JPH11295514A - 光学フィルターの製造方法及び光学フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】透明高分子成形体に光学フィルムを貼り合わせ
ることによって得られるディスプレイ用光学フィルター
において、ディスプレイに装着し、ディスプレイを点灯
した時に生じる、反りの発生方向及び量を制御する。 【解決手段】伸縮させた透明高分子成形体に光学フィル
ムを貼り合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学フィルターの
製造方法、その光学フィルターおよびプラズマディスプ
レイパネル用光学フィルターに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会が高度化するに従って、光エ
レクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。
その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレ
ビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置
用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、デ
ィスプレイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高ま
る一方である。最近、大型かつ薄型化を実現することが
可能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）が注目されている。しかし、プラズマデ
ィスプレイパネルは、原理上、強い電磁波を装置外に放
出することが知られている。電磁波は、計器に障害を及
ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体にも
障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。この
ため、電磁波放出に関しては、法的に規制される方向に
なっている。例えば、現在日本では、ＶＣＣＩ（Volunt
arily Control Council for International Interferen
ce by Data Processing Equipment Electronic Office
Machine)による規制があり、米国では、ＦＣＣ（Federa
l Communication Commission) による製品規制がある。
また、プラズマディスプレイパネルは、強い近赤外線を
放出する。この近赤外線は、コードレス電話や赤外線方
式のリモートコントローラー等の誤動作を引き起こす。
特に問題となる波長は８００〜１０００ｎｍである。

【０００３】上記、電磁波及び近赤外線の放出を抑える
ために、最近、電磁波及び近赤外線遮断用光学フィルタ
ーに対する要請が高まっている。この光学フィルター
は、フィルター全面に渡って導電性があり、しかも透明
性に優れている必要がある。これらの要求を満たし、実
用化された光学フィルターは、大きく２種類に分けるこ
とができる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれてい
るものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させ
たものである。これは、導電性に優れ、優れた電磁波遮
断能力を持つが、近赤外線反射能力及び透明性が優れ
ず、モワレ像が生じることからディスプレイフィルター
用途に対して、あまり好ましくない。もう一つは、透明
膜タイプと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を
基体全面に配置したものである。透明導電性薄膜タイプ
の光学フィルターは、金属メッシュタイプの光学フィル
ターに比較して、電磁波遮断能力に劣るが、近赤外線遮
断能力及び透明性に優れ、モワレ像の発生がない。

【０００４】透明導電成薄膜タイプ光学フィルターは、
高分子成形体基板やガラス基板に透明導電性薄膜フィル
ムを貼り合わせてある場合が多い。貼り合わせには、粘
着材が用いられる。表示装置自体の軽量化や安全性の面
から、基板としては、高分子成形体が、好適に用いられ
る場合が多い。また、反射率低減機能、防幻機能または
調色機能を持ったフィルムを透明導電性フィルムに組み
合わせて貼り合わせることが多い。これらフィルムの貼
り合わせにも粘着材が用いられる。

【０００５】プラズマディスプレイパネルは、プラズマ
発光を利用した表示装置であるが、パネルからの発熱量
が多く、点灯中のパネル表面温度が、７０℃以上にも達
する。光学フィルターは、その用途からパネルに接近し
て設置されることが多く、さらに、ディスプレイ自体の
薄型化を押し進める目的から、パネルに密着して設置さ
れる場合も非常に多い。このため、光学フィルターに対
する耐熱性要求は、厳しい。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】光学フィルムと透明高
分子成形体との貼り合わせによって得られる光学フィル
ターをプラズマディスプレイパネルに装着し、プラズマ
ディスプレイを点灯すると、プラズマディスプレイパネ
ルから放出される熱によって光学フィルターが反り、光
学フィルター画面部分とプラズマディスプレイパネルと
の間の距離が変化してしまう問題があった。このこと
は、ディスプレイフィルターとしては、致命的欠陥にな
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、以下の知見
を得、本発明を完成させるに至った。すなわち、点灯し
たプラズマディスプレイパネルに装着された状態におけ
る、光学フィルターの反りは、基板である透明高分子成
形体とそこに貼り合わせた光学フィルムとの間の熱伸縮
率の違いによって生じるものであり、貼り合わせる前
に、透明高分子成形体及び光学フィルムの伸縮を制御す
ることによって、装着点灯時に発現する反り方向及び量
を制御することができる。

