JP2000009927A - 光学フィルターおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 板状透明高分子成形体に光学フィルムを貼り
合わせることによってディスプレイ用光学フィルターを
製造するにあたり、製造後の反りの発生を抑制する。 【解決手段】 板状透明高分子成形体の各主面表面層の
透湿度を同程度にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用光
学フィルターに関するものであり、さらに詳しくはプラ
ズマディスプレイパネル用に好適に用いられる光学フィ
ルターに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会が高度化するに従って、光エ
レクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。
その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレ
ビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置
用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、デ
ィスプレイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高ま
る一方である。最近、大型かつ薄型化を実現することが
可能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）が、注目されている。しかし、プラズマ
ディスプレイパネルは、原理上、強度の電磁波を装置外
に放出することが知られている。電磁波は、計器に障害
を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体
にも障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。
このため、電磁波放出に関しては、法的に規制される方
向になっている。例えば、現在日本では、ＶＣＣＩ（Ｖ
ｏｌｕｎｔａｒｙ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｃｏｕｎｃｉｌ
ｆｏｒ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ ｂｙ ｄａｔａ
ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｃ ｏｆｆｉｃｅ ｍａｃｈｉｎｅ）による
規制があり、米国では、ＦＣＣ（Ｆｅｄｅｒａｌ Ｃｏ
ｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ）によ
る製品規制がある。

【０００３】また、プラズマディスプレイパネルは、強
い近赤外線を放出する。この近赤外線は、コードレス電
話や赤外線方式のリモートコントローラー等の誤動作を
引き起こす。特に問題となる波長は、８００〜１０００
ｎｍである。

【０００４】上記、電磁波及び近赤外線放出を抑えるた
めに、最近、電磁波及び近赤外線遮断用光学フィルター
に対する要請が高まっている。この光学フィルターは、
フィルター全面に渡って導電性があり、しかも透明性に
優れている必要がある。これらの要求を満たし、実用化
された光学フィルターは、大きく２種類に分けることが
できる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれているも
のであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたも
のである。これは、導電性に優れ、優れた電磁波遮断能
力を持つが、近赤外線反射能力及び透明性が優れず、モ
ワレ像が生じることからディスプレイフィルター用途に
対して、あまり好ましくない。もう一つは、透明膜タイ
プと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を基体全
面に配置したものである。透明導電性薄膜タイプの光学
フィルターは、金属メッシュタイプの光学フィルターに
比較して、電磁波遮断能力に劣るが、近赤外線遮断能力
及び透明性に優れ、モワレ像の発生がない。

【０００５】透明導電性薄膜タイプ光学フィルターは、
高分子成形体基板やガラス基板に透明導電性薄膜フィル
ムを貼り合わせてある場合が多い。貼り合わせには、粘
着材が用いられる。表示装置自体の軽量化や安全性の面
から、基板としては、高分子成形体が、好適に用いられ
る場合が多い。また、反射率低減機能、防幻機能または
調色機能を持った光学フィルムを透明導電性薄膜フィル
ムに組み合わせて貼り合わせることが多く、これらフィ
ルムの貼り合わせにも粘着材が用いられる。高分子成形
体は、通常吸湿により、膨張する。また、光学フィルム
は、通常は、高分子フィルムを基材として作られてお
り、特別な処理を施さない限り、透湿性を持つ。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】光学フィルターを、製
造後放置すると、反り量、場合によっては、反り方向が
変化してしまった。これは、ディスプレイに装機する場
合に、フィルター中心とディスプレイ間距離の設計寸法
との乖離を引き起こし、画像ぼけを生じさせるため、デ
ィスプレイ用途として致命的欠陥になる。さらに、フィ
ルターとディスプレイ間距離が小さくなりすぎると、フ
ィルターがディスプレイに接触し、フィルター及びディ
スプレイが損傷する懸念もあった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、以下の知見
を得、本発明を完成させるに至った。すなわち、完成体
製造後に発生する、光学フィルターの反りは、高分子成
形体各主面表面層の透湿度差により、高分子成形体各主
面の吸湿膨張割合に差が生じるために発生するものであ
り、各主面表面層の透湿度を制御することによって、生
じる反りの量及び方向を制御することができる。

【０００８】すなわち本発明は、（１）板状透明高分子
成形体の主面表面層の透湿度を制御することにより、該
板状透明高分子成形体の反りを制御する光学フィルター
の製造方法において、２つの主面に設けられたそれぞれ
の表面層の透湿度比が１及至１０であることを特徴とす
る光学フィルターの製造方法、（２）上記表面層の透湿
度を制御する方法が、該透明高分子成形体主面への高分
子フィルムの貼合であることを特徴とする（１）に記載
の光学フィルターの製造方法、（３）上記高分子フィル
ムが、透明導電性フィルム、反射防止フィルム、防幻フ
ィルムおよび反射防止防幻フィルムからなる群から選ば
れることを特徴とする（２）に記載の光学フィルターの
製造方法、（４）上記板状透明高分子成形体が、アクリ
ル樹脂成形体である（１）乃至（３）のいずれかに記載
の光学フィルターの製造方法、（５）板状透明高分子成
形体の２つの主面にそれぞれ単層または複層に貼合され
た高分子フィルムもしくは高分子フィルム積層体の透湿
度比が１及至１０であることを特徴とする光学フィルタ
ー、（６）（５）に記載の光学フィルターであって、そ
の構成が、反射防止フィルム／透明導電性薄膜フィルム
／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、反射防止フ
ィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体
／防幻性フィルム、反射防止フィルム／透明導電性薄膜
フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィル
ム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリ
ル樹脂成形体／反射防止フィルム、防幻性フィルム／透
明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防幻性フ
ィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／ア
クリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィルム、反射防止
防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹
脂成形体／反射防止フィルム、反射防止防幻性フィルム
／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防幻
性フィルム、反射防止防幻性フィルム／透明導電性薄膜
フィルム／アクリル樹脂成形体／反射性フィルムおよび
反射防止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／ア
クリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィルムからなる群
から選ばれることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネル用光学フィルターである。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明における光学フィルターの
製造方法は、板状透明高分子成形体各主面の表面層透湿
度を制御することによって、発生する反りの量及び方向
を制御することを特徴とするものである。板状透明高分
子成形体に光学フィルムを貼り合わせることによって得
られる光学フィルターを製造する場合は、貼り合わせる
光学フィルムの透湿度を制御すればよい。本発明によれ
ば、ディスプレイに装着した時に、フィルター中心−デ
ィスプレイ間距離が設計寸法と乖離することがない光学
フィルターを製造することができる。

【００１０】本発明を添付図面でもって説明する。図１
及び２は、本発明によって製造されるプラズマディスプ
レイパネル用光学フィルターの一例を示す断面図であ
る。図１に示したプラズマディスプレイ用光学フィルタ
ーにおいては、高分子成形体（Ａ）１０上に透明導電性
薄膜フィルム（Ｂ）２０を貼り合わせてある。またさら
に、その上に防幻性フィルム（Ｃ）３０、透明高分子成
形体（Ａ）の反対面上に反射防止フィルム（Ｄ）４０を
貼り合わせてある。透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）及び
防幻性フィルム（Ｃ）貼り合わせ面がディスプレイ装着
面であり、反対面は、視認面である。

【００１１】図２に示したプラズマディスプレイ用光学
フィルターにおいては、高分子成形体（Ａ）１０’上に
透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）３０’を貼り合わせてあ
る。またさらに、その上に反射防止フィルム（Ｄ）４
０’、透明高分子成形体（Ａ）の反対面上に防幻性フィ
ルム（Ｂ）２０’を貼り合わせてある。防幻性フィルム
（Ｂ）貼り合わせ面がディスプレイ装着面であり、反対
面は視認面である。

