JPH11311950A

JPH11311950A - 黒色電極を持つディスプレイ用電磁波シールド

Info

Publication number: JPH11311950A
Application number: JP10119570A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Koike; 小池　　勝彦; Tomoyuki Okamura; 友之岡村; Shin Fukuda; 福田　　伸
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1998-04-28
Filing date: 1998-04-28
Publication date: 1999-11-09
Anticipated expiration: 2018-04-28
Also published as: JP3657115B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】電磁波シールド上の電極形成部分の反対部分へ
の黒色層形成による生産コストの上昇を抑制する。【解決手段】透明成形体上に形成された透明導電層上の
外周部分に、黒色導電性塗料により電極が形成されてい
ることを特徴とするディスプレイ用電磁波シールドであ
る。また、透明導電層の形成方法が透明導電性薄膜フィ
ルムの貼り合わせである。また、黒色導電性塗料が銀ペ
ースト塗料に黒鉛粒子を分散させたものである。また、
透明成形体が透明高分子成形体である。また、透明成形
体がアクリル樹脂成形体である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールドに関
するものであり、さらに詳しくはプラズマディスプレイ
パネルに好適に用いられる電磁波シールドに関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会が高度化するに従って、光エ
レクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。
その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレ
ビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置
用等としてめざましく普及しつつある。従来から広く用
いられてきたディスプレイとしては、ＣＲＴディスプレ
イが挙げられ、現在でもなお幅広く用いられているが、
このＣＲＴディスプレイからは、電磁波が放出される。

【０００３】また近年、ディスプレイの大型化及び薄型
化に対する市場要求は高まる一方である。最近、大型か
つ薄型化を実現することが可能であるディスプレイとし
てプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が、注目され
ている。しかし、プラズマディスプレイパネルは、原理
上、強度の電磁波を装置外に放出することが知られてい
る。

【０００４】電磁波は、計器に障害を及ぼすことが知ら
れており、最近では、電磁波が人体にも障害を及ぼす可
能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放
出に関しては、法的に規制される方向になっている。例
えば、現在日本では、VCCI(Voluntarily Control Counc
il for Interference by Data Processing Equipment E
lectronic Office Machine) による規制があり、米国で
は、FCC (Federal Communication Commission)による製
品規制がある。また、プラズマディスプレイパネルは、
強い近赤外線を放出する。この近赤外線は、コードレス
電話や赤外線方式のリモートコントローラー等の誤動作
を引き起こす。特に問題となる波長は、８００〜１００
０ｎｍである。

【０００５】電磁波及び近赤外線放出を抑えるために、
最近、電磁波遮断用光学フィルターまたは電磁波及び近
赤外線遮断用光学フィルターに対する要請が高まってい
る。これら電磁波シールドは、フィルター全面に渡って
導電性があり、しかも透明性に優れている必要がある。
これらの要求を満たし、実用化された電磁波シールド
は、大きく２種類に分けることができる。一つは、金属
メッシュタイプと呼ばれているものであり、基体全面に
細く金属を格子状に配置させたものである。これは、導
電性に優れ、優れた電磁波遮断能力を持つが、近赤外線
反射能力及び透明性が優れず、モワレ像が生じることか
らディスプレイフィルター用途に対して、あまり好まし
くない。もう一つは、透明膜タイプと呼ばれているもの
であり、透明導電性薄膜を基体全面に配置したものであ
る。透明導電性薄膜タイプの電磁波シールドは、金属メ
ッシュタイプの電磁波シールドに比較して、電磁波遮断
能力に劣るが、近赤外線遮断能力及び透明性に優れ、モ
ワレ像の発生がない。

【０００６】上記電磁波シールドの電磁波遮断原理は、
透明導電層部分にて電磁波を吸収し、電流として、外部
に取り出すものである。このため、電磁波シールドには
透明導電層部分から外部に電流を取り出すための電極
（外周電極）が形成されている必要がある。通常は、透
明導電層上、外周部分に導電性テープを貼り付けたり、
導電性塗料を塗布する事によって形成される場合が多
い。電極から外部への電流の取り出し方法としては、デ
ィスプレイ本体の表示部外周部分に電磁波シールドの電
極接続部が設けられており、その部分に電極を接続する
事により、装置外へ電流を取り出すことが通常行われ
る。この時、電磁波シールドの電極形成面の反対面が、
視聴者側になる。

