JP3716859B2 - 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ - Google Patents
透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ Download PDFInfo
- Publication number
- JP3716859B2 JP3716859B2 JP2005076204A JP2005076204A JP3716859B2 JP 3716859 B2 JP3716859 B2 JP 3716859B2 JP 2005076204 A JP2005076204 A JP 2005076204A JP 2005076204 A JP2005076204 A JP 2005076204A JP 3716859 B2 JP3716859 B2 JP 3716859B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive layer
- electromagnetic wave
- wave shielding
- metal foil
- display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
C(%)=(A−B)×100/A
(実施例1)
<電磁波シールド性接着フィルム1及び電磁波遮蔽構成体1作製例>プラスチックフィルムとして厚さ50μmのPETフィルム(東洋紡績株式会社製、商品名A−4100、屈折率n=1.575)を用い、その片面に下記の赤外線吸収剤を含む接着剤層1を室温でアプリケータを用いて所定の乾燥塗布厚になるように塗布し、90℃、5分間加熱乾燥させた。その接着剤層1を介して導電性金属である厚さ12μmの電解銅箔を、その粗化面が接着剤側になるようにして、90℃、10Kgf/cm2の条件で加熱ラミネートして導電性金属付きプラスチックフィルムである銅箔付きPETフィルムを得た。得られた銅箔付きPETフィルムにケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ工程(レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離)を経て、ライン幅25μm、ライン間隔250μmの銅格子パターンをPETフィルム上に形成し、電磁波シールド性接着フィルム1を得た。この電磁波シールド性接着フィルム1の可視光透過率は20%以下であった。この電磁波シールド性接着フィルム1を熱プレス機を使用し市販のアクリル板(コモグラス;株式会社クラレ製商品名、厚み3mm、n=1.49)に接着剤層が形成されている面が接するようにして110℃、20Kg/cm2、15分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体1を得た。接着剤層1の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層1の厚みが20μmになるようにして作製した電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック板から得た電磁波遮蔽構成体1を実施例1とした。
バイロン200(東洋紡績(株)製;飽和ポリエステル樹脂、Mn=2万)
100重量部
SIR−159(赤外線吸収剤1:三井東圧化学株式会社製商品名、金属錯体系
) 0.5重量部
スミジュールN(住友バイエルウレタン株式会社製商品名、脂肪族3官能イソシ
アネート) 5重量部
トルエン 450重量部
酢酸エチル 10重量部
上記の接着剤層1の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.54、硬化前のDSCの硬化度(ラミネート後)は10%であった。
<電磁波シールド性接着フィルム2及び電磁波遮蔽構成体2作製例>厚さ25μmのPETフィルムの片面に下記の赤外線吸収剤を含む接着剤層2を室温でアプリケータを用いて塗布し、90℃、5分間加熱乾燥させた。その接着剤層2を介して厚さ25μmのアルミ箔を加熱ラミネート(100℃、10Kgf/cm2)して接着させアルミ箔付きPETフィルムを得た。このアルミ箔付きPETフィルムに前記実施例1の電磁波シールド性接着フィルム1及び電磁波遮蔽構成体1作製例と同様のフォトリソグラフ工程を経て、ライン幅15μm、ライン間隔125μmのアルミ格子パターンをPETフィルム上に形成した。この電磁波シールド性接着フィルム2の可視光透過率は20%以下であった。この電磁波シール性接着フィルム2を市販のアクリル板(コモグラス;株式会社クラレ製商品名、厚み3mm)に接着剤層が形成されている面が接するようにして120℃、30Kgf/cm2、30分の条件で熱プレス機を使用して加熱圧着し電磁波遮蔽構成体2を得た。接着剤層2の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層2の厚みが40μmになるようにして作製した電磁波シールド性接着フィルム2とプラスチック板から得た電磁波遮蔽構成体2を実施例2とした。
VM−Dメジウム(大日精化工業株式会社製商品名;塩化ビニル・酢酸ビニル・アクリル酸三元共重合体) 100重量部
UFP−HX(赤外線吸収剤2:住友金属鉱山株式会社製商品名;ITO、平均
粒径0.1μm) 0.4重量部
スミジュールN(住友バイエルウレタン株式会社製商品名、脂肪族3官能イソシ
アネート) 5重量部
MEK 330重量部
シクロヘキサノン 15重量部
上記の接着剤層2の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.51、硬化前のDSCの硬化度(ラミネート後)は15%であった。
<電磁波シールド性接着フィルム3及び電磁波遮蔽構成体3作製例>厚さ50μmのPETフィルムの片面に下記の接着剤層3を室温でアプリケータを用いて塗布し、90℃、5分間加熱乾燥させた。その接着剤層に、マスク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に形成することによりライン幅10μm、ライン間隔100μm、厚さ1μmのニッケル格子パターンを接着剤層3上に形成した電磁波シールド性接着フィルム3を作製した。この電磁波シールド性接着フィルム3の可視光透過率は20%以下であった。この後電磁波シールド性接着フィルム3をロールラミネータを使用し市販のアクリル板(コモグラス、株式会社クラレ製商品名、厚み3mm)に接着剤層が形成されている面が接するようにして110℃、20Kgf/cm2の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体3を得た。接着剤層3の組成物を使用し、乾燥後の接着剤3の厚みが5μmになるようにして作製した電磁波シールド性接着フィルム3とプラスチック板から得た電磁波遮蔽構成体3を実施例3とした。