【０００８】すなわち本発明は、（１）伸縮させた透明
高分子成形体に光学フィルムを貼り合わせて反り方向を
制御することを特徴とする光学フィルターの製造方法、
（２）該伸縮方法が温度制御であることを特徴とする
（１）に記載の光学フィルターの製造方法、（３）該伸
縮方法が湿度制御であることを特徴とする（１）に記載
の光学フィルターの製造方法、（４）該伸縮方法が機械
的方法であることを特徴とする（１）に記載の光学フィ
ルターの製造方法、（５）該光学フィルムが透明導電性
薄膜フィルムであることを特徴とする（１）乃至（４）
のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法、（６）
該透明高分子成形体がアクリル樹脂成形体であることを
特徴とする（１）乃至（５）に記載の光学フィルターの
製造方法、（７）（１）乃至（６）のいずれかに記載の
方法によって得られることを特徴とする光学フィルタ
ー、（８）（１）乃至（６）のいずれかに記載の方法に
よって得られる光学フィルターであって、その構成が

【０００９】反射防止フィルム／透明導電性薄膜フィル
ム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、反射防止
フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形
体／防幻性フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜
フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、防
幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂
成形体／防幻性フィルム、反射防止フィルム／透明導電
性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性
フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／
アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィルム、反射防
止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル
樹脂成形体／反射防止フィルム、反射防止防幻性フィル
ム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防
幻性フィルム、または反射防止防幻性フィルム／透明導
電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻
性フィルムのいずれかであることを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル用光学フィルター、である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明における光学フィルターの
製造方法は、伸縮した状態の透明高分子成形体に、光学
フィルムを貼り合わせることを特徴とするものである。
本発明によれば、特にプラズマディスプレイパネル用光
学フィルターに関して、プラズマディスプレイパネル装
着点灯時に生じたディスプレイパネルと光学フィルター
表示部分との間の距離が変化してしまうような反りが発
現しない光学フィルターを製造することができる。

【００１１】本発明を添付図面でもって説明する。図１
は、本発明によって製造されるプラズマディスプレイパ
ネル用光学フィルターの一例を示す断面図である。図１
に示したプラズマディスプレイ用光学フィルターにおい
ては、透明高分子成形体（Ａ）１０上に透明導電性薄膜
フィルム（Ｂ）２０を貼り合わせる。またさらに、その
上に防幻性フィルム（Ｃ）３０、透明高分子成形体
（Ａ）１０の反対面上に反射防止フィルム（Ｄ）４０を
貼り合わせる。このものは、特に電磁波遮断能力を持つ
ために電磁波シールドと呼ばれる。

【００１２】本発明に用いられる透明高分子成形体とし
ては、透明性に優れ、十分な機械的強度持ち、できるだ
け軽量であり、割れにくいものであることが好ましい。
ここで、透明性に優れるとは、厚さ３ｍｍ程度の板にし
た時の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が、
５０％以上であることを指す。

【００１３】透明高分子成形体として好ましい材料を例
示すれば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を始め
とするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げら
れるが、これらの樹脂に特定されるわけではない。中で
もＰＭＭＡは、その広い波長領域での高透明性と機械的
強度の高さから好適に使用することができる。高分子成
形体の厚さに特に制限はなく、十分な機械的強度と、た
わまずに平面性を維持する剛性が得られればいずれの厚
さでも良い。通常は１〜１０ｍｍ程度である。

【００１４】また、透明高分子成形体には、表面の硬度
または密着性を増す等の理由でハードコート層が設けら
れることが多い。ハードコート層材料としては、アクリ
レート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合
が多いが、特にこれらに限定されるわけではない。また
ハードコート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合
転写法が用いられる場合が多いが、特にこれらに限定さ
れるわけではない。

【００１５】重合転写法では、対象となる材料がメタク
リレート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、
連続製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート
層を形成することができる。このため、重合転写法によ
るメタクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられる
ハードコート層形成手法である。

