達成できる。導
電性金属の厚みは４０μｍ以下とすることが好ましく、
厚みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シ
ールド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることが
さらに好ましい。

【００１９】本発明で使用するプラスチックフィルムと
しては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
エチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポ
リオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
などのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサル
ホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ア
クリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可
視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好
ましい。これらは単層で使うこともできるが、２層以上
を組み合わせた多層フィルムとして使用してもよい。前
記プラスチックフィルムのうち透明性、耐熱性、取り扱
いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフ
ィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。プ
ラスチックフィルム厚さは、５〜５００μｍがより好ま
しい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、５００μ
ｍを超えると可視光の透過率が低下してくる。１０〜２
００μｍとすることがさらに好ましい。

【００２０】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整
数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は５０％以上が必要とされる。開口率は、６０％以上が
さらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描か
れた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見
える割合となる。

【００２１】このような幾何学図形を形成させる方法と
しては、上記導電性金属付きのプラスチックフィルムを
マイクロリソグラフ法で作製するのが回路加工の精度お
よび回路加工の効率の点から有効である。このマイクロ
リソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソグラ
フ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法
などがあり、これらの他にスクリーン印刷法なども含ま
れる。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフ
ォトリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカ
ルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その
簡便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好まし
い。フォトリソグラフ法の中ではケミカルエッチング法
の他にも無電解めっきや電気めっきによる方法、または
無電解めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組
み合わせて幾何学図形を形成することも可能である。

【００２２】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン幅は、４０μ
ｍ以下、好ましくは２５μｍ以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので１μｍ以上が好ましい。ライン厚みは４
０μｍ以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので０．５μｍ
以上が好ましく、さらに１μｍ以上がさらに好ましい。
ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過
率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用す
る場合、開口率は５０％以上が必要であるが、６０％以
上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎる
と、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１０
００μｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ラ
イン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、
繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に
換算してその一辺の長さをライン間隔とする。

【００２３】本発明で使用する赤外線吸収剤として、酸
化鉄、酸化セリウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの
金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴ
Ｏ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二銅、ク
ロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体またはア
ミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会
社製商品名）またはアントラキノン系（ＳＩＲ−１１
４）、金属錯体系（ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、
ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、Ｓ
ＩＲ−１６２）、フタロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）
（以上、三井東圧化学株式会社製商品名）などの有機系
赤外線吸収剤などが挙げられ、これらを上記接着剤層中
に含有させることが好ましい。この他にバインダー樹脂
中に分散させた組成物を接着剤としてプラスチックフィ
ルム上に形成した加熱または加圧により流動する接着剤
層の面に塗布したり、プラスチックの面に直接塗布しさ
らにその上に加熱または加圧により流動する接着剤層を
形成したり、プラスチックフィルムに形成した接着剤層
の面と反対側のフィルム背面に塗布することもできる。
また、予めプラスチックフィルム中に赤外線吸収剤を含
有させたプラスチックフィルムを使用することもでき
る。これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に
赤外線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴ
Ｏ、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体
系などの赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外
の赤外線吸収剤の場合、これらの化合物の一次粒子の粒
径に注意する必要がある。粒径が赤外線の波長より大き
すぎると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起
き、ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒
径が赤外線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下
する。好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μ
ｍがさらに好ましい。

【００２４】赤外線吸収性の材料である赤外線吸収剤
は、バインダー樹脂として、例えば、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノ
ボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイ
ソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテ
ン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリ
ル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビ
ニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどの
ポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂中に均一に
分散される。その配合の最適量は、バインダー樹脂１０
０重量部に対して赤外線吸収剤が０．０１〜１０重量部
であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０
１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量部
を超えると透明性が損なわれる。

【００２５】接着剤層中に、上記の赤外線吸収剤を含有
させた接着剤層はプラスチックフィルムの片面に形成さ
れ、さらにその接着剤層の面に導電性金属が被覆される
と好ましい。また、前述したように、赤外線吸収剤を含
有した組成物をプラスチックフィルム面に形成し、その
上に加熱または加圧により流動する接着剤層（赤外線吸
収剤を含有または含有してなくても良い）を形成しても
よいし、プラスチックフィルム面に接着剤層を形成し、
その上に赤外線吸収剤を含有した組成物を形成しても良
い。さらに、電磁波シールド性接着フィルムの導電性金
属の反対側の面に形成しても良い。また、電磁波シール
ド性接着フィルムとプラスチック板から構成された電磁
波遮蔽構成体のいずれかの層に形成しても良い。例え
ば、１枚の電磁波シールド性接着フィルムと１枚のプラ
スチック板から構成された電磁波遮蔽構成体であれば、
電磁波シールド性接着フィルムの面Ａ、電磁波シールド
性接着フィルムとプラスチック板の間の面Ｂ、プラスチ
ック板の面Ｃのいずれの面に形成しても良い。この場
合、赤外線吸収剤を含有した組成物は、これを直接上記
のＡ，Ｂ，Ｃの少なくとも一つの面に形成しても良い。
赤外線吸収剤を含有した層が少なくとも１層は必要であ
り、それ以外の層は赤外線吸収剤を含有してなくても良
い。赤外線吸収剤を含有した層は、接着性を有していた
方が、作業性や加工性が容易となり好ましい。具体的に
は、電磁波シールド性接着フィルムの接着剤層面または
フィルム背面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。
塗布された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱や
紫外線を使用して硬化させてもよい。一方、赤外線吸収
剤は上述した加熱または加圧により流動する接着剤層の
接着剤組成物に直接混合して使うことも可能である。そ
の際の添加量は接着剤の主成分となるポリマー１００重
量部に対して効果と透明性から、０．０１〜５重量部が
最適である。