S−1005(東亜合成化学工業株式会社製商品名;アクリル樹脂)
100重量部
IRG―002(赤外線吸収剤3:日本化薬株式会社製商品名;アミニウム系化
合物) 1.2重量部
スミジュールN(住友バイエルウレタン株式会社製商品名、脂肪族3官能イソシ
アネート) 5重量部
MEK 285重量部
シクロヘキサノン 5重量部
上記の接着剤層3の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.50、硬化前のDSCの硬化度(ラミネート前)は5%であった。
下記の接着剤層4の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層4の厚みが20μmになるようにして、実施例1と同様にして得た電磁波シールド性接着フィルム4として、この電磁波シールド性接着フィルム4とプラスチック板から電磁波遮蔽構成体4を作製した。
<接着剤層4の組成物>
ビスタネックスMML−140(トーネックス株式会社製商品名;ポリイソブチ
レン) 100重量部
IRG―002(赤外線吸収剤3:日本化薬株式会社製商品名;アミニウム系化
合物) 1.2重量部
酸化亜鉛(堺化学工業株式会社製) 5重量部
MEK 285重量部
シクロヘキサノン 5重量部
上記の接着剤層4の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.45、硬化前のDSCによる硬化度(ラミネート後)は3%であった。
下記の接着剤層5の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層5の厚みが20μmになるようにして、実施例1と同様にして得た電磁波シールド性接着フィルム5として、この電磁波シールド性接着フィルム5とプラスチック板から電磁波遮蔽構成体5を作製した。
<接着剤層5の組成物>
VR−103(三井・デユポン・ポリケミカル株式会社製商品名;無水マレイン
酸変性EVA、酢酸ビニル変性率30重量%) 100重量部
IRG―002(赤外線吸収剤3:日本化薬株式会社製商品名;アミニウム系化
合物) 1.2重量部
スミジュールN(住友バイエルウレタン株式会社製商品名、脂肪族3官能イソシ
アネート) 5重量部
MEK 285重量部
シクロヘキサノン 5重量部
上記の接着剤層5の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.47、硬化前のDSCによる硬化度(ラミネート後)は10%であった。
下記の接着剤層6の組成物を使用し、乾燥後の接着剤層6の厚みが20μmになるようにして、実施例1と同様にして得た電磁波シールド性接着フィルム6として、この電磁波シールド性接着フィルム6とプラスチック板から電磁波遮蔽構成体6を作製した。
<接着剤層6の組成物>
エピコートYL−983U(油化シェルエポキシ株式会社製商品名;ビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂、エポキシ当量170) 100重量部
SIR−159(赤外線吸収剤1:三井東圧株式会社製商品名)
0.5重量部
スミジュールN(住友バイエルウレタン株式会社製商品名、脂肪族3官能イソシ
アネート) 5重量部
トルエン 450重量部
酢酸エチル 10重量部
上記の接着剤層6の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.49、硬化前のDSCによる硬化度(ラミネート後)は5%であった。
プラスチックフィルムをPET(50μm)からポリカーボネートフィルム(50μm、n=1.58)に、接着剤層の厚みを20μmから30μmにした以外は実施例2と同様にして電磁波遮蔽構成体7を得た。
ライン幅を10μmから30μmに、ライン間隔を100μmから500μmに、接着剤層の厚みを5μmから10μmにした以外は実施例3と同様にして得た電磁波遮蔽構成体8を実施例8とした。
フォトリソグラフ工程を経てPETフィルム上に形成した銅格子パターンに黒化処理を施したこと以外は実施例1と同様にして得た電磁波遮蔽構成体9を実施例9とした。
実施例1の接着剤層1の組成物を用い、厚さ50μmのPETフィルム上にアプリケータを用いて乾燥後の接着剤層の厚みが20μmとなるように100℃で30分間、加熱乾燥させた。そのときのDSCによる硬化度は、80%であった。その後、実施例1と同様にして熱プレス機を使用し110℃、20Kg/cm2、15分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体10を作製した。
実施例2の接着剤層2の組成物を用い、厚さ25μmのPETフィルムの片面にアプリケータを用いて乾燥後の接着剤層の厚みが40μmとなるように100℃で30分間、加熱乾燥させた。そのときのDSCによる硬化度は、85%であった。その後、実施例2と同様にして熱プレス機を使用し120℃、30Kg/cm2、30分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体11を作製した。
実施例3の接着剤層3の組成物S−1005の代わりに、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂(Mw=5万)を使用し、スミジュールNを除いて接着剤層7の組成物とした。それ以外の条件は実施例3と同様にして得た電磁波遮蔽構成体12を比較例3とした。上記の接着剤層7の組成物の溶媒乾燥硬化後の屈折率は1.73、硬化前のDSCによる硬化度は5%であった。
接着剤の厚みを20μmから5μmにした以外は実施例1と同様にして電磁波遮蔽構成体13を作製し比較例4とした。
ライン間隔を250μmから50μmにした以外は実施例1と同様にして電磁波遮蔽構成体14を作製し比較例5とした。
ライン幅を25μmから50μmにライン間隔を250μmから150μmした以外は実施例1と同様にして電磁波遮蔽構成体15を作製し比較例6とした。
接着剤層2の組成物から赤外線吸収剤を除いた以外は実施例2と同様にして電磁波遮蔽構成体16を作製し比較例7とした。
導電材料として0.1μm(1、000Å)全面蒸着させたITO蒸着PETを使い、パターンを形成しないで、直接接着剤層1の組成物から赤外線吸収剤を除いた組成物を塗布し、実施例1と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を17を比較例8とした。
