JP2009033060A - 電磁波シールド部材、その製造方法及び該電磁波シールド部材を含むプラズマディスプレイ用前面フィルター - Google Patents
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Abstract
【課題】透明基材上に設けられたプライマー層上に、所定のパターンの導電層が形成されてなる電磁波シールド部材であって、ＵＶ遮蔽機能を付与することで、層数の削減が可能なＰＤＰ用前面フィルターを与えることができ、かつ性能の安定した所定パターンの導電層を有する電磁波シールド部材を提供する。
【解決手段】透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層を有する電磁波シールド部材であって、前記の透明基材及び／又はプライマー層が、紫外線遮蔽能を有し、かつ該プライマー層が、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものであることを特徴とする電磁波シールド部材である。
【選択図】図２
【解決手段】透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層を有する電磁波シールド部材であって、前記の透明基材及び／又はプライマー層が、紫外線遮蔽能を有し、かつ該プライマー層が、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものであることを特徴とする電磁波シールド部材である。
【選択図】図２
Description
本発明は、電磁波シールド部材、その製造方法及び該電磁波シールド部材を含むプラズマディスプレイ用前面フィルターに関する。さらに詳しくは、本発明は、透明基材に設けられたプライマー層上に、所定パターンの導電層が形成され、かつ上記の透明基材及び／又はプライマー層が紫外線遮蔽能を有し、層数の削減が可能なプラズマディスプレイ用前面フィルターを与えることのできる電磁波シールド部材、このものを効率よく製造する方法及び上記電磁波シールド部材を含むプラズマディスプレイ用前面フィルターに関するものである。
テレビやパーソナルコンピュータのモニター等のディスプレイ装置として、例えば、ＣＲＴディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）装置、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ装置等が知られている。これらのディスプレイ装置のうち、大画面ディスプレイ装置の分野で注目されているＰＤＰ装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器（例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等）に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側（観察者側）に、漏洩する電磁波をシールドするためのフィルム状の電磁波シールド部材を設けるのが一般的である。
また、ＰＤＰにおいては、近赤外線を発することが知られている。この近赤外線は、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど、周辺にある電子機器に作用し、正常な動作を阻害するおそれがあり、この近赤外線を極力遮断することが要求される。
また、ＰＤＰにおいては、近赤外線を発することが知られている。この近赤外線は、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど、周辺にある電子機器に作用し、正常な動作を阻害するおそれがあり、この近赤外線を極力遮断することが要求される。
さらに、ＰＤＰにおいては、ネオン光カット機能やキセノン光カット機能、あるいはＰＤＰの発光を所定の透過率で透過させて、良好な画面表示をすることや、発光色の色調補正をすることも重要である。また、ＰＤＰにおいては、表示面が平面であるため、外光が差し込んだ際に、広い範囲で反射した光が同時に目に入り、画面が見えにくくなる場合があり、外光の反射防止が必要である。
したがって、ＰＤＰにおいては、これらの要求を満たすために、一般に表示画面に、前述の電磁波シールド機能を始め、近赤外線吸収機能、ネオン光カット機能、キセノン光カット機能、色調補正機能及び反射防止機能などが付与された前面フィルターが設けられる（例えば、特許文献１及び２参照）。
このような前面フィルターには、前記機能の中で、近赤外線吸収機能、ネオン光カット機能、キセノン光カット機能及び色調補正機能などを付与するために、色素が添加された層が存在する。該色素は、一般に日光や照明光に由来する紫外光（ＵＶ）に対して耐久性に乏しい。したがって該前面フィルターには、更にＵＶカット機能層を１層新たに設けるなどして、ＵＶカット機能を付与することが行われるが、この場合、コスト的には不利となる。
したがって、ＰＤＰにおいては、これらの要求を満たすために、一般に表示画面に、前述の電磁波シールド機能を始め、近赤外線吸収機能、ネオン光カット機能、キセノン光カット機能、色調補正機能及び反射防止機能などが付与された前面フィルターが設けられる（例えば、特許文献１及び２参照）。
このような前面フィルターには、前記機能の中で、近赤外線吸収機能、ネオン光カット機能、キセノン光カット機能及び色調補正機能などを付与するために、色素が添加された層が存在する。該色素は、一般に日光や照明光に由来する紫外光（ＵＶ）に対して耐久性に乏しい。したがって該前面フィルターには、更にＵＶカット機能層を１層新たに設けるなどして、ＵＶカット機能を付与することが行われるが、この場合、コスト的には不利となる。
ところで、電磁波シールド部材は今までに種々検討され、例えば特許文献３には、透明基材上に無電解めっき触媒ペーストをメッシュパターンでシルクスクリーン印刷し、その上に金属層を無電解めっきしてなる電磁波シールド材が提案されている。また、特許文献４には、導電性インキ組成物をメッシュパターンで転写体に凹版オフセット印刷し、転写体上のメッシュパターンを透明基材上に転写し、透明基材上のメッシュパターンに金属層を電気めっきしてなる電磁波シールド材が提案されている。また、特許文献５には、導電性インキ組成物をメッシュパターンで透明基材に直接凹版印刷し、その透明基材上のメッシュパターンに金属層を電気めっきしてなる電磁波シールド材が提案されている。
しかしながら、特許文献３に記載の電磁波シールド材は、シルクスクリーン印刷でメッシュパターンを形成する為に、微細パターンの形成が難しいという難点がある。また、特許文献４に記載の電磁波シールド材は、凹版印刷でメッシュパターンを形成することから微細パターンの形成は可能であるが、オフセット印刷を採用するために、凹版から転写体に転写した後に転写体から透明基材に２回目の転写を行うので、原版である凹版のメッシュパターンが忠実に透明基材に転写されないことがある。
さらに、特許文献４，５に記載の電磁波シールド材は、凹版から転写体又は透明基材に転写（転移とも云う）する際に、未転写部が発生したり、密着性に劣る転写不良が発生したりすると云う従来の凹版印刷固有の問題がある。
さらに、特許文献４，５に記載の電磁波シールド材は、凹版から転写体又は透明基材に転写（転移とも云う）する際に、未転写部が発生したり、密着性に劣る転写不良が発生したりすると云う従来の凹版印刷固有の問題がある。
このような従来の電磁波シールド部材に関する技術における問題点を解決するためには、例えば所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状の版面に、金属等の導電性粒子を含有する導電層形成用材料を塗布して該凹部内に該導電層形成材料を充填したのち、未硬化液状のＵＶ硬化性プライマー層が設けられた透明基材を、該ＵＶ硬化性プライマー層が、上記の導電層形成用材料が充填された上記版面の凹部側に対面するようにして圧着させ、次いで該ＵＶ硬化性プライマー層をＵＶ光の照射により硬化させたのち、当該透明基材及び硬化したプライマー層を上記版面から剥がして、上記凹部内の導電層形成用材料を、上記プライマー層上に転写させ、続いてプライマー層上に転写された所定パターンで形成されてなる導電層形成用材料を硬化させて導電層を形成することにより、電磁波シールド部材を作製する方法（以下、この方法をプライマー引き抜き型印刷方式と称することがある）が、有効であることが考えられる。斯かる新規な方法を、本願出願人は特願２００７−１５３１１３にて提案した。
このようなプライマー引き抜き型印刷方式によるＰＤＰ用電磁波シールド部材において、更に、透明基材及び／又はプライマー層にＵＶカット機能を付与することで、ＰＤＰ用電磁波シールド部材に更にＵＶカット機能を付与する場合においても、別途ＵＶカット機能層を設ける必要がなく、この電磁波シールド部材を用いたＰＤＰ用前面フィルターにおける層数削減が可能となる。そこで、本願出願人は斯かる仕様について鋭意検討した。
しかしながら、上記透明基材やプライマー層にＵＶカット機能を付与した場合には、プライマー層の作製に、一般に用いられているＵＶ硬化性プライマー層をＵＶ照射により硬化させる方法を採用する場合には、該ＵＶ硬化性プライマー層に含まれている光重合開始剤（ＵＶ波長域の光を吸収して硬化反応を開始する）の機能が発揮されにくく、ＵＶ硬化反応が充分に進行しないため、導電層形成用材料のプライマー層上への転写性、形成される導電層のプライマー層との密着性や性能の安定性の阻害などが生じる。
一般に、ＵＶ硬化性組成物はＵＶ（紫外線）以外に電子線でも硬化可能であること、及び電子線は紫外線遮蔽能を持つ層でも透過性を有することが知られている。よって、先ず容易に思い付くことは、該ＵＶ硬化性プライマー層を電子線で硬化させることである。しかしながら、電子線硬化方式は、透明基材を変色させる力が紫外線よりも強い（特に、可塑化ポリ塩化ビニルについては黄変する傾向が知られている）。このことは、無色透明性を要求されるプラズマディスプレイ用前面フィルターの用途には不適である。材料の選定や照射条件の調節によって改善は可能であるが材料と加工条件の選択肢が狭まる。更に、電子線照射方式は、紫外線照射方式と比べて、制動放射のＸ線を遮蔽したり、窒素ガスで照射領域を酸素から遮断する必要も有り、又それ故に照射設備の価格も高価で且つ大規模なものとなると云う諸問題が有り、採用に踏み切ることは困難であった。
しかしながら、上記透明基材やプライマー層にＵＶカット機能を付与した場合には、プライマー層の作製に、一般に用いられているＵＶ硬化性プライマー層をＵＶ照射により硬化させる方法を採用する場合には、該ＵＶ硬化性プライマー層に含まれている光重合開始剤（ＵＶ波長域の光を吸収して硬化反応を開始する）の機能が発揮されにくく、ＵＶ硬化反応が充分に進行しないため、導電層形成用材料のプライマー層上への転写性、形成される導電層のプライマー層との密着性や性能の安定性の阻害などが生じる。
一般に、ＵＶ硬化性組成物はＵＶ（紫外線）以外に電子線でも硬化可能であること、及び電子線は紫外線遮蔽能を持つ層でも透過性を有することが知られている。よって、先ず容易に思い付くことは、該ＵＶ硬化性プライマー層を電子線で硬化させることである。しかしながら、電子線硬化方式は、透明基材を変色させる力が紫外線よりも強い（特に、可塑化ポリ塩化ビニルについては黄変する傾向が知られている）。このことは、無色透明性を要求されるプラズマディスプレイ用前面フィルターの用途には不適である。材料の選定や照射条件の調節によって改善は可能であるが材料と加工条件の選択肢が狭まる。更に、電子線照射方式は、紫外線照射方式と比べて、制動放射のＸ線を遮蔽したり、窒素ガスで照射領域を酸素から遮断する必要も有り、又それ故に照射設備の価格も高価で且つ大規模なものとなると云う諸問題が有り、採用に踏み切ることは困難であった。
