JPH10338848A - 電磁波シールド性接着フィルムの製造方法及び該フィルムを用いたディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ディスプレイ前面から発生する電磁波のシール
ド性に優れるとともに赤外線遮蔽性、透明性、非視認性
および良好な接着特性を有する接着フィルムをウエブ状
で提供する。 【解決手段】導電性金属付きプラスチックフィルムの導
電性金属上に、エッチング法により開口率が８０％以上
の幾何学図形を形成する工程、該幾何学図形を含む基材
の一部または全面に屈折率が１．４５〜１．６０の範囲
である接着剤組成物を塗布し、その塗布面あるいはその
反対面に９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率
が５０％以上の樹脂組成物を塗布する工程を含みフィル
ム巻き出しからフィルム巻取りまでを連続的に行うこと
よりウエブ状の電磁波シールド性接着フィルムを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波を遮蔽する電磁波シールド性接着フィルムの
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求
される３０ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ以
下と不十分であった。良導電性繊維を透明基材に埋め込
んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公
報、特開平５−２６９９１２号公報）では、１ＭＨｚ〜
１ＧＨｚの電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分
大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配
置させるために必要な繊維径が３５μｍと太すぎるた
め、繊維が見えてしまい（以後視認性という）ディスプ
レイ用途には適したものではなかった。また、特開昭６
２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の
金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷し
た電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界
からライン幅は、１００μｍ前後となり視認性が発現す
るため適したものではなかった。さらに特開平５−２８
３８８９号公報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボ
ネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に
無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した
シールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するた
めに、透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化
手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性
の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、Ａ
ＢＳ以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難
となる。この方法により、電磁波シールド性と透明性は
達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすること
は困難で、フィルム化やウエブ化の方法としては適して
いなかった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに
密着させることができないため、そこから電磁波の漏洩
が大きくなる。また製造面においては、シールド材料を
巻物等にすることができないため嵩高くなることや自動
化に適していないために製造コストがかさむという欠点
もある。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシール
ド性については、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ
以上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面よ
り発生する９００〜１、１００ｎｍの赤外線は他のＶＴ
Ｒ機器等に悪影響を及ぼすため、これを遮蔽する必要が
ある。この他にも良好な可視光透過性、さらに可視光透
過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止するため
ディスプレイ面に密着して貼付けられる接着性、シール
ド材の存在を肉眼で確認することができない特性である
非視認性も必要とされる。接着性についてはガラスや汎
用ポリマー板に対し比較的低温で容易に貼付き、長期間
にわたって良好な密着性を有することが必要である。し
かし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性、非視
認性、接着性等の特性を同時に十分満たし、これをウエ
ブ状にした接着フィルムとしては、これまで満足なもの
は得られていなかった。本発明はかかる点に鑑み、電磁
波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性、非視認性および
良好な接着特性を有する接着フィルムをウエブ状（巻物
状）で提供することができる電磁波シールド性接着フィ
ルムを製造することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性、非視認性および
取扱性の良好な電磁波シールド材料を提供するため、導
電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属をエッ
チング法により、開口率が８０％以上となる幾何学図形
を形成する工程、該幾何学図形上に、屈折率が１．４５
〜１．６０の範囲である接着剤組成物を、該幾何学図形
を含む基材の一部または全面に塗布する工程、９００〜
１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹
脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布された面またはそ
の反対側の面に塗布する工程を含み、各工程でフィルム
巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行うもの
である。本発明の請求項２の発明は、導電性金属付きプ
ラスチックフィルムの導電性金属をエッチング法によ
り、開口率が８０％以上となる幾何学図形を形成する工
程、該幾何学図形上に、屈折率が１．４５〜１．６０の
範囲にあり、９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸
収率が５０％以上の樹脂組成物を該幾何学図形を含む基
材の一部または全面に塗布する工程を含み、各工程でフ
ィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを連続的に行
うものである。本発明の請求項３の発明は、電磁波シー
ルド性と非視認性に優れた電磁波シールド性接着フィル
ムを提供するため、プラスチックフィルム上に導電性金
属で形成された幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、
ライン間隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以
下であると好ましいものである。本発明の請求項４の発
明は、透明性、安価、耐熱性良好で取扱性に優れた電磁
波シールド性接着フィルムを提供するため、プラスチッ
クフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムであ
ると好ましいものである。本発明の請求項５の発明は、
加工性や密着性に優れ、安価な電磁波シールド性接着フ
ィルムを提供するため、導電性金属の厚みが３〜４０μ
ｍの銅、アルミニウムまたはニッケルの導電性金属を使
用しプラスチックフィルムへの接着面が表面粗さ１μｍ
以上の粗面とするものである。本発明の請求項６の発明
は、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シー
ルド性接着フィルムを提供するため、導電性金属が銅で
あり、少なくともその表面が黒化処理されていると好ま
しいものである。本発明の請求項７の発明は、電場と磁
場のうち特に磁場シールド性に優れた電磁波シールド材
を提供するため、導電性金属に常磁性金属に常磁性金属
を使用するものである。本発明の請求項８の発明は、上
記の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレ
イである。また、本発明は、電磁波を発生する測定装
置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体に設け
て電磁波をシールドすることや電磁波から装置、機器を
守るため筐体、特に透明性を要求される窓のような部位
に設けても良い。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明でいうプラスチックフィルムとはポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなど
のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリ
サルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、
ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチ
ックからなるフィルムで全可視光透過率が７０％以上の
ものをいう。これらは単層で使うこともできるが、２層
以上を組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。
このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点か
らポリエチレンテレフタレートが最も適している。この
基材厚みは５〜２００μｍが好ましい。５μｍ未満だと
取り扱い性が悪くなり、２００μｍを越えると可視光の
透過率が低下する。１０〜１００μｍがより好ましく、
２５〜５０μｍが最も好ましい。

