JPH1073720A

JPH1073720A - ディスプレイ用光学フィルター

Info

Publication number: JPH1073720A
Application number: JP8230121A
Authority: JP
Inventors: Shin Fukuda; 福田　　伸; Tomoyuki Okamura; 友之岡村; Masaaki Kikkai; 正彰吉開; Masato Koyama; 正人小山
Original assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Current assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date: 1996-08-30
Filing date: 1996-08-30
Publication date: 1998-03-17

Abstract

(57)【要約】【解決手段】透明基体（Ａ）２０の一方の主面上に、
透明高分子フィルム（Ｃ）の一方の主面上に、高屈折率
透明薄膜層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、（Ｄ）／
（Ｅ）を繰り返し単位として４回以上繰り返し積層さ
れ、さらにその上に高屈折率透明薄膜層（Ｄ）、透明樹
脂層（Ｆ）が形成されてなる調光フィルム（Ｂ）１０が
貼り合わされたディスプレー用フィルターであって、該
調光フィルム（Ｂ）１０がトリアジンアミン系化合物、
メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピ
オン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン
酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物で
端面を処理９０されていることを特徴とするディスプレ
イ用光学フィルター。【効果】プラズマディスプレイの発する強度の近赤外
線のカット性を有する、耐環境性に優れたディスプレイ
用光学フィルターを提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用光
学フィルターに関し、さらに詳しくはプラズマディスプ
レイから発生する、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤
外線を遮断する赤外線漏洩防止性に優れ、さらに、耐候
性・耐環境性に優れた光学フィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】社会が高度に情報化されてくるにしたが
って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進
歩、普及している。そのなかでディスプレイはテレビジ
ョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普
及し、また、その薄型化、大型薄型化が進んでいる。

【０００３】近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレ
イ用途等に、プラズマディスプレイが注目され、すでに
市場に出始めている。しかしながら、プラズマディスプ
レイは、その構造原理上、強度の漏洩電磁界が発生する
ため、近年の漏洩電磁界の人体や他の機器に与える影響
が取り沙汰されるようになった中で、そのＶＣＣＩ、Ｆ
ＣＣといった安全基準をクリアする必要がある。さら
に、また、プラズマディスプレイにおいては、そのプラ
ズマ中の励起原子から放出される近赤外線光が、コード
レスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起
こすという問題が生じている。特に問題になる波長とし
てリモコンや伝送系光通信に使用されている８２０ｎｍ
と８８０ｎｍ、９８０ｎｍが挙げられる。そのため、近
赤外領域である８２０〜１０００ｎｍの波長領域の光を
カットする必要がある。

【０００４】一方、可視光線の透過率が低いと、画像の
鮮明さが低下するため、フィルターの可視光線透過率は
高い程良く、少なくとも４０％以上、好ましくは５０％
以上必要である。

【０００５】静電防止能については、ディスプレイ表面
に導電膜を直接形成するか、導電膜を有する部材をディ
スプレイ表面に張り付け、導電膜をアースすることによ
り解決できる。この場合に、導電膜は、面抵抗で１０⁸
Ω／□程度以下であれば良い。ただし、ディスプレイ画
面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。

【０００６】これに対し、漏洩電磁界（電磁波）を遮蔽
するには、ディスプレイ表面を導電性のさらに高い導電
物でおおう必要がある。一般にアースした金属メッシュ
または、合成樹脂または金属繊維のメッシュに金属被覆
したもの用いるが、これらの方法は、ディスプレイから
発する光を透過しない部分が生じたり、モワレ発生、歩
留りの悪さによるコスト高などが問題となる。