接着剤としてポリジメチルシロキサン(Mw=4.5万、n=1.43)を使用し、接着剤層10の組成物とした。それ以外の条件は実施例3と同様にして得た電磁波遮蔽構成体18を比較例9とした。
2 導電性金属で描かれた幾何学図形
3 プラスチックフィルム
4 電磁波シールド性接着フィルム
5 ディスプレイの画面
6 プラスチック板
8 電磁波遮蔽構成体
9 接着剤層
Claims (8)
- プラスチックフィルムに、熱硬化型接着剤層、該接着剤層への貼合せ面が粗化されている導電性材料の金属箔の順になるよう貼り合せて、該接着剤層に金属箔の貼合せ面の粗化形状が転写される工程、貼り合せた金属箔にケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法により開口率が50%以上になるようにライン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚さが40μm以下である幾何学図形を描く工程、及び、金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面を被着体に接着する工程を含むことを特徴とする透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
- 金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面を被着体に接着するに際し、赤外線遮蔽性を有する層が、その面又は該被着体に形成されている請求項1記載の透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
- プラスチックフィルムに、熱硬化型接着剤層、該接着剤層への貼合せ面が粗化されている導電性材料の金属箔の順になるよう貼り合せて、該接着剤層に金属箔の貼合せ面の粗化形状が転写される工程、貼り合せた金属箔にケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法により開口率が50%以上になるようにライン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚さが40μm以下である幾何学図形を描く工程、及び、金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面をガラス板に接着する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法。
- 金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面をガラス板に接着するに際し、赤外線遮蔽性を有する層が、その面又は該ガラス板に形成されている請求項3記載のディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法。
- プラスチックフィルムに、熱硬化型接着剤層、該接着剤層への貼合せ面が粗化されている導電性材料の金属箔の順になるよう貼り合せて、該接着剤層に金属箔の貼合せ面の粗化形状が転写される工程、貼り合せた金属箔にケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法により開口率が50%以上になるようにライン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚さが40μm以下である幾何学図形を描く工程、及び、金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面をプラスチック板に接着する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法。
- 金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面をプラスチック板に接着するに際し、赤外線遮蔽性を有する層が、その面又は該プラスチック板に形成されている請求項5記載のディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法。
- プラスチックフィルムに、熱硬化型接着剤層、該接着剤層への貼合せ面が粗化されている導電性材料の金属箔の順になるよう貼り合せて、該接着剤層に金属箔の貼合せ面の粗化形状が転写される工程、貼り合せた金属箔にケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法により開口率が50%以上になるようにライン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚さが40μm以下である幾何学図形を描く工程、及び、金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面をディスプレイに接着する工程を含む方法により製造されたディスプレイ。
- 金属箔を除去して形成した幾何学図形を含む接着剤層の粗化形状が転写された面をディスプレイに接着するに際し、赤外線遮蔽性を有する層が、その面又は該ディスプレイに形成されている請求項7記載のディスプレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005076204A JP3716859B2 (ja) | 2005-03-17 | 2005-03-17 | 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005076204A JP3716859B2 (ja) | 2005-03-17 | 2005-03-17 | 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002043183A Division JP4084055B2 (ja) | 2002-02-20 | 2002-02-20 | 電磁波シールド性接着フィルムの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005286326A JP2005286326A (ja) | 2005-10-13 |
JP3716859B2 true JP3716859B2 (ja) | 2005-11-16 |
Family