【０００７】本発明の導電性金属として使用可能な金属
は銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレ
ス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の１
種または２種以上を組み合わせた合金を使うことができ
る。導電性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、厚みが３〜４０
μｍの金属箔を使用すると好ましい。厚みが４０μｍを
超えると、細かいライン幅の形成が困難であったり、視
野角が狭くなる。また厚みが３μｍ未満では、表面抵抗
が大きくなり、電磁波シールド効果が劣るためである。
導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理
されたものであると、コントラストが高くなり好まし
い。また導電性金属が経時的に酸化され退色されること
が防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形成前後で行
えばよいが、通常形成後において、プリント配線板分野
で行われている方法を用いて行うことができる。例え
ば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリ
ウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）
の水溶液中、９５℃で２分間処理することにより行うこ
とができる。また導電性金属が、常磁性金属であると、
磁場シールド性に優れるために好ましい。かかる導電性
金属を上記プラスチックフィルムに密着させ導電性金属
付きプラスチックフィルムとするには、導電性金属の箔
あるいは、プラスチックフィルムにアクリルやエポキシ
系樹脂を主成分とした接着剤を塗布し、その接着剤を介
して貼り合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導
電層の膜厚を小さくする必要がある場合は連続した巻物
のプラスチックフィルムに真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっ
き法などの薄膜形成技術のうちの１または２以上の方法
を組み合わせることにより達成できる。導電性金属の膜
厚は４０μｍ以下のものが適用できるが、膜厚が小さい
ほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シールド材料
として好ましく、１８μｍ以下とすることがさらに好ま
しい。導電性金属付きプラスチックフィルムは、連続し
た巻物で有ることが必要であり、このためには導電性金
属の箔やプラスチックフィルムが連続した巻物であると
好ましい。導電性金属の箔の上に接着剤組成物である接
着剤ワニスを均一に塗布し、溶剤を乾燥させ、その後プ
ラスチックフィルムとロールラミネータを使用し貼り合
わせ導電性金属付きプラスチックフィルムとする。ある
いは、プラスチックフィルム上に接着剤組成物である接
着剤ワニスを均一に塗布し、溶剤を乾燥させ、その後導
電性金属とロールラミネータを使用し貼り合わせ導電性
金属付きプラスチックフィルムとし紙、プラスチックあ
るいは金属製の芯管に巻いた巻物とする。

【０００８】そして得られた導電性金属付きプラスチッ
クフィルムは、導電性金属をエッチング法により、開口
率が８０％以上となるよう幾何学図形を形成する工程を
行う。 本発明中の幾何学図形とは正三角形、二等辺三
角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし
形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、
（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの
（正）ｎ角形、円、だ円、星型などを組み合わせた模様
であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種
類以上組み合わせで使うことも可能である。電磁波シー
ルド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光
透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ
数が大きいほど開口率が上がり、可視光透過性が大きく
なるので有利である。このような幾何学図形を形成させ
る方法としては、プリント配線板分野で実施されている
ケミカルエッチングプロセスを用いて行うことができ
る。この方法は、上記導電性金属付きプラスチックフィ
ルムの導電性金属表面にスクリーン印刷で幾何学図形を
形成するパターンにレジストインクを塗布しエッチング
レジストを形成する。レジストパターンの形成は、逐次
的に行い一定間隔で塗布してはずらす操作を繰り返し、
乾燥工程が必要で有れば乾燥を行う工程を付加しレジス
トパターンを形成する。また、レジストパターンを感光
性樹脂フィルムで形成する場合は、導電性金属付きプラ
スチックフィルムの導電性金属の上に感光性樹脂フィル
ムをラミネートし、幾何学図形を形成したネガあるいは
ポジフィルムを密着させ露光、現像を行いレジストパタ
ーンを連続的に形成する。その後、レジストパターンが
形成された電性金属付きプラスチックフィルムを連続し
てエッチング液に浸漬したりエッチング液をシャワーリ
ングし導電性金属をエッチングする。エッチングした
後、水洗、乾燥を行い連続した巻物とする。もちろんエ
ッチングレジスト形成工程とエッチング工程を連続した
工程で行う方法でも良く、効率が良い。この様にケミカ
ルエッチングプロセスによって作製し、ウエブ状（巻
物）のまま巻き取るのが加工効率の点から効果的であ
る。その他に幾何学図形を形成したマスクを用いて透明
プラスチックフィルム上に配した感光性樹脂層を露光、
現像し、無電解めっきや電気めっきと組合せて幾何学図
形を形成することも可能である。

