JPH10335884A

JPH10335884A - 電磁波シールド材料及び該電磁波シールド材料を用いたディスプレイ

Info

Publication number: JPH10335884A
Application number: JP14507597A
Authority: JP
Inventors: Toshishige Uehara; 寿茂上原; Teiichi Inada; 禎一稲田; Minoru Tosaka; 実登坂
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1997-06-03
Filing date: 1997-06-03
Publication date: 1998-12-18

Abstract

(57)【要約】【課題】透明性、非視認性および良好な反り特性を有
し、ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
に優れた電磁波シールド材料及びそれを用いたディスプ
レイを提供する。【解決手段】透明プラスチックフィルムの表面に導電性
材料で形成された幾何学図形を有する構成材料におい
て、幾何学図形を構成するライン幅が２５μｍ以下、ラ
イン間隔が５００μｍ以上、ライン厚みが１８μｍ以下
であり、該幾何学図形を含む透明プラスチックフィルム
表面と裏面を接着剤で被覆し、該接着剤の両面に厚さが
等しい透明プラスチック基板を配置した構造体とする。
この電磁波シールド材料をディスプレイに用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波をシールドするための電磁波シールド材料及
びそれを用いたディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害（Electr
o-Magnetic Interference;EMI）も増加の一途をたどっ
ている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズ
に分けられる。伝導ノイズの対策としては、ノイズフィ
ルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノイズの対策
としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、
筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回
路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔
で巻き付けるなどの方法が取られている。これらの方法
では、回路や電源ブロックの電磁波シールド効果は期待
できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面より
発生する電磁波のシールドにおいては、透明性が必須で
あるため適用が困難であった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、１ＧＨｚで要求される３０
ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分
であった。良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波
シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５
−２６９９１２号公報）では、１ＧＨｚの電磁波シール
ド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きいが、電磁波漏れの
ないように導電性繊維を規則配置させるために必要な繊
維径が３５μｍと太すぎるため、繊維が見えて（以後視
認性という）しまったり、埋め込まれた繊維によって繊
維近傍の樹脂等が変形し、シールド材を通して見える画
像が歪んでしまうという欠点があるためディスプレイ用
途には適したものではなかった。また、特開昭６２−５
７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉
末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁
波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からラ
イン幅は１００μｍ前後となり、視認性が発現するため
適したものではなかった。さらに特開平５−２８３８８
９号公報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート
等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解
めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシール
ド材料では、無電解めっきの密着力を確保するために、
透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化手段と
して、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い
酸化剤を使用しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以
外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難とな
る。また製造面においては、シールド材料を巻物等にす
ることができないため嵩高くなることや自動化に適して
いないために製造コストがかさむという欠点もある。デ
ィスプレイ全面から発生する電磁波のシールド性の他に
良好な可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけ
でなく、電磁波シールド材料の存在を肉眼で確認するこ
とができない特性である非視認性も必要とされる。一
方、フラットパネルであるＰＤＰディスプレイではその
前面パネルに反りの小さいものが要求される。しかし、
電磁波シールド性、透明性、非視認性、反り等の特性を
同時に十分満たすものは得られていなかった。本発明は
かかる点に鑑み、電磁波シールド性と透明性、非視認性
および良好な反り特性を有する電磁波シールド材料及び
これを用いたディスプレイを提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性、非視認性および
反り特性の良好な電磁波シールド材料を提供するため、
（１）透明プラスチックフィルムの表面に導電性材料で
形成された幾何学図形を有する構成材料において、幾何
学図形を構成するライン幅が２５μｍ以下、ライン間隔
が５００μｍ以上、ライン厚みが１８μｍ以下であり、
（２）該幾何学図形を含む透明プラスチックフィルム表
面の全面または一部と、透明プラスチックフィルムの幾
何学図形が描かれていない裏面の全面または一部を接着
剤で被覆し、（３）該接着剤を介して、該接着剤の両面
に厚さが等しい透明プラスチック基板を配置した構造体
とするものである。請求項２に記載の発明は、透明性、
安価、耐熱性良好で取り扱い性に優れた電磁波シールド
材料を提供するため、透明プラスチックフィルムをポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムとするもの
である。請求項３に記載の発明は、加工性や密着性に優
れた安価な電磁波シールド材料を提供するため、導電性
材料の厚みが３〜１８μｍの銅、アルミニウムまたはニ
ッケルの金属箔を使用するものである。請求項４に記載
の発明は、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁
波シールド材料を提供するため、導電性材料を銅とし
て、その表面が黒化処理されていることを特徴とするも
のである。請求項５に記載の発明は、加工性が容易で安
価に製造が可能な電磁波シールド材料を提供するため、
透明プラスチックフィルムの表面に導電性材料で形成さ
れた幾何学図形がケミカルエッチングプロセスにより形
成されたものであることを特徴とするものである。請求
項６に記載の発明は、電場と磁場のうち特に磁場シール
ド性に優れた電磁波シールド材を提供するため、導電性
材料を常磁性金属とするものである。請求項７に記載の
発明は、透明性と加工性に優れた電磁波シールド材料を
提供するため、透明プラスチック基板をポリメチルメタ
クリレート（ＰＭＭＡ）とするものである。請求項８に
記載の発明は透明性に優れた電磁波シールド材を提供す
るため、接着剤の屈折率と透明プラスチック基材（透明
プラスチックフィルムと透明プラスチックフィルムに導
電性材料を接着するための接着剤を含む）の屈折率の差
を０.１４以下とするものである。接着剤には、透明プ
ラスチックフィルムに導電性材料を接着するための接着
剤１や透明プラスチックフィルムを透明プラスチック基
材に接着するための接着剤２が有るが、本発明でいう屈
折率の差とは、接着剤２と接着剤１及び接着剤２と透明
プラスチックフィルムとの屈折率の差である。請求項９
に記載の発明は、請求項１ないし請求項８のいずれかに
記載の電磁波シールド材をディスプレイに用いたもので
ある。また、本発明は、電磁波を発生する測定装置、測
定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体に設けて電磁
波をシールドすることや電磁波から装置、機器を守るた
め筐体、特に透明性を要求される窓のような部位に設け
ても良い。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明でいう透明プラスチックフィルムとは、無色透明性
を有するものが好ましいが、淡色であっても透明性を有
すれば良く特に限定されるものではない。具体的には、
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン
ナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフ
ィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビ
ニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポ
リカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹
脂などのプラスチックからなるフィルムで全可視光透過
率が７０％以上のものをいう。これらは単層で使用する
こともできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルム
として使用しても良い。このうち透明性、耐熱性、取り
扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレート
が最も適している。この基材厚みは５〜２００μｍが好
ましい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、２００
μｍを越えると可視光の透過率が低下する。１０〜１０
０μｍがより好ましく、２５〜５０μｍが最も好まし
い。