本発明は、このような状況下で、透明基材上に設けられたプライマー層上に、所定のパターンの導電層が形成されてなる電磁波シールド部材であって、基材或いはプラーマー層自体にＵＶカット機能を付与することで層数の削減が可能な、電磁波シールド機能とＵＶカット機能とを有するＰＤＰ用前面フィルターを与えることができ、かつ性能の安定した所定パターンの導電層を有する電磁波シールド部材を提供することを第１の目的とし、上記電磁波シールド部材の効率的な製造方法を提供することを第２の目的とする。さらに、上記電磁波シールド部材を含むＰＤＰ用前面フィルターを提供することを第３の目的とする。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電層を有する電磁波シールド部材において、上記の透明基材及び／又はプライマー層にＵＶカット機能を付与しても、該プライマー層を、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層とし、該層に可視光域を含む光を照射して該硬化性プライマー層を硬化させることで、作製することができること、そして、この電磁波シールド部材を用いることでＰＤＰ用前面フィルターの層数削減が可能になることを見出した。
また、プライマー引き抜き印刷方式を採用することにより、プライマー層との密着性がよく、かつ未転写部の発生が抑制され、性能の安定した導電層を有する電磁波シールド部材が得られることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
また、プライマー引き抜き印刷方式を採用することにより、プライマー層との密着性がよく、かつ未転写部の発生が抑制され、性能の安定した導電層を有する電磁波シールド部材が得られることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
［１］透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層を有する電磁波シールド部材であって、前記の透明基材及び／又はプライマー層が、紫外線遮蔽能を有し、かつ該プライマー層が、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものであることを特徴とする電磁波シールド部材、
［２］可視光域が、波長３８０〜８３０ｎｍである上記［１］に記載の電磁波シールド部材、
［３］（ａ）透明基材上に、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層を形成する工程、（ｂ）所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性粒子を含有する導電層形成用材料を充填する工程、（ｃ）上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層を有する透明基材を、該光硬化性プライマー層が、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該光硬化性プライマー層を可視光域を含む光の照射により硬化させて固体状のプライマー層を形成する工程、（ｄ）当該透明基材を、及び固体化したプライマー層上記版面から剥がして、上記凹部内の導電層形成用材料を、上記プライマー層上に転写させる工程、及び（ｅ）プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成用材料を硬化させて導電層を形成する工程を含み、かつ上記透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを特徴とする電磁波シールド部材の製造方法、及び
［４］上記［１］又は［２］に記載の電磁波シールド部材を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルター、
を提供するものである。
［１］透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層を有する電磁波シールド部材であって、前記の透明基材及び／又はプライマー層が、紫外線遮蔽能を有し、かつ該プライマー層が、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものであることを特徴とする電磁波シールド部材、
［２］可視光域が、波長３８０〜８３０ｎｍである上記［１］に記載の電磁波シールド部材、
［３］（ａ）透明基材上に、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層を形成する工程、（ｂ）所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性粒子を含有する導電層形成用材料を充填する工程、（ｃ）上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層を有する透明基材を、該光硬化性プライマー層が、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該光硬化性プライマー層を可視光域を含む光の照射により硬化させて固体状のプライマー層を形成する工程、（ｄ）当該透明基材を、及び固体化したプライマー層上記版面から剥がして、上記凹部内の導電層形成用材料を、上記プライマー層上に転写させる工程、及び（ｅ）プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成用材料を硬化させて導電層を形成する工程を含み、かつ上記透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを特徴とする電磁波シールド部材の製造方法、及び
［４］上記［１］又は［２］に記載の電磁波シールド部材を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルター、
を提供するものである。
ＰＤＰ用前面フィルターにおいては、近赤外線吸収機能、ネオン光カット機能、キセノン光カット機能、色調補正機能などを付与するために、色素を添加した層が存在し、該色素は一般にＵＶに対して耐久性に乏しいことから、これまでＵＶカット機能層を別途設けることが行われていた。
本発明の電磁波シールド部材は、透明基材上に設けられた特定のプライマー層上に、所定のパターン且つ特定構成の導電層が形成されてなる電磁波シールド部材であって、プライマー層及び／又は透明基材自体にＵＶカット機能を付与することで、層数の削減が可能なＰＤＰ用前面フィルターを与えることができる。
また、当該電磁波シールド部材は、本発明の方法によれば、プライマー引き抜き印刷方式により作製することによって、プライマー層との密着性がよく、かつ未転写部の発生が抑制され、性能の安定した導電層を有するものが得られる。
本発明の電磁波シールド部材は、透明基材上に設けられた特定のプライマー層上に、所定のパターン且つ特定構成の導電層が形成されてなる電磁波シールド部材であって、プライマー層及び／又は透明基材自体にＵＶカット機能を付与することで、層数の削減が可能なＰＤＰ用前面フィルターを与えることができる。
また、当該電磁波シールド部材は、本発明の方法によれば、プライマー引き抜き印刷方式により作製することによって、プライマー層との密着性がよく、かつ未転写部の発生が抑制され、性能の安定した導電層を有するものが得られる。
まず、本発明の電磁波シールド部材について説明する。
［電磁波シールド部材］
本発明の電磁波シールド部材は、透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電層を有する電磁波シールド部材である。
［電磁波シールド部材］
本発明の電磁波シールド部材は、透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電層を有する電磁波シールド部材である。
（透明基材）
本発明の電磁波シールド部材に用いる透明基材は、少なくとも可視領域で透明な基材が使用可能であり、ガラス、或いは樹脂の板や樹脂のフィルムが用いられる。この樹脂フィルムとしては、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル樹脂等をベースとするフィルムが好ましいが、これに限定されない。具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等のセルスロース系；ポリエーテルサルホン；ポリアクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン等のポリオレフィン；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の含ハロゲン樹脂；ポリカーボネート；ポリスチレン等のスチレン系樹脂；ポリアミド；ポリイミド；ポリスルホン；ポリエーテル；ポリエーテルケトン；ポリ（メタ）アクリロニトリル等の樹脂から成るフィルム等を挙げることができる。中でも、二軸延伸ＰＥＴフィルムが透明性、耐久性に優れ、好適である。
樹脂板としては、例えば、上記樹脂フィルムで列記した樹脂の板が用いられる。又、ガラス板としては、例えば、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子等の板が用いられる。これらガラス板、或いは樹脂板の厚みは、通常、０．５ｍｍ〜５ｍｍ程度である。
本発明の電磁波シールド部材に用いる透明基材は、少なくとも可視領域で透明な基材が使用可能であり、ガラス、或いは樹脂の板や樹脂のフィルムが用いられる。この樹脂フィルムとしては、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル樹脂等をベースとするフィルムが好ましいが、これに限定されない。具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等のセルスロース系；ポリエーテルサルホン；ポリアクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン等のポリオレフィン；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の含ハロゲン樹脂；ポリカーボネート；ポリスチレン等のスチレン系樹脂；ポリアミド；ポリイミド；ポリスルホン；ポリエーテル；ポリエーテルケトン；ポリ（メタ）アクリロニトリル等の樹脂から成るフィルム等を挙げることができる。中でも、二軸延伸ＰＥＴフィルムが透明性、耐久性に優れ、好適である。
樹脂板としては、例えば、上記樹脂フィルムで列記した樹脂の板が用いられる。又、ガラス板としては、例えば、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子等の板が用いられる。これらガラス板、或いは樹脂板の厚みは、通常、０．５ｍｍ〜５ｍｍ程度である。
上記透明基材フィルムは、ロール・トウ・ロールの長尺フィルムであってもよいし、所定の大きさからなる枚葉フィルムであってもよい。透明基材フィルムの厚さは、通常１０〜５００μｍ程度、好ましくは２５〜２５０μｍ程度である。透明基材フィルムの光透過率としては、８０％以上のものが好ましく、９０％以上のものがより好ましい。透明基材フィルムの表面には、必要に応じて、後述するプライマー層など、その上に設けられる層と基材フィルムとの密着性を改善するために易接着層を設けたり、表面処理を行ってもよい。該易接着層としては、該透明基材フィルムとプライマー層など、その上に設けられる層との両方に接着性の有る樹脂から構成するものが好ましく、易接着層の樹脂としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩素化ポリプロピレン等の樹脂の中から適宜選択することができる。
また、表面処理としては、酸化法や凹凸化法などがあり、酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は透明基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