【０００９】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は２００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とされる。また幾何学図形の非視認性
の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光透過率の点
からライン間隔は２５０μｍ以上、ライン厚み１８μｍ
以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大きいほど開口
率は向上し、可視光透過率は向上する。ディスプレイ前
面に使用する場合、開口率は８０％以上が必要である
が、この値が大きくなり過ぎると、電磁波シールド性が
低下するため、ライン間隔は１ｍｍ以下とするのが好ま
しい。なお、ライン間隔は、幾何学図形の組合せ等で複
雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を
正方形の面積に換算し、その一辺の長さをライン間隔と
する。

【００１０】次にこの幾何学図形を被覆する接着剤の屈
折率は１．４５〜１．６０のものが使用される。これは
プラスチックフィルムと接着剤の屈折率、またはプラス
チックフィルムに導電性金属を貼り合わせるために用い
た接着剤層と接着剤の屈折率が異なると可視光透過率が
低下するためであり、屈折率が１．４５〜１．６０であ
ると可視光透過率の低下が少なく良好となる。幾何学図
形を被覆する接着剤とプラスチックフィルムに導電性金
属を貼り合わせるため用いた接着剤層と接着剤との屈折
率の差が０．１４以下のものが特に好ましい。これはプ
ラスチックフィルム若しくはプラスチックフィルムに導
電性金属を接着剤を介して貼り合わせた場合、プラスチ
ックフィルム、導電性金属貼り合わせ接着剤と被覆する
接着剤の屈折率が異なると可視光透過率が低下するため
であり、屈折率の差が０．１４以下であると可視光透過
率の低下が少なく良好となる。そのような要件を満たす
接着剤の材料としては、プラスチックフィルムがポリエ
チレンテレフタレート（ｎ=1.575；屈折率）の場合、ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エ
ポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポ
キシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ
樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲ
ン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折
率が1.55〜1.60）を使うことができる。 エポキシ樹脂
以外では天然ゴム（ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.
521）、ポリ−１、２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイ
ソブテン（ｎ=1.505〜1.51）、ポリブテン（ｎ=1.512
5）、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.
50）、ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン（ｎ
=1.506）、ポリ−１、３−ブタジエン（ｎ=1.515）など
の（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ=1.4563）、
ポリビニルエチルエーテル（ｎ=1.454）、ポリビニルヘ
キシルエーテル（ｎ=1.4591）、ポリビニルブチルエー
テル（ｎ=1. 4563）などのポリエーテル類、ポリビニル
アセテート（ｎ=1.4665）、ポリビニルプロピオネート
（ｎ=1.4665）などのポリエステル類、ポリウレタン
（ｎ=1.5〜1.6）、エチルセルロース（ｎ=1.479）、ポ
リ塩化ビニル（ｎ=1.54〜1.55）、ポリアクリロニトリ
ル（ｎ=1.52）、ポリメタクリロニトリル（ｎ=1.52）、
ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェノキシ樹脂（ｎ=1.5〜
1.6）などを挙げることができる。これらは好適な可視
光透過率を発現する。

【００１１】一方、プラスチックフィルムがアクリル樹
脂の場合、上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート
（ｎ=1.469）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.466）、
ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.463）、
ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ=1.464）、ポリ−３
−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、ポリオ
キシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.465）、ポ
リメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポリイソ
プロピルメタクリレート（ｎ=1.473）、ポリドデシルメ
タクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシルメタクリ
レート（ｎ=1.475）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレー
ト（ｎ=1.484）、ポリ−３、３、５−トリメチルシクロ
ヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリエチルメタ
クリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ−２−メチ
ルプロピルメタクリレート（ｎ=1.487）、ポリ−１、１
−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.489）、ポリ
メチルメタクリレート（ｎ=1.489）などのポリ（メタ）
アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリ
ルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよい
し、２種類以上をブレンドして使うことも可能である。

【００１２】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレートなども使うこともできる。特に接着性の点か
ら、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート
が優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコール
ジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエ
ーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジ
グリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタ
エリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付
加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水
酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共
重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができ
る。接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量
は、１、０００以上のものが使われる。分子量が１、０
００以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体へ
の密着性が低下する。