【０００７】電極の色は、用いる材料によって様々であ
るが、導電性塗料を用いる場合は、銀ペーストが用いら
れることが多く、この場合は、白色に近い銀色である。
また、導電性テープを用いる場合は、銅テープが用いら
れる場合が多く、この場合は、銅色である。いずれにし
ても、電極は、有色であり、電磁波シールド自体が高透
明性を有するため、電極形成面の反対面からも電極を視
認することができる。また、電磁波遮断の効率を上昇さ
せるために電極は、電磁波シールドのできるだけ内側に
位置することが好ましい。

【０００８】通常、ディスプレイの表示部分は、表示画
面のガラスや高分子成形体の外周からやや内側に位置し
ており、非表示部分は、黒色である。これに電磁波シー
ルドを設置した場合、表示部分の外周ぎりぎりの位置に
電磁波シールドの電極を位置させると、非表示部分位置
で電磁波シールドの電極形成判定面が視聴者から視認で
きる。外観的に、この表示部分は、意匠上黒色であるこ
とが好ましく、電極形成部分の反対部分に黒色層を形成
することが通常行われる。手法としては、黒色塗料を印
刷したり、塗布したり、また黒色テープを貼り付けたり
する事が通常行われる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド上の電
極形成部分反対部分への黒色層形成が、電磁波シールド
生産において、一工程として存在し、生産コストを上昇
させているという課題があった。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、黒色の導電
性塗料を用いて電極を形成することによって意匠性を損
ねることなく上記課題を解決することができることを見
いだし、本発明に至った。

【００１１】すなわち本発明は、（１）透明成形体上に
形成された透明導電層上の外周部分に、黒色導電性塗料
により電極が形成されていることを特徴とするディスプ
レイ用電磁波シールド、（２）該透明導電層の形成方法
が透明導電性薄膜フィルムの貼り合わせであることを特
徴とするディスプレイ用電磁波シールド、（３）該黒色
導電性塗料が銀ペースト塗料に黒鉛粒子を分散させたも
のであることを特徴とする（１）または（２）に記載の
ディスプレイ用電磁波シールド、（４）該透明成形体が
透明高分子成形体であることを特徴とする（１）乃至
（３）のいずれかに記載のディスプレイ用電磁波シール
ド、（５）該透明成形体がアクリル樹脂成形体であるこ
とを特徴とする（１）乃至（３）のいずれかに記載のデ
ィスプレイ用電磁波シールド、（６）（１）乃至（５）
のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用電磁波シー
ルド、および（７）アクリル樹脂成形体上に貼り合わせ
られた透明導電性薄膜フィルム上の外周部分に、黒色導
電性塗料により電極が形成されているプラズマディスプ
レイ用電磁波シールドにおいて、少なくとも透明導電性
薄膜フィルムと防幻性フィルム、反射防止フィルム、反
射防止防幻性フィルムとを、反射防止フィルム／透明導
電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィ
ルム、反射防止フィルム／透明導電性薄膜フィルム／ア
クリル樹脂成形体／防幻性フィルム、反射防止フィルム
／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射
防止防幻性フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜
フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、防
幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂
成形体／防幻性フィルム、防幻性フィルム／透明導電性
薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フ
ィルム、反射防止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィ
ルム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、反射防
止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル
樹脂成形体／防幻性フィルム、または反射防止防幻性フ
ィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体
／反射防止防幻性フィルムのいずれか構成で貼り合わせ
たことを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シー
ルド、である。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明を添付図面でもって説明す
る。図１は、本発明によって製造されるディスプレイ用
電磁波シールドの一例を示す断面図である。図１に示し
たディスプレイ用電磁波シールドにおいては、透明高分
子成形体（Ａ）１０上に透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）
２０を貼り合わせてあり、さらに、その上に防幻性フィ
ルム（Ｃ）３０を貼り合わせてある。また透明高分子成
形体（Ａ）の反対面上に反射防止フィルム（Ｄ）４０を
貼り合わせてある。透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）上の
外周部分に電極（Ｅ）５０が形成されている。図２は、
本発明により製造される電磁波シールドを電極側から見
た平面図である。電極（Ｅ）５０が外周部分に形成され
ている状態が示されている。