【００２６】本発明で使用するプラスチック板は、プラ
スチックからなる板であり、具体的には、ポリスチレン
樹脂(n=1.59)、アクリル樹脂(n=1.49)、ポリメチルメタ
クリレート樹脂(n=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n=1.5
8)、ポリ塩化ビニル樹脂(n=1.54)、ポリ塩化ビニリデン
樹脂(n=1.6〜1.63)、ポリエチレン樹脂(n=1.51)、ポリ
プロピレン樹脂(n=1.50)、ポリアミド樹脂(n=1.52)、ポ
リアミドイミド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルイミド樹脂
(n=1.5)、ポリエーテルケトン樹脂(n=1.45)、ポリアリ
レート樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリアセタール樹脂(n=1.5〜
1.6)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(n=1.57)、ポリ
エチレンテレフタレート樹脂(n=1.58)などの熱可塑性ポ
リエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂(n=1.49)、フッ素
樹脂(n=1.4〜1.5)、ポリスルホン樹脂(n=1.63)、ポリエ
ーテルスルホン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリメチルペンテ
ン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリウレタン樹脂(n=1.45〜1.
6)、フタル酸ジアリル樹脂(n=1.45〜1.6)などの熱可塑
性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透
明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメ
チルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポ
リメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。本発明で使
用するプラスチック板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍが
ディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。

【００２７】本発明の電磁波遮蔽構成体は、電磁波シー
ルド性接着フィルムとプラスチック板から構成され、そ
の組合せは多数有る。図１は本発明の１例である電磁波
シールド性接着フィルムの斜視図（ａ）と断面図（ｂ）
であり、加熱または加圧により流動する接着剤層１、導
電性金属で描かれた幾何学図形２、プラスチックフィル
ム３、プライマ層４から電磁波シールド性接着フィルム
６が構成される。ここで必要に応じてプライマ層４を省
くことができる。また、図２は本発明の電磁波シールド
性接着フィルムの斜視図（ａ）と断面図（ｂ）であり、
加熱または加圧により流動する接着剤層１、導電性金属
で描かれた幾何学図形２、プラスチックフィルム３、紫
外線吸収剤を含有した樹脂層５から電磁波シールド性接
着フィルム６が構成される。この電磁波シールド性接着
フィルム６は、図２に対応したた構成である図３（ａ）
〜（ｄ）、さらに図１（プライマ層４なしの場合）に対
応した図３（ｅ）、（ｆ）に示すように用いることがで
きる。図３（ａ）に示すように、ディスプレイの画面７
に直接形成しても良いし、図３（ｂ）に示すようにプラ
スチック板８の片面に形成しどちらかの面をディスプレ
イ画面に接着剤又は取付治具を介してディスプレイ画面
に設ける。図３（ｃ）は、前述した赤外線吸収剤を含有
した接着剤組成物１０をプラスチック板８の一方の面
に、他方の面に電磁波シールド性接着フィルム６を形成
した電磁波遮蔽構成体９の例である。また、図３（ｄ）
はプラスチックフィルム３の片面に赤外線吸収剤を含有
した接着剤組成物１０を形成し接着剤面をプラスチック
板８に接着させ、他方の面に電磁波シールド性接着フィ
ルム６を形成した電磁波遮蔽構成体９の例である。図３
（ｅ）は、電磁波シールド性接着フィルム６とプラスチ
ック板８より構成され、電磁波シールド性接着フィルム
６の上面に樹脂層５を形成し、この樹脂層５をディスプ
レイ画面７に張り合わせる電磁波遮蔽構成体９である。
図３（ｆ）は、電磁波シールド性接着フィルム６のプラ
スチックフィルム面側に樹脂層５を形成しその面にプラ
スチック板８を設け、電磁波シールド性接着フィルム６
の導電性金属で描かれた幾何学図形が形成された面にプ
ラスチック板８を形成した電磁波遮蔽構成体９である。
ここで、図３（ｅ）〜（ｆ）のプラスチックフィルム３
または接着剤層１に耐候性向上剤が添加されている。電
磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体のいず
れかの面には、赤外線遮蔽性を有する層、反射防止処理
を有する層、防眩処理を有する層、表面硬度の高い耐擦
性を有する層を形成することができる。これらは例示で
あり、この他の形態で使用することができる。ガラス板
の片面に電磁波シールド性接着フィルムを接着し、この
ガラス板をディスプレイ前面に取り付けガラス面がディ
スプレイ装置の外側になるようにしても良い。

【００２８】本発明の電磁波シールド性接着フィルム
は、加熱または加圧により流動する接着剤層、プライマ
層、幾何学図形を有する導電性金属及びプラスチックフ
ィルムから基本的に構成され、必要に応じてプライマ層
を省くことができる。導電性金属は金属箔の使用が好ま
しく、この場合接着性向上のため金属箔の面を粗化形状
にすることが多く、幾何学図形を形成すると、除去され
た金属部分は、接着層にその粗化形状を転写して金属と
接している接着剤層の部分に粗化形状が転写されてしま
い可視光線がそこで散乱されてしまうので光線透過率が
低下し透明性が損なわれる。また、プラスチックフィル
ムにおいても、フィルムの成形加工性向上のため微量の
フィラーを添加しフィルム表面に凹凸を付与しフィルム
巻き取り時のフィルム同士の滑りを良くして巻き取り性
を向上させたり、フィルム表面に接着剤との接着性向上
のためマット加工等の粗化処理をされることがある。こ
のように、接着剤層の導電性金属が除去された部分やプ
ラスチックフィルム自体は密着性向上等のために意図的
に凹凸を有していたり、導電性金属の背面形状を転写し
たりするためにその表面で光が散乱され、透明性が損な
われるが、本発明の接着剤層はプラスチックフィルムの
凹凸面を埋めその凹凸面にプラスチックフィルムと屈折
率が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押
さえられ、また導電性金属の粗化形状の転写は、接着剤
層が流動することにより解消され被着体の表面形状に沿
って流動するので透明性が発現するようになると考えら
れる。さらにプラスチックフィルム上の導電性材料で形
成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいため肉
眼で視認されない。またライン間隔も十分に大きいため
見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽す
べき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間隔は
十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられ
る。さらには、電磁波シールド性接着フィルムは耐候性
性向上剤を含有しているため、優れた耐候性を発現する
ことができる。