【００１３】接着剤の架橋・硬化剤としてはトリエチレ
ンテトラミン、キシレンジアミン、Ｎ−アミノテトラミ
ン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フ
タル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水
ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸
などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス
（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹
脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなど
を使うことができる。これらは単独で用いてもよいし、
２種以上混合して用いてもよい。これらの架橋・硬化剤
の添加量は上記ポリマー１００重量部に対して０．１〜
５０重量部、好ましくは１〜３０重量部の範囲で選択す
るのが好ましい。この量が０．１重量部未満であると架
橋・硬化が不十分となり、５０重量部を超えると過剰架
橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明
で使用する樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑
剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配
合してもよい。そしてこの接着剤の樹脂組成物は、ウエ
ブ状（巻物）のプラスチックフィルムの表面に導電性金
属で形成された幾何学図形を含む基材の一部または全面
を被覆するため、塗布され、溶剤乾燥、加熱一部架橋・
硬化工程を経たのち、ウエブ状（巻物）で巻き取られ、
本発明に係わる電磁波シールド性接着フィルムにする。
この屈折率が１．４５〜１．６０の範囲である接着剤組
成物を幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布す
る工程は、ロールコーター、カーテンコーター、グラビ
アコーター等の塗工機により一定厚みに塗布され、接着
剤組成物中の溶剤を加熱などにより除去し幾何学図形を
含む基材の一部または全面に接着剤層を形成する。ま
た、必要により前記接着剤組成物が塗布された面の反対
側の面にも同様に塗布し接着剤層を形成する。

【００１４】次に接着フィルムの９００〜１、１００ｎ
ｍの領域における赤外線吸収率が平均で５０％以上の接
着剤樹脂組成物とする方法としては、酸化鉄、酸化セリ
ウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの金属酸化物、ま
たはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴＯ）、六塩化タ
ングステン、塩化スズ、硫化第二銅、クロム−コバルト
錯塩、チオール−ニッケル錯体またはアミニウム化合
物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会社製）または
アントラキノン系（ＳＩＲ−１１４）、金属錯体系（Ｓ
ＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩ
Ｒ−１５９、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１６２）、フタ
ロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）（以上三井東圧化学株
式会社製商品名）などの有機系赤外線吸収剤などを上記
接着剤組成物に含有させたり、バインダー樹脂中に分散
させた組成物を前記の接着剤組成物が塗布された面また
はその反対側の面に塗布し、赤外線吸収剤層を設ける。
ディスプレイから放射される赤外線は、他のＴＶ、ＶＴ
Ｒ、ラジオ、パソコン等に使用される赤外線を利用した
リモコンに誤動作を与えるおそれがあるが、赤外線吸収
層を設けることにより誤動作を防止することができる。
これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に赤外
線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴＯ、ア
ミニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体系など
の赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外の赤外
線吸収剤の場合注意すべきことは、これらの化合物の一
次粒子の粒径である。粒径が赤外線の波長より大きすぎ
ると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、
ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が
赤外線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下す
る。好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μｍ
がさらに好ましい。この赤外線吸収性の材料は、ビスフ
ェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹
脂、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリ
イソブテン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルア
クリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシル
アクリレート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポ
リアクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテー
ト、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル系樹
脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、Ｅ
ＶＡなどのポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂
中に均一に分散される。その配合の最適量は、バインダ
ー樹脂１００重量部に対して赤外線吸収性の材料が０．
０１〜１０重量部であるが、０．１〜５重量部がさらに
好ましい。０．０１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少
なく、１０重量部を越えると透明性が損なわれる。これ
らの組成物は導電性金属付プラスチックフィルムの幾何
学図形上に形成された接着剤面またはその反対面のフィ
ルム背面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。塗布
された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱やＵＶ
を使って硬化させてもよい。一方、赤外線吸収性の化合
物は上述した接着剤組成物に直接混合して使うことも可
能である。その際の添加量は接着剤の主成分となるポリ
マー１００重量部に対して効果と透明性から、０．０１
〜５重量部が最適である。