【００１３】本発明に用いられる透明成形体としては、
透明性に優れ、十分な機械的強度持ち、できるだけ軽量
であり、割れにくいものであることが好ましい。ここ
で、透明性に優れるとは、厚さ３ｍｍ程度の板にした時
の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が、５０
％以上であることを指す。透明成形体としては、透明高
分子成形体が好適に用いられるが、ガラスが用いられる
場合もある。

【００１４】透明高分子成形体に用いるに好ましい材料
を例示すれば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を
始めとするアクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂等が挙
げられるが、これらの樹脂に特定されるわけではない。
中でもＰＭＭＡは、その広い波長領域での高透明性と機
械的強度の高さから好適に使用することができる。高分
子成形体の厚さに特に制限はなく、十分な機械的強度
と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られれば良
い。通常は、１〜１０ｍｍ程度である。

【００１５】また、透明高分子成形体には、表面の硬度
または密着性を増す等の理由でハードコート層が設けら
れることが多い。ハードコート層材料としては、アクリ
レート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合
が多いが、特に限定されるわけではない。またハードコ
ート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合転写法が
用いられる場合が多いが、特にこれに限定されるわけで
はない。重合転写法は、対象となる材料が、メタクリレ
ート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、連続
製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート層を
形成することができる。このため、重合転写法によるメ
タクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられるハー
ドコート層形成手法である。透明成形体としてガラスを
用いる場合は、強化ガラスを用いることが好ましい。

【００１６】本発明において、透明導電性薄膜タイプ電
磁波シールドにおける透明導電層の形成は、透明基体に
直接透明導電薄膜層を形成する場合と透明導電性薄膜フ
ィルムを透明基体に貼り合わせる場合とがある。後者の
場合は、あらかじめ高分子フィルムに透明導電性薄膜を
形成し、透明導電性薄膜フィルムを作製する。透明導電
性薄膜層の形成は、通常真空成膜法で行われるが、透明
基体として高分子成形体を用いる場合は、高分子成形体
からのガス放出が多く、真空成膜用の基体として不向き
なため、直接透明基体に透明導電性薄膜層を形成するこ
とは好ましくない。このため、透明基体として高分子成
形体を用いる場合は、透明導電性薄膜フィルムを透明基
体に貼り合わせる手法が通常用いられる。

【００１７】本発明において、電磁波シールドには、透
明導電性薄膜層以外に目的に応じて様々な光学薄膜層が
形成されている場合が多い。この場合も、透明高分子成
形体を基体として用いる場合は、通常目的の光学薄膜層
を有する光学フィルムをあらかじめ用意し、基体に貼り
合わせられる。この光学フィルムを具体的に例示する
と、透明導電性薄膜フィルム、防幻性フィルム、ニュー
トンリング防止フィルム、反射防止フィルム、反射防止
防幻性フィルム、色素フィルム等が挙げられる。

【００１８】透明導電性薄膜フィルムは、電磁波及び近
赤外光を遮断する効果を持ち、本発明における電磁波シ
ールドにとって必要不可欠である。この透明導電性薄膜
フィルムは、高分子フィルム上に透明導電性薄膜層を形
成することによって得られている。

【００１９】透明導電性薄膜フィルムの基材として用い
られる高分子フィルムの材料は、透明性があれば特に制
限はない。具体的に例示すると、ポリイミド、ポリスル
フォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメ
チレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、
ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（Ｔ
ＡＣ）等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）
は、特に好適に用いられる。