【０００７】本発明の導電性材料としては銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属の内の１種または２種以
上を組み合わせた合金を使うことができる。導電性、回
路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムまたは
ニッケルが適しており、厚みが３〜１８μｍの金属箔で
あることが好ましい。厚みが１８μｍを超えると、ライ
ン幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなり、厚み
が３μｍ未満では、表面抵抗が大きくなり、電磁波シー
ルド効果に劣るためである。また３μｍ未満の金属箔は
取り扱い性が困難となる。導電性材料が銅であり、少
なくともその表面が黒化処理されたものであると、コン
トラストが高くなり好ましい。また導電性材料が経時的
に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理は、
幾何学図形の形成前後で行えばよいが、通常形成後にお
いて、プリント配線板分野で行われている方法を用いて
行うことができる。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１
ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナ
トリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処
理することにより行うことができる。また導電性材料
が、常磁性金属であると電場シールド性のほかに、磁場
シールド性に優れるために好ましい。かかる導電性材料
を上記プラスチック基材に密着させる方法としては、ア
クリルやエポキシ系樹脂を主成分とした接着剤を介して
貼り合わせるのが最も簡便である。導電性材料の導電層
の膜厚を小さくする必要がある場合は真空蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解
・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１または２
以上の方法を組み合わせることにより達成できる。導電
性材料の膜厚は１８μｍ以下のものが適用できるが、膜
厚が小さいほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シ
ールド材料として好ましく、１２μｍ以下とすることが
さらに好ましい。