【００１５】本発明は、プラスチックフィルム上の導電
性金属が除去された部分は密着性向上のために意図的に
凹凸を有していたり、導電性金属の背面形状を転写した
りするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわ
れるが、その凹凸面にプラスチックフィルムまたはプラ
スチックフィルムに導電性金属を貼り合わせる為の接着
剤と屈折率が近い接着剤が平滑に塗布されると乱反射が
最小限に押さえられ、透明性が発現するようになると考
えられる。さらにプラスチックフィルム上の導電性金属
で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいた
め肉眼で視認されない。またピッチも十分に大きいため
見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽す
べき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のピッチは十分
に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられる。
上記のように（ａ）導電性金属付きプラスチックフィル
ムの導電性金属をエッチング法により、開口率が８０％
以上となる幾何学図形を形成する工程、（ｂ）該幾何学
図形上に、屈折率が１．４５〜１．６０の範囲である接
着剤組成物を、該幾何学図形を含む基材の一部または全
面に塗布する工程、（ｃ）９００〜１、１００ｎｍにお
ける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物を、前記接
着剤組成物が塗布された面またはその反対側の面に塗布
する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィル
ム巻き取りまでを連続的に行う電磁波シールド性接着フ
ィルムの製造方法では、各工程で連続的に作業ができ材
料やエネルギーの無駄がないため、歩留まりが良く、加
工性に優れ効率よく品質の安定した電磁波シールド性接
着フィルムを製造することができる。また、（ａ）導電
性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属をエッチ
ング法により、開口率が８０％以上となる幾何学図形を
形成する工程、（ｂ）該幾何学図形上に、屈折率が１．
４５〜１．６０の範囲にあり、９００〜１、１００ｎｍ
における赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組成物を該幾
何学図形を含む基材の一部または全面に塗布する工程を
含み、各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取り
までを連続的に行う電磁波シールド性接着フィルムの製
造方法でも、上記と同様の各工程で連続的に作業ができ
材料やエネルギーの無駄がないため、歩留まりが良く、
加工性に優れ効率よく品質の安定した電磁波シールド性
接着フィルムを製造することができる。本発明では、プ
ラスチックフィルムに導電性金属を貼り合わせる工程、
幾何学図形を形成する工程、接着剤を塗布し接着剤層を
設ける工程を連続して行ったり、各工程を一部連続して
行っても良い。このようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムは、アクリル板やポリエステル板等のプ
ラスチック基板の片面に貼り付けたり、２枚のプラスチ
ック基板の間に貼り付け外形加工を行いディスプレイと
する。さらに、得られた電磁波シールド性接着フィルム
は、その接着剤面を直接ＰＤＶ等の画面に密着性良く貼
り付けて使用することもできる。電磁波シールド性接着
フィルムとプラスチック基板は、ロールラミネータを用
いてプラスチック基板を連続的に供給しながら連続して
積層することができる。プラスチック基板は、無色透明
性を有するものが好ましいが、淡色であっても透明性を
有すれば良く特に限定されるものではない。厚みが０．
５〜１０ｍｍで、全光線透過率が５０%以上、好ましく
は８０%以上である基板が特に好ましい。これらの基板
の代表的なものとしては、ポリカーボネート、ポリメチ
ル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、アク
リロニトリル-スチレン共重合体等が挙げられる。

【００１６】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 ＜電磁波シールド性接着フィルム１作製例＞プラスチッ
クフィルムとして厚さ５０μｍ、巻長さ３００ｍの透明
ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製商品名、Ａ−４１
００、屈折率ｎ=１．５７５）を用い、その上に接着層
となるエポキシ系接着フィルム（ニカフレックスＳＡ
Ｆ；ニッカン工業株式会社製商品名、ｎ=１．５８、厚
み２０μｍ）を介して導電性金属である厚さ１８μｍの
電解銅箔を、その粗化面がエポキシ系接着フィルム側に
なるようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍの条件で
巻き出しから巻き取りまで連続して加熱ラミネートして
接着させた導電性金属付きプラスチックフィルムの巻物
を得た。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムの巻物にフォ
トリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケ
ミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、塩
化鉄エッチング液によりスプレーしてライン幅２５μ
ｍ、ライン間隔５００μｍの銅格子パターンをＰＥＴフ
ィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾
燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料１の
巻物を得た。得られた巻物にはしわ等の外観不良は観察
されなかった。この構成材料１の可視光透過率は２０％
以下であった。この構成材料１に赤外線吸収剤を含む後
述の接着剤組成物を乾燥塗布厚が約４０μｍになるよう
に連続的に塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を
有する巻き出しから巻き取りまで連続して電磁波シール
ド性接着フィルム１の巻物を得た。その後、電磁波シー
ルド性接着フィルム１をロールラミネータを使用し市販
のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、
厚み３ｍｍ）を供給して接着剤が塗布されている面が接
するようにして１１０℃、２０Ｋｇ／ｃｍの条件で加熱
圧着しディスプレイ素材を連続製造し、アクリル板とア
クリル板の継ぎ目でカットした。そして外形加工をして
ディスプレイを作製した。

【００１７】＜電磁波シールド性接着フィルム２作製例
＞厚さ２５μｍ、巻長さ４００ｍの透明ＰＥＴフィルム
上にアクリル系接着フィルム（パイララックスＬＦ−０
２００；デュポン社製、ｎ＝１．４７、厚み２０μｍ）
を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を接着させた。このア
ルミ箔付きＰＥＴフィルムに電磁波シールド性接着フィ
ルム１作製例と同様のフォトリソ工程を経て、塩酸エッ
チング液によりスプレーしてライン幅２５μｍ、ライン
間隔２５０μｍのアルミ格子パターンをＰＥＴフィルム
上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、乾燥して
巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料２の巻物を
得た。この構成材料の可視光透過率は２０％以下であっ
た。この構成材料２に赤外線吸収剤を含む後述の接着剤
を乾燥塗布厚が約３０μｍになるように連続的に塗布、
乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して電磁波シー
ルド性と透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム
２の巻物を得た。得られた巻物にはしわ等の外観不良は
観察されなかった。その後、電磁波シールド性接着フィ
ルム２を熱プレス機を使用し市販のアクリル板（コモグ
ラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）の接着剤
が塗布されている面が接するようにして１１０℃、３０
Ｋｇ／ｃｍ²、３０分の条件で加熱圧着し、外形加工を
してディスプレイを作製した。

