JPH11337702A - 電磁波シールド付き光学フィルタ - Google Patents
電磁波シールド付き光学フィルタInfo
- Publication number
- JPH11337702A JPH11337702A JP10139406A JP13940698A JPH11337702A JP H11337702 A JPH11337702 A JP H11337702A JP 10139406 A JP10139406 A JP 10139406A JP 13940698 A JP13940698 A JP 13940698A JP H11337702 A JPH11337702 A JP H11337702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antireflection
- transparent substrate
- flattening
- electromagnetic wave
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止効果が高く、強い電磁波シールド性
を備えた電磁波シールド付き光学フィルタを提供する。 【解決手段】 透明基板１及びこの透明基板の上面に設
けた金属パターン層２の上面に平坦化層３を設けて金属
パターン層と透明基板との凹凸を平坦化してから反射防
止層４を形成することにより、金属パターン層上に直接
反射防止剤を塗布した場合にできる塗りムラ、反射防止
フィルムを貼付した場合に発生する気泡を防ぐことがで
き、反射防止効果を向上させることができる。また平坦
化層４を形成するための平坦化剤に高い屈折率を有する
金属酸化物を含有させることで、屈折率の低い反射防止
層との組み合わせにより反射防止効果を向上させること
ができる。
を備えた電磁波シールド付き光学フィルタを提供する。 【解決手段】 透明基板１及びこの透明基板の上面に設
けた金属パターン層２の上面に平坦化層３を設けて金属
パターン層と透明基板との凹凸を平坦化してから反射防
止層４を形成することにより、金属パターン層上に直接
反射防止剤を塗布した場合にできる塗りムラ、反射防止
フィルムを貼付した場合に発生する気泡を防ぐことがで
き、反射防止効果を向上させることができる。また平坦
化層４を形成するための平坦化剤に高い屈折率を有する
金属酸化物を含有させることで、屈折率の低い反射防止
層との組み合わせにより反射防止効果を向上させること
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド付き
光学フィルタに関し、特に高い反射防止効果を有する電
磁波シールド付き光学フィルタに関する。
光学フィルタに関し、特に高い反射防止効果を有する電
磁波シールド付き光学フィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ＰＤＰ（プラズマディスプレ
イパネル）などから発生する電磁波の外部への漏洩を防
止するための技術が種々提案されている。一般的に広く
知られている電磁波の漏洩防止対策としては、透明基板
上に銀の蒸着膜と誘電膜を交互に重ねる、ワイヤメッシ
ュを基板に張り付ける、透明基板上に無電解めっきによ
り形成した金属層にレジストを塗布し、エッチングによ
り金属パターンを形成する、などがある。
イパネル）などから発生する電磁波の外部への漏洩を防
止するための技術が種々提案されている。一般的に広く
知られている電磁波の漏洩防止対策としては、透明基板
上に銀の蒸着膜と誘電膜を交互に重ねる、ワイヤメッシ
ュを基板に張り付ける、透明基板上に無電解めっきによ
り形成した金属層にレジストを塗布し、エッチングによ
り金属パターンを形成する、などがある。
【０００３】また、上記のような電磁波シールド部材を
設けた透明基板をＰＤＰなどの表示画面の前面に設ける
場合、ＰＤＰより放出される光の透明基板での反射量が
増加すると映像の不鮮明化などの問題が起こる。このよ
うな不具合を防止するために一般的に取られている対策
としては、屈折率の異なる光学的薄膜を透明基板上に複
数積層することにより反射防止を実現しようとするもの
である。また、この光学的薄膜の形成方法としては、透
明基板の両面に反射防止フィルムをラミネートする、反
射防止剤を塗布するなどがある。
設けた透明基板をＰＤＰなどの表示画面の前面に設ける
場合、ＰＤＰより放出される光の透明基板での反射量が
増加すると映像の不鮮明化などの問題が起こる。このよ
うな不具合を防止するために一般的に取られている対策
としては、屈折率の異なる光学的薄膜を透明基板上に複
数積層することにより反射防止を実現しようとするもの
である。また、この光学的薄膜の形成方法としては、透
明基板の両面に反射防止フィルムをラミネートする、反
射防止剤を塗布するなどがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板に
電磁波シールド性や反射防止等の複数の機能を持たせる
ために、例えば、金属パターンを形成した基板上に反射
防止剤を塗布すると、金属パターンによる基板との凹凸
により反射防止剤の塗りムラが生じる。また反射防止フ
ィルムをラミネートする場合でも、金属パターンによる
凹凸が原因で気泡が発生することになる。塗りムラや気
泡が発生すると、反射防止効果を低下させるという不具
合が生じる。
電磁波シールド性や反射防止等の複数の機能を持たせる
ために、例えば、金属パターンを形成した基板上に反射
防止剤を塗布すると、金属パターンによる基板との凹凸
により反射防止剤の塗りムラが生じる。また反射防止フ
ィルムをラミネートする場合でも、金属パターンによる
凹凸が原因で気泡が発生することになる。塗りムラや気
泡が発生すると、反射防止効果を低下させるという不具
合が生じる。
【０００５】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、反射防止効果が高く、強い電磁波シールド性を
備えた電磁波シールド付き光学フィルタを提供すること
を目的とする。
であり、反射防止効果が高く、強い電磁波シールド性を
備えた電磁波シールド付き光学フィルタを提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、透明
基板の片方の面上に設けられた電磁波を遮断するための
金属パターン層と、金属パターン層と透明基板との凹凸
を平坦化するための透明な平坦化層と、平坦化層の上面
に設けられ、平坦化層よりも屈折率の低い反射防止層と
を有することを特徴としている。
めに本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、透明
基板の片方の面上に設けられた電磁波を遮断するための
金属パターン層と、金属パターン層と透明基板との凹凸
を平坦化するための透明な平坦化層と、平坦化層の上面
に設けられ、平坦化層よりも屈折率の低い反射防止層と
を有することを特徴としている。
【０００７】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタ
は、透明基板の片方の面上に設けられた電磁波を遮断す
るためのＩＴＯ層と、ＩＴＯ層の上面に設けられた電磁
波を遮断するための金属パターン層と、金属パターン層
と透明基板との凹凸を平坦化するための透明な平坦化層
と、平坦化層の上面に設けられ、平坦化層よりも屈折率
の低い反射防止層とを有することを特徴としている。
は、透明基板の片方の面上に設けられた電磁波を遮断す
るためのＩＴＯ層と、ＩＴＯ層の上面に設けられた電磁
波を遮断するための金属パターン層と、金属パターン層
と透明基板との凹凸を平坦化するための透明な平坦化層
と、平坦化層の上面に設けられ、平坦化層よりも屈折率
の低い反射防止層とを有することを特徴としている。
【０００８】上記の平坦化層は、透明性に優れた金属酸
化物を含有し、平坦化層の屈折率が１．７以上であると
よい。
化物を含有し、平坦化層の屈折率が１．７以上であると
よい。
【０００９】上記の金属酸化物として、少なくとも酸化
チタンを含有するとよい。
チタンを含有するとよい。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に添付図面を参照して本発明の
電磁波シールド付き光学フィルタの実施の形態を詳細に
説明する。図１〜図６を参照すると本発明の電磁波シー
ルド付き光学フィルタの実施形態が示されている。な
お、図１は本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの
第１の実施形態の断面構成図、図２は本発明の電磁波シ
ールド付き光学フィルタの第２の実施形態の断面構成
図、図３は本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの
第３の実施形態の断面構成図、図４は第１の実施形態の
作成実施例の製作手順を表すフローチャート、図５は第
２の実施形態の作成実施例の製作手順を表すフローチャ
ート、図６は第３の実施形態の作成実施例の製作手順を
表すフローチャートである。
電磁波シールド付き光学フィルタの実施の形態を詳細に
説明する。図１〜図６を参照すると本発明の電磁波シー
ルド付き光学フィルタの実施形態が示されている。な
お、図１は本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの
第１の実施形態の断面構成図、図２は本発明の電磁波シ
ールド付き光学フィルタの第２の実施形態の断面構成
図、図３は本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの
第３の実施形態の断面構成図、図４は第１の実施形態の
作成実施例の製作手順を表すフローチャート、図５は第
２の実施形態の作成実施例の製作手順を表すフローチャ
ート、図６は第３の実施形態の作成実施例の製作手順を
表すフローチャートである。
【００１１】まず、図１を用いて本発明の電磁波シール
ド付き光学フィルタの第１の実施形態の構成を説明す
る。図１に示された第１の実施形態は、透明基板１と、
透明基板の片方の面上に設けられた金属パターン層２
と、透明基板及び金属パターン層上に設けられた平坦化
層３と、平坦化層３の上面及び透明基板のもう片方の面
に設けられた反射防止層４とにより構成されている。
ド付き光学フィルタの第１の実施形態の構成を説明す
る。図１に示された第１の実施形態は、透明基板１と、
透明基板の片方の面上に設けられた金属パターン層２
と、透明基板及び金属パターン層上に設けられた平坦化
層３と、平坦化層３の上面及び透明基板のもう片方の面
に設けられた反射防止層４とにより構成されている。
【００１２】透明基板１上に設けられた金属パターン層
は、例えばＰＤＰなどの電磁波を発生する表示画面の前
面に設けた場合に、電磁波の外部への漏洩を防止する役
割を持っている。本実施形態では電磁波のシールド性を
向上させるために銅または銀などの良導体の金属により
この金属パターン層を形成している。
は、例えばＰＤＰなどの電磁波を発生する表示画面の前
面に設けた場合に、電磁波の外部への漏洩を防止する役
割を持っている。本実施形態では電磁波のシールド性を
向上させるために銅または銀などの良導体の金属により
この金属パターン層を形成している。
【００１３】平坦化層は、透明基板上に設けた金属パタ
ーン層による凹凸を平坦化するために設けられた透明な
層である。上記の金属パターン層の厚みは５μｍ〜１５
μｍあり、この金属パターン層による透明基板との凹凸
により金属パターン層の上面に例えば反射防止剤を直接
塗布すると、塗りムラが発生しやすくなる。また、反射
防止フィルムを直接ラミネートする場合でも気泡が発生
しやすくなる。塗りムラや気泡ができると、反射防止効
果の低下を招くことになる。平坦化層は金属パターン層
と基板との凹凸を平坦化し、これらの不具合を防止する
ために設けられている。また、平坦化層には金属酸化物
を含有させている。この金属酸化物は平坦化層の透明性
を低下させないため、透明性に優れ、高い屈折率を有す
るものであるとよい。高い屈折率を必要とするのは、平
坦化層の上面に設ける低い屈折率の反射防止層との組み
合わせにより、より高い反射防止効果を得るためであ
る。なお、この平坦化層の屈折率は１．７以上であると
よい。また、このような条件を満たす金属酸化物の例と
して、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛などがある。
ーン層による凹凸を平坦化するために設けられた透明な
層である。上記の金属パターン層の厚みは５μｍ〜１５
μｍあり、この金属パターン層による透明基板との凹凸
により金属パターン層の上面に例えば反射防止剤を直接
塗布すると、塗りムラが発生しやすくなる。また、反射
防止フィルムを直接ラミネートする場合でも気泡が発生
しやすくなる。塗りムラや気泡ができると、反射防止効
果の低下を招くことになる。平坦化層は金属パターン層
と基板との凹凸を平坦化し、これらの不具合を防止する
ために設けられている。また、平坦化層には金属酸化物
を含有させている。この金属酸化物は平坦化層の透明性
を低下させないため、透明性に優れ、高い屈折率を有す
るものであるとよい。高い屈折率を必要とするのは、平
坦化層の上面に設ける低い屈折率の反射防止層との組み
合わせにより、より高い反射防止効果を得るためであ
る。なお、この平坦化層の屈折率は１．７以上であると
よい。また、このような条件を満たす金属酸化物の例と
して、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛などがある。
【００１４】反射防止層４は、例えばＰＤＰの前面に光
学フィルタを設けた場合に、ＰＤＰより放出される光の
反射率を低下させるために設けられている。この反射防
止層の屈折率は平坦化層より低いものとし、平坦化層と
反射防止層とを積層することにより高い反射防止効果を
得ることができる。また、上述した平坦化層により金属
パターン層と基板との凹凸を平坦化しているので、反射
防止剤を塗布する、または反射防止フィルムを貼付する
などの従来通りの形成方法を用いても塗りムラができ
る、気泡が発生する、などの不具合を生じることがな
い。これにより反射防止層の厚さを薄く形成することが
できる。反射防止層の厚さを薄くすると光の透過率を向
上させることができる。なお、透明基板の金属パターン
が形成されていない面に形成される反射防止層は、画面
のぎらつき防止効果を有するアンチグレア層であっても
よい。
学フィルタを設けた場合に、ＰＤＰより放出される光の
反射率を低下させるために設けられている。この反射防
止層の屈折率は平坦化層より低いものとし、平坦化層と
反射防止層とを積層することにより高い反射防止効果を
得ることができる。また、上述した平坦化層により金属
パターン層と基板との凹凸を平坦化しているので、反射
防止剤を塗布する、または反射防止フィルムを貼付する
などの従来通りの形成方法を用いても塗りムラができ
る、気泡が発生する、などの不具合を生じることがな
い。これにより反射防止層の厚さを薄く形成することが
できる。反射防止層の厚さを薄くすると光の透過率を向
上させることができる。なお、透明基板の金属パターン
が形成されていない面に形成される反射防止層は、画面
のぎらつき防止効果を有するアンチグレア層であっても
よい。
【００１５】次に上記構成の第１の実施形態の作成実施
例を図４に示されたフローチャートを参照して製造手順
を追いながら説明する。まず、ステップＳ１にて透明基
板上に銅のめっき層を無電解めっきにより形成する。次
にステップＳ２にて、この銅のめっき層上にレジストを
塗布してエッチングにより所定のパターンに成形する。
次にステップＳ３にて、平坦化剤を塗布する。酸化チタ
ンを含有した平坦化剤には、無機バインダ中に酸化チタ
ンを含有させたものや、透明樹脂中に酸化チタンを含有
させたものがあるが、ここでは平坦化剤として、無機バ
インダ中に酸化チタンを分散させた、コルコート株式会
社製、商品名ＳＴ−Ｋ０１、またはＳＴ−Ｋ０３を用い
た。なお、このＳＴ−Ｋ０１、ＳＴ−Ｋ０３の屈折率は
共に１．７８である。このＳＴ−Ｋ０１、またはＳＴ−
Ｋ０３を塗布し、乾燥させて硬化させる。次にステップ
Ｓ４にて、塗布した平坦化剤の上面に反射防止剤を塗布
する。ここでは、反射防止剤として、旭硝子株式会社
製、商品名サイトップを用いた。このサイトップの屈折
率は、１．３４である。平坦化層により金属パターン層
の透明基板との凹凸を平坦化しているので、反射防止剤
を塗布しても、塗りムラが発生することがない。また、
屈折率１．７８の平坦化層と、屈折率１．３４の反射防
止層とを積層させることで、高い反射防止効果を得るこ
とができる。そして、ステップＳ５にて、透明基板の下
面にもこの反射防止剤を塗布することにより図１に示さ
れた第１の実施形態の電磁波シールド付き光学フィルタ
が完成する。
例を図４に示されたフローチャートを参照して製造手順
を追いながら説明する。まず、ステップＳ１にて透明基
板上に銅のめっき層を無電解めっきにより形成する。次
にステップＳ２にて、この銅のめっき層上にレジストを
塗布してエッチングにより所定のパターンに成形する。
次にステップＳ３にて、平坦化剤を塗布する。酸化チタ
ンを含有した平坦化剤には、無機バインダ中に酸化チタ
ンを含有させたものや、透明樹脂中に酸化チタンを含有
させたものがあるが、ここでは平坦化剤として、無機バ
インダ中に酸化チタンを分散させた、コルコート株式会
社製、商品名ＳＴ−Ｋ０１、またはＳＴ−Ｋ０３を用い
た。なお、このＳＴ−Ｋ０１、ＳＴ−Ｋ０３の屈折率は
共に１．７８である。このＳＴ−Ｋ０１、またはＳＴ−
Ｋ０３を塗布し、乾燥させて硬化させる。次にステップ
Ｓ４にて、塗布した平坦化剤の上面に反射防止剤を塗布
する。ここでは、反射防止剤として、旭硝子株式会社
製、商品名サイトップを用いた。このサイトップの屈折
率は、１．３４である。平坦化層により金属パターン層
の透明基板との凹凸を平坦化しているので、反射防止剤
を塗布しても、塗りムラが発生することがない。また、
屈折率１．７８の平坦化層と、屈折率１．３４の反射防
止層とを積層させることで、高い反射防止効果を得るこ
とができる。そして、ステップＳ５にて、透明基板の下
面にもこの反射防止剤を塗布することにより図１に示さ
れた第１の実施形態の電磁波シールド付き光学フィルタ
が完成する。
【００１６】次に図２に示された本発明の電磁波シール
ド付き光学フィルタの第２の実施形態の構成について説
明する。図２に示された第２の実施形態は、近赤外線吸
収剤を含有した透明基板１と、透明基板の上面に設けら
れた接着層５と、接着層の上面に設けられたＰＥＴフィ
ルム６と、ＰＥＴフィルム上に形成された金属パターン
層２と、金属パターン層の金属表面に施された黒色層７
と、黒色層及びＰＥＴフィルム上に設けられた平坦化層
３と、平坦化層３の上面及び透明基板の下面に設けられ
た反射防止層４とにより構成されている。
ド付き光学フィルタの第２の実施形態の構成について説
明する。図２に示された第２の実施形態は、近赤外線吸
収剤を含有した透明基板１と、透明基板の上面に設けら
れた接着層５と、接着層の上面に設けられたＰＥＴフィ
ルム６と、ＰＥＴフィルム上に形成された金属パターン
層２と、金属パターン層の金属表面に施された黒色層７
と、黒色層及びＰＥＴフィルム上に設けられた平坦化層
３と、平坦化層３の上面及び透明基板の下面に設けられ
た反射防止層４とにより構成されている。
【００１７】第２の実施形態の透明基板には近赤外線吸
収剤が含有されている。近赤外線吸収剤を含有させるこ
とで、ＰＤＰなどにより放出される近赤外線を吸収する
ことができる。また、透明基板１上に設けられた接着層
は、透明基板にＰＥＴフィルム６を接着するための接着
剤の層である。この接着層に用いられる接着剤は、光学
フィルタの透明性を低下させないために透明性に優れた
ものを用いる。また、接着層により透明基板上に接着さ
れたＰＥＴフィルムには金属層が設けられている。この
金属層上にレジストを塗布してエッチングによりパター
ン化することにより、金属パターン層２が形成される。
さらに、この金属パターン層の表面には、黒色層が設け
られている。この黒色層は、例えば光学フィルタを表示
画面の前面に設けた場合に、表示画面からの光が金属パ
ターン層の表面で反射して画面の視認性を低下させると
いう不具合を防止するために設けられている。なお、上
述した第１の実施形態と同一構成の箇所についての説明
は省略する。
収剤が含有されている。近赤外線吸収剤を含有させるこ
とで、ＰＤＰなどにより放出される近赤外線を吸収する
ことができる。また、透明基板１上に設けられた接着層
は、透明基板にＰＥＴフィルム６を接着するための接着
剤の層である。この接着層に用いられる接着剤は、光学
フィルタの透明性を低下させないために透明性に優れた
ものを用いる。また、接着層により透明基板上に接着さ
れたＰＥＴフィルムには金属層が設けられている。この
金属層上にレジストを塗布してエッチングによりパター
ン化することにより、金属パターン層２が形成される。
さらに、この金属パターン層の表面には、黒色層が設け
られている。この黒色層は、例えば光学フィルタを表示
画面の前面に設けた場合に、表示画面からの光が金属パ
ターン層の表面で反射して画面の視認性を低下させると
いう不具合を防止するために設けられている。なお、上
述した第１の実施形態と同一構成の箇所についての説明
は省略する。
【００１８】次に上記構成の第２の実施形態の作成実施
例を図５に示されたフローチャートを参照して製造手順
を追いながら説明する。ステップＳ１１にて、近赤外線
吸収剤を含有した透明基板上に接着剤を塗布し、ステッ
プＳ１２にて、銅のめっき層が設けられたＰＥＴフィル
ムを貼付する。そして、ステップＳ１３にて、ＰＥＴフ
ィルム上の銅のめっき層にレジストを塗布し、エッチン
グにより銅のめっき層をパターン化して銅のパターン層
を形成する。次にステップＳ１４にて、パターン化され
た銅の表面に黒化処理を施して黒色層を形成する。次に
ステップＳ１５にて、平坦化剤を黒色層及びＰＥＴフィ
ルム上に塗布する。ここで用いる平坦化剤は、第１の実
施形態と同様にコルコート株式会社製、商品名ＳＴ−Ｋ
０１、またはＳＴ−Ｋ０３である。次にステップＳ１６
にて、塗布した平坦化剤の上面に反射防止剤を塗布す
る。この反射防止剤も第１の実施形態と同様に旭硝子株
式会社製、商品名サイトップを用いた。平坦化層により
金属パターン層の透明基板との凹凸を平坦化しているの
で、反射防止剤を塗布しても、塗りムラが発生すること
がない。また、屈折率１．７８の平坦化層と、屈折率
１．３４の反射防止層とを積層させることで、高い反射
防止効果を得ることができる。そして、ステップＳ１７
にて、透明基板の下面にもこの反射防止剤を塗布するこ
とにより図２に示された第２の実施形態の電磁波シール
ド付き光学フィルタが完成する。
例を図５に示されたフローチャートを参照して製造手順
を追いながら説明する。ステップＳ１１にて、近赤外線
吸収剤を含有した透明基板上に接着剤を塗布し、ステッ
プＳ１２にて、銅のめっき層が設けられたＰＥＴフィル
ムを貼付する。そして、ステップＳ１３にて、ＰＥＴフ
ィルム上の銅のめっき層にレジストを塗布し、エッチン
グにより銅のめっき層をパターン化して銅のパターン層
を形成する。次にステップＳ１４にて、パターン化され
た銅の表面に黒化処理を施して黒色層を形成する。次に
ステップＳ１５にて、平坦化剤を黒色層及びＰＥＴフィ
ルム上に塗布する。ここで用いる平坦化剤は、第１の実
施形態と同様にコルコート株式会社製、商品名ＳＴ−Ｋ
０１、またはＳＴ−Ｋ０３である。次にステップＳ１６
にて、塗布した平坦化剤の上面に反射防止剤を塗布す
る。この反射防止剤も第１の実施形態と同様に旭硝子株
式会社製、商品名サイトップを用いた。平坦化層により
金属パターン層の透明基板との凹凸を平坦化しているの
で、反射防止剤を塗布しても、塗りムラが発生すること
がない。また、屈折率１．７８の平坦化層と、屈折率
１．３４の反射防止層とを積層させることで、高い反射
防止効果を得ることができる。そして、ステップＳ１７
にて、透明基板の下面にもこの反射防止剤を塗布するこ
とにより図２に示された第２の実施形態の電磁波シール
ド付き光学フィルタが完成する。
【００１９】次に本発明の電磁波シールド付き光学フィ
ルタの第３の実施形態の構成を説明する。図３に示され
た第３の実施形態は、近赤外線吸収剤を含有した透明基
板１と、透明基板の片面上に設けられたＩＴＯ層８と、
ＩＴＯ層の上面に設けられた金属パターン層２と、金属
パターン層の表面に設けられた黒色層７と、黒色層及び
ＩＴＯ層の上面に設けられた平坦化層と、平坦化層の上
面及び透明基板の下面とに設けられた反射防止層とによ
り構成される。
ルタの第３の実施形態の構成を説明する。図３に示され
た第３の実施形態は、近赤外線吸収剤を含有した透明基
板１と、透明基板の片面上に設けられたＩＴＯ層８と、
ＩＴＯ層の上面に設けられた金属パターン層２と、金属
パターン層の表面に設けられた黒色層７と、黒色層及び
ＩＴＯ層の上面に設けられた平坦化層と、平坦化層の上
面及び透明基板の下面とに設けられた反射防止層とによ
り構成される。
【００２０】透明基板上に設けられたＩＴＯ層は、電磁
波の外部への漏洩を防止するために設けられた酸化イン
ジウム（In2O3)と二酸化錫（SnO2) の固溶体からなる層
である。このＩＴＯ層を設けることにより、電磁波シー
ルド部材として金属パターン層を設けただけの構成より
も、より強力な電磁波シールド性を光学フィルタに付加
することができる。また、ＩＴＯ層の屈折率は１．８か
ら１．９と大きいので、上から反射防止層、平坦化層、
ＩＴＯ層と積層することで、高い反射防止効果が得られ
る。なお、上記の第１及び第２の実施形態と同一の構成
である箇所の説明は省略する。
波の外部への漏洩を防止するために設けられた酸化イン
ジウム（In2O3)と二酸化錫（SnO2) の固溶体からなる層
である。このＩＴＯ層を設けることにより、電磁波シー
ルド部材として金属パターン層を設けただけの構成より
も、より強力な電磁波シールド性を光学フィルタに付加
することができる。また、ＩＴＯ層の屈折率は１．８か
ら１．９と大きいので、上から反射防止層、平坦化層、
ＩＴＯ層と積層することで、高い反射防止効果が得られ
る。なお、上記の第１及び第２の実施形態と同一の構成
である箇所の説明は省略する。
【００２１】次に上記構成の第３の実施形態の作成実施
例を図６に示されたフローチャートを参照して製造手順
を追いながら説明する。まず、ステップＳ２１にて、近
赤外線吸収剤を含有した透明基板上にスパッタ法により
ＩＴＯ層を形成する。次にステップＳ２２にて、ＩＴＯ
層の上面に銅のめっき層を無電解めっきにより形成す
る。そして、ステップＳ２３にて、銅のめっき層上にレ
ジストを塗布し、エッチングにより銅のめっき層をパタ
ーン化する。ステップＳ２４にて、パターン化された銅
の表面に黒化処理を施し、黒色層を形成する。ステップ
Ｓ２５にて、平坦化剤を黒色層及びＩＴＯ層の上面に塗
布する。ここで用いる平坦化剤は、第１及び第２の実施
形態と同様にコルコート株式会社製、商品名ＳＴ−Ｋ０
１、またはＳＴ−Ｋ０３である。次にステップＳ２６に
て、塗布した平坦化剤の上面に反射防止剤を塗布する。
この反射防止剤も第１及び第２の実施形態と同様に旭硝
子株式会社製、商品名サイトップを用いた。平坦化層に
より金属パターン層の透明基板との凹凸を平坦化してい
るので、反射防止剤を塗布しても、塗りムラが発生する
ことがない。また、上から屈折率１．３４の反射防止層
と、屈折率１．７８の平坦化層と、屈折率１．９のＩＴ
Ｏ層を積層させることで、高い反射防止効果を得ること
ができる。そして、ステップＳ２７にて、透明基板の下
面にもこの反射防止剤を塗布することにより図３に示さ
れた第３の実施形態の電磁波シールド付き光学フィルタ
が完成する。
例を図６に示されたフローチャートを参照して製造手順
を追いながら説明する。まず、ステップＳ２１にて、近
赤外線吸収剤を含有した透明基板上にスパッタ法により
ＩＴＯ層を形成する。次にステップＳ２２にて、ＩＴＯ
層の上面に銅のめっき層を無電解めっきにより形成す
る。そして、ステップＳ２３にて、銅のめっき層上にレ
ジストを塗布し、エッチングにより銅のめっき層をパタ
ーン化する。ステップＳ２４にて、パターン化された銅
の表面に黒化処理を施し、黒色層を形成する。ステップ
Ｓ２５にて、平坦化剤を黒色層及びＩＴＯ層の上面に塗
布する。ここで用いる平坦化剤は、第１及び第２の実施
形態と同様にコルコート株式会社製、商品名ＳＴ−Ｋ０
１、またはＳＴ−Ｋ０３である。次にステップＳ２６に
て、塗布した平坦化剤の上面に反射防止剤を塗布する。
この反射防止剤も第１及び第２の実施形態と同様に旭硝
子株式会社製、商品名サイトップを用いた。平坦化層に
より金属パターン層の透明基板との凹凸を平坦化してい
るので、反射防止剤を塗布しても、塗りムラが発生する
ことがない。また、上から屈折率１．３４の反射防止層
と、屈折率１．７８の平坦化層と、屈折率１．９のＩＴ
Ｏ層を積層させることで、高い反射防止効果を得ること
ができる。そして、ステップＳ２７にて、透明基板の下
面にもこの反射防止剤を塗布することにより図３に示さ
れた第３の実施形態の電磁波シールド付き光学フィルタ
が完成する。
【００２２】上述の３つの実施形態は、透明基板上に設
けた金属パターンによる凹凸を平坦化層を設けて平坦化
することで、平坦化層の上面に設ける反射防止層の形成
方法が反射防止剤を塗布する方法であった場合、塗りム
ラが発生することがない。また反射防止フィルムをラミ
ネートする方法であった場合、気泡が発生するという不
具合を防止することができる。また、反射防止層を反射
防止フィルムをラミネートする、反射防止剤を塗布す
る、などの方法で反射防止効果を低下させることなく形
成することができるので、蒸着などの方法により反射防
止層を形成した場合と比較して、低コストで生成するこ
とができる。また、この平坦化層を屈折率の高い酸化チ
タンを含有した塗布液を塗布することで形成したことに
より、上面に設けた屈折率の低い反射防止層との組み合
わせで反射防止効果を向上させることができる。この酸
化チタンを含有した塗布液は乾くと透明性が高くなるの
で、平坦化層を設けたことによる光学フィルタの透明性
を低下させることがない。また、帯電防止効果も有して
いる。
けた金属パターンによる凹凸を平坦化層を設けて平坦化
することで、平坦化層の上面に設ける反射防止層の形成
方法が反射防止剤を塗布する方法であった場合、塗りム
ラが発生することがない。また反射防止フィルムをラミ
ネートする方法であった場合、気泡が発生するという不
具合を防止することができる。また、反射防止層を反射
防止フィルムをラミネートする、反射防止剤を塗布す
る、などの方法で反射防止効果を低下させることなく形
成することができるので、蒸着などの方法により反射防
止層を形成した場合と比較して、低コストで生成するこ
とができる。また、この平坦化層を屈折率の高い酸化チ
タンを含有した塗布液を塗布することで形成したことに
より、上面に設けた屈折率の低い反射防止層との組み合
わせで反射防止効果を向上させることができる。この酸
化チタンを含有した塗布液は乾くと透明性が高くなるの
で、平坦化層を設けたことによる光学フィルタの透明性
を低下させることがない。また、帯電防止効果も有して
いる。
【００２３】また、上記の実施形態をＰＤＰの前面に設
けた場合、ＰＤＰより発生する電磁波の外部への漏洩を
第１及び第２の実施形態では金属パターン層で、第３の
実施形態ではＩＴＯ層及び金属パターン層の２つの電磁
波シールド部材で強力に遮断することができる。また、
第２及び第３の実施形態では、ＰＤＰより放出される近
赤外線を近赤外線吸収剤により吸収して近赤外線の外部
への放出を防ぐことができる。また、第２及び第３の実
施形態は、金属パターン層の表面に形成された黒色層に
より、金属表面の金属光沢による画面の視認性の低下を
防止することができる。また、第１及び第２の実施形態
では、反射防止層と平坦化層とを積層することで、ま
た、第３の実施形態では、反射防止層と平坦化層とＩＴ
Ｏ層とを積層することにより、ＰＤＰより放出される光
及び入射する外光の反射率を低下させて、画面の視認性
を向上させることができる。
けた場合、ＰＤＰより発生する電磁波の外部への漏洩を
第１及び第２の実施形態では金属パターン層で、第３の
実施形態ではＩＴＯ層及び金属パターン層の２つの電磁
波シールド部材で強力に遮断することができる。また、
第２及び第３の実施形態では、ＰＤＰより放出される近
赤外線を近赤外線吸収剤により吸収して近赤外線の外部
への放出を防ぐことができる。また、第２及び第３の実
施形態は、金属パターン層の表面に形成された黒色層に
より、金属表面の金属光沢による画面の視認性の低下を
防止することができる。また、第１及び第２の実施形態
では、反射防止層と平坦化層とを積層することで、ま
た、第３の実施形態では、反射防止層と平坦化層とＩＴ
Ｏ層とを積層することにより、ＰＤＰより放出される光
及び入射する外光の反射率を低下させて、画面の視認性
を向上させることができる。
【００２４】なお、上述の実施形態は本発明の好適な実
施の例である。但し、これに限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施
が可能である。
施の例である。但し、これに限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施
が可能である。
【００２５】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように請求項１
記載の発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、金属
パターン層の透明基板との凹凸を平坦化層を設けて平坦
化し、平坦化層の上面に反射防止層を形成することによ
り、金属パターン層上に直接反射防止フィルムをラミネ