【０００８】本発明中の幾何学図形とは正三角形、二等
辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、
ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角
形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形な
どの（正）ｎ角形、円、だ円、星型などを組み合わせた
模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは
２種類以上組み合わせで使うことも可能である。電磁波
シールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可
視光透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形
のｎ数が大きいほど開口率が上がり、可視光透過性が大
きくなるので有利である。このような幾何学図形を形成
させる方法としては、上記導電性材料付きのプラスチッ
ク基材をケミカルエッチングプロセスによって作製する
のが加工性の点から効果的である。その他に幾何学図形
を形成したマスクを用いてプラスチック基材上に配した
感光性樹脂層を露光、現像し、無電解めっきや電気めっ
きと組合せて幾何学図形を形成する方法などがある。

【０００９】このような幾何学図形のライン幅は２５μ
ｍ以下、ライン間隔は５００μｍ以上、ライン厚みは１
８μｍ以下の範囲とされる。また幾何学図形の非視認性
や電磁波シールド材料の外観などの観点からライン幅は
２０μｍ以下、可視光透過率の点からライン間隔は５０
０μｍ以上、ライン厚み１２μｍ以下がさらに好まし
い。ライン間隔は、大きいほど可視光透過率は向上する
が、この値が大きくなり過ぎると、電磁波シールド性が
低下するため、５ｍｍ以下とするのが好ましい。なお、
ライン間隔は、幾何学図形の組合せ等で複雑となる場
合、繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面
積に換算し、その一辺の長さをライン間隔とする。

【００１０】次にこの幾何学図形を被覆する接着剤は前
述した透明プラスチック基材との屈折率の差が０．１４
以下のものが好ましい。これは透明プラスチックフィル
ム若しくは透明プラスチックフィルムに導電性材料を接
着剤を介して貼り合わせた場合、透明プラスチックフィ
ルム、導電性材料貼り合わせ接着剤と被覆接着剤の屈折
率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折
率の差が０．１４以下であると可視光透過率の低下が少
なく良好となる。そのような要件を満たす接着剤の材料
としては、透明プラスチックフィルムがポリエチレンテ
レフタレート（ｎ=1.575；屈折率）の場合、ビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹
脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、
ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹
脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、
ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビ
スフェノールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折率が1.
55〜1.60）を使うことができる。エポキシ樹脂以外では
天然ゴム（ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.521）、
ポリ−１、２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイソブテ
ン（ｎ=1.505〜1.51）、ポリブテン（ｎ=1.5125）、ポ
リ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.50）、
ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.50
6）、ポリ−１、３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの
（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ=1.4563）、ポ
リオキシプロピレン（ｎ=1.4495）、ポリビニルエチル
エーテル（ｎ=1.454）、ポリビニルヘキシルエーテル
（ｎ=1.4591）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ=1. 456
3）などのポリエーテル類、非晶質ポリエチレンテレフ
タレート（ｎ=1.575）、ポリビニルアセテート（ｎ=1.4
665）、ポリビニルプロピオネート（ｎ=1.4665）などの
ポリエステル類、ポリウレタン（ｎ=1.5〜1.6）、エチ
ルセルロース（ｎ=1.479）、ポリ塩化ビニル（ｎ=1.54
〜1.55）、ポリアクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリメ
タクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリサルホン（ｎ=1.63
3）、ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェノキシ樹脂（ｎ=
1.5〜1.6）などを挙げることができる。これらは好適な
可視光透過率を発現する。