【００１８】＜電磁波シールド性接着フィルム３作製例
＞厚さ５０μｍ、巻長さ３００ｍのＰＥＴフィルム上に
厚み２０μｍのアディテイブ接着剤（ｎ＝１．５７）を
用い厚み２μｍの無電解ニッケルめっきを形成した巻物
を得、電磁波シールド性接着フィルム１作製例と同様の
フォトリソ工程を経て、エッチング液として塩化第二銅
液によりスプレーしてライン幅１２μｍ、ライン間隔５
００μｍ、厚み２μｍのニッケル格子パターンをＰＥＴ
フィルム上に形成し、レジストフィルムを剥離、水洗、
乾燥して巻き出しから巻き取りまで連続して構成材料３
の巻物を得た。この構成材料３の可視光透過率は２０％
以下であった。この構成材料３の幾何学図形が形成され
ている面に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約７０μｍにな
るように連続的に塗布、乾燥し、さらに接着剤が塗布さ
れている面とは反対側の面に、乾燥塗布厚が３μｍにな
るように後述の赤外線遮蔽層（１）を連続的に塗布、乾
燥して電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シール
ド性接着フィルム３の巻物を得た。この電磁波シールド
性接着フィルム３の得られた巻物にはしわ等の外観不良
は観察されなかった。その後、電磁波シールド性接着フ
ィルム３をロールラミネータを使って市販のアクリル板
（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）
を連続して供給し、幾何学図形を被覆した接着剤が塗布
されている面が接するようにして１１０℃、２０ｋｇｆ
／ｃｍの条件で加熱圧着しディスプレイ素材を連続製造
し、アクリル板とアクリル板の継ぎ目でカットした。そ
して外形加工をしてディスプレイを作製した。

【００１９】 ＜接着剤組成物１＞ ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、Ｍｗ=３０ 万） １００重量部 ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 ） ２５重量部 ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート） １２．５重量部 ２−エチル−４−メチルイミダゾール ０．３重量部 ＳＩＲ−１５９（三井東圧化学株式会社製商品名；赤外線吸収剤） １．４重量部 ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ３３０重量部 シクロヘキサノン １５重量部 この接着剤組成物１の溶剤乾燥後の屈折率は１．５７で
あった。

【００２０】 ＜接着剤組成物２＞ ＹＰ−３０（東都化成株式会社製商品名；フェノキシ樹脂、Ｍｗ=6万） １００重量部 ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 ） １０重量部 ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート） ５重量部 ２−エチル−４−メチルイミダゾール ０．３重量部 ＩＲＧ−０２２（日本化薬株式会社製商品名；ジイモニウム化合物、赤外線吸収 剤） １．２重量部 ＭＥＫ ２８５重量部 シクロヘキサノン ５重量部 この接着剤組成物２の溶剤乾燥後の屈折率は１．５５で
あった。

【００２１】 ＜接着剤組成物３＞ ＨＴＲ−６００ＬＢ（帝国化学産業株式会社製商品名；ポリアクリル酸エステル 、Ｍｗ=７０万） １００重量部 コロネートＬ（日本ポリウレタン工業株式会社製商品名；3官能イソシアネート ） ４．５重量部 ジブチル錫ジラウレート ０．４重量部 トルエン ４５０重量部 酢酸エチル １０重量部 この接着剤組成物３の溶剤乾燥後の屈折率は１．４７で
あった。

【００２２】 ＜赤外線遮蔽層をなす組成物１＞ ＨＴＲ−２８０（帝国化学産業株式会社製商品名；ポリアクリル酸エステル共重 合体、Ｍｗ＝約７０万） １００重量部 ＵＦＰ−ＨＸ（住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均粒径０．１μｍ） ０．５重量部 コロネートＬ（日本ポリウレタン工業株式会社製商品名；3官能イソシアネート ） ５重量部 ジブチル錫ジラウレート ０．４重量部 トルエン ４５０重量部 酢酸エチル １０重量部 ロールコーターを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱
硬化させた。そのときの屈折率は、１．４９であった。

【００２３】＜赤外線遮蔽層をなす組成物２＞赤外線遮
蔽層をなす組成物１のＵＦＰ−ＨＸの代わりに硫化第二
銅（和光純薬株式会社製；ヘンシェルミキサーにより
０．５μｍの平均粒径に粉砕）１重量部を用いた以外は
同じにした組成物を赤外線遮蔽層をなす組成物２とし
た。得られた組成物２の屈折率は、１．５０であった。