また、表面処理としては、酸化法や凹凸化法などがあり、酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は透明基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
本発明においては、透明基材及び／又は後述のプライマー層は紫外線遮蔽能を有することを要す。この紫外線遮蔽能を有することにより、ＰＤＰ用前面フィルターにおいて、近赤外線吸収機能、ネオン光カット機能、キセノン光カット機能及び色調補正機能などを付与するために用いられる色素が添加された層のＵＶ光に対する耐久性を向上させることができる。
したがって、透明基材として、前記透明基材フィルムを用いる場合、該透明基材フィルムに紫外線遮蔽能を付与することができる。この場合、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を該透明基材フィルム中に練り込んだり、透明基材フィルムの構成層の一部として、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含むコート層を表面に設けたり、あるいはその両方を併用した構成としてもよい。
したがって、透明基材として、前記透明基材フィルムを用いる場合、該透明基材フィルムに紫外線遮蔽能を付与することができる。この場合、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を該透明基材フィルム中に練り込んだり、透明基材フィルムの構成層の一部として、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含むコート層を表面に設けたり、あるいはその両方を併用した構成としてもよい。
＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、一般に、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系に大別することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
紫外線吸収剤は、一般に、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系に大別することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのモノ（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロピルオキシフェニル）−６−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのビス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどのトリス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物等が挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
＜紫外線散乱剤＞
紫外線散乱剤とは、紫外線を散乱させることによって、紫外線遮断効果をもたらす材料のことであり、主に金属酸化物粉体などの無機系材料が用いられる。この紫外線散乱剤の例としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどを微粒子化した粉体、あるいは二酸化チタン微粒子を酸化鉄で複合化処理してなるハイブリッド無機粉体、酸化セリウム微粒子の表面を非結晶性シリカでコーティングしてなるハイブリッド無機粉体などが挙げられる。紫外線散乱効果は、粒子径に大きく影響を受けるので、本発明においては、前記紫外線散乱剤の平均粒子径は５μｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が好ましい。
紫外線散乱剤とは、紫外線を散乱させることによって、紫外線遮断効果をもたらす材料のことであり、主に金属酸化物粉体などの無機系材料が用いられる。この紫外線散乱剤の例としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどを微粒子化した粉体、あるいは二酸化チタン微粒子を酸化鉄で複合化処理してなるハイブリッド無機粉体、酸化セリウム微粒子の表面を非結晶性シリカでコーティングしてなるハイブリッド無機粉体などが挙げられる。紫外線散乱効果は、粒子径に大きく影響を受けるので、本発明においては、前記紫外線散乱剤の平均粒子径は５μｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が好ましい。
前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を透明基材フィルム中に練り込む場合、紫外線吸収剤では、フィルム中の含有量は、通常０．０１〜３質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％であり、紫外線散乱剤では、フィルム中の含有量は、通常０．００５〜１質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％である。なお、紫外線散乱剤を含有させる場合には、透明基材フィルムが必要な透明度を保持することが肝要である。
一方、前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含むコート層を、透明基材フィルムの表面に設ける場合には、バインダー樹脂として、例えばポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ブチラール系樹脂など、さらには紫外線硬化型樹脂の硬化物などを挙げることができる。
前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤をコート層中に含有させる場合、紫外線吸収剤では、コート層中の含有量は、通常０．０１〜３質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％であり、紫外線散乱剤では、コート層中の含有量は、通常０．００５〜１質量％程度、好ましくは０．０１〜１質量％である。このコート層の厚さは、通常１〜２０μｍ、好ましくは３〜１０μｍである。なお、コート層中に紫外線散乱剤を含有させる場合には、透明基材フィルムと上記コート層との一体化物が、必要な透明度を保持することが肝要である。
一方、前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含むコート層を、透明基材フィルムの表面に設ける場合には、バインダー樹脂として、例えばポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ブチラール系樹脂など、さらには紫外線硬化型樹脂の硬化物などを挙げることができる。
前記紫外線吸収剤や紫外線散乱剤をコート層中に含有させる場合、紫外線吸収剤では、コート層中の含有量は、通常０．０１〜３質量％程度、好ましくは０．１〜１質量％であり、紫外線散乱剤では、コート層中の含有量は、通常０．００５〜１質量％程度、好ましくは０．０１〜１質量％である。このコート層の厚さは、通常１〜２０μｍ、好ましくは３〜１０μｍである。なお、コート層中に紫外線散乱剤を含有させる場合には、透明基材フィルムと上記コート層との一体化物が、必要な透明度を保持することが肝要である。
（プライマー層）
本発明の電磁波シールド部材においては、前述の透明基材上に形成されるプライマー層は、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものである。なお、上記可視光域は、波長３８０〜８３０ｎｍ程度の領域を指す。
上記光硬化性プライマー層は、上記透明基材上にプライマー層形成用の未硬化状態では液状で流動性の光硬化性組成物を塗布することにより形成することができる。
該光硬化性組成物は、プライマー層形成用の材料として用いられ、可視光域を含む光の照射により硬化する。
本発明の電磁波シールド部材においては、前述の透明基材上に形成されるプライマー層は、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものである。なお、上記可視光域は、波長３８０〜８３０ｎｍ程度の領域を指す。
上記光硬化性プライマー層は、上記透明基材上にプライマー層形成用の未硬化状態では液状で流動性の光硬化性組成物を塗布することにより形成することができる。
該光硬化性組成物は、プライマー層形成用の材料として用いられ、可視光域を含む光の照射により硬化する。
＜光硬化性組成物＞
この光硬化性組成物としては、光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むものを用いることができる。
上記光重合性モノマーとしては、例えば１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの光重合性モノマーは一種用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
この光硬化性組成物としては、光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むものを用いることができる。
上記光重合性モノマーとしては、例えば１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの光重合性モノマーは一種用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステル（メタ）アクリレート系、エポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリオール（メタ）アクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエステル（メタ）アクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらの光重合性プレポリマーは一種用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよく、また、前記光重合性モノマーと併用してもよい。
なお、ここで、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。
エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらの光重合性プレポリマーは一種用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよく、また、前記光重合性モノマーと併用してもよい。
なお、ここで、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。
当該光硬化性組成物においては、光重合開始剤として、可視光域（波長３８０〜８３０ｎｍ程度）の光でラジカルを発生する重合開始剤が用いられる。このような光重合開始剤としては、メタロセン系化合物が知られており、例えば、下記式（１）
で表されるビス（η5−２，４−ジシクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、登録商標「イルガキュア７８４」として市販されている。
当該光硬化性組成物における上記光重合開始剤の含有量は、前記光重合性化合物１００質量部に対して、通常０．１〜１０質量部程度、好ましくは０．５〜５質量部である。
当該光硬化性組成物における上記光重合開始剤の含有量は、前記光重合性化合物１００質量部に対して、通常０．１〜１０質量部程度、好ましくは０．５〜５質量部である。