【００１１】一方、透明プラスチック基材がアクリル樹
脂の場合、上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート
（ｎ=1.469）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.466）、
ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.463）、
ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ=1.464）、ポリ−３
−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、ポリオ
キシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.465）、ポ
リメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポリイソ
プロピルメタクリレート（ｎ=1.473）、ポリドデシルメ
タクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシルメタクリ
レート（ｎ=1.475）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレー
ト（ｎ=1.484）、ポリ−３、３、５−トリメチルシクロ
ヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリエチルメタ
クリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ−２−メチ
ルプロピルメタクリレート（ｎ=1.487）、ポリ−１、１
−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.489）、ポリ
メチルメタクリレート（ｎ=1.489）などのポリ（メタ）
アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリ
ルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよい
し、２種類以上をブレンドして使うことも可能である。

【００１２】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレートなども使うこともできる。特に接着性の点か
ら、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート
が優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコール
ジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエ
ーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジ
グリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタ
エリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付
加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水
酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共
重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができ
る。接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量
は、１、０００以上のものが使われる。分子量が１、０
００以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体へ
の密着性が低下する。

【００１３】接着剤の架橋・硬化剤としてはトリエチレ
ンテトラミン、キシレンジアミン、Ｎ−アミノテトラミ
ン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フ
タル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水
ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸
などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス
（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹
脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなど
を使うことができる。これらは単独で用いてもよいし、
２種以上混合して用いてもよい。これらの架橋・硬化剤
の添加量は上記ポリマー１００重量部に対して０．１〜
５０重量部、好ましくは１〜３０重量部の範囲で選択す
るのがよい。この量が０．１重量部未満であると架橋・
硬化が不十分となり、５０重量部を超えると過剰架橋・
硬化となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発
明で使用する接着剤樹脂組成物には必要に応じて、希釈
剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添
加剤を配合してもよい。そしてこの接着剤の樹脂組成物
は、透明プラスチックフィルムの表面に導電性材料で形
成された幾何学図形を含む基材の一部または全面を被覆
するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱一部架橋・硬化
工程を経たのち、本発明に係わる接着剤付の透明プラス
チックフィルムとする。さらに、透明プラスチックフィ
ルムの幾何学図形が描かれていない裏面の全面または一
部をも同様に接着剤で被覆する。この方法に代えて、透
明プラスチック基板に接着剤を設け、この接着剤を介し
て透明プラスチックフィルムと接着しても良い。また、
透明プラスチックフィルムに導電性材料を接着するため
に用いた接着剤が流動性があり、透明プラスチック基板
との接着が可能で有ればそれを用いることも可能であ
る。

【００１４】本発明は、透明プラスチック基材上の導電
性材料が除去された部分は密着性向上のために意図的に
凹凸を有していたり、導電性材料の背面形状を転写した
りするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわ
れるが、その凹凸面にプラスチックフィルムと貼り合わ
せ接着剤との屈折率が近い接着剤が平滑に塗布されると
乱反射が最小限に押さえられ、透明性が発現するように
なると考えられる。さらにプラスチックフィルム上の導
電性材料で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に
小さいため肉眼で視認されない。またピッチも十分に大
きいため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一
方、遮蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のピ
ッチは十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考
えられる。次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。

【００１５】

【実施例】

＜接着フィルム１作製例＞透明プラスチック基材の透明
プラスチックフィルムとして、厚さ５０μｍの透明ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（屈折率ｎ
=１．５７５）を、その上に導電性材料を接着するため
接着層となるエポキシ系接着フィルム（ニカフレックス
ＳＡＦ；ニッカン工業株式会社製商品名、ｎ=１．５
８、厚み２０μｍ）を用い、ＰＥＴフィルムの上に上記
エポキシ系接着フィルムを介して導電性材料である厚さ
１２μｍの電解銅箔を、その粗化面がエポキシ系接着フ
ィルム側になるようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃ
ｍ²の条件で加熱ラミネートして接着させた。得られた
銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフ
ィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジ
ストフィルム剥離）を経て、ライン幅２０μｍ、ライン
間隔１.０ｍｍの銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に
形成し、構成材料１を得た。本構成材料１の可視光透過
率は２０％以下であった。本構成材料１の表面に後述の
接着剤を乾燥塗布厚が約３０μｍになるように塗布、乾
燥して接着フィルムを得た。この接着フィルムの接着剤
が塗布されている面とは反対側の面にも、乾燥塗布厚が
２０μｍになるように後述の接着剤層を形成し接着フィ
ルム１を得た。その後ロールラミネータを使って、接着
フィルム１の両面に市販のアクリル板（コモグラス；株
式会社クラレ製商品名、厚み１ｍｍ）を１１０℃、２０
Ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で加熱圧着し電磁波シールド材料
を得た。