【００２０】透明導電性薄膜層は、透明高屈折率薄膜層
と金属薄膜層との積層体である場合が多い。透明導電性
薄膜単層でも電磁波遮断効果がある程度得られるが、充
分でなく、通常透明高屈折率薄膜と金属薄膜とを、十分
な透過率及び表面抵抗値が得られる膜厚組み合わせで積
層して得られる。透明導電性薄膜層の好ましい透過率
は、４０％以上、９９％以下、より好ましくは、５０％
以上、９９％以下、さらに好ましくは、６０％以上、９
９％以下である。また、好ましい表面抵抗値は、０．２
（Ω ／□）以上、１００（Ω ／□）以下、好ましく
は、０．２（Ω ／□）以上、１０（Ω ／□）以下、さ
らに好ましくは、０．２（Ω ／□）以上、３（Ω ／
□）以下、さらにより好ましくは、０．２（Ω ／□）
以上、０．５（Ω ／□）以下である。

【００２１】上記、透明高屈折率薄膜層（ｂ）と金属薄
膜層（ｃ）との積層体を透明高分子成形体基体（ａ）上
に積層する事によって得られる、透明導電性薄膜フィル
ムの積層構造を具体的に示すと、ａ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／
ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／
ｂ、ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ
／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ等である。

【００２２】透明高屈折率薄膜層（ｂ）に用いられる材
料としては、できるだけ透明性に優れたものであること
が好ましい。ここで透明性に優れるとは、膜厚１００ｎ
ｍ程度の薄膜を形成したときに、その薄膜の波長４００
〜７００ｎｍの光に対する透過率が６０％以上であるこ
とを指す。また、高屈折率材料とは、５５０ｎｍの光に
対する屈折率が、１．４以上の材料である。これらに
は、用途に応じて不純物を混入させても良い。

【００２３】透明高屈折率薄膜層用に好適に用いること
ができる材料例示すると、インジウムとスズとの酸化物
（ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（ＣＴＯ）、
酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ₂）、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（ＡＺＯ）、酸
化マグネシウム（Ｍｇ０）、酸化トリウム（Ｔｈ
０₂）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、酸化ランタン（Ｌａ
Ｏ₂）、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）、酸化インジウム（Ｉ
ｎ₂Ｏ₃）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ３）、酸化アンチモン
（Ｓｂ₂Ｏ₃）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化セ
シウム（ＣｅＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化ビス
マス（ＢｉＯ₂）等である。また、透明高屈折率硫化物
を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛（Ｚｎ
Ｓ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫化アンチモン（Ｓ
ｂ₂Ｓ₃）等があげられる。

【００２４】透明高屈折率材料としては、中でも、ＩＴ
Ｏ、ＴｉＯ₂、ＺｎＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＺｎ
Ｏ₂は、導電性を持つ上に、可視領域における屈折率
が、２．０程度と高くさらに可視領域にほとんど吸収を
持たない。ＴｉＯ₂は、絶縁物であり、可視領域にわず
かな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が２．３程度
と大きい。

【００２５】本発明において用いられる、金属薄膜層の
材料としては、できるだけ電気伝導性の良い材料が好ま
しく、銀、銅、金、白金、パラジウムまたはそれらの合
金が用いられる。中でも銀は、比抵抗が、１．５９×１
０^-6（Ω・cm）であり、あらゆる材料の中で最も電気伝
導性に優れる上に、薄膜の可視光線透過率が優れるた
め、最も好適に用いられる。但し、銀は、薄膜とした時
に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという問題を
持っている。この為、安定性を増すために、銀の替わり
に銀と金の合金または、銀と銅の合金または銀とパラジ
ウムの合金または銀と白金の合金等を用いてもよい。銅
は、薄膜の可視光透過性が、銀に比較して劣るが、比抵
抗が、１．６７×１０^-6（Ω・cm）であり、銀に次いで
電気伝導性に非常に優れているため、本発明における金
属薄膜に好適に利用することができる。金も銅と同じよ
うに薄膜の可視光線透過率が銀に劣るが、比抵抗が、
２．３５×１０^-6（Ω・cm）と銀、銅に次いで電気伝導
性に優れるため、本発明における金属薄膜として好適に
利用することができる。