【０００７】そこでＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯ
ｘｉｄｅ）に代表される透明導電膜を電磁波シールド層
に用いるのである。その場合通常要求されるその導電性
は面抵抗１０⁵Ω／□以下、好ましくは１０³Ω／□以
下である。透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、パ
ラジウムなどの金属薄膜、酸化インジウム、酸化第２ス
ズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜または金属薄膜と高
屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。この中で、
金属薄膜は、導電性は得られるが、広い波長領域にわた
る金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高いもの
は得られない。また、酸化物半導体薄膜は金属薄膜に比
べ透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外線の反射
能はない。これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄膜
を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及び
光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域にお
ける金属による反射の防止により、導電性、近赤外線カ
ット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特
性を有している。

【０００８】すなわち、我々は銀を主体として金属層
と、透明高屈折率層、例えば、酸化インジウムや酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化錫とを交互に重ねることにより、
透明性と上記調光性を兼ね備えたフィルムを得ることが
できることを見いだしたのである。しかしながら、銀層
は湿環境において不安定であるという欠点を持ってお
り、我々の検討によると実際に銀層と高屈折率層を交互
に重ねた光学フィルターを６０℃、相対湿度９０％の環
境において５００時間程度保持すると、光線透過率等の
性能が著しく損なわれることが判明した。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
従来技術に鑑み、プラズマディスプレイから発生する、
周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する近赤
外線防止性に優れ、アンチニュートンリング性を兼ね備
え、かつ、耐環境性に優れたディスプレイ用フィルター
を提供することである。すなわち、銀を主体とした金属
層と、透明高屈折率層、例えば、酸化インジウムや酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化錫とを交互に重ねることによ
り、透明性と上記調光性を兼ね備えたフィルムを用い
た、光学フィルターにおいて、上記薄膜を多層積層した
フィルムの端面を、トリアジンアミン系化合物、メルカ
プトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸
エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩より
なる群から選ばれる少なくとも１種の化合物で処理する
ことにより、耐環境性を改善されることを見いだし本発
明に到達した。

【００１０】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透明基体（Ａ）の一方の主面上に、少なくとも、調
光フィルム（Ｂ）が貼り合わされたディスプレー用フィ
ルターにして、該調光フィルム（Ｂ）が、透明高分子フ
ィルム（Ｃ）の一方の主面上に、少なくとも高屈折率透
明薄膜層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、（Ｄ）／
（Ｅ）を繰り返し単位として４回以上繰り返し積層さ
れ、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層
（Ｄ）が積層され、さらに、その上に透明樹脂層（Ｆ）
が形成されてなる、可視光線透過率５０％以上であり、
波長８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの光に対する光線透過率
が１０％以下であることを特徴とするフィルムであっ
て、該調光フィルム（Ｂ）の端面が、トリアジンアミン
系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チ
オジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾー
ル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカ
ルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の
化合物で処理されているディスプレイ用光学フィルタ
ー、高屈折率透明薄膜層（Ｄ）が、主として酸化インジ
ウムで構成されることを特徴とする記載のディスプレ
イ用光学フィルター、金属薄膜層（Ｅ）が、銀または銀を主体とする合金
であることを特徴とする又は記載のディスプレイ用
光学フィルター、記載の光学フィルターの少なくとも１つの主面に
アンチニュートンリングフィルムをさらに張り合わせる
か、もしくは、アンチニュートン層を形成した構成のデ
ィスプレイ用光学フィルター、プラズマディスプレイに好適に使用しうる。〜
のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルターであ
る。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明は、〔図１〕、〔図２〕に
示すように、透明基体２０の一方の主面上に、粘着剤層
または接着剤層７０により、調光フィルム１０（特定の
化合物で端面が処理されている９０）が貼り合わされた
ディスプレー用フィルターであり、調光フィルム１０は
透明高分子フィルム３０の一方の主面上に、高屈折率透
明薄膜層５０、金属薄膜層４０が繰り返し積層され、さ
らにその上に透明樹脂層６０が形成されている。

【００１２】本発明における透明基体（Ａ）としては、
ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子
成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れにくい
ため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視波長
領域において透明であればよく、その種類を具体的に挙
げれば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）をはじめ
とするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、透明ＡＢ
Ｓ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定されるも
のではない。特にＰＭＭＡはその広い波長領域での高透
明性と機械的強度の高さから好適に使用できる。プラス
チック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面
性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるも
のではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。

【００１３】本発明でいうところの調光フィルム（Ｂ）
とは、光の透過や反射を制御するフィルムの総称であ
り、例えば、本発明においては可視光が透過し易く、赤
外線を反射するフィルムのことを言う。本発明における
調光フィルムは、本質的に透明な高分子フィルム（Ｃ）
の少なくとも一方の主面に薄膜の多層膜を形成して得
る。調光フィルムの基材としての透明高分子フィルム
（Ｃ）は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテル
サルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポ
リカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリメ
チルメタクリレート等があげられるが、適当な耐熱性を
もつことから、ポリエチレンテレフタレートが好適に用
いられる。基材がフィルムであるから、高屈折率透明薄
膜層及び金属薄膜層をロール・ツー・ロール法で連続的
に形成することができる。これを使用した場合には効率
よく生産できることや、基材がフィルムであるから、調
光フィルムをディスプレイのガラスに貼り付けることに
よりガラス破損時の飛散防止になることから、これもま
た好適に使用できる。この場合、フィルムの厚さは通常
１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの厚さ
があまりに薄いと基材としての機械的強度に不足し、あ
まり厚いと可撓性が不足するためフィルムをロールで巻
きとって利用するのに適さないのである。

【００１４】これらの基材としての透明高分子フィルム
は、その表面に予めグロー放電処理、コロナ処理、火炎
処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理
や、下塗り処理を施してこの上に形成される高屈折率透
明薄膜層の上記基材に対する密着性を向上させる処理を
施してもよい。さらに、電磁波シールド用透明積層体の
耐屈曲性などを向上させ、透明高分子フィルムと高屈折
率透明薄膜層との密着力をより増強させるため、その間
に無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、
ニッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウ
ム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、ある
いはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられ
るが、特にこれらに限定されるものではない、その厚さ
は、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ま
しくは０．０２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。厚さがあま
り薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に厚す
ぎると透明性が損なわれる。高屈折率透明薄膜層が酸化
物であると、該無機物の金属の一部または全部は、実際
には金属酸化物となっているがその効果に問題はない。
また、高屈折率透明薄膜層を成膜する前に、必要に応じ
て溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよ
い。

【００１５】本発明においては、かかる透明高分子フィ
ルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層及び金属薄
膜層を形成する。プラズマディスプレイは、強度の近赤
外線を発するため、近赤外領域である８００〜１０００
ｎｍの波長領域の光をカットする必要がある。例えば、
少なくとも８２０ｎｍにおける光線透過率を１０％以
下、さらに好ましくは５％以下にすることが好ましい。

【００１６】近赤外線カットには、金属の自由電子によ
る反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くする
と前述したように可視光線透過率も低くなり、あまり薄
くすると近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さ
の金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構
造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高く
し、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができ
る。また、それぞれの層の厚さを制御することにより可
視光線透過率、近赤外線の透過率、色目をある範囲で変
化させることができる。可視光線透過率が低いと、ディ
スプレイ設置時に画像の鮮明さが低下するため、フィル
ターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも５０％
以上、好ましくは５５％以上必要である。

【００１７】光学フィルターの色目は、ディスプレイの
コントラスト等に大きく影響する。本発明の用途の光学
フィルターにおいては、赤紫不透過による緑色は不適で
あり、ニュートラルグレー、または、赤黄不透過による
ブルーであることが要求される。このための色目や、可
視光線透過率、近赤外線の透過率の制御は、一般に多層
積層である方が光学的に設計しやすい。

【００１８】すなわち、調光フィルム（Ｂ）が、透明高
分子フィルム（Ｃ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜
層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、繰り返し積層さ
れ、上記の効果が得られるのである。繰り返し積層数
は、４回以上、好ましくは４回〜６回である。つまり、
透明高分子フィルム／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層
／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜
層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高
屈折率透明薄膜層、または、透明高分子フィルム／高屈
折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金
属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率
透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄
膜層／高屈折率透明薄膜層、または、透明高分子フィル
ム／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄
膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／
高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層
／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈
折率透明薄膜層である。