当該光重合性組成物においては、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含有させることができる。なお、前述した透明基材に、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含有させるか、それらを含むコート剤を該透明基材表面に設けた場合には、当該光硬化性組成物に紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含有させる必要はないが、該透明基材に上記の処置を講じない場合には、当該光硬化性組成物に紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含有させることは必須となる。
この紫外線吸収剤や紫外線散乱剤の種類については、前述の透明基材の説明において、示したとおりである。
当該光硬化性組成物に紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含有させる場合、その含有量は、形成されるプライマー層中に、通常０．００１〜３質量％程度、好ましくは０．０１〜１質量％の割合で含まれるように選定される。
この紫外線吸収剤や紫外線散乱剤の種類については、前述の透明基材の説明において、示したとおりである。
当該光硬化性組成物に紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含有させる場合、その含有量は、形成されるプライマー層中に、通常０．００１〜３質量％程度、好ましくは０．０１〜１質量％の割合で含まれるように選定される。
当該光硬化性組成物においては、密着性や耐久性の改善、各種物性付与のために、各種添加剤や変性樹脂などを適宜含有することができる。該添加剤としては、例えば熱安定剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、赤外線吸収剤、色素（着色染料、着色顔料）、体質顔料などが挙げられる。当該光硬化性組成物は、溶媒を含んでもよいが、この場合塗布後に乾燥工程が必要であるため、溶媒を含まないタイプ（ノンソルベントタイプ）であることが好ましい。
このようにして調製された光硬化性組成物を、未硬化で液状の状態で前述の透明基材の一方の表面に塗布し、光硬化性プライマー層を形成し、これに可視光域（波長３８０〜８３０ｎｍ程度）を含む光を照射して硬化させることにより、プライマー層が得られる。このプライマー層の厚さは特に制限はないが、通常１〜１００μｍ程度、好ましくは３〜１０μｍである。
なお、このプライマー層の形成方法については、後述の電磁波シールド部材の製造方法において、詳しく説明する。
このようにして調製された光硬化性組成物を、未硬化で液状の状態で前述の透明基材の一方の表面に塗布し、光硬化性プライマー層を形成し、これに可視光域（波長３８０〜８３０ｎｍ程度）を含む光を照射して硬化させることにより、プライマー層が得られる。このプライマー層の厚さは特に制限はないが、通常１〜１００μｍ程度、好ましくは３〜１０μｍである。
なお、このプライマー層の形成方法については、後述の電磁波シールド部材の製造方法において、詳しく説明する。
（導電層）
本発明の電磁波シールド部材においては、前述の透明基材上に形成されたプライマー層上に、所定のパターンで設けられた導電層を有する。
上記所定のパターンとしては、例えばメッシュ状又はストライプ状の所定の電磁波遮蔽パターンを挙げることができる。この電磁波遮蔽パターンは、単位格子が、３角形、４角形、５角形、６角形等の多角形、或いは円、楕円等の形状の開口部を線部で囲繞した形状から成り、該単位格子を２次元的に（縦横に）周期配列させて成る電磁波シールド部材に通常採用されるメッシュ状であっても、或いは所定幅の線條部を所定間隔で周期的に配列して成るストライプ状であってもよい。その線幅と線間ピッチ（周期）も通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は５〜３０μｍとすることができ、線間ピッチは１００〜５００μｍとすることができる。またメッシュやストライプ形状の電磁波遮蔽パターンとは別に、それと導通を保ちつつ隣接した全ベタ（開口部の無い層から成る領域）等の接地パターンが、該メッシュやストライプ形状領域の周縁部の全周又は全周の一部に設けられる場合もある。
当該導電層は、以下に示す導電性粒子とバインダー樹脂を含む導電層形成用材料を用いて形成することができる。
本発明の電磁波シールド部材においては、前述の透明基材上に形成されたプライマー層上に、所定のパターンで設けられた導電層を有する。
上記所定のパターンとしては、例えばメッシュ状又はストライプ状の所定の電磁波遮蔽パターンを挙げることができる。この電磁波遮蔽パターンは、単位格子が、３角形、４角形、５角形、６角形等の多角形、或いは円、楕円等の形状の開口部を線部で囲繞した形状から成り、該単位格子を２次元的に（縦横に）周期配列させて成る電磁波シールド部材に通常採用されるメッシュ状であっても、或いは所定幅の線條部を所定間隔で周期的に配列して成るストライプ状であってもよい。その線幅と線間ピッチ（周期）も通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は５〜３０μｍとすることができ、線間ピッチは１００〜５００μｍとすることができる。またメッシュやストライプ形状の電磁波遮蔽パターンとは別に、それと導通を保ちつつ隣接した全ベタ（開口部の無い層から成る領域）等の接地パターンが、該メッシュやストライプ形状領域の周縁部の全周又は全周の一部に設けられる場合もある。
当該導電層は、以下に示す導電性粒子とバインダー樹脂を含む導電層形成用材料を用いて形成することができる。
＜導電層形成用材料＞
導電層形成用材料を構成するバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマー層の形成材料として前記した光硬化性化合物、或いは該光硬化性化合物と同様の化合物を電子線照射によって硬化せしめる電子線硬化性化合物を挙げることができ、熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができる。
なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。光硬化性化合物を用いる場合は必要に応じて重合開始剤を添加してもよい。
また、後述の製造方法で説明する版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤を使用できる。溶剤の含有量は通常、１０〜７０質量％程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、光硬化性化合物を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
導電層形成用材料を構成するバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマー層の形成材料として前記した光硬化性化合物、或いは該光硬化性化合物と同様の化合物を電子線照射によって硬化せしめる電子線硬化性化合物を挙げることができ、熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができる。
なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。光硬化性化合物を用いる場合は必要に応じて重合開始剤を添加してもよい。
また、後述の製造方法で説明する版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤を使用できる。溶剤の含有量は通常、１０〜７０質量％程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、光硬化性化合物を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
導電層形成用材料を構成する導電性粒子としては、金、銀、白金、錫、銅、ニッケル、アルミニウム、パラジウムなどの低抵抗性或いは無電解めっきの触媒性を持つ金属粒子、或いは前記の金属以外の物質の粒子（前記以外の金属、樹脂、非金属無機物等の粒子）の表面が金や銀などの前記の低抵抗或いは無電解めっきの触媒性を持つ金属でめっきされた粒子、グラファイト、カーボンブラック等から成る粒子を好ましく挙げることができ、形状も球状、回転楕円体状、多面体状、鱗片状、円盤状、繊維状等から選ぶことができる。
これらの材料や形状のものは適宜混合して用いても良い。導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が０．１〜１０μｍ程度のものを用いることができ、カーボンブラック粒子の場合には平均粒子径が０．０１〜１μｍ程度のものを用いることができる。また、特に無電解めっき触媒として用いるパラジウム粒子の場合にはコロイド粒子（１μｍ未満）程度の粒径のものを用いる。導電層形成用材料中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電層形成用材料の固形分１００質量部のうち、導電性粒子を４０〜９９質量部の範囲で含有させることができる。
なお、本願において、平均粒子径というときは、粒度分布径、またはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察で測定した値を指している。
これらの材料や形状のものは適宜混合して用いても良い。導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が０．１〜１０μｍ程度のものを用いることができ、カーボンブラック粒子の場合には平均粒子径が０．０１〜１μｍ程度のものを用いることができる。また、特に無電解めっき触媒として用いるパラジウム粒子の場合にはコロイド粒子（１μｍ未満）程度の粒径のものを用いる。導電層形成用材料中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電層形成用材料の固形分１００質量部のうち、導電性粒子を４０〜９９質量部の範囲で含有させることができる。
なお、本願において、平均粒子径というときは、粒度分布径、またはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察で測定した値を指している。
また、導電層形成用材料には、品質向上等を目的に適当な添加物を加えてもよい。例えば、カーボンブラックはそれ自体が黒色であるので必要ないが、黒色顔料や黒色染料を必要に応じて所定量添加することで、電磁波シールドパネルを構成したときのコントラストを向上させ、視認性を向上させることができる。また、後述する金属めっき層の金属光沢による透明基板裏面の反射防止、色ムラ、金属色等の抑制のためには、こうした黒色顔料や黒色染料を含有させることが望ましい。黒色顔料としては、導電性粒子としても機能するカーボンブラック、Ｆｅ3Ｏ4、ＣｕＯ−Ｃｒ2Ｏ3、ＣｕＯ−Ｆｅ3Ｏ4−Ｍｎ2Ｏ3、ＣｏＯ−Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3等が挙げられるが、その種類や形状は特に制限はなく、バインダー樹脂中に分散容易な平均粒子径０．１μｍ以下の着色力の大きな黒色顔料又は黒色染料が好ましい。なお、カーボンブラックを用いる場合には、チャンネルブラック、ファーネスブラック又はランプブラック等の色材用カーボンブラックや、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を挙げることができ、中でも平均粒子径が２０ｎｍ以下のものが好ましく用いられる。また、黒色染料としては、アニリンブラック等の染料を用いることができる。
また、導電層形成用材料の流動性や安定性を改善するために、導電性や、プライマー層との密着性に悪影響を与えない限りにおいて適宜フィラー（充填剤ないしは体質顔料）や増粘剤、界面活性剤、酸化防止剤などを添加しても良い。