【００２９】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 （実施例１） ＜電磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成
体１作製例＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東
洋紡績株式会社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ=
１．５７５）を用い、その片面に下記のプライマ層１を
室温でアプリケータを用いて所定の乾燥塗布厚になるよ
うに塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その上
に赤外線吸収剤を含む接着剤層１を室温でアプリケータ
を用いて所定の乾燥塗布厚になるように塗布し、９０
℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層１を介して
導電性金属である厚さ１２μｍの電解銅箔を、その粗化
面が接着剤層側になるようにして、１８０℃、３０Ｋｇ
ｆ／ｃｍ²の条件で加熱ラミネートして導電性金属付き
プラスチックフィルムである銅箔付きＰＥＴフィルムを
得た。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにケミカルエッ
チング法を使用したフォトリソグラフ工程（レジストフ
ィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジ
ストフィルム剥離）を経て、ライン幅２５μｍ、ライン
間隔２５０μｍの銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に
形成し、電磁波シールド性接着フィルム１を得た。この
電磁波シールド性接着フィルム１の可視光透過率は２０
％以下であった。この電磁波シールド性接着フィルム１
を熱プレス機を使用し市販のアクリル板（コモグラス；
株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ、ｎ＝１．４９）
に接着剤層が形成されている面が接するようにして１１
０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²、１５分の条件で加熱圧着し
電磁波遮蔽構成体１を得た。下記のプライマ層１および
接着剤層１の組成物を使用し、乾燥後のプライマ層の厚
みが１μｍ、接着剤層１の厚みが２０μｍになるように
して作製した電磁波シールド性接着フィルム１とプラス
チック板から得た電磁波遮蔽構成体１を実施例１とし
た。

【００３０】 ＜プライマ層１の組成物＞ Ｋ−４１０１(アクリロイル基変性ポリエステル樹脂：東洋紡績株式会社製商品 名) １００重量部 チヌビン３２８（ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤１：チバスペシャリティケ ミカルズ株式会社製商品名） ５重量部

【００３１】＜接着剤層１の組成物＞温度計、冷却管、
窒素導入管を有した５００ｃｍ³の三つ口フラスコにト
ルエン２００ｃｍ³、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５
０g、メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）５g、アクリルアミ
ド（ＡＭ）２g、ＡＩＢＮ２５０mgを入れ、窒素でバブ
リングさせながら１００℃で３時間、還流中で攪拌を行
った。その後、メタノールで再沈殿させ、得られたポリ
マーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸エステルを
合成した。この収率は７５重量％であった。これを接着
剤層１の主成分とした。 ポリアクリル酸エステル（MMA／EMA／AM=８８／９／３、Ｍｗ=７０万） １００重量部 チヌビンＰ（ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤２：チバスペシャリティケミカ ルズ株式会社製商品名） ５重量部 ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧化学株式会社製商品名） ０．５重量部 トルエン ４５０重量部 酢酸エチル １０重量部 上記の接着剤層１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
４８、軟化点は１０５℃であった。

【００３２】（実施例２） ＜電磁波シールド性接着フィルム２及び電磁波遮蔽構成
体２作製例＞プライマ層１からベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤１（チヌビン３２８）を除いた組成物をプラ
イマ層２とし、それ以外は実施例１と同様にして、電磁
波シールド性接着フィルム２とプラスチック板から電磁
波遮蔽構成体２を得て、実施例２とした。

【００３３】（実施例３） ＜電磁波シールド性接着フィルム３及び電磁波遮蔽構成
体３作製例＞接着剤層１からベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤２（チヌビンＰ）を除いた組成物を接着剤層２
とし、それ以外は実施例１と同様にして、電磁波シール
ド性接着フィルム３とプラスチック板から電磁波遮蔽構
成体３を得て、実施例３とした。

【００３４】（実施例４） ＜電磁波シールド性接着フィルム４及び電磁波遮蔽構成
体４作製例＞実施例１のプライマ層１と接着剤層１から
それぞれ紫外線吸収剤を除いたプライマ層２および接着
剤層２を使用し、さらにＰＥＴフィルムを下記の紫外線
吸収剤入りのフィルム１に変更した以外は実施例１と同
様にして、電磁波シールド性接着フィルム４とプラスチ
ック板から電磁波遮蔽構成体４を得て、実施例４とし
た。

【００３５】＜フィルム１＞ ＨＢ−５０（紫外線吸収剤練込みＰＥＴフィルム：帝人
株式会社製商品名 厚み５０μｍ）

【００３６】（実施例５） ＜電磁波シールド性接着フィルム５及び電磁波遮蔽構成
体５作製例＞接着剤層１の組成を接着剤層３に変更し、
プライマ層を除いた以外は実施例１と同様にして、電磁
波シールド性接着フィルム５とプラスチック板から電磁
波遮蔽構成体５を得て、実施例５とした。