ID=35184307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005076204A Expired - Fee Related JP3716859B2 (ja) | 2005-03-17 | 2005-03-17 | 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3716859B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008305829A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光干渉縞防止光透過型電磁波シールド材料 |
JP5588390B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2014-09-10 | パナソニック株式会社 | 配線パターン形成基材 |
-
2005
- 2005-03-17 JP JP2005076204A patent/JP3716859B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005286326A (ja) | 2005-10-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100335346B1 (ko) | 전자파차폐성접착필름,이필름을채용한전자파차폐성어셈블리및표시소자 | |
JP3388682B2 (ja) | 電磁波シールド性と透明性を有するディスプレイ用フィルムの製造法 | |
JP3870485B2 (ja) | 透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法 | |
JP4053310B2 (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムの製造法 | |
JP3386743B2 (ja) | Pdp用電磁波シールド性接着フィルムの製造法及びpdp用電磁波遮蔽構成体とプラズマディスプレイの製造法 | |
JP2001284879A (ja) | 電磁波シールド材料、その製法およびその利用 | |
JP3473310B2 (ja) | 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有するディスプレイ用フィルム、電磁波遮蔽体及びプラズマディスプレイの製造法 | |
JP3716859B2 (ja) | 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ | |
JP2001053488A (ja) | 電磁波シールド材料並びにこの材料を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイ | |
JP2003103696A (ja) | 凹凸を形成するための版、その製造方法、それを用いた電磁波シールド材料、その製造方法、並びにその電磁波シールド材料を用いた電磁波遮蔽構成体及び電磁波シールドディスプレイ | |
JP4175424B2 (ja) | 電磁波シールド性と透明性、非視認性および反り特性の良好な電磁波シールド材料及び該電磁波シールド材料を用いたディスプレイ | |
JPH10335885A (ja) | 透明性を有する電磁波シールド材料及び該電磁波シールド材料を用いたディスプレイ | |
JPH11340682A (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ | |
JPH11145678A (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ | |
JP3716800B2 (ja) | 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ | |
JP2002335095A (ja) | 電磁波シールド性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体及びディスプレイの製造法 | |
JP3716860B2 (ja) | 透明性を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽体の製造法並びにディスプレイ | |
JP2000323890A (ja) | 電磁波シールド性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体及び電磁波シールド性ディスプレイの製造法 | |
JP4084055B2 (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムの製造法 | |
JPH11145676A (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ | |
JP4288690B2 (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムの製造方法 | |
JP4175423B2 (ja) | 電磁波シールド材料及び該電磁波シールド材料を用いたディスプレイ | |
JPH11191692A (ja) | 耐候性に優れた電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ | |
JP2000323889A (ja) | 電磁波シールド性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体及び電磁波シールド性ディスプレイの製造法 | |
JP4288689B2 (ja) | 電磁波シールド性接着フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050809 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050822 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100909 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110909 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110909 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120909 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |