JP3034218B2 - 透明積層体及びそれを用いた調光体及びディスプレイ用フィルター - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明積層体及びそ
れを用いた調光体及びディスプレイ用フィルターに関
し、さらに詳しくは、低反射性、高透明性、さらには電
磁波シールド性、赤外線カット性に優れる透明積層体、
及び、それを用いた低反射性、高透明性、耐候性・耐環
境性、耐擦傷性、さらには赤外線カット性に優れる調光
体、及び、さらに電磁波シールド性を兼ね備えたディス
プレイ用フィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】透明基体上に透明薄膜層を形成した透明
積層体は、透明薄膜層の機能に応じて、光学装置、表示
素子に用いられる光学フィルター、透明電極、透明電磁
波遮蔽体、透明面発熱体や、透明断熱材として使用され
る熱線反射体等、広く産業上利用されている。

【０００３】熱線反射体は、可視光に対しては透明であ
るが赤外光は反射するといった波長選択的透光性を利用
しており、建築物、乗り物の窓材として利用する場合は
太陽光の赤外線カットによる室温上昇防止、または屋内
の輻射熱が屋外へ散逸することを防ぐなど、冷暖房費削
減につながる。また、グリーンハウス、冷蔵冷凍ショー
ケースにも好適に使用できる。このような熱線反射体は
基体と多層薄膜からなる透明積層体であり、熱線反射体
に用いられている多層薄膜は一般に、金属薄膜を透明高
屈折率薄膜で挟んだ多層薄膜、または、この多層薄膜を
２段以上積み重ねたものが広く用いられており、可視光
領域における透明性および赤外線反射性を意図した光学
設計がなされている。また、このような構成の熱線反射
体は導電性を有しており、電磁波遮蔽窓としても使用し
得る。金属薄膜を透明高屈折率薄膜で挟んだ多層薄膜の
具体例としては酸化インジウム／銀／酸化インジウムや
酸化チタン／銀／酸化チタンなどが挙げられる。しかし
ながら、金属薄膜層は環境安定性に問題があり、また、
薄膜形成面は耐擦傷性に乏しい問題がある。従って、薄
膜形成面上に適当な透明保護層を設けることが好まし
い。

【０００４】また、熱線反射体は、例えばガラス板に先
述の多層薄膜を形成して得られるが、直接ガラス板に多
層薄膜を製膜することは生産性に問題がある。また、透
明樹脂板は軽さ、割れにくいため、窓材には好適である
が、透明樹脂板に直接製膜することは非常に困難であ
る。これらに対し高分子フィルムに連続的に多層製膜
し、薄膜を形成したフィルムを、透明な支持板に貼り合
わせた場合は、生産性が向上し、また、支持板としてガ
ラス板でも透明樹脂板でも好適に使用でき、さらにはガ
ラス板の場合は、ガラス窓破損時の飛散防止にもなる。
高分子フィルム上の薄膜も先述と同様の環境安定性等の
問題があるが、薄膜形成面上に透明保護層を設ける他
に、支持板に貼り合わせの際に薄膜形成面と支持板の主
面を透明な粘着材層又は透明な接着剤層を介して貼り合
わせることにより、薄膜形成面を保護することができ、
この場合は、別途透明保護層を設ける必要は必ずしもな
い。

【０００５】しかしながら、これら熱線反射体として利
用される透明積層体の薄膜形成面上に、透明保護層や透
明な粘着材層又は透明な接着剤層を形成すると、透明積
層体の光学特性の変化、特に、可視光反射強度の増加と
それに伴う透明性の低下が生じてしまう。

【０００６】また、社会が高度に情報化されてくるにし
たがって、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく
進歩、普及している。そのなかでディスプレイはテレビ
ジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく
普及し、また、その薄型化、大型薄型化が進んでいる。
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等に、
プラズマディスプレイが注目され、すでに市場に出始め
ている。しかし、プラズマディスプレイは、その構造原
理上、強度の漏洩電磁界が発生するため、近年の漏洩電
磁界の人体や他の機器に与える影響が取り沙汰されるよ
うになった中で、ＶＣＣＩやＦＣＣといった規格をクリ
アする必要がある。

【０００７】ＶＣＣＩの規制値は、絶対値である放射電
界強度で示され、その単位はｄＢμＶ／ｍである。工業
用途の規制値を示すClass Ｉでは５０ｄＢμＶ／ｍであ
り、家庭用途の規制値を示すClass ＩＩでは４０ｄＢμ
Ｖ／ｍである。プラズマディスプレイの放射電界強度は
２０〜９０ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４
０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度では５０ｄＢμ
Ｖ／ｍを越えているため、このままでは家庭用途には使
用できない。家庭用途として実用的には放射電界強度が
４０ｄＢμＶ／ｍ以下、好ましくは３５ｄＢμＶ／ｍ以
下、より好ましくは３０ｄＢμＶ／ｍ以下にする必要が
ある。プラズマディスプレイの放射電界強度が５０ｄＢ
μＶ／ｍである場合は、１０ｄＢ以上、好ましくは１５
ｄＢ以上、より好ましくは２０ｄＢ以上のシールド効果
を有する電磁波シールドを必要とするのである。

【０００８】また、プラズマディスプレイは、近赤外線
光を発し、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用し
て誤動作を引き起こす問題が生じている。特に問題にな
る波長としてリモコンや伝送系光通信に使用されている
８２０nmと８８０nm、９８０nmが挙げられる。そのた
め、近赤外領域である800 〜1000nmの波長領域の光をカ
ットする必要がある。

【０００９】上記要求項目において、近赤外線抑止能に
関しては、従来、近赤外線吸収色素を用いて近赤外吸収
フィルターを作製することが知られているが、プラズマ
ディスプレイは、強度の近赤外線を発するため、近赤外
領域の吸収率の大きい近赤外吸収フィルターを使用する
必要があるが、問題とならない程度まで近赤外線の透過
率を下げるためには、フィルターに含有させる色素の量
を増やさなければならず、その場合にはそれに伴う、可
視光線透過率の低下が問題となる。プラズマディスプレ
イ用フィルターは、ディスプレイからでる近赤外線光、
電磁波をカットするためにディスプレイの前面に設置す
るため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低
下することになる。一般に、フィルターの可視光線透過
率は高い程良く、少なくとも５０％以上、好ましくは６
０％以上必要である。

【００１０】また、漏洩電磁界（電磁波）を遮蔽するに
は、ディスプレイ表面を導電性の高い導電物でおおう必
要があり、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）に代表される透
明導電膜を電磁波シールド層に用いるが、通常要求され
るその導電性は面抵抗１０⁵Ω／□以下、好ましくは１
０³ Ω／□以下である。透明導電膜としては、金、銀、
銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜、酸化インジウ
ム、酸化第２スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜、金
属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。
この中で、金属薄膜は、導電性は得られるが、広い波長
領域にわたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率
の高いものは得られない。また、酸化物半導体薄膜は金
属薄膜に比べ透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤
外線の反射能は乏しい。プラズマディスプレイから生じ
る電磁波、近赤外線は非常に強度であり、ＩＴＯを透明
導電膜とした、プラズマディスプレイの電磁波シールド
能を有し、かつディスプレイの透明性を損なわない高透
明な電磁波シールド材、または、更に近赤外線カット能
を有する電磁波シールド材は得られていない。

【００１１】これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄
膜を積層した透明積層体は、銀などの金属の持つ導電性
及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域
における金属による反射の防止により、導電性、近赤外
線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても、近赤
外線カット能を有する電磁波シールド材として好ましい
特性を有している。

【００１２】前記電磁波シールド材として用いる金属薄
膜と高屈折率透明薄膜を積層した透明積層体も、前述の
熱線反射体と同様に、薄膜は環境安定性、耐擦傷性に劣
るため、透明保護層を必要とする場合がある。また、デ
ィスプレイの前面に設置されることから、高透明、低反
射性が要求され、直接または透明な粘着材・接着剤層を
介して反射防止層を薄膜形成面上に設ける場合や、ま
た、アンチニュートンリング性が要求され、同じく直接
または透明な粘着材・接着剤層を介してアンチニュート
ンリング層を薄膜形成面上に設ける場合がある。

【００１３】しかしながら、このような電磁波シールド
材もまた、前述の熱線反射体の如く、電磁波シールド材
とする透明積層体の薄膜形成面上に、透明保護層や透明
な粘着剤層または接着剤層等を形成すると、透明積層体
の光学特性の変化、特に、可視光反射強度増加とそれに
伴う透明性の低下が生じてしまい、ディスプレイの視認
性が低下してしまう。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術に鑑み、低反射性、高透明性、さらにはプラズマディ
スプレイから発生する、健康に害をなすといわれている
電磁波を遮断する電磁波シールド性、周辺電子機器の誤
動作をまねく近赤外線を遮断する赤外線カット性に優れ
る透明積層体、及び、それを用いた低反射性、高透明
性、耐候性・耐環境性、耐擦傷性さらには断熱効果や周
辺電子機器の誤動作防止を目的とした赤外線カット性に
優れる調光体、及び、さらに電磁波シールド性を兼ね備
えたディスプレイ用フィルターを提供することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、透明基体
（Ａ）の一方の主面上に透明薄膜層（Ｂ）、透明保護層
や透明な粘着材・接着剤層等の隣接層（Ｃ）が（Ａ）／
（Ｂ）／（Ｃ）の順で形成されてなる透明積層体におい
て、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長範囲で、該透明基体
（Ａ）のアドミッタンスＹ_s ＝ｘ_s ＋ｉｙ_s を始点とす
るアドミッタンス軌跡が透明薄膜層（Ｂ）を積層するこ
とによって到達する終点Ｙ_e ＝ｘ_e ＋ｉｙ_e と、隣接層
（Ｃ）のアドミッタンスＹ_a ＝ｘ_a ＋ｉｙ_a とで定義さ
れる｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜が、｜（ｘ
_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜＜０．４である場合
は、高透明性かつ低反射性であることを見いだした。

【００１６】すなわち、本発明は、（１） 透明基体
（Ａ）の一方の主面上に透明薄膜層（Ｂ）、隣接層
（Ｃ）が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の順で形成されてなる
透明積層体であり、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長範囲
で、該透明基体（Ａ）のアドミッタンスＹ_s ＝ｘ_s ＋ｉ
ｙ_sを始点とするアドミッタンス軌跡が透明薄膜層
（Ｂ）を積層することによって到達する終点Ｙ_e ＝ｘ_e
＋ｉｙ_e と、隣接層（Ｃ）のアドミッタンスＹ_a ＝ｘ_a
＋ｉｙ_a とで定義される｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −
ｙ_e ）｜が、｜（ｘ_a −ｘ _e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜＜
０．４であることを特徴とする透明積層体、（２） 隣
接層（Ｃ）が、粘着材層または接着剤層であることを特
徴とする（１）に記載の透明積層体、（３） 透明薄膜
層（Ｂ）が、高屈折率透明薄膜層（Ｂ−１）、金属薄膜
層（Ｂ−２）が透明基体（Ａ）側から順次、（Ｂ−１）
／（Ｂ−２）を繰り返し単位として１回以上繰り返し積
層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層
（Ｂ−１）が積層されてなることを特徴とする（１）又
は（２）に記載の透明積層体、（４） 透明薄膜層
（Ｂ）が、高屈折率透明薄膜層（Ｂ−１）、金属薄膜層
（Ｂ−２）が透明基体（Ａ）側から順次、（Ｂ−１）／
（Ｂ−２）を繰り返し単位として３回以上繰り返し積層
され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層
（Ｂ−１）が積層されてなり、面抵抗が３Ω／□以下、
可視光透過率が５０％以上であることを特徴とする
（１）又は（２）に記載の透明積層体、（５） 高屈折
率透明薄膜層（Ｂ−１）が、主として酸化インジウムで
構成されることを特徴とする（３）又は（４）に記載の
透明積層体、（６） 金属薄膜層（Ｂ−２）が、銀また
は銀を含む合金で構成されることを特徴とする（３）〜
（５）のいずれかに記載の透明積層体、（７） （１）
〜（６）のいずれかに記載の透明積層体を用いた調光
体、（８） （１）〜（６）のいずれかに記載の透明積
層体を用いたディスプレイ用フィルター、（９）
（４）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体を用いた
プラズマディスプレイ用フィルターに関するものであ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の透明積層体は、透明基体
（Ａ）の一方の主面上に透明薄膜層（Ｂ）、隣接層
（Ｃ）が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の順で形成されてお
り、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長範囲で、該透明基体
（Ａ）のアドミッタンスＹ_s ＝ｘ_s ＋ｉｙ_sを始点とす
るアドミッタンス軌跡が透明薄膜層（Ｂ）を積層するこ
とによって到達する終点Ｙ_e ＝ｘ_e ＋ｉｙ_e と、隣接層
（Ｃ）のアドミッタンスＹ_a ＝ｘ_a ＋ｉｙ_a とで定義さ
れる｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜が、｜（ｘ
_a −ｘ _e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜＜０．４であるもので
ある。

【００１８】一般に反射Ｒは、光の入射媒質のアドミッ
タンスη₀ と薄膜系すなわち（Ａ）／（Ｂ）の光学アド
ミッタンスＹを用いて次に示す式（１）（数１）で表さ
れる。

【００１９】

【数１】 従って、｜η₀ −Ｙ｜が０に近いほど、反射Ｒは低くな
り、低反射、高透明となるのである。また、一般にアド
ミッタンスＹは、複素屈折率Ｎとのあいだに式（２）で
示される関係があり、ここでЧはЧ＝（ε₀ ／μ₀ ）
^1/2 （ε₀ は真空の誘電率、μ₀ は真空の透磁率）で表
される。

【００２０】Ｙ＝Ｎ・Ч （２） ＹをЧの単位で表す自由空間単位系では、ＹとＮは数値
的に等しくできる。本発明では、Чを単位とした自由空
間でのアドミッタンスを採用する。また、アドミッタン
スＹ、すなわち本発明においては、複素屈折率Ｎは光の
波長に依存した値を有する。

【００２１】一般的に、波長λにおいて、アドミッタン
スＹ₀ ＝ｘ₀ ＋ｉｙ₀ の基体に、複素屈折率Ｎ＝ｎ−ｉ
ｋ（ｎは屈折率、ｋは消光係数）の薄膜を１層、膜厚ｄ
形成したとき、到達するアドミッタンスＹ＝ｘ＋ｉｙは
以下の式（３）（数２）の如くなる。

【００２２】

【数２】 式（３）中のδ、ηは垂直入射の場合、それぞれ式
（４）（数３）、式（５）で示される。

【００２３】

【数３】 η＝Ｎ・Ч （５） 実数部を横軸、虚数部を縦軸としたЧを単位とした自由
空間単位の複素座標において、（ｘ、ｙ）が薄膜の厚さ
ｄを変化させた場合にたどる軌跡は、始点（ｘ₀、
ｙ₀ ）を通過する、実数軸上の（（ｘ₀ ²＋ｙ₀ ²＋η² ）
／２ｘ₀ 、０）を中心とする円を、膜厚増加とともに時
計回りに辿る。本発明で言うところのアドミッタンス軌
跡とは、Ｙ＝ｘ＋ｉｙが、基体のアドミッタンス、薄膜
の光学定数、膜厚に従って、辿る軌跡である。

【００２４】従って、アドミッタンスＹ_s ＝ｘ_s ＋ｉｙ
_s である透明基体（Ａ）の主面上に、厚さｄ₁ 、複素屈
折率Ｎ₁ ＝ｎ₁ −ｉｋ₁ の透明薄膜（ａ）を１層形成し
たとき、到達するアドミッタンスＹ₁ ＝ｘ₁ ＋ｉｙ
₁ （１層形成した場合の光学アドミッタンス）は、式
（３）〜（５）に従って求めることができ、その軌跡
は、自由空間の複素座標において、始点（ｘ_s 、ｙ_s ）
を通過する、実数軸上の（（ｘ _s ² ＋ｙ_s ² ＋η₁ ²）／
２ｘ_s 、０）を中心とする円を、膜厚増加とともに時計
回りに辿る。上述したように、Чを単位とした自由空間
単位系では、アドミッタンスと複素屈折率は数値的に等
しいため、軌跡は透明基体（Ａ）の屈折率、消光係数で
表した（ｎ_s 、−ｋ_s ）を始点とする。

【００２５】透明基体、透明薄膜ともに吸収がない、す
なわち消光係数が０のとき、透明薄膜（ａ）を１層（厚
さｄ₁ ）形成したときの軌跡は、光学膜厚ｎ₁ ｄ₁ ＝λ
／４のときは（ｎ_s 、０）、（ｎ₁ ²／ｎ_s 、０）を端点
とした半円、ｎ₁ ｄ₁ ＝λ／２のときは円となる。（図
１）にアドミッタンス軌跡を記したアドミッタンス図の
一例を示す。

【００２６】さらに複素屈折率Ｎ₂ ＝ｎ₂ −ｉｋ₂ の透
明薄膜（ｂ）（膜厚ｄ₂ ）を、該透明薄膜（ａ）上に形
成した場合は、（ｘ₁ 、ｙ₁ ）を始点とするアドミッタ
ンス軌跡となる。

【００２７】ここで透明基体（Ａ）上に、１層以上の透
明薄膜が積層されてなる透明薄膜層（Ｂ）を積層したと
きに最終的に到達するアドミッタンスをＹ_e ＝ｘ_e ＋ｉ
ｙ_eとすると、光の入射媒質のη₀ と最終到達アドミッ
タンスＹ_e で表される｜η₀−Ｙ_e ｜が０に近いほど、
反射Ｒは小さくなる。

【００２８】一般に薄膜の積層体は、屈折率１の空気を
入射媒質として設計されている。すなわち、｜（１−ｘ
_e ）−ｉｙ_e ｜が、０に近くなるように設計されてい
る。しかしながら、薄膜形成面上に隣接層（Ｃ）を形成
すると入射媒質が変化するため、積層体／入射媒質（隣
接層）の境界面による反射が増加してしまう。従って、
隣接層（Ｃ）のアドミッタンスＹ_a を考慮することによ
り、積層体／隣接層境界面の反射の増加を抑制すること
ができるのである。すなわち、η₀ ＝Ｙ_a とし、｜Ｙ_a
−Ｙ_e ｜を０に近く設計するほど、反射Ｒを小さくする
ことができるのである。

【００２９】隣接層（Ｃ）のアドミッタンスは、Чを単
位とした自由空間単位系ではその複素屈折率に数値的に
等しく、隣接層（Ｃ）の屈折率をｎ_a 、消光係数をｋ_a
としたとき、Ｙ_a ＝ｎ_a −ｉｋ_a と表すことができる。
従って、｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜は、｜
（ｎ_a −ｘ_e ）＋ｉ（−ｋ_a −ｙ_e ）｜と表すことがで
き、｜（ｎ_a −ｘ_e ）＋ｉ（−ｋ_a −ｙ_e ）｜が０に近
いほど、積層体／隣接層境界面の反射は少なくなるので
ある。

【００３０】透明基体（Ａ）、隣接層（Ｃ）および透明
薄膜の屈折率および消光係数は、波長依存性を有し、最
終到達アドミッタンスＹ_e もまた波長依存性を有してい
る。そのため、全可視波長領域に渡って、これをほぼ０
にすることは極めて困難である。しかしながら、可視波
長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのうち、特に人間の視感
度が強い波長は、５５０ｎｍを最大として５００ｎｍ〜
６００ｎｍ程度であるので、５００ｎｍ〜６００ｎｍの
波長領域において、｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ _a −
ｙ_e ）｜＜０．４、好ましくは、｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ
（ｙ_a −ｙ_e ）｜＜０．２となるよう、光学設計を行
い、薄膜を形成すれば、高透明かつ低反射な透明積層体
を得られるのである。

【００３１】以下、本発明の各層について具体的に説明
していく。本発明で言うところの隣接層（Ｃ）とは、透
明薄膜層（Ｂ）上に直接形成される層であって、後述す
る単一の層からなる透明保護層、または、透明保護層が
数層からなる場合には、薄膜形成面直上に形成される第
１層目であり、または、ガスバリア性等の機能を有する
か又はガスバリア性等の機能を有する膜を形成した高分
子フィルム、高分子シート、ガラス等を貼り合わせると
きの透明な粘着材層又は接着剤層等である。隣接層
（Ｃ）の屈折率ｎ_a 、消光係数ｋ_a は、アッベ屈折計、
エリプソメトリー（楕円偏光解析法）等を用いることに
よって測定することができる。また、透明薄膜層（Ｂ）
の屈折率、消光係数はエリプソメトリー等を用いること
ができる。

【００３２】本発明における透明基体（Ａ）としては、
ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子
成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れにくい
ため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視波長
領域において透明であればよく、その種類を具体的にあ
げれば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、
ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、トリアセチ
ルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。これら透明な高分子成形物は、主面が平滑
であれば板（シート）状であってもフィルム状であって
もよい。シート状の高分子成形物を基体として用いた場
合には、基体が寸法安定性と機械的強度に優れているた
め、寸法安定性と機械的強度に優れる透明積層体が得ら
れ、特にそれが要求される場合には好適に使用できる。
また、透明な高分子フィルムは可撓性を有しており透明
薄膜層をロール・ツー・ロール法で連続的に形成するこ
とができるため、これを使用した場合には効率よく、ま
た、長尺大面積に透明積層体を生産できることや、フィ
ルム状の透明積層体をディスプレイのガラスや調光体、
ディスプレイ用フィルターのガラス支持体に貼り付ける
ことによりガラス破損時の飛散防止になることから、こ
れもまた好適に使用できる。この場合フィルムの厚さは
通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの
厚さが１０μｍ未満では、基材としての機械的強度に不
足し、２５０μｍを超えると可撓性が不足するためフィ
ルムをロールで巻きとって利用するのに適さない。

【００３３】これらの基体は、その表面に予めスパッタ
リング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子
線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施してこ
の上に形成される薄膜層の上記基体に対する密着性を向
上させる処理を施してもよい。また、透明基体と薄膜層
との密着力を増強させるために、その間に任意の無機物
層を形成してもよい。具体的な材料としては、ニッケ
ル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタ
ン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれ
らの材料の２種類以上からなる合金があげられるが、特
にこれらに限定されるものではない。その厚さは、透明
性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは
０．０２nm〜１０nm程度である。厚さが薄いと密着力向
上の十分な効果が得られず、逆に厚すぎると透明性が損
なわれる。該無機物層の上に形成される薄膜層が酸化物
であると、該無機物層の金属の一部または全部は、実際
には金属酸化物となっているがその効果に問題はない。
また、薄膜層を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や
超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。

【００３４】本発明においては、かかる透明基体（Ａ）
の一方の主面上に、透明薄膜層（Ｂ）を形成する。透明
薄膜層（Ｂ）は、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴ
Ｏ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、
アンチモンをドープした酸化亜鉛（ＡＴＯ）等の１層の
薄膜層から構成されていてもよく、また高屈折率透明薄
膜層及び金属薄膜層の多層の薄膜層で構成されていても
良い。

【００３５】プラズマディスプレイの強度の電磁波を遮
蔽するには、電磁波シールド体とする透明積層体に面抵
抗３Ω／□以下、好ましくは２．５Ω／□以下の低抵抗
な導電性が要求される。電磁波遮蔽は電磁波の電磁波シ
ールド体における１）反射、２）吸収の効果によってな
される。吸収には電磁波シールド体に導電性が必要で、
前述したように、プラズマディスプレイ用電磁波シール
ドには、非常に低抵抗な導電層が要求される。また、デ
ィスプレイから発生する電磁波をすべて吸収するには、
導電層にはある値以上の厚みが必要であるが、導電層、
つまり、金属薄膜層を厚くすると可視光線透過率の低い
ものとなってしまう。したがって、高屈折率透明薄膜層
と金属薄膜層の多層積層により反射界面を増やし、電磁
波の反射を増やすことも重要である。

【００３６】また、プラズマディスプレイは、強度の近
赤外線を発するため、近赤外領域である８００〜１００
０nmの波長領域の光をカットする必要がある。例えば８
２０nmにおける光線透過率を１０％以下にする必要があ
るが、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の
限界から、電磁波シールド体自体が近赤外線カット性を
持つことが望ましい。近赤外線吸収色素を併用する場合
は、電磁波シールド体に要求される近赤外線カット性は
上記要求性能より低いものになるが、電磁波シールド体
の近赤外カット性があまり低いと近赤外線吸収色素の必
要量が多くなり、可視光線透過率の減少を招いてしま
う。そのため、電磁波シールド体は、例えば８２０nmに
おける光線透過率が、最低でも５０％以下であることが
望ましい。

【００３７】近赤外線カットには、金属の自由電子によ
る反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くする
と前述したように可視光線透過率も低くなり、薄くする
と近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さの金属
薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１
段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、か
つ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができ、ま
た、層数及び／またはそれぞれの層の厚さを制御するこ
とにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の
透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることが
できる。

【００３８】可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設
置時に画像の鮮明さが低下するため、ディスプレイ用フ
ィルターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも５
０％以上、好ましくは６０％以上である。可視光線反射
率が高いと、画面への照明器具等の映り込みが大きくな
り、視認性が低下する。なお、本発明における可視光線
透過率または可視光線反射率とは、透過率及び反射率の
波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算さ
れるものである。さらにフィルターの透過色は、ディス
プレイのコントラスト等に大きく影響し、プラズマディ
スプレイ用フィルターには、緑色は不適であり、ニュー
トラルグレー、または、ブルーグレーであることが要求
される。反射色も、目立たない、白色、青色、紫色系が
好ましい。このためにも、光学的に設計、制御しやすい
多層積層が好ましくなる。

【００３９】特に電磁波シールド性のための低抵抗性、
近赤外線カット性、低反射性、高透明性に優れた透明積
層体を得るには、薄膜形成面上に形成する隣接層（Ｃ）
のアドミッタンスＹ_a ＝ｘ_a ＋ｉｙ_a を考慮し、５００
ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域において到達アドミッタン
スＹ_e ＝ｘ_e ＋ｉｙ_e が、｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ _a
−ｙ_e ）｜＜０．４好ましくは｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ
（ｙ_a −ｙ_e ）｜＜０．２となるよう、光学設計をし、
透明薄膜層（Ｂ）を成膜する。この場合の透明薄膜層
（Ｂ）は、透明基体（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透
明薄膜層（Ｂ−１）、金属薄膜層（Ｂ−２）が透明基体
（Ａ）側から順次、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）を繰り返し
単位として３回以上繰り返し積層され、さらにその上に
少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｂ−１）が積層されて
いることが好ましい。繰り返し積層数は、３回〜６回が
好ましい。

【００４０】つまり、透明基体／高屈折率透明薄膜層／
金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折
率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、また
は、透明基体／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈
折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金
属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率
透明薄膜層、または、透明基体／高屈折率透明薄膜層／
金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折
率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属
薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透
明薄膜層、または、透明基体／高屈折率透明薄膜層／金
属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率
透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄
膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明
薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層である。繰り
返し回数が２回以下であると、近赤外線の低透過率、可
視光線の低反射率、低抵抗性を同時に達成するのは困難
であり、繰り返し回数が７回以上だと生産装置の制限、
生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率が低
くなる。

【００４１】上記の積層により形成された透明積層体
は、近赤外線抑止能および低反射性、高透明性に優れ、
また、通常一般の有機色素のみで近赤外線を抑止するデ
ィスプレイ用フィルターと比較して、湿度、熱、光とい
った環境による劣化が少ない。従って、プラズマディス
プレイをはじめとするディスプレイ用近赤外線カットフ
ィルターとしても好適に使用できる。

【００４２】また、透明積層体を熱線反射体をはじめと
する調光体として使用する場合は、要求される赤外線抑
止能はディスプレイ用フィルターよりも低く、また、要
求される可視光線透過率は一般に高い。例えば、自動車
用フロントガラスでは日射透過率は６０％以下、好まし
くは５０％以下程度を要求され、可視光線透過率は法的
に７０％以上であることを求められている。ここで日射
透過率とはＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って求められる
ものである。従って、ディスプレイ用フィルターに用い
る透明積層体に比べ赤外線抑止能は比較的低くても良い
ため、多層積層したときの金属薄膜層の層数は少なくて
良く、また、少なくすることにより可視光線透過率の高
い透明積層体を得ることができるのである。

【００４３】すなわち、前記したアドミッタンスを考慮
して光学設計し、成膜した透明薄膜層（Ｂ）が、透明基
体（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ−
１）、金属薄膜層（Ｂ−２）が透明基体（Ａ）側から順
次、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）を繰り返し単位として１回
以上繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈
折率透明薄膜層（Ｂ−１）が積層することによって、近
赤外線カット性、低反射性、高透明性に優れた調光体用
透明積層体が得られるのである。繰り返し積層数は、１
回〜３回が好ましい。つまり、透明基体／高屈折率透明
薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、透
明基体／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透
明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、
透明基体／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率
透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄
膜層／高屈折率透明薄膜層である。繰り返し回数が４回
以上だと、一般に熱線反射体等の調光体は比較的低価格
であることが求められるため、生産性が問題となり、ま
た、可視光線透過率が比較的低くなる。

【００４４】多層積層したときの金属薄膜層（Ｂ−２）
としては、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、クロ
ム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ
等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金が
あげられる。なかでも銀は、導電性、赤外線反射性およ
び高屈折率透明薄膜層で挟み込んだときの多層積層した
ときの可視光線透過性に優れるため好適に使用できる。
しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚
染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に
金、白金、パラジウム、インジウム、スズ等の環境に安
定な金属を一種以上含んだ合金も好適に使用される。こ
こで、銀を含む合金の銀の含有率は、特に限定されるも
のではないが銀薄膜の導電性、光学特性と大きく変わら
ないことが望ましく、５０重量％以上１００重量％未満
程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加する
と、その優れた導電性、光学特性を阻害するので、可能
であれば少なくとも１つの層は銀を合金にしないで用い
ることが望ましい。全金属薄膜層が、合金ではない銀で
構成される場合、優れた導電性および光学特性を有する
透明積層体が得られるが、耐環境性が十分ではない。ま
た、隣接する高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、該
金属薄膜層の金属の一部は、実際には金属酸化物となっ
ていることがあるが、非常に薄い領域であるため光学設
計及び成膜上、特に問題はない。

【００４５】金属薄膜層の厚さは、導電性、光学特性等
から光学設計的かつ実験的に求められ、透明積層体が要
求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性
等から薄膜が連続状態であることが必要なので４nm以上
であることが望ましく、金属薄膜層が厚すぎると透明性
が問題になるので３０nm以下が望ましい。金属薄膜層の
形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真
空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用で
きる。また、金属薄膜第１層、・・・、第ｎ層（ｎ≧
１）は、同じ厚さとは限らず、同じ金属あるいは合金で
なくともよい。

【００４６】多層積層したときの高屈折率透明薄膜層
（Ｂ−１）を形成する透明薄膜としては、可視域におい
て透明性を有し、金属薄膜層における可視域における光
線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定さ
れるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６
以上、好ましくは１．７以上の屈折率の高い材料が用い
られる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料と
しては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマ
ス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネ
オジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウ
ム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化
亜鉛などが挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物
は、金属と酸素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレ
があっても、光学特性を大きく変えない範囲であるなら
ば差し支えない。なかでも、酸化インジウムや酸化イン
ジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折
率に加えて、成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が
良好であることから好適に使用できる。また、ＩＴＯと
いった比較的高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用い
ることによって、電磁波の吸収層を増やし、また電磁波
シールド体の導電性を上げることもできる。

【００４７】高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明基体の
光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、高屈
折率透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に
求められ、特に限定されるものではないが、５nm以上２
００nm以下であることが好ましく、より好ましくは１０
nm以上１００nm以下である。また、高屈折率透明薄膜第
１層、第２層、・・・第ｎ層（ｎ≧２）は、同じ厚さと
は限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率
透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレー
ティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工
等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。

【００４８】なかでもスパッタリングは、膜厚制御、多
層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜
層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。具体例として
は、実施例において後述するが、主として酸化インジウ
ムで構成される高屈折率透明薄膜層と銀または銀を含む
合金からなる金属薄膜層をスパッタリング法により連続
成膜する。主として酸化インジウムで構成される高屈折
率透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分とする金
属ターゲットまたは酸化インジウムを主成分とする焼結
体ターゲットを用いた反応性スパッタリングを行う。反
応性スパッタリング法においては、スパッタガスにはア
ルゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を用い、通
常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは
高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法等が利用
できる。酸素ガス流量は得られる成膜速度等から実験的
に求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られるように
制御する。銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層の
形成には、銀または銀を含む合金をターゲットとしたス
パッタリングを行う。スパッタガスにはアルゴン等の不
活性ガスを用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直
流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッ
タリング法等が利用できる。

【００４９】このように、所望の光学特性の透明積層体
を得るために、光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、
層数、膜厚等を決定する。また、５００ｎｍ〜６００ｎ
ｍの波長領域において、｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −
ｙ_e ）｜＜０．４好ましくは｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ
_a −ｙ_e ）｜＜０．２となるよう、光学設計を行った透
明基体（Ａ）／透明薄膜層（Ｂ）の光学特性を計算によ
り求め、計算した光学特性に合わせるように、光学特性
を観察しながら膜厚等を制御して成膜を行うことによっ
ても、所望の光学特性の透明積層体を得ることもでき
る。

【００５０】金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄
膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を
損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。具
体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、銀、白
金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、ス
ズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上
からなる合金があげられ、その厚さは、好ましくは０．
０２nm〜２nm程度で、厚さが薄すぎると密着力向上の十
分な効果が得られない。高屈折率透明薄膜層が酸化物で
あると、該無機物層の金属の一部または全部は、実際に
は金属酸化物となっているがその効果に問題はない。

【００５１】上記の方法により形成した、高屈折率透明
薄膜層および金属薄膜層の原子組成は、オージェ電子分
光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザ
フォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。ま
た、層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向
観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定で
きる。また膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係をあらか
じめ明らかにした上で成膜を行うことや、水晶振動子等
を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより、制御され
る。

【００５２】また、先述した様に、金属薄膜層に好適に
使用できる銀は、化学的、物理的安定性に欠け、環境中
の汚染物質、水蒸気等によって劣化し、凝集、白化現象
を起こすため、透明積層体の薄膜形成面には、薄膜が使
用環境中の汚染物質、水蒸気にさらされないようにガス
バリア性を有する透明保護層で被覆することが好まし
い。必要とされるガスバリア性は、透湿度で１０g/m²・
day 以下、好ましくは５g/m²・day 以下、さらに好まし
くは１g/m²・day 以下である。また、薄膜形成面は耐擦
傷性に乏しいため、薄膜形成面に耐擦傷性を付与するハ
ードコート性を有する透明保護層で被覆することが望ま
しい。透明保護層がガスバリア性とハードコート性を両
方有しているとより好ましい。

【００５３】透明保護層とは、これらの機能を有する、
可視波長領域で透明な層であり、これらの機能を有する
膜、または、これらの機能を有する膜が形成されている
透明成形物、これらの機能を有する透明成形物を示して
いるのであって、これらの機能を有する膜を、化学的気
相成長法（ＣＶＤ）、蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティング、塗布、または印刷ほか、従来公知の各種
成膜法により形成しても、これらの機能を有する高分子
フィルム、高分子シート、ガラス、または、これらの機
能を有する膜を形成した高分子フィルム、高分子シート
を任意の接着剤、粘着材を介して貼り付けても良いし、
さらには部材を貼り合わせる接着剤、粘着材がこれらの
機能を有していても良い。これらの作製方法は特に制限
を受けない。

【００５４】透明保護層が反射防止性及び／またはアン
チニュートンリング性及び／又はアンチグレア性を有し
ていても良い。この場合は、これらの機能を付与する必
要があるときに、別途これらの機能を有する層を設ける
必要がなくなり好適である。逆に、これらの機能を有す
る層がガスバリア性及び／又はハードコート性を有して
いても良い。

【００５５】ガスバリア性を有する膜の具体例として
は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化イン
ジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、また
はこれらの混合物、またはこれらに微量に他の元素を添
加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、ア
クリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレ
タン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれ
らに限定されるものではない。これらの膜の厚さは、金
属酸化物薄膜の場合、１０〜２００ｎｍ、樹脂の場合１
〜１００μｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、こ
れもまた特に制限されるものではない。これら膜を形成
した高分子フィルムを透明な粘着材または接着剤を介し
て貼り合わせても良い。また、透湿度が低い高分子フィ
ルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロ
ン、ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニ
ル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フ
ッ素系樹脂等が挙げられるが、特に限定されるものでは
ない。透湿度が比較的高い場合でも、フィルムの厚みが
増えることや適当な添加物を加えることにより、透湿度
は低下する。従って、上記の透湿度を達成するに十分な
厚みを有するポリエチレンテレフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリエーテル
エーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等でも良い。

【００５６】また、金属薄膜の劣化を抑制する化合物を
任意の溶剤に溶かし込み、本発明の透明積層体の薄膜形
成面の表面または端面に塗布しても良い。ハードコート
性を有する膜としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹
脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等
の膜が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
ハードコート性を有する膜の形成方法としては、用いる
樹脂によって、印刷、塗工する方法など従来公知の方法
を選定して用いることができ、その厚さは１〜１００μ
ｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、これらもまた
特に限定されるものではない。

【００５７】本発明においての貼り合わせには、任意の
粘着材又は接着剤を使用できる。この際肝要なことは、
本発明の透明積層体を調光体に用いる粘着材又は接着
剤、及び、ディスプレイ用フィルターとして用いる場合
にディスプレイからの光線透過部である中心部分に用い
られる粘着材又は接着剤は、可視光線に対して充分透明
である必要がある。粘着材又は接着剤は、実用上の接着
強度があればシート状のものでも液状のものでもよく、
粘着シート貼り付け後または接着剤塗布後に各部材をラ
ミネートすることによって貼り合わせを行う。液状のも
のは塗布、貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬
化する接着剤であり、塗布方法としては、バーコート
法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート
法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、
粘度、塗布量等から考慮、選定される。粘着材もしくは
接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、
０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍで
ある。粘着材または接着剤を用いて貼り合わせた後は、
貼り合わせ時に部材間に入り込んだ空気を、脱泡また
は、粘着材または接着剤に固溶させ、部材間の密着力を
向上させる為に、加圧、加温の条件で養生を行うことが
肝要である。このとき、加圧条件としては数気圧〜２０
気圧以下程度、加温条件としては各部材の耐熱性に依る
が、室温以上８０℃以下程度であるが、これらに特に制
限を受けない。

【００５８】また特に、ある種の機能を有するフィルム
を透明積層体の薄膜形成面側に貼り合わせる場合、その
際に使用する接着剤・粘着材、または、接着剤・粘着材
／該フィルムがガスバリア性を有している場合は、より
好適に使用できる。これらフィルムがガスバリア性を有
していなくても、ガスバリア性を有する透明保護層を別
途形成する必要がない。

【００５９】以上の如く、本発明の透明積層体を得る
が、電磁波シールド性を付与したディスプレイ用フィル
ターを得るためには、導電面すなわち薄膜形成面とディ
スプレイ本体とが電気的に接触する必要がある。電磁波
は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、
アースをとる事によって電荷を逃がさないと、再び電磁
波シールド体がアンテナとなって電磁波を発振してしま
う。そのため、電磁波シールド体である透明積層体に電
極を形成し、ディスプレイ本体のアース用電極に確実に
接触させることが重要である。すなわち、薄膜形成面が
一部剥き出しており、隣接層（Ｃ）は、電気的接触を得
る部分以外に形成されている必要がある。

【００６０】さらには、電気的接触を良好にするため
に、電気的接触を行う薄膜形成部分に金属電極を形成す
ることが望ましい。電極形状は特に限定しないが、透明
積層体の導電面すなわち薄膜形成面の、ディスプレイか
らの光線透過部（透光部）である中心部分を除く、周縁
部分に、例えば枠状に、平面な金属電極を形成する。電
極形状の具体例を（図２）に示すが、これらに限定され
るものではない。電極に用いる材料は、導電性、耐触性
および薄膜形成面との密着性等の点から、銀、金、銅、
白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、等
の単体もしくは２種以上からなる合金や、ポリエステル
等の合成樹脂と銀または銀を含む合金の混合物、もしく
は、ホウケイ酸ガラスと銀または銀を含む合金の混合物
からなる銀ペーストを使用できる。電極形成にはメッキ
法、真空蒸着法、スパッタ法など、銀ペーストといった
ものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用で
きる。金属電極の厚さは、これもまた特に限定されるも
のではないが、数μｍ〜数ｍｍ程度である。金属電極と
薄膜形成面すなわち導電面の接触界面にはガスバリア層
が存在しないが、金属電極が十分厚い場合は金属電極が
ガスバリア性を有することになる。また、逆に、ガスバ
リア性を有する厚さに形成すればよい。また、全薄膜形
成面上が、ガスバリア性を有する透明保護層及び／また
はガスバリア性を有する金属電極で被覆されていること
が望ましい。どちらも形成されていない部分が存在する
と、その部分から環境中の汚染物質、水蒸気が入り込
み、白化現象が生じてしまう。

【００６１】本発明の透明積層体は、透明基体（Ａ）に
高分子フィルムを用いた場合、強度やディスプレイとの
貼り合わせ時の平面性、設置方法の問題から、主面の平
滑な板状の透明成形体と貼り合わせて用いることが望ま
しい。調光体として用いる場合も同様である。貼り合わ
せは、透明成形体の主面と、透明積層体の薄膜形成面で
ない主面を接着剤又は粘着材を介して行う。電磁波シー
ルド能を必要としないディスプレイ用フィルターや調光
体の場合、貼り合わせは透明積層体のどちらの主面でも
良い。特に、薄膜形成面と透明成形体の主面を貼り合わ
せ場合は、別途透明保護層を設ける必要がない場合があ
り、好適である。透明成形体としては、機械的強度や、
軽さ、割れにくさから、可視域において透明なプラスチ
ック板が望ましいが、熱による変形等の少ない熱的安定
性からガラス板も好適に使用できる。プラスチック板の
具体例を挙げると、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭ
Ａ）をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、透明ＡＢＳ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に
限定されるものではない。特にＰＭＭＡはその広い波長
領域での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用で
きる。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、た
わまずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に
限定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度
である。ガラス板を透明成形体として使用する場合は、
機械的強度を付加するために化学強化加工または風冷強
化加工を行った半強化ガラス板または強化ガラス板を用
いることが望ましい。

【００６２】ディスプレイ用フィルターは、フィルター
の主面とディスプレイ表面を密着させて使用する場合、
ディスプレイ表面とディスプレイ用フィルターの密着度
が部分によって異なるために、それによって生じる間隙
を原因とするニュートンリングが発生してしまう。その
ため、ディスプレイ用フィルターのディスプレイ表面と
密着する主面上には、アンチニュートンリング層を形成
する必要がある。この際肝要なことは、ディスプレイ用
フィルターから電磁波シールドを目的として電気的接触
を得る場合、アンチニュートンリング層が金属電極とデ
ィスプレイ本体との接触を妨げることがあってはならな
いことである。

【００６３】また、ディスプレイへの照明器具等の映り
込みによって表示画面が見づらくなってしまうため、デ
ィスプレイ用フィルターの人側すなわち装着したときの
ディスプレイ本体側と反対側の面に、反射防止層を形成
することにより外光反射を抑制するか、アンチグレア層
を形成することによって防眩性を持たせることが好まし
い。さらに、ディスプレイ用フィルターの外光反射は、
装着したときのディスプレイ本体側の面にも反射防止層
を形成することによって、さらに低減できる。また、反
射防止層の形成により、ディスプレイ用フィルターの反
射を減じることによって、光線透過率を向上させること
もできる。

【００６４】アンチニュートンリング層、アンチグレア
層、および反射防止層における層とは、各機能を有する
膜、または、各機能を有する膜が形成されているものを
示しているのであって、各機能を有する膜を塗布または
印刷または従来公知の各種成膜法により形成しても、各
機能を有する膜を形成した透明成形物、または、各機能
を有する透明成形物を任意の接着剤または粘着材を介し
て貼り付けても良い。これらの作成方法は特に制限を受
けない。透明成形物の種類、厚さも特に制限を受けな
い。

【００６５】反射防止層は、反射防止膜を形成する基体
の光学特性を考慮し、前述したようなアドミッタンス図
を用いる方法や、ベクトル図法といった光学設計によっ
て反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定す
る。具体的には、可視域において屈折率の低いフッ素系
透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂
や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単
層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化
物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の
無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ
素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層した
ものがある。単層形成したものは、製造が容易である
が、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積層したも
のは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体
の光学特性による光学設計の制限が少ない。これらの無
機化合物薄膜は、スパッタリング、イオンプレーティン
グ、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従
来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜
は、湿式塗工等、従来公知の方法を採用できる。また、
フッ素系樹脂フィルムは、可視波長領域における屈折率
がおよそ１．４以下と小さいため、反射率が低く、その
まま反射防止層として使用できる。

【００６６】また、透明積層体の薄膜形成面側に形成す
る反射防止層、すなわち、反射防止膜、反射防止膜を形
成した透明成形物、または、反射防止膜を有する透明成
形物が、ガスバリア性及び／またはハードコート性を有
していると、部材低減につながるため、好適である。具
体例としては、酸化珪素を１／４波長の光学膜厚で単層
形成したポリエチレンテレフタレートフィルムや、フッ
素系樹脂フィルムが挙げられ、これらは、透湿度が低
く、また、反射防止能を有しており、薄膜を保護するこ
とができる。

【００６７】アンチニュートンリング層とアンチグレア
層は、用途が異なるだけで、０．１μｍ〜１０μｍ程度
の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明
な層を指している。アンチニュートンリング層はアンチ
グレア性を有している。特に具体的には、アクリル系樹
脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹
脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光
硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化
合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したも
のを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコー
ト法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上
に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍ
である。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メ
ラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ
素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹を基体に塗布し、
所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化
することによってもアンチニュートンリング層またはア
ンチグレア層を得ることができる。さらには、例えばガ
ラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体を薬剤
処理することによってもアンチグレア層を得ることがで
きる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性によ
り、アンチグレア層のヘイズを調節する事ができる。要
は適当な凹凸を有することが重要であり、必ずしも上記
方法に限定されるものではない。アンチグレア層または
アンチニュートンリング層のヘイズは0.5 ％以上20％以
下であり、好ましくは１％以上10％以下である。ヘイズ
が小さすぎるとアンチグレア能またはアンチニュートン
リング能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光
線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くな
る。

【００６８】また、透明積層体の薄膜形成面側にアンチ
ニュートンリング層またはアンチグレア層を要する場
合、前述の透明保護層中に上記のような無機化合物また
は有機化合物の粒子を分散させると、透明保護層がアン
チニュートンリング性またはアンチグレア性を有し、部
材低減につながり、好適である。

【００６９】ディスプレイ用フィルターがディスプレイ
本体に密着せずに離れて設置される場合等、フィルター
最表面のアンチグレア層がディスプレイ表面から比較的
距離があると、画像の拡散によるボケが生じる場合があ
る。この為このような設置方法の場合は、アンチグレア
層は防眩性を維持し、且つ、ディスプレイから適当距離
はなしても画像のボケのないヘイズのものを選択するこ
とが肝要である。

【００７０】さらには、ディスプレイ用フィルターに耐
擦傷性を付加させるために、特にフィルターの人側表面
に、光学特性をはじめとするディスプレイ用フィルター
の特性を損なわない程度に透明性を有するハードコート
層を形成しても良い。アンチグレア層がハードコート性
を有していても良いし、反射防止層がハードコート性を
有していても良い。

【００７１】さらに、ディスプレイ表面には、静電気帯
電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触した
ときに放電して電気ショックを受けることがあるため、
静電防止処理を行う必要とされる場合がある。静電防止
能については、ディスプレイ表面に導電膜を直接形成す
るか、導電膜を有する部材をディスプレイ表面に張り付
け、導電膜をアースすることにより解決できる。従っ
て、ディスプレイ用フィルターに静電防止能を付与する
ために、ディスプレイ用フィルターの人側となる面に、
導電層を設けても良い。この場合に導電膜は面抵抗で１
０⁸ Ω／□程度以下であれば良く、ディスプレイ画面の
透明性や解像度を損なうものであってはならない。

【００７２】静電防止能を有するディスプレイ用フィル
ターは、静電防止用の透明導電層が以下のように形成さ
れていればよい。（１）アンチグレア層上に透明導電層
を形成する（２）反射防止層またはアンチグレア層が透
明導電性を有している、である。（１）では、すでに述
べたＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜を前述した
ような方法で成膜するか、ＩＴＯを成膜した高分子フィ
ルムを貼り合わせることによって、透明導電層を形成す
る。この際肝要なことは、透明導電層を形成しても防眩
性をあまり損なわないことである。アンチグレア層上に
透明導電層を形成する場合は、静電防止能の要求する導
電性は比較的低くて良いため、防眩性を損なわない程度
の薄い膜で十分効果がある。（２）では、アンチグレア
層中にＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとす
る導電性超微粒子を分散させたものであり、反射防止層
の場合は、反射防止層の構成要素として透明導電層を含
め、光学設計を行えばよい。具体例を挙げれば、基体／
ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、基
体／ＩＴＯ／含フッ素化合物等が挙げられる。

【００７３】本発明の透明積層体は、電磁波シールド能
に加え、近赤外線カット性を有するが、透明積層体が８
２０ｎｍより長波長の領域での光線透過率が１０％満た
ない場合、透明積層体の赤外線カット能を補填するため
に、近赤外線吸収色素を併用しても良い。また、先述し
たように、ディスプレイ用フィルターはニュートラルグ
レーまたはブルーグレーの透過色が望ましく、透明積層
体の色調を調整し、上記のような透過色のディスプレイ
用フィルターを得るために、可視領域に吸収のある市販
の色素を調色用色素として併用しても良い。すなわち、
すでに述べてきた透明基体（Ａ）及び／又は隣接層
（Ｃ）に色素を含有した透明積層体およびそれを用いた
ディスプレイ用フィルター、または、透明積層体に貼り
合わせられる、もしくは形成される透明成形体、反射防
止層、アンチグレア層、アンチニュートリング層、ハー
ドコート層、貼り合わせに使用される粘着材、接着剤の
いずれか一つ以上が色素を含有しているディスプレイ用
フィルター、または、ディスプレイ用フィルターの構成
要素としてディスプレイ用フィルターを構成する各部材
のいずれかの間に任意の粘着材又は接着剤を介して色素
を含有する透明成形物を貼り合わせたディスプレイ用フ
ィルターは、色素が近赤外線吸収色素である場合は薄膜
による近赤外線カット能を補填し、近赤外線カット能に
優れ、また、色素が調色用色素の場合は、色調に優れ
る。

【００７４】近赤外線吸収色素は、透明積層体の近赤外
線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強
度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するもので
あれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定され
るものではない。

【００７５】また、可視領域に吸収のある市販の調色用
色素の濃度は、色素の吸収係数、調色を要する積層体の
色調、可視光線透過率およびディスプレイ用フィルター
に要する色調、可視光線透過率等から決まり、特に限定
されるものではない。

【００７６】色素の含有とは、基材の内部に含有される
ことは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の
間に挟まれた状態等を意味する。ここでいう基材とは前
述した透明積層体の透明基体（Ａ）、隣接層（Ｃ）、透
明積層体を貼り合わせる透明成形体、反射防止層、アン
チグレア層、アンチニュートンリング層、ハードコート
層のいずれか、または、ディスプレイ用フィルターに挟
み込む、色素を含有させる透明成形物である。反射防止
層、アンチグレア層、アンチニュートンリング層、ハー
ドコート層は各機能を有する膜中に色素を含有していて
も、各機能を有する膜が色素を含有する透明成形物上に
形成されていていても良い。色素を含有する透明成形物
としては、透明プラスチック板、透明高分子フィルム、
透明ガラス等が挙げられる。色素の含有量は、前述の如
く、透明積層体の光学特性とディスプレイ用フィルター
に必要とする光学特性に依る。

【００７７】色素を含有する透明成形物を作製する方法
としては、特に限定されるものではないが、例えば、以
下の３つの方法が利用できる。 （１）樹脂に色素を混練し、加熱成形してプラスチック
板或いは高分子フィルムを作製する方法、（２）色素を
含有する塗料を作製し、透明プラスチック板、透明高分
子フィルム、或いは透明ガラス板上にコーティングする
方法、（３）色素を接着剤に含有させて、合わせプラス
チック板、合わせ高分子フィルム、合わせガラス等を作
製する方法、等である。

【００７８】まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する
（１）の方法において、樹脂材料としては、プラスチッ
ク板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明
性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及び
それらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル
酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ
化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、フッ化
ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体、シアン
化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又
はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレ
ン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロ
プロピレン等のフッ素を含む化合物、ナイロン６、ナイ
ロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、
ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、ポリ
エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエ
ーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹
脂に限定されるものではない。

【００７９】作製方法としては、用いる色素、ベース高
分子成形体によって、加工温度、フィルム化条件等が多
少異なるが、通常、(i) 色素を、ベース高分子成形体の
粉体或いはペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加
熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、(i
i)押し出し機によりフィルム化する方法、(iii) 押し出
し機により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍
に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフ
ィルムにする方法、等が挙げられる。なお、混練する際
に、紫外線吸収剤、可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる
添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係
数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目
的の可視光透過率等によって異なるが、通常、１ｐｐｍ
〜２０％である。

【００８０】塗料化してコーティングする（２）の方法
としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解
させて塗料化する方法、ジチオール錯体化合物を数μｍ
以下に微粒化してアクリルエマルジョン中に分散して水
系塗料とする方法、等がある。前者の方法では、通常、
脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオ
レフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或
いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用い
る。

【００８１】溶媒としては、ハロゲン系、アルコール
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物
系等を用いる。色素の濃度は、色素の吸収係数、コーテ
ィングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等
によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通
常、０．１〜３０％である。また、バインダー樹脂濃度
は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。アク
リルエマルジョン系水系塗料の場合も同様に、未着色の
アクリルエマルジョン塗料にジチオール錯体化合物を微
粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて得られ
る。塗料中には、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の通常塗
料に用いるような添加物を加えてもよい。

【００８２】上記の方法で作製した塗料は、透明高分子
フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダ
ー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコー
ター、ダイコーター、或いはスプレー等でコーティング
して、色素を含有する基材を作製する。また、コーティ
ング面を保護するために保護層を設けたり、透明樹脂
板、透明高分子フィルム等をコーティング面に貼り合わ
せることもできる。また、キャストフィルムも本方法に
含まれる。

【００８３】色素を接着剤に含有させて、合わせ樹脂
板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス等を作製する
（３）の方法においては、接着剤として、一般的なシリ
コン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、或いは合
わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤（ＰＶ
Ｂ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等の合
わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。色素を
０．１〜３０％添加した接着剤を用いて透明な樹脂板同
士、樹脂板と高分子フィルム、樹脂板とガラス、高分子
フィルム同士、高分子フィルムとガラス、ガラス同士を
接着してを作製する。

【００８４】上記の色素を含有する接着剤は、透明積層
体、透明保護層、透明成形体、反射防止層、アンチグレ
ア層、アンチニュートンリング層、ハードコート層、色
素を含有する透明成形物等の各部材の貼り合わせに用い
ても良い。また、プラズマディスプレイ用フィルター
は、８００〜１０００nmの波長領域で強度の近赤外線を
カットする必要があり、このために必要であれば、２種
類以上の近赤外線色素を組み合わせることもでき、さら
に色調を整えるため１種以上の可視波長領域に吸収を有
する色素を組み合わせることもできる。色素含有のディ
スプレイ用フィルターの耐光性を上げるためにＵＶ吸収
剤を含有した透明フィルム（ＵＶカットフィルム）を貼
りつけることもできる。

【００８５】以上のようにして得られた本発明のディス
プレイ用フィルターの用途、装着方法としては大きく分
けて、以下のものが挙げられるが、これらに特に制限さ
れるものではない。（１）電磁波シールド能および近赤
外線カット能を有するディスプレイ用フィルターでフィ
ルター主面をディスプレイ画面に密着させて装着する。
ディスプレイとの電気的接触はディスプレイ用フィルタ
ーのディスプレイ側の主面になる場合。（２）電磁波シ
ールド能および近赤外線カット能を有するディスプレイ
用フィルターでフィルター主面をディスプレイ画面から
離して装着する。ディスプレイとの電気的接触はディス
プレイ用フィルターのディスプレイ側の主面になる場
合。（３）近赤外線カット能を有するディスプレイ用フ
ィルターでディスプレイ画面に密着させて装着する
（４）近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィル
ターでフィルター主面をディスプレイ画面から離して装
着する。

【００８６】（１）はアンチニュートンリング層が透明
保護層の役割を有している場合、（図３）をもって説明
するに、通常、ディスプレイ側から、金属電極２０・ア
ンチニュートンリング層４０／透明積層体１０／透明成
形体３０／反射防止層またはアンチグレア層５０の順で
構成される。ここで透明積層体は透明薄膜層上に主とし
て粘着材６０が形成されてなるものであるが、金属電極
を形成する部分には、粘着材は形成されていない。アン
チニュートンリング層が透明保護層の役割を有していな
い場合、ディスプレイ側から、金属電極・アンチニュー
トンリング層／透明保護層を隣接層とする透明積層体／
透明成形体／反射防止層またはアンチグレア層の順で構
成される。金属電極を形成する部分には、先述したよう
に電気的接続のため隣接層は形成しない。

【００８７】（２）は、反射防止層またはアンチグレア
層が透明保護層の役割を有している場合、通常、ディス
プレイ側から、金属電極・反射防止層またはアンチグレ
ア層／透明積層体／透明成形体／反射防止層またはアン
チグレア層の順で構成される。ここで透明積層体は透明
薄膜上に主として粘着材が形成されてなるものである。

【００８８】（３）は、アンチニュートンリング層が透
明保護層の役割を有している場合、（図４）をもって説
明するに、通常、ディスプレイ側から、アンチニュート
ンリング層４０／透明積層体１０／透明成形体３０／反
射防止層またはアンチグレア層５０の順で構成される。
ここで透明積層体は透明薄膜上に主として粘着材６０が
形成されてなるものである。

【００８９】（４）は、反射防止層またはアンチグレア
層が透明保護層の役割を有している場合、通常、ディス
プレイ側から、反射防止層またはアンチグレア層／透明
積層体／透明成形体／反射防止層またはアンチグレア層
の順で構成される。ここで透明積層体は透明薄膜上に主
として粘着材が形成されてなるものである。近赤外線吸
収色素を用いる場合は、色素が上記の各構成要素のいず
れか１つ以上に含有されるか、色素を含有する透明成形
物が上記の各構成要素の間のいずれかに挟み込まれる。
すなわち、例えば（２）において反射防止層またはアン
チグレア層が透明保護層の役割を有する場合は、通常、
ディスプレイ側から、金属電極・反射防止層またはアン
チグレア層／透明積層体／透明成形体／色素を含有する
透明成形物／反射防止層またはアンチグレア層の順で構
成される。色素を含有する透明成形物上に反射防止性ま
たはアンチグレア性を有する膜を直接形成しても良い
し、各機能を有するフィルムを貼り合わせても良い。

【００９０】上記（３）の場合、通常アンチニュートン
リング層はアンチグレア性を有しており、さらにディス
プレイ用フィルターの人側面のアンチグレア層がアンチ
ニュートンリング性を有していれば、ディスプレイ用フ
ィルターのどちら面をディスプレイ画面に密着させて用
いることができる。

【００９１】本発明のディスプレイ用フィルターは、デ
ィスプレイに装着したとき、装着用冶具、電極部分等が
視認者から見えないようにするために、任意の額縁印刷
を施して良い。印刷形状、印刷面、印刷色、印刷方法は
特に特定されるものではない。また、ディスプレイに装
着するための穴加工等の加工を施しても良い。さらに偏
光フィルムや位相差フィルム等をつけて円偏光フィルタ
ーの性能を付加することで、ディスプレイ側からの反射
光を抑えることができ、さらに優れたフィルターとな
る。

【００９２】本発明の透明積層体を用いた調光体におい
ても、ディスプレイ用フィルターと同様に、反射防止処
理等を施すことにより、さらに低反射化、高透明化を図
ること、防眩処理による防眩性付与、色素を用いた調色
及び／または赤外線カット能の補填等を任意に行うこと
によって、更に優れた調光体を得ることができる。

【００９３】以上のようにして得られた本発明の透明積
層体は、低反射性、高透明性、耐候性・耐環境性、耐擦
傷性に優れており、ディスプレイ用フィルターとして用
いた場合はディスプレイの鮮明度が損なわれず、ディス
プレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁
波を遮断する電磁波シールド性に優れ、さらに、ディス
プレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線光
を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、
伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それ
らの誤動作を防ぐことができる。調光体として用いた場
合は、低反射性、高透明性、耐候性・耐環境性、耐擦傷
性に優れている。

【００９４】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により具体的に説明
する。本発明はこれによりなんら制限されるものではな
い。以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚さは、成
膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではな
い。 ［実施例１］２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ターゲットに
酸化インジウム・酸化スズ焼結体（組成比Ｉｎ₂ Ｏ₃ ：
ＳｎＯ₂ ＝９０：１０ｗｔ％）を、スパッタガスにアル
ゴン・酸素混合ガス（全圧２６６mPa ：酸素分圧５mPa
）を用いて、ＩＴＯ薄膜を、ターゲットに銀を、スパ
ッタガスにアルゴンガス（全圧２６６mPa ）を用いて銀
薄膜を、マグネトロンＤＣスパッタリング法により、Ｉ
ＴＯ薄膜４０nm、銀薄膜１０nm、ＩＴＯ薄膜８０nm、銀
薄膜１５nm、ＩＴＯ薄膜８０nm、銀薄膜１０nm、ＩＴＯ
薄膜４０nmの順に積層し、透明薄膜形成面上にアクリル
系粘着材（波長５００ｎｍ〜６００においてｎ_a ＝１．
６４、ｋ_a ＝０）を貼り合わせ本発明の透明積層体を作
製した。

【００９５】［比較例１］各薄膜層の膜厚がポリエチレ
ンテレフタレートフィルム側から順に、ＩＴＯ薄膜４０
nm、銀薄膜１２nm、ＩＴＯ薄膜７５nm、銀薄膜１２nm、
ＩＴＯ薄膜７０nm、銀薄膜１２nm、ＩＴＯ薄膜４０nmで
ある以外は、実施例１と同様に透明積層体を作製した。

【００９６】［実施例２］２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、
ターゲットにインジウムを、スパッタガスにアルゴン・
酸素混合ガス（全圧２６６mPa ：酸素分圧８０mPa ）を
用いて、酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、ス
パッタガスにアルゴンガス（全圧２６６mPa ）を用いて
銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッタリング法により、
酸化インジウム薄膜４５nm、銀薄膜８nm、酸化インジウ
ム薄膜８５nm、銀薄膜８nm、酸化インジウム薄膜４５nm
の順に積層した以外は、実施例１と同様に本発明の透明
積層体を作製した。

【００９７】［比較例２］各薄膜層の膜厚がポリエチレ
ンテレフタレートフィルム側から順に、酸化インジウム
薄膜４０nm、銀薄膜５nm、酸化インジウム薄膜９０nm、
銀薄膜１０nm、酸化インジウム薄膜４５nmである以外
は、実施例２と同様に透明積層体を作製した。

【００９８】［実施例３］実施例２の透明積層体の粘着
材面とを厚さ３mmの強化ガラス板の主面を貼り合わせ、
本発明の調光体を作製した。

【００９９】［実施例４］実施例１と同様にポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上の一方の主面上に透明薄膜
層を形成し、薄膜が形成されていない面と、片面にアン
チグレア層を有する厚さ2mm のＰＭＭＡ板（三菱レイヨ
ン（株）製アクリルフィルターMR-NG ）のアンチグレア
層の形成されていない面を粘着材を介して貼り合わせ
た。さらに透明積層体（４７０mm×３５０mm）の薄膜形
成面すなわち導電面に（図１）に示すように銀ペースト
（三井東圧化学（株）製）をスクリーン印刷し、乾燥さ
せ厚さ２０μｍ、幅１０mmの金属電極を形成した。ま
た、ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユ
ニチカ（株）製）に下記式（６）（化１）で示されるジ
チオール錯体を０．１ｗｔ％混合し、260 〜280 ℃で溶
融させ、押し出し機により厚み１００μｍのフィルムを
作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み
５０μｍのフィルムとし、このフィルムの一方の主面
に、フッ化マグネシウム薄膜を電子ビーム蒸着により９
５nm形成し近赤外線吸収色素を含有する反射防止フィル
ムを作製した。該反射防止フィルムはＡＳＴＭ−Ｅ９６
に準拠して透湿度を測定したところ２．７g/m²・day で
あり、ガスバリア性を有していた。

【０１００】

【化１】

【０１０１】この反射防止フィルムのフッ化マグネシウ
ム薄膜が形成されていないもう一方の主面と、透明積層
体の薄膜形成面の金属電極が形成されていない部分を、
粘着材を介して貼り合わせ、本発明のプラズマディスプ
レイ用フィルターを作製した。

【０１０２】［比較例３］実施例２と同様に透明薄膜層
を形成した以外は、実施例４と同様にプラズマディスプ
レイ用フィルターを作製した。以上のようにして作製し
た実施例１及び２の本発明の透明積層体、比較例１及び
２の透明積層体、実施例３の本発明の調光体、及び、実
施例４の本発明のプラズマディスプレイ用フィルター、
及び、比較例３のプラズマディスプレイ用フィルターの
可視光線反射率、可視光線透過率、近赤外線抑止能、面
抵抗及び電磁波シールド能、耐環境性を以下の方法で評
価した。