【００３７】 ＜接着剤層３の組成物＞ エリーテル３２２０（飽和ポリエステル樹脂；ユニチカ株式会社製商品名） １００重量部 チヌビン３２６（ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤３：チバスペシャリティケ ミカルズ株式会社製商品名） ５重量部 ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧化学株式会社製商品名） ０．５重量部 トルエン ４５０重量部 酢酸エチル １０重量部 上記の接着剤層３の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５１、軟化点は１３０℃であった。

【００３８】（実施例６） ＜電磁波シールド性接着フィルム６及び電磁波遮蔽構成
体６作製例＞接着剤層３からベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤３（チヌビン３２６）を除いた組成物を接着剤
層４とし、そさらにＰＥＴフィルムをフィルム１に変更
した以外は実施例５と同様にして、電磁波シールド性接
着フィルム６とプラスチック板から電磁波遮蔽構成体６
を得て、実施例６とした。

【００３９】（実施例７） ＜電磁波シールド性接着フィルム７及び電磁波遮蔽構成
体７作製例＞実施例５の接着剤層３からベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤３（チヌビン３２６）を除いた組成
物である接着剤層４に変更し、さらにＰＥＴフィルムの
背面（接着剤層４を形成した反対の面）に下記樹脂層１
を３μｍ設けた以外は実施例５と同様にして電磁波シー
ルド性接着フィルム７とプラスチック板から電磁波遮蔽
構成体７を得て、実施例７とした。

【００４０】 ＜樹脂層１＞ ＺＲ−１３３（超微粒子酸化亜鉛入りＰＥＴ樹脂コーティング液：住友大阪セメ ント株式会社製商品名） １００重量部

【００４１】（実施例８） ＜電磁波シールド性接着フィルム８及び電磁波遮蔽構成
体８作製例＞接着剤層２およびプライマ層２に変更し、
さらにＰＥＴフィルムの背面に樹脂層１を３μｍ設けた
以外は実施例１と同様にして電磁波シールド性接着フィ
ルム８とプラスチック板から電磁波遮蔽構成体８を得
て、実施例８とした。

【００４２】（実施例９） ＜電磁波シールド性接着フィルム９及び電磁波遮蔽構成
体９作製例＞厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムの片面に下
記の赤外線吸収剤を含む接着剤層５を室温でアプリケー
タを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。
その接着剤層５を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を加熱
ラミネートして接着させアルミ箔付きＰＥＴフィルムを
得た。このアルミ箔付きＰＥＴフィルムに実施例１の電
磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１
作製例と同様のフォトリソグラフ工程を経て、ライン幅
１５μｍ、ライン間隔１２５μｍのアルミ格子パターン
をＰＥＴフィルム上に形成した。この電磁波シールド性
接着フィルム９の可視光透過率は２０％以下であった。
この電磁波シールド性接着フィルム９を市販のアクリル
板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍ
ｍ）に接着剤層が形成されている面が接するようにして
１２０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ²、３０分の条件で熱プレ
ス機を使用し加熱圧着した。さらに、ＰＥＴフィルムの
背面に樹脂層１（実施例７参照）を３μｍ設け、電磁波
遮蔽構成体９を得た。接着剤層５の組成物を使用し、乾
燥後の接着剤層５の厚みが４０μｍになるようにして作
製した電磁波シールド性接着フィルム９とプラスチック
板から得た電磁波遮蔽構成体９を実施例９とした。

【００４３】 ＜接着剤層５の組成物＞ ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、Ｍｗ=３０ 万） １００重量部 ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均 粒径０．１μｍ） ０．４重量部 ＭＥＫ ３３０重量部 シクロヘキサノン １５重量部 上記の接着剤層５の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５７、軟化点は７９℃であった。

【００４４】（実施例１０） ＜電磁波シールド性接着フィルム１０及び電磁波遮蔽構
成体１０作製例＞厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムの片面
に下記の接着剤層６を室温でアプリケータを用いて塗布
し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層
に、マスク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に
形成することによりライン幅１０μｍ、ライン間隔１０
０μｍ、厚さ１μｍのニッケル格子パターンをＰＥＴフ
ィルム上に形成した電磁波シールド性接着フィルム１０
を作製した。この電磁波シールド性接着フィルム１０の
可視光透過率は２０％以下であった。この電磁波シール
ド性接着フィルム１０をロールラミネータを使用し市販
のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、
厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成されている面が接するよ
うにして１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で加熱圧
着した。さらに、ＰＥＴフィルムの背面に樹脂層１を３
μｍ設け、電磁波遮蔽構成体１０を得た。接着剤層６の
組成物を使用し、乾燥後の接着剤層６の厚みが５μｍに
なるようにして作製した電磁波シールド性接着フィルム
１０とプラスチック板から得た電磁波遮蔽構成体１０を
実施例１０とした。

【００４５】 ＜接着剤層６の組成物＞ バイロンＵＲ―１４００（東洋紡績株式会社製商品名；飽和ポリエステル樹脂、 Ｍｎ＝４万） １００重量部 ＩＲＧ―００２（赤外線吸収剤３：日本化薬株式会社製商品名；アミニウム化合 物） １．２重量部 ＭＥＫ ２８５重量部 シクロヘキサノン ５重量部 上記の接着剤層６の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５５、軟化点は８３℃であった。