【００１９】繰り返しが３回以下だと、電磁波の反射界
面が少ないことや、要求される光学特性に達成するに困
難であることが問題となり、多数繰り返すことにより光
学特性はより厳密に設計できる。ただし、７回以上だと
安定生産の困難さの問題が大きくなる。

【００２０】高屈折率透明薄膜層および金属薄膜層の多
層積層で、可視光線透過率、近赤外線光の透過率、色目
を制御するには、透明高分子フィルムおよび薄膜材料の
屈折率、消衰係数を用いたベクトル法、アドミッタンス
図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜
材料及び、層数、膜厚等を決定する。また、光学特性を
観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこと
もできる。

【００２１】金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等か
ら光学設計的かつ実験的に求められ、要求特性を持てば
特に限定されるものではない。ただし、導電性等から薄
膜が島状構造ではなく連続状態であることが好ましいの
で、４ｎｍ以上であることが望ましい。金属薄膜層があ
まり厚すぎると透明性が問題になるので、３０ｎｍ以下
が望ましい。金属薄膜の具体的な材料としては、銀、
金、白金、パラジウム、ニッケル、クロム、亜鉛、ジル
コニウム、チタン、タングステン、スズ等、あるいはこ
れらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。な
かでも銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層した
ときの可視光線透過性に優れるため好適に使用できる。
しかしながら、銀は化学的、物理的安定性には必ずしも
優れていないので、環境中の汚染物質、熱、光等によっ
て劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、インジウ
ム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上含んだ銀を主
体とする合金も好適に使用される。しかして、銀に他の
金属を添加すると、その優れた導電性を阻害するので、
可能であれば、少なくとも多層のうち１つの層は銀を合
金にしないで用いることが好ましい。

【００２２】隣接する高屈折率透明薄膜層が酸化物であ
ると、該金属薄膜層の金属の一部は、実際には金属酸化
物となっていることがあるが、非常に薄い領域であるた
め光学設計及び成膜上、特に問題はない。また、金属薄
膜第１層、第２層、第３層、・・・第ｎ層（ｎ≧４）
は、同じ厚さとは限らず、同じ金属あるいは合金でなく
ともよい。金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イ
オンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の
方法のいずれでも採用できる。

【００２３】高屈折率透明薄膜層を形成する透明薄膜と
しては、可視域において透明性を有し、金属薄膜層にお
ける可視域における光線反射を防止する効果を有するも
のであれば特に材質が限定されるものではない。好まし
くは、可視光線に対する屈折率が１．６以上、より好ま
しくは１．７以上の屈折率の高い材料が用いられる。こ
のような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、イ
ンジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜
鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ラ
ンタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化
物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが
挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸
素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっても、
光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えな
い。なかでも、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化
スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、
成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好であるこ
とから好適に使用できる。また、ＩＴＯのごとき比較的
高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用いることによっ
て、電磁波の吸収層を増やし、また電磁波シールド体の
導電性を上げることができる。高屈折率透明薄膜層の厚
さは、透明基体の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特
性、および、透明高分子フィルムの屈折率等から光学設
計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではな
いが、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好まし
く、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であ
る。また、高屈折率透明薄膜第１層、第２層、第３層、
・・・第ｎ層（ｎ≧５）は、同じ厚さとは限らず、同じ
透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率透明薄膜層の形
成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオ
ンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の
方法のいずれでも採用できる。

【００２４】なかでもスパッタリングは、膜厚制御、多
層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜
層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。具体例として
実施例において後述するが、主として酸化インジウムで
構成される高屈折率透明薄膜層と銀または銀を含む合金
からなる金属薄膜層を、スパッタリング法により連続成
膜する。主として酸化インジウムで構成される高屈折率
透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分とする金属
ターゲットまたは酸化インジウムを主成分とする焼結体
ターゲットを用いた反応性スパッタリングを行う。反応
性スパッタリング法においては、スパッタガスにはアル
ゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を用い、通常
圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高
周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法等が利用で
きる。酸素ガス流量は得られる成膜速度等から実験的に
求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られるように制
御する。

【００２５】銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層
の形成には、銀または銀を含む合金をターゲットとした
スパッタリングを行う。スパッタガスにはアルゴン等の
不活性ガスを用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、
直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパ
ッタリング法等が利用できる。

【００２６】上記の方法により形成した高屈折率透明薄
膜層および金属薄膜層の原子組成は、オージェ電子分光
法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフ
ォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。ま
た、これらの層構成および膜厚は、オージェ電子分光の
深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等によ
り測定できる。また膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係
をあらかじめ明らかにした上で成膜を行うことや水晶振
動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより、制御
される。

【００２７】さらに、上記で述べたように、銀薄膜層を
含む調光フィルムの薄膜形成面には、透明樹脂層（Ｆ）
を設け、ディスプレイから発せられる熱や、使用環境中
の熱、酸素、水蒸気等のガスによる薄膜の劣化を防ぐこ
とが好ましい。透明樹脂層としては、アクリル系樹脂、
シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フ
ッ素系樹脂等が挙げられる。特に好ましくは紫外線硬化
型の樹脂が好ましく用いられる。透明樹脂層の形成に
は、用いる樹脂によって、印刷、塗工する方法など従来
公知の方法を選定して用いることができ、その厚さは、
これもまた特に限定されるものではないが、１μｍ〜５
０μｍ程度である。透明樹脂層は、単層であっても複数
の樹脂層からなるものでも良い。

【００２８】さらに、銀薄膜層を含む調光フィルムの薄
膜層の安定性を向上させるために、透明樹脂が、トリア
ジンアミン系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化
合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾ
イミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物お
よびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なく
とも１種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂であっても
よい。なお、金属層が銀合金であっても当該処理が耐環
境性を向上させるのに有効であることは言うまでもな
い。

【００２９】本発明においては、上記調光フィルムの端
面を特定の化合物で処理する。処理に使用する化合物と
しては、トリアジンアミン系化合物、チオジプロピオン
酸エステル系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系
化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾ
ール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から
選ばれる少なくとも１種類の化合物がある。これらの化
合物を、適当な溶剤、例えば水、トルエン系溶剤、アル
コール系溶剤もしくは、５％ＮａＯＨの水溶液に０．０
０１〜０．５重量％、好ましくは０．００５〜０．１重
量％の割合で溶かし、その溶液を、調光フィルム（Ｂ）
の端面に塗布し乾燥させる。乾燥後、端面を水もしくは
アルコール系溶剤で洗浄してもよい。

【００３０】本発明においては、透明基体（Ａ）の一方
の主面上に、上記した調光フィルム（Ｂ）を貼り合わせ
るが、この貼り合わせには、任意の粘着材または接着剤
を使用できる。粘着剤または接着剤は、実用上の接着強
度があればシート上のものでも液状のものでもよく、粘
着シート貼り付けた後、または接着材塗布後に、各部材
をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状
のものは塗布、貼り合わせ後に、室温放置または加熱に
より硬化する接着剤であり、塗布方法としては、バーコ
ート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコ
ート法、ロールコート法等が挙げられる。どれを採用す
るかは、接着剤の種類、粘度、塗布量等を考慮して、選
定される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特に限定
されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好まし
くは１μｍ〜３０μｍである。

【００３１】本発明においては、〔図３〕、〔図４〕に
示すように、上記のように製作した光学フィルターの少
なくとも１つの主面にアンチニュートンリングフィルム
をさらに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートン
リング層を形成してもよい。本発明でいうところのアン
チニュートンリングフィルムとは、透明高分子フィルム
の表面に０．１〜１０μｍ程度の微小な凹凸を付けるこ
とにより、当該フィルムが剛性の高い基板、例えばガラ
ス板上に接触した場合にフィルムと基板の間でニュート
ンリングの発生を防止することができるフィルムであ
る。上記目的に用いることができる透明高分子フィルム
としてはやはり、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタ
レート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、
トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート等
があげられるが、適当な耐熱性をもつことからポリエチ
レンテレフタレートが好適に用いられる。

【００３２】表面に微小な凹凸をつける方法としては、
機械的に表面に凹凸を付ける方法や、適当な粒径をもつ
フィラー（粒子）を樹脂と共に塗布する方法があるが、
要は適当な凹凸をつけることが重要であり、かならずし
も上記方法に限定されるものではない。なお、アンチニ
ュートンリングフィルムの厚みとしては作業上および工
程上の限定があるだけであり、原理的な限定があるわけ
ではない。作業上は、２５〜２００μｍが適当である。
具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミ
ン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂等の熱硬化
型又は光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等
の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させたイン
キ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グ
ラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によ
って基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１
〜４０μｍであり、ノングレア層またはアンチニュート
ンリング層のヘイズは０．５％以上５％以下であり、好
ましくは０．５％以上３％以下である。ヘイズが小さす
ぎるとアンチニュートンリング能が不十分であり、ヘイ
ズが大きすぎると、平行光線透過率が低くなり、ディス
プレイの視認性が悪くなる恐れがある。

【００３３】さらに、アンチニュートンリングフィルム
はディスプレーの面への外光の写り込みを防止する効果
もあり、アンチニュートンリングの能力と防眩性能の両
方を期待できるのである。

【００３４】かくして、本発明におけるディスプレー用
の光学フィルターの構成としては、〔図２〕に示したよ
うな透明基体（Ａ）２０／調光フィルム（Ｂ）１０、ア
ンチニュートンリングフィルム／透明基体（Ａ）／調光
フィルム（Ｂ）、透明基体（Ａ）／調光フィルム（Ｂ）
／アンチニュートンリングフィルム、〔図３〕に示すよ
うなアンチニュートンリングフィルム８０／透明基体
（Ａ）２０／調光フィルム（Ｂ）１０／アンチニュート
ンリングフィルム８０、等を得ることができる。なお、
透明基体と調光フィルムやアンチニュートンリングフィ
ルムは、粘着剤や接着剤で貼り合わせることで光学フィ
ルターを構成することができるが、アンチニュートンリ
ングフィルムを貼り合わせる代わりに、〔図４〕に示す
ように基体表面や調光フィルム表面に塗布法によりアン
チニュートンリング層８０を形成することも可能であ
る。この場合のアンチニュートンリング層とは、上記し
たアンチニュートンリングフィルムと同様の作用効果を
奏する層である。

【００３５】なお、本発明において、色目や色度の調整
や近赤外線の吸収のため有機もしくは無機の色素を導入
することが、性能向上に有効であることは当業者には容
易に理解できるであろう。その際、色素を導入する方法
としてはフィルムへの練り込みや塗布樹脂に含有させ透
明基体に塗ることができるのは言うまでもない。

【００３６】また、アンチニュートンリング処理や、ア
ンチグレア処理の代わりに、もしくは、併用して反射防
止処理を施すことや、また、表面に疎水性の防汚処理を
施すことができること、さらに、静電気防止のために導
電層を適宜設けることは当業者の設計の範囲内であろ
う。

【００３７】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により具体的に説明
する。本発明はこれらによりなんら制限されるものでは
ない。なお、以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚
さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜
厚ではない。

【００３８】［実施例１］透明高分子フィルムとしての
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μ
ｍ）の一方の主面に、ターゲットにインジウムを、スパ
ッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰ
ａ：酸素分圧８０ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄
膜を、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス
（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロン
ＤＣスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜４０
ｎｍ、銀薄膜１２ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、
銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜
１２ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎ
ｍ、酸化インジウム薄膜３０ｎｍの順に積層し、さら
に、多層膜積層面に透明樹脂層として、アクリル系樹脂
をスクリーン印刷にて２０μｍ形成し、上記樹脂を紫外
線で硬化させることにより本発明の調光フィルムを作製
した。次に、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（両面フラット）
に、透明樹脂が外側になるように上記調光フィルムを貼
り合わせ本発明のディスプレイ用光学フィルターを作製
した。さらに、ベンゾイミダゾールを０．０１重量％溶
かしたエタノール液を上記ディスプレイ用光学フィルタ
ーの端面にテフロンの筆にて塗布し、〔図２〕に示す構
成のディスプレイ用光学フィルターを得た。

【００３９】［実施例２］ポリエチレンテレフタレート
フィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ターゲッ
トに酸化インジウムを、スパッタガスにアルゴン・酸素
混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧３ｍＰａ）を用
いて、酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパ
ッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて
銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッタリング法により酸
化インジウム薄膜、銀薄膜をマグネトロンＤＣスパッタ
リング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜
１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎ
ｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸
化インジウム薄膜６０ｎｍ、銀薄膜８ｎｍ、酸化インジ
ウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１２ｎｍ、酸化インジウム薄
膜２０ｎｍの順に積層し、さらに、多層膜積層面に保護
樹脂層として、アクリル系樹脂をスクリーン印刷にて２
０μｍ形成し、紫外線で上記樹脂を硬化させることによ
り、本発明の調光フィルムを作製した。次に、厚さ２ｍ
ｍのＰＭＭＡ板（両面フラット）に、透明樹脂が外側に
なるように上記調光フィルムを貼り合わせ本発明のディ
スプレイ用光学フィルターを作製した。さらに、メルカ
プトベンゾイミダゾールを０．０２重量％溶かしたエタ
ノール液を上記ディスプレイ用光学フィルターの端面に
テフロンの筆にて塗布し、〔図２〕に示すディスプレイ
用光学フィルターを得た。

【００４０】［実施例３］ポリエチレンテレフタレート
フィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ターゲッ
トに酸化インジウム（５重量％酸化錫含有）を、スパッ
タガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：
酸素分圧４ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄膜を、
ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧
２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロンＤＣス
パッタリング法により酸化インジウム薄膜、銀薄膜をマ
グネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジウ
ム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜
７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎ
ｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜６０ｎｍ、銀
薄膜６ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜６ｎ
ｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜６ｎｍ、酸化
インジウム薄膜２０ｎｍの順に積層し、さらに、多層膜
積層面に保護樹脂層として、アクリル系樹脂をスクリー
ン印刷にて２０μｍ形成し、紫外線で上記樹脂を硬化さ
せた。次に、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（両面フラット）
に貼り合わせた。

【００４１】さらに、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、大日本インキ
化学工業（株）製熱硬化ニス（ＳＦ−Ｃ−３３５）３ｇ
をトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合溶媒１０
０ｇに溶解して、塗布、自然乾燥後、１５０℃で２０秒
間硬化させて１μｍ厚のアンチニュートンリング層を形
成し、アンチニュートンリングフィルムを作製し、これ
を貼り合わせることにより、アンチニュートンリングフ
ィルム／アクリル板／調光フィルム／アンチニュートン
リングフィルムの構成になる光学フィルターを作製し
た。さらに、ベンゾトリアゾールを０．０５重量％溶か
したエタノール液を上記ディスプレイ用光学フィルター
の端面にテフロンの筆にて塗布し、〔図３〕に示すディ
スプレイ用光学フィルターを得た。

【００４２】［実施例４］ベンゾイミダゾールの代わり
に、トリアジンアミン系化合物を用いた以外は実施例１
と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを作製
し、〔図２〕に示すディスプレイ用光学フィルターを得
た。

【００４３】［実施例５］ベンゾイミダゾールの代わり
にチオカルバミン酸塩を用いた以外は実施例１と同様の
手順でディスプレイ用光学フィルターを作製し、〔図
２〕に示すディスプレイ用光学フィルターを得た。