また、導電層形成用材料の流動性や安定性を改善するために、導電性や、プライマー層との密着性に悪影響を与えない限りにおいて適宜フィラー（充填剤ないしは体質顔料）や増粘剤、界面活性剤、酸化防止剤などを添加しても良い。
本発明においては、前記導電層形成用材料を用いて、前述したプライマー層上に、所定パターンの導電層を設ける。これは、導電層形成用材料層を含んで成る導電層のみから成る導電層に相当する。なお、この導電層の形成方法については、後述の電磁波シールド部材の製造方法において詳述する。
本発明においては、前記導電層のみでは所望の導電率に不足する場合に、導電率を更に向上させるために、必要に応じ、該導電層上に金属層を形成することができる。これは、導電層が、導電性粒子を含有する導電層形成用材料層と、其の表面に、更に導電性の金属層を積層した構成から成る場合に相当する。
そして、本発明において、「導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層」と呼称するものは、上記の２種の形態を包含する。
（金属層）
この金属層は、導電層上にめっきにより形成することができる。めっきの方法としては電気めっき、無電解めっきなどの方法があるが、電気めっきは無電解めっきに比べて通電量を増やすことでめっき速度を数倍に上げることができ、生産性を著しく向上させることができるため好ましい。
電気めっきの場合、導電層への給電は導電層が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電層が電気めっき可能な程度の導電性（例えば、１００Ω／□以下）を有するので、電気めっきを問題なく行うことができる。金属層を構成する材料としては、導電性が高く容易にめっき可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。
本発明においては、前記導電層のみでは所望の導電率に不足する場合に、導電率を更に向上させるために、必要に応じ、該導電層上に金属層を形成することができる。これは、導電層が、導電性粒子を含有する導電層形成用材料層と、其の表面に、更に導電性の金属層を積層した構成から成る場合に相当する。
そして、本発明において、「導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層」と呼称するものは、上記の２種の形態を包含する。
（金属層）
この金属層は、導電層上にめっきにより形成することができる。めっきの方法としては電気めっき、無電解めっきなどの方法があるが、電気めっきは無電解めっきに比べて通電量を増やすことでめっき速度を数倍に上げることができ、生産性を著しく向上させることができるため好ましい。
電気めっきの場合、導電層への給電は導電層が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電層が電気めっき可能な程度の導電性（例えば、１００Ω／□以下）を有するので、電気めっきを問題なく行うことができる。金属層を構成する材料としては、導電性が高く容易にめっき可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。
無電解めっきの場合、一般に、導電性粒子として触媒作用を呈するものを選択する。例えば、負電荷をもつ塩化第一スズと塩化パラジウムのコロイドを用い、まずキャタリスティングにより、表面にスズとパラジウムのコロイド粒子を析出させた導電層形成用材料層を所望のパターンで形成し、次いでアクセレーションにより、スズを離脱させ、パラジウムのみを残すことによって、無電解めっき用触媒を担持させる。次いで、通常無電解銅めっき又は無電解ニッケルめっきを常法に従って行い、銅又はニッケルからなる金属層を形成する。導電層形成用材料層上に無電解メッキで堆積した金属層が積層されて、所定パターンの導電層が完成する。
銅等の低抵抗性金属層は、導電性粒子とバインダー樹脂（電気絶縁体）とから成る導電層形成用材料層に比べると一般的に体積抵抗率が１桁以上小さいため、導電層形成用材料層単体で電磁波シールド性を確保する場合に比べて、必要な導電材料の量を減らせるという利点がある。
なお、金属層を形成した後においては、必要に応じて、その金属層を黒化処理したり、保護層を設けてもよい。黒化処理は、例えば黒化ニッケルめっき、銅−コバルト合金めっき等の処理を例示でき、また、保護層は、例えばアクリル系の光硬化性樹脂などを用いて形成することができる。
銅等の低抵抗性金属層は、導電性粒子とバインダー樹脂（電気絶縁体）とから成る導電層形成用材料層に比べると一般的に体積抵抗率が１桁以上小さいため、導電層形成用材料層単体で電磁波シールド性を確保する場合に比べて、必要な導電材料の量を減らせるという利点がある。
なお、金属層を形成した後においては、必要に応じて、その金属層を黒化処理したり、保護層を設けてもよい。黒化処理は、例えば黒化ニッケルめっき、銅−コバルト合金めっき等の処理を例示でき、また、保護層は、例えばアクリル系の光硬化性樹脂などを用いて形成することができる。
次に、本発明の電磁波シールド部材について、添付図面に従って説明する。
図１は、本発明の電磁波シールド部材の一例を示す模式的な平面図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ’断面の拡大図である。本発明の電磁波シールド部材１０は、透明基材１と、透明基材１上に形成されたプライマー層２と、プライマー層２上に所定のパターンで形成された導電層３とを有し、必要に応じて導電層３上に形成された金属層４を有し、必要に応じてさらに保護層９を有する。なお、図１中、符号７は電磁波遮蔽パターン部であり、符号８は接地部である。
図１は、本発明の電磁波シールド部材の一例を示す模式的な平面図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ’断面の拡大図である。本発明の電磁波シールド部材１０は、透明基材１と、透明基材１上に形成されたプライマー層２と、プライマー層２上に所定のパターンで形成された導電層３とを有し、必要に応じて導電層３上に形成された金属層４を有し、必要に応じてさらに保護層９を有する。なお、図１中、符号７は電磁波遮蔽パターン部であり、符号８は接地部である。
次に、本発明の電磁波シールド部材の製造方法について説明する。
［電磁波シールド部材の製造方法］
本発明の電磁波シールド部材の製造方法は、（ａ）透明基材上に、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層を形成する工程、（ｂ）所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性粒子を含有する導電層形成用材料を充填する工程、（ｃ）上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層を有する透明基材を、該光硬化性プライマー層が、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該光硬化性プライマー層を可視光域を含む光の照射により硬化させて固体状のプライマー層を形成する工程、（ｄ）当該透明基材及び固体化したプライマー層を上記版面から剥がして、上記凹部内の導電層形成用材料を、上記プライマー層上に転写させる工程、及び（ｅ）プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成用材料を硬化させて導電層を形成する工程を含み、かつ上記透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを特徴とする。
［電磁波シールド部材の製造方法］
本発明の電磁波シールド部材の製造方法は、（ａ）透明基材上に、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層を形成する工程、（ｂ）所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性粒子を含有する導電層形成用材料を充填する工程、（ｃ）上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層を有する透明基材を、該光硬化性プライマー層が、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該光硬化性プライマー層を可視光域を含む光の照射により硬化させて固体状のプライマー層を形成する工程、（ｄ）当該透明基材及び固体化したプライマー層を上記版面から剥がして、上記凹部内の導電層形成用材料を、上記プライマー層上に転写させる工程、及び（ｅ）プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成用材料を硬化させて導電層を形成する工程を含み、かつ上記透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを特徴とする。
〔（ａ）工程〕
この（ａ）工程は、透明基材１上にプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層２を形成する工程である（図４（Ｂ）参照）。
当該（ａ）工程で用いるプライマー層形成用の光硬化性組成物は、前述したとおりであり、光重合性化合物、少なくとも可視光域（波長３８０〜８３０ｎｍ程度）の光でラジカルを発生する重合開始剤、及び必要に応じ紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含む組成物である。
透明基材上に、上記光硬化性組成物を塗布する方法については特に制限はなく、各種コーティング方式が使用でき、例えばグラビアコート、コンマコート、ダイコート、ロールコート等の各種方式から適宜選ぶことができる。
該光硬化性組成物が溶媒を含む場合には、塗布後、乾燥処理を行うが、溶媒を含まないノンソルベントタイプである場合には、乾燥処理は不要である。
このようにして形成された光硬化性プライマー層は、後述する圧着時に流動性を保持した状態であることが肝要である。
この（ａ）工程は、透明基材１上にプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層２を形成する工程である（図４（Ｂ）参照）。
当該（ａ）工程で用いるプライマー層形成用の光硬化性組成物は、前述したとおりであり、光重合性化合物、少なくとも可視光域（波長３８０〜８３０ｎｍ程度）の光でラジカルを発生する重合開始剤、及び必要に応じ紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を含む組成物である。
透明基材上に、上記光硬化性組成物を塗布する方法については特に制限はなく、各種コーティング方式が使用でき、例えばグラビアコート、コンマコート、ダイコート、ロールコート等の各種方式から適宜選ぶことができる。
該光硬化性組成物が溶媒を含む場合には、塗布後、乾燥処理を行うが、溶媒を含まないノンソルベントタイプである場合には、乾燥処理は不要である。
このようにして形成された光硬化性プライマー層は、後述する圧着時に流動性を保持した状態であることが肝要である。
〔（ｂ）工程〕
この（ｂ）工程は、図４（Ａ）の如く、所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電層形成用材料を充填する工程である。
具体的には、メッシュ状又はストライプ状の所定のパターンで凹部６４が形成された板状又は円筒状の版１０１の版面に、導電性粒子を含む導電層形成用材料１５を塗布した後、その凹部内以外に付着した導電層形成用材料を掻き取って凹部内に導電層形成用材料を充填する工程である。この導電層形成用材料については、前述で説明したとおりである。凹部以外に付着した導電層形成用材料の掻き取りは、例えばドクターブレード１０２などで行うことができる。