【００１６】本発明において、透明高分子成形体に光学
フィルムが貼り合わされるが、目的に応じて様々なもの
が用いられる。この光学フィルムを具体的に例示する
と、透明導電性薄膜フィルム、防幻性フィルム、ニュー
トンリング防止フィルム、反射防止フィルム、反射防止
防幻性フィルム、色素フィルム等が挙げられる。

【００１７】透明導電性薄膜フィルムは、電磁波及び近
赤外光を遮断する効果を持ち、本発明における電磁波シ
ールドにとって必要不可欠である。この透明導電性薄膜
フィルムは透明高分子フィルム上に透明導電性薄膜層を
形成することによって得られている。

【００１８】透明導電性薄膜フィルムの基材として用い
られる透明高分子フィルムの材料は、透明性があれば特
に制限はない。具体的に例示すると、ポリイミド、ポリ
スルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメ
チレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、
ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（Ｔ
ＡＣ）等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）
は、特に好適に用いられる。

【００１９】透明導電性薄膜層は、透明高屈折率薄膜層
と金属薄膜層との積層体である場合が多い。透明導電性
薄膜単層でも電磁波遮断効果がある程度得られるが、充
分でない。通常透明高屈折率薄膜と金属薄膜とを、十分
な透過率及び表面抵抗値が得られる膜厚組み合わせで積
層する。透明導電性薄膜層の好ましい透過率は、４０％
以上、９９％以下、より好ましくは５０％以上、９９％
以下、さらに好ましくは６０％以上、９９％以下であ
る。また、好ましい表面抵抗値は０．２（Ω／□）以
上、１００（Ω／□）以下、好ましくは０．２（Ω／
□）以上、１０（Ω／□）以下、さらに好ましくは０．
２（Ω／□）以上、３（Ω／□）以下、さらにより好ま
しくは０．２（Ω／□）以上、０．５（Ω／□）以下で
ある。

【００２０】上記、透明高屈折率薄膜層（ｂ）と金属薄
膜層（ｃ）との積層体を透明高分子フィルム（ａ）上に
積層する事によって得られる、透明導電性薄膜フィルム
の積層構造を具体的に示すと、ａ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ
／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、
ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ／ｃ
／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ等である。

【００２１】透明高屈折率薄膜層に用いられる材料とし
ては、できるだけ透明性に優れたものであることが好ま
しい。ここで透明性に優れるとは、膜厚１００ｎｍ程度
の薄膜を形成したときに、その薄膜の波長４００〜７０
０ｎｍの光に対する透過率が６０％以上であることを指
す。また、高屈折率材料とは、５５０ｎｍの光に対する
屈折率が、１．４以上の材料である。これらには、用途
に応じて不純物を混入させても良い。

【００２２】透明高屈折率薄膜層用に好適に用いること
ができる材料例示すると、インジウムとスズとの酸化物
（ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（ＣＴＯ）、
酸化アルミニウム（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ₂ ）、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（ＡＺＯ）、酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化トリウム（Ｔｈ
Ｏ₂ ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂ ）、酸化ランタン（ＬａＯ
₂ ）、酸化シリコン（ＳｉＯ₂ ）、酸化インジウム（Ｉ
ｎ₂ Ｏ₃ ）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂ Ｏ３）、酸化アンチモ
ン（Ｓｂ₂ Ｏ₃ ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂ ）、酸
化セシウム（ＣｅＯ₂ ）、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）、酸
化ビスマス（ＢｉＯ₂ ）等である。また、透明高屈折率
硫化物を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛
（ＺｎＳ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫化アンチモ
ン（Ｓｂ₂ Ｓ₃ ）等があげられる。

【００２３】透明高屈折率材料としては、中でも、ＩＴ
Ｏ、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＺｎ
Ｏ₂ は、導電性を持つ上に、可視領域における屈折率
が、２．０程度と高くさらに可視領域にほとんど吸収を
持たない。ＴｉＯ₂ は、絶縁物であり、可視領域にわず
かな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が２．３程度
と大きい。

【００２４】本発明において用いられる、金属薄膜層の
材料としては、できるだけ電気伝導性の良い材料が好ま
しく、銀、銅、金、白金、パラジウムまたはそれらの合
金が用いられる。中でも銀は、比抵抗が、１．５９×１
０^-6（Ω・cm）であり、あらゆる材料の中で最も電気伝
導性に優れる上に、薄膜の可視光線透過率が優れるた
め、最も好適に用いられる。但し、銀は、薄膜とした時
に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという問題を
持っている。この為、安定性を増すために、銀の替わり
に銀と金の合金または、銀と銅の合金または銀とパラジ
ウムの合金または銀と白金の合金等を用いてもよい。銅
は、薄膜の可視光透過性が、銀に比較して劣るが、比抵
抗が、１．６７×１０^-6（Ω・cm）であり、銀に次いで
電気伝導性に非常に優れているため、本発明における金
属薄膜に好適に利用することができる。金も銅と同じよ
うに薄膜の可視光線透過率が銀に劣るが、比抵抗が、
２．３５×１０^-6（Ω・cm）と銀、銅に次いで電気伝導
性に優れるため、本発明における金属薄膜として好適に
利用することができる。

【００２５】高屈折率薄膜層及び金属薄膜層の形成に
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法等の従来公知の手法によればよい。金属薄膜層の
形成には、真空蒸着法またはスパッタリング法が、好適
に用いられる。真空蒸着法では、所望の金属を蒸着源と
して使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱
蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成することがで
きる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲ
ットに所望の金属材料を用いて、スパッタリングガスに
アルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッ
タリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜
を形成することができる。成膜速度を上昇させるため
に、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネ
トロンスパッタリング法が用いられることも多い。

【００２６】透明高屈折率薄膜層の形成には、イオンプ
レーディング法または反応性スパッタリング法が好適に
用いられる。イオンプレーティング法では、反応ガスプ
ラズマ中で所望の金属または焼結体を抵抗加熱、電子ビ
ーム加熱等により真空蒸着を行う。反応性スパッタリン
グ法では、ターゲットに所望の金属または焼結体を使用
し、反応性スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の
不活性ガスを用いてスパッタリングを行う。例えば、Ｉ
ＴＯ薄膜を形成する場合には、スパッタリングターゲッ
トにインジウムとスズとの酸化物を用いて、酸素ガス中
で直流マグネトロンスパッタリングを行う。

【００２７】本発明において用いられる防幻性フィルム
は、0.1 〜10μｍ程度の微少な凹凸を表面に有する可視
光線に対して透明なフィルムである。具体的には、アク
リル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型
または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等
の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ
化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラ
ビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によっ
て透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均
粒径は１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、
シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型
樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態を有す
る型を押しつけ硬化する事によっても防幻性フィルムを
得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸等でエ
ッチングするように、基体フィルムを薬剤処理すること
によっても防幻性フィルムを得ることができる。この場
合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘイズを
制御することができる。上記、防幻性フィルムにおいて
は、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、作成方
法は、上記に挙げた方法に限定されるものではない。防
幻性フィルムのヘイズは０．５％以上、２０％以下であ
り、好ましくは１％以上、１０％以下である。ヘイズが
小さすぎると防幻能が不十分であり、ヘイズが大きすぎ
ると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視認性が
悪くなる。この防幻性フィルムは、多くの場合、ニュー
トンリング防止フィルムとして用いることができる。

【００２８】反射防止フィルムとは、高分子フィルム上
に反射防止層を形成したフィルムである。反射防止層が
形成されている面の可視光線反射率が０．１％以上、２
％以下、好ましくは、０．１％以上、１．５％以下、よ
り好ましくは、０．１％以上、０．５％以下の性能を有
することが望ましい。反射防止膜が形成されている面の
可視光線反射率は、反対面（反射防止膜が形成されてい
ない面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装等によ
り、反対面の反射をなくして、反射防止膜が形成されて
いる面のみで起こる反射光を測定することにより知るこ
とができる。

【００２９】反射防止層としては、具体的には、可視光
域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下
と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウ
ム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／
４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異な
る、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化
物窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂や
アクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２
層以上多層積層したものがある。単層形成したものは製
造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。
多層積層したものは広い波長領域にわたって反射防止能
を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限
が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、スパッタ
リング、イオンプレーティング、イオンピームアシス
ト、真空蒸着、室式塗工法等、従来公知の方法を用いれ
ばよい。

【００３０】本発明において用いられる粘着材はできる
だけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着材を具体的
に例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着材、
ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材（ＰＶ
Ｂ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）等であ
る。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱性に優
れるために特に好適に用いられる。反射防止防幻性フィ
ルムとは反射防止機能と防幻機能とを備えているものを
いう。

【００３１】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、該シート状粘着材を透明高分子成形
体または高分子フィルムに貼り付けて得られる部材を重
ね合わせて貼り合わせを行う。液状粘着材の場合は、該
液状粘着材を透明高分子成形体または高分子フィルムに
塗布して得られる部材を貼り合わせ後に室温放置または
加熱により硬化させるものである。粘着材の塗布方法と
しては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコ
ート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着材の種類、
粘度、塗布量等から考慮選定される。粘着材層の厚みに
特に制限はないが、通常０．５〜５０μｍ、好ましく
は、１〜３０μｍである。粘着材を用いて貼り合わせを
行った後は、貼り合わせた時に入り込んだ気泡を脱法さ
せたり、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を
向上させるために、加圧、加温条件下にて養生を行うこ
とが好ましい。この時、加圧条件としては、一般的に数
気圧〜２０気圧程度であり、加温条件としては、各部材
の耐熱性にも依るが、一般的には室温以上、８０℃以下
である。

【００３２】本発明において、どの方向の反りを抑制す
るのかどうかは、プラズマディスプレイパネルへの装着
のされ方及び作製される光学フィルターの構成によりき
まる。光学フィルターをプラズマディスプレイパネルに
密着して装着する場合は、プラズマディスプレイパネル
装着面側が凸になるような反りが生じるような力が働い
ても、実際に反りが生じることはなく問題ないが、プラ
ズマディスプレイパネル装着反対面側が凸になるような
反りが生じるような力が働くと、実際に反りが生じ、光
学フィルター画面部分が表示パネルから離れてしまう。
このため、少なくとも、プラズマディスプレイパネル装
着反対面側が凸になるような方向に力が働くことを防止
する必要がある。

【００３３】光学フィルターをプラズマディスプレイパ
ネルから離して装着する場合は、プラズマディスプレイ
パネル装着面側が凸になるような反りが生じる方向に力
が働いても、逆にプラズマディスプレイパネル装着反対
面側が凸になるような方向に力が働いても、光学フィル
タ画面部分と表示パネルとの間の距離が変化してしまう
ため、作製される光学フィルターの特性に合わせて制御
方向を選択する必要がある。光学フィルターの、プラズ
マディスプレイ装着点灯時の反り発生方向は、光学フィ
ルム貼り合わせ構成及び使用される透明高分子成形体と
光学フィルムの材質や厚みによる。

【００３４】透明高分子成形体が伸びた状態で光学フイ
ルムを貼り合わせると、透明高分子成形体の伸びが解消
された時点で、光学フィルム貼り付け面側が凸になるよ
うに反り、透明高分子成形体が縮んだ状態で光学フィル
ムを貼り合わせると、透明高分子成形体の縮みが解消さ
れた時点で、光学フィルムを貼り付けた面が凹になるよ
うに反る。上記によって得られる光学フィルターは、プ
ラズマディスプレイに装着し点灯した時に、あらかじめ
付けた反りが解消される方向に力を受けるので、その光
学フィルターの特性及び防止したい反り方向を考慮し
て、本発明を実施する必要がある。

【００３５】本発明における透明高分子成形体上、ディ
スプレイパネル装着面への光学フィルム貼り合わせ方法
は、貼り合わせ中に透明高分子成形体伸縮状態を維持す
ることができれば特に制限はなく、伸縮方法に特に制限
はない。必要な伸縮割合は、ディスプレイパネル面の温
度及び貼り合わせられる光学フィルムの熱伸縮率により
異なるが、通常は０．０１％以上、０．５％以下であ
る。

【００３６】透明高分子成形体を伸ばす為の方法は、プ
レスヒーターや乾燥機等を用いて加熱し、熱膨張させる
方法が、通常用いられる。加熱温度は、必要な膨張割合
や加熱装置から取り出してから貼り合わせを行うまでの
時間によって異なる。通常は透明高分子成形体の表面温
度は３５℃以上、９０℃以下である。また、高湿機やス
プレーを用いて吸水させ、透明高分子成形体を伸ばすこ
ともできる。またさらには、機械的に透明高分子成形体
を引っ張ることにより伸ばすこともできる。

【００３７】透明高分子成形体を縮める為の方法は、冷
却機等を用いて、冷却させる方法が通常用いられる。必
要な収縮割合や冷却温度は冷却装置から取り出してから
貼り合わせを行うまでの時間によって異なるが、通常
は、透明高分子成形体の表面温度が−３０℃以上、１０
℃以下である。また、乾燥機を用いて乾燥させ、透明高
分子成形体を縮ませることもできる。またさらには、機
械的に透明高分子成形体を両側から押すことにより縮ま
せることもできる。

【００３８】通常光学フィルターは、複数の機能を持た
せるために、透明高分子成形体に複数の光学フィルムが
貼り合わされている場合が多い。複数の光学フィルムが
面の両側で貼り合わせられる内訳は、片面のみに１枚以
上のフィルムが貼り合わせられている場合、両面それぞ
れに１枚以上の光学フィルムが貼り合わせられている場
合いずれでも良い。

【００３９】本発明を実施する場合において、プラズマ
ディスプレイ装着反対側面が凸になるような反りの発生
を防止する場合は、伸びた状態の透明高分子成形体に光
学フィルムを貼り合わせる場合と縮んだ状態の透明高分
子成形体に光学フィルムを貼り合わせる場合とどちらで
も良い。

【００４０】透明高分子基体を伸ばすことにより、実施
する場合は、ディスプレイ装着面に光学フィルムを貼り
合わせる時に、透明高分子成形体を伸ばせば良く、透明
高分子成形体を縮ませることにより、実施する場合は、
ディスプレイ装着反対面へ光学フィルムを貼り合わせる
時に、透明高分子成形体を縮めればよい。

【００４１】透明高分子成形体を伸ばすことにより、本
発明を実施する場合において、光学フィルター上、ディ
スプレイパネル装着面に複数の光学フィルムが貼り合わ
せされている場合は、少なくとも透明高分子成形体に直
接貼り合わせられる光学フィルムを貼り合わせる時点
で、透明高分子成形体を伸ばしておけばよいが、さらに
上に重ねて貼り合わせる時点で伸ばしても特に問題はな
い。

【００４２】透明高分子基体を縮ませることにより、本
発明を実施する場合において、光学フィルター上、ディ
スプレイパネル装着反対面に複数の光学フィルムが貼り
合わせされている場合は、少なくとも透明高分子成形体
に直接貼り合わせられる光学フィルムを貼り合わせる時
点で、透明高分子成形体を縮ませておけばよいが、さら
に上に重ねて貼り合わせる時点で縮ませても特に問題は
ない。

【００４３】透明高分子成形体への光学フィルムの貼り
合わせ方法に特に制限はない。通常は、高分子成形フィ
ルムに粘着材を貼り付け、その上を離型フィルムで覆っ
たものをロール状態であらかじめ用意しておき、ロール
から高分子フィルムを繰り出しながら、離型フィルムを
はがしていき、透明高分子成形体基板上へロールで押さ
えつけながら貼り付けていく。貼り合わせられたフィル
ム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。

【００４４】上記の方法により作製した光学フィルター
は、透明高分子成形体とその透明高分子成形体を伸縮さ
せた状態にて貼り付けた光学フィルムとの間に応力が存
在する。この透明高分子成形体を伸縮した状態で貼り付
けた光学フィルムをはがすと応力が解消され、反りの量
が変化する。このため、光学フィルターにおいて、透明
高分子成形体に貼り合わせてある光学フィルムをはがし
た時に、光学フィルターの反り量が変化するものは本発
明になる光学フィルターの製造方法により製造されたそ
の光学フィルターであることが分かる。また完全にはが
さなくてもは貼り合わせられた状態のフィルムに、例え
ば２分割及び４分割等に分割された状態に、切り込みを
入れ、応力を解消することでも本発明が実施されている
かどうかを検証することが可能である場合もある。

【００４５】

【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 （実施例１）透明高分子フィルム（ａ）としてポリエチ
レンテレフタレートフィルム［厚さ７５μｍ］を使用
し、その一方の主面に、直流マグネトロンスパッタリン
グ法を用いて、インジウムとスズとの酸化物からなる薄
膜層（ｂ）、銀薄膜層（ｃ）をａ／ｂ［厚さ４０ｎｍ］
／ｃ［厚さ１０ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ
１５ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ１０ｎｍ］
／ｂ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層し、透明導電性薄膜
フィルム（Ｂ）を形成した。インジウムとスズとの酸化
物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を構成し、銀
薄膜層は、金属薄膜層を構成する。インジウムとスズと
の酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとし
て、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ₂ Ｏ₃ ：Ｓ
ｎＯ₂ ＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガス
としてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸
素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成に
は、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアル
ゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。

【００４６】透明高分子成形体（Ａ）をプレスヒーター
を用いて、表面温度が４０℃になるように加熱し、直ち
に透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）の透明導電薄膜層形成
面反対面をアクリル系粘着材を介して、透明高分子成形
体（Ａ）上に、貼り付けた。貼り付け面圧は０．３ＭＰ
ａとした。

【００４７】反射防止フィルム（Ｄ）［厚さ１００μ
ｍ］を、フィルム上反射防止層形成面とは、反対面に貼
り付けられてある粘着材を介して、透明高分子成形体
（Ａ）の透明導電性薄膜フィルム貼り付け面反対面上に
貼り付けた。貼り付け面圧は０．３ＭＰａとした。

【００４８】防幻性フィルム（Ｃ）［厚さ５０μｍ］の
防幻性層形成面反対面をアクリル系粘着材を介して、透
明高分子成形体（Ａ）上の透明導電性薄膜フィルム
（Ｂ）の透明導電性薄膜層上に貼り合わせた。貼り付け
面圧は０．３ＭＰａとした。

【００４９】上記により、３枚の高分子フィルムを透明
高分子成形体に貼り合わせることにより、プラズマディ
スプレイパネル用電磁波シールドを作製した。透明導電
性薄膜フィルム（Ｂ）及び防幻性フィルム（Ｃ）貼り合
わせ面が、プラズマディスプレイパネル装着面である。
各フィルム貼り付け後、室温条件下にて５時間放置し、
粘着材を養生させた。

【００５０】上記により作製した電磁波シールドを、プ
ラズマディスプレイパネルに密着するように装着し、プ
ラズマディスプレイパネルを点灯した。点灯開始から１
時間毎に電磁波シールド中心付近のパネルからの距離を
測定した。

【００５１】（実施例２）透明高分子成形体（Ａ）を、
加湿機に投入し、温度３０℃、湿度９５％条件にて５時
間保持した後、直ちに透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）を
貼り合わせた以外は、実施例１と同様に実施した。

【００５２】（実施例３）透明高分子成形体（Ａ）を、
引っ張り機を用いて、０．２％伸ばした状態のまま透明
導電性薄膜フィルム（Ｂ）を貼り合わせた以外は、実施
例１と同様に実施した。

【００５３】（実施例４）（実施例１）と同様に透明導
電性薄膜フィルム（Ｂ）を作製した。透明高分子成形体
（Ａ）を冷却機を用いて、表面温度が０℃になるように
冷却し、直ちに反射防止フィルム（Ｄ）［厚さ１００μ
ｍ］反射防止層形成面反対面をアクリル系粘着材を介し
て、透明高分子成形体（Ａ）上に貼り付けた。貼り付け
面圧は０．３ＭＰａとした。

【００５４】透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）［厚さ７５
μｍ］を、フィルム上反射防止層形成面とは、反対面に
貼り付けられてある粘着材を介して、透明高分子成形体
（Ａ）の透明導電性薄膜フィルム貼り付け面反対面上に
貼り付けた。貼り付け面圧は０．３ＭＰａとした。

【００５５】防幻性フィルム（Ｃ）［厚さ５０μｍ］の
防幻性層形成面反対面をアクリル系粘着材を介して、透
明高分子成形体（Ａ）上の透明導電性薄膜フィルム
（Ｂ）の透明導電性薄膜層上に貼り合わせた。貼り付け
面圧は０．３ＭＰａとした。

【００５６】上記により、３枚の高分子フィルムを透明
高分子成形体に貼り合わせることにより、プラズマディ
スプレイパネル用電磁波シールドを作製した。透明導電
性薄膜フィルム（Ｂ）及び防幻性フィルム（Ｃ）貼り合
わせ面が、プラズマディスプレイパネル装着面である。
各フィルム貼り付け後、室温条件下にて５時間放置し、
粘着材を養生させた。

【００５７】上記により作製した電磁波シールドを、プ
ラズマディスプレイパネル密着するように装着し、プラ
ズマディスプレイパネルを点灯した。点灯開始から１時
間毎に電磁波シールド中心付近のパネルからの距離を測
定した。 （比較例１）、加熱及び冷却していない透明高分子成形
体（Ａ）に透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）をを貼り付け
て、ディスプレイ用電磁波シールドを作製した以外は、
実施例１と同じ条件で実施した。以上の結果を表１に掲
げる。

【００５８】

【表１】 表１から、実施例１から４の全てにおいて、プラズマデ
ィスプレイパネル用電磁波シールドが、プラズマディス
プレイパネルから離れるような反りが全く生じなくなっ
たことが分かる。

【００５９】なお、実施例１において、光学フィルター
上プラズマディスプレイパネル装着側に縦に４分割され
る状態で切り込みを入れたところ、光学フィルターの反
り量が３ｍｍから１ｍｍに減少し、本発明により作製さ
れたものであることが確認された。光学フィルターの反
り量は、プラズマディスプレイパネル装着側を下面に
し、水平かつ平らな台上におき、下面角部分の台からの
距離を測定することにより求めた。

【図面の簡単な説明】

【図１】 プラズマディスプレイ用電磁波シールドの一
例を示す断面図である。

【符号の説明】

１０ 透明高分子成形体（Ａ） ２０ 透明導電性薄膜フィルム（Ｂ） ３０ 防幻性フィルム（Ｃ） ４０ 反射防止フィルム（Ｄ）

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】伸縮させた透明高分子成形体に光学フィル
   ムを貼り合わせて反り方向を制御することを特徴とする
   光学フィルターの製造方法。
2. 【請求項２】該伸縮方法が温度制御であることを特徴と
   する請求項１に記載の光学フィルターの製造方法。
3. 【請求項３】該伸縮方法が湿度制御であることを特徴と
   する請求項１に記載の光学フィルターの製造方法。
4. 【請求項４】該伸縮方法が機械的方法であることを特徴
   とする請求項１に記載の光学フィルターの製造方法。
5. 【請求項５】該光学フィルムが透明導電性薄膜フィルム
   であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記
   載の光学フィルターの製造方法。
6. 【請求項６】該透明高分子成形体がアクリル樹脂成形体
   であることを特徴とする請求項１乃至５に記載の光学フ
   ィルターの製造方法。
7. 【請求項７】請求項１乃至６のいずれかに記載の方法に
   よって得られることを特徴とする光学フィルター。
8. 【請求項８】請求項１乃至６のいずれかに記載の方法に
   よって得られる光学フィルターであって、その構成が反
   射防止フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹
   脂成形体／反射防止フィルム、反射防止フィルム／透明
   導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防幻性フィ
   ルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アク
   リル樹脂成形体／反射防止フィルム、防幻性フィルム／
   透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防幻性
   フィルム、反射防止フィルム／透明導電性薄膜フィルム
   ／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィルム、防幻
   性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成
   形体／反射防止防幻性フィルム、反射防止防幻性フィル
   ム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反
   射防止フィルム、反射防止防幻性フィルム／透明導電性
   薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防幻性フィルム、
   または反射防止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィル
   ム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィルムのい
   ずれかであることを特徴とするプラズマディスプレイパ
   ネル用光学フィルター。