【００２４】（実施例１）接着剤組成物１を使用して電
磁波シールド性接着フィルム１作製例の手順で得たディ
スプレイを実施例１とした。 （実施例２）接着剤組成物２を使用して電磁波シールド
性接着フィルム２作製例の手順で得たディスプレイを実
施例２とした。 （実施例３）接着剤組成物３、赤外線遮蔽層をなす組成
物１を使用し電磁波シールド性接着フィルム３の手順で
得たディスプレイを実施例３とした。 （実施例４）ライン幅を２５μｍから３５μｍとした以
外は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施
例４とした。 （実施例５）ライン幅を２５μｍから１２μｍとした以
外は全て実施例２と同様にして得たディスプレイを実施
例５とした。 （実施例６）ライン間隔を５００μｍから８００μｍに
し、赤外線遮蔽層をなす組成物１を赤外線遮蔽層をなす
組成物２とした以外は全て実施例３と同様にして得たデ
ィスプレイを実施例６とした。 （実施例７）ライン間隔を５００μｍから２５０μｍに
し、それ以外の条件は全て実施例１と同様にして得たデ
ィスプレイを実施例７とした。 （実施例８）ライン厚を２５μｍから３５μｍにした以
外は全て実施例２と同様にして得たディスプレイを実施
例８とした。 （実施例９）導電性金属として黒化処理された銅を使用
した以外は全て実施例１と同様にして得たディスプレイ
を実施例９とした。 （実施例１０）実施例１で形成した格子パターンの代わ
りに正三角形の繰り返しパターンを作製した以外の条件
は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例
１０とした。 （実施例１１）実施例１で形成した格子パターンの代わ
りに正六角形の繰り返しパターンを作製した以外の条件
は全て実施例１と同様にして得たディスプレイを実施例
１１とした。 （実施例１２）実施例１で形成した格子パターンの代わ
りに正八角形と正方形よりなるの繰り返しパターンを作
製した以外の条件は全て実施例１と同様にして得たディ
スプレイを実施例１２とした。

【００２５】（比較例１）銅箔の代わりにＩＴＯ膜を
２、０００Å全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、
パターンを形成しないで、直接接着剤組成物１を塗布し
た。その後、実施例１と同様にして得たディスプレイを
比較例１とした。 （比較例２）比較例１と同様にＩＴＯに代えて全面アル
ミ蒸着したままパターンを形成しないで、直接接着剤組
成物２を塗布した。その後比較例１と同様にして得たデ
ィスプレイを比較例２とした。 （比較例３）ライン幅を２５μｍから５０μｍにした以
外の条件は全て実施例１と同様にして得たディスプレイ
を比較例３とした。 （比較例４）ライン間隔を２５０μｍから１５０μｍに
した以外の条件は全て実施例２と同様にして得たディス
プレイを比較例４とした。 （比較例５）ライン厚を２５μｍから７０μｍにした以
外の条件は全て実施例２と同様にして得たディスプレイ
を比較例５とした。

【００２６】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムやディスプレイの赤外線遮蔽率、電磁波
シールド性、可視光透過率、非視認性、加熱処理前後の
接着特性、退色特性、巻物の外観を測定し、その結果を
表１、表２に示した。

【００２７】なお赤外線遮蔽率は、分光光度計（ Ｕ−
３４１０；株式会社日立製作所製商品名）を用いて、９
００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線吸収率の平均値を
用いた。電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（ Ｔ
ＷＣ−Ｓ−０２４；日本高周波株式会社製商品名）のフ
ランジ間に試料を挿入し、スペクトロアナライザー（８
５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー；ＹＨＰ製
商品名）を用い、周波数１ＧＨｚで測定した。可視光透
過率の測定は、ダブルビーム分光光度計（２００−１０
型；株式会社日立製作所製商品名）を用いて、４００〜
８００ｎｍの透過率の平均値を用いた。非視認性は、デ
ィスプレイを０．５ｍ離れた場所から目視して導電性金
属で形成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価
し、認識できないものを程度に応じ非常に良、良好と
し、認識できるものをＮＧとした。接着力は、引張り試
験機（テンシロンＵＴＭ−４−１００；東洋ボールドウ
ィン株式会社製商品名）を使用し、幅１０ｍｍ、９０度
方向、剥離速度５０ｍｍ／分で測定した。屈折率は、屈
折計（アッベ屈折計；株式会社アタゴ光学機械製作所製
商品名）を使用し、２５℃で測定した。