なお、その際に不可避な現象として、図４（Ａ）に図示する様に、版の凹部６４内に充填された導電層形成材料１５の表面には凹部１０５が生じることである。このままでは、透明基材１を版面に押圧した際に、該凹部において印圧不足となり、該凹部の導電層形成材料１５が透明基材１側に転移せず欠落部（インキ抜け）を生じたり、或いは転位はしても透明基材１との接着性が不足すると云う問題が生じる。本発明においては、上記工程（ａ）において未硬化液状の光硬化性プライマー層２とすることによって、以下の工程（ｃ）及び工程（ｄ）において、かかる問題を解消するものである。
この（ｂ）工程は、図４（Ａ）の如く、所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電層形成用材料を充填する工程である。
具体的には、メッシュ状又はストライプ状の所定のパターンで凹部６４が形成された板状又は円筒状の版１０１の版面に、導電性粒子を含む導電層形成用材料１５を塗布した後、その凹部内以外に付着した導電層形成用材料を掻き取って凹部内に導電層形成用材料を充填する工程である。この導電層形成用材料については、前述で説明したとおりである。凹部以外に付着した導電層形成用材料の掻き取りは、例えばドクターブレード１０２などで行うことができる。
なお、その際に不可避な現象として、図４（Ａ）に図示する様に、版の凹部６４内に充填された導電層形成材料１５の表面には凹部１０５が生じることである。このままでは、透明基材１を版面に押圧した際に、該凹部において印圧不足となり、該凹部の導電層形成材料１５が透明基材１側に転移せず欠落部（インキ抜け）を生じたり、或いは転位はしても透明基材１との接着性が不足すると云う問題が生じる。本発明においては、上記工程（ａ）において未硬化液状の光硬化性プライマー層２とすることによって、以下の工程（ｃ）及び工程（ｄ）において、かかる問題を解消するものである。
〔（ｃ）工程〕
この（ｃ）工程は、上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層２を有する透明基材１を、図４（Ｂ）の如く、該光硬化性プライマー層２が、未硬化で液状のまま、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料１５が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ（圧印を加え）、次いで図４（Ｃ）の如く、該光硬化性プライマー層２を可視光域を含む光Ｌの照射により硬化させて固体化したプライマー層２を形成する工程である。
当該（ｃ）工程においては、まず、導電層形成用材料１５が充填された版面の凹部６４側に、光硬化性プライマー層を有する透明基材１を、該光硬化性プライマー層２が対面するように圧着させる。この圧着は、例えば付勢圧力の調整手段を備えたニップロール乃至は圧胴で行うことができる。該圧着操作により、凹部６４内の導電層形成用材料１５と、流動性が保持された光硬化性プライマー層２とを空隙なく密着させることができる。その際に、図４（Ｃ）の如く、凹部６４内に充填された導電性材料上部の凹部１０５内部にも光硬化性プライマー層２が流入して、該凹部１０５を充填し、導電性材料１５と光硬化性プライマー層２とは空隙無く密着する。
次いで、透明基材側１側から、上記光硬化性プライマー層２に、可視光域（波長３６０〜８３０ｎｍ程度の全帯域或いは其の一部帯域の波長）を含む光を照射することにより、該光硬化性プライマー層２を硬化させて、固体化（非流動化）したプライマー層２を形成させる。
この（ｃ）工程は、上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層２を有する透明基材１を、図４（Ｂ）の如く、該光硬化性プライマー層２が、未硬化で液状のまま、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料１５が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ（圧印を加え）、次いで図４（Ｃ）の如く、該光硬化性プライマー層２を可視光域を含む光Ｌの照射により硬化させて固体化したプライマー層２を形成する工程である。
当該（ｃ）工程においては、まず、導電層形成用材料１５が充填された版面の凹部６４側に、光硬化性プライマー層を有する透明基材１を、該光硬化性プライマー層２が対面するように圧着させる。この圧着は、例えば付勢圧力の調整手段を備えたニップロール乃至は圧胴で行うことができる。該圧着操作により、凹部６４内の導電層形成用材料１５と、流動性が保持された光硬化性プライマー層２とを空隙なく密着させることができる。その際に、図４（Ｃ）の如く、凹部６４内に充填された導電性材料上部の凹部１０５内部にも光硬化性プライマー層２が流入して、該凹部１０５を充填し、導電性材料１５と光硬化性プライマー層２とは空隙無く密着する。
次いで、透明基材側１側から、上記光硬化性プライマー層２に、可視光域（波長３６０〜８３０ｎｍ程度の全帯域或いは其の一部帯域の波長）を含む光を照射することにより、該光硬化性プライマー層２を硬化させて、固体化（非流動化）したプライマー層２を形成させる。
〔（ｄ）工程〕
この（ｄ）工程は、上記（ｃ）工程で未硬化液状の光硬化性プライマー層を硬化させて固体化したプライマー層２を形成後、図４（Ｄ）の如く、透明基材１及びこれと接着一体化し固体化したプライマー層２を版面から剥がして、凹部６４内の導電層形成用材料１５を、上記プライマー層２上に転写させる工程である。
当該（ｄ）工程において、透明基材１を版面から剥がすと、光硬化性プライマー層２が硬化されていることから、それに密着した導電層形成用材料１５は凹部６４内から離れてプライマー層２上に綺麗に転写される。
なお、図４（Ｄ）からもわかる様に、プライマー層２の厚みは、所定パターンで形成された導電層形成用材料１５から成る導電層直下における厚みが、該導電層非形成部における厚みよりも大となる。導電層直下におけるプライマー層２の具体的な厚み、及びプラーマー層と導電層形成材料層（導電層）との界面の形状は、各工程の条件、及びプライマーや導電層形成用材料の種類によっても異なる。
この（ｄ）工程は、上記（ｃ）工程で未硬化液状の光硬化性プライマー層を硬化させて固体化したプライマー層２を形成後、図４（Ｄ）の如く、透明基材１及びこれと接着一体化し固体化したプライマー層２を版面から剥がして、凹部６４内の導電層形成用材料１５を、上記プライマー層２上に転写させる工程である。
当該（ｄ）工程において、透明基材１を版面から剥がすと、光硬化性プライマー層２が硬化されていることから、それに密着した導電層形成用材料１５は凹部６４内から離れてプライマー層２上に綺麗に転写される。
なお、図４（Ｄ）からもわかる様に、プライマー層２の厚みは、所定パターンで形成された導電層形成用材料１５から成る導電層直下における厚みが、該導電層非形成部における厚みよりも大となる。導電層直下におけるプライマー層２の具体的な厚み、及びプラーマー層と導電層形成材料層（導電層）との界面の形状は、各工程の条件、及びプライマーや導電層形成用材料の種類によっても異なる。
〔（ｅ）工程〕
この（ｅ）工程は、プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成材料を硬化させて導電層を形成する工程である。
上記導電層形成用材料の硬化方法及び条件は、バインダー樹脂の種類による。例えば、導電層形成材料のバインダー樹脂が熱硬化性樹脂の場合は、通常４０〜１５０℃程度、好ましくは６０〜１００℃の温度で熱処理することにより行われる。導電層形成材料のバインダー樹脂が電離放射線硬化性樹脂の場合は、紫外線、電子線等の電離放射線照射により行なわれる。
このようにして、電磁波シールド部材を製造することができる。
なお、本発明の製造方法においては、透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを要す。その理由については、前述で説明したとおりである。
この（ｅ）工程は、プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成材料を硬化させて導電層を形成する工程である。
上記導電層形成用材料の硬化方法及び条件は、バインダー樹脂の種類による。例えば、導電層形成材料のバインダー樹脂が熱硬化性樹脂の場合は、通常４０〜１５０℃程度、好ましくは６０〜１００℃の温度で熱処理することにより行われる。導電層形成材料のバインダー樹脂が電離放射線硬化性樹脂の場合は、紫外線、電子線等の電離放射線照射により行なわれる。
このようにして、電磁波シールド部材を製造することができる。
なお、本発明の製造方法においては、透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを要す。その理由については、前述で説明したとおりである。
〔めっき処理〕
本発明の電磁波シールド部材の製造方法においては、前記のようにして形成された導電層のみでは、所望の導電率に不足する場合、導電率をさらに向上させるために、必要に応じ、該導電層にめっき処理を施して、金属層を形成してもよい。
めっき処理としては、電気めっき処理、無電解めっき処理のいずれも用いることができるが、前述で説明したように電気めっき処理が好ましい。電気めっき処理及び無電解めっき処理については、前述で説明したとおりである。
めっき処理後は、必要に応じ、他の処理、例えば金属層の黒化処理や防錆処理、あるいは保護層の形成を経たのち、そのまま巻き取られてもよいし、所定の寸法に切断されて枚葉シートとしてもよい。
本発明の電磁波シールド部材の製造方法においては、前記のようにして形成された導電層のみでは、所望の導電率に不足する場合、導電率をさらに向上させるために、必要に応じ、該導電層にめっき処理を施して、金属層を形成してもよい。
めっき処理としては、電気めっき処理、無電解めっき処理のいずれも用いることができるが、前述で説明したように電気めっき処理が好ましい。電気めっき処理及び無電解めっき処理については、前述で説明したとおりである。
めっき処理後は、必要に応じ、他の処理、例えば金属層の黒化処理や防錆処理、あるいは保護層の形成を経たのち、そのまま巻き取られてもよいし、所定の寸法に切断されて枚葉シートとしてもよい。
次に、本発明のＰＤＰ用前面フィルターについて説明する。
〔ＰＤＰ用前面フィルター〕
本発明のＰＤＰ用前面フィルターは、前述した本発明の電磁波シールド部材を含むことを特徴とする。
当該ＰＤＰ用前面フィルターは、本発明の電磁波シールド部材を有すると共に、各光学調整層を有している。上記光学調整層としては、従来公知のもの、例えば近赤外線吸収層、ネオン光及び／又はキセノン光吸収層、色調補正層などの色素含有層、防眩層、及び反射防止層などを挙げることができる。
図３は、本発明のＰＤＰ用前面フィルターの一例の断面構造説明図である。
本発明のＰＤＰ用前面フィルター２０は、透明基材フィルム１と、その上に形成されたプライマー層２と、該プライマー層２上に設けられてなる導電層３を有する本発明の電磁波シールド部材１０の透明基材フィルム１側に、反射防止層１１が、導電層３側に近赤外線、ネオン光、及びキセノン光吸収・色調補正層兼粘着剤層１２が設けられた構造を有している。
電磁波シールド部材１０における透明基材フィルム１及び／又はプライマー層２は、紫外線遮蔽能を有することから、色素を含有する近赤外線、ネオン光、及びキセノン光吸収・色調補正層兼粘着剤層１２は、紫外線に対して耐久性に優れている。
〔ＰＤＰ用前面フィルター〕
本発明のＰＤＰ用前面フィルターは、前述した本発明の電磁波シールド部材を含むことを特徴とする。
当該ＰＤＰ用前面フィルターは、本発明の電磁波シールド部材を有すると共に、各光学調整層を有している。上記光学調整層としては、従来公知のもの、例えば近赤外線吸収層、ネオン光及び／又はキセノン光吸収層、色調補正層などの色素含有層、防眩層、及び反射防止層などを挙げることができる。
図３は、本発明のＰＤＰ用前面フィルターの一例の断面構造説明図である。