【００１２】本発明に用いられる透明高分子成形体とし
ては、透明性に優れ、十分な機械的強度持ち、できるだ
け軽量であり、割れにくいものであることが好ましい。
ここで、透明性に優れるとは、厚さ３ｍｍ程度の板にし
た時の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が、
５０％以上であることを指す。

【００１３】透明高分子成形体に用いるに好ましい材料
を例示すれば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を
始めとするアクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂等が挙
げられるが、これらの樹脂に特定されるわけではない。
中でもＰＭＭＡは、その広い波長領域での高透明性と機
械的強度の高さから好適に使用することができる。高分
子成形体の厚さに特に制限はなく、十分な機械的強度
と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られれば良
い。通常は、１〜１０ｍｍ程度である。

【００１４】また、透明高分子成形体には、表面の硬度
または密着性を増す等の理由でハードコート層が設けら
れることが多い。ハードコート層材料としては、アクリ
レート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合
が多いが、特に限定されるわけではない。またハードコ
ート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合転写法が
用いられる場合が多いが、特にこれに限定されるわけで
はない。重合転写法は、対象となる材料が、メタクリレ
ート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、連続
製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート層を
形成することができる。このため、重合転写法によるメ
タクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられるハー
ドコート層形成手法である。

【００１５】本発明において、透明高分子成形体に光学
フィルムが貼り合わせられる場合は、目的に応じて様々
なものが用いられている。この光学フィルムを具体的に
例示すると、透明導電性薄膜フィルム、防幻性フィル
ム、ニュートンリング防止フィルム、反射防止フィル
ム、反射防止防幻性フィルム、色素フィルム等が挙げら
れる。

【００１６】透明導電性薄膜フィルムは、電磁波及び近
赤外光を遮断する効果を持ち、本発明における光学フィ
ルターにとって必要不可欠である。この透明導電性薄膜
フィルムは、高分子フィルム上に透明導電性薄膜層を形
成することによって得られている。透明導電性薄膜層
は、高分子成形体基板上に直接形成されていても構わな
い。この場合は、製造部材数を低減することができ、製
造コストを低減させることができる。

【００１７】用いることができる高分子フィルムを具体
的に例示すると、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳ
Ｆ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレ
ート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエ
ーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン
（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げ
られる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）は、特に好適に
用いられる。

【００１８】透明導電性薄膜層は、透明高屈折率薄膜層
と金属薄膜層との積層体である場合が多い。透明導電性
薄膜単層でも電磁波遮断効果がある程度得られるが、充
分でなく、通常透明高屈折率薄膜と金属薄膜とを、十分
な透過率及び表面抵抗値が得られる膜厚組み合わせで積
層して得られる。透明導電性薄膜層の好ましい透過率
は、４０％以上、９９％以下、より好ましくは、５０％
以上、９９％以下、さらに好ましくは、６０％以上、９
９％以下である。また、好ましい表面抵抗値は、０．２
（Ω／□）以上、１００（Ω／□）以下、好ましくは、
０．２（Ω／□）以上、１０（Ω／□）以下、さらに好
ましくは、０．２（Ω／□）以上、３（Ω／□）以下、
さらにより好ましくは、０．２（Ω／□）以上、０．５
（Ω／□）以下である。

【００１９】上記、透明高屈折率薄膜層（ｂ）と金属薄
膜層（ｃ）との積層体を透明高分子成形体基体（Ａ）上
に積層する事によって得られる、透明導電性薄膜フィル
ムの積層構造を具体的に示すと、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／
ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／
ｂ、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／ｂ
／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ等である。

【００２０】透明高屈折率薄膜層に用いられる材料とし
ては、できるだけ透明性に優れたものであることが好ま
しい。ここで透明性に優れるとは、膜厚１００ｎｍ程度
の薄膜を形成したときに、その薄膜の波長４００〜７０
０ｎｍの光に対する透過率が６０％以上であることを指
す。また、高屈折率材料とは、５５０ｎｍの光に対する
屈折率が、１．４以上の材料である。これらには、用途
に応じて不純物を混入させても良い。