【００２６】高屈折率薄膜層及び金属薄膜層の形成に
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法等の従来公知の手法によればよい。金属薄膜層の
形成には、真空蒸着法またはスパッタリング法が、好適
に用いられる。真空蒸着法では、所望の金属を蒸着源と
して使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱
蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成することがで
きる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲ
ットに所望の金属材料を用いて、スパッタリングガスに
アルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッ
タリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜
を形成することができる。成膜速度を上昇させるため
に、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネ
トロンスパッタリング法が用いられることも多い。

【００２７】透明導電性薄膜層の形成には、イオンプレ
ーディング法または反応性スパッタリング法が好適に用
いられる。イオンプレーティング法では、反応ガスプラ
ズマ中で所望の金属または焼結体を抵抗加熱、電子ビー
ム加熱等により真空蒸着を行う。反応性スパッタリング
法では、ターゲットに所望の金属または焼結体を使用
し、反応性スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の
不活性ガスを用いてスパッタリングを行う。例えば、Ｉ
ＴＯ薄膜を形成する場合には、スパッタリングターゲッ
トにインジウムとスズとの酸化物を用いて、酸素ガス中
で直流マグネトロンスパッタリングを行う。

【００２８】本発明において用いられる防幻性フィルム
は、0.1〜10μｍ程度の微少な凹凸を表面に有する可視
光線に対して透明なフィルムである。具体的には、アク
リル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型
または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等
の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ
化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラ
ビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によっ
て透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均
粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹
脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹
脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光
硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態
を有する型を押しつけ硬化する事によっても防幻性フィ
ルムを得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸
等でエッチングするように、基体フィルムを薬剤処理す
ることによっても防幻性フィルムを得ることができる。
この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘ
イズを制御することができる。上記、防幻性フィルムに
おいては、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、
作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではな
い。防幻性フィルムのヘイズは、０．５％以上２０％以
下であり、好ましくは、１％以上１０％以下である。ヘ
イズが小さすぎると防幻能が不十分であり、ヘイズが大
きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視
認性が悪くなる。この防幻性フィルムは、多くの場合、
ニュートンリング防止フィルムとして用いることができ
る。

【００２９】反射防止フィルムとは、高分子フィルム上
に反射防止層を形成したフィルムであり、反射防止層が
形成されている面の可視光線反射率が０．１％以上、２
％以下、好ましくは、０．１％以上、１．５％以下、よ
り好ましくは、０．１％以上、０．５％以下の性能を有
することが望ましい。反射防止膜が形成されている面の
可視光線反射率は、反対面（反射防止膜が形成されてい
ない面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装等によ
り、反対面の反射をなくして、反射防止膜が形成されて
いる面のみで起こる反射光を測定することにより知るこ
とができる。

【００３０】反射防止層としては、具体的には、可視光
域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下
と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウ
ム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／
４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異な
る、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化
物窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂や
アクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２
層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、
製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣
る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射
防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計
の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、ス
パッタリング、イオンプレーティング、イオンピームア
シスト、真空蒸着、室式塗工法等、従来公知の方法を用
いればよい。

【００３１】反射防止層を形成する基体として、防幻性
フィルムを用いても良い。この場合は、一枚のフィルム
で防幻性機能と反射防止機能を合わせ持った光学フィル
ムを作製することができ、このフィルムは、使用する部
材数を低減に効果があるため、好適に用いられる。

【００３２】本発明において用いられる粘着材は、でき
るだけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着材を具体
的に例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着
材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材
（ＰＶＢ）、エチレンー酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）
等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱
性に優れるために特に好適に用いられる。

【００３３】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートす
る事によって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼
り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるもの
であり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リ
バースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等
が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選
定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、０．５
〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材
を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入
り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さら
には部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条
件下にて養生を行うことが好ましい。この時、加圧条件
としては、一般的に数気圧〜２０気圧程度であり、加温
条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、一般的には
室温以上、８０℃以下である。