本発明のＰＤＰ用前面フィルター２０は、透明基材フィルム１と、その上に形成されたプライマー層２と、該プライマー層２上に設けられてなる導電層３を有する本発明の電磁波シールド部材１０の透明基材フィルム１側に、反射防止層１１が、導電層３側に近赤外線、ネオン光、及びキセノン光吸収・色調補正層兼粘着剤層１２が設けられた構造を有している。
電磁波シールド部材１０における透明基材フィルム１及び／又はプライマー層２は、紫外線遮蔽能を有することから、色素を含有する近赤外線、ネオン光、及びキセノン光吸収・色調補正層兼粘着剤層１２は、紫外線に対して耐久性に優れている。
近赤外線吸収層１２に用いられる色素としては、公知の有機系近赤外線吸収剤、無機系近赤外線吸収剤の中から可視光線帯域において透明性がある物を選択して使用出来る。有機系近赤外線吸収剤としては、例えば、ジイモニウム系化合物、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、ナフタロシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、さらにはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩、フェニレンジアミニウムの塩素塩、フェニレンジアミニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩、フェニレンジアミニウムのフッ化ホウ素酸塩、フェニレンジアミニウムのフッ素塩、フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩などのアミノ化合物、銅化合物とビスチオウレア化合物、リン化合物と銅化合物、リン酸エステル化合物と銅化合物との反応により得られるリン酸エステル銅化合物などが挙げられる。無機系近赤外線吸収剤としては、例えば、６塩化タングステン、セシウム−タングステン複合酸化物、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等が挙げられる。
ネオン光、キセノン光吸収層兼粘着剤層１２に用いられるネオン光吸収色素は、５８０〜６２０ｎｍの波長に極大吸収値を有する色素が用いられ、キセノン光吸収色素は、５６０〜５８０ｎｍに極大吸収値を有する色素が用いられる。
このようなネオン光吸収色素及びキセノン光吸収色素としては、テトラアザポルフィリン系色素等のポルフィリン系色素が代表的なものであるが、この他、シアニン系色素、アズレニウム系色素、スクアリウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、オキサジン系色素、アジン系色素、チオピリリウム系色素、ビオローゲン系色素、アゾ系色素、アゾ金属錯塩系色素、ビスアゾ系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、インジゴ系色素、アゾメチン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素などが挙げられる。
色調補正粘着剤層１２に用いられる色素としては、従来ＰＤＰの発光色の色調補正に用いられている染料や顔料を挙げることができる。
ネオン光、キセノン光吸収層兼粘着剤層１２に用いられるネオン光吸収色素は、５８０〜６２０ｎｍの波長に極大吸収値を有する色素が用いられ、キセノン光吸収色素は、５６０〜５８０ｎｍに極大吸収値を有する色素が用いられる。
このようなネオン光吸収色素及びキセノン光吸収色素としては、テトラアザポルフィリン系色素等のポルフィリン系色素が代表的なものであるが、この他、シアニン系色素、アズレニウム系色素、スクアリウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、オキサジン系色素、アジン系色素、チオピリリウム系色素、ビオローゲン系色素、アゾ系色素、アゾ金属錯塩系色素、ビスアゾ系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、インジゴ系色素、アゾメチン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素などが挙げられる。
色調補正粘着剤層１２に用いられる色素としては、従来ＰＤＰの発光色の色調補正に用いられている染料や顔料を挙げることができる。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
実施例１
厚み１００μｍの紫外線（ＵＶ）吸収剤添加ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［帝人デュポンフィルム社製、商品名「ＨＢＰＦ８Ｗ」、ＵＶカット波長約３８０ｎｍ以下］上に、プライマー層形成用の光硬化性組成物を硬化後の厚さが５μｍとなるように塗布して、光硬化性プライマー層を設けた。
塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、光硬化性組成物としては、エポキシアクリレート［大日本インキ化学工業社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ Ｖ−５５０６」］を３５質量部、ウレタンアクリレート［日本合成化学社製、商品名「紫光 ＵＶ−１７００Ｂ」］を１２質量部、単官能モノマーとして、フェノキシポリエチレンアクリレート［東亞合成社製、商品名「アロニックス Ｍ−１０１」］を４４質量部、３官能モノマーとして、ペンタエリスリトールトリアクリレート［日本化薬社製、商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」］を９質量部、及び光重合開始剤として、波長４００ｎｍ以上の可視光域でも反応が開始可能な、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア７８４」］を３質量部含有する組成物を用いた。
一方、線幅が２０μｍで、線ピッチが３００μｍ、版深が１０μｍの格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された凹版ロールに銀ペースト［藤倉化成社製、商品名「ＦＡ−３３３」］を充填した。この凹版ロールに、上記の光硬化性プライマー層を有するＵＶカットＰＥＴフィルムを当該光硬化性プライマー層が対面するように密着させ、ＰＥＴフィルム側から、２５℃の温度にて波長４００〜５００ｎｍの光を５００ｍＪ／ｃｍ2の光量で照射することにより、当該光硬化性プライマー層を硬化させた後、ＰＥＴフィルムを剥がして銀ペーストをプライマー層上に転写させ、次いで、１２０℃の温度で１０分間熱処理を行い、電磁波シールド部材を作製した。
実施例１
厚み１００μｍの紫外線（ＵＶ）吸収剤添加ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［帝人デュポンフィルム社製、商品名「ＨＢＰＦ８Ｗ」、ＵＶカット波長約３８０ｎｍ以下］上に、プライマー層形成用の光硬化性組成物を硬化後の厚さが５μｍとなるように塗布して、光硬化性プライマー層を設けた。
塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、光硬化性組成物としては、エポキシアクリレート［大日本インキ化学工業社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ Ｖ−５５０６」］を３５質量部、ウレタンアクリレート［日本合成化学社製、商品名「紫光 ＵＶ−１７００Ｂ」］を１２質量部、単官能モノマーとして、フェノキシポリエチレンアクリレート［東亞合成社製、商品名「アロニックス Ｍ−１０１」］を４４質量部、３官能モノマーとして、ペンタエリスリトールトリアクリレート［日本化薬社製、商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」］を９質量部、及び光重合開始剤として、波長４００ｎｍ以上の可視光域でも反応が開始可能な、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア７８４」］を３質量部含有する組成物を用いた。
一方、線幅が２０μｍで、線ピッチが３００μｍ、版深が１０μｍの格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された凹版ロールに銀ペースト［藤倉化成社製、商品名「ＦＡ−３３３」］を充填した。この凹版ロールに、上記の光硬化性プライマー層を有するＵＶカットＰＥＴフィルムを当該光硬化性プライマー層が対面するように密着させ、ＰＥＴフィルム側から、２５℃の温度にて波長４００〜５００ｎｍの光を５００ｍＪ／ｃｍ2の光量で照射することにより、当該光硬化性プライマー層を硬化させた後、ＰＥＴフィルムを剥がして銀ペーストをプライマー層上に転写させ、次いで、１２０℃の温度で１０分間熱処理を行い、電磁波シールド部材を作製した。
実施例２
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム［東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」］上に、プライマー層形成用の光硬化性組成物を硬化後の厚さが５μｍとなるように塗布して、光硬化性プライマー層を設けた。
塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、光硬化性組成物として、実施例１の光硬化性組成物に、さらに紫外線吸収剤として、「アデカスタブＬＡ−３１」［商品名、ＡＤＥＫＡ社製］を７質量部含有させた組成物を用いた。
以下、実施例１と同様な操作を行い、電磁波シールド部材を作製した。
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム［東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」］上に、プライマー層形成用の光硬化性組成物を硬化後の厚さが５μｍとなるように塗布して、光硬化性プライマー層を設けた。
塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、光硬化性組成物として、実施例１の光硬化性組成物に、さらに紫外線吸収剤として、「アデカスタブＬＡ−３１」［商品名、ＡＤＥＫＡ社製］を７質量部含有させた組成物を用いた。
以下、実施例１と同様な操作を行い、電磁波シールド部材を作製した。
比較例１
厚み１００μｍのＵＶカットＰＥＴフィルム［帝人デュポンフィルム社製、商品名「ＨＢＰＦ８Ｗ」］上に、プライマー層形成用の光硬化性組成物を、硬化後の厚さが５μｍとなるように塗布して、光硬化性プライマー層を設けた。
塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、光硬化性組成物として、実施例１の光硬化性組成物における光重合開始剤「イルガキュア７８４」の代わりに、光重合開始剤「イルガキュア１８４」［商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、化学名：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ラジカル発生波長３８０ｎｍ未満］を３質量部含有する以外は、実施例１と同様な組成物を用いた。
一方、線幅が２０μｍで、線ピッチが３００μｍ、版深が１０μｍの格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された凹版ロールに、銀ペースト［藤倉化成社製、商品名「ＦＡ−３３３」］を充填した。この凹版ロールに、上記の光硬化性プライマー層を有するＵＶカットＰＥＴフィルムを、当該光硬化性プライマー層が対面するように密着させ、ＰＥＴフィルム側から、２５℃の温度にて波長２００〜３５０ｎｍの紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の光量で照射したが、プライマー層が硬化しなかったため、銀ペーストが転移せず、電磁波シールド部材は得られなかった。