【００２１】透明高屈折率薄膜層用に好適に用いること
ができる材料例示すると、インジウムとスズとの酸化物
（ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（ＣＴＯ）、
酸化アルミニウム（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ₂ ）、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（ＡＺＯ）、酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化トリウム（Ｔｈ
Ｏ₂ ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂ ）、酸化ランタン（ＬａＯ
₂ ）、酸化シリコン（ＳｉＯ₂ ）、酸化インジウム（Ｉ
ｎ₂ Ｏ₃ ）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂ Ｏ₃ ）、酸化アンチモ
ン（Ｓｂ₂ Ｏ₃ ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂ ）、酸
化セシウム（ＣｅＯ₂ ）、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）、酸
化ビスマス（ＢｉＯ₂ ）等である。

【００２２】また、透明高屈折率硫化物を用いても良
い。具体的に例示すると、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、硫化カ
ドミウム（ＣｄＳ）、硫化アンチモン（Ｓｂ₂ Ｓ₃ ）等
があげられる。

【００２３】透明高屈折率材料としては、中でも、ＩＴ
Ｏ、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＺｎ
Ｏ₂ は、導電性を持つ上に、可視領域における屈折率
が、２．０程度と高くさらに可視領域にほとんど吸収を
持たない。ＴｉＯ₂ は、絶縁物であり、可視領域にわず
かな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が２．３程度
と大きい。

【００２４】本発明において用いられる、金属薄膜層の
材料としては、できるだけ電気伝導性の良い材料が好ま
しく、銀、銅、金、白金、パラジウムまたはそれらの合
金が用いられる。中でも銀は、比抵抗が、１．５９×１
０^-6（Ω・cm）であり、あらゆる材料の中で最も電気伝
導性に優れる上に、薄膜の可視光線透過率が優れるた
め、最も好適に用いられる。但し、銀は、薄膜とした時
に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという問題を
持っている。この為、安定性を増すために、銀の替わり
に銀と金の合金または、銀と銅の合金または銀とパラジ
ウムの合金または銀と白金の合金等を用いてもよい。銅
は、薄膜の可視光透過性が、銀に比較して劣るが、比抵
抗が、１．６７×１０^-6（Ω・cm）であり、銀に次いで
電気伝導性に非常に優れているため、本発明における金
属薄膜に好適に利用することができる。金も銅と同じよ
うに薄膜の可視光線透過率が銀に劣るが、比抵抗が、
２．３５×１０^-6（Ω・cm）と銀、銅に次いで電気伝導
性に優れるため、本発明における金属薄膜として好適に
利用することができる。

【００２５】高屈折率薄膜層及び金属薄膜層の形成に
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法等の従来公知の手法によればよい。金属薄膜層の
形成には、真空蒸着法またはスパッタリング法が、好適
に用いられる。真空蒸着法では、所望の金属を蒸着源と
して使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱
蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成することがで
きる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲ
ットに所望の金属材料を用いて、スパッタリングガスに
アルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッ
タリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜
を形成することができる。成膜速度を上昇させるため
に、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネ
トロンスパッタリング法が用いられることも多い。

【００２６】透明導電性薄膜層の形成には、イオンプレ
ーディング法または反応性スパッタリング法が好適に用
いられる。イオンプレーティング法では、反応ガスプラ
ズマ中で所望の金属または焼結体を抵抗加熱、電子ビー
ム加熱等により真空蒸着を行う。反応性スパッタリング
法では、ターゲットに所望の金属または焼結体を使用
し、反応性スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の
不活性ガスを用いてスパッタリングを行う。例えば、Ｉ
ＴＯ薄膜を形成する場合には、スパッタリングターゲッ
トにインジウムとスズとの酸化物を用いて、酸素ガス中
で直流マグネトロンスパッタリングを行う。