ートした場合に発生する気泡、金属パターン層上に直接
反射防止剤を塗布した場合にできる塗りムラを防止する
ことができる。また、平坦化層を透明とすることによ
り、平坦化層を設けることによる光学フィルタの透明性
の低下を防止することができる。
記載の発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、金属
パターン層の透明基板との凹凸を平坦化層を設けて平坦
化し、平坦化層の上面に反射防止層を形成することによ
り、金属パターン層上に直接反射防止フィルムをラミネ
ートした場合に発生する気泡、金属パターン層上に直接
反射防止剤を塗布した場合にできる塗りムラを防止する
ことができる。また、平坦化層を透明とすることによ
り、平坦化層を設けることによる光学フィルタの透明性
の低下を防止することができる。
【００２６】請求項２記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタは、請求項１記載の発明による効果に加え
て、透明基板上に屈折率の大きいＩＴＯ層を設けてから
金属パターン層を設けることにより、反射防止効果を高
め、電磁波のシールド性をさらに強めることができる。
光学フィルタは、請求項１記載の発明による効果に加え
て、透明基板上に屈折率の大きいＩＴＯ層を設けてから
金属パターン層を設けることにより、反射防止効果を高
め、電磁波のシールド性をさらに強めることができる。
【００２７】請求項３記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタは、平坦化層に透明性に優れた金属酸化物
を含有し、平坦化層の屈折率が１．７以上であることに
より、屈折率の低い反射防止層との組み合わせでより高
い反射防止効果を得ることができる。
光学フィルタは、平坦化層に透明性に優れた金属酸化物
を含有し、平坦化層の屈折率が１．７以上であることに
より、屈折率の低い反射防止層との組み合わせでより高
い反射防止効果を得ることができる。
【００２８】請求項４記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタは、平坦化層に含まれる金属酸化物とし
て、少なくとも酸化チタンを含有していることにより、
透明性を低下させずに屈折率の低い反射防止層との組み
合わせでより高い反射防止効果を得ることができる。ま
た、帯電防止効果も得ることができる。
光学フィルタは、平坦化層に含まれる金属酸化物とし
て、少なくとも酸化チタンを含有していることにより、
透明性を低下させずに屈折率の低い反射防止層との組み
合わせでより高い反射防止効果を得ることができる。ま
た、帯電防止効果も得ることができる。
【図１】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの第
１の実施形態の構成を表す断面図である。
１の実施形態の構成を表す断面図である。
【図２】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの第
２の実施形態の構成を表す断面図である。
２の実施形態の構成を表す断面図である。
【図３】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの第
３の実施形態の構成を表す断面図である。
３の実施形態の構成を表す断面図である。
【図４】第１の実施形態の作成実施例の製造手順を表す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図５】第２の実施形態の作成実施例の製造手順を表す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図６】第３の実施形態の作成実施例の製造手順を表す
フローチャートである。
フローチャートである。
１ 透明基板 ２ 金属パターン層 ３ 平坦化層 ４ 反射防止層 ５ 接着層 ６ ＰＥＴフィルム ７ 黒色層 ８ ＩＴＯ層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
Claims (4)
- 【請求項１】 透明基板の片方の面上に設けられた電磁
波を遮断するための金属パターン層と、 前記金属パターン層と前記透明基板との凹凸を平坦化す
るための透明な平坦化層と、 前記平坦化層の上面に設けられ、前記平坦化層よりも屈
折率の低い反射防止層とを有することを特徴とする電磁
波シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項２】 透明基板の片方の面上に設けられた電磁
波を遮断するためのＩＴＯ層と、 前記ＩＴＯ層の上面に設けられた電磁波を遮断するため
の金属パターン層と、 前記金属パターン層と前記透明基板との凹凸を平坦化す
るための透明な平坦化層と、 前記平坦化層の上面に設けられ、前記平坦化層よりも屈
折率の低い反射防止層とを有することを特徴とする電磁
波シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項３】 前記平坦化層は、透明性に優れた金属酸
化物を含有し、該平坦化層の屈折率が１．７以上である
ことを特徴とする請求項１または２記載の電磁波シール
ド付き光学フィルタ。 - 【請求項４】 前記金属酸化物として、少なくとも酸化
チタンを含有することを特徴とする請求項１から３の何
れかに記載の電磁波シールド付き光学フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10139406A JPH11337702A (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | 電磁波シールド付き光学フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10139406A JPH11337702A (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | 電磁波シールド付き光学フィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11337702A true JPH11337702A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15244522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10139406A Pending JPH11337702A (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | 電磁波シールド付き光学フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11337702A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004093513A1 (ja) * | 2003-04-18 | 2004-10-28 | Dai Nippon Printing Co. Ltd. | 電磁波遮蔽用シート、ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 |