【００４４】［比較例１］端面処理をしなかったことを
除いて、実施例１と同様の手順でディスプレイ用光学フ
ィルターを製作した。

【００４５】［比較例２］端面処理をしなかったのを除
いて、実施例２と同様の手順でディスプレイ用光学フィ
ルターを製作した。

【００４６】［比較例３］端面処理をしなかったのを除
いて、実施例３と同様の手順でディスプレイ用光学フィ
ルターを製作した。

【００４７】可視光線透過率（Ｔvis ）及び近赤外線
透過率（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により
３００〜１０００ｎｍの平行光線透過率を測定した。こ
こで求めた透過率からＴvis を計算した。近赤外線透過
率は８２０ｍｎ、８５０ｎｍ、１０００ｎｍで評価を行
った。以上の結果を〔表１〕に掲げる。

【００４８】

【表１】〔表１〕から明らかなように、実施例１〜５及び比較例
１〜３とも、大きな赤外線抑止能を有している。

【００４９】湿熱試験次に実施例１〜５および比較例１〜３で作製した光学フ
ィルターを６０℃、相対湿度９０％の湿熱槽に５００時
間放置し、取り出して、光学特性を調べた。その結果を
〔表２〕に示す。

【００５０】

【表２】

【００５１】実施例１〜５においては特に外観上の変化
はなかったが、比較例１〜３ではフィルターの端面から
白化が始まり５００時間後には全面が白化してしまっ
た。上記実施例１〜５および比較例１〜３より、本発明
のディスプレイ用光学フィルターは、優れた近赤外線遮
断能力を持つばかりでなく、優れた耐環境性を兼ね備え
たものであることがわかる。

【００５２】

【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、調光フィ
ルムの端面がトリアジンアミン系化合物、メルカプトベ
ンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステ
ル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリ
アゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群
から選ばれる少なくとも１種の化合物により処理されて
いる構成をとることにより、耐環境性に優れ、かつ、近
赤外線遮断能に優れた光学フィルターを提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルターに用い
る調光フィルムの構成の一例を示す断面図

【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成
の一例を示す断面図

【図３】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成
の一例を示す断面図

【図４】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成
の一例を示す断面図

【符号の説明】

１０調光フィルム２０透明基体３０透明高分子フィルム４０金属薄膜層（銀もしくは銀を主体とする合金の薄
膜層）５０高屈折率透明薄膜層６０透明樹脂層７０粘着剤層または接着剤層８０アンチニュートンリングフィルムもしくはアンチ
ニュートンリング層９０処理面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１４Ｈ０１Ｊ 5/16 Ｈ０１Ｊ 5/16 17/16 17/16 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者小山正人愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地三井東圧化学株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、少な
くとも、調光フィルム（Ｂ）が貼り合わされたディスプ
レー用フィルターにして、該調光フィルム（Ｂ）が、透
明高分子フィルム（Ｃ）の一方の主面上に、少なくとも
高屈折率透明薄膜層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、
（Ｄ）／（Ｅ）を繰り返し単位として４回以上繰り返し
積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜
層（Ｄ）が積層され、さらに、その上に透明樹脂層
（Ｆ）が形成されてなる、可視光線透過率５０％以上で
あり、波長８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの光に対する光線
透過率が１０％以下であることを特徴とするフィルムで
あって、該調光フィルム（Ｂ）の端面が、トリアジンア
ミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合
物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミ
ダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物および
チオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも
１種の化合物で処理されているディスプレイ用光学フィ
ルター。
【請求項２】高屈折率透明薄膜層（Ｄ）が、主として
酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項１
記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項３】金属薄膜層（Ｅ）が、銀または銀を主体
とする合金であることを特徴とする請求項１又は２記載
のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項４】請求項１記載の光学フィルターの少なく
とも１つの主面にアンチニュートンリングフィルムをさ
らに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートン層を
形成した構成のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項５】プラズマディスプレイに好適に使用しう
る請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用光学
フィルター。