【００２７】本発明において用いられる防幻性フィルム
は、0.1 〜10μｍ程度の微少な凹凸を表面に有する可視
光線に対して透明なフィルムである。具体的には、アク
リル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型
または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等
の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ
化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラ
ビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によっ
て透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均
粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹
脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹
脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光
硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態
を有する型を押しつけ硬化する事によっても防幻性フィ
ルムを得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸
等でエッチングするように、基体フィルムを薬剤処理す
ることによっても防幻性フィルムを得ることができる。
この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘ
イズを制御することができる。上記、防幻性フィルムに
おいては、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、
作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではな
い。防幻性フィルムのヘイズは、０．５％以上、２０％
以下であり、好ましくは、１％以上、１０％以下であ
る。ヘイズが小さすぎると防幻能が不十分であり、ヘイ
ズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプ
レイ視認性が悪くなる。この防幻性フィルムは、多くの
場合、ニュートンリング防止フィルムとして用いること
ができる。基材として用いることができる高分子フィル
ムとしては、透明導電性薄膜フィルムの場合同様、透明
性に優れているものが好適に用いられる。防幻層は、透
明高分子成形体上や透明導電性薄膜上に形成されいても
構わない。この場合は、部材数を低減をすることがで
き、製造コストを低減することができる。

【００２８】反射防止フィルムとは、高分子フィルム上
に反射防止層を形成したフィルムであり、反射防止層が
形成されている面の可視光線反射率が０．１％以上、２
％以下、好ましくは、０．１％以上、１．５％以下、よ
り好ましくは、０．１％以上、０．５％以下の性能を有
することが望ましい。反射防止膜が形成されている面の
可視光線反射率は、反対面（反射防止膜が形成されてい
ない面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装等によ
り、反対面の反射をなくして、反射防止膜が形成されて
いる面のみで起こる反射光を測定することにより知るこ
とができる。

【００２９】反射防止層としては、具体的には、可視光
域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下
と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウ
ム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／
４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異な
る、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化
物窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂や
アクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２
層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、
製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣
る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射
防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計
の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、ス
パッタリング、イオンプレーティング、イオンピームア
シスト、真空蒸着、室式塗工法等、従来公知の方法を用
いればよい。

【００３０】反射防止層を形成する基材として用いるこ
とができる高分子フィルムとしては、透明導電性薄膜フ
ィルムの場合同様、透明性に優れているものが好適に用
いられる。反射防止層は、高分子成形体上や透明導電性
薄膜上または防幻層上に形成されていても構わない。こ
の場合、使用部材数を低減することができ、製造コスト
低減につながる。

【００３１】高分子成形体は、吸湿量によって、寸法が
変化する。通常は、吸湿量が、上昇することによって膨
張する。本発明においては、板状の高分子成形体が用い
られるが、各主面において、吸湿量が異なると、膨張量
が、大きい面が凸面になるように板状高分子成形体には
反りが生じる。

【００３２】各主面の表面層の透湿度が、同程度になる
ように構成すれば、反りが生じない光学フィルターを製
造することができる。ここで、反りがないとは、１００
０ｍｍあたりの反り量が、０ｍｍ以上、２０．０ｍｍ以
下のことあり、好ましくは、０ｍｍ以上、１０ｍｍ以下
であり、さらに好ましくは、０ｍｍ以上、５ｍｍ以下で
ある。また、各主面の表面層の透湿度が、同程度である
とは、各主面の表面層の透湿度比が1倍から１０倍の間
であることである。それ以上、差異があると、吸湿によ
る膨張割合の差異により、フィルターに反りが生じる。

【００３３】反りを持った光学フィルターが望まれる場
合は、凸面にすることを意図する主面の表面層の透湿度
が、反対面の表面透湿度に比較して、１０倍以上になる
ように、構成すればよい。

【００３４】透明高分子成形体主面に直接透明導電性薄
膜層や防幻層、反射防止層またはその複合層を形成する
ことによって光学フィルターを製造する場合、薄膜の材
質及び厚さに左右される。この場合は、各主面の表面層
の透湿度が同程度になるように、材質及び厚さを設定す
ればよい。透明高分子成形体主面に光学フィルムを貼り
合わせて光学フィルターを製造する場合は、各主面の表
面層の透湿度は、光学フィルムの材質に由来する透湿率
及びフィルムの厚さに左右されので、各主面の表面層の
透湿度が同程度になるように、光学フィルムの材質及び
厚さを設定すればよい。

【００３５】本発明に用いられる高分子フィルムの透湿
率を具体的に例示する。トリアセチルアセテート（ＴＡ
Ｃ）は、高分子フィルムの中では、透湿率が高い部類に
位置づけられ、透湿率は、１２〜１８（ｇｍ／ｍ² ／２
４ｈ／ｍｍ）であり、ポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）は、透湿度が低い部類に位置づけられ、透湿率
は、０．５〜０．６（ｇｍ／ｍ² ／２４ｈ／ｍｍ）であ
る。

【００３６】例えば、各主面の透湿度を同程度にするた
めに、共にＰＥＴを基材にした厚さが同程度の光学フィ
ルムを貼り合わせたり、共にＴＡＣを基材とした厚さが
同程度の光学フィルムを貼り合わせたりすることによっ
て、反りが生じない光学フィルターを製造することがで
きる。

【００３７】本発明において用いられる粘着材は、でき
るだけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着材を具体
的に例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着
材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材
（ＰＶＢ）、エチレンー酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）
等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱
性に優れるために特に好適に用いられる。

【００３８】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートす
る事によって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼
り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるもの
であり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リ
バースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等
が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選
定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、０．５
〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材
を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入
り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さら
には部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条
件下にて養生を行うことが好ましい。この時、加圧条件
としては、一般的に数気圧〜２０気圧程度であり、加温
条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、一般的には
室温以上、８０℃以下である。

【００３９】本発明において透明高分子成形体への光学
フィルムの貼り合わせ方法に特に制限はない。通常は、
高分子成形フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型
フィルムで覆ったものをロール状態であらかじめ用意し
ておき、ロールから高分子成形フィルムを繰り出しなが
ら、離型フィルムをはがしていき、高分子成形体基板上
へ貼り付け、ロールで押さえつけながら貼り付けてい
く。貼り合わせられたフィルム上に重ねて貼り合わせる
場合も同様である。

【００４０】本発明に用いられる高分子成形体表面の透
湿度は、透湿度を測定したい表面と反対側表面を高分子
成形体の表面が現れるまで削り、全体の透湿度から高分
子成形体の透湿度の透湿度を差し引くことによって得ら
れる。高分子成形体に光学フィルムを貼り合わせてある
光学フィルターの表面透湿度は、貼り合わせてあるそれ
ぞれの光学フィルム透湿度を調べることによって得られ
る。高分子成形体及び光学フィルムの透湿度は、透湿カ
ップ法を用いて測定することができる。また、作製し
た、光学フィルターの層構成及び各層の状態は、断面の
光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透
過型電子顕微鏡測定（ＴＥＭ）を用いて調べることがで
きる。

【００４１】

【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 （実施例１）透明高分子フィルム（ａ）としてポリエチ
レンテレフタレートフィルム［透湿率０．５（ｇｍ／ｍ
² ／２４ｈ／ｍｍ）、 厚さ７５μｍ］を使用し、その
一方の主面に、直流マグネトロンスパッタリング法を用
いて、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層
（ｂ）、銀薄膜層（ｃ）をａ／ｂ［厚さ４０ｎｍ］／ｃ
［厚さ１０ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ１５
ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ１０ｎｍ］／ｂ
［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層し、透明導電性薄膜フィ
ルム（Ｂ）を形成した。インジウムとスズとの酸化物か
らなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を構成し、銀薄膜
層は、金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸
化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸
化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ₂ Ｏ₃ ：ＳｎＯ₂
＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとして
アルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧
５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ター
ゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス
（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。

【００４２】図１に記載の通り、透明導電性薄膜フィル
ム（Ｂ）の透明導電薄膜層形成面反対面をアクリル系粘
着材を介して、透明高分子成形体（Ａ）上に、貼り付け
た。貼り付け面圧は、０．３ＭＰａとした。

【００４３】基材が、ポリエチレンテレフタレートであ
る、反射防止フィルム（Ｄ）［透湿率０．５（ｇｍ／ｍ
² ／２４ｈ／ｍｍ）、厚さ１００μｍ］を、フィルム上
反射防止層形成面とは、反対面に貼り付けられてある粘
着材を介して、透明高分子成形体（Ａ）の透明導電性薄
膜フィルム貼り付け面反対面上に貼り付けた。貼り付け
面圧は、０．３ＭＰａとした。

【００４４】基材が、ポリエチレンテレフタレートであ
る、防幻性フィルム（Ｃ）［透湿率０．５（ｇｍ／ｍ²
／２４ｈ／ｍｍ）厚さ５０μｍ］の防幻性層形成面反対
面をアクリル系粘着材を介して、透明高分子成形体
（Ａ）上の透明導電性薄膜フィルム（Ｂ）の透明導電性
薄膜層上に貼り合わせた。貼り付け面圧は、０．３ＭＰ
ａとした。

【００４５】上記により、３枚の高分子フィルムを透明
高分子成形体に貼り合わせることにより、ディスプレイ
パネル用光学フィルターを作製した。透明導電性薄膜フ
ィルム（Ｂ）及び防幻性フィルム（Ｃ）貼り合わせ面が
ディスプレイ装着面であり、反対面は、視認面である。
各フィルム貼り付け後、室温条件下にて５時間放置し、
粘着材を養生させた。 完成体を温度４０℃、湿度９５
％の条件下に２４時間置き、反り量を調べた。反り量
は、フィルターを水平面に対して垂直方向につり下げ、
フィルター内各部分の反り発生前からの移動距離を調
べ、移動距離が最も多い部分とした。なお、ディスプレ
イ装着面が凸になるように反る場合を反り量マイナス、
ディスプレイ装着面側と反対面側が凸になるように反る
場合を反り量プラスとした。ディスプレイ装着面フィル
ター内のつり下げに用いた場所は、鉛直方向上の水平方
向中心付近である。

【００４６】（実施例２）以下の点以外は、実施例１と
同様に実施した。図２に記載のように、透明導電性薄膜
フィルム（Ｃ）の透明導電薄膜層形成面反対面をアクリ
ル系粘着材を介して、透明高分子成形体（Ａ）上に、貼
り付けた。貼り付け面圧は、０．３ＭＰａとした。基材
が、ポリエチレンテレフタレートである、反射防止フィ
ルム（Ｄ）［透湿率０．５（ｇｍ／ｍ² ／２４ｈ／ｍ
ｍ）、厚さ１００μｍ］を、フィルム上反射防止層形成
面とは、反対面に貼り付けられてある粘着材を介して、
透明高分子成形体（Ａ）の透明導電性薄膜フィルム貼り
付け面反対面上に貼り付けた。貼り付け面圧は、０．３
ＭＰａとした。基材が、ポリエチレンテレフタレートで
ある、防幻性フィルム（Ｂ）［透湿率０．５（ｇｍ／ｍ
² ／２４ｈ／ｍｍ）厚さ７５μｍ］の防幻性層形成面反
対面をアクリル系粘着材を介して、透明高分子成形体
（Ａ）上の透明導電性薄膜フィルム（Ｃ）の透明導電性
薄膜層上に貼り合わせた。貼り付け面圧は、０．３ＭＰ
ａとした。