| JP2006145587A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 |
| JP2006210572A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽部材 |
| JP2008209486A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Dainippon Printing Co Ltd | ディスプレイ用複合フィルタ |
| JP2008249880A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Dainippon Printing Co Ltd | ディスプレイ用複合フィルタ |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62215202A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-21 | Toray Ind Inc | 電磁波シ−ルド性を有する光透過板 |
| JPS62199999U (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-19 | ||
| JPS63139302A (ja) * | 1986-04-22 | 1988-06-11 | Seiko Epson Corp | 反射防止膜を有する光学成形物品 |
| JPS63173395A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | 三菱化学株式会社 | 透明電磁波シ−ルド材 |
| JPH0294210A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-05 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電性基板の製造方法及び透明導電性基板 |
| JPH05283889A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-29 | Nissha Printing Co Ltd | 透光性電磁波シールド材料 |
| JPH07120319A (ja) * | 1993-10-22 | 1995-05-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電波シールド性を有する赤外線透過構造体 |
| JPH09230134A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | プラズマディスプレー用フィルター |
| JPH09247581A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Fujitsu General Ltd | 電磁波漏洩防止フィルタ |
| JPH09247584A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Fujitsu General Ltd | 電磁波漏洩防止フィルタ |
| JPH1041682A (ja) * | 1996-05-23 | 1998-02-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体 |
| JPH1075087A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-03-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体 |
-
1998
- 1998-05-21 JP JP10139406A patent/JPH11337702A/ja active Pending
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62215202A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-21 | Toray Ind Inc | 電磁波シ−ルド性を有する光透過板 |
| JPS63139302A (ja) * | 1986-04-22 | 1988-06-11 | Seiko Epson Corp | 反射防止膜を有する光学成形物品 |
| JPS62199999U (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-19 | ||
| JPS63173395A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | 三菱化学株式会社 | 透明電磁波シ−ルド材 |
| JPH0294210A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-05 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電性基板の製造方法及び透明導電性基板 |
| JPH05283889A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-29 | Nissha Printing Co Ltd | 透光性電磁波シールド材料 |
| JPH07120319A (ja) * | 1993-10-22 | 1995-05-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電波シールド性を有する赤外線透過構造体 |
| JPH09230134A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | プラズマディスプレー用フィルター |
| JPH09247581A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Fujitsu General Ltd | 電磁波漏洩防止フィルタ |