【００４６】（実施例１１） ＜電磁波シールド性接着フィルム１１及び電磁波遮蔽構
成体１１作製例＞接着剤層１の組成物の主成分であるポ
リアクリル酸エステルの組成と分子量をメタクリル酸メ
チル（ＭＭＡ）／メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）／アク
リルアミド（ＡＭ）=８５／１０／５、Ｍｗ=５５万に変
更し、接着剤層１からベンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤を除いた組成物を接着剤層７とし、プライマ層を設け
なく樹脂層１を同様に使用しそれ以外は実施例１の電磁
波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１と
同様にして作製した電磁波遮蔽構成体１１を実施例１１
とした。接着剤層７の溶媒乾燥後の屈折率は１．４７、
軟化点は９９℃であった。

【００４７】（実施例１２） ＜電磁波シールド性接着フィルム１２及び電磁波遮蔽構
成体１２作製例＞接着剤層１の主成分であるポリアクリ
ル酸エステルをポリブタジエンエラストマー（Poly bd
R−４５ＨＴ：出光石油化学株式会社製商品名）に変更
し、接着剤層１からベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
を除いた組成物を接着剤層８とし、プライマ層を設けな
く樹脂層１を同様に使用しそれ以外は実施例１と同様に
して作製した電磁波遮蔽構成体１２を実施例１２とし
た。接着剤層８の溶媒乾燥後の屈折率は１．５０、軟化
点は６１℃であった。

【００４８】（実施例１３） ＜電磁波シールド性接着フィルム１３及び電磁波遮蔽構
成体１３作製例＞接着剤層１の主成分であるポリアクリ
ル酸エステルをバイロン―２００（東洋紡績株式会社製
商品名、Ｍｎ＝１５、０００）に変更し、接着剤層１か
らベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を除いた組成物を
接着剤層９とし、プライマ層を設けなく樹脂層１を同様
に使用しそれ以外は実施例１と同様にして作製した電磁
波遮蔽構成体１３を実施例１３とした。接着剤層９の溶
媒乾燥後の屈折率は１．５５、軟化点は１６３℃であっ
た。

【００４９】（実施例１４） ＜電磁波シールド性接着フィルム１４及び電磁波遮蔽構
成体１４作製例＞プラスチックフィルムをＰＥＴ（５０
μｍ）からポリカーボネートフィルム（５０μｍ、ｎ＝
１．５８）に、接着剤層５の厚みを４０μｍから３０μ
ｍにした以外は実施例９と同様にして電磁波遮蔽構成体
１４を得た。

【００５０】（実施例１５） ＜電磁波シールド性接着フィルム１５及び電磁波遮蔽構
成体１５作製例＞ライン幅を１０μｍから３０μｍに、
ライン間隔を１００μｍから５００μｍに、接着剤層６
の厚みを５μｍから１０μｍにした以外は実施例１０と
同様にして得た電磁波遮蔽構成体１５を実施例１５とし
た。

【００５１】（実施例１６） ＜電磁波シールド性接着フィルム１６及び電磁波遮蔽構
成体１６作製例＞フォトリソグラフ工程を経てＰＥＴフ
ィルム上に形成した銅格子パターンに黒化処理を施した
こと以外は実施例８と同様にして得た電磁波遮蔽構成体
１６を実施例１６とした。

【００５２】（比較例１） ＜電磁波シールド性接着フィルム１７及び電磁波遮蔽構
成体１７作製例＞接着剤層２およびプライマ層２に変更
した以外は実施例１と同様にして電磁波シールド性接着
フィルム１７とプラスチック板から電磁波遮蔽構成体１
７を得て、比較例１とした。

【００５３】（比較例２） ＜電磁波シールド性接着フィルム１８及び電磁波遮蔽構
成体１８作製例＞実施例５の接着剤層３から紫外線吸収
剤を除いた接着剤層４に変更した以外は実施例５と同様
にして電磁波シールド性接着フィルム１８とプラスチッ
ク板から電磁波遮蔽構成体１８を得て、比較例２とし
た。

【００５４】（比較例３） ＜電磁波シールド性接着フィルム１９及び電磁波遮蔽構
成体１９作製例＞実施例９の電磁波シールド性接着フィ
ルム９の構成から樹脂層１を除いた構成で実施例９と同
様にして作製した電磁波遮蔽構成体１９を比較例３とし
た。

【００５５】（比較例４） ＜電磁波シールド性接着フィルム２０及び電磁波遮蔽構
成体２０作製例＞実施例１０の接着剤層６のバイロンＵ
Ｒ―１４００の代わりに、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂（Ｍｗ=５万）を使用し接着剤層１０の組成物と
した。さらに、樹脂層１を除いた以外の条件は全て実施
例１０と同様にして得た電磁波遮蔽構成体２０を比較例
４とした。この接着剤層１０の組成物の溶媒乾燥後の屈
折率は１．７３、軟化点は８５℃であった。

【００５６】（比較例５） ＜電磁波シールド性接着フィルム２１及び電磁波遮蔽構
成体２１作製例＞接着剤層の厚みを２０μｍから５μｍ
とし、樹脂層１を除いた以外は実施例８と同様にして電
磁波遮蔽構成体２１を作製し比較例５とした。

【００５７】（比較例６） ＜電磁波シールド性接着フィルム２２及び電磁波遮蔽構
成体２２作製例＞ライン間隔を２５０μｍから５０μｍ
とし、樹脂層１を除いた以外は実施例８と同様にして電
磁波遮蔽構成体２２を作製し比較例６とした。

【００５８】（比較例７） ＜電磁波シールド性接着フィルム２３及び電磁波遮蔽構
成体２３作製例＞ライン幅を２５μｍから５０μｍにラ
イン間隔を２５０μｍから１５０μｍ樹脂層１を除いた
以外は実施例８と同様にして電磁波遮蔽構成体２３を作
製し比較例７とした。