【００４７】（比較例１）反射防止フィルム（Ｄ）とし
て、基材がトリアセチルセルロースである反射防止フィ
ルム［透湿率１４（ｇｍ／ｍ² ／２４ｈ／ｍｍ）、厚さ
１００μｍ］を用いた以外は、実施例１と同様に実施し
た。

【００４８】

【表１】 表１から、実施例１及び２において、完成体作製後に高
湿度条件下に放置してもほとんど反りが生じない光学フ
ィルターを作製することができたことが分かる。

【００４９】

【発明の効果】板状透明高分子成形体に光学フィルムを
貼り合わせることによってディスプレイ用光学フィルタ
ーを製造するにあたり、製造後の反りの発生を抑制す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイ用光学フィルターの一例
を示す断面図である。

【図２】プラズマディスプレイ用光学フィルターの一例
を示す断面図である。

【符号の説明】 １０ 透明高分子成形体（Ａ） ２０ 透明導電性薄膜フィルム（Ｂ） ３０ 防幻性フィルム（Ｃ） ４０ 反射防止フィルム（Ｄ） １０’ 透明高分子成形体（Ａ） ２０’ 防幻性フィルム（Ｂ） ３０’ 透明導電性薄膜フィルム（Ｃ） ４０’ 反射防止フィルム（Ｄ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 福田 伸 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井化 学株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 CA05 CA09 CA12 CA19 2K009 AA03 AA12 AA15 BB14 CC09 CC26 CC34 CC42 DD02 DD04 DD07 DD12 EE00 FF02 4F100 AA17 AB24 AK01A AK01B AK01C AK25B AK25C AK25G AK42 BA03 BA05 BA06 BA10B BA10C CB00 EH661 GB90 JD04 JG01B JG01C JL04 JN01A JN01B JN01C JN06B JN06C JN30B JN30C YY00 5C040 GH01 GH10 JA09 KA14 MA04 MA08 5G435 AA01 AA17 GG11 HH02 HH03 KK07

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 板状透明高分子成形体の主面表面層の透
   湿度を制御することにより、該板状透明高分子成形体の
   反りを制御する光学フィルターの製造方法において、２
   つの主面に設けられたそれぞれの表面層の透湿度比が１
   及至１０であることを特徴とする光学フィルターの製造
   方法。
2. 【請求項２】 上記表面層の透湿度を制御する方法が、
   該透明高分子成形体主面への高分子フィルムの貼合であ
   ることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルターの
   製造方法。
3. 【請求項３】 上記高分子フィルムが、透明導電性フィ
   ルム、反射防止フィルム、防幻フィルムおよび反射防止
   防幻フィルムからなる群から選ばれることを特徴とする
   請求項２に記載の光学フィルターの製造方法。
4. 【請求項４】 上記板状透明高分子成形体が、アクリル
   樹脂成形体である請求項１乃至３のいずれかに記載の光
   学フィルターの製造方法。
5. 【請求項５】 板状透明高分子成形体の２つの主面にそ
   れぞれ単層または複層に貼合された高分子フィルムもし
   くは高分子フィルム積層体の透湿度比が１及至１０であ
   ることを特徴とする光学フィルター。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の光学フィルターであっ
   て、その構成が、反射防止フィルム／透明導電性薄膜フ
   ィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、反射
   防止フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂
   成形体／防幻性フィルム、反射防止フィルム／透明導電
   性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性
   フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／
   アクリル樹脂成形体／反射防止フィルム、防幻性フィル
   ム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／防
   幻性フィルム、防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィル
   ム／アクリル樹脂成形体／反射防止防幻性フィルム、反
   射防止防幻性フィルム／透明導電性薄膜フィルム／アク
   リル樹脂成形体／反射防止フィルム、反射防止防幻性フ
   ィルム／透明導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体
   ／防幻性フィルムおよび反射防止防幻性フィルム／透明
   導電性薄膜フィルム／アクリル樹脂成形体／反射防止防
   幻性フィルムからなる群から選ばれることを特徴とする
   プラズマディスプレイパネル用光学フィルター。