【００３４】本発明において透明高分子成形体への光学
フィルムの貼り合わせ方法に特に制限はない。通常は、
高分子成形フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型
フィルムで覆ったものをロール状態であらかじめ用意し
ておき、ロールから高分子成形フィルムを繰り出しなが
ら、離型フィルムをはがしていき、高分子成形体基板上
へ貼り付け、ロールで押さえつけながら貼り付けてい
く。貼り合わせられたフィルム上に重ねて貼り合わせる
場合も同様である。

【００３５】本発明において電極の形状に特に制限はな
いが、ディスプレイ用フィルターと電磁波遮断を必要と
する機器との間に電磁波が漏洩する隙間がないことが好
ましく、電極と透明導電層との間に空気層が存在しない
ことが好ましい。従って、透明導電層の導電面上及び周
辺部に連続的に電極を形成することが好ましい。すなわ
ち、ディスプレイからの光線透過部である中心部分を除
いて、枠状にかつ凹凸がないように電極を形成すること
が通常行われる。

【００３６】電極に用いる材料は、形成される電極の色
が黒色であれば特に制限はない。ここで黒色であるとは
視感反射率が１０％以下のことである。金属ペースト
は、黒鉛等の黒色導電性粒子を混合させることにより容
易に黒色化させることができるために本発明において好
適に用いられる。用いられる金属としては、銀、金、
銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛
等の単体もしくは２種以上からなる合金等が挙げられ
る。中でも銀または銀を含む混合物からなる銀ペースト
は、導電性に最も優れるため、本発明において最も好適
に用いられる。また、金属粒子の溶液も黒鉛等の黒色導
電性粒子を混合させることによって容易に黒色化させる
ことができるため本発明において用いることが可能であ
る。合成樹脂と金属との混合物や金属テープもその製造
過程において容易に黒鉛等の黒色導電性粒子を混合させ
黒色化させることができるため本発明において用いるこ
とができる。

【００３７】電極を形成するための方法としては、印刷
法、塗工法、メッキ法、真空蒸着法、スパッタ法等従来
公知の手段を用いることができる。特に印刷法は、金属
ペーストを材料として、導電膜上に空気層を作らずにな
めらかに電極を効率よく作製することができるため本発
明において最も好適に用いられる。電極の厚さに関して
は、特に制限はないが、通常は、数μｍから数ｍｍ程度
である。

【００３８】上記の方法により作製した、電磁波シール
ドの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透過型電子顕微鏡測
定（ＴＥＭ）を用いて調べることができ、電極の色は、
反射スペクトルを測定することによって調べることがで
きる。電極の成分は、断面または表面を赤外吸収分光顕
微鏡測定またはＸ線顕微鏡（ＸＭＡ）によって測定し、
特定することができる。

【００３９】

【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。（実施例１）透明高分子フィルム（ａ）としてポリエチ
レンテレフタレートフィルム［厚さ７５μｍ］を使用
し、その一方の主面に、直流マグネトロンスパッタリン
グ法を用いて、インジウムとスズとの酸化物からなる薄
膜層（ｂ）、銀薄膜層（ｃ）をａ／ｂ［厚さ４０ｎｍ］
／ｃ［厚さ１０ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ
１５ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ１０ｎｍ］
／ｂ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層し、透明導電性薄膜
フィルム（Ｂ）を形成した。インジウムとスズとの酸化
物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を構成し、銀
薄膜層は、金属薄膜層を構成する。インジウムとスズと
の酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとし
て、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ₂Ｏ₃：Ｓｎ
Ｏ₂＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスと
してアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素
分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、
ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴン
ガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。

【００４０】透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）の透明導電
薄膜層形成面反対面をアクリル系粘着材を介して、透明
高分子成形体（Ａ）上に、貼り付けた。貼り付け面圧
は、０．３ＭＰａとした。

【００４１】反射防止フィルム（Ｄ）［厚さ１００μ
ｍ］を、フィルム上反射防止層形成面とは、反対面に貼
り付けられてある粘着材を介して、透明高分子成形体
（Ａ）の透明導電性薄膜フィルム貼り付け面反対面上に
貼り付けた。貼り付け面圧は、０．３ＭＰａとした。