【００１６】＜接着フィルム２作製例＞厚さ２５μｍの
透明ＰＥＴフィルム上にアクリル系接着フィルム（パイ
ララックスＬＦ−０２００；デュポン社製商品名、ｎ＝
１．４７、厚み２０μｍ）を介して厚さ１２μｍの銅箔
を接着させた。この銅箔付きＰＥＴフィルムに接着フィ
ルム１作製例と同様のフォトリソ工程を経て、ライン幅
１５μｍ、ライン間隔２.０ｍｍの銅格子パターンをＰ
ＥＴフィルム上に形成した。本構成材料２の可視光透過
率は２０％以下であった。本構成材料２の銅パターンが
形成されている面に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約３０
μｍになるように塗布、乾燥し、さらに、接着剤が塗布
されている面とは反対側の面にも、乾燥塗布厚が２０μ
ｍになるように後述の接着剤層を形成し接着フィルム２
を得た。その後プレス機を使って、接着フィルム２の両
面に市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製
商品名、厚み１.５ｍｍ）を１１０℃、３０Ｋｇｆ／ｃ
ｍ²の条件で加熱圧着し電磁波シールド材料を得た。

【００１７】＜接着フィルム３作製例＞厚さ５０μｍの
透明ＰＥＴフィルム上に、マスク層を用いて無電解ニッ
ケルめっきを格子状に形成することによりライン幅１０
μｍ、ライン間隔１.０ｍｍ、ライン厚み３μｍのニッ
ケル格子パターンをＰＥＴフィルム上に作製した。本構
成材料３の可視光透過率は２０％以下であった。本構成
材料３のニッケルパターンが形成されている面に後述の
接着剤を乾燥塗布厚が約３０μｍになるように塗布、乾
燥し、さらに、接着剤が塗布されている面とは反対側の
面にも、乾燥塗布厚が２０μｍになるように後述の接着
剤層を形成し接着フィルム３を得た。その後プレス機を
使って接着フィルム３の両面に市販のアクリル板（コモ
グラス；株式会社クラレ製商品名、厚み１.５ｍｍ）を
１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で加熱圧着した。

【００１８】＜接着剤組成物１＞ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、分子量約３０万）１００重量部ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）２５重量部ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート）１２．５重量部２−エチル−４−メチルイミダゾール０．３重量部ＭＥＫ（メチルエチルケトン）３３０重量部シクロヘキサノン１５重量部この接着剤組成物１の溶剤乾燥後の屈折率は１．５７で
あった。

【００１９】＜接着剤組成物２＞ＹＰ−３０（東都化成株式会社製商品名；フェノキシ樹脂、Ｍｗ=6万）１００重量部ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）１０重量部ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート）５重量部２−エチル−４−メチルイミダゾール０．３重量部ＭＥＫ２８５重量部シクロヘキサノン５重量部この接着剤組成物２の溶剤乾燥後の屈折率は１．５５で
あった。

【００２０】＜接着剤組成物３＞ＨＴＲ−６００ＬＢ（帝国化学産業株式会社製商品名；ポリアクリル酸エステル、Ｍｗ=７０万）１００重量部コロネートＬ（日本ポリウレタン株式会社製商品名；3官能イソシアネート）４．５重量部ジブチル錫ジラウレート０．４重量部トルエン４５０重量部酢酸エチル１０重量部この接着剤組成物３の溶剤乾燥後の屈折率は１．４７で
あった。