【００５９】（比較例８） ＜電磁波シールド性接着フィルム２４及び電磁波遮蔽構
成体２４作製例＞接着剤層５の組成物から赤外線吸収剤
を、さらに樹脂層１を除いた以外は実施例９と同様にし
て電磁波遮蔽構成体２４を作製し比較例８とした。

【００６０】（比較例９） ＜電磁波シールド性接着フィルム２５及び電磁波遮蔽構
成体２５作製例＞導電材料として０．１μｍ（１、００
０Å）全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パター
ンを形成しないで、直接、プライマ２と接着剤層２の組
成物から赤外線吸収剤を除き、さらに樹脂層１を除いた
以外は実施例１と同様にして得た電磁波遮蔽構成体２５
を比較例９とした。

【００６１】（比較例１０） ＜電磁波シールド性接着フィルム２６及び電磁波遮蔽構
成体２６作製例＞接着剤としてポリジメチルシロキサン
（Ｍｗ=４．５万、ｎ=１．４３）を使用し、接着剤層１
１の組成物とし、樹脂層１を除いた以外の条件は実施例
１０と同様にして得た電磁波遮構成体２６を比較例１０
とした。

【００６２】（比較例１１） ＜電磁波シールド性接着フィルム２７及び電磁波遮蔽構
成体２７作製例＞接着剤層１２の組成物とし、ポリアク
リル酸エステルをＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製
商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、Ｍｗ＝３０
万） １００重量部に変更して、硬化剤としてＩＰＤＩ
（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシ
アネート）を１２.５重量部添加し、さらに樹脂層１を
除いた以外の条件は実施例８と同様にして得た電磁波遮
構成体２７を比較例１１とした。上記接着剤組成物を接
着剤層１２とし、溶剤乾燥後の屈折率は１.５７、軟化
点は２００℃以上であった。

【００６３】以上のようにして得た電磁波シールド性接
着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形の開
口率、電磁波シールド性、可視光透過率、非視認性、耐
候性処理前後の接着特性，色差，赤外線遮蔽保持率を測
定し、その結果を表１、２、３に示した。

【００６４】なお接着剤層の組成物の屈折率は、屈折計
（株式会社アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計）で
測定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は
顕微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールド性は、同
軸導波管変換器（日本高周波株式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−
０２４）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムア
ナライザー（ＹＨＰ製、８５１０Ｂベクトルネットワー
クアナライザー）を用い、周波数３０ＭＨz〜１ＧＨｚ
で測定した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光
光度計（株式会社日立製作所製、２００−１０型）を用
いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均値を用いた。
非視認性は、アクリル板に電磁波シールド性接着フィル
ムを貼り付けた電磁波遮蔽構成体を０．５ｍ離れた場所
から目視して導電性金属で形成された幾何学図形を認識
できるかどうかで評価し、認識できないものを良好と
し、認識できるものをＮＧとした。赤外線遮蔽率は、分
光光度計（株式会社日立製作所製、Ｕ−３４１０）を用
いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線吸収率の
平均値を用いた。接着力は、引張り試験機（東洋ボール
ドウィン株式会社製、テンシロンＵＴＭ−４−１００）
を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、剥離速度５０ｍｍ
／分で測定した。色差は分光測色計（ミノルタ株式会社
製、ＣＭ−ＮＳ１Ｗ ）を用いて耐候性処理前後のＬ＊
（明度），ａ＊（色度），ｂ＊（色度）を測定し、以下
の式より色差（ΔＥ＊ａｂ）を算出した。 ΔＥ*ａｂ＝｛（ΔＬ*）²＋（Δａ*）²＋（Δｂ*）²｝
^1/2 耐候性処理は、サンシャインウェザメータ（スガ試験機
株式会社製、ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣ−Ｂ ）により２０
０時間処理を行った。なお、降雨有の条件とし、その時
間は１２分／時間とした。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【表２】

【００６７】

【表３】

【００６８】比較例１〜１１は、接着剤層、プライマ
層、プラスチックフィルム等に耐候性性向上剤を含有し
ておらず、また耐候性向上剤である紫外線吸収剤を含有
した樹脂層を設けていないなど耐候性処理をしていない
ため、紫外線により電磁波遮蔽構成体が黄変し、肉眼観
察で容易に確認できた。また、耐候性処理後の接着力の
低下も見られた。さらに比較例５は、接着剤層の厚み５
μｍが導電性金属である銅箔の厚み１２μｍより薄いた
め、接着剤層が流動してプラスチック板との密着性は良
いが、導電性金属を十分に埋めることができず可視光透
過率に劣った。比較例６は、ラインピッチ（ライン間
隔）が５０μｍで電磁波シールド性が良好であり、ライ
ン幅が２５μｍと細いため非視認性に優れるが、ライン
間隔が狭く開口率が５０％以下の２５％であるため可視
光透過率に劣った。比較例７は、ライン幅が、５０μｍ
であり、非視認性に劣った。比較例８および９は、赤外
線吸収剤を配合しない接着剤層を使用したものであり、
赤外線遮蔽性に劣った。比較例９は、ＰＥＴフィルムに
ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）を蒸着したものであ
るが、電磁波シールド性に劣った。比較例１０は、接着
剤層に屈折率が１．４３の接着剤層を使用したものであ
るが、接着剤層とプラスチック板との界面での散乱が大
きく可視光透過率に劣った。比較例１１は、接着剤層の
軟化温度が２００℃以上であり、接着剤層が流動しにく
く導電性金属の銅箔で形成された幾何学図形の厚み相当
以上の流動性がなく、被着体のプラスチック板に十分に
密着しないので接着力に劣った。また、転写された接着
剤層の表面に形成された粗化形状が流動性がないためほ
とんどその形状が維持され透過光が散乱されてしまい可
視光透過率に劣った。これらの比較例に対して、本発明
の実施例で示した、耐候性処理を行い、導電性金属で描
かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上で、
接着剤層に軟化温度が２００℃以下、屈折率が１．４５
〜１．７０の範囲にあり、接着剤層の厚みが導電性金属
の厚さ以上で、赤外線吸収剤が含有されている電磁波遮
蔽構成体は、いずれも好ましい値を示した。また、実施
例１６の導電性金属の銅箔を黒化処理した電磁波遮蔽構
成体は、コントラストが大きく鮮明な画像を快適に鑑賞
することができた。