【００２８】

【表１】

【００２９】

【表２】

【００３０】比較例１、２は、導電性金属としてＩＴＯ
とＡｌを蒸着させたものであるが、ＩＴＯの場合電磁波
シールド性に劣り、Ａｌの場合可視光透過率に劣る。比
較例３は、ライン幅を本発明の開口率８０％以上で好ま
しくは４０μｍ以下にするのに対し、５０μｍと大きい
ため可視光透過率が低く、また非視認性も悪い。比較例
４は、ライン間隔を本発明の開口率８０％以上で好まし
くは２００μｍ以上にするのに対し、１５０μｍと間隔
が狭いためライン幅が大きい比較例３と同様、可視光透
過率が低く、また非視認性も悪い。比較例５は、開口率
８０％以上で好ましくはラインの厚みを本発明の４０μ
ｍ以下にするのに対し、７０μｍと厚いため非視認性が
悪い。これに対して、本発明の実施例１〜１２は、電磁
波シールド性が３０ｄＢ以上と高く良好な電磁波シール
ド性を有する。そして、可視光線透過率が６８％以上と
高く、非視認性も良好である。さらに初期接着力や８０
℃で行う接着力の促進試験１，０００ｈ後でも接着力の
低下が少なく、ウエブの外観に関しても良好である。

【００３１】

【発明の効果】本発明の請求項１、２、３で得られる電
磁波シールド性接着フィルムは実施例からも明らかなよ
うに、赤外線遮蔽性が優れており、被着体に密着して使
用できるので電磁波漏れがなくシールド機能が特に良好
である。また可視光透過率、非視認性などの光学的特性
が良好で、しかも長時間にわたって高温での接着特性に
変化が少なく良好であり、優れた接着フィルムをウエブ
状（巻物）で提供することができ、しわ等の外観不良は
無く高品質なものである。また請求項４に記載のプラス
チックフィルムをポリエチレンテレフタレートフィルム
とすることにより、透明性、耐熱性が良好な上、安価で
取り扱い性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提
供することができる。 請求項５に記載の導電性金属の
厚みが、３〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケ
ルの導電性金属を使用し、透明プラスチックフィルムへ
の接着面を粗面とすることにより、加工性に優れ、安価
な電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。 請求項６に記載の導電性金属を銅として、少なく
ともその表面を黒化処理されたものとすることにより、
退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シールド
性接着フィルムを提供することができる。 請求項７に
記載の導電性金属を常磁性金属とすることにより、磁場
シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提
供することができる。請求項８に記載の上記で得られる
電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイに用いる
と、電磁波シールド性に優れ、しかも可視光透過率が高
く、非視認性が良好で鮮明な画像を快適に鑑賞すること
ができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ (72)発明者 稲田 禎一 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】導電性金属付きプラスチックフィルムの導
   電性金属をエッチング法により、開口率が８０％以上と
   なる幾何学図形を形成する工程、該幾何学図形上に、屈
   折率が１．４５〜１．６０の範囲である接着剤組成物
   を、該幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布す
   る工程、９００〜１、１００ｎｍにおける赤外線吸収率
   が５０％以上の樹脂組成物を、前記接着剤組成物が塗布
   された面またはその反対側の面に塗布する工程を含み、
   各工程でフィルム巻き出しからフィルム巻き取りまでを
   連続的に行うことを特徴とする電磁波シールド性接着フ
   ィルムの製造方法。
2. 【請求項２】導電性金属付きプラスチックフィルムの導
   電性金属をエッチング法により、開口率が８０％以上と
   なる幾何学図形を形成する工程、該幾何学図形上に、屈
   折率が１．４５〜１．６０の範囲にあり、９００〜１、
   １００ｎｍにおける赤外線吸収率が５０％以上の樹脂組
   成物を該幾何学図形を含む基材の一部または全面に塗布
   する工程を含み、各工程でフィルム巻き出しからフィル
   ム巻き取りまでを連続的に行うことを特徴とする電磁波
   シールド性接着フィルムの製造方法。
3. 【請求項３】プラスチックフィルム上に導電性金属で形
   成された幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン
   間隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下であ
   る請求項１または請求項２に記載の電磁波シールド性接
   着フィルムの製造方法。
4. 【請求項４】プラスチックフィルムがポリエチレンテレ
   フタレートフィルムである請求項１ないし請求項３のい
   ずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方
   法。
5. 【請求項５】導電性金属が、厚み３〜４０μｍの銅、ア
   ルミニウムまたはニッケルの導電性金属で、プラスチッ
   クフィルムへの接着面が表面粗さ１μｍ以上の粗面であ
   る請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の電磁波シ
   ールド性接着フィルムの製造方法。
6. 【請求項６】導電性金属が銅であり、少なくともその表
   面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１ない
   し請求項５のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フ
   ィルムの製造方法。
7. 【請求項７】導電性金属が常磁性金属である請求項１な
   いし請求項４のいずれかに記載の電磁波シールド性接着
   フィルムの製造方法。
8. 【請求項８】請求項１ないし請求項７のいずれかに記載
   の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレ
   イ。