【００２１】（実施例１）接着剤組成物１を使って接着
フィルム１作製例の手順で得た電磁波シールド材料を実
施例１とした。（実施例２）接着剤組成物２を使って接着フィルム２作
製例の手順で得た電磁波シールド材料を実施例２とし
た。（実施例３）接着剤組成物３を使って接着フィルム３作
製例の手順で得た電磁波シールド材料を実施例３とし
た。（実施例４）ライン幅を２０μｍから９μｍにした以外
は全て実施例１と同様にして得た電磁波シールド材料を
実施例４とした。（実施例５）ライン幅を１５μｍから１２μｍにした以
外は全て実施例２と同様にして得た電磁波シールド材料
を実施例５とした。（実施例６）ライン間隔を１.０ｍｍから０.５ｍｍとし
た以外は全て実施例３と同様にして得た電磁波シールド
材料を実施例６とした。（実施例７）ライン間隔を１.０ｍｍから５.０ｍｍとし
た以外は全て実施例１と同様にして得た電磁波シールド
材料を実施例７とした。（実施例８）ライン厚を１２μｍから１８μｍにした以
外は全て実施例２と同様にして得た電磁波シールド材料
を実施例８とした。（実施例９）導電性材料として黒化処理された銅を使っ
た以外は全て実施例１と同様にして得た電磁波シールド
材料を実施例９とした。（実施例１０）実施例１で形成した銅格子パターンの代
わりに正三角形の繰り返しパターンを作製した以外の条
件は全て実施例１と同様にして得た電磁波シールド材料
を実施例１０とした。（実施例１１）実施例２で形成した銅格子パターンの代
わりに正六角形の繰り返しパターンを作製した以外の条
件は全て実施例２と同様にして得た電磁波シールド材料
を実施例１１とした。（実施例１２）実施例３で形成したニッケル格子パター
ンの代わりに正八角形と正方形よりなる繰り返しパター
ンを作製した以外の条件は全て実施例３と同様にして得
た電磁波シールド材料を実施例１２とした。（実施例１３）実施例１のプラスチック基材としてＰＥ
Ｔの代りにポリサルホン（５０μｍ、ｎ＝１．６３３）
を使用した以外は全て実施例１と同様にして得た電磁波
シールド材料を実施例１３とした。

【００２２】（比較例１）銅箔の代わりにＩＴＯ膜を
２、０００Å全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、
パターンを形成しないで、直接接着剤組成物１をフィル
ムの両面に塗布し、実施例１と同様にして得た電磁波シ
ールド材料を比較例１とした。（比較例２）比較例１と同様にＩＴＯに代えて全面アル
ミ蒸着したままパターンを形成しないで、直接接着剤組
成物２をフィルムの両面に塗布し、比較例１と同様にし
て得た電磁波シールド材料を比較例２とした。（比較例３）ライン幅を２０μｍから５０μｍにした以
外の条件は全て実施例１と同様にして得た電磁波シール
ド材料を比較例３とした。（比較例４）ライン間隔を２.０ｍｍから０.２５ｍｍに
した以外の条件は全て実施例２と同様にして得た電磁波
シールド材料を比較例４とした。（比較例５）ライン厚を１２μｍから７０μｍにした以
外の条件は全て実施例２と同様にして得た電磁波シール
ド材料を比較例５とした。（比較例６）透明プラスチックフィルムに充填剤入りポ
リエチレンフィルム（可視光透過率２０％以下）を使っ
た以外の条件は全て実施例１と同様にして得た電磁波シ
ールド材料を比較例６とした。（比較例７）実施例１で使ったアクリル板の代わりに厚
さ２.０ｍｍのアクリル板上に（サンドイッチしない
で）直接、接着フィルム１作製例で構成材料１の導電性
材料が形成された表面側にのみ接着剤組成物１を乾燥塗
布厚が約３０μｍになるように塗布、乾燥してアクリル
板に張り付けた。（比較例８）実施例２で使ったアクリル板の代わりに、
上面側に厚さが１.５ｍｍ、下面側に厚さが１.０ｍｍの
アクリル板を使った。（参考例１）接着剤としてフェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂（Ｍｗ=５万、ｎ=１．７３）を使用した以外の条
件は全て実施例１と同様にして得た電磁波シールド材料
を参考例１とした。（参考例２）接着剤としてポリジメチルシロキサン（Ｍ
ｗ=４．５万、ｎ=１．４３）を使用した以外の条件は全
て実施例３と同様にして得た電磁波シールド材料を参考
例２とした。（参考例３）接着剤としてポリビニリデンフルオライド
（Ｍｗ=１２万、ｎ=１．４２）を使用した以外の条件は
全て実施例３と同様にして得た電磁波シールド材料を参
考例３とした。