【００４２】防幻性フィルム（Ｃ）［厚さ５０μｍ］の
防幻性層形成面反対面をアクリル系粘着材を介して、透
明高分子成形体（Ａ）上の透明導電性薄膜フィルム
（Ｂ）の透明導電性薄膜層上の内側部分に透明導電性薄
膜フィルムの透明導電性薄膜部分が枠状に１０ｍｍ幅で
むき出しになるように貼り合わせた。貼り付け面圧は、
０．３ＭＰａとした。

【００４３】各フィルム貼り付け後、室温条件下にて５
時間放置し、粘着材を養生させた。黒鉛のイソプロピル
アルコール分散溶液（固体含有率２３％）を銀ペースト
に質量比１：１の割合で混合させ黒鉛粒子含有銀ペース
トを用意し、透明導電性薄膜むき出し部分にスクリーン
印刷により印刷した。印刷後、室温にて３時間乾燥させ
た。

【００４４】上記により、３枚の高分子フィルムを透明
高分子成形体に貼り合わせ、電極を印刷する事により、
プラズマディスプレイパネル用電磁波シールドを作製し
た。上記により作製した電磁波シールドを、プラズマデ
ィスプレイパネルに装機し、視聴者側からパネルを見た
場合の表示画面内の表示部分外側部分の色を調べた。

【００４５】（比較例１）銀ペーストに黒鉛のイソプロ
ピルアルコール分散溶液を混合せずにその他は、実施例
１と同様に実施した。以上の結果を表１に掲げる。

【００４６】

【表１】表１から、実施例１において、電磁波シールドをプラズ
マディスプレイパネルに装機したときに、比較例におい
て灰色に見えた、表示部分外側部分が黒色に見えるよう
になり意匠性を損なっていないことが分かる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ディスプレイ用電磁波シールドの一例を示す断
面図である。

【図２】ディスプレイ用電磁波シールドの電極側から見
た平面図である。

【符号の説明】

１０透明高分子成形体（Ａ）２０透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）３０防幻性フィルム（Ｃ）４０反射防止フィルム（Ｄ）５０電極（Ｅ）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明成形体上に形成された透明導電層上の
外周部分に、黒色導電性塗料により電極が形成されてい
ることを特徴とするディスプレイ用電磁波シールド。
【請求項２】該透明導電層の形成方法が透明導電性薄膜
フィルムの貼り合わせであることを特徴とするディスプ
レイ用電磁波シールド。
【請求項３】該黒色導電性塗料が銀ペースト塗料に黒鉛
粒子を分散させたものであることを特徴とする請求項１
または２に記載のディスプレイ用電磁波シールド。
【請求項４】該透明成形体が透明高分子成形体であるこ
とを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のディ
スプレイ用電磁波シールド。
【請求項５】該透明成形体がアクリル樹脂成形体である
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のデ
ィスプレイ用電磁波シールド。
【請求項６】請求項１乃至５のいずれかに記載のプラズ
マディスプレイ用電磁波シールド。
【請求項７】アクリル樹脂成形体上に貼り合わせられた
透明導電性薄膜フィルム上の外周部分に、黒色導電性塗
料により電極が形成されているプラズマディスプレイ用
電磁波シールドにおいて、少なくとも透明導電性薄膜フ
ィルムと防幻性フィルム、反射防止フィルム、反射防止
防幻性フィルムとを、反射防止フィルム／透明導電性薄
膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、
反射防止フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル
樹脂成形体／防幻性フィルム、反射防止フィルム／透明
導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防
幻性フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィル
ム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、防幻性フ
ィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体
／防幻性フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フ
ィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィル
ム、反射防止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム
／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、反射防止防
幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂
成形体／防幻性フィルム、または反射防止防幻性フィル
ム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反
射防止防幻性フィルムのいずれか構成で貼り合わせたこ
とを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シール
ド。