【００６９】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着
フィルムは実施例からも明らかなように、被着体に容易
に貼付けて使用でき、しかも密着性が優れているので電
磁波漏れがなくシールド機能が特に良好である。また可
視光透過率、非視認性などの光学的特性が良好で、しか
も屋外に設置しても黄変の程度が非常に少なく、長時間
にわたって接着特性に変化が少なく良好であり、優れた
耐候性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供す
ることができる。請求項項１〜９に記載の通り、耐候性
向上剤を接着剤層、プライマ層、プラスチックフィルム
のいずれかに添加または耐候性向上剤を含有した樹脂層
を設けることにより、耐候性に優れた電磁波シールド性
接着フィルムを提供することができる。請求項１０、１
１に記載のマイクロリソグラフ法またはマイクロリソグ
ラフ法をフォトリソグラフ法とすることにより、安価で
量産性に優れた電磁波シールド性と透明性、および簡便
な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供
することができる。請求項１２に記載の接着剤層の軟化
温度を２００℃以下とすることにより、被着体に容易に
貼付けることができ、取り扱い性に優れた電磁波シール
ド性接着フィルムを提供することができる。請求項１３
に記載の接着剤層の屈折率を１．４５〜１．７０とする
ことにより、透明性、像鮮明性に優れた電磁波シールド
性接着フィルムを提供することができる。また、請求項
６に記載のように接着剤層の厚さを導電性金属の厚さ以
上にすることにより、透明性、接着性に優れた電磁波シ
ールド性接着フィルムを提供することができる。請求項
１４に記載の接着剤層中に赤外線吸収剤が含有されてい
ることにより、赤外線遮蔽性および透明性に優れた電磁
波シールド性接着フィルムを提供することができる。請
求項１５に記載の導電性金属で描かれた幾何学図形のラ
イン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、
ライン厚みを４０μｍ以下とすることにより、電磁波シ
ールド性と透明性及び広視野角の電磁波シールド性接着
フィルムを得ることができる。請求項１６に記載の導電
性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属を、厚さ
０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルと
することにより、電磁波シールド性、加工性、及び安価
な電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項１７に記載のケミカルエッチング法により導
電性金属を描画することにより、安価で可視光透過率に
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。請求項１８に記載の導電性金属付きプラスチッ
クフィルムのプラスチックフィルムをポリエチレンテレ
フタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムと
することにより、安価で透明性、耐熱性に優れた電磁波
シールド性接着フィルムを提供することができる。請求
項１９に記載の導電性金属が銅であり、少なくともその
表面が黒化処理されていることにより、コントラストと
電磁波シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィル
ムを提供することができる。請求項２０に記載の導電性
金属を常磁性金属とすることにより、磁場シールド性に
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。

【００７０】請求項２１に記載の電磁波シールド性接着
フィルムとプラスチック板から構成される電磁波遮蔽構
成体とすることにより、透明性を有する電磁波シールド
性に優れた基板とすることができ、ディスプレイに提供
することができる。請求項２２に記載の電磁波シールド
性接着フィルムをプラスチック板の少なくとも片面に張
り合わせ電磁波遮蔽構成体とすることにより、透明性を
有する電磁波シールド性に優れた基板とすることがで
き、取扱性が容易で、ディスプレイに提供することがで
きる。請求項２３に記載の電磁波シールド性接着フィル
ムをプラスチック板の片面に張り合わせ、他面に赤外線
遮蔽性を有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせ
た電磁波遮蔽構成体とすることにより、赤外線遮蔽性、
透明性を有する電磁波シールド性基板を提供することが
できる。請求項２４に記載の電磁波シールド性と透明性
を有する電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ
に用いることにより、軽量、コンパクトで透明性に優れ
電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供することができ
る。請求項２５に記載の電磁波シールド性と透明性を有
する電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いることによ
り、軽量、コンパクトで電磁波漏洩が少なくディスプレ
イ保護板を兼用したディスプレイを提供することができ
る。 ディスプレイに使用した場合、可視光透過率が大
きく、非視認性が良好であるのでディスプレイの輝度を
高めることなく通常の状態とほぼ同様の条件下で鮮明な
画像を快適に鑑賞することができる。本発明の電磁波シ
ールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽構成体は、耐候性
に優れているため、屋外用途に対しても対応することが
できる。また、電磁波シールド性や透明性に優れている
ため、ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あるい
は電磁波から保護する測定装置、測定機器や製造装置の
内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓のよ
うな部位に設けて使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムの斜
視図（ａ）とその断面図（ｂ）である。

【図２】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムの斜
視図（ａ）とその断面図（ｂ）である。

【図３】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムのデ
ィスプレイ使用例（ａ）及び電磁波シールド性接着フィ
ルムとプラスチック板から構成される電磁波遮蔽構成体
（（ｂ）〜（ｆ））の例。

【符号の説明】

１．接着剤層 ２．導電性金属で描かれた幾何学図形 ３．プラスチックフィルム ４．プライマ層 ５.樹脂層（紫外線吸収剤を含有した樹脂層） ６.電磁波シールド性接着フィルム ７．ディスプレイの画面 ８．プラスチック板 ９．電磁波遮蔽構成体 １０．接着剤組成物

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 接着剤層、プライマ層、導電性金属で描
   かれた開口率が５０％以上の幾何学図形を有した導電性
   金属、プラスチックフィルムを構成材料とする導電性金
   属付きプラスチックフィルムにおいて、接着剤層、プラ
   イマ層またはプラスチックフィルムの少なくともいずれ
   かに耐候性向上剤を含有したことを特徴とする電磁波シ
   ールド性接着フィルム。
2. 【請求項２】 接着剤層、導電性金属で描かれた開口率
   が５０％以上の幾何学図形を有した導電性金属、プラス
   チックフィルムを構成材料とする導電性金属付きプラス
   チックフィルムにおいて、接着剤層またはプラスチック
   フィルムのいずれかに耐候性向上剤を含有したことを特
   徴とする電磁波シールド性接着フィルム。
3. 【請求項３】 接着剤層、導電性金属で描かれた開口率
   が５０％以上の幾何学図形を有した導電性金属、プラス
   チックフィルムを構成材料とする導電性金属付きプラス
   チックフィルムにおいて、プラスチックフィルムの表面
   に耐候性向上剤を含有した樹脂層を設けたことを特徴と
   する電磁波シールド性接着フィルム。
4. 【請求項４】 耐候性向上剤が有機系紫外線吸収剤，無
   機系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン光安定剤、酸化防
   止剤、ヒドロペルオキシド分解剤、重金属不活性化剤か
   ら選ばれた少なくとも一種以上を含有する請求項１ない
   し請求項３のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フ
   ィルム。
5. 【請求項５】 接着剤層、プライマ層、プラスチックフ
   ィルムまたは樹脂層中に含有する耐候性向上剤の配合量
   が、ベース樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重
   量部である請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の
   電磁波シールド性接着フィルム。
6. 【請求項６】 接着剤層の厚みが、導電性金属の厚み以
   上であることを特徴とする請求項１ないし請求項５のい
   ずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
7. 【請求項７】 プライマ層の厚みが、５μｍ以下である
   ことを特徴とする請求項１または請求項４ないし請求項
   ６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
8. 【請求項８】 プラスチックフィルムの表面に耐候性向
   上剤を含有した樹脂層の厚みが、１００μｍ以下である
   ことを特徴とする請求項３ないし請求項６のいずれかに
   記載の電磁波シールド性接着フィルム。
9. 【請求項９】 耐候性促進試験（ＪＩＳ Ａ１４１５に
   準拠）において、処理時間２００時間でのＬ*ａ*ｂ*表
   色系による色差ΔＥ*ａｂが５.０以下であることを特徴
   とする請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の電磁
   波シールド性接着フィルム。
10. 【請求項１０】 導電性金属で描かれた開口率が５０％
    以上の幾何学図形を有した導電性金属がマイクロリソグ
    ラフ法により形成された請求項１ないし請求項９のいず
    れかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
11. 【請求項１１】 導電性金属で描かれた開口率が５０％
    以上の幾何学図形を有した導電性金属がフォトリソグラ
    フ法により形成された請求項１ないし請求項１０のいず
    れかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
12. 【請求項１２】 接着剤層が加熱または加圧により流動
    し、接着剤の軟化温度が２００℃以下である請求項１な
    いし請求項１１のいずれかに記載の電磁波シールド性接
    着フィルム。
13. 【請求項１３】 接着剤層、プライマ層、樹脂層の屈折
    率が１．４５〜１．７０の範囲にある請求項１ないし請
    求項１２のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィ
    ルム。
14. 【請求項１４】 接着剤層中に赤外線吸収剤を含有して
    いることを特徴とする請求項１ないし請求項１３のいず
    れかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
15. 【請求項１５】 導電性金属で描かれた幾何学図形のラ
    イン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、
    ライン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項
    １４のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
    ム。
16. 【請求項１６】 導電性金属付きプラスチックフィルム
    の金属が、厚さ０.５〜４０μｍの銅、アルミニウムま
    たはニッケルである請求項１ないし請求項１５のいずれ
    かに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
17. 【請求項１７】 フォトリソグラフ法のうちケミカルエ
    ッチング法で導電性金属で描かれた開口率が５０％以上
    の幾何学図形を有した導電性金属を形成する請求項１１
    に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
18. 【請求項１８】 導電性金属付きプラスチックフィルム
    のプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレート
    フィルムまたはポリカーボネートフィルムである請求項
    １ないし請求項１７のいずれかに記載の電磁波シールド
    性接着フィルム。
19. 【請求項１９】 導電性金属が銅であり、少なくともそ
    の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１
    ないし請求項１８のいずれかに記載の電磁波シールド性
    接着フィルム。
20. 【請求項２０】 導電性金属が常磁性金属である請求項
    １ないし請求項１９のいずれかに記載の電磁波シールド
    性接着フィルム。
21. 【請求項２１】 請求項１ないし請求項２０のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック
    板から構成された電磁波遮蔽構成体。
22. 【請求項２２】 請求項１ないし請求項２０のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック
    板の少なくとも片面に貼り合わせた電磁波遮蔽構成体。
23. 【請求項２３】 請求項１ないし請求項２０のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック
    板の少なくとも片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性
    を有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁
    波遮蔽構成体。
24. 【請求項２４】 請求項１ないし請求項２０のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディス
    プレイ。
25. 【請求項２５】請求項２１ないし請求項２３のいずれか
    に記載の電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。