【００２３】以上のようにして得られた電磁波シールド
材料の電磁波シールド性、可視光透過率、反り特性、非
視認性、像鮮明性などの外観、加熱処理前後の接着特性
を測定した。結果を表１、２に示した。

【００２４】なお電磁波シールド性は、同軸導波管変換
器（ＴＷＣ−Ｓ−０２４、日本高周波株式会社製商品
名）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトロアナライ
ザー（８５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー、
ＹＨＰ製商品名）を用い、周波数１ＧＨｚで測定した。
可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計（２０
０−１０型、株式会社日立製作所製商品名）を用いて、
４００〜８００ｎｍの透過率の平均値を用いた。非視認
性、像鮮明性は、電磁波シールド材料をプラズマディス
プレイに装着し、０．５ｍ離れた場所から導電性材料で
形成された幾何学図形を肉眼観察で評価し、非視認性に
ついては、認識できないものを程度に応じ非常に良、良
好とし、認識できるものをＮＧとした。像鮮明性も同様
に像が歪んでいるかどうかで判定し、歪んでいるものを
ＮＧ、歪んでいないものを良好とした。接着力は、引張
り試験機（テンシロンＵＴＭ−４−１００、東洋ボール
ドウィン株式会社製商品名）を使用し、幅１０ｍｍ、９
０°方向、剥離速度５０ｍｍ／分で測定した。屈折率
は、屈折計（アッベ屈折計、株式会社アタゴ光学機械製
作所製）を使用し、２５℃で測定した。

【００２５】

【表１】

【００２６】

【表２】

【００２７】比較例１、２は、導電材料としてＩＴＯと
Ａｌを蒸着させたものであるが、ＩＴＯの場合電磁波シ
ールド性に劣り、Ａｌの場合可視光透過率に劣る。比較
例３は、ライン幅を本発明の２５μｍ以下にするのに対
し、５０μｍと大きいため可視光透過率が低く、また非
視認性も悪い。比較例４は、ライン間隔を本発明の５０
０μｍ以上にするのに対し、２５０μｍと間隔が狭いた
めライン幅が大きい比較例３と同様、可視光透過率が低
く、また非視認性も悪い。比較例５は、ラインの厚みを
本発明の１８μｍ以下にするのに対し、７０μｍと厚い
ため非視認性が悪い。比較例６は、本発明の透明プラス
チックフィルムの代わりに不透明な充填剤入りポリエチ
レンフィルム（可視光透過率２０％以下）を使用したも
のであるが、可視光透過率が２０％以下と非常に悪い。
比較例７は、透明プラスチックフィルムの両面に接着剤
を介して透明プラスチック基板を配置する本発明に対し
て、透明プラスチック基板の片面にのみ透明プラスチッ
クフィルムを貼り合わせたものであり、反りが大きいと
いう欠点がある。また比較例８は、透明プラスチックフ
ィルムの両面に接着剤を介して厚さが等しくない透明プ
ラスチック基板を配置した場合であり、反りが大きいと
いう欠点がある。これに対して、本発明の透明プラスチ
ックフィルムの両面に接着剤を介して厚みの等しい透明
プラスチック基板を配置した電磁波シールド材料である
実施例１〜１３は、電磁波シールド性が３３ｄＢ以上と
高く良好な電磁波シールド性を有する。そして、可視光
線透過率が６６％以上と高く、非視認性も良好である。
さらに初期接着力や８０℃で行う接着力の促進試験１，
０００ｈ後でも接着力の低下が少なく、反りに関しても
良好である。参考例１〜３で示した接着剤と透明プラス
チックフィルム、接着剤と接着剤の屈折率の差が０．１
４を超えると可視光透過率が低下してしまう。