【０１０３】１）透明薄膜形成により到達する終点アド
ミッタンスｘ_e およびｙ_e 、｜（ｘ _a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ
_a −ｙ_e ）｜ 実施例１〜２および比較例１〜２において、粘着材を形
成する前の透明積層体の波長５００nm、５５０nm、６０
０nmにおける、Чを単位とする自由空間でのアドミッタ
ンス軌跡の終点を、高屈折率透明薄膜層および金属薄膜
層の光学定数、膜厚から前述の計算により求め、また、
粘着材の屈折率ｎ_a 、消光係数−ｋ_a を用いて、｜（ｘ
_a −ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜を計算した。

【０１０４】２）可視光線反射率（Ｒvis ） 実施例１〜２および比較例１〜２において、透明積層体
の薄膜形成面上に隣接層（粘着材層）を形成する前後で
評価を行った。測定対象物を小片に切り出し、（株）日
立製作所製分光光度計（U-3400）および反射積分球（光
線入射角度６°）を用いて３００〜８００nmの全光線反
射率（両面反射）を測定した。ここで求めた反射率から
Ｒvis を計算した。

【０１０５】３）可視光線透過率（Ｔvis ）及び近赤外
線透過率 実施例４及び比較例３において、測定対象物を小片に切
り出し、（株）日立製作所製分光光度計（U-3400）によ
り３００〜１０００nmの平行光線透過率を測定した。こ
こで求めた透過率からＴvis を計算した。近赤外線透過
率は８２０nm、１０００nmで評価を行った。

【０１０６】４）近赤外抑止能（リモコン試験） 実施例４及び比較例３において、プラズマディスプレイ
の画面に設置して、リモコンを使用する電子機器を0.2
ｍ〜３ｍディスプレイから離してその誤動作を確認し
た。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。限界
距離が短いほど誤動作が少ないといえる。実用的には1.
5 ｍ以下である。

【０１０７】５）面抵抗 実施例４及び比較例３において、プラズマディスプレイ
用フィルターの作製に用いる透明積層体すなわち実施例
１および実施例２の透明積層体の隣接層を形成する前の
面抵抗を、四探針測定法（プローブ間隔１ｍｍ）により
測定した。

【０１０８】６）電磁波シールド能（放射電界強度） 実施例４および比較例３において、プラズマディスプレ
イ用フィルターをプラズマディスプレイの画面に設置し
て、ダイポールアンテナを画面中心位置から面の垂線方
向３ｍの位置に設置し、アドバンテスト製スペクトラム
・アナライザ（TP4172）で２０〜９０ＭＨｚ帯域におけ
る放射電界強度を測定した。この際、プラズマディスプ
レイ用フィルターの金属電極部全体とディスプレイ本体
のアース用電極全体を接触させ、アースをとった。33、
62、70、80MHz での放射電界強度で評価を行った。

【０１０９】７）耐環境性（高温高湿試験） 実施例３〜４及び比較例３において、温度６０℃、湿度
９５％の雰囲気下で４８時間放置し、白化の発生を調べ
た。この環境条件４８時間放置後、白化（白点、全面白
化）が発生しない場合は、実用的であるといえる。

【０１１０】８）日射透過率及びＴvis 実施例３において、測定対象物を小片に切り出し、
（株）日立製作所製分光光度計（U-3400）により３００
〜１８００nmの平行光線透過率を測定した。ここで求め
た透過率から日射透過率及びＴvis を計算した。以上の
結果を表１及び表２に掲げる。

【０１１１】

【表１】

【０１１２】表１から明らかなように、｜（ｘ_a −
ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜＜０．４である実施例１及
び２の本発明の透明積層体は、本発明でいうところの隣
接層である粘着材層を透明薄膜上に形成する前に比べ
て、Ｒvis が大幅に増加しなかった。目視においても反
射強度の増加は認められなかった。

【０１１３】

【表２】

【０１１４】表２から明らかなように、８２０nmにおい
て透過率が１０％未満である実施例４の本発明のプラズ
マディスプレイ用フィルターは、誤動作限界距離が短く
実用的な近赤外線抑止能をもっている。これに対し、比
較例３のプラズマディスプレイ用フィルターは、可視光
線透過率は大きいが、近赤外線の透過率も大きいため、
誤動作限界距離が大きく実用的でない。また、面抵抗が
４Ω／□以下である実施例４の本発明のプラズマディス
プレイ用フィルターは、電磁波シールド効果が明らかに
認められるが、面抵抗が5.3 Ω／□である比較例３では
帯域によって電磁波シールド効果がない。

【０１１５】耐環境性は、実施例３〜４及び比較例３は
いずれも、白化の発生は認められなかった。また、実施
例３の本発明の調光体は、Ｔvis ＝77％、日射透過率＝
58％であり、また、熱線反射体として好ましい特性を有
していた。また、実施例４のプラズマディスプレイ用フ
ィルターをプラズマディスプレイの画面に設置したとこ
ろ、画像は鮮明であり、また映り込みが少なく視認性が
良く、周辺の電子機器の誤動作は起こらなかった。

【０１１６】

【発明の効果】以上のごとく、本発明によれば、低反射
性及び高透明性に優れ、また、熱線反射や周辺電子機器
の誤動作防止に効果的な近赤外線カット性に優れ、さら
には電極を形成し接地することによってプラズマディス
プレイの発する強度の電磁波を遮蔽できる透明積層体を
提供することができる。また、この透明積層体を用いる
ことによって、低反射性、高透明性、耐候性・耐環境
性、断熱効果や周辺電子機器の誤動作防止を目的とした
近赤外線カット能に優れる調光体を提供できる。またさ
らには、電磁波シールド性を兼ね備えたディスプレイ用
フィルターを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】アドミッタンス図の一例 ポリエチレンテレフタレートフィルムを基板として、フ
ィルム側から第１層目に酸化インジウム薄膜を４０nm、
第２層目に銀薄膜を８nm、第３層目に酸化インジウム薄
膜を４０nm形成したときの、波長５５０nmにおけるЧを
単位とする自由空間でのアドミッタンスの軌跡

【図２】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
すディスプレイ側から見た平面図

【図３】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図４】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【符号の説明】

１０ 本発明の透明積層体 １１ 透明基体（Ａ） １２ 透明薄膜層（Ｂ） １３ 粘着材（隣接層（Ｃ）） １５ ディスプレイ用フィルターの透光部 ２０ 金属電極 ３０ 透明成形体 ４０ ガスバリア性を有するアンチニュートンリング層 ５０ 反射防止層またはアンチグレア層 ６０ 粘着材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｄ Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ (72)発明者 小山 正人 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内 審査官 中島 庸子 (56)参考文献 特開 平８−192493（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−152502（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−291355（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−217380（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−223147（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−186104（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 H01B 5/14

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基体（Ａ）の一方の主面上に透明薄
   膜層（Ｂ）、隣接層（Ｃ）が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の
   順で形成されてなる透明積層体であり、５００ｎｍ〜６
   ００ｎｍの波長範囲で、該透明基体（Ａ）のアドミッタ
   ンスＹ_s ＝ｘ _s ＋ｉｙ_s を始点とするアドミッタンス軌
   跡が透明薄膜層（Ｂ）を積層することによって到達する
   終点Ｙ_e ＝ｘ_e ＋ｉｙ_e と、隣接層（Ｃ）のアドミッタ
   ンスＹ _a ＝ｘ_a ＋ｉｙ_a とで定義される｜（ｘ_a −
   ｘ_e ）＋ｉ（ｙ_a −ｙ_e ）｜が、｜（ｘ_a −ｘ_e ）＋ｉ
   （ｙ_a −ｙ_e ）｜＜０．４であることを特徴とする透明
   積層体。
2. 【請求項２】 隣接層（Ｃ）が、粘着材層または接着剤
   層であることを特徴とする請求項１に記載の透明積層
   体。
3. 【請求項３】 透明薄膜層（Ｂ）が、高屈折率透明薄膜
   層（Ｂ−１）、金属薄膜層（Ｂ−２）が透明基体（Ａ）
   側から順次、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）を繰り返し単位と
   して１回以上繰り返し積層され、さらにその上に少なく
   とも高屈折率透明薄膜層（Ｂ−１）が積層されてなるこ
   とを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層体。
4. 【請求項４】 透明薄膜層（Ｂ）が、高屈折率透明薄膜
   層（Ｂ−１）、金属薄膜層（Ｂ−２）が透明基体（Ａ）
   側から順次、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）を繰り返し単位と
   して３回以上繰り返し積層され、さらにその上に少なく
   とも高屈折率透明薄膜層（Ｂ−１）が積層されてなり、
   面抵抗が３Ω／□以下、可視光透過率が５０％以上であ
   ることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層
   体。
5. 【請求項５】 高屈折率透明薄膜層（Ｂ−１）が、主と
   して酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求
   項３又は４に記載の透明積層体。
6. 【請求項６】 金属薄膜層（Ｂ−２）が、銀または銀を
   含む合金で構成されることを特徴とする請求項３〜５の
   いずれかに記載の透明積層体。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の透明積
   層体を用いた調光体。
8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれかに記載の透明積
   層体を用いたディスプレイ用フィルター。
9. 【請求項９】 請求項４〜６のいずれかに記載の透明積
   層体を用いたプラズマディスプレイ用フィルター。