厚み１００μｍのＵＶカットＰＥＴフィルム［帝人デュポンフィルム社製、商品名「ＨＢＰＦ８Ｗ」］上に、プライマー層形成用の光硬化性組成物を、硬化後の厚さが５μｍとなるように塗布して、光硬化性プライマー層を設けた。
塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、光硬化性組成物として、実施例１の光硬化性組成物における光重合開始剤「イルガキュア７８４」の代わりに、光重合開始剤「イルガキュア１８４」［商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、化学名：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ラジカル発生波長３８０ｎｍ未満］を３質量部含有する以外は、実施例１と同様な組成物を用いた。
一方、線幅が２０μｍで、線ピッチが３００μｍ、版深が１０μｍの格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された凹版ロールに、銀ペースト［藤倉化成社製、商品名「ＦＡ−３３３」］を充填した。この凹版ロールに、上記の光硬化性プライマー層を有するＵＶカットＰＥＴフィルムを、当該光硬化性プライマー層が対面するように密着させ、ＰＥＴフィルム側から、２５℃の温度にて波長２００〜３５０ｎｍの紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の光量で照射したが、プライマー層が硬化しなかったため、銀ペーストが転移せず、電磁波シールド部材は得られなかった。
実施例３
以下のようにして、プラズマディスプレイ用前面フィルターを作製し、耐紫外線劣化性を評価した。
＜フィルター作製＞
実施例１で作製した電磁波シールド部材の裏面（メッシュパターンが形成されていない側）に、高屈折率層と低屈折率層を順次積層して、反射防止層を形成した。ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を含むＵＶ硬化性樹脂（ＪＳＲ社製、商品名「ＫＺ７９７３」）の厚さ３μｍ、屈折率１．６９の硬化物から成り、低屈折率層は、フッ素樹脂系のＵＶ硬化樹脂（ＪＳＲ社製、商品名「ＴＭ０８６」）の厚さ１００ｎｍ、屈折率１．４１の硬化物から成る。また、反射防止層を形成したのと反対側の面に、近赤外線吸収色素・ネオン光吸収色素・色調調整色素の３種類の色素を含有している粘着剤層を形成した。この粘着剤層は、アクリル系粘着剤（綜研化学社製、商品名）「ＳＫ２０９４」）の固形分１００質量部に対して、フタロシアニン系近赤外線吸収色素である商品名「イーエクスカラーＩＲ−１２」（日本触媒社製）を０．１５７質量部、商品名「イーエクスカラーＩＲ−１４」（日本触媒社製）を０．０９質量部、商品名「イーエクスカラーＩＲ−９１０」（日本触媒社製）を０．２２質量部、テトラアザポルフィリン系ネオン光吸収色素（山田化学社製、商品名「ＴＡＰ−２」）を０．０１１質量部、色調調整用色素（有本化学社製、商品名「Ｐｌａｓｔ ｒｅｄ ８３２０」）を０．００６質量部、各々添加し、十分分散させて調製した粘着剤を乾燥膜厚２５μｍとなるように塗工して形成した。
＜耐紫外線劣化性評価＞
ＪＩＳ Ｋ７３５０−３ 試験モード１に準拠し、紫外線蛍光ランプ式ウェザオメーター（アトラス社製、商品名「アトラスＵＶ２０００」）を使用して、２４時間耐紫外線劣化試験を実施後に、分光光度計（島津製作所製、型番「ＵＶ−３１００ＰＣ」）にて色度を測定した。試験前後の色度測定値（ｘ、ｙ）から、色度の値の差（Δｘ、Δｙ）を求めた結果、Δｘ＜０．０５、Δｙ＜０．０５となった。
以下のようにして、プラズマディスプレイ用前面フィルターを作製し、耐紫外線劣化性を評価した。
＜フィルター作製＞
実施例１で作製した電磁波シールド部材の裏面（メッシュパターンが形成されていない側）に、高屈折率層と低屈折率層を順次積層して、反射防止層を形成した。ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を含むＵＶ硬化性樹脂（ＪＳＲ社製、商品名「ＫＺ７９７３」）の厚さ３μｍ、屈折率１．６９の硬化物から成り、低屈折率層は、フッ素樹脂系のＵＶ硬化樹脂（ＪＳＲ社製、商品名「ＴＭ０８６」）の厚さ１００ｎｍ、屈折率１．４１の硬化物から成る。また、反射防止層を形成したのと反対側の面に、近赤外線吸収色素・ネオン光吸収色素・色調調整色素の３種類の色素を含有している粘着剤層を形成した。この粘着剤層は、アクリル系粘着剤（綜研化学社製、商品名）「ＳＫ２０９４」）の固形分１００質量部に対して、フタロシアニン系近赤外線吸収色素である商品名「イーエクスカラーＩＲ−１２」（日本触媒社製）を０．１５７質量部、商品名「イーエクスカラーＩＲ−１４」（日本触媒社製）を０．０９質量部、商品名「イーエクスカラーＩＲ−９１０」（日本触媒社製）を０．２２質量部、テトラアザポルフィリン系ネオン光吸収色素（山田化学社製、商品名「ＴＡＰ−２」）を０．０１１質量部、色調調整用色素（有本化学社製、商品名「Ｐｌａｓｔ ｒｅｄ ８３２０」）を０．００６質量部、各々添加し、十分分散させて調製した粘着剤を乾燥膜厚２５μｍとなるように塗工して形成した。
＜耐紫外線劣化性評価＞
ＪＩＳ Ｋ７３５０−３ 試験モード１に準拠し、紫外線蛍光ランプ式ウェザオメーター（アトラス社製、商品名「アトラスＵＶ２０００」）を使用して、２４時間耐紫外線劣化試験を実施後に、分光光度計（島津製作所製、型番「ＵＶ−３１００ＰＣ」）にて色度を測定した。試験前後の色度測定値（ｘ、ｙ）から、色度の値の差（Δｘ、Δｙ）を求めた結果、Δｘ＜０．０５、Δｙ＜０．０５となった。
比較例２
（１）電磁波シールド部材の作製
実施例１において、厚み１００μｍのＵＶカットＰＥＴフィルム「ＨＢＰＦ８Ｗ」の代わりに、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム「Ａ４３００」（前出）を用いた以外は、実施例１と同様にして電磁波シールド部材を作製した。
（２）前面フィルターの作製
上記（１）で得た電磁波シールド部材を用い、実施例３と同様にして、プラズマディスプレイ用前面フィルターを作製した。
（３）耐紫外線劣化性の評価
上記（２）で得たプラズマディスプレイ用前面フィルターについて、実施例３と同様にして耐紫外線劣化性を評価した。その結果、Δｘ＞０．０５、Δｙ＞０．０５であった。
（１）電磁波シールド部材の作製
実施例１において、厚み１００μｍのＵＶカットＰＥＴフィルム「ＨＢＰＦ８Ｗ」の代わりに、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム「Ａ４３００」（前出）を用いた以外は、実施例１と同様にして電磁波シールド部材を作製した。
（２）前面フィルターの作製
上記（１）で得た電磁波シールド部材を用い、実施例３と同様にして、プラズマディスプレイ用前面フィルターを作製した。
（３）耐紫外線劣化性の評価
上記（２）で得たプラズマディスプレイ用前面フィルターについて、実施例３と同様にして耐紫外線劣化性を評価した。その結果、Δｘ＞０．０５、Δｙ＞０．０５であった。
本発明の電磁波シールド部材は、透明基材に設けられたプライマー層上に、所定パターンの導電層が形成され、かつ上記の透明基材及び／又はプライマー層が紫外線遮蔽能を有することから、層数の削減が可能なＰＤＰ用前面フィルターを提供することができる。
１ 透明基材
２ プライマー層
３ 導電層
４ 金属層
５ サイドエッジ
６ 凹み
７ 電磁波遮蔽パターン部
８ 接地部
９ 保護層
１０ 電磁波シールド部材
１１ 反射防止層
１２ 近赤外線、ネオン光、キセノン光吸収・色調補正層兼粘着剤層
１５ 導電性材料組成物
２０ ＰＤＰ用前面フィルター
２ プライマー層
３ 導電層
４ 金属層
５ サイドエッジ
６ 凹み
７ 電磁波遮蔽パターン部
８ 接地部
９ 保護層
１０ 電磁波シールド部材
１１ 反射防止層
１２ 近赤外線、ネオン光、キセノン光吸収・色調補正層兼粘着剤層
１５ 導電性材料組成物
２０ ＰＤＰ用前面フィルター
Claims (4)
- 透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性粒子を含有する導電層形成用材料層を含んで成る導電層を有する電磁波シールド部材であって、前記の透明基材及び／又はプライマー層が、紫外線遮蔽能を有し、かつ該プライマー層が、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光硬化性プライマー層に、可視光域を含む光を照射して、該光硬化性プライマー層を硬化させたものであることを特徴とする電磁波シールド部材。
- 可視光域が、波長３８０〜８３０ｎｍである請求項１に記載の電磁波シールド部材。
- （ａ）透明基材上に、少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含むプライマー層形成用の光硬化性組成物を塗布して、未硬化液状の光硬化性プライマー層を形成する工程、（ｂ）所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性粒子を含有する導電層形成用材料を充填する工程、（ｃ）上記（ａ）工程で得られた光硬化性プライマー層を有する透明基材を、該光硬化性プライマー層が、上記（ｂ）工程で得られた導電層形成用材料が充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該光硬化性プライマー層を可視光域を含む光の照射により硬化させて固体状のプライマー層を形成する工程、（ｄ）当該透明基材及び固体化したプライマー層を上記版面から剥がして、上記凹部内の導電層形成用材料を、上記プライマー層上に転写させる工程、及び（ｅ）プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電層形成用材料を硬化させて導電層を形成する工程を含み、かつ上記透明基材及び／又は形成されたプライマー層が、紫外線遮蔽能を有することを特徴とする電磁波シールド部材の製造方法。
- 請求項１又は２に記載の電磁波シールド部材を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルター。
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| JPH11191692A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 耐候性に優れた電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ |
| JP2000269683A (ja) * | 1999-03-18 | 2000-09-29 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 透光性電磁波シールド部材の製造方法 |
| JP2002076685A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽性シート及びその製造方法 |
| JP2002508602A (ja) * | 1998-03-24 | 2002-03-19 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 保護されたプリント導電体を有する成形部品及び可撓性フィルム、及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-07-30 JP JP2007198013A patent/JP4924271B2/ja not_active Expired - Fee Related
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