【００２８】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド材料は
実施例からも明らかなように、電磁波漏れがなくシール
ド機能が特に良好である。また可視光透過率、非視認
性、像鮮明性などの光学的特性が良好で反りがなく、し
かも高温で長時間にわたっての光学特性に変化が少なく
良好であり、それらに優れた電磁波シールド材料を提供
することができる。また請求項２に記載の透明プラスチ
ックフィルムフィルムをポリエチレンテレフタレートフ
ィルムとすることにより、透明性、耐熱性が良好な上、
安価で取り扱い性に優れた電磁波シールド材料を提供す
ることができる。請求項３に記載の導電性材料の厚み
が、３〜１８μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルの
金属箔を使用することにより、加工性に優れ、安価で広
視野角の電磁波シールド材を提供することができる。請
求項４に記載の導電性材料を銅として、少なくともその
表面を黒化処理されたものとすることにより、退色性が
小さく、コントラストの大きい電磁波シールド材を提供
することができる。請求項５に記載の透明プラスチック
フィルム上の幾何学図形をケミカルエッチングプロセス
により形成させることにより、加工性に優れた電磁波シ
ールド材を提供することができる。請求項６に記載の導
電性材料を常磁性金属とすることにより、磁場シールド
性に優れた電磁波シールド材を提供することができる。
請求項７に記載の透明プラスチック基板をＰＭＭＡとす
ることにより、透明性と加工性に優れた電磁波シールド
材料を提供することができる。請求項８に記載の接着剤
の屈折率と透明プラスチック基材の屈折率の差を０.１
４以下とすることにより、透明性に優れた電磁波シール
ド材料を提供することができる。請求項９に記載の上記
で得られる電磁波シールド材をディスプレイに用いる
と、電磁波シールド性に優れ、しかも可視光透過率が高
く、非視認性が良好で鮮明な画像を快適に鑑賞すること
ができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）透明プラスチックフィルムの表面に
導電性材料で形成された幾何学図形を有する構成材料に
おいて、幾何学図形を構成するライン幅が２５μｍ以
下、ライン間隔が５００μｍ以上、ライン厚みが１８μ
ｍ以下であり、（２）該幾何学図形を含む透明プラスチ
ックフィルム表面の全面または一部と、透明プラスチッ
クフィルムの幾何学図形が描かれていない裏面の全面ま
たは一部を接着剤で被覆し、（３）該接着剤を介して、
該接着剤の両面に厚さが等しい透明プラスチック基板を
配置した電磁波シールド材料。
【請求項２】透明プラスチックフィルムがポリエチレン
テレフタレートフィルムである請求項１に記載の電磁波
シールド材料。
【請求項３】導電性材料が、厚み３〜１８μｍの銅、ア
ルミニウムまたはニッケルの金属箔である請求項１また
は請求項２に記載の電磁波シールド材料。
【請求項４】導電性材料が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されていることを特徴とする請求項３に記
載の電磁波シールド材料。
【請求項５】透明プラスチックフィルムの表面に導電性
材料で形成された幾何学図形がケミカルエッチングプロ
セスにより形成されたものであることを特徴とする請求
項１ないし請求項４のいずれかに記載の電磁波シールド
材料。
【請求項６】導電性材料が常磁性金属である請求項１、
請求項２又は請求項５のいずれかに記載の電磁波シール
ド材料。
【請求項７】透明プラスチック基板がポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）である請求項１に記載の電磁波シ
ールド材料。
【請求項８】接着剤の屈折率と透明プラスチック基材の
屈折率の差が０.１４以下である請求項１ないし請求項
７のいずれかに記載の電磁波シールド材料。
【請求項９】請求項１ないし請求項８のいずれかに記載
の電磁波シールド材料を用いたディスプレイ。