| JPH09247584A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Fujitsu General Ltd | 電磁波漏洩防止フィルタ |
| JPH1041682A (ja) * | 1996-05-23 | 1998-02-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体 |
| JPH1075087A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-03-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004093513A1 (ja) * | 2003-04-18 | 2004-10-28 | Dai Nippon Printing Co. Ltd. | 電磁波遮蔽用シート、ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 |
| US7754981B2 (en) | 2003-04-18 | 2010-07-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electromagnetic shielding sheet, front sheet for display and electromagnetic shielding sheet manufacturing method |
| KR101121880B1 (ko) | 2003-04-18 | 2012-03-19 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 전자파차폐용 시트, 디스플레이용 전면판, 및 전자파차폐용시트의 제조방법 |
| JP2006145587A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 |
| JP4622472B2 (ja) * | 2004-11-16 | 2011-02-02 | コニカミノルタオプト株式会社 | 防眩性反射防止フィルム、防眩性反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 |
| JP2006210572A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽部材 |
| JP2008209486A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Dainippon Printing Co Ltd | ディスプレイ用複合フィルタ |
| JP2008249880A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Dainippon Printing Co Ltd | ディスプレイ用複合フィルタ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11269210B2 (en) | Optical assembly and display apparatus | |
| KR100941844B1 (ko) | 필름 필터 및 이를 구비하는 평판 표시장치 | |
| US11926558B2 (en) | Conductive structure, manufacturing method therefor, and electrode comprising conductive structure | |
| US20100259827A1 (en) | Display apparatus | |
| JPH11337702A (ja) | 電磁波シールド付き光学フィルタ | |
| JP3713774B2 (ja) | 透明電磁波シールド基板 | |
| JPH11340681A (ja) | 電磁波シールド部材とその製造方法、及び表示装置 | |
| KR20100067817A (ko) | 광학 필터 및 그 제조 방법 | |
| US20060103309A1 (en) | Filter for a display device and flat panel display | |
| JP2000277977A (ja) | 電磁波シールド部材とその製造方法、及び表示装置 | |
| KR101030859B1 (ko) | 디스플레이 필터 및 그 제조 방법 | |
| JPH11344933A (ja) | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 | |
| JP3877356B2 (ja) | ディスプレイ用光学フィルター | |
| KR101079195B1 (ko) | 하이브리드 ｅｍｉ 히터 필터 및 이의 제조방법 | |
| CN214670526U (zh) | 一种抗uv触控显示屏 | |
| KR101560079B1 (ko) | 터치 패널 장치 및 그 전극 구조 | |
| JPS6027624A (ja) | 電磁遮蔽ウインドガラス | |
| KR100840688B1 (ko) | 피디피 필터의 다층박막 구조 | |
| KR20040074298A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터 | |
| JPH1073719A (ja) | ディスプレイ用光学フィルター | |
| JPH1073720A (ja) | ディスプレイ用光学フィルター | |
| JP2001353802A (ja) | 透明積層体とプラズマデイスプレイパネル用フイルタ | |
| JPH1073721A (ja) | ディスプレイ用光学フィルター | |
| JP2002299882A (ja) | 電磁波シールド材およびその製造方法 | |
| JPH1177873A (ja) | 反射防止積層体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050323 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080227 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080401 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080529 